JP2000196226A - Composite material for electric circuit formation and its use - Google Patents

Composite material for electric circuit formation and its use

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JP2000196226A
JP2000196226A JP29097899A JP29097899A JP2000196226A JP 2000196226 A JP2000196226 A JP 2000196226A JP 29097899 A JP29097899 A JP 29097899A JP 29097899 A JP29097899 A JP 29097899A JP 2000196226 A JP2000196226 A JP 2000196226A
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JP
Japan
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composite material
electric circuit
forming
conductive fine
fine particles
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JP29097899A
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Japanese (ja)
Inventor
Taku Kataoka
岡 卓 片
Yutaka Hirasawa
沢 裕 平
Kenichiro Iwakiri
切 健一郎 岩
Takuya Yamamoto
本 拓 也 山
Tsutomu Higuchi
口 勉 樋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Original Assignee
Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composite material for electric circuit formation which realizes fine pitch and enables formation of a printed wiring board which is excellent in adhesion property with a base and in heat resistance property. SOLUTION: The composite material for electric circuit formation comprises a supporter and a conductive fine particle group 23 provided on a supporter to be detached. Preferable size of the conductive fine particle group 23 is in the range of 0.1 to 5.0 μm in a thickness direction of a composite material, and preferable surface roughness (Rz) of a surface provided with the conductive fine particle group 23 is in the range of 0.5 to 10.0 μm. A lamination board is formed by joining the composite material for electric circuit formation to a base surface. A lamination board is formed by removing a supporter alone after the composite material for electric circuit formation is joined to a base surface. A printed wiring board is formed by using the composite material for electric circuit formation.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の技術分野】本発明は、新規な電気回路形成用複
合材料およびその用途に関する。さらに詳しくは、本発
明は、プリント配線板形成用に好適な電気回路形成用複
合材料に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel composite material for forming an electric circuit and its use. More specifically, the present invention relates to a composite material for forming an electric circuit suitable for forming a printed wiring board.

【0002】[0002]

【発明の技術的背景】近年、電子機器の小型化、高密度
化に伴い、使用されるプリント配線板の回路幅、回路間
隔は年々細線化しており、それにともなって配線形成用
に使用される金属箔の厚みも35μm、18μmから1
2μmへと薄膜化する傾向にある。このような金属箔を
使用する場合、たとえば図4に示されるような工程(パ
ネルメッキ法)によってプリント配線板が作製される。
具体的には、図4(a)に示されるように絶縁性樹脂か
らなる基板1に回路形成用金属箔2を接着させて、積層
板を形成する。次に、図4(b)に示されるように上面
回路と下面回路とを導通させるため、積層板にドリル加
工もしくはレーザーを照射して穴あけ加工してバイアホ
ール3を形成する。こうして形成されたバイアホール表
面および絶縁性樹脂層表面に無電解メッキ及び電解メッ
キを行い、図4(c)に示されるようにメッキ層4を形
成する。次いで図4(d)に示されるように得られたメ
ッキ層4表面に、回路形成用のレジスト5を形成し、回
路以外の部分のメッキ層4および回路形成用金属箔2
を、図4(e)に示されるようにエッチングによって除
去したのち、図4(f)に示されるようにレジストを除
去して回路6を形成する。
2. Description of the Related Art In recent years, with the miniaturization and high density of electronic equipment, the circuit width and circuit interval of a printed wiring board used have become thinner year by year, and accordingly, they are used for wiring formation. The thickness of the metal foil is also 35 μm, from 18 μm to 1
The thickness tends to be reduced to 2 μm. When such a metal foil is used, for example, a printed wiring board is manufactured by a process (panel plating method) as shown in FIG.
Specifically, as shown in FIG. 4A, a circuit-forming metal foil 2 is adhered to a substrate 1 made of an insulating resin to form a laminate. Next, as shown in FIG. 4B, a via hole 3 is formed by drilling or irradiating a laser beam on the laminated board in order to conduct the upper circuit and the lower circuit. Electroless plating and electrolytic plating are performed on the surface of the via hole and the surface of the insulating resin layer thus formed, and a plating layer 4 is formed as shown in FIG. Next, a resist 5 for forming a circuit is formed on the surface of the plating layer 4 obtained as shown in FIG. 4D, and the plating layer 4 and the metal foil 2 for forming a circuit other than the circuit are formed.
Is removed by etching as shown in FIG. 4 (e), and then the resist is removed as shown in FIG. 4 (f) to form a circuit 6.

【0003】このようなパネルメッキ法によってプリン
ト配線板を形成する場合、表面の金属箔の厚さが薄くな
るほど、ファインピッチを有する回路を形成できるた
め、このような薄膜化の要求は、さらに強まっている。
When a printed wiring board is formed by such a panel plating method, a circuit having a fine pitch can be formed as the thickness of the metal foil on the surface becomes thinner. ing.

【0004】また、金属箔を使用せずに、直接プリント
配線板を形成する方法も知られている。この方法では、
たとえば図5に示されるような工程(パターンメッキ
法)によって、プリント配線が作製される。まず、図5
(a)に示されるように絶縁性樹脂からなる基板11
に、ドリル加工もしくはレーザーを照射して穴あけし、
図5(b)に示されるようにバイアホール12を形成す
る。次に、図5(c)に示されるように回路形成用のレ
ジスト13をパターン状に形成したのち、図5(d)に
示されるように無電解メッキおよび電解メッキによりメ
ッキ層14を形成する。その後、図5(e)に示される
ように表面のレジスト13を除去して回路14を形成す
る。
There is also known a method of directly forming a printed wiring board without using a metal foil. in this way,
For example, a printed wiring is manufactured by a process (pattern plating method) as shown in FIG. First, FIG.
As shown in (a), a substrate 11 made of an insulating resin
Drilling or irradiating a laser to make a hole,
A via hole 12 is formed as shown in FIG. Next, after forming a resist 13 for forming a circuit in a pattern as shown in FIG. 5C, a plating layer 14 is formed by electroless plating and electrolytic plating as shown in FIG. 5D. . Thereafter, as shown in FIG. 5E, the circuit 13 is formed by removing the resist 13 on the surface.

【0005】このパターンメッキ法は、表面メッキ層を
薄くすることが可能であり、しかも工程が簡略であると
いう利点を有している。
[0005] This pattern plating method has an advantage that the surface plating layer can be thinned and the process is simple.

【0006】ところで、上記のように金属箔を使用する
方法(パネルメッキ法)によってプリント配線板を形成
する場合、極めて薄い金属箔では、取り扱いが難しく、
絶縁性基板と接着させて、積層板を形成する際に、破け
たり、シワになったりすることがあった。また、パネル
メッキ法では、バイアホールの穴開け加工する際に、直
接レーザーで穴開け加工すると、バイアホール部の金属
箔の端部にバリが生じることがあり、このバリ部分のメ
ッキ成長が、金属箔平坦部のメッキ成長よりも早いた
め、バリ部分が肥大化し、回路形成用レジストとの密着
不良、エッチング不足などの問題を引き起こしてしまう
ことがあった。このようなバリの発生とバリ部分の肥大
化は、従来の極薄金属箔に支持体を設け、かつ支持体を
剥離させて使用される複合箔(ピーラブル金属箔)を、
電気回路形成用として用いる場合であっても、同様に問
題となっていた。このため、予め穴開け部分の金属箔
を、エッチングなどによって、除去しておく必要があ
り、穴開け工程が煩雑化するという問題があった。
When a printed wiring board is formed by a method using a metal foil (panel plating method) as described above, it is difficult to handle an extremely thin metal foil.
When a laminated board is formed by bonding with an insulating substrate, the laminate may be broken or wrinkled. Also, in the panel plating method, when drilling a via hole directly by laser drilling, burrs may occur at the end of the metal foil in the via hole part, and plating growth of this burr part, Since it is faster than the plating growth of the flat portion of the metal foil, the burrs are enlarged, which may cause problems such as poor adhesion with the resist for forming a circuit and insufficient etching. The generation of such burrs and the enlargement of the burrs is achieved by providing a support on a conventional ultrathin metal foil and peeling the support to form a composite foil (peelable metal foil).
Even when used for forming an electric circuit, there has been a similar problem. For this reason, it is necessary to remove the metal foil in the perforated portion in advance by etching or the like, and there has been a problem that the perforation process becomes complicated.

