JP2000194023A - Semiconductor laser module - Google Patents

Semiconductor laser module

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JP2000194023A
JP2000194023A JP10374736A JP37473698A JP2000194023A JP 2000194023 A JP2000194023 A JP 2000194023A JP 10374736 A JP10374736 A JP 10374736A JP 37473698 A JP37473698 A JP 37473698A JP 2000194023 A JP2000194023 A JP 2000194023A
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Japan
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semiconductor laser
wavelength
light
laser module
band
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JP10374736A
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Inventor
Masahiro Kanda
征広 神田
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NEC Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor laser module having improved stabilizing operation characteristic. SOLUTION: Exit light from a semiconductor laser element 1 is converted into collimated light and is converged by lenses 2, 3 and the converged light is taken out to outside by an optical fiber 4. In the optical fiber 4, fiber gratings 5a, 5b having two peak wavelengths are provided. The two peak wavelengths are set at a longer wavelength side and a shorter wavelength side from a central value of effective excitation wavelength band of an optical fiber amplifier. By this constitution, even when wavelength of the semiconductor laser element 1 is changed by temp. characteristic or the like and is out of a lock range of a reflector of one hand, the wavelength is locked in the excitation effective wavelength zone of rare earth-added fiber by the reflector of another hand, module operation in a wide temp. range is realized, tolerance of element wavelength is widened and yield of the semiconductor laser element is improved. Further, wavelength components which do not contribute to amplification at EDF can be reduced.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光通信に適用され
るファイバグレーティング用励起の半導体レーザモジュ
ールに関する。
The present invention relates to a pumped semiconductor laser module for a fiber grating applied to optical communication.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体レーザモジュールは一般
に、光通信に用いられる。特に、近年の光通信の長距離
伝送化に伴い、光を電気に変換すること無く光のままで
増幅できる光ファイバアンプが用いられている。例え
ば、1550nm帯の光ファイバアンプとしては、レー
ザ活性物質として希土類元素または遷移金属が添加され
ており、特にエルビウムが一般的に用いられている。エ
ルビウム添加光ファイバアンプの励起波長帯としては、
980nm帯と1480nm帯があり、本波長帯での励
起用光源が開発されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, semiconductor laser modules are generally used for optical communication. In particular, with the recent long-distance optical communication, optical fiber amplifiers that can amplify light without converting it into electricity have been used. For example, for an optical fiber amplifier in the 1550 nm band, a rare earth element or a transition metal is added as a laser active material, and in particular, erbium is generally used. As the excitation wavelength band of the erbium-doped optical fiber amplifier,
There are a 980 nm band and a 1480 nm band, and an excitation light source in this wavelength band has been developed.

【0003】図12を参照すると、一般的なEDF(希
土類添加ファイバとしてエルビウムドープファイバ)の
有効励起波長帯域は、975〜985nmである。
Referring to FIG. 12, the effective excitation wavelength band of a general EDF (erbium-doped fiber as a rare earth-doped fiber) is 975 to 985 nm.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来技術では、励起に使える波長範囲は決まっており、
特に980nm帯は有効励起波長範囲が10nm程度と
狭く、半導体レーザ素子の歩留り等に影響を及ぼしてい
る。また、半導体レーザ素子の波長変化の温度依存性
は、一般的に約3nm/10℃である。このため、半導
体レーザ素子温度が約40℃以上変化した場合、半導体
レーザ素子波長が励起有効範囲から外れてしまう。
However, in the above-mentioned prior art, the wavelength range that can be used for excitation is determined.
Particularly in the 980 nm band, the effective excitation wavelength range is as narrow as about 10 nm, which affects the yield of the semiconductor laser device. The temperature dependence of the wavelength change of the semiconductor laser device is generally about 3 nm / 10 ° C. Therefore, when the semiconductor laser element temperature changes by about 40 ° C. or more, the wavelength of the semiconductor laser element deviates from the effective excitation range.

【0005】また、ファイバグレーティング(以下、F
G)等の外部反射器を用いて、波長ロックをかけて、波
長の安定化を図る方法があるが、これには以下のような
問題点がある。
A fiber grating (hereinafter referred to as F
There is a method of stabilizing the wavelength by locking the wavelength using an external reflector such as G), but this has the following problems.

