JP2000156166A - Plasma display panel - Google Patents

Plasma display panel

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JP2000156166A
JP2000156166A JP32904898A JP32904898A JP2000156166A JP 2000156166 A JP2000156166 A JP 2000156166A JP 32904898 A JP32904898 A JP 32904898A JP 32904898 A JP32904898 A JP 32904898A JP 2000156166 A JP2000156166 A JP 2000156166A
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JP
Japan
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electrode
display
dielectric
substrate
electrodes
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP32904898A
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Japanese (ja)
Inventor
Hidetaka Tono
秀隆 東野
Hiroyoshi Tanaka
博由 田中
Kinzo Nonomura
欽造 野々村
Shinya Fujiwara
伸也 藤原
Naotaka Kosugi
直貴 小杉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP32904898A priority Critical patent/JP2000156166A/en
Publication of JP2000156166A publication Critical patent/JP2000156166A/en
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  • Transforming Electric Information Into Light Information (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize image display of high quality by composing first and second parallel-formed display electrodes of transparent electrodes and metal electrodes formed in electric contact with the transparent electrodes, and arranging the metal electrodes to partially overlap with a light-absorbing band which is disposed between the first and second display electrodes. SOLUTION: Display electrodes 102a, 103 are composed of transparent electrodes 112a, 113 formed with a clearance 124 of a space (g0), and metal electrodes 122a, 123 and form a discharge cell as a pair. A clearance 125 of a space (g) is opened between adjacent display electrodes 102b, 103 and formed on a light-absorbing band 104. The metal electrodes 122a, 123 are respectively formed on the transparent electrodes 112a, 113, so as to be electrically connected as well as to be partially overlap with the light-absorbing band 104. A metal electrode 122b of the display electrode 102b of the adjacent cell of the discharge cell 140 is similarly formed so as to paritally overlap with the light-absorbing band 104, and both are formed with the space (g).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータおよ
びテレビ等の画像表示に用いる平面型ディスプレイ、特
に、パネルの高コントラスト化を図り、金属抵抗値を下
げることにより高効率化、高品位化、長寿命化を実現す
るプラズマディスプレイパネルに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flat panel display used for displaying images such as a computer and a television, and more particularly, to enhancing the contrast of a panel and reducing the metal resistance to increase the efficiency, the quality and the length. The present invention relates to a plasma display panel that achieves a longer life.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、ハイビジョンをはじめとする高品
位で大画面のテレビに対する期待が高まっている中で、
CRT,液晶ディスプレイ(以下、LCDと記載す
る),プラズマディスプレイパネル(Plasma Display P
anel, 以下PDPと記載する)といった各ディスプレイ
の分野において、これに適したディスプレイの開発が進
められている。
2. Description of the Related Art In recent years, expectations for high-definition and large-screen televisions such as high-definition televisions have been increasing.
CRT, liquid crystal display (hereinafter abbreviated as LCD), plasma display panel (Plasma Display P)
In the field of each display such as anel (hereinafter referred to as PDP), a display suitable for this is being developed.

【0003】従来からテレビのディスプレイとして広く
用いられているCRTは、解像度・画質の点で優れてい
るが、画面の大きさに伴って奥行き及び重量が大きくな
る点で40インチ以上の大画面には不向きである。ま
た、LCDは、消費電力が少なく、駆動電圧も低いとい
う優れた性能を有しているが、大画面を作製するのに技
術上の困難性があり、視野角にも限界がある。
Conventionally, CRTs, which have been widely used as television displays, are excellent in resolution and image quality, but have a large screen of 40 inches or more in that the depth and weight increase with the screen size. Is not suitable. In addition, LCDs have excellent performance such as low power consumption and low driving voltage, but have technical difficulties in producing a large screen and have a limited viewing angle.

【0004】これに対して、PDPは、小さい奥行きで
も大画面を実現することが可能であって、既に40イン
チクラスの製品も開発されている。
On the other hand, a PDP can realize a large screen even with a small depth, and a 40-inch class product has already been developed.

【0005】PDPは、大別して直流型(DC型)と交
流型(AC型)とに分けられるが、現在では大型化に適
したAC型が主流となっている。
[0005] PDPs are roughly classified into a direct current type (DC type) and an alternating current type (AC type). At present, the AC type suitable for enlargement is mainly used.

【0006】図6は、従来の一般的な交流面放電型PD
Pの概略断面図である。図6において、A基板401上
に第一及び第二の表示電極402a、403が配設さ
れ、両者の間に、酸化ニッケル、または、酸化ルテニウ
ム等からなる光吸収帯404が配設され、その上を鉛ガ
ラス[PbO−B23−SiO2ガラス]からなる誘電体
ガラス層405およびMgOからなる保護膜406で覆
われている。
FIG. 6 shows a conventional general AC surface discharge type PD.
It is a schematic sectional drawing of P. In FIG. 6, first and second display electrodes 402a and 403 are provided on an A substrate 401, and a light absorption band 404 made of nickel oxide, ruthenium oxide, or the like is provided therebetween. covered with lead glass dielectric glass layer 405 and the protective film 406 made of MgO consisting [PbO-B 2 O 3 -SiO 2 glass] over.

【0007】表示電極402a、403で構成されるセ
ルがアドレス電極432方向の1セルを構成する。光吸
収帯404は外部入射光によるコントラスト(以下、明
所コントラストと記載する)低下の為に配設される。表
示電極402a、403は透明電極412a、413と
それに接して設けられた金属電極422a、423とで
構成される。金属電極422a、423は表示電極線抵
抗値を下げる為に設けられている。表示電極403と隣
接セルの表示電極402b(表示電極402aと同一群
を成す)との間には、一定の間隙を設けて光吸収帯40
4が配設される。
A cell constituted by the display electrodes 402 a and 403 constitutes one cell in the direction of the address electrode 432. The light absorption band 404 is provided for lowering the contrast (hereinafter referred to as bright place contrast) due to external incident light. The display electrodes 402a and 403 are composed of transparent electrodes 412a and 413 and metal electrodes 422a and 423 provided in contact with the transparent electrodes. The metal electrodes 422a and 423 are provided to reduce the display electrode line resistance. A certain gap is provided between the display electrode 403 and the display electrode 402b (in the same group as the display electrode 402a) of the adjacent cell so that the light absorption band 40 is provided.
4 are provided.

【0008】また、B板431上には、アドレス電極4
32が配設され、その上に誘電体ガラス層405と同じ
組成の誘電体ガラス層433と隔壁435と、赤または
緑または青の紫外線励起蛍光体からなる蛍光体層434
とが配設され、蛍光体層434と隔壁435に囲まれた
放電空間426内には、Xeを含む混合放電ガス(Ne
−Xe等)が封入されている。
On the B plate 431, the address electrodes 4
32, a dielectric glass layer 433 having the same composition as the dielectric glass layer 405, partition walls 435, and a phosphor layer 434 made of a red, green, or blue ultraviolet-excited phosphor.
Is provided, and a discharge space 426 surrounded by the phosphor layer 434 and the partition 435 contains a mixed discharge gas containing Xe (Ne).
-Xe).

【0009】なお、図6では断面で図示しているが、表
示電極402a、403とアドレス電極432とは実際
には通常、直交して設けられている。
Although FIG. 6 shows a cross section, the display electrodes 402a and 403 and the address electrodes 432 are usually provided orthogonally.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】このようなPDPにお
いて、以下に述べるように、効率及び駆動電圧マージン
に対する課題がある。
In such a PDP, there are problems with efficiency and driving voltage margin as described below.

【0011】40〜42インチクラスのテレビ用のPD
Pにおいて、NTSCの画素レベル(画素640×48
0個,セルピッチ0.43mm×1.29mm,1セル
の面積0.55mm2)の場合、現在150〜250c
d/m2程度の画面輝度が得られている(機能材料19
96年2月号Vol.16,No.2 ページ7参照)。
PD for 40-42 inch class television
In P, the pixel level of NTSC (pixel 640 × 48
0, cell pitch 0.43 mm × 1.29 mm, if the area of 0.55 mm 2) of one cell, the current 150~250c
A screen luminance of about d / m 2 is obtained (functional material 19
Vol.16, No.2, February 1996, page 7).

【0012】この時の表示電極の金属電極の幅は0.1
mm程度で、その抵抗値は100Ω程度となる。1セル
当たり1維持パルスの放電電流が約160マイクロアン
ペア程度であり、表示電極1ライン当たりに640×3
(トリオ)の放電セルが有るので、1回の維持パルス当
たりに流れる電流は、約0.3アンペア程度となる。
At this time, the width of the metal electrode of the display electrode is 0.1.
mm, the resistance value is about 100Ω. The discharge current of one sustain pulse per cell is about 160 microamps, and 640 × 3 per display electrode line.
Since there are (trio) discharge cells, the current flowing per sustain pulse is about 0.3 amperes.

【0013】この放電パルス電流が金属電極抵抗を通し
て流れることにより、セル電圧は約30V程度低下す
る。この放電電流によるセル電圧の低下が、表示アドレ
スされた未放電セルの維持放電を妨げる為、正常な画面
表示が行われないという現象がある。これは、RGB単
色表示時の完全表示放電開始電圧の値よりも全白時の値
が大きくなるという現象となって現れる。この為に、動
作マージンが狭くなると言う課題があった。また、この
ようなセル電圧の低下により放電発光効率が低下すると
いう課題もあった。
When the discharge pulse current flows through the metal electrode resistance, the cell voltage drops by about 30V. The decrease in cell voltage due to the discharge current prevents the sustain discharge of the display-addressed undischarged cell, so that there is a phenomenon that a normal screen display is not performed. This appears as a phenomenon that the value at the time of full white becomes larger than the value of the complete display discharge starting voltage at the time of the RGB single color display. For this reason, there is a problem that an operation margin is narrowed. There is also a problem that the discharge luminous efficiency is reduced due to such a decrease in the cell voltage.

