JP2000140538A - Powder capturizing device - Google Patents

Powder capturizing device

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JP2000140538A
JP2000140538A JP10320341A JP32034198A JP2000140538A JP 2000140538 A JP2000140538 A JP 2000140538A JP 10320341 A JP10320341 A JP 10320341A JP 32034198 A JP32034198 A JP 32034198A JP 2000140538 A JP2000140538 A JP 2000140538A
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JP
Japan
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gas
filter
outer container
scraper
gas introduction
Prior art date
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Pending
Application number
JP10320341A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masao Miura
正男 三浦
Seiji Okinaga
清治 沖永
Hisao Kamioka
久男 上岡
Shizuo Tokuura
静雄 徳浦
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Ube Corp
Original Assignee
Ube Industries Ltd
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Publication date
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  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable the inhibition of a clogging in the filter due to a solid component contained in an exhaust gas from a semiconductor manufacturing device by sequentially arranging a filter part made of Teflon and a gas discharge part above a gas introduction part in which a scraper with plural blades mounted radially is fitted in a freely rotatable way. SOLUTION: The exhaust gas side of a dry pump is connected to the gas introduction aperture 11 of a gas introduction part 10 and, at the same time, a storage tank 60 is connected to a solid discharge aperture 13 formed at the bottom face with the center funneled downward, through a valve 14. In addition, a scraper 12 having four blades arranged at an almost 90 deg. interval is housed in the gas introduction part 10. Further, the scraper 12 is attached, in a freely detachable manner, to the tip of a rotary shaft 40 passing through the center of a filter 21 obtained by sewing a Teflon yarn-woven fabric in a cylindrical shape, of a filter part 20. Finally, the upper end part of the rotary shaft 40 is connected to the rotary shaft 40 of a motor 50 arranged above a gas discharge part 20 through a rotating seal 41 and thus the gas treatment is performed while the scraper 12 is rotated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置排
ガス中に含まれる、常温下では固化する成分を固化・捕
集する装置に関するものである。本発明の装置は、エッ
チングやCVD等、析出固体によるトラブル発生の可能
性のある工程を含むものの、問題のある一般的な装置で
対応せざるを得なかった半導体製造工程で好適に使用さ
れる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for solidifying and collecting components that are solidified at room temperature and contained in exhaust gas of a semiconductor manufacturing apparatus. The apparatus of the present invention is preferably used in a semiconductor manufacturing process which includes a process in which a trouble due to a precipitated solid such as etching or CVD may occur, but has to be dealt with by a general device having a problem. .

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造工程においては、種々の工程
で、粉体及び/又は常温下では固化するガス成分(以
下、双方を固体成分と総称する)が発生する。例えば、
配線材料であるアルミニウムのエッチング工程では、三
塩化ホウ素を使用したエッチングが行われるが、この
際、塩化アルミニウム及びホウ酸が固形粉体として生成
する。また、液晶メーカでは、CVD工程でフルオロケ
イ酸アンモニウム粉体が発生する。これらの固体成分
は、そのまま環境に放出する事が出来ない事は勿論、経
路特に、ドライポンプから排ガス処理装置に至る配管を
閉塞させることから、何等かの手段で除去する必要があ
る。その手段の一つとして、配管内で固体成分を固化析
出させて、配管を定期的に清掃または交換する単純明快
な方法があるが、この方法は、当然、ライン停止を伴う
ことから、生産量の低下が不可避であるだけでなく、装
置内への不純物侵入(コンタミ)防止に細心の注意が必
要なことから、作業が煩雑になると云う欠点を有したも
のである。
2. Description of the Related Art In a semiconductor manufacturing process, a powder component and / or a gas component which solidifies at room temperature (hereinafter, both are collectively referred to as a solid component) are generated in various processes. For example,
In the etching step of aluminum as a wiring material, etching using boron trichloride is performed. At this time, aluminum chloride and boric acid are generated as solid powder. Further, in a liquid crystal maker, ammonium fluorosilicate powder is generated in the CVD process. These solid components cannot be released to the environment as they are, but of course, the passages, particularly the pipes from the dry pump to the exhaust gas treatment device, are blocked, so that they need to be removed by some means. As one of the means, there is a simple and clear method of solidifying and precipitating solid components in pipes and periodically cleaning or replacing the pipes. In addition to the unavoidable decrease, there is a drawback that the work becomes complicated because careful attention must be paid to prevent intrusion of impurities (contamination) into the apparatus.

