JP2000137111A - Filter for display device, and display device - Google Patents

Filter for display device, and display device

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JP2000137111A
JP2000137111A JP10312413A JP31241398A JP2000137111A JP 2000137111 A JP2000137111 A JP 2000137111A JP 10312413 A JP10312413 A JP 10312413A JP 31241398 A JP31241398 A JP 31241398A JP 2000137111 A JP2000137111 A JP 2000137111A
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JP
Japan
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display device
layer
film
filter
absorption
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Application number
JP10312413A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideaki Hanaoka
英章 花岡
Fumiaki Hisamatsu
史明 久松
Naotaka Yamashita
尚孝 山下
Masahiro Kobayashi
政広 小林
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a filter for display device for suppressing the deterioration of display quality such as ghost or blurring of an outline, and for adjusting transmittance in a wide range while utilizing excellent characteristics of a reflection preventing film including an absorbing film with a low reflectivity in a wide range of a visible light area. SOLUTION: This filter for display device is provided with a light absorbing filter layer 2 on a transparent substrate 1 and a reflection preventing film 5 constituted of two or more layers on the light absorbing filter layer, and the reflection preventing film constituted of two or more layers is provided with at least one absorbing layer 3. Then, the filter for a display device is adhered to a display device.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止膜を有
し、透過光の量を調整することができる表示装置用フィ
ルター及び該フィルターを表示面に貼着してなる表示装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device filter having an antireflection film and capable of adjusting the amount of transmitted light, and a display device having the filter attached to a display surface.

【0002】[0002]

【従来の技術】透明材料を通して物体を見る場合、反射
光が強く、反射像が不明瞭であると、見る人間に対して
煩わしさを与える。例えば、眼鏡用レンズでは、ゴース
ト、フレア等と呼ばれる反射像を生じて眼に不快感を与
えたりする場合がある。また、ルッキンググラス等で
は、ガラス面上の反射した光のために内容物が不明瞭と
なる場合もある。
2. Description of the Related Art When an object is viewed through a transparent material, if the reflected light is strong and the reflected image is unclear, it is annoying to the viewer. For example, in a spectacle lens, a reflected image called a ghost, a flare, or the like may be caused to cause discomfort to an eye. In the case of a looking glass or the like, the contents may be unclear due to light reflected on the glass surface.

【0003】これらの対策として、従来より、例えば、
反射防止のために屈折率が基材と異なる物質を、真空蒸
着法等により、基材上に被覆形成させる方法が行われて
いた。
[0003] As a countermeasure for these, for example,
In order to prevent reflection, a method in which a substance having a refractive index different from that of the base material is coated on the base material by a vacuum deposition method or the like has been performed.

【0004】この場合、反射防止効果を最も高いものと
するためには、基材を被覆する物質の厚みの選択が重要
であることが知られている。例えば、単層被膜において
は、基材より低屈折率の物質を光学的膜厚を対象とする
光波長の1/4乃至はその奇数倍に選択することが極小
の反射率、即ち、極大の透過率を与えることが知られて
いる。ここで、光学的膜厚とは、被膜形成材料の屈折率
と該被膜の膜厚の積で与えられるものである。
[0004] In this case, it is known that the selection of the thickness of the substance covering the substrate is important in order to maximize the antireflection effect. For example, in the case of a single-layer film, selecting a substance having a refractive index lower than that of the base material to 1 / or an odd multiple of the optical wavelength for the optical film thickness has a minimum reflectance, that is, a maximum reflectance. It is known to provide transmittance. Here, the optical film thickness is given by the product of the refractive index of the film forming material and the film thickness of the film.

【0005】さらに、膜厚を選択する方法として、複層
からなる反射防止膜の形成も可能であり、この場合の膜
厚の選択に関しては、例えば、光学技術コンタクト.,
Vol.9,No.8,17頁(1971年)等におい
ていくつかの提案がなされている。
Further, as a method of selecting the film thickness, it is possible to form an anti-reflection film composed of a plurality of layers. ,
Vol. 9, No. Some proposals have been made on pages 8, 17 (1971) and the like.

【0006】これらの反射防止膜の被膜形成材料は、主
として無機酸化物或いは無機ハロゲン化物であり、一般
に可視領域で低い反射率と高い透過率を兼ね備えてい
る。
The material for forming the film of these antireflection films is mainly an inorganic oxide or an inorganic halide, and generally has both low reflectance and high transmittance in the visible region.

【0007】ブラウン管等の表示装置の表示面において
も、外からの光や照明光が画面内に映り込んで、画像が
見えにくくなる場合があり、このような表面反射を抑制
するため、表示面に反射防止膜が設けられることが多
い。
[0007] Even on the display surface of a display device such as a cathode ray tube, external light or illumination light may be reflected in the screen and the image may be difficult to see. Is often provided with an anti-reflection film.

【0008】かかる表示装置では、その構造や用途によ
り、例えば、コントラストを向上させるために、表示パ
ネルの透過率を広い範囲で(20〜92%)調整する必
要がある。例えば、ブラウン管のパネルガラスや透過型
プロジェクター(リアプロジェクター)のアクリル前面
板状枠体では、パネル基材自身の透過率を変化させて、
透過率の調整を行っている。
In such a display device, it is necessary to adjust the transmittance of the display panel in a wide range (20 to 92%) depending on its structure and use, for example, to improve the contrast. For example, in the panel glass of a cathode ray tube or the acrylic front plate frame of a transmission type projector (rear projector), the transmittance of the panel base material itself is changed,
The transmittance is adjusted.

【0009】しかしながら、表示パネルには表示デバイ
スの機械的な強度を保つ役割もあり、このパネル基材の
透過率を変える方法では、表示装置のサイズが大きくな
る等により、表示パネルが厚くなった場合には、パネル
基材を、染色の度合いや顔料の濃度を変える等してその
透過率を変えたものを用意しなければならず、そのため
にパネルが多品種となり、コスト増となり望ましくな
い。
However, the display panel also has a role of maintaining the mechanical strength of the display device. According to the method of changing the transmittance of the panel substrate, the display panel becomes thick due to an increase in the size of the display device. In such a case, it is necessary to prepare a panel base material whose transmittance is changed by changing the degree of dyeing or the concentration of the pigment, for example, and thus the panel becomes diversified, and the cost increases, which is not desirable.

【0010】さらに、ブラウン管のパネルガラスでは、
機械強度の関係から、中央では薄く、端では厚く形成さ
れており、中央と端部では透過率が異なるという問題を
抱えていた。特に、近年の表示面を実質的に平面にした
ブラウン管においては、機械的な強度を補強するため
に、更に中央と端部の透過率の差はより大きくなってい
る。
Further, in the panel glass of the cathode ray tube,
From the viewpoint of mechanical strength, the film is formed thin at the center and thick at the end, and has a problem that the transmittance differs between the center and the end. In particular, in recent years, in a cathode ray tube having a substantially flat display surface, the difference in transmittance between the center and the end is further increased in order to reinforce mechanical strength.

