JP2000193808A - Surface side substrate and manufacture of the same, and reflection display element - Google Patents

Surface side substrate and manufacture of the same, and reflection display element

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JP2000193808A
JP2000193808A JP10370969A JP37096998A JP2000193808A JP 2000193808 A JP2000193808 A JP 2000193808A JP 10370969 A JP10370969 A JP 10370969A JP 37096998 A JP37096998 A JP 37096998A JP 2000193808 A JP2000193808 A JP 2000193808A
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JP
Japan
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transparent
layer
substrate
display element
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP10370969A
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Japanese (ja)
Inventor
Kunio Masushige
邦雄 増茂
Masaya Keyakida
昌也 欅田
Toshisuke Yokozuka
俊亮 横塚
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface side substrate usable in a reflection liquid crystal display element and industrially manufacturable with a good productivity, and excellent in light diffusing uniformity. SOLUTION: In a surface side substrate, a transparent layer having an uneven surface (an uneven film 2) is arranged on a transparent substrate 1, and a transparent flattening layer having a different refractive index from that of the transparent layer 2 (an flattening film 3) is arranged on the transparent layer 2. Accordingly, the surface side substrate is constructed so as to diffusedly transmit an incident light. A color filter substrate is obtained by arranging a color filter (a color resist 4) and a transparent electrode 5. The transparent layers comprise a fluororesin having a fluoride-containing aliphatic ring structure in the main chain and a partially hydrolyzed condensate of alkoxysilanes having the formula R1mR2nSi(OR3)4-(m+n), wherein R1 and R2 are each 1-14C organic groups and both of them may be same or not; R3 is a 1-8C alkyl group; (m) and (n) are integer of 0 to 3 wherein (m+n)<=3.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子等と
組み合わせて用いられる表側基板、その製造方法および
それを使用した反射型表示素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a front substrate used in combination with a liquid crystal display device and the like, a method of manufacturing the same, and a reflective display device using the same.

【0002】反射電極付基板と組合せて製造した反射型
液晶表示素子の表側基板に使用すると、表側基板におい
て極めて有効に入射光を拡散透過させ、その後反射電極
において入射光を有効に拡散反射させ、明るい白色表示
を可能とするので、この表示素子の表側基板に使用する
のに適している。特に、光拡散層を液晶素子の内面に配
置すると高精細な表示を可能とする。
When used as a front substrate of a reflection type liquid crystal display device manufactured in combination with a substrate having a reflection electrode, the incident light is diffused and transmitted very effectively on the front substrate, and then the incident light is diffused and reflected effectively on the reflection electrode. Since it enables bright white display, it is suitable for use on the front substrate of this display element. In particular, when the light diffusion layer is disposed on the inner surface of the liquid crystal element, a high-definition display can be performed.

【0003】[0003]

【従来の技術】ノート型パソコン、携帯情報端末等、可
搬型の電子機器に液晶表示素子が多く使われるようにな
った。これらの用途では電池駆動であるため、従来の透
過型液晶表示素子と比べ、より消費電力の低い反射型の
液晶表示素子が必要となり、その開発が進められてい
る。反射型の液晶表示素子においては、明るく見える視
野角を広げ、また金属光沢ではない「白」表示を実現す
るため、入射光を散乱させるための層が素子のどこかに
必要となる。従来から、液晶表示素子のセルの外側に拡
散反射板を設ける方式によって反射型の液晶表示素子が
製造されている(従来例1)。
2. Description of the Related Art Liquid crystal display devices have been widely used in portable electronic devices such as notebook personal computers and portable information terminals. In these applications, since the battery is driven by a battery, a reflective liquid crystal display element having lower power consumption than that of a conventional transmissive liquid crystal display element is required, and its development is being promoted. In a reflection type liquid crystal display element, a layer for scattering incident light is required somewhere in the element in order to widen the viewing angle that looks bright and to realize “white” display without metallic luster. 2. Description of the Related Art Conventionally, a reflection type liquid crystal display element has been manufactured by a method of providing a diffuse reflection plate outside a cell of a liquid crystal display element (conventional example 1).

【0004】しかし、近年高精細の表示素子が求めらる
ようになってきた。従来例1では、透明基板に使用する
ガラスの板厚による視差があるため画素間で反射光が混
合しコントラストの低下等を招き十分な画像品位が得ら
れない。
However, in recent years, a high-definition display element has been required. In Conventional Example 1, since there is a parallax due to the thickness of the glass used for the transparent substrate, reflected light is mixed between pixels, causing a decrease in contrast and the like, and a sufficient image quality cannot be obtained.

【0005】一方、セル内面に反射電極を形成し表側基
板の外側に光を散乱させるフィルム等を設ける方式も提
案されているが、さらなる高精細化の要求に対しては十
分ではない(従来例2)。
On the other hand, a method has been proposed in which a reflective electrode is formed on the inner surface of the cell and a film or the like is provided outside the front substrate to scatter light. However, this method is not sufficient for a demand for higher definition (conventional examples). 2).

【0006】最近、セル内面の反射電極において、フォ
トマスクを用いたフォトリソグラフィーにより凹凸パタ
ーンを電極に形成し、拡散反射電極を設けた反射型の液
晶表示素子が提案されている。例えば、月刊LCD I
ntelligence 1998年1月号36頁参照
(従来例3)。この従来例3によれば、高精細な反射型
液晶表示素子を実現することができる。
Recently, there has been proposed a reflection type liquid crystal display device in which a concave / convex pattern is formed on an electrode by photolithography using a photomask as a reflection electrode on the inner surface of the cell, and a diffusion reflection electrode is provided. For example, monthly LCD I
ntelligence, January 1998, p. 36 (conventional example 3). According to Conventional Example 3, a high-definition reflective liquid crystal display device can be realized.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来例3の凹
凸パターンを平面方向に単純なくり返しパターンとする
と反射電極が回折格子として作用することになり、表示
を視認した際に虹色に発色したり、配線やブラックマト
リクス等の他のくり返しパターンとの位置関係の微妙な
ずれによりいわゆるモアレ縞が見えたりといった表示上
の不良を発生する恐れがある。そのため凹凸パターン形
成に用いるフォトマスクの設計においては通常の画素パ
ターン形成のような単純なくり返しを用いることはでき
ず、極めて煩雑で困難な設計を行なう必要がある。しか
し、くり返しパターンとなることは避けられない。
However, if the concavo-convex pattern of the conventional example 3 is simply repeated in the plane direction, the reflective electrode will act as a diffraction grating, and when the display is visually recognized, it will develop a rainbow color. In addition, display defects such as so-called moiré fringes may be generated due to a slight shift in the positional relationship with other repeated patterns such as wiring and a black matrix. Therefore, in designing a photomask used for forming a concavo-convex pattern, it is not possible to use simple repetition as in the case of forming a normal pixel pattern, and it is necessary to perform a very complicated and difficult design. However, it is inevitable that the pattern will be repeated.

【0008】また、フォトリソグラフィーの際にも、他
のくり返しパターンとの位置関係の微妙なずれや、ステ
ッパーを用いて分割露光をする場合には継ぎ目の微妙な
位置ずれが表示素子として完成後視認される恐れがあ
る。そのため、製造においても厳しい精度管理が必要と
なる。このように通常のフォトリソグラフィーにより適
当な拡散能を持った反射電極を形成することは容易では
ない。そこで、高い生産性を維持しながらセル内面に何
らかの光拡散機能を有する光拡散層を設けることが課題
となっている。
Further, even in photolithography, a slight displacement of the positional relationship with other repetitive patterns, and a slight displacement of a joint at the time of divided exposure using a stepper, are visually recognized after completion as a display element. May be done. For this reason, strict accuracy control is required even in manufacturing. As described above, it is not easy to form a reflective electrode having an appropriate diffusion ability by ordinary photolithography. Therefore, it is an issue to provide a light diffusion layer having some light diffusion function on the inner surface of the cell while maintaining high productivity.

【0009】表側基板内面に拡散機能を形成する方法と
して、透明樹脂とこの透明樹脂中に分散され、かつこの
透明樹脂と屈折率が異なる微粒子とを主成分とする光散
乱層を設けたものが提案(特開平7−98446号公報
参照。)されているが、微粒子の分散、配置において均
一性の確保、表面平坦性等の製造上の困難性がある。
As a method of forming a diffusion function on the inner surface of the front substrate, a method in which a light scattering layer mainly composed of a transparent resin and fine particles dispersed in the transparent resin and having a different refractive index from the transparent resin is provided. Although proposed (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-98446), there are manufacturing difficulties such as ensuring uniformity in dispersion and arrangement of fine particles and surface flatness.