【0003】固体成分除去の他の手段として、適当な手
段で冷却析出させた後、適当な位置に設置したバグフィ
ルタによって捕集する方法があるが、この方法を長期間
連続して運転するには、フィルタ目詰まりの問題を解決
する必要がある。バグフィルタの目詰まり防止方法とし
ては、機械振動方式や逆噴射方式が公知であるが、半導
体製造装置排ガス処理の場合、コンタミ防止の観点から
逆噴射方式の適用は困難であり、また、装置が小さいこ
とに加えてクリーンルーム内で使用されることの制約が
加わり、化学工業分野で使用されている一般的な振動付
与型のフィルタの適用も困難である。
[0003] As another means for removing solid components, there is a method of cooling and precipitating by an appropriate means, and then collecting by a bag filter installed at an appropriate position. Need to solve the problem of filter clogging. As a method of preventing clogging of the bag filter, a mechanical vibration method and a reverse injection method are known, but in the case of exhaust gas treatment of a semiconductor manufacturing apparatus, it is difficult to apply the reverse injection method from the viewpoint of preventing contamination. In addition to the small size, the restriction of use in a clean room is added, and it is difficult to apply a general vibration imparting type filter used in the chemical industry.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、半導体製造
装置排ガス中に含まれる、固体成分及び/又は常温下で
は固化するガス成分に対する閉塞が防止された固化、並
びに、固化析出粉体に対するフィルター目詰まりの抑制
された捕集を可能にした装置の提供を目的とするもので
ある。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention relates to a method for solidifying a solid component and / or a gas component which solidifies at room temperature contained in exhaust gas of a semiconductor manufacturing apparatus, and a filter for solidifying and depositing powder. It is an object of the present invention to provide a device that enables collection with suppressed clogging.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、フィルタ
に付着し目詰まりトラブルの原因となった各種固体の性
状を詳細に調べた結果、半導体製造装置から発生する事
が知られている一般的な固体のフィルタに対する付着力
は、特にフィルタ材質がテフロンの場合に、非常に弱
く、小さな衝撃の付与で払い落としが可能なことを見出
した。また、処理対象ガスの発生源が半導体製造装置で
ある特殊性に適合した、フィルタへの衝撃付与法を見出
し、本発明を完成した。すなわち本発明は、 側面に半
導体製造装置からの排ガス導入口及び開閉バルブの装着
された固形物排出口を底面に有するガス導入部、その上
部のフィルタ部、及び、更にその上部の、粉体捕集後ガ
スの排出口を有するガス排出部とから構成される外装容
器と、該外装容器内中心部を上下に走り、上端が、ガス
排出部上面中心部に装着された回転シールで把持され、
下部が,ガス導入部とフィルタ部間に設定された軸支で
把持された回転軸と、外装容器内のフィルタ部に挿入さ
れた、上方に開口し、その上端部が外装容器壁に固定さ
れているが下端部は、中心部を貫通する回転軸周りに回
転可能な円盤外周に固定され回転軸の動きに追随した回
転が可能である円筒形のフィルタと、回転軸下部の、外
装容器内のガス導入部の位置に装着された、ガス導入部
内壁面上析出固体掻き取り用羽根と、ガス排出部上方に
設置され、ガス排出部上面に装着された回転シールを介
し外装容器内回転軸に回転を与えるためのモーターと、
ガス導入部下方に設置され、ガス導入部固形物排出口開
閉バルブに接続された貯留タンクとからなる粉体捕集装
置に関する。以下に本発明を説明する。
The inventors of the present invention have studied in detail the properties of various solids that have adhered to a filter and have caused a clogging trouble. As a result, it is known that the solids are generated from a semiconductor manufacturing apparatus. It has been found that the adhesive force of a general solid to a filter is extremely weak, especially when the filter material is Teflon, and can be wiped off by applying a small impact. In addition, the inventors have found a method of applying a shock to a filter, which is adapted to the specialty of a semiconductor manufacturing apparatus in which a source of a gas to be treated is generated, and completed the present invention. That is, the present invention relates to a gas inlet having a solid material outlet on the bottom surface to which an exhaust gas inlet from a semiconductor manufacturing apparatus and a solid matter outlet provided with an opening / closing valve on a side surface, a filter portion above the gas inlet portion, and a powder capturing portion above the gas inlet portion. An outer container composed of a gas discharge portion having a post-collection gas outlet, and runs up and down the center of the outer container, and the upper end is gripped by a rotary seal attached to the center of the gas discharge portion upper surface,
The lower part is a rotating shaft gripped by a pivot set between the gas introduction part and the filter part, and the upper part is opened to the upper part inserted into the filter part in the outer container, and the upper end part is fixed to the outer container wall. However, the lower end portion is fixed to the outer periphery of a disk rotatable around a rotation axis passing through the center portion, and is capable of rotating following the movement of the rotation axis. The blade for scraping off solids deposited on the inner wall surface of the gas introduction unit, which is attached to the position of the gas introduction unit, A motor for giving rotation,
The present invention relates to a powder collecting device including a storage tank installed below a gas introduction unit and connected to a gas introduction unit solid matter outlet opening / closing valve. Hereinafter, the present invention will be described.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】先ず、本発明の粉体捕集装置の、
半導体製造工程における設置位置を図1に示す。エッチ
ング装置、蒸着装置等の半導体製造装置1からの排気ガ
スは、ドライポンプ2を経て本発明の粉体捕集装置3に
送られる。粉体捕集装置で固体成分及び固化の虞のある
成分を除去された排ガスは、排ガス処理装置4に送ら
れ、吸着等の然るべき手段で気体状態の有害成分を除去
して無害化した後、大気中に排出される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First, a powder collecting apparatus according to the present invention will be described.
FIG. 1 shows an installation position in a semiconductor manufacturing process. Exhaust gas from a semiconductor manufacturing apparatus 1 such as an etching apparatus and a vapor deposition apparatus is sent to a powder collecting apparatus 3 of the present invention via a dry pump 2. The exhaust gas from which the solid components and the components that may be solidified have been removed by the powder collecting device is sent to the exhaust gas treatment device 4, where the harmful components in the gaseous state are removed and detoxified by appropriate means such as adsorption. Released into the atmosphere.

【0007】本発明の粉体捕集装置の構成例を図2に示
す。粉体捕集装置は、ガス導入部10、フィルタ部20
及びガス排出部30よりなる略円筒形の外装容器と、該
外装容器内に挿入された、フィルタ21、ガス導入部析
出固体掻き取り用羽根(以下スクレーパと称す)12、
フィルタ及びスクレーパに回転を伝える回転軸40、回
転軸回転の動力源であるモーター50及びガス導入部か
らの排出固体成分の受器である貯留タンク60より構成
される。
FIG. 2 shows an example of the configuration of a powder collecting apparatus according to the present invention. The powder collecting device includes a gas introduction unit 10, a filter unit 20.
An outer container having a substantially cylindrical shape including a gas discharge portion 30, a filter 21, a blade for scraping solids deposited in a gas introduction portion (hereinafter referred to as a scraper) 12 inserted in the outer container,
It comprises a rotating shaft 40 for transmitting rotation to the filter and the scraper, a motor 50 as a power source for rotating the rotating shaft, and a storage tank 60 as a receptacle for solid components discharged from the gas inlet.

