JP2000146878A - Sample temperature controlling method - Google Patents

Sample temperature controlling method

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JP2000146878A
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皖史 秋山
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隆雄 板倉
Takashi Kanetani
貴 金谷
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  • Investigating Or Analyzing Materials Using Thermal Means (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To highly precisely follow a sample temperature for any temperature programming curve including isothermal control, by inventing voltage control for the first heater in a sample temperature controlling method wherein a liquefied refrigerant is vaporized by the first heater to generate low temperature gas, the low temperature gas is introduced into a sample chamber, and wherein a second heater provided in an electric furnace of the sample chamber is heated to feedback-control the temperature of the sample chamber. SOLUTION: A voltage command is output to a second heater power source in a control system for a second heater to make zero a deviation ΔT between a target temperature Tr and an electric furnce temperature Tf. A predicted voltage command Ea based on a sample temperature Ts is output in a prediction controller in a control system for a first heater, and a voltage command Eb is output in a PID controller 42 to make the deviation ΔT zero. The Eb is added to the Ea in an adder 44. That is, the predicted voltage Ea predicted in the prediction controller is increased or decreased by the voltage command Eb based on the deviation ΔT.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、熱分析装置の試料
のように所定の温度プログラム曲線に従って試料を昇温
したり降温したりする場合の試料温度制御方法に関し、
特に試料を冷却する手段として液化冷媒を気化した低温
ガスを利用する試料温度制御方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for controlling a temperature of a sample when the temperature of the sample is raised or lowered according to a predetermined temperature program curve, such as a sample of a thermal analyzer.
In particular, the present invention relates to a sample temperature control method using a low-temperature gas obtained by evaporating a liquefied refrigerant as a means for cooling a sample.

【0002】[0002]

【従来の技術】試料を室温より低い温度に冷却する方法
として、液体窒素を気化した低温ガスで試料を冷却する
方法がある。この場合に、液体窒素容器内に設けたヒー
タを加熱することにより気化量を調節して低温ガスの流
量を調節し、もって試料冷却能力を調節することが可能
である。液体窒素加熱ヒータに大きな電力を供給すると
気化が促進されて試料温度は急激に下がり、それより小
さい電力を印加すると試料温度の低下はゆるやかにな
る。
2. Description of the Related Art As a method of cooling a sample to a temperature lower than room temperature, there is a method of cooling a sample with a low-temperature gas obtained by vaporizing liquid nitrogen. In this case, it is possible to adjust the amount of vaporization by heating the heater provided in the liquid nitrogen container to adjust the flow rate of the low-temperature gas, and thereby adjust the sample cooling capacity. When a large electric power is supplied to the liquid nitrogen heater, vaporization is promoted and the sample temperature drops rapidly. When a smaller electric power is applied, the sample temperature gradually decreases.

【0003】熱分析装置において試料を冷却する場合に
は、所定の温度プログラム曲線に従って例えば一定の降
温速度で冷却している。しかしながら、液体窒素からの
低温ガスによる冷却では、このような精密な制御は不可
能なので、低温ガスによる冷却に加えて、試料室の電気
炉のヒータによる加熱を用いたフィードバック制御を併
用している。
When cooling a sample in a thermal analyzer, the sample is cooled, for example, at a constant cooling rate according to a predetermined temperature program curve. However, such precise control is not possible with cooling from liquid nitrogen with low-temperature gas, so feedback control using heating by an electric furnace heater in the sample chamber is used in addition to cooling with low-temperature gas. .

【0004】液体窒素加熱ヒータの電力制御による試料
の冷却と、電気炉ヒータの電力制御による試料の加熱と
を併用して試料の温度制御を実施している従来例とし
て、特開平2−105046号公報に記載の技術(以
下、第1の従来技術という。)が知られている。この第
1の従来技術では、液体窒素加熱ヒータに供給する電力
を決定するために予備実験を利用している。すなわち、
液体窒素加熱ヒータに一定電力を供給して所定時間後の
試料到達温度を測定し、電力と試料到達温度との関係を
複数の電力についてあらかじめ実験的に求めている。こ
のような予備実験を実施しておけば、室温より低い到達
温度を温度プログラム信号として設定する場合に、この
到達温度に対応する供給電力を上記予備実験結果から求
めることができる。この電力を液体窒素加熱ヒータに供
給すればよい。そうすれば、所定時間後に試料温度は到
達温度まで下がることになる。
Japanese Patent Laid-Open No. 2-105046 discloses a conventional example of controlling the temperature of a sample by using both cooling of the sample by power control of a liquid nitrogen heater and heating of the sample by power control of an electric furnace heater. The technology described in the official gazette (hereinafter referred to as a first conventional technology) is known. In the first prior art, a preliminary experiment is used to determine the power to be supplied to the liquid nitrogen heater. That is,
A constant power is supplied to the liquid nitrogen heater to measure the temperature attained by the sample after a predetermined time, and the relationship between the power and the temperature attained by the sample is experimentally obtained in advance for a plurality of powers. If such a preliminary experiment is performed, when a temperature lower than room temperature is set as the temperature program signal, the supply power corresponding to the temperature can be obtained from the result of the preliminary experiment. This power may be supplied to the liquid nitrogen heater. Then, after a predetermined time, the sample temperature falls to the ultimate temperature.

【0005】この第1の従来技術では、室温より低い到
達温度を設定すると、これに対応する液体窒素加熱ヒー
タの供給電力が一つだけ定まる。このように定めた供給
電力で液体窒素を気化して試料を冷却すると共に、電気
炉ヒータを用いて試料の温度をフィードバック制御する
と、試料を所定の温度プログラム曲線に従って温度制御
することが可能である。しかしながら、この方法を用い
て上述の到達温度まで試料を「一定の降温速度」で冷却
しようとすると、冷却途中で冷却能力不足に陥る。
In the first prior art, when an ultimate temperature lower than room temperature is set, only one power supply to the liquid nitrogen heater corresponding thereto is determined. When the sample is cooled by evaporating the liquid nitrogen with the supply power determined as described above, and the temperature of the sample is feedback-controlled using the electric furnace heater, it is possible to control the temperature of the sample according to a predetermined temperature program curve. . However, when trying to cool the sample to the above-mentioned reached temperature at a “constant cooling rate” using this method, the cooling capacity becomes insufficient during the cooling.

