JP2000143731A - Propylene-based random copolymer and film made therefrom - Google Patents

Propylene-based random copolymer and film made therefrom

Info

Publication number
JP2000143731A
JP2000143731A JP12913899A JP12913899A JP2000143731A JP 2000143731 A JP2000143731 A JP 2000143731A JP 12913899 A JP12913899 A JP 12913899A JP 12913899 A JP12913899 A JP 12913899A JP 2000143731 A JP2000143731 A JP 2000143731A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
propylene
group
random copolymer
weight
temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12913899A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasushi Seta
寧 瀬田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Idemitsu Petrochemical Co Ltd filed Critical Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Priority to JP12913899A priority Critical patent/JP2000143731A/en
Priority to PCT/JP1999/004657 priority patent/WO2000012573A1/en
Priority to DE1999181907 priority patent/DE19981907T1/en
Priority to US09/529,418 priority patent/US6287705B1/en
Publication of JP2000143731A publication Critical patent/JP2000143731A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the subject copolymer capable of giving films with excellent heat sealability, slipperiness and anti-blocking tendency and enabling high-speed film formation process. SOLUTION: This copolymer is an ethylene-propylene random copolymer satisfying the requirements described below: (1) ethylene unit content (α) determined by 13C-NMR is 0.2-10 wt.%, (2) the elution amount (Wp) between (Tp-5) deg.C and (Tp+5) deg.C is >=20 wt.% (Tp( deg.C) is the principal elution peak temperature in the ascending temperature partition chromatograph), and (3) the elution amount at <=0 deg.C (W0, wt.%) in the ascending temperature chromatograph and α satisfy the relationship: W0<=[(3+2α)/4].

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プロピレン系ラン
ダム共重合体及びそれからなるフィルムに関するもので
ある。さらに詳しくは、プロピレンとエチレンとのプロ
ピレン系二元ランダム共重合体、及びそれを成形したフ
ィルムに関するものである。このフィルムは、ラミネー
トや共押出した積層フィルムの少なくとも一層の構成成
分として好適に用いられる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a propylene random copolymer and a film comprising the same. More specifically, the present invention relates to a propylene-based binary random copolymer of propylene and ethylene, and a film formed from the same. This film is suitably used as a component of at least one layer of a laminated or coextruded laminated film.

【0002】[0002]

【従来の技術】結晶性プロピレン系重合体のフィルム
は、その優れた剛性、透明性、及び防湿性等を活かして
広く包装用フィルムとして使用されている。包装用フィ
ルムは、しばしば袋状に加工して使用されているが、フ
ィルムを袋状に加工し内容物を充填した後に袋口を閉じ
る一連の操作は、通常加熱した棒により圧締してフィル
ムどうしを溶融接着するヒートシールと呼ばれる操作に
より行われている。近年、これら一連の製袋、包装工程
は生産性向上のため大型製膜機による高速製膜化が図ら
れており、ヒートシール性に優れた素材の開発が強く要
望されている。また、これら二次加工工程を円滑に行う
ため包装用フィルムには、スリップ性、アンチブロッキ
ング性が優れていることが必須の特性として要求されて
いる。
2. Description of the Related Art Crystalline propylene-based polymer films are widely used as packaging films, taking advantage of their excellent rigidity, transparency and moisture-proof properties. Packaging films are often used in the form of a bag, but the process of closing the bag mouth after processing the film into a bag and filling the contents is usually performed by pressing the film with a heated rod. It is performed by an operation called heat sealing for melting and bonding together. In recent years, in a series of bag making and packaging processes, high-speed film forming has been attempted by a large film forming machine in order to improve productivity, and development of a material having excellent heat sealability has been strongly demanded. In addition, in order to perform these secondary processing steps smoothly, it is required that the packaging film has excellent slipping properties and antiblocking properties as essential properties.

【0003】しかし、プロピレン単独重合体のフィルム
は、ヒートシールするには高い温度で、かつ長い時間の
圧締が必要であるという欠点を有する。そこで、この欠
点を改良する目的でエチレンや1―ブテン、及びその他
のα―オレフィンとプロピレンとの共重合が広く行われ
てきた。しかしながら、チーグラーナッタ触媒を用いて
プロピレン系重合体を製造するる従来技術においては、
充分なヒートシール性改良効果を得るために多量のエチ
レンや1―ブテン、及びその他のα―オレフィン等のコ
モノマーを共重合する必要があった。また、これらのコ
モノマーはしばしば低分子量成分に集中して含まれてお
り、結晶性に乏しいべとつきの原因成分(以下べとつき
成分と呼ぶ)になっていた。そのため、ポリプロピレン
フィルム本来の特徴である剛性が大きく低下したり、フ
ィルムどうしがブロッキングして二次加工に支障をきた
したり、ブリード白化による外観不良を起こしたりして
実用に耐えるものとはならなかった。
[0003] However, the propylene homopolymer film has a disadvantage that heat sealing requires high-temperature and long-time pressing. Therefore, copolymerization of ethylene, 1-butene, and other α-olefins with propylene has been widely performed for the purpose of remedying this drawback. However, in the prior art for producing a propylene-based polymer using a Ziegler-Natta catalyst,
In order to obtain a sufficient heat sealing property improving effect, it was necessary to copolymerize a large amount of comonomers such as ethylene, 1-butene, and other α-olefins. Also, these comonomers are often concentrated in low molecular weight components, and have become tacky components with poor crystallinity (hereinafter referred to as tacky components). Therefore, the rigidity, which is the original characteristic of the polypropylene film, is greatly reduced, the films are blocked from each other, hindering the secondary processing, or the appearance is poor due to whitening of the bleeding, and it has not become practically usable. .

【0004】この欠点を改良するため従来技術において
は、べとつき成分を不活性溶剤中に溶解し、除去する試
みが行われてきた。しかしながら、べとつき成分を効率
的に洗い落とし、かつヒートシール性に寄与する低温融
解成分が洗浄により減少するのを抑制することは非常に
困難であり、工業的に満足のいくものではなかった。一
方、近年いわゆるメタロセン系触媒によるプロピレン系
重合体の適用が盛んに検討されている。メタロセン系触
媒による重合体は分子量分布や組成分布が極めて狭いこ
とが特徴である。ところが、成形安定性を保持したり、
成形体に幾つもの相反する物性を持たせたりするために
は分子量分布や組成分布を逆に広げた方が良いことが指
摘されており、メタロセン系触媒によるプロピレン系重
合体の組成物がいろいろと提案されている。しかしなが
ら、工業的に満足のいく方法によって用途、成形法に合
わせた樹脂特性の重合体を自由に得ることは未だに出来
ていない状況である。
In order to remedy this drawback, in the prior art, attempts have been made to dissolve and remove sticky components in an inert solvent. However, it is very difficult to efficiently wash away the sticky components and to prevent the low-temperature melting components that contribute to the heat sealing property from being reduced by washing, and this has not been industrially satisfactory. On the other hand, in recent years, the application of a propylene polymer using a so-called metallocene catalyst has been actively studied. Polymers based on metallocene catalysts are characterized by a very narrow molecular weight distribution and composition distribution. However, maintaining the molding stability,
It has been pointed out that it is better to broaden the molecular weight distribution and composition distribution in order to impart several contradictory physical properties to the molded body, and various compositions of propylene-based polymers with metallocene catalysts have been pointed out. Proposed. However, it has not yet been possible to obtain a polymer having resin characteristics suitable for the application and the molding method by an industrially satisfactory method.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記観点か
らなされたもので、ポリプロピレンのフィルムが本来有
する剛性、透明性及び防湿性等の好ましい特性を損なう
ことなく、優れたヒートシール性を発現し、かつ高速製
袋に必要なスリップ性及びアンチブロッキング性を兼ね
備えたフィルムを得ることができ、また製膜速度を高速
化してもフィルム品質の低下が極めて小さいプロピレン
系ランダム共重合体及びそれからなるフィルムを提供す
ることを目的とするものである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above point of view, and exhibits excellent heat sealing properties without impairing desirable properties such as rigidity, transparency and moisture resistance inherent in a polypropylene film. And a propylene-based random copolymer having a very small decrease in film quality even when the film-forming speed is increased, and a film having both the slip property and the anti-blocking property required for high-speed bag-making, and It is intended to provide a film.

【0006】[0006]

【課題を解決しようとする手段】本出願人は、チーグラ
ーナッタ触媒に関し、重合活性の経時的な低下が小さ
く、高活性、高立体規則性を発現するオレフィン重合体
製造用触媒成分、オレフィン重合体製造用触媒及びオレ
フィン重合体の製造方法を見出した(特願平10−71
752号)。
The applicant of the present invention relates to a Ziegler-Natta catalyst, which is a catalyst component for producing an olefin polymer which exhibits a small decrease in polymerization activity with time, exhibits high activity and high stereoregularity, and an olefin polymer. A catalyst for production and a method for producing an olefin polymer have been found (Japanese Patent Application No. 10-71).
No. 752).

【0007】そこで本発明者は、前記の触媒成分を用い
て製造して得たプロピレン系重合体のフィルム物性を鋭
意検討した結果、上記の発明目的を非常に高いレベルで
満足するプロピレン系ランダム共重合体が得られること
を見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発
明は以下のプロピレン系ランダム共重合体及びそれから
なるフィルムを提供するものである。 1. プロピレンとエチレンのランダム共重合体であっ
て、下記の〜を満たすプロピレン系ランダム共重合
体。13 C- NMRにより測定した共重合体中のエチレン単
位の含有量(α(重量%))が0.2〜10重量%であ
る。 昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク温度をTp
(℃)としたとき、(Tp−5)℃〜(Tp+5)℃の
温度範囲において溶出する量(Wp(重量%))が20
重量%以上である。 昇温分別クロマトグラフの0℃以下の温度範囲におい
て溶出する量(W0 (重量%))とαが下記(1)式の
関係を満たす。 W0 ≦(3+2α)/4・・・(1) 2. 示差走査型熱量計(DSC)により測定した共重
合体の融点(Tm(℃))とαが下記式(2)の関係を
満たす上記1に記載のプロピレン系ランダム共重合体。 Tm≦160―5α・・・(2) 3. 昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク温度をT
p(℃)としたとき、(Tp+5)℃以上の温度範囲に
おいて溶出する量(WH (重量%))とαが下記式
(3)の関係を満たす上記1または2に記載のプロピレ
ン系ランダム共重合体。 0.1≦WH ≦3α・・・(3) 4. 共重合体中の沸騰ジエチルエーテル抽出成分量
(E(重量%))が2.5重量%以下であり、かつEと
αが下記式(4)の関係を満たす上記1〜3のいずれか
に記載のプロピレン系ランダム共重合体。 E≦(2α+15)/10・・・(4) 5. メルトインデックス(MI(g/10min))
が0.1〜200g/10minである上記1〜4のい
ずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体。 6. 13C- NMRにより測定した共重合体中の立体規
則性指標(P(モル%))が98モル%以上である上記
1〜5のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合
体。 7. αが3〜7重量%である上記1〜6のいずれかに
記載のプロピレン系ランダム共重合体。 8. 上記1〜7のいずれかに記載のプロピレン系ラン
ダム共重合体からなるフィルム。
The inventors of the present invention have conducted intensive studies on the film properties of a propylene-based polymer produced using the above-mentioned catalyst component. As a result, the propylene-based random copolymer which satisfies the above-mentioned object of the invention at a very high level has been obtained. The inventors have found that a polymer can be obtained, and have completed the present invention. That is, the present invention provides the following propylene-based random copolymer and a film comprising the same. 1. A random copolymer of propylene and ethylene, which satisfies the following criteria: The ethylene unit content (α (% by weight)) in the copolymer measured by 13 C-NMR is 0.2 to 10% by weight. Tp is the main elution peak temperature of the fractionated chromatograph
(C), the amount (Wp (% by weight)) eluted in the temperature range of (Tp-5) C to (Tp + 5) C is 20.
% By weight or more. The amount (W0 (% by weight)) eluted in the temperature range of 0 ° C. or lower in the temperature rising fractionation chromatograph and α satisfy the relationship of the following formula (1). W0 ≦ (3 + 2α) / 4 (1) 2. The propylene-based random copolymer according to 1 above, wherein the melting point (Tm (° C.)) of the copolymer measured by a differential scanning calorimeter (DSC) and α satisfy the relationship of the following formula (2). Tm ≦ 160−5α (2) The main elution peak temperature of the fractionated chromatograph
Assuming that p (° C.), the amount (WH (% by weight)) eluted in a temperature range of (Tp + 5) ° C. or more and α satisfy the relationship of the following formula (3). Polymer. 0.1 ≦ WH ≦ 3α (3) The amount of the boiling diethyl ether extractable component (E (% by weight)) in the copolymer is 2.5% by weight or less, and E and α satisfy any one of the above-mentioned formulas (1) to (3). The propylene-based random copolymer according to the above. E ≦ (2α + 15) / 10 (4) Melt index (MI (g / 10min))
The propylene-based random copolymer according to any one of the above items 1 to 4, wherein is 0.1 to 200 g / 10 min. 6. The propylene random copolymer according to any one of the above 1 to 5, wherein the stereoregularity index (P (mol%)) in the copolymer measured by 13 C-NMR is 98 mol% or more. 7. 7. The propylene random copolymer according to any one of the above 1 to 6, wherein α is 3 to 7% by weight. 8. A film comprising the propylene random copolymer according to any one of the above 1 to 7.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下に、本発明について詳細に説
明する。 1.プロピレン系ランダム共重合体 本発明のプロピレン系ランダム共重合体は、プロピレン
とエチレンのランダム共重合体であって、下記の〜
を満たす。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. 1. Propylene random copolymer The propylene random copolymer of the present invention is a random copolymer of propylene and ethylene,
Meet.

【0009】13C- NMRにより測定した共重合体中
のエチレン単位の含有量(α(重量%))が0.2〜1
0重量%である。好ましくは0.5〜9重量%、より好
ましくは1〜8重量%、最も好ましくは3〜7重量%で
ある。エチレン単位の含有量が0.2重量%未満では、
ヒートシール性の改良効果が望めない。また10重量%
を超えるとフィルムの剛性が満足できないものになり好
ましくない。
The content of ethylene units (α (% by weight)) in the copolymer measured by 13 C-NMR is from 0.2 to 1
0% by weight. Preferably it is 0.5 to 9% by weight, more preferably 1 to 8% by weight, most preferably 3 to 7% by weight. If the ethylene unit content is less than 0.2% by weight,
The effect of improving heat sealability cannot be expected. 10% by weight
If it exceeds, the rigidity of the film becomes unsatisfactory, which is not preferable.

【0010】また、本発明のプロピレン系ランダム共重
合体は、示差走査型熱量計(DSC)により測定した共
重合体の融点(Tm(℃))とαが下記式(2)の関係
を満たしていることが好ましく、 Tm≦160―5α・・・(2) より好ましくは、 Tm≦160―6α・・・(5) を満たしている場合である。
In the propylene random copolymer of the present invention, the melting point (Tm (° C.)) of the copolymer measured by a differential scanning calorimeter (DSC) and α satisfy the relationship of the following formula (2). Tm ≦ 160−5α (2) More preferably, Tm ≦ 160−6α (5) is satisfied.

【0011】この関係を満たしていない場合は、ヒート
シール性が不充分になり易く、またアンチブロッキング
性の低いものになる場合がある。 昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク温度をTp
(℃)としたとき、(Tp−5)℃〜(Tp+5)℃の
温度範囲において溶出する量(Wp(重量%))が20
重量%以上である。好ましくは、 20≦Wp、かつ(80−15α)≦Wp・・・(6) であり、より好ましくは、 30≦Wp、かつ(90−12α)≦Wp・・・(7) である。
When this relationship is not satisfied, the heat sealing property tends to be insufficient and the anti-blocking property may be low. Tp is the main elution peak temperature of the fractionated chromatograph
(C), the amount (Wp (% by weight)) eluted in the temperature range of (Tp-5) C to (Tp + 5) C is 20.
% By weight or more. Preferably, 20 ≦ Wp and (80−15α) ≦ Wp (6), and more preferably, 30 ≦ Wp and (90−12α) ≦ Wp (7).