【0010】また、表側基板内面に拡散機能を形成する
方法として、透明基板に使用するガラス基板自身の表示
素子内面側を研磨することにより粗面化し、スリガラス
状にする方法が提案されている(特開平8−33899
3号公報参照)。しかし、光拡散の強度をガラス基板の
粗面化の程度を制御することによって行うことは難し
い。さらに、表示素子の製造に用いられる大面積基板を
均一に粗面化することはコスト的にも問題がある。
As a method for forming a diffusion function on the inner surface of the front substrate, a method has been proposed in which a glass substrate used as a transparent substrate itself is polished on the inner surface side of a display element to form a ground glass, thereby forming a ground glass shape ( JP-A-8-33899
No. 3). However, it is difficult to control the light diffusion intensity by controlling the degree of surface roughening of the glass substrate. Further, there is a problem in terms of cost to uniformly roughen a large-area substrate used for manufacturing a display element.

【0011】本発明の目的は、光拡散能の均一性を確保
し、工業的に容易に製造でき、表面平坦性等に優れ、特
に反射型液晶表示素子への使用に適した表側基板、その
製造方法およびそれを使用した反射型表示素子を提供す
ることにある。
An object of the present invention is to provide a front side substrate which ensures uniformity of light diffusing ability, can be easily manufactured industrially, has excellent surface flatness, etc., and is particularly suitable for use in a reflection type liquid crystal display device. An object of the present invention is to provide a manufacturing method and a reflective display element using the same.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明では、表面に凹凸
を持った透明層をガラス等の透明基板上に各種の塗布方
法を用いて設けることができ、この場合樹脂を使用して
塗膜を形成するのが好ましい。当該透明平坦化層を配置
するには当該透明層の上に前記凹凸表面に接するように
透明平坦化層を設けるとよい。その場合、樹脂塗膜を形
成するには組成物を使用することが好ましい。
According to the present invention, a transparent layer having an uneven surface can be provided on a transparent substrate such as glass using various coating methods. Is preferably formed. In order to dispose the transparent flattening layer, a transparent flattening layer may be provided on the transparent layer so as to be in contact with the uneven surface. In that case, it is preferable to use a composition to form a resin coating film.

【0013】組成物としては、少なくとも(a)および
(b)の二成分と溶剤を必須成分とする組成物を挙げる
ことができる。成分(a)、(b)には、同一の溶剤に
溶解可能な互いに基本骨格の異なるポリマーまたはオリ
ゴマーが好ましい。
Examples of the composition include compositions containing at least two components (a) and (b) and a solvent as essential components. As the components (a) and (b), polymers or oligomers having different basic skeletons which are soluble in the same solvent are preferable.

【0014】この樹脂塗膜形成法によれば、この組成物
を塗布して硬化させることにより、溶剤の揮発と(b)
成分の硬化と共に(a)成分−(b)成分の硬化物間の
相分離が発生し、その結果として表側基板の光拡散層と
して、特性の優れた凹凸を持った塗膜を形成することが
できるので、特に好ましい。
According to this resin coating film forming method, by applying and curing the composition, the solvent volatilization and (b)
With the curing of the components, phase separation between the cured product of the component (a) and the component (b) occurs, and as a result, a light-diffusing layer of the front substrate can form a coating film having irregularities with excellent characteristics. It is particularly preferable because it is possible.

【0015】成分(a)、(b)の組み合わせとしては
下記のように例示できる。 (a)主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有するフッ素樹
脂;および(b)式R1 m2 nSi(OR34-(m+n)(式
中、R1 およびR2 は炭素数1〜14の有機基であり、
互いに同じであっても異なっていてもよく、R3 は炭素
数1〜8のアルキル基、mおよびnはm+n≦3を満た
す0〜3の整数である。)で示されるアルコキシシラン
の部分加水分解縮合物。
The combination of the components (a) and (b) can be exemplified as follows. (A) a fluororesin having a fluorinated aliphatic ring structure in the main chain; and (b) a formula R 1 m R 2 n Si (OR 3 ) 4- (m + n) wherein R 1 and R 2 are An organic group having 1 to 14 carbon atoms,
R 3 may be the same or different, R 3 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and m and n are integers of 0 to 3 satisfying m + n ≦ 3. A) a partially hydrolyzed condensate of an alkoxysilane represented by the formula:

【0016】本発明に使用する前記成分(a)の主鎖に
脂肪族環構造を有するフッ素樹脂としては、2つ以上の
重合性二重結合を有する含フッ素モノマーを環化重合し
て得られる主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有するフッ素
樹脂、含フッ素脂肪族環構造を有するモノマーを重合し
て得られる主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有するフッ素
樹脂、これら2種のモノマーを共重合させて得られるフ
ッ素樹脂、これら2種のモノマーの少なくとも1種とそ
れら以外のモノマーとを共重合させて得られるフッ素樹
脂等が挙げられる。
The fluororesin having an aliphatic ring structure in the main chain of the component (a) used in the present invention is obtained by cyclopolymerization of a fluorine-containing monomer having two or more polymerizable double bonds. A fluororesin having a fluorinated alicyclic structure in the main chain, a fluororesin having a fluorinated alicyclic structure in the main chain obtained by polymerizing a monomer having a fluorinated alicyclic structure, and these two types of monomers are used in common. Examples thereof include a fluororesin obtained by polymerization, a fluororesin obtained by copolymerizing at least one of these two types of monomers, and a monomer other than these.

【0017】主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有すると
は、脂肪族環を構成する炭素原子の1以上が主鎖を構成
する炭素連鎖中の炭素原子であり、かつ脂肪族環を構成
する炭素原子の少なくとも一部にフッ素原子またはフッ
素含有基が結合している構造を有していることを意味す
る。
Having a fluorinated aliphatic ring structure in the main chain means that at least one of the carbon atoms constituting the aliphatic ring is a carbon atom in the carbon chain constituting the main chain and the aliphatic ring is constituted. It has a structure in which a fluorine atom or a fluorine-containing group is bonded to at least a part of carbon atoms.

【0018】2つ以上の重合性二重結合を有する含フッ
素モノマーとしては、下記の式(e)、式(f)、式
(g)または式(h)で示されるものが例示される。但
し、式(e)〜式(h)中のT1〜T12、Y1〜Y10、Z
1〜Z8およびW1〜W8は、それぞれ独立にFまたはCF
3である。
Examples of the fluorine-containing monomer having two or more polymerizable double bonds include those represented by the following formulas (e), (f), (g) or (h). However, T 1 to T 12 , Y 1 to Y 10 , Z in the formulas (e) to (h)
1 to Z 8 and W 1 to W 8 are each independently F or CF
3

【0019】含フッ素脂肪族環構造を有するモノマーと
しては、下記の式(i)、式(j)または式(k)で示
されるものが例示される。但し、式(i)〜式(k)中
のX 1〜X6はそれぞれ独立にFまたはCF3であり、R4
〜R9はそれぞれ独立にF、Cn2n+1、またはCn
2n+1-ppqであり、ここでnは1〜5の整数、pは0
〜5の整数、qは0〜2の整数であり、または、R4
9はそれぞれ独立してアルキレン基またはフルオロア
ルキレン基であって、かつR4とR5、R6とR7、R 8
9が、それぞれ連結して環を形成していてもよい。
A monomer having a fluorinated aliphatic ring structure;
Is expressed by the following equation (i), equation (j) or equation (k).
Are exemplified. However, in equations (i) to (k)
X 1~ X6Are independently F or CFThreeAnd RFour
~ R9Are independently F and CnF2n + 1Or CnF
2n + 1-pHpOqWhere n is an integer of 1 to 5 and p is 0
An integer of 0 to 5, q is an integer of 0 to 2, or RFour~
R9Each independently represents an alkylene group or a fluoroalkyl group.
A alkylene group and RFourAnd RFive, R6And R7, R 8When
R9May be connected to each other to form a ring.