【0006】図9は半導体レーザ素子温度が中間の場
合、図10は半導体レーザ素子温度が低い場合、図11
は高い温度の場合である。これらの図において、特性曲
線42は低温時の半導体レーザ素子のスペクトラム、特
性曲線43は高温時の半導体レーザ素子のスペクトラ
ム、特性曲線41はその中間の温度(室温程度)でのス
ペクトラムである。
FIG. 9 shows a case where the temperature of the semiconductor laser element is intermediate, and FIG. 10 shows a case where the temperature of the semiconductor laser element is low.
Is the case of high temperature. In these figures, the characteristic curve 42 is the spectrum of the semiconductor laser device at a low temperature, the characteristic curve 43 is the spectrum of the semiconductor laser device at a high temperature, and the characteristic curve 41 is the spectrum at an intermediate temperature (about room temperature).

【0007】FG(ファイバグレーティング)のロック
波長を980nmとすれば、半導体レーザ素子波長とF
Gのロック波長が近い場合には、特性曲線31のように
FGのロック波長だけが取り出される。しかし、半導体
レーザ素子温度が低温もしくは高温になって波長がずれ
た場合、完全にFGのロック波長に引き込めず、特性曲
線32、特性曲線33のような半導体レーザ素子スペク
トラムの一部が現れる。これはEDFの励起有効範囲外
の波長であり、その分EDFアンプの利得が低下するこ
とになる。完全にFGに引き込める半導体レーザ素子の
波長範囲は、FGのピーク波長±7nm程度である。
If the lock wavelength of the FG (fiber grating) is 980 nm, the wavelength of the semiconductor laser
When the lock wavelength of G is close, only the lock wavelength of FG is extracted as shown by the characteristic curve 31. However, when the wavelength of the semiconductor laser device shifts due to a low or high temperature, the FG lock wavelength cannot be completely drawn, and a part of the semiconductor laser device spectrum such as the characteristic curves 32 and 33 appears. This is a wavelength outside the effective pumping range of the EDF, and the gain of the EDF amplifier is reduced accordingly. The wavelength range of the semiconductor laser element that can be completely drawn into the FG is about ± 7 nm of the peak wavelength of the FG.

【0008】一方、一般的に半導体レーザ素子作製時の
波長分布は、図12に示すように一様ではなく、ウェハ
内でばらついており図13のような分布を示す。網掛け
部がFGで引き込める半導体レーザ素子波長範囲である
が、実線部のように半導体レーザ素子波長分布ピークが
980nmにきていても20%程度は波長不良となる。
ロットにより、ピークが長短波長のどちらかにずれた場
合は、さらに不良数が増加してしまい、歩留りが悪くな
る。
On the other hand, generally, the wavelength distribution at the time of manufacturing a semiconductor laser device is not uniform as shown in FIG. 12, but varies within a wafer and shows a distribution as shown in FIG. The shaded area is the wavelength range of the semiconductor laser element that can be drawn in by FG, but even if the semiconductor laser element wavelength distribution peak is at 980 nm as shown by the solid line, about 20% of the wavelength is defective.
If the peak shifts to one of the long and short wavelengths depending on the lot, the number of defectives further increases, and the yield deteriorates.

【0009】本発明は、これらの問題を解決し、半導体
レーザ素子温度が変化し波長がシフトしても、半導体レ
ーザモジュール波長を励起有効範囲に止め、さらに半導
体レーザ素子の歩留りを向上する半導体レーザモジュー
ルを提供することを目的とする。
The present invention solves these problems and keeps the wavelength of the semiconductor laser module within the effective excitation range even when the temperature of the semiconductor laser element changes and the wavelength shifts, and further improves the yield of the semiconductor laser element. The purpose is to provide a module.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
め、請求項1記載の発明の半導体レーザモジュールは、
所望の波長帯のレーザ光を発光する半導体レーザ素子
と、波長帯における特定の波長成分を半導体レーザ素子
に反射させるファイバグレーティングを有する半導体レ
ーザモジュールであり、ファイバグレーティングはピー
ク波長を二つ有し、このピーク波長が半導体レーザ素子
の出射光の所定波長を夾む前後の波長に設定されている
ことを特徴としている。
In order to achieve the above object, a semiconductor laser module according to the first aspect of the present invention is provided.
A semiconductor laser device that emits laser light in a desired wavelength band, and a semiconductor laser module having a fiber grating that reflects a specific wavelength component in the wavelength band to the semiconductor laser device, wherein the fiber grating has two peak wavelengths, The peak wavelength is set to a wavelength before and after a predetermined wavelength of light emitted from the semiconductor laser element.

