JP2000191679A - Carbapenem derivative and its production - Google Patents

Carbapenem derivative and its production

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JP2000191679A
JP2000191679A JP11000142A JP14299A JP2000191679A JP 2000191679 A JP2000191679 A JP 2000191679A JP 11000142 A JP11000142 A JP 11000142A JP 14299 A JP14299 A JP 14299A JP 2000191679 A JP2000191679 A JP 2000191679A
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JP
Japan
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group
general formula
compound
hydrogen atom
compound represented
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JP11000142A
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Japanese (ja)
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Jun Sunakawa
洵 砂川
Haruki Matsumura
春記 松村
Hisashi Bando
尚志 坂東
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Sumitomo Pharmaceuticals Co Ltd
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Sumitomo Pharmaceuticals Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a new carbapenem derivative useful as, e.g., an intermediate for synthesizing a carbapenem compound having antibacterial activity. SOLUTION: This new compound is expressed by formula I or II [wherein, R1 and R2 are each H or a (substituted) lower alkyl; R3 is H or a protective group for carboxyl; Y is a (substituted) aryloxy, a lower alkoxy or the like; Q is O or S], and is e.g. bis[(4R,5R,6S)-2-(p-nitrobenzyloxycarbonyl)-4- methyl-6-((R)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-1-aza-7-oxobicyclo[3. 2.0]hept-2-en-3- yl]phenyl phosphate. The compound of formula I or II is obtained by reacting, e.g., a compound of formula III (wherein, Z is an organothio or the like) with a base, by trapping a residue expressed by the formula Z formed in the above reaction with an alkylating agent or an acylating one and then by reacting the residue with a compound of formula IV (wherein, X is a halogen) in the presence of a base.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は抗菌活性を有するカ
ルバペネム化合物を製造する際の重要中間体であるカル
バペネム誘導体、およびその製造方法に関する。
The present invention relates to a carbapenem derivative which is an important intermediate for producing a carbapenem compound having an antibacterial activity, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】特開昭60−19787号公報、特開昭
60−104088号公報、および特開平3−2645
86号公報には優れた抗菌活性を有する各種のカルバペ
ネム化合物が報告されている。また、その製造方法とし
て特開昭62−103084号公報、あるいはHete
rocycles,Vol.21,29(1984)に
記載の方法が知られている。
2. Description of the Related Art JP-A-60-19787, JP-A-60-104088, and JP-A-3-2645.
No. 86 reports various carbapenem compounds having excellent antibacterial activity. As a method for producing the same, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-103084 or Hete
Cycles, Vol. 21, 29 (1984) is known.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの方法
は、例えばジフェニル クロロホスフェートのような比
較的高価であるか、あるいは工業的に必ずしも入手の容
易でない活性エステル化剤を使用する必要がある。ま
た、特開平3−153687号公報には、式(10)
However, these methods require the use of relatively expensive or commercially available active esterifying agents, such as diphenyl chlorophosphate, for example. Also, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-153687 discloses an equation (10).

【化14】 〔式中、R またはR の1つは水素でありR
たはR の別の1つは1−ヒドロキシエチルであり、
はクロロ置換フェニル基を示す。〕で表されるカ
ルバペネム化合物中間体を経由するカルバペネム類の製
造方法が開示されている。しかし、この方法で用いるビ
ス(クロロ置換フェニル) クロロホスフェートも、そ
の工業的入手は容易ではない。さらに、これらの方法は
後記一般式(8)で表されるチオール化合物の種類によ
っては反応性が異なり、収率の低い場合もある。従っ
て、工業的製造法という観点からさらに優れた方法が望
まれている。
Embedded image Wherein one of R 5 or R 6 is hydrogen and another one of R 5 or R 6 is 1-hydroxyethyl,
R 7 represents a chloro-substituted phenyl group. ], A method for producing carbapenems via a carbapenem compound intermediate. However, bis (chloro-substituted phenyl) chlorophosphate used in this method is not easily available industrially. Further, these methods have different reactivities depending on the type of the thiol compound represented by the following general formula (8), and the yield is sometimes low. Therefore, a more excellent method is desired from the viewpoint of an industrial production method.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意研究を行った結果、後記一般式
(3)あるいは(6)で表される化合物から、一般式
(1)
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies in order to solve the above-mentioned problems, and as a result, from the compound represented by the following general formula (3) or (6), the general formula (1) )

【化15】 〔式中、R およびR は、それぞれ独立して、水素
原子または置換されていてもよい低級アルキル基を、R
は水素原子またはカルボキシ基の保護基を、および
Yは置換されていてもよいイ)アリールオキシ基、ロ)
低級アルコキシ基、ハ)ジアルキルアミノ基、ニ)アリ
ールアミノ基、またはホ)ジアリールアミノ基を意味す
る。〕あるいは一般式(2)
Embedded image [Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an optionally substituted lower alkyl group,
3 is a protecting group for a hydrogen atom or a carboxy group, and Y is an optionally substituted i) aryloxy group, b)
A lower alkoxy group, c) a dialkylamino group, d) an arylamino group, or e) a diarylamino group. Or general formula (2)

【0005】[0005]

【化16】 〔式中、R およびR は、それぞれ独立して、水素
原子または置換されていてもよい低級アルキル基を、R
は水素原子またはカルボキシ基の保護基を、および
Qは酸素原子または硫黄原子を意味する。〕で表される
化合物が容易に得られること、そしてこれらの化合物を
一般式(8) HS−R (8) 〔式中R は有機基を意味する。〕で表されるチオー
ル化合物で処理した場合、一般式(9)
Embedded image [Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an optionally substituted lower alkyl group,
3 represents a hydrogen atom or a protecting group for a carboxy group, and Q represents an oxygen atom or a sulfur atom. And the compound represented by the general formula (8) HS-R 4 (8) wherein R 4 represents an organic group. When treated with a thiol compound represented by the general formula (9):

【0006】[0006]

【化17】 〔式中、R 、R 、R 、R は、前記と同じ意
味を有する。〕で表される置換カルバペネム誘導体が、
収率良く得られることを見いだし、本発明を完成したも
のである。
Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 have the same meaning as described above. The substituted carbapenem derivative represented by
The inventors have found that they can be obtained in good yield, and have completed the present invention.

【0007】すなわち、本発明は、第1に、前記一般式
(1)または前記一般式(2)で表されるカルバペネム
誘導体、第2に、A)一般式(3)
That is, the present invention firstly provides a carbapenem derivative represented by the general formula (1) or (2), and secondly, A) a general formula (3)

【化18】 〔式中、R 、R およびR は前記と同じ意味を
有し、Zはオルガノチオ基を示すか、あるいはCOZと
してカルボキシ基の活性エステルまたは活性酸無水物を
意味する。〕で表される化合物を塩基と反応させ、さら
に、反応で生成する一般式(4) Z- (4) 〔式中、Zは前記と同じ意味を有する。〕で表される残
基をアルキル化剤またはアシル化剤で捕捉し、次いで塩
基の存在下、一般式(5) X2 P(=O)Y (5) 〔式中、Xはハロゲン原子を、およびYは置換されてい
てもよいイ)アリールオキシ基、ロ)低級アルコキシ
基、ハ)ジアルキルアミノ基、ニ)アリールアミノ基、
またはホ)ジアリールアミノ基を意味する。〕であらわ
される化合物と反応させるか、
Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 and R 3 have the same meanings as described above, and Z represents an organothio group, or COZ represents an active ester or active acid anhydride of a carboxy group. The compound represented by the general formula (4) Z (4) produced by the reaction with a base, wherein Z has the same meaning as described above. And then trapping the residue represented by the formula (5) in the presence of a base in the general formula (5) X 2 P (= O) Y (5) wherein X is a halogen atom. , And Y may be substituted i) aryloxy group, b) lower alkoxy group, c) dialkylamino group, d) arylamino group,
Or e) a diarylamino group. Or reacting with the compound represented by

【0008】B)または一般式(6)B) or the general formula (6)

【化19】 〔式中、R 、R およびR は前記と同じ意味を
有する。〕で表される化合物を塩基の存在下、前記一般
式(5)であらわされる化合物と反応させることを特徴
とする、前記一般式(1)で表されるカルバペネム誘導
体の製造方法、第3に、A)前記一般式(3)で表され
る化合物を塩基と反応させ、さらに、反応で生成する前
記一般式(4)で表される残基をアルキル化剤またはア
シル化剤で捕捉し、次いで塩基の存在下、一般式(7) X3 P=Q (7) 〔式中、Qは酸素原子または硫黄原子を、Xはハロゲン
原子を示す。〕であらわされる化合物と反応させるか、 B)または前記一般式(6)で表される化合物を塩基の
存在下、前記一般式(7)であらわされる化合物と反応
させることを特徴とする、前記一般式(2)で表される
カルバペネム誘導体の製造方法、
Embedded image Wherein R 1 , R 2 and R 3 have the same meaning as described above. A method for producing a carbapenem derivative represented by the general formula (1), wherein the compound represented by the general formula (5) is reacted with a compound represented by the general formula (5) in the presence of a base. A) reacting the compound represented by the general formula (3) with a base, and further trapping a residue represented by the general formula (4) formed by the reaction with an alkylating agent or an acylating agent; Then, in the presence of a base, general formula (7) X 3 P = Q (7) wherein Q represents an oxygen atom or a sulfur atom, and X represents a halogen atom. Or B) or reacting the compound represented by the general formula (6) with the compound represented by the general formula (7) in the presence of a base. A method for producing a carbapenem derivative represented by the general formula (2),

【0009】第4に、前記一般式(1)または前記一般
式(2)で表されるカルバペネム誘導体を、塩基の存在
下、前記一般式(8)で表されるチオール化合物もしく
はそのチオール化合物と塩基との塩を反応させることを
特徴とする一般式(9)
Fourth, the carbapenem derivative represented by the general formula (1) or (2) is converted into a thiol compound represented by the general formula (8) or a thiol compound thereof in the presence of a base. General formula (9) characterized by reacting a salt with a base

【化20】 〔式中、R 、R 、R 、R は、前記と同じ意
味を有する。〕で表される置換カルバペネム誘導体の製
造方法、第5に,前記一般式(3)あるいは(6)で表
される化合物から上記方法により前記一般式(1)ある
いは(2)で表されるカルバペネム誘導体を製造し、こ
れらを単離することなくひき続いて同一反応容器内で行
われる前記一般式(9)で表される化合物の製造方法に
関する。
Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 have the same meaning as described above. Fifth, a carbapenem represented by the general formula (1) or (2) from the compound represented by the general formula (3) or (6) by the method described above. The present invention relates to a method for producing a compound represented by the general formula (9), which comprises producing a derivative, and subsequently isolating the derivative without isolation.

【0010】以下、本発明について詳細に述べる。R
で表される低級アルキル基としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、またはヘキ
シル基などの炭素原子数1〜6個の低級アルキル基が挙
げられる。置換されていてもよい低級アルキル基の置換
基としては、ハロゲン原子または水酸基が挙げられる。
好ましいR としてはエチル基、イソプロピル基のよ
うな低級アルキル基、1−フルオロエチル基のようなハ
ロゲン化低級アルキル基、または水酸基が保護もしくは
無保護の1−ヒドロキシエチル基のようなヒドロキシ低
級アルキル基などが挙げられ、より好適には、絶対配置
がRで、水酸基が保護もしくは無保護の1−ヒドロキシ
エチル基があげられる。水酸基の保護基としては、通常
に用いられる保護基であれば特に限定されないが、例え
ば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイ
ソプロピルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル
基のようなトリアルキルシリル基;フェニルジメチルシ
リル基のようなジアルキルアリールシリル基;ジフェニ
ルメチルシリル基のようなアルキルジアリールシリル
基;トリフェニルシリル基のようなトリアリールシリル
基;ベンジルオキシカルボニル基、p−ニトロベンジル
オキシカルボニル基、p−メトキシベンジルオキシカル
ボニル基のようなアリールアルコキシカルボニル基;メ
トキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル
基、2−ヨウ化エトキシカルボニル基、2,2,2−ト
リクロロエトキシカルボニル基のような炭素原子数1〜
6個の低級アルコキシカルボニル基;アリルオキシカル
ボニル基、クロチルオキシカルボニル基のような炭素原
子数8個以下の低級アルケニルオキシカルボニル基;あ
るいは、ベンジル基、p−ニトロベンジル基、p−メト
キシベンジル基、p−クロロベンジル基、トリフェニル
メチル基、ビス(p−メトキシフェニル)メチル基のよ
うなアリールアルキル基;などがあげられる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. R 1
Examples of the lower alkyl group represented by are lower alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. Examples of the substituent of the lower alkyl group which may be substituted include a halogen atom and a hydroxyl group.
Preferred R 1 is a lower alkyl group such as an ethyl group or an isopropyl group, a halogenated lower alkyl group such as a 1-fluoroethyl group, or a hydroxy lower alkyl group such as a 1-hydroxyethyl group in which a hydroxyl group is protected or unprotected. And more preferably a 1-hydroxyethyl group in which the absolute configuration is R and the hydroxyl group is protected or unprotected. The protecting group for the hydroxyl group is not particularly limited as long as it is a commonly used protecting group. For example, trialkylsilyl groups such as trimethylsilyl group, triethylsilyl group, triisopropylsilyl group and tert-butyldimethylsilyl group; phenyl Dialkylarylsilyl groups such as dimethylsilyl group; alkyldiarylsilyl groups such as diphenylmethylsilyl group; triarylsilyl groups such as triphenylsilyl group; benzyloxycarbonyl group, p-nitrobenzyloxycarbonyl group, p- Arylalkoxycarbonyl groups such as methoxybenzyloxycarbonyl group; carbon atoms such as methoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, 2-ethoxyethoxycarbonyl group and 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group. Number 1
6 lower alkoxycarbonyl groups; lower alkenyloxycarbonyl groups having 8 or less carbon atoms such as allyloxycarbonyl group and crotyloxycarbonyl group; or benzyl group, p-nitrobenzyl group, p-methoxybenzyl group And arylalkyl groups such as p-chlorobenzyl group, triphenylmethyl group and bis (p-methoxyphenyl) methyl group.