【0012】Wpが20重量%未満の場合は、主溶出ピ
ークの裾が高温側及び/又は低温側に大きく伸びている
場合であり、低温側の成分は製膜したフィルムをべとつ
いたものにするので好ましくなく、高温側の成分はヒー
トシール性を不充分にし、透明性の成形条件依存性を大
きくするので好ましくない。また、本発明のプロピレン
系ランダム共重合体は、主溶出ピークの高温側の成分
が、チルロールリリースなどの成形性や剛性に寄与して
いるため全く無いよりもある程度の量が存在していた方
が好ましく、本発明のプロピレン系ランダム共重合体は
(Tp+5)℃以上の温度範囲において溶出する量(W
H (重量%))とαが下記式(3)の関係を満たしてい
ることが好ましい。 0.1≦WH ≦3α・・・(3) さらに好ましくは、 WH ≦(3α−3)、かつ(3α−15)≦WH ・・・(8) を満たしている場合である。
[0012] When Wp is less than 20% by weight, the bottom of the main elution peak is greatly extended to the high temperature side and / or the low temperature side, and the component on the low temperature side is obtained by sticking the formed film. The components on the high-temperature side are not preferred because they cause insufficient heat sealing properties and increase the dependence of transparency on molding conditions. In addition, the propylene random copolymer of the present invention had a certain amount of the component on the high-temperature side of the main elution peak, which did not exist at all because it contributed to moldability and rigidity such as chill roll release. More preferably, the propylene random copolymer of the present invention elutes in a temperature range of (Tp + 5) ° C. or higher (W
H (% by weight) and α preferably satisfy the relationship of the following expression (3). 0.1 ≦ WH ≦ 3α (3) More preferably, WH ≦ (3α−3) and (3α−15) ≦ WH (8) are satisfied.

【0013】昇温分別クロマトグラフの0℃以下の温
度範囲において溶出する量(W0 (重量%))とαが下
記式(1)の関係を満たす。 W0 ≦(3+2α)/4・・・(1) 好ましくは、 W0 ≦(2+2α)/4・・・(9) を満たす。
The amount eluted (W0 (% by weight)) in the temperature range of 0 ° C. or lower in the temperature-raising fractionation chromatograph and α satisfy the following formula (1). W0 ≦ (3 + 2α) / 4 (1) Preferably, W0 ≦ (2 + 2α) / 4 (9) is satisfied.

【0014】W0 が(1)の関係を満たさない場合、製
膜したフィルムがべとついたものなり、添加剤、低分子
量成分などのブリードによるトラブルが起こり易くなり
好ましくない。また、本発明のプロピレン系ランダム共
重合体は、共重合体中の沸騰ジエチルエーテル抽出成分
量(E(重量%) )が2.5重量%以下であり、かつE
とαが下記式(4)の関係を満たしていることが好まし
い。 E≦(2α+15)/10・・・(4) さらに好ましくは、 E≦(α+5)/5・・・(10) を満たしている場合である。この場合、製膜したフィル
ムがべとついたものにならずに好ましい。
When W0 does not satisfy the relationship (1), the formed film becomes sticky, and troubles due to bleeding of additives, low molecular weight components and the like are likely to occur, which is not preferable. The propylene random copolymer of the present invention has a boiling diethyl ether extractable component amount (E (% by weight)) in the copolymer of 2.5% by weight or less, and
And α preferably satisfy the relationship of the following equation (4). E ≦ (2α + 15) / 10 (4) More preferably, E ≦ (α + 5) / 5 (10) is satisfied. In this case, it is preferable that the formed film does not become sticky.

【0015】また、本発明のプロピレン系ランダム共重
合体は、メルトインデックス(MI(g/10mi
n))が0.1〜200g/10minであることが好
ましい。より好ましくは1〜40g/10minであ
り、さらに好ましくは2〜20g/10minである。
メルトインデックスがこの範囲から外れると成形性に劣
るものになることがある。
The propylene random copolymer of the present invention has a melt index (MI (g / 10 mi)
n)) is preferably from 0.1 to 200 g / 10 min. It is more preferably 1 to 40 g / 10 min, and still more preferably 2 to 20 g / 10 min.
If the melt index is out of this range, the moldability may be poor.

【0016】また、本発明のプロピレン系ランダム共重
合体は、13C−NMRにより測定した共重合体中の立体
規則性指標(P(モル%))が98モル%以上であるこ
とが好ましい。より好ましくは98.5モル%以上であ
る。立体規則性指標Pが98モル%未満であると製膜し
たフィルムの剛性、アンチブロッキング性が不充分にな
る場合がある。なお、前記α,Tm,Wp,WH ,W0
,E,MI及びPは実施例において述べる測定方法に
より求めることができる。 2.プロピレン系ランダム共重合体の製造方法 本発明のプロピレン系ランダム共重合体は(A)マグネ
シウム化合物とチタン化合物とを電子供与性化合物およ
び必要に応じてケイ素化合物の存在下、120℃以上1
50℃以下の温度にて接触させた後、100℃以上15
0℃以下の温度にて不活性溶媒により洗浄したものから
なる固体触媒成分、(B)有機アルミニウム化合物およ
び必要に応じて(C)第3成分として電子供与性化合物
からなる触媒を用いてプロピレンとエチレンを共重合す
ることにより製造することができる。
The propylene random copolymer of the present invention preferably has a stereoregularity index (P (mol%)) of 98 mol% or more in the copolymer measured by 13 C-NMR. More preferably, it is 98.5 mol% or more. If the stereoregularity index P is less than 98 mol%, the rigidity and antiblocking properties of the formed film may be insufficient. The above α, Tm, Wp, WH, W0
, E, MI and P can be determined by the measuring method described in the embodiment. 2. Method for producing propylene-based random copolymer The propylene-based random copolymer of the present invention is prepared by subjecting (A) a magnesium compound and a titanium compound to 120 ° C. or higher in the presence of an electron-donating compound and optionally a silicon compound.
After contact at a temperature of 50 ° C or less, 100 ° C or more
Propylene by using a solid catalyst component consisting of one washed with an inert solvent at a temperature of 0 ° C. or lower, (B) an organoaluminum compound and, if necessary, (C) a catalyst consisting of an electron-donating compound as a third component. It can be produced by copolymerizing ethylene.

【0017】以下に、各触媒成分、調製方法、重合方法
等について説明する。 〔I〕各触媒成分 (A) 固体触媒成分 固体触媒成分は、マグネシウム、チタンおよび電子供与
体を含有するものであり、以下の(a)マグネシウム化
合物、(b)チタン化合物、(c)電子供性化合物およ
び必要に応じてケイ素化合物(d)からなる固体触媒成
分から形成されるものである。 (a)マグネシウム化合物 マグネシウム化合物としては、特に制限はないが、一般
式(I) MgR1 2 ・・・(I) で表されるマグネシウム化合物を好ましく用いることが
できる。
Hereinafter, each catalyst component, a preparation method, a polymerization method, and the like will be described. [I] Each catalyst component (A) Solid catalyst component The solid catalyst component contains magnesium, titanium and an electron donor. The following (a) magnesium compound, (b) titanium compound, and (c) And a solid catalyst component comprising a silicon compound (d) if necessary. (A) Magnesium Compound The magnesium compound is not particularly limited, but a magnesium compound represented by the general formula (I) MgR 1 R 2 ... (I) can be preferably used.

【0018】上記の一般式(I)において、R1 および
2 は、炭化水素基、OR3 基(R 3 は炭化水素基)ま
たはハロゲン原子を示す。ここで、R1 およびR2 の炭
化水素基としては、炭素数1〜12個のアルキル基、シ
クロアルキル基、アリール基、アラルキル基等を、OR
3 基としては、R3 が炭素数1〜12個のアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基等を、ハ
ロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素等を
挙げることができる。また、R1 およびR2 は、同一で
も異なってもよい。
In the above general formula (I), R1and
RTwoIs a hydrocarbon group, ORThreeGroup (R ThreeIs a hydrocarbon group)
Or a halogen atom. Where R1And RTwoCharcoal
Examples of the hydride group include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms,
A cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, etc.
ThreeAs a group, RThreeIs an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms,
A cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, etc.
Chlorine, bromine, iodine, fluorine, etc.
Can be mentioned. Also, R1And RTwoAre the same
May also be different.

【0019】上記の一般式(I)で示されるマグネシウ
ム化合物の具体例としては、ジメチルマグネシウム,ジ
エチルマグネシウム,ジイソプロピルマグネシウム,ジ
ブチルマグネシウム,ジヘキシルマグネシウム,ジオク
チルマグネシウム,エチルブチルマグネシウム,ジフェ
ニルマグネシウム,ジシクロヘキシルマグネシウム等の
アルキルマグネシウム,アリールマグネシウム;ジメト
キシマグネシウム,ジエトキシマグネシウム,ジプロポ
キシマグネシウム,ジブトキシマグネシウム,ジヘキシ
ロキシマグネシウム,ジオクトキシマグネシウム,ジフ
ェノキシマグネシウム,ジシクロヘキシロキシマグネシ
ウム等のアルコキシマグネシウム,アリロキシマグネシ
ウム;エチルマグネシウムクロリド,ブチルマグネシウ
ムクロリド,ヘキシルマグネシウムクロリド,イソプロ
ピルマグネシウムクロリド,イソブチルマグネシウムク
ロリド,t−ブチルマグネシウムクロリド,フェニルマ
グネシウムブロミド,ベンジルマグネシウムクロリド,
エチルマグネシウムブロミド,ブチルマグネシウムブロ
ミド,フェニルマグネシウムクロリド,ブチルマグネシ
ウムイオダイド等のアルキルマグネシウムハライド,ア
リールマグネシウムハライド;ブトキシマグネシウムク
ロリド,シクロヘキシロキシマグネシウムクロリド,フ
ェノキシマグネシウムクロリド,エトキシマグネシウム
ブロミド,ブトキシマグネシウムブロミド,エトキシマ
グネシウムイオダイド等のアルコキシマグネシウムハラ
イド,アリロキシマグネシウムハライド;塩化マグネシ
ウム,臭化マグネシウム,ヨウ化マグネシウム等のハロ
ゲン化マグネシウム等を挙げることができる。
Specific examples of the magnesium compound represented by the above general formula (I) include dimethyl magnesium, diethyl magnesium, diisopropyl magnesium, dibutyl magnesium, dihexyl magnesium, dioctyl magnesium, ethyl butyl magnesium, diphenyl magnesium, dicyclohexyl magnesium and the like. Alkyl magnesium, aryloxy magnesium, dimethoxy magnesium, diethoxy magnesium, dipropoxy magnesium, dibutoxy magnesium, dihexyloxy magnesium, dioctoxy magnesium, diphenoxy magnesium, dicyclohexyloxy magnesium, etc. Chloride, butylmagnesium chloride, hex Le chloride, isopropyl magnesium chloride, isobutyl magnesium chloride, t- butyl magnesium chloride, phenyl magnesium bromide, benzyl magnesium chloride,
Alkyl magnesium halides such as ethyl magnesium bromide, butyl magnesium bromide, phenyl magnesium chloride and butyl magnesium iodide, aryl magnesium halides; butoxymagnesium chloride, cyclohexyloxymagnesium chloride, phenoxymagnesium chloride, ethoxymagnesium bromide, butoxymagnesium bromide, ethoxymagnesiumiodide Examples thereof include alkoxymagnesium halides such as dyde, allyloxymagnesium halides; and magnesium halides such as magnesium chloride, magnesium bromide, and magnesium iodide.

【0020】これらのマグネシウム化合物の中でも、重
合活性および立体規則性の面から、マグネシウムハライ
ド、アルコキシマグネシウム、アルキルマグネシウム、
アルキルマグネシウムハライドが好適に使用できる。上
記のマグネシウム化合物は、金属マグネシウム、または
マグネシウムを含有する化合物から調製することができ
る。
Among these magnesium compounds, from the viewpoint of polymerization activity and stereoregularity, magnesium halide, alkoxymagnesium, alkylmagnesium,
Alkyl magnesium halides can be suitably used. The above magnesium compound can be prepared from metallic magnesium or a compound containing magnesium.

【0021】一例としては、金属マグネシウムにハロゲ
ンおよびアルコール類を接触させる方法が挙げられる。
ここで、ハロゲンとしては、ヨウ素、塩素、臭素、フッ
素が挙げられる。これらの中ではヨウ素が好ましい。ア
ルコール類としては、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノール、シクロヘキサノール、オクタノー
ル等が挙げられる。
One example is a method in which halogen and alcohol are brought into contact with metallic magnesium.
Here, examples of the halogen include iodine, chlorine, bromine, and fluorine. Of these, iodine is preferred. Examples of alcohols include methanol, ethanol, propanol, butanol, cyclohexanol, octanol and the like.

【0022】また、他の一例として、Mg(OR4 2
で表されるマグネシウムアルコキシ化合物(式中、R4
は、炭素数1〜20個の炭化水素基を示す。)にハロゲ
ン化物を接触させる方法が挙げられる。上記のハロゲン
化物としては、四塩化ケイ素、四臭化ケイ素、四塩化ス
ズ、四臭化スズ、塩化水素等が挙げられる。これらの中
では、重合活性および立体規則性の面から、四塩化ケイ
素が好ましい。上記のR4 としては、メチル基,エチル
基,プロピル基,イソプロピル基,ブチル基,イソブチ
ル基,ヘキシル基,オクチル基等のアルキル基;シクロ
ヘキシル基,アリル基,プロペニル基,ブテニル基等の
アルケニル基;フェニル基,トリル基,キシリル基等の
アリール基;フェネチル,3−フェニルプロピル基等の
アラルキル基等が挙げられる。これらの中では特に炭素
数1〜10個のアルキル基が好ましい。
As another example, Mg (OR 4 ) 2
In magnesium represented alkoxy compound (wherein, R 4
Represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. ) Is contacted with a halide. Examples of the halide include silicon tetrachloride, silicon tetrabromide, tin tetrachloride, tin tetrabromide, and hydrogen chloride. Among these, silicon tetrachloride is preferred from the viewpoint of polymerization activity and stereoregularity. R 4 is an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a hexyl group or an octyl group; an alkenyl group such as a cyclohexyl group, an allyl group, a propenyl group or a butenyl group. Aryl groups such as phenyl, tolyl, and xylyl groups; aralkyl groups such as phenethyl and 3-phenylpropyl; Among them, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is particularly preferable.

【0023】さらに、マグネシウム化合物は、シリカ、
アルミナ、ポリスチレン等の支持体に担持されていても
よい。以上のマグネシウム化合物は、単独で用いてもよ
いし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、ヨ
ウ素などのハロゲン、珪素、アルミニウム等の他の元素
を含有してしてもよく、アルコール、エ−テル、エステ
ル類などの電子供与体を含有してもよい。 (b)チタン化合物 チタン化合物としては、特に制限はないが、一般式(I
I) TiX1 p (OR5 4-p ・・・(II) で表されるチタン化合物を好ましく用いることができ
る。
Further, the magnesium compound is silica,
It may be supported on a support such as alumina or polystyrene. The above magnesium compounds may be used alone or in combination of two or more. Further, it may contain halogen such as iodine, other elements such as silicon and aluminum, and may contain an electron donor such as alcohol, ether and ester. (B) Titanium compound The titanium compound is not particularly limited, but is represented by the general formula (I)
I) A titanium compound represented by TiX 1 p (OR 5 ) 4-p (II) can be preferably used.

【0024】上記の一般式(II)において、X1 はハ
ロゲン原子を示し、その中でも塩素原子および臭素原子
が好ましく、塩素原子が特に好ましい。R5 は炭化水素
基であって、飽和基や不飽和基であってもよく、直鎖状
のものや分枝鎖を有するもの、あるいは環状のものであ
ってもよく、さらにはイオウ、窒素、酸素、ケイ素、リ
ンなどのヘテロ原子を含むものであってもよい。好まし
くは炭素数1〜10個の炭化水素基、特にアルキル基、
アルケニル基、シクロアルケニル基、アリール基および
アラルキル基などが好ましく、直鎖または分岐鎖のアル
キル基が特に好ましい。−OR5 が複数存在する場合に
はそれらは互いに同じでも異なってもよい。R5 の具体
例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イ
ソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソ
ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプ
チル基、n−オクチル基、n−デシル基、アリル基、ブ
テニル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シク
ロヘキセニル基、フェニル基、トリル基、ベンジル基、
フェネチル基などが挙げられる。pは0〜4の整数を示
す。
In the above formula (II), X 1 represents a halogen atom, among which a chlorine atom and a bromine atom are preferable, and a chlorine atom is particularly preferable. R 5 is a hydrocarbon group, which may be a saturated group or an unsaturated group, a linear group, a branched group, or a cyclic group; , Oxygen, silicon, phosphorus and the like. Preferably a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, particularly an alkyl group,
An alkenyl group, a cycloalkenyl group, an aryl group, an aralkyl group and the like are preferable, and a linear or branched alkyl group is particularly preferable. When a plurality of —OR 5 are present, they may be the same or different. Specific examples of R 5 include methyl group, ethyl group, n- propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, sec- butyl group, an isobutyl group, n- pentyl group, n- hexyl, n- heptyl, n-octyl group, n-decyl group, allyl group, butenyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclohexenyl group, phenyl group, tolyl group, benzyl group,
And a phenethyl group. p shows the integer of 0-4.

