JP2000181068A - Original plate of planographic printing plate and manufacture of printing plate using the same - Google Patents

Original plate of planographic printing plate and manufacture of printing plate using the same

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JP2000181068A
JP2000181068A JP36064298A JP36064298A JP2000181068A JP 2000181068 A JP2000181068 A JP 2000181068A JP 36064298 A JP36064298 A JP 36064298A JP 36064298 A JP36064298 A JP 36064298A JP 2000181068 A JP2000181068 A JP 2000181068A
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JP
Japan
Prior art keywords
printing plate
group
lithographic printing
substrate
petal
Prior art date
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Pending
Application number
JP36064298A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinji Shimizu
真司 清水
Yasuhiko Kojima
靖彦 児島
Koji Oe
紘司 小江
Tsutomu Minami
努 南
Seiji Tadanaga
清治 忠永
Atsunori Matsuda
厚範 松田
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DIC Corp
Original Assignee
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
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Publication date
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Publication of JP2000181068A publication Critical patent/JP2000181068A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an original plate of a planographic printing plate that enables a novel plate making method with which an image can be formed by irradiation with light in the offset printing field. SOLUTION: A petaloid alumina layer, a titanium dioxide layer and a coating of a polysiloxane containing silicon atoms to which organic groups bond are successively disposed on a glass, ceramic or metallic substrate to obtain the objective original plate of a planographic printing plate. The original plate is imagewise irradiated with an active light, high density energy light or radiation for manufacturing the objective printing plate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、オフセット印刷分
野で使用される平版印刷版に関し、特に新規な基板を持
つ平版印刷版原版およびそれを用いた新規な印刷刷版作
製方法に関する。
The present invention relates to a lithographic printing plate used in the field of offset printing, and more particularly to a lithographic printing plate precursor having a novel substrate and a novel printing plate manufacturing method using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】オフセット印刷分野で使用される平版印
刷版原版は、活性光線あるいは高密度エネルギー光線を
画像様に照射し、該照射部をアルカリ性現像液に可溶化
せしめて除去し、残された非画像部を印刷刷版のインキ
受容部として印刷に供する方法、あるいは高密度エネル
ギー光線を用いて画像様にインキ受容層を燃焼・破壊さ
せ、残された非破壊部をインキ受容部として印刷に供す
る方法などが知られている。
2. Description of the Related Art A lithographic printing plate precursor used in the field of offset printing is irradiated with an actinic ray or a high-density energy ray in an imagewise manner, and the irradiated portion is removed by solubilization in an alkaline developer. A method in which the non-image part is used for printing as an ink receiving part of a printing plate, or the ink receiving layer is burned and destroyed imagewise using high-density energy rays, and the remaining non-destructive part is used as an ink receiving part for printing. A method for providing such information is known.

【0003】具体的な従来技術としては、例えば、特開
昭57−212,436号、同57−212,437
号、同58−87,555号、同61−245,154
号、特開平3−9,360号、同3−211,555号
等による、表面を親水性処理した基板の上にアルカリ水
可溶性又は膨潤性のポリマーとo−キノンジアジド化合
物を主構成成分とする感光性層を設け、活性光線照射に
より照射部をアルカリ水に可溶化せしめ、その後アルカ
リ性現像液により該照射部を溶解除去し、残された非画
像部をインキ受容部とする印刷刷版を得る技術がある。
[0003] Specific prior art is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 57-212,436 and 57-212,437.
Nos. 58-87,555 and 61-245,154
No. 3,9,360, JP-A-3-211,555, etc., on a substrate whose surface has been subjected to hydrophilic treatment, an alkaline water-soluble or swellable polymer and an o-quinonediazide compound are used as main components. A photosensitive layer is provided, the irradiated area is solubilized in alkaline water by irradiation with actinic rays, and then the irradiated area is dissolved and removed with an alkaline developer to obtain a printing plate having the remaining non-image area as an ink receiving area. There is technology.

【0004】又、別の技術として、例えば、特開平7−
20,629号、同7−271,029号、同8−22
0,752号、同9−171,254号、同9−21
1,863号、同9−211,864号、同9−21
1,865号、同9−304,931号等による、表面
を親水性処理した基板の上に、アルカリ水可溶性又は膨
潤性のポリマー、光を吸収し熱を発生する物質及び熱に
より酸を発生する化合物を主構成成分とする感熱性層を
設け、高密度エネルギー光線照射により照射部をアルカ
リ水に可溶化せしめ、その後アルカリ性現像液により該
照射部を溶解除去し、残された非画像部をインキ受容部
とする印刷刷版を得る技術がある。
As another technique, for example, Japanese Patent Laid-Open No.
20,629, 7-271,029, 8-22
No. 0,752, No. 9-171,254, No. 9-21
No. 1,863, No. 9-211,864, No. 9-21
No. 1,865, No. 9-304,931, etc., on a substrate whose surface has been subjected to hydrophilic treatment, an alkali water-soluble or swellable polymer, a substance that absorbs light and generates heat, and generates an acid by heat Is provided with a heat-sensitive layer containing the compound as a main component, the irradiated portion is solubilized in alkaline water by high-density energy light irradiation, and then the irradiated portion is dissolved and removed with an alkaline developer, and the remaining non-image portion is removed. There is a technique for obtaining a printing plate as an ink receiving portion.

【0005】更に、例えば、特開平9−1,916号、
同10−3,164号、同10−39,498号等によ
る、表面を親水性処理した基板の上に、バインダー樹
脂、光を吸収し熱を発生する物質及び熱により分解する
化合物を主構成成分とする樹脂層を設け、高密度エネル
ギー光線照射により照射部を燃焼・破壊して除去し、残
された非画像部をインキ受容部とする印刷刷版を得る技
術がある。
Further, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 9-1,916,
No. 10-3, 164, No. 10-39, 498, etc., on a substrate having a hydrophilic surface, a binder resin, a substance which absorbs light and generates heat, and a compound which decomposes by heat. There is a technique of providing a resin layer as a component, burning and destroying an irradiated portion by high-density energy ray irradiation, removing the irradiated portion, and obtaining a printing plate having a remaining non-image portion as an ink receiving portion.

【0006】これらの技術はいづれも表面を親水性処理
した基板の上に樹脂層を設け、樹脂層中に光を受けて化
学的ないしは物理的変化を起こす化合物を含有せしめ、
光線の照射後、樹脂層照射部に起こる化学的ないしは物
理的変化を利用して照射部を除去して印刷刷版を得る技
術である。
[0006] In any of these techniques, a resin layer is provided on a substrate having a surface subjected to hydrophilic treatment, and a compound which undergoes a chemical or physical change by receiving light in the resin layer is contained.
This is a technique for obtaining a printing plate by removing the irradiated portion using a chemical or physical change occurring in the irradiated portion of the resin layer after the irradiation of the light beam.