【0011】R で表される低級アルキル基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基、またはヘキシル基などの炭素原子数1〜6個の
低級アルキル基が挙げられる。置換されていてもよい低
級アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、または
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基な
どの低級アルコキシ基が挙げられる。好ましいR
しては水素原子またはβ配置のメチル基があげられる。
で表されるカルボキシ基の保護基としては、通常
用いられる保護基であれば特に限定はないが、例えば、
メチル、エチル、イソプロピル、tert−ブチルのよ
うな直鎖状もしくは分鎖状の炭素原子数1〜6個の低級
アルキル基;2−ヨー化エチル、2,2,2−トリクロ
ロエチルのような炭素原子数1〜6個のハロゲノ低級ア
ルキル基;メトキシメチル、エトキシメチル、イソプロ
ポキシメチルのような炭素原子数1〜6個の低級アルコ
キシメチル基;アセトキシメチル、プロピオニルオキシ
メチル、ブチリルオキシメチル、ピバロイルオキシメチ
ルのような炭素原子数1〜6個の低級脂肪族アシルオキ
シメチル基;1−メトキシカルボニルオキシエチル、1
−エトキシカルボニルオキシエチルのような炭素原子数
8個以下の1−低級アルコキシカルボニルオキシエチル
基;アリル、2−メチルアリル、3−メチルアリル、3
−フェニルアリルのような置換されてもよい炭素原子数
1〜6個の低級アルケニル基;ベンジル、p−メトキシ
ベンジル、2,4−ジメトキシベンジル、o−ニトロベ
ンジル、p−ニトロベンジル、p−クロロベンジルのよ
うなモノアリールアルキル基;ジフェニルメチル、ジ−
p−アニシルメチルのようなジアリールアルキル基;フ
ェニル、p−クロロフェニル、2,4,6−トリクロロ
フェニル、p−ニトロフェニル、o−ニトロフェニル、
p−メトキシフェニルのようなアリール基;2−ピリジ
ル、3−ピリジルなどのようなヘテロアリール基;など
をあげることができる。
The lower alkyl group represented by R 2 includes a lower alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. Examples of the substituent of the lower alkyl group which may be substituted include a halogen atom or a lower alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group and a butoxy group. Preferred R 2 is a hydrogen atom or a methyl group in β configuration.
The protecting group for the carboxy group represented by R 3 is not particularly limited as long as it is a commonly used protecting group.
Linear or branched lower alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as methyl, ethyl, isopropyl and tert-butyl; carbons such as 2-ethyl iodide and 2,2,2-trichloroethyl A halogeno lower alkyl group having 1 to 6 atoms; a lower alkoxymethyl group having 1 to 6 carbon atoms such as methoxymethyl, ethoxymethyl, isopropoxymethyl; acetoxymethyl, propionyloxymethyl, butyryloxymethyl, C1-C6 lower aliphatic acyloxymethyl groups such as baroyloxymethyl; 1-methoxycarbonyloxyethyl,
A 1-lower alkoxycarbonyloxyethyl group having 8 or less carbon atoms such as ethoxycarbonyloxyethyl; allyl, 2-methylallyl, 3-methylallyl, 3
An optionally substituted lower alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms such as phenylallyl; benzyl, p-methoxybenzyl, 2,4-dimethoxybenzyl, o-nitrobenzyl, p-nitrobenzyl, p-chloro Monoarylalkyl groups such as benzyl; diphenylmethyl, di-
diarylalkyl groups such as p-anisylmethyl; phenyl, p-chlorophenyl, 2,4,6-trichlorophenyl, p-nitrophenyl, o-nitrophenyl,
aryl groups such as p-methoxyphenyl; heteroaryl groups such as 2-pyridyl, 3-pyridyl and the like;

【0012】アリールオキシ基としては、無置換また
は、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数1〜6個の低
級アルキル基、もしくは炭素原子数1〜6個のアルコキ
シ基で置換されたフェニルオキシ基が挙げられ、具体的
にはフェニルオキシ基、p−メトキシフェニルオキシ
基、p−クロロフェニルオキシ基、p−メチルフェニル
オキシ基、2,4,6−トリメチルフェニルオキシ基が
挙げられる。低級アルコキシ基としては、炭素原子数1
〜6個のアルコキシ基が挙げられ、さらに具体的にはメ
トキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポ
キシ基、n−ヘキシルオキシ基が挙げられる。ジアルキ
ルアミノ基としては、炭素原子数1〜6個のアルキル基
が置換したジアルキルアミノ基が挙げられ、さらに具体
的にはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基が挙げられ
る。アリールアミノ基としては、無置換またはハロゲン
原子、炭素原子数1〜6個のアルコキシ基、もしくは炭
素原子数1〜6個のアルキル基で置換されたN−フェニ
ルアミノ基が挙げられ、さらに具体的には、N−フェニ
ルアミノ基、N−(p−クロロフェニル)アミノ基、N
−(p−メトキシフェニル)アミノ基、N−(p−メチ
ルフェニル)アミノ基が挙げられる。ジアリールアミノ
基としては、無置換またはハロゲン原子で置換された
N,N−ジフェニルアミノ基が挙げられ、さらに具体的
には、N,N−ジフェニルアミノ基、N,N−ジ(p−
クロロフェニル)アミノ基などが挙げられる。Zで表さ
れるオルガノチオ基としては、フェニルチオ基、p−ク
ロロフェニルチオ基、2,4,6−トリクロロフェニル
チオ基、p−ニトロフェニルチオ基、o−ニトロフェニ
ルチオ基、p−メトキシフェニルチオ基などの無置換ま
たはハロゲン原子、ニトロ基、もしくは、炭素原子数1
〜6個のアルコキシ基で置換されたアリールチオ基;2
−ピリジルチオ基、3−ピリジルチオ基、4−ピリジル
チオ基、2−ピリミジルチオ基、2−(4,6−ジメチ
ル)ピリミジルチオ基などのヘテロアリールチオ基;メ
チルチオ基、エチルチオ基、イソプロピルチオ基、te
rt−ブチルチオ基のような炭素原子数1〜6個の低級
アルキルチオ基;2−ヨウ化エチルチオ基、2,2,2
−トリクロロエチルチオ基のような、塩素、臭素、ヨウ
素などのハロゲン原子で任意に置換されている炭素原子
数1〜6個のハロゲノ低級アルキルチオ基;アリルチオ
基、2−メチルアリルチオ基、2−クロロアリルチオ
基、シンナミルチオ基などの、塩素、臭素などのハロゲ
ン原子、メチル、エチル、などの低級アルキル基、ある
いはフェニルなどのアリール基で置換されてもよい低級
アルケニルチオ基;を挙げることができる。
Examples of the aryloxy group include a phenyloxy group which is unsubstituted or substituted with a halogen atom, a nitro group, a lower alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. Specific examples include a phenyloxy group, a p-methoxyphenyloxy group, a p-chlorophenyloxy group, a p-methylphenyloxy group, and a 2,4,6-trimethylphenyloxy group. As the lower alkoxy group, one having 1 carbon atom
To 6 alkoxy groups, and more specifically, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, and an n-hexyloxy group. Examples of the dialkylamino group include a dialkylamino group substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more specifically, a dimethylamino group and a diethylamino group. Examples of the arylamino group include an unsubstituted or N-phenylamino group substituted with a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Include an N-phenylamino group, an N- (p-chlorophenyl) amino group,
-(P-methoxyphenyl) amino group and N- (p-methylphenyl) amino group. Examples of the diarylamino group include an unsubstituted or halogen-substituted N, N-diphenylamino group. More specifically, an N, N-diphenylamino group, an N, N-di (p-
(Chlorophenyl) amino group and the like. Examples of the organothio group represented by Z include a phenylthio group, a p-chlorophenylthio group, a 2,4,6-trichlorophenylthio group, a p-nitrophenylthio group, an o-nitrophenylthio group, and a p-methoxyphenylthio group. Or unsubstituted or halogen atom, nitro group, or 1 carbon atom
An arylthio group substituted with up to 6 alkoxy groups; 2
Heteroarylthio groups such as -pyridylthio group, 3-pyridylthio group, 4-pyridylthio group, 2-pyrimidylthio group, 2- (4,6-dimethyl) pyrimidylthio group; methylthio group, ethylthio group, isopropylthio group, te
a lower alkylthio group having 1 to 6 carbon atoms such as an rt-butylthio group; an ethylthio iodide group, a 2,2,2
A halogeno lower alkylthio group having 1 to 6 carbon atoms optionally substituted with a halogen atom such as chlorine, bromine or iodine, such as a trichloroethylthio group; an allylthio group, a 2-methylallylthio group, A halogen atom such as chlorine or bromine, a lower alkyl group such as methyl or ethyl, or a lower alkenylthio group optionally substituted with an aryl group such as phenyl, such as a chloroallylthio group or a cinnamylthio group. .

【0013】ZがCOZとしてカルボキシ基の活性エス
テルまたは活性酸無水物を意味する場合の、Zとして
は、塩素、臭素、ヨウ素のようなハロゲン原子;エトキ
シカルボニルオキシ、イソプロポキシカルボニルオキ
シ、sec−ブトキシカルボニルオキシのような炭素原
子数2〜7個の低級アルコキシカルボニルオキシ基;メ
タンスルホニルオキシのような炭素原子数1〜6個の低
級アルカンスルホニルオキシ基;p−トルエンスルホニ
ルオキシのようなアリールスルホニルオキシ基;ジメチ
ルホスホリルオキシ基のようなジ(低級アルキル)ホス
ホリルオキシ基;ジフェニルホスホリルオキシのような
ジアリールホスホリルオキシ基;N−サクシイミドオキ
シ、N−フタルイミドオキシのような環状イミドオキシ
基;イミダゾール、トリアゾールのようなヘテロアリー
ル基;2−チオキソ−3−チアゾリジニルのようなヘテ
ロシクロアルキル基;などが挙げられる。Xで表される
ハロゲン原子としては塩素原子または臭素原子が挙げら
れ、塩素原子が好ましい。
When Z is COZ, which means an active ester or active acid anhydride of a carboxy group, Z is a halogen atom such as chlorine, bromine or iodine; ethoxycarbonyloxy, isopropoxycarbonyloxy, sec-butoxy. A lower alkoxycarbonyloxy group having 2 to 7 carbon atoms such as carbonyloxy; a lower alkanesulfonyloxy group having 1 to 6 carbon atoms such as methanesulfonyloxy; an arylsulfonyloxy group such as p-toluenesulfonyloxy Di (lower alkyl) phosphoryloxy groups such as dimethylphosphoryloxy group; diarylphosphoryloxy groups such as diphenylphosphoryloxy; cyclic imidooxy groups such as N-succinimidooxy and N-phthalimidooxy; Heterocycloalkyl groups such as 2-thioxo-3-thiazolidinyl; heteroaryl group such as azole, and the like. Examples of the halogen atom represented by X include a chlorine atom or a bromine atom, and a chlorine atom is preferable.

【0014】R で表される有機基としては、安定し
て存在するものであれば特に限定されないが、例えば、
メチル基、エチル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
N−ベンゾイル−2−アミノエチル基、N−(p−ニト
ロベンジルオキシカルボニル)−2−アミノエチル基、
2−プロペニル基、3−ペンテニル基、4−ヘキシニル
基のような置換されてもよい低級アルキル基、低級アル
ケニル基、もしくは低級アルキニル基;シクロペンチル
基、6−シクロヘキシルヘキシル基、5−シクロぺンチ
ル−3−ペンテニル基、6−エトキシ−3−ヘキシニル
基のような置換されてもよいシクロアルキル基、シクロ
アルキルアルキル基、シクロアルキルアルケニル基、も
しくはシクロアルキルアルキニル基;フェニル基、p−
クロロフェニル基、p−クロロベンジル基、シンナミル
基、6−フェニル−4−ヘキシニル基のような置換され
てもよいアリール基、アリールアルキル基、アリールア
ルケニル基、アリールアルキニル基;2−ピリジル基、
3−(3−ピリジル)−プロピル基、N−ベンジルオキ
シカルボニル−3−ピロリジニル基、N−(p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル)−3−ピペリジニル基のよ
うな、ヘテロ環部分に1から4個の、酸素、窒素、また
は硫黄原子から選ばれるヘテロ原子をふくむ、置換して
よいヘテロアリール基、ヘテロアリールアルキル基、ヘ
テロアリールアルケニル基、ヘテロアリールアルキニル
基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘ
テロシクリルアルケニル基、ヘテロシクリルアルキニル
基;などが挙げられ、なお、上述の基における置換基
は、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキ
シカルボニル基、アミノ基、モノおよびジアルキルアミ
ノ基、トリアルキルアンモニウム基、ヒドロキシ基、カ
ルボキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、フェニル
チオ基などのアリールチオ基、スルホキシル基、スルフ
ァモイル基、アミジノ基、グアニジノ基、ニトロ基、ハ
ロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、アルキルス
ルフィニル基、アルキルスルホニル基、カルバモイル
基、必要に応じて1〜2個の低級アルキル基で置換され
たカルバモイル基、さらには上記の置換基で置換された
低級アルキル基;からなる群から選ばれる。
The organic group represented by R 4 is not particularly limited as long as it is stably present.
Methyl group, ethyl group, isopropyl group, n-butyl group,
N-benzoyl-2-aminoethyl group, N- (p-nitrobenzyloxycarbonyl) -2-aminoethyl group,
An optionally substituted lower alkyl group, lower alkenyl group or lower alkynyl group such as 2-propenyl group, 3-pentenyl group or 4-hexynyl group; cyclopentyl group, 6-cyclohexylhexyl group, 5-cyclopentyl- Optionally substituted cycloalkyl, cycloalkylalkyl, cycloalkylalkenyl, or cycloalkylalkynyl such as 3-pentenyl, 6-ethoxy-3-hexynyl; phenyl, p-
An optionally substituted aryl group such as a chlorophenyl group, a p-chlorobenzyl group, a cinnamyl group, a 6-phenyl-4-hexynyl group, an arylalkyl group, an arylalkenyl group, an arylalkynyl group; a 2-pyridyl group,
One to four heterocyclic moieties, such as 3- (3-pyridyl) -propyl, N-benzyloxycarbonyl-3-pyrrolidinyl, N- (p-nitrobenzyloxycarbonyl) -3-piperidinyl, A heteroaryl group, including a heteroatom selected from oxygen, nitrogen, or sulfur atom, which may be substituted, a heteroarylalkyl group, a heteroarylalkenyl group, a heteroarylalkynyl group, a heterocyclyl group, a heterocyclylalkyl group, a heterocyclylalkenyl group, And a substituent in the above-mentioned group is a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkoxycarbonyl group, an amino group, a mono- or dialkylamino group, a trialkylammonium group, a hydroxy group, a carboxy group. Group, Merka Group, alkylthio group, arylthio group such as phenylthio group, sulfoxyl group, sulfamoyl group, amidino group, guanidino group, nitro group, halogen atom, hydroxyl group, cyano group, nitro group, alkylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, carbamoyl group, A carbamoyl group substituted with one or two lower alkyl groups as needed, and a lower alkyl group substituted with the above substituents;

【0015】さらに、前記一般式(8)で表される化合
物は、次に示すような一般式(11a)、及び一般式
(11b)で表されるチオール化合物を包含する。
Further, the compounds represented by the general formula (8) include thiol compounds represented by the following general formulas (11a) and (11b).