【0014】この課題はセルサイズの小さな高精細PD
Pでは、開口率の関係から金属電極幅を広くできないた
めに、特に大きな課題となる。近年期待されているフル
スペックの42インチクラスのハイビジョンテレビで
は、画素数が1920×1125で、セルピッチは0.
15mm×0.48mm(1セルの面積は0.072m
2 )となる。従来通りのセル構成で作製した場合、母
線の幅を従来のNTSCの約半分程度としなければなら
ず、金属電極抵抗は約倍程になってしまう。
This problem is a high definition PD having a small cell size.
In the case of P, the width of the metal electrode cannot be increased due to the relationship of the aperture ratio. In recent years, a 42-inch high-definition television with full specifications has a number of pixels of 1920 × 1125 and a cell pitch of 0.2.
15 mm x 0.48 mm (the area of one cell is 0.072 m
m 2 ). In the case of manufacturing with the conventional cell configuration, the width of the bus bar must be about half that of the conventional NTSC, and the metal electrode resistance is about double.

【0015】ところが、表示電極に流れる電流は、NT
SCと余り変わらないので、放電によるセル電圧低下
は、NTSCの時の約倍程度となり、動作マージンがN
TSCよりも狭くなると言う課題、放電発光効率がNT
SCよりも更に低下するという課題がある。
However, the current flowing through the display electrode is NT
SC, the cell voltage drop due to discharge is about twice that of NTSC, and the operating margin is N
The problem of narrower than TSC, the discharge luminous efficiency is NT
There is a problem that it is lower than SC.

【0016】表示電極の線抵抗を下げる為には、金属電
極幅を大きくすることや、膜厚を厚くすることが考えら
れるが、前者は開口率が低下して表示輝度が下がり、そ
れにより効率が低下するので限界がある。後者は、金属
電極上部の誘電体が薄くなることにより絶縁破壊が生ず
るので限界がある。開口率を下げずに表示電極の線抵抗
を下げる改善が求められている。
In order to reduce the line resistance of the display electrode, it is conceivable to increase the width of the metal electrode or to increase the film thickness. In the former, however, the aperture ratio is reduced and the display luminance is reduced, whereby the efficiency is reduced. There is a limit as it decreases. The latter has a limit because dielectric breakdown occurs due to the thinner dielectric above the metal electrode. There is a need for an improvement in reducing the line resistance of the display electrode without reducing the aperture ratio.

【0017】また、明所コントラストを改善する為に配
設されている光吸収帯403も、表示電極から一定の間
隔、例えば40ミクロンメータ程度の間隔を設けて形成
されている。これは、表示電極402、403とその間
に配設された光吸収帯403との間で電気的相互作用が
起こって表示放電に悪影響があるかもしれないというこ
とから、両者の間に一定の間隔が設けられているようで
ある。ところが、この間隙のむらや、一方の間隙だけ表
示電極の金属電極側に近づくというような偏りが有る
と、表示画面にモアレ模様や縞模様等が現れて、画面の
視覚的印象が好ましくなく不具合となる。この不具合を
無くす為には、光吸収帯は一般に印刷により製造される
が、ミクロンオーダーの寸法精度が必要となり、製造コ
ストを上げるという課題がある。
The light absorption band 403 provided for improving the contrast in a bright place is also formed at a constant distance from the display electrode, for example, at a distance of about 40 μm. This is because an electric interaction may occur between the display electrodes 402 and 403 and the light absorption band 403 disposed therebetween, which may adversely affect the display discharge. Seems to be provided. However, if there is unevenness of the gap or a bias such that only one of the gaps approaches the metal electrode side of the display electrode, a moiré pattern or a striped pattern appears on the display screen, and the visual impression of the screen is unfavorable, and it is not satisfactory. Become. In order to eliminate this problem, the light absorption band is generally manufactured by printing. However, dimensional accuracy on the order of microns is required, and there is a problem that the manufacturing cost is increased.

【0018】PDPの発光原理は基本的に蛍光灯と同様
であって、放電に伴って放電ガスから紫外線が放出さ
れ、この紫外線によって、赤,緑,青の蛍光体励起発光
されるが、放電エネルギの紫外線への変換する効率や、
蛍光体における可視光への変換効率が低いので、蛍光灯
のように高い輝度を得ることは難しい。
The principle of light emission of a PDP is basically the same as that of a fluorescent lamp. Ultraviolet rays are emitted from a discharge gas upon discharge, and the ultraviolet rays excite and emit red, green and blue phosphors. The efficiency of converting energy into ultraviolet light,
Since the conversion efficiency of the phosphor into visible light is low, it is difficult to obtain a high luminance like a fluorescent lamp.

【0019】この点に関して、応用物理Vol.51,
No.3 1982年 ページ344〜347には、H
e−Xe,Ne−Xe系のガス組成のPDPにおいて、
電気エネルギーの約2%しか紫外線放射に利用されてお
らず、最終的に可視光に利用されるのは0.2%程度と
いうことが記載されている(光学技術コンタクトVo
l.34,No.1 1996年 ページ25,FLA
T PANEL DISPLAY 96’ Part5
−3,NHK 技術研究第31巻第1号 昭和54年
ページ18参照)。
In this regard, Applied Physics Vol. 51,
No. 3 1982 Pages 344-347
In a PDP having a gas composition of e-Xe or Ne-Xe system,
It is stated that only about 2% of the electrical energy is used for ultraviolet radiation and about 0.2% is finally used for visible light (Optical Technology Contact Vo).
l. 34, no. 1 1996 Page 25, FLA
T PANEL DISPLAY 96 'Part5
-3, NHK Technical Research Vol. 31 No. 1 1979
See page 18).

【0020】このように、PDPには効率の向上が重要
であるが、従来の構造のPDPでは表示電極に起因する
効率の低下が相加されており、改善が求められていた。
As described above, it is important to improve the efficiency of the PDP. However, in the PDP having the conventional structure, a decrease in the efficiency due to the display electrode is added, and the improvement is required.

【0021】また、隔壁に沿った方向の隣接セル間に起
こる放電は、セル間クロストークと一般に呼ばれ、従来
構造のPDPでは異常画面表示を招き望ましくない動作
である。NTSCでもセルの構造設計によっては、クロ
ストークが発生して問題となる、特に、高精細PDPで
はセルサイズが小さくなる為に、重大な課題となる。
In addition, discharge occurring between adjacent cells in the direction along the partition is generally called inter-cell crosstalk, which is an undesired operation that causes an abnormal screen display in a conventional PDP. Even in NTSC, crosstalk occurs depending on the cell structure design, which is a problem. In particular, in a high-definition PDP, the cell size is reduced, which is a serious problem.

【0022】そこで、本発明は、陰になって表示輝度に
影響の少ない光吸収帯部分を有効に利用して金属電極幅
を広げることにより、表示電極抵抗を低下させてPDP
の効率向上を図り、かつ、表示電極と光吸収帯との間隙
を無くすことにより、高品位の画面表示を実現するプラ
ズマディスプレイパネルを提供することを目的としてな
されたものである。
Therefore, the present invention reduces the display electrode resistance by effectively utilizing the light absorption band portion which is less affected by the display brightness and reduces the display electrode resistance.
It is an object of the present invention to provide a plasma display panel that realizes high-quality screen display by improving the efficiency of the device and eliminating the gap between the display electrode and the light absorption band.

【0023】[0023]

【課題を解決するための手段】上記目的を達するため
に、第一の発明は、A基板上に、複数の平行に形成され
た第1及び第2の表示電極と、前記第1及び第2の表示
電極間に配置された光吸収帯群を具備し、これらが、誘
電体とその上に形成された保護膜により覆われて形成さ
れ、前記A基板と対向して配置されたB基板上に、前記
第1及び第2の表示電極に直交して複数の隔壁、及び、
前記隔壁間に各画素に対応した蛍光体層が形成され、か
つ、前記蛍光体層の下に誘電体に覆われたデータ電極が
形成され、前記A基板と前記B基板とが封着材により封
止され、放電により紫外線を放出する放電ガスが充填さ
れ、前記第1及び第2の表示電極が透明電極及びそれら
に電気的に接触して形成された金属電極とからなり、前
記金属電極の一部が前記光吸収帯に重なる様に配置する
ことを特徴とする。
In order to achieve the above object, a first aspect of the present invention is to provide a first and second display electrodes formed in parallel on an A substrate, and the first and second display electrodes. Light-absorbing band group disposed between the display electrodes, and these are formed by being covered with a dielectric and a protective film formed thereon, on a B substrate disposed opposite to the A substrate. A plurality of barrier ribs orthogonal to the first and second display electrodes;
A phosphor layer corresponding to each pixel is formed between the partition walls, and a data electrode covered with a dielectric is formed below the phosphor layer, and the A substrate and the B substrate are sealed with a sealing material. The first and second display electrodes are sealed and filled with a discharge gas that emits ultraviolet light by discharge, and the first and second display electrodes are composed of a transparent electrode and a metal electrode formed in electrical contact with them. It is characterized in that a part thereof is arranged so as to overlap the light absorption band.

【0024】また、第二の発明は、A基板上に、複数の
平行に形成された第1及び第2の表示電極と、前記第1
及び第2の表示電極間に配置された光吸収帯群を具備
し、これらが、誘電体とその上に形成された保護膜によ
り覆われて形成され、前記A基板と対向して配置された
B基板上に、前記第1及び第2の表示電極に直交して複
数の隔壁、及び、前記隔壁間に各画素に対応した蛍光体
層が形成され、かつ、前記蛍光体層の下に誘電体に覆わ
れたデータ電極が形成され、前記A基板と前記B基板と
が封着材により封止され、放電により紫外線を放出する
放電ガスが充填され、前記第1及び第2の表示電極が透
明電極及びそれらに電気的に接触して形成された金属電
極とからなり、前記金属電極の一部が前記光吸収帯に重
なる様に配置され、前記第1及び第2の表示電極間部分
上の前記保護膜が除去された構造としたことを特徴とす
る。
According to a second aspect of the present invention, a plurality of first and second display electrodes formed in parallel on an A substrate are provided.
And a group of light absorption bands arranged between the second display electrodes, which are formed so as to be covered with a dielectric and a protective film formed thereon, and are arranged to face the A substrate. A plurality of partitions are formed on the B substrate orthogonal to the first and second display electrodes, and a phosphor layer corresponding to each pixel is formed between the partitions, and a dielectric layer is formed below the phosphor layer. A data electrode covered with a body is formed, the A substrate and the B substrate are sealed with a sealing material, and a discharge gas which emits ultraviolet light by discharge is filled, and the first and second display electrodes are formed. A transparent electrode and a metal electrode formed in electrical contact with the transparent electrode, the metal electrode being disposed so that a part of the metal electrode overlaps with the light absorption band, and on a portion between the first and second display electrodes. Wherein the protective film is removed.