【0006】この第1の従来技術の冷却能力不足を解消
する方法として、特開平9−196871号公報に開示
された従来技術(以下、第2の従来技術という。)が開
発された。この第2の従来技術では、各時刻での試料温
度とその降温速度とに基づいて液体窒素加熱ヒータの電
力を随時、必要かつ十分な値に変更しており、もって冷
却能力不足を解消すると共に、無駄な電力消費も防いで
いる。
As a method for solving the insufficient cooling capacity of the first prior art, a prior art (hereinafter referred to as a second prior art) disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-196871 has been developed. In the second prior art, the power of the liquid nitrogen heater is changed to a necessary and sufficient value at any time based on the sample temperature at each time and the temperature decreasing rate, thereby solving the cooling capacity shortage. Also, wasteful power consumption is prevented.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上述の第2の従来技術
は、試料を一定の降温速度で冷却していくときには非常
に効果的に機能するが、試料を一定の温度で保持するよ
うな制御(以下、等温保持制御という。)を実施する
と、その温度安定性が劣っていることが判明した。例え
ば、温度プログラム曲線の最初に等温制御の領域がある
場合に、その保持温度がふらつく問題がある。このふら
つきの原因は、各時刻での温度変化速度(温度の微分
値)に依存して液体窒素加熱ヒータの電力を決定してい
ることにあった。
The second prior art described above works very effectively when the sample is cooled at a constant temperature lowering rate, but the control to keep the sample at a constant temperature is performed. (Hereinafter referred to as isothermal holding control), it was found that the temperature stability was inferior. For example, when there is an isothermal control region at the beginning of the temperature program curve, there is a problem that the holding temperature fluctuates. The cause of the fluctuation was that the power of the liquid nitrogen heater was determined depending on the temperature change rate (differential value of the temperature) at each time.

【0008】本発明は上述の第2の従来技術の問題点を
解決するためになされたものであり、その目的は、液化
冷媒を第1ヒータで加熱気化させて低温ガスを発生さ
せ、この低温ガスを試料室に導入すると共に、試料室の
電気炉に設けた第2ヒータを加熱することで試料室の温
度をフィードバック制御する試料温度制御方法におい
て、第1ヒータの電圧制御を工夫することにより、等温
保持制御も含めて、どのような温度プログラム曲線に対
しても試料温度を高精度に追従させることができるよう
な試料温度制御方法を提供することにある。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the second prior art, and an object of the present invention is to heat and vaporize a liquefied refrigerant by a first heater to generate a low-temperature gas. In a sample temperature control method in which a gas is introduced into the sample chamber and a temperature of the sample chamber is feedback-controlled by heating a second heater provided in an electric furnace of the sample chamber, the voltage control of the first heater is devised. It is an object of the present invention to provide a sample temperature control method capable of causing a sample temperature to follow any temperature program curve with high accuracy, including isothermal holding control.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、液化冷媒を第
1ヒータで加熱気化させて低温ガスを発生させ、この低
温ガスを試料室に導入すると共に、試料室の電気炉に設
けた第2ヒータを加熱することで試料室の温度をフィー
ドバック制御する試料温度制御方法において、次の
(イ)〜(ニ)の予備段階を経てから、(ホ)〜(ト)
の制御段階を同時に実施することを特徴としている。
(イ)前記第2ヒータを加熱することなく、前記第1ヒ
ータに一定の電圧を供給して前記低温ガスを試料室に導
入し、そのときの経過時間と試料室の温度との関係を示
す曲線(以下、定電圧冷却曲線という。)を測定する段
階。(ロ)前記一定の電圧の値を変更して、複数の前記
定電圧冷却曲線を得る段階。(ハ)複数の前記定電圧冷
却曲線のそれぞれについて、その傾きが所定の設定値に
達した時点での試料室の温度(以下、中間到達温度とい
う。)を測定する段階。(ニ)複数の前記定電圧冷却曲
線について電圧と前記中間到達温度との組み合わせを求
めて、これらの組み合わせに基づいて電圧と温度との対
応関係を求める段階。(ホ)各時刻での試料室の温度を
前記対応関係にあてはめて前記第1ヒータの電圧(以
下、予測電圧という。)を求める段階。(ヘ)各時刻で
の試料室の温度と各時刻での目標温度との偏差に基づい
て前記予測電圧を増減する段階。(ト)各時刻での試料
室の温度と各時刻での目標温度との偏差に基づいて前記
第2ヒータの電圧を制御する段階。
According to the present invention, a liquefied refrigerant is heated and vaporized by a first heater to generate a low-temperature gas, and the low-temperature gas is introduced into a sample chamber, and a low-temperature gas is provided in an electric furnace of the sample chamber. (2) In the sample temperature control method in which the temperature of the sample chamber is feedback-controlled by heating the two heaters, after the following preliminary steps (a) to (d), (e) to (g)
Are simultaneously performed.
(A) A constant voltage is supplied to the first heater without heating the second heater to introduce the low-temperature gas into the sample chamber, and shows the relationship between the elapsed time at that time and the temperature of the sample chamber. Measuring a curve (hereinafter referred to as a constant voltage cooling curve). (B) changing the value of the constant voltage to obtain a plurality of the constant voltage cooling curves. (C) measuring the temperature of the sample chamber (hereinafter, referred to as an intermediate attainment temperature) when the slope of each of the plurality of constant voltage cooling curves reaches a predetermined set value. (D) determining a combination of a voltage and the intermediate attainment temperature for a plurality of the constant voltage cooling curves, and determining a correspondence between the voltage and the temperature based on the combination; (E) determining the voltage of the first heater (hereinafter referred to as a predicted voltage) by applying the temperature of the sample chamber at each time to the correspondence. (F) increasing or decreasing the predicted voltage based on a deviation between the temperature of the sample chamber at each time and the target temperature at each time. (G) controlling the voltage of the second heater based on the deviation between the temperature of the sample chamber at each time and the target temperature at each time.

【0010】上述の(ホ)の制御段階は、第1ヒータの
電圧を決定するに当たって、まず、各時刻での試料室の
温度に基づいて電圧を先行予測制御していることにな
る。この制御は、各時刻での目標温度(温度プログラム
曲線上の温度)と試料室の温度との偏差には依存してい
ないので、制御方式としてはオープン制御である。この
先行予測制御は、各時刻において目標温度と試料室の温
度との偏差がどのようになっていようとも、その時点で
の試料室の温度にふさわしい第1ヒータの電圧を先回り
して設定していることになる。
In the above control step (e), when determining the voltage of the first heater, the voltage is first predicted and controlled based on the temperature of the sample chamber at each time. Since this control does not depend on the deviation between the target temperature (the temperature on the temperature program curve) at each time and the temperature of the sample chamber, the control method is an open control. In this advance prediction control, regardless of the difference between the target temperature and the temperature of the sample chamber at each time, the voltage of the first heater suitable for the temperature of the sample chamber at that time is set in advance. Will be.