【化21】 〔式中、R は、tert−ブチルオキシカルボニル
基、アリルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボ
ニル基、p−ニトロベンジルオキシカルボニル基、p−
メトキシベンジルオキシカルボニル基、ベンジル基、p
−ニトロベンジル基などのようなアミノ基の保護基を示
し、R およびR10は、独立して、(a)水素原
子; (b)メチル基、エチル基、2−メトキシエチル基、3
−(N,N−ジメチルアミノカルボニル)−プロピル
基、アリル基、3−ペンチニル基のような置換されても
よい炭素原子数1〜6個の低級アルキル基、低級アルケ
ニル基、低級アルキニル基; (c)シクロペンチル基、6−シクロヘキシルヘキシル
基、6−シクロヘキシル−3−メトキシヘキシル基のよ
うな置換されてもよいシクロアルキル基、シクロアルキ
ルアルキル基、シクロアルキルアルケニル基、シクロア
ルキルアルキニル基; (d)p−クロロフェニル基、p−メトキシフェニルプ
ロピル基のような置換されてもよいアリール基あるいは
アリールアルキル基、アリールアルケニル基、アリール
アルキニル基; (e)2−ピリジル基、3−(3−ピリジル)プロピル
基、3−(4−メチル−3−ピリジル)プロピル基のよ
うな置換されてもよいヘテロアリール基あるいはヘテロ
アリールアルキル基、ヘテロアリールアルケニル基、ヘ
テロアリールアルキニル基; のいずれかを示すか、または、R およびR10で1
−アゼチジノ基、1−ピロリジニル基、1−ピペリジニ
ル基、4−メチル−1−ピペラジニル基、4−(2−メ
トキシエチル)−1−ピペラジニル基、4−メチル−
1,4−ジアザ−1−シクロヘプチル基、5−(2−メ
トキシエチル)−1,5−ジアザシクロオクチル基のよ
うな、互いに結合するアルキレン鎖、もしくは酸素原
子、硫黄原子、または置換窒素原子を介するアルキレン
鎖を表して隣接する窒素原子とともに、4〜8員環の、
置換されてもよい環状アミノ基を意味する。
Embedded image [Wherein, R 8 represents a tert-butyloxycarbonyl group, an allyloxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group, a p-nitrobenzyloxycarbonyl group,
Methoxybenzyloxycarbonyl group, benzyl group, p
And R 9 and R 10 independently represent (a) a hydrogen atom; (b) a methyl group, an ethyl group, a 2-methoxyethyl group,
-(N, N-dimethylaminocarbonyl) -propyl group, allyl group, lower alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted, such as 3-pentynyl group, lower alkenyl group, lower alkynyl group; c) an optionally substituted cycloalkyl group such as a cyclopentyl group, a 6-cyclohexylhexyl group, a 6-cyclohexyl-3-methoxyhexyl group, a cycloalkylalkyl group, a cycloalkylalkenyl group, a cycloalkylalkynyl group; optionally substituted aryl groups such as p-chlorophenyl group and p-methoxyphenylpropyl group, or arylalkyl groups, arylalkenyl groups, arylalkynyl groups; (e) 2-pyridyl group, 3- (3-pyridyl) propyl Group, such as a 3- (4-methyl-3-pyridyl) propyl group Are also heteroaryl groups or heteroarylalkyl group, the heteroaryl alkenyl group, heteroarylalkynyl group; one or shown, or, in R 9 and R 10 1
-Azetidino group, 1-pyrrolidinyl group, 1-piperidinyl group, 4-methyl-1-piperazinyl group, 4- (2-methoxyethyl) -1-piperazinyl group, 4-methyl-
An alkylene chain bonded to each other, such as a 1,4-diaza-1-cycloheptyl group and a 5- (2-methoxyethyl) -1,5-diazacyclooctyl group, or an oxygen atom, a sulfur atom, or a substituted nitrogen A 4- to 8-membered ring with an adjacent nitrogen atom representing an alkylene chain through the atom,
It means a cyclic amino group which may be substituted.

【0016】Wは酸素原子、イオウ原子、またはNH
であり、Wは窒素原子、または炭素原子であり、W
が窒素原子の場合n=0、Wが炭素原子の場合n=1
である。R11、R12は、各々独立して、 (a)水素原子; (b)メチル基、エチル基、2−メトキシエチル基、3
−(N,N−ジメチルアミノカルボノル)−プロピル
基、アリル基、3−ブチニル基のような置換されてもよ
い炭素数1〜6個の低級アルキル基、低級アルケニル
基、低級アルキニル基; (c)シクロヘキシル基、シクロヘキ−1−センー1−
イル基のような置換されてもよいシクロアルキル基、シ
クロアルケニル基; (d)フェニル基、フェニルメチル基、2−フェニルビ
ニル基、4−フェニル−2−ブチニル基のような置換さ
れてもよいアリール基、アリールアルキル基、アリール
アルケニル基、アリールアルキニル基; (e)2−ピリジル基、2−ピラジニルメチル基、2−
(3−ピリジル)−ビニル基、5−(4−ピリジル)−
3−ペンチニル基のようなヘテロアリール基、ヘテロア
リールアルキル基、ヘテロアリールアルケニル基、ヘテ
ロアリールアルキニル基; (f)ジメチルアミノ基、1−アリルオキシカルボニル
−4−ピペラジニル基、1−アリルオキシカルボニル−
1,2,5,6−テトラヒドロピリジン−4−イル基の
ような置換されてもよいアミノ基、3〜8員環の環状ア
ミノ基; (g)2−オキソテトラヒドロフラン−3−イル基、3
−アザ−2−オキソシクロペンチル基のような置換され
てもよい3〜8員環の環状ラクトン基、環状ラクタム
基; (h)水酸基; (i)メトキシ基、アリルオキシ基、2−ブチニルオキ
シ基、フェノキシ基、2−ピリジルオキシ基のような置
換されてもよい炭素数1〜6個の低級アルキルオキシ
基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキニルオキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基; (j)エチルチオ基、フェニルチオ基、2−ピリジルチ
オ基のような置換されてもよいアルキルチオ基、アリー
ルチオ基、ヘテロアリールチオ基;
W 1 is an oxygen atom, a sulfur atom, or NH
In it, W 2 is a nitrogen atom or a carbon atom,, W 2
Is n = 0 when n is a nitrogen atom, n = 1 when W 2 is a carbon atom
It is. R 11 and R 12 each independently represent: (a) a hydrogen atom; (b) a methyl group, an ethyl group, a 2-methoxyethyl group,
-(N, N-dimethylaminocarbonol) -propyl group, allyl group, lower alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted such as 3-butynyl group, lower alkenyl group, lower alkynyl group; c) cyclohexyl group, cyclohex-1-cene-1-
An optionally substituted cycloalkyl group or cycloalkenyl group such as an yl group; (d) an optionally substituted cycloalkyl group such as a phenyl group, a phenylmethyl group, a 2-phenylvinyl group or a 4-phenyl-2-butynyl group; Aryl group, arylalkyl group, arylalkenyl group, arylalkynyl group; (e) 2-pyridyl group, 2-pyrazinylmethyl group, 2-
(3-pyridyl) -vinyl group, 5- (4-pyridyl)-
Heteroaryl group such as 3-pentynyl group, heteroarylalkyl group, heteroarylalkenyl group, heteroarylalkynyl group; (f) dimethylamino group, 1-allyloxycarbonyl-4-piperazinyl group, 1-allyloxycarbonyl-
An optionally substituted amino group such as a 1,2,5,6-tetrahydropyridin-4-yl group, a cyclic amino group having a 3- to 8-membered ring; (g) a 2-oxotetrahydrofuran-3-yl group, 3
An optionally substituted 3- to 8-membered cyclic lactone group or cyclic lactam group such as an aza-2-oxocyclopentyl group; (h) a hydroxyl group; (i) a methoxy group, an allyloxy group, a 2-butynyloxy group, or a phenoxy group A lower alkyloxy group having 1 to 6 carbon atoms, a lower alkenyloxy group, a lower alkynyloxy group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, which may be substituted, such as a 2-pyridyloxy group; An optionally substituted alkylthio group, an arylthio group, a heteroarylthio group such as a phenylthio group or a 2-pyridylthio group;

【0017】(k)N,N−ジメチルカルバモイル基の
ような置換されてもよいカルバモイル基; (l)カルボキシル基; (m)エチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボ
ニル基、2−プロピニルオキシカルボニル基、フェニル
オキシカルボニル基、4−ピリジルオキシカルボニル基
のような置換されてもよい低級アルコキシカルボニル
基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニ
ルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
ヘテロアリールオキシカルボニル基; (n)エチルオキシカルボニルオキシ基、アリルオキシ
カルボニルオキシ基礎、2−プロピニルオキシカルボニ
ルオキシ基、フェニルオキシカルボニルオキシ基、4−
ピリジルオキシカルボニルオキシ基のような置換されて
もよい低級アルコキシカルボニルオキシ基、低級アルケ
ニルオキシカルボニルオキシ基、低級アルキニルオキシ
カルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ
基、ヘテロアリールオキシカルボニルオキシ基; (o)ハロゲン原子; (p)ニトロ基; (q)シアノ基; (r)メタンスルホニル基、フェニルスルホニル基のよ
うなアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基; (s)エタンスルフィニル基、フェニルスルフィニル基
のようなアルキルスルフィニル基、アリールスルフィニ
ル基; のいずれかを示すか、または、R11およびR12でシ
クロヘキセン環、ベンゼン環、ジヒドロピリジン環、イ
ミダゾール環、オキサゾール環、フラン環、チアゾール
環、イソオキサゾール環のような互いに結合するメチレ
ン鎖、メチン鎖、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄
原子、のいずれかとともに4〜8員環の置換されてもよ
いシクロアルケニル基、シクロアリール基、ヘテロシク
ロアルケニル基、ヘテロシクロアリール基を意味する。
(K) an optionally substituted carbamoyl group such as an N, N-dimethylcarbamoyl group; (1) a carboxyl group; (m) an ethyloxycarbonyl group, an allyloxycarbonyl group, a 2-propynyloxycarbonyl group, A phenyloxycarbonyl group, an optionally substituted lower alkoxycarbonyl group such as a 4-pyridyloxycarbonyl group, a lower alkenyloxycarbonyl group, a lower alkynyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group,
Heteroaryloxycarbonyl group; (n) ethyloxycarbonyloxy group, allyloxycarbonyloxy basis, 2-propynyloxycarbonyloxy group, phenyloxycarbonyloxy group, 4-
A lower alkoxycarbonyloxy group which may be substituted, such as a pyridyloxycarbonyloxy group, a lower alkenyloxycarbonyloxy group, a lower alkynyloxycarbonyloxy group, an aryloxycarbonyloxy group, a heteroaryloxycarbonyloxy group; (o) halogen (P) nitro group; (q) cyano group; (r) alkylsulfonyl group such as methanesulfonyl group and phenylsulfonyl group, arylsulfonyl group; (s) alkylsulfinyl group such as ethanesulfinyl group and phenylsulfinyl group group, an arylsulfinyl group, one or shown, or, a cyclohexene ring in R 11 and R 12, a benzene ring, dihydropyridine ring, an imidazole ring, an oxazole ring, a furan ring, a thiazole ring, Isoo A methylene chain, a methine chain, a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, or a 4- to 8-membered optionally substituted cycloalkenyl group, cycloaryl group, hetero atom It means a cycloalkenyl group or a heterocycloaryl group.

【0018】上述の基における置換基は、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、
アミノ基、モノおよびジアルキルアミノ基、トリアルキ
ルアンモニウム基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、
アルキルチオ基、フェニルチオ基などのアリールチオ
基、スルファモイル基、アミジノ基、グアニジノ基、ニ
トロ基、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、
アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、カル
バモイル基、必要に応じて1〜2個の低級アルキル基で
置換されたカルバモイル基、さらには上記の置換基で置
換された低級アルキル基;からなる群から選ばれる。〕 前記一般式(8)で表されるチオール化合物が塩基との
塩を形成する場合における塩基との塩としては、リチウ
ム塩、ナトリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩
などがあげられる。
The substituents in the above-mentioned groups include a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkoxycarbonyl group,
Amino group, mono- and dialkylamino group, trialkylammonium group, hydroxyl group, carboxyl group,
Alkylthio group, arylthio group such as phenylthio group, sulfamoyl group, amidino group, guanidino group, nitro group, halogen atom, hydroxyl group, cyano group, nitro group,
An alkylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, a carbamoyl group, a carbamoyl group optionally substituted with one or two lower alkyl groups, and a lower alkyl group substituted with the above substituents; . When the thiol compound represented by the general formula (8) forms a salt with a base, examples of the salt with the base include alkali metal salts such as a lithium salt, a sodium salt, and a potassium salt.

【0019】一般式(1)あるいは(2)で示されるカ
ルバペネム誘導体、および一般式(9)で示される置換
カルバペネム誘導体には、カルバペネム部4位、5位、
および6位の不斉炭素に基づく立体異性体が存在し、こ
れら異性体が便宜上すべて単一の式で示されているが、
もちろん本発明はこれら異性体をすべて含むものであ
る。しかしながら、カルバペネム化合物の中間体として
好適なものとしては、4位については置換されていても
よい低級アルキル基がβ配位であり、5位については水
素原子がα配位であり、6位については水素原子がβ配
位の化合物を挙げることができる。
The carbapenem derivative represented by the general formula (1) or (2) and the substituted carbapenem derivative represented by the general formula (9) include a carbapenem moiety at the 4-position, 5-position,
And stereoisomers based on the asymmetric carbon at the 6-position, all of which are conveniently represented by a single formula,
Of course, the present invention includes all of these isomers. However, as a suitable intermediate for the carbapenem compound, a lower alkyl group which may be substituted at the 4-position is β-coordinate, a hydrogen atom at the 5-position is α-coordination, and Is a compound in which a hydrogen atom is β-coordinate.

【0020】以下、本発明の化合物(1)および(2)
の製造方法、さらに化合物(1)あるいは(2)から一
般式(9)で表される置換カルバペネム誘導体の製造方
法を詳細に説明する。 (1)工程1
Hereinafter, the compounds (1) and (2) of the present invention
And the method for producing the substituted carbapenem derivative represented by the general formula (9) from the compound (1) or (2) will be described in detail. (1) Step 1

【化22】 Embedded image

【0021】〔式中、R 、R 、R 、Z、Yお
よびQは、前記と同じ意味を示し、Bはアルカリ金属原
子を示し、R−Aはアルキル化剤あるいはアシル化剤を
示す。〕 化合物(1)あるいは化合物(2)は、工程1−(i)
において化合物(3)を塩基と反応させ、必要に応じ
て、反応液中の前記一般式(4)で表される残基を捕捉
し、次いで工程1−(ii)において塩基の存在下、化
合物(5)と反応させるか、あるいは工程1−(ii
i)において塩基の存在下、化合物(7)と反応させる
ことにより製造することができる。工程1−(i)、1
−(ii)あるいは工程1−(iii)は同様の態様で
行うことができるのであわせて説明する。工程1−
(i)、(ii)あるいは(iii)の反応は、例え
ば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等
の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、N,N−ジメチ
ルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメ
チルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリックトリアミ
ド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒類などの、反
応に悪影響を及ぼさない常用の溶媒、もしくはその混合
溶媒などを使用して行う。反応温度は特に限定されない
が、通常は冷却下または室温で行う。好ましくは−78
℃から10℃の間で行う。
[Wherein R 1 , R 2 , R 3 , Z, Y and Q have the same meanings as above, B represents an alkali metal atom, and RA represents an alkylating agent or an acylating agent. Show. The compound (1) or the compound (2) is obtained in Step 1- (i)
In step 1), the compound (3) is reacted with a base, and if necessary, the residue represented by the general formula (4) in the reaction solution is captured. Then, in step 1- (ii), the compound is reacted in the presence of a base. (5) or in step 1- (ii)
In i), it can be produced by reacting with compound (7) in the presence of a base. Step 1- (i), 1
-(Ii) or step 1- (iii) can be performed in a similar manner, and will be described together. Step 1-
The reaction (i), (ii) or (iii) includes, for example, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, acetonitrile, Conventional solvents that do not adversely affect the reaction, such as aprotic polar solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphoric triamide, and sulfolane, or a mixed solvent thereof And so on. The reaction temperature is not particularly limited, but is usually performed under cooling or at room temperature. Preferably -78
It is carried out between 10 ° C and 10 ° C.