【0007】一方、光触媒性酸化チタンを用いた皮膜
は、例えば、特開平7−155,598号、同8−6
6,635号、同8−131,834号、同8−13
1,842号、同8−224,481号、同9−57,
912号、同9−78,791号、同9−225,38
7号、同9−227,156号、同9−227,805
号、同9−227,829号、同9−227,831
号、同9−227,832号、同9−241,038
号、同10−81,840号、同10−85,608
号、同10−85,609号、同10−85,610
号、同10−95,635号、同10−114,545
号、同10−114,546号、国際公開番号96−1
4,932号、同96−29,375号、同97−2
3,572号等に於いて、それらを用いた部材や形成方
法について開示されている。即ち、例えば、テトラエト
キシチタンのような有機チタン化合物の加水分解と脱水
縮重合により先ず基材の表面を無定形チタニアで被覆
し、次いで400〜600℃の温度で焼成することによ
り、無定形チタニアを結晶性チタニア(アナターゼ)に
相変化させることにより、水との接触角が極めて小さい
耐摩耗性に優れた基材表面を形成することができる。更
に、光触媒性チタニアにシリカ又は酸化錫を配合させる
好ましい別の方法もある。又別の方法として、未硬化又
は部分的に硬化したシリコーン(オルガノポリシロキサ
ン)又はシリコーンの前駆体からなる塗膜形成要素に光
触媒酸化チタンを分散させてなる塗料用組成物を基材の
表面に塗布し、塗膜形成要素を硬化させてシリコーン塗
膜を形成した後、光触媒を光励起すると、シリコーン分
子の珪素原子に結合した有機基は光触媒作用により水酸
基に置換され、光触媒性コーチングの表面は超親水化さ
れる。更に、表面エネルギー増強剤として、固体酸又は
固体塩基を添加することは、親水性を保持するため好ま
しい。
On the other hand, a film using photocatalytic titanium oxide is disclosed in, for example, JP-A-7-155,598 and JP-A-8-6.
Nos. 6,635, 8-131,834, 8-13
No. 1,842, No. 8-224,481, No. 9-57,
Nos. 912, 9-78, 791, 9-225, 38
No. 7, 9-227, 156, 9-227, 805
Nos. 9-227,829 and 9-227,831
Nos. 9-227,832 and 9-241,038
No. 10-81,840 and No. 10-85,608
No., No. 10-85,609, No. 10-85,610
No., 10-95,635 and 10-114,545
No. 10-114,546, International Publication No. 96-1
No. 4,932, No. 96-29,375, No. 97-2
No. 3,572 and the like disclose a member and a forming method using the same. That is, for example, the surface of a base material is first coated with amorphous titania by hydrolysis and dehydration condensation polymerization of an organic titanium compound such as tetraethoxytitanium, and then baked at a temperature of 400 to 600 ° C., thereby forming amorphous titania. Is changed to crystalline titania (anatase), whereby a substrate surface having a very small contact angle with water and excellent in abrasion resistance can be formed. Furthermore, there is another preferred method of incorporating silica or tin oxide into the photocatalytic titania. As another method, a coating composition obtained by dispersing a photocatalytic titanium oxide in a film-forming element made of uncured or partially cured silicone (organopolysiloxane) or a silicone precursor is applied to the surface of a substrate. After coating and curing the film-forming element to form a silicone coating, when the photocatalyst is photoexcited, the organic groups bonded to the silicon atoms of the silicone molecules are replaced with hydroxyl groups by photocatalysis, and the surface of the photocatalytic coating is super It is made hydrophilic. Furthermore, it is preferable to add a solid acid or a solid base as a surface energy enhancer in order to maintain hydrophilicity.

【0008】このようにして作製された光触媒性酸化チ
タンを用いた皮膜表面に、光触媒のバンドギャップエネ
ルギーより高い光エネルギーの波長の光を照射すると、
光励起された表面は高度に親水化する。この特性を利用
して、例えば、鏡の防曇作用、窓ガラスの防曇作用、セ
ラミック表面の汚染防止作用、セラミック表面の抗菌作
用等への応用等が図られている。しかしながら、従来の
光触媒酸化チタンを用いた皮膜表面は、光励起を中断す
ると親水性が次第に減衰する点、親水性は高いものの表
面に於ける保水性が乏しい点等の問題があり、平版印刷
用の基板表面材料として利用されたことはなかった。
When the surface of the film using the photocatalytic titanium oxide thus produced is irradiated with light having a wavelength of light energy higher than the band gap energy of the photocatalyst,
The photoexcited surface becomes highly hydrophilic. Utilizing this property, for example, application to anti-fog action of mirrors, anti-fog action of window glass, anti-pollution action of ceramic surface, antibacterial action of ceramic surface, and the like has been attempted. However, the surface of the film using the conventional photocatalytic titanium oxide has a problem that the hydrophilicity gradually decreases when the photoexcitation is interrupted, and the hydrophilicity is high but the water retention on the surface is poor. It has never been used as a substrate surface material.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明の第一の課題
は、酸化チタンの光励起による親水化を利用した平版印
刷版原版であって、親水性の維持、保水性及びインキ受
容性に優れた平版印刷用の平版印刷版原版を提供するこ
とである。又、本発明の第二の課題は、前記した印刷版
原版を用いて、光を照射するだけという非常に簡便でク
リーンな製版方法を特徴とする印刷刷版作製方法を提供
することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION A first object of the present invention is a lithographic printing plate precursor utilizing hydrophilicity of titanium oxide by photoexcitation, which is excellent in maintaining hydrophilicity, water retention and ink receptivity. To provide a lithographic printing plate precursor for lithographic printing. A second object of the present invention is to provide a printing plate manufacturing method characterized by a very simple and clean plate making method of merely irradiating light using the printing plate precursor.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、酸化チタ
ンの薄膜を花弁状アルミナ層の上に設けることによっ
て、保水性に乏しい等の、印刷版用基板として使用する
際の問題点を解決できることを新たに発見し、しかも酸
化チタン層上に有機基が結合した珪素原子を含有するポ
リシロキサン塗膜層を設けることによりインキ受容性が
高まり、平版印刷版原版として使用可能なことを見出し
た。更に、このようにして得られる平版印刷版原版は、
光を画像様に照射するだけの極めて簡便な方法、且つ、
前述した従来の製版技術とは全く異なる原理による新し
い方法で印刷刷版を製版出来ることを見出し本発明に至
ったものである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The inventors of the present invention provided a thin film of titanium oxide on a petal-like alumina layer to solve the problems when using it as a printing plate substrate, such as poor water retention. We have discovered that we can solve the problem, and found that by providing a polysiloxane coating layer containing silicon atoms with organic groups bonded on the titanium oxide layer, the ink receptivity was improved and it could be used as a lithographic printing plate precursor. Was. Furthermore, the lithographic printing plate precursor thus obtained is
A very simple method of irradiating light like an image, and
The present inventors have found that a printing plate can be made by a new method based on a principle completely different from the above-described conventional plate making technology, and have led to the present invention.

【0011】即ち、本発明の第一の構成は、ガラス基
板、セラミック基板又は金属製基板等を基体とし、該基
体上に花弁状アルミナ層、酸化チタン層、有機基が結合
した珪素原子を含有するポリシロキサン塗膜層をこの順
に設けたことを特徴とする平版印刷版原版である。又、
本発明は前記した花弁状アルミナ層が、基体上に少なく
ともアルミニウムアルコキシドと安定化剤とからなる塗
布液で皮膜を乾燥し熱処理して成膜したアルミナ膜を、
熱水処理又は加熱水蒸気処理し、乾燥、焼成して作製す
る花弁状アルミナ層である平版印刷版原版を含む。
That is, the first structure of the present invention comprises a glass substrate, a ceramic substrate, a metal substrate, or the like as a base, a petal-like alumina layer, a titanium oxide layer, and a silicon atom to which an organic group is bonded. A lithographic printing plate precursor comprising a polysiloxane coating layer formed in this order. or,
The present invention provides the above-described petal-shaped alumina layer, an alumina film formed by drying and heat-treating a film with a coating solution comprising at least an aluminum alkoxide and a stabilizer on a substrate,
The planographic printing plate precursor, which is a petal-like alumina layer produced by hot water treatment or heat steam treatment, drying and baking, is included.

【0012】又、本発明の構成は、前記した有機基が結
合した珪素原子を含有するポリシロキサン塗膜層に於い
て、当該有機基が炭素数1〜30のアルキル基、アルキ
レン基、アリール基及び複素環基より成る群から選ばれ
る少なくとも1種である平版印刷版原版を含む。更に、
本発明の構成は、前記した有機基が結合した珪素原子を
含有するポリシロキサン塗膜層が、珪素原子に結合した
有機基として、炭素数1〜30のアルキル基、アルキレ
ン基、アリール基及び複素環基より成る群から選ばれる
少なくとも1種の有機基の少なくとも1個を有するアル
コキシシラン化合物類、当該アルコキシシラン化合物類
の部分加水分解縮合物もしくは当該アルコキシシラン化
合物類の加水分解縮合物より調製されるものである平版
印刷版原版を含む。
Further, according to the constitution of the present invention, in the above-mentioned polysiloxane coating layer containing a silicon atom having an organic group bonded thereto, the organic group is an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkylene group or an aryl group. And a lithographic printing plate precursor that is at least one selected from the group consisting of heterocyclic groups. Furthermore,
According to the constitution of the present invention, the above-mentioned polysiloxane coating layer containing a silicon atom having an organic group bonded thereto has an organic group bonded to a silicon atom as an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkylene group, an aryl group and a hetero group. Prepared from an alkoxysilane compound having at least one organic group selected from the group consisting of cyclic groups, a partial hydrolysis condensate of the alkoxysilane compound or a hydrolysis condensate of the alkoxysilane compound. Lithographic printing plate precursors.

【0013】本発明の第二の構成は、前記した平版印刷
版原版に、活性光線、高密度エネルギー光線又は放射線
を画像様に照射して印刷刷版を作製することを特徴とす
る印刷刷版作製方法である。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a printing plate, wherein the lithographic printing plate precursor is imagewise irradiated with actinic rays, high-density energy rays or radiation to prepare a printing plate. It is a manufacturing method.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明の平版印刷版原版について
説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A lithographic printing plate precursor according to the present invention will be described.

