JP2000191736A - Graft polymerization of thermoplastic polymer - Google Patents

Graft polymerization of thermoplastic polymer

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JP2000191736A
JP2000191736A JP10373356A JP37335698A JP2000191736A JP 2000191736 A JP2000191736 A JP 2000191736A JP 10373356 A JP10373356 A JP 10373356A JP 37335698 A JP37335698 A JP 37335698A JP 2000191736 A JP2000191736 A JP 2000191736A
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JP
Japan
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radical
group
thermoplastic polymer
compound
graft polymerization
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Application number
JP10373356A
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Japanese (ja)
Inventor
Seiji Ota
誠治 太田
Akiyoshi Shimizu
昭義 清水
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Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method by which a graft polymerization can be carried out with a high efficiency while suppressing crosslinking and decomposing reactions when conducting the graft polymerization of a radically polymerizable monomer with a thermoplastic polymer. SOLUTION: (A) A thermoplastic polymer is brought into contact with (C) a radical initiator and (D-1) a radical-containing compound of oxygen, nitrogen, phosphorus, sulfur, carbon or silicon or (D-2) a radical-producing compound capable of producing the radical-containing compound (D-1) at a temperature for enabling the radical initiator (C) to produce the radical before adding (B) a radically polymerizable monomer in a method for carrying out a graft polymerization of the radically polymerizable monomer (B) with the thermoplastic polymer (A) in the presence of the radical initiator (C).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、熱可塑性ポリマー
に官能性モノマーをグラフト重合する方法に関する。さ
らに詳しくは、熱可塑性ポリマーに官能性モノマーをグ
ラフト重合する際に、分解、架橋などの副反応を抑制
し、かつ高いグラフト効率でグラフト重合する方法に関
する。
The present invention relates to a method for graft-polymerizing a thermoplastic polymer with a functional monomer. More specifically, the present invention relates to a method for suppressing side reactions such as decomposition and cross-linking when grafting a functional monomer to a thermoplastic polymer, and for performing graft polymerization with high graft efficiency.

【0002】[0002]

【発明の技術的背景】ポリオレフィンをはじめとする熱
可塑性ポリマーに種々の官能基を導入する方法として、
ラジカル発生剤の存在下にラジカル重合性モノマーをグ
ラフト重合する方法が一般的に行われる。しかしこの方
法には、ラジカル同士のカップリング、β開裂等の副反
応によるポリマーの架橋・分解反応などが併発し、得ら
れるグラフトポリマーの溶融特性(メルトフローレート
(MFR)など、ポリマーの分子量等の構造に関係する物
性)が大きく変化してしまうという問題点があった。
BACKGROUND OF THE INVENTION As a method for introducing various functional groups into a thermoplastic polymer such as polyolefin,
A method of graft-polymerizing a radical polymerizable monomer in the presence of a radical generator is generally performed. However, this method involves coupling of radicals, cross-linking and decomposition of the polymer due to side reactions such as β-cleavage, etc., and the melting characteristics (melt flow rate) of the obtained graft polymer
(MFR) and the like (physical properties related to the structure such as the molecular weight of the polymer).

【0003】このような問題点を解決するために、特開
平10−130308号公報には、安定なニトロキシド
ラジカルの存在下で熱可塑性ポリマーへのグラフト重合
を行う方法が記載されている。しかし、当該公報には熱
可塑性ポリマー、ラジカル開始剤、官能基を有するモノ
マーおよび安定なニトロキシドラジカルを、押出機の一
端から一括添加し反応を行う方法しか例示されていな
い。さらに、用いられる官能基を有するモノマーについ
ても、具体的には無水マレイン酸しか例示されておら
ず、そのグラフト反応量も0.8〜1.7%と低い領域
にとどまっている。
In order to solve such a problem, Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-130308 describes a method of performing graft polymerization on a thermoplastic polymer in the presence of a stable nitroxide radical. However, this publication only exemplifies a method in which a thermoplastic polymer, a radical initiator, a monomer having a functional group, and a stable nitroxide radical are collectively added from one end of an extruder to carry out a reaction. Further, as for the monomer having a functional group to be used, specifically, only maleic anhydride is exemplified, and the graft reaction amount is also in a low range of 0.8 to 1.7%.

【0004】すなわち上記公報に例示される無水マレイ
ン酸の様な自己重合性の比較的低いモノマーを比較的少
量グラフト反応する場合には、副反応によるポリマーの
架橋・分解反応などの問題が顕在化してこないので、こ
の方法による副反応抑制効果は不明である。一方(メ
タ)アクリル酸及びその誘導体、あるいは芳香族ビニル
化合物等の様な自己重合性の高いモノマーを多量にグラ
フト反応しようとする場合、単に安定なニトロキシドラ
ジカルを系内に存在させてグラフト重合反応を行うだけ
では、架橋・分解等の副反応の発生やグラフト効率の低
下を抑制することは困難であった。
That is, when a relatively small amount of a monomer having a relatively low self-polymerization property such as maleic anhydride exemplified in the above-mentioned publication is grafted, problems such as cross-linking and decomposition of the polymer due to side reactions become apparent. Because of this, the effect of suppressing side reactions by this method is unknown. On the other hand, when a large amount of a monomer having a high self-polymerization property such as (meth) acrylic acid and a derivative thereof or an aromatic vinyl compound is to be graft-reacted, the graft polymerization reaction is performed simply by allowing a stable nitroxide radical to exist in the system. However, it is difficult to suppress the occurrence of side reactions such as crosslinking and decomposition and the decrease in graft efficiency by simply performing the above steps.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の様な背
景のもとでなされたもので、熱可塑性ポリマーへラジカ
ル重合性モノマーをグラフト重合するに際して、架橋・
分解反応を抑制しながら、高い効率でグラフト重合でき
る方法を提供することを目的とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made under the above-mentioned background.
An object of the present invention is to provide a method capable of performing graft polymerization with high efficiency while suppressing a decomposition reaction.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の目的
を達成するため鋭意検討を行った結果、予め熱可塑性ポ
リマーをラジカル開始剤及び特定のラジカル化合物に接
触させた後に、ラジカル重合性モノマーを添加すること
により、上記の問題点が解決することを見出し本発明を
なすに至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies in order to achieve the above object, and as a result, after contacting a thermoplastic polymer with a radical initiator and a specific radical compound in advance, the radical polymerizable The inventors have found that the above problems can be solved by adding a monomer, and have accomplished the present invention.

【0007】本発明に係る熱可塑性ポリマーのグラフト
重合方法は、ラジカル開始剤(C)の存在下、熱可塑性
ポリマー(A)にラジカル重合性モノマー(B)をグラ
フト重合する方法において、ラジカル重合性モノマー
(B)の添加前に、ラジカル開始剤(C)がラジカルを
発生し得る温度で、熱可塑性ポリマー(A)と、ラジカ
ル開始剤(C)と、酸素、窒素、リン、イオウ、炭素ま
たはケイ素のラジカル含有化合物(D−1)、または該
ラジカル含有化合物(D−1)を生成し得るラジカル生
成化合物(D−2)とを接触させることを特徴としてい
る。
The method for graft polymerization of a thermoplastic polymer according to the present invention is a method for graft-polymerizing a radical polymerizable monomer (B) to a thermoplastic polymer (A) in the presence of a radical initiator (C). Before the addition of the monomer (B), at a temperature at which the radical initiator (C) can generate radicals, the thermoplastic polymer (A), the radical initiator (C) and oxygen, nitrogen, phosphorus, sulfur, carbon or It is characterized by contacting with a radical-containing compound (D-1) of silicon or a radical-forming compound (D-2) capable of producing the radical-containing compound (D-1).

【0008】本発明の好ましい態様においては、前記ラ
ジカル含有化合物(D−1)が、下記一般式(I)で表
される化合物であることが望ましい。
In a preferred embodiment of the present invention, the radical-containing compound (D-1) is preferably a compound represented by the following general formula (I).

【化5】 (式中、Zは窒素、イオウまたはリンを示し、Xは任意
の置換基を示し、nはZの価数を満たす1〜4の整数で
ある。)
Embedded image (Wherein, Z represents nitrogen, sulfur or phosphorus, X represents an optional substituent, and n is an integer of 1 to 4 that satisfies the valence of Z.)

【0009】また、本発明の好ましい態様においては、
前記ラジカル含有化合物(D−1)が、前記一般式
(I)においてZを窒素原子とするニトロキシドラジカ
ル含有化合物であることが望ましい。
[0009] In a preferred embodiment of the present invention,
It is preferable that the radical-containing compound (D-1) is a nitroxide radical-containing compound in which Z in the formula (I) is a nitrogen atom.

【0010】また、本発明の好ましい態様においては、
前記ニトロキシドラジカル含有化合物が下記一般式(I
I)または(III)で表される化合物であることが望まし
い。
[0010] In a preferred embodiment of the present invention,
The nitroxide radical-containing compound has the following general formula (I
Desirably, the compound is represented by I) or (III).

【化6】 (上式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6はそれぞれ独
立に、塩素、臭素などのハロゲン原子、炭素数1〜10
で直鎖または分岐鎖を有するか或いは環状の飽和または
不飽和炭化水素基、アリール基を表し、互いに同一でも
異なっていてもよく、またR1、R2、R3のうちの1つ
とR4、R5、R6のうちの1つとが連結して環状構造を
形成していてもよい。)
Embedded image (In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , and R 6 each independently represent a halogen atom such as chlorine or bromine;
Represents a linear or branched or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon group or an aryl group, which may be the same or different, and one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 , R 5 and R 6 may be linked to form a cyclic structure. )

【化7】 (上式中、R7、R8はそれぞれ独立に、塩素、臭素など
のハロゲン原子、炭素数1〜10で直鎖または分岐鎖を
有するか或いは環状の飽和または不飽和炭化水素基、ア
リール基を表し、互いに同一でも異なっていてもよく、
またR7とR8とが連結して環状構造を形成していてもよ
い。)
Embedded image (In the above formula, R 7 and R 8 are each independently a halogen atom such as chlorine or bromine, a linear or branched or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon group or an aryl group having 1 to 10 carbon atoms. Represents the same or different from each other,
R 7 and R 8 may be linked to form a cyclic structure. )

【0011】また、本発明の好ましい態様においては、
前記ラジカル生成化合物(D−2)が、2級アミンであ
ることが望ましい。
[0011] In a preferred embodiment of the present invention,
It is desirable that the radical generating compound (D-2) is a secondary amine.

【0012】また、本発明の好ましい態様においては、
前記2級アミンが下記一般式(IV)で表される化合物で
あることが望ましい。
In a preferred embodiment of the present invention,
It is desirable that the secondary amine is a compound represented by the following general formula (IV).

【化8】 (上式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6はそれぞれ独
立に、塩素、臭素などのハロゲン原子、炭素数1〜10
で直鎖または分岐鎖を有するか或いは環状の飽和または
不飽和炭化水素基、アリール基を表し、互いに同一でも
異なっていてもよく、またR1、R2、R3のうちの1つ
とR4、R5、R6のうちの一つとが連結して環状構造を
形成していてもよい。)
Embedded image (In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , and R 6 each independently represent a halogen atom such as chlorine or bromine;
Represents a linear or branched or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon group or an aryl group, which may be the same or different, and one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 , R 5 and R 6 may be linked to form a cyclic structure. )

【0013】また、本発明の好ましい態様においては、
前記ラジカル含有化合物(D−1)に由来するラジカル
のモル数または前記ラジカル生成化合物(D−2)から
発生し得るラジカルの理論モル数が、前記ラジカル開始
剤(C)において発生し得るラジカルの理論モル数に対
して、0.01〜2.0倍の割合で用いられることが望
ましい。
[0013] In a preferred embodiment of the present invention,
The number of moles of radicals derived from the radical-containing compound (D-1) or the theoretical number of moles of radicals that can be generated from the radical-forming compound (D-2) is equal to the number of moles of radicals that can be generated in the radical initiator (C). It is desirable to use 0.01 to 2.0 times the theoretical mole number.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明は、熱可塑性ポリマー
(A)にラジカル重合性モノマー(B)をグラフト重合
するに際し、予め熱可塑性ポリマー(A)を、ラジカル
開始剤(C)と、酸素、窒素、リン、イオウ、炭素また
はケイ素のラジカル含有化合物(D−1)、または該ラ
ジカル含有化合物(D−1)を生成し得るラジカル生成
化合物(D−2)とに、所定温度で接触させた後、ラジ
カル重合性モノマー(B)を添加することを特徴とする
熱可塑性ポリマーのグラフト重合方法である。まず、熱
可塑性ポリマー(A)、ラジカル重合性モノマー
(B)、ラジカル開始剤(C)、酸素、窒素、リン、イ
オウ、炭素またはケイ素のラジカル含有化合物(D−
1)、または該ラジカル含有化合物(D−1)を生成し
得るラジカル生成化合物(D−2)について説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, when a radical polymerizable monomer (B) is graft-polymerized to a thermoplastic polymer (A), the thermoplastic polymer (A) is previously reacted with a radical initiator (C), oxygen, It was brought into contact with a radical-containing compound (D-1) of nitrogen, phosphorus, sulfur, carbon or silicon, or a radical-forming compound (D-2) capable of producing the radical-containing compound (D-1) at a predetermined temperature. Thereafter, a graft polymerization method for a thermoplastic polymer, characterized by adding a radical polymerizable monomer (B). First, a thermoplastic polymer (A), a radical polymerizable monomer (B), a radical initiator (C), a radical-containing compound of oxygen, nitrogen, phosphorus, sulfur, carbon or silicon (D-
1) or the radical-forming compound (D-2) capable of producing the radical-containing compound (D-1) will be described.