【0008】外装容器は、下から順に、ガス導入部、フ
ィルタ部及びガス排出部より構成されるが、全体を、分
離不可の一体型とするよりも、フィルタ及びスクレーパ
羽根の装脱着が非常に容易になること、及び、長期使用
後における内部点検、清掃時の操作が容易になることか
ら、夫々の部分への分離・取り外しが可能な構造にして
置く方が好ましい。
[0008] The outer container is composed of a gas inlet, a filter and a gas outlet in order from the bottom, but the filter and the scraper blades are much more attached and detached than an integral type that cannot be separated as a whole. It is preferable to set the structure so that it can be separated and removed from each part because it is easy and the operation during internal inspection and cleaning after long-term use is easy.

【0009】外装容器最下層に位置するガス導入部内1
0の側壁では、ガス導入口11から導入されたガスに含
まれる成分の一部が冷却凝縮して析出し、スクレーパ1
2で掻き落とされる。掻き落とされた固化析出物は、上
部フィルタから払い落とされた粉体と共にガス導入部底
部に堆積することから、ガス導入部底部には、開閉バル
ブ14を介して、下方に設置された貯留タンク60に連
結された固体排出口13が設けられており、堆積物の貯
留タンクへの抜出しが可能な構造となっている。この場
合、堆積物の抜出しは、バルブ操作により簡単に行う事
が出来、装置を停止する必要が無い。また、ガス導入部
底部を、中心に向かって絞り込んだ構造とすることによ
り、堆積物の貯留タンクへの排出が容易になる。
In the gas introduction section located at the lowermost layer of the outer container 1
On the side wall 0, some of the components contained in the gas introduced from the gas inlet 11 are cooled and condensed and deposited, and the scraper 1
It is scraped off in 2. Since the scraped-off solidified deposits accumulate on the bottom of the gas introduction section together with the powder removed from the upper filter, the storage tank installed at the bottom of the gas introduction section via the opening / closing valve 14 is provided below. A solid discharge port 13 connected to 60 is provided so that the sediment can be extracted into a storage tank. In this case, the removal of the deposit can be easily performed by operating the valve, and there is no need to stop the apparatus. In addition, the structure in which the bottom of the gas introduction portion is narrowed toward the center facilitates discharge of the sediment to the storage tank.

【0010】ガス導入部内には、回転軸下端に設定され
たスクレーパが挿入されるが、掻き取り効果を向上する
為には,スクレーパ羽根の形状は単なる矩形ではなく、
ガス導入部内底面のテーパー部表面の走査も可能な台形
状にするのが望ましく、また、羽根端部とガス導入部内
壁面との距離は、1〜3mmとするのが望ましい。ま
た、スクレーパ羽根材質は、排ガス導入部に設置される
ことから処理対象ガス種によっては高温のガスと接触と
する可能性の存在、羽根自体への析出固体付着力の低さ
及び軽量性を考慮して、テフロンを使用するのが好まし
い。
[0010] A scraper set at the lower end of the rotating shaft is inserted into the gas inlet, but in order to improve the scraping effect, the shape of the scraper blade is not a simple rectangle,
It is preferable that the trapezoidal shape allows scanning of the surface of the tapered portion on the inner bottom surface of the gas introduction portion, and the distance between the blade end portion and the inner wall surface of the gas introduction portion is desirably 1 to 3 mm. In addition, since the scraper blade material is installed in the exhaust gas introduction section, depending on the type of gas to be treated, there is a possibility of contact with high-temperature gas, taking into consideration the low adhesion of deposited solids to the blade itself and the light weight Then, it is preferable to use Teflon.

【0011】スクレーパの羽根数は二枚以上であり、回
転軸周りの360度を略等分する位置に配置されていれ
ば問題はないが、掻き取り効果及び装置の簡便性から2
〜4枚とするのが好ましい。また、その回転様式につい
ては、後述のフィルタの回転と連動したものであり、フ
ィルタの回転様式に触れる個所で言及する。
The number of blades of the scraper is two or more, and there is no problem if the scraper is disposed at a position substantially equally dividing 360 degrees around the rotation axis.
It is preferable that the number of sheets is four. In addition, the rotation mode is linked to the rotation of the filter described later, and will be referred to at the point where the rotation mode of the filter is touched.

【0012】前段ポンプ2からのガス導入口は構造的
に、ガス導入部側面に位置する事になるが、垂直方向の
位置は、導入口中心部が側壁の中央部より下に来るよう
に設定する事により、ガス導入部における冷却効果を大
にする事が出来る。
The gas inlet from the former pump 2 is structurally located on the side of the gas inlet, but the vertical position is set such that the center of the inlet is lower than the center of the side wall. By doing so, the cooling effect in the gas inlet can be increased.

【0013】処理対象ガスに含まれる成分の種、特性、
量によっては、経路内における閉塞を防ぐため、ポンプ
から粉体捕集装置間の配管の加熱・保温が必要な場合が
あるが、この場合の温度は、固化析出の可能性のある成
分種によって決める事になる。例えば、アルミニウム配
線のエッチング工程で発生する塩化アルミニウムの場合
は、約180℃への保温が必要となる。
[0013] The species and characteristics of the components contained in the gas to be treated,
Depending on the amount, it may be necessary to heat and keep the piping from the pump to the powder collecting device in order to prevent blockage in the passage.However, the temperature in this case depends on the component species that may solidify and precipitate. Will decide. For example, in the case of aluminum chloride generated in an aluminum wiring etching process, it is necessary to keep the temperature at about 180 ° C.

【0014】ガス導入部内で固化成分の一部が固化析出
した後のガスは、フィルタ部に送られる。フィルタ部で
は、ガス流を更に冷却して、ガス流に含まれる、常温下
で固化可能な成分のほぼ全量を、粉体として固化析出さ
せると共に、ガス流中に存在する粉体をフィルタで捕集
する。尚、フィルタ部外部側面への、ほぼその全面をカ
バーする水冷ジャケット23の設定は、ガス流の冷却を
完全なものにし、固体成分のフィルタによる捕集を完全
なものにする上で、特に、ポンプからガス導入口までの
配管を高い温度に保温した場合において、好ましい結果
を与える。
The gas after a part of the solidified component solidifies and precipitates in the gas introduction part is sent to the filter part. In the filter section, the gas stream is further cooled to solidify and precipitate almost all of the components contained in the gas stream that can be solidified at room temperature as powder, and the powder present in the gas stream is captured by the filter. Gather. In addition, the setting of the water cooling jacket 23 covering almost the entire surface on the outer side surface of the filter unit makes perfect cooling of the gas flow and complete collection of the solid component by the filter. When the piping from the pump to the gas inlet is kept at a high temperature, a favorable result is obtained.