【0020】(e)CT12=CT3CT45CT67
CT89CT10=CT1112; (f)CY12=CY3OCY45CY67CY8=CY
910; (g)CZ12=CZ3OCZ45CZ6=CZ78; (h)CW12=CW3OCW45OCW6=CW78
(E) CT 1 T 2 = CT 3 CT 4 T 5 CT 6 T 7
CT 8 T 9 CT 10 = CT 11 T 12; (f) CY 1 Y 2 = CY 3 OCY 4 Y 5 CY 6 Y 7 CY 8 = CY
9 Y 10; (g) CZ 1 Z 2 = CZ 3 OCZ 4 Z 5 CZ 6 = CZ 7 Z 8; (h) CW 1 W 2 = CW 3 OCW 4 W 5 OCW 6 = CW 7 W 8;

【0022】2つ以上の重合性二重結合を有する含フッ
素モノマーを環化重合して得られる主鎖に脂肪族環構造
を有するフッ素樹脂は、特開昭63−238111号、
特開昭63−238115号、特開平7−316235
号公報等において公知である。例えば、ペルフルオロ
(アリルビニルエーテル)、ペルフルオロ(ブテニルビ
ニルエーテル)、ペルフルオロ(ビス(ビニルオキシ)
メタン)等のモノマーを単独重合、またはこれらのモノ
マーとラジカル重合性モノマーを共重合して得られるフ
ッ素樹脂を使用することができる。
Fluorine resins having an aliphatic ring structure in the main chain obtained by cyclopolymerization of a fluorine-containing monomer having two or more polymerizable double bonds are described in JP-A-63-238111.
JP-A-63-238115, JP-A-7-316235
It is publicly known in Japanese Patent Publication No. For example, perfluoro (allyl vinyl ether), perfluoro (butenyl vinyl ether), perfluoro (bis (vinyloxy)
A fluororesin obtained by homopolymerizing a monomer such as methane) or copolymerizing these monomers with a radical polymerizable monomer can be used.

【0023】ラジカル重合性モノマーとしては、好まし
くはエチレン等のオレフィン類、テトラフルオロエチレ
ン、ヘキサフルオロプロピレン等のペルフルオロオレフ
ィン類およびペルフルオロ(ブチルビニルエーテル)等
のペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)類等の中か
ら、例えば1種または2種以上を選択することができ
る。
The radical polymerizable monomer is preferably selected from olefins such as ethylene, perfluoroolefins such as tetrafluoroethylene and hexafluoropropylene, and perfluoro (alkyl vinyl ether) such as perfluoro (butyl vinyl ether). One or more types can be selected.

【0024】含フッ素脂肪族環構造を有するモノマーを
重合して得られる主鎖に脂肪族環構造を有するフッ素樹
脂については、特公昭63−18964号、特開平7−
70107号公報等において公知である。例えば、ペル
フルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソー
ル)、2,2,4−トリフルオロ−5−トリフルオロメ
トキシ−1,3−ジオキソール等の含フッ素環構造を有
するモノマーを単独重合、またはこれらのモノマーと上
記ラジカル重合性モノマーを共重合して得られるフッ素
樹脂を使用することができる。
A fluororesin having an aliphatic ring structure in the main chain obtained by polymerizing a monomer having a fluorinated aliphatic ring structure is disclosed in JP-B-63-18964, JP-A-7-1986.
It is known in, for example, Japanese Patent Application Publication No. 70107. For example, monomers having a fluorinated ring structure such as perfluoro (2,2-dimethyl-1,3-dioxol) and 2,2,4-trifluoro-5-trifluoromethoxy-1,3-dioxole are homopolymerized, Alternatively, a fluororesin obtained by copolymerizing these monomers and the above-mentioned radical polymerizable monomer can be used.

【0025】また、ペルフルオロ(2,2−ジメチル−
1,3−ジオキソール)、2,2,4−トリフルオロ−
5−トリフルオロメトキシ−1,3−ジオキソール等の
含フッ素脂肪族環構造を有するモノマーとペルフルオロ
(アリルビニルエーテル)、ペルフルオロ(ブテニルビ
ニルエーテル)、ペルフルオロ(ビスビニルオキシメタ
ン)等の2つ以上の重合性二重結合を有する含フッ素モ
ノマーを共重合して得られるフッ素樹脂を使用すること
もできる。
In addition, perfluoro (2,2-dimethyl-
1,3-dioxole), 2,2,4-trifluoro-
Polymerization of a monomer having a fluorinated aliphatic ring structure such as 5-trifluoromethoxy-1,3-dioxole and two or more monomers such as perfluoro (allyl vinyl ether), perfluoro (butenyl vinyl ether) and perfluoro (bisvinyloxymethane) It is also possible to use a fluororesin obtained by copolymerizing a fluorine-containing monomer having an acidic double bond.

【0026】主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有するフッ
素樹脂は、フッ素樹脂の繰り返し単位中に含フッ素脂肪
族環構造を20〜100モル%含有するものが透明性、
機械的特性等の面から好ましく、重量平均分子量につい
ては、特に限定されないが、3,000〜1000,0
00程度が好ましく、5,000〜500,000程度
が特に好ましい。
As the fluororesin having a fluorinated alicyclic structure in the main chain, those having a fluorinated alicyclic structure in a repeating unit of the fluororesin in an amount of from 20 to 100 mol% are transparent,
It is preferable from the viewpoint of mechanical properties and the like, and the weight average molecular weight is not particularly limited, but may be 3,000 to 1,000,0.
About 00 is preferable, and about 5,000 to 500,000 is particularly preferable.

【0027】本発明において使用する成分(b)として
は、前述の通り式R1 m2 nSi(OR34-(m+n)で示さ
れるアルコキシシランの部分加水分解縮合物を使用する
ことができる。
As the component (b) used in the present invention, a partially hydrolyzed condensate of an alkoxysilane represented by the formula R 1 m R 2 n Si (OR 3 ) 4- (m + n) is used as described above. can do.

【0028】上記式中、R1 およびR2 は炭素数1〜1
4の有機基であり、互いに同じであっても異なっていて
もよく、R3 は炭素数1〜8のアルキル基、mおよびn
はm+n≦3を満たす0〜3の整数である。R1および
2としてはそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基等の脂肪族アルキル基、フェニル
基、トリル基等のアリール基、トリフルオロメチル基、
トリフルオロプロピル基、ペンタフルオロブチル基、ノ
ナフルオロヘキシル基、トリデカフルオロオクチル基、
ヘプタデカフルオロデシル基、ヘプタデカフルオロウン
デシル基等の含フッ素アルキル基等が好ましい。
In the above formula, R 1 and R 2 have 1 to 1 carbon atoms.
And R 3 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, m and n
Is an integer of 0 to 3 satisfying m + n ≦ 3. R 1 and R 2 each independently represent a methyl group, an ethyl group,
Propyl group, aliphatic alkyl group such as butyl group, phenyl group, aryl group such as tolyl group, trifluoromethyl group,
Trifluoropropyl group, pentafluorobutyl group, nonafluorohexyl group, tridecafluorooctyl group,
Preferred are fluorine-containing alkyl groups such as a heptadecafluorodecyl group and a heptadecafluoroundecyl group.

【0029】上記式中のR3としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基が好まし
い。
R 3 in the above formula is preferably an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group and a butyl group.

【0030】このようなアルコキシシランの好ましい例
としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、テトラプロポキシシラン等のテトラアルコキシシラ
ン類、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン等のモノアルキルトリアルコキシシラン類、フェ
ニルトリメトキシシラン等のモノアリールトリアルコキ
シシラン類、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、
トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ペンタフル
オロブチルトリメトキシシラン、ノナフルオロヘキシル
トリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメ
トキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシ
シラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシ
ラン、ヘプタデカフルオロウンデシルトリメトキシシラ
ン等のフルオロアルキルアルコキシシラン類を挙げるこ
とができる。
Preferred examples of such alkoxysilanes include tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane and tetrapropoxysilane; monoalkyltrialkoxysilanes such as methyltrimethoxysilane and methyltriethoxysilane; Monoaryl trialkoxysilanes such as phenyltrimethoxysilane, trifluoromethyltrimethoxysilane,
Trifluoropropyltrimethoxysilane, pentafluorobutyltrimethoxysilane, nonafluorohexyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecylmethyldimethoxysilane, heptadecafluoroundecyl Examples thereof include fluoroalkylalkoxysilanes such as trimethoxysilane.

【0031】これらのアルコキシシランは、単独で使用
してもよく、2種以上を併用してもよい。2種以上併用
する場合は、フルオロアルキルアルコキシシラン類とフ
ッ素を含まないアルコキシシラン(特に、テトラアルコ
キシシランが好ましい。)との併用が好ましい。また、
フルオロアルキルアルコキシシラン類は後述するフッ素
溶剤への溶解性が高いため好適に用いられる。
These alkoxysilanes may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, it is preferable to use a fluoroalkylalkoxysilane and an alkoxysilane containing no fluorine (particularly, tetraalkoxysilane is preferable). Also,
Fluoroalkylalkoxysilanes are preferably used because of their high solubility in a fluorine solvent described below.