【0015】熱可塑性ポリマー(A) 本発明で用いられる熱可塑性ポリマーは、ラジカル反応
でグラフト重合できるものであれば、特に限定されない
が、より高いグラフト効率で反応可能の点で、ポリオレ
フィン、ポリアミド、ポリエステル、ポリアセタール、
ポリスチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレ
ン共重合体(ABS)、ポリメタクリレート、ポリカー
ボネート、ポリフェニレンオキサイド、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニルおよびエチレ
ン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、ジエン系ゴ
ムからなる群より選ばれる少なくとも1種の熱可塑性ポ
リマーが好ましく、特にポリオレフィン、ポリエステ
ル、ポリアミド、ポリスチレン、ジエン系ゴムが好まし
い。
Thermoplastic Polymer (A) The thermoplastic polymer used in the present invention is not particularly limited as long as it can be graft-polymerized by a radical reaction. Polyester, polyacetal,
From polystyrene, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS), polymethacrylate, polycarbonate, polyphenylene oxide, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl acetate and ethylene- (meth) acrylate copolymer, diene rubber At least one type of thermoplastic polymer selected from the group consisting of polyolefins, polyesters, polyamides, polystyrenes, and diene rubbers is particularly preferable.

【0016】ポリオレフィンとしては、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリ-1-ブテン、ポリメチルペンテ
ン、ポリメチルブテンなどのオレフィン単独重合体、エ
チレン-α-オレフィンランダム共重合体、プロピレン-
エチレンランダム共重合体、エチレン-プロピレン-ジエ
ン三元共重合体などのオレフィン共重合体を挙げること
ができる。これらの中ではポリエチレン、ポリプロピレ
ン、エチレン-α-オレフィンランダム共重合体、エチレ
ン-プロピレン-ジエン三元共重合体が好ましい。なお、
ポリオレフィンが炭素原子数3以上のオレフィンから得
られるポリオレフィンである場合には、アイソタクチッ
ク重合体であっても、シンジオタクチック重合体であっ
ても、また、アタクチック重合体であってもよい。ま
た、これらのポリオレフィンは、チーグラー・ナッタ型
触媒またはメタロセン触媒のいずれの触媒の存在下で製
造されたものも使用することが出来る。
Polyolefins include polyethylene,
Olefin homopolymer such as polypropylene, poly-1-butene, polymethylpentene, polymethylbutene, ethylene-α-olefin random copolymer, propylene-
Olefin copolymers such as an ethylene random copolymer and an ethylene-propylene-diene terpolymer can be mentioned. Among them, polyethylene, polypropylene, ethylene-α-olefin random copolymer, and ethylene-propylene-diene terpolymer are preferred. In addition,
When the polyolefin is a polyolefin obtained from an olefin having 3 or more carbon atoms, it may be an isotactic polymer, a syndiotactic polymer, or an atactic polymer. As these polyolefins, those produced in the presence of either a Ziegler-Natta type catalyst or a metallocene catalyst can be used.

【0017】ポリアミドとしては、ナイロン6、ナイロ
ン66、ナイロン10、ナイロン12、ナイロン46等
の脂肪族ポリアミド、芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジア
ミンより製造される芳香族ポリアミドなどを挙げること
ができ、これらの中ではナイロン6が好ましい。
Examples of the polyamide include aliphatic polyamides such as nylon 6, nylon 66, nylon 10, nylon 12, and nylon 46, and aromatic polyamides prepared from aromatic dicarboxylic acids and aliphatic diamines. Among them, nylon 6 is preferable.

【0018】ポリエステルとしては、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレン
テレフタレートなどの芳香族系ポリエステル、ポリカプ
ロラクトン、ポリヒドロキシブチレートなどを挙げるこ
とができ、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。
Examples of the polyester include aromatic polyesters such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polybutylene terephthalate, polycaprolactone, and polyhydroxybutyrate, and polyethylene terephthalate is preferred.

【0019】ポリアセタールとしては、ポリホルムアル
デヒド(ポリオキシメチレン)、ポリアセトアルデヒ
ド、ポリプロピオンアルデヒド、ポリブチルアルデヒド
などを挙げることができ、これらの中ではポリホルムア
ルデヒドが好ましい。
Examples of the polyacetal include polyformaldehyde (polyoxymethylene), polyacetaldehyde, polypropionaldehyde, polybutyraldehyde, and the like. Of these, polyformaldehyde is preferred.

【0020】ポリスチレンは、スチレンの単独重合体で
あっても、スチレンとアクリロニトリル、メタクリル酸
メチル、α−メチルスチレンなどとの二元共重合体、た
とえばアクリロニトリル-スチレン共重合体等であって
もよい。
The polystyrene may be a homopolymer of styrene or a binary copolymer of styrene with acrylonitrile, methyl methacrylate, α-methylstyrene, etc., for example, an acrylonitrile-styrene copolymer. .

【0021】ABSとしては、アクリロニトリルから誘
導される構成単位を20〜35モル%の量で含有し、ブ
タジエンから誘導される構成単位を20〜30モル%の
量で含有し、スチレンから誘導される構成単位を40〜
60モル%の量で含有するものが好ましく用いられる。
The ABS contains a structural unit derived from acrylonitrile in an amount of 20 to 35 mol%, a structural unit derived from butadiene in an amount of 20 to 30 mol%, and is derived from styrene. Structural unit 40 ~
Those containing in an amount of 60 mol% are preferably used.

【0022】ポリメタクリレートとしては、ポリメチル
メタクリレート(PMMA)が好ましい。ポリカーボネ
ートとしては、ビス(4-ヒドロキシフェニル)メタン、
1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)エタン、2,2-ビス
(4-ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-ヒド
ロキシフェニル)ブタンなどから得られるものを挙げる
ことができ、これらの中では2,2-ビス(4-ヒドロキシフ
ェニル)プロパンから得られるポリカーボネートが好ま
しい。
As the polymethacrylate, polymethyl methacrylate (PMMA) is preferable. As polycarbonate, bis (4-hydroxyphenyl) methane,
Examples thereof include those obtained from 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butane, and the like. Among them, polycarbonate obtained from 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane is preferable.

【0023】ポリフェニレンオキシドとしては、ポリ
(2,6-ジメチル-1,4-フェニレンオキシド)が好まし
い。ポリ塩化ビニルは、塩化ビニルの単独重合体であっ
てもよく、塩化ビニリデン、アクリル酸エステル、アク
リロニトリル、プロピレンなどとの共重合体であっても
よい。ポリ塩化ビニリデンは、通常塩化ビニリデン単位
を85%以上含む、塩化ビニル、アクリロニトリル、
(メタ)アクリル酸エステル、アリルエステル、不飽和
エーテル、スチレンなどとの共重合体が用いられる。
As the polyphenylene oxide, poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene oxide) is preferable. The polyvinyl chloride may be a homopolymer of vinyl chloride or a copolymer with vinylidene chloride, acrylate, acrylonitrile, propylene, or the like. Polyvinylidene chloride is usually composed of vinyl chloride, acrylonitrile,
Copolymers with (meth) acrylates, allyl esters, unsaturated ethers, styrene and the like are used.

【0024】ポリ酢酸ビニルは、酢酸ビニルの単独重合
体であってもよく、エチレン、塩化ビニルとの共重合体
であってもよい。これらのうち、エチレン−酢酸ビニル
共重合体が好ましい。エチレン−(メタ)アクリル酸エ
ステル共重合体としては、エチレン−メチルアクリレー
ト共重合体、エチレン−エチルアクリレート共重合体、
エチレン−メチルメタクリレート共重合体、エチレン−
エチルメタクリレート共重合体が好ましい。
The polyvinyl acetate may be a homopolymer of vinyl acetate or a copolymer of ethylene and vinyl chloride. Of these, an ethylene-vinyl acetate copolymer is preferred. As the ethylene- (meth) acrylate copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer,
Ethylene-methyl methacrylate copolymer, ethylene-
Ethyl methacrylate copolymer is preferred.

【0025】ジエン系ゴムとしては、ポリブタジエン、
ポリイソプレンまたはSBR(スチレン−ブタジエンゴ
ム)としても知られるエラストマー型のスチレン−ブタ
ジエンコポリマーのような共役ポリジエンを挙げること
ができる。
Examples of the diene rubber include polybutadiene,
Mention may be made of conjugated polydienes such as polyisoprene or elastomeric styrene-butadiene copolymers, also known as SBR (styrene-butadiene rubber).

【0026】上記のような熱可塑性ポリマーは、1種単
独でまたは2種以上組合わせて用いることができる。こ
れらの熱可塑性ポリマーの中では、ポリオレフィン、ポ
リエステル、ポリアミド、ポリスチレン、ジエン系ゴム
などを好ましく挙げることができ、さらにはポリオレフ
ィンを用いることが、より好ましい。
The above-mentioned thermoplastic polymers can be used alone or in combination of two or more. Among these thermoplastic polymers, polyolefins, polyesters, polyamides, polystyrenes, diene rubbers and the like can be preferably mentioned, and it is more preferable to use polyolefins.

【0027】ラジカル重合性モノマー(B) 本発明で用いられるラジカル重合性モノマー(B)は、
分子中にラジカル重合可能な二重結合を少なくとも一つ
含有するモノマーであれば、特に限定されないが、より
高いグラフト効率で反応が可能である理由から、水酸基
含有エチレン性不飽和化合物、アミノ基含有エチレン性
不飽和化合物、エポキシ基含有エチレン性不飽和化合
物、芳香族ビニル化合物、不飽和カルボン酸およびその
誘導体、ビニルエステル化合物、ニトリル基含有不飽和
化合物、塩化ビニルからなる群より選ばれる少なくとも
1種が好ましい。
Radical polymerizable monomer (B) The radical polymerizable monomer (B) used in the present invention comprises:
It is not particularly limited as long as it is a monomer containing at least one double bond capable of radical polymerization in the molecule, but a hydroxyl group-containing ethylenically unsaturated compound and an amino group-containing compound can be used because the reaction can be performed with higher grafting efficiency. At least one selected from the group consisting of ethylenically unsaturated compounds, epoxy group-containing ethylenically unsaturated compounds, aromatic vinyl compounds, unsaturated carboxylic acids and derivatives thereof, vinyl ester compounds, nitrile group-containing unsaturated compounds, and vinyl chloride Is preferred.

【0028】水酸基含有エチレン性不飽和化合物として
は、具体的には、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-ヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ
-3-フェノキシ−プロピル(メタ)アクリレート、3-ク
ロロ-2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グ
リセリンモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト
ールモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパ
ンモノ(メタ)アクリレート、テトラメチロールエタン
モノ(メタ)アクリレート、ブタンジオールモノ(メ
タ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メ
タ)アクリレート、2−(6-ヒドロキシヘキサノイルオキ
シ)エチルアクリレートなどの(メタ)アクリル酸エス
テル;10-ウンデセン-1-オール、1-オクテン-3-オー
ル、2-メタノールノルボルネン、ヒドロキシスチレン、
ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビ
ニルエーテル、N-メチロールアクリルアミド、2-(メ
タ)アクロイルオキシエチルアシッドフォスフェート、
グリセリンモノアリルエーテル、アリルアルコール、ア
リロキシエタノール、2-ブテン-1,4-ジオール、グリセ
リンモノアルコールなどが挙げられる。
Specific examples of the hydroxyl group-containing ethylenically unsaturated compound include hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate.
-3-phenoxy-propyl (meth) acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycerin mono (meth) acrylate, pentaerythritol mono (meth) acrylate, trimethylolpropane mono (meth) acrylate, tetramethylol (Meth) acrylic acid esters such as ethane mono (meth) acrylate, butanediol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate and 2- (6-hydroxyhexanoyloxy) ethyl acrylate; 10-undecene-1- All, 1-octen-3-ol, 2-methanol norbornene, hydroxystyrene,
Hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, N-methylolacrylamide, 2- (meth) acryloyloxyethyl acid phosphate,
Glycerin monoallyl ether, allyl alcohol, allyloxyethanol, 2-butene-1,4-diol, glycerin monoalcohol and the like can be mentioned.

【0029】アミノ基含有エチレン性不飽和化合物は、
エチレン性二重結合とアミノ基とを有する化合物であ
り、このような化合物としては、下記式(V)で表され
るアミノ基および置換アミノ基を少なくとも1種類有す
るビニル系単量体を挙げることができる。
The amino group-containing ethylenically unsaturated compound is
A compound having an ethylenic double bond and an amino group. Examples of such a compound include a vinyl monomer having at least one kind of an amino group and a substituted amino group represented by the following formula (V). Can be.