【0025】さらに、第三の発明は、A基板上に、複数
の平行に形成された第1及び第2の表示電極と、前記第
1及び第2の表示電極間に配置された光吸収帯群を備
え、これらが、誘電体とその上に形成された保護膜によ
り覆われて形成され、前記A基板と対向して配置された
B基板上に、前記第1及び第2の表示電極に直交して複
数の隔壁及び前記隔壁間に各画素に対応した蛍光体層が
形成され、かつ、前記蛍光体層の下に誘電体に覆われた
データ電極が形成され、前記A基板と前記B基板とが封
着材により封止され、放電により紫外線を放出する放電
ガスが充填され、前記第1及び第2の表示電極が透明電
極及びそれらに電気的に接触して形成された金属電極と
からなり、前記金属電極の一部が前記光吸収帯に重なる
様に配置され、前記第1及び第2の表示電極間部分上の
前記保護膜が、前記第1及び第2の表示電極上の保護膜
の二次電子放出係数よりも小さな二次電子放出係数を有
する材料から構成したことを特徴とする。
Further, a third aspect of the present invention is a liquid crystal display device, comprising: a plurality of first and second display electrodes formed in parallel on an A substrate; and a light absorption band disposed between the first and second display electrodes. Groups, which are formed by being covered with a dielectric and a protective film formed thereon, on the B substrate disposed opposite to the A substrate, and on the first and second display electrodes. A plurality of partition walls are orthogonally formed, and a phosphor layer corresponding to each pixel is formed between the partition walls, and a data electrode covered with a dielectric is formed below the phosphor layer. The substrate is sealed with a sealing material, filled with a discharge gas that emits ultraviolet light by discharge, and the first and second display electrodes are formed of a transparent electrode and a metal electrode formed in electrical contact therewith. Comprising, arranged so that a part of the metal electrode overlaps the light absorption band, The protective film on the portion between the first and second display electrodes is made of a material having a secondary electron emission coefficient smaller than the secondary electron emission coefficient of the protective film on the first and second display electrodes. It is characterized by.

【0026】また、第三の発明の実施態様に於いて、保
護膜が酸化マグネシウムからなり、第1及び第2の表示
電極間部分上の小さな二次電子放出係数を有する材料か
らなる保護膜が、誘電体により覆われたこととするのが
好ましい。
In a third embodiment of the present invention, the protective film is made of magnesium oxide, and the protective film is made of a material having a small secondary electron emission coefficient on the portion between the first and second display electrodes. , Preferably covered with a dielectric.

【0027】更に、好ましい実施態様としては、この誘
電体が、酸化珪素、二酸化珪素を含む誘電体ガラス、ま
たは、酸化鉛を含む誘電体ガラス、燐酸系ガラス(P2
5)を含む誘電体ガラス、硼酸系ガラス(B23)を含
む誘電体ガラス、アルミナ(Al23)を含む誘電体ガ
ラス、ビスマス系ガラス(Bi25)を含む誘電体ガラ
スからなることである。
Further, in a preferred embodiment, the dielectric is a dielectric glass containing silicon oxide or silicon dioxide, a dielectric glass containing lead oxide, or a phosphate glass (P 2 O).
5 ), dielectric glass containing borate-based glass (B 2 O 3 ), dielectric glass containing alumina (Al 2 O 3 ), and dielectric glass containing bismuth-based glass (Bi 2 O 5 ) It consists of

【0028】また、他の好ましい実施態様としては、誘
電体が、窒化シリコン(Si34)からなることであ
る。
In another preferred embodiment, the dielectric is made of silicon nitride (Si 3 N 4 ).

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】〔はじめに〕はじめに、本発明に
ついて概説する。明所コントラストを改善する為にA板
に配設される光吸収帯は、蛍光体発光の一部を減衰する
反面、入射外部光を大きく減衰させる。入射外部光は金
属電極及び光吸収帯により減衰されて蛍光体面に入射
し、蛍光体面で拡散反射された外部光は、金属電極及び光
吸収帯で再び吸収されるので、合計2重に減衰される。
これに対して、放電発光により発生した真空紫外線光は
蛍光体面を照射し、それぞれの蛍光体でRGBの可視光
に変換され、可視光はA板を通過して鑑賞者に届く。こ
の際に可視光は、光吸収帯と金属電極により減衰されて
輝度が低下する。この入射外部反射光輝度と発光可視光
輝度との比が明所コントラストの値を与える。従って、
光吸収帯及び金属電極に於いて、如何に放電による発光
輝度を低下させることなく、外部入射光を大きく減衰さ
せるかが重要な点である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [Introduction] First, the present invention will be outlined. The light absorption band provided on the A-plate to improve the bright place contrast attenuates a part of the phosphor emission, but greatly attenuates the incident external light. The incident external light is attenuated by the metal electrode and the light absorption band and is incident on the phosphor surface, and the external light diffusely reflected by the phosphor surface is again absorbed by the metal electrode and the light absorption band, and thus is attenuated twice in total. You.
On the other hand, the vacuum ultraviolet light generated by the discharge light emission irradiates the phosphor surface, is converted into RGB visible light by each phosphor, and the visible light passes through the A plate and reaches the viewer. At this time, the visible light is attenuated by the light absorption band and the metal electrode, and the luminance is reduced. The ratio between the incident external reflected light luminance and the emitted visible light luminance gives the value of the light place contrast. Therefore,
In the light absorption band and the metal electrode, it is important how the external incident light is greatly attenuated without lowering the emission luminance due to the discharge.

【0030】本発明者等は、透明電極と金属電極とから
なる表示電極による放電発光強度分布の測定結果から、
主(表示)放電間隙よりも遠い側程発光輝度が低い点に
着眼し、金属電極を主放電間隙よりもできるだけ遠い方
向に離すことにより、金属電極で陰となる蛍光体からの
発光光束を低く押さえる構成とした。これは、従来から
一般に用いられている設計方法であるが、本発明では、
従来よりも更に、金属電極を光吸収帯に近づけて、光吸
収帯に重ねる構成とした。従来は、このような構成は、
放電に悪影響があるのではないかということで用いられ
ていなかったようだが、本発明者等が行った実験では、
光吸収帯のシート抵抗値が透明電極のシート抵抗値より
も十分大きければ(100倍以上)、まず問題が無いこ
とが分かった。
The present inventors have determined from the measurement results of the discharge light emission intensity distribution by the display electrode composed of a transparent electrode and a metal electrode.
Focusing on the point where the luminous brightness is lower on the side farther than the main (display) discharge gap, and by separating the metal electrode in the direction as far as possible from the main discharge gap, the luminous flux from the phosphor which is shaded by the metal electrode is reduced. It was configured to hold down. This is a design method generally used in the past, but in the present invention,
The configuration is such that the metal electrode is brought closer to the light absorption band and overlapped with the light absorption band. Conventionally, such a configuration is
It seems that it was not used because it might have an adverse effect on discharge, but in experiments conducted by the present inventors,
It was found that there was no problem if the sheet resistance of the light absorption band was sufficiently larger than the sheet resistance of the transparent electrode (100 times or more).

【0031】このような構成により、金属電極の幅を広
げることが可能となり、表示電極抵抗値を下げることが
可能となった。これにより、放電時のセル電圧低下が軽
減されてPDPの効率が改善された。また、併せて、従
来のように、金属電極と光吸収帯との間隙を設けること
が不要となり、従来課題であった、表示画面にモアレ模
様や縞模様等が現れるという画面の視覚的な不具合が解
消されるという格別の効果があった。本発明の構成で
は、光吸収部分の輪郭が金属電極で規定される。
With such a configuration, the width of the metal electrode can be increased, and the resistance of the display electrode can be reduced. As a result, the reduction in cell voltage during discharge was reduced, and the efficiency of the PDP was improved. In addition, it is not necessary to provide a gap between the metal electrode and the light absorption band as in the related art, which is a conventional problem, and a visual defect of the screen such as a moire pattern or a striped pattern appears on the display screen. There was a special effect that was eliminated. In the configuration of the present invention, the contour of the light absorbing portion is defined by the metal electrode.

【0032】従って、光吸収帯は一般には印刷により製
造されるが、光吸収帯の幅を金属電極よりはみ出さない
様に設計すれば、その要求される寸法精度は緩和され、
低コスト化が実現できる。金属電極は、通常、Cr/C
u/Crまたは、感光性銀電極が用いられるが、これら
の形状精度は、フォトプロセスである為に、元来精度が
高く、その為、本発明の構成によれば、従来のような視
覚的な不具合の発生頻度が低下し、しかも、新たな製造
コストアップの要因は無いという格別の効果を発現す
る。
Therefore, the light absorption band is generally manufactured by printing, but if the width of the light absorption band is designed so as not to protrude from the metal electrode, the required dimensional accuracy is relaxed.
Cost reduction can be realized. Metal electrodes are usually Cr / C
Although u / Cr or photosensitive silver electrodes are used, their shape accuracy is inherently high due to the photo process, and therefore, according to the configuration of the present invention, the visual accuracy as in the prior art is high. The frequency of such troubles is reduced, and furthermore, there is no special factor that causes a new increase in manufacturing cost.

【0033】セルの放電により発光する可視光が、光吸
収帯及び金属電極による減衰量が少なくなる様な構造と
することにより、明所コントラストと高効率化を両立さ
せることが可能になる。本発明は、このような着想に基
づきなされた発明である。以下、本発明の実施の形態に
ついて図面を参照しながら説明する。
By adopting a structure in which the amount of attenuation of the visible light emitted by the discharge of the cell by the light absorption band and the metal electrode is reduced, it is possible to achieve both high contrast in a bright place and high efficiency. The present invention is an invention made based on such an idea. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0034】〔実施の形態1〕 (PDPの全体的な構成)図1及び図2は、第1の発明
の実施形態に係る交流面放電型PDPの概略断面図であ
る。尚、図1ではアドレス電極132方向の断面図を示
し、図2は表示電極103方向の断面図が示されている
が、両図は互いに直交する断面図を与える。
Embodiment 1 (Overall Structure of PDP) FIGS. 1 and 2 are schematic sectional views of an AC surface discharge type PDP according to an embodiment of the first invention. Note that FIG. 1 shows a cross-sectional view in the direction of the address electrode 132, and FIG. 2 shows a cross-sectional view in the direction of the display electrode 103. Both figures give cross-sectional views orthogonal to each other.