【0025】上記の一般式(II)で示されるチタン化
合物の具体例としては、テトラメトキシチタン,テトラ
エトキシチタン,テトラ−n−プロポキシチタン,テト
ライソプロポキシチタン,テトラ−n−ブトキシチタ
ン,テトライソブトキシチタン,テトラシクロヘキシロ
キシチタン,テトラフェノキシチタン等のテトラアルコ
キシチタン;四塩化チタン,四臭化チタン,四ヨウ化チ
タン等のテトラハロゲン化チタン;メトキシチタントリ
クロリド,エトキシチタントリクロリド,プロポキシチ
タントリクロリド,n−ブトキシチタントリクロリド,
エトキシチタントリブロミド等のトリハロゲン化アルコ
キシチタン;ジメトキシチタンジクロリド,ジエトキシ
チタンジクロリド,ジイソプロポキシチタンジクロリ
ド,ジ−n−プロポキシチタンジクロリド,ジエトキシ
チタンジブロミド等のジハロゲン化ジアルコキシチタ
ン;トリメトキシチタンクロリド,トリエトキシチタン
クロリド,トリイソプロポキシチタンクロリド,トリ−
n−プロポキシチタンクロリド,トリ−n−ブトキシチ
タンクロリド等のモノハロゲン化トリアルコキシチタン
などを挙げることができる。これらの中で、重合活性の
面から、高ハロゲン含有チタン化合物、特に四塩化チタ
ンが好ましい。これらのチタン化合物は、それぞれ単独
で用いてもよく、また2種以上を組み合わせて用いても
よい。 (c)電子供与性化合物 電子供与性化合物としては、アルコール類、フェノール
類、ケトン類、アルデヒド類、有機酸もしくは無機酸の
エステル類、モノエーテル、ジエーテルもしくはポリエ
ーテル等のエーテル類等の含酸素電子供与体や、アンモ
ニア、アミン、ニトリル、イソシアネート等の含窒素電
子供与性化合物を挙げることができる。前記の有機酸と
しては、カルボン酸が挙げられ、具体的にはマロン酸等
が挙げられる。
Specific examples of the titanium compound represented by the above general formula (II) include tetramethoxytitanium, tetraethoxytitanium, tetra-n-propoxytitanium, tetraisopropoxytitanium, tetra-n-butoxytitanium and tetraisotitanium. Tetraalkoxy titanium such as butoxytitanium, tetracyclohexyloxytitanium, and tetraphenoxytitanium; titanium tetrahalide such as titanium tetrachloride, titanium tetrabromide, and titanium tetraiodide; methoxytitanium trichloride, ethoxytitanium trichloride, and propoxytitanium trichloride Chloride, n-butoxytitanium trichloride,
Trihalogenated alkoxytitaniums such as ethoxytitanium tribromide; dimethoxytitanium dichlorides such as dimethoxytitanium dichloride, diethoxytitanium dichloride, diisopropoxytitanium dichloride, di-n-propoxytitanium dichloride, diethoxytitanium dibromide; trimethoxy Titanium chloride, triethoxytitanium chloride, triisopropoxytitanium chloride, tri-
Monohalogenated trialkoxy titanium such as n-propoxy titanium chloride and tri-n-butoxy titanium chloride can be exemplified. Among these, a titanium compound having a high halogen content, particularly titanium tetrachloride, is preferred from the viewpoint of polymerization activity. These titanium compounds may be used alone or in combination of two or more. (C) Electron-donating compound Examples of the electron-donating compound include oxygen-containing compounds such as alcohols, phenols, ketones, aldehydes, esters of organic or inorganic acids, and ethers such as monoether, diether and polyether. Examples include electron donors and nitrogen-containing electron donating compounds such as ammonia, amines, nitriles, and isocyanates. Examples of the organic acid include a carboxylic acid, and specifically, malonic acid and the like.

【0026】これらの中では、多価カルボン酸のエステ
ル類が好ましく、さらに好ましくは、芳香族多価カルボ
ン酸のエステル類である。重合活性の面から、特に芳香
族ジカルボン酸のモノエステルおよび/またはジエステ
ルが好ましい。また、エステル部の有機基が直鎖、分岐
または環状の脂肪族炭化水素が好ましい。具体的には、
フタル酸、ナフタレン−1, 2−ジカルボン酸,ナフタ
レン−2,3−ジカルボン酸、5,6,7,8−テトラ
ヒドロナフタレン−1,2−ジカルボン酸、5,6,
7,8−テトラヒドロナフタレン−2,3−ジカルボン
酸、インダン−4,5−ジカルボン酸、インダン−5,
6−ジカルボン酸等のジカルボン酸のメチル、エチル、
n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチ
ル、t−ブチル、n−ペンチル、1−メチルブチル、2
−メチルブチル、3−メチルブチル、1,1−ジメチル
プロピル、1−メチルペンチル、2−メチルペンチル、
3−メチルペンチル、4−メチルペンチル、1−エチル
ブチル、2−エチルブチル、n−ヘキシル、シクロヘキ
シル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、2−
メチルヘキシル、3−メチルヘキシル、4−メチルヘキ
シル、2−エチルヘキシル、3−エチルヘキシル、4−
エチルヘキシル、2−メチルペンチル、3−メチルペン
チル、2−エチルペンチル、3−エチルペンチル等のジ
アルキルエステルが挙げられる。これらの中では、フタ
ル酸ジエステル類が好ましく、また、エステル部の有機
基の炭素数が4個以上の直鎖または分岐の脂肪族炭化水
素が好ましい。
Of these, esters of polycarboxylic acids are preferred, and esters of aromatic polycarboxylic acids are more preferred. From the viewpoint of polymerization activity, monoesters and / or diesters of aromatic dicarboxylic acids are particularly preferred. Further, an aliphatic hydrocarbon in which the organic group in the ester portion is linear, branched or cyclic is preferable. In particular,
Phthalic acid, naphthalene-1,2-dicarboxylic acid, naphthalene-2,3-dicarboxylic acid, 5,6,7,8-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic acid, 5,6
7,8-tetrahydronaphthalene-2,3-dicarboxylic acid, indane-4,5-dicarboxylic acid, indane-5,
Methyl and ethyl dicarboxylic acids such as 6-dicarboxylic acid,
n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, t-butyl, n-pentyl, 1-methylbutyl,
-Methylbutyl, 3-methylbutyl, 1,1-dimethylpropyl, 1-methylpentyl, 2-methylpentyl,
3-methylpentyl, 4-methylpentyl, 1-ethylbutyl, 2-ethylbutyl, n-hexyl, cyclohexyl, n-heptyl, n-octyl, n-nonyl, 2-
Methylhexyl, 3-methylhexyl, 4-methylhexyl, 2-ethylhexyl, 3-ethylhexyl, 4-
Examples thereof include dialkyl esters such as ethylhexyl, 2-methylpentyl, 3-methylpentyl, 2-ethylpentyl, and 3-ethylpentyl. Among them, phthalic acid diesters are preferable, and a linear or branched aliphatic hydrocarbon having 4 or more carbon atoms in the organic group in the ester portion is preferable.

【0027】この具体例としては、フタル酸ジ−n−ブ
チル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジ−n−ヘプチ
ル、フタル酸ジエチルなどを好ましく挙げることができ
る。また、これらの化合物はそれぞれ単独で用いてもよ
いし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 (d)ケイ素化合物 固体触媒成分の調製に、前記(a)、(b)および
(c)成分に加えて、場合により(d)成分として、下
記の一般式(III)、 Si(OR6 q 2 4-q ……(III) (R6 は炭化水素基、X2 はハロゲン原子、qは0〜3
の整数を示す。)で表されるケイ素化合物を用いること
ができる。ケイ素化合物を用いることにより、触媒活性
および立体規則性の向上ならびに生成ポリマー中の微粉
量の低減が図れることがある。
As specific examples, di-n-butyl phthalate, diisobutyl phthalate, di-n-heptyl phthalate, diethyl phthalate and the like can be preferably mentioned. These compounds may be used alone or in combination of two or more. (D) Silicon compound In the preparation of the solid catalyst component, in addition to the components (a), (b) and (c), the component (d) may optionally have the following general formula (III), Si (OR 6 ) q X 2 4-q ...... ( III) (R 6 is a hydrocarbon group, X 2 is a halogen atom, q is 0 to 3
Indicates an integer. ) Can be used. By using a silicon compound, the catalytic activity and stereoregularity can be improved, and the amount of fine powder in the produced polymer can be reduced.

【0028】上記の一般式(III)において、X2
ハロゲン原子を示し、これらの中で塩素原子および臭素
原子が好ましく、塩素原子が特に好ましい。R6 は炭化
水素基であって、飽和基や不飽和基であってもよく、直
鎖状のものや分枝鎖を有するもの、あるいは環状のもの
であってもよく、さらにはイオウ、窒素、酸素、ケイ
素、リンなどのヘテロ原子を含むものであってもよい。
好ましくは炭素数1〜10個の炭化水素基、特にアルキ
ル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アリール基
およびアラルキル基などが好ましい。−OR6 が複数存
在する場合にはそれらは互いに同じでも異なってもよ
い。R6 の具体例としては、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−
ブチル基、イソブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシ
ル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−デシル
基、アリル基、ブテニル基、シクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基、シクロヘキセニル基、フェニル基、トリル
基、ベンジル基、フェネチル基などが挙げられる。qは
0〜3の整数を示す。
In the above general formula (III), X 2 represents a halogen atom, among which a chlorine atom and a bromine atom are preferred, and a chlorine atom is particularly preferred. R 6 is a hydrocarbon group, which may be a saturated group or an unsaturated group, may be a linear group, a branched group, or a cyclic group; , Oxygen, silicon, phosphorus and the like.
Preferably, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, particularly an alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group, an aryl group and an aralkyl group are preferred. When a plurality of —OR 6 are present, they may be the same or different. Specific examples of R 6 include a methyl group, an ethyl group, n-
Propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-
Butyl, isobutyl, n-pentyl, n-hexyl, n-heptyl, n-octyl, n-decyl, allyl, butenyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cyclohexenyl, phenyl, Examples include a tolyl group, a benzyl group, and a phenethyl group. q shows the integer of 0-3.

【0029】上記の一般式(III)で示されるケイ素
化合物の具体例としては、四塩化ケイ素、メトキシトリ
クロロシラン、ジメトキシジクロロシラン、トリメトキ
シクロロシラン、エトキシトリクロロシラン、ジエトキ
シジクロロシラン、トリエトキシクロロシラン、プロポ
キシトリクロロシラン、ジプロポキシジクロロシラン、
トリプロポキシクロロシランなどを挙げることができ
る。これらの中で特に四塩化ケイ素が好ましい。これら
のケイ素化合物は、それぞれ単独で用いてもよく、また
2種以上を組み合わせて用いてもよい。 (B)有機アルミニウム化合物 本発明の結晶性ポリプロピレンの製造に用いられる
(B)有機アルミニウム化合物としては、特に制限はな
いが、アルキル基、ハロゲン原子、水素原子、アルコキ
シ基を有するもの、アルミノキサンおよびそれらの混合
物を好ましく用いることができる。具体的には、トリメ
チルアルミニウム,トリエチルアルミニウム,トリイソ
プロピルアルミニウム,トリイソブチルアルミニウム,
トリオクチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウ
ム;ジエチルアルミニウムモノクロリド,ジイソプロピ
ルアルミニウムモノクロリド,ジイソブチルアルミニウ
ムモノクロリド,ジオクチルアルミニウムモノクロリド
等のジアルキルアルミニウムモノクロリド;エチルアル
ミニウムセスキクロリド等のアルキルアルミニウムセス
キハライド;メチルアルミノキサン等の鎖状アルミノキ
サン等を挙げることができる。これらの有機アルミニウ
ム化合物の中では、炭素数1〜5個の低級アルキル基を
有するトリアルキルアルミニウム、特にトリメチルアル
ミニウム,トリエチルアルミニウム,トリプロピルアル
ミニウムおよびトリイソブチルアルミニウムが好まし
い。また、これらの有機アルミニウム化合物はそれぞれ
単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いて
もよい。 (C)第3成分(電子供与性化合物) 本発明の結晶性ポリプロピレン重合用触媒の調製には必
要に応じて、(C)電子供与性化合物が用いられる。こ
の(C)電子供与性化合物としては、Si−O−C結合
を有する有機ケイ素化合物、窒素含有化合物、リン含有
化合物、酸素含有化合物を用いることができる。このう
ち、重合活性および立体規則性の面から、Si−O−C
結合を有する有機ケイ素化合物、エーテル類およびエス
テル類を用いることが好ましく、特にSi−O−C結合
を有する有機ケイ素化合物を用いることが好ましい。
Specific examples of the silicon compound represented by the above general formula (III) include silicon tetrachloride, methoxytrichlorosilane, dimethoxydichlorosilane, trimethoxychlorosilane, ethoxytrichlorosilane, diethoxydichlorosilane, triethoxychlorosilane, Propoxytrichlorosilane, dipropoxydichlorosilane,
Tripropoxychlorosilane and the like can be mentioned. Among these, silicon tetrachloride is particularly preferred. These silicon compounds may be used alone or in combination of two or more. (B) Organoaluminum Compound (B) The organoaluminum compound used in the production of the crystalline polypropylene of the present invention is not particularly limited, but has an alkyl group, a halogen atom, a hydrogen atom, an alkoxy group, aluminoxane, and the like. Can be preferably used. Specifically, trimethylaluminum, triethylaluminum, triisopropylaluminum, triisobutylaluminum,
Trialkylaluminums such as trioctylaluminum; dialkylaluminum monochlorides such as diethylaluminum monochloride, diisopropylaluminum monochloride, diisobutylaluminum monochloride and dioctylaluminum monochloride; alkylaluminum sesquihalides such as ethylaluminum sesquichloride; methylaluminoxane and the like A chain aluminoxane and the like can be mentioned. Among these organic aluminum compounds, trialkyl aluminum having a lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, particularly trimethyl aluminum, triethyl aluminum, tripropyl aluminum and triisobutyl aluminum are preferred. These organoaluminum compounds may be used alone or in combination of two or more. (C) Third Component (Electron-donating Compound) In preparing the catalyst for polymerization of crystalline polypropylene of the present invention, (C) an electron-donating compound is used as necessary. As the (C) electron donating compound, an organosilicon compound having a Si—O—C bond, a nitrogen-containing compound, a phosphorus-containing compound, and an oxygen-containing compound can be used. Among them, from the viewpoint of polymerization activity and stereoregularity, Si—O—C
It is preferable to use an organic silicon compound having a bond, ethers and esters, and it is particularly preferable to use an organic silicon compound having a Si—O—C bond.