【0007】また、金属箔を使用しない方法(前記のパ
ターンメッキ法など)であっても必ずしも満足するプリ
ント配線板は得られていなかった。たとえば、これらの
方法でプリント配線板を作製する際には、絶縁性樹脂と
回路との密着力を高めるため、予め、絶縁性樹脂基材表
面を化学的または物理的手段で粗面化することが必要と
されているが、この粗面化を行ったとしても、形成され
た配線層と絶縁性樹脂との密着強度が不十分であるとい
う欠点があった。また得られたプリント配線板の耐熱性
が必ずしも満足するものではなく、このため、プリント
配線板にはんだ処理、はんだレジスト処理などの加熱処
理を行い、電子部品を実装する際に、配線層と基材との
密着性が弱くなり、配線層が剥がれおちてしまうなどの
問題があった。さらにまた、形成された金属層がもろい
ため、プリント配線板に曲げ応力がかかったときに、断
線してしまうなどの問題もあった。
Further, a printed wiring board which does not always satisfy even by a method using no metal foil (such as the pattern plating method) has not been obtained. For example, when manufacturing a printed wiring board by these methods, the surface of the insulating resin substrate should be roughened by chemical or physical means in advance to increase the adhesion between the insulating resin and the circuit. However, even if the surface is roughened, there is a disadvantage that the adhesion strength between the formed wiring layer and the insulating resin is insufficient. In addition, the heat resistance of the obtained printed wiring board is not always satisfactory, and therefore, when the printed wiring board is subjected to a heat treatment such as a soldering treatment or a solder resist treatment, and the electronic component is mounted, the wiring layer and the base layer are not bonded. There has been a problem that the adhesion to the material is weakened and the wiring layer is peeled off. Furthermore, since the formed metal layer is fragile, there has been a problem such as disconnection when a bending stress is applied to the printed wiring board.

【0008】本発明者らはこのような従来技術に鑑み鋭
意検討したところ、支持体と、該支持体上に脱離可能に
設けられた導電性微粒子群とからなる電気回路形成用複
合材料を用いることによって、上記問題点をいずれも解
消し、しかもファインピッチを有するプリント配線板を
形成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
The present inventors have conducted intensive studies in view of such prior art, and found that a composite material for forming an electric circuit, comprising a support and a group of conductive fine particles detachably provided on the support, was developed. It has been found that the use of such a composition solves all of the above problems and that a printed wiring board having a fine pitch can be formed, and the present invention has been completed.

【0009】[0009]

【発明の目的】本発明は、上記問題点を解決するべくな
されたもので、ファインピッチが可能であり、かつ基材
との密着性および耐熱性に優れたプリント配線板を形成
可能な電気回路形成用複合材料を提供することを目的と
している。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and an electric circuit capable of forming a printed wiring board capable of forming a fine pitch and having excellent adhesion to a substrate and excellent heat resistance. It is intended to provide a forming composite material.

【0010】[0010]

【発明の概要】本発明に係る電気回路形成用複合材料
は、支持体と、該支持体上に脱離可能に設けられた導電
性微粒子群とからなることを特徴としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The composite material for forming an electric circuit according to the present invention is characterized by comprising a support and a group of conductive fine particles detachably provided on the support.

【0011】前記導電性微粒子群の大きさは、複合材料
の厚さ方向で0.1〜5.0μmの範囲にあることが好
ましい。
The size of the conductive fine particles is preferably in the range of 0.1 to 5.0 μm in the thickness direction of the composite material.

【0012】また、電気回路形成用複合材料の導電性微
粒子群が設けられた面の表面粗度(Rz)は、0.5〜1
0.0μmの範囲にあることが好ましい。
The surface roughness (Rz) of the surface of the composite material for forming an electric circuit, on which the conductive fine particles are provided, is 0.5-1.
It is preferably in the range of 0.0 μm.

【0013】本発明に係る積層板は、上記電気回路形成
用複合材料が、基材表面に接合されてなるものである。
このような本発明に係る積層板としては、上記電気回路
形成用複合材料を基材表面に接合した支持体付積層板、
および該支持体付積層板から支持体のみを除去してなる
支持体なし積層板が挙げられる。さらにまた、本発明に
係るプリント配線板は、上記電気回路形成用複合材料を
用いて形成されたものである。
The laminate according to the present invention is obtained by bonding the above-mentioned composite material for forming an electric circuit to the surface of a base material.
As such a laminate according to the present invention, a laminate with a support joined to the surface of the substrate, the composite material for forming an electric circuit,
And a laminate without a support obtained by removing only the support from the laminate with the support. Furthermore, a printed wiring board according to the present invention is formed using the composite material for forming an electric circuit.

【0014】[0014]

【発明の具体的説明】以下、本発明について具体的に説
明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described specifically.

【0015】[電気回路形成用複合材料]図1は、本発
明に係る電気回路形成用複合材料の最適な態様を示す概
略断面図である。この態様例において、電気回路形成用
複合材料21は、支持体22と該支持体上に脱離可能に
設けられた導電性微粒子群23とからなることを特徴と
している。
[Composite Material for Forming an Electric Circuit] FIG. 1 is a schematic sectional view showing an optimal embodiment of the composite material for forming an electric circuit according to the present invention. In this embodiment, the electric circuit forming composite material 21 is characterized by comprising a support 22 and a group of conductive fine particles 23 detachably provided on the support.

【0016】支持体22としては、具体的に、銅箔、銅
合金箔、アルミニウム箔、アルミニウム箔表面に銅メッ
キが施された複合金属箔、アルミニウム箔表面に亜鉛が
メッキされた複合金属箔、ステンレス箔などの金属箔、
ポリイミド、ポリエステル、ポリウレタン、テフロンな
どの合成樹脂からなるシート、または無機材料からなる
シートなどがあげられる。
Examples of the support 22 include a copper foil, a copper alloy foil, an aluminum foil, a composite metal foil having an aluminum foil surface coated with copper, a composite metal foil having an aluminum foil surface coated with zinc, Metal foil such as stainless steel foil,
Examples include a sheet made of a synthetic resin such as polyimide, polyester, polyurethane, and Teflon, and a sheet made of an inorganic material.

【0017】このような支持体22の厚さは、5〜20
0μm、好ましくは18〜70μmのものが望ましい。
The thickness of the support 22 is 5-20.
0 μm, preferably 18-70 μm is desirable.

【0018】導電性微粒子群23を構成する導電性微粒
子としては、導電性のものであれば特に制限はなく、具
体的には、銅、銀、金、白金、亜鉛、ニッケルなどの金
属またはこれらの金属からなる合金、酸化インジウム、
酸化錫などの無機化合物、ポリアニリンなどの有機化合
物が挙げられる。
The conductive fine particles constituting the conductive fine particle group 23 are not particularly limited as long as they are conductive, and specifically, metals such as copper, silver, gold, platinum, zinc, nickel and the like, Alloy of metals, indium oxide,
Examples include inorganic compounds such as tin oxide and organic compounds such as polyaniline.

【0019】導電性微粒子群23は、上記のような単一
の導電性微粒子から構成されても、また2種以上の導電
性物質の混合物微粒子から構成されていてもよい。
The conductive fine particle group 23 may be composed of a single conductive fine particle as described above, or may be composed of a fine particle of a mixture of two or more conductive substances.

【0020】このような導電性微粒子の厚さ方向の寸法
大きさ(d)は、0.1〜5.0μm、好ましくは0.2
〜2.0μm、さらに好ましくは0.5〜1.0μmに
あることが望ましい。
The size (d) of the conductive fine particles in the thickness direction is 0.1 to 5.0 μm, preferably 0.2 to 5.0 μm.
To 2.0 μm, more preferably 0.5 to 1.0 μm.

【0021】導電性微粒子の形状は、特に限定されるも
のではなく、たとえば、球状、房状、塊状、ヒゲ状、樹
枝状などであってよい。
The shape of the conductive fine particles is not particularly limited, and may be, for example, a sphere, a tuft, a lump, a mustache, a dendrite, or the like.