【0011】ところで、光学薄膜を利用したフィルター
である熱線遮断フィルムの中には、金属薄膜を使用する
ことによって吸収膜を形成して、透過率を調整できるも
のがある。かかる吸収膜として、例えば、Au,Pt,
Pd,Ni−Cr,Al,In2 3 −SnO2 (IT
O),CuI、CuS等が使用されている(「薄膜の作
製、評価とその応用技術ハンドブック」フジテクノシス
テム、p568等参照)。これらのフィルムの可視光線
透過率としては、60〜90%のものが好ましく使用さ
れている。
Meanwhile, among heat ray shielding films which are filters using an optical thin film, there are some which can adjust the transmittance by forming an absorbing film by using a metal thin film. For example, Au, Pt,
Pd, Ni-Cr, Al, In 2 O 3 -SnO 2 (IT
O), CuI, CuS, etc. are used (see “Handbook of Preparation and Evaluation of Thin Films and Their Application Technology”, Fuji Techno System, p. 568, etc.). The visible light transmittance of these films is preferably 60 to 90%.

【0012】また、反射防止膜としては、このような吸
収膜を取り込んだ設計のフィルターが存在し、例えば、
ダークミラー、選択吸収ミラーと呼ばれる構成のものが
ある。可視光領域での反射防止膜としては、ダークミラ
ーと呼ばれる構成のものが利用でき、例えば、「光学ユ
ーザーズハンドブック」日刊工業新聞社、p160)に
は、吸収膜と誘電体膜とを組み合わせた2層からなるダ
ークミラーが提案されている。
As an antireflection film, there is a filter designed to incorporate such an absorption film.
There is a configuration called a dark mirror or a selective absorption mirror. As the antireflection film in the visible light region, a film having a configuration called a dark mirror can be used. For example, “Optical Users' Handbook”, Nikkan Kogyo Shimbun, p. 160) is a combination of an absorption film and a dielectric film. Dark mirrors consisting of layers have been proposed.

【0013】例えば、特開平9−156964号公報に
おいては、このダークミラーの構成において、吸収膜と
して、チタニウム、ジルコニウム及びハフニウム等の金
属の窒化物、即ち、TiN,ZrN,HfN等を用いる
ことにより、可視光領域の広い範囲で低反射を得られる
ことが示唆されている。
For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-156964, in the configuration of this dark mirror, a metal nitride such as titanium, zirconium and hafnium, that is, TiN, ZrN, HfN or the like is used as an absorbing film. It has been suggested that low reflection can be obtained in a wide range of the visible light region.

【0014】またこの応用例としては、米国特許第5,
091,244号公報には、吸収膜として、窒化チタン
(TiN)を用いた4層乃至は6層構造の反射防止膜に
より、可視光領域での低反射と透過率調整を同時に行う
ことが記載されている。
An example of this application is disclosed in US Pat.
Japanese Patent Laid-Open No. 091,244 discloses that low reflection in the visible light region and transmittance adjustment are simultaneously performed by a four-layer or six-layer antireflection film using titanium nitride (TiN) as an absorption film. Have been.

【0015】しかし、これらの反射防止膜は、可視光領
域の広い範囲で低反射率であるという優れた性質を持つ
ものの、吸収膜に対しても前述のように、例えば、光波
長の1/4といったような膜厚に正確に一致させなけれ
ばならないという制約がある。また、そこに使用される
物質は、その屈折率が反射防止膜の設計上で大きな制限
を受けるため、その透過率は吸収膜として使用できる物
質によって定められるある狭い範囲に限定され、透過率
を広い範囲で自由に調整することができない。
However, although these antireflection films have the excellent property of having a low reflectance over a wide range of the visible light region, they also have a low reflectance of, for example, 1 / (1) of the light wavelength, as described above. There is a restriction that the film thickness must exactly match the film thickness, such as 4. In addition, since the refractive index of the substance used therein is greatly restricted in the design of the antireflection film, the transmittance is limited to a certain narrow range determined by the substance that can be used as the absorbing film, and the transmittance is reduced. It cannot be adjusted freely over a wide range.

【0016】また、これらの吸収膜として用いられる物
質を反射防止膜の一部に用いた場合には、表面の反射率
が低いのに対して、内面からの光に対する反射率は高
く、1%〜20%となる。表示装置においては、このよ
うな内面からの光を反射することは、表示文字若しくは
図画を2重に映したり(ゴースト)、輪郭をぼかしてし
まう等して、表示品質を著しく劣化させてしまうという
欠点があった。
When a substance used as an absorption film is used as a part of an antireflection film, the reflectance of light from the inner surface is high, while the reflectance of the surface is low. ~ 20%. In the display device, such reflection of light from the inner surface causes display characters or drawings to be double-projected (ghost) or blurs the outline, thereby significantly deteriorating the display quality. There were drawbacks.

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は、可
視光領域の広い範囲で低反射率であるという吸収膜吸収
膜を含む反射防止膜の優れた特性を生かしながら、ゴー
ストや輪郭をぼかしてしまう等の表示品質の劣化を抑
え、かつ広い範囲で透過率調整の可能な表示装置用フィ
ルターを提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, the present invention is intended to blur ghosts and contours while taking advantage of the excellent characteristics of an antireflection film including an absorption film having a low reflectance over a wide range of visible light. It is an object of the present invention to provide a filter for a display device, which suppresses deterioration of display quality such as display quality and can adjust transmittance in a wide range.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決すべ
く、本発明は、透明基材上に光吸収フィルター層と、前
記光吸収フィルター層上に2層以上からなる反射防止膜
を有する表示装置用フィルターであって、前記2層以上
からなる反射防止膜のうち、少なくとも一つの層は吸収
層であることを特徴とする表示装置用フィルターを提供
する。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a display device having a light-absorbing filter layer on a transparent substrate and an antireflection film comprising two or more layers on the light-absorbing filter layer. A filter for a display device, wherein at least one of the two or more antireflection films is an absorption layer.

【0019】前記表示用フィルターにおいては、前記2
層以上からなる反射防止膜は、少なくとも光吸収層と誘
電体層の積層構造を有するのが好ましい。
In the display filter, the above-mentioned 2
It is preferable that the antireflection film composed of layers or more has a laminated structure of at least a light absorbing layer and a dielectric layer.

【0020】また、本発明は、表示面を有する表示装置
であって、前記表示面上に光吸収フィルター層と、前記
光吸収フィルター層上に少なくとも一つの層が吸収層で
ある2層以上からなる反射防止膜を有する表示装置用フ
ィルターが貼着されてなることを特徴とする表示装置を
提供する。
The present invention also relates to a display device having a display surface, comprising: a light-absorbing filter layer on the display surface; and two or more layers in which at least one layer is an absorbing layer on the light-absorbing filter layer. Provided is a display device comprising a display device filter having an anti-reflection film.

【0021】前記本発明の表示装置においては、前記2
層以上からなる反射防止膜は、少なくとも光吸収層と誘
電体層の積層構造を有するのが好ましい。
In the display device of the present invention, the above-mentioned 2
It is preferable that the antireflection film composed of layers or more has a laminated structure of at least a light absorbing layer and a dielectric layer.