【0032】これらのアルコキシシランの縮合反応は、
周知、公知の方法により行うことができる。例えば、ア
ルコキシシランを溶媒および触媒の存在下に水を添加し
て加水分解縮合反応させる方法がある。この場合、必要
に応じて加熱を行ってもよい。触媒としては塩酸、硝
酸、硫酸等の無機酸、ギ酸、シュウ酸、酢酸等の有機酸
が使用できる。通常、生成物の分子量をポリスチレン換
算重量平均分子量で500〜10000程度の範囲に設
定するのが、後述する溶剤への溶解性の観点から好まし
い。次いで、必要に応じて系内に存在する水を蒸留等に
より除去し、さらに触媒をイオン交換樹脂等で除去して
もよい。
The condensation reaction of these alkoxysilanes is as follows:
It can be performed by a well-known method. For example, there is a method in which water is added to an alkoxysilane in the presence of a solvent and a catalyst to cause a hydrolytic condensation reaction. In this case, heating may be performed if necessary. As the catalyst, inorganic acids such as hydrochloric acid, nitric acid and sulfuric acid, and organic acids such as formic acid, oxalic acid and acetic acid can be used. Usually, it is preferable to set the molecular weight of the product in the range of about 500 to 10000 in terms of weight average molecular weight in terms of polystyrene, from the viewpoint of solubility in a solvent described below. Next, if necessary, water present in the system may be removed by distillation or the like, and the catalyst may be removed with an ion exchange resin or the like.

【0033】本発明において、成分(a)と(b)の混
合溶液を調製するに当たり、溶剤としてこれらを同時に
溶解できるものを選択することが重要である。
In the present invention, in preparing a mixed solution of the components (a) and (b), it is important to select a solvent which can simultaneously dissolve these components.

【0034】例えば、特開平7−112126号公報に
記載のような、非プロトン性含フッ素溶剤とプロトン性
含フッ素溶剤の混合物が例示される。ここで、特徴的な
のは、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有するフッ素樹脂
(a)は非プロトン性フッ素溶剤には溶解するが、プロ
トン性含フッ素溶剤には溶解せず、逆に部分加水分解縮
合物(b)は、プロトン性含フッ素溶剤には溶解する
が、非プロトン性含フッ素溶剤には溶解しない場合があ
り、従って、混合溶剤にすることにより両者を同時に溶
解するという点である。
For example, a mixture of an aprotic fluorinated solvent and a protic fluorinated solvent as described in JP-A-7-112126 is exemplified. Here, the characteristic feature is that the fluororesin (a) having a fluorinated aliphatic ring structure in the main chain is soluble in an aprotic fluorinated solvent, but is not dissolved in a protic fluorinated solvent, but is partially hydrolyzed. The decomposition condensate (b) is soluble in a protic fluorinated solvent but may not be dissolved in an aprotic fluorinated solvent. Therefore, the point is that both are dissolved simultaneously by using a mixed solvent. .

【0035】非プロトン性含フッ素溶剤とは、通常の反
応条件下では解離せずプロトンを生じない含フッ素溶剤
であり、公知、周知のものが使用できる。例えば、ペル
フルオロデカリン、ペルフルオロシクロヘキサン、ペル
フルオロヘキサン、ペルフルオロオクタン、1H,1
H,1H,2H,2H−ペルフルオロオクタン、1H,
1H,1H,2H,2H−ペルフルオロデカン等の含フ
ッ素脂肪族炭化水素類、ペルフルオロトリペンチルアミ
ン、ペルフルオロトリブチルアミン、ペルフルオロトリ
プロピルアミン等の含フッ素アルキルアミン類、ペルフ
ルオロ(2−ブチルテトラヒドロフラン)等の含フッ素
環状エーテルが好適に例示される。これらを2種以上混
合して使用してもよい。
The aprotic fluorinated solvent is a fluorinated solvent which does not dissociate under normal reaction conditions and does not generate a proton, and any known or well-known solvent can be used. For example, perfluorodecalin, perfluorocyclohexane, perfluorohexane, perfluorooctane, 1H, 1
H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctane, 1H,
Fluorinated aliphatic hydrocarbons such as 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecane, fluorinated alkylamines such as perfluorotripentylamine, perfluorotributylamine and perfluorotripropylamine, perfluoro (2-butyltetrahydrofuran) and the like A preferred example is a fluorinated cyclic ether. These may be used in combination of two or more.

【0036】プロトン性含フッ素溶剤とは、解離してプ
ロトンを生じやすい含フッ素溶剤であり、公知、周知の
ものが使用できる。CF3CH2OH、CF3CF2CH2
OH、CF3(CF23CH2CH2OH、CF3(C
25CH2CH2OH、CF3CF2CH2CH2CH2
H、CF3(CF23CH2CH2CH2OH等の含フッ素
アルコールが好適に例示される。これらを2種以上併用
してもよい。
The protic fluorinated solvent is a fluorinated solvent which is easily dissociated to generate protons, and any known or well-known one can be used. CF 3 CH 2 OH, CF 3 CF 2 CH 2
OH, CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 OH, CF 3 (C
F 2 ) 5 CH 2 CH 2 OH, CF 3 CF 2 CH 2 CH 2 CH 2 O
H and fluorinated alcohols such as CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 CH 2 OH are preferred. These may be used in combination of two or more.

【0037】全溶剤組成を決定するに当たっては、当然
のことながら主鎖に脂肪族環構造を有するフッ素樹脂と
アルコキシシランの部分加水分解縮合物両者の溶解性を
損なわない範囲に設定する必要がある。この観点より、
通常、非プロトン性含フッ素溶剤:プロトン性含フッ素
溶剤=99:1〜60:40(重量比)、さらには9
8:2〜70:30(重量比)の範囲に設定するのが好
ましい。
In determining the total solvent composition, it is needless to say that the total solvent composition must be set within a range that does not impair the solubility of both the fluororesin having an aliphatic ring structure in the main chain and the partially hydrolyzed condensate of alkoxysilane. . From this perspective,
Usually, aprotic fluorinated solvent: protic fluorinated solvent = 99: 1 to 60:40 (weight ratio), and more preferably 9
It is preferable to set in the range of 8: 2 to 70:30 (weight ratio).

【0038】また、アルコキシシランの部分加水分解縮
合物がフルオロアルキルアルコキシシラン類を含有する
場合、その組成によっては非プロトン性含フッ素溶剤に
溶解するので、その場合プロトン性含フッ素溶剤の添加
は必要ないか、或いは1重量%以下の極少量の添加で均
一な混合溶液を調製できることがある。
When the partially hydrolyzed condensate of alkoxysilane contains fluoroalkylalkoxysilanes, it may be dissolved in an aprotic fluorinated solvent depending on its composition. In this case, it is necessary to add a protic fluorinated solvent. In some cases, a homogeneous mixed solution can be prepared by adding a very small amount of 1% by weight or less.

【0039】本発明に使用される組成物中の(a)と
(b)の比率については、必要とされる塗膜の凹凸に応
じて任意の割合に設定することができるが、通常、
(a)100重量部に対して(b)を100重量部以
上、好ましくは150〜400重量部を配合するとよ
い。
The ratio of (a) to (b) in the composition used in the present invention can be set to an arbitrary ratio according to the required unevenness of the coating film.
It is advisable to mix (b) with 100 parts by weight or more, preferably 150 to 400 parts by weight, per 100 parts by weight of (a).

【0040】(a)と(b)を混合した溶液中での固形
分濃度については、それが溶解する範囲で、所望の溶液
粘度または塗布して得られた塗膜の膜厚等の観点から適
宜選択すればよい。例えば、膜厚0.1〜5μmの塗膜
をスピンコート法にて得ようとする場合、一般には固形
分濃度を1〜15重量%に設定すればよい。
The solid content concentration in the solution obtained by mixing (a) and (b) is within a range in which the solid content is dissolved, from the viewpoint of a desired solution viscosity or a film thickness of a coating film obtained by coating. What is necessary is just to select suitably. For example, when a coating film having a thickness of 0.1 to 5 μm is to be obtained by a spin coating method, the solid content concentration is generally set to 1 to 15% by weight.

【0041】本発明に使用する組成物には(a)、
(b)以外の成分として、目的に応じて接着性向上剤、
界面活性剤等の添加剤を配合できる。
The composition used in the present invention comprises (a)
As components other than (b), an adhesion enhancer according to the purpose,
An additive such as a surfactant can be blended.