【化9】 (上式中、R11は水素原子、メチル基またはエチル基を
示し、R12は、水素原子、炭素原子数が1〜12、好ま
しくは1〜8のアルキル基または炭素原子数が6〜1
2、好ましくは6〜8のシクロアルキル基を示し、ま
た、上記のアルキル基、シクロアルキル基は、さらに置
換基を有してもよい。)
Embedded image (In the above formula, R 11 represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and R 12 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12, preferably 1 to 8 carbon atoms, or a carbon atom having 6 to 1 carbon atoms.
It shows 2, preferably 6 to 8 cycloalkyl groups, and the above-mentioned alkyl groups and cycloalkyl groups may further have a substituent. )

【0030】このようなアミノ基含有エチレン性不飽和
化合物としては、具体的には、(メタ)アクリル酸アミ
ノエチル、(メタ)アクリル酸プロピルアミノエチル、
メタクリル酸ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル
酸アミノプロピル、メタクリル酸フェニルアミノエチル
およびメタクリル酸シクロヘキシルアミノエチルなどの
アクリル酸またはメタクリル酸のアルキルエステル系誘
導体類;N-ビニルジエチルアミンおよびN-アセチルビニ
ルアミンなどのビニルアミン系誘導体類;アリルアミ
ン、メタクリルアミン、N-メチルアクリルアミン、N,N-
ジメチルアクリルアミド、およびN,N-ジメチルアミノプ
ロピルアクリルアミドなどのアリルアミン系誘導体;ア
クリルアミドおよびN-メチルアクリルアミドなどのアク
リルアミド系誘導体;p-アミノスチレンなどのアミノス
チレン類;6-アミノヘキシルコハク酸イミド、2-アミノ
エチルコハク酸イミドなどが用いられる。
Specific examples of such an amino group-containing ethylenically unsaturated compound include aminoethyl (meth) acrylate, propylaminoethyl (meth) acrylate,
Alkyl ester derivatives of acrylic acid or methacrylic acid such as dimethylaminoethyl methacrylate, aminopropyl (meth) acrylate, phenylaminoethyl methacrylate and cyclohexylaminoethyl methacrylate; N-vinyldiethylamine and N-acetylvinylamine Vinylamine derivatives: allylamine, methacrylamine, N-methylacrylamine, N, N-
Allylamine derivatives such as dimethylacrylamide and N, N-dimethylaminopropylacrylamide; acrylamide derivatives such as acrylamide and N-methylacrylamide; aminostyrenes such as p-aminostyrene; 6-aminohexylsuccinimide; Aminoethyl succinimide and the like are used.

【0031】エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物
は、1分子中に重合可能な不飽和結合およびエポキシ基
を少なくとも1個以上有する化合物であり、このような
エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物としては、具体
的には、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリ
レート、マレイン酸のモノおよびジグリシジルエステ
ル、フマル酸のモノおよびジグリシジルエステル、クロ
トン酸のモノおよびジグリシジルエステル、テトラヒド
ロフタル酸のモノおよびジグリシジルエステル、イタコ
ン酸のモノおよびグリシジルエステル、ブテントリカル
ボン酸のモノおよびジグリシジルエステル、シトラコン
酸のモノおよびジグリシジルエステル、エンド-シス-ビ
シクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボン酸(ナ
ジック酸TM)のモノおよびジグリシジルエステル、エン
ド-シス-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-エン-2-メチル-2,
3-ジカルボン酸(メチルナジック酸TM)のモノおよびジ
グリシジルエステル、アリルコハク酸のモノおよびグリ
シジルエステルなどのジカルボン酸モノおよびアルキル
グリシジルエステル(モノグリシジルエステルの場合の
アルキル基の炭素原子数1〜12)、p-スチレンカルボ
ン酸のアルキルグリシジルエステル、アリルグリシジル
エーテル、2-メチルアリルグリシジルエーテル、スチレ
ン-p-グリシジルエーテル、3,4-エポキシ-1-ブテン、3,
4-エポキシ-3-メチル-1-ブテン、3,4-エポキシ-1-ペン
テン、3,4-エポキシ-3-メチル-1-ペンテン、5,6-エポキ
シ-1-ヘキセン、ビニルシクロヘキセンモノオキシドな
どを例示することができる。
The epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound is a compound having at least one polymerizable unsaturated bond and at least one epoxy group in one molecule. Examples of such an epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound include: Specifically, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, mono and di glycidyl esters of maleic acid, mono and di glycidyl esters of fumaric acid, mono and di glycidyl esters of crotonic acid, mono and di glycidyl esters of tetrahydrophthalic acid, itaconic acid Mono- and glycidyl esters of butenetricarboxylic acid, mono- and diglycidyl esters of citraconic acid, endo-cis-bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboxylic acid (nadic acid mono- and di TM) Glycidyl esters, end - cis - bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2-methyl-2,
3-dicarboxylic acid mono and diglycidyl esters, (1 to 12 carbon atoms in the alkyl group in the case of monoglycidyl ester) dicarboxylic acid mono and alkyl glycidyl esters, such as mono- and glycidyl esters of allyl succinic acid (methylnadic acid TM) , Alkyl glycidyl ester of p-styrenecarboxylic acid, allyl glycidyl ether, 2-methylallyl glycidyl ether, styrene-p-glycidyl ether, 3,4-epoxy-1-butene, 3,
4-epoxy-3-methyl-1-butene, 3,4-epoxy-1-pentene, 3,4-epoxy-3-methyl-1-pentene, 5,6-epoxy-1-hexene, vinylcyclohexene monoxide And the like.

【0032】芳香族ビニル化合物としては、下記式(V
I)で表される化合物が挙げられる。
As the aromatic vinyl compound, the following formula (V
Compounds represented by I) are mentioned.

【化10】 (上式において、R13およびR14は、互いに同一でも異
なっていてもよく、水素原子または炭素原子数が1〜3
のアルキル基を示し、R15は炭素原子数が1〜3の炭化
水素基またはハロゲン原子を示し、nは0〜5の整数で
ある。)
Embedded image (In the above formula, R 13 and R 14 may be the same or different from each other, and have a hydrogen atom or a carbon atom number of 1 to 3.
R 15 represents a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms or a halogen atom, and n is an integer of 0 to 5. )

【0033】R13およびR14のアルキル基としての具体
例は、メチル基、エチル基、プロピル基およびイソプロ
ピル基を挙げることができる。また、R15の具体例とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基およびイソプロ
ピル基、並びに塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子な
どを挙げることができる。また、nは、通常0〜5の整
数であり、好ましくは1〜5の整数である。
Specific examples of the alkyl group of R 13 and R 14 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and an isopropyl group. Further, specific examples of R 15 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and an isopropyl group, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. N is usually an integer of 0 to 5, preferably an integer of 1 to 5.

【0034】このような芳香族ビニル化合物の具体的な
例としては、スチレン、α−メチルスチレン、o-メチル
スチレン、p-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-ク
ロロスチレン、m-クロロスチレンおよびp-クロロメチル
スチレン、4-ビニルピリジン、2-ビニルピリジン、5-エ
チル-2-ビニルピリジン、2-メチル-5-ビニルピリジン、
2-イソプロペニルピリジン、2-ビニルキノリン、3-ビニ
ルイソキノリン、N-ビニルカルバゾール、N-ビニルピロ
リドンなどを挙げることができる。
Specific examples of such aromatic vinyl compounds include styrene, α-methylstyrene, o-methylstyrene, p-methylstyrene, m-methylstyrene, p-chlorostyrene, m-chlorostyrene and p-chloromethylstyrene, 4-vinylpyridine, 2-vinylpyridine, 5-ethyl-2-vinylpyridine, 2-methyl-5-vinylpyridine,
Examples thereof include 2-isopropenylpyridine, 2-vinylquinoline, 3-vinylisoquinoline, N-vinylcarbazole, and N-vinylpyrrolidone.

【0035】不飽和カルボン酸としては、アクリル酸、
メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、テトラヒドロフ
タル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、イソ
クロトン酸、ノルボルネンジカルボン酸、ビシクロ[2,
2,1]ヘプト-2-エン-5,6-ジカルボン酸などの不飽和カ
ルボン酸、またはこれらの酸無水物あるいはこれらの誘
導体(例えば酸ハライド、アミド、イミド、エステルな
ど)が挙げられる。
As unsaturated carboxylic acids, acrylic acid,
Methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, tetrahydrophthalic acid, itaconic acid, citraconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, norbornene dicarboxylic acid, bicyclo [2,
2,1] unsaturated carboxylic acids such as hept-2-ene-5,6-dicarboxylic acid, or acid anhydrides or derivatives thereof (eg, acid halides, amides, imides, esters, etc.).

【0036】具体的な化合物の例としては、塩化マレニ
ル、マレニルイミド、無水マレイン酸、無水イタコン
酸、無水シトラコン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ビ
シクロ[2,2,1]ヘプト-2-エン-5,6-ジカルボン酸無水
物、マレイン酸ジメチル、マレイン酸モノメチル、マレ
イン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジメチ
ル、シトラコン酸ジエチル、テトラヒドロフタル酸ジメ
チル、ビシクロ[2,2,1]ヘプト-2-エン-5,6-ジカルボ
ン酸ジメチル、アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリ
ル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、
アクリル酸−2−エチルヘキシル、塩化アクリロイル、
アクリルアミド、メタクリル酸、メタクリル酸メチル、
メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリ
ル酸ブチル、メタクリル酸−2−エチルヘキシル、塩化
メタクリロイル、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グリシ
ジル(メタ)アクリレート、メタクリル酸アミノエチル
およびメタクリル酸アミノプロピル、アクリル酸テトラ
ヒドロフルフリル、メタクリル酸テトラヒドロフルフリ
ルなどを挙げることができる。これらの中では、アクリ
ル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリ
ル酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、アク
リルアミド、メタクリルアミド、無水マレイン酸、ヒド
ロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリ
レート、グリシジルメタクリレート、メタクリル酸アミ
ノプロピル、アクリル酸テトラヒドロフルフリル、メタ
クリル酸テトラヒドロフルフリルが好ましい。
Examples of specific compounds include maleenyl chloride, maleenyl imide, maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, bicyclo [2,2,1] hept-2-ene-5, 6-dicarboxylic anhydride, dimethyl maleate, monomethyl maleate, diethyl maleate, diethyl fumarate, dimethyl itaconate, diethyl citrate, dimethyl tetrahydrophthalate, bicyclo [2,2,1] hept-2-ene- 5,6-dicarboxylic acid dimethyl, acrylic acid, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate,
2-ethylhexyl acrylate, acryloyl chloride,
Acrylamide, methacrylic acid, methyl methacrylate,
Ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, methacryloyl chloride, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, aminoethyl methacrylate and amino methacrylate Examples thereof include propyl, tetrahydrofurfuryl acrylate, and tetrahydrofurfuryl methacrylate. Among these, acrylic acid, methyl acrylate, ethyl acrylate, methacrylic acid, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, acrylamide, methacrylamide, maleic anhydride, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, amino methacrylate Propyl, tetrahydrofurfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate are preferred.

【0037】ビニルエステル化合物の例としては、酢酸
ビニル、プロピオン酸ビニル、n-酪酸ビニル、イソ酪酸
ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、バーサ
ティック酸ビニル、ラウリル酸ビニル、ステアリン酸ビ
ニル、安息香酸ビニル、p-t-ブチル安息香酸ビニル、サ
リチル酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニルなど
を挙げることができる。
Examples of vinyl ester compounds include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl n-butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl pivalate, vinyl caproate, vinyl versatate, vinyl laurate, vinyl stearate, and benzoic acid. Vinyl, vinyl pt-butyl benzoate, vinyl salicylate, vinyl cyclohexanecarboxylate and the like can be mentioned.

【0038】ニトリル基含有不飽和化合物の例として
は、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、フマロニ
トリル、アリルシアニド、シアノエチルアクリレート等
を挙げることができる。
Examples of the nitrile group-containing unsaturated compound include acrylonitrile, methacrylonitrile, fumaronitrile, allyl cyanide, cyanoethyl acrylate and the like.

【0039】上記例示したラジカル重合性モノマー
(B)の中でも、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、(メ
タ)アクリル酸アミノエチル、(メタ)アクリル酸プロピ
ルアミノエチル、グリシジル(メタ)アクリレート、スチ
レン、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸メチル、
(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸テトラヒド
ロフルフリル、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロ
ニトリルを用いることが好ましい。
Among the radically polymerizable monomers (B) exemplified above, hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, aminoethyl (meth) acrylate, propylaminoethyl (meth) acrylate, glycidyl (Meth) acrylate, styrene, (meth) acrylic acid, methyl (meth) acrylate,
It is preferable to use ethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, and (meth) acrylonitrile.

【0040】上記ラジカル重合性モノマー(B)は、熱
可塑性ポリマー(A)100重量部に対して、通常、
0.1〜100重量部、好ましくは0.5〜80重量
部、さらに好ましくは1〜50重量部の量で使用され
る。
The above radical polymerizable monomer (B) is usually added to 100 parts by weight of the thermoplastic polymer (A).
It is used in an amount of 0.1 to 100 parts by weight, preferably 0.5 to 80 parts by weight, more preferably 1 to 50 parts by weight.