【0022】工程1−(i)で使用される塩基として
は、例えば、リチウムイソプロピルアミド、リチウムビ
ス(トリメチルシリル)アミド、ソジウムアミドなどの
アミン類の金属塩、水素化ナトリウム、水素化カリウム
などの水素化アルカリ金属類、ソジウムメチルスルフィ
ニルメチド、ソジウムアミドなどのアミン類の金属塩を
あげることができる。これら塩基は、反応が充分に進行
するだけの量を用いることが望ましく、適当量は化合物
(3)に対して1.5〜3当量ということができる。
The base used in step 1- (i) includes, for example, metal salts of amines such as lithium isopropylamide, lithium bis (trimethylsilyl) amide and sodium amide; and hydrogenation such as sodium hydride and potassium hydride. Examples thereof include metal salts of amines such as alkali metals, sodium methylsulfinyl methide, and sodium amide. These bases are desirably used in an amount sufficient for the reaction to proceed sufficiently, and an appropriate amount can be said to be 1.5 to 3 equivalents to compound (3).

【0023】工程1−(i)で加える、反応液中の一般
式(4)で表される残基の捕捉剤(R−A)としては、
ヨードメタン、ヨードプロパン、臭化アリル、臭化ベン
ジル、p−トルエンスルホン酸メチルエステルなどのア
ルキル化剤、p−トルエンスルホニルクロリド、メタン
スルホニルクロリドなどのアシル化剤があげられる。こ
れらの捕捉剤は、反応が充分に進行するだけの量を用い
ることが望ましく、適当量は化合物(3)に対して0.
8〜1.5当量ということができる。これらの捕捉剤を
加えないで反応を行うこともできるが、通常は加えた方
が好ましい。またこれらの捕捉剤はあらかじめ塩基を加
える前に反応液に加えておいてもよいし、塩基を加えた
後に加えてもよい。工程1−(ii)で加える化合物
(5)は反応が充分に進行するだけの量を用いることが
望ましく、適当量は化合物(3)に対して0.4〜0.
8当量ということができる。工程1−(iii)で加え
る化合物(7)は反応が充分に進行するだけの量を用い
ることが望ましく、適当量は化合物(3)に対して0.
2〜0.6当量ということができる。工程1で得られた
化合物(1)あるいは(2)は、通常の有機化学的手法
により単離、精製することが可能であるが、通常は化合
物(1)あるいは(2)は単離する必要はなく、分離ま
たは精製せずにこのまま使用することが好ましい。
As the scavenger (RA) for the residue represented by the general formula (4) in the reaction solution, which is added in step 1- (i),
Examples include alkylating agents such as iodomethane, iodopropane, allyl bromide, benzyl bromide, and methyl ester of p-toluenesulfonic acid, and acylating agents such as p-toluenesulfonyl chloride and methanesulfonyl chloride. These scavengers are desirably used in such an amount that the reaction proceeds sufficiently.
It can be said to be 8 to 1.5 equivalents. Although the reaction can be carried out without adding these scavengers, it is usually preferable to add them. These scavengers may be added to the reaction solution before the base is added, or may be added after the base is added. The compound (5) added in the step 1- (ii) is desirably used in such an amount that the reaction proceeds sufficiently.
It can be said to be 8 equivalents. The compound (7) to be added in the step 1- (iii) is desirably used in such an amount that the reaction proceeds sufficiently.
It can be said that it is 2 to 0.6 equivalent. The compound (1) or (2) obtained in the step 1 can be isolated and purified by a usual organic chemical technique, but usually the compound (1) or (2) needs to be isolated. And it is preferable to use it as is without separation or purification.

【0024】(2)工程2および工程3(2) Step 2 and Step 3

【化23】 〔式中、R 、R 、R 、YおよびQは、前記と
同じ意味を示す。〕 化合物(1)あるいは化合物(2)は、化合物(6)を
塩基の存在下、化合物(5)あるいは化合物(7)と反
応させることにより製造することができる。工程2ある
いは工程3は同様の態様で行うことができるのであわせ
て説明する。工程2あるいは工程3で使用される溶媒と
しては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル
等のエーテル類、塩化メチレン、クロロホルム、1,2
−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭
化水素類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムア
ミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホ
キシド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、スルホ
ラン等の非プロトン性極性溶媒類、酢酸エチル等の酢酸
エステル類のような反応に悪影響を及ぼさない常用の溶
媒、もしくはこれらの混合溶媒を使用して行うことがで
きる。反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ま
たは室温で行う。好ましくは−78℃から10℃の間で
行う。
Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , Y and Q have the same meaning as described above. Compound (1) or compound (2) can be produced by reacting compound (6) with compound (5) or compound (7) in the presence of a base. Step 2 or step 3 can be performed in a similar manner, and will be described together. Examples of the solvent used in the step 2 or the step 3 include ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, and ethylene glycol dimethyl ether; methylene chloride; chloroform;
Halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, acetonitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphoric trioxide The reaction can be carried out using a non-protonic polar solvent such as amide and sulfolane, a common solvent that does not adversely affect the reaction such as an acetate ester such as ethyl acetate, or a mixed solvent thereof. The reaction temperature is not particularly limited, but is usually performed under cooling or at room temperature. It is preferably carried out between -78 ° C and 10 ° C.

【0025】工程2あるいは工程3で使用される塩基と
しては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ンなどのトリアルキルアミン、ピリジン、ルチジン、ピ
コリン、4−ジメチルアミノピリジンなどのピリジン化
合物、キノリン、イミダゾール、N−メチルピロリジ
ン、1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノン−5−
エン(DBN)、1,4−ジアザビシクロ〔2.2.
2〕オクタン(DABCO)、1,8−ジアザビシクロ
〔5.4.0〕ウンデシ−7−エン(DBU)などを挙
げることができる。これら塩基は、反応が充分に進行す
るだけの量を用いることが望ましく、適当量は、化合物
(6)に対して、0.8〜2当量ということができる。
工程2あるいは工程3で加える化合物(5)あるいは化
合物(7)は反応が充分に進行するだけの量を用いるこ
とが望ましく、化合物(5)あるいは化合物(7)の適
当量は、それぞれ化合物(6)に対して0.4〜0.8
当量、0.2〜0.6当量ということができる。工程2
あるいは工程3で得られた化合物(1)あるいは(2)
は、通常の有機化学的手法により単離、精製することが
可能であるが、通常は化合物(1)あるいは(2)は単
離する必要はなく、分離または精製せずにこのまま使用
することが好ましい。
The base used in step 2 or 3 includes trialkylamines such as triethylamine and diisopropylethylamine, pyridine compounds such as pyridine, lutidine, picoline and 4-dimethylaminopyridine, quinoline, imidazole and N-methylpyrrolidine. , 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-
Ene (DBN), 1,4-diazabicyclo [2.2.
2] octane (DABCO), 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DBU) and the like. These bases are desirably used in an amount sufficient for the reaction to proceed sufficiently, and an appropriate amount can be said to be 0.8 to 2 equivalents to compound (6).
The compound (5) or the compound (7) added in the step 2 or the step 3 is desirably used in such an amount that the reaction proceeds sufficiently, and an appropriate amount of the compound (5) or the compound (7) is 0.4) to 0.8
Equivalent, that is, 0.2 to 0.6 equivalent. Step 2
Alternatively, compound (1) or (2) obtained in step 3
Can be isolated and purified by ordinary organic chemistry techniques, but usually it is not necessary to isolate compound (1) or (2), and the compound can be used as is without separation or purification. preferable.

【0026】(3)工程4および工程5(3) Step 4 and Step 5

【化24】 〔式中、R 、R 、R 、R 、Y、およびQは
前記と同じ意味を示す。〕 化合物(9)は、化合物(1)あるいは化合物(2)を
塩基の存在下、化合物(8)と反応させることにより製
造することができる。工程4あるいは工程5は同様の態
様で行うことができるのであわせて説明する。工程4あ
るいは工程5で使用される溶媒としては、例えば、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチ
レングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、塩化
メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等の
ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトニト
リル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチル
ホスホリックトリアミド、スルホラン等の非プロトン性
極性溶媒類、酢酸エチル等の酢酸エステル類のような反
応に悪影響を及ぼさない常用の溶媒、もしくはこれらの
混合溶媒を使用して行うことができる。反応温度は特に
限定されないが、通常は冷却下または室温で行う。好ま
しくは−50℃から20℃の間で行う。工程4あるいは
工程5は、工程1、工程2あるいは工程3から引き続い
て行うことも可能であり、その場合には工程1、工程2
あるいは工程3で使用した溶媒中で反応を行うことが可
能であり、あるいは必要に応じて、上述の溶媒のいずれ
かを加えてもよい。
Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , Y, and Q have the same meaning as described above. Compound (9) can be produced by reacting compound (1) or compound (2) with compound (8) in the presence of a base. Step 4 or step 5 can be performed in a similar manner, and will be described together. Examples of the solvent used in step 4 or 5 include ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, methylene chloride, chloroform, halogenated hydrocarbons such as 1,2-dichloroethane, benzene, Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and chlorobenzene, aprotic polar solvents such as acetonitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphoric triamide, and sulfolane; The reaction can be carried out using a common solvent that does not adversely affect the reaction, such as an acetate ester such as ethyl acetate, or a mixed solvent thereof. The reaction temperature is not particularly limited, but is usually performed under cooling or at room temperature. Preferably, it is carried out at a temperature between -50 ° C and 20 ° C. Step 4 or Step 5 can be performed subsequently to Step 1, Step 2 or Step 3, in which case Step 1 or Step 2
Alternatively, the reaction can be carried out in the solvent used in step 3, or if necessary, any of the above-mentioned solvents may be added.

【0027】工程4あるいは工程5で使用される塩基と
しては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ンなどのトリアルキルアミン、ピリジン、ルチジン、ピ
コリン、4−ジメチルアミノピリジンなどのピリジン化
合物、キノリン、イミダゾール、N−メチルピロリジ
ン、1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノン−5−
エン(DBN)、1,4−ジアザビシクロ〔2.2.
2〕オクタン(DABCO)、1,8−ジアザビシクロ
〔5.4.0〕ウンデシ−7−エン(DBU)などを挙
げることができる。工程4あるいは工程5を、工程2あ
るいは工程3から引き続いて行う場合、その際に使用さ
れる塩基は工程2あるいは工程3で使用した塩基と同じ
であっても、あるいは異なってもよい。工程4あるいは
工程5で加える塩基は反応が充分に進行するだけの量を
用いることが望ましく、適当量は、工程4あるいは工程
5それぞれにおいて、化合物(1)あるいは化合物
(2)に対して、それぞれ1.8〜4当量、2.7〜6
当量が好ましい。
The base used in step 4 or 5 includes trialkylamines such as triethylamine and diisopropylethylamine, pyridine compounds such as pyridine, lutidine, picoline and 4-dimethylaminopyridine, quinoline, imidazole and N-methylpyrrolidine. , 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-
Ene (DBN), 1,4-diazabicyclo [2.2.
2] octane (DABCO), 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DBU) and the like. When Step 4 or Step 5 is performed subsequently to Step 2 or Step 3, the base used at that time may be the same as or different from the base used in Step 2 or Step 3. The base added in Step 4 or Step 5 is desirably used in such an amount that the reaction sufficiently proceeds. In Step 4 or Step 5, respectively, an appropriate amount is determined based on Compound (1) or Compound (2), respectively. 1.8-4 equivalents, 2.7-6
Equivalents are preferred.

【0028】工程4あるいは工程5で加える化合物
(8)は反応が充分に進行するだけの量を用いることが
望ましく、適当量は、工程4あるいは工程5それぞれに
おいて、化合物(1)あるいは化合物(2)に対して、
それぞれ1.6〜3当量、2.4〜4.5当量が好まし
い。工程4あるいは工程5で得られた化合物(9)は、
通常の有機化学的手法により単離、精製することが可能
であり、あるいは分離または精製せずにこのまま次反応
に使用することも可能である。上記の工程1、2、3、
4、あるいは5において、一般式(3)あるいは一般式
(6)におけるR が置換されてもよい低級アルキル
基である場合には、R の結合する不斉炭素の立体は
保持したまま、カルバペネム誘導体(1)あるいは
(2)、あるいは置換カルバペネム誘導体(9)が得ら
れる。
Compound added in step 4 or step 5
For (8), use an amount that allows the reaction to proceed sufficiently.
Desirably, an appropriate amount is used in step 4 or step 5, respectively.
Where, for compound (1) or compound (2),
1.6 to 3 equivalents, 2.4 to 4.5 equivalents are preferred, respectively.
No. Compound (9) obtained in Step 4 or Step 5 is
Can be isolated and purified by ordinary organic chemical techniques
Or the next reaction without separation or purification
It is also possible to use it. The above steps 1, 2, 3,
In general formula (3) or general formula (4) or (5)
R in (6)2 May be substituted with lower alkyl
If it is a group 2 Of the asymmetric carbon to which
Carbapenem derivative (1) or
(2) or a substituted carbapenem derivative (9) is obtained.
It is.

【0029】上記工程1−(i),1−(ii)の方法
あるいは工程2の方法により、一般式(1)で表される
化合物、具体的には例えば、ビス〔(4R,5R,6
S)−2−アリルオキシカルボニル−4−メチル−6−
((R)−1−トリメチルシリルオキシエチル)−1−
アザ−7−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−
エン−3−イル〕 フェニル ホスフェ−ト;ビス
〔(5R,6S)−2−アリルオキシカルボニル−6−
((R)−1−トリメチルシリルオキシエチル)−1−
アザ−7−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−
エン−3−イル〕 フェニル ホスフェ−ト;ビス
〔(4R,5R,6S)−2−アリルオキシカルボニル
−4−メチル−6−((R)−1−トリメチルシリルオ
キシエチル)−1−アザ−7−オキソビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−3−イル〕 p−メトキシ
フェニル ホスフェ−ト;ビス〔(4R,5R,6S)
−2−アリルオキシカルボニル−4−メチル−6−
((R)−1−トリメチルシリルオキシエチル)−1−
アザ−7−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−
エン−3−イル〕 N,N−ジメチルホスホロアミデー
ト;
The compound represented by the general formula (1), specifically, for example, bis [(4R, 5R, 6) is obtained by the method of Step 1- (i), 1- (ii) or the method of Step 2.
S) -2-Allyloxycarbonyl-4-methyl-6
((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-
Aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2-
En-3-yl] phenyl phosphate; bis [(5R, 6S) -2-allyloxycarbonyl-6-
((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-
Aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2-
En-3-yl] phenyl phosphate; bis [(4R, 5R, 6S) -2-allyloxycarbonyl-4-methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-aza-7 -Oxobicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-3-yl] p-methoxyphenyl phosphate; bis [(4R, 5R, 6S)
-2-allyloxycarbonyl-4-methyl-6-
((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-
Aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2-
[En-3-yl] N, N-dimethyl phosphoramidate;