【0030】このSi−O−C結合を有する有機ケイ素
化合物の具体例としては、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、テトライソ
ブトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチ
ルエトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリエ
チルエトキシシラン、エチルイソプロピルジメトキシシ
ラン、プロピルイソプロピルジメトキシシラン、ジイソ
プロピルジメトキシシラン、ジイソブチルジメトキシシ
ラン、イソプロピルイソブチルジメトキシシラン、ジ−
t−ブチルジメトキシシラン、t−ブチルメチルジメト
キシシラン、t−ブチルエチルジメトキシシラン、t−
ブチルプロピルジメトキシシラン、t−ブチルイソプロ
ピルジメトキシシラン、t−ブチルブチルジメトキシシ
ラン、t−ブチルイソブチルジメトキシシラン、t−ブ
チル(s−ブチル)ジメトキシシラン、t−ブチルアミ
ルジメトキシシラン、t−ブチルヘキシルジメトキシシ
ラン、t−ブチルヘプチルジメトキシシラン、t−ブチ
ルオクチルジメトキシシラン、t−ブチルノニルジメト
キシシラン、t−ブチルデシルジメトキシシラン、t−
ブチル(3,3,3−トリフルオロメチルプロピル)ジ
メトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラ
ン、シクロヘキシルエチルジメトキシシラン、シクロヘ
キシルプロピルジメトキシシラン、シクロペンチル−t
−ブチルジメトキシシラン、シクロヘキシル−t−ブチ
ルジメトキシシラン、ジシクロペンチルジメトキシシラ
ン、ジシクロヘキシルジメトキシシラン、ビス(2−メ
チルシクロペンチル)ジメトキシシラン、ビス(2,3
−ジメチルシクロペンチル)ジメトキシシラン、ジフェ
ニルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、
メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラ
ン、プロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリメ
トキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチル
トリメトキシシラン、t−ブチルトリメトキシシラン、
s−ブチルトリメトキシシラン、アミルトリメトキシシ
ラン、イソアミルトリメトキシシラン、シクロペンチル
トリメトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラ
ン、ノルボルナントリメトキシシラン、インデニルトリ
メトキシシラン、2−メチルシクロペンチルトリメトキ
シシラン、シクロペンチル(t−ブトキシ)ジメトキシ
シラン、イソプロピル(t−ブトキシ)ジメトキシシラ
ン、t−ブチル(イソブトキシ)ジメトキシシラン、t
−ブチル(t−ブトキシ)ジメトキシシラン、テキシル
トリメトキシシラン、テキシルイソプロポキシジメトキ
シシラン、テキシル(t−ブトキシ)ジメトキシシラ
ン、テキシルメチルジメトキシシラン、テキシルエチル
ジメトキシシラン、テキシルイソプロピルジメトキシシ
ラン、テキシルシクロペンチルジメトキシシラン、テキ
シルミリスチルジメトキシシラン、テキシルシクロヘキ
シルジメトキシシラン等が挙げられる。
Specific examples of the organosilicon compound having a Si—O—C bond include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, tetraisobutoxysilane, trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, triethylmethoxysilane, Triethylethoxysilane, ethylisopropyldimethoxysilane, propylisopropyldimethoxysilane, diisopropyldimethoxysilane, diisobutyldimethoxysilane, isopropylisobutyldimethoxysilane, di-
t-butyldimethoxysilane, t-butylmethyldimethoxysilane, t-butylethyldimethoxysilane, t-butyldimethoxysilane
Butylpropyldimethoxysilane, t-butylisopropyldimethoxysilane, t-butylbutyldimethoxysilane, t-butylisobutyldimethoxysilane, t-butyl (s-butyl) dimethoxysilane, t-butylamyldimethoxysilane, t-butylhexyldimethoxysilane , T-butylheptyldimethoxysilane, t-butyloctyldimethoxysilane, t-butylnonyldimethoxysilane, t-butyldecyldimethoxysilane, t-butyl
Butyl (3,3,3-trifluoromethylpropyl) dimethoxysilane, cyclohexylmethyldimethoxysilane, cyclohexylethyldimethoxysilane, cyclohexylpropyldimethoxysilane, cyclopentyl-t
-Butyldimethoxysilane, cyclohexyl-t-butyldimethoxysilane, dicyclopentyldimethoxysilane, dicyclohexyldimethoxysilane, bis (2-methylcyclopentyl) dimethoxysilane, bis (2,3
-Dimethylcyclopentyl) dimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, phenyltriethoxysilane,
Methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, propyltrimethoxysilane, isopropyltrimethoxysilane, butyltrimethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, t-butyltrimethoxysilane,
s-butyltrimethoxysilane, amyltrimethoxysilane, isoamyltrimethoxysilane, cyclopentyltrimethoxysilane, cyclohexyltrimethoxysilane, norbornanetrimethoxysilane, indenyltrimethoxysilane, 2-methylcyclopentyltrimethoxysilane, cyclopentyl (t- Butoxy) dimethoxysilane, isopropyl (t-butoxy) dimethoxysilane, t-butyl (isobutoxy) dimethoxysilane, t
-Butyl (t-butoxy) dimethoxysilane, texyltrimethoxysilane, texylisopropoxydimethoxysilane, texyl (t-butoxy) dimethoxysilane, texylmethyldimethoxysilane, texylethyldimethoxysilane, texylisopropyldimethoxysilane, Texylcyclopentyldimethoxysilane, texylmyristyldimethoxysilane, texylcyclohexyldimethoxysilane, and the like.

【0031】また、下記の一般式(IV)、Further, the following general formula (IV):

【0032】[0032]

【化1】 Embedded image

【0033】(式中、R7 〜R9 は水素原子または炭化
水素基を示し、それらは互いに同一でも異なってもよ
く、隣接する基と互いに結合して環を形成していてもよ
い。R10及びR11は炭化水素基を示し、それらは互いに
同一でも異なってもよく、隣接する基と互いに結合して
環を形成していてもよい。R12及びR13は炭素数が1〜
20のアルキル基を示し、それらは互いに同一でも異な
ってもよい。mは2以上の整数であり、nは2以上の整
数である。)で表されるケイ素化合物を用いることがで
きる。
(Wherein, R 7 to R 9 each represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group, which may be the same or different from each other, or may be bonded to an adjacent group to form a ring. 10 and R 11 represent a hydrocarbon group, which may be the same or different, and may be bonded to an adjacent group to form a ring, and R 12 and R 13 have 1 to 1 carbon atoms.
And 20 alkyl groups, which may be the same or different from each other. m is an integer of 2 or more, and n is an integer of 2 or more. ) Can be used.

【0034】上記の一般式(IV)において、具体的に
は、R7 〜R9 としては、水素原子、メチル基、エチル
基、n−プロピル基等の直鎖状炭化水素基、イソプロピ
ル基、イソブチル基、t−ブチル基、テキシル基等の分
岐状炭化水素基、シクロブチル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基等の飽和環状炭化水素基、フェニル
基、ペンタメチルフェニル基等の不飽和環状炭化水素基
が挙げられる。これらのうち、好ましくは水素、炭素数
1〜6の直鎖状炭化水素基であり、特に好ましくは水
素、メチル基、エチル基である。
In the above general formula (IV), specifically, R 7 to R 9 represent a hydrogen atom, a linear hydrocarbon group such as a methyl group, an ethyl group or an n-propyl group, an isopropyl group, Isobutyl group, t-butyl group, branched hydrocarbon groups such as texyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group,
Examples include a saturated cyclic hydrocarbon group such as a cyclohexyl group and an unsaturated cyclic hydrocarbon group such as a phenyl group and a pentamethylphenyl group. Among them, hydrogen and a straight-chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms are preferable, and hydrogen, a methyl group and an ethyl group are particularly preferable.

【0035】上記の一般式(IV)において、R10およ
びR11としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基
等の直鎖状炭化水素基、イソプロピル基、イソブチル
基、t−ブチル基、テキシル基等の分岐状炭化水素基、
シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基
等の飽和環状炭化水素基、フェニル基、ペンタメチルフ
ェニル基等の不飽和環状炭化水素基が挙げられる。ま
た、これらは同じでも良く、異なっていても良い。これ
らのうち、好ましくは炭素数1〜6の直鎖状炭化水素基
であり、特に好ましくはメチル基、エチル基である。
In the above general formula (IV), R 10 and R 11 are linear hydrocarbon groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, isobutyl group, t-butyl group, A branched hydrocarbon group such as a texyl group,
Examples include saturated cyclic hydrocarbon groups such as cyclobutyl group, cyclopentyl group and cyclohexyl group, and unsaturated cyclic hydrocarbon groups such as phenyl group and pentamethylphenyl group. These may be the same or different. Among these, a linear hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms is preferable, and a methyl group and an ethyl group are particularly preferable.

【0036】上記の一般式(IV)において、R12およ
びR13としては、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s
ec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−
ヘキシル基、n−オクチル基等の直鎖状もしくは分岐状
のアルキル基が挙げられる。また、これらは同じでも良
く、異なっていても良い。これらのうち、好ましくは炭
素数1〜6の直鎖状炭化水素基であり、特に好ましくは
メチル基である。
In the above formula (IV), R 12 and R 13 represent methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, s
ec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-
Examples thereof include linear or branched alkyl groups such as a hexyl group and an n-octyl group. These may be the same or different. Among these, a linear hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms is preferable, and a methyl group is particularly preferable.

【0037】上記の一般式(IV)で示されるケイ素化
合物の好ましい化合物としては具体的に、ネオペンチル
n−プロピルジメトキシシラン、ネオペンチルn−ブチ
ルジメトキシシラン、ネオペンチルn−ペンチルジメト
キシシラン、ネオペンチルn−ヘキシルジメトキシシラ
ン、ネオペンチルn−ヘプチルジメトキシシラン、イソ
ブチルn−プロピルジメトキシシラン、イソブチルn−
ブチルジメトキシシラン、イソブチルn−ペンチルジメ
トキシシラン、イソブチルn−ヘキシルジメトキシシラ
ン、イソブチルn−ヘプチルジメトキシシラン、2−シ
クロヘキシルプロピルn−プロピルジメトキシシラン、
2−シクロヘキシルブチルn−プロピルジメトキシシラ
ン、2−シクロヘキシルペンチルn−プロピルジメトキ
シシラン、2−シクロヘキシルヘキシルn−プロピルジ
メトキシシラン、2−シクロヘキシルヘプチルn−プロ
ピルジメトキシシラン、2−シクロペンチルプロピルn
−プロピルジメトキシシラン、2−シクロペンチルブチ
ルn−プロピルジメトキシシラン、2−シクロペンチル
ペンチルn−プロピルジメトキシシラン、2−シクロペ
ンチルヘキシルn−プロピルジメトキシシラン、2−シ
クロペンチルヘプチルn−プロピルジメトキシシラン、
イソペンチルn−プロピルジメトキシシラン、イソペン
チルn−ブチルジメトキシシラン、イソペンチルn−ペ
ンチルジメトキシシラン、イソペンチルn−ヘキシルジ
メトキシシラン、イソペンチルn−ヘプチルジメトキシ
シラン、イソペンチルイソブチルジメトキシシラン、イ
ソペンチルネオペンチルジメトキシシラン、ジイソペン
チルジメトキシシラン、ジイソヘプチルジメトキシシラ
ン、ジイソヘキシルジメトキシシラン等が挙げられる。
特に好ましい化合物の具体例としては、ネオペンチルn
−プロピルジメトキシシラン、ネオペンチルn−ペンチ
ルジメトキシシラン、イソペンチルネオペンチルジメト
キシシラン、ジイソペンチルジメトキシシラン、ジイソ
ヘプチルジメトキシシラン、ジイソヘキシルジメトキシ
シランが挙げられ、さらに好ましい化合物の具体例とし
ては、ネオペンチルn−ペンチルジメトキシシラン、ジ
イソペンチルジメトキシシランが挙げられる。
Preferred examples of the silicon compound represented by the general formula (IV) include neopentyl n-propyldimethoxysilane, neopentyl n-butyldimethoxysilane, neopentyl n-pentyldimethoxysilane, and neopentyl n-hexyldimethoxysilane. Silane, neopentyl n-heptyldimethoxysilane, isobutyl n-propyldimethoxysilane, isobutyl n-
Butyldimethoxysilane, isobutyl n-pentyldimethoxysilane, isobutyl n-hexyldimethoxysilane, isobutyl n-heptyldimethoxysilane, 2-cyclohexylpropyl n-propyldimethoxysilane,
2-cyclohexylbutyl n-propyldimethoxysilane, 2-cyclohexylpentyl n-propyldimethoxysilane, 2-cyclohexylhexyln-propyldimethoxysilane, 2-cyclohexylheptyl n-propyldimethoxysilane, 2-cyclopentylpropyln
-Propyldimethoxysilane, 2-cyclopentylbutyl n-propyldimethoxysilane, 2-cyclopentylpentyl n-propyldimethoxysilane, 2-cyclopentylhexyl n-propyldimethoxysilane, 2-cyclopentylheptyl n-propyldimethoxysilane,
Isopentyl n-propyldimethoxysilane, isopentyl n-butyldimethoxysilane, isopentyl n-pentyldimethoxysilane, isopentyl n-hexyldimethoxysilane, isopentyl n-heptyldimethoxysilane, isopentylisobutyldimethoxysilane, isopentylneopentyldimethoxysilane, diiso Pentyldimethoxysilane, diisoheptyldimethoxysilane, diisohexyldimethoxysilane and the like can be mentioned.
Specific examples of particularly preferred compounds include neopentyl n
-Propyldimethoxysilane, neopentyl n-pentyldimethoxysilane, isopentylneopentyldimethoxysilane, diisopentyldimethoxysilane, diisoheptyldimethoxysilane, diisohexyldimethoxysilane.Examples of more preferred compounds include neopentyl. n-pentyldimethoxysilane and diisopentyldimethoxysilane.

【0038】上記の一般式(IV)で示されるケイ素化
合物は、任意の方法によって合成することができる。代
表的な合成経路は、下記のとおりである。
The silicon compound represented by the above general formula (IV) can be synthesized by any method. A typical synthetic route is as follows.

【0039】[0039]

【化2】 Embedded image

【0040】この合成経路において、原料化合物〔1〕
は市販されているか、または公知のアルキル化、ハロゲ
ン化等により得ることができる。化合物〔1〕に対し
て、公知のグリニャール反応により、一般式(IV)で
表される有機ケイ素化合物を得ることができる。これら
の有機ケイ素化合物はそれぞれ単独で用いてもよいし、
2種以上を組み合わせて用いてもよい。
In this synthetic route, the starting compound [1]
Is commercially available or can be obtained by known alkylation, halogenation and the like. The compound [1] can be subjected to a known Grignard reaction to obtain an organosilicon compound represented by the general formula (IV). Each of these organosilicon compounds may be used alone,
Two or more kinds may be used in combination.

【0041】窒素含有化合物の具体例としては、2,6
−ジイソプロピルピペリジン,2,6−ジイソプロピル
−4−メチルピペリジン,N−メチル2,2,6,6−
テトラメチルピペリジンなどの2,6−置換ピペリジン
類;2,5−ジイソプロピルアゾリジン,N−メチル
2,2,5,5−テトラメチルアゾリジンなどの2,5
−置換アゾリジン類;N,N,N’,N’−テトラメチ
ルメチレンジアミン,N,N,N’,N’−テトラエチ
ルメチレンジアミンなどの置換メチレンジアミン類;
1,3−ジベンジルイミダゾリジン,1,3−ジベンジ
ル−2−フェニルイミダゾリジンなどの置換イミダゾリ
ジン類等が挙げられる。
Specific examples of the nitrogen-containing compound include 2,6
-Diisopropylpiperidine, 2,6-diisopropyl-4-methylpiperidine, N-methyl2,2,6,6-
2,6-substituted piperidines such as tetramethylpiperidine; 2,5 such as 2,5-diisopropylazolidine and N-methyl 2,2,5,5-tetramethylazolidine
-Substituted azolidines; substituted methylenediamines such as N, N, N ', N'-tetramethylmethylenediamine, N, N, N', N'-tetraethylmethylenediamine;
Substituted imidazolidines such as 1,3-dibenzylimidazolidine and 1,3-dibenzyl-2-phenylimidazolidine are exemplified.

【0042】リン含有化合物の具体例としては、トリエ
チルホスファイト、トリn−プロピルホスファイト、ト
リイソプロピルホスファイト、トリn−ブチルホスファ
イト、トリイソブチルホスファイト、ジエチルn−ブチ
ルホスファイト、ジエチルフェニルホスファイトなどの
亜リン酸エステル類等である。酸素含有化合物の具体例
としては、2,2,6,6−テトラメチルテトラヒドロ
フラン,2,2,6,6−テトラエチルテトラヒドロフ
ランなどの2,6−置換テトラヒドロフラン類;1,1
−ジメトキシ−2,3,4,5−テトラクロロシクロペ
ンタジエン,9,9−ジメトキシフルオレン,ジフェニ
ルジメトキシメタンなどのジメトキシメタン誘導体等が
挙げられる。 〔II〕固体触媒成分の調製 前記(A)の固体触媒成分の調製方法としては、上記の
(a)マグネシウム化合物、(b)チタン化合物、
(c)電子供与体、および必要に応じて(d)ケイ素化
合物を、温度を除き通常の方法で接触させればよく、接
触手順については特に問わない。例えば、各成分を炭化
水素などの不活性溶媒の存在下で接触させてもよいし、
予め炭化水素などの不活性溶媒で各成分を希釈して接触
させてもよい。この不活性溶媒としては、例えば、オク
タン、デカン、エチルシクロヘキサンなどの脂肪族炭化
水素、脂環式炭化水素またはこれらの混合物を挙げるこ
とができる。
Specific examples of the phosphorus-containing compound include triethyl phosphite, tri n-propyl phosphite, triisopropyl phosphite, tri n-butyl phosphite, triisobutyl phosphite, diethyl n-butyl phosphite, and diethyl phenyl phosphite. Phosphites such as fight; Specific examples of the oxygen-containing compound include 2,6-substituted tetrahydrofurans such as 2,2,6,6-tetramethyltetrahydrofuran and 2,2,6,6-tetraethyltetrahydrofuran;
And dimethoxymethane derivatives such as -dimethoxy-2,3,4,5-tetrachlorocyclopentadiene, 9,9-dimethoxyfluorene and diphenyldimethoxymethane. [II] Preparation of Solid Catalyst Component The method for preparing the solid catalyst component (A) includes the above (a) magnesium compound, (b) titanium compound,
The (c) electron donor and, if necessary, the (d) silicon compound may be brought into contact by a usual method except for the temperature, and the contact procedure is not particularly limited. For example, each component may be contacted in the presence of an inert solvent such as a hydrocarbon,
Each component may be diluted with an inert solvent such as a hydrocarbon in advance and contacted. Examples of the inert solvent include aliphatic hydrocarbons such as octane, decane, and ethylcyclohexane, alicyclic hydrocarbons, and mixtures thereof.