【0022】このような導電性微粒子群23中の導電性
微粒子は、少なくとも一部が互いに接合していないこと
が望ましい。このため、導電性微粒子群23は、導電性
微粒子が点在しているものであってもよく、また、相互
に脱離可能に接合した導電性微粒子の集合体が互いに接
合しないように点在しているものであってもよく、さら
には導電性微粒子と、相互に脱離可能に接合した導電性
微粒子の集合体とが互いに接合しないように点在してい
るものであってもよい。なお、このような導電性微粒子
群23は、たとえば、膜や箔のようにそれ自体を単独で
取扱ったり取り出すことができないものである。
It is desirable that at least some of the conductive fine particles in the conductive fine particle group 23 are not joined to each other. For this reason, the conductive fine particle group 23 may be one in which conductive fine particles are scattered, and the conductive fine particles 23 are scattered so that an aggregate of conductive fine particles detachably bonded to each other does not bond to each other. The conductive fine particles and the aggregate of the conductive fine particles detachably bonded to each other may be interspersed so as not to be bonded to each other. In addition, such a conductive fine particle group 23 cannot be handled or taken out by itself, such as a film or a foil.

【0023】この導電性微粒子群23は、支持体22の
表面に、支持体22と脱離可能に設けられている。この
ため、本発明に係る電気回路形成用複合材料は、たとえ
ば、絶縁性基板と接着して積層板を作製する際に、支持
体のみを容易に脱離させ、絶縁性基板上に導電性微粒子
群を設けることができる。
The conductive fine particle group 23 is provided on the surface of the support 22 so as to be detachable from the support 22. For this reason, when the composite material for forming an electric circuit according to the present invention is used, for example, when adhering to an insulating substrate to produce a laminate, only the support is easily detached, and the conductive fine particles are placed on the insulating substrate. Groups can be provided.

【0024】このような本発明に係る電気回路形成用複
合材料は、導電性微粒子群が設けられた面の表面粗度
(Rz)が、0.5〜10.0μm、好ましくは1〜5μ
m、さらに好ましくは2.0〜4.5μmの範囲にある
ことが好ましい。なお、本発明における表面粗度は、JI
S C 6515またはIPC-TM-650に記載の方法に準拠して測
定される。
The composite material for forming an electric circuit according to the present invention has a surface roughness (Rz) of 0.5 to 10.0 μm, preferably 1 to 5 μm, on the surface provided with the conductive fine particles.
m, more preferably in the range of 2.0 to 4.5 μm. The surface roughness in the present invention is JI
It is measured according to the method described in SC 6515 or IPC-TM-650.

【0025】このような本発明に係る電気回路形成用複
合材料の製造方法は、特に限定されるものではなく、た
とえば、前記支持体上に電解メッキ、無電解メッキなど
の方法により導電性微粒子を形成付着させることによっ
て本発明に係る電気回路形成用複合材料を製造すること
ができる。また、アルコキシドなどの有機金属化合物
を、前記支持体上に塗布し、加水分解することによって
製造することができる。さらにまた、上記導電性微粒子
が分散した懸濁液を支持体上に塗布したり、導電性微粒
子をスプレーなどによって、噴霧することによって支持
体上に接着することによって、得ることもできる。
The method for producing the composite material for forming an electric circuit according to the present invention is not particularly limited. For example, conductive fine particles may be formed on the support by electrolytic plating, electroless plating or the like. By forming and adhering, the composite material for forming an electric circuit according to the present invention can be manufactured. Alternatively, it can be produced by applying an organometallic compound such as an alkoxide on the support and hydrolyzing it. Furthermore, it can also be obtained by applying a suspension in which the conductive fine particles are dispersed on a support, or by spraying the conductive fine particles with a spray or the like and bonding the conductive fine particles to the support.

【0026】たとえば、導電性微粒子として銅電着物微
粒子を支持体上に電着させる場合、以下のようにして製
造される。
For example, when electrodeposited copper electrodeposited fine particles as a conductive fine particle on a support, it is produced as follows.

【0027】メッキ浴を用いて、陰極電気分解を行い、
支持体上に導電性微粒子を電析させる。陰極電気分解時
の電流密度は、浴組成によって適宜選択され、たとえば
1〜50A/dm2の電流密度で陰極電気分解が行われ
る。メッキ浴としては、ピロリン酸銅メッキ浴、シアン
化銅メッキ浴、酸性硫酸銅メッキ浴などが使用され、好
適には、酸性硫酸銅メッキ浴が使用される。
Cathodic electrolysis is performed using a plating bath,
Electroconductive fine particles are deposited on the support. The current density at the time of the cathodic electrolysis is appropriately selected depending on the bath composition. For example, the cathodic electrolysis is performed at a current density of 1 to 50 A / dm 2 . As the plating bath, a copper pyrophosphate plating bath, a copper cyanide plating bath, an acidic copper sulfate plating bath, or the like is used, and preferably, an acidic copper sulfate plating bath is used.

【0028】たとえば、酸性硫酸銅メッキ浴が使用され
る場合、メッキ浴中には、必要に応じて、α-ナフトキ
ノリン、デキストリン、ニカワ、PVA、トリエタノー
ルアミン、チオ尿素などの添加剤が、0.5〜20ppm
の量で添加されていてもよい。このような添加剤が添加
されていると、得られる銅電着物微粒子を構成する一次
粒子の形状を制御することができる。
For example, when an acidic copper sulfate plating bath is used, additives such as α-naphthoquinoline, dextrin, glue, PVA, triethanolamine and thiourea may be added to the plating bath if necessary. 0.5-20ppm
May be added. When such an additive is added, the shape of the primary particles constituting the obtained copper electrodeposit fine particles can be controlled.

【0029】このような本発明に係る電気回路形成用複
合材料として、具体的には、表1に示す組み合わせのも
のが例示される。
Specific examples of the composite material for forming an electric circuit according to the present invention include combinations shown in Table 1.

【0030】[0030]

【表1】 また、本発明に係る電気回路形成用複合材料には、支持
体のみを脱離しうる処理がなされていることが望まし
い。なお、「支持体のみを脱離しうる処理」とは、電気
回路形成前の使用状態においては、支持体と導電性微粒
子群とが脱離することなく接着し、電気回路形成時にお
いて、支持体のみが脱離する処理をいう。
[Table 1] The composite material for forming an electric circuit according to the present invention is desirably subjected to a treatment capable of removing only the support. In addition, the "treatment capable of detaching only the support" means that the support and the conductive fine particles are adhered without detachment in a use state before forming the electric circuit, and the support is used during the formation of the electric circuit. This refers to a process in which only desorption occurs.

【0031】このような処理としては、たとえば、導電
性微粒子群と支持体との間に剥離層を設けたり、導電性
微粒子に損傷を与えることなく支持体を溶解除去するす
ることが挙げられる。
Examples of such treatment include providing a release layer between the conductive fine particles and the support, and dissolving and removing the support without damaging the conductive fine particles.

【0032】剥離層としては、導電性微粒子群がたやす
く脱離しない程度の接着強度で、支持体に接着させるも
のであれば特に制限はない。たとえば、支持体が金属箔
である場合、支持体を構成する金属種と異なる金属種の
ものや支持体を構成する金属の酸化物、硫化物などの無
機化合物などからなる剥離層が使用される。具体的に
は、支持体が銅箔の場合、クロム合金、硫化銅などから
なる剥離層が使用される。また、支持体がアルミニウム
箔またはアルミニウム合金箔の場合、これら表面に銅微
粒子群を電着させることがほとんどできないか、あるい
はこれら表面と電着させた銅微粒子との結合強度が低く
すぎるため、亜鉛などからなる剥離層が使用される。な
お、表面亜鉛メッキ支持体を用いる場合には、亜鉛が酸
性メッキ浴に溶解するため、導電性微粒子の電着にピロ
リン酸銅メッキ浴を用いることが好ましい。また、剥離
層として、トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾー
ル、イミダゾールなどの含窒素化合物、チオシアヌレー
トなどの含硫黄化合物、オレイン酸などのカルボン酸か
らなる有機系剥離層などを使用することもできる。
The release layer is not particularly limited as long as it has an adhesive strength such that the conductive fine particles are not easily detached and adheres to the support. For example, when the support is a metal foil, a release layer composed of an inorganic compound such as an oxide of a metal constituting the support or a metal different from the metal species forming the support, or a sulfide is used. . Specifically, when the support is a copper foil, a release layer made of a chromium alloy, copper sulfide, or the like is used. Further, when the support is an aluminum foil or an aluminum alloy foil, it is hardly possible to electrodeposit a group of copper particles on these surfaces, or the bonding strength between these surfaces and the electrodeposited copper particles is too low. A release layer made of, for example, is used. When a surface zinc plating support is used, it is preferable to use a copper pyrophosphate plating bath for electrodeposition of the conductive fine particles since zinc dissolves in the acidic plating bath. Further, as the release layer, an organic release layer made of a nitrogen-containing compound such as triazole, carboxybenzotriazole, imidazole, or the like, a sulfur-containing compound such as thiocyanurate, or a carboxylic acid such as oleic acid can be used.