【0030】ビス〔(4R,5R,6S)−2−アリル
オキシカルボニル−4−メチル−6−((R)−1−ト
リメチルシリルオキシエチル)−1−アザ−7−オキソ
ビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−3−イル〕
N−フェニルホスホロアミデート;ビス〔(4R,5
R,6S)−2−アリルオキシカルボニル−4−メチル
−6−((R)−1−トリメチルシリルオキシエチル)
−1−アザ−7−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプト
−2−エン−3−イル〕 N−(p−クロロフェニル)
ホスホロアミデート;ビス〔(4R,5R,6S)−2
−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−4−メチ
ル−6−((R)−1−tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル)−1−アザ−7−オキソビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−3−イル〕 フェニ
ル ホスフェ−ト;ビス〔(5R,6S)−2−(p−
ニトロベンジルオキシカルボニル)−6−((R)−1
−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−1
−アザ−7−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2
−エン−3−イル〕 フェニル ホスフェ−ト;ビス
〔(4R,5R,6S)−2−(p−ニトロベンジルオ
キシカルボニル)−4−メチル−6−((R)−1−t
ert−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−1−ア
ザ−7−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エ
ン−3−イル〕 p−メトキシフェニル ホスフェ−
ト;ビス〔(4R,5R,6S)−2−(p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル)−4−メチル−6−((R)
−1−トリメチルシリルオキシエチル)−1−アザ−7
−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−3
−イル〕 フェニルホスフェ−ト;ビス〔(4R,5
R,6S)−2−ベンジルオキシカルボニル−4−メチ
ル−6−((R)−1−tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル)−1−アザ−7−オキソビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−3−イル〕 フェニ
ルホスフェ−ト;ビス〔(4R,5R,6S)−2−ア
リルオキシカルボニル−4−メチル−6−((R)−1
−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−1
−アザ−7−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2
−エン−3−イル〕 フェニル ホスフェ−ト;ビス
〔(4R,5R,6S)−2−アリルオキシカルボニル
−4−メチル−6−((R)−1−ヒドロキシエチル)
−1−アザ−7−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプト
−2−エン−3−イル〕 フェニル ホスフェート;ビ
ス〔(4R,5R,6S)−2−(p−ニトロベンジル
オキシカルボニル)−4−メチル−6−((R)−1−
ヒドロキシエチル)−1−アザ−7−オキソビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−3−イル〕 フェニ
ル ホスフェート;ビス〔(4R,5R,6S)−2−
アリルオキシカルボニル−4−メチル−6−((R)−
1−トリメチルシリルオキシエチル)−1−アザ−7−
オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−3−
イル〕 メチル ホスフェート;ビス〔(4R,5R,
6S)−2−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)
−4−メチル−6−((R)−1−トリメチルシリルオ
キシエチル)−1−アザ−7−オキソビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−3−イル〕 メチル ホス
フェート;ビス〔(4R,5R,6S)−2−アリルオ
キシカルボニル−4−メチル−6−((R)−1−ヒド
ロキシエチル)−1−アザ−7−オキソビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−3−イル〕 メチル ホス
フェート;ビス〔(4R,5R,6S)−2−(p−ニ
トロベンジルオキシカルボニル)−4−メチル−6−
((R)−1−ヒドロキシエチル)−1−アザ−7−オ
キソビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−3−イ
ル〕 メチル ホスフェート;が得られる。
Bis [(4R, 5R, 6S) -2-allyloxycarbonyl-4-methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-aza-7-oxobicyclo [3.2. 0] Hept-2-en-3-yl]
N-phenyl phosphoramidate; bis [(4R, 5
(R, 6S) -2-allyloxycarbonyl-4-methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl)
-1-aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2-en-3-yl] N- (p-chlorophenyl)
Phosphoramidate; bis [(4R, 5R, 6S) -2
-(P-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-methyl-6-((R) -1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl) -1-aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2 -En-3-yl] phenyl phosphate; bis [(5R, 6S) -2- (p-
Nitrobenzyloxycarbonyl) -6-((R) -1
-Tert-butyldimethylsilyloxyethyl) -1
-Aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2
-En-3-yl] phenyl phosphate; bis [(4R, 5R, 6S) -2- (p-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-methyl-6-((R) -1-t
tert-butyldimethylsilyloxyethyl) -1-aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2-en-3-yl] p-methoxyphenylphosphe-
G; bis [(4R, 5R, 6S) -2- (p-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-methyl-6-((R)
-1-trimethylsilyloxyethyl) -1-aza-7
-Oxobicyclo [3.2.0] hept-2-ene-3
-Yl] phenyl phosphate; bis [(4R, 5
(R, 6S) -2-benzyloxycarbonyl-4-methyl-6-((R) -1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl) -1-aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept- 2-en-3-yl] phenyl phosphate; bis [(4R, 5R, 6S) -2-allyloxycarbonyl-4-methyl-6-((R) -1
-Tert-butyldimethylsilyloxyethyl) -1
-Aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2
-En-3-yl] phenyl phosphate; bis [(4R, 5R, 6S) -2-allyloxycarbonyl-4-methyl-6-((R) -1-hydroxyethyl)
-1-aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2-en-3-yl] phenyl phosphate; bis [(4R, 5R, 6S) -2- (p-nitrobenzyloxycarbonyl)- 4-methyl-6-((R) -1-
Hydroxyethyl) -1-aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2-en-3-yl] phenyl phosphate; bis [(4R, 5R, 6S) -2-
Allyloxycarbonyl-4-methyl-6-((R)-
1-trimethylsilyloxyethyl) -1-aza-7-
Oxobicyclo [3.2.0] hept-2-en-3-
Yl] methyl phosphate; bis [(4R, 5R,
6S) -2- (p-nitrobenzyloxycarbonyl)
-4-methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-aza-7-oxobicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-3-yl] methyl phosphate; bis [(4R, 5R, 6S) -2-allyloxycarbonyl-4-methyl-6-((R) -1-hydroxyethyl)- 1-aza-7-oxobicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-3-yl] methyl phosphate; bis [(4R, 5R, 6S) -2- (p-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-methyl-6-
((R) -1-hydroxyethyl) -1-aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2-en-3-yl] methyl phosphate;

【0031】上記工程1−(i),1−(iii)の方
法あるいは工程3の方法により、一般式(2)で表され
る化合物、具体的には例えば、トリス〔(4R,5R,
6S)−2−アリルオキシカルボニル−4−メチル−6
−((R)−1−トリメチルシリルオキシエチル)−1
−アザ−7−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2
−エン−3−イル〕 ホスフェ−ト;トリス〔(5R,
6S)−2−アリルオキシカルボニル−6−((R)−
1−トリメチルシリルオキシエチル)−1−アザ−7−
オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−3−
イル〕 ホスフェ−ト;トリス〔(4R,5R,6S)
−3−〔2−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)
−4−メチル−6−((R)−1−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル)−1−アザ−7−オキソビ
シクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−3−イル〕
ホスフェ−ト;トリス〔(5R,6S)−2−(p−ニ
トロベンジルオキシカルボニル)−6−((R)−1−
tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−1−
アザ−7−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−
エン−3−イル〕 ホスフェ−ト;トリス〔(4R,5
R,6S)−2−ベンジルオキシカルボニル−4−メチ
ル−6−((R)−1−tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル)−1−アザ−7−オキソビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−3−イル〕 ホスフ
ェ−ト;トリス〔(4R,5R,6S)−2−(p−ニ
トロベンジルオキシカルボニル)−4−メチル−6−
((R)−1−トリメチルシリルオキシエチル)−1−
アザ−7−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−
エン−3−イル〕 ホスフェ−ト;
The compound represented by formula (2), specifically, for example, tris [(4R, 5R,
6S) -2-Allyloxycarbonyl-4-methyl-6
-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1
-Aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2
-En-3-yl] phosphate; tris [(5R,
6S) -2-allyloxycarbonyl-6-((R)-
1-trimethylsilyloxyethyl) -1-aza-7-
Oxobicyclo [3.2.0] hept-2-en-3-
Yl] phosphate; tris [(4R, 5R, 6S)
-3- [2- (p-nitrobenzyloxycarbonyl)
-4-methyl-6-((R) -1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl) -1-aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2-en-3-yl]
Phosphate; Tris [(5R, 6S) -2- (p-nitrobenzyloxycarbonyl) -6-((R) -1-
tert-butyldimethylsilyloxyethyl) -1-
Aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2-
En-3-yl] phosphate; tris [(4R, 5
(R, 6S) -2-benzyloxycarbonyl-4-methyl-6-((R) -1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl) -1-aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept- 2-en-3-yl] phosphate; tris [(4R, 5R, 6S) -2- (p-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-methyl-6-
((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-
Aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2-
[En-3-yl] phosphate;

【0032】トリス〔(4R,5R,6S)−2−アリ
ルオキシカルボニル−4−メチル−6−((R)−1−
tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−1−
アザ−7−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−
エン−3−イル〕 ホスフェ−ト;トリス〔(4R,5
R,6S)−2−アリルオキシカルボニル−4−メチル
−6−((R)−1−トリメチルシリルオキシエチル)
−1−アザ−7−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプト
−2−エン−3−イル〕 チオホスフェ−ト;トリス
〔(5R,6S)−2−(p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル)−6−((R)−1−tert−ブチルジメ
チルシリルオキシエチル)−1−アザ−7−オキソビシ
クロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−3−イル〕 チ
オホスフェ−ト;トリス〔(4R,5R,6S)−2−
アリルオキシカルボニル−4−メチル−6−((R)−
1−ヒドロキシエチル)−1−アザ−7−オキソビシク
ロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−3−イル〕 ホス
フェート;トリス〔(4R,5R,6S)−2−(p−
ニトロベンジルオキシカルボニル)−4−メチル−6−
((R)−1−ヒドロキシエチル)−1−アザ−7−オ
キソビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−3−イ
ル〕 ホスフェート;トリス〔(4R,5R,6S)−
2−アリルオキシカルボニル−4−メチル−6−
((R)−1−ヒドロキシエチル)−1−アザ−7−オ
キソビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−3−イ
ル〕 チオホスフェート;トリス〔(4R,5R,6
S)−2−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−
4−メチル−6−((R)−1−ヒドロキシエチル)−
1−アザ−7−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−
2−エン−3−イル〕 チオホスフェート;が得られ
る。
Tris [(4R, 5R, 6S) -2-allyloxycarbonyl-4-methyl-6-((R) -1-
tert-butyldimethylsilyloxyethyl) -1-
Aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2-
En-3-yl] phosphate; tris [(4R, 5
(R, 6S) -2-allyloxycarbonyl-4-methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl)
-1-aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2-en-3-yl] thiophosphate; tris [(5R, 6S) -2- (p-nitrobenzyloxycarbonyl) -6 -((R) -1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl) -1-aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2-en-3-yl] thiophosphate; tris [(4R , 5R, 6S) -2-
Allyloxycarbonyl-4-methyl-6-((R)-
1-hydroxyethyl) -1-aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2-en-3-yl] phosphate; tris [(4R, 5R, 6S) -2- (p-
Nitrobenzyloxycarbonyl) -4-methyl-6-
((R) -1-hydroxyethyl) -1-aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2-en-3-yl] phosphate; tris [(4R, 5R, 6S)-
2-allyloxycarbonyl-4-methyl-6-
((R) -1-hydroxyethyl) -1-aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2-en-3-yl] thiophosphate; tris [(4R, 5R, 6
S) -2- (p-Nitrobenzyloxycarbonyl)-
4-methyl-6-((R) -1-hydroxyethyl)-
1-aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-
2-en-3-yl] thiophosphate;

【0033】上記工程4あるいは工程5の方法により、
一般式(9)で表される化合物、具体的には例えば、ア
リル (4R,5S,6S)−3−〔(2S,4S)−
1−アリルオキシカルボニル−2−ジメチルアミノカル
ボニル−4−ピロジニルチオ〕−4−メチル−6−
((R)−1−トリメチルシリルオキシエチル)−1−
アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オ
ン−2−カルボキシレート;ベンジル (4R,5S,
6S)−3−〔(2S,4S)−1−アリルオキシカル
ボニル−2−ジメチルアミノカルボニル−4−ピロジニ
ルチオ〕−4−メチル−6−((R)−1−トリメチル
シリルオキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.
0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシレー
ト;アリル (4R,5S,6S)−3−〔(2S,4
S)−1−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−
2−ジメチルアミノカルボニル−4−ピロジニルチオ〕
−4−メチル−6−((R)−1−トリメチルシリルオ
キシエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト
−2−エン−7−オン−2−カルボキシレート;アリル
(4R,5S,6S)−3−〔(2S,4S)−1−
ベンジルオキシカルボニル−2−ジメチルアミノカルボ
ニル−4−ピロジニルチオ〕−4−メチル−6−
((R)−1−トリメチルシリルオキシエチル)−1−
アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オ
ン−2−カルボキシレート;アリル (4R,5S,6
S)−3−〔(2S,4S)−1−アリルオキシカルボ
ニル)−2−(1−ピロリジニルカルボニル)−4−ピ
ロジニルチオ〕−4−メチル−6−((R)−1−トリ
メチルシリルオキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート;アリル (4R,5S,6S)−3−〔(2
S,4S)−1−(p−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル)−2−(1−ピロリジニルカルボニル)−4−ピロ
ジニルチオ〕−4−メチル−6−((R)−1−トリメ
チルシリルオキシエル)−1−アザビシクロ〔3.2.
0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシレー
ト;
According to the method of the above step 4 or step 5,
The compound represented by the general formula (9), specifically, for example, allyl (4R, 5S, 6S) -3-[(2S, 4S)-
1-allyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonyl-4-pyridinylthio] -4-methyl-6
((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-
Azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate; benzyl (4R, 5S,
6S) -3-[(2S, 4S) -1-allyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonyl-4-pyridinylthio] -4-methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.
0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate; allyl (4R, 5S, 6S) -3-[(2S, 4
S) -1- (p-Nitrobenzyloxycarbonyl)-
2-dimethylaminocarbonyl-4-pyridinylthio]
-4-methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate; allyl (4R, 5S, 6S) -3-[(2S, 4S) -1-
Benzyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonyl-4-pyridinylthio] -4-methyl-6
((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-
Azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate; allyl (4R, 5S, 6
S) -3-[(2S, 4S) -1-allyloxycarbonyl) -2- (1-pyrrolidinylcarbonyl) -4-pyridinylthio] -4-methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxy Ethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate; allyl (4R, 5S, 6S) -3-[(2
(S, 4S) -1- (p-nitrobenzyloxycarbonyl) -2- (1-pyrrolidinylcarbonyl) -4-pyridinylthio] -4-methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxyl)- 1-azabicyclo [3.2.
0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate;