【0035】このPDPは、Aガラス基板(フロントカ
バープレート)101とBガラス基板(バックプレー
ト)131とが隔壁135により間隔を開けられて、図
示されていないが、封着材、例えば、低融点鉛ガラス[P
bO−B23−SiO2ガラス]や、結晶化封着ガラス
等により、封止されている。パネルは350℃程度の温
度で排気管(図示されていない)から真空排気された後
に、放電ガス、例えば、Ne−Xe(5%)の混合ガス
を200〜700Torr封入した後に排気管を封じき
ってPDPを製造する。
In this PDP, an A glass substrate (front cover plate) 101 and a B glass substrate (back plate) 131 are spaced apart from each other by a partition 135, and are not shown in the figure. Lead glass [P
bO—B 2 O 3 —SiO 2 glass] or crystallization sealing glass. After the panel is evacuated from an exhaust pipe (not shown) at a temperature of about 350 ° C., a discharge gas, for example, a mixed gas of Ne—Xe (5%) is sealed at 200 to 700 Torr, and then the exhaust pipe is sealed. To produce a PDP.

【0036】Aガラス基板101上には、表示電極群1
02、103、及び、光吸収帯104が形成され、その
上に、誘電体ガラス、例えば、鉛ガラス[PbO−B2
3−SiO2ガラス]からなる誘電体ガラス105と、
その上に電子ビーム蒸着されたMgOからなる保護膜1
06が形成されている。尚、保護膜は、放電開始電圧を
下げる為と、放電ガスによる誘電体ガラス層のスパッタ
防止の目的で形成され、MgOだけでなく、SrGdO
3 等の高二次電子放出係数(以後γ係数と記載する)を
有し、放電によってスパッタされ難い材料であれば何で
も構わない。また、MgOも電子ビーム蒸着だけでな
く、反応性スパッタ、イオンビームスパッタ等他の方法
で形成しても本発明の効果を発現するのはいうまでもな
い。
The display electrode group 1 is provided on the A glass substrate 101.
02, 103 and a light absorption band 104 are formed thereon, and a dielectric glass such as lead glass [PbO-B 2] is formed thereon.
O 3 —SiO 2 glass];
Protective film 1 made of MgO and electron beam evaporated thereon
06 is formed. The protective film is formed for the purpose of lowering the discharge starting voltage and for preventing the dielectric glass layer from being sputtered by the discharge gas, and is formed of not only MgO but also SrGdO.
Any material may be used as long as it has a high secondary electron emission coefficient (hereinafter referred to as γ coefficient) of 3 or the like and is hard to be sputtered by electric discharge. It is needless to say that the effects of the present invention can be obtained even if MgO is formed not only by electron beam evaporation but also by other methods such as reactive sputtering and ion beam sputtering.

【0037】表示電極102a,103は間隙124
(間隔g0)を開けて形成され、一対で放電セル140を
形成する。また、隣接セルの表示電極102bと103
間は間隙125(間隔g)を開けて、光吸収体104上
に形成される。
The display electrodes 102a and 103 are provided with a gap 124.
(Interval g 0 ) is formed, and a pair of discharge cells 140 is formed. Also, the display electrodes 102b and 103 of the adjacent cells
The gap is formed on the light absorber 104 with a gap 125 (gap).

【0038】表示電極102a,103は、間隙124
(間隔g0)を開けて形成された透明電極112a,1
13と、金属電極122a,123から構成される。金
属電極122a,123は、それぞれ透明電極112
a,113上に電気的に接続されるように形成され、か
つ、図1に示すように、その一部が光吸収帯104に重
なるように形成されている。放電セル140の隣接セル
の表示電極102bの金属電極122bも、金属電極1
23と同様に、その一部が光吸収帯104に重なるよう
に形成され、両者は間隔gを開けて形成されている。
The display electrodes 102 a and 103 are provided with a gap 124.
(Interval g 0 ), the transparent electrodes 112a, 1
13 and metal electrodes 122a and 123. The metal electrodes 122a and 123 are respectively
a, 113 are formed so as to be electrically connected to each other, and are formed so as to partially overlap the light absorption band 104 as shown in FIG. The metal electrode 122b of the display electrode 102b of the cell adjacent to the discharge cell 140 is also the metal electrode 1b.
Similarly to 23, a part thereof is formed so as to overlap the light absorption band 104, and both are formed with an interval g.

【0039】金属電極122a、122b,123は、
A基板101側が光吸収性電極、例えば、酸化ルテニュ
ーム等の黒色電極材料からなる電極と、その上に形成さ
れる市販の感光性銀電極等から構成されても良い。この
場合は、金属電極122a,122b,123の光吸収
帯104からはみ出た部分が黒色を呈するので、明所コ
ントラストだけでなく、画面非表示時の視覚的印象も向
上する。または、金属電極122a,123は、アルミ
ニュウムやクロム/銅/クロム(Cr/Cu/Cr)等
の金属材料からなる電極であっても良い。これらの金属
電極はフォトプロセスを用いて形成される為、その端部
の歪みは比較的少なく、パネルの視認性向上に有益であ
る。しかも、通常の金属電極形成プロセスである為に、
画質向上の為の付加コストは生じないので高品質低コス
ト化に非常に有利となる。
The metal electrodes 122a, 122b, 123
The A substrate 101 side may be constituted by a light-absorbing electrode, for example, an electrode made of a black electrode material such as ruthenium oxide, and a commercially available photosensitive silver electrode formed thereon. In this case, the portions of the metal electrodes 122a, 122b, 123 that protrude from the light absorption band 104 are black, so that not only the contrast in a bright place but also the visual impression when the screen is not displayed is improved. Alternatively, the metal electrodes 122a and 123 may be electrodes made of a metal material such as aluminum or chromium / copper / chromium (Cr / Cu / Cr). Since these metal electrodes are formed using a photo process, the distortion at the ends is relatively small, which is useful for improving the visibility of the panel. Moreover, because it is a normal metal electrode formation process,
Since there is no additional cost for improving the image quality, it is very advantageous for high quality and low cost.

【0040】また、光吸収帯104は、従来の酸化ニッ
ケル、または、酸化ルテニウム等からなる材料で形成さ
れる。
The light absorption band 104 is formed of a conventional material such as nickel oxide or ruthenium oxide.

【0041】B基板131上には、アドレス電極132
と誘電体ガラス層133,及び、隔壁135が形成さ
れ、隔壁135と誘電体ガラス層133で形成される樋
状の内壁に蛍光体層134が形成されている。蛍光体層
134は図2に示すように、赤(R)、緑(G)、青
(B)の各三原色の蛍光体に塗り分けられる。それぞれ
の蛍光体層は、その下のアドレス電極群132と表示電
極群102により、データ書き込みの成されたセルに対
応して起こる維持(表示)放電により発生した真空紫外
線(波長:147nm、152nm、173nm等)で励
起されて、各R,G,Bの可視光線を発生する。尚、表
示電極群102,103とアドレス電極群132とは直
交するように配置されている。
On the B substrate 131, an address electrode 132
And a dielectric glass layer 133 and a partition 135 are formed. A phosphor layer 134 is formed on a gutter-shaped inner wall formed by the partition 135 and the dielectric glass layer 133. As shown in FIG. 2, the phosphor layer 134 is separately coated with phosphors of three primary colors of red (R), green (G), and blue (B). Each phosphor layer has vacuum ultraviolet rays (wavelength: 147 nm, 152 nm, and 147 nm) generated by a sustain (display) discharge corresponding to a cell in which data has been written by the address electrode group 132 and the display electrode group 102 thereunder. 173 nm) to generate visible light of each of R, G, and B. The display electrode groups 102 and 103 and the address electrode group 132 are arranged so as to be orthogonal.

【0042】隣接セル間のクロストークは、間隙125
(間隔g)と主放電間隙124(間隔g0)とによって
発生の有無が決まる。クロストークに関しては、主放電
電極間の放電開始電圧よりも隣接セル間の放電開始電圧
が大きければ起こらない筈であるが、実際の所これはパ
ネル内の放電セル特性のばらつきに依存するところが大
であり、一般的には間隔gが間隔g0 の約1.2倍以上
の範囲ではクロストークが起きない動作範囲がある(動
作マージンがとれる)。特に約1.5倍以上の範囲では
安定した表示動作ができる。
The crosstalk between adjacent cells is caused by the gap 125
(Interval g) and the main discharge gap 124 (interval g 0 ) determine whether or not generation occurs. Crosstalk should not occur if the firing voltage between adjacent cells is higher than the firing voltage between the main discharge electrodes, but in practice this largely depends on the variation in discharge cell characteristics within the panel. and a, generally there is the operating range not occur crosstalk is about 1.2 times the range of the interval g is distance g 0 (operation margin can be established). In particular, a stable display operation can be performed in a range of about 1.5 times or more.

【0043】<PDPの作製>42形AC−PDPでセ
ルピッチ360μm(×3)×1080μmの場合につ
いて具体的に説明する。フロントカバーパネルは、A基
板ガラス101上に表示電極102a、103を形成す
る。まず、透明電極(ITOまたはSnO2)を形成す
る。この厚みを200nm、主放電間隙124を、g0
80μmとし、幅を360μmとした。この時の隣接セ
ル間の間隔は280μmとなる。
<Production of PDP> A case of a 42-inch AC-PDP having a cell pitch of 360 μm (× 3) × 1080 μm will be specifically described. In the front cover panel, display electrodes 102 a and 103 are formed on an A-substrate glass 101. First, a transparent electrode (ITO or SnO 2 ) is formed. This thickness is 200 nm, and the main discharge gap 124 is g 0 =
The width was set to 80 μm and the width was set to 360 μm. At this time, the interval between adjacent cells is 280 μm.