【0042】また、この組成物により、基板上に当該透
明層を作製する方法としては、溶剤を含む前記の組成物
を基板に塗布した後に、加熱乾燥して溶剤を揮発させる
方法が好ましく採用される。この際、下地との十分な密
着性を確保するために、下地表面をシランカップリング
剤等のカップリング剤で処理してもよい。
As a method for forming the transparent layer on a substrate using this composition, a method in which the above-mentioned composition containing a solvent is applied to the substrate and then heated and dried to volatilize the solvent is preferably adopted. You. At this time, the surface of the base may be treated with a coupling agent such as a silane coupling agent in order to ensure sufficient adhesion to the base.

【0043】この組成物の塗布方法としては、スピンコ
ート法、ディッピング法、ポッティング法、ダイコート
法、スプレーコート法等が例示され、塗布の対象である
基板の形状、必要膜厚等から適宜選択すればよい。膜厚
の面内分布の均一性からスピンコート法およびダイコー
ト法が好ましい。
Examples of the method of applying the composition include a spin coating method, a dipping method, a potting method, a die coating method, a spray coating method and the like, which can be appropriately selected from the shape of the substrate to be coated, the required film thickness and the like. I just need. The spin coating method and the die coating method are preferred from the viewpoint of uniformity of the in-plane distribution of the film thickness.

【0044】塗膜を形成するためには、溶剤を揮発さ
せ、(a)−(b)成分間の相分離による凹凸を形成す
るために塗布後のベーク工程を要する。ベーク条件は、
塗膜厚等により適宜選択すればよいが、通常200〜3
50℃程度の最終ベークが必要である。アルコキシシラ
ンの部分加水分解縮合物(b)を十分に硬化させるとい
う観点からもベークが必要であり、未反応のアルコキシ
シリル基或いはシラノール基が残存しないようにするに
は、好ましくは200℃、より好ましくは250℃以上
の最終ベークが必要である。未反応のアルコキシシリル
基或いはシラノール基は、それ自体が塗膜の絶縁特性を
低下させる原因となり、さらには吸水部位となり得るた
めに、水による電気特性の劣化を防止する意味でも塗膜
中にできるだけ残存しないことが望ましい。
In order to form a coating film, a baking step after coating is required to evaporate the solvent and form irregularities due to phase separation between the components (a) and (b). The bake condition is
It may be appropriately selected depending on the thickness of the coating film and the like.
A final bake of about 50 ° C. is required. Baking is necessary also from the viewpoint of sufficiently curing the partially hydrolyzed condensate (b) of the alkoxysilane, and is preferably at 200 ° C. to prevent the unreacted alkoxysilyl group or silanol group from remaining. Preferably, a final bake at 250 ° C. or higher is required. The unreacted alkoxysilyl group or silanol group itself causes deterioration of the insulating properties of the coating film, and furthermore, it can serve as a water-absorbing site. It is desirable that it does not remain.

【0045】塗膜の相分離構造を制御する、或いは塗膜
の断差平坦化性を向上させる等の目的で、50〜150
℃程度のプリベーク工程を追加したり、ベーク工程を何
段階かに分けて実施することもできる。
For the purpose of controlling the phase separation structure of the coating film or improving the flattening property of the coating film, 50 to 150
It is also possible to add a pre-baking step at about ° C. or to divide the baking step into several stages.

【0046】本発明の表側基板は、透明基板上に第1の
透明材料を配置し、第1の透明材料の状態を変えること
で、凹凸を持つ透明層を形成し、その上方に第2の透明
材料を積層し、透明材料の表面を平坦化し、透明平坦層
を形成し、透明層と透明平坦化層との間に凹凸を形成
し、透明層の屈折率と透明平坦化層の屈折率とを異なる
ように設けることにより製造することができ、この方法
も本発明に含まれる。
In the front substrate of the present invention, a transparent layer having irregularities is formed by disposing a first transparent material on a transparent substrate and changing the state of the first transparent material. Laminate the transparent material, flatten the surface of the transparent material, form a transparent flat layer, form irregularities between the transparent layer and the transparent flat layer, the refractive index of the transparent layer and the refractive index of the transparent flat layer Can be manufactured by providing differently, and this method is also included in the present invention.

【0047】前記組成物を第1の透明材料として塗布す
ると、この塗膜の材料の状態を変えて前記凹凸を持つ透
明層を形成することができる。その上方に透明平坦化層
を構成する膜を積層すると、透明層と透明平坦化層との
間に目的とする凹凸を形成することができる。この際、
当然のこととして透明層の屈折率と透明平坦化層の屈折
率とを異なるように設ける必要がある。
When the composition is applied as a first transparent material, the state of the material of the coating film can be changed to form a transparent layer having the irregularities. When a film constituting a transparent flattening layer is stacked thereover, desired unevenness can be formed between the transparent layer and the transparent flattening layer. On this occasion,
Naturally, it is necessary to provide the refractive index of the transparent layer different from the refractive index of the transparent flattening layer.

【0048】[0048]

【発明の実施の形態】次に、図を参照しながら好ましい
具体的な例に基づき本発明を説明するが、本発明はこれ
らに限定されることはない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described based on preferred specific examples with reference to the drawings, but the present invention is not limited to these.

【0049】本発明の表側基板においては、例えば前述
の組成物のような樹脂を塗布することにより表面に凹凸
を有する透明塗膜を基板上に形成し、その上に透明平坦
化層としてその膜とは屈折率の異なる平坦化膜を成膜す
ることにより、平面方向にくり返しのないランダムなパ
ターンの光拡散層を構成するものである。表側基板を数
10cm離して視認した場合に、面内均一な散乱性を呈
すればよい。
In the front substrate of the present invention, for example, a transparent coating film having irregularities on the surface is formed on the substrate by applying a resin such as the above-described composition, and a transparent flattening layer is formed on the transparent coating film. Is to form a light diffusion layer having a random pattern with no repetition in a planar direction by forming flattening films having different refractive indices. When the front substrate is visually recognized at a distance of several tens of cm, it is only necessary to exhibit uniform scattering in the plane.

【0050】図1は本発明において得られる光拡散層を
含むカラーフィルタ基板を形成した例の断面図である。
透明基板1上に、組成物のような樹脂を塗布することに
より表面に凹凸を持った透明塗膜(凹凸膜2)を形成
後、透明平坦化層として凹凸透明塗膜と屈折率の異なる
平坦化膜3を形成する。この上に通常の工程によりカラ
ーフィルタを形成(カラーレジスト4)、および透明電
極5を形成するとカラーフィルタ基板が得られる。図示
していないが、ブラックマトリクス、オーバーコート膜
を形成してもよい。
FIG. 1 is a sectional view of an example in which a color filter substrate including a light diffusion layer obtained in the present invention is formed.
After forming a transparent coating film having unevenness on the surface (irregularity film 2) by applying a resin such as a composition on the transparent substrate 1, a flat surface having a refractive index different from that of the uneven transparent coating film is used as a transparent flattening layer. An oxide film 3 is formed. When a color filter is formed thereon (color resist 4) and a transparent electrode 5 is formed by a normal process, a color filter substrate is obtained. Although not shown, a black matrix and an overcoat film may be formed.

【0051】図2は本発明で得られる光拡散層を含むカ
ラーフィルタ基板を形成した別の例であり、このように
カラーフィルタの上層に凹凸膜2と平坦化膜3を形成し
てもよい。この場合、上記方法において、顔料分散法に
よるカラーレジスト4を平坦化膜3の上に構成する代わ
りに、ガラス基板上にカラーレジスト4を形成し、その
上に凹凸膜2、平坦化膜3,透明電極5をそれぞれ積層
することにより本発明の表側基板を製造することができ
る。また、カラーフィルタを形成せずモノクロ表示素子
に適用してもよい。
FIG. 2 shows another example in which a color filter substrate including a light diffusion layer obtained by the present invention is formed. In this manner, the uneven film 2 and the flattening film 3 may be formed on the color filter. . In this case, in the above method, instead of forming the color resist 4 by the pigment dispersion method on the flattening film 3, the color resist 4 is formed on a glass substrate, and the uneven film 2, the flattening film 3, By laminating the transparent electrodes 5 respectively, the front substrate of the present invention can be manufactured. Further, the present invention may be applied to a monochrome display element without forming a color filter.