【0011】上述の(ヘ)の制御段階は、(ホ)の制御
段階で求めた予測電圧に対して、第1ヒータ系のフィー
ドバック制御による電圧増減分を加えている。(ヘ)の
制御段階は制御方式としてはフィードバック制御であ
り、目標温度との偏差に基づいた後追い制御である。
(ホ)の先行予測制御に(ヘ)のフィードバック制御を
加えることで、先回り制御と後追い制御を併用すること
になる。先行予測制御だけでは定常偏差を除くことがで
きない欠陥があり、フィードバック制御だけでは後追い
修正制御による欠陥がある。そこで、両制御の欠点を互
いに補完するように組み合わせることで第1ヒータの最
適電圧を決定している。
In the above control step (f), a voltage increase or decrease by feedback control of the first heater system is added to the predicted voltage obtained in the control step (e). The control step (f) is a feedback control as a control method, and is a follow-up control based on a deviation from a target temperature.
By adding the feedback control of (f) to the advance prediction control of (e), the advance control and the follow-up control are used together. There is a defect in which the steady-state error cannot be removed only by the preceding prediction control, and there is a defect by the follow-up correction control in the feedback control alone. Therefore, the optimum voltage of the first heater is determined by combining the disadvantages of both controls so as to complement each other.

【0012】ところで、(ホ)の先行予測制御において
は、各時刻での試料室の温度の代わりに各時刻での目標
温度を使ってもよい。先行予測制御では、使用する予測
電圧の温度依存性はそれほど大きいものではなく、試料
室の温度と目標温度のどちらを使っても制御能力に大差
はない。
By the way, in the advance prediction control of (e), the target temperature at each time may be used instead of the temperature of the sample chamber at each time. In the preceding prediction control, the temperature dependency of the prediction voltage to be used is not so large, and there is no significant difference in the control ability using either the temperature of the sample chamber or the target temperature.

【0013】上述の(ホ)と(ヘ)の制御段階が第1ヒ
ータの電圧制御であるのに対して、(ト)の制御段階は
第2ヒータについての電圧制御である。この第2ヒータ
(電気炉のヒータ)を用いて最終的に試料室の温度をフ
ィードバック制御することにより、目標温度に対して試
料温度を高精度に追従させることができる。
The control steps (e) and (f) are the voltage control of the first heater, whereas the control step (g) is the voltage control of the second heater. By finally feedback-controlling the temperature of the sample chamber using the second heater (heater of the electric furnace), the sample temperature can be made to follow the target temperature with high accuracy.

【0014】上述の(イ)(ハ)(ホ)(ヘ)(ト)の
各段階で使用する「試料室の温度」としては、試料にで
きるだけ近いところに配置した温度センサ(例えば熱電
対)の検出温度(これを試料温度と呼ぶことにする。)
を利用してもよいし、電気炉の壁に配置した温度センサ
(例えば熱電対)の検出温度(これを電気炉温度と呼ぶ
ことにする。)を利用してもよい。ただし、予測電圧を
用いることについて互いに関連している(イ)(ハ)
(ホ)の三つの段階では、「試料室の温度」として、試
料温度と電気炉温度のどちらかを統一して用いる必要が
ある。また、一般に、第2ヒータ(電気炉のヒータ)を
用いて試料室の温度をフィードバック制御する場合に
は、電気炉温度を使ったほうが温度制御がなめらかにな
るので、(ト)の段階では電気炉温度を使うのが好まし
い。第1ヒータ(液化冷媒加熱ヒータ)系の制御におい
ては、試料温度と電気炉温度のどちらを使っても大差は
ないと考えられる。
The "temperature of the sample chamber" used in each of the above steps (a), (c), (e), (f) and (g) is a temperature sensor (for example, a thermocouple) arranged as close as possible to the sample. (This will be called the sample temperature.)
Or a temperature detected by a temperature sensor (for example, a thermocouple) disposed on the wall of the electric furnace (this will be referred to as an electric furnace temperature). However, the use of the predicted voltage is related to each other (a) (c)
In the three stages (e), it is necessary to unify either the sample temperature or the electric furnace temperature as the “sample chamber temperature”. In general, when the temperature of the sample chamber is feedback-controlled using the second heater (heater of the electric furnace), the temperature control is smoother using the electric furnace temperature. Preferably, furnace temperature is used. In the control of the first heater (liquefied refrigerant heating heater) system, it is considered that there is no great difference in using either the sample temperature or the electric furnace temperature.

【0015】また、上述の(ホ)の段階において、「各
時刻での試料室の温度を前記対応関係にあてはめる」代
わりに「各時刻での目標温度を前記対応関係にあてはめ
る」ようにしてもよい。
In the above-mentioned step (e), instead of "applying the temperature of the sample chamber at each time to the correspondence,""applying the target temperature at each time to the correspondence". Good.