【0015】フィルタは、織布を円筒形に縫製したもの
が使用される。フィルタの下端は、中心部を貫通する回
転軸に固定された円形回転板22の円周部縁に、押え板
等の適切な手段で固定されており、回転軸の回転に連動
して回転可能な構造となっている。一方、フィルタ上端
は、外装容器に、下端に用いたものと同様の固定手段
で、固定されている。すなわち、底部を回転板に固定さ
れ閉じた下部は回転軸に追随して可動であるが、上方に
開いた開口部は固定され動かないことから、回転軸の回
転に応じてフィルタは捩じれることになる。これとは上
下を逆にしたフィルタ設定、すなわち、フィルタ下端を
動かないように固定し、上端を回転軸回転に連動して可
動な方式としても、粉体捕集及び捕集粉体払い落としの
面では同等の効果が得られるが、フィルタの装脱着が非
常に困難であり、前記した、下端を可動とする方式がよ
り好ましい方法である。
As the filter, a woven fabric sewn in a cylindrical shape is used. The lower end of the filter is fixed to a peripheral edge of a circular rotary plate 22 fixed to a rotary shaft passing through the center by a suitable means such as a holding plate, and can be rotated in conjunction with the rotation of the rotary shaft. It has a simple structure. On the other hand, the upper end of the filter is fixed to the outer container by the same fixing means as that used for the lower end. That is, the bottom part is fixed to the rotating plate and the closed lower part is movable following the rotation axis, but the opening that opens upward is fixed and does not move, so the filter is twisted according to the rotation of the rotation axis. become. The filter is set upside down, that is, the lower end of the filter is fixed so as not to move, and the upper end is movable in conjunction with the rotation of the rotating shaft. Although the same effect can be obtained in terms of surface, it is very difficult to attach and detach the filter, and the above-described method in which the lower end is movable is a more preferable method.

【0016】フィルタの材質としては、長期間周期的に
加えられる捩じれ応力への対応を可能にする伸び、強度
の機械的特性に優れ、且つ、反応性のガスとの接触に耐
える高い化学的安定性を有していることから、ポリアミ
ド、ポリエステル、アクリル、酢酸ビニル、アラミド又
はテフロン等の合成有機質の使用が好ましい。特に、固
体成分の付着力の低いテフロンの使用は好ましい。
The material of the filter is elongation which can cope with torsional stress applied periodically for a long period of time, excellent mechanical properties of strength, and high chemical stability to withstand contact with reactive gas. It is preferable to use a synthetic organic material such as polyamide, polyester, acryl, vinyl acetate, aramid, or Teflon because of having properties. In particular, the use of Teflon having a low solid component adhesion is preferable.

【0017】フィルタ面と外装容器フィルタ部内壁面の
間隔は、フィルタ下部が回転すること、該個所には冷却
効果をも持たせていることから、極端に狭くすること
も、また逆に、極端に広くすることも好ましいものでは
なく、10〜20mmに設定する。
The distance between the filter surface and the inner wall surface of the outer container filter portion can be made extremely narrow because the lower part of the filter rotates and the portion has a cooling effect. It is not preferable to increase the width, and the width is set to 10 to 20 mm.

【0018】回転軸の回転様式については、堆積した粉
体を払い落とすに十分な力がフィルタに加わること、ス
クレーパが1回の回転周期中にガス導入部側面内壁全面
を走査することの条件を満たせものであれば特に制限は
ないが、フィルタについては下端のみを可動としている
ことから、回転はフィルタに捩じれを与えることにな
り、回転角を余り大きくすることは、フィルタに不必要
に大きな機械的負荷を与えることになり好ましくない。
最も好ましい回転様式は、図4に示す様に、或る点を基
準にして正逆方向に夫々略90°振れる回転を繰り返す
事である。この回転様式では、羽根数2枚でもガス導入
部内部底・側面全面の走査が可能であることは勿論、フ
ィルタを傷めることなく、フィルタ上に堆積した固形分
を払い落とすに必要十分な衝撃を周期的に加えることが
可能である。
Regarding the rotation mode of the rotating shaft, the conditions are that a sufficient force is applied to the filter to remove the accumulated powder, and that the scraper scans the entire inner wall of the side surface of the gas introduction section during one rotation cycle. There is no particular limitation as long as the filter can be satisfied, but since only the lower end of the filter is movable, rotation imparts twist to the filter, and making the rotation angle too large requires an unnecessarily large filter. It is not preferable because it will give an objective load.
The most preferable rotation mode is, as shown in FIG. 4, a repetition of rotation of swinging approximately 90 ° in the forward and reverse directions with respect to a certain point. In this rotation mode, it is possible to scan the entire bottom and side surfaces inside the gas introduction section even with two blades, and also to apply a sufficient impact to remove the solid matter deposited on the filter without damaging the filter. It is possible to add periodically.

【0019】ガス導入部における析出固体及びフィルタ
上に堆積する粉体の特性及び量は、処理対象ガスによっ
て当然変化する。それに応じて、フィルタ及びスクレー
パに回転を加える周期を変えることになるが、回転付与
の周期30分、すなわち30分に1回の頻度で回転を加
えることにより、殆どの場合に対応できる。また、1回
の回転付与に要する時間は、極端に大きな値に設定しな
い限り、効果を左右する大きな要因ではなく、実用的な
値を設定すれば良い。例えば、時計方向への90°回転
といった或る大きさの一つの動きの夫々に1秒程度の時
間設定を行えば良い。
The characteristics and amount of the solid deposited in the gas inlet and the powder deposited on the filter naturally vary depending on the gas to be treated. In response to this, the cycle of applying rotation to the filter and the scraper is changed. In most cases, however, the rotation is applied every 30 minutes, that is, once every 30 minutes. Unless the time required for one rotation application is set to an extremely large value, a practical value may be set instead of a large factor affecting the effect. For example, a time setting of about 1 second may be set for each one movement of a certain size such as a 90 ° clockwise rotation.