【0015】本発明の平版印刷版原版は、まず、基体上
に花弁状アルミナ層を設けたことを第一の特徴とする。
本発明に用いることのできる基体としては、平版印刷版
として利用することを考えて、ガラス基板やセラミック
基板又は好ましくは厚さ1mm以下、更に好ましくは厚
さ0.5mm以下の鉄板、ステンレス鋼板、トタン板、
ニッケル鍍金鋼板、クロム鍍金鋼板等の金属製基板薄板
で300℃以上での加熱焼成条件下でも相変化等の変質
を起こさないものを選んで使用される。
The first feature of the lithographic printing plate precursor according to the present invention is that a petal-like alumina layer is first provided on a substrate.
As a substrate that can be used in the present invention, in consideration of use as a lithographic printing plate, a glass substrate or a ceramic substrate or preferably an iron plate having a thickness of 1 mm or less, more preferably a thickness of 0.5 mm or less, a stainless steel plate, Galvanized sheet,
A thin metal substrate, such as a nickel-plated steel plate or a chrome-plated steel plate, which does not cause a change such as a phase change even under a heating and baking condition at 300 ° C. or more, is used.

【0016】本発明の平版印刷版原版は上記の基体上に
花弁状アルミナ層を設けて作製される。ガラス基板上に
花弁状アルミナ層を設けることは公知であって、例え
ば、南努ら,J.Ceram.Soc.Japan,V
ol.103,No.6,582−585(199
5).、南努ら,Proc.ofXVII,Inte
r.Congress on Glass,Vol.
4,445−449(Beijing,China,1
995).、南努ら,New Glass,Vol.1
2,No.2,42−45(1996).、南努ら,S
ol−Gel Optics IV,Proc.of
SPIE,Vol.3136,168−175(San
Diego,USA,1997).、南努ら,J.A
m.Ceram.Soc.,Vol.80,No.4,
1040−42(1997).、南努ら,J.Am.C
eram.Soc.,Vol.80,No.12,32
13−16(1997).、南努ら,表面技術,Vo
l.48,No.3,58−63(1997).、特開
平9−202,649号、同9−202,650号、同
9−202,651号等に、花弁状アルミナ層及びその
形成方法について開示されている。
The lithographic printing plate precursor according to the present invention is produced by providing a petal-like alumina layer on the above substrate. It is known to provide a petal-like alumina layer on a glass substrate. Ceram. Soc. Japan, V
ol. 103, no. 6, 582-585 (199
5). Proc. ofXVII, Inte
r. Congress on Glass, Vol.
4,445-449 (Beijing, China, 1
995). And Minami Tsutomu, New Glass, Vol. 1
2, No. 2, 42-45 (1996). , Minamitsuto, S
ol-Gel Optics IV, Proc. of
SPIE, Vol. 3136, 168-175 (San
Diego, USA, 1997). J. Minamitsuto et al. A
m. Ceram. Soc. , Vol. 80, no. 4,
1040-42 (1997). J. Minamitsuto et al. Am. C
eram. Soc. , Vol. 80, no. 12,32
13-16 (1997). , Minami Tsutomu, Surface Technology, Vo
l. 48, no. 3, 58-63 (1997). JP-A-9-202,649, JP-A-9-202,650, JP-A-9-202,651, etc. disclose a petal-like alumina layer and a method for forming the same.

【0017】本発明に於いては、花弁状アルミナ層はガ
ラス基板上のみではなく、セラミック基板や好ましくは
ステンレス鋼板、トタン板、ニッケル鍍金鋼板、クロム
鍍金鋼板等の金属製基板上に設けて用いられる。即ち、
花弁状アルミナ層を基体上に設ける具体的な方法として
は、基体上に少なくともアルミニウムアルコキシドと安
定化剤とからなる塗布液で皮膜を乾燥し熱処理して成膜
したアルミナ膜を、熱水処理又は加熱水蒸気処理し、乾
燥、焼成して作製することにより達成できる。
In the present invention, the petal-shaped alumina layer is used not only on a glass substrate but also on a ceramic substrate or preferably on a metal substrate such as a stainless steel plate, a galvanized steel plate, a nickel-plated steel plate or a chrome-plated steel plate. Can be That is,
As a specific method of providing a petal-like alumina layer on a substrate, an alumina film formed by drying and heat-treating a film on a substrate with a coating solution containing at least an aluminum alkoxide and a stabilizer is subjected to hydrothermal treatment or It can be achieved by heating and steaming, drying and firing.

【0018】本発明に用いることのできるアルミニウム
アルコキシドとしては、例えば、アルミニウムエトキシ
ド、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウム−n
−ブトキシド、アルミニウム−sec−ブトキシド、ア
ルミニウム−tert−ブトキシド、アルミニウムアセ
チルアセトナート等を挙げることができる。
Examples of the aluminum alkoxide that can be used in the present invention include aluminum ethoxide, aluminum isopropoxide, aluminum-n
-Butoxide, aluminum-sec-butoxide, aluminum-tert-butoxide, aluminum acetylacetonate and the like.

【0019】本発明に用いる安定化剤としては、具体例
として、例えば、アセチルアセトン、ジピロバイルメタ
ン、トリフルオロアセチルアセトン、ヘキサフルオロア
セチルアセトン等の1,3−ジケトン(β−ジケトン)
化合物類及び/又はアセト酢酸メチル、アセト酢酸エチ
ル、アセト酢酸アリル、アセト酢酸ベンジル、アセト酢
酸−iso−プロピル、アセト酢酸−tert−ブチ
ル、アセト酢酸−iso−ブチル、アセト酢酸−2−メ
トキシエチル、2−ケト−n−バレリック酸メチル、3
−メチル−2−ケト−n−バレリック酸メチル、2−ケ
ト−カプロニック酸メチル、2−ケト−エナンチック酸
メチル等のβ−ケトエステル化合物類を挙げることがで
きる。更に別の安定化剤として、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のア
ルカノールアミン類、更に一般的に使用される金属アル
コキシドの安定化剤等も挙げることができる。
Specific examples of the stabilizer used in the present invention include, for example, 1,3-diketones (β-diketones) such as acetylacetone, dipyrroylmethane, trifluoroacetylacetone and hexafluoroacetylacetone.
Compounds and / or methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, allyl acetoacetate, benzyl acetoacetate, isopropyl acetoacetate, tert-butyl acetoacetate, iso-butyl acetoacetate, 2-methoxyethyl acetoacetate, Methyl 2-keto-n-valerate, 3
Β-ketoester compounds such as methyl-methyl-2-keto-n-valerate, methyl 2-keto-capronate, and methyl 2-keto-enantiate can be mentioned. Still other stabilizers include alkanolamines such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine, and stabilizers for commonly used metal alkoxides.

【0020】少なくともアルミニウムアルコキシドと安
定化剤とから成る塗布液に使用される希釈溶媒として
は、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、n
−プロピルアルコール、iso−プロピルアルコール、
ブチルアルコール、エチレングリコール、エチレングリ
コール−モノ−n−プロピルエーテル、ジメチルアセト
アミド、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケト
ン等、及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。
The diluting solvent used in the coating solution comprising at least the aluminum alkoxide and the stabilizer includes, for example, methyl alcohol, ethyl alcohol, n
-Propyl alcohol, iso-propyl alcohol,
Examples thereof include butyl alcohol, ethylene glycol, ethylene glycol-mono-n-propyl ether, dimethylacetamide, methyl ethyl ketone, methyl isopropyl ketone, and the like, and a mixed solvent thereof.

【0021】塗布液の作製方法としては、アルミニウム
アルコキサイドが空気中の水分とすばやく反応してゲル
化し白濁化するのを防ぐため、これを防止する効果のあ
るβ−ジケトン化合物類、β−ケトエステル化合物類又
はアルカノールアミン類等の安定化剤を例えばモル比で
1以上を加え、各種アルコール類の希釈溶媒で塗布し易
い濃度まで、例えば10〜20倍に希釈して塗布液とす
ることもできるし、予め少量の水を加えて部分加水分解
もしくは完全加水分解してから塗布液とすることもでき
る。好ましい混合割合としては、モル比で、アルミニウ
ムアルコキシド:希釈溶媒:安定化剤:水=1:10〜
100:0.5〜2:0〜5である。
As a method of preparing a coating solution, β-diketone compounds, β-diketone compounds, and the like which have an effect of preventing aluminum alkoxide from reacting quickly with moisture in the air to cause gelation and cloudiness are prevented. Stabilizers such as ketoester compounds or alkanolamines may be added in a molar ratio of, for example, 1 or more, and diluted with a diluting solvent of various alcohols to a concentration that can be easily applied, for example, diluted 10 to 20 times to form a coating solution. Alternatively, a coating solution can be prepared after partial or complete hydrolysis by adding a small amount of water in advance. As a preferable mixing ratio, aluminum alkoxide: diluting solvent: stabilizing agent: water = 1: 10 to 1 in molar ratio.
100: 0.5-2: 0-5.