【0016】上述の(ハ)の段階において、中間到達温
度の意味は次のようなものである。第1ヒータに一定の
電圧を供給して低温ガスで試料を冷却して、そのときの
定電圧冷却曲線を測定した場合、長時間が経過すれば、
その曲線の傾きは限りなくゼロに近づいて、試料室の温
度はほぼ一定値(以下、最終到達温度という。)に落ち
着く。この最終到達温度は第1ヒータに印加する電圧に
依存する。この最終到達温度と電圧との対応関係をあら
かじめ求めておけば、実際の試料の温度制御の最中にそ
のときの試料室の温度にふさわしい第1ヒータの電圧を
上述の対応関係から求めることができる。しかしなが
ら、このような対応関係を用いると、そのときの試料温
度に最終的に到達できるような「ちょうどぴったりの」
電圧を求めることになる。これでは、先行予測制御に使
う電圧としては能力不足である。なぜならば、第1ヒー
タに供給する電圧は少し多めにして試料温度が目標温度
よりもわずかに低めになるような傾向をもたせ、その分
を第2ヒータによる試料加熱で補うことでフィードバッ
ク制御を有効に機能させることが重要だからである。そ
こで、上述の最終到達温度を用いる代わりに中間到達温
度を用いるのが適切になる。この中間到達温度は、定電
圧冷却曲線の傾きが所定の設定値に達した時点での試料
室の温度として定義できる。その傾きをどのような値に
設定するかが現実の問題になるが、発明者らの研究によ
れば、その設定値を毎分マイナス0.1℃〜毎分マイナ
ス3℃の範囲内の数値とすることが適当である。
In the above step (c), the meaning of the intermediate temperature is as follows. When a constant voltage is supplied to the first heater to cool the sample with a low-temperature gas and a constant voltage cooling curve at that time is measured, if a long time elapses,
The slope of the curve approaches zero as much as possible, and the temperature of the sample chamber is settled to a substantially constant value (hereinafter, referred to as the ultimate temperature). This final temperature depends on the voltage applied to the first heater. If the correspondence between the final temperature and the voltage is obtained in advance, the voltage of the first heater appropriate to the temperature of the sample chamber at that time during the actual temperature control of the sample can be obtained from the above-described correspondence. it can. However, using such a correspondence, the "just right"
The voltage will be determined. In this case, the voltage used for the advance prediction control is insufficient. This is because the voltage supplied to the first heater is slightly increased, and the sample temperature tends to be slightly lower than the target temperature, and the feedback control is made effective by supplementing the tendency with the sample heating by the second heater. This is because it is important to make them function. Therefore, it is appropriate to use the intermediate attainment temperature instead of using the above-mentioned final attainment temperature. This intermediate temperature can be defined as the temperature of the sample chamber when the slope of the constant voltage cooling curve reaches a predetermined set value. The actual problem is how to set the slope. According to the study of the inventors, the set value is set to a value within the range of minus 0.1 ° C./min to minus 3 ° C./min. It is appropriate that

【0017】なお、実際に第1ヒータと第2ヒータの
「電力制御」を実施する場合に、制御回路中の制御量と
しては「印加電圧」を制御することになる。したがっ
て、本発明では、各制御段階における表現としては電圧
制御になっている。最終的にはヒータの供給電力が制御
されていることになる。
When the "power control" of the first heater and the second heater is actually performed, the "applied voltage" is controlled as a control amount in the control circuit. Therefore, in the present invention, the expression in each control stage is voltage control. Ultimately, the power supplied to the heater is controlled.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の試料温度制御方
法を実施する熱分析装置の一例の構成図である。この熱
分析装置は示差走査熱量計の例であり、円筒状の試料室
10の内部に円筒状の電気炉12が配置されている。試
料室10の内部空間は円筒状の隔壁14で区切られてい
て、この隔壁14と試料室10の内壁面との間の環状空
間16内に低温ガスが導入されるようになっている。隔
壁14の高さ方向中央部の内壁面には電気炉12の外周
面が密着している。電気炉12の内壁に固定された均熱
板の上にはサンプル容器とリファレンス容器とが載って
いる。電気炉12には第2ヒータ18が埋め込まれてい
る。第2ヒータ18は第2ヒータ電源19に接続されて
いる。試料温度は均熱板に接着された熱電対20で測定
される。また、電気炉12の温度は炉体の内部に埋め込
まれた熱電対22で測定される。第2ヒータ電源19と
熱電対20、22は温度制御装置24に接続されてい
る。
FIG. 1 is a block diagram showing an example of a thermal analyzer for implementing a sample temperature control method according to the present invention. This thermal analyzer is an example of a differential scanning calorimeter, in which a cylindrical electric furnace 12 is disposed inside a cylindrical sample chamber 10. The internal space of the sample chamber 10 is partitioned by a cylindrical partition 14, and a low-temperature gas is introduced into an annular space 16 between the partition 14 and the inner wall surface of the sample chamber 10. The outer peripheral surface of the electric furnace 12 is in close contact with the inner wall surface at the center in the height direction of the partition wall 14. A sample container and a reference container are mounted on a heat equalizing plate fixed to the inner wall of the electric furnace 12. A second heater 18 is embedded in the electric furnace 12. The second heater 18 is connected to a second heater power supply 19. The sample temperature is measured with a thermocouple 20 adhered to a soaking plate. The temperature of the electric furnace 12 is measured by a thermocouple 22 embedded in the furnace body. The second heater power supply 19 and the thermocouples 20 and 22 are connected to a temperature control device 24.

【0019】液体窒素容器26の内部には液体窒素28
が収容されている。また、液体窒素容器26の内部には
第1ヒータ30が配置されている。この第1ヒータ30
に第1ヒータ電源32から電圧を印加すると、ヒータ3
0が加熱されて液体窒素28の気化が促進され、低温ガ
スの発生量が増加する。液体窒素容器26の上方には低
温ガス配管34が接続されていて、この低温ガス配管3
4は試料室10の環状空間16につながっている。低温
ガス配管34から試料室10の環状空間16に入った低
温ガスは、環状空間16を満たして隔壁14及び電気炉
12を冷却し、出口36から出て行く。
A liquid nitrogen container 28 contains liquid nitrogen 28.
Is housed. A first heater 30 is disposed inside the liquid nitrogen container 26. This first heater 30
When a voltage is applied from the first heater power supply 32 to the
0 is heated, the vaporization of the liquid nitrogen 28 is promoted, and the amount of low-temperature gas generated increases. Above the liquid nitrogen container 26, a low-temperature gas pipe 34 is connected.
4 is connected to the annular space 16 of the sample chamber 10. The low-temperature gas that has entered the annular space 16 of the sample chamber 10 from the low-temperature gas pipe 34 fills the annular space 16, cools the partition wall 14 and the electric furnace 12, and exits through the outlet 36.

【0020】図2は、本発明の試料温度制御方法におけ
る信号の流れの一例を示すブロック線図である。温度制
御装置24からは第1ヒータ電源と第2ヒータ電源に電
圧指令が出力される。また、この温度制御装置24に
は、図1の熱電対22で検出された電気炉温度Tfと、
図1の熱電対20で検出された試料温度Tsとが入力さ
れる。温度プログラム設定器には所望の温度プログラム
曲線を設定することができ、温度制御中には、この温度
プログラム設定器から各時点での目標温度(温度プログ
ラム曲線上の温度)が出力される。
FIG. 2 is a block diagram showing an example of a signal flow in the sample temperature control method of the present invention. A voltage command is output from the temperature control device 24 to the first heater power supply and the second heater power supply. The temperature control device 24 includes an electric furnace temperature Tf detected by the thermocouple 22 in FIG.
The sample temperature Ts detected by the thermocouple 20 in FIG. 1 is input. A desired temperature program curve can be set in the temperature program setter. During the temperature control, a target temperature (temperature on the temperature program curve) at each point in time is output from the temperature program setter.