【0034】アリル (4R,5S,6S)−3−
〔(2S,4S)−1−アリルオキシカルボニル−2−
(4−メチル−1−ピペラジニルカルボニル)−4−ピ
ロリジニルチオ〕−4−メチル−6−((R)−1−ト
リメチルシリルオキシエチル)−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カル
ボキシレート;p−ニトロベンジル (4R,5S,6
S)−3−(N−ベンジルオキシカルボニル−2−アミ
ノエチルチオ)−4−メチル−6−((R)−1−トリ
メチルシリルオキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート;アリル (4R,5S,6S)−3−〔N−
(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−アミノ
エチルチオ〕−4−メチル−6−((R)−1−トリメ
チルシリルオキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート;アリル (5S,6S)−3−〔(2S,4
S)−1−アリルオキシカルボニル−2−ジメチルアミ
ノカルボニル−4−ピロジニルチオ〕−6−((R)−
1−トリメチルシリルオキシエチル)−1−アザビシク
ロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カ
ルボキシレート;アリル (5S,6S)−3−〔N−
(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−アミノ
エチルチオ〕−メチル−6−((R)−1−トリメチル
シリルオキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.
0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシレー
ト;p−ニトロベンジル (4R,5S,6S)−3−
〔(2S,4S)−1−〔2−ヒドロキシ−3−(te
rt−ブチルジメチルシリルオキシ)ベンゾイル〕−2
−(N,N−ジメチルアミノカルボニル)−4−ピロリ
ジニルチオ〕−4−メチル−6−((R)−1−トリメ
チルシリルオキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レート;アリル (4R,5S,6S)−3−〔(2
S,4S)−1−〔4,5−ビス(アリルオキシ)−2
−ピリジルメチル〕−2−(N,N−ジメチルアミノカ
ルボニル)−4−ピロリジニルチオ〕−4−メチル−6
−((R)−1−トリメチルシリルオキシエチル)−1
−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−
オン−2−カルボキシレート;p−ニトロベンジル
(4R,5S,6S)−3−〔(2S,4S)−1−
(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−〔4,
5−ビス(アリルオキシ)−2−ピリジルカルボニルア
ミノメチル〕−4−ピロリジニルチオ〕−4−メチル−
6−((R)−1−トリメチルシリルオキシエチル)−
1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7
−オン−2−カルボキシレート;アリル (4R,5
S,6S)−3−〔(2S,4S)−1−アリルオキシ
カルボニル−2−ジメチルアミノカルボニル−4−ピロ
ジニルチオ〕−4−メチル−6−((R)−1−ヒドロ
キシエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト
−2−エン−7−オンー2−カルボキシレート p−ニトロベンジル (4R,5S,6S)−3−
〔(2S,4S)−1−(p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル)−2−ジメチルアミノカルボニル−4−ピロ
ジニルチオ〕−4−メチル−6−((R)−1−ヒドロ
キシエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト
−2−エン−7−オンー2−カルボキシレートp−ニト
ロベンジル (4R,5S,6S)−3−(4−メチル
チアゾール−2−イルチオ)−4−メチル−6−
((R)−1−トリメチルシリルオキシエチル)−1−
アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オ
ンー2−カルボキシレート p−ニトロベンジル (4R,5S,6S)−3−(4
−フェニルオキサゾール−2−イルチオ)−4−メチル
−6−((R)−1−トリメチルシリルオキシエチル)
−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−
7−オンー2−カルボキシレート アリル (4R,5S,6S)−3−(ベンゾチアゾー
ル−2−イルチオ)−4−メチル−6−((R)−1−
トリメチルシリルオキシエチル)−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オンー2−カル
ボキシレート アリル (4R,5S,6S)−3−(ベンゾオキサゾ
ール−2−イルチオ)−4−メチル−6−((R)−1
−トリメチルシリルオキシエチル)−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オンー2−カル
ボキシレート が得られる。
Allyl (4R, 5S, 6S) -3-
[(2S, 4S) -1-allyloxycarbonyl-2-
(4-Methyl-1-piperazinylcarbonyl) -4-pyrrolidinylthio] -4-methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept- 2-en-7-one-2-carboxylate; p-nitrobenzyl (4R, 5S, 6
S) -3- (N-Benzyloxycarbonyl-2-aminoethylthio) -4-methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate; allyl (4R, 5S, 6S) -3- [N-
(P-nitrobenzyloxycarbonyl) -2-aminoethylthio] -4-methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate; allyl (5S, 6S) -3-[(2S, 4
S) -1-Allyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonyl-4-pyridinylthio] -6-((R)-
1-trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate; allyl (5S, 6S) -3- [N-
(P-Nitrobenzyloxycarbonyl) -2-aminoethylthio] -methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.
0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate; p-nitrobenzyl (4R, 5S, 6S) -3-
[(2S, 4S) -1- [2-hydroxy-3- (te
rt-butyldimethylsilyloxy) benzoyl] -2
-(N, N-dimethylaminocarbonyl) -4-pyrrolidinylthio] -4-methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate; allyl (4R, 5S, 6S) -3-[(2
S, 4S) -1- [4,5-bis (allyloxy) -2
-Pyridylmethyl] -2- (N, N-dimethylaminocarbonyl) -4-pyrrolidinylthio] -4-methyl-6
-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1
-Azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-7-
On-2-carboxylate; p-nitrobenzyl
(4R, 5S, 6S) -3-[(2S, 4S) -1-
(P-nitrobenzyloxycarbonyl) -2- [4,
5-bis (allyloxy) -2-pyridylcarbonylaminomethyl] -4-pyrrolidinylthio] -4-methyl-
6-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl)-
1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-7
-One-2-carboxylate; allyl (4R, 5
S, 6S) -3-[(2S, 4S) -1-allyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonyl-4-pyridinylthio] -4-methyl-6-((R) -1-hydroxyethyl) -1- Azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate p-nitrobenzyl (4R, 5S, 6S) -3-
[(2S, 4S) -1- (p-nitrobenzyloxycarbonyl) -2-dimethylaminocarbonyl-4-pyridinylthio] -4-methyl-6-((R) -1-hydroxyethyl) -1-azabicyclo [ 3.2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate p-nitrobenzyl (4R, 5S, 6S) -3- (4-methylthiazol-2-ylthio) -4-methyl-6-
((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-
Azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate p-nitrobenzyl (4R, 5S, 6S) -3- (4
-Phenyloxazol-2-ylthio) -4-methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl)
-1-Azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-
7-one-2-carboxylate allyl (4R, 5S, 6S) -3- (benzothiazol-2-ylthio) -4-methyl-6-((R) -1-
Trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate allyl (4R, 5S, 6S) -3- (benzoxazol-2-ylthio) -4- Methyl-6-((R) -1
-Trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate is obtained.

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明により、優れた抗菌活性を有する
ことが知られている置換カルバペネム誘導体を製造する
際の重要中間体であるカルバペネム誘導体の工業的製造
が可能となった。
Industrial Applicability According to the present invention, it has become possible to industrially produce a carbapenem derivative which is an important intermediate in producing a substituted carbapenem derivative known to have excellent antibacterial activity.

【0036】[0036]

【実施例】次に、実施例および参考例をあげて本発明を
さらに具体的に説明するが、本発明はもちろんこれらに
よって何ら限定されるものではない。また、式中の略語
は次のものを示す。 TBS tert−ブチルジメチルシリル基 PNB p−ニトロベンジル基 TMS トリメチルシリル基 PMB p−メトキシベンジル基 実施例1
Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples and reference examples, but the present invention is of course not limited to these examples. Abbreviations in the formulas indicate the following. Example 1 TBS tert-butyldimethylsilyl group PNB p-nitrobenzyl group TMS trimethylsilyl group PMB p-methoxybenzyl group

【化25】 Embedded image

【0037】(i) (3S,4S)−3−〔(R)−
1−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−
4−〔(R)−1−(p−クロロフェニルチオカルボニ
ル)エチル〕−1−(p−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルメチル)−2−アゼチジノン(311mg)をトル
エン−テトラヒドロフラン(4:1)の混合溶媒(2m
l)に溶かし、60%水素化ナトリウム(油性)(54
mg)、臭化ベンジル(111mg)、トリメチルシラ
ノール(2mg)、トルエン−テトラヒドロフラン
(4:1)の混合溶媒(2ml)との懸濁液に、−15
℃から−10℃で、フェニルジクロロホスフェート(6
3mg)を加えた。さらに4時間撹拌ののち、反応混合
物に0.1Mリン酸2水素カリウム水溶液(10ml)
を加え、酢酸エチル(10ml)で2回抽出した。有機
層を合わせ、0.1M、pH7.0のリン酸緩衝液で洗
浄し、硫酸マグネシウム−炭酸カリウム(1:1)で乾
燥した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルクロ
マトグラフフィーにて精製し、ビス〔(4R,5R,6
S)−2−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−
4−メチル−6−((R)−1−tert−ブチルジメ
チルシリルオキシエチル)−1−アザ−7−オキソビシ
クロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−3−イル〕 フ
ェニル ホスフェ−トを得た。 IR(KBr):1786,1731,1525,14
37,1216,1190cm−1. NMR(CDCl3 )δ: 0.06(6H×1/2,
s), 0.07(6H×1/2,s), 0.08
(6H×1/2,s), 0.09(6H×1/2,
s), 0.85(18H×1/2,s), 0.86
(18H×1/2,s),1.16(6H×1/2,
d,J=7.3Hz), 1.22(6H×1/2,
d,J=5.9Hz), 1.23(6H×1/2,
d,J=6.3Hz),1.28(6H×1/2,d,
J=7.3Hz), 3.31(2H,m), 3.4
8(2H,m), 4.25(4H,m), 5.19
(1H,d,J=14.0Hz),5.33(2H×1
/2,d,J=14.0Hz),5.37(2H×1/
2,d,J=14.0Hz), 7.21−7.26
(3H,m), 7.31−7.37(2H,m),
7.58(4H×1/2,d,J=8.9Hz),
7.59(4H×1/2,d,J=8.9Hz),
8.16(4H×1/2,d,J=8.9Hz),
8.17(4H×1/2,d,J=8.9Hz).
(I) (3S, 4S) -3-[(R)-
1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl]-
A mixed solvent of 4-[(R) -1- (p-chlorophenylthiocarbonyl) ethyl] -1- (p-nitrobenzyloxycarbonylmethyl) -2-azetidinone (311 mg) in toluene-tetrahydrofuran (4: 1) ( 2m
l) and dissolved in 60% sodium hydride (oil-based) (54
mg), benzyl bromide (111 mg), trimethylsilanol (2 mg), and a mixed solvent (2 ml) of toluene-tetrahydrofuran (4: 1).
At -10 ° C to phenyldichlorophosphate (6 ° C).
3 mg) was added. After stirring for further 4 hours, a 0.1 M aqueous solution of potassium dihydrogen phosphate (10 ml) was added to the reaction mixture.
And extracted twice with ethyl acetate (10 ml). The organic layers were combined, washed with a 0.1 M phosphate buffer (pH 7.0), dried over magnesium sulfate-potassium carbonate (1: 1), and then the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel chromatography, and bis [(4R, 5R, 6
S) -2- (p-Nitrobenzyloxycarbonyl)-
4-methyl-6-((R) -1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl) -1-aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2-en-3-yl] phenylphospho- I got it. IR (KBr): 1786, 1731, 1525, 14
37,1216,1190 cm -1 . NMR (CDCl 3 ) δ: 0.06 (6H × 1/2,
s), 0.07 (6H × 1/2, s), 0.08
(6H × 1/2, s), 0.09 (6H × 1/2,
s), 0.85 (18H x 1/2, s), 0.86
(18H × 1/2, s), 1.16 (6H × 1/2,
d, J = 7.3 Hz), 1.22 (6H × 1/2,
d, J = 5.9 Hz), 1.23 (6H × 1/2,
d, J = 6.3 Hz), 1.28 (6H × 1/2, d,
J = 7.3 Hz), 3.31 (2H, m), 3.4
8 (2H, m), 4.25 (4H, m), 5.19
(1H, d, J = 14.0 Hz), 5.33 (2H × 1
/ 2, d, J = 14.0 Hz), 5.37 (2H × 1 /
2, d, J = 14.0 Hz), 7.21-7.26
(3H, m), 7.31-7.37 (2H, m),
7.58 (4H × 1/2, d, J = 8.9 Hz),
7.59 (4H × 1/2, d, J = 8.9 Hz),
8.16 (4H × 1/2, d, J = 8.9 Hz),
8.17 (4H × 1/2, d, J = 8.9 Hz).

【0038】(ii) ビス〔(4R,5R,6S)−
2−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−4−メ
チル−6−((R)−1−tert−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル)−1−アザ−7−オキソビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−3−イル〕 フェニ
ル ホスフェ−ト(109mg)をアセトニトリル(1
ml)に溶かし、−15℃から−10℃で、N−ベンゾ
イル−2−アミノエタンチオール(36mg)を加え、
次いでジイソプロピルエチルアミン(39mg)を加
え、−15℃から−10℃で1夜間撹拌した。反応混合
物に0.1Mリン酸2水素カリウム水溶液(5ml)を
加え、酢酸エチル(5ml)で2回抽出した。有機層を
合わせ、0.1M、pH7.0のリン酸緩衝液で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し
た。残渣をシリカゲルクロマトグラフフィーにて精製
し、p−ニトロベンジル (4R,5S,6S)−3−
(N−ベンゾイル−2−アミノエチルチオ1−4−メチ
ル−6−((R)−1−tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−7−オン−2−カルボキシレ−トを得
た。 IR(KBr):1773,1654,1524cm
−1. NMR(CDCl3 )δ: 0.05(3H,s),
0.06(3H,s), 0.85(9H,s),
1.22(3H,d,J=6.7Hz), 1.23
(3H,d,J=7.3Hz), 4.16(1H,d
d,J=2.6,9.6Hz), 4.24(1H,
m), 5.24(1H,d,J=13.9Hz),
5.45(1H,d,J=13.9Hz), 6.61
(1H,br,s), 7.40−7.55(3H,
m), 7.65(2H,d,J=8.9Hz),7.
73−7.76(2H,m), 8.20(2H,d,
J=8.9Hz).
(Ii) Bis [(4R, 5R, 6S)-
2- (p-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-methyl-6-((R) -1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl) -1-aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept- 2-en-3-yl] phenyl phosphate (109 mg) was treated with acetonitrile (1
ml), and N-benzoyl-2-aminoethanethiol (36 mg) was added at -15 ° C to -10 ° C.
Then, diisopropylethylamine (39 mg) was added, and the mixture was stirred at -15 ° C to -10 ° C overnight. A 0.1 M aqueous solution of potassium dihydrogen phosphate (5 ml) was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted twice with ethyl acetate (5 ml). The organic layers were combined, washed with a 0.1 M phosphate buffer of pH 7.0, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel chromatography, and p-nitrobenzyl (4R, 5S, 6S) -3-
(N-benzoyl-2-aminoethylthio 1-4-methyl-6-((R) -1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene- 7-one-2-carboxylate IR (KBr): 1773, 1654, 1524 cm
-1 . NMR (CDCl 3 ) δ: 0.05 (3H, s),
0.06 (3H, s), 0.85 (9H, s),
1.22 (3H, d, J = 6.7 Hz), 1.23
(3H, d, J = 7.3 Hz), 4.16 (1H, d
d, J = 2.6, 9.6 Hz), 4.24 (1H,
m), 5.24 (1H, d, J = 13.9 Hz),
5.45 (1H, d, J = 13.9 Hz), 6.61
(1H, br, s), 7.40-7.55 (3H,
m), 7.65 (2H, d, J = 8.9 Hz), 7.
73-7.76 (2H, m), 8.20 (2H, d,
J = 8.9 Hz).