【0041】ラジカル開始剤(C) 本発明で使用されるラジカル開始剤(C)としては、た
とえば有機過酸化物あるいはアゾ化合物などを挙げるこ
とができる。有機過酸化物の具体的な例としては、ジク
ミルパーオキサイド〔2〕、ジ-t-ブチルパーオキサイド
〔2〕、2,5-ジメチル-2,5-ビス(t-ブチルパーオキシ)ヘ
キサン〔4〕、2,5-ジメチル-2,5-ビス(t-ブチルパーオ
キシ)ヘキシン-3〔4〕、1,3-ビス(t-ブチルパーオキシ
イソプロピル)ベンゼン〔4〕、1,1-ビス(t-ブチルパー
オキシ)バラレート〔4〕、ベンゾイルパーオキサイド
〔2〕、t-ブチルパーオキシベンゾエート〔2〕、アセチ
ルパーオキサイド〔2〕、イソブチリルパーオキサイド
〔2〕、オクタノイルパーオキサイド〔2〕、デカノイル
パーオキサイド〔2〕、ラウロイルパーオキサイド
〔2〕、3,5,5-トリメチルヘキサノイルパーオキサイド
〔2〕および2,4-ジクロロベンゾイルパーオキサイド
〔2〕、m-トルイルパーオキサイド〔2〕などを挙げるこ
とができる。また、アゾ化合物としてはアゾイソブチロ
ニトリル〔2〕、ジメチルアゾイソブチロニトリル〔2〕
などを挙げることができる。ここで上記の有機過酸化物
の具体例に付記した〔 〕内の数字は、化合物1モルか
ら発生し得るラジカルの理論モル数である。本発明で使
用されるラジカル開始剤(C)において発生し得るラジ
カルの理論モル数とは、有機過酸化物の場合、化合物1
モル当たりに存在する、−O−O−基のモル数を2倍し
たものである。また、アゾ化合物の場合、化合物1モル
当たりに存在する、−N=N−基のモル数を2倍したも
のである。
Radical initiator (C) Examples of the radical initiator (C) used in the present invention include organic peroxides and azo compounds. Specific examples of organic peroxides include dicumyl peroxide [2], di-t-butyl peroxide [2], 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexane (4), 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexyne-3 [4], 1,3-bis (t-butylperoxyisopropyl) benzene [4], 1,1 -Bis (t-butylperoxy) baralate [4], benzoyl peroxide [2], t-butylperoxybenzoate [2], acetyl peroxide [2], isobutyryl peroxide [2], octanoyl peroxide [2], decanoyl peroxide [2], lauroyl peroxide [2], 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide [2] and 2,4-dichlorobenzoyl peroxide [2], m-toluylperoxide Oxide [2] and the like can be mentioned. As the azo compound, azoisobutyronitrile [2], dimethylazoisobutyronitrile [2]
And the like. Here, the numbers in the brackets [] added to the specific examples of the above-mentioned organic peroxides are the theoretical moles of radicals that can be generated from 1 mole of the compound. The theoretical number of moles of a radical that can be generated in the radical initiator (C) used in the present invention is, in the case of an organic peroxide, a compound 1
This is twice the number of moles of -OO- groups present per mole. In the case of an azo compound, the number of moles of -N = N- groups present per mole of the compound is doubled.

【0042】このようなラジカル開始剤(C)は、前記
熱可塑性ポリマー(A)100重量部に対して、通常、
0.001〜10重量部、好ましくは0.005〜8重
量部、さらに好ましくは0.01〜5重量部の量で使用
することが望ましい。
Such a radical initiator (C) is usually used with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic polymer (A).
It is desirable to use 0.001 to 10 parts by weight, preferably 0.005 to 8 parts by weight, more preferably 0.01 to 5 parts by weight.

【0043】ラジカル開始剤(C)は、そのまま熱可塑
性ポリマー(A)、およびラジカルを含有する化合物
(D−1)、または該ラジカルを含有する化合物(D−
1)を発生し得る化合物(D−2)に混合して使用する
こともできるし、また、少量の有機溶媒に溶解して使用
することもできる。ここで使用される有機溶媒として
は、ラジカル開始剤を溶解し得る有機溶媒であれば特に
限定されることなく使用することができる。
As the radical initiator (C), the thermoplastic polymer (A) and the radical-containing compound (D-1) or the radical-containing compound (D-
The compound (1) can be used as a mixture with the compound (D-2) which can generate the compound, or can be used by dissolving it in a small amount of an organic solvent. As the organic solvent used here, any organic solvent that can dissolve the radical initiator can be used without particular limitation.

【0044】このような有機溶媒としては、ベンゼン、
トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素溶媒;ペ
ンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナンおよび
デカンなどの脂肪族炭化水素系溶媒;シクロヘキサン、
メチルシクロヘキサンおよびデカヒドロナフタレンのよ
うなの脂環族炭化水素系溶媒;クロルベンゼン、ジクロ
ルベンゼン、トリクロルベンゼン、塩化メチレン、クロ
ロホルム、四塩化炭素およびテトラクロルエチレンなど
の塩素化炭化水素;メタノール、エタノール、n-プロピ
ノール、iso-プロパノール、n-ブタノール、sec-ブタノ
ールおよびtert-ブタノールなどのアルコール系溶媒;
アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチル
ケトンなどのケトン系溶媒;酢酸エチルおよびジメチル
フタレートなどのエステル系溶媒;ジメチルエーテル、
ジエチルエーテル、ジ-n-アミルエーテル、テトラヒド
ロフランおよびジオキシアニソールのようなエーテル系
溶媒を挙げることができる。
As such an organic solvent, benzene,
Aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane, octane, nonane and decane; cyclohexane,
Alicyclic hydrocarbon solvents such as methylcyclohexane and decahydronaphthalene; chlorinated hydrocarbons such as chlorobenzene, dichlorobenzene, trichlorobenzene, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride and tetrachloroethylene; methanol, ethanol, alcoholic solvents such as n-propynol, iso-propanol, n-butanol, sec-butanol and tert-butanol;
Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; ester solvents such as ethyl acetate and dimethyl phthalate; dimethyl ether;
Examples include ether solvents such as diethyl ether, di-n-amyl ether, tetrahydrofuran and dioxyanisole.

【0045】ラジカル含有化合物(D−1) 本発明で用いられるラジカル含有化合物(D−1)は、
酸素、窒素、リン、イオウ、炭素、ケイ素のラジカルを
含有する化合物である。これらの化合物は室温で安定な
ラジカルを含有するものであると好ましい。
Radical-containing compound (D-1) The radical-containing compound (D-1) used in the present invention is:
It is a compound containing radicals of oxygen, nitrogen, phosphorus, sulfur, carbon and silicon. These compounds preferably contain a radical which is stable at room temperature.

【0046】また、本発明のグラフト重合反応では、こ
れらのラジカル含有化合物が、反応系においてポリマー
の分解・架橋反応などの副反応を誘因するラジカルを捕
捉するなど、その様なラジカルに何らかの作用をする結
果、副反応を抑制しながら高い効率でグラフト重合でき
るものと推定される。従ってこれらの化合物は反応系で
発生するラジカルを捕捉可能なものであることが好まし
い。
Further, in the graft polymerization reaction of the present invention, these radical-containing compounds have some effect on such radicals, such as capturing radicals that induce side reactions such as polymer decomposition and cross-linking reactions in the reaction system. As a result, it is estimated that graft polymerization can be performed with high efficiency while suppressing side reactions. Therefore, it is preferable that these compounds can capture radicals generated in the reaction system.

【0047】本発明のラジカル含有化合物(D−1)と
しては、酸素、窒素、リン、イオウのラジカルを含有す
る化合物を好ましく挙げることが出来、特に、酸素ラジ
カルを含有する化合物が好ましく、例えば、下記一般式
(I)で表される化合物を挙げることができる。
Preferred examples of the radical-containing compound (D-1) of the present invention include compounds containing radicals of oxygen, nitrogen, phosphorus and sulfur. In particular, compounds containing oxygen radicals are preferred. The compound represented by the following general formula (I) can be mentioned.

【化11】 (式中、Zは窒素、イオウまたはリンを示し、Xは任意
の置換基を示し、nはZの価数を満たす1〜4の整数で
ある。)
Embedded image (Wherein, Z represents nitrogen, sulfur or phosphorus, X represents an optional substituent, and n is an integer of 1 to 4 that satisfies the valence of Z.)

【0048】一般式(I)の置換基Xとしては、互いに
同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原
子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、
窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有
基、またはケイ素含有基であってよく、これらのうちの
2個以上が互いに連結して環を形成していてもよい。
The substituents X in the general formula (I) may be the same or different from each other and include a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, a heterocyclic compound residue, an oxygen-containing group,
It may be a nitrogen-containing group, a boron-containing group, a sulfur-containing group, a phosphorus-containing group, or a silicon-containing group, and two or more of these may be linked to each other to form a ring.

【0049】ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素が挙げられる。炭化水素基として具体的に
は、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブ
チル、イソブチル、sec-ブチル、 tert-ブチル、ネオペ
ンチル、n-ヘキシルなどの炭素原子数が1〜30、好ま
しくは1〜20の直鎖状または分岐状のアルキル基;ビ
ニル、アリル、イソプロペニルなどの炭素原子数が2〜
30、好ましくは2〜20の直鎖状または分岐状のアル
ケニル基;エチニル、プロパルギルなど炭素原子数が2
〜30、好ましくは2〜20の直鎖状または分岐状のア
ルキニル基;シクロプロピル、シクロブチル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子
数が3〜30、好ましくは3〜20の環状飽和炭化水素
基;シクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニル
などの炭素数5〜30の環状不飽和炭化水素基;フェニ
ル、ベンジル、ナフチル、ビフェニル、ターフェニル、
フェナントリル、アントラセニルなどの炭素原子数が6
〜30、好ましくは6〜20のアリール基;などが挙げ
られる。
The halogen atom includes fluorine, chlorine, bromine and iodine. Specific examples of the hydrocarbon group include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, neopentyl, and n-hexyl having 1 to 30 carbon atoms, preferably A linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, such as vinyl, allyl, and isopropenyl;
30, preferably 2 to 20 linear or branched alkenyl groups; ethynyl, propargyl and the like having 2 carbon atoms
A linear or branched alkynyl group having a carbon number of 3 to 30, preferably 2 to 20; a cyclic saturated hydrocarbon group having a carbon number of 3 to 30, preferably 3 to 20, such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl and adamantyl. A cyclic unsaturated hydrocarbon group having 5 to 30 carbon atoms such as cyclopentadienyl, indenyl and fluorenyl; phenyl, benzyl, naphthyl, biphenyl, terphenyl,
6 carbon atoms such as phenanthryl and anthracenyl
To 30, preferably 6 to 20 aryl groups;

【0050】上記炭化水素基は、水素原子がハロゲンで
置換されていてもよく、たとえば、トリフルオロメチ
ル、ペンタフルオロフェニル、クロロフェニルなどの炭
素原子数1〜30、好ましくは1〜20のハロゲン化炭
化水素基が挙げられる。
The above-mentioned hydrocarbon group may have a hydrogen atom substituted by a halogen atom. For example, a halogenated carbon atom having 1 to 30 carbon atoms, preferably 1 to 20 carbon atoms such as trifluoromethyl, pentafluorophenyl and chlorophenyl. And a hydrogen group.

【0051】また、上記炭化水素基は、上述した他の炭
化水素基で置換されていてもよく、たとえば、ベンジ
ル、クミルなどのアリール基置換アルキル基、トリル、
iso-プロピルフェニル、t-ブチルフェニル、ジメチルフ
ェニル、ジ-t-ブチルフェニルなどのアルキル置換アリ
ール基、アリール基にアルコキシ基、アリール基または
アリーロキシ基などの置換基が置換した置換アリール基
などが挙げられる。上記炭化水素基は、さらにまた、後
述するヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有
基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素
含有基を含んでいてもよい。
The hydrocarbon group may be substituted with the other hydrocarbon groups described above, for example, an aryl-substituted alkyl group such as benzyl and cumyl, tolyl,
Examples include alkyl-substituted aryl groups such as iso-propylphenyl, t-butylphenyl, dimethylphenyl, and di-t-butylphenyl, and substituted aryl groups in which an aryl group is substituted with a substituent such as an alkoxy group, an aryl group, or an aryloxy group. Can be The hydrocarbon group may further include a heterocyclic compound residue, an oxygen-containing group, a nitrogen-containing group, a boron-containing group, a sulfur-containing group, a phosphorus-containing group, and a silicon-containing group described below.

【0052】特に好ましい炭化水素基は、これらのう
ち、特に、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピ
ル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、t-ブチル、ネ
オペンチル、n-ヘキシルなどの炭素原子数1〜30、好
ましくは1〜20の直鎖状または分岐状のアルキル基;
フェニル、ナフチル、ビフェニル、ターフェニル、フェ
ナントリル、アントラセニルなどの炭素原子数6〜3
0、好ましくは6〜20のアリール基;これらのアリー
ル基にハロゲン原子、炭素原子数1〜30、好ましくは
1〜20のアルキル基またはアルコキシ基、炭素原子数
6〜30、好ましくは6〜20のアリール基またはアリ
ーロキシ基などの置換基が1〜5個置換した置換アリー
ル基である。
Particularly preferred hydrocarbon groups are, among others, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, t-butyl, neopentyl, n-hexyl and the like. 1-30, preferably 1-20, linear or branched alkyl groups;
6 to 3 carbon atoms such as phenyl, naphthyl, biphenyl, terphenyl, phenanthryl and anthracenyl
0, preferably 6 to 20 aryl groups; these aryl groups include halogen atoms, alkyl groups or alkoxy groups having 1 to 30 carbon atoms, preferably 1 to 20 carbon atoms, and 6 to 30 carbon atoms, preferably 6 to 20 carbon atoms. Is a substituted aryl group in which 1 to 5 substituents such as an aryl group or an aryloxy group are substituted.

【0053】ヘテロ環式化合物残基としては、ピロー
ル、ピリジン、ピリミジン、キノリン、トリアジンなど
の含窒素化合物、フラン、ピランなどの含酸素化合物、
チオフェンなどの含硫黄化合物などの残基、およびこれ
らのヘテロ環式化合物残基に炭素原子数が1〜30、好
ましくは1〜20のアルキル基、アルコキシ基などの置
換基がさらに置換した基などが挙げられる。
Examples of the heterocyclic compound residue include nitrogen-containing compounds such as pyrrole, pyridine, pyrimidine, quinoline and triazine; oxygen-containing compounds such as furan and pyran;
Residues such as sulfur-containing compounds such as thiophene, and groups in which these heterocyclic compound residues are further substituted with a substituent such as an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 30, preferably 1 to 20 carbon atoms. Is mentioned.