【0022】基体上に塗布液を塗布する塗布方法として
は、ディッピング法、スピンコート法、ノズルフローコ
ート法、スプレー法、リバースコート法、フレキソ法、
印刷法、フローコート法、バーコート法等既知の塗布手
段が適宜使用することができる。
The coating method for applying the coating liquid on the substrate includes dipping, spin coating, nozzle flow coating, spraying, reverse coating, flexo coating, and the like.
Known coating means such as a printing method, a flow coating method, and a bar coating method can be appropriately used.

【0023】次いで、塗布皮膜を乾燥し熱処理してアモ
ルファスアルミナ層を形成させる条件としては、まず塗
布皮膜が形成された基体を室温から100℃以下で数分
から数時間乾燥させた後、約600℃以下、好ましくは
550℃以下でしかも200℃以上の温度で、1分間か
ら60分間焼成することによりアモルファスアルミナ層
を形成することができる。
Next, the coating film is dried and heat-treated to form an amorphous alumina layer. First, the substrate on which the coating film is formed is dried at room temperature to 100 ° C. or lower for several minutes to several hours, and then dried at about 600 ° C. Hereinafter, the amorphous alumina layer can be formed by baking at a temperature of preferably 550 ° C. or lower and 200 ° C. or higher for 1 minute to 60 minutes.

【0024】次に、基体の上にアモルファスアルミナ層
が形成された材料には熱水処理又は加熱水蒸気処理が施
される。すなわち、50〜150℃の熱水中へ基体の上
にアモルファスアルミナ層が形成された材料を10秒か
ら24時間浸漬したり、熱水蒸気に1秒以上曝すことに
よりアモルファスアルミナ層の表層表面が解膠作用を受
けて、特異で微小な孔状の空隙を持った花弁状の形状物
がランダムに集合体化した表層表面を有するものとな
り、目的とする平版印刷版の基板として使用可能な特異
な空隙と形状化をした構造皮膜を得ることができる。
Next, the material having the amorphous alumina layer formed on the substrate is subjected to hot water treatment or hot steam treatment. That is, the surface of the amorphous alumina layer is decomposed by immersing the material having the amorphous alumina layer formed on the substrate in hot water at 50 to 150 ° C. for 10 seconds to 24 hours or exposing it to hot steam for 1 second or more. Under the agglomeration action, petal-shaped objects with unique and minute pore-shaped voids have a randomly aggregated surface layer surface, and can be used as a target lithographic printing plate substrate It is possible to obtain a structural film having voids and shapes.

【0025】次いで花弁状構造皮膜が形成された基体
を、室温から150℃前後までで10秒以上乾燥したの
ち、300〜750℃の温度範囲で1分以上1時間以内
の時間焼成することにより、目的とする強固で特異な微
細空隙構造を持つ花弁状アルミナ膜を形成することがで
きる。尚、花弁状アルミナ膜の膜厚としては、10nm
以上10μm以下が好ましいものである。更に花弁状ア
ルミナ膜は、中心線平均粗さを面拡張した平均面粗さR
a’値が17nm以上、且つ比表面積SRが1.5以上
であることが好ましい。
Next, the substrate on which the petal-like structure film is formed is dried at room temperature to about 150 ° C. for 10 seconds or more, and then baked in a temperature range of 300 to 750 ° C. for 1 minute to 1 hour. It is possible to form the desired petal-like alumina film having a strong and unique microvoid structure. The petal-like alumina film has a thickness of 10 nm.
The thickness is preferably 10 μm or more and 10 μm or less. Further, the petal-like alumina film has an average surface roughness R obtained by expanding the center line average roughness.
a 'value is more than 17 nm, and the specific surface area S R is is preferably 1.5 or more.

【0026】本発明の酸化チタン層について説明する。
本発明の酸化チタン層は前述の花弁状アルミナ層の上に
設けられた酸化チタン皮膜であることを特徴とし、以下
の方法によって作製される。即ち、例えば、チタンアル
コキシドのような有機チタン化合物の加水分解と脱水縮
重合により花弁状アルミナの表面に無定形チタニア層を
被覆する。この際、有機チタン化合物が空気中の水分と
すばやく反応してゲル化し、白濁化するのを防ぐために
特定の安定化キレート化剤として1,3−ジケトン(β
−ジケトン)化合物類及び/又はβ−ケトエステル化合
物類を使用することができる。また更に予め水を加えて
部分加水分解もしくは完全加水分解してから、花弁状ア
ルミナの表面に無定形チタニア層を被覆することもでき
る。次いで、花弁状アルミナの表面に設けた無定形チタ
ニアを加熱焼成して酸化チタン層とする。
The titanium oxide layer of the present invention will be described.
The titanium oxide layer of the present invention is a titanium oxide film provided on the petal-like alumina layer described above, and is produced by the following method. That is, for example, an amorphous titania layer is coated on the surface of petal alumina by hydrolysis and dehydration condensation polymerization of an organic titanium compound such as titanium alkoxide. At this time, as a specific stabilizing chelating agent, 1,3-diketone (β
-Diketone) compounds and / or β-ketoester compounds. Further, the surface of the petal-like alumina may be coated with an amorphous titania layer after partial or complete hydrolysis by adding water in advance. Next, the amorphous titania provided on the surface of the petal-like alumina is heated and fired to form a titanium oxide layer.

【0027】本発明に用いる有機チタン化合物の具体例
としては、例えば、テトラエトキシチタン、テトライソ
プロポキシチタン、テトラ−n−プロポキシチタン、テ
トラ−n−ブトキシチタン、テトラ−tert−ブトキ
シチタン、テトラメトキシチタン等や、チタニルアセチ
ルアセテート等のチタンキレート等を挙げることができ
る。
Specific examples of the organic titanium compound used in the present invention include, for example, tetraethoxytitanium, tetraisopropoxytitanium, tetra-n-propoxytitanium, tetra-n-butoxytitanium, tetra-tert-butoxytitanium, tetramethoxytitanium Titanium and the like, and titanium chelates such as titanyl acetyl acetate and the like can be mentioned.

【0028】本発明の花弁状アルミナの表面に無定形チ
タニア層を被覆する方法としては、まず、有機チタン化
合物とβ−ジケトン化合物類及び/又はβ−ケトエステ
ル化合物類等のキレート剤を例えばモル比で1以上を加
え、各種アルコール類等の希釈溶媒で塗布し易い濃度ま
で、例えば10〜20倍に希釈し、更に必要に応じて少
量の水を加えて塗布液とする。好ましい混合割合として
は、モル比で、有機チタン化合物:希釈溶媒:キレート
剤:水=1:10〜100:0.5〜2:0〜5であ
る。
The method for coating the amorphous titania layer on the surface of the petal-like alumina of the present invention is as follows. First, an organotitanium compound and a chelating agent such as a β-diketone compound and / or a β-ketoester compound are mixed, for example, in a molar ratio. And dilute it with a diluting solvent such as various alcohols to a concentration that facilitates coating, for example, 10 to 20-fold, and further add a small amount of water as needed to obtain a coating solution. As a preferable mixing ratio, an organic titanium compound: a diluting solvent: a chelating agent: water = 1: 10 to 100: 0.5 to 2: 0 to 5 in a molar ratio.