【0021】まず、第2ヒータの制御系を説明する。比
較器38では、温度プログラム設定器から出力される目
標温度Trと電気炉温度Tfとの偏差ΔT=Tr−Tf
が算出される。この偏差ΔTが第2ヒータ用のPID制
御器40に入力される。このPID制御器40では、偏
差ΔTがゼロになる方向に第2ヒータ電源に電圧指令を
出力する。例えば、PID制御のうちの比例制御(P成
分)だけを例にして説明すれば、ΔTが正(電気炉温度
Tfが目標温度Trより低い)であれば、PID制御器
40からΔTに比例した電圧指令が第2ヒータ電源に出
力される。ΔTが大きいほど電圧指令も大きくなる。Δ
Tが負になると第2ヒータ電源に対する電圧指令はゼロ
になる。このようにして電気炉温度Tfが目標温度Tr
に追従するようにフィードバック制御される。
First, the control system of the second heater will be described. In the comparator 38, the deviation ΔT between the target temperature Tr output from the temperature program setter and the electric furnace temperature Tf is ΔT = Tr−Tf.
Is calculated. This deviation ΔT is input to the PID controller 40 for the second heater. The PID controller 40 outputs a voltage command to the second heater power supply in a direction in which the deviation ΔT becomes zero. For example, if only the proportional control (P component) of the PID control is described as an example, if ΔT is positive (the electric furnace temperature Tf is lower than the target temperature Tr), the PID controller 40 determines the proportionality to ΔT. A voltage command is output to the second heater power supply. The voltage command increases as ΔT increases. Δ
When T becomes negative, the voltage command for the second heater power supply becomes zero. In this manner, the electric furnace temperature Tf becomes the target temperature Tr.
Is feedback-controlled so as to follow.

【0022】次に、第1ヒータの制御系を説明する。予
測制御器では試料温度Tsに基づいて予測電圧指令Ea
が出力される。この予測電圧指令Eaについては後述す
る。一方、第1ヒータ用のPID制御器42には上述の
偏差ΔTが入力される。そして、偏差ΔTがゼロになる
方向に第1ヒータ電源に対して電圧指令Ebが出力され
る。例えば、PID制御のうちの比例成分だけを例にし
て説明すれば、このPID制御器42では、絶対値がΔ
Tに比例して「符号が反対の」電圧指令Ebが出力され
る。すなわち、ΔTが正のときは電圧指令Ebは負にな
り、ΔTが負のときは電圧指令Ebは正になる。すなわ
ち、Eb=−k・ΔT(ここで、kは正の比例係数)と
なる。そして、加算器44において、予測制御器からの
電圧指令Eaに対して第1ヒータ用のPID制御器42
からの電圧指令Ebが加算される。すなわち、予測制御
器で予測した予測電圧Eaを、偏差ΔTに基づいた電圧
指令Ebの分だけ増減している。このようにして得られ
た電圧指令Ec(=Ea+Eb)を遅れ要素に入力して
いる。この遅れ要素は1次遅れフィルタ(デジタルフィ
ルタ)を1段〜4段つなげたものであり、電圧指令Ec
を遅延させて出力している。この実施形態では1次遅れ
フィルタを4段接続して、遅延の時定数を3秒程度にし
ている。この遅れ要素の出力が最終的に第1ヒータの電
圧指令となる。
Next, the control system of the first heater will be described. In the prediction controller, a predicted voltage command Ea is calculated based on the sample temperature Ts.
Is output. The predicted voltage command Ea will be described later. On the other hand, the above-described deviation ΔT is input to the PID controller 42 for the first heater. Then, voltage command Eb is output to the first heater power supply in a direction in which deviation ΔT becomes zero. For example, if only the proportional component of the PID control is described, the absolute value of the PID controller 42 is Δ
A voltage command Eb of “opposite sign” is output in proportion to T. That is, when ΔT is positive, voltage command Eb is negative, and when ΔT is negative, voltage command Eb is positive. That is, Eb = −k · ΔT (where k is a positive proportional coefficient). Then, in the adder 44, the PID controller 42 for the first heater responds to the voltage command Ea from the prediction controller.
Is added. That is, the predicted voltage Ea predicted by the prediction controller is increased or decreased by the voltage command Eb based on the deviation ΔT. The voltage command Ec (= Ea + Eb) obtained in this way is input to the delay element. This delay element is a first-order delay filter (digital filter) connected in one to four stages, and a voltage command Ec
Is output with a delay. In this embodiment, the first-order lag filters are connected in four stages, and the time constant of the delay is set to about 3 seconds. The output of the delay element finally becomes the voltage command for the first heater.

【0023】第1ヒータ用のPID制御器42は、この
実施形態では、次のような比例制御を実施している。試
料の温度制御がスタートしてから最初の1分半までの間
(気化ガスの噴き出しがスタートするとき)は、上述の
比例係数k=1.5V/℃であり、それ以後は、k=
0.6V/℃である。
In the present embodiment, the first heater PID controller 42 performs the following proportional control. During the period from the start of the temperature control of the sample to the first minute and a half (when the ejection of the vaporized gas starts), the above proportional coefficient k = 1.5 V / ° C., and thereafter, k = 1.5 V / ° C.
0.6 V / ° C.

【0024】図2には二つのPID制御器40、42が
存在するが、これらのPID制御器において、比例成分
(P)、積分成分(I)、微分成分(D)のすべてが必
要という訳ではない。必要に応じて、これらの各成分の
ひとつ又は二つを採用して制御しても構わない。特に、
第1ヒータ用のPID制御器42では、第2ヒータ用の
PID制御器40ほど厳密な制御が要求されない(気化
ガスによる温度制御ではそもそも高精度なフィードバッ
ク制御ができない)ので、上述のようにPID制御器4
2では比例制御だけを実施するということでも構わな
い。
In FIG. 2, there are two PID controllers 40 and 42. These PID controllers require all of the proportional component (P), the integral component (I) and the derivative component (D). is not. If necessary, one or two of these components may be employed for control. In particular,
The PID controller 42 for the first heater does not require as strict control as the PID controller 40 for the second heater (high-precision feedback control cannot be performed in the first place with temperature control using vaporized gas). Controller 4
In the case of 2, only the proportional control may be performed.