【0033】さらにまた、このような本発明に係る電気
回路形成用複合材料には、基材樹脂と接着させる際に、
導電性微粒子が、基材樹脂中に完全に埋没しない処理が
なされていることが好ましい。
Further, when the composite material for forming an electric circuit according to the present invention is bonded to a base resin,
It is preferable that the conductive fine particles be treated so as not to be completely buried in the base resin.

【0034】このような処理としては、導電性微粒子表
面にかぶせメッキ層(銅かぶせメッキ層)を形成するこ
となどが挙げられる。また導電性微粒子表面に防錆処理
を施してもよい。 [積層板およびプリント配線板]本発明に係る積層板
は、以上のような本発明に係る電気回路形成用複合材料
を用いて形成される。
Examples of such a treatment include forming a cover plating layer (copper cover plating layer) on the surface of the conductive fine particles. Further, the surface of the conductive fine particles may be subjected to a rust prevention treatment. [Laminated Board and Printed Wiring Board] The laminated board according to the present invention is formed using the above-described composite material for forming an electric circuit according to the present invention.

【0035】具体的には、上記電気回路形成用複合材料
を導電性微粒子群が絶縁性樹脂基板に対面するように絶
縁性樹脂基板に接着させることによって得ることができ
る。
Specifically, it can be obtained by bonding the composite material for forming an electric circuit to an insulating resin substrate such that the conductive fine particles face the insulating resin substrate.

【0036】絶縁性樹脂基板としては、特に限定される
ものではなく、ガラスエポキシ基材、ガラスポリイミド
基材、ガラスポリエステル基材、アラミドエポキシ基
材、FR−4基材、紙−フェノール基材、紙−エポキシ
基材などが挙げられる。
The insulating resin substrate is not particularly limited, and may be a glass epoxy substrate, a glass polyimide substrate, a glass polyester substrate, an aramid epoxy substrate, an FR-4 substrate, a paper-phenol substrate, Paper-epoxy substrates and the like.

【0037】電気回路形成用複合材料と絶縁性樹脂基板
との接着は、通常155〜230℃の温度で、15〜1
50kgf/cm2の圧力をかけて行うことが望ましい。
The bonding between the composite material for forming an electric circuit and the insulating resin substrate is usually performed at a temperature of 155 to 230 ° C. and a temperature of 15 to 1
It is desirable to apply a pressure of 50 kgf / cm 2 .

【0038】また、本発明に係る積層板では、上記電気
回路形成用複合材料の導電性微粒子群と絶縁性樹脂基板
とを接着させたのち、支持体のみを脱離させてもよい。
Further, in the laminate according to the present invention, after the conductive fine particles of the composite material for forming an electric circuit are bonded to the insulating resin substrate, only the support may be detached.

【0039】なお、本発明では、電気回路形成用複合材
料を絶縁性樹脂基板と接着させたものを、支持体付積層
板と呼ぶこともあり、また支持体付積層板から支持体を
脱離させたものを支持体なし積層板と呼ぶこともある。
In the present invention, the composite material for forming an electric circuit bonded to an insulating resin substrate is sometimes called a laminated plate with a support, and the support is detached from the laminated plate with a support. What was made may be called a laminated plate without a support.

【0040】支持体のみを脱離させる方法としては、支
持体を剥離する方法、支持体を研磨または溶解などによ
って除去する方法などが挙げられる。
Examples of the method for removing only the support include a method for removing the support and a method for removing the support by polishing or dissolving.

【0041】支持体のみを剥離する場合、本発明に係る
電気回路形成用複合材料は、JIS-C-6481に準拠した支持
体の剥離強度が、1〜300gf/cm、実用的には5〜1
00gf/cmの範囲にあることが望ましい。電気回路形成
用複合材料の剥離強度が前記範囲にあると、本発明の電
気回路形成用複合材料を用いて積層板を形成する際に、
容易に電気回路形成用複合材料から支持体のみを剥離さ
せることができる。このように、支持体のみを剥離する
場合には、支持体と導電性微粒子群との間に上記したよ
うな剥離層が形成されていることが望ましい。
When only the support is peeled, the composite material for forming an electric circuit according to the present invention has a peel strength of the support of 1 to 300 gf / cm according to JIS-C-6481, and practically 5 to 5 gf / cm. 1
It is desirable to be in the range of 00 gf / cm. When the peel strength of the electric circuit forming composite material is in the above range, when forming a laminate using the electric circuit forming composite material of the present invention,
Only the support can be easily separated from the composite material for forming an electric circuit. As described above, when only the support is separated, it is preferable that the above-described separation layer is formed between the support and the conductive fine particle group.

【0042】また、支持体を研磨または溶解などによっ
て除去する場合、銅箔、アルミニウム箔およびアルミニ
ウム合金箔などの金属箔の支持体は、エッチングした
り、酸・アルカリなどにより溶解したりすることによっ
て除去できる。また合成樹脂シートの支持体は、有機溶
媒に合成樹脂を溶解することによって除去できる。
When the support is removed by polishing or dissolving, the support of a metal foil such as a copper foil, an aluminum foil and an aluminum alloy foil is etched or dissolved by an acid or alkali. Can be removed. The support of the synthetic resin sheet can be removed by dissolving the synthetic resin in an organic solvent.

【0043】本発明に係るプリント配線板は、このよう
な積層板にプリント配線を形成することによって得られ
る。プリント配線形成方法としては、特に限定されるも
のではなく、たとえば、パネルメッキ法、パターンメッ
キ法などを採用することができる。
The printed wiring board according to the present invention can be obtained by forming printed wiring on such a laminated board. The method for forming the printed wiring is not particularly limited, and for example, a panel plating method, a pattern plating method, or the like can be adopted.

【0044】パネルメッキ法では、たとえば図2に示す
製造工程を経て、プリント配線板が作製される。具体的
には、まず、図2(a)に示されるように上記電気回路
形成用複合材料を絶縁性樹脂基板とを接着させたのち、
支持体のみを除去して、表面に導電性微粒子群23を有
する積層板31にレーザーを照射して、図2(b)に示
されるように穴あけ加工してバイアホール32を形成す
る。こうして形成されたバイアホール表面および絶縁性
樹脂層表面に無電解メッキおよび電解メッキを行い、図
2(c)に示されるようにメッキ層33を形成する。得
られたメッキ層33表面に、図2(d)に示されるよう
に回路形成用のレジスト34をパターン状に形成し、図
2(e)に示されるように回路以外の部分のメッキ層3
3を、エッチングによって除去したのち、図2(f)に
示されるようにレジストを除去して回路33を形成す
る。
In the panel plating method, a printed wiring board is manufactured through, for example, a manufacturing process shown in FIG. Specifically, first, as shown in FIG. 2 (a), after bonding the composite material for forming an electric circuit to an insulating resin substrate,
After removing only the support, the laminate 31 having the conductive fine particle group 23 on the surface is irradiated with a laser, and a hole is formed as shown in FIG. 2B to form a via hole 32. Electroless plating and electrolytic plating are performed on the surface of the via hole and the surface of the insulating resin layer thus formed, and a plating layer 33 is formed as shown in FIG. 2C. On the surface of the obtained plating layer 33, a resist 34 for forming a circuit is formed in a pattern as shown in FIG. 2D, and as shown in FIG.
3 is removed by etching, and then the resist is removed as shown in FIG.