【0043】ここで、チタン化合物は、上記のマグネシ
ウム化合物のマグネシウム1モルに対して、通常、0.
5〜100モル、好ましくは、1〜50モル使用する。
このモル比が前記範囲を逸脱すると触媒活性が不十分と
なることがある。また、上記の電子供与体は、上記のマ
グネシウム化合物のマグネシウム1モルに対して、通
常、0.01〜10モル、好ましくは、0.05〜1.
0モル使用する。このモル比が前記範囲を逸脱すると触
媒活性や立体規則性が不十分となることがある。さら
に、ケイ素化合物を用いるときは、上記のマグネシウム
化合物のマグネシウム1モルに対して、通常、0.00
1〜100モル、好ましくは、0.005〜5.0モル
使用する。このモル比が前記範囲を逸脱すると触媒活性
や立体規則性の向上効果が十分に発揮されず、かつ生成
ポリマー中の微粉量が多くなることがある。
Here, the titanium compound is usually added in an amount of 0.1 to 1 mol of magnesium of the above magnesium compound.
5 to 100 moles, preferably 1 to 50 moles are used.
If the molar ratio is outside the above range, the catalytic activity may be insufficient. The above electron donor is used in an amount of usually 0.01 to 10 mol, preferably 0.05 to 1.0 mol, per 1 mol of magnesium of the above magnesium compound.
Use 0 moles. If the molar ratio deviates from the above range, catalytic activity and stereoregularity may be insufficient. Further, when a silicon compound is used, it is usually used in an amount of 0.001 mol per mol of magnesium of the above magnesium compound.
It is used in an amount of 1 to 100 mol, preferably 0.005 to 5.0 mol. If the molar ratio deviates from the above range, the effect of improving catalytic activity and stereoregularity may not be sufficiently exhibited, and the amount of fine powder in the produced polymer may increase.

【0044】上記の(a)〜(d)成分の接触は、全成
分を加えた後、120〜150℃、好ましくは125〜
140℃の温度範囲にて行う。この接触温度が前記範囲
外では、触媒活性や立体規則性の向上効果が十分に発揮
されない。また、接触は、通常、1分〜24時間、好ま
しくは、10分〜6時間行われる。このときの圧力は、
溶媒を使用する場合はその種類、接触温度などにより、
その範囲は変化するが、通常、0〜50kg/cm
2 G、好ましくは0〜10kg/cm2 Gの範囲にて行
う。また、接触操作中は、接触の均一性および接触効率
の面から攪拌を行うことが好ましい。
The above components (a) to (d) are contacted at 120 to 150 ° C., preferably 125 to 150 ° C. after all the components have been added.
This is performed in a temperature range of 140 ° C. If the contact temperature is outside the above range, the effect of improving the catalytic activity and stereoregularity will not be sufficiently exhibited. The contact is usually performed for 1 minute to 24 hours, preferably for 10 minutes to 6 hours. The pressure at this time is
When using a solvent, depending on its type, contact temperature, etc.
The range varies, but is usually 0-50 kg / cm
2 G, preferably in the range of 0 to 10 kg / cm 2 G. In addition, during the contact operation, it is preferable to perform stirring in view of uniformity of contact and contact efficiency.

【0045】さらに、チタン化合物の接触を2回以上行
い、触媒担体としての役割をするマグネシウム化合物に
十分担持させることが好ましい。接触操作において溶媒
を使用するときは、チタン化合物1モルに対して、通
常、5000ミリリットル以下、好ましくは、10〜1
000ミリリットルの溶媒を使用する。この比が前記範
囲を逸脱すると接触の均一性や接触効率が悪化すること
がある。
Further, it is preferable that the contact with the titanium compound is performed twice or more to sufficiently support the magnesium compound serving as a catalyst carrier. When a solvent is used in the contacting operation, it is usually 5000 ml or less, preferably 10 to 1 mol per mol of the titanium compound.
Use 000 ml of solvent. If this ratio deviates from the above range, contact uniformity and contact efficiency may be deteriorated.

【0046】以上の接触で得られた固体触媒成分は、1
00〜150℃、好ましくは120〜140℃の温度に
て不活性溶媒で洗浄する。この洗浄温度が上記範囲外で
は、触媒活性や立体規則性の向上効果が十分に発揮され
ない。この不活性溶媒としては、例えば、オクタン、デ
カンなどの脂肪族炭化水素、メチルシクロヘキサン、エ
チルシクロヘキサンなどの脂環式炭化水素、トルエン、
キシレンなどの芳香族炭化水素、テトラクロロエタン、
クロロフルオロ炭素類などのハロゲン化炭化水素または
これらの混合物を挙げることができる。これらのなかで
は、脂肪族炭化水素が好ましく使用される。
The solid catalyst component obtained by the above contact is 1
Wash with an inert solvent at a temperature of 00-150 ° C, preferably 120-140 ° C. When the washing temperature is outside the above range, the effect of improving the catalytic activity and stereoregularity is not sufficiently exhibited. As the inert solvent, for example, octane, aliphatic hydrocarbons such as decane, methylcyclohexane, alicyclic hydrocarbons such as ethylcyclohexane, toluene,
Aromatic hydrocarbons such as xylene, tetrachloroethane,
Halogenated hydrocarbons such as chlorofluorocarbons or mixtures thereof can be mentioned. Of these, aliphatic hydrocarbons are preferably used.

【0047】洗浄方法としては、特に制限はないが、デ
カンテーション、濾過などの方式が好ましい。不活性溶
媒の使用量、洗浄時間、洗浄回数についても特に制限は
ないが、マグネシウム化合物1モルに対して、通常、1
00〜100000ミリリットル、好ましくは、100
0〜50000ミリリットルの溶媒を使用し、通常、1
分〜24時間、好ましくは、10分〜6時間行われる。
この比が前記範囲を逸脱すると洗浄が不完全になること
がある。
The washing method is not particularly limited, but a method such as decantation and filtration is preferred. There are no particular restrictions on the amount of the inert solvent used, the washing time, and the number of washings.
100 to 100000 ml, preferably 100
Use 0-50,000 ml of solvent, usually 1
The reaction is performed for a period of from minutes to 24 hours, preferably from 10 minutes to 6 hours.
If the ratio deviates from the above range, the cleaning may be incomplete.

【0048】このときの圧力は、溶媒の種類、洗浄温度
などにより、その範囲は変化するが、通常、0〜50k
g/cm2 G、好ましくは、0〜10kg/cm2 Gの
範囲にて行う。また、洗浄操作中は、洗浄の均一性およ
び洗浄効率の面から攪拌を行うことが好ましい。なお、
得られた固体触媒成分は、乾燥状態または炭化水素など
の不活性溶媒中で保存することもできる。 〔III〕重合方法 本発明の結晶性ポリプロピレンを製造する際の触媒成分
の使用量については、特に制限はないが、前記(A)成
分の固体触媒成分は、チタン原子に換算して、反応容積
1リットル当たり、通常0.00005〜1ミリモルの
範囲になるような量が用いられ、(B)成分の有機アル
ミニウム化合物は、アルミニウム/チタン原子比が通常
1〜1000、好ましくは10〜500の範囲になるよ
うな量が用いられる。この原子比が前記範囲を逸脱する
と触媒活性が不十分となることがある。また、(C)第
3成分として有機ケイ素化合物等の電子供与性化合物を
用いるときは、(C)電子供与性化合物/(B)有機ア
ルミニウム化合物モル比が、通常0.001〜5.0、
好ましくは0.01〜2.0、より好ましくは0.05
〜1.0の範囲になるような量が用いられる。このモル
比が前記範囲を逸脱すると十分な触媒活性および立体規
則性が得られないことがある。ただし、予備重合を行う
場合は、さらに低減することができる。
The range of the pressure at this time varies depending on the type of the solvent, the washing temperature, and the like.
g / cm 2 G, preferably in the range of 0 to 10 kg / cm 2 G. In addition, during the washing operation, it is preferable to perform stirring in view of uniformity of washing and washing efficiency. In addition,
The obtained solid catalyst component can be stored in a dry state or in an inert solvent such as a hydrocarbon. [III] Polymerization Method The amount of the catalyst component used in producing the crystalline polypropylene of the present invention is not particularly limited, but the solid catalyst component of the component (A) is converted to a titanium atom by a reaction volume. The amount is usually in the range of 0.00005 to 1 mmol per liter, and the organoaluminum compound (B) has an aluminum / titanium atomic ratio of usually 1 to 1000, preferably 10 to 500. The amount used is such that If this atomic ratio is outside the above range, the catalytic activity may be insufficient. When an electron donating compound such as an organosilicon compound is used as the third component (C), the molar ratio of (C) the electron donating compound / (B) the organoaluminum compound is usually 0.001 to 5.0,
Preferably 0.01 to 2.0, more preferably 0.05
An amount is used such that it is in the range of ~ 1.0. If the molar ratio is outside the above range, sufficient catalytic activity and stereoregularity may not be obtained. However, when pre-polymerization is performed, it can be further reduced.

【0049】本発明においては、重合活性、立体規則性
および重合体パウダー形態の面から、所望に応じ、先ず
オレフィンの予備重合を行ったのち、本重合を行っても
よい。この場合、前記(A)固体触媒成分、(B)有機
アルミニウム化合物および必要に応じて(C)電子供与
性化合物を、それぞれ所定の割合で混合してなる触媒の
存在下に、オレフィンを通常1〜100℃の範囲の温度
において、常圧ないし50kg/cm2 G程度の圧力で
予備重合させ、次いで触媒と予備重合生成物との存在下
に、プロピレンを本重合させる。
In the present invention, from the viewpoints of polymerization activity, stereoregularity, and polymer powder form, if desired, the olefin may be preliminarily polymerized before the main polymerization. In this case, the olefin is usually added in the presence of a catalyst obtained by mixing (A) the solid catalyst component, (B) the organoaluminum compound and, if necessary, (C) the electron donating compound at a predetermined ratio. At a temperature in the range of -100 ° C, pre-polymerization is carried out at normal pressure to a pressure of about 50 kg / cm 2 G, and then propylene is main-polymerized in the presence of a catalyst and a pre-polymerized product.

【0050】予備重合に用いられるオレフィンとして
は、一般式(V) R14−CH=CH2 ・・・(V) で表されるα−オレフィンが好ましい。上記の一般式
(V)において、R14は水素原子または炭化水素基であ
って、炭化水素基は飽和基や不飽和基であってもよい。
具体的にはエチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペ
ンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、
1−デセン、3−メチル−1−ペンテン、4−メチル−
1−ペンテン、ビニルシクロヘキサン、ブタジエン、イ
ソプレン、ピペリレン等を挙げることができる。これら
のオレフィンは1種用いてもよいし、2種以上組み合わ
せて用いてもよい。前記オレフィンの中で、特にエチレ
ン、プロピレンが好適である。
As the olefin used for the prepolymerization, an α-olefin represented by the general formula (V) R 14 —CH = CH 2 (V) is preferable. In the general formula (V), R 14 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group, and the hydrocarbon group may be a saturated group or an unsaturated group.
Specifically, ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene,
1-decene, 3-methyl-1-pentene, 4-methyl-
Examples thereof include 1-pentene, vinylcyclohexane, butadiene, isoprene, and piperylene. These olefins may be used alone or in combination of two or more. Among the olefins, ethylene and propylene are particularly preferred.

【0051】この本重合における重合形式については特
に制限はなく、溶液重合、スラリー重合、気相重合、バ
ルク重合等のいずれにも適用可能であり、さらに、回分
式重合や連続重合のどちらにも適用可能であり、異なる
条件での2段階重合や多段重合にも適用可能である。さ
らに、反応条件については、その重合圧は、特に制限は
なく、重合活性の面から、通常、大気圧〜80kg/c
2 G、好ましくは2〜50kg/cm2 G、重合温度
は、通常、0〜200℃、好ましくは、20〜90℃、
さらに好ましくは、40〜90℃の範囲で適宜選ばれ
る。重合時間は原料のプロピレンの重合温度によって左
右され一概に定めることができないが、通常、5分〜2
0時間、好ましくは、10分〜10時間程度である。
The type of polymerization in this main polymerization is not particularly limited, and can be applied to any of solution polymerization, slurry polymerization, gas phase polymerization, bulk polymerization, and the like. It is applicable to two-stage polymerization and multi-stage polymerization under different conditions. Further, regarding the reaction conditions, the polymerization pressure is not particularly limited, and is usually from atmospheric pressure to 80 kg / c from the viewpoint of polymerization activity.
m 2 G, preferably 2 to 50 kg / cm 2 G, the polymerization temperature is usually 0 to 200 ° C., preferably 20 to 90 ° C.,
More preferably, it is appropriately selected within the range of 40 to 90 ° C. The polymerization time depends on the polymerization temperature of propylene as a raw material and cannot be determined unconditionally.
0 hour, preferably about 10 minutes to 10 hours.

【0052】分子量は、連鎖移動剤の添加、好ましくは
水素の添加を行うことで調節することができる。また、
窒素等の不活性ガスを存在させてもよい。異なる重合条
件で、2段階以上にわたって重合することもできる。ま
た、本発明においては、前記触媒成分については、
(A)成分と(B)成分と(C)成分とを所定の割合で
混合し、接触させたのち、ただちにプロピレンを導入し
て重合をおこなってもよいし、接触後、0.2〜3時間
程度熟成させたのち、プロピレンを導入して重合を行っ
てもよい。さらに、この触媒成分は不活性溶媒やプロピ
レンなどに懸濁して供給することができる。
The molecular weight can be adjusted by adding a chain transfer agent, preferably by adding hydrogen. Also,
An inert gas such as nitrogen may be present. Polymerization can be carried out in two or more stages under different polymerization conditions. Further, in the present invention, for the catalyst component,
After the components (A), (B) and (C) are mixed at a predetermined ratio and brought into contact with each other, propylene may be immediately introduced to carry out the polymerization. After aging for about an hour, propylene may be introduced for polymerization. Further, this catalyst component can be supplied by suspending it in an inert solvent, propylene or the like.

【0053】本発明においては、重合後の後処理は常法
により行うことができる。すなわち、気相重合法におい
ては、重合後、重合器から導出されるポリマー粉体に、
その中に含まれるオレフィンなどを除くために、窒素気
流などを通過させてもよいし、また、所望に応じて押出
機によりペレット化してもよく、その際、触媒を完全に
失活させるために、少量の水、アルコールなどを添加す
ることもできる。また、バルク重合法においては、重合
後、重合器から導出されるポリマーから完全にモノマー
を分離したのち、ペレット化することができる。 3.フィルム 本発明のフィルムは、前記のプロピレン系ランダム共重
合体を用いて製膜したフィルムである。フィルムを製造
する方法には特に制限はなく、通常のTダイキャスト製
膜法等が用いられる。すなわち、前記のプロピレン系ラ
ンダム共重合体のパウダーに必要に応じて各種の添加剤
を処方し、混練機にて押出し造粒し、ペレット化し、T
ダイキャスト製膜することができる。通常、本発明のプ
ロピレン系ランダム共重合体を用いて、Tダイキャスト
製膜法により、引取速度が50m/minまたはこれ以
上の高速製膜条件においても、厚みが10〜500μm
のフィルムを得ることができる。また、前述の好ましい
特性を有することから、共押出製膜法による積層フィル
ムの製造に際して、その少なくとも一層成分として好適
に使用できる。製膜法は、大型製膜機により高速製膜が
実施されるTダイキャスト製膜法が好ましいが、特にこ
れに限らず、溶融押出成形法によりフィルムを製造でき
る方法であれば、どのような製膜法でもよい。
In the present invention, the post-treatment after the polymerization can be carried out by a conventional method. That is, in the gas phase polymerization method, after polymerization, the polymer powder derived from the polymerization vessel,
In order to remove the olefins and the like contained therein, it may be passed through a nitrogen gas stream or the like, or may be pelletized by an extruder as desired. , A small amount of water, alcohol and the like can also be added. In the bulk polymerization method, after the polymerization, the monomer can be completely separated from the polymer led out of the polymerization vessel and then pelletized. 3. Film The film of the present invention is a film formed using the propylene-based random copolymer. The method for producing the film is not particularly limited, and a usual T-die casting method or the like is used. That is, the propylene random copolymer powder is formulated with various additives as necessary, extruded and granulated by a kneader, pelletized,
Die casting can be performed. Usually, the thickness of the propylene-based random copolymer of the present invention is 10 to 500 μm by the T-die casting method even under a high-speed film forming condition at a take-up speed of 50 m / min or more.
Can be obtained. Further, since it has the above-mentioned preferable characteristics, it can be suitably used as at least one layer component when producing a laminated film by a co-extrusion film forming method. The film forming method is preferably a T-die casting film forming method in which high-speed film forming is performed by a large film forming machine, but is not particularly limited thereto, and any method can be used as long as a film can be manufactured by a melt extrusion molding method. A film forming method may be used.