【0044】次に、酸化ニッケルや、酸化ルテニウムを
少量含んだ市販の光吸収性ガラスペーストを、透明電極
102a、103の280μmの間隙のほぼ中央に位置
するように帯状に印刷した後、560℃程度で焼成して
光吸収帯104を形成する。この時の厚みは10μm
で、光吸収帯104のシート抵抗値はMΩオーダーであ
った。
Next, a commercially available light-absorbing glass paste containing a small amount of nickel oxide or ruthenium oxide was printed in a strip shape so as to be located substantially at the center of the 280 μm gap of the transparent electrodes 102 a and 103, and then printed at 560 ° C. The light absorption band 104 is formed by baking at a degree. The thickness at this time is 10 μm
The sheet resistance of the light absorption band 104 was on the order of MΩ.

【0045】更に、金属電極用の市販の感光性銀ペース
トをスクリーン印刷した後に、露光現像して焼成する方
法で形成する。尚、銀ペーストをスクリーン印刷してパ
ターン形成して焼成しても良い。また、感光性銀ペース
トの下に市販の感光性黒色電極材料を印刷しておき、乾
燥後、露光、現像した後に焼成して形成しても良い。こ
の時の金属電極の寸法は、厚みが5μm、間隙125の
間隔をg=120μmとし、幅をw=150〜200μ
mで作製した。ちなみに、図6に示す従来の構造では、
標準の金属電極幅w0は100μmである。
Further, a commercially available photosensitive silver paste for a metal electrode is formed by screen printing, followed by exposure, development and baking. The silver paste may be screen-printed to form a pattern and fired. Alternatively, a commercially available photosensitive black electrode material may be printed under the photosensitive silver paste, dried, exposed, developed, and then fired. At this time, the dimensions of the metal electrode are such that the thickness is 5 μm, the interval of the gap 125 is g = 120 μm, and the width is w = 150 to 200 μm.
m. Incidentally, in the conventional structure shown in FIG.
The standard metal electrode width w 0 is 100 μm.

【0046】その後、鉛系の誘電体ガラス層105(厚
み40μm)をスクリーン印刷法によって形成して焼成
する。鉛系の誘電体ガラス層105の組成は、酸化鉛
[PbO]75重量%,酸化硼素[B23]15重量
%,酸化硅素[SiO2]10重量%であった。この上
に、保護膜106を、電子ビーム蒸着法により厚み20
0nm形成した。
Thereafter, a lead-based dielectric glass layer 105 (thickness: 40 μm) is formed by screen printing and fired. The composition of the dielectric glass layer 105 of the lead system, lead oxide [PbO] 75 wt%, [2 O 3 B] 15 % by weight boron oxide, silicon oxide [SiO 2] was 10 wt%. On top of this, a protective film 106 is formed to a thickness of 20 by electron beam evaporation.
0 nm was formed.

【0047】バックプレートは、B基板ガラス131上
に、銀電極用の感光性ペーストをスクリーン印刷し露光
現像の後、焼成する方法によってアドレス電極132を
形成する。その上にフロントカバーパネルの場合と同様
にスクリーン印刷法と焼成によって鉛系の誘電体ガラス
層133を形成する。
On the back plate, address electrodes 132 are formed on a B substrate glass 131 by screen printing a photosensitive paste for a silver electrode, exposing and developing, and then firing. A lead-based dielectric glass layer 133 is formed thereon by a screen printing method and firing as in the case of the front cover panel.

【0048】そして、ガラス製の隔壁135を360μ
mのピッチで固着する。そして、隔壁135に挟まれた
各空間内に、赤色蛍光体,緑色蛍光体,青色蛍光体の中
の1つを配設することによって蛍光体層134R,13
4G,134Bを形成する。各色の蛍光体としては、一
般的にPDPに用いられている蛍光体を用いることがで
きるが、ここでは次の蛍光体を用いる。 「赤色蛍光体」:(YXGd1-X)BO3:Eu3+ 「緑色蛍光体」:BaAl1219:Mn 「青色蛍光体」:BaMgAl1017:Eu2+ 次に、前述のように作製したフロントカバーパネルとバ
ッックプレートとを封着用ガラスを用いて放電電極とア
ドレス電極とが直交するように張り合せると共に、隔壁
135で仕切られた放電空間125内を350℃の温度
で真空排気(マニホールド内圧力で3×10-7Torr
程度)に排気した後、所定の組成、例えば、NeXe5
%の放電ガスを所定の圧力、例えば、500Torrで
封入することによってPDPを作製する。
Then, the partition wall 135 made of glass is set to 360 μm.
It is fixed at a pitch of m. Then, one of the red phosphor, the green phosphor, and the blue phosphor is disposed in each space between the partition walls 135, so that the phosphor layers 134R and 13R are provided.
4G and 134B are formed. As the phosphor of each color, a phosphor generally used for a PDP can be used. Here, the following phosphor is used. "Red phosphor": (Y X Gd 1-X ) BO 3: Eu 3+ "green phosphor": BaAl 12 O 19: Mn "blue phosphor": BaMgAl 10 O 17: Eu 2+ Next, the aforementioned The front cover panel and the back plate manufactured as described above are adhered so that the discharge electrodes and the address electrodes are orthogonal to each other using sealing glass, and the inside of the discharge space 125 partitioned by the partition 135 is evacuated at a temperature of 350 ° C. Exhaust (3 × 10 -7 Torr at manifold pressure)
), And then a predetermined composition, for example, NeXe5
% Discharge gas is sealed at a predetermined pressure, for example, 500 Torr to produce a PDP.

【0049】<PDPの特性>この様に作製した、パネ
ルの放電電圧は、従来とほぼ同じであり、従来、懸念さ
れていた、光吸収帯104と金属電極123、122b
との重なりによる影響は見られなかった。また、パネル
の輝度は400cd/m2 と従来よりも約2割程度輝度
向上が見られた。これは、等価的な電極面積が従来より
も広くなった為と考えられる。また、隣接セル間の表示
電極間隙が従来よりも狭くなるので、クロストークの発
生が懸念されたが、実際には何の問題もなく動作した。
主放電間隙g0に対するこの間隙gの比を色々と変えて
実験したが、g/g0が約1.2以下でクロストークが
目立ち始めた、それ以上では問題は無かった。
<Characteristics of PDP> The discharge voltage of the panel thus manufactured is almost the same as that of the conventional panel, and the light absorption band 104 and the metal electrodes 123 and 122b, which have been of concern in the past, have been concerned.
No effect was seen due to the overlap with. The luminance of the panel was 400 cd / m 2 , which was about 20% higher than that of the conventional panel. This is considered to be because the equivalent electrode area became wider than before. Also, since the gap between the display electrodes between adjacent cells was narrower than in the past, there was concern about the occurrence of crosstalk. However, the device actually operated without any problem.
Was experiment variously changing the ratio of the gap g with respect to the main discharge gap g 0, cross-talk in g / g 0 is about 1.2 or less began to stand out, the problem was not in it more.

【0050】表示電極の抵抗値が約70%弱から半分程
度に低下しており、その為、点灯率による放電開始電圧
のばらつきは大きく軽減された。
The resistance value of the display electrode is reduced from about 70% to about half, so that the variation of the firing voltage due to the lighting rate is greatly reduced.

【0051】図3には、金属電極幅に対する効率の依存
性を示す。図3では、比較の為に、従来構造の金属電極
423の幅w0(=100μm)を基準にとって規格化
している。効率もこの時の値で規格化している。本発明
の実施により図1の構造で、W=150μmの時には約
15%、W=200μmの時には約22%の放電発光効
率の改善が見られた。これは、本発明の構成では、金属
電極122a,123の幅を従来よりも広くできること
から、表示電極102a,103の線抵抗を低減させる
ことができ、それによって放電セルの放電時のセル電圧
低下が軽減されて高効率化が可能となったものと考えら
れる。
FIG. 3 shows the dependence of the efficiency on the width of the metal electrode. In FIG. 3, for comparison, the width w0 (= 100 μm) of the metal electrode 423 having the conventional structure is standardized. The efficiency is also normalized by the value at this time. According to the implementation of the present invention, in the structure of FIG. 1, the discharge luminous efficiency was improved by about 15% when W = 150 μm and by about 22% when W = 200 μm. This is because, in the configuration of the present invention, since the width of the metal electrodes 122a and 123 can be made wider than in the related art, the line resistance of the display electrodes 102a and 103 can be reduced, thereby lowering the cell voltage during discharge of the discharge cells. It is considered that the efficiency was reduced and the efficiency was improved.

【0052】〔実施の形態2〕図4は、第2の発明の実
施形態に係る交流面放電型PDPの概略断面図である。
Aガラス基板(フロントカバープレート)201とBガ
ラス基板(バックプレート)231とが隔壁235によ
り間隔を開けられて、図示されていないが、封着材、例
えば、低融点鉛ガラス[PbO−B23−SiO2ガラ
ス]や、結晶化封着ガラス等により、封止されている。
パネルは350℃程度の温度で排気管(図示されていな
い)から真空排気後に、放電ガス、例えば、Ne−Xe
(5%)の混合ガスを200〜700Torr封入した
後に排気管を封じきってPDPが製造される。
[Second Embodiment] FIG. 4 is a schematic sectional view of an AC surface discharge type PDP according to a second embodiment of the present invention.
An A glass substrate (front cover plate) 201 and a B glass substrate (back plate) 231 are separated by a partition wall 235 and are not shown, but are not shown in the figure, but a sealing material such as a low melting point lead glass [PbO-B 2] O 3 —SiO 2 glass] and crystallization sealing glass.
After the panel is evacuated from an exhaust pipe (not shown) at a temperature of about 350 ° C., a discharge gas, for example, Ne—Xe
(5%) of a mixed gas of 200 to 700 Torr is sealed, and then the exhaust pipe is completely sealed to produce a PDP.

【0053】Aガラス基板201上には、第1の実施形
態と同様に、表示電極群202、203、及び光吸収帯
204が形成され、その上に、誘電体ガラス、例えば、
鉛ガラス[PbO−B23−SiO2ガラス]からなる誘
電体ガラス205と、その上に電子ビーム蒸着されたM
gOからなる保護膜206が形成されている。
As in the first embodiment, display electrode groups 202 and 203 and a light absorption band 204 are formed on an A glass substrate 201, and a dielectric glass, for example,
A lead glass dielectric glass 205 made of [PbO-B 2 O 3 -SiO 2 glass], M, which is an electron beam evaporation thereon
A protective film 206 made of gO is formed.