【0025】次に、予測制御器の働きを説明する。図3
は定電圧冷却曲線のグラフであり、横軸は時間、縦軸は
試料温度(または電気炉温度でもよい)である。この定
電圧冷却曲線は、試料温度を200℃にしてから第1ヒ
ータに一定の電圧を供給して試料温度が低下していくと
きの時間変化を測定したものである。第2ヒータの電圧
はオフにしている。この実施形態では、5種類の電圧に
ついて定電圧冷却曲線を測定しており、各電圧はE1=
20V、E2=40V、E3=60V、E4=80V、
E5=100Vである。各電圧を第1ヒータに印加する
と、第1ヒータにそれぞれ1A、2A、3A、4A、5
Aの電流が流れて、第1ヒータに供給される各電力は、
20W、80W、180W、320W、500Wとな
る。
Next, the operation of the prediction controller will be described. FIG.
Is a graph of a constant voltage cooling curve, in which the horizontal axis represents time and the vertical axis represents sample temperature (or electric furnace temperature). The constant voltage cooling curve is obtained by measuring a time change when the sample temperature is lowered by supplying a constant voltage to the first heater after setting the sample temperature to 200 ° C. The voltage of the second heater is off. In this embodiment, constant voltage cooling curves are measured for five types of voltages, and each voltage is E1 =
20V, E2 = 40V, E3 = 60V, E4 = 80V,
E5 = 100V. When each voltage is applied to the first heater, 1A, 2A, 3A, 4A, 5A
When the current of A flows, each power supplied to the first heater is:
20W, 80W, 180W, 320W, 500W.

【0026】そして、各曲線において、傾きがαに達し
たときの温度(傾きαの線分に接している箇所の温度を
求めればよい。以下、中間到達温度という。)を求めて
いる。例えば、α=−2℃/分に設定すると、電圧E1
の曲線では中間到達温度T1=20℃となる。同じ傾き
αについて、ほかの電圧E2〜E5の定電圧冷却曲線に
ついても中間到達温度T2〜T5を求めると、T2=−
64℃、T3=−109℃、T4=−130℃、T5=
−145℃となる。これで、電圧E1〜E5のときの中
間到達温度T1〜T5が得られた。なお、定電圧冷却曲
線を測定するには、試料温度を200℃程度に高くして
から冷却しているが、200℃よりも高ければ、どの温
度から冷却しても、得られる中間到達温度にそれほど大
きな違いはない。
In each curve, the temperature at which the slope reaches α (the temperature at a point in contact with the line segment of the slope α may be obtained, hereinafter referred to as an intermediate attained temperature) is obtained. For example, if α = −2 ° C./min, the voltage E1
In the curve, the intermediate temperature T1 = 20 ° C. With respect to the same slope α, when the intermediate attainment temperatures T2 to T5 are obtained for the constant voltage cooling curves of the other voltages E2 to E5, T2 = −
64 ° C., T3 = −109 ° C., T4 = −130 ° C., T5 =
-145 ° C. As a result, the intermediate temperatures T1 to T5 at the voltages E1 to E5 were obtained. In order to measure the constant voltage cooling curve, the sample temperature was raised to about 200 ° C. and then cooled. There is not much difference.

【0027】図4は、図3の定電圧冷却曲線における電
圧と中間到達温度との対応関係を、横軸が温度、縦軸が
電圧の座標軸上にプロットしてこれをつなげたグラフで
ある。これを予測電圧曲線と呼ぶことにする。このグラ
フ上の黒丸は、上述の(E1、T1)〜(E5、T5)
の5点の組み合わせをプロットしたものである。そし
て、これらの点をなめらかな曲線でつないでいる。この
実施形態では、電圧Eが温度Tの3次関数になるような
近似曲線でつないでいる。すなわち、このグラフをE=
f(T)で表現すると、fの関数形は温度Tの3次式に
なる。5点を完全に通るようにするには厳密にはTの4
次式が必要であるが、それほどの厳密性を要求されない
ので、3次式程度の曲線近似でも充分である。もっと多
数の(E、T)の組み合わせを測定してプロットして
も、やはり3次式程度の曲線で近似するのが現実的であ
る。もちろん、予測電圧曲線を求めるのに、折れ線近似
(直線補間となる)を採用してもよいし、2次関数以上
の任意の多次関数を採用してもよい。
FIG. 4 is a graph obtained by plotting the correspondence between the voltage and the intermediate temperature in the constant voltage cooling curve of FIG. 3 on the coordinate axis of temperature on the horizontal axis and on the vertical axis on the coordinate axis of voltage. This is called a predicted voltage curve. The black circles on this graph are (E1, T1) to (E5, T5) described above.
5 are plotted. And these points are connected by a smooth curve. In this embodiment, the voltage E is connected by an approximate curve that becomes a cubic function of the temperature T. That is, this graph is expressed as E =
Expressed as f (T), the functional form of f is a cubic expression of temperature T. Strictly speaking, 4 of T is required to completely pass through 5 points.
Although the following equation is required, not so strictness is required, so that a curve approximation of a cubic equation is sufficient. Even if a larger number of combinations of (E, T) are measured and plotted, it is realistic to approximate with a curve of about the third order. Of course, a polygonal-line approximation (which is linear interpolation) may be used to obtain the predicted voltage curve, or an arbitrary multi-dimensional function of a quadratic function or more may be used.

【0028】この予測電圧曲線を作るところまでが予備
段階となる。実際の試料温度制御を行うには、このあら
かじめ作成しておいたこの予測電圧曲線を利用する。す
なわち、図2の予測制御器は上述の予測電圧曲線を記憶
しており、図4に示すようにそのときの試料温度Tsか
ら予測電圧Eaを求めることができる。この予測電圧E
aは、そのときの試料温度Tsを得るために必要な第1
ヒータ電圧よりも、少し大きめの電圧を表している。す
なわち、必要電圧よりも少し上乗せをした数値となって
いる。その上乗せの程度が、上述の図3で中間到達温度
を求める際の傾きαによって定まる。傾きαを大きめに
すれば上乗せの電圧は大きくなり、傾きαを小さめにす
れば上乗せの電圧は小さくなる。この実施形態ではαと
して−2℃/分を採用しているが、実用的には、−0.
1℃/分から−3℃/分程度の範囲内の数値のどれかを
採用すれば充分である。
Up to the point where this predicted voltage curve is formed is a preliminary stage. To perform actual sample temperature control, this predicted voltage curve created in advance is used. That is, the prediction controller of FIG. 2 stores the above-described predicted voltage curve, and can obtain the predicted voltage Ea from the sample temperature Ts at that time as shown in FIG. This predicted voltage E
a is the first necessary for obtaining the sample temperature Ts at that time.
The voltage is slightly higher than the heater voltage. That is, the value is a value slightly higher than the required voltage. The degree of addition is determined by the gradient α when the intermediate attainment temperature is obtained in FIG. Increasing the gradient α increases the additional voltage, and decreasing the gradient α decreases the additional voltage. In this embodiment, −2 ° C./min is adopted as α, but practically, −0.
It is sufficient to use any value within the range of about 1 ° C./min to about −3 ° C./min.