【0011】また、上記のファイバグレーティングは、
反射率0.1〜5%、特に1〜4%を有し、且つピーク
波長帯域幅として、略0.3〜3nm、特に1〜2nm
を有するとよい。
Further, the above fiber grating has
It has a reflectivity of 0.1 to 5%, especially 1 to 4%, and a peak wavelength bandwidth of about 0.3 to 3 nm, especially 1 to 2 nm.
It is good to have.

【0012】請求項3記載の発明の半導体レーザモジュ
ールは、所定波長のレーザ光を発光する半導体レーザ素
子と、半導体レーザ素子の出射光をコリメート光に変換
し集光する集光手段と、所定の帯域間隔の二つのピーク
波長を有するグレーティングを形成し集光手段により集
光した光を外部に取り出すための光ファイバと、を有し
て構成されたことを特徴としている。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a semiconductor laser module which emits a laser beam having a predetermined wavelength, a condensing means for converting light emitted from the semiconductor laser element into collimated light and condensing the same, An optical fiber for forming a grating having two peak wavelengths at the band interval and extracting light condensed by the light condensing means to the outside.

【0013】また、上記の集光手段は、変換および集光
を行う一つの集光器により構成し、あるいは、半導体レ
ーザ素子の出射光をコリメート光に変換する第一の集光
器とコリメート光を集光する第二の集光器とにより構成
するとよい。
The above-mentioned condensing means may be constituted by one condensing means for performing conversion and condensing, or a first condensing means for converting the light emitted from the semiconductor laser element into collimated light. And a second light collector for collecting light.

【0014】さらに、上記の照射手段の二つのピーク波
長は、半導体レーザ素子の出射光の所定波長を夾む前後
の波長に設定して構成するとよい。
Further, it is preferable that the two peak wavelengths of the irradiation means are set to wavelengths before and after a predetermined wavelength of light emitted from the semiconductor laser element is included.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
による半導体レーザモジュールの実施の形態を詳細に説
明する。図1〜図8を参照すると、本発明の半導体レー
ザモジュールの実施形態が示されている。これらの図1
〜図4が実施形態1、図6〜図8が実施形態2の動作を
説明するための図である。図5は他の光学系での実施形
態である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, an embodiment of a semiconductor laser module according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. 1 to 8 show an embodiment of the semiconductor laser module of the present invention. These figures 1
4 to 4 are diagrams for explaining the operation of the first embodiment, and FIGS. 6 to 8 are diagrams for explaining the operation of the second embodiment. FIG. 5 shows an embodiment using another optical system.

【0016】本構成は、希土類添加ファイバとしてエル
ビウムドープファイバ(以下、EDF)として説明す
る。尚、EDFの利得の980nm帯での波長特性例
を、図12に示す。
This configuration will be described as an erbium-doped fiber (hereinafter, EDF) as a rare earth-doped fiber. FIG. 12 shows an example of the wavelength characteristic of the EDF gain in the 980 nm band.

【0017】図1は、本半導体レーザモジュールの構成
図である。本図1において、980nm帯の半導体レー
ザ素子1であり、半導体レーザ素子の出射光をコリメー
ト光に変換する第一のレンズ2であり、コリメート光を
集光する第二のレンズ3である。また、第二のレンズ3
により集光した光を外部に取り出すために光ファイバ4
が設けられている。また、符号5a、5bは、光ファイ
バ4内に形成したファイバグレーティングである。
FIG. 1 is a configuration diagram of the present semiconductor laser module. In FIG. 1, a semiconductor laser device 1 in the 980 nm band is a first lens 2 for converting the emitted light of the semiconductor laser device into collimated light, and a second lens 3 for condensing the collimated light. Also, the second lens 3
Optical fiber 4 to extract the light collected by the
Is provided. Reference numerals 5a and 5b denote fiber gratings formed in the optical fiber 4.

【0018】一方のファイバグレーティング5aは、9
75nmのピーク波長を有している。また他方のファイ
バグレーティング5bは、985nmのピーク波長を有
している。2つのファイバグレーティング5a、5bの
それぞれは、反射率0.1〜5%、特に1〜4%を有し
ている。また、ピーク波長帯域幅として、0.3〜3n
m程度、特に1〜2nmを有している。
One of the fiber gratings 5a is 9
It has a peak wavelength of 75 nm. The other fiber grating 5b has a peak wavelength of 985 nm. Each of the two fiber gratings 5a, 5b has a reflectivity of 0.1-5%, especially 1-4%. Further, as a peak wavelength bandwidth, 0.3 to 3 n
m, especially 1-2 nm.