【0022】また、本発明の表示装置は、前記表示装置
用フィルターが表示装置の前面板であってもよい。
In the display device according to the present invention, the display device filter may be a front plate of the display device.

【0023】従来の吸収層を有しない反射防止膜(AR
膜)32を有する表示装置の場合には、図9(a)に示
すように、低反射率を有する材料からなっているため、
裏面反射が少なく、虚像等は生じにくく表示品質の高い
ものである。しかし、透過率を広い範囲で自由に調整す
ることができなった。
A conventional anti-reflection film having no absorption layer (AR
In the case of the display device having the (film) 32, as shown in FIG. 9A, the display device is made of a material having a low reflectance.
The back surface reflection is small, and a virtual image or the like hardly occurs, and the display quality is high. However, the transmittance could not be freely adjusted in a wide range.

【0024】また、図9(b)に示すように、吸収層を
有する反射防止膜32’を用いる場合においては、透過
率を広い範囲で自由に調整することができるものの、反
射防止膜の裏面反射により、虚像34が生じ易く、表示
品質が低いものであった。
As shown in FIG. 9B, when an antireflection film 32 'having an absorption layer is used, the transmittance can be freely adjusted in a wide range, but the back surface of the antireflection film is not required. Due to the reflection, the virtual image 34 was easily generated, and the display quality was low.

【0025】本発明によれば、図9(c)に示すよう
に、広い範囲で透過率調整の可能な表示装置用フィルタ
ー35を提供する吸収層を有する反射防止膜32’の優
れた特性を生かしながら、表示品質の劣化を抑え、かつ
広い範囲で透過率調整の可能な表示装置用フィルター、
及び該フィルターを有する表示装置を提供することがで
きる。
According to the present invention, as shown in FIG. 9 (c), the excellent characteristics of the antireflection film 32 'having an absorption layer that provides a display device filter 35 capable of adjusting the transmittance over a wide range can be obtained. A filter for display devices that can control the deterioration of display quality and adjust transmittance over a wide range while utilizing
And a display device having the filter.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、本発明の表示装置用フィル
ター及び該フィルターを有する表示装置について、詳細
に説明する。本発明において用いることのできる透明基
材としては、例えば、ガラス板や透明プラスチック板、
透明プラスチックフィルム等を挙げることができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a filter for a display device of the present invention and a display device having the filter will be described in detail. As the transparent substrate that can be used in the present invention, for example, a glass plate or a transparent plastic plate,
A transparent plastic film can be used.

【0027】ガラス基材としては、透明ガラスであれ
ば、特に制限なく用いることができるが、例えば、「化
学便覧」基礎編、P.I.−537,日本化学会編、等
に記載されるものがあり、具体的には、ソーダガラス、
鉛ガラス、硬質ガラス、石英ガラス、液晶化ガラス等が
ある。
As the glass substrate, any transparent glass can be used without any particular limitation. I. -537, edited by The Chemical Society of Japan, etc. Specifically, soda glass,
Examples include lead glass, hard glass, quartz glass, and liquid crystal glass.

【0028】ブラウン管として用いる場合には、透明基
材としては、ストロンチウム(Sr)やバリウム(B
a)等を含む珪酸ガラスが好ましく用いられる。又、液
晶表示装置として用いる場合には、透明基材としては、
無アルカリガラスが好ましく用いられる。
When used as a cathode ray tube, strontium (Sr) or barium (B
Silicate glass containing a) or the like is preferably used. Also, when used as a liquid crystal display device, as the transparent substrate,
Alkali-free glass is preferably used.

【0029】透明プラスチック材料としては、透明(無
色透明及び着色透明を含む。)な有機高分子からなる基
材であれば、特に制限無く用いることができるが、透明
性、屈折率、分散性等の光学特性や耐衝撃性、耐熱性、
耐久性等の諸特性から見て、例えば、以下の高分子が好
ましい。
As the transparent plastic material, any material can be used without particular limitation as long as it is a substrate made of a transparent (including colorless transparent and colored transparent) organic polymer. Transparency, refractive index, dispersibility, etc. Optical properties, impact resistance, heat resistance,
In view of various properties such as durability, for example, the following polymers are preferable.

【0030】(1)アクリル系樹脂 アクリル系樹脂としては、主成分がアクリル酸エステル
(メタクリル酸エステル)及びその誘導体であるアクリ
ルアミドやアクリロニトリルの重合体、及び他のアクリ
ル酸エステル、メタクリル酸エステル、オレフィン、ス
チレン等の他の重合性モノマーとの共重合体樹脂を用い
ることができる。
(1) Acrylic resin As the acrylic resin, a main component is a polymer of acrylic acid ester (methacrylic acid ester) and its derivatives such as acrylamide and acrylonitrile, and other acrylic acid ester, methacrylic acid ester and olefin. And a copolymer resin with another polymerizable monomer such as styrene.

【0031】(2)ポリカーボネート ポリカーボネートは、一般式化1(2) Polycarbonate Polycarbonate has the general formula 1

【0032】[0032]

【化1】 Embedded image

【0033】(式中、Rは、有機基を表し、nは任意の
自然数を表す。)で表される高分子であり、例えば、ビ
スフェノールAとホスゲン或いはジフェニルカーボネー
トから製造されるポリカーボネート、ジエチレングリコ
ールビスアリルカーボネート等が挙げられる。また、ポ
リカーボネートとメタクリル樹脂等から得られる変成ポ
リカーボネートも用いることができる。
(Wherein, R represents an organic group and n represents an arbitrary natural number), for example, a polycarbonate produced from bisphenol A and phosgene or diphenyl carbonate, diethylene glycol bis Allyl carbonate and the like can be mentioned. Modified polycarbonate obtained from polycarbonate and methacrylic resin can also be used.

【0034】(3)ポリアルキレンテレフタレート ポリアルキレンテレフタレートとしては、ポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のテレ
フタル酸とポリオールとの縮重合生成物が挙げられる。
(3) Polyalkylene Terephthalate Examples of polyalkylene terephthalate include polycondensation products of terephthalic acid and polyol such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate.