【0052】凹凸が形成された当該透明層上に配置され
るもう一つの透明層は、当該透明層との屈折率差ができ
るだけ大きくなるよう、その材料を選択する。当該透明
層にサイトップ(旭硝子社製、登録商標)のように低屈
折率性の材料を用いるのであれば、平坦化層は高屈折率
の材料を用いる。逆に、当該透明層が高屈折率、平坦化
層が低屈折率の組み合わせも可能である。
The material of another transparent layer disposed on the transparent layer having the irregularities is selected so that the difference in refractive index from the transparent layer is as large as possible. If a material having a low refractive index such as CYTOP (registered trademark, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) is used for the transparent layer, a material having a high refractive index is used for the flattening layer. Conversely, a combination of the transparent layer having a high refractive index and the flattening layer having a low refractive index is also possible.

【0053】また、平坦化層に求められる特性は、平坦
化性能に優れていること。可視光において透明であるこ
と。下部の当該透明層(凹凸層)との付着性がよいこと
が好ましい。また、耐熱性、耐溶剤性、耐プラズマ性が
良好であることが好ましい。例えば、エポキシ樹脂、ア
クリル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタ
ン樹脂、シリコーン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポ
リエステル樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂(B
Tレジン)、フェノール樹脂等が挙げられる。
The characteristics required for the flattening layer should be excellent in flattening performance. Be transparent in visible light. It is preferable that the adhesiveness to the lower transparent layer (concavo-convex layer) is good. Further, it is preferable that heat resistance, solvent resistance, and plasma resistance are good. For example, epoxy resin, acrylic resin, phenoxy resin, polyimide resin, urethane resin, silicone resin, polyetherimide resin, polyester resin, bismaleimide triazine resin (B
T resin), a phenol resin and the like.

【0054】本発明において、表面に凹凸を備えた当該
透明層に用いる凹凸膜としては、前述の組成物を用いる
ことが好ましい。また、他の材料系で同様の効果を発現
するものであってもよい。塗布後の処理によって相分離
が誘起され、凹凸構造が生ずる材料である。
In the present invention, it is preferable to use the above-described composition as the uneven film used for the transparent layer having the uneven surface. Further, other materials may exhibit the same effect. It is a material in which phase separation is induced by the treatment after coating, and an uneven structure is generated.

【0055】本発明における透明層の凹凸を持った表面
においては、光拡散能の均一性確保の上で平面内の一方
向における凹凸のピッチp´が0.5〜10.0μm
で、凹凸の高さの平均h´が1.0〜5.0μmである
ことが好ましい。前述のように本発明に使用する組成物
によるコート法によれば容易にこの凹凸面を形成するこ
とができる。凹凸のピッチの測定については、例えば走
査型電子顕微鏡により表面、断面を観察すればよいし、
簡易的には触針式段差計でも凹凸の様子を知ることがで
きるし、その他の適当な方法で測定すればよい。
On the uneven surface of the transparent layer according to the present invention, the pitch p 'of the unevenness in one direction in the plane is 0.5 to 10.0 μm in order to secure the uniformity of the light diffusing ability.
It is preferable that the average height h ′ of the unevenness is 1.0 to 5.0 μm. As described above, according to the coating method using the composition used in the present invention, the uneven surface can be easily formed. Regarding the measurement of the pitch of the unevenness, for example, the surface, the cross section may be observed with a scanning electron microscope,
In a simple manner, the state of the unevenness can be known even with a stylus-type profilometer, or the measurement may be performed by another appropriate method.

【0056】凹凸膜2と平坦化膜は凹凸表面で接触して
いるが、十分な拡散性能を得るためには、凹凸膜2と平
坦化膜3の屈折率差は0.1以上であることが好まし
く、0.2以上であることがより好ましい。凹凸膜と基
板との屈折率が異なる場合には、基板表面にエッチン
グ、ブラスト等により凹凸を形成した後凹凸膜を形成す
ることも効果的である。
Although the uneven film 2 and the flattening film are in contact with each other on the uneven surface, in order to obtain a sufficient diffusion performance, the difference in the refractive index between the uneven film 2 and the flattening film 3 must be 0.1 or more. Is preferable, and it is more preferable that it is 0.2 or more. When the refractive index of the uneven film is different from that of the substrate, it is also effective to form the unevenness on the surface of the substrate by etching, blasting or the like, and then form the unevenness film.

【0057】拡散強度を増すためには、凹凸膜と平坦化
膜の積層を複数繰り返し形成してもよいし、屈折率の異
なる凹凸層を複数繰り返して形成、最後に平坦化層を形
成してもよい。透明膜の材料の屈折率の範囲は1.3〜
1.7程度であり、最大屈折率差は、およそ0.5以内
とすることが好ましい。
In order to increase the diffusion strength, a plurality of layers of the uneven film and the flattening film may be repeatedly formed, or a plurality of uneven layers having different refractive indexes may be repeatedly formed, and finally, the flattening layer may be formed. Is also good. The range of the refractive index of the material of the transparent film is 1.3 to
It is preferably about 1.7, and the maximum difference in refractive index is preferably about 0.5 or less.

【0058】本発明の表側基板においては樹脂等による
塗膜形成により凹凸を形成すると、ランダムなパターン
光拡散層が得られるため、容易に画面内均一な表示の反
射型表示素子を形成することができる。本発明の表側基
板を表示素子、特に反射型液晶表示素子の表側基板とし
て使用できる。
In the front substrate according to the present invention, if the unevenness is formed by forming a coating film of a resin or the like, a random pattern light diffusion layer can be obtained, so that a reflective display element having a uniform display within a screen can be easily formed. it can. The front substrate of the present invention can be used as a display device, particularly as a front substrate of a reflective liquid crystal display device.

【0059】図3は、本発明で得られる光拡散層を含む
カラーフィルタを用いて製造したアクティブマトリクス
液晶表示素子の例の断面図を、図4は本発明で得られる
光拡散層を含むカラーフィルタを用いて製造した単純マ
トリクス液晶表示素子の例の断面図を、それぞれ示した
ものである。
FIG. 3 is a sectional view of an example of an active matrix liquid crystal display device manufactured using a color filter including a light diffusion layer obtained by the present invention, and FIG. The cross-sectional views of examples of a simple matrix liquid crystal display element manufactured using a filter are respectively shown.

【0060】本発明で得られる光拡散層を含むカラーフ
ィルタ基板8に、従来公知の製造方法により配向膜6,
および液晶層7を設け、さらにアクティブマトリクス基
板9を配置するとアクティブマトリクス液晶表示素子を
製造することができる(図3参照)。
On the color filter substrate 8 including the light diffusion layer obtained by the present invention, the alignment films 6 and 6 are formed by a conventionally known manufacturing method.
When the liquid crystal layer 7 is provided and the active matrix substrate 9 is further provided, an active matrix liquid crystal display element can be manufactured (see FIG. 3).

【0061】一方、前記基板8に配向膜6および液晶層
7を設け、これに単純マトリクス基板10を配置する
と、単純マトリクス液晶表示素子を製造することができ
る(図4参照)。
On the other hand, when the alignment film 6 and the liquid crystal layer 7 are provided on the substrate 8 and the simple matrix substrate 10 is disposed thereon, a simple matrix liquid crystal display device can be manufactured (see FIG. 4).

【0062】上記何れの場合も、その製造に際しては、
それぞれの基板に配向膜6を形成後、スペーサー、シー
ル部材を介してセルを形成し、その後液晶を2枚の基板
の間に注入するとよい。
[0062] In any of the above cases,
After forming the alignment film 6 on each substrate, cells are formed via a spacer and a sealing member, and then liquid crystal is preferably injected between the two substrates.

【0063】本発明の表側基板が使用される表示素子は
反射型であれば特に制限されず、液晶表示素子以外にも
エレクトロクロミック表示素子等の受光型表示素子等へ
の使用が可能である。
The display element using the front substrate of the present invention is not particularly limited as long as it is a reflection type, and can be used for a light-receiving display element such as an electrochromic display element in addition to a liquid crystal display element.

【0064】さらに、本発明の表側基板を有する反射型
表示素子を使用した携帯情報端末、携帯通信端末は視認
性に優れている。
Further, portable information terminals and portable communication terminals using the reflective display element having the front substrate of the present invention are excellent in visibility.

【0065】[0065]

【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明を詳細に説明
する。
The present invention will be described below in detail with reference to examples.