【0054】酸素含有基としては、アルコシキ基、アリ
ーロキシ基、エステル基、アシル基、カルボキシル基、
カルボナート基、ヒドロキシ基、ペルオキシ基、カルボ
ン酸無水物基などを挙げることができる。これらのうち
アルコキシ基として、炭素数1ないし30のアルコキシ
基、具体的にはメトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イ
ソプロポキシ、n-ブトキシ、イソブトキシ、tert-ブト
キシなどが挙げられる。アリーロキシ基としては、炭素
数6ないし30のアリーロキシ基、具体的には、フェノ
キシ、2,6-ジメチルフェノキシ、2,4,6-トリメチルフェ
ノキシなどが挙げられる。エステル基としては、炭素数
1ないし30エステル基、具体的には、アセチルオキ
シ、ベンゾイルオキシ、メトキシカルボニル、フェノキ
シカルボニル、p-クロロフェノキシカルボニルなどが挙
げられる。アシル基としては、炭素数1ないし30のア
シル基、具体的には、ホルミル基、アセチル基、ベンゾ
イル基、p−クロロベンゾイル基、p-メトキシベンゾイ
ル基などが挙げられる。
Examples of the oxygen-containing group include an alkoxy group, an aryloxy group, an ester group, an acyl group, a carboxyl group,
Examples thereof include a carbonate group, a hydroxy group, a peroxy group, and a carboxylic anhydride group. Among them, the alkoxy group includes an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, specifically, methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, tert-butoxy and the like. As the aryloxy group, an aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms, specifically, phenoxy, 2,6-dimethylphenoxy, 2,4,6-trimethylphenoxy and the like can be mentioned. Examples of the ester group include an ester group having 1 to 30 carbon atoms, specifically, acetyloxy, benzoyloxy, methoxycarbonyl, phenoxycarbonyl, p-chlorophenoxycarbonyl and the like. Examples of the acyl group include an acyl group having 1 to 30 carbon atoms, specifically, a formyl group, an acetyl group, a benzoyl group, a p-chlorobenzoyl group, a p-methoxybenzoyl group, and the like.

【0055】窒素含有基としては、アミノ基、イミノ
基、アミド基、イミド基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ
基、ニトロ基、ニトロソ基、シアノ基、イソシアノ基、
シアン酸エステル基、アミジノ基、ジアゾ基、アミノ基
がアンモニウム塩となったものなどが挙げられる。これ
らのうちアミノ基としては、炭素数0ないし30の具体
的には、ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジフェ
ニルアミノなどが挙げられる。イミノ基としては、炭素
数1ないし30のイミノ基、具体的には、メチルイミ
ノ、エチルイミノ、プロピルイミノ、ブチルイミノ、フ
ェニルイミノなどが挙げられる。アミド基としては、炭
素数1ないし30のアミド基、具体的には、アセトアミ
ド、N-メチルアセトアミド、N-メチルベンズアミドなど
が挙げられる。イミド基としては、炭素数2ないし30
のイミド基、具体的には、アセトイミド、ベンズイミド
などが挙げられる。
Examples of the nitrogen-containing group include an amino group, an imino group, an amide group, an imide group, a hydrazino group, a hydrazono group, a nitro group, a nitroso group, a cyano group, an isocyano group,
Examples include those in which a cyanate ester group, an amidino group, a diazo group, and an amino group have become ammonium salts. Examples of the amino group include those having 0 to 30 carbon atoms, such as dimethylamino, ethylmethylamino, and diphenylamino. Examples of the imino group include an imino group having 1 to 30 carbon atoms, specifically, methylimino, ethylimino, propylimino, butylimino, phenylimino and the like. Examples of the amide group include an amide group having 1 to 30 carbon atoms, specifically, acetamido, N-methylacetamido, N-methylbenzamide, and the like. The imide group may have 2 to 30 carbon atoms.
Imide groups, specifically, acetoimide, benzimide and the like.

【0056】ホウ素含有基としては、ボランジイル基、
ボラントリイル基、ジボラニル基などを挙げられる。
As the boron-containing group, a borandiyl group,
Examples include a boranthryl group and a diboranyl group.

【0057】イオウ含有基としては、メルカプト基、チ
オエステル基、ジチオエステル基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、チオアシル基、チオエーテル基、チオシ
アン酸エステル基、イソチアン酸エステル基、スルホン
エステル基、スルホンアミド基、チオカルボキシル基、
ジチオカルボキシル基、スルホ基、スルホニル基、スル
フィニル基、スルフェニル基などを挙げられる。このう
ちチオエステル基としては、炭素数1ないし30のチオ
エステル基、具体的には、アセチルチオ、ベンゾイルチ
オ、メチルチオカルボニル、フェニルチオカルボニルな
どが挙げられる。アルキルチオ基としては、炭素数1な
いし30のアルキルチオ基、具体的には、メチルチオ、
エチルチオ等が挙げられる。スルホンアミド基として
は、炭素数0ないし30のスルホンアミド基、具体的に
は、フェニルスルホンアミド、N-メチルスルホンアミ
ド、N-メチル-p-トルエンスルホンアミドなどが挙げら
れる。アリールチオ基としては、炭素数6ないし30の
アリールチオ基、具体的には、フェニルチオ、メチルフ
ェニルチオ、ナフチルチオ等が挙げられる。スルホンエ
ステル基としては、炭素数1ないし30のスルホンエス
テル基、具体的には、スルホン酸メチル、スルホン酸エ
チル、スルホン酸フェニルなどが挙げられる。
Examples of the sulfur-containing group include a mercapto group, a thioester group, a dithioester group, an alkylthio group, an arylthio group, a thioacyl group, a thioether group, a thiocyanate ester group, an isothiocyanate ester group, a sulfone ester group, a sulfonamide group, and a thioamide group. Carboxyl group,
Examples include a dithiocarboxyl group, a sulfo group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, and a sulfenyl group. Among them, the thioester group includes a thioester group having 1 to 30 carbon atoms, specifically, acetylthio, benzoylthio, methylthiocarbonyl, phenylthiocarbonyl and the like. As the alkylthio group, an alkylthio group having 1 to 30 carbon atoms, specifically, methylthio,
Ethylthio and the like. Examples of the sulfonamide group include a sulfonamide group having 0 to 30 carbon atoms, specifically, phenylsulfonamide, N-methylsulfonamide, N-methyl-p-toluenesulfonamide and the like. Examples of the arylthio group include an arylthio group having 6 to 30 carbon atoms, specifically, phenylthio, methylphenylthio, naphthylthio and the like. Examples of the sulfone ester group include a sulfone ester group having 1 to 30 carbon atoms, specifically, methyl sulfonate, ethyl sulfonate, and phenyl sulfonate.

【0058】リン含有基としては、ホスフィド基、ホス
ホリル基、チオホスホリル基、ホスファト基などを挙げ
られる。
Examples of the phosphorus-containing group include a phosphide group, a phosphoryl group, a thiophosphoryl group and a phosphato group.

【0059】ケイ素含有基としては、シリル基、シロキ
シ基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基
など、具体的には、メチルシリル、ジメチルシリル、ト
リメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリ
エチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニル
シリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル-t-ブチル
シリル、ジメチル(ペンタフルオロフェニル)シリルな
どが挙げられる。これらの中では、メチルシリル、ジメ
チルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチ
ルシリル、トリエチルシリル、ジメチルフェニルシリ
ル、トリフェニルシリルなどが好ましい。特にトリメチ
ルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリル、ジ
メチルフェニルシリルが好ましい。炭化水素置換シロキ
シ基として具体的には、トリメチルシロキシなどが挙げ
られる。
Examples of the silicon-containing group include a silyl group, a siloxy group, a hydrocarbon-substituted silyl group, a hydrocarbon-substituted siloxy group, and the like. Silyl, triphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethyl-t-butylsilyl, dimethyl (pentafluorophenyl) silyl and the like. Among them, methylsilyl, dimethylsilyl, trimethylsilyl, ethylsilyl, diethylsilyl, triethylsilyl, dimethylphenylsilyl, triphenylsilyl and the like are preferable. Particularly, trimethylsilyl, triethylsilyl, triphenylsilyl and dimethylphenylsilyl are preferred. Specific examples of the hydrocarbon-substituted siloxy group include trimethylsiloxy.

【0060】一般式(I)の化合物の具体例としては例
えば下記のようなものを挙げることができるが、これら
に限定されるものではない。
Specific examples of the compound of the general formula (I) include, but are not limited to, the following.

【化12】 Embedded image

【0061】前記一般式(I)においてZを窒素原子と
するニトロキシドラジカル含有化合物としては、下記一
般式(II)、または(III)で表される化合物を挙げる
ことができる。
In the formula (I), examples of the nitroxide radical-containing compound having Z as a nitrogen atom include compounds represented by the following formula (II) or (III).

【化13】 (上式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6はそれぞれ独
立に、塩素、臭素などのハロゲン原子、炭素数1〜10
で直鎖または分岐鎖を有するか或いは環状の飽和または
不飽和炭化水素基、アリール基を表し、互いに同一でも
異なっていてもよく、またR1、R2、R3のうちの1つ
とR4、R5、R6のうちの1つとが連結して環状構造を
形成していてもよい。)
Embedded image (In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , and R 6 each independently represent a halogen atom such as chlorine or bromine;
Represents a linear or branched or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon group or an aryl group, which may be the same or different, and one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 , R 5 and R 6 may be linked to form a cyclic structure. )

【化14】 (上式中、R7、R8はそれぞれ独立に、塩素、臭素など
のハロゲン原子、炭素数1〜10で直鎖または分岐鎖を
有するか或いは環状の飽和または不飽和炭化水素基、ア
リール基を表し、互いに同一でも異なっていてもよく、
またR7とR8とが連結して環状構造を形成していてもよ
い。)
Embedded image (In the above formula, R 7 and R 8 are each independently a halogen atom such as chlorine or bromine, a linear or branched or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon group or an aryl group having 1 to 10 carbon atoms. Represents the same or different from each other,
R 7 and R 8 may be linked to form a cyclic structure. )

【0062】式(II)で表される化合物は、次に示す一
般式で表される化合物から選択することができる。
The compound represented by the formula (II) can be selected from the compounds represented by the following general formulas.

【化15】 Embedded image

【0063】上記式中、R1、R2、R3、R4、R1'およ
びR2'は、塩素、臭素等のハロゲン原子、炭素数1〜1
0で直鎖または分岐鎖を有するか或いは環状の飽和また
は不飽和炭化水素基、例えばアルキル基、シクロアルキ
ル基、フェニル基、エステル(−COOR)基、アルコ
キシ(−OR)基またはホスフェート(−P(O)(OR)
2) 基(ここでRは炭素数1〜3の飽和脂肪族基)を表
し、互いに同一でも異なっていてもよく、またR5
6、R7、R8、R9、R10は、R1、R2、R3、R 4、R
1'およびR2'と同じ意味を示すか、或いは水素原子、水
酸基、−COOH、−P(O)(OH)2または−SO3H等
の酸基を表し、互いに同一でも異なっていてもよい。
In the above formula, R1, RTwo, RThree, RFour, R1'And
And RTwoIs a halogen atom such as chlorine or bromine, and has 1 to 1 carbon atoms.
0 has a straight or branched chain or a cyclic saturated or
Is an unsaturated hydrocarbon group such as an alkyl group, a cycloalkyl
Group, phenyl group, ester (-COOR) group, alcohol
Xy (-OR) group or phosphate (-P (O) (OR)
Two) Group (where R is a saturated aliphatic group having 1 to 3 carbon atoms)
And may be the same or different from each other;Five,
R6, R7, R8, R9, RTenIs R1, RTwo, RThree, R Four, R
1'And RTwoHas the same meaning as', or a hydrogen atom, water
Acid group, -COOH, -P (O) (OH)TwoOr -SOThreeH etc.
And may be the same or different from each other.

【0064】本発明では、ニトロキシドラジカル含有化
合物としては、上記式(II)において、R1、R2、R3
のうちの1つとR4、R5、R6のうちの1つとが連結し
て環状構造を形成し、その他がいずれもアルキル基であ
るものが室温で安定で好ましい。その具体例として、以
下に示す化合物を挙げることができる。
In the present invention, as the nitroxide radical-containing compound, in the above formula (II), R 1 , R 2 , R 3
One of R 4 , R 5 , and R 6 is linked to form a cyclic structure, and the others are all alkyl groups, which are stable at room temperature and are preferred. Specific examples thereof include the following compounds.