【0020】回転軸への回転力付与は、ガス排出部外部
上方に設けられたモーター50で行うが、モーターは正
逆回転が可変であるステッピングモーターを使用する。
モーター制御部51に、希望する回転様式を予めプログ
ラミングして置くことにより、粉体捕集装置の、ガス導
入部からの堆積物抜き出し操作以外の自動運転が可能と
なる。
The rotation force is applied to the rotating shaft by a motor 50 provided above the outside of the gas discharge unit, and a stepping motor whose forward and reverse rotation is variable is used as the motor.
By presetting a desired rotation mode in the motor control unit 51 in advance, it is possible to perform an automatic operation of the powder collecting apparatus other than the operation of extracting the deposit from the gas introduction unit.

【0021】ステッピングモーターの回転は回転軸を介
してフィルタ下端及びスクレーパに伝えられるが、回転
軸は、その上部がガス排出部上面中心部に装着された回
転シール41によって、下部は、フィルタとスクレーパ
の間に設置されている軸支42によって適当な摺動材を
介して把持され、回転に伴うガタツキが抑制されてい
る。尚、回転シールは、シール特性に優れた磁気シール
の使用が好ましい。
The rotation of the stepping motor is transmitted to the lower end of the filter and the scraper via a rotary shaft. The rotary shaft has a rotary seal 41 mounted on the upper part of the upper part of the gas discharge part at the upper part, and a filter and a scraper on the lower part. The supporting member 42 is held between the supporting members 42 via a suitable sliding member, and the rattling due to the rotation is suppressed. In addition, it is preferable to use a magnetic seal having excellent sealing properties for the rotary seal.

【0022】フィルタ部で固化成分を除去された後のガ
スは、フィルタ部上部に位置するガス排出部に移動し、
該ガス排出部側面に設けられた排出口31から、必要に
応じて有害ガス成分除去等の次工程4へ送るべく、排出
される。
The gas from which the solidified components have been removed in the filter section moves to a gas discharge section located above the filter section,
The gas is discharged from a discharge port 31 provided on the side surface of the gas discharge portion so as to be sent to the next step 4 such as removal of harmful gas components if necessary.

【0023】フィルタで捕集され、フィルタ外部表面に
堆積した粉体は、フィルタ下部に周期的に加えられる回
転運動により払い落とされ、ガス導入部内壁面からスク
レーパで掻き落とされた固形分と共にガス導入部底部に
堆積し、定期的に下部排出口から貯留タンクへ抜出され
る。
The powder collected by the filter and deposited on the outer surface of the filter is wiped off by a rotating motion periodically applied to the lower portion of the filter, and the gas is introduced together with the solids scraped off by the scraper from the inner wall surface of the gas inlet. It accumulates at the bottom of the tank and is periodically discharged from the lower outlet to the storage tank.

【0024】本発明の粉体処理装置のサイズは、半導体
製造装置から排出される処理対象ガスの種、量に依存し
て決める事になるが、一般的なガスに対しては、径14
0mm×高さ600mm(モーター、排出固体貯蔵タン
クを含まない本体部分)のもので十分対応可能である。
The size of the powder processing apparatus of the present invention is determined depending on the type and amount of the gas to be processed discharged from the semiconductor manufacturing apparatus.
0 mm x 600 mm height (main body without motor and discharged solid storage tank) is sufficient.

【0025】本発明の粉体捕集装置は、モーターび貯留
タンクを含め、装置全体を収納ケースに収納した状態で
使用するのが好ましい。各種計器類の装着が可能となる
だけでなく、本体の支持を収納ケースに受け持たせるこ
とにより、収納タンクの交換が容易に行える利点があ
る。勿論、美観に優れると云う利点もある。
The powder collecting apparatus of the present invention is preferably used in a state where the entire apparatus including the motor and the storage tank is stored in a storage case. Not only can various instruments be mounted, but also the storage tank can be easily replaced by providing support for the main body to the storage case. Of course, there is also an advantage that the appearance is excellent.

【0026】[0026]

【実施例】以下では、本発明の粉体捕集装置を、Alエ
ッチング装置からの排ガス処理に使用した例を示し、本
発明の効果を具体的に示す。 (1)処理装置 使用した粉体捕集装置の構成を図2に、外観を図3に示
す。外装容器は、ガス導入部及びフィルタ部には内径1
33mmの、ガス排出部にはそれより一回り小さい外径
114.3mmの、夫々ステンレス管が使用されてい
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an example in which the powder collecting apparatus of the present invention is used for treating exhaust gas from an Al etching apparatus will be described, and the effects of the present invention will be specifically shown. (1) Processing Apparatus The configuration of the used powder collecting apparatus is shown in FIG. 2, and the external appearance is shown in FIG. The outer container has an inner diameter of 1 for the gas introduction section and the filter section.
Stainless steel tubes each having an outer diameter of 114.3 mm, which is slightly smaller than the 33 mm gas exhaust portion, are used.