【0045】本発明に係るプリント配線板では、上記し
たような電気回路形成用複合材料の導電性微粒子が絶縁
性樹脂層表面に設けられているため、形成された回路が
薄くなり、ファインピッチを有する回路を形成できる。
また、電気回路形成用複合材料の導電性微粒子群が絶縁
性樹脂層表面に設けられているので、金属箔を使用した
場合のように、レーザー加工時、バイアホールの端部に
バリが生じることがなく、このためバイアホール端部の
バリ部分が肥大化したり、レジストの密着不良が生じた
り、さらにはエッチング不足などの問題を引き起こすこ
とがない。このため、予め穴開け部分を、エッチングな
どによって、除去しておく必要もない。また、このよう
なレーザーによる穴開けを従来から提案されているレー
ザーよりも弱い出力のレーザーを用いて行うことができ
る。
In the printed wiring board according to the present invention, since the conductive fine particles of the composite material for forming an electric circuit as described above are provided on the surface of the insulating resin layer, the formed circuit is thin and the fine pitch is reduced. A circuit having the same.
In addition, since the conductive fine particles of the composite material for forming an electric circuit are provided on the surface of the insulating resin layer, burrs may be generated at the end of the via hole during laser processing, such as when using metal foil. Therefore, problems such as an enlarged burr portion at the end of the via hole, poor adhesion of the resist, and insufficient etching do not occur. Therefore, it is not necessary to remove the perforated portion by etching or the like in advance. In addition, such laser drilling can be performed using a laser having an output lower than that of a conventionally proposed laser.

【0046】また、パターンメッキ法では、たとえば図
3に示す製造工程を経て、プリント配線板が作製され
る。具体的には、図3(a)に示されるように、導電性
微粒子23が絶縁性樹脂層の表面に設けられてなる積層
板41に、直接レーザーを照射して穴あけ加工し、図3
(b)に示されるようにバイアホール42を形成する。
次に、図3(c)に示されるように無電解メッキをバイ
アホール内を含む全面に施し、メッキ層43を形成した
後、図3(d)に示されるように回路形成用のレジスト
44をパターン状に形成したのち、図3(e)に示され
るように電解メッキにより所定厚みの回路45を形成す
る。その後、表面のレジスト44を除去し、さらに全面
をエッチングし、特に回路以外の部分の無電解メッキ層
43および導電性微粒子群をエッチングにより除去(こ
れをフラッシュエッチングということもある)して、図
3(f)に示されるように回路45を形成する。このプ
ロセスにおいて、レジスト除去前の回路表面に、スズメ
ッキもしくははんだメッキを施し、エッチングレジスト
としてもよい。
In the pattern plating method, a printed wiring board is manufactured through, for example, a manufacturing process shown in FIG. Specifically, as shown in FIG. 3A, the laminated plate 41 provided with the conductive fine particles 23 on the surface of the insulating resin layer is directly irradiated with a laser to form a hole.
A via hole 42 is formed as shown in FIG.
Next, as shown in FIG. 3 (c), electroless plating is applied to the entire surface including the inside of the via hole to form a plating layer 43, and then, as shown in FIG. 3 (d), a resist 44 for forming a circuit is formed. Is formed in a pattern, and a circuit 45 having a predetermined thickness is formed by electrolytic plating as shown in FIG. After that, the resist 44 on the surface is removed, and the entire surface is further etched. In particular, the electroless plating layer 43 and the conductive fine particle group other than the circuit are removed by etching (this may be referred to as flash etching). The circuit 45 is formed as shown in FIG. In this process, tin plating or solder plating may be applied to the circuit surface before the removal of the resist to form an etching resist.

【0047】このようなパネルメッキ法、パターンメッ
キ法のいずれを用いても、形成された配線層と絶縁性樹
脂との密着性が優れ、かつ耐熱性にも優れたプリント配
線板を作製することができる。
By using either the panel plating method or the pattern plating method, a printed wiring board having excellent adhesion between the formed wiring layer and the insulating resin and excellent heat resistance can be produced. Can be.

【0048】また、本発明では、以上のようなプリント
配線板を内層回路付基板として使用し、さらに、絶縁性
樹脂層を介して、本発明に係る電気回路用複合材料とを
接着し、電気回路形成用複合複合材料から支持体を除去
して、絶縁性樹脂層の表面に導電性微粒子群を設け、次
いでバイアホールおよび回路を形成し、メッキを行っ
て、両面プリント配線板を得ることができる。
In the present invention, the printed wiring board as described above is used as a substrate with an inner circuit, and the composite material for an electric circuit according to the present invention is bonded via an insulating resin layer. The support is removed from the composite material for forming a circuit, the conductive fine particles are provided on the surface of the insulating resin layer, then the via hole and the circuit are formed, and plating is performed to obtain a double-sided printed wiring board. it can.

【0049】このような操作をさらに繰り返すことによ
って、多層プリント配線板を得ることができる。
By repeating such operations, a multilayer printed wiring board can be obtained.

【0050】[0050]

【発明の効果】本発明の電気回路形成用複合材料とし
て、絶縁性樹脂層の表面に極めて薄い導電性微粒子群を
設けているので、絶縁性樹脂層にドリル加工、レーザー
加工またはこれらに類似した方法によってプリント配線
板の穴開け加工する際のバリの発生などの問題が解消さ
れる。しかも穴開け加工を、従来提案されている出力の
ものよりも弱いレーザー出力のものであっても行うこと
ができる。さらにこのような本発明の電気回路形成用複
合材料を使用すると、回路の厚さを薄くすることできる
ので、ファインピッチを有するプリント配線板を効率よ
く作成することができる。その上本発明の電気回路形成
用複合材料を用いると、絶縁性樹脂層と回路との間に充
分な接着力を付与することができる。
As the composite material for forming an electric circuit of the present invention, a very thin group of conductive fine particles is provided on the surface of the insulating resin layer, so that the insulating resin layer is drilled, laser-processed or similar. The method eliminates problems such as generation of burrs at the time of boring a printed wiring board. Moreover, the boring process can be performed even if the laser output is weaker than the conventionally proposed output. Further, when such a composite material for forming an electric circuit of the present invention is used, the thickness of the circuit can be reduced, so that a printed wiring board having a fine pitch can be efficiently produced. Moreover, when the composite material for forming an electric circuit of the present invention is used, a sufficient adhesive force can be provided between the insulating resin layer and the circuit.

【0051】[0051]

【実施例】以下、本発明を実施例に基づき説明するが、
本発明はこれらの実施例になんら限定されるものではな
い。
Hereinafter, the present invention will be described based on examples.
The present invention is not limited to these Examples.

【0052】[0052]

【実施例1】支持体金属箔として、厚さ35μmの電解
銅箔を用意し、その光沢面を硫酸100g/lの濃度で含
む洗浄液中で、30秒間洗浄した。硫酸洗浄後、銅箔を
水洗した。
Example 1 An electrolytic copper foil having a thickness of 35 μm was prepared as a support metal foil, and its glossy surface was washed for 30 seconds in a cleaning solution containing sulfuric acid at a concentration of 100 g / l. After washing with sulfuric acid, the copper foil was washed with water.

【0053】次いで銅箔を、液温30℃、10g/lの硫
化アンモニウム水溶液に、10秒間浸漬して、銅箔の光
沢面に硫化銅の剥離層を形成した。硫化銅の剥離層を、
精製水で10秒間洗浄したのち、銅箔を、銅濃度20g
/l、硫酸濃度70g/l、液温40℃のメッキ浴を用
いて、電流密度20A/dm2で5秒間電解し、銅の導
電性微粒子群を、剥離層の表面に電着させた。
Next, the copper foil was immersed in a 10 g / l aqueous solution of ammonium sulfide for 10 seconds at a liquid temperature of 30 ° C. to form a copper sulfide release layer on the glossy surface of the copper foil. Copper sulfide release layer
After washing with purified water for 10 seconds, the copper foil was immersed in a copper concentration of 20 g.
/ L, a sulfuric acid concentration of 70 g / l, and a plating bath having a solution temperature of 40 ° C., electrolysis was performed at a current density of 20 A / dm 2 for 5 seconds, and the conductive fine particles of copper were electrodeposited on the surface of the release layer.