【0066】[例1:成分(a)の合成] (a)主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有するフッ素樹脂
の合成 ペルフルオロ(ブテニルビニルエーテル)35g、イオ
ン交換水150g、メタノール20gおよび重合開始剤
として((CH32CHOCOO)2 90mgを、内
容積200ccの耐圧ガラス製オートクレーブに入れ、
系内を3回窒素で置換した後、40℃で22時間懸濁重
合を行ってポリマーAを28g得た。ポリマーAの固有
粘度[η]は、ペルフルオロ(2−ブチルテトラヒドロ
フラン)中30℃で0.2dl/gであった。
Example 1 Synthesis of Component (a) (a) Synthesis of Fluororesin Having Fluorine-Containing Alicyclic Structure in Main Chain 35 g of perfluoro (butenyl vinyl ether), 150 g of ion-exchanged water, 20 g of methanol and polymerization initiation 90 mg of ((CH 3 ) 2 CHOCOO) 2 as an agent was placed in a pressure-resistant glass autoclave having an internal volume of 200 cc,
After the inside of the system was replaced with nitrogen three times, suspension polymerization was performed at 40 ° C. for 22 hours to obtain 28 g of polymer A. The intrinsic viscosity [η] of the polymer A was 0.2 dl / g at 30 ° C. in perfluoro (2-butyltetrahydrofuran).

【0067】[例2:成分(b)の合成] (b)アルコキシシランの部分加水分解縮合物の合成 反応容器中で、テトラメトキシシランおよびCF3(C
25CH2CH2Si(OCH33をモル比1:0.5
の割合でメタノール中に溶解させ、さらに硝酸と水を加
えた後に室温で72時間反応させることにより部分加水
分解縮合物を合成した。この部分加水分解縮合物の重量
平均分子量は1,050(GPCにより求めた標準ポリ
スチレン換算値)であった。次いで、反応液を、イオン
交換樹脂塔内を通過させることにより硝酸を除去した
後、溶剤置換を行い、部分加水分解縮合物(以下、「縮
合物B」と称する。)のペルフルオロトリブチルアミン
とCF3CF2CH2OHの混合溶剤(重量比95:5)
溶液を得た。縮合物Bの溶液中での固形分濃度は9重量
%であった。
Example 2: Synthesis of component (b) (b) Synthesis of partially hydrolyzed condensate of alkoxysilane In a reaction vessel, tetramethoxysilane and CF 3 (C
F 2 ) 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 in a molar ratio of 1: 0.5
Was dissolved in methanol at a ratio of 2. Then, nitric acid and water were added, and the mixture was reacted at room temperature for 72 hours to synthesize a partially hydrolyzed condensate. The weight average molecular weight of this partially hydrolyzed condensate was 1,050 (standard polystyrene equivalent value determined by GPC). Next, nitric acid is removed by passing the reaction solution through an ion exchange resin tower, solvent replacement is performed, and a partially hydrolyzed condensate (hereinafter, referred to as “condensate B”) perfluorotributylamine and CF are removed. 3 CF 2 CH 2 OH mixed solvent (weight ratio 95: 5)
A solution was obtained. The solid concentration of the condensate B in the solution was 9% by weight.

【0068】[例3:調合および塗布] (a)、(b)混合溶液の調製 例1で得られたポリマーAおよび例2で得られた縮合物
Bより、A対Bの組成比が異なる溶液を調製した。この
とき、溶液の固形分濃度および溶剤組成を下記とした。
[Example 3: Preparation and application] (a), (b) Preparation of mixed solution The composition ratio of A to B is different from that of polymer A obtained in Example 1 and condensate B obtained in Example 2. A solution was prepared. At this time, the solid content concentration and the solvent composition of the solution were as follows.

【0069】AとBを合わせた全固形分濃度が9重量
%。 ペルフルオロトリブチルアミン:CF3CF2CH2OH
=90:10(重量比)。
The total solid content of A and B is 9% by weight. Perfluorotributylamine: CF 3 CF 2 CH 2 OH
= 90:10 (weight ratio).

【0070】混合溶液を、スピンコートにて回転数60
0RPMでガラス基板上に塗布し、その後、ホットプレ
ート上80℃で90秒、さらに電気炉にて350℃で1
時間加熱して完全に硬化させた。硬化後の樹脂膜の膜厚
は約2〜4μmのランダムな凹凸になった。
The mixed solution was spin-coated at 60 rpm.
It is applied on a glass substrate at 0 RPM, and then on a hot plate at 80 ° C. for 90 seconds, and further in an electric furnace at 350 ° C. for 1 second.
Heating was carried out for a period of time to completely cure. The thickness of the cured resin film became random irregularities of about 2 to 4 μm.

【0071】A、Bの組成比による表面の凹凸の違いを
観察するために、硬化後の樹脂膜上にスパッタリング法
により120nm厚のAl膜を形成し、正規反射率を測
定した。例えば、A対Bが80対20の場合、集光角8
°で31%、集光角2°で11%であった。A対Bが4
0対60の場合は、集光角8°で23%、集光角2°で
0.4%であった。ポリマーAに対して縮合物Bの割合
を大きくすることでより大きな凹凸を形成する方向に膜
表面の形状を制御することができることが分かった。
To observe the difference in surface irregularities due to the composition ratio of A and B, an Al film having a thickness of 120 nm was formed on the cured resin film by a sputtering method, and the regular reflectance was measured. For example, when A: B is 80:20, the condensing angle is 8
° and 31% at a converging angle of 2 °. A vs. B is 4
In the case of 0:60, it was 23% at a converging angle of 8 ° and 0.4% at a converging angle of 2 °. It was found that by increasing the ratio of the condensate B to the polymer A, the shape of the film surface could be controlled in the direction in which larger irregularities were formed.

【0072】[例4:カラーフィルタ基板の製造]図1に
示すような構成の表側基板(カラーフィルタ基板)を製
造した。透明ガラス基板(透明基板1;旭硝子(株)製
AN635:屈折率1.56)上に、例3のようにして
調合したA対Bが30対70の溶液を、スピンコートに
て回転数600RPMで全面に塗布した。その後、ホッ
トプレート上80℃で90秒、さらに電気炉にて350
℃で1時間加熱して完全に硬化させた。硬化後の樹脂膜
(屈折率1.35)2の膜厚は約2〜4μmのランダム
な凹凸になった(凹凸膜2)。次いで、30秒間の窒素
プラズマ処理後、エポキシ系平坦化膜3(新日鐵化学
(株)製V259EH:屈折率約1.6)を塗布し、加
熱硬化させた。その上に顔料分散カラーレジスト4を
赤、緑、青の3色形成し、最後に透明電極5を成膜し
た。良好な光拡散性能を持ったカラーフィルタ基板が得
られた。
Example 4 Production of Color Filter Substrate A front substrate (color filter substrate) having a configuration as shown in FIG. 1 was produced. On a transparent glass substrate (transparent substrate 1; AN635, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd .; refractive index: 1.56), a solution of 30:70 A: B prepared as in Example 3 was spin-coated at 600 RPM. Was applied over the entire surface. After that, it was heated on a hot plate at 80 ° C. for 90 seconds, and further heated in an electric furnace at 350
C. for 1 hour to completely cure. The thickness of the cured resin film (refractive index: 1.35) 2 was random irregularities of about 2 to 4 μm (irregularities 2). Next, after a nitrogen plasma treatment for 30 seconds, an epoxy-based flattening film 3 (V259EH manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd .: refractive index: about 1.6) was applied and cured by heating. A pigment-dispersed color resist 4 was formed thereon in three colors of red, green and blue, and finally a transparent electrode 5 was formed. A color filter substrate having good light diffusion performance was obtained.

【0073】上記方法において、顔料分散カラーレジス
ト4を平坦化膜3の上に構成する代わりに、ガラス基板
上に配置した表側基板を製造した(図2参照)。尚、上
記ガラス基板として表面がスリガラス状のガラス基板を
使用してさらに光拡散効果を高める方法も可能である。
In the above method, instead of forming the pigment-dispersed color resist 4 on the flattening film 3, a front substrate disposed on a glass substrate was manufactured (see FIG. 2). It is to be noted that a method of further improving the light diffusion effect by using a glass substrate having a ground glass surface as the glass substrate is also possible.