【0065】[0065]

【化16】 Embedded image

【0066】[0066]

【化17】 Embedded image

【0067】[0067]

【化18】 (なお、上記式で、Meはメチル基、Etはエチル基、
Phはフェニル基を表す。以下本発明で同じ。また、p
及びqはそれぞれ0〜30の整数を表す。)
Embedded image (In the above formula, Me is a methyl group, Et is an ethyl group,
Ph represents a phenyl group. Hereinafter, the same applies to the present invention. Also, p
And q each represent an integer of 0 to 30. )

【0068】上記式(II)で表されるニトロキシドラジ
カル含有化合物のうち、室温で安定で好適な例として、
下記(a)〜(i)を挙げることができる。 (a) 2,2,2,5-テトラメチル-1-ピロリジニロキシ(PR
OXYL)、(b) 2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニ
ロキシ(一般にTEMPOの名称で市販されているも
の)、(c) N-tert-ブチル-1-フェニル-2-メチルプロピ
ルニトロキシド、(d) N-tert-ブチル-1-(2-ナフチル)-2
-メチルプロピルニトロキシド、(e) N-tert-ブチル-1-
ジエチルホスホノ-2,2-ジメチルプロピルニトロキシ
ド、(f) N-tert-ブチル-1-ジベンジルホスホノ-2,2-ジ
メチルプロピルニトロキシド、(g) N-フェニル-1-ジエ
チルホスホノ-2,2-ジメチルプロピルニトロキシド、(h)
N-フェニル-1-ジエチルホスホノ-1-メチルエチルニト
ロキシド、(i) N-(1-フェニル-2-メチルプロピル)-1-ジ
エチルホスホノ-1-メチルエチルニトロキシドTEMP
O。
Among the nitroxide radical-containing compounds represented by the above formula (II), preferred examples which are stable at room temperature and suitable are:
The following (a) to (i) can be mentioned. (a) 2,2,2,5-tetramethyl-1-pyrrolidiniloxy (PR
OXYL), (b) 2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidinyloxy (commercially available under the name TEMPO), (c) N-tert-butyl-1-phenyl-2-methylpropyl Nitroxide, (d) N-tert-butyl-1- (2-naphthyl) -2
-Methylpropyl nitroxide, (e) N-tert-butyl-1-
Diethylphosphono-2,2-dimethylpropyl nitroxide, (f) N-tert-butyl-1-dibenzylphosphono-2,2-dimethylpropyl nitroxide, (g) N-phenyl-1-diethylphosphono-2 , 2-dimethylpropyl nitroxide, (h)
N-phenyl-1-diethylphosphono-1-methylethyl nitroxide, (i) N- (1-phenyl-2-methylpropyl) -1-diethylphosphono-1-methylethyl nitroxide TEMP
O.

【0069】本発明のラジカル含有化合物(D−1)の
うち、窒素ラジカルを含有する化合物としては、具体的
に下記のような例が挙げられるが、これに限定されるも
のではない。
Among the radical-containing compounds (D-1) of the present invention, specific examples of compounds containing a nitrogen radical include, but are not limited to, the following.

【化19】 Embedded image

【0070】本発明のラジカル含有化合物(D−1)の
うち、リンラジカルを含有する化合物としては、具体的
に下記のような例が挙げられるが、これに限定されるも
のではない。
Among the radical-containing compounds (D-1) of the present invention, specific examples of the compound containing a phosphorus radical include, but are not limited to, the following.

【化20】 Embedded image

【0071】本発明のラジカル含有化合物(D−1)の
うち、イオウラジカルを含有する化合物としては、具体
的に下記のような例が挙げられるが、これに限定される
ものではない。
Among the radical-containing compounds (D-1) of the present invention, specific examples of the compound containing a sulfur radical include, but are not limited to, the following.

【化21】 Embedded image

【0072】本発明のラジカル含有化合物(D−1)の
うち、炭素ラジカルを含有する化合物としては、具体的
に下記のような例が挙げられるが、これに限定されるも
のではない。
Among the radical-containing compounds (D-1) of the present invention, specific examples of the compound containing a carbon radical include the following, but are not limited thereto.

【化22】 Embedded image

【0073】本発明のラジカル含有化合物(D−1)の
うち、ケイ素ラジカルを含有する化合物としては、具体
的に下記のような例が挙げられるが、これに限定される
ものではない。
Among the radical-containing compounds (D-1) of the present invention, specific examples of the compound containing a silicon radical include, but are not limited to, the following.

【化23】 Embedded image

【0074】本発明においては、上記のラジカル含有化
合物(D−1)のなかでも、前記一般式(I)で表され
る酸素ラジカルを含有する化合物であることが好まし
く、さらには、式(I)においてZを窒素原子とするニ
トロキシドラジカル含有化合物であることが好ましく、
特に前記一般式(II)または(III)で表される化合物
が好ましい。
In the present invention, among the above-mentioned radical-containing compounds (D-1), the compounds containing oxygen radicals represented by the above-mentioned general formula (I) are preferable, and further, the compounds of the formula (I-1) ) Is preferably a nitroxide radical-containing compound having Z as a nitrogen atom,
Particularly, a compound represented by the above general formula (II) or (III) is preferable.

【0075】このようなラジカル含有化合物(D−1)
は、前記熱可塑性ポリマー(A)100重量部に対し
て、通常、0.001〜10重量部、好ましくは0.0
05〜8重量部、さらに好ましくは0.01〜5重量部
の量で使用されることが望ましい。また、ラジカル含有
化合物(D−1)に由来するラジカルのモル数が、前記
ラジカル開始剤(C)において発生し得るラジカルの理
論モル数に対して、0.01〜2.0倍の割合で用いら
れることが好ましい。ラジカル含有化合物(D−1)が
ニトロキシドラジカル含有化合物の場合、ニトロキシド
ラジカル含有化合物のN−O・基のモル数が、前記ラジ
カル開始剤(C)において発生し得るラジカルの理論モ
ル数に対して、0.01〜2.0倍になるように使用さ
れることが好ましい。
Such a radical-containing compound (D-1)
Is usually from 0.001 to 10 parts by weight, preferably from 0.01 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the thermoplastic polymer (A).
It is preferably used in an amount of from 0.5 to 8 parts by weight, more preferably from 0.01 to 5 parts by weight. The molar number of the radical derived from the radical-containing compound (D-1) is 0.01 to 2.0 times the theoretical molar number of the radical that can be generated in the radical initiator (C). It is preferably used. When the radical-containing compound (D-1) is a nitroxide radical-containing compound, the number of moles of the NO—group of the nitroxide radical-containing compound is based on the theoretical number of moles of a radical that can be generated in the radical initiator (C). , 0.01 to 2.0 times.

【0076】ラジカル生成化合物(D−2) 本発明においては、ラジカル含有化合物(D−1)の代
わりに、または併用して、ラジカル含有化合物(D−
1)を生成し得るラジカル生成化合物(D−2)を使用
しても良い。本発明のラジカル生成化合物(D−2)と
は、グラフト重合反応条件下において、すなわち、ラジ
カル開始剤(C)がラジカルを発生し得る温度で、熱可
塑性ポリマー(A)と、ラジカル開始剤(C)と、前記
ラジカル含有化合物(D−1)またはラジカル生成化合
物(D−2)とを接触させる条件下、およびそれに続く
ラジカル重合性モノマー(B)を添加してグラフト重合
を行う条件下において、ラジカル含有化合物(D−1)
を生成し得る化合物のことである。
Radical-forming compound (D-2) In the present invention, instead of or in combination with the radical-containing compound (D-1), the radical-containing compound (D-
A radical-forming compound (D-2) capable of producing 1) may be used. The radical-forming compound (D-2) of the present invention comprises a thermoplastic polymer (A) and a radical initiator (C) under a graft polymerization reaction condition, that is, at a temperature at which the radical initiator (C) can generate a radical. C) under the conditions of contacting the radical-containing compound (D-1) or the radical-forming compound (D-2) with the radical-polymerizable monomer (B) followed by the graft polymerization. , Radical-containing compound (D-1)
Is a compound capable of producing

【0077】このようなラジカル生成化合物(D−2)
として、2級アミンを挙げることができる。2級アミン
としては、たとえば、以下に示すものを例示することが
できる。
Such a radical-forming compound (D-2)
And a secondary amine. As the secondary amine, for example, those shown below can be exemplified.

【化24】 Embedded image

【0078】好ましい2級アミンは、下記一般式(IV)
で示される化合物である。
Preferred secondary amines are represented by the following general formula (IV)
It is a compound shown by these.

【化25】 (上式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6はそれぞれ独
立に、塩素、臭素などのハロゲン原子、炭素数1〜10
で直鎖または分岐鎖を有するか或いは環状の飽和または
不飽和炭化水素基、アリール基を表し、互いに同一でも
異なっていてもよく、またR1、R2、R3のうちの1つ
とR4、R5、R6のうちの一つとが連結して環状構造を
形成していてもよい。)
Embedded image (In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , and R 6 each independently represent a halogen atom such as chlorine or bromine;
Represents a linear or branched or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon group or an aryl group, which may be the same or different, and one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 , R 5 and R 6 may be linked to form a cyclic structure. )

【0079】これらの中でも、特にR1、R2、R3のう
ちの1つとR4、R5、R6のうちの1つとが連結して環
状構造を形成し、その他がいずれもアルキル基であるも
のが好ましい。その具体例として、以下に示す化合物を
挙げることができる。
Of these, one of R 1 , R 2 , and R 3 is connected to one of R 4 , R 5 , and R 6 to form a cyclic structure, and the other is an alkyl group. Is preferred. Specific examples thereof include the following compounds.

【0080】[0080]

【化26】 Embedded image

【0081】[0081]

【化27】 Embedded image

【0082】このようなラジカル生成化合物(D−2)
の好適例としてピペリジン系化合物を挙げることができ
る。ピペリジン系化合物の具体例としては、4-ヒドロキ
シ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、1-アリル-4-ヒド
ロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、1-ベンジル-
4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、1-(4-
t-ブチル-2-ブテニル)-4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメ
チルピペリジン、4-ステアロイルオキシ-2,2,6,6-テト
ラメチルピペリジン、4-メタクリロイルオキシ-1,2,2,
6,6-ペンタメチルピペリジン;1-ベンジル-2,2,6,6-テ
トラメチル-4-ピペリジルマレイネート、ビス(2,2,6,6-
テトラメチル-4-ピペリジル)アジペート、ビス(2,2,6,6
-テトラメチル-4-ピペリジル)セバケート、ビス(2,2,6,
6-テトラメチル-4-ピペリジル)フマレート、ビス(1,2,
3,6-テトラメチル-2,6-ジエチル-4-ピペジル)セバケー
ト、ビス(1-アリル-2,2,6,6-エトラメチル-4-ピペリジ
ル)フタレート、ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペ
リジル)セバケート;
Such a radical-forming compound (D-2)
Preferred examples include piperidine compounds. Specific examples of the piperidine compound include 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1-allyl-4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1-benzyl-
4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1- (4-
(t-butyl-2-butenyl) -4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-stearoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-methacryloyloxy-1,2 , 2,
6,6-pentamethylpiperidine; 1-benzyl-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl maleate, bis (2,2,6,6-
Tetramethyl-4-piperidyl) adipate, bis (2,2,6,6
-Tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (2,2,6,
6-tetramethyl-4-piperidyl) fumarate, bis (1,2,
3,6-tetramethyl-2,6-diethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1-allyl-2,2,6,6-ethramethyl-4-piperidyl) phthalate, bis (1,2,2,6 , 6-Pentamethyl-4-piperidyl) sebacate;

【0083】1-プロパギル-4-β-シアノエチルオキシ-
2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、1-アセチル-2,2,6,6
-テトラメチル-4-ピペリジル-アセテート、トリメリッ
ト酸-トリ-(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)エス
テル、1-アクリロイル-4-ベンジルオキシ-2,2,6,6-テト
ラメチルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-
ベンジルオキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン;ビ
ス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)ジブチルマ
ロネート、ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジ
ル)ジベンジル-マロネート、ビス(1,2,3,6-テトラメチ
ル-2,6-ジエチル-4-ピペリジル)ジベンジル-マロネー
ト、ヘキサン-1',6'-ビス-4-カルバモイルオキシ-1-n-
ブチル-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン)、トルエン-
2',4'-ビス-(4-カルバモイルオキシ-1-n-ブチル-2,2,6,
6-テトラメチルピペリジン);ジメチル-ビス(2,2,6,6-
テトラメチルピペリジン-4-オキシ)-シラン、フェニル-
トリス-(2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-4-オキシ)-
シラン;トリス-(1-プロピル-2,2,6,6-テトラメチル-4-
ピペリジル)-フォスファイト、トリス-(1-プロピル-2,
2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)-フォスフェート、
フェニル-〔ビス-(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジ
ル)〕-フォスフォネート;テトラキス(2,2,6,6-テトラ
メチル-4-ピペリジル)1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシ
レート、テトラキス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリ
ジル)-1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシレート、ジ(ト
リデシル)・ビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)-
1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシレート、ジ(トリデシ
ル)・ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)-1,2,
3,4-ブタンテトラカルボキシレート;2,2,4,4-テトラメ
チル-7-オキサ-3,20-ジアザジスピロ〔5,1,11,2〕ヘン
エイコサン-21-オン;
1-propargyl-4-β-cyanoethyloxy-
2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1-acetyl-2,2,6,6
-Tetramethyl-4-piperidyl-acetate, trimellitic acid-tri- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) ester, 1-acryloyl-4-benzyloxy-2,2,6,6 -Tetramethylpiperidine, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-
Benzyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine; bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) dibutylmalonate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl -4-piperidyl) dibenzyl-malonate, bis (1,2,3,6-tetramethyl-2,6-diethyl-4-piperidyl) dibenzyl-malonate, hexane-1 ', 6'-bis-4-carbamoyloxy -1-n-
Butyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidine), toluene-
2 ', 4'-bis- (4-carbamoyloxy-1-n-butyl-2,2,6,
6-tetramethylpiperidine); dimethyl-bis (2,2,6,6-
Tetramethylpiperidine-4-oxy) -silane, phenyl-
Tris- (2,2,6,6-tetramethylpiperidine-4-oxy)-
Silane; tris- (1-propyl-2,2,6,6-tetramethyl-4-
Piperidyl) -phosphite, tris- (1-propyl-2,
2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -phosphate,
Phenyl- [bis- (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl)]-phosphonate; tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) 1,2,3 , 4-butanetetracarboxylate, tetrakis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate, di (tridecyl) bis (2,2 , 6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-
1,2,3,4-butanetetracarboxylate, di (tridecyl) bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -1,2,
3,4-butanetetracarboxylate; 2,2,4,4-tetramethyl-7-oxa-3,20-diazaspiro [5,1,11,2] heneicosan-21-one;