【0054】このようにして導電性微粒子群が生成した
複合箔を、銅濃度が75g/lであり、硫酸濃度が80
g/lであり、かつ液温50℃のメッキ浴を用いて、電
流密度30A/dm2で10秒間電解し、導電性微粒子
群の上に銅のかぶせメッキ層を形成した。
The composite foil having the conductive fine particles formed as described above has a copper concentration of 75 g / l and a sulfuric acid concentration of 80 g / l.
Using a plating bath of g / l and a liquid temperature of 50 ° C., electrolysis was performed at a current density of 30 A / dm 2 for 10 seconds to form a copper-plated plating layer on the conductive fine particles.

【0055】こうして得られた電気回路形成用複合材料
は、水洗処理を行った後、防錆処理を施し、乾燥した。
The composite material for forming an electric circuit thus obtained was subjected to a rinsing treatment, a rust preventive treatment, and a drying treatment.

【0056】なお、得られたかぶせメッキ層を有する導
電性微粒子群の大きさは、電気回路形成用複合材料の厚
さ方向で1.5μmであった。
The size of the conductive fine particles having the overlaid plating layer was 1.5 μm in the thickness direction of the composite material for forming an electric circuit.

【0057】また、かぶせメッキ層を有する導電性微粒
子群が形成された面の表面粗度(Rz)は、2.9μmで
あった。 [積層板]上記得られた電気回路形成用複合材料を、
0.1mm厚のFR-4プリプレグ4枚に対して、かぶせメッ
キ層を有する導電性微粒子群とプリプレグとが対峙する
ように積層し、175℃、25kg/cm2の条件下で60分
間加圧・加熱して、積層板を作製した。
The surface roughness (Rz) of the surface on which the conductive fine particle group having the overlaid plating layer was formed was 2.9 μm. [Laminated plate] The obtained composite material for forming an electric circuit was
Four 0.1 mm thick FR-4 prepregs are laminated so that the conductive fine particles having a cover plating layer and the prepreg face each other, and are pressed at 175 ° C. and 25 kg / cm 2 for 60 minutes. -Heating was performed to produce a laminate.

【0058】得られた積層板から、銅支持体を引き剥が
して除去した後、積層板全面に銅の無電解メッキを施
し、さらに電解メッキを行い、積層板表面に合計厚さ3
5μmの銅層を形成したのち、パターン状レジストを形
成し、次いでエッチングを行い10mm幅の回路を有する
評価試料を作製し、JIS C 6481に準拠して、引き剥がし
強度の評価を行った。密着性 得られた評価試料の回路と基材(FR-4)との引き剥がし強
度を測定したところ、引き剥がし強度は1.43kg/cm
であり、形成された回路は基材と十分な接着強度を有し
ていた。耐熱性 得られた評価試料を160℃のはんだ浴に20秒間フロ
ートさせ、基材と回路との引き剥がし強度を測定した。
After the copper support was peeled off from the obtained laminate, the entire surface of the laminate was subjected to electroless plating with copper, and further subjected to electrolytic plating.
After forming a 5 μm copper layer, a patterned resist was formed, followed by etching to prepare an evaluation sample having a 10 mm wide circuit, and the peel strength was evaluated in accordance with JIS C 6481. When the peeling strength between the circuit of the evaluation sample obtained and the substrate (FR-4) was measured, the peeling strength was 1.43 kg / cm.
The formed circuit had sufficient adhesive strength to the substrate. Heat resistance The obtained evaluation sample was floated in a solder bath at 160 ° C. for 20 seconds, and the peel strength between the substrate and the circuit was measured.

【0059】その結果、引き剥がし強度は1.43kg/c
mであり、はんだフロート以前のと引き剥がし強度はほ
とんど変化がなく、得られた評価試料は耐熱性に優れて
いることが判明した。 [プリント配線板]上記得られた電気回路形成用複合材
料を、0.1mm厚のFR-4プリプレグ4枚に、導電性微粒
子群とプリプレグとが対峙するように積層し、175
℃、25kg/cm2の条件下で60分間加圧・加熱して、電
気回路形成用複合材料とプリプレグとを接着させて、積
層板を作製した。
As a result, the peel strength was 1.43 kg / c.
m, the peel strength was almost unchanged from that before the solder float, and it was found that the obtained evaluation sample had excellent heat resistance. [Printed Wiring Board] The obtained composite material for forming an electric circuit was laminated on four FR-4 prepregs having a thickness of 0.1 mm so that the conductive fine particles and the prepreg faced each other.
The composite was pressed and heated at 25 ° C. and 25 kg / cm 2 for 60 minutes to bond the electric circuit forming composite material and the prepreg, thereby producing a laminate.

【0060】積層板より、支持体を除去して、プリプレ
グ上に導電性微粒子群を設けた後、炭酸ガスレーザーを
用いて穴開け加工したところ、穴開け部にはバリの発生
は観察されなかった。
After removing the support from the laminate and providing a group of conductive fine particles on the prepreg, a hole was formed using a carbon dioxide gas laser. No burrs were observed at the hole. Was.

【0061】次に積層板全面に銅の無電解メッキを施
し、さらに電解メッキを行い、積層板表面に合計厚さ1
8μmの銅層を形成した。こうして得られた積層板上に
レジストを形成した後エッチングして、線幅/線間=3
0μm/30μmの回路を形成した。このときのエッチ
ング性は良好であり、作製した電気回路形成用複合材料
は微細な回路形成に非常に優れていることが判明した。
Next, electroless plating of copper is performed on the entire surface of the laminate, and further electrolytic plating is performed, so that a total thickness of 1
An 8 μm copper layer was formed. A resist is formed on the laminate thus obtained and then etched to obtain a line width / line interval = 3.
A circuit of 0 μm / 30 μm was formed. The etching property at this time was good, and it was found that the produced composite material for forming an electric circuit was very excellent in forming a fine circuit.

【0062】[0062]

【実施例2】支持体金属箔として、厚さ35μmの電解
銅箔を用意し、その光沢面を硫酸100g/lの濃度で含
む洗浄液中で、30秒間洗浄した。硫酸洗浄後、銅箔を
精製水で水洗した。洗浄した銅箔の光沢面を液温40
℃、濃度5g/lのトリアジンチオール水溶液に30秒
間浸漬し、支持体銅箔表面に有機系剥離層を形成した。
Example 2 An electrolytic copper foil having a thickness of 35 μm was prepared as a support metal foil, and its glossy surface was washed for 30 seconds in a cleaning solution containing sulfuric acid at a concentration of 100 g / l. After washing with sulfuric acid, the copper foil was washed with purified water. Liquid temperature 40
It was immersed in a triazinethiol aqueous solution having a concentration of 5 g / l at 30 ° C. for 30 seconds to form an organic release layer on the surface of the support copper foil.

【0063】次いで、形成された有機系剥離層の表面を
水洗したのち、銅濃度10g/l、硫酸濃度170g/
l、液温30℃のメッキ浴を用いて、電流密度15A/
dm 2で8秒間電解し、銅の導電性微粒子群を有機系剥
離層表面に電着させた。さらに、銅濃度が75g/lで
あり、硫酸濃度が80g/lであり、かつ液温50℃の
メッキ浴を用いて、電流密度30A/dm2で30秒間
電解し、導電性微粒子群の上に銅のかぶせメッキ層を形
成した。
Next, the surface of the formed organic release layer is
After washing with water, copper concentration 10g / l, sulfuric acid concentration 170g /
1, using a plating bath having a liquid temperature of 30 ° C. and a current density of 15 A /
dm TwoElectrolysis for 8 seconds to remove copper conductive fine particles
Electrodeposition was performed on the delamination surface. Furthermore, when the copper concentration is 75 g / l,
With a sulfuric acid concentration of 80 g / l and a liquid temperature of 50 ° C.
Using plating bath, current density 30A / dmTwoFor 30 seconds
Electrolyze and form a copper plating layer on the conductive fine particles.
Done.

【0064】こうして得られた電気回路形成用複合材料
は、水洗処理を行った後、防錆処理を施し、乾燥した。
The thus obtained composite material for forming an electric circuit was subjected to a rinsing treatment, a rustproofing treatment and a drying treatment.