【0027】ガス導入部は、高さ約100mmの側面の
上端から略60mmの位置に中心部が位置する様にガス
導入口11が設けられ、ドライポンプの排ガス側に接続
されている。また、此処には図示していないが、ガス導
入口とポンプ間の配管は180℃に保温され該個所での
閉塞を防止すると共に、ガス導入口には、警報機に接続
された圧力センサがセットされており、粉体捕集装置以
降の閉塞、目詰まりの検知が可能となっている。中心部
を下方に向かって絞り込んだ構造のガス導入部底面の先
端には、ガス導入口と同径の固体排出口13が設けら
れ、ボールバルブ14を介して容量4.8lの貯留タン
ク60に連結されている。ガス導入部内に位置するスク
レーパ12は、略台形状の厚さ3mmのテフロン製羽根
4枚を略90°間隔で回転軸周りに配置して構成されて
おり、羽根の外縁がガス導入部内壁面から略1.5mm
離れた位置を動くようになっている。
The gas inlet is provided with a gas inlet 11 such that the center thereof is located approximately 60 mm from the upper end of the side surface having a height of about 100 mm, and is connected to the exhaust gas side of the dry pump. Although not shown here, the piping between the gas inlet and the pump is kept at 180 ° C. to prevent clogging at the point, and a pressure sensor connected to an alarm is provided at the gas inlet. It is set, and it is possible to detect clogging and clogging after the powder collecting device. A solid outlet 13 having the same diameter as the gas inlet is provided at the tip of the bottom of the gas inlet having a structure in which the center portion is narrowed downward, and the storage tank 60 having a capacity of 4.8 liters is provided via a ball valve 14. Are linked. The scraper 12 located in the gas introduction part is configured by arranging four substantially trapezoidal Teflon blades having a thickness of 3 mm around the rotation axis at approximately 90 ° intervals, and the outer edges of the blades extend from the gas introduction part inner wall surface. About 1.5mm
It is designed to move from a distance.

【0028】フィルタ部は、中心部に回転軸貫通口を有
する車輪型の軸支42を境として、ガス導入部から区別
されるが、両部の接続を軸支を間に挟んだフランジ留め
とすることにより、スクレーパ羽根の装脱着が容易に行
える構造となっている。尚、回転軸40は、下部をこの
軸支によって、上部を後述するガス排出部上面に設定さ
れた回転シール41によって把持され、触れのない安定
した回転が可能となっている。
The filter portion is distinguished from the gas introduction portion by a wheel-type shaft support 42 having a rotary shaft through-hole at the center, and the connection between the two portions is made by flange fastening with the shaft support interposed therebetween. By doing so, it is possible to easily attach and detach the scraper blade. In addition, the rotating shaft 40 is gripped at the lower part by this pivot support, and the upper part is gripped by a rotary seal 41 set on the upper surface of the gas discharge part, which will be described later, so that stable rotation without touching is possible.

【0029】フィルタ21は、テフロンヤーンを織った
厚さ約3mm、平均目開き25μの織布を、径約100
mm、長さ約285mmの円筒形に縫製したものを使用
した。フィルタ上部は、ガス排出部分外装容器下端の、
フィルタ部に挿入された耳部分の外縁に沿って、ステン
レスバンドによって動かないように固定され、下部は、
回転軸に固定された径94mmの回転板22の円周に沿
って上方に向けて設けられた縁部に同じくステンレスバ
ンドで固定され、回転軸40の回転が伝わる構造となっ
ている。フィルタ外壁面とフィルタ部外装容器内壁面間
の間隔は略17mmである。尚、フィルタ部側面には、
ジャケット23が設けられている。
The filter 21 is made of a woven cloth having a thickness of about 3 mm and an average opening of 25 μm, woven of Teflon yarn, and having a diameter of about 100 μm.
What was sewn into a cylinder having a length of about 285 mm and a length of about 285 mm was used. The upper part of the filter is located
Along the outer edge of the ear part inserted in the filter part, it is fixed so as not to move with a stainless steel band, the lower part is
A stainless steel band is also fixed to an edge provided upward along the circumference of the 94 mm-diameter rotating plate 22 fixed to the rotating shaft, so that the rotation of the rotating shaft 40 is transmitted. The distance between the outer wall surface of the filter and the inner wall surface of the outer container of the filter is about 17 mm. In addition, on the side of the filter part,
A jacket 23 is provided.

【0030】本体最上部のガス排出部30は、側面に排
出口31が設置され、次工程のガス状塩化物捕集を目的
とする排ガス処理装置に接続されている。フィルタ部と
ガス排出部もフランジ留めで分離可能な構造となってい
るだけでなく、ガス排出部下部側面周りに設けられたフ
ランジより下の部分はフィルタ部より一回り小さな径の
ステンレス管から製造されておりフィルタ部に挿入可能
な構造となっているのに加え、高さ方向に十分な幅があ
り、該挿入部の外周にフィルタの上端を容易に固定する
事が出来る。また。ガス排出部上面中心部には磁気シー
ルユニット41が埋め込まれており、ガス漏れをほぼ完
全に抑制した回転軸上部の把持を可能にしている。
The gas discharge section 30 at the top of the main body is provided with a discharge port 31 on the side face, and is connected to an exhaust gas treatment apparatus for collecting gaseous chloride in the next step. Not only is the filter and gas exhaust part separable by flanges, but also the part below the flange provided around the lower side of the gas exhaust part is manufactured from a stainless steel tube one diameter smaller than the filter part In addition to the structure that can be inserted into the filter portion, the filter has a sufficient width in the height direction, and the upper end of the filter can be easily fixed to the outer periphery of the insertion portion. Also. A magnetic seal unit 41 is buried in the center of the upper surface of the gas discharge part, and enables the upper part of the rotary shaft to be gripped almost completely with gas leakage suppressed.

【0031】(2)処理対象ガス 処理対象ガスは、三塩化ホウ素(約0.5容量%)−塩
素(約1容量%)−窒素を混合して成るエッチングガス
を用いてアルミニウム配線のエッチングを実施した後
の、固体および/または固化析出の可能性のある成分と
して塩化アルミニウムを含む流量約20l/分の排ガス
である。
(2) Gas to be Processed The gas to be processed is an etching gas formed by mixing boron trichloride (about 0.5% by volume) -chlorine (about 1% by volume) -nitrogen to etch aluminum wiring. After the operation, the exhaust gas contains aluminum chloride as a solid and / or a component capable of solidification and precipitation at a flow rate of about 20 l / min.