【0084】3,9-ビス〔1,1-ジメチル-2-{トリス(2,2,
6,6-テトラメチル-4-ピペリジルオキシカルボニル)ブチ
ルカルボニルオキシ}エチル〕-2,4,8,10-テトラオキサ
スピロ〔5,5〕ウンデカン、3,9-ビス〔1,1-ジメチル-2-
{トリス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジルオキシ
カルボニル)ブチルカルボニルオキシ}エチル〕-2,4,8,
10-テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン、ジメチルサ
クシネート-2-(4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピ
ペリジル)エタノール縮合物;ポリ〔ヘキサメチレン
{(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)イミノ}〕、
ポリ〔エチレン{(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジ
ル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6-テトラメチル-4
-ピペリジル)イミノ}〕、ポリ[〔6-{(1,1,3,3,-テト
ラメチルブチル)アミノ}-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイ
ル〕〔(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)イミノ〕
ヘキサメチレン〔(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジ
ル)イミノ〕]、ポリ[(6-モルフォリノ-1,3,5-トリア
ジン-2,4-ジイル)〔(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジ
ル)イミノ〕ヘキサメチレン〔(2,2,6,6-テトラメチル-4
-ピペリジル)イミノ〕]、ポリ[〔6-{(エチルアセチ
ル)アミノ}-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイル〕〔(2,2,6,
6-テトラメチル-4-ピペリジル)イミノ〕ヘキサメチレン
〔(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)イミノ〕]お
よびポリ[〔6-{(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジ
ル)ブチルアミノ}-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイル〕
〔(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)イミノ〕ヘキ
サメチレン〔(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)イ
ミノ〕]などを例示することができる。
3,9-bis [1,1-dimethyl-2-ditris (2,2,
6,6-tetramethyl-4-piperidyloxycarbonyl) butylcarbonyloxydiethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, 3,9-bis [1,1-dimethyl- 2-
{Tris (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyloxycarbonyl) butylcarbonyloxydiethyl] -2,4,8,
10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, dimethylsuccinate-2- (4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidyl) ethanol condensate; poly [hexamethylene} (2,2,6 , 6-Tetramethyl-4-piperidyl) imino}),
Poly (ethylene) (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino hexamethylene (2,2,6,6-tetramethyl-4
-Piperidyl) imino}), poly [[6-{(1,1,3,3, -tetramethylbutyl) amino} -1,3,5-triazine-2,4-diyl] [(2,2, 6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino)
Hexamethylene [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino]], poly [(6-morpholino-1,3,5-triazine-2,4-diyl) [(2,2, 6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] hexamethylene [(2,2,6,6-tetramethyl-4
-Piperidyl) imino]], poly [[6-{(ethylacetyl) amino} -1,3,5-triazine-2,4-diyl] [(2,2,6,
6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] hexamethylene [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino]] and poly [[6-{(2,2,6,6-tetra Methyl-4-piperidyl) butylamino {-1,3,5-triazine-2,4-diyl]
[(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] hexamethylene [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino]] and the like.

【0085】特に、テトラキス(2,2,6,6-テトラメチル-
4-ピペリジル)-1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシレー
ト、3,9-ビス〔1,1-ジメチル-2-{トリス(1,2,2,6,6-ペ
ンタメチル-4-ピペリジルオキシカルボニル)ブチルカル
ボニルオキシ}エチル〕-2,4,8,10-テトラオキサスピロ
〔5,5〕ウンデカン、ポリ[〔6-{(1,1,3,3,-テトラメ
チルブチル)アミノ}-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイル〕
〔(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)イミノ〕ヘキ
サメチレン〔(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)イ
ミノ〕]、ポリ[(6-モルフォリノ-1,3,5-トリアジン-
2,4-ジイル) 〔(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)
イミノ〕ヘキサメチレン〔(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピ
ペリジル)イミノ〕]およびこれらの2以上の混合物が
好ましい。
In particular, tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-
4-piperidyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate, 3,9-bis [1,1-dimethyl-2-ditris (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl (Oxycarbonyl) butylcarbonyloxy {ethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, poly [[6-{(1,1,3,3, -tetramethylbutyl) amino} -1,3,5-triazine-2,4-diyl)
[(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] hexamethylene [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino]], poly [(6-morpholino-1 , 3,5-triazine-
2,4-diyl) ((2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)
[Imino] hexamethylene [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino]] and mixtures of two or more thereof are preferred.

【0086】このようなラジカル生成化合物(D−2)
は、前記熱可塑性ポリマー(A)100重量部に対し
て、通常、0.001〜10重量部、好ましくは0.0
05〜8重量部、さらに好ましくは0.01〜5重量部
の量で使用されることが望ましい。また、ラジカル生成
化合物(D−2)から発生し得るラジカルの理論モル数
が、前記ラジカル開始剤(C)において発生し得るラジ
カルの理論モル数に対して、0.01〜2.0倍の割合
で用いられることが好ましい。ラジカル生成化合物(D
−2)が2級アミンの場合、2級アミンのNH基のモル
数が、前記ラジカル開始剤(C)において発生し得るラ
ジカルの理論モル数に対して、0.01〜2.0倍にな
るように使用されることが好ましい。
Such a radical-forming compound (D-2)
Is usually from 0.001 to 10 parts by weight, preferably from 0.01 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the thermoplastic polymer (A).
It is preferably used in an amount of from 0.5 to 8 parts by weight, more preferably from 0.01 to 5 parts by weight. Further, the theoretical mole number of the radical that can be generated from the radical-forming compound (D-2) is 0.01 to 2.0 times the theoretical mole number of the radical that can be generated in the radical initiator (C). It is preferable to use them in proportions. Radical generating compound (D
When -2) is a secondary amine, the number of moles of the NH group of the secondary amine is 0.01 to 2.0 times the theoretical number of moles of the radical that can be generated in the radical initiator (C). It is preferred that they be used.

【0087】本発明において、ラジカル生成化合物(D
−2)は、そのまま熱可塑性ポリマー(A)およびラジ
カル開始剤(C)と接触させてもよいが、予め過酸化物
と接触させてから使用してもよい。その際使用される過
酸化物としては、前記ラジカル開始剤(C)として例示
した有機過酸化物、過酸化水素、過酸等が挙げられる。
また、ここで使用される過酸としては、過ギ酸、過酢
酸、過安息香酸が例示される。
In the present invention, the radical-forming compound (D
-2) may be directly contacted with the thermoplastic polymer (A) and the radical initiator (C), or may be used after previously contacting with a peroxide. Examples of the peroxide used at this time include the organic peroxides, hydrogen peroxide, and peroxy acids exemplified as the radical initiator (C).
Examples of the peracid used herein include formic acid, peracetic acid, and perbenzoic acid.

【0088】熱可塑性ポリマーのグラフト重合方法 本発明の方法においては、ラジカル開始剤(C)の存在
下、熱可塑性ポリマー(A)へラジカル重合性モノマー
(B)をグラフト重合する際に、熱可塑性ポリマー
(A)と、少なくとも1種のラジカル開始剤(C)と、
ラジカル含有化合物(D−1)およびラジカル生成化合
物(D−2)から選ばれる少なくとも1種の化合物
(D)とを、予め前記ラジカル開始剤(C)がラジカル
を発生し得る温度で接触させた後、前記ラジカル重合性
モノマー(B)を添加してグラフト重合を行う。
Method for Graft Polymerization of Thermoplastic Polymer In the method of the present invention, when the radical polymerizable monomer (B) is graft-polymerized to the thermoplastic polymer (A) in the presence of the radical initiator (C), A polymer (A), at least one radical initiator (C),
At least one compound (D) selected from the radical-containing compound (D-1) and the radical-generating compound (D-2) was previously contacted at a temperature at which the radical initiator (C) could generate a radical. Thereafter, the radical polymerizable monomer (B) is added to perform graft polymerization.

【0089】前記熱可塑性ポリマー(A)と、ラジカル
開始剤(C)と、ドラジカル含有化合物(D−1)また
はラジカル生成化合物(D−2)とを接触させる温度
は、ラジカル開始剤(C)がラジカルを発生しうる温度
であれば特に制限を受けないが、通常は50〜400
℃、好ましくは70〜350℃、さらに好ましくは80
〜300℃である。
The temperature at which the thermoplastic polymer (A), the radical initiator (C), and the radical-containing compound (D-1) or the radical-generating compound (D-2) are brought into contact with each other is controlled by the radical initiator (C) Is not particularly limited as long as it is a temperature at which radicals can be generated.
° C, preferably 70-350 ° C, more preferably 80 ° C.
300300 ° C.

【0090】これらの成分を、上記のラジカル発生温度
で接触させるには、室温で全ての成分を反応系内に仕込
んだ後に該温度まで昇温する方法、室温で熱可塑性ポリ
マーを仕込み該温度まで昇温した後に残りの成分を添加
する方法、室温で熱可塑性ポリマーを仕込み該温度まで
昇温しながら残りの成分を連続的に添加する方法などの
いずれの方法で行ってもよい。
In order to bring these components into contact with each other at the above-mentioned radical generation temperature, a method in which all the components are charged into the reaction system at room temperature and then the temperature is raised to that temperature, a thermoplastic polymer is charged at room temperature and the temperature is raised to that temperature Any method may be used, such as a method of adding the remaining components after the temperature is raised, or a method of charging the thermoplastic polymer at room temperature and continuously adding the remaining components while raising the temperature to the temperature.

【0091】本発明において、前記ラジカル重合性モノ
マー(B)は、前記(A)、(C)、(D)成分が上記
ラジカル発生温度において接触したのちに直ちに添加さ
れたもよいが、ラジカル発生温度で接触させてから所定
の時間経過した後に添加されることが好ましい。その際
の時間は、通常0.02〜120分、好ましくは0.0
5〜90分、さらに好ましくは0.1〜60分である。
In the present invention, the radical polymerizable monomer (B) may be added immediately after the components (A), (C) and (D) have come into contact at the above-mentioned radical generation temperature. It is preferably added after a lapse of a predetermined time from the contact at the temperature. The time at that time is usually 0.02 to 120 minutes, preferably 0.02 to 120 minutes.
It is 5 to 90 minutes, more preferably 0.1 to 60 minutes.

【0092】ラジカル重合性モノマー(B)の添加に際
しては、使用量の全量を一度に添加してもよいし、反応
時間中に連続的にまたは分割して添加してもよい。その
際の温度は、前記(A)、(C)、(D)成分を接触さ
せる温度と同じであっても異なっていてもよく、通常は
50〜400℃、好ましくは70〜350℃、さらに好
ましくは80〜300℃である。また、ラジカル重合性
モノマーとの反応時間は通常、0.5〜10時間、好ま
しくは1〜8時間である。
When the radical polymerizable monomer (B) is added, the entire amount of the radical polymerizable monomer (B) may be added all at once, or may be added continuously or dividedly during the reaction time. The temperature at that time may be the same as or different from the temperature at which the components (A), (C) and (D) are brought into contact, and is usually 50 to 400 ° C, preferably 70 to 350 ° C, and furthermore Preferably it is 80-300 degreeC. The reaction time with the radical polymerizable monomer is usually 0.5 to 10 hours, preferably 1 to 8 hours.

【0093】本発明のグラフト重合では、本発明の目的
を損なわない範囲において、前記熱可塑性ポリマー
(A)の少なくとも一部を、固体状態、溶融状態、有機
溶媒に溶解した状態のいずれの状態として反応を行って
も良い。
In the graft polymerization of the present invention, at least a part of the thermoplastic polymer (A) is converted into any of a solid state, a molten state, and a state dissolved in an organic solvent, as long as the object of the present invention is not impaired. A reaction may be performed.

【0094】前記熱可塑性ポリマー(A)の少なくとも
一部を有機溶媒に溶解した状態で反応する場合に使用さ
れる有機溶媒としては、前記熱可塑性ポリマー(A)を
溶解し得る有機溶媒であれば特に限定されないが、前記
熱可塑性ポリマーとしてポリオレフィンを使用する場合
には、有機溶媒としてベンゼン、トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素系溶媒、ペンタン、ヘキサン、ヘプ
タンなどの脂肪族炭化水素系溶媒等が挙げられる。グラ
フト重合を前記熱可塑性ポリマーの少なくとも一部が有
機溶媒に溶解した状態で行う場合には、反応温度は、通
常70〜200℃、好ましくは80〜190℃である。
The organic solvent used when reacting in a state where at least a part of the thermoplastic polymer (A) is dissolved in an organic solvent may be any organic solvent capable of dissolving the thermoplastic polymer (A). Although not particularly limited, when using a polyolefin as the thermoplastic polymer, benzene, toluene, aromatic hydrocarbon solvents such as xylene, pentane, hexane, aliphatic hydrocarbon solvents such as heptane and the like as the organic solvent. No. When the graft polymerization is performed in a state where at least a part of the thermoplastic polymer is dissolved in an organic solvent, the reaction temperature is usually 70 to 200 ° C, preferably 80 to 190 ° C.

【0095】グラフト重合を前記熱可塑性ポリマー
(A)の少なくとも一部が溶融した状態で行う場合に
は、反応温度は、通常、熱可塑性ポリマーの融点以上で
ある。前記熱可塑性ポリマーとしてポリオレフィンを使
用する場合には、反応温度は、通常80〜300℃、好
ましくは80〜250℃の範囲である。また、グラフト
重合に押出機を用いる場合には、例えば、前記(A)、
(C)、(D)成分を予め混合したものをホッパーより
供給し、押出機中間部に設置した供給口より前記(B)
成分を供給する方法が挙げられる。また、前記(C)、
(D)成分はホッパー部付近に供給口を設け、そこから
別途供給してもよい。
When the graft polymerization is performed in a state where at least a part of the thermoplastic polymer (A) is molten, the reaction temperature is usually equal to or higher than the melting point of the thermoplastic polymer. When a polyolefin is used as the thermoplastic polymer, the reaction temperature is usually in the range of 80 to 300C, preferably 80 to 250C. When an extruder is used for graft polymerization, for example, (A)
A mixture obtained by previously mixing the components (C) and (D) is supplied from a hopper, and the above-mentioned component (B) is supplied from a supply port provided in an intermediate portion of the extruder.
There is a method of supplying the components. Further, the above (C),
The component (D) may be provided with a supply port near the hopper, and supplied separately therefrom.