【0065】なお、得られたかぶせメッキ層を有する導
電性微粒子群の大きさは、電気回路形成用複合材料の厚
さ方向で1.0μmであった。
The size of the conductive fine particles having the overlaid plating layer was 1.0 μm in the thickness direction of the composite material for forming an electric circuit.

【0066】また、かぶせメッキ層を有する導電性微粒
子群が形成された面の表面粗度(Rz)は、2.2μmで
あった。 [積層板]上記得られた電気回路形成用複合材料を、
0.1mm厚のFR-4プリプレグ4枚に、かぶせメッキ層を
有する導電性微粒子群とプリプレグとが対峙するように
積層し、175℃、25kg/cm2の条件下で60分間加圧
・加熱して、積層板を作製した。
The surface roughness (Rz) of the surface on which the conductive fine particles having the overlaid plating layer were formed was 2.2 μm. [Laminated plate] The obtained composite material for forming an electric circuit was
The conductive fine particles having the overlaid plating layer and the prepreg are laminated on four FR-4 prepregs having a thickness of 0.1 mm so that the prepregs face each other, and pressed and heated at 175 ° C. and 25 kg / cm 2 for 60 minutes. Thus, a laminated plate was produced.

【0067】得られた積層板から、銅支持体を引き剥が
して除去した後、積層板全面に銅の無電解メッキを施
し、さらに電解メッキを行い、積層板表面に合計厚さ3
5μmの銅層を形成したのち、パターン状レジストを形
成し、次いでエッチングを行い10mm幅の回路を有する
評価試料を作製し、JIS C 6481に準拠して引き剥がし強
度の評価を行った。密着性 得られた評価試料の回路と基材(FR-4)との引き剥がし強
度を測定したところ、引き剥がし強度は1.35kg/cm
であり、形成された回路は基材と十分な接着強度を有し
ていた。耐熱性 得られた評価試料を160℃のはんだ浴に20秒間フロ
ートさせ、基材と回路との引き剥がし強度を測定した。
After the copper support was peeled off and removed from the obtained laminate, the entire surface of the laminate was subjected to electroless plating with copper, and further subjected to electrolytic plating, so that a total thickness of 3 mm was formed on the surface of the laminate.
After forming a 5 μm copper layer, a patterned resist was formed and then etched to prepare an evaluation sample having a 10 mm wide circuit, and the peel strength was evaluated in accordance with JIS C 6481. When the peel strength between the circuit of the evaluation sample obtained and the substrate (FR-4) was measured, the peel strength was 1.35 kg / cm.
The formed circuit had sufficient adhesive strength to the substrate. Heat resistance The obtained evaluation sample was floated in a solder bath at 160 ° C. for 20 seconds, and the peel strength between the substrate and the circuit was measured.

【0068】その結果、引き剥がし強度は1.35kg/c
mであり、はんだフロート以前と引き剥がし強度はほと
んど変化がなく、得られた評価試料は耐熱性に優れてい
ることが判明した。 [プリント配線板]上記得られた電気回路形成用複合材
料を、0.1mm厚のFR-4プリプレグ4枚に、導電性微粒
子群とプリプレグとが対峙するように積層し、175
℃、25kg/cm2の条件下で60分間加圧・加熱して、電
気回路形成用複合材料とプリプレグとを接着させて、積
層板を作製した。
As a result, the peel strength was 1.35 kg / c.
m, the peel strength was almost unchanged from before the solder float, and it was found that the obtained evaluation sample had excellent heat resistance. [Printed Wiring Board] The obtained composite material for forming an electric circuit was laminated on four FR-4 prepregs having a thickness of 0.1 mm so that the conductive fine particles and the prepreg faced each other.
The composite was pressed and heated at 25 ° C. and 25 kg / cm 2 for 60 minutes to bond the electric circuit forming composite material and the prepreg, thereby producing a laminate.

【0069】積層板より支持体を除去してプリプレグ上
に導電性微粒子群を設けた後、炭酸ガスレーザーを用い
て穴開け加工したところ、穴開け部にはバリの発生は観
察されなかった。
After removing the support from the laminate and providing a group of conductive fine particles on the prepreg, a hole was formed using a carbon dioxide gas laser. No burrs were observed at the hole.

【0070】次に積層板全面に銅の無電解メッキを施
し、さらに電解メッキを行い、積層板表面に合計厚さ1
8μmの銅層を形成した。こうして得られた積層板にエ
ッチングを行い、線幅/線間=30μm/30μmの回
路を形成した。このときのエッチング性は良好であり、
作製した電気回路形成用複合材料は微細な回路形成に非
常に優れていることが判明した。
Next, electroless plating of copper is performed on the entire surface of the laminate, and then electrolytic plating is performed.
An 8 μm copper layer was formed. The laminate thus obtained was etched to form a circuit having a line width / line interval of 30 μm / 30 μm. The etching property at this time is good,
It was found that the produced composite material for forming an electric circuit was excellent in forming a fine circuit.

【0071】[0071]

【実施例3】支持体金属箔として、厚さ35μmの電解
銅箔を用意し、その光沢面を硫酸100g/lの濃度で
含む洗浄液中で、30秒間洗浄した。硫酸洗浄後、銅箔
を30秒間水洗した。
Example 3 An electrolytic copper foil having a thickness of 35 μm was prepared as a support metal foil, and its glossy surface was washed for 30 seconds in a cleaning solution containing sulfuric acid at a concentration of 100 g / l. After the sulfuric acid washing, the copper foil was washed with water for 30 seconds.

【0072】洗浄した銅箔の光沢面を、液温40℃、濃
度5g/lのトリアジンチオール水溶液に30秒間浸漬
し、支持体銅箔表面に有機系剥離層を形成した。
The glossy surface of the washed copper foil was immersed in an aqueous solution of triazinethiol having a liquid temperature of 40 ° C. and a concentration of 5 g / l for 30 seconds to form an organic release layer on the surface of the support copper foil.

【0073】次いで、銅が15g/lの濃度で、コバル
トが5g/lの濃度で、ニッケルが5g/lの濃度で溶
解したメッキ浴(液温40℃)を用いて、電流密度30
A/dm2で2秒間電解し、銅−コバルト−ニッケル合
金からなる導電性微粒子群を有機系剥離層表面に電着さ
せた。
Next, using a plating bath (solution temperature of 40 ° C.) in which copper was dissolved at a concentration of 15 g / l, cobalt was dissolved at a concentration of 5 g / l, and nickel was dissolved at a concentration of 5 g / l, a current density of 30 g was used.
Electrolysis was performed at A / dm 2 for 2 seconds, and conductive fine particles made of a copper-cobalt-nickel alloy were electrodeposited on the surface of the organic release layer.

【0074】導電性微粒子群が電着した複合箔を、さら
に、コバルトが8g/l、ニッケルが18g/lの濃度
で溶解したメッキ浴(液温50℃)を用いて、電流密度
3A/dm2で5秒間電解し、銅−コバルト−ニッケル
合金の導電性微粒子群の上にコバルト−ニッケル合金の
かぶせメッキ層を形成した。
The composite foil on which the conductive fine particles were electrodeposited was further subjected to a current density of 3 A / dm using a plating bath (solution temperature: 50 ° C.) in which cobalt was dissolved at a concentration of 8 g / l and nickel at a concentration of 18 g / l. Electrolysis was performed for 5 seconds at 2 to form a cobalt-nickel alloy overlay plating layer on the conductive fine particles of the copper-cobalt-nickel alloy.

【0075】こうして得られた電気回路形成用複合材料
は、水洗処理を行った後、防錆処理を施し、乾燥した。
The electric circuit forming composite material thus obtained was subjected to a rinsing treatment, a rust prevention treatment, and a drying treatment.

【0076】なお、得られたかぶせメッキ層を有する導
電性微粒子群の大きさは、電気回路形成用複合材料の厚
さ方向で3.5μmであった。
The size of the conductive fine particles having the overlaid plating layer was 3.5 μm in the thickness direction of the composite material for forming an electric circuit.