【0074】[0074]

【発明の効果】本発明の表側基板においては、特に樹脂
塗膜により表面に形成される凹凸パターンにより光が有
効に拡散されるため、容易に画面内均一な表示の反射型
表示素子を形成することができる。また、本発明により
組成物を使用して塗布して得られる光拡散透明膜はその
組成比の調整により凹凸の大小を制御することができ、
また1回の塗布で基板面内に同時にミクロにランダムで
あり、かつマクロに均一な凹凸面を形成することができ
るため、膜中に微粒子を分散させる方法のような塗布時
の凝集の問題もなく、素子設計や製造も容易であり、高
い生産性で製造することができる。
In the front substrate of the present invention, light is effectively diffused particularly by the uneven pattern formed on the surface by the resin coating film, so that a reflective display element having a uniform display within a screen can be easily formed. be able to. Further, the light-diffusing transparent film obtained by applying the composition according to the present invention can control the size of the unevenness by adjusting the composition ratio,
In addition, since a micro-random and macro-uniform uneven surface can be simultaneously formed in the substrate surface in a single coating, the problem of agglomeration during coating such as a method of dispersing fine particles in a film is also reduced. In addition, element design and manufacturing are easy, and manufacturing can be performed with high productivity.

【0075】本発明の表側基板においては、その光拡散
層の表面は透明平坦化層により平坦化されているため、
セル内面に光拡散層を形成しても、液晶の配向に悪影響
を及ぼすことがなく、液晶表示素子の基板に使用する場
合、種々の液晶モードを液晶表示素子に採用することが
できる。
In the front substrate of the present invention, the surface of the light diffusion layer is flattened by the transparent flattening layer.
Even if the light diffusion layer is formed on the inner surface of the cell, it does not adversely affect the orientation of the liquid crystal, and when used for the substrate of the liquid crystal display device, various liquid crystal modes can be adopted for the liquid crystal display device.

【0076】また、この方法によれば、光の拡散面がセ
ルの内面にあるため、基板の厚みによる視差の影響を受
けることがなく、例えば反射型液晶表示素子に使用した
ときに高精細な反射型液晶表示素子を実現することがで
きる。
Further, according to this method, since the light diffusion surface is on the inner surface of the cell, it is not affected by the parallax due to the thickness of the substrate. A reflective liquid crystal display device can be realized.

【0077】本発明の基板は反射型表示素子であれば広
くて適用可能であり、例えば、アクティブマトリクス型
の液晶表示素子にも単純マトリクス型の液晶表示素子に
も適用することができる。
The substrate of the present invention can be widely applied as long as it is a reflection type display element. For example, it can be applied to an active matrix type liquid crystal display element and a simple matrix type liquid crystal display element.

【0078】さらに、本発明に使用する組成物により形
成された塗膜においては、屈折率が1.35と極めて低
いため、透明平坦化層との組合せにおいて屈折率差を大
きく取りやすく、制御しやすい範囲の凹凸で十分な拡散
強度を得ることができる。
Further, since the refractive index of the coating film formed from the composition used in the present invention is extremely low at 1.35, it is easy to obtain a large difference in the refractive index in combination with the transparent flattening layer. Sufficient diffusion strength can be obtained with irregularities in an easy range.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明で得られる光拡散層を含むカラーフィル
タ基板を形成した例の断面図。
FIG. 1 is a cross-sectional view of an example in which a color filter substrate including a light diffusion layer obtained by the present invention is formed.

【図2】本発明で得られる光拡散層を含むカラーフィル
タ基板を形成した別の例の断面図。
FIG. 2 is a cross-sectional view of another example in which a color filter substrate including a light diffusion layer obtained by the present invention is formed.

【図3】本発明で得られる光拡散層を含むカラーフィル
タ基板を用いて製造したアクティブマトリクス液晶表示
素子の例の断面図。
FIG. 3 is a cross-sectional view of an example of an active matrix liquid crystal display device manufactured using a color filter substrate including a light diffusion layer obtained by the present invention.

【図4】本発明で得られる光拡散層を含むカラーフィル
タ基板を用いて製造した単純マトリクス液晶表示素子の
例の断面図。
FIG. 4 is a cross-sectional view of an example of a simple matrix liquid crystal display device manufactured using a color filter substrate including a light diffusion layer obtained by the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:透明基板 2:凹凸膜 3:平坦化膜 4:カラーレジスト 5:透明電極 6:配向膜 7:液晶層 8:本発明で得られる光拡散層を含むカラーフィルタ基
板 9:アクティブマトリクス基板 10:単純マトリクス基板。
1: transparent substrate 2: uneven film 3: flattening film 4: color resist 5: transparent electrode 6: alignment film 7: liquid crystal layer 8: color filter substrate including a light diffusion layer obtained by the present invention 9: active matrix substrate 10 : Simple matrix substrate.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 横塚 俊亮 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 Fターム(参考) 2H042 BA01 BA04 BA15 BA20 2H090 HA04 HA08 HB15X HC05 HD03 HD06 LA04 LA15 LA20 2H091 FA02Y FA16Y FA31Y FB02 FD06 GA07 KA01 KA10 LA12 LA16 4J038 CM011 DL022 DL032 GA12 PA07 PB09  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Toshiaki Yokozuka 1150 Hazawa-cho, Kanagawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa F-term within Asahi Glass Co., Ltd. 2H042 BA01 BA04 BA15 BA20 2H090 HA04 HA08 HB15X HC05 HD03 HD06 LA04 LA15 LA20 2H091 FA02Y FA16Y FA31Y FB02 FD06 GA07 KA01 KA10 LA12 LA16 4J038 CM011 DL022 DL032 GA12 PA07 PB09

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】反射型表示素子用の表側基板であって、表
面に凹凸を持った透明層を透明基板上に配置し、当該透
明層と屈折率が異なる透明平坦化層を当該透明層上に配
置し、入射光が拡散透過されることを特徴とする表側基
板。
1. A front-side substrate for a reflective display element, wherein a transparent layer having an uneven surface is disposed on a transparent substrate, and a transparent flattening layer having a different refractive index from the transparent layer is provided on the transparent layer. Wherein the incident light is diffused and transmitted.
【請求項2】当該透明層が、下記の(a)および(b)
を含む組成物で形成されてなる請求項1に記載の表側基
板: (a)主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有するフッ素樹
脂;および(b)式R1 m2 nSi(OR34-(m+n)(式
中、R1 およびR2 は炭素数1〜14の有機基であり、
互いに同じであっても異なっていてもよく、R3 は炭素
数1〜8のアルキル基であり、mおよびnはm+n≦3
を満たす0〜3の整数である。)で示されるアルコキシ
シランの部分加水分解縮合物。
2. The method according to claim 1, wherein the transparent layer comprises the following (a) and (b):
2. The front substrate according to claim 1, which is formed of a composition containing: (a) a fluororesin having a fluorinated aliphatic ring structure in a main chain; and (b) a formula R 1 m R 2 n Si (OR 3 4- (m + n) (wherein, R 1 and R 2 are an organic group having 1 to 14 carbon atoms;
R 3 may be the same or different, R 3 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and m and n are m + n ≦ 3
Is an integer of 0 to 3 that satisfies A) a partially hydrolyzed condensate of an alkoxysilane represented by the formula:
【請求項3】組成物中(a)と(b)の比率が(a)1
00重量部に対して(b)100重量部以上である請求
項2に記載の表側基板。
3. The composition according to claim 1, wherein the ratio of (a) to (b) is (a) 1.
3. The front substrate according to claim 2, wherein (b) is at least 100 parts by weight based on 00 parts by weight.
【請求項4】当該透明層の表面において、平面内の一方
向における凹凸のピッチp´が0.5〜10.0μm
で、凹凸の高さの平均h´が1.0〜5.0μmである
請求項1,2または3に記載の表側基板。
4. A pitch p 'of irregularities in one direction in a plane on the surface of the transparent layer is 0.5 to 10.0 μm.
4. The front substrate according to claim 1, wherein the average height h ′ of the unevenness is 1.0 to 5.0 μm. 5.
【請求項5】透明基板上に第1の透明材料を塗布し、第
1の透明材料の状態を変えることで、凹凸を持つ透明層
を形成し、その上方に第2の透明材料を積層し、透明材
料の表面を平坦化し、透明平坦層を形成し、透明層と透
明平坦化層との間に凹凸を形成し、透明層の屈折率と透
明平坦化層の屈折率とを異なるように設ける表側基板の
製造方法。
5. A transparent layer having irregularities is formed by applying a first transparent material on a transparent substrate and changing the state of the first transparent material, and a second transparent material is laminated thereon. , Flatten the surface of the transparent material, form a transparent flat layer, form irregularities between the transparent layer and the transparent flattening layer, so that the refractive index of the transparent layer and the refractive index of the transparent flattening layer are different The method of manufacturing the front substrate to be provided.
【請求項6】請求項1、2、3または4に記載の表側基
板を使用した反射型表示素子。
6. A reflective display element using the front substrate according to claim 1, 2, 3, or 4.
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