【0029】この時使用するキレート剤の具体例として
は、例えば、アセチルアセトン、ジピロバイルメタン、
トリフルオロアセチルアセトン、ヘキサフルオロアセチ
ルアセトン等の1,3−ジケトン(β−ジケトン)化合
物類及び/又はアセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、
アセト酢酸アリル、アセト酢酸ベンジル、アセト酢酸−
iso−プロピル、アセト酢酸−tert−ブチル、ア
セト酢酸−iso−ブチル、アセト酢酸−2−メトキシ
エチル、2−ケト−n−バレリック酸メチル、3−メチ
ル−2−ケト−n−バレリック酸メチル、2−ケト−カ
プロニック酸メチル、2−ケト−エナンチック酸メチル
等のβ−ケトエステル化合物類を挙げることができる。
Specific examples of the chelating agent used at this time include, for example, acetylacetone, dipyrroylmethane,
1,3-diketone (β-diketone) compounds such as trifluoroacetylacetone and hexafluoroacetylacetone and / or methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate;
Allyl acetoacetate, benzyl acetoacetate, acetoacetic acid
iso-propyl, tert-butyl acetoacetate, iso-butyl acetoacetate, 2-methoxyethyl acetoacetate, methyl 2-keto-n-valerate, methyl 3-keto-2-keto-n-valerate, Β-ketoester compounds such as methyl 2-keto-capronate and methyl 2-keto-enantiate can be mentioned.

【0030】又、希釈溶媒としては、例えば、メチルア
ルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコー
ル、iso−プロピルアルコール、ブチルアルコール、
エチレングリコール、エチレングリコール−モノ−n−
プロピルエーテル、ジメチルアセトアミド、メチルエチ
ルケトン、メチルイソプロピルケトン等、及びこれらの
混合溶媒を挙げることができる。
Examples of the diluting solvent include methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, iso-propyl alcohol, butyl alcohol,
Ethylene glycol, ethylene glycol-mono-n-
Examples thereof include propyl ether, dimethylacetamide, methyl ethyl ketone, methyl isopropyl ketone, and the like, and a mixed solvent thereof.

【0031】花弁状アルミナ層上に無定形チタニア層塗
布液を塗布する塗布方法としては、ディッピング法、ス
ピンコート法、ノズルフローコート法、スプレー法、リ
バースコート法、フレキソ法、印刷法、フローコート
法、バーコート法等、既知の塗布手段が適宜使用するこ
とができる。塗布された無定形チタニア層は、室温から
150℃で数秒から数時間乾燥させる。
The coating method for applying the amorphous titania layer coating solution on the petal-like alumina layer includes dipping, spin coating, nozzle flow coating, spraying, reverse coating, flexo, printing, and flow coating. A known coating means such as a coating method and a bar coating method can be appropriately used. The applied amorphous titania layer is dried at room temperature to 150 ° C. for several seconds to several hours.

【0032】次いで、本発明による花弁状アルミナ層の
表面に設けた無定形チタニアを焼成するには、200〜
900℃、好ましくは300〜700℃の温度で1分か
ら2時間焼成することにより達成される。本発明による
酸化チタン層の膜厚としては、10nm〜10μmが好
ましい。
Next, in order to bake the amorphous titania provided on the surface of the petal-like alumina layer according to the present invention, 200 to 200
This is achieved by firing at a temperature of 900 ° C., preferably 300 to 700 ° C. for 1 minute to 2 hours. The thickness of the titanium oxide layer according to the present invention is preferably from 10 nm to 10 μm.

【0033】また別の花弁状アルミナ層の表面に酸化チ
タン層を設ける方法として、四塩化チタン又は硫酸チタ
ンの酸性水溶液に、必要に応じてアルカリ水溶液を添加
して塗布液とし、花弁状アルミナ層の表面に塗布して乾
燥し、好ましくは300〜700℃の温度で1分から2
時間焼成して酸化チタン層を設ける方法や、結晶性酸化
チタンゾルを花弁状アルミナ層の表面に塗布して乾燥す
る方法等があり、いづれの方法も本発明の酸化チタン層
作製方法として利用できる。
As another method for providing a titanium oxide layer on the surface of the petal-like alumina layer, an alkaline aqueous solution is added to an acidic aqueous solution of titanium tetrachloride or titanium sulfate, if necessary, to form a coating solution. And dried at a temperature of 300 to 700 ° C. for 1 minute to 2 minutes.
There are a method in which a titanium oxide layer is formed by firing for a time, and a method in which a crystalline titanium oxide sol is applied to the surface of a petal-like alumina layer and dried. Either method can be used as the titanium oxide layer forming method of the present invention.

【0034】本発明の有機基が結合した珪素原子を含有
するポリシロキサン塗膜層は、当該有機基が炭素数1〜
30のアルキル基、アルキレン基、アリール基及び複素
環基より成る群から選ばれる少なくとも1種であること
を特徴とし、有機基として炭素数1〜30のアルキル
基、アルキレン基、アリール基及び複素環基より成る群
から選ばれる少なくとも1種の有機基の少なくとも1個
を有するアルコキシシラン化合物類、当該アルコキシシ
ラン化合物類の部分加水分解縮合物もしくは当該アルコ
キシシラン化合物類の加水分解縮合物より調製されたも
のである。
In the polysiloxane coating layer containing a silicon atom having an organic group bonded thereto according to the present invention, the organic group has 1 to 1 carbon atoms.
It is at least one selected from the group consisting of an alkyl group, an alkylene group, an aryl group and a heterocyclic group having 30 carbon atoms. The organic group is an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkylene group, an aryl group and a heterocyclic group. Prepared from an alkoxysilane compound having at least one of at least one organic group selected from the group consisting of groups, a partial hydrolysis condensate of the alkoxysilane compound or a hydrolysis condensate of the alkoxysilane compound. Things.

【0035】また、当該アルコキシシラン化合物類のア
ルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、イソ
プロポキシ基、n−プロポキシ基、ブトキシ基、β−メ
トキシエトキシ基などの炭素数が10以下の低級アルコ
ール類から導かれるアルコキシル基を挙げることができ
る。
The alkoxyl groups of the alkoxysilane compounds include lower alcohols having 10 or less carbon atoms such as methoxy, ethoxy, isopropoxy, n-propoxy, butoxy and β-methoxyethoxy. And an alkoxyl group derived from

【0036】本発明の有機基が結合した珪素原子を含有
するアルコキシシラン化合物の具体例としては、例え
ば、ジアリルジエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシ
シラン、1,2−ビス(ブチルジエトキシシリル)エタ
ン、ブロモフェニルトリメトキシシラン、ジ(3−クロ
ロプロピル)ジメトキシシラン、デシルトリエトキシシ
ラン、ジフェニルジメトキシシラン、ドデシルトリメト
キシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ジイソ
ブチルジエトキシシラン、3−(メタアクリルオキシ)
プロピルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキ
シシラン、オクチルトリエトキシシラン、フェニルトリ
メトキシシラン、4−トリルトリメトキシシラン、3−
(トリエトキシシリル)プロピルシクロペンタンジエ
ン、トリビニルエトキシシラン等が挙げられる。
Specific examples of the alkoxysilane compound containing a silicon atom to which an organic group is bonded according to the present invention include, for example, diallyldiethoxysilane, hexyltriethoxysilane, 1,2-bis (butyldiethoxysilyl) ethane, Bromophenyltrimethoxysilane, di (3-chloropropyl) dimethoxysilane, decyltriethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, hexadecyltrimethoxysilane, diisobutyldiethoxysilane, 3- (methacryloxy)
Propyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, 4-tolyltrimethoxysilane, 3-
(Triethoxysilyl) propylcyclopentadiene, trivinylethoxysilane, and the like.