【0032】(3)装置の運転 スクレーパ及びフィルタ下部に加えるべく、回転の速度
および回転の周期と共に、モーター制御部51に入力設
定された回転様式を図4に示す。時計方向90°(I)
→反時計方向180°(II)→時計方向90°(III)
の回転が、略90°/秒の角速度で略30分に1回の割
合で加えられたことになる。
(3) Operation of Apparatus FIG. 4 shows the rotation mode input to the motor control unit 51 together with the rotation speed and the rotation cycle to be applied to the scraper and the lower part of the filter. 90 ° clockwise (I)
→ Counterclockwise 180 ° (II) → Clockwise 90 ° (III)
Is applied approximately once every 30 minutes at an angular velocity of approximately 90 ° / sec.

【0033】(4)結果 上述の装置を上記(3)の条件下で6ケ月間連続して運
転を行ったが、この間何等トラブルは発生せず、また、
圧力センサによる圧力上昇は観測されなかった。本例に
おける運転停止は貯留タンク容量から要請されたもので
あり、貯留タンク容量を大にすれば、更に長期間の運転
が可能である。
(4) Result The above-mentioned apparatus was operated continuously for 6 months under the condition of (3), but no trouble occurred during this time.
No pressure increase by the pressure sensor was observed. The operation stop in this example is requested from the storage tank capacity, and if the storage tank capacity is increased, the operation can be performed for a longer period of time.

【0034】一方、フィルタを使用しなかった場合、す
なわち図1において、ポンプと排ガス処理装置を直接連
結した場合、連結部の配管は30日の運転で閉塞し、装
置運転を停止する必要が在った。閉塞部堆積物の重量は
約500gであった。これは、次に示す振動付加なしフ
ィルタ方式同様、本発明者をして、本発明の粉体捕集装
置の開発に進ませる動機となった実験結果である。
On the other hand, when the filter is not used, that is, in FIG. 1, when the pump and the exhaust gas treatment device are directly connected, the piping of the connection portion is closed after 30 days of operation, and it is necessary to stop the operation of the device. Was. The weight of the obstruction deposit was about 500 g. This is an experimental result that motivated the inventor to proceed to the development of the powder collecting apparatus of the present invention, as in the case of the filter method without vibration addition described below.

【0035】また、ポンプと排ガス処理装置間に単純な
ガス冷却器及びフィルタを挿入した場合には、60日後
に運転停止の状況に陥った。フィルタの目詰まりが原因
であるが、本例は、ポンプと排ガス処理装置間に、本発
明粉体捕集装置からスクレーパ及び回転軸を除去した物
と等価の装置を挿入したことに相当する。
Further, when a simple gas cooler and filter were inserted between the pump and the exhaust gas treatment device, the operation was stopped after 60 days. Although this is due to clogging of the filter, this example corresponds to the insertion of a device equivalent to the powder collecting device of the present invention from which the scraper and the rotary shaft have been removed, between the pump and the exhaust gas treatment device.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明の粉体捕集装置は、半導体製造装
置からの排ガス中に含まれ経路閉塞の原因となる固形物
質を固化析出させると共に、析出物は確実に補集する。
また、フィルタにおける捕集物の周期的な除去を可能に
した構造とすることにより、装置の長期間連続運転を可
能にした。コンタミ発生の要因も大幅に抑制されてい
る。更に、簡単な機構の採用により、装置全体は非常に
コンパクトなものになり、狭いクリーンルーム内で場所
を取らない利点も有している。産業の米と言われる半導
体製造分野における、本粉体捕集装置の利用価値は大で
ある。
The powder collecting apparatus according to the present invention solidifies and precipitates solid substances contained in the exhaust gas from the semiconductor manufacturing apparatus and which causes blockage of the passage, and reliably collects the precipitates.
In addition, by adopting a structure that enables periodic removal of trapped substances in the filter, continuous operation of the apparatus for a long period of time has been enabled. The cause of contamination has also been greatly reduced. In addition, the employment of a simple mechanism makes the whole apparatus very compact and has the advantage of taking up less space in a small clean room. The value of this powder collecting apparatus in the semiconductor manufacturing field, which is said to be rice in industry, is great.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の粉体捕集装置の設定位置を示す図であ
る。
FIG. 1 is a view showing a set position of a powder collecting device of the present invention.

【図2】本発明の粉体捕集装置の構成例を示す図であ
る。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration example of a powder collecting device of the present invention.

【図3】本発明の粉体捕集装置例の全体像を示す図であ
る。
FIG. 3 is a view showing an overall image of an example of a powder collecting apparatus according to the present invention.

【図4】本発明の粉体捕集装置における回転軸の回転様
式例を示す図である。
FIG. 4 is a view showing an example of a rotation mode of a rotating shaft in the powder collecting device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 外装容器ガス導入部 11 ガス導入口 12 スクレーパ 13 堆積物排出口 14 開閉バルブ 20 外装容器フィルタ部 21 フィルタ 22 回転板 23 水冷ジャケット 30 外装容器ガス排出部 31 ガス排出口 40 回転軸 41 回転シール 42 軸支 50 モーター 51 モーター制御部 60 貯留タンク DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Outer container gas introduction part 11 Gas inlet 12 Scraper 13 Sediment discharge port 14 Opening / closing valve 20 Outer container filter part 21 Filter 22 Rotating plate 23 Water cooling jacket 30 Outer container gas discharge part 31 Gas exhaust port 40 Rotating shaft 41 Rotary seal 42 Shaft support 50 Motor 51 Motor control unit 60 Storage tank