【0019】一般的なEDF(希土類添加ファイバとし
てエルビウムドープファイバ)の有効励起波長帯域は、
図12において示した通り、975〜985nmであ
る。できるだけ広く波長帯域を確保し、かつ励起効率を
できるだけ高くするため、ここではグレーティングの波
長を975nmと985nmに設定した。しかし、個々
のEDFの特性により、数値は任意に設定してよい。
The effective excitation wavelength band of a general EDF (erbium-doped fiber as a rare earth-doped fiber) is:
As shown in FIG. 12, the thickness is 975 to 985 nm. Here, the wavelength of the grating was set to 975 nm and 985 nm in order to secure a wavelength band as wide as possible and to increase the excitation efficiency as much as possible. However, the numerical value may be set arbitrarily according to the characteristics of each EDF.

【0020】(動作の説明)980nm帯半導体レーザ
素子1から出射した光は、第一のレンズ1によりコリメ
ート化され、第二のレンズ3により光ファイバ4に集光
されて、光ファイバ4に紫外線照射等の手段により形成
されたファイバグレーティング5a、5bのどちらかに
より外部共振器を形成し、975nmもしくは985n
mの光が外部に取り出される。半導体レーザ素子の発振
波長が975nm以下であれば、ファイバグレーティン
グ5aにより975nm、985nm以上であれば、フ
ァイバグレーティング5bにより985nmの光が取り
出される。975nm以上985nm以下の場合は、グ
レーティング波長の近い方に引き込まれて、どちらかの
波長が外部に取り出される。この動作について図を用い
て説明する。
(Explanation of Operation) Light emitted from the 980 nm band semiconductor laser element 1 is collimated by the first lens 1, condensed on the optical fiber 4 by the second lens 3, and An external resonator is formed by one of the fiber gratings 5a and 5b formed by means such as irradiation,
m light is extracted outside. If the oscillation wavelength of the semiconductor laser element is 975 nm or less, light of 975 nm is extracted by the fiber grating 5a, and if it is 985 nm or more, light of 985 nm is extracted by the fiber grating 5b. In the case where the wavelength is 975 nm or more and 985 nm or less, the light is drawn to the closer one of the grating wavelengths, and either wavelength is extracted to the outside. This operation will be described with reference to the drawings.

【0021】図2は半導体レーザ素子温度が低い場合、
図3は半導体レーザ素子温度が高い場合、図4は中間位
の温度の場合である。それぞれ、各温度での半導体レー
ザ素子のスペクトラム特性21〜23を示している。温
度が低い場合には、975nmに素子の波長が引き込ま
れて発振特性11となる。温度が高い場合には、985
nmに素子の波長が引き込まれて発振特性12となる。
中間の温度では、両方のピークで発振する場合もある。
これらのいずれの場合にも、EDFの有効励起波長帯域
に半導体レーザの波長をロックできている。
FIG. 2 shows that when the temperature of the semiconductor laser device is low,
3 shows the case where the temperature of the semiconductor laser element is high, and FIG. 4 shows the case where the temperature is intermediate. Each shows the spectrum characteristics 21 to 23 of the semiconductor laser device at each temperature. When the temperature is low, the wavelength of the element is drawn to 975 nm, and the oscillation characteristic 11 is obtained. 985 if the temperature is high
The wavelength of the element is drawn to nm, and the oscillation characteristic 12 is obtained.
At an intermediate temperature, oscillation may occur at both peaks.
In any of these cases, the wavelength of the semiconductor laser can be locked in the effective excitation wavelength band of the EDF.