【0037】本発明の有機基が結合した珪素原子を含有
するポリシロキサン塗膜層を本発明の酸化チタン層上に
設ける方法は、上記有機基が結合した珪素原子を含有す
るアルコキシシラン化合物類の中から1種以上を選び、
それらを溶解可能な有機溶媒を選んで溶解させ、必要に
応じて他の添加剤を加えて塗布液とし、ディッピング
法、スピンコート法、ノズルフローコート法、スプレー
法、リバースコート法、フレキソ法、印刷法、フローコ
ート法、バーコート法等、既知の塗布手段により塗布
し、乾燥、焼成して作製することができる。この時使用
できる有機溶媒としては、メチルアルコール、エチルア
ルコール、n−プロピルアルコール、iso−プロピル
アルコール、ブチルアルコール、エチレングリコール、
エチレングリコール−モノn−プロピルエーテル、2−
メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン等のケトン
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の
アミド類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルエス
テル、メチルセルソルブアセテート等のエステル類、テ
トラヒドロフラン等の複素環化合物等を挙げることがで
きる。その他添加剤としては、各種界面活性剤、塗布助
剤、酸触媒等を挙げることができる。又、乾燥には、室
温から150℃以下で数分から数時間乾燥させることに
より、焼成は200〜500℃で1分から1時間加熱処
理することによって硬度及び耐久性に優れた、本発明の
有機基が結合した珪素原子を含有するポリシロキサン塗
膜層を作製することができる。有機基が結合した珪素原
子を含有するポリシロキサン塗膜層の膜厚としては、5
nm〜10μmが好ましい。
The method for providing a polysiloxane coating layer containing a silicon atom having an organic group bonded thereon according to the present invention on the titanium oxide layer according to the present invention comprises the steps of: Choose one or more from among them,
An organic solvent capable of dissolving them is selected and dissolved, and if necessary, other additives are added to form a coating solution.Dipping, spin coating, nozzle flow coating, spraying, reverse coating, flexo, It can be produced by coating by a known coating means such as a printing method, a flow coating method, and a bar coating method, followed by drying and baking. Organic solvents that can be used at this time include methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, butyl alcohol, ethylene glycol,
Ethylene glycol-mono n-propyl ether, 2-
Alcohols such as methoxyethanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isopropyl ketone, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, methylcellosolve acetate, tetrahydrofuran and the like And the like. Other additives include various surfactants, coating aids, acid catalysts, and the like. In addition, the organic group of the present invention is excellent in hardness and durability by heating at 200 to 500 ° C. for 1 minute to 1 hour by drying at room temperature to 150 ° C. or lower for several minutes to several hours. To form a polysiloxane coating film layer containing a silicon atom to which is bonded. The thickness of the polysiloxane coating layer containing a silicon atom having an organic group bonded thereto is 5
nm to 10 μm is preferred.

【0038】本発明の平版印刷版原版を用いた印刷刷版
の作成方法について説明する。本発明の平版印刷版原版
に画像書き込みを行うことのできる光源としては、活性
光線として300nm以下の紫外線光、高密度エネルギ
ー光線としてエキシマレーザーや半導体レーザーの第二
高調波、第三高調波、及び第四高調波で輝線が300n
m以下のレーザー、放射線として電子線やX線等を挙げ
ることができる。平版印刷版原版に画像書き込みを行う
方法としては、活性光線や放射線による全面照射の場合
にはガラス板上に形成された画像等をマスクとして全面
照射すれば目的とする画像を本発明の平版印刷版原版の
上に作製することができる。高密度エネルギー光線や放
射線ビームを光源とする場合には、予めコンピューター
等によりデジタル化された情報を用いて、光源ビームを
直接本発明の平版印刷版原版に走査照射することにより
画像が形成される。照射条件は、有機基が結合した珪素
原子を含有するポリシロキサン塗膜層の厚さや光源パワ
ーの強度によって大きく変わるため特定できないが、時
間的には数秒から数時間以内である。その終了点は、該
光照射部の水との接触角が、5度以下の超親水性となる
ことによって知ることができる。すなわち、詳細なメカ
ニズムは不明であるが、光照射された部分では酸化チタ
ンによる光触媒作用により、有機基が結合した珪素原子
を含有するポリシロキサン塗膜層部分の水との接触角が
5度以下となって超親水化する。この様に、本発明によ
る印刷刷版作製方法としては、光を照射するだけで良
く、現像液による現像処理など煩わしい工程を経る必要
はない。
A method for preparing a printing plate using the lithographic printing plate precursor according to the present invention will be described. As a light source capable of performing image writing on the lithographic printing plate precursor of the present invention, ultraviolet light of 300 nm or less as active light, second harmonic of excimer laser or semiconductor laser as high density energy light, third harmonic, and 300n emission line at 4th harmonic
m or less, and an electron beam or an X-ray can be used as the radiation. As a method of writing an image on a lithographic printing plate precursor, in the case of irradiating the entire surface with actinic rays or radiation, by irradiating the entire image with a mask or the like formed on a glass plate as a mask, the target image of the present invention can be used. It can be produced on a plate master. When a high-density energy ray or radiation beam is used as the light source, an image is formed by directly scanning and irradiating the lithographic printing plate precursor of the present invention with the light source beam using information digitized by a computer or the like in advance. . Irradiation conditions cannot be specified because they vary greatly depending on the thickness of the polysiloxane coating layer containing a silicon atom to which an organic group is bonded and the intensity of the light source power, but the time is within several seconds to several hours. The end point can be known by the fact that the contact angle of the light irradiation part with water becomes superhydrophilic of 5 degrees or less. That is, although the detailed mechanism is unknown, the contact angle with water of the polysiloxane coating layer portion containing the silicon atom to which the organic group is bonded is 5 degrees or less due to the photocatalytic action of titanium oxide in the portion irradiated with light. And become superhydrophilic. As described above, the printing plate manufacturing method according to the present invention only needs to irradiate light, and does not need to go through a cumbersome process such as a developing process using a developing solution.

【0039】本発明による平版印刷版原版から得られた
印刷刷版は、前述の親水部は印刷に於ける非画像部とな
り、又その他部分はインキ受容部となって印刷画像部と
なる。この時得た印刷刷版は、そのまま印刷刷版として
用いることも可能であるが、印刷前に予めガム液等によ
り不感脂化するのが望ましい。
In the printing plate obtained from the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the above-mentioned hydrophilic portion becomes a non-image portion in printing, and the other portion becomes an ink receiving portion to become a printed image portion. The printing plate obtained at this time can be used as it is as a printing plate, but it is desirable that the printing plate be desensitized with a gum solution or the like before printing.

【0040】不感脂化とは、今日広く印刷業界で一般に
行われている印刷に際しての前処理であって、印刷刷版
の親水性部分へのインキ着肉による印刷汚れを防止する
目的で行われる。すなわち、水に水系の不感脂化剤(例
えば、アラビアゴム、デキストリン、カルボキシメチル
セルロース等の天然水溶性高分子やポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸等の水溶性
合成高分子)や必要に応じて酸や界面活性剤が加えられ
て作製されたガム液を、印刷刷版に塗布して親水部を不
感脂化した後、乾燥して印刷刷版とし、印刷に供され
る。この時使用されるインキは、通常の感光性平版印刷
刷版を使用して行われる印刷と全く同じインキを使用し
て印刷することができる。
The desensitization is a pretreatment for printing which is generally performed widely in the printing industry today, and is performed for the purpose of preventing printing stains due to ink deposition on hydrophilic portions of a printing plate. . That is, water-based desensitizing agents (for example, natural water-soluble polymers such as gum arabic, dextrin, carboxymethylcellulose, and water-soluble synthetic polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, and polyacrylic acid) in water and, if necessary, A gum solution prepared by adding an acid or a surfactant is applied to a printing plate to desensitize a hydrophilic portion, and then dried to form a printing plate, which is then provided for printing. The ink used at this time can be printed using exactly the same ink as printing performed using a normal photosensitive lithographic printing plate.

【0041】[0041]

【実施例】次に、本発明を実施例により更に詳しく具体
的に説明するが、もとより本発明はこれら実施例に限定
されるものではない。
EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0042】〔実施例1〕トリブトキシアルミニウム2
4.3gを攪拌しつつイソプロピルアルコール100g
中に添加する。更に攪拌しつつアセト酢酸エチルエステ
ル13gを添加し、室温にて1時間攪拌した。次いで、
イソプロピルアルコール20gと水7.2gの混合液を
攪拌しつつ加え、添加後さらに3時間攪拌して塗布液と
した。塗布液中に2.5x2.5cmの予め脱脂処理を
施したガラス板を漬け、持ち上げるディッピング法によ
りアルミナゾル層をガラス基板上に設けた。風乾後、4
00℃にて10分間焼成した後、90℃の熱水中に10
分間浸漬した。浸漬終了後、再度400℃にて10分間
焼成することにより花弁状アルミナ層を形成できた。1
0,000倍の電子顕微鏡にて表面が花弁状の特異な形
状をしていることが確認できた。
Example 1 Tributoxyaluminum 2
While stirring 4.3 g, 100 g of isopropyl alcohol
Add in. While further stirring, 13 g of acetoacetic acid ethyl ester was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Then
A mixed liquid of 20 g of isopropyl alcohol and 7.2 g of water was added with stirring, and after the addition, the mixture was further stirred for 3 hours to obtain a coating liquid. An alumina sol layer was provided on a glass substrate by a dipping method in which a 2.5 × 2.5 cm pre-degreased glass plate was immersed in a coating solution and lifted. After air drying, 4
After baking at 00 ° C for 10 minutes, 10 minutes in hot water at 90 ° C.
Soak for minutes. After the immersion, baking was performed again at 400 ° C. for 10 minutes to form a petal-like alumina layer. 1
It was confirmed that the surface had a peculiar shape of a petal by an electron microscope at a magnification of 0000.

