JP2000136918A - Parallelism inspection apparatus for micrometer - Google Patents

Parallelism inspection apparatus for micrometer

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JP2000136918A
JP2000136918A JP10325869A JP32586998A JP2000136918A JP 2000136918 A JP2000136918 A JP 2000136918A JP 10325869 A JP10325869 A JP 10325869A JP 32586998 A JP32586998 A JP 32586998A JP 2000136918 A JP2000136918 A JP 2000136918A
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Japan
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block
face
anvil
micrometer
beam splitter
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JP10325869A
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Japanese (ja)
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Morimasa Ueda
守正 上田
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Mitutoyo Corp
Mitsutoyo Kiko Co Ltd
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Mitutoyo Corp
Mitsutoyo Kiko Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a parallelism inspection apparatus for micrometer, which abolishes an inspection process performed by handwork and which can automate the inspection process of the parallelism of a micrometer. SOLUTION: In this parallelism inspection apparatus, an elastic body 3 is interposed and mounted between a measuring block 2 and a beam-splitter block 1. Then, the measuring block 2 and the beam-splitter block 1 are brought into close contact with the anvil end face and the spindle end face of a micrometer. Then, a reflecting face which is uses as a measuring face 2b is formed on the measuring block 2. Then, a semitransparent face which is used as a reference face 1b is formed on the beam-splitter block 1. A laser beam is made incident on the beam-splitter block 1. Interference fringes by reflected light from the measuring face 2b and by reflected light from the reference face 1b are detected. The parallelism of the anvil end face to the spindle end face is measured.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はマイクロメータの検
査装置に関し、特に、そのアンビルとスピンドルの平行
度を検査するための装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a micrometer inspection apparatus, and more particularly to an apparatus for inspecting the parallelism between an anvil and a spindle.

【0002】[0002]

【従来の技術】周知のように、精密測定器であるマイク
ロメータにおいては測定の基準となるアンビルとこのア
ンビルに対して精密に移動されるスピンドルとの間に被
測定物を挟んで被測定物の寸法を測定する。したがっ
て、このような構造のマイクロメータにおいては、アン
ビルに対してスピンドルが傾いた状態にあると、被測定
物への接触面であるアンビル面に対してスピンドル面が
傾き、測定誤差の原因となる。
2. Description of the Related Art As is well known, in a micrometer which is a precision measuring instrument, an object to be measured is sandwiched between an anvil serving as a reference for measurement and a spindle which is precisely moved with respect to the anvil. Measure the dimensions of Therefore, in the micrometer having such a structure, if the spindle is inclined with respect to the anvil, the spindle surface is inclined with respect to the anvil surface which is the contact surface with the object to be measured, which causes a measurement error. .

【0003】このため、マイクロメータの従来の検査工
程では、図3に示すように、マイクロメータのアンビル
とスピンドルとの間に光学ガラスからなるオプティカル
パラレルを挟み、矢印A,B方向から光学的干渉縞を観
察することにより、アンビル面とスピンドル面との間の
平行度を検査している。つまり、光学的に平行な2つの
表面をもつオプティカルパラレルをアンビルとスピンド
ルとの間に介在させると、これらのパラレル面に対応し
たスピンドル側及びアンビル側の添図のような干渉縞が
観察されるから、これらの干渉縞の観察によりアンビル
に対するスピンドルの平行度を知ることができる。
For this reason, in the conventional inspection process of a micrometer, as shown in FIG. 3, an optical parallel made of optical glass is interposed between an anvil and a spindle of the micrometer, and optical interference occurs in the directions of arrows A and B. By observing the fringes, the parallelism between the anvil surface and the spindle surface is checked. That is, when an optical parallel having two optically parallel surfaces is interposed between the anvil and the spindle, interference fringes corresponding to these parallel surfaces on the spindle side and the anvil side as shown in the attached drawings are observed. By observing these interference fringes, the parallelism of the spindle with respect to the anvil can be known.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
たようなオプティカルパラレルを用いた従来の平行度検
査方法では、傷付き易い光学ガラスによるオプティカル
パラレルを用いるから、貴重なパラレル面の早期の損傷
により検査費用が割高となり、手作業による個人差の大
きな検査方法が余儀なくされる問題があった。
However, in the conventional parallelism inspection method using the optical parallel as described above, since the optical parallel with the easily damaged optical glass is used, the inspection is performed due to the premature damage of the precious parallel surface. There was a problem that the cost was expensive and a manual inspection method with large individual differences was required.

【0005】本発明の目的は、以上に述べたような従来
のマイクロメータの平行度検査装置の問題に鑑み、手作
業で行われていた検査工程を廃止して、平行度の検査工
程を自動化できるマイクロメータの平行度検査装置を得
るにある。
An object of the present invention is to eliminate the manual inspection process and to automate the parallelism inspection process in view of the above-described problems of the conventional micrometer parallelism inspection device. The aim is to obtain a micrometer parallelism inspection device that can be used.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明は、測定ブロックとビームスプリッタブロッ
クとの間に弾性体を介装してマイクロメータのアンビル
端面及びスピンドル端面に前記測定ブロック及び前記ビ
ームスプリッタブロックを密着させ、測定面となる反射
面を前記測定ブロックに形成すると共に参照面となる半
透過面を前記ビームスプリッタブロックに形成し、前記
ビームスプリッタブロックにレーザ光を入射させること
により前記測定面からの反射光と参照面からの反射光の
干渉縞を検出し、前記アンビル端面とスピンドル端面の
平行度を測定するマイクロメータの平行度検査装置を提
案するものである。
In order to achieve this object, the present invention provides an elastic member interposed between a measurement block and a beam splitter block, and the measurement block and the spindle are provided on the end faces of an anvil and a spindle of a micrometer. By bringing the beam splitter block into close contact with each other, forming a reflection surface serving as a measurement surface on the measurement block and forming a semi-transmission surface serving as a reference surface on the beam splitter block, and causing a laser beam to enter the beam splitter block. The present invention proposes a parallelism inspection apparatus for a micrometer that detects interference fringes of light reflected from the measurement surface and light reflected from the reference surface, and measures parallelism between the anvil end surface and the spindle end surface.