【0054】所望に応じて用いられる各種添加剤として
は、酸化防止剤、中和剤、スリップ剤、アンチブロッキ
ング剤、防曇剤、又は帯電防止剤等が挙げられる。これ
らの添加剤は、1種用いてもよく、2種以上を組み合わ
せて用いてもよい。例えば、酸化防止剤としては、リン
系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤及びイオウ系酸
化防止剤等が挙げられる。
Various additives used as desired include antioxidants, neutralizing agents, slip agents, antiblocking agents, antifogging agents, and antistatic agents. These additives may be used alone or in a combination of two or more. For example, examples of the antioxidant include a phosphorus-based antioxidant, a phenol-based antioxidant, and a sulfur-based antioxidant.

【0055】リン系酸化防止剤の具体例としては、トリ
スノニルフェニルホスファイト、トリス(2,4−ジ−
t−ブチルフェニル)ホスファイト、ジステアリルペン
タエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−
t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールホスファイ
ト、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニ
ル)ペンタエリスリトールホスファイト、2,2−メチ
レンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチル
ホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフ
ェニル)−4,4−ビフェニレン−ジ−ホスホナイト、
アデカスタブ1178(旭電化(製))、スミライザー
TNP(住友化学(製))、JP−135(城北化学
(製))、アデカスタブ2112(旭電化(製))、J
PP−2000(城北化学(製))、Weston61
8(GE(製))、アデカスタブPEP−24G(旭電
化(製))、アデカスタブPEP−36(旭電化
(製))、アデカスタブHP−10(旭電化(製))、
SandstabP−EPQ(サンド(製))、フォス
ファイト168(チバスペシャリティケミカルズ社
(製))等が挙げられる。
Specific examples of the phosphorus-based antioxidant include trisnonylphenyl phosphite, tris (2,4-di-
t-butylphenyl) phosphite, distearylpentaerythritol diphosphite, bis (2,4-di-
t-butylphenyl) pentaerythritol phosphite, bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol phosphite, 2,2-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl Phosphite, tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) -4,4-biphenylene-di-phosphonite,
ADK STAB 1178 (Asahi Denka Co., Ltd.), Sumilizer TNP (Sumitomo Chemical Co., Ltd.), JP-135 (Johoku Chemical Co., Ltd.), ADK STAB 2112 (Asahi Denka Co., Ltd.), J
PP-2000 (Johoku Chemical Co., Ltd.), Weston 61
8 (GE (product)), ADK STAB PEP-24G (Asahi Denka (product)), ADK STAB PEP-36 (Asahi Denka (product)), ADK STAB HP-10 (Asahi Denka (product)),
Sandstab P-EPQ (Sand (product)), Phosphite 168 (Ciba Specialty Chemicals (product)) and the like.

【0056】フェノール系酸化防止剤の具体例として
は、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、
n−オクタデシル−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル
−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、テトラ
キス〔メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メタン、トリス
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
イソシアヌレート、4,4’−ブチリデンビス−(3−
メチル−6−t−ブチルフェノール)、トリエチレング
リコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキ
シ−5−メチルフェニル)プロピオネート〕、3,9−
ビス{2−〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−
5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ〕−1,1−
ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオキサス
ピロ〔5,5〕ウンデカン、スミライザーBHT(住友
化学(製))、ヨシノックスBHT(吉富製薬
(製))、アンテージBHT(川口化学(製))、イル
ガノックス1076(チバスペシャリティケミカルズ社
(製))、イルガノックス1010(チバスペシャリテ
ィケミカルズ社(製))、アデカスタブAO−60(旭
電化(製))、スミライザーBP−101(住友化学
(製))、トミノックスTT(吉富製薬(製))、TT
HP(東レ(製))、イルガノックス3114(チバス
ペシャリティケミカルズ社(製))、アデカスタブAO
−20(旭電化(製))、アデカスタブAO−40(旭
電化(製))、スミライザーBBM−S(住友化学
(製))、ヨシノックスBB(吉富製薬(製))、アン
テージW−300(川口化学(製))、イルガノックス
245(チバスペシャリティケミカルズ社(製))、ア
デカスタブAO−70(旭電化(製))、トミノックス
917(吉富製薬(製))、アデカスタブAO−80
(旭電化(製))、スミライザーGA−80(住友化学
(製))等が挙げられる。
Specific examples of the phenolic antioxidant include 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol,
n-octadecyl-3- (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate, tetrakis [methylene-3- (3,5-di-t-butyl-4-
Hydroxyphenyl) propionate] methane, tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)
Isocyanurate, 4,4'-butylidenebis- (3-
Methyl-6-t-butylphenol), triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionate], 3,9-
Bis {2- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-
5-methylphenyl) propionyloxy] -1,1-
Dimethylethyl {-2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, Sumilizer BHT (Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Yoshinox BHT (Yoshitomi Pharmaceutical Co., Ltd.), Antage BHT (Kawaguchi Chemical Co., Ltd.) ), Irganox 1076 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Irganox 1010 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Adekastab AO-60 (manufactured by Asahi Denka), Sumilizer BP-101 (manufactured by Sumitomo Chemical) ), Tominox TT (Yoshitomi Pharmaceutical Co., Ltd.), TT
HP (Toray Co., Ltd.), Irganox 3114 (Chivas Specialty Chemicals Co., Ltd.), ADK STAB AO
-20 (Asahi Denka Co., Ltd.), ADK STAB AO-40 (Asahi Denka Co., Ltd.), Sumilizer BBM-S (Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Yoshinox BB (Yoshitomi Pharmaceutical Co., Ltd.), Antage W-300 (Kawaguchi Chemical (manufactured)), Irganox 245 (Ciba Specialty Chemicals (manufactured)), ADK STAB AO-70 (Asahi Denka (manufactured)), Tominox 917 (Yoshitomi Pharmaceutical (manufactured)), ADK STAB AO-80
(Asahi Denka Co., Ltd.), Sumilizer GA-80 (Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and the like.

【0057】イオウ系酸化防止剤の具体例としては、ジ
ラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジミリス
チル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル
−3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリト
ールテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)、
スミライザーTPL(住友化学(製))、ヨシノックス
DLTP(吉富製薬(製))、アンチオックスL(日本
油脂(製))、スミライザーTPM(住友化学
(製))、ヨシノックスDMTP(吉富製薬(製))、
アンチオックスM(日本油脂(製))、スミライザーT
PS(住友化学(製))、ヨシノックスDSTP(吉富
製薬(製))、アンチオックスS(日本油脂(製))、
アデカスタブAO−412S(旭電化(製))、SEE
NOX 412S(シプロ化成(製))、スミライザー
TDP(住友化学(製))等が挙げられる。
Specific examples of the sulfur-based antioxidant include dilauryl-3,3'-thiodipropionate, dimyristyl-3,3'-thiodipropionate, distearyl-3,3'-thiodipropionate. Pentaerythritol tetrakis (3-laurylthiopropionate),
Sumilizer TPL (Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Yoshinox DLTP (Yoshitomi Pharmaceutical Co., Ltd.), Antiox L (Nippon Oil & Fats Co., Ltd.), Sumilizer TPM (Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Yoshinox DMTP (Yoshitomi Pharmaceutical Co., Ltd.) ,
Antiox M (Nippon Oil & Fats), Sumilizer T
PS (Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Yoshinox DSTP (Yoshitomi Pharmaceutical Co., Ltd.), Antiox S (Nippon Oil & Fats Co., Ltd.),
ADK STAB AO-412S (Asahi Denka Co., Ltd.), SEE
NOX 412S (Cipro Kasei Co., Ltd.), Sumilizer TDP (Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and the like.

【0058】これらのなかで好ましいフェノール系酸化
防止剤としては、 チバスペシャリティケミカルズ社(製)イルガノックス
1010:物質名:ペンタエリスリチル−テトラキス[
3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオネート] チバスペシャリティケミカルズ社(製)イルガノックス
1076:物質名:オクタデシル−3−(3,5−ジ−
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート チバスペシャリティケミカルズ社(製)イルガノックス
1330:物質名:1,3,5−トリメチル−2,4,
6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)ベンゼン チバスペシャリティケミカルズ社(製)イルガノックス
3114:物質名:トリス(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレイト等が挙げら
れる。また、好ましいリン系酸化防止剤としては、チバ
スペシャリティケミカルズ社(製)イルガフォス16
8:物質名:トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニ
ル)フォスファイトチバスペシャリティケミカルズ社
(製)P−EPQ:物質名:テトラキス(2,4−ジ−
t−ブチルフェニル)4,4' −ビフェニレン−ジ−フ
ォスファイト等が挙げられる。
Among these, preferred phenolic antioxidants include Irganox 1010 (product of Ciba Specialty Chemicals, Inc.): Substance name: pentaerythrityl-tetrakis [
3- (3,5-Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] Ciba Specialty Chemicals (Irganox 1076): Substance: Octadecyl-3- (3,5-di-
t-Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate Irganox 1330 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals): Substance: 1,3,5-trimethyl-2,4
6-Tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene Irganox 3114 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals): Substance: Tris (3,5-di-t-butyl-)-
4-hydroxybenzyl) isocyanurate and the like. Preferred phosphorous antioxidants include Irgafos 16 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals).
8: Substance name: tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite chivas specialty chemicals (manufactured by P-EPQ): substance name: tetrakis (2,4-di-
(t-butylphenyl) 4,4'-biphenylene-di-phosphite and the like.

【0059】本発明において酸化防止剤を用いる場合
は、前記プロピレン系ランダム共重合体100重量部に
対し0.001〜1重量部程度添加すればよい。これに
より、黄変等を防ぐことができて好ましい。中和剤とし
ては、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ス
テアリン酸マグネシウム、ハイドロタルサイト類(例え
ば、協和化学工業(製)のDHT−4A:組成式:Mg
4.5 Al2 (OH)13CO3 ・3.5H2 O)、リチウ
ムアルミニウム複合水酸化物(例えば、水澤化学工業
(製)のミズカラック:組成式:[Li2 Al4 (O
H)12]CO3 ・mH2 O,ただしm≒3)等が特に好
ましい。
When an antioxidant is used in the present invention
Is based on 100 parts by weight of the propylene random copolymer.
It may be added in an amount of about 0.001 to 1 part by weight. to this
This is preferable because yellowing and the like can be prevented. As a neutralizer
Calcium stearate, zinc stearate,
Magnesium thearate, hydrotalcites (eg
For example, DHT-4A manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd .: Composition formula: Mg
4.5 AlTwo(OH)13COThree・ 3.5HTwoO), Lichiu
Aluminum hydroxide (for example, Mizusawa Chemical Industries
Mizukarak (product name): Composition formula: [LiTwoAlFour(O
H)12] COThree・ MHTwoO, especially m ≒ 3)
Good.

【0060】アンチブロッキング剤としては、富士シリ
シア(製)の合成シリカ系アンチブロッキング剤「サイ
リシア」:や水澤化学工業(製)の合成シリカ系アンチ
ブロッキング剤「ミズカシル」等が特に好ましい。スリ
ップ剤としては、エルカ酸アミド、オレイン酸アミド、
ステアリン酸アミド、ベヘニン酸アミド、エチレンビス
ステアリン酸アミド、エチレンビスオレイン酸アミド、
ステアリルエルカアミド、オレイルパルミトアミドが特
に好ましい。
As the anti-blocking agent, a synthetic silica-based anti-blocking agent “Sylysia” manufactured by Fuji Silysia (manufactured by) and a synthetic silica-based anti-blocking agent “Mizukasil” manufactured by Mizusawa Chemical Industries (manufactured by) are particularly preferable. As slip agents, erucamide, oleamide,
Stearic acid amide, behenic acid amide, ethylene bis stearic acid amide, ethylene bis oleic acid amide,
Stearyl erucamide and oleyl palmitamide are particularly preferred.

【0061】本発明において各種の添加剤は、前記プロ
ピレン系ランダム共重合体100重量部に対し0.00
1〜1重量部程度添加すればよい。添加剤処方の具体例
としては、下記の例を挙げることができる。 添加剤処方例(A) 酸化防止剤 チバスペシャルティケミカルズ社のイルガノックス10
10:1000ppm チバスペシャルティケミカルズ社のイルガフォス16
8:1000ppm 中和剤 ステアリン酸カルシウム:1000ppm アンチブロッキング剤 富士シリシア社のシリカ系アンチブロッキング剤:10
00ppm スリップ剤 エルカ酸アミド:250ppm 添加剤処方例(B) 酸化防止剤 チバスペシャルティケミカルズ社のイルガノックス10
10:1000ppm チバスペシャルティケミカルズ社のイルガフォス16
8:1000ppm 中和剤 ステアリン酸カルシウム:1000ppm アンチブロッキング剤 富士シリシア社のシリカ系アンチブロッキング剤:23
00ppm スリップ剤 エルカ酸アミド:500ppm
In the present invention, various additives are added in an amount of 0.00% by weight based on 100 parts by weight of the propylene random copolymer.
About 1 to 1 part by weight may be added. The following examples can be given as specific examples of the additive formulation. Example of additive formulation (A) Antioxidant Irganox 10 from Ciba Specialty Chemicals
10: 1000 ppm Irgafos 16 from Ciba Specialty Chemicals
8: 1000 ppm Neutralizing agent Calcium stearate: 1000 ppm Antiblocking agent Silica-based antiblocking agent manufactured by Fuji Silysia Ltd .: 10
00 ppm slip agent erucamide: 250 ppm Additive Formulation Example (B) Antioxidant Ciba Specialty Chemicals Irganox 10
10: 1000 ppm Irgafos 16 from Ciba Specialty Chemicals
8: 1000 ppm Neutralizing agent Calcium stearate: 1000 ppm Antiblocking agent Silica-based antiblocking agent of Fuji Silysia Ltd .: 23
00 ppm slip agent erucamide: 500 ppm

【0062】[0062]

〔実施例1〕[Example 1]