【0043】チタニウムテトラ−n−ブトキシドモノマ
ー3.4gをエタノール46gに溶解した溶液に、攪拌
しながらアセチルアセトン1gとエタノール14gの混
合液を添加した。添加後3時間室温にて攪拌した後、水
0.72gとエタノール14gの混合液を加えて更に2
時間攪拌した。作製したチタニウムゾル溶液を用い、ス
ピナーにより、3000rpm、15秒間の条件下で先
の花弁状アルミナ層を設けたガラス基板上に塗布した。
風乾後、500℃、30分間焼成して酸化チタン層を形
成した。酸化チタン層の膜厚は30nmであった。
To a solution of 3.4 g of titanium tetra-n-butoxide monomer dissolved in 46 g of ethanol was added a mixture of 1 g of acetylacetone and 14 g of ethanol with stirring. After stirring at room temperature for 3 hours after the addition, a mixed solution of 0.72 g of water and 14 g of ethanol was added, and the mixture was further stirred for 2 hours.
Stirred for hours. The titanium sol solution thus prepared was applied on a glass substrate provided with a petal-like alumina layer by using a spinner at 3000 rpm for 15 seconds.
After air drying, baking was performed at 500 ° C. for 30 minutes to form a titanium oxide layer. The thickness of the titanium oxide layer was 30 nm.

【0044】次ぎに、オクチルトリメトキシシランの5
%メチルエチルケトン溶液200gに0.01N塩酸水
溶液0.7gを添加した溶液を用い、スピナーにて30
00rpm、15秒の条件下、先の酸化チタン層上に塗
布した。風乾後、400℃、10分間焼成して、本発明
のガラスを基板とする平版印刷版原版を得た。
Next, octyltrimethoxysilane 5
A solution prepared by adding 0.7 g of a 0.01N hydrochloric acid aqueous solution to 200 g of a 200% methyl ethyl ketone solution,
The coating was performed on the titanium oxide layer under the conditions of 00 rpm and 15 seconds. After air drying, baking was performed at 400 ° C. for 10 minutes to obtain a lithographic printing plate precursor using the glass of the present invention as a substrate.

【0045】本発明の平版印刷版原版の表面に、ガラス
製写真乾板に作成した文字画像を密着させ、低圧水銀放
電燈(253−310nm、石井商店製)にて15分間
照射して印刷刷版を得た。この時印刷刷版に於ける光照
射部の接触角は5度以下であり、未照射部は135度で
あった。
The lithographic printing plate precursor of the present invention is brought into close contact with a character image formed on a photographic plate made of glass and irradiated with a low-pressure mercury discharge lamp (253-310 nm, manufactured by Ishii Shoten) for 15 minutes. I got At this time, the contact angle of the light irradiated part on the printing plate was 5 degrees or less, and the unirradiated part was 135 degrees.

【0046】次いで、印刷刷版をガム液(UG1を2倍
に希釈;ポリクロームジャパン社製)にて濡らして乾燥
した。印刷刷版を両面テープで金属板上に固定し印刷を
行った。印刷は、湿し水NA108W(1:50希釈、
大日本インキ化学工業社製)の存在下、インキローラー
にてインキ(GEOS−G紅N、大日本インキ化学工業
社製)付けを行った後、ゴムローラーに文字画像を転写
し、更に紙上にゴムローラーから文字画像を転写するこ
とによって行った。以上の手順で1枚の文字の印刷物を
得た。以下、湿し水付け→インキ付け→ゴムローラー転
写→紙転写のサイクルで印刷を続けて、500枚の印刷
物を得た。この間印刷物としての文字品質は良好であっ
た。
Next, the printing plate was wetted with a gum solution (UG1 was diluted two-fold; manufactured by Polychrome Japan) and dried. The printing plate was fixed on a metal plate with double-sided tape and printing was performed. The printing was performed using a fountain solution NA108W (1:50 dilution,
After applying ink (GEOS-G Red N, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) with an ink roller in the presence of Dainippon Ink and Chemicals, the character image is transferred to a rubber roller and further printed on paper. This was performed by transferring a character image from a rubber roller. By the above procedure, a printed matter of one character was obtained. Thereafter, printing was continued in a cycle of dampening water → inking → rubber roller transfer → paper transfer to obtain 500 prints. During this time, the character quality of the printed matter was good.

【0047】〔実施例2〕実施例1で作製したアルミナ
ゾル塗布液を、予め脱脂処理をしたB4ワイドサイズで
0.3mm厚のステンレス板鋼上にロッド番号#12の
ワイヤーバーにて塗布した。風乾後、400℃にて10
分間焼成したのち、90℃の熱水中に10分間浸漬し
た。浸漬終了後、再度400℃にて10分間焼成するこ
とにより花弁状アルミナ層を形成できた。
Example 2 The alumina sol coating solution prepared in Example 1 was applied to a pre-degreased B4 wide size stainless steel sheet having a thickness of 0.3 mm with a wire bar having a rod number of # 12. After air drying, 10 at 400 ° C
After baking for 10 minutes, it was immersed in hot water at 90 ° C. for 10 minutes. After the immersion, baking was performed again at 400 ° C. for 10 minutes to form a petal-like alumina layer.

【0048】次いで実施例1で作製したチタニウムゾル
溶液を花弁状アルミナ層の上にロッド番号#8のワイヤ
ーバーにて塗布した。風乾後、500℃、30分間焼成
して酸化チタン層を形成した。次ぎにオクタデシルトリ
エトキシシランの5%メチルエチルケトン溶液250g
に0.01N塩酸水溶液1.0gを添加した溶液を用
い、酸化チタン層上にロッド番号#8のワイヤーバーに
て塗布した。風乾後、300℃、10分間焼成して、本
発明のステンレス鋼板を基板とする平版印刷版原版を得
た。
Next, the titanium sol solution prepared in Example 1 was applied onto the petal-like alumina layer with a wire number rod # 8. After air drying, baking was performed at 500 ° C. for 30 minutes to form a titanium oxide layer. Next, 250 g of a 5% methyl ethyl ketone solution of octadecyltriethoxysilane
Was applied to the titanium oxide layer with a wire bar having a rod number of # 8 using a solution obtained by adding 1.0 g of a 0.01 N hydrochloric acid aqueous solution. After air drying, baking was performed at 300 ° C. for 10 minutes to obtain a lithographic printing plate precursor using the stainless steel plate of the present invention as a substrate.

【0049】本発明の平版印刷版原版の表面に、ガラス
製写真乾板に作成した文字画像を密着させ、低圧水銀放
電燈(253−310nm、石井商店製)にて30分間
照射して印刷刷版を得た。印刷刷版をガム(UG1を2
倍に希釈;ポリクロームジャパン社製)処理したのち、
印刷機(TOKO−820L;東京航空計器社製)に装
着した。印刷条件として、印刷速度;1,000枚/時
間、印刷用紙;十条ダイヤコートB4、インキ;GEO
S−G紅S(大日本インキ化学工業社製)、湿し水;N
A108W(1:50希釈、大日本インキ化学工業社
製)の条件下、3,000枚の印刷テストを実施した。
得られた印刷物3,000枚は、品質等の問題もなく良
好な印刷物であった。
The lithographic printing plate precursor of the present invention is brought into close contact with a character image formed on a photographic plate made of glass and irradiated with a low-pressure mercury discharge lamp (253-310 nm, manufactured by Ishii Shoten) for 30 minutes. I got Printing plate with gum (UG1 2
After dilution, polychrome Japan)
The printer was mounted on a printing machine (TOKO-820L; manufactured by Tokyo Aviation Instruments Inc.). As printing conditions, printing speed; 1,000 sheets / hour, printing paper; Jujo diamond coat B4, ink; GEO
SG Red S (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), fountain solution; N
A printing test of 3,000 sheets was performed under the conditions of A108W (1:50 dilution, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.).
The obtained 3,000 prints were good prints without any problem of quality or the like.