【0039】実施例2Embodiment 2

【化26】 Embedded image

【0040】(i) (3S,4S)−3−((R)−
1−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−
4−〔(R)−1−(p−クロロフェニルチオカルボニ
ル)エチル〕−1−(p−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルメチル)−2−アゼチジノン(311mg)をトル
エン−テトラヒドロフラン(4:1)の混合溶媒(2m
l)に溶かし、60%水素化ナトリウム(油性)(54
mg)、臭化ベンジル(111mg)、トリメチルシラ
ノール(2mg)、トルエン−テトラヒドロフラン
(4:1)の混合溶媒(2ml)との懸濁液に、−15
℃から−10℃で、メチル ジクロロホスフェート(3
5mg)を加えた。さらに4時間撹拌ののち、反応混合
物に0.1Mリン酸2水素カリウム水溶液(10ml)
を加え、酢酸エチル(10ml)で2回抽出した。有機
層を合わせ、0.1M、pH7.0のリン酸緩衝液で洗
浄し、硫酸マグネシウム−炭酸カリウム(1:1)で乾
燥した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルクロ
マトグラフフィーにて精製し、ビス〔(4R,5R,6
S)−2−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−
4−メチル−6−((R)−1−tert−ブチルジメ
チルシリルオキシエチル)−1−アザ−7−オキソビシ
クロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−3−イル〕 メ
チル ホスフェ−トを得た。 IR(neat):1772,1734,1521,1
347cm-1. NMR(CDCl3 )δ: 0.08(12H,s),
0.85(18H,s), 1.25(12H,
m), 3.31(2H,m), 3.50(2H,
m), 4.00(3H,d,J=11.9Hz),
4.25(4H,m), 5.22(2H,d,J=1
3.7Hz),5.43(2H,d,J=13.7H
z), 7.62(4H,d,J=8.9Hz),
8.20(4H,d,J=8.9Hz).
(I) (3S, 4S) -3-((R)-
1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-
A mixed solvent of 4-[(R) -1- (p-chlorophenylthiocarbonyl) ethyl] -1- (p-nitrobenzyloxycarbonylmethyl) -2-azetidinone (311 mg) in toluene-tetrahydrofuran (4: 1) ( 2m
l) and dissolved in 60% sodium hydride (oil-based) (54
mg), benzyl bromide (111 mg), trimethylsilanol (2 mg), and a mixed solvent (2 ml) of toluene-tetrahydrofuran (4: 1).
C. to -10.degree. C., methyl dichlorophosphate (3
5 mg) was added. After stirring for further 4 hours, a 0.1 M aqueous solution of potassium dihydrogen phosphate (10 ml) was added to the reaction mixture.
And extracted twice with ethyl acetate (10 ml). The organic layers were combined, washed with a 0.1 M phosphate buffer (pH 7.0), dried over magnesium sulfate-potassium carbonate (1: 1), and then the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel chromatography, and bis [(4R, 5R, 6
S) -2- (p-Nitrobenzyloxycarbonyl)-
4-methyl-6-((R) -1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl) -1-aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept-2-en-3-yl] methylphospho- I got it. IR (neat): 1772, 1734, 1521, 1
347 cm -1 . NMR (CDCl 3 ) δ: 0.08 (12H, s),
0.85 (18H, s), 1.25 (12H,
m), 3.31 (2H, m), 3.50 (2H,
m), 4.00 (3H, d, J = 11.9 Hz),
4.25 (4H, m), 5.22 (2H, d, J = 1
3.7Hz), 5.43 (2H, d, J = 13.7H)
z), 7.62 (4H, d, J = 8.9 Hz),
8.20 (4H, d, J = 8.9 Hz).

【0041】(ii) ビス〔(4R,5R,6S)−
2−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−4−メ
チル−6−((1R)−1−tert−ブチルジメチル
シリルオキシエチル)−1−アザ−7−オキソビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−3−イル〕 メチル
ホスフェ−ト(103mg)をアセトニトリル(1m
l)に溶かし、−15℃から−10℃で、N−ベンゾイ
ル−2−アミノエタンチオール(36mg)を加え、次
いでジイソプロピルエチルアミン(39mg)を加え、
−15℃から−10℃で1夜間撹拌した。反応混合物に
0.1Mリン酸2水素カリウム水溶液(5ml)を加え
酢酸エチル(5ml)で2回抽出した。有機層を合わ
せ、0.1M、pH7.0のリン酸緩衝液で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。残
渣をシリカゲルクロマトグラフフィーにて精製し、p−
ニトロベンジル (4R,5S,6S)−3−(N−ベ
ンゾイル−2−アミノエチルチオ)−4−メチル−6−
((R)−1−tert−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2
−エン−7−オン−2−カルボキシレ−トを得た。
(Ii) Screw [(4R, 5R, 6S)-
2- (p-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-methyl-6-((1R) -1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl) -1-aza-7-oxobicyclo [3.2.0] hept- 2-en-3-yl] methyl phosphate (103 mg) was added to acetonitrile (1 m
l), and at -15 ° C to -10 ° C, N-benzoyl-2-aminoethanethiol (36 mg) was added, followed by diisopropylethylamine (39 mg).
The mixture was stirred at -15 ° C to -10 ° C overnight. A 0.1 M aqueous solution of potassium dihydrogen phosphate (5 ml) was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted twice with ethyl acetate (5 ml). The organic layers were combined, washed with a 0.1 M phosphate buffer of pH 7.0, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel chromatography,
Nitrobenzyl (4R, 5S, 6S) -3- (N-benzoyl-2-aminoethylthio) -4-methyl-6
((R) -1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2
-En-7-one-2-carboxylate was obtained.

【0042】実施例3Embodiment 3

【化27】 Embedded image

【0043】(3S,4S)−3−((R)−1−トリ
メチルシリルオキシエチル)−4−〔(R)−1−(p
−クロロフェニルチオカルボニル)エチル〕−1−(p
−ニトロベンジルオキシカルボニルメチル)−2−アゼ
チジノン(579mg)をトルエン−テトラヒドロフラ
ン(4:1)の混合溶媒(3ml)に溶かし、60%水
素化ナトリウム(油性)(108mg)、臭化ベンジル
(222mg)、トリメチルシラノール(3mg)、ト
ルエン−テトラヒドロフラン(4:1)の混合溶媒(3
ml)との懸濁液に−15℃から−10℃で滴下し、2
時間撹拌ののち、ついで同温度で、p−クロロフェニル
ジクロロホスフェート(147mg)を加えた。さら
に4時間撹拌ののち、N−ベンゾイル−2−アミノエタ
ンチオール(181mg)のアセトニトリル(6ml)
溶液を加え、次いでジイソプロピルエチルアミン(19
4mg)を加え、−15℃から−10℃で1夜間撹拌し
た。反応混合物に0.1Mリン酸2水素カリウム水溶液
(10ml)を加え、酢酸エチル(10ml)で2回抽
出した。有機層を合わせ、0.1M、pH7.0のリン
酸緩衝液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶
媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフフ
ィーにて精製し、p−ニトロベンジル (4R,5S,
6S)−3−(N−ベンゾイル−2−アミノエチルチ
オ)−4−メチル−6−((R)−1−トリメチルシリ
ルオキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘ
プト−2−エン−7−オン−2−カルボキシレートを得
た。 IR(KBr):1773,1524,1344cm
-1. NMR(CDCl3 )δ: 0.11(9H,s),
1.23(3H,d,J=7.3Hz), 1.24
(3H,d,J=5.9Hz), 4.11(1H,d
d,J=2.6,9.6Hz), 4.21(1H,
m), 5.24(1H,d,J=13.9Hz),
5.47(1H,d,J=13.9Hz), 7,40
−7.55(3H,m), 7.65(2H,d,J=
8.7Hz), 7.73−7.77(2H,m),
8.20(2H,d,J=8.7Hz).
(3S, 4S) -3-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -4-[(R) -1- (p
-Chlorophenylthiocarbonyl) ethyl] -1- (p
-Nitrobenzyloxycarbonylmethyl) -2-azetidinone (579 mg) was dissolved in a mixed solvent (3 ml) of toluene-tetrahydrofuran (4: 1), and 60% sodium hydride (oil-based) (108 mg), benzyl bromide (222 mg) were dissolved. , Trimethylsilanol (3 mg) and a mixed solvent of toluene-tetrahydrofuran (4: 1) (3
ml) at −15 ° C. to −10 ° C.
After stirring for an hour, p-chlorophenyl dichlorophosphate (147 mg) was added at the same temperature. After stirring for another 4 hours, N-benzoyl-2-aminoethanethiol (181 mg) in acetonitrile (6 ml)
Solution and then diisopropylethylamine (19
4 mg), and the mixture was stirred at -15 ° C to -10 ° C overnight. A 0.1 M aqueous solution of potassium dihydrogen phosphate (10 ml) was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted twice with ethyl acetate (10 ml). The organic layers were combined, washed with a 0.1 M phosphate buffer of pH 7.0, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel chromatography to obtain p-nitrobenzyl (4R, 5S,
6S) -3- (N-benzoyl-2-aminoethylthio) -4-methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene -7-one-2-carboxylate was obtained. IR (KBr): 1773, 1524, 1344 cm
-1 . NMR (CDCl 3 ) δ: 0.11 (9H, s),
1.23 (3H, d, J = 7.3 Hz), 1.24
(3H, d, J = 5.9 Hz), 4.11 (1H, d
d, J = 2.6, 9.6 Hz), 4.21 (1H,
m), 5.24 (1H, d, J = 13.9 Hz),
5.47 (1H, d, J = 13.9 Hz), 7, 40
−7.55 (3H, m), 7.65 (2H, d, J =
8.7 Hz), 7.73-7.77 (2H, m),
8.20 (2H, d, J = 8.7 Hz).

【0044】実施例4Embodiment 4

【化28】 実施例3において、p−クロロフェニル ジクロロホス
フェート(147mg)のかわりにp−クロロアニリド
ホスホリル ジクロリド(126mg)を用いることに
より、p−ニトロベンジル (4R,5S,6S)−3
−(N−ベンゾイル−2−アミノエチルチオ)−4−メ
チル−6−((R)−1−トリメチルシリルオキシエチ
ル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エ
ン−7−オン−2−カルボキシレートを得た。
Embedded image In Example 3, p-nitrobenzyl (4R, 5S, 6S) -3 was obtained by using p-chloroanilide phosphoryl dichloride (126 mg) instead of p-chlorophenyl dichlorophosphate (147 mg).
-(N-benzoyl-2-aminoethylthio) -4-methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one -2-carboxylate was obtained.

【0045】実施例5Embodiment 5

【化29】 実施例3において、p−クロロフェニル ジクロロホス
フェート(147mg)のかわりにオキシ塩化リン(6
1mg)を用いることにより、p−ニトロベンジル
(4R,5S,6S)−3−(N−ベンゾイル−2−ア
ミノエチルチオ)−4−メチル−6−((R)−1−ト
リメチルシリルオキシエチル)−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カル
ボキシレートを得た。
Embedded image In Example 3, phosphorous oxychloride (6 mg) was used instead of p-chlorophenyl dichlorophosphate (147 mg).
1 mg) to give p-nitrobenzyl
(4R, 5S, 6S) -3- (N-benzoyl-2-aminoethylthio) -4-methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate was obtained.

【0046】実施例6Embodiment 6

【化30】 実施例3において、p−クロロフェニル ジクロロホス
フェート(147mg)のかわりに塩化チオホスホリル
(68mg)を用いることにより、p−ニトロベンジル
(4R,5S,6S)−3−(N−ベンゾイル−2−ア
ミノエチルチオ)−4−メチル−6−((R)−1−ト
リメチルシリルオキシエチル)−1−アザビシクロ
〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カル
ボキシレートを得た。
Embedded image In Example 3, p-nitrobenzyl (4R, 5S, 6S) -3- (N-benzoyl-2-aminoethyl) was obtained by using thiophosphoryl chloride (68 mg) instead of p-chlorophenyl dichlorophosphate (147 mg). Thio) -4-methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-carboxylate was obtained.

【0047】実施例7Embodiment 7

【化31】 (3S,4S)−3−((R)−1−トリメチルシリル
オキシエチル)−4−〔(R)−1−(p−クロロフェ
ニルチオカルボニル)エチル〕−1−(アリルオキシカ
ルボニルメチル)−2−アゼチジノン(484mg)を
トルエン−テトラヒドロフラン(4:1)の混合溶媒
(3ml)に溶かし、60%水素化ナトリウム(油性)
(108mg)、臭化ベンジル(222mg)、トリメ
チルシラノール(3mg)、トルエン−テトラヒドロフ
ラン(4:1)の混合溶媒(3ml)との懸濁液に−1
5℃から−10℃で滴下し、2時間撹拌ののち、ついで
同温℃で、フェニル ジクロロホスフェート(127m
g)を加えた。さらに4時間撹拌ののち、(2S,4
S)−1−アリルオキシカルボニル−2−ジメチルアミ
ノカルボニル−4−メルカプトピロリジン(258m
g)のテトラヒドロフラン(2ml)溶液を加え、次い
で1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデシ−7
−エン(228mg)を加え、−15℃から−10℃で
1夜間撹拌した。反応混合物に0.1Mリン酸2水素カ
リウム水溶液(10ml)を加え、酢酸エチル(10m
l)で2回抽出した。有機層を合わせ、0.1M、pH
7.0のリン酸緩衝液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルクロ
マトグラフフィーにて精製し、アリル (4R,5S,
6S)−3−〔(2S,4S)−1−アリルオキシカル
ボニル−2−ジメチルアミノカルボニル−4−ピロリジ
ニルチオ〕−4−メチル−6−((R)−1−トリメチ
ルシリルオキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.
0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシレー
トを得た。 IR(neat):1770,1705,1655,1
405,1320,1210,1135,980,84
0cm-1
Embedded image (3S, 4S) -3-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -4-[(R) -1- (p-chlorophenylthiocarbonyl) ethyl] -1- (allyloxycarbonylmethyl) -2- Azetidinone (484 mg) was dissolved in a mixed solvent (3 ml) of toluene-tetrahydrofuran (4: 1), and 60% sodium hydride (oil-based) was dissolved.
(108 mg), benzyl bromide (222 mg), trimethylsilanol (3 mg), and a suspension in a mixed solvent (3 ml) of toluene-tetrahydrofuran (4: 1).
After dropwise addition at 5 ° C to -10 ° C and stirring for 2 hours, phenyl dichlorophosphate (127 m
g) was added. After stirring for another 4 hours, (2S, 4
S) -1-Allyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonyl-4-mercaptopyrrolidine (258 m
g) in tetrahydrofuran (2 ml) was added, followed by 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7.
-Ene (228 mg) was added, and the mixture was stirred at -15 ° C to -10 ° C overnight. A 0.1 M aqueous solution of potassium dihydrogen phosphate (10 ml) was added to the reaction mixture, and ethyl acetate (10 m
Extracted twice in l). Combine the organic layers, 0.1M, pH
After washing with a phosphate buffer of 7.0 and drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel chromatography, and allyl (4R, 5S,
6S) -3-[(2S, 4S) -1-allyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonyl-4-pyrrolidinylthio] -4-methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1 -Azabicyclo [3.2.
0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate was obtained. IR (neat): 1770, 1705, 1655, 1
405, 1320, 1210, 1135, 980, 84
0 cm -1 .

【0048】実施例8Embodiment 8

【化32】 (3S,4S)−3−((R)−1−トリメチルシリル
オキシエチル)−4−〔(R)−1−(p−クロロフェ
ニルチオカルボニル)エチル〕−1−(アリルオキシカ
ルボニルメチル)−2−アゼチジノン(484mg)を
トルエン−テトラヒドロフラン(4:1)の混合溶媒
(3ml)に溶かし、60%水素化ナトリウム(油性)
(108mg)、臭化ベンジル(222mg)、トリメ
チルシラノール(3mg)、トルエン−テトラヒドロフ
ラン(4:1)の混合溶媒(3ml)との懸濁液に−1
5℃から−10℃で滴下し、2時間撹拌ののち、ついで
同温℃で、フェニル ジクロロホスフェート(127m
g)を加えた。さらに4時間撹拌ののち、(2S,4
S)−1−アリルオキシカルボニル−2−ジメチルアミ
ノカルボニル−4−メルカプトピロリジン(258m
g)のアセトニトリル(6ml)溶液を加え、次いでジ
イソプロピルエチルアミン(194mg)を加え、−1
5℃から−10℃で1夜間撹拌した。実施例7と同様の
後処理によりアリル(4R,5S,6S)−3−〔(2
S,4S)−1−アリルオキシカルボニル−2−ジメチ
ルアミノカルボニル−4−ピロリジニルチオ〕−4−メ
チル−6−((R)−1−トリメチルシリルオキシエチ
ル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エ
ン−7−オン−2−カルボキシレートを得た。
Embedded image (3S, 4S) -3-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -4-[(R) -1- (p-chlorophenylthiocarbonyl) ethyl] -1- (allyloxycarbonylmethyl) -2- Azetidinone (484 mg) was dissolved in a mixed solvent (3 ml) of toluene-tetrahydrofuran (4: 1), and 60% sodium hydride (oil-based) was dissolved.
(108 mg), benzyl bromide (222 mg), trimethylsilanol (3 mg), and a suspension in a mixed solvent (3 ml) of toluene-tetrahydrofuran (4: 1).
After dropwise addition at 5 ° C to -10 ° C and stirring for 2 hours, phenyl dichlorophosphate (127 m
g) was added. After stirring for another 4 hours, (2S, 4
S) -1-Allyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonyl-4-mercaptopyrrolidine (258 m
g) in acetonitrile (6 ml) was added, followed by diisopropylethylamine (194 mg).
Stirred at 5 ° C to -10 ° C overnight. Allyl (4R, 5S, 6S) -3-[(2
[S, 4S) -1-allyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonyl-4-pyrrolidinylthio] -4-methyl-6-((R) -1-trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.2. 0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate was obtained.