【0029】次に、具体的な数値例を挙げて図2のブロ
ック線図の働きを説明する。図2において、ある時刻
(温度制御がスタートしてから1分半以上経過したある
時点)において、温度プログラム曲線上の目標温度Tr
が−120℃であり、電気炉温度Tfと試料温度Tsが
共に−109℃であったと仮定する。予測制御器では、
試料温度Ts=−109℃を図4の予測電圧曲線にあて
はめて第1ヒータの電圧Ea=60Vが得られる。一
方、第1ヒータ用のPID制御器42では、偏差ΔT=
Tr−Ts=−11℃に基づいて、Eb=−k・ΔT=
−0.6×(−11)=6.6Vが得られる。したがっ
て、図2においてEc=Ea+Eb=66.6Vが得ら
れる。この電圧が遅れ要素を経由して第1ヒータ電源に
印加される。第2ヒータ電源用のPID制御器40で
は、偏差ΔT=Tr−Ts=−11℃がマイナスなの
で、第2ヒータ電源に対する電圧指令はゼロである。
Next, the operation of the block diagram of FIG. 2 will be described with reference to specific numerical examples. In FIG. 2, at a certain time (one and a half minutes after the start of the temperature control, a certain time), the target temperature Tr on the temperature program curve is changed.
Is −120 ° C., and both the electric furnace temperature Tf and the sample temperature Ts are −109 ° C. In the predictive controller,
By applying the sample temperature Ts = −109 ° C. to the predicted voltage curve in FIG. 4, a voltage Ea = 60 V of the first heater is obtained. On the other hand, in the PID controller 42 for the first heater, the deviation ΔT =
Based on Tr−Ts = −11 ° C., Eb = −k · ΔT =
−0.6 × (−11) = 6.6 V is obtained. Therefore, in FIG. 2, Ec = Ea + Eb = 66.6V is obtained. This voltage is applied to the first heater power supply via the delay element. In the PID controller 40 for the second heater power supply, since the deviation ΔT = Tr−Ts = −11 ° C. is minus, the voltage command for the second heater power supply is zero.

【0030】図5は本発明の第2実施形態のブロック線
図である。図5が図2と違うところは、予測制御器に試
料温度の代わりに電気炉温度を入力している点である。
図6は本発明の第3実施形態のブロック線図である。図
6が図2と違うところは、予測制御器に試料温度の代わ
りに目標温度を入力している点である。図7は本発明の
第4実施形態のブロック線図である。図7が図2と違う
ところは、第1ヒータ用のPID制御器42に、目標温
度Trと試料温度Tsとの偏差を入力している点であ
る。
FIG. 5 is a block diagram of a second embodiment of the present invention. FIG. 5 differs from FIG. 2 in that the electric furnace temperature is input to the predictive controller instead of the sample temperature.
FIG. 6 is a block diagram of a third embodiment of the present invention. FIG. 6 differs from FIG. 2 in that a target temperature is input to the predictive controller instead of the sample temperature. FIG. 7 is a block diagram of a fourth embodiment of the present invention. FIG. 7 differs from FIG. 2 in that the deviation between the target temperature Tr and the sample temperature Ts is input to the PID controller 42 for the first heater.

【0031】本発明は上述の実施形態に限定されず、次
のような変更が可能である。(1)図1では示差走査熱
量計の例を示したが、本発明はこれ以外の熱分析装置に
おける試料温度制御方法にも適用できるし、熱分析以外
の試料の温度制御にも適用できる。(2)液化冷媒とし
ては液体窒素が最適であるが、これ以外の液化冷媒を用
いても構わない。
The present invention is not limited to the above embodiment, and the following modifications are possible. (1) Although FIG. 1 shows an example of a differential scanning calorimeter, the present invention can be applied to a sample temperature control method in a thermal analyzer other than the above, and can also be applied to temperature control of a sample other than thermal analysis. (2) Liquid nitrogen is optimal as the liquefied refrigerant, but other liquefied refrigerants may be used.

【0032】[0032]

【発明の効果】本発明の試料温度制御方法は、第1ヒー
タ(液化冷媒加熱ヒータ)に印加する電圧を、先行予測
制御とフィードバック制御を併用して求めているので、
高精度の温度制御が可能になる。これにより、定速昇温
や定速降温の制御はもちろんのこと、等温保持制御にお
いても安定した制御を実現できる。
According to the sample temperature control method of the present invention, the voltage to be applied to the first heater (the liquefied refrigerant heater) is obtained by using both the advance prediction control and the feedback control.
Highly accurate temperature control becomes possible. As a result, stable control can be realized not only in constant-speed temperature rise and constant-speed temperature decrease control but also in isothermal holding control.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の試料温度制御方法を実施する熱分析装
置の一例の構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram of an example of a thermal analyzer that implements a sample temperature control method of the present invention.

【図2】本発明の試料温度制御方法における信号の流れ
の一例を示すブロック線図である。
FIG. 2 is a block diagram showing an example of a signal flow in the sample temperature control method of the present invention.

【図3】図3は定電圧冷却曲線のグラフである。FIG. 3 is a graph of a constant voltage cooling curve.

【図4】定電圧冷却曲線における電圧と中間到達温度と
の対応関係をプロットした予測電圧曲線のグラフであ
る。
FIG. 4 is a graph of a predicted voltage curve in which a correspondence between a voltage and an intermediate attained temperature in a constant voltage cooling curve is plotted.