【0077】また、導電性微粒子群が形成された面の表
面粗度(Rz)は、3.2μmであった。 [積層板]上記得られた電気回路形成用複合材料を、
0.1mm厚のFR-4プリプレグ4枚に、導電性微粒子群と
プリプレグとが対峙するように積層し、175℃、25
kg/cm2の条件下で60分間加圧・加熱して、電気回路形
成用複合材料とプリプレグとを接着させて積層板を作製
した。
The surface roughness (Rz) of the surface on which the group of conductive fine particles was formed was 3.2 μm. [Laminated plate] The obtained composite material for forming an electric circuit was
On four FR-4 prepregs each having a thickness of 0.1 mm, the conductive fine particles and the prepreg were laminated so as to face each other, and were heated at 175 ° C and 25 ° C.
The laminate was prepared by applying pressure and heat for 60 minutes under the condition of kg / cm 2 to bond the composite material for forming an electric circuit and the prepreg.

【0078】得られた積層板から、銅支持体を引き剥が
して除去した後、積層板全面に銅の無電解メッキを施
し、さらに電解メッキを行い、積層板表面に合計厚さ3
5μmの銅層を形成したのち、レジストパターンを形成
してエッチングを行い10mm幅の回路を有する評価試料
を作製し、JIS C 6481に準拠して引き剥がし強度の評価
を行なった。密着性 得られた評価試料の回路と基材(FR-4)との引き剥がし強
度を測定したところ、引き剥がし強度は1.50kg/cm
であり、形成された回路は基材と十分な接着強度を有し
ていた。耐熱性 得られた評価試料を160℃のはんだ浴に20秒間フロ
ートさせ、基材と回路との引き剥がし強度を測定した。
After the copper support was peeled off and removed from the obtained laminate, the entire surface of the laminate was subjected to electroless plating of copper, and further subjected to electrolytic plating, so that a total thickness of 3 mm was formed on the surface of the laminate.
After forming a 5 μm copper layer, a resist pattern was formed and etched to prepare an evaluation sample having a 10 mm wide circuit, and the peel strength was evaluated in accordance with JIS C 6481. When the peel strength between the circuit of the evaluation sample obtained and the substrate (FR-4) was measured, the peel strength was 1.50 kg / cm.
The formed circuit had sufficient adhesive strength to the substrate. Heat resistance The obtained evaluation sample was floated in a solder bath at 160 ° C. for 20 seconds, and the peel strength between the substrate and the circuit was measured.

【0079】その結果、引き剥がし強度は1.50kg/c
mであり、はんだフロート以前のものと比較して、引き
剥がし強度はほとんど変化がなく、得られた評価試料は
耐熱性に優れていることがわかった。 [プリント配線板]上記得られた電気回路形成用複合材
料を、0.1mm厚のFR-4プリプレグ4枚に積層し、導電
性微粒子群とプリプレグとが対峙するように積層し、1
75℃、25kg/cm2の条件下で60分間加圧・加熱し
て、電気回路形成用複合材料とプリプレグとを接着させ
て、積層板を作製した。
As a result, the peel strength was 1.50 kg / c.
m, and the peel strength was hardly changed as compared with that before the solder float, indicating that the obtained evaluation sample was excellent in heat resistance. [Printed Wiring Board] The obtained composite material for forming an electric circuit was laminated on four FR-4 prepregs each having a thickness of 0.1 mm, and laminated so that the conductive fine particles and the prepreg faced each other.
The composite material for forming an electric circuit was bonded to the prepreg by pressing and heating at 75 ° C. and 25 kg / cm 2 for 60 minutes to prepare a laminate.

【0080】積層板より支持体を除去した後、炭酸ガス
レーザーを用いて穴開け加工したところ、穴開け部には
バリの発生は観察されなかった。
After the support was removed from the laminate, a hole was formed using a carbon dioxide gas laser. No burrs were observed at the hole.

【0081】次に積層板全面に銅の無電解メッキを施
し、さらに電解メッキを行い、積層板表面に合計厚さ1
8μmの銅層を形成した。こうして得られた積層板にエ
ッチングを行い、線幅/線間=30μm/30μmの回
路を形成する。このときのエッチング性は良好であり、
作製した電気回路形成用複合材料は微細な回路形成に非
常に優れていることがわかった。
Next, electroless plating of copper is performed on the entire surface of the laminated plate, and further, electrolytic plating is performed.
An 8 μm copper layer was formed. The laminate thus obtained is etched to form a circuit having a line width / line interval of 30 μm / 30 μm. The etching property at this time is good,
It was found that the produced composite material for forming an electric circuit was excellent in forming a fine circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の電気回路形成用複合材料の一態様を示
す概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of a composite material for forming an electric circuit according to the present invention.

【図2】本発明のプリント配線板の製造方法を示す概略
断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view illustrating a method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.

【図3】本発明のプリント配線板の別の製造方法を示す
概略断面図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing another method for manufacturing a printed wiring board of the present invention.

【図4】プリント配線板の従来公知の製造方法を示す概
略断面図である。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing a conventionally known method for manufacturing a printed wiring board.

【図5】プリント配線板の別の従来公知の製造方法を示
す概略断面図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing another conventionally known method for manufacturing a printed wiring board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

21……電気回路形成用複合材料 22……支持体 23……導電性微粒子 21: composite material for forming an electric circuit 22: support 23: conductive fine particles

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩 切 健一郎 埼玉県上尾市鎌倉橋656−2 三井金属鉱 業株式会社銅箔事業部内 (72)発明者 山 本 拓 也 埼玉県上尾市鎌倉橋656−2 三井金属鉱 業株式会社銅箔事業部内 (72)発明者 樋 口 勉 埼玉県上尾市鎌倉橋656−2 三井金属鉱 業株式会社銅箔事業部内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Kenichiro Iwagiri 656-2 Kamakurabashi, Ageo City, Saitama Prefecture Inside the Copper Foil Division, Mitsui Kinzoku Mining Co., Ltd. (72) Inventor Takuya Yamamoto 656 Kamakurabashi, Ageo City, Saitama Prefecture -2 Inside the Copper Foil Division, Mitsui Metal Mining Co., Ltd. (72) Inventor, Tsutomu Higuchi 655-2 Kamakurabashi, Ageo City, Saitama

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】支持体と、該支持体上に脱離可能に設けら
れた導電性微粒子群とからなることを特徴とする電気回
路形成用複合材料。
1. A composite material for forming an electric circuit, comprising: a support; and a group of conductive fine particles detachably provided on the support.
【請求項2】前記導電性微粒子群の大きさが、複合材料
の厚さ方向で0.1〜5.0μmの範囲にあることを特
徴とする請求項1に記載の電気回路形成用複合材料。
2. The composite material for forming an electric circuit according to claim 1, wherein the size of the conductive fine particles is in the range of 0.1 to 5.0 μm in the thickness direction of the composite material. .
【請求項3】導電性微粒子群が設けられた面の表面粗度
(Rz)が、0.5〜10.0μmの範囲にあることを特
徴とする請求項1または2に記載の電気回路形成用複合
材料。
3. The electric circuit according to claim 1, wherein the surface provided with the group of conductive fine particles has a surface roughness (Rz) in a range of 0.5 to 10.0 μm. For composite materials.
【請求項4】支持体と導電性微粒子群との間に、剥離層
が設けられていることを特徴とする請求項1〜3のいず
れかに記載の電気回路形成用複合材料。
4. The composite material for forming an electric circuit according to claim 1, wherein a release layer is provided between the support and the group of conductive fine particles.
【請求項5】請求項1〜4のいずれかに記載の電気回路
形成用複合材料が、導電性微粒子群が基材と対面するよ
うに基材表面に接合されてなる積層板。
5. A laminate, wherein the composite material for forming an electric circuit according to claim 1 is bonded to a surface of a base material such that the conductive fine particles face the base material.
【請求項6】請求項1〜4のいずれかに記載の電気回路
形成用複合材料を、導電性微粒子群が基材と対面するよ
うに基材表面に接合したのち、支持体のみを除去してな
る基材表面に導電性微粒子群が設けられている積層板。
6. The composite material for forming an electric circuit according to claim 1, which is bonded to the surface of the base material such that the conductive fine particles face the base material, and then only the support is removed. A laminate having a conductive fine particle group provided on the surface of a base material.
【請求項7】請求項1〜4のいずれかに記載の電気回路
形成用複合材料を用いて形成されたプリント配線板。
7. A printed wiring board formed using the composite material for forming an electric circuit according to claim 1.
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