【0050】〔実施例3〕実施例1で作製したアルミナ
ゾル塗布液を、予め脱脂処理をしたB4ワイドサイズで
0.27mm厚のトタン板上にロッド番号#12のワイ
ヤーバーにて塗布した。風乾後、250℃にて30分間
焼成したのち、90℃の熱水中に10分間浸漬した。浸
漬終了後、再度250℃にて20分間焼成することによ
り花弁状アルミナ層を形成できた。
Example 3 The alumina sol coating solution prepared in Example 1 was applied to a pre-degreased B4 wide size 0.27 mm thick galvanized steel plate with a wire number rod # 12. After air-drying, it was baked at 250 ° C. for 30 minutes, and then immersed in hot water at 90 ° C. for 10 minutes. After the immersion, baking was again performed at 250 ° C. for 20 minutes to form a petal-like alumina layer.

【0051】次いで実施例1で作製したチタニウムゾル
溶液を花弁状アルミナ層の上にロッド番号#8のワイヤ
ーバーにて塗布した。風乾後、250℃、1時間焼成し
て酸化チタン層を形成した。次ぎにオクタデシルトリエ
トキシシランの5%メチルエチルケトン溶液250gに
0.01N塩酸水溶液1.0gを添加した溶液を用い、
酸化チタン層上にロッド番号#8のワイヤーバーにて塗
布した。風乾後、250℃、15分間焼成して、本発明
のトタン板を基板とする平版印刷版原版を得た。
Next, the titanium sol solution prepared in Example 1 was applied onto the petal-like alumina layer with a wire number rod # 8. After air drying, baking was performed at 250 ° C. for 1 hour to form a titanium oxide layer. Next, using a solution obtained by adding 1.0 g of a 0.01N hydrochloric acid aqueous solution to 250 g of a 5% solution of octadecyltriethoxysilane in methyl ethyl ketone,
It was applied on the titanium oxide layer with a wire bar of rod number # 8. After air drying, baking was performed at 250 ° C. for 15 minutes to obtain a lithographic printing plate precursor using the galvanized sheet of the present invention as a substrate.

【0052】本発明の平版印刷版原版の表面に、ガラス
製写真乾板に作成した文字画像を密着させ、低圧水銀放
電燈(253−310nm、石井商店製)にて30分間
照射して印刷刷版を得た。印刷刷版をガム(UG1を2
倍に希釈;ポリクロームジャパン社製)処理したのち、
印刷機(TOKO−820L;東京航空計器社製)に装
着した。印刷条件として、印刷速度;3,000枚/時
間、印刷用紙;十条ダイヤコートB4、インキ;GEO
S−G紅S(大日本インキ化学工業社製)、湿し水;N
A108W(1:50希釈、大日本インキ化学工業社
製)の条件下、3,000枚の印刷テストを実施した。
得られた印刷物3,000枚は、品質等の問題もなく良
好な印刷物であった。
The lithographic printing plate precursor of the present invention is brought into close contact with a character image prepared on a photographic plate made of glass and irradiated with a low-pressure mercury discharge lamp (253-310 nm, manufactured by Ishii Shoten) for 30 minutes. I got Printing plate with gum (UG1 2
After dilution, polychrome Japan)
The printer was mounted on a printing machine (TOKO-820L; manufactured by Tokyo Aviation Instruments Inc.). As printing conditions, printing speed: 3,000 sheets / hour, printing paper: Jujo diamond coat B4, ink; GEO
SG Red S (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), fountain solution; N
A printing test of 3,000 sheets was performed under the conditions of A108W (1:50 dilution, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.).
The obtained 3,000 prints were good prints without any problem of quality or the like.

【0053】[0053]

【発明の効果】本発明による、基板上に花弁状アルミナ
層、酸化チタン層および有機基が結合した珪素原子を含
有するポリシロキサン塗膜層の三層構造を持った平版印
刷版原版は、光を照射するだけと言う簡便でクリーンな
製版方法により、平版印刷刷版を製造することができ
る。
According to the present invention, a lithographic printing plate precursor having a three-layer structure of a petal-like alumina layer, a titanium oxide layer, and a polysiloxane coating layer containing a silicon atom to which an organic group is bonded on a substrate is provided by a light-emitting plate. A lithographic printing plate can be manufactured by a simple and clean plate making method of simply irradiating the plate.

フロントページの続き (72)発明者 忠永 清治 大阪府堺市中百舌鳥町6−998−3 (72)発明者 松田 厚範 大阪府河内長野市緑ケ丘中町12−5 Fターム(参考) 2H025 AB03 AC01 AC04 AC05 AC06 AC08 BH03 DA18 DA19 DA40 EA04 EA10 2H096 AA06 BA16 CA05 CA12 CA20 EA02 EA03 EA04 EA05 EA06 EA07 2H114 AA04 AA15 BA01 DA04 DA08 DA14 DA38 GA38 Continued on the front page (72) Inventor Seiji Tadanaga 6-998-3 Nakamozu Toricho, Sakai City, Osaka (72) Inventor Atsunori Matsuda 12-5 Midorigaoka Nakamachi, Kawachinagano City, Osaka F term (reference) 2H025 AB03 AC01 AC04 AC05 AC06 AC08 BH03 DA18 DA19 DA40 EA04 EA10 2H096 AA06 BA16 CA05 CA12 CA20 EA02 EA03 EA04 EA05 EA06 EA07 2H114 AA04 AA15 BA01 DA04 DA08 DA14 DA38 GA38

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基体上に花弁状アルミナ層、酸化チタン
層、有機基が結合した珪素原子を含有するポリシロキサ
ン塗膜層をこの順に設けたことを特徴とする平版印刷版
原版。
A lithographic printing plate precursor comprising a petal-like alumina layer, a titanium oxide layer, and a polysiloxane coating layer containing a silicon atom to which an organic group is bonded on a substrate in this order.
【請求項2】 前記した花弁状アルミナ層が、少なくと
もアルミニウムアルコキシドと安定化剤とからなる塗布
液で皮膜を乾燥し熱処理して成膜したアルミナ膜を、熱
水処理又は加熱水蒸気処理し、乾燥、焼成したことでな
る花弁状のアルミナ層である請求項1に記載の平版印刷
版原版。
2. The petal-shaped alumina layer is dried with a coating solution comprising at least an aluminum alkoxide and a stabilizer, and then heat-treated. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, which is a petal-shaped alumina layer obtained by firing.
【請求項3】 前記した、有機基が結合した珪素原子を
含有するポリシロキサン塗膜層に於ける当該有機基が、
炭素数1〜30のアルキル基、アルキレン基、アリール
基および複素環基より成る群から選ばれる少なくとも1
種である請求項1又は2に記載の平版印刷版原版。
3. The organic group in the polysiloxane coating layer containing a silicon atom having an organic group bonded thereto,
At least one selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkylene group, an aryl group and a heterocyclic group
The lithographic printing plate precursor according to claim 1 or 2, which is a seed.
【請求項4】 前記した、有機基が結合した珪素原子を
含有するポリシロキサン塗膜層が、当該有機基として、
炭素数1〜30のアルキル基、アルキレン基、アリール
基および複素環基より成る群から選ばれる少なくとも1
種の有機基の少なくとも1個を有するアルコキシシラン
化合物類、当該アルコキシシラン化合物類の部分加水分
解縮合物もしくは当該アルコキシシラン化合物類の加水
分解縮合物より調製されるものである請求項1〜3の何
れかに記載の平版印刷版原版。
4. The polysiloxane coating layer containing a silicon atom to which an organic group is bonded, as the organic group,
At least one selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkylene group, an aryl group and a heterocyclic group
An alkoxysilane compound having at least one kind of organic group, a partially hydrolyzed condensate of the alkoxysilane compound or a hydrolyzed condensate of the alkoxysilane compound. The lithographic printing plate precursor according to any of the above.
【請求項5】 前記した基体が、ガラス基板、セラミッ
ク基板又は金属製基板である請求項1〜4の何れかに記
載の平版印刷版原版。
5. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the substrate is a glass substrate, a ceramic substrate, or a metal substrate.
【請求項6】 請求項1〜5の何れかに記載の平版印刷
版原版に、活性光線、高密度エネルギー光線又は放射線
を画像様に照射し、印刷刷版を作製することを特徴とす
る印刷刷版作製方法。
6. A printing plate, comprising irradiating the lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 5 with actinic rays, high-density energy rays or radiation in an imagewise manner to produce a printing plate. Plate making method.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6564713B2 (en) 2000-05-31 2003-05-20 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Printing plate, method for producing printing plate, reusing method for printing plate, and printing machine
US6851364B1 (en) 1999-02-05 2005-02-08 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Printing plate material and production and regenerating methods thereof

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US6732654B2 (en) 2000-05-31 2004-05-11 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Method for producing a photocatalytic printing plate by film transfer

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