(マグネシウム化合物の調製)攪拌機付反応層(内容積
80L)を窒素ガスで十分に置換し、脱水エタノール2
0L、金属マグネシウム1.06kg及びヨウ素106
gを投入し、攪拌しながら還流条件下で系内から水素ガ
スの発生が無くなるまで反応させ、固体状反応生成物を
得た。この固体状反応生成物を含む反応物を減圧乾燥す
ることにより目的のマグネシウム化合物(固体触媒の担
体)を得た。 (固体触媒成分の調製)窒素で置換した攪拌機付反応層
(内容積80L)に前記マグネシウム化合物4.0kg
を投入し、さらに、脱水処理したヘプタンを20L加え
た。40℃に加熱し四塩化珪素600mlを加え、20
分攪拌し、ジ−n−ブチルフタレートを850ml加え
た。溶液を70℃まで昇温し、引き続き四塩化チタンを
19.25L投入した。内温を125℃とし2時間接触
反応させた。その後、125℃の脱水ヘプタンを用いて
充分洗浄を行った。さらに四塩化チタンを30.50L
加え、内温を125℃とし2時間接触反応させた。その
後125℃の脱水ヘプタンを用いて充分洗浄を行い固体
成分[A]を得た。 (予備重合)窒素で置換した攪拌機付反応層(内容積8
0L)に固体成分[A]を1.0kgを投入し、さらに
脱水処理したヘプタンを8.4L加えた。40℃に加熱
しトリエチルアルミニウム43mlとジシクロペンチル
ジメトキシシランを116ml加えた。これにプロピレ
ンを常圧で流通させ2 時間反応させた。その後、固体成
分を脱水ヘプタンを用いて充分洗浄を行い触媒成分を得
た。 (重合)内容積200Lの攪拌器付重合槽に前記の固体
触媒成分を成分中のチタン原子換算で3mmol/kg
−PPで、トリエチルアルミニウムを4mmol/kg
−PPで、ジシクロペンチルジメトキシシランを1mm
ol/kg−PPでそれぞれ供給し、重合温度80℃、
重合圧力(全圧)28kg/cm2 Gでプロピレンとエ
チレンを反応させた。重合装置内のエチレン濃度を2.
5mol%,水素濃度を5.0mol%として重合を行
い、その結果、2wt%のエチレン含有量及びM.Iが
7.1のプロピレン系ランダム共重合体を得た。 (ペレット化及び製膜)こうして得られたプロピレン系
ランダム共重合体のパウダーについて下記の「樹脂特性
評価法」に従い評価した結果を表3に示した。また、プ
ロピレン系ランダム共重合体のパウダーに、前記(A)
の添加剤処方を施し、東芝機械(株)のModel35
B押出機にてペレット化した。得られたプロピレン系ラ
ンダム共重合体のペレットを三菱重工製75mmφ押出
機を用い、Tダイ出口における樹脂温度265℃、チル
ロール温度25℃、引取速度150m/ minの条件に
て膜厚30μmのフィルムに成形した。得られたフィル
ムについて、下記の「フィルム品質の評価法」に従い評
価した結果を表3に示した。 「樹脂特性評価法」13 C−NMRによるα及びPの測定13 C−NMRのスペクトルは日本電子社製のJNM−E
X400型NMR装置を使用し、以下の条件にて測定し
た。
(Preparation of magnesium compound) The reaction layer equipped with a stirrer (internal volume 80 L) was sufficiently replaced with nitrogen gas, and dehydrated ethanol 2
0L, 1.06kg of metallic magnesium and 106 of iodine
g, and the mixture was reacted with stirring under reflux conditions until hydrogen gas was no longer generated from the inside of the system to obtain a solid reaction product. The reaction product containing the solid reaction product was dried under reduced pressure to obtain a target magnesium compound (a solid catalyst carrier). (Preparation of solid catalyst component) 4.0 kg of the magnesium compound was added to a reaction layer equipped with a stirrer (internal volume: 80 L) which was replaced with nitrogen.
, And 20 L of dehydrated heptane was further added. Heat to 40 ° C and add 600 ml of silicon tetrachloride,
Then, 850 ml of di-n-butyl phthalate was added. The temperature of the solution was raised to 70 ° C., and then 19.25 L of titanium tetrachloride was charged. The internal temperature was set to 125 ° C., and a contact reaction was performed for 2 hours. Thereafter, washing was sufficiently performed using dehydrated heptane at 125 ° C. 30.50 L of titanium tetrachloride
In addition, the internal temperature was set to 125 ° C., and a contact reaction was performed for 2 hours. Thereafter, the solid was thoroughly washed with 125 ° C. dehydrated heptane to obtain a solid component [A]. (Preliminary polymerization) Nitrogen-replaced reaction layer with stirrer (internal volume 8
0 L), 1.0 kg of the solid component [A] was charged, and 8.4 L of dehydrated heptane was further added. The mixture was heated to 40 ° C., and 43 ml of triethylaluminum and 116 ml of dicyclopentyldimethoxysilane were added. Propylene was allowed to flow at normal pressure and reacted for 2 hours. Thereafter, the solid component was sufficiently washed with dehydrated heptane to obtain a catalyst component. (Polymerization) The above solid catalyst component was added to a polymerization tank with a stirrer having an internal volume of 200 L in an amount of 3 mmol / kg in terms of titanium atoms in the component.
-4 mmol / kg of triethylaluminum with PP
1 mm of dicyclopentyldimethoxysilane with PP
ol / kg-PP, and the polymerization temperature is 80 ° C.
Propylene and ethylene were reacted at a polymerization pressure (total pressure) of 28 kg / cm 2 G. 1. Adjust the ethylene concentration in the polymerization apparatus to 2.
The polymerization was carried out with 5 mol% and a hydrogen concentration of 5.0 mol%. As a result, the ethylene content of 2 wt% and the M.P. A propylene-based random copolymer having an I of 7.1 was obtained. (Pelletization and film formation) Table 3 shows the results of the evaluation of the powder of the propylene-based random copolymer thus obtained in accordance with the following "resin property evaluation method". Further, the powder of the propylene-based random copolymer includes the above (A)
Additive prescription, Toshiba Machine Co., Ltd. Model35
It pelletized with the B extruder. The pellets of the obtained propylene-based random copolymer were formed into a film having a thickness of 30 μm using a 75 mmφ extruder manufactured by Mitsubishi Heavy Industries, under the conditions of a resin temperature of 265 ° C., a chill roll temperature of 25 ° C., and a take-up speed of 150 m / min at the T-die outlet. Molded. Table 3 shows the results of the evaluation of the obtained film in accordance with the following “Method of evaluating film quality”. "Resin Characteristics Evaluation method" 13 spectra measured 13 C-NMR of C-NMR in accordance α and P is manufactured by JEOL Ltd. of JNM-E
It measured using the X400 type NMR apparatus on condition of the following.

【0063】NMR測定条件 試料濃度:220mg/NMR溶媒3ml NMR溶媒:1、2、4−トリクロロベンゼン/ベンゼ
ン−d6=90/10(体積比) 測定温度:130℃ パルス幅:45° パルス繰り返し時間:4秒 積算回数:4000回 得られたプロピレン系ランダム共重合体の各シグナルの
帰属を表1に示す。化学シフト値は、シグナル(1)、
(11)、(12)、(13)については、計算範囲で
示し、それ以外のシグナルについては、ピークトップ位
置で示した。全シグナルを計算範囲で示すと表2のよう
に表される。なお、Pはプロピレン単位、Eはエチレン
単位を示す。従って、PPPは、プロピレン単位が3個
連続していることを、また、EEEは、エチレン単位が
3個連続していることを示している。
NMR measurement conditions Sample concentration: 220 mg / NMR solvent 3 ml NMR solvent: 1,2,4-trichlorobenzene / benzene-d6 = 90/10 (volume ratio) Measurement temperature: 130 ° C. Pulse width: 45 ° Pulse repetition time Table 4 shows the assignment of each signal of the obtained propylene random copolymer. Chemical shift values are signal (1),
(11), (12), and (13) are shown in the calculation range, and other signals are shown in the peak top position. Table 2 shows all signals in the calculation range. In addition, P shows a propylene unit and E shows an ethylene unit. Therefore, PPP indicates that three propylene units are continuous, and EEE indicates that three ethylene units are continuous.

【0064】[0064]

【表1】 [Table 1]

【0065】[0065]

【表2】 [Table 2]

【0066】プロピレン系ランダム共重合体中のエチレ
ン単位の含有量(α(重量%))は各シグナル強度から
次式に従い算出した。 α=2X/(300―X) X=Et/S×100 Et=IEEE +2/3 (IPEE +IEPE )+1/3 (IPPE
+IPEP ) S=IEPE +IPPE +IEEE +IPPP +IPEE +IPEP IEPE =I(4) IPPP =I(8) IPPE =I(5) IPEE =I(9) IEEE =I(7) /2+I(6) /4 IPEP =I(10) 但し、例えばI(1) は表1又は表2におけるシグナルの
番号(1)のシグナル強度である。また、立体規則性指
標(P(モル%))は次式から算出した。 P=I(11)/(I(11 )+I(12)+I(13)−I(2) −I
(4)) ×100 このP値は共重合体分子鎖のプロピレン連鎖領域におけ
るトライアッド単位のアイソタクチック分率である。な
お、この式においてはmr領域に現れるPPE連鎖の中
央のプロピレン単位のメチル炭素のシグナル強度はSα
γ(2番のシグナル)のシグナル強度により代用してい
る。また、rr領域に現れるEPE連鎖中のプロピレン
単位のメチル炭素のシグナル強度はTδδ(4番のシグ
ナル)のシグナル強度により代用している。 昇温分別クロマトグラフ(TREF) 温度135℃に調節したTREFカラムに試料溶液を導
入し、次いで速度5℃/hrにて徐々に0℃まで降温
し、試料を充填剤に吸着させる。その後カラムを速度4
0℃/hrにて135℃まで昇温し、溶出曲線を得た。
以下に測定装置、及び測定条件を示す。
The content (α (% by weight)) of ethylene units in the propylene-based random copolymer was calculated from the respective signal intensities according to the following equation. α = 2X / (300-X) X = Et / S × 100 Et = IEEE + 2/3 (IPEE + IEPE) +1/3 (IPPE
+ IPEP) S = IEPE + IPPE + IEEE + IPPP + IPEE + IPEP IEPE = I (4) IPPP = I (8) IPPE = I (5) IPEE = I (9) IEEE = I (7) / 2 + I (6) / 4 + I (6) (10) Here, for example, I (1) is the signal intensity of signal number (1) in Table 1 or Table 2. The stereoregularity index (P (mol%)) was calculated from the following equation. P = I (11) / (I (11) + I (12) + I (13) -I (2) -I
(4)) × 100 This P value is an isotactic fraction of triad units in the propylene chain region of the copolymer molecular chain. In this equation, the signal intensity of the methyl carbon of the propylene unit at the center of the PPE chain appearing in the mr region is Sα
It is substituted by the signal intensity of γ (2nd signal). The signal intensity of the methyl carbon of the propylene unit in the EPE chain appearing in the rr region is substituted by the signal intensity of Tδδ (the fourth signal). Temperature rising fractionation chromatography (TREF) A sample solution is introduced into a TREF column adjusted to a temperature of 135 ° C, and then gradually cooled to 0 ° C at a rate of 5 ° C / hr to adsorb the sample to the filler. Then the column was moved to speed 4
The temperature was raised to 135 ° C. at 0 ° C./hr to obtain an elution curve.
The measuring device and the measuring conditions are shown below.

【0067】1)測定装置 TREFカラム:GLサイエンス社製シリカゲルカラム
(4.6φ×150mm) フローセル:GLサイエンス社製 光路長 1mm K
Brセル 送液ポンプ:センシュウ科学社製 SSC−3100ポ
ンプ バルブオーブン:GLサイエンス社製 MODEL55
4オーブン TREFオーブン:GLサイエンス社製 二系列温調器:理学工業社製 REX−C100温調器 検出器:液体クロマトグラフィー用赤外検出器 FOXBORO社製 MIRAN 1A CVF 10方バルブ:バルコ社製 電動バルブ ループ:バルコ社製 500μリットルループ 2)測定条件 溶媒:オルトジクロルベンゼン 試料濃度:7.5g/リットル 注入量:500μリットル ポンプ流量:2.0ミリリットル/分 検出波数:3.41μm カラム充填剤:クロモソルブP(30〜60メッシュ) カラム温度分布:±2.0℃以内 示差走査型熱量計(DSC)による共重合体の融点
(Tm(℃)) パーキンエルマー社製のDSC7型示差走査型熱量計を
用いて測定した。あらかじめ試料10mgを窒素雰囲気
化230℃で3min溶融した後、10℃/minで2
0℃まで降温する。この温度で3min保持した後、1
0℃/minで昇温させて得られた融解吸熱曲線の最大
ピークのピークトップ温度を融点とした。 共重合体中の沸騰ジエチルエーテル抽出量(E(重量
%)) 1mmφメッシュパスの大きさに粉砕したペレットを円
筒ろ紙に3g、抽出溶剤のジエチルエーテルを平底フラ
スコに160ml入れ、リフラックス頻度を1回/5m
in程度にして10時間のソックスレー抽出を行う。抽
出終了後、ロータリーエバポレーターによりジエチルエ
ーテルを回収し、さらに真空乾燥器により恒量になるま
で乾燥し沸騰ジエチルエーテル抽出量とした。 メルトインデックス(MI(g/10min)) JIS K7210に従い、温度230℃、荷重216
0gで測定した。 「フィルム品質の評価法」製膜したフィルムは全て温度
40℃にて24時間のアニール処理を行い、更に温度2
3±2℃、湿度50±10%で16時間以上の状態調節
した後に同じ温度、湿度条件下で測定を行った。 ヒートシール温度 JIS Z−1707に準拠して測定した。具体的には
表面温度計により較正されたヒートシールバーにより以
下の条件にてシールし、室温で一昼夜放置した後、室温
で剥離速度を200mm/ minにしたT型剥離法によ
り剥離強度を測定した。ヒートシール温度は剥離強度が
300g/ 15mmになる温度と定義し、シール温度―
剥離強度曲線から計算により求めた。
1) Measuring device TREF column: silica gel column (4.6φ × 150 mm) manufactured by GL Science Co., Ltd. Flow cell: optical path length 1 mm K manufactured by GL Science Co.
Br cell Liquid sending pump: SSC-3100 pump manufactured by Senshu Kagaku Co., Ltd. Valve oven: Model 55 manufactured by GL Sciences Inc.
4 oven TREF oven: GL Science's two-line temperature controller: Rigaku Corporation REX-C100 temperature controller Detector: Infrared detector for liquid chromatography FOXBORO's MIRAN 1A CVF 10-way valve: Barco's electric Valve loop: 500 μL loop manufactured by Barco 2) Measurement conditions Solvent: ortho-dichlorobenzene Sample concentration: 7.5 g / L Injection volume: 500 μL Pump flow rate: 2.0 mL / min Detection wave number: 3.41 μm Column packing : Chromosolve P (30 to 60 mesh) Column temperature distribution: within ± 2.0 ° C Melting point (Tm (° C)) of copolymer by differential scanning calorimeter (DSC) DSC7 type differential scanning calorimeter manufactured by PerkinElmer It was measured using a meter. A sample of 10 mg was previously melted at 230 ° C. for 3 minutes in a nitrogen atmosphere, and then melted at 10 ° C./min.
Cool to 0 ° C. After holding at this temperature for 3 minutes, 1
The peak top temperature of the maximum peak of the melting endothermic curve obtained by raising the temperature at 0 ° C./min was defined as the melting point. Extraction amount of boiling diethyl ether in copolymer (E (% by weight)) 3 g of pellets pulverized to a size of 1 mmφ mesh path were put in a cylindrical filter paper, 160 ml of diethyl ether as an extraction solvent was put in a flat-bottomed flask, and the reflux frequency was 1 Times / 5m
soxhlet extraction for about 10 hours. After completion of the extraction, diethyl ether was recovered by a rotary evaporator, and further dried to a constant weight by a vacuum drier to obtain a boiling diethyl ether extraction amount. Melt index (MI (g / 10 min)) According to JIS K7210, temperature 230 ° C, load 216
It was measured at 0 g. "Evaluation method of film quality" All the films formed were annealed for 24 hours at a temperature of 40 ° C.
After conditioning for 16 hours or more at 3 ± 2 ° C. and 50 ± 10% humidity, measurement was performed under the same temperature and humidity conditions. Heat seal temperature Measured according to JIS Z-1707. Specifically, after sealing with a heat seal bar calibrated by a surface thermometer under the following conditions, and leaving it at room temperature for 24 hours, the peel strength was measured by a T-type peeling method at room temperature with a peeling rate of 200 mm / min. . The heat sealing temperature is defined as the temperature at which the peel strength becomes 300 g / 15 mm.
It was calculated from the peel strength curve.

【0068】シール条件 シール面:金属ロール面/金属ロール面 シール面積:15×10mm シール圧力:2.0kg/ cm2 シール時間:1秒 シール温度:ヒートシール温度を内挿できるように数点 アンチブロッキング性 2枚のフィルムについて、一枚の金属ロール面ともう一
枚の反金属ロール面とを以下の条件にて密着させ、10
×10cmの治具にそれぞれを固定し、10×10cm
の面積の密着強度を以下の条件の引剥試験により測定し
た。
Sealing conditions Sealing surface: metal roll surface / metal roll surface Sealing area: 15 × 10 mm Sealing pressure: 2.0 kg / cm 2 Sealing time: 1 second Sealing temperature: Several points so that heat sealing temperature can be interpolated Blocking property With respect to the two films, one metal roll surface and another anti-metal roll surface were brought into close contact with each other under the following conditions.
Fix each to a 10 x 10 cm jig, 10 x 10 cm
Was measured by a peel test under the following conditions.

【0069】密着条件 その1:温度60℃、3時間、荷重36g/ cm2 、面
積10×10cm その2:温度50℃、7日間、荷重15g/ cm2 、面
積10×10cm 引剥試験条件 テストスピード:20mm/ min ロードセル:2Kg スリップ性 フィルムを張ったスレットを、フィルムを張ったガラス
板の上に静置した後、ガラス板を傾けてゆき、スレット
が滑り出したときのガラス板の傾き角θのtanで評価
した。測定には東洋精機製作所製の摩擦角測定器を使用
した。以下に条件を示す。
Adhesion conditions Part 1: Temperature 60 ° C., 3 hours, load 36 g / cm 2 , area 10 × 10 cm Part 2: Temperature 50 ° C., 7 days, load 15 g / cm 2 , area 10 × 10 cm Speed: 20 mm / min Load cell: 2 kg Slip property After a film-covered threat is allowed to stand on a film-covered glass plate, the glass plate is tilted, and the glass plate tilt angle θ when the threat slides out. The tan was evaluated. For the measurement, a friction angle measuring device manufactured by Toyo Seiki Seisaku-sho, Ltd. was used. The conditions are shown below.