【0022】上記の実施形態1による半導体レーザモジ
ュールは、光ファイバアンプの有効励起波長帯の、有効
励起波長範囲の中心値より長波長側および短波長側に2
種類のピーク波長を有した反射器を具備する。図1にお
いて、光ファイバ内に設けられた2種類の反射器は、例
えば、希土類添加ファイバの有効励起波長帯域の中心値
からそれぞれ長波長側および短波長側に数nmずれた位
置にピーク波長を有する反射器である。これにより、半
導体レーザ素子の波長が温度特性等により変化して、一
方の反射器のロック範囲を外れても、もう一方の反射器
にて波長を希土類添加ファイバの励起有効波長帯域にロ
ックし、広温度範囲でのモジュール動作を実現すること
が可能となる。
In the semiconductor laser module according to the first embodiment, the effective pumping wavelength band of the optical fiber amplifier is set at two wavelengths longer and shorter than the center value of the effective pumping wavelength range.
Reflectors having different peak wavelengths. In FIG. 1, two types of reflectors provided in an optical fiber, for example, have peak wavelengths at positions shifted by several nm from the center value of the effective excitation wavelength band of the rare-earth-doped fiber to the long wavelength side and the short wavelength side, respectively. Reflector. As a result, even if the wavelength of the semiconductor laser element changes due to temperature characteristics or the like and goes out of the lock range of one of the reflectors, the other reflector locks the wavelength to the excitation effective wavelength band of the rare-earth-doped fiber, Module operation in a wide temperature range can be realized.

【0023】上記の実施形態によれば、反射器の反射ピ
ークを数nmの間隔で2種類設けることで、素子波長の
許容範囲が広がる。よって、半導体レーザ素子の歩留り
が向上する。
According to the above embodiment, by providing two types of reflection peaks of the reflector at intervals of several nm, the allowable range of the device wavelength is expanded. Therefore, the yield of the semiconductor laser device is improved.

【0024】また、反射器の反射ピークを、数nmの間
隔で2種類設けて素子波長の引き込める範囲を広げてい
る。よって、半導体レーザ素子の使用温度範囲が広が
る。
Further, two kinds of reflection peaks of the reflector are provided at intervals of several nm to extend the range in which the device wavelength can be drawn. Therefore, the operating temperature range of the semiconductor laser device is expanded.

【0025】さらに、EDFでの増幅に寄与しない波長
成分を低減できる。例えば、図11のピーク33のよう
な波長成分である。本実施形態によれば、このような波
長成分33を低減化できる。これにより、EDFの効率
を向上するこができる。
Further, wavelength components that do not contribute to amplification in the EDF can be reduced. For example, it is a wavelength component like the peak 33 in FIG. According to the present embodiment, such a wavelength component 33 can be reduced. Thereby, the efficiency of the EDF can be improved.

【0026】(他の実施形態)先の実施形態では、ED
Fの有効波長帯域の狭い980nm帯で説明したが、別
の波長帯、例えば、1480nm帯でも有効波長帯域の
上限および下限に反射器の波長を設定すればよい。
(Other Embodiments) In the above embodiment, the ED
Although the description has been given of the 980 nm band having a narrow effective wavelength band of F, the wavelength of the reflector may be set to the upper and lower limits of the effective wavelength band in another wavelength band, for example, the 1480 nm band.

【0027】図1において、1480nm帯の半導体レ
ーザ素子1であるとする。
In FIG. 1, it is assumed that the semiconductor laser device 1 has a band of 1480 nm.

【0028】図6、図7、図8に動作特性図を示す。9
80nm帯と同様に低温時、高温時で半導体レーザ素子
の波長が有効励起帯域から外れるが、反射器によって帯
域内に引き込んでいる。また、1480nm帯は有効励
起範囲が広いため、半導体レーザ素子の波長が2種類の
反射器のピーク波長の間にある場合は、図8のように両
反射器の波長に完全に引き込めない場合がある。しか
し、有効励起波長帯内であるため問題ない。
FIGS. 6, 7 and 8 show operating characteristic diagrams. 9
As in the case of the 80 nm band, the wavelength of the semiconductor laser device deviates from the effective excitation band at low and high temperatures, but is pulled into the band by the reflector. Also, since the effective excitation range is wide in the 1480 nm band, when the wavelength of the semiconductor laser element is between the peak wavelengths of the two types of reflectors, the wavelength cannot be completely drawn to the wavelengths of both reflectors as shown in FIG. There is. However, there is no problem because it is within the effective excitation wavelength band.

【0029】また、先の実施形態1として、EDFを仮
定したが、他の希土類ドープファイバでも、その有効励
起波長帯の半導体レーザ励起光源を用いた場合、同様の
効果が得られる。
Although EDF is assumed in the first embodiment, similar effects can be obtained with other rare-earth doped fibers when a semiconductor laser pumping light source in the effective pumping wavelength band is used.