【0035】(4)(臭素化)ビスフェノールA型のジ
(メタ)アクリレート系樹脂 これには、ビスフェノールA型のジ(メタ)アクリレー
トの単独重合体、臭素化ビスフェノールA型のジ(メ
タ)アクリレートの単独重合体、ビスフェノールA型の
ジ(メタ)アクリレートと他の重合性モノマーとの共重
合体、臭素化ビスフェノールA型のジ(メタ)アクリレ
ートと他の重合性モノマーとの共重合体、ビスフェノー
ルA型のモノ(メタ)アクリレートのウレタン変成モノ
マーの重合体、ビスフェノールA型のモノ(メタ)アク
リレートのウレタン変成モノマーと他の重合性モノマー
との共重合体、臭素化ビスフェノールA型のモノ(メ
タ)アクリレートのウレタン変成モノマーの重合体、臭
素化ビスフェノールA型のモノ(メタ)アクリレートの
ウレタン変成モノマーと他の重合性モノマーとの共重合
体等を例示することができる。
(4) (Brominated) bisphenol A type di (meth) acrylate resin This includes a homopolymer of bisphenol A type di (meth) acrylate and a brominated bisphenol A type di (meth) acrylate. Homopolymer, copolymer of bisphenol A type di (meth) acrylate with other polymerizable monomer, copolymer of brominated bisphenol A type di (meth) acrylate with other polymerizable monomer, bisphenol A-type mono (meth) acrylate urethane-modified monomer polymer, bisphenol A-type mono (meth) acrylate urethane-modified monomer and other polymerizable monomer, brominated bisphenol A-type mono (meth) acrylate ) Polymer of acrylate urethane modified monomer, brominated bisphenol A type mono (meth) acryle A copolymer of a urethane-modified monomer of a salt with another polymerizable monomer can be exemplified.

【0036】(5)ポリエステル系樹脂 ポリエステル系樹脂は、一般的には、多塩基酸と多価ア
ルコールとの縮重合生成物(上記(3)のポリアルキレ
ンテレフタレート等も含まれる。)であり、例えば、グ
リプタル樹脂、多価アルコールと不飽和多塩基酸から得
られる不飽和ポリエステルとビニル基含有化合物との共
重合体、ジアリルフタレート樹脂等を挙げることができ
る。
(5) Polyester Resin The polyester resin is generally a polycondensation product of a polybasic acid and a polyhydric alcohol (including the polyalkylene terephthalate of the above (3)). Examples thereof include a glyptal resin, a copolymer of an unsaturated polyester obtained from a polyhydric alcohol and an unsaturated polybasic acid and a vinyl group-containing compound, and a diallyl phthalate resin.

【0037】(6)その他 その他として、ポリエチレンナフタレート、不飽和ポリ
エステル、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリ
塩化ビニル、ポリウレタン、エポキシ樹脂等も好ましく
用いることができる。また、耐熱性を考慮して、ポリア
ミドイミド、ポリイミド、ポリアミノビスマレイミド等
のアラミド系樹脂(芳香族ポリアミド)等も好ましく使
用することができる。
(6) Others Other preferred materials include polyethylene naphthalate, unsaturated polyester, acrylonitrile-styrene copolymer, polyvinyl chloride, polyurethane, and epoxy resin. Also, in consideration of heat resistance, an aramid resin (aromatic polyamide) such as polyamide imide, polyimide, or polyamino bismaleimide can be preferably used.

【0038】プラスチック基材は、これらの樹脂を延伸
あるいは溶剤に希釈した後、フィルム状に成膜して乾燥
する等の方法で得ることができる。該基材の厚さは、通
常、25〜500ミクロン程度である。
The plastic substrate can be obtained by stretching these resins or diluting them in a solvent, forming a film and drying the film. The thickness of the substrate is usually about 25 to 500 microns.

【0039】また、上記のようなプラスチック基材表面
には、特公昭50−28092号公報、特公昭50−2
8446号公報、特公昭51−24368号公報、特開
昭52−112698号公報、特公昭57−2735号
公報等の開示される如く、ハードコート等の被膜材料で
被覆されたものであってもよく、後述するような無機物
からなる反射防止膜の下層に、この被覆材料を存在せし
めることによって、付着性、硬度、耐薬品性、耐久性、
染色性等の諸物性を向上させることができる。前記ハー
ドコート等の被膜の膜厚は、通常2〜20μm程度であ
る。
On the surface of the plastic substrate as described above, Japanese Patent Publication No. Sho 50-28092 and Japanese Patent Publication No. Sho 50-2
As disclosed in JP-A No. 8446, JP-B-51-24368, JP-A-52-112698, and JP-B-57-2735, even if coated with a coating material such as a hard coat. Well, the presence of this coating material in the lower layer of an antireflection film made of an inorganic material as described later, adhesion, hardness, chemical resistance, durability,
Various physical properties such as dyeability can be improved. The thickness of the coating such as the hard coat is usually about 2 to 20 μm.

【0040】吸収フィルターは、カーボンブラック等の
顔料や染料等を混合して分散させた樹脂液を基材表面に
塗布し、加熱、紫外線照射、電子線照射等により重合・
硬化させたり、透明な樹脂溶液を塗布・硬化させた後
に、染料を分散させた染色浴に浸漬して染色処理を行う
などにより得ることができる。
The absorption filter is formed by applying a resin solution in which a pigment or dye such as carbon black is mixed and dispersed on the surface of the base material, and is polymerized by heating, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation or the like.
After curing or applying and curing a transparent resin solution, it can be obtained by immersing in a dye bath in which a dye is dispersed and performing a dyeing treatment.

【0041】このように形成された吸収フィルターは、
入射光の方向によって反射特性が大きく変わることはな
く、顔料や染料の混合割合、光吸収フィルターの膜厚等
を変化させることにより、透過率を自由に調整すること
ができる。
The absorption filter thus formed is
The reflection characteristics do not change significantly depending on the direction of the incident light, and the transmittance can be freely adjusted by changing the mixing ratio of the pigment or the dye, the film thickness of the light absorption filter, and the like.

【0042】前記樹脂溶液の基体表面への塗布方法とし
ては、スピンコート、ロールコート、カーテンコート等
のコーティング方法を挙げることができる。
Examples of a method for applying the resin solution to the surface of the substrate include coating methods such as spin coating, roll coating, and curtain coating.

【0043】樹脂としては、ポリエステルアクリレー
ト、ポリウレタンアクリレート等のオリゴマーとペンタ
エリスリトールトリアクリレート等の多官能アクリレー
ト系モノマーの混合系等の紫外線硬化樹脂を用いること
ができる。
As the resin, an ultraviolet curable resin such as a mixture of an oligomer such as polyester acrylate and polyurethane acrylate and a polyfunctional acrylate monomer such as pentaerythritol triacrylate can be used.

【0044】またこれらに、特公平7−36044号公
報、東芝レビュー1992、Vol.47,No.5,
p407−410等に記載されているような、特定の波
長の光を選択的に吸収する、選択吸収フィルターや、特
開平3−53726号公報に記載されているようなカー
ボンブラックとバインダーとを含有する導電性塗料を用
いる方法も好ましく適用することができる。
Further, these are described in JP-B-7-36044, Toshiba Review 1992, Vol. 47, no. 5,
A selective absorption filter for selectively absorbing light of a specific wavelength as described in p. 407-410 or the like, or a carbon black and a binder as described in JP-A-3-53726. A method using a conductive paint to be applied is also preferably applicable.

【0045】さらに、上述のプラスチック基材やハード
ーコート層の形成時に、上述した着色法を用いて吸収フ
ィルターの機能を付加することもできる。
Further, at the time of forming the above-mentioned plastic substrate or hard coat layer, the function of an absorption filter can be added by using the above-mentioned coloring method.