【図5】本発明の第2実施形態のブロック線図である。FIG. 5 is a block diagram of a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第3実施形態のブロック線図である。FIG. 6 is a block diagram of a third embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第4実施形態のブロック線図である。FIG. 7 is a block diagram of a fourth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 試料室 12 電気炉 18 第2ヒータ 19 第2ヒータ電源 20 試料温度の熱電対 22 電気炉温度の熱電対 24 温度制御装置 26 液体窒素容器 28 液体窒素 30 第1ヒータ 32 第1ヒータ電源 38 比較器 44 加算器 REFERENCE SIGNS LIST 10 sample chamber 12 electric furnace 18 second heater 19 second heater power supply 20 sample temperature thermocouple 22 electric furnace temperature thermocouple 24 temperature control device 26 liquid nitrogen container 28 liquid nitrogen 30 first heater 32 first heater power supply 38 comparison Container 44 Adder

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 金谷 貴 東京都昭島市松原町3丁目9番12号 理学 電機株式会社内 Fターム(参考) 2G040 AB12 CA02 CB03 CB14 DA14 EA02 EA08 EB02 EC01 EC09 HA06  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Takashi Kanaya 3-9-1, Matsubara-cho, Akishima-shi, Tokyo F-term in Rigaku Electric Co., Ltd. (reference) 2G040 AB12 CA02 CB03 CB14 DA14 EA02 EA08 EB02 EC01 EC09 HA06

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液化冷媒を第1ヒータで加熱気化させて
低温ガスを発生させ、この低温ガスを試料室に導入する
と共に、試料室の電気炉に設けた第2ヒータを加熱する
ことで試料室の温度をフィードバック制御する試料温度
制御方法において、次の(イ)〜(ニ)の予備段階を経
てから、(ホ)〜(ト)の制御段階を同時に実施するこ
とを特徴とする試料温度制御方法。 (イ)前記第2ヒータを加熱することなく、前記第1ヒ
ータに一定の電圧を印加して前記低温ガスを試料室に導
入し、そのときの経過時間と試料室の温度との関係を示
す曲線(以下、定電圧冷却曲線という。)を測定する段
階。 (ロ)前記一定の電圧の値を変更して、複数の前記定電
圧冷却曲線を得る段階。 (ハ)複数の前記定電圧冷却曲線のそれぞれについて、
その傾きが所定の設定値に達した時点での試料室の温度
(以下、中間到達温度という。)を測定する段階。 (ニ)複数の前記定電圧冷却曲線について電圧と前記中
間到達温度との組み合わせを求めて、これらの組み合わ
せに基づいて電圧と温度との対応関係を求める段階。 (ホ)各時刻での試料室の温度を前記対応関係にあては
めて前記第1ヒータの電圧(以下、予測電圧という。)
を求める段階。 (ヘ)各時刻での試料室の温度と各時刻での目標温度と
の偏差に基づいて前記予測電圧を増減する段階。 (ト)各時刻での試料室の温度と各時刻での目標温度と
の偏差に基づいて前記第2ヒータの電圧を制御する段
階。
A liquefied refrigerant is heated and vaporized by a first heater to generate a low-temperature gas. The low-temperature gas is introduced into a sample chamber, and a second heater provided in an electric furnace of the sample chamber is heated to heat the sample. In the sample temperature control method for feedback-controlling the temperature of the chamber, the sample temperature is characterized by simultaneously performing the control steps (e) to (g) after the following preliminary steps (a) to (d). Control method. (A) A constant voltage is applied to the first heater without heating the second heater to introduce the low-temperature gas into the sample chamber, and shows the relationship between the elapsed time at that time and the temperature of the sample chamber. Measuring a curve (hereinafter referred to as a constant voltage cooling curve). (B) changing the value of the constant voltage to obtain a plurality of the constant voltage cooling curves. (C) For each of the plurality of constant voltage cooling curves,
A step of measuring the temperature of the sample chamber when the inclination reaches a predetermined set value (hereinafter, referred to as an intermediate temperature). (D) determining a combination of a voltage and the intermediate attainment temperature for a plurality of the constant voltage cooling curves, and determining a correspondence between the voltage and the temperature based on the combination; (E) The temperature of the sample chamber at each time is applied to the corresponding relationship to the voltage of the first heater (hereinafter, referred to as a predicted voltage).
Seeking stage. (F) increasing or decreasing the predicted voltage based on a deviation between the temperature of the sample chamber at each time and the target temperature at each time. (G) controlling the voltage of the second heater based on the deviation between the temperature of the sample chamber at each time and the target temperature at each time.
【請求項2】 請求項1に記載の方法において、前記
(ホ)の段階における前記試料室の温度として試料温度
を用い、前記(ヘ)と(ト)の段階における前記試料室
の温度として電気炉温度を用いることを特徴とする方
法。
2. The method according to claim 1, wherein a sample temperature is used as the temperature of the sample chamber in the step (e), and an electric temperature is used as the temperature of the sample chamber in the steps (f) and (g). A method comprising using furnace temperature.
【請求項3】 請求項1に記載の方法において、前記
(ホ)と(ヘ)の段階における前記試料室の温度として
試料温度を用い、前記(ト)の段階における前記試料室
の温度として電気炉温度を用いることを特徴とする方
法。
3. The method according to claim 1, wherein a sample temperature is used as the temperature of the sample chamber in the steps (e) and (f), and an electric temperature is used as the temperature of the sample chamber in the step (g). A method comprising using furnace temperature.
【請求項4】 請求項1〜3までのいずれか1項に記載
の方法において、前記(ヘ)の段階で求めた電圧を遅れ
要素を経由して前記第1ヒータに供給することを特徴と
する方法。
4. The method according to claim 1, wherein the voltage determined in the step (f) is supplied to the first heater via a delay element. how to.
【請求項5】 請求項1〜4までのいずれか1項に記載
の方法において、前記(ハ)の段階における前記傾きの
設定値を毎分マイナス0.1℃〜毎分マイナス3℃の範
囲内の数値とすることを特徴とする方法。
5. The method according to claim 1, wherein the set value of the inclination in the step (c) is in a range of −0.1 ° C./min to −3 ° C./min. The method characterized by making it the numerical value in.
【請求項6】 請求項1に記載の方法において、前記
(ホ)の段階における前記「各時刻での試料室の温度」
の代わりに「各時刻での目標温度」を用いることをこと
を特徴とする方法。
6. The method according to claim 1, wherein the “temperature of the sample chamber at each time” in the step (e).
Using a "target temperature at each time" instead of the target temperature.
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