【0030】また、先の実施形態として、光学系として
2枚レンズ系としたが、図5のように1枚レンズ系でも
よい。先球ファイバで等でレーザ素子の出射光を集光で
きる手段を用いてもよい。反射器で反射された波長の光
が、半導体レーザ素子に戻る光学系であればよい。
In the above embodiment, the optical system is a two-lens system, but a single-lens system may be used as shown in FIG. Means that can condense the emitted light of the laser element with a spherical fiber or the like may be used. Any optical system may be used as long as the light of the wavelength reflected by the reflector returns to the semiconductor laser device.

【0031】尚、上述の実施形態は本発明の好適な実施
の一例である。但し、これに限定されるものではなく、
本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変形実施
が可能である。例えば、上記の2つの実施形態と説明に
用いた光波長帯は一例であり、本発明の構成を限定する
ものではない。
The above embodiment is an example of a preferred embodiment of the present invention. However, it is not limited to this.
Various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, the above two embodiments and the optical wavelength bands used in the description are merely examples, and do not limit the configuration of the present invention.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
の半導体レーザモジュールによれば、集光手段により所
定波長のレーザ光をコリメート光に変換して集光した光
を、光ファイバにより光外部に取り出す、この光ファイ
バ内に紫外線照射等の照射手段により形成したファイバ
グレーティングを有している。
As is apparent from the above description, according to the semiconductor laser module of the present invention, the laser light of a predetermined wavelength is converted into collimated light by the light condensing means, and the light condensed is converted into light by the optical fiber. The optical fiber has a fiber grating formed by an irradiating means such as ultraviolet irradiation in the optical fiber.

【0033】上記の構成によれば、光ファイバアンプの
有効励起波長帯を、有効励起波長範囲の中心値より長波
長側および短波長側に2種類のピーク波長を有した反射
器とすることにより、半導体レーザ素子の波長が温度特
性等により変化して、一方の反射器のロック範囲を外れ
ても、もう一方の反射器にて波長を希土類添加ファイバ
の励起有効波長帯域にロックし、広温度範囲でのモジュ
ール動作を実現することが可能となる。これにより、素
子波長の許容範囲が広がり、半導体レーザ素子の歩留り
が向上する。さらに、EDFでの増幅に寄与しない波長
成分を低減できる。
According to the above configuration, the effective excitation wavelength band of the optical fiber amplifier is a reflector having two types of peak wavelengths on the long wavelength side and the short wavelength side from the center value of the effective excitation wavelength range. Even if the wavelength of the semiconductor laser element changes due to temperature characteristics or the like and goes out of the lock range of one of the reflectors, the other reflector locks the wavelength to the effective wavelength band of excitation of the rare-earth-doped fiber. It is possible to realize a module operation in a range. Thereby, the allowable range of the device wavelength is widened, and the yield of the semiconductor laser device is improved. Furthermore, wavelength components that do not contribute to amplification in the EDF can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の半導体レーザモジュールの実施形態1
による構成を示す図である。
FIG. 1 is a first embodiment of a semiconductor laser module of the present invention.
FIG.

【図2】半導体レーザ素子温度が低い場合のFG付半導
体レーザモジュールの動作特性を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing operating characteristics of a semiconductor laser module with an FG when a semiconductor laser element temperature is low.

【図3】半導体レーザ素子温度が高い場合のFG付半導
体レーザモジュールの動作特性を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing operating characteristics of a semiconductor laser module with an FG when a semiconductor laser element temperature is high.

【図4】半導体レーザ素子温度が中間位の場合のFG付
半導体レーザモジュールの動作特性を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing operating characteristics of the semiconductor laser module with an FG when the semiconductor laser element temperature is intermediate.

【図5】他の実施形態2による構成を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a configuration according to another embodiment 2.

【図6】実施形態2に対応する動作特性1を示す図であ
る。
FIG. 6 is a diagram showing an operation characteristic 1 corresponding to the second embodiment.

【図7】実施形態2に対応する動作特性2を示す図であ
る。
FIG. 7 is a diagram showing an operation characteristic 2 corresponding to the second embodiment.

【図8】実施形態2に対応する動作特性3を示す図であ
る。
FIG. 8 is a diagram illustrating an operation characteristic 3 corresponding to the second embodiment.

【図9】従来の半導体レーザ素子温度が中間の場合を示
す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a case where the temperature of a conventional semiconductor laser element is intermediate.

【図10】従来の半導体レーザ素子温度が低い場合に生
じる問題点を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a problem that occurs when the temperature of a conventional semiconductor laser device is low.