【0046】さらには、吸収フィルター層は、反射防止
膜の一部であってもよく、この場合、膜厚は反射防止膜
の設計により適宜定めることができる。また、この吸収
フィルター層が、基材を挟み、反射防止膜と反対側の面
に形成されていてもよい。
Further, the absorption filter layer may be a part of the antireflection film, and in this case, the film thickness can be appropriately determined by designing the antireflection film. Further, the absorption filter layer may be formed on a surface opposite to the antireflection film with the base material interposed therebetween.

【0047】吸収層を有する反射防止膜は、真空蒸着
法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等の各
種PVD(Physical Vapour Depo
sition)法等により形成することができる。
An antireflection film having an absorption layer can be formed by various PVD (Physical Vapor Depo) methods such as a vacuum evaporation method, an ion plating method, and a sputtering method.
It can be formed by, for example, a position method.

【0048】PVD法に適した材料としては、吸収層の
材料として、Au,Pt,Pd,Fe,Fe−Ni,N
i−Cr,Al,Ag,Cu,Ti,Zr,Hf等の金
属又はそれらの金属の窒化物を用いることができる。
As materials suitable for the PVD method, Au, Pt, Pd, Fe, Fe—Ni, N
Metals such as i-Cr, Al, Ag, Cu, Ti, Zr, and Hf or nitrides of these metals can be used.

【0049】また、誘電体層の材料としては、Si
2 ,Si3 4 ,Al2 3 ,ZrO2 ,TiO2
Ta2 5 ,TaHf2 ,SiO,TiO,Ti
2 3 ,HfO2 ,ZnO,In2 3 ,In2 3
SnO2 ,Y2 3 ,Yb2 3 ,Sb2 3 ,Mg
O,CeO2 等の無機酸化物等を挙げることができる。
The material of the dielectric layer is Si
O 2 , Si 3 N 4 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , TiO 2 ,
Ta 2 O 5 , TaHf 2 , SiO, TiO, Ti
2 O 3 , HfO 2 , ZnO, In 2 O 3 , In 2 O 3 /
SnO 2 , Y 2 O 3 , Yb 2 O 3 , Sb 2 O 3 , Mg
Examples include inorganic oxides such as O and CeO 2 .

【0050】本発明の表示装置は、表示面上に、光吸収
フィルター層と、前記光吸収フィルター層上に、少なく
とも一つの層が吸収層である2層以上からなる反射防止
膜を有する表示装置用フィルターを貼着してなる。該フ
ィルターを貼着する方法としては、透明基材層、接着
層、或いは透明基材層と接着層を介して、又は直接に貼
着することができる。
The display device of the present invention has a light absorbing filter layer on a display surface, and an antireflection film on the light absorbing filter layer, the antireflection film having at least one layer being an absorbing layer. A filter is attached. As a method of attaching the filter, the filter can be attached via a transparent substrate layer, an adhesive layer, or a transparent substrate layer and an adhesive layer, or directly.

【0051】透明基材層に用いられる透明基材として
は、前記に列記したものと同様のものを用いることがで
きる。また、接着層を設ける場合、用いられる接着剤と
しては、透明で耐光性に優れるものであれば、特に制限
はない。
As the transparent base material used for the transparent base material layer, the same ones as those listed above can be used. When an adhesive layer is provided, the adhesive used is not particularly limited as long as it is transparent and has excellent light resistance.

【0052】接着剤層に用いられるバインダー樹脂とし
ては、例えば、アクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、ポリエステル系樹脂、ウレタン樹脂、塩素化
ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン等が挙げられる。
接着剤層の膜厚は、通常5〜100nm程度である。な
お、基材の接着面は、密着性を高めるために易接着処理
を透明性を損なわない範囲で施すこともできる。
Examples of the binder resin used in the adhesive layer include acrylic resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyester resin, urethane resin, chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene and the like.
The thickness of the adhesive layer is usually about 5 to 100 nm. The adhesion surface of the substrate may be subjected to an easy adhesion treatment in order to enhance the adhesion, as long as the transparency is not impaired.

【0053】本発明の表示装置としては、例えば、CR
T(ブラウン管、陰極線管)、LCD(液晶ディスプレ
イ)、プラズマディスプレイ、FED(Field E
mission Display)、プロジェクター
(投影型ディスプレイ)、LED(発光ダイオードを用
いたもの)等の内部情報を表示する各種表示装置が挙げ
られる。
As the display device of the present invention, for example, CR
T (cathode ray tube, cathode ray tube), LCD (liquid crystal display), plasma display, FED (Field E)
Various display devices for displaying internal information, such as a mission display, a projector (projection display), and an LED (using a light emitting diode), may be used.

【0054】本発明の表示装置の構造断面図の例を図1
に示す。(a)に示すのは、基材上1に、吸収フィルタ
ー層2を設け、その上に、接着剤層6を介して、吸収層
3と誘電体層4の2層からなる反射防止膜5を形成した
ものである。(b)に示すのは、基材1の上に、接着剤
層6を介して、吸収層3と誘電体層4の2層からなる反
射防止膜5を形成し、さらに反対側の基材表面に吸収フ
ィルター層2を設けたものであり、(c)に示すのは、
(a)と同様な層構成を有する表示装置であって、反射
防止膜5が、吸収層3、第1の誘電体層4及び第2の誘
電体層4’の3層からなるものである。なお、接着剤層
は不要であれば設ける必要はなく、また、図示を省略し
ているが、本発明においては、反射防止膜は、少なくと
も1層の吸収層を有する4層以上の積層体からなるもの
であってもよい。さらに、ハードコート層を有するもの
であってもよい。
FIG. 1 shows an example of a structural sectional view of the display device of the present invention.
Shown in (A) shows that an absorption filter layer 2 is provided on a substrate 1, and an antireflection film 5 composed of two layers of an absorption layer 3 and a dielectric layer 4 is provided thereon via an adhesive layer 6. Is formed. (B) shows that an antireflection film 5 composed of two layers of an absorption layer 3 and a dielectric layer 4 is formed on a substrate 1 via an adhesive layer 6, and further an opposite substrate The surface is provided with an absorption filter layer 2, and FIG.
A display device having the same layer configuration as (a), wherein the anti-reflection film 5 is composed of three layers of an absorption layer 3, a first dielectric layer 4, and a second dielectric layer 4 '. . It is to be noted that the adhesive layer need not be provided if unnecessary, and is not shown in the drawings. In the present invention, the antireflection film is made of a laminate of four or more layers having at least one absorption layer. It may be. Further, it may have a hard coat layer.

【0055】[0055]

【実施例】次に、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、以下に示すのはあくまで一実施態様であり、本
発明の主旨を逸脱しない範囲で自由に、設計、変更する
ことができる。
EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the following is merely an embodiment, and can be freely designed and changed without departing from the gist of the present invention. it can.