【0054】尚、保護膜は、放電開始電圧を下げる為
と、放電ガスによる誘電体ガラス層のスパッタ防止の目
的で形成され、MgOだけでなく、SrGdO3等の高二
次電子放出係数(以後γ係数と記載する)を有し、放電
によってスパッタされ難い材料であれば何でも構わな
い。また、MgOも電子ビーム蒸着だけでなく、反応性
スパッタ、イオンビームスパッタ等他の方法で形成して
も本発明の効果を発現するのはいうまでもない。
The protective film is formed for the purpose of lowering the discharge starting voltage and for preventing the dielectric glass layer from being sputtered by the discharge gas. The protective film is formed of not only MgO but also a high secondary electron emission coefficient (hereinafter γ) such as SrGdO 3 or the like. Any material may be used as long as it has a coefficient and is hard to be sputtered by electric discharge. It is needless to say that the effects of the present invention can be obtained even if MgO is formed not only by electron beam evaporation but also by other methods such as reactive sputtering and ion beam sputtering.

【0055】表示電極202a,203は間隙224
(間隔g0)を開けて形成され、一対で放電セル240を
形成する。また、隣接セルの表示電極202bと203
間は間隙225(間隔g)を開けて、光吸収体204上
に形成される。
The display electrodes 202a and 203 are provided with a gap 224.
(Interval g 0 ) are formed, and a pair of discharge cells 240 is formed. Also, the display electrodes 202b and 203 of the adjacent cells
The gap is formed on the light absorber 204 with a gap 225 (gap) therebetween.

【0056】表示電極202a、203は、間隙224
(間隔g0)を開けて形成された透明電極212a,2
13と、金属電極222a,223から構成される。金
属電極222a,223は、それぞれ透明電極212
a,213上に電気的に接続されるように形成され、か
つ、図4に示すように、その一部が光吸収帯204に重
なるように形成されている。放電セル240の隣接セル
の表示電極202bの金属電極222bも、金属電極2
23と同様に、その一部が光吸収帯204に重なるよう
に形成され、両者は間隔gを開けて形成されている。
The display electrodes 202a and 203 are provided with a gap 224.
(Interval g0) with transparent electrodes 212a, 2
13 and metal electrodes 222a and 223. Each of the metal electrodes 222a and 223 is a transparent electrode 212.
a, 213 are formed so as to be electrically connected to each other, and as shown in FIG. The metal electrode 222b of the display electrode 202b of the cell adjacent to the discharge cell 240 is also a metal electrode 2b.
Similarly to 23, a part thereof is formed so as to overlap the light absorption band 204, and both are formed with an interval g therebetween.

【0057】第1の発明の実施形態と異なる点は、保護
膜206の一部が除去されて誘電体層205の表面が露
出している点である。保護膜除去部分207は、隣接セ
ル間の金属電極223と222b間の上部部分である。
この様な構成にすることにより、保護膜除去部分207
が下地の誘電体層205の表面が露出して、誘電体層に
ガラス材料を用いると、この部分のγ係数が低くなる。
従って、隣接セル間の放電開始電圧が、保護膜のある場
合よりも上昇するので、クロストークが発生し難くなる
という効果を発揮する。その為、金属電極223,22
2bの間隙を狭くすることが可能となり、その幅を広く
することが可能である。
The difference from the first embodiment is that a part of the protective film 206 is removed and the surface of the dielectric layer 205 is exposed. The protection film removed portion 207 is an upper portion between the metal electrodes 223 and 222b between adjacent cells.
With such a configuration, the protective film removed portion 207 is formed.
However, when the surface of the underlying dielectric layer 205 is exposed and a glass material is used for the dielectric layer, the γ coefficient of this portion is reduced.
Therefore, since the discharge starting voltage between adjacent cells is higher than that in the case where the protective film is provided, an effect that crosstalk hardly occurs is exhibited. Therefore, the metal electrodes 223 and 22
The gap 2b can be narrowed, and its width can be widened.

【0058】保護膜除去部分207の間隙幅を間隙22
5の間隔gと同じにした場合の金属電極幅wに対する相
対発光効率は、第1の実施形態の時と同様に、図3に示
すものとほぼ同様な結果が得られる。保護膜除去部分2
07の間隙幅を間隙225の間隔gよりも広くすると、
表示電極202a,203間で発生する放電領域は、実
質的に保護膜除去部分207だけ狭く制限される動作モ
ードが存在する。
The gap width of the protection film removed portion 207 is
As for the relative luminous efficiency with respect to the width w of the metal electrode when the interval g is equal to 5, the result similar to that shown in FIG. 3 is obtained as in the case of the first embodiment. Protective film removal part 2
07 is wider than the gap g of the gap 225,
There is an operation mode in which the discharge region generated between the display electrodes 202a and 203 is substantially narrowly limited only by the protective film removed portion 207.

【0059】この様なモードの動作電圧で駆動すると、
図3の場合よりも、金属電極223,222bにより陰
になる蛍光体発光を抑制することが可能となって、更に
効率が向上する。この様に、第2の発明の実施により、
表示電極の線抵抗を低減させて高効率化を図ることと同
時に、金属電極下部での発光に余り有効でない無駄な空
間領域の放電を抑止して、全体の発光効率の向上が図れ
るものである。
Driving with the operating voltage in such a mode,
Compared to the case of FIG. 3, it becomes possible to suppress the phosphor light emission which is shaded by the metal electrodes 223 and 222b, and the efficiency is further improved. Thus, by implementing the second invention,
At the same time, the line resistance of the display electrode is reduced to increase the efficiency, and at the same time, the discharge in a useless space area that is not very effective for light emission below the metal electrode is suppressed, thereby improving the overall luminous efficiency. .

【0060】〔実施の形態3〕図5は、第3の発明の実
施形態に係る交流面放電型PDPの概略断面図である。
Aガラス基板(フロントカバープレート)301とBガ
ラス基板(バックプレート)331とが隔壁335によ
り間隔を開けられて、図示されていないが、封着材、例
えば、低融点鉛ガラス[PbO−B23−SiO2ガラ
ス]や、結晶化封着ガラス等により、封止されている。
パネルは350℃程度の温度で排気管(図示せず)から
真空排気された後に、放電ガス、例えば、Ne−Xe
(5%)の混合ガスを200〜700Torr封入した
後に排気管を封じきってPDPが製造される。
[Third Embodiment] FIG. 5 is a schematic sectional view of an AC surface discharge type PDP according to a third embodiment of the present invention.
An A glass substrate (front cover plate) 301 and a B glass substrate (back plate) 331 are separated by a partition wall 335 and are not shown, but are not shown in the figure, but a sealing material such as a low melting point lead glass [PbO-B 2] O 3 —SiO 2 glass] and crystallization sealing glass.
After the panel is evacuated from an exhaust pipe (not shown) at a temperature of about 350 ° C., a discharge gas, for example, Ne—Xe
(5%) of a mixed gas of 200 to 700 Torr is sealed, and then the exhaust pipe is completely sealed to produce a PDP.

【0061】Aガラス基板301上には、第1の実施形
態と同様に、表示電極群302、303、及び、光吸収
帯304が形成され、その上に、誘電体ガラス、例え
ば、鉛ガラス[PbO−B23−SiO2ガラス]からな
る誘電体ガラス305と、その上に電子ビーム蒸着され
たMgOからなる保護膜306が形成されている。
As in the first embodiment, display electrode groups 302 and 303 and a light absorption band 304 are formed on an A glass substrate 301, and a dielectric glass such as a lead glass [ and PbO-B 2 O 3 dielectric glass 305 made of -SiO 2 glass, the protective film 306 formed of an electron-beam deposited MgO is formed thereon.

【0062】尚、保護膜は、放電開始電圧を下げる為
と、放電ガスによる誘電体ガラス層のスパッタ防止の目
的で形成され、MgOだけでなく、SrGdO3等の高二
次電子放出係数(以後γ係数と記載する)を有し、放電に
よってスパッタされ難い材料であれば何でも構わない。
また、MgOも電子ビーム蒸着だけでなく、反応性スパ
ッタ、イオンビームスパッタ等他の方法で形成しても本
発明の効果を発現するのはいうまでもない。
The protective film is formed for the purpose of lowering the discharge starting voltage and for preventing the dielectric glass layer from being sputtered by the discharge gas. The protective film is made of not only MgO but also a high secondary electron emission coefficient (hereinafter γ) such as SrGdO 3. Any material may be used as long as the material has a coefficient and is hardly sputtered by electric discharge.
It is needless to say that the effects of the present invention can be obtained even if MgO is formed not only by electron beam evaporation but also by other methods such as reactive sputtering and ion beam sputtering.

【0063】表示電極302a,303は間隙324
(間隔g0)を開けて形成され、一対で放電セル340を
形成する。また、隣接セルの表示電極302bと303
間は間隙325(間隔g)を開けて、光吸収体304上
に形成される。
The display electrodes 302a and 303 are provided with a gap 324.
(Interval g 0 ) is formed, and a pair of discharge cells 340 is formed. Also, the display electrodes 302b and 303 of the adjacent cells
The gap is formed on the light absorber 304 with a gap 325 (gap) therebetween.

【0064】表示電極302a、303は、間隙324
(間隔g0)を開けて形成された透明電極312a,31
3と、金属電極322a,323から構成される。金属
電極322a,323は、それぞれ透明電極312a,
313上に電気的に接続されるように形成され、かつ、
図4に示すように、その一部が光吸収帯304に重なる
ように形成されている。放電セル340の隣接セルの表
示電極302bの金属電極322bも、金属電極323
と同様に、その一部が光吸収帯304に重なるように形
成され、両者は間隔gを開けて形成されている。
The display electrodes 302a and 303
Transparent electrodes 312a and 31 formed with an interval (g 0 )
3 and metal electrodes 322a and 323. The metal electrodes 322a, 323 are respectively transparent electrodes 312a,
313 are formed so as to be electrically connected to each other, and
As shown in FIG. 4, a part thereof is formed so as to overlap the light absorption band 304. The metal electrode 322b of the display electrode 302b of the cell adjacent to the discharge cell 340 is also
Similarly to the above, a part thereof is formed so as to overlap with the light absorption band 304, and both are formed with an interval g therebetween.