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 徳浦 静雄 山口県宇部市西本町1丁目12番32号宇部興 産株式会社化学・樹脂事業本部内 Fターム(参考) 4D058 JA42 LA01 MA05 RA11 SA04 UA03 4D076 AA05 AA06 AA14 AA24 BC06 BD07 BE06 BE08 CB05 CD03 CD08 CD16 EA12Y EA14X EA14Y EA16Y EA26X FA03 FA11 HA12 5F004 AA16 BC02 5F045 BB20 EG08  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Shizuo Tokuura 1-12-32 Nishihonmachi, Ube City, Yamaguchi Prefecture Ube Industries, Ltd. Chemical and Resin Business Division F-term (reference) 4D058 JA42 LA01 MA05 RA11 SA04 UA03 4D076 AA05 AA06 AA14 AA24 BC06 BD07 BE06 BE08 CB05 CD03 CD08 CD16 EA12Y EA14X EA14Y EA16Y EA26X FA03 FA11 HA12 5F004 AA16 BC02 5F045 BB20 EG08

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】側面に半導体製造装置からの排ガス導入口
及び開閉バルブの装着された固形物排出口を底面に有す
るガス導入部、その上部のフィルタ部、及び、更にその
上部の、粉体捕集後ガスの排出口を有するガス排出部と
から構成される外装容器と、該外装容器内中心部を上下
に走り、上端が、ガス排出部上面中心部に装着された回
転シールで把持され、下部が,ガス導入部とフィルタ部
間に設定された軸支で把持された回転軸と、外装容器内
のフィルタ部に挿入された、上方に開口し、その上端部
が外装容器壁に固定されているが下端部は、中心部を貫
通する回転軸周りに回転可能な円盤外周に固定され回転
軸の動きに追随した回転が可能である円筒形のフィルタ
と、回転軸下部の、外装容器内のガス導入部の位置に装
着された、ガス導入部内壁面上析出固体掻き取り用羽根
と、ガス排出部上方に設置され、ガス排出部上面に装着
された回転シールを介し外装容器内回転軸に回転を与え
るためのモーターと、ガス導入部下方に設置され、ガス
導入部固形物排出口開閉バルブに接続された貯留タンク
とからなる粉体捕集装置。
1. A gas inlet having a solid material outlet on the bottom surface on which an exhaust gas inlet from a semiconductor manufacturing apparatus and an on-off valve are mounted, a filter portion above the gas inlet portion, and a powder capturing portion above the gas inlet portion. An outer container composed of a gas discharge portion having a post-collection gas outlet, and runs up and down the center of the outer container, and the upper end is gripped by a rotary seal attached to the center of the gas discharge portion upper surface, The lower part is a rotating shaft gripped by a pivot set between the gas introduction part and the filter part, and the upper part is opened to the upper part inserted into the filter part in the outer container, and the upper end part is fixed to the outer container wall. However, the lower end portion is fixed to the outer periphery of a disk rotatable around a rotation axis passing through the center portion, and is capable of rotating following the movement of the rotation axis. Gas guide installed at the position of the gas introduction section A blade for scraping solids deposited on the inner wall of the unit, a motor installed above the gas discharge unit for rotating the rotation shaft inside the outer container via a rotary seal mounted on the upper surface of the gas discharge unit, and a motor below the gas inlet unit. A powder collection device comprising a storage tank installed and connected to a gas introduction unit solid matter outlet opening / closing valve.
【請求項2】外装容器フィルタ部外側側面に、水冷ジャ
ケットを装着した、請求項1に記載の粉体捕集装置。
2. The powder collecting device according to claim 1, wherein a water-cooling jacket is mounted on an outer side surface of the outer container filter portion.
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006045138A2 (en) * 2004-10-29 2006-05-04 Johnson Leslie Vincent P Dust extractor
CN104338387A (en) * 2014-09-17 2015-02-11 潘阿海 Gas filter
CN104524892A (en) * 2014-12-26 2015-04-22 祁国祥 Full-automatic air purifier
JP2016511328A (en) * 2013-01-25 2016-04-14 アイクストロン、エスイー CVD system with particle separator
CN107129872A (en) * 2017-07-11 2017-09-05 贵州道地中药材开发有限公司 A kind of Blumea balsamifera extraction equipment
CN112174545A (en) * 2020-11-11 2021-01-05 湖南金裕氢氧化钙有限公司 Box-type digestion machine
JP2021069296A (en) * 2019-10-30 2021-05-06 株式会社ソディック Supplying apparatus of food material powder
CN113171658A (en) * 2021-03-26 2021-07-27 薛一红 A exhaust-gas treatment equipment for five metals sprays paint
CN114534300A (en) * 2022-02-14 2022-05-27 安徽晨翔瑞达机械有限公司 Multifunctional crystallizing tank

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006045138A2 (en) * 2004-10-29 2006-05-04 Johnson Leslie Vincent P Dust extractor
WO2006045138A3 (en) * 2004-10-29 2006-09-28 Johnson Leslie Vincent P Dust extractor
JP2016511328A (en) * 2013-01-25 2016-04-14 アイクストロン、エスイー CVD system with particle separator
CN104338387A (en) * 2014-09-17 2015-02-11 潘阿海 Gas filter
CN104338387B (en) * 2014-09-17 2016-02-10 潘阿海 Pneumatic filter
CN104524892A (en) * 2014-12-26 2015-04-22 祁国祥 Full-automatic air purifier
CN107129872A (en) * 2017-07-11 2017-09-05 贵州道地中药材开发有限公司 A kind of Blumea balsamifera extraction equipment
JP2021069296A (en) * 2019-10-30 2021-05-06 株式会社ソディック Supplying apparatus of food material powder
US11950614B2 (en) 2019-10-30 2024-04-09 Sodick Co., Ltd. Food material powder supply device
CN112174545A (en) * 2020-11-11 2021-01-05 湖南金裕氢氧化钙有限公司 Box-type digestion machine
CN112174545B (en) * 2020-11-11 2024-03-15 湖南金裕氢氧化钙有限公司 Box type digestion machine
CN113171658A (en) * 2021-03-26 2021-07-27 薛一红 A exhaust-gas treatment equipment for five metals sprays paint
CN114534300A (en) * 2022-02-14 2022-05-27 安徽晨翔瑞达机械有限公司 Multifunctional crystallizing tank
CN114534300B (en) * 2022-02-14 2023-10-31 安徽晨翔瑞达机械有限公司 Multifunctional crystallization tank

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