【0056】実施例1 (1)吸収フィルターの形成 基材として厚さ100μmの透明なポリエチレンテレフ
タレート(PET)フィルム11を用意する。このPE
Tフィルムの片面には、予め表面硬度を確保するため
に、ハードコート処理を施こして、ハードコート層12
を形成しておくのが好ましい。ハードコート処理として
は、例えば、アクリル系架橋性樹脂原料をPETフィル
ムの片面に塗布し、紫外線や電子線等によって架橋硬化
させたり、シリコン系、メラミン系、エポキシ系の樹脂
原料をPETフィルムの片面に塗布し、熱硬化させるこ
とにより行うことができる。このようにして形成される
ハードコート層の厚みは、2〜20nm程度である。
Example 1 (1) Formation of Absorption Filter A transparent polyethylene terephthalate (PET) film 11 having a thickness of 100 μm was prepared as a base material. This PE
One surface of the T film is subjected to a hard coat treatment in order to secure the surface hardness in advance, so that the hard coat layer 12
Is preferably formed. As the hard coat treatment, for example, an acrylic cross-linkable resin material is applied to one side of a PET film and cross-linked and cured by ultraviolet rays or electron beams, or a silicon-based, melamine-based, or epoxy-based resin material is applied to one side of the PET film. And heat-curing. The thickness of the hard coat layer thus formed is about 2 to 20 nm.

【0057】次いで、該ハードコート層12の上に、ア
クリル系紫外線硬化樹脂に顔料としてカーボンブラック
を混合したものを、ロールコート法により、5μmの膜
厚で塗布し、乾燥させた後、紫外線を照射して硬化、重
合させることにより、透過率75%の吸収フィルター層
13を形成する。
Next, a mixture of carbon black as a pigment and an acrylic ultraviolet curable resin was applied on the hard coat layer 12 to a thickness of 5 μm by a roll coating method, and dried. Irradiation cures and polymerizes to form an absorption filter layer 13 having a transmittance of 75%.

【0058】(2)反射防止膜の形成 上記のようにして得られる吸収フィルター層13の上
に、スパッタリング法により、TiNをプレスパッタし
て、膜厚17.5nmのTiNからなる吸収膜14を形
成する。さらにその上層に、誘電体膜である膜厚78n
mのSiO2 膜15をスパッタリング法により形成する
ことにより、2層の反射防止膜16を形成して、図1
(a)に示すのと同様な層構成を有するフィルムを得
る。
(2) Formation of antireflection film On the absorption filter layer 13 obtained as described above, TiN is pre-sputtered by a sputtering method to form an absorption film 14 of 17.5 nm in thickness made of TiN. Form. Further, a film thickness of 78 n which is a dielectric film
By forming a SiO 2 film 15 of m by sputtering, a two-layer anti-reflection film 16 is formed.
A film having the same layer configuration as shown in (a) is obtained.

【0059】この反射防止膜は、計算機によるシュミレ
ーションによると、透過特性は図5に示すようになり、
波長546nmでの透過率は70%であった。
According to a simulation by a computer, the transmission characteristics of this antireflection film are as shown in FIG.
The transmittance at a wavelength of 546 nm was 70%.

【0060】(3)表示面への接着 上記で得られたフィルムの裏面にアクリル系接着剤17
を50nm塗布し、乾燥させた後、図2に示すようなブ
ラウン管10のパネルガラス7の表面に密着貼合させ
て、図3(a)に示すような本発明の表示装置を得た。
(3) Adhesion to display surface Acrylic adhesive 17 is applied to the back surface of the film obtained above.
Was applied and dried, and then adhered to the surface of the panel glass 7 of the cathode ray tube 10 as shown in FIG. 2 to obtain a display device of the present invention as shown in FIG. 3A.

【0061】実施例2 (1)吸収フィルターの作製 基材として、表示面の中央における厚さが12mmのブ
ラウン管用パネルガラスを用意する。この時のガラス材
料としては、クリアガラス(EIAJ(日本電子工業
会)の規格番号:H−8601)を用いた。次いで、そ
の内面に、アクリル系紫外線硬化樹脂に顔料としてカー
ボンブラックを混合したものを塗布し、乾燥した後、紫
外線を照射して硬化、重合させ、透過率70%の吸収フ
ィルター層18を形成した。さらに、裏面の該吸収フィ
ルター層18上に蛍光体を塗布してパターニングして蛍
光面Aを形成した。
Example 2 (1) Production of Absorption Filter A CRT panel glass having a thickness of 12 mm at the center of the display surface is prepared as a base material. As a glass material at this time, clear glass (standard number: H-8601 of EIAJ (Japan Electronics Industry Association)) was used. Next, a mixture of carbon black as a pigment and an acrylic ultraviolet curable resin was applied to the inner surface thereof, dried, and then irradiated with ultraviolet light to be cured and polymerized to form an absorption filter layer 18 having a transmittance of 70%. . Further, a phosphor was applied on the absorption filter layer 18 on the back surface and patterned to form a phosphor screen A.

【0062】その後、ファンネル8、電子銃9等を組み
合わせて、テンションバンドを付加して、図2に示すよ
うなブラウン管10を完成させた。
After that, the funnel 8, the electron gun 9, and the like were combined and a tension band was added to complete the CRT 10 as shown in FIG.

【0063】(2)反射防止膜の形成 完成されたブラウン管の吸収フィルター層18表面に、
実施例1と同様なスパッタリング法により、TiNから
なる厚さ13nmの吸収層19を形成した。次いで、該
吸収膜の上に、厚さ5nmの窒化シリコンからなる第1
の誘電体層20をスパッタリング法により形成した。さ
らに、第1の誘電体層21の上に、厚さ80nmの酸化
シリコンからなる第2の誘電体層21をスパッタリング
法により形成することにより、図1(c)に示すのと同
様な層構成を有する3層からなる反射防止膜22を形成
した。この反射防止膜と先に形成した吸収フィルター層
とにより、表示パネルの透過率を50%に調整した。計
算機によるシュミレーションによるこの反射防止膜の透
過特性を図6に示す。また、得られる表示装置の構造断
面図を図3(b)に示す。
(2) Formation of anti-reflection film On the surface of the absorption filter layer 18 of the completed cathode ray tube,
A 13 nm-thick absorbing layer 19 made of TiN was formed by the same sputtering method as in Example 1. Next, a first layer made of silicon nitride having a thickness of 5 nm is formed on the absorption film.
Was formed by a sputtering method. Further, a second dielectric layer 21 made of silicon oxide having a thickness of 80 nm is formed on the first dielectric layer 21 by a sputtering method, so that a layer configuration similar to that shown in FIG. An anti-reflection film 22 having three layers was formed. The transmittance of the display panel was adjusted to 50% by the antireflection film and the absorption filter layer formed earlier. FIG. 6 shows the transmission characteristics of this antireflection film by computer simulation. FIG. 3B is a cross-sectional view of the structure of the obtained display device.