【0065】第2の発明の実施形態と異なる点は、保護
膜306の一部が、低γ係数を有する保護膜307で形
成されている点である。低γ係数保護膜307が形成さ
れる位置は、隣接セル間の金属電極323と322b間
の上部部分である。この様な構成にすることにより、低
γ係数保護膜307が存在する為に、この部分での放電
が起こり難くなる。従って、隣接セル間の放電開始電圧
が、保護膜のある場合よりも上昇するので、クロストー
クが発生し難くなるという効果を発揮する。
The difference from the second embodiment is that a part of the protective film 306 is formed of a protective film 307 having a low γ coefficient. The position where the low γ coefficient protective film 307 is formed is an upper portion between the metal electrodes 323 and 322b between adjacent cells. With such a configuration, since the low γ coefficient protective film 307 is present, discharge is less likely to occur in this portion. Therefore, since the discharge starting voltage between adjacent cells is higher than that in the case where the protective film is provided, an effect that crosstalk hardly occurs is exhibited.

【0066】そのため、金属電極323,322bの間
隙を、図1の場合よりも狭くすることが可能となり、そ
の幅を広くすることが可能となる。低γ係数保護膜30
7の幅を間隙325の間隔gと同じにした場合の、金属
電極幅wに対する相対発光効率は、第2の実施形態の時
と同様に、図3に示すものとほぼ同様な結果が得られ
る。低γ係数保護膜307の幅を間隙325の間隔gよ
りも広くすると、表示電極302a,303間で発生す
る放電領域は、実質的に低γ係数保護膜307の部分だ
け狭く制限される動作モードが存在する。この様なモー
ドの動作電圧で駆動すると、図3の場合よりも、金属電
極323,322bにより陰になる蛍光体発光を抑制す
ることが可能となって、更に効率が向上する。
Therefore, the gap between the metal electrodes 323 and 322b can be made narrower than in the case of FIG. 1, and the width can be widened. Low γ coefficient protective film 30
When the width of 7 is the same as the gap g of the gap 325, the same luminous efficiency with respect to the width w of the metal electrode as in the second embodiment can obtain substantially the same result as that shown in FIG. . When the width of the low γ coefficient protective film 307 is wider than the gap g of the gap 325, the discharge region generated between the display electrodes 302a and 303 is substantially narrowed by the low γ coefficient protective film 307. Exists. Driving with the operation voltage in such a mode makes it possible to suppress the emission of fluorescent material, which is shaded by the metal electrodes 323 and 322b, as compared with the case of FIG. 3, thereby further improving the efficiency.

【0067】また、低γ係数保護膜307の材料を、保
護膜306よりも低γ係数を持ち、かつ、放電ガスによ
りスパッタされ難い材料で構成すると、上記効果に加え
て、更に、誘電体層305のスパッタからの保護の効果
を発揮して長寿命化が可能となる。この低γ係数保護膜
307としては、保護膜306上に誘電体材料で覆うこ
とにより形成される。好ましい実施態様としては、この
誘電体が、酸化珪素、二酸化珪素を含む誘電体ガラス、
または、酸化鉛を含む誘電体ガラス、燐酸系ガラス(P
25)を含む誘電体ガラス、硼酸系ガラス(B23)を
含む誘電体ガラス、アルミナ(Al23)を含む誘電体
ガラス、ビスマス系ガラス(Bi25)を含む誘電体ガ
ラスからなることである。これらの誘電体は、公知技術
であるスクリーン印刷法等でペーストをパターン形成し
た後、焼成して形成する。
When the material of the low γ coefficient protective film 307 is made of a material having a lower γ coefficient than the protective film 306 and hard to be sputtered by the discharge gas, the dielectric layer The effect of protection from spatter 305 is exhibited, and the life can be extended. The low γ coefficient protective film 307 is formed by covering the protective film 306 with a dielectric material. In a preferred embodiment, the dielectric is silicon oxide, a dielectric glass containing silicon dioxide,
Alternatively, dielectric glass containing lead oxide, phosphate glass (P
Dielectric glass containing 2 O 5 ), dielectric glass containing boric acid glass (B 2 O 3 ), dielectric glass containing alumina (Al 2 O 3 ), and dielectric glass containing bismuth glass (Bi 2 O 5 ) It consists of body glass. These dielectrics are formed by patterning a paste by a known technique such as a screen printing method and then baking the paste.

【0068】また、他の好ましい実施態様としての低γ
係数保護膜307は、窒化シリコン(Si34)からな
る誘電体を形成することである。反応性スパッタ法等で
形成し、エッチングやリフトオフ法により形成すること
ができる。この膜の場合には、硬質膜である為、耐スパ
ッタ性能が高く、保護膜機能の点からも優れた特性を示
す。
Also, as another preferred embodiment, low γ
The coefficient protection film 307 is to form a dielectric made of silicon nitride (Si 3 N 4 ). It can be formed by a reactive sputtering method or the like, and can be formed by etching or a lift-off method. In the case of this film, since it is a hard film, it has a high sputter resistance and exhibits excellent characteristics in terms of the protective film function.

【0069】この様に、第3の発明の実施により、表示
電極の線抵抗を低減させて高効率化を図ることと同時
に、金属電極下部での発光に余り有効でない無駄な空間
領域の放電を抑止して、全体の発光効率の向上が図れ、
かつ、耐スパッタ性にも優れ長寿命化を可能とするもの
である。
As described above, according to the third embodiment of the present invention, the line resistance of the display electrode is reduced to increase the efficiency, and at the same time, the discharge of a useless space area that is not very effective for light emission below the metal electrode is performed. Deteriorating, improving the overall luminous efficiency,
In addition, it has excellent sputter resistance and can extend the life.

【0070】[0070]

【発明の効果】以上説明したように、第1の発明のプラ
ズマディスプレイパネルは、透明電極及びそれらに電気
的に接触して形成された金属電極とからなる表示電極
と、光吸収帯、及び、保護膜が形成された誘電体ガラス
層が配設されたフロントカバープレートと、データ電極
及び蛍光体層が配設されたバックプレートとが、前記誘
電体ガラス層及び蛍光体層を対向させた状態で配され、
前記フロントカバープレート及びバックプレートの間に
隔壁で仕切られた放電空間が形成され、前記金属電極が
前記光吸収帯に重なる様に配置されたことを特徴とす
る。
As described above, the plasma display panel of the first invention has a display electrode composed of a transparent electrode and a metal electrode formed in electrical contact with the transparent electrode, a light absorption band, A state in which a front cover plate on which a dielectric glass layer on which a protective film is formed is disposed, and a back plate on which a data electrode and a phosphor layer are disposed, with the dielectric glass layer and the phosphor layer facing each other. Arranged in
A discharge space partitioned by a partition is formed between the front cover plate and the back plate, and the metal electrode is disposed so as to overlap the light absorption band.

【0071】これによって、明所コントラスト改善と画
質向上が、低コストで可能となるという効果を発揮す
る。また、金属電極の幅を広くすることが可能となり、
これにより表示電極の線抵抗を低減させることができ、
放電セルの高効率化を実現するという格別の効果を発揮
する。
As a result, it is possible to improve the contrast in a bright place and the image quality at a low cost. Also, it is possible to increase the width of the metal electrode,
Thereby, the line resistance of the display electrode can be reduced,
A special effect of realizing high efficiency of the discharge cell is exhibited.

【0072】第2の発明のプラズマディスプレイパネル
は、第1の発明の構成に於いて、光吸収帯の一部に重ね
て形成された金属電極間の部分の保護膜が除去された構
造とすることを特徴とする。
A plasma display panel according to a second aspect of the present invention is the plasma display panel according to the first aspect, in which a protective film is removed from a portion between metal electrodes formed so as to overlap a part of the light absorption band. It is characterized by the following.

【0073】これによって、上記効果に加えて、金属電
極下部での発光に余り有効でない無駄な空間領域の放電
を抑止して、セル全体の発光効率の更なる向上が図れる
という格別の効果を発揮する。
Thus, in addition to the above-described effects, a special effect is obtained in that discharge in a useless space area that is not very effective for light emission below the metal electrode is suppressed, and the luminous efficiency of the entire cell can be further improved. I do.

【0074】第3の発明のプラズマディスプレイパネル
は、第1の発明の構成に於いて、光吸収帯の一部に重ね
て形成された金属電極間の部分の保護膜が、表示電極上
の保護膜の二次電子放出係数よりも小さな二次電子放出
係数を有する材料からなることを特徴とする。
The plasma display panel according to a third aspect of the present invention is the plasma display panel according to the first aspect, wherein the protective film between the metal electrodes formed so as to overlap with a part of the light absorption band protects the display electrode. It is characterized by being made of a material having a secondary electron emission coefficient smaller than the secondary electron emission coefficient of the film.