【0049】実施例9 実施例8において、アセトニトリルのかわりにN,N−
ジメチルホルムアミドを用いることにより、アリル
(4R,5S,6S)−3−〔(2S,4S)−1−ア
リルオキシカルボニル−2−ジメチルアミノカルボニル
−4−ピロリジニルチオ〕−4−メチル−6−((R)
−1−トリメチルシリルオキシエチル)−1−アザビシ
クロ〔3.2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−
カルボキシレートを得た。 実施例10
Example 9 In Example 8, N, N- was used instead of acetonitrile.
By using dimethylformamide, allyl
(4R, 5S, 6S) -3-[(2S, 4S) -1-allyloxycarbonyl-2-dimethylaminocarbonyl-4-pyrrolidinylthio] -4-methyl-6-((R)
-1-trimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-en-7-one-2-
The carboxylate was obtained. Example 10

【化33】 Embedded image

【0050】p−メトキシベンジル (5R,6S)−
6−((R)−1−tert−ブチルジメチルシリルオ
キシエチル)−1−アザビシクロ〔3.2.0〕−ヘプ
ト−3,7−ジオン−2−カルボキシレート(448m
g)をアセトニトリル(5ml)に溶かし、窒素気流
下、−15℃から−10℃で、ジイソプロピルエチルア
ミン(194mg)を加え、次いでフェニル ジクロロ
ホスフェート(127mg)を加え、同温℃で2時間撹
拌ののち、N−ベンゾイル−2−アミノエタンチオール
(163mg)を加え、次いでジイソプロピルエチルア
ミン(194mg)を加え、−15℃から−10℃で1
夜間撹拌した。反応混合物に0.1Mリン酸2水素カリ
ウム水溶液(10ml)を加え、酢酸エチル(10m
l)で2回抽出した。有機層を合わせ、0.1M、pH
7.0のリン酸緩衝液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルクロ
マトグラフフィーにて精製しp−メトキシベンジル
(5S,6S)−3−(N−ベンゾイル−2−アミノエ
チルチオ)−6−((R)−1−tert−ブチルジメ
チルシリルオキシエチル)−1−アザビシクロ〔3.
2.0〕ヘプト−2−エン−7−オン−2−カルボキシ
レ−トを得た。 IR(KBr):3376,1778,1697cm
-1. NMR(CDCl3 )δ: 0.04(3H,s),
0.05(3H,s), 0.85(9H,s),
1.20(3H,d,J=6.3Hz), 3.78
(3H,s), 4.10(1H,dd,J=2.8,
9.7Hz),4.17(1H,m), 5.20(2
H,s), 6.67(1H,br s), 6.85
(2H,d,J=8.6Hz),7.35−7.52
(5H,m), 7.75(2H,d,J=8.6H
z).
P-methoxybenzyl (5R, 6S)-
6-((R) -1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.2.0] -hept-3,7-dione-2-carboxylate (448m
g) was dissolved in acetonitrile (5 ml), diisopropylethylamine (194 mg) was added at −15 ° C. to −10 ° C. under a nitrogen stream, phenyldichlorophosphate (127 mg) was added, and the mixture was stirred at the same temperature for 2 hours, and then stirred. , N-benzoyl-2-aminoethanethiol (163 mg) and then diisopropylethylamine (194 mg) were added.
Stirred at night. A 0.1 M aqueous solution of potassium dihydrogen phosphate (10 ml) was added to the reaction mixture, and ethyl acetate (10 m
Extracted twice in l). Combine the organic layers, 0.1M, pH
After washing with a phosphate buffer of 7.0 and drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel chromatography to give p-methoxybenzyl.
(5S, 6S) -3- (N-benzoyl-2-aminoethylthio) -6-((R) -1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl) -1-azabicyclo [3.
2.0] Hept-2-en-7-one-2-carboxylate was obtained. IR (KBr): 3376, 1778, 1697 cm
-1 . NMR (CDCl 3 ) δ: 0.04 (3H, s),
0.05 (3H, s), 0.85 (9H, s),
1.20 (3H, d, J = 6.3 Hz), 3.78
(3H, s), 4.10 (1H, dd, J = 2.8,
9.7 Hz), 4.17 (1 H, m), 5.20 (2
H, s), 6.67 (1H, br s), 6.85
(2H, d, J = 8.6 Hz), 7.35-7.52
(5H, m), 7.75 (2H, d, J = 8.6H)
z).

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂東 尚志 大阪市此花区春日出中3丁目1番98号 住 友製薬株式会社内 Fターム(参考) 4C050 KA08 KA11 KB02 KB03 KB05 KB13 KB16 KC03 KC07 4H050 AA01 AA02 AB84 AC20 BA92 BD70 BE54 WA15 WA23  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Takashi Bando 3-1-198 Kasuganaka, Konohana-ku, Osaka Sumitomo Pharmaceutical Co., Ltd. F-term (reference) 4C050 KA08 KA11 KB02 KB03 KB05 KB13 KB16 KC03 KC07 4H050 AA01 AA02 AB84 AC20 BA92 BD70 BE54 WA15 WA23

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 〔式中、R およびR は、それぞれ独立して、水素
原子または置換されていてもよい低級アルキル基を、R
は水素原子またはカルボキシ基の保護基を、および
Yは置換されていてもよいイ)アリールオキシ基、ロ)
低級アルコキシ基、ハ)ジアルキルアミノ基、ニ)アリ
ールアミノ基、またはホ)ジアリールアミノ基を意味す
る。〕で表されるカルバペネム誘導体。
1. A compound of the general formula (1) [Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an optionally substituted lower alkyl group,
3 is a protecting group for a hydrogen atom or a carboxy group, and Y is an optionally substituted i) aryloxy group, b)
A lower alkoxy group, c) a dialkylamino group, d) an arylamino group, or e) a diarylamino group. And a carbapenem derivative represented by the formula:
【請求項2】 一般式(2) 【化2】 〔式中、R およびR は、それぞれ独立して、水素
原子または置換されていてもよい低級アルキル基を、R
は水素原子またはカルボキシ基の保護基を、および
Qは酸素原子または硫黄原子を意味する。〕で表される
カルバペネム誘導体。
2. A compound of the general formula (2) [Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an optionally substituted lower alkyl group,
3 represents a hydrogen atom or a protecting group for a carboxy group, and Q represents an oxygen atom or a sulfur atom. And a carbapenem derivative represented by the formula:
【請求項3】A) 一般式(3) 【化3】 〔式中、R1 およびR は、それぞれ独立して、水素
原子または置換されていてもよい低級アルキル基を、R
は水素原子またはカルボキシ基の保護基を、および
Zはオルガノチオ基を示すか、あるいはCOZとしてカ
ルボキシ基の活性エステルまたは活性酸無水物を意味す
る。〕で表される化合物を塩基と反応させ、さらに、反
応で生成する一般式(4) Z- (4) 〔式中、Zは前記と同じ意味を有する。〕で表される残
基をアルキル化剤またはアシル化剤で捕捉し、次いで塩
基の存在下、一般式(5) 【化4】 〔式中、Xはハロゲン原子を、およびYは置換されてい
てもよいイ)アリールオキシ基、ロ)低級アルコキシ
基、ハ)ジアルキルアミノ基、ニ)アリールアミノ基、
またはホ)ジアリールアミノ基を意味する。〕であらわ
される化合物と反応させるか、または、 B) 一般式(6) 【化5】 〔式中、R 、R およびR は前記と同じ意味を
有する。〕で表される化合物を塩基の存在下、前記一般
式(5)で表される化合物と反応させることを特徴とす
る一般式(1) 【化6】 〔式中、R 、R 、R およびYは前記と同じ意
味を有する。〕で表されるカルバペネム誘導体の製造方
法。
3. A) General formula (3) [Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a lower alkyl group which may be substituted,
3 represents a hydrogen atom or a protecting group for a carboxy group, and Z represents an organothio group, or COZ means an active ester or an active acid anhydride of a carboxy group. The compound represented by the general formula (4) Z (4) produced by the reaction with a base, wherein Z has the same meaning as described above. Is trapped with an alkylating agent or an acylating agent, and then, in the presence of a base, a compound represented by the general formula (5): Wherein X is a halogen atom, and Y is an optionally substituted a) aryloxy group, b) lower alkoxy group, c) dialkylamino group, d) arylamino group,
Or e) a diarylamino group. Or B) a compound represented by the following general formula (6): Wherein R 1 , R 2 and R 3 have the same meaning as described above. Wherein the compound represented by the general formula (1) is reacted with the compound represented by the general formula (5) in the presence of a base. Wherein R 1 , R 2 , R 3 and Y have the same meaning as described above. ] The method for producing a carbapenem derivative represented by the formula:
【請求項4】A) 一般式(3) 【化7】 〔式中、R およびR は、それぞれ独立して、水素
原子または置換されていてもよい低級アルキル基を、R
は水素原子またはカルボキシ基の保護基を、および
Zはオルガノチオ基を示すか、あるいはCOZとしてカ
ルボキシ基の活性エステルまたは活性酸無水物を意味す
る。〕で表される化合物を塩基と反応させ、さらに、反
応で生成する一般式(4) Z- (4) 〔式中、Zは前記と同じ意味を有する。〕で表される残
基をアルキル化剤またはアシル化剤で捕捉し、次いで塩
基の存在下、一般式(7) X3 P=Q (7) 〔式中、Qは酸素原子または硫黄原子を、Xはハロゲン
原子を示す。〕であらわされる化合物と反応させるか、
または、 B) 一般式(6) 【化8】 〔式中、R 、R およびR は前記と同じ意味を
有する。〕で表される化合物を塩基の存在下、前記一般
式(7)で表される化合物と反応させることを特徴とす
る一般式(2) 【化9】 〔式中、R 、R 、R およびQは前記と同じ意
味を有する。〕で表されるカルバペネム誘導体の製造方
法。
4. A) General formula (3) [Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an optionally substituted lower alkyl group,
3 represents a hydrogen atom or a protecting group for a carboxy group, and Z represents an organothio group, or COZ means an active ester or an active acid anhydride of a carboxy group. The compound represented by the general formula (4) Z (4) produced by the reaction with a base, wherein Z has the same meaning as described above. And then trapping with an alkylating agent or an acylating agent, and then in the presence of a base, X 3 P = Q (7) wherein Q represents an oxygen atom or a sulfur atom. , X represents a halogen atom. Or reacting with the compound represented by
Or B) General formula (6) Wherein R 1 , R 2 and R 3 have the same meaning as described above. Wherein the compound represented by the general formula (7) is reacted with a compound represented by the general formula (7) in the presence of a base. Wherein R 1 , R 2 , R 3 and Q have the same meaning as described above. ] The method for producing a carbapenem derivative represented by the formula:
【請求項5】 一般式(1) 【化10】 〔式中、R およびR は、それぞれ独立して、水素
原子または置換されていてもよい低級アルキル基を、R
は水素原子またはカルボキシ基の保護基を、および
Yは置換されていてもよいイ)アリールオキシ基、ロ)
低級アルコキシ基、ハ)ジアルキルアミノ基、ニ)アリ
ールアミノ基、またはホ)ジアリールアミノ基を意味す
る。〕で表されるカルバペネム誘導体を、塩基の存在
下、一般式(8) HS−R (8) 〔式中、R は、有機基を意味する。〕で表されるチ
オール化合物もしくはそのチオール化合物と塩基との塩
を反応させることを特徴とする一般式(9) 【化11】 〔式中、R 、R 、R およびR は前記と同じ
意味を示す。〕で表される置換カルバペネム誘導体の製
造方法。
5. A compound of the general formula (1) [Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an optionally substituted lower alkyl group,
3 is a protecting group for a hydrogen atom or a carboxy group, and Y is an optionally substituted i) aryloxy group, b)
A lower alkoxy group, c) a dialkylamino group, d) an arylamino group, or e) a diarylamino group. A carbapenem derivative represented by the general formula (8) HS-R 4 (8) wherein R 4 represents an organic group. Or a salt of the thiol compound represented by the general formula (9) with a base. [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meaning as described above. ] The method for producing a substituted carbapenem derivative represented by the formula:
【請求項6】 一般式(2) 【化12】 〔式中、R およびR は、それぞれ独立して、水素
原子または置換されていてもよい低級アルキル基を、R
は水素原子またはカルボキシ基の保護基を、Qは酸
素原子または硫黄原子を意味する。〕で表されるカルバ
ペネム誘導体を、塩基の存在下、一般式(8) HS−R (8) 〔式中、R は、有機基を意味する。〕で表されるチ
オール化合物もしくはそのチオール化合物と塩基との塩
を反応させることを特徴とする一般式(9) 【化13】 〔式中、R およびR は、それぞれ独立して、水素
原子または置換されていてもよい低級アルキル基を、R
は水素原子またはカルボキシ基の保護基を、R
は、有機基を意味する。〕で表される置換カルバペネム
誘導体の製造方法。
6. A compound of the general formula (2) [Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an optionally substituted lower alkyl group,
3 represents a hydrogen atom or a protecting group for a carboxy group, and Q represents an oxygen atom or a sulfur atom. A carbapenem derivative represented by the general formula (8) HS-R 4 (8) wherein R 4 represents an organic group. Wherein the thiol compound represented by the general formula (9) is reacted with a salt of the thiol compound and a base. [Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an optionally substituted lower alkyl group,
3 a hydrogen atom or a protecting group for a carboxy group, R 4
Represents an organic group. ] The method for producing a substituted carbapenem derivative represented by the formula:
【請求項7】 請求項3に記載の方法により製造した前
記一般式(1)で表される化合物を単離することなく、
ひき続いて同一反応容器内でおこなわれる請求項5に記
載の製造方法。
7. The compound represented by the general formula (1) produced by the method according to claim 3 without isolation.
6. The method according to claim 5, wherein the subsequent step is performed in the same reaction vessel.
【請求項8】 請求項4に記載の方法により製造した前
記一般式(2)で表される化合物を単離することなく、
ひき続いて同一反応容器内でおこなわれる請求項6に記
載の製造方法。
8. The compound represented by the general formula (2) produced by the method according to claim 4, without isolation.
7. The method according to claim 6, wherein the subsequent step is performed in the same reaction vessel.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002326985A (en) * 2001-04-27 2002-11-15 Sumitomo Pharmaceut Co Ltd Azetidinone derivative and method for producing the same

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