【0070】測定面:金属ロール面/金属ロール面 傾斜速度:2.7°/ sec スレッド重量:1Kg スレッド断面積:65cm2 面間圧力:15g/ cm2 透明性(ヘイズ) JIS K7105に従い測定した。 耐衝撃性 東洋精機製作所製のフィルムインパクトテスターにおい
て1/2インチ衝撃頭を用いた衝撃破壊強度により評価
した。 引張弾性率 JIS K7127に準拠した引張試験により以下の条
件にて測定した。
Measurement surface: metal roll surface / metal roll surface Tilt speed: 2.7 ° / sec Thread weight: 1 kg Thread cross-sectional area: 65 cm 2 Inter-surface pressure: 15 g / cm 2 Transparency (haze) Measured according to JIS K7105. . Impact resistance was evaluated by the impact breaking strength using a 1/2 inch impact head in a film impact tester manufactured by Toyo Seiki Seisaku-sho, Ltd. Tensile modulus Measured under the following conditions by a tensile test in accordance with JIS K7127.

【0071】クロスヘッド速度:500mm/ min ロードセル:10Kg 測定方向:マシン方向(MD) 〔比較例1〕固体触媒成分の調製において、接触反応温
度を125℃から110℃に変更し、さらに反応後12
5℃脱水ヘプタンを用いて洗浄する行程を80°C脱水
ヘプタンを用いるように変更した以外は、実施例1と同
様に行った。結果を表3に示した。 〔実施例2〕重合装置内のエチレン濃度を5.0モル
%、水素濃度を8.5モル%に、添加剤処方を前記
(B)に変え三菱重工製75mmφ押出機を用い、Tダ
イ出口における樹脂温度243℃、チルロール温度40
℃、引取速度125m/ minの条件にて膜厚30μm
のフィルムに成形した以外は、実施例1と同様に行っ
た。結果を表3に示した。 〔実施例3〕重合装置内のエチレン濃度を7.5モル
%、水素濃度を12.2モル%に変えた以外は、実施例
2と同様に行った。結果を表3に示した。 〔比較例2〕固体触媒成分の調製において、接触反応温
度を125℃から110℃に変更し、さらに反応後12
5℃脱水ヘプタンを用いて洗浄する行程を80°C脱水
ヘプタンを用いるように変更した以外は、実施例2と同
様に行った。結果を表3に示した。 〔実施例4〕重合装置内のエチレン濃度を2.7モル%
に変更したこと,及び立体規則性指標Pを次式から求め
たこと以外は、実施例1と同様に行った。結果を表4に
示した。 P=I(11)/(I(11 )+I(12)+I(13)−I(4) −I
(5)) ×100 このP値は共重合体分子鎖のプロピレン連鎖領域におけ
るトライアッド単位のアイソタクチック分率である。な
お、この式においてはmr領域に現れるPPE連鎖の中
央のプロピレン単位のメチル炭素のシグナル強度はTβ
δ(5番のシグナル)のシグナル強度により代用してい
る。また、rr領域に現れるEPE連鎖中のプロピレン
単位のメチル炭素のシグナル強度をTδδ(4番のシグ
ナル)のシグナル強度により代用している。Pの算出方
法には、前記実施例1において記載した方法と本実施例
において記載した方法があるが、実質的には多くの場合
同一の結果を示すものである。両者が異なる場合には、
本実施例の算出方法を用いることがより適切である。 〔実施例5〕重合装置内のエチレン濃度を5.3モル%
に変更したこと、及びPの算出方法を実施例4と同様に
行ったこと以外は、全て実施例2と同様に行った。結果
を表4に示した。 〔実施例6〕重合装置内のエチレン濃度を7.9モル%
に変更したこと、及びPの算出方法を実施例4と同様に
行ったこと以外は、全て実施例2と同様に行った。結果
を表4に示した。
Crosshead speed: 500 mm / min Load cell: 10 kg Measurement direction: machine direction (MD) [Comparative Example 1] In the preparation of the solid catalyst component, the contact reaction temperature was changed from 125 ° C. to 110 ° C.
The same procedure as in Example 1 was performed, except that the washing process using 5 ° C. dehydrated heptane was changed to use 80 ° C. dehydrated heptane. The results are shown in Table 3. [Example 2] The ethylene concentration in the polymerization apparatus was adjusted to 5.0 mol%, the hydrogen concentration was adjusted to 8.5 mol%, the additive formulation was changed to the above (B), and a 75 mmφ extruder manufactured by Mitsubishi Heavy Industries was used. Resin temperature 243 ° C, chill roll temperature 40
Film thickness 30 µm under the conditions of ° C and a take-off speed of 125 m / min.
Example 1 was performed except that the film was formed. The results are shown in Table 3. Example 3 The same procedure as in Example 2 was carried out except that the ethylene concentration in the polymerization apparatus was changed to 7.5 mol% and the hydrogen concentration was changed to 12.2 mol%. The results are shown in Table 3. [Comparative Example 2] In the preparation of the solid catalyst component, the contact reaction temperature was changed from 125 ° C to 110 ° C.
The same operation as in Example 2 was performed, except that the washing process using 5 ° C. dehydrated heptane was changed to use 80 ° C. dehydrated heptane. The results are shown in Table 3. [Example 4] The ethylene concentration in the polymerization apparatus was set to 2.7 mol%.
And the stereoregularity index P was obtained from the following equation. The results are shown in Table 4. P = I (11) / (I (11) + I (12) + I (13) -I (4) -I
(5)) × 100 This P value is the isotactic fraction of triad units in the propylene chain region of the copolymer molecular chain. In this equation, the signal intensity of methyl carbon of the propylene unit at the center of the PPE chain appearing in the mr region is Tβ
It is substituted by the signal intensity of δ (5th signal). Further, the signal intensity of the methyl carbon of the propylene unit in the EPE chain appearing in the rr region is substituted by the signal intensity of Tδδ (4th signal). The method of calculating P includes the method described in the first embodiment and the method described in the present embodiment, but substantially the same result is obtained in many cases. If they are different,
It is more appropriate to use the calculation method of the present embodiment. [Example 5] The ethylene concentration in the polymerization apparatus was 5.3 mol%.
Were performed in the same manner as in Example 2 except that the calculation method of P was changed in the same manner as in Example 4. The results are shown in Table 4. [Example 6] The ethylene concentration in the polymerization apparatus was set to 7.9 mol%.
Were performed in the same manner as in Example 2 except that the calculation method of P was changed in the same manner as in Example 4. The results are shown in Table 4.

【0072】[0072]

【表3】 [Table 3]

【0073】[0073]

【表4】 [Table 4]

【0074】[0074]

【発明の効果】本発明のプロピレン系ランダム共重合体
は、比較的広い分子量分布及び組成分布を有しながら、
かつべとつき成分が少ないという特徴を有するので、ポ
リプロピレンが本来有する剛性、透明性及び防湿性等の
好ましい特性を損なうことなく、優れたヒートシール性
を発現し、かつ高速製袋に必要なスリップ性及びアンチ
ブロッキング性を兼ね備えたフィルムを得ることがで
き、また、製膜速度を高速化しても品質の低下が極めて
小さいフィルムを製造することができる。
The propylene random copolymer of the present invention has a relatively wide molecular weight distribution and composition distribution,
And because it has the characteristic that there is little sticky component, without deteriorating the inherent properties of polypropylene such as rigidity, transparency and moisture resistance, excellent heat sealability is exhibited, and the slip property required for high-speed bag making and A film having both anti-blocking properties can be obtained, and a film with extremely small deterioration in quality can be produced even when the film forming speed is increased.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat ゛ (Reference)

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プロピレンとエチレンのランダム共重合
体であって、下記の〜を満たすプロピレン系ランダ
ム共重合体。13 C- NMRにより測定した共重合体中のエチレン単
位の含有量(α(重量%))が0.2〜10重量%であ
る。 昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク温度をTp
(℃)としたとき、(Tp−5)℃〜(Tp+5)℃の
温度範囲において溶出する量(Wp(重量%))が20
重量%以上である。 昇温分別クロマトグラフの0℃以下の温度範囲におい
て溶出する量(W0 (重量%))とαが下記(1)式の
関係を満たす。 W0 ≦(3+2α)/4・・・(1)
1. A random copolymer of propylene and ethylene, which satisfies the following: The ethylene unit content (α (% by weight)) in the copolymer measured by 13 C-NMR is 0.2 to 10% by weight. Tp is the main elution peak temperature of the fractionated chromatograph
(C), the amount (Wp (% by weight)) eluted in the temperature range of (Tp-5) C to (Tp + 5) C is 20.
% By weight or more. The amount (W0 (% by weight)) eluted in the temperature range of 0 ° C. or lower in the temperature rising fractionation chromatograph and α satisfy the relationship of the following formula (1). W0 ≦ (3 + 2α) / 4 (1)
【請求項2】 示差走査型熱量計(DSC)により測定
した共重合体の融点(Tm(℃))とαが下記式(2)
の関係を満たす請求項1に記載のプロピレン系ランダム
共重合体。 Tm≦160―5α・・・(2)
2. The melting point (Tm (° C.)) and α of the copolymer measured by a differential scanning calorimeter (DSC) are represented by the following formula (2).
The propylene-based random copolymer according to claim 1, which satisfies the following relationship: Tm ≦ 160−5α (2)
【請求項3】 昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク
温度をTp(℃)としたとき、(Tp+5)℃以上の温
度範囲において溶出する量(WH (重量%))とαが下
記式(3)の関係を満たす請求項1または2に記載のプ
ロピレン系ランダム共重合体。 0.1≦WH ≦3α・・・(3)
3. The amount of elution (WH (% by weight)) and α in the temperature range of (Tp + 5) ° C. or more, where Tp (° C.) is the main elution peak temperature of the temperature-increased fractionation chromatograph, is represented by the following formula (3) The propylene random copolymer according to claim 1 or 2, which satisfies the relationship of (1) or (2). 0.1 ≦ WH ≦ 3α (3)
【請求項4】 共重合体中の沸騰ジエチルエーテル抽出
成分量(E(重量%))が2.5重量%以下であり、か
つEとαが下記式(4)の関係を満たす請求項1〜3の
いずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体。 E≦(2α+15)/10・・・(4)
4. The method according to claim 1, wherein the amount of the boiling diethyl ether extractable component (E (% by weight)) in the copolymer is 2.5% by weight or less, and E and α satisfy the relationship of the following formula (4). 4. The propylene-based random copolymer according to any one of items 1 to 3. E ≦ (2α + 15) / 10 (4)
【請求項5】 メルトインデックス(MI(g/10m
in))が0.1〜200g/10minである請求項
1〜4のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合
体。
5. The melt index (MI (g / 10 m)
The propylene random copolymer according to any one of claims 1 to 4, wherein (in)) is from 0.1 to 200 g / 10 min.
【請求項6】 13C- NMRにより測定した共重合体中
の立体規則性指標(P(モル%))が98モル%以上で
ある請求項1〜5のいずれかに記載のプロピレン系ラン
ダム共重合体。
6. The propylene random copolymer according to claim 1, wherein a stereoregularity index (P (mol%)) in the copolymer measured by 13 C-NMR is 98 mol% or more. Polymer.
【請求項7】 αが3〜7重量%である請求項1〜6の
いずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体。
7. The propylene-based random copolymer according to claim 1, wherein α is 3 to 7% by weight.
【請求項8】 請求項1〜7のいずれかに記載のプロピ
レン系ランダム共重合体からなるフィルム。
8. A film comprising the propylene-based random copolymer according to claim 1.
JP12913899A 1998-09-01 1999-05-10 Propylene-based random copolymer and film made therefrom Pending JP2000143731A (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12913899A JP2000143731A (en) 1998-09-01 1999-05-10 Propylene-based random copolymer and film made therefrom
PCT/JP1999/004657 WO2000012573A1 (en) 1998-09-01 1999-08-30 Propylene random copolymer, propylene resin composition, film of these, and multilayered propylene resin laminate
DE1999181907 DE19981907T1 (en) 1998-09-01 1999-08-30 Statistical propylene copolymer and propylene resin composition, films of these and multilayer propylene resin laminate
US09/529,418 US6287705B1 (en) 1998-09-01 1999-08-30 Propylene random copolymer, propylene resin composition, film of these, and multilayered propylene resin laminate

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10-246850 1998-09-01
JP24685098 1998-09-01
JP12913899A JP2000143731A (en) 1998-09-01 1999-05-10 Propylene-based random copolymer and film made therefrom

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000143731A true JP2000143731A (en) 2000-05-26

Family

ID=26464626

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12913899A Pending JP2000143731A (en) 1998-09-01 1999-05-10 Propylene-based random copolymer and film made therefrom

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000143731A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180128394A (en) * 2016-03-28 2018-12-03 도호 티타늄 가부시키가이샤 A method for producing alkoxymagnesium and alkoxymagnesium, a solid catalyst component for olefin polymerization, a catalyst for olefin polymerization and a process for producing olefin polymers
KR20190066020A (en) * 2016-10-03 2019-06-12 도호 티타늄 가부시키가이샤 A solid catalyst component for olefin polymerization, a solid catalyst component for olefin polymerization, a catalyst for olefin polymerization, a process for producing an olefin polymer, a process for producing a propylene copolymer and a propylene copolymer

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180128394A (en) * 2016-03-28 2018-12-03 도호 티타늄 가부시키가이샤 A method for producing alkoxymagnesium and alkoxymagnesium, a solid catalyst component for olefin polymerization, a catalyst for olefin polymerization and a process for producing olefin polymers
US11008408B2 (en) 2016-03-28 2021-05-18 Toho Titanium Co., Ltd. Alkoxymagnesium, method for producing alkoxymagnesium, solid catalyst component for olefin polymerization, olefin polymerization catalyst, and method for producing olefin polymer
KR102291509B1 (en) * 2016-03-28 2021-08-19 도호 티타늄 가부시키가이샤 Magnesium alkoxy, method for producing magnesium alkoxy, solid catalyst component for polymerization of olefins, catalyst for polymerization of olefins, and method for producing olefins polymer
KR20190066020A (en) * 2016-10-03 2019-06-12 도호 티타늄 가부시키가이샤 A solid catalyst component for olefin polymerization, a solid catalyst component for olefin polymerization, a catalyst for olefin polymerization, a process for producing an olefin polymer, a process for producing a propylene copolymer and a propylene copolymer
KR102381124B1 (en) 2016-10-03 2022-03-31 도호 티타늄 가부시키가이샤 A solid catalyst component for polymerization of olefins, a method for preparing a solid catalyst component for polymerization of olefins, a catalyst for polymerization of olefins, a method for producing an olefin polymer, a method for producing a propylene-based copolymer, and a propylene-based copolymer

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3090021B1 (en) Process for producing propylene terpolymer
US6287705B1 (en) Propylene random copolymer, propylene resin composition, film of these, and multilayered propylene resin laminate
JP2000313777A (en) Propylene-based copolymer and molded form from the same
EP0885926A2 (en) Propylene polymer blends, processes of producing the same, and polypropylene resin compositions
US10280242B2 (en) Bimodal polypropylene for cast films or a metallized film wherein the polypropylene comprises two fractions which differ in the comonomer content
US6270911B1 (en) Propylene-based random copolymers and propylene-based resin compositions, films thereof and propylene-based resin laminates
CN107428872B (en) Propylene-based terpolymers
JP2000044630A (en) Crystalline polypropylene and its molded product and film
WO2004065429A1 (en) Catalysts for polymerizing oelfins and process for producing olefin polymer
JP2000143731A (en) Propylene-based random copolymer and film made therefrom
JP2001114908A (en) Biaxially oriented polypropylene film
JP4514248B2 (en) Propylene resin composition and film thereof
JP2000178320A (en) Propylene random copolymer and film made therefrom
JP4240870B2 (en) Propylene-ethylene random copolymer and method for producing the same
JPH07309913A (en) Polypropylene
US6639038B2 (en) Crystalline polypropylene and its moldings and films
JP4249343B2 (en) Propylene random copolymer composition and film comprising the same
JP2001058380A (en) Multilayered laminate comprising propylene type resin
JP4503115B2 (en) Propylene random copolymer composition and film comprising the same
JP2001059027A (en) Polypropylene-based film and laminate
JP2000044629A (en) Crystalline polypropylene and molded product prepared by molding the same
JP2001031805A (en) Propylene random copolymer composition and film therefrom
JP2000109519A (en) Crystalline polypropylene, and crystalline polypropylene composition and molded article molded from the same
JP4249341B2 (en) Propylene-based random copolymer composition having excellent weather resistance and film comprising the same
JP2000319463A (en) Crystalline polypropylene resin composition and molded article prepared by molding same

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Effective date: 20040902

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20060224

A521 Written amendment

Effective date: 20060327

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523