【0075】これによって、第1の発明の実施により発
揮される上記効果に加えて、金属電極下部での発光に余
り有効でない無駄な空間領域の放電を抑止して、セル全
体の発光効率の更なる向上が図れ、かつ、耐スパッタ性
にも優れ長寿命化を可能とする格別の効果を発揮する。
As a result, in addition to the above-mentioned effect exerted by the first embodiment of the present invention, the discharge in a useless space area that is not very effective for light emission below the metal electrode is suppressed, and the luminous efficiency of the entire cell is improved. It is possible to achieve a further improvement, and also exhibits a special effect that is excellent in spatter resistance and can extend the life.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1のプラズマディスプレイ
パネル(アドレス電極方向)の構成を示す断面図
FIG. 1 is a sectional view showing a configuration of a plasma display panel (in the direction of an address electrode) according to a first embodiment of the present invention;

【図2】本発明の実施の形態1のプラズマディスプレイ
パネル(表示電極方向)の構成を示す断面図
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a configuration of a plasma display panel (display electrode direction) according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態1の相対金属電極幅に対す
る相対効率特性を示す図
FIG. 3 is a diagram showing relative efficiency characteristics with respect to a relative metal electrode width according to the first embodiment of the present invention;

【図4】本発明の実施の形態2のプラズマディスプレイ
パネルの構成断面図
FIG. 4 is a configuration sectional view of a plasma display panel according to a second embodiment of the present invention;

【図5】本発明の実施の形態3のプラズマディスプレイ
パネルの構成断面図
FIG. 5 is a configuration sectional view of a plasma display panel according to a third embodiment of the present invention;

【図6】従来のプラズマディスプレイパネルの構成断面
FIG. 6 is a cross-sectional view of a configuration of a conventional plasma display panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101,131 基板 102a,102b,103 表示電極 104 光吸収帯 106 保護膜 122a,122b,123 金属電極 201,231 基板 202a,202b,203 表示電極 204 光吸収帯 206 保護膜 207 保護膜除去部 222a,222b,223 金属電極 301,331 基板 302a,302b,303 表示電極 304 光吸収帯 306 保護膜 307 低γ係数保護膜 322a,322b,323 金属電極 101, 131 substrate 102a, 102b, 103 display electrode 104 light absorption band 106 protective film 122a, 122b, 123 metal electrode 201, 231 substrate 202a, 202b, 203 display electrode 204 light absorption band 206 protective film 207 protective film removing portion 222a, 222b, 223 Metal electrode 301, 331 Substrate 302a, 302b, 303 Display electrode 304 Light absorption band 306 Protective film 307 Low γ coefficient protective film 322a, 322b, 323 Metal electrode

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野々村 欽造 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 藤原 伸也 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 小杉 直貴 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 4G059 AA08 AB01 AC20 CA03 CB10 GA02 5C027 AA01 AA02 AA07 AA10 5C040 FA01 GB03 GB14 GC05 GC11 GD02 GE01 GE07 GH06 KA04 KA10 KB03 KB19 MA02 MA12 5C058 AA11 AB01 BA05 BA08 BA35 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Kinzo Nonomura 1006 Kadoma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 72) Inventor Naoki Kosugi 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture F-term in Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. KB19 MA02 MA12 5C058 AA11 AB01 BA05 BA08 BA35

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】A基板上に、複数の平行に形成された第1
の表示電極及び第2の表示電極と、前記第1の表示電極
及び第2の表示電極間に配置された光吸収帯群を具備
し、これらが、誘電体とその上に形成された保護膜によ
り覆われて形成され、前記A基板と対向して配置された
B基板上に、前記第1の表示電極及び第2の表示電極に
直交して複数の隔壁、及び、前記隔壁間に各画素に対応
した蛍光体層が形成され、かつ、前記蛍光体層の下に誘
電体に覆われたデータ電極が形成され、前記A基板と前
記B基板とが封着材により封止され、放電により紫外線
を放出する放電ガスが充填されたプラズマディスプレイ
パネルであって、 前記第1の表示電極及び第2の表示電極が透明電極及び
それらに電気的に接触して形成された金属電極とからな
り、前記金属電極の一部が前記光吸収帯に重なる様に配
置されたことを特徴とするプラズマディスプレイパネ
ル。
1. A plurality of first parallel formed on an A substrate.
Display electrodes and a second display electrode, and a group of light absorption bands disposed between the first display electrode and the second display electrode, which are composed of a dielectric and a protective film formed thereon. A plurality of partitions orthogonal to the first display electrodes and the second display electrodes, and a plurality of pixels interposed between the partitions on a B substrate formed and covered by the A substrate and opposed to the A substrate. Is formed, and a data electrode covered with a dielectric is formed under the phosphor layer, the A substrate and the B substrate are sealed with a sealing material, and A plasma display panel filled with a discharge gas that emits ultraviolet light, wherein the first display electrode and the second display electrode include a transparent electrode and a metal electrode formed in electrical contact therewith, Arranged so that part of the metal electrode overlaps the light absorption band A plasma display panel characterized by being performed.
【請求項2】A基板上に、複数の平行に形成された第1
の表示電極及び第2の表示電極と、前記第1の表示電極
及び第2の表示電極間に配置された光吸収帯群を具備
し、これらが、誘電体とその上に形成された保護膜によ
り覆われて形成され、前記A基板と対向して配置された
B基板上に、前記第1及び第2の表示電極に直交して複
数の隔壁、及び、前記隔壁間に各画素に対応した蛍光体
層が形成され、かつ、前記蛍光体層の下に誘電体に覆わ
れたデータ電極が形成され、前記A基板と前記B基板と
が封着材により封止され、放電により紫外線を放出する
放電ガスが充填されたプラズマディスプレイパネルであ
って、 前記第1の表示電極及び第2の表示電極が透明電極及び
それらに電気的に接触して形成された金属電極とからな
り、前記金属電極の一部が前記光吸収帯に重なる様に配
置され、前記第1の表示電極及び第2の表示電極間部分
上の前記保護膜が除去された構造とすることを特徴とす
るプラズマディスプレイパネル。
2. A plurality of first parallel substrates formed on an A substrate.
Display electrodes and a second display electrode, and a group of light absorption bands disposed between the first display electrode and the second display electrode, which are composed of a dielectric and a protective film formed thereon. A plurality of partitions orthogonal to the first and second display electrodes, and a plurality of partitions corresponding to each pixel between the partitions, on a B substrate formed and covered by the A substrate and disposed to face the A substrate. A phosphor layer is formed, and a data electrode covered with a dielectric is formed below the phosphor layer. The A substrate and the B substrate are sealed with a sealing material, and ultraviolet rays are emitted by discharge. Wherein the first display electrode and the second display electrode comprise a transparent electrode and a metal electrode formed in electrical contact with the transparent electrode, and the metal electrode Is disposed so as to overlap the light absorption band, A plasma display panel having a structure in which the protective film on a portion between a first display electrode and a second display electrode is removed.
【請求項3】A基板上に、複数の平行に形成された第1
の表示電極及び第2の表示電極と、前記第1の表示電極
及び第2の表示電極間に配置された光吸収帯群を具備
し、これらが、誘電体とその上に形成された保護膜によ
り覆われて形成され、前記A基板と対向して配置された
B基板上に、前記第1の表示電極及び第2の表示電極に
直交して複数の隔壁、及び、前記隔壁間に各画素に対応
した蛍光体層が形成され、かつ、前記蛍光体層の下に誘
電体に覆われたデータ電極が形成され、前記A基板と前
記B基板とが封着材により封止され、放電により紫外線
を放出する放電ガスが充填されたプラズマディスプレイ
パネルであって、 前記第1の表示電極及び第2の表示電極が透明電極及び
それらに電気的に接触して形成された金属電極とからな
り、前記金属電極の一部が前記光吸収帯に重なる様に配
置され、前記第1の表示電極及び第2の表示電極間部分
上の前記保護膜が、前記第1及び第2の表示電極上の保
護膜の二次電子放出係数よりも小さな二次電子放出係数
を有する材料からなることを特徴とするプラズマディス
プレイパネル。
3. A plurality of first parallel substrates formed on an A substrate.
Display electrodes and a second display electrode, and a group of light absorption bands disposed between the first display electrode and the second display electrode, which are composed of a dielectric and a protective film formed thereon. A plurality of partitions orthogonal to the first display electrodes and the second display electrodes, and a plurality of pixels interposed between the partitions on a B substrate formed and covered by the A substrate and opposed to the A substrate. Is formed, and a data electrode covered with a dielectric is formed under the phosphor layer, the A substrate and the B substrate are sealed with a sealing material, and A plasma display panel filled with a discharge gas that emits ultraviolet light, wherein the first display electrode and the second display electrode include a transparent electrode and a metal electrode formed in electrical contact therewith, Arranged so that part of the metal electrode overlaps the light absorption band Wherein the protective film on the portion between the first display electrode and the second display electrode has a secondary electron emission coefficient smaller than the secondary electron emission coefficient of the protective film on the first and second display electrodes. A plasma display panel comprising a material having:
【請求項4】保護膜が酸化マグネシウムからなり、第1
の表示電極及び第2の表示電極間部分上の小さな二次電
子放出係数を有する材料からなる保護膜が、誘電体によ
り覆われたことを特徴とする請求項3記載のプラズマデ
ィスプレイパネル。
4. The method according to claim 1, wherein the protective film is made of magnesium oxide.
4. The plasma display panel according to claim 3, wherein a protective film made of a material having a small secondary electron emission coefficient on a portion between the display electrode and the second display electrode is covered with a dielectric.
【請求項5】誘電体が、酸化珪素、二酸化珪素を含む誘
電体ガラスからなることを特徴とする請求項3または4
記載のプラズマディスプレイパネル。
5. The dielectric according to claim 3, wherein the dielectric is made of a dielectric glass containing silicon oxide and silicon dioxide.
The plasma display panel as described in the above.
【請求項6】誘電体が、酸化鉛を含む誘電体ガラスから
なることを特徴とする請求項3または4記載のプラズマ
ディスプレイパネル。
6. The plasma display panel according to claim 3, wherein the dielectric is made of a dielectric glass containing lead oxide.
【請求項7】誘電体が、燐酸系ガラス(P25)を含む
誘電体ガラスからなることを特徴とする請求項3または
4記載のプラズマディスプレイパネル。
7. The plasma display panel according to claim 3, wherein the dielectric is made of a dielectric glass containing phosphoric acid glass (P 2 O 5 ).
【請求項8】誘電体ガラスが、硼酸系ガラス(B23
を含む誘電体ガラスからなることを特徴とする請求項3
または4記載のプラズマディスプレイパネル。
8. The dielectric glass is a borate glass (B 2 O 3 ).
4. A dielectric glass comprising:
Or the plasma display panel according to 4.
【請求項9】誘電体が、アルミナ(Al23)を含む誘
電体ガラスからなることを特徴とする請求項3または4
記載のプラズマディスプレイパネル。
9. The method according to claim 3 , wherein the dielectric is made of a dielectric glass containing alumina (Al 2 O 3 ).
The plasma display panel as described in the above.
【請求項10】誘電体が、ビスマス系ガラス(Bi25)
を含む誘電体ガラスからなることを特徴とする請求項3
または4記載のプラズマディスプレイパネル。
10. The dielectric material is bismuth-based glass (Bi 2 O 5 ).
4. A dielectric glass comprising:
Or the plasma display panel according to 4.
【請求項11】誘電体が、窒化シリコン(Si34)か
らなることを特徴とする請求項3または4記載のプラズ
マディスプレイパネル。
11. The plasma display panel according to claim 3 , wherein the dielectric is made of silicon nitride (Si 3 N 4 ).
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