【0096】その他の添加剤 また本発明では、熱可塑性ポリマーのグラフト重合に際
して、本発明の目的を損なわない範囲において、還元性
物質を用いてもよい。還元性物質は、得られるグラフト
重合熱可塑性ポリマーにおけるグラフト反応量を向上さ
せる作用を有する。
Other Additives In the present invention, a reducing substance may be used in graft polymerization of a thermoplastic polymer as long as the object of the present invention is not impaired. The reducing substance has an effect of improving the graft reaction amount in the obtained graft-polymerized thermoplastic polymer.

【0097】使用可能な還元性物質としては、鉄(II)イ
オン、クロムイオン、コバルトイオン、ニッケルイオ
ン、パラジウムイオン、亜硫酸塩、ヒドロキシルアミ
ン、ヒドラジンなどのほか、−SH、−SO3H、−N
HNH2、−COCH(OH)−などの基を含む化合物が
挙げられる。
Examples of usable reducing substances include iron (II) ion, chromium ion, cobalt ion, nickel ion, palladium ion, sulfite, hydroxylamine, hydrazine, etc., as well as -SH, -SO 3 H,- N
Examples include compounds containing groups such as HNH 2 and —COCH (OH) —.

【0098】このような還元性物質の具体例としては、
塩化第一鉄、重クロム酸カリウム、塩化コバルト、ナフ
テン酸コバルト、塩化パラジウム、エタノールアミン、
ジエタノールアミン、N,N-ジメチルアニリン、ヒドラジ
ン、エチルメルカプタン、ベンゼンスルホン酸、p-トル
エンスルホン酸などが挙げられる。
Specific examples of such a reducing substance include:
Ferrous chloride, potassium dichromate, cobalt chloride, cobalt naphthenate, palladium chloride, ethanolamine,
Examples include diethanolamine, N, N-dimethylaniline, hydrazine, ethyl mercaptan, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid and the like.

【0099】上記の還元性物質は、熱可塑性ポリマー
(A)100重量部に対して、通常、0.001〜5重
量部、好ましくは0.1〜3重量部の量で使用される。
The reducing substance is used in an amount of usually 0.001 to 5 parts by weight, preferably 0.1 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the thermoplastic polymer (A).

【0100】本発明のグラフト重合方法によって得られ
るグラフト重合体中に含まれるラジカル重合性モノマー
のグラフト反応量は、通常0.1〜50重量%、好まし
くは0.2〜30重量%の範囲内にある。
The amount of the radically polymerizable monomer contained in the graft polymer obtained by the graft polymerization method of the present invention is usually 0.1 to 50% by weight, preferably 0.2 to 30% by weight. It is in.

【0101】[0101]

【実施例】以下、本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 (実施例)反応溶媒としてのクロルベンゼン700m
l、エチレン・プロピレン・エチリデンノルボルネン共重
合体(エチレン含量72mol%、ヨウ素価22g-I2
/100g、MRF(190℃、5kgf荷重)32g/
10分)50g、ジクミルパーオキサイド0.09g
(0.33mmol、発生し得るラジカルの理論モル数
0.66mmol)、2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジ
ニロキシ(TEMPO)0.052g(0.33mmo
l)を、窒素雰囲気下1リットルオートクレーブに仕込
んだ。系内を攪拌しながら140℃まで昇温し、その温
度のまま1時間攪拌を続けた後アクリル酸14.4gを
4時間かけて連続的に供給した。供給終了後さらに14
0℃で2時間反応を続け、次に室温まで冷却しポリマー
を析出させた。析出したポリマーを濾過し、アセトンで
繰り返し洗浄し、80℃で一昼夜減圧乾燥して目的のグ
ラフトポリマーを得た。このグラフトポリマーについて
元素分析を行いアクリル酸のグラフト量を測定したとこ
ろ、グラフトポリマー100g当たり22.1gに相当
するアクリル酸がグラフト重合していた。また、グラフ
トポリマーのMFR(190℃、5kgf荷重)は、1
0.8g/10分であった。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. (Example) Chlorobenzene 700 m as a reaction solvent
1, ethylene-propylene-ethylidene norbornene copolymer (ethylene content 72 mol%, iodine value 22 g-I 2
/ 100g, MRF (190 ° C, 5kgf load) 32g /
10 minutes) 50 g, dicumyl peroxide 0.09 g
(0.33 mmol, theoretical mole number of radicals that can be generated 0.66 mmol), 0.052 g of 2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidinyloxy (TEMPO) (0.33 mmol
l) was placed in a 1 liter autoclave under a nitrogen atmosphere. The temperature was raised to 140 ° C. while stirring the system, and stirring was continued at that temperature for 1 hour, and then 14.4 g of acrylic acid was continuously supplied over 4 hours. 14 more after the end of supply
The reaction was continued at 0 ° C. for 2 hours, and then cooled to room temperature to precipitate a polymer. The precipitated polymer was filtered, washed repeatedly with acetone, and dried under reduced pressure at 80 ° C. all day and night to obtain a target graft polymer. Elemental analysis was performed on the graft polymer to measure the amount of acrylic acid grafted. As a result, 22.1 g of acrylic acid was graft-polymerized per 100 g of the graft polymer. The MFR of the graft polymer (190 ° C., 5 kgf load) is 1
0.8 g / 10 min.

【0102】[0102]

【発明の効果】本発明のグラフト重合方法によれば、熱
可塑性ポリマーの架橋・分解等の副反応を抑制しながら
グラフト反応量を向上させ、高いグラフト効率でグラフ
トポリマーを得ることができる。
According to the graft polymerization method of the present invention, the amount of graft reaction can be increased while suppressing side reactions such as crosslinking and decomposition of a thermoplastic polymer, and a graft polymer can be obtained with high graft efficiency.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J011 BA04 PA34 PA38 PA40 PA43 PA44 PA45 PA46 PA47 PA63 PA83 PB30 4J026 AA11 AA17 AA24 AA25 AA38 AA45 AA67 AB07 AB17 AB18 AB22 AB28 AC07 AC10 BA06 BA20 BA21 BA24 BA27 BA28 BA29 BA30 BA31 BA32 BA33 BA35 BA39 BA40 CA01 CA04 CA05 CA07 DB12 DB15 DB40 GA02 GA06  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page F-term (reference) 4J011 BA04 PA34 PA38 PA40 PA43 PA44 PA45 PA46 PA47 PA63 PA83 PB30 4J026 AA11 AA17 AA24 AA25 AA38 AA45 AA67 AB07 AB17 AB18 AB22 AB28 AC07 AC10 BA06 BA20 BA21 BA24 BA30 BA30 BA33 BA35 BA39 BA40 CA01 CA04 CA05 CA07 DB12 DB15 DB40 GA02 GA06

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ラジカル開始剤(C)の存在下、熱可塑性
ポリマー(A)にラジカル重合性モノマー(B)をグラ
フト重合する方法において、ラジカル重合性モノマー
(B)の添加前に、ラジカル開始剤(C)がラジカルを
発生し得る温度で、熱可塑性ポリマー(A)と、ラジカ
ル開始剤(C)と、酸素、窒素、リン、イオウ、炭素ま
たはケイ素のラジカル含有化合物(D−1)、または該
ラジカル含有化合物(D−1)を生成し得るラジカル生
成化合物(D−2)とを接触させることを特徴とする熱
可塑性ポリマーのグラフト重合方法。
1. A method for graft-polymerizing a radical polymerizable monomer (B) onto a thermoplastic polymer (A) in the presence of a radical initiator (C), wherein the radical polymerizable monomer (B) is subjected to radical polymerization before addition of the radical polymerizable monomer (B). At a temperature at which the agent (C) can generate a radical, a thermoplastic polymer (A), a radical initiator (C), a radical-containing compound (D-1) of oxygen, nitrogen, phosphorus, sulfur, carbon or silicon; Alternatively, a method for graft polymerization of a thermoplastic polymer, comprising contacting a radical-forming compound (D-2) capable of forming the radical-containing compound (D-1).
【請求項2】前記ラジカル含有化合物(D−1)が、下
記一般式(I)で表される化合物であることを特徴とす
る請求項1に記載の熱可塑性ポリマーのグラフト重合方
法; 【化1】 (式中、Zは窒素、イオウまたはリンを示し、Xは任意
の置換基を示し、nはZの価数を満たす1〜4の整数で
ある。)
2. The method for graft polymerization of a thermoplastic polymer according to claim 1, wherein the radical-containing compound (D-1) is a compound represented by the following general formula (I): 1) (Wherein, Z represents nitrogen, sulfur or phosphorus, X represents an optional substituent, and n is an integer of 1 to 4 that satisfies the valence of Z.)
【請求項3】前記ラジカル含有化合物(D−1)が、前
記一般式(I)においてZを窒素原子とするニトロキシ
ドラジカル含有化合物であることを特徴とする請求項2
に記載の熱可塑性ポリマーのグラフト重合方法。
3. The radical-containing compound (D-1) is a nitroxide radical-containing compound in which Z is a nitrogen atom in the general formula (I).
3. The method for graft polymerization of a thermoplastic polymer according to item 1.
【請求項4】前記ニトロキシドラジカル含有化合物が、
下記一般式(II)または(III)で表される化合物であ
ることを特徴とする請求項3に記載の熱可塑性ポリマー
のグラフト重合方法; 【化2】 (上式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6はそれぞれ独
立に、塩素、臭素などのハロゲン原子、炭素数1〜10
で直鎖または分岐鎖を有するか或いは環状の飽和または
不飽和炭化水素基、アリール基を表し、互いに同一でも
異なっていてもよく、またR1、R2、R3のうちの1つ
とR4、R5、R6のうちの1つとが連結して環状構造を
形成していてもよい。) 【化3】 (上式中、R7、R8はそれぞれ独立に、塩素、臭素など
のハロゲン原子、炭素数1〜10で直鎖または分岐鎖を
有するか或いは環状の飽和または不飽和炭化水素基、ア
リール基を表し、互いに同一でも異なっていてもよく、
またR7とR8とが連結して環状構造を形成していてもよ
い。)
4. The method according to claim 1, wherein the nitroxide radical-containing compound is
4. The method according to claim 3, wherein the compound is a compound represented by the following general formula (II) or (III): (In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , and R 6 each independently represent a halogen atom such as chlorine or bromine;
Represents a linear or branched or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon group or an aryl group, which may be the same or different, and one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 , R 5 and R 6 may be linked to form a cyclic structure. ) (In the above formula, R 7 and R 8 are each independently a halogen atom such as chlorine or bromine, a linear or branched or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon group or an aryl group having 1 to 10 carbon atoms. Represents the same or different from each other,
R 7 and R 8 may be linked to form a cyclic structure. )
【請求項5】前記ラジカル生成化合物(D−2)が、2
級アミンであることを特徴とする請求項1に記載の熱可
塑性ポリマーのグラフト重合方法。
5. The method according to claim 1, wherein the radical-forming compound (D-2) is 2
The method for graft polymerization of a thermoplastic polymer according to claim 1, which is a secondary amine.
【請求項6】前記2級アミンが下記一般式(IV)で表さ
れる化合物であることを特徴とする請求項5に記載の熱
可塑性ポリマーのグラフト重合方法; 【化4】 (上式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6はそれぞれ独
立に、塩素、臭素などのハロゲン原子、炭素数1〜10
で直鎖または分岐鎖を有するか或いは環状の飽和または
不飽和炭化水素基、アリール基を表し、互いに同一でも
異なっていてもよく、またR1、R2、R3のうちの1つ
とR4、R5、R6のうちの一つとが連結して環状構造を
形成していてもよい。)
6. The graft polymerization method for a thermoplastic polymer according to claim 5, wherein the secondary amine is a compound represented by the following general formula (IV): (In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , and R 6 each independently represent a halogen atom such as chlorine or bromine;
Represents a linear or branched or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon group or an aryl group, which may be the same or different, and one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 , R 5 and R 6 may be linked to form a cyclic structure. )
【請求項7】前記ラジカル含有化合物(D−1)に由来
するラジカルのモル数または前記ラジカル生成化合物
(D−2)から発生し得るラジカルの理論モル数が、前
記ラジカル開始剤(C)において発生し得るラジカルの
理論モル数に対して、0.01〜2.0倍の割合で用い
られることを特徴とする請求項3または4に記載の熱可
塑性ポリマーのグラフト重合方法。
7. The radical initiator (C) is characterized in that the number of moles of radicals derived from the radical-containing compound (D-1) or the theoretical number of moles of radicals that can be generated from the radical-forming compound (D-2) is in the radical initiator (C). The method for graft polymerization of a thermoplastic polymer according to claim 3 or 4, wherein the method is used in an amount of 0.01 to 2.0 times the theoretical number of moles of a radical that can be generated.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007204548A (en) * 2006-01-31 2007-08-16 Bridgestone Corp Modified natural rubber and its manufacturing method, and rubber composition and tire obtained using the same
JP2010506751A (en) * 2006-10-13 2010-03-04 ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド Reactive coupling products and related methods

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