【0064】比較例1 ブラウン管のパネルガラスとして、ダークティントガラ
ス(EIAJの規格番号:H−5601)を用意し、フ
ァンネル、電子銃等を組み合わせて、テンションバンド
を付加して、図3(a)に示すのと同様なブラウン管を
完成させた。次いで、完成したブラウン管の表面に、膜
厚135nmのTiO2 からなる第1の誘電体膜23を
スパッタリング法により形成した。次に、該誘電体膜2
3の上に厚さ90nmの酸化シリコンからなる第2の誘
電体膜24をスパッタリング法により形成し、さらに該
第2の誘電体膜24の上に、膜厚195nmのMgF2
からなる膜25をスパッタリング法により形成して、3
層からなる透明反射防止膜26を形成した。このときの
パネルの透過率は、最終的に実施例1及び2と同じ50
%になるように調整した。計算機によるシュミレーショ
ンによるこの反射防止膜の透過特性を図7に示す。ま
た、得られる表示装置の構造断面図を図4(a)に示
す。
COMPARATIVE EXAMPLE 1 Dark tint glass (EIAJ standard number: H-5601) was prepared as a panel glass of a CRT, and a funnel, an electron gun and the like were combined to add a tension band. A CRT similar to that shown in Fig. 1 was completed. Next, a 135 nm-thick first dielectric film 23 made of TiO 2 was formed on the surface of the completed cathode ray tube by a sputtering method. Next, the dielectric film 2
A second dielectric film 24 made of silicon oxide having a thickness of 90 nm is formed on the third dielectric film 24 by a sputtering method, and a 195 nm-thick MgF 2 film is further formed on the second dielectric film 24.
Is formed by a sputtering method.
A transparent antireflection film 26 made of a layer was formed. At this time, the transmittance of the panel is finally 50%, which is the same as in Examples 1 and 2.
%. FIG. 7 shows the transmission characteristics of this antireflection film by computer simulation. FIG. 4A is a cross-sectional view showing the structure of the obtained display device.

【0065】比較例2 ブラウン管のパネルガラスとして、ダークティントガラ
ス(EIAJの規格番号:H−5601)を用意し、フ
ァンネル、電子銃等を組み合わせて、テンションバンド
を付加して、図2に示すのと同様なブラウン管を完成さ
せた。次いで、完成したブラウン管の表面に、膜厚13
nmのTiNからなる吸収層27をスパッタリング法に
より形成した。次に、該吸収層27の上に厚さ5nmの
窒化シリコンからなる第1の誘電体膜28をスパッタリ
ング法により形成し、さらに該第1の誘電体膜28の上
に、膜厚80nmの酸化シリコンからなる第2の誘電体
膜29をスパッタリング法により形成して、3層からな
る反射防止膜30を形成した。このときのパネルの透過
率は、最終的に実施例1及び2と同じ50%になるよう
に調整した。計算機によるシュミレーションによるこの
反射防止膜の透過特性を図8に示す。また、得られる表
示装置の構造断面図を図4(b)に示す。
Comparative Example 2 A dark tint glass (EIAJ standard number: H-5601) was prepared as a panel glass of a cathode ray tube, and a funnel, an electron gun, and the like were combined, and a tension band was added. The same CRT was completed. Next, a film thickness of 13
An absorption layer 27 made of TiN of nm was formed by a sputtering method. Next, a first dielectric film 28 made of silicon nitride having a thickness of 5 nm is formed on the absorption layer 27 by a sputtering method, and an oxidized film having a thickness of 80 nm is formed on the first dielectric film 28. A second dielectric film 29 made of silicon was formed by a sputtering method to form an antireflection film 30 having three layers. At this time, the transmittance of the panel was finally adjusted to 50%, which is the same as in Examples 1 and 2. FIG. 8 shows the transmission characteristics of this antireflection film by computer simulation. FIG. 4B is a cross-sectional view showing the structure of the obtained display device.

【0066】性能評価試験 以上の様にして作製した実施例1,2及び比較例1,2
の表示装置を用いて、表示面における透過率の均一性、
反射防止機能、表示品質(ゴースト、フレア等の有無)
の3つについて評価した。結果を表1に示す。なお、表
1中、評価は、○優れている、△良好、×劣っている、
の3段階に分けて示している。
Performance Evaluation Test Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 prepared as described above
Using a display device, the uniformity of transmittance on the display surface,
Anti-reflection function, display quality (presence of ghost, flare, etc.)
Were evaluated. Table 1 shows the results. In Table 1, the evaluations were: ○ excellent, Δ good, × inferior,
Are shown in three stages.

【0067】[0067]

【表1】 [Table 1]

【0068】[0068]

【発明の効果】以上説明したように、吸収フィルター層
の上に吸収膜を有する反射防止膜が形成された本発明の
反射防止フィルター及び該フィルターを有する表示装置
によれば、次の効果を得ることができる。 (1)表示パネル材料を変えることなく、広い範囲の透
過率調整が可能である。 (2)ゴースト、フレア等がなく、優れた表示品質を得
ることができる。 (3)表示装置の機械強度に関わらず、表示面の全面に
渡り均一な透過率の表示装置を得ることができる。 (4)最小限の層数で優れた反射防止機能を得ることが
できる。
As described above, according to the antireflection filter of the present invention in which the antireflection film having the absorption film is formed on the absorption filter layer and the display device having the filter, the following effects are obtained. be able to. (1) A wide range of transmittance can be adjusted without changing the display panel material. (2) Excellent display quality can be obtained without ghosts and flares. (3) A display device having a uniform transmittance over the entire display surface can be obtained regardless of the mechanical strength of the display device. (4) An excellent antireflection function can be obtained with a minimum number of layers.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明の表示装置の構造断面図であ
る。
FIG. 1 is a structural sectional view of a display device of the present invention.

【図2】図2は、実施例及び比較例に用いるブラウン管
の模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram of a cathode ray tube used in Examples and Comparative Examples.

【図3】図3は、実施例の表示装置の構造断面図であ
る。
FIG. 3 is a structural cross-sectional view of the display device according to the embodiment.

【図4】図4は、比較例の表示装置の構造断面図であ
る。
FIG. 4 is a structural sectional view of a display device of a comparative example.

【図5】図5は、計算機によるシュミレーションによる
実施例1の反射防止膜の表面反射、裏面反射及び透過特
性を示す図である。縦軸は、反射率を示し、横軸は波長
を示す。
FIG. 5 is a diagram illustrating front-side reflection, back-side reflection, and transmission characteristics of the antireflection film of Example 1 by computer simulation. The vertical axis indicates the reflectance, and the horizontal axis indicates the wavelength.

【図6】図6は、計算機によるシュミレーションによる
実施例2の反射防止膜の表面反射、裏面反射及び透過特
性を示す図である。縦軸は、反射率を示し、横軸は波長
を示す。
FIG. 6 is a diagram illustrating front-side reflection, back-side reflection, and transmission characteristics of the antireflection film of Example 2 by computer simulation. The vertical axis indicates the reflectance, and the horizontal axis indicates the wavelength.

【図7】図7は、計算機によるシュミレーションによる
比較例1の反射防止膜の表面反射、裏面反射及び透過特
性を示す図である。縦軸は、反射率を示し、横軸は波長
を示す。
FIG. 7 is a diagram showing front-surface reflection, back-surface reflection, and transmission characteristics of the antireflection film of Comparative Example 1 by computer simulation. The vertical axis indicates the reflectance, and the horizontal axis indicates the wavelength.