【図11】従来の半導体レーザ素子温度が高い場合に生
じる問題点を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a problem that occurs when the temperature of a conventional semiconductor laser device is high.

【図12】一般的なEDFの利得特性を示す図である。FIG. 12 is a diagram showing gain characteristics of a general EDF.

【図13】従来の半導体レーザ素子のウェハ内波長分布
を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing a wavelength distribution in a wafer of a conventional semiconductor laser device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体レーザ素子 2、3、6 レンズ(集光器) 4 光ファイバ 5 ファイバグレーティング 11、12 発振特性 21、22、23 スペクトラム特性 41、42、43 (半導体レーザ素子のスペクトラ
ム)特性曲線
Reference Signs List 1 semiconductor laser element 2, 3, 6 lens (condenser) 4 optical fiber 5 fiber grating 11, 12, oscillation characteristic 21, 22, 23 spectrum characteristic 41, 42, 43 (spectrum of semiconductor laser element) characteristic curve

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所望の波長帯のレーザ光を発光する半導
体レーザ素子と、前記波長帯における特定の波長成分を
前記半導体レーザ素子に反射させるファイバグレーティ
ングを有する半導体レーザモジュールにおいて、 前記ファイバグレーティングはピーク波長を二つ有し、
該ピーク波長が前記半導体レーザ素子の出射光の所定波
長を夾む前後の波長に設定されていることを特徴とする
半導体レーザモジュール。
1. A semiconductor laser module having a semiconductor laser device that emits laser light in a desired wavelength band and a fiber grating that reflects a specific wavelength component in the wavelength band to the semiconductor laser device, wherein the fiber grating has a peak. Has two wavelengths,
A semiconductor laser module, wherein the peak wavelength is set to a wavelength before and after a predetermined wavelength of light emitted from the semiconductor laser element.
【請求項2】 前記ファイバグレーティングは、反射率
0.1〜5%、特に1〜4%を有し、且つピーク波長帯
域幅として、略0.3〜3nm、特に1〜2nmを有し
て構成されたことを特徴とする請求項1に記載の半導体
レーザモジュール。
2. The fiber grating has a reflectivity of 0.1 to 5%, especially 1 to 4%, and a peak wavelength bandwidth of about 0.3 to 3 nm, particularly 1 to 2 nm. The semiconductor laser module according to claim 1, wherein the semiconductor laser module is configured.
【請求項3】 所定波長のレーザ光を発光する半導体レ
ーザ素子と、 前記半導体レーザ素子の出射光をコリメート光に変換し
集光する集光手段と、 所定の帯域間隔の二つのピーク波長を有するグレーティ
ングを形成し前記集光手段により集光した光を外部に取
り出すための光ファイバと、 を有して構成されたことを特徴とする半導体レーザモジ
ュール。
3. A semiconductor laser device that emits laser light of a predetermined wavelength, a light condensing unit that converts light emitted from the semiconductor laser device into collimated light and condenses the light, and has two peak wavelengths at a predetermined band interval. An optical fiber for forming a grating and for taking out light condensed by the light condensing means to the outside. A semiconductor laser module comprising:
【請求項4】 前記集光手段は、変換および集光を行う
一つの集光器により構成されたことを特徴とする請求項
3に記載の半導体レーザモジュール。
4. The semiconductor laser module according to claim 3, wherein said condensing means is constituted by one condensing device for performing conversion and condensing.
【請求項5】 前記集光手段は、前記半導体レーザ素子
の出射光をコリメート光に変換する第一の集光器と前記
コリメート光を集光する第二の集光器とにより構成され
たことを特徴とする請求項3に記載の半導体レーザモジ
ュール。
5. The light-collecting means includes a first light-collecting device that converts light emitted from the semiconductor laser device into collimated light and a second light-collecting device that collects the collimated light. The semiconductor laser module according to claim 3, wherein:
【請求項6】 前記照射手段の二つのピーク波長は、前
記半導体レーザ素子の出射光の所定波長を夾む前後の波
長に設定されて構成されたことを特徴とする請求項3か
ら5の何れかに記載の半導体レーザモジュール。
6. The semiconductor laser device according to claim 3, wherein the two peak wavelengths of the irradiating means are set to wavelengths before and after a predetermined wavelength of light emitted from the semiconductor laser device. 13. A semiconductor laser module according to
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