【図8】図8は、計算機によるシュミレーションによる
比較例2の反射防止膜の表面反射、裏面反射及び透過特
性を示す図である。縦軸は、反射率を示し、横軸は波長
を示す。
FIG. 8 is a diagram illustrating front-side reflection, back-side reflection, and transmission characteristics of the antireflection film of Comparative Example 2 by computer simulation. The vertical axis indicates the reflectance, and the horizontal axis indicates the wavelength.

【図9】図9は、従来及び本発明の表示装置用フィルタ
ーの蛍光体からの光の透過及び反射の様子を模式的に表
した図である。
FIG. 9 is a diagram schematically showing a state of transmission and reflection of light from a phosphor of a display device filter according to the related art and the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,31…透明基材、2,13,18,35…吸収フィ
ルター層、3,14,19,27…吸収層、4,15…
誘電体層、5,16,22,26,30,32,32’
…反射防止膜、6,12…接着剤層、7…パネルガラ
ス、8…ファンネル、9…電子銃、10…ブラウン管、
11…PETフィルム、20,23,28…第1の誘電
体層、21,24,29…第2の誘電体層、25…Mg
2 膜、33…蛍光体、34…虚像
1, 31: transparent substrate, 2, 13, 18, 35 ... absorption filter layer, 3, 14, 19, 27 ... absorption layer, 4, 15 ...
Dielectric layer, 5, 16, 22, 26, 30, 32, 32 '
... Anti-reflection film, 6,12 ... Adhesive layer, 7 ... Panel glass, 8 ... Funnel, 9 ... Electron gun, 10 ... CRT
11 PET film, 20, 23, 28 first dielectric layer, 21, 24, 29 second dielectric layer, 25 Mg
F 2 film, 33: phosphor, 34: virtual image

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山下 尚孝 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 小林 政広 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 2H048 AA05 AA07 AA11 AA18 AA24 CA01 CA04 CA05 CA09 CA14 CA19 CA24 CA29 GA07 GA09 GA11 GA24 GA35 GA46 GA61 2K009 AA05 AA06 AA12 AA15 BB02 BB14 BB15 BB23 BB24 BB25 CC02 CC03 CC14 CC24 DD02 DD03 DD04 DD05 DD06 DD07 FF02 5C058 AA01 AB05 BA08 BA35 DA01 DA03  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Naotaka Yamashita 6-7-35 Kita Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation (72) Inventor Masahiro Kobayashi 6-35, Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation F-term (Reference) 2H048 AA05 AA07 AA11 AA18 AA24 CA01 CA04 CA05 CA09 CA14 CA19 CA24 CA29 GA07 GA09 GA11 GA24 GA35 GA46 GA61 2K009 AA05 AA06 AA12 AA15 BB02 BB14 BB15 BB23 CC04 DD03 CC03 DD03 DD06 DD07 FF02 5C058 AA01 AB05 BA08 BA35 DA01 DA03

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】透明基材上に光吸収フィルター層と、前記
光吸収フィルター層上に2層以上からなる反射防止膜を
有する表示装置用フィルターであって、 前記2層以上からなる反射防止膜は、少なくとも一つの
層が吸収層である、 表示装置用フィルター。
1. A filter for a display device having a light-absorbing filter layer on a transparent base material and an antireflection film comprising two or more layers on the light-absorbing filter layer, wherein the antireflection film comprises two or more layers. Is a filter for a display device, wherein at least one layer is an absorption layer.
【請求項2】前記2層以上からなる反射防止膜は、少な
くとも光吸収層と誘電体層の積層構造を有する、 請求項1記載の表示装置用フィルター。
2. The display device filter according to claim 1, wherein the antireflection film having two or more layers has a laminated structure of at least a light absorbing layer and a dielectric layer.
【請求項3】表示面を有する表示装置であって、 前記表示面上に光吸収フィルター層と、 前記光吸収フィルター層上に、少なくとも一つの層が吸
収層である2層以上からなる反射防止膜を有する表示装
置用フィルターが貼着されてなる、 表示装置。
3. A display device having a display surface, comprising: a light absorption filter layer on the display surface; and an anti-reflection filter comprising at least two layers on the light absorption filter layer, at least one of which is an absorption layer. A display device comprising a display device filter having a film attached thereto.
【請求項4】前記2層以上からなる反射防止膜は、少な
くとも光吸収層と誘電体層の積層構造を有する、 請求項3記載の表示装置。
4. The display device according to claim 3, wherein the antireflection film having two or more layers has a laminated structure of at least a light absorption layer and a dielectric layer.
【請求項5】前記表示装置用フィルターが表示装置の前
面板である、 請求項3記載の表示装置。
5. The display device according to claim 3, wherein the display device filter is a front plate of the display device.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000079316A1 (en) * 1999-06-17 2000-12-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Optical filter
WO2002000772A1 (en) * 2000-06-28 2002-01-03 Teijin Limited Biaxially oriented polyester film, adhesive film, and laminated film
WO2004019084A1 (en) * 2001-03-28 2004-03-04 Sumitomo Metal Mining Co.,Ltd. Visible light absorbing film, structural body having the visible light absorbing film, and visible light absorbing ink for forming visible light absorbing film
WO2004031813A1 (en) * 2002-10-02 2004-04-15 Bridgestone Corporation Anti-reflection film
CN102004271A (en) * 2009-09-02 2011-04-06 索尼公司 Optical element and method for producing the same

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000079316A1 (en) * 1999-06-17 2000-12-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Optical filter
US6849327B1 (en) 1999-06-17 2005-02-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Optical filter
US7357981B2 (en) 1999-06-17 2008-04-15 Fujifilm Corporation Optical filter
JP4854892B2 (en) * 1999-06-17 2012-01-18 富士フイルム株式会社 Image display device with optical filter
WO2002000772A1 (en) * 2000-06-28 2002-01-03 Teijin Limited Biaxially oriented polyester film, adhesive film, and laminated film
WO2004019084A1 (en) * 2001-03-28 2004-03-04 Sumitomo Metal Mining Co.,Ltd. Visible light absorbing film, structural body having the visible light absorbing film, and visible light absorbing ink for forming visible light absorbing film
CN100353190C (en) * 2002-08-21 2007-12-05 住友金属矿山株式会社 Visiable light absorbing film and structural body having visiable light absorbing film and visiable light absorbing ink for forming visiable light absorbing film
US7927696B2 (en) 2002-08-21 2011-04-19 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Visible light absorbing film, structural member having this visible light absorbing film and visible light absorbing ink which forms visible light absorbing film
WO2004031813A1 (en) * 2002-10-02 2004-04-15 Bridgestone Corporation Anti-reflection film
CN102004271A (en) * 2009-09-02 2011-04-06 索尼公司 Optical element and method for producing the same
CN102004271B (en) * 2009-09-02 2014-04-16 索尼公司 Optical element and method for producing the same

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