【0007】後述する本発明の好ましい実施例の説明に
おいては、 1)前記アンビル端面及び前記スピンドル端面の何れか一
方に接する前記測定ブロックの外部接触面は前記測定面
に対して平行であり、前記アンビル端面及び前記スピン
ドル端面の他方に接する前記ビームスプリッタブロック
の外部接触面は前記参照面に対して平行である構造、 2)前記弾性体は弾性変形できる金属ベローズであり、こ
の金属ベローズの弾性により前記測定ブロック及び前記
ビームスプリッタブロックの外部接触面が対応した前記
アンビル端面及び前記スピンドル端面にそれぞれ弾性接
触される構造、 3)前記弾性体は内部空間に給排される流体圧力で弾性変
形でき、送与された同流体圧力で前記測定ブロック及び
前記ビームスプリッタブロックの外部接触面が対応した
前記アンビル端面及び前記スピンドル端面にそれぞれ弾
性接触される構造、 4)前記弾性体は内部空間に給排される流体圧力で弾性変
形でき、同流体圧力が排出されたとき、前記測定ブロッ
ク及び前記ビームスプリッタブロックの外部接触面が対
応した前記アンビル端面及び前記スピンドル端面から離
れる構造が説明される。
In the following description of a preferred embodiment of the present invention, 1) an external contact surface of the measuring block which is in contact with one of the anvil end surface and the spindle end surface is parallel to the measuring surface; The external contact surface of the beam splitter block that is in contact with the other of the anvil end surface and the spindle end surface is parallel to the reference surface.2) The elastic body is a metal bellows that can be elastically deformed. A structure in which the external contact surfaces of the measurement block and the beam splitter block are elastically contacted with the corresponding anvil end surface and the spindle end surface, respectively.3) the elastic body can be elastically deformed by a fluid pressure supplied and discharged into an internal space, The external contact surfaces of the measurement block and the beam splitter block are brought into contact with each other at the same fluid pressure supplied. 4) The elastic body can be elastically deformed by the fluid pressure supplied / discharged to / from the internal space, and when the fluid pressure is discharged, the measuring block and the measuring block A structure in which the external contact surface of the beam splitter block is separated from the corresponding anvil end surface and the spindle end surface will be described.

【0008】[0008]

【実施例】以下、図1及び図2について本発明の実施例
の詳細を説明する。図1は本発明による平行度検査装置
の構造部を示し、この平行度検査装置はマイクロメータ
のアンビルAとスピンドルSとの間に挟んで用いられ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to FIGS. FIG. 1 shows a structural part of a parallelism inspection apparatus according to the present invention, which is used between an anvil A and a spindle S of a micrometer.

【0009】即ち、この平行度検査装置は光学ガラスか
らなる直方体状のビームスプリッタブロック1及び温度
変化による伸縮のない金属で作られる測定ブロック2を
備え、このビームスプリッタブロック1は前記アンビル
Aのアンビル端面に接触できる外部接触面1aを有し、
この外部接触面1aの反対側には光透過面である参照面
1bが同外部接触面1aに対して平行関係を保って形成
してある。また、前記測定ブロック2は前記スピンドル
Sのスピンドル端面に接触できる外部接触面2aを備
え、この外部接触面2aの反対側には光反射面である測
定面2bが同外部接触面2aに対して平行関係を保って
形成してある。したがって、アンビルAのアンビル端面
にビームスプリッタブロック1の外部接触面1aを、か
つ、スピンドルSのスピンドル端面に測定ブロック2の
外部接触面2aをそれぞれ密接させると、参照面1bと
測定面2bとは僅かに離間した状態でアンビル端面とス
ピンドル端面との間の角度関係と同様の角度関係とな
る。
That is, this parallelism inspection apparatus comprises a rectangular parallelepiped beam splitter block 1 made of optical glass and a measurement block 2 made of metal which does not expand or contract due to a temperature change. This beam splitter block 1 is an anvil of the anvil A. It has an external contact surface 1a that can contact the end surface,
On the opposite side of the external contact surface 1a, a reference surface 1b, which is a light transmitting surface, is formed while maintaining a parallel relationship with the external contact surface 1a. The measuring block 2 has an external contact surface 2a which can contact the spindle end surface of the spindle S. On the opposite side of the external contact surface 2a, a measuring surface 2b which is a light reflecting surface is provided with respect to the external contact surface 2a. It is formed keeping the parallel relationship. Therefore, when the external contact surface 1a of the beam splitter block 1 is brought into close contact with the anvil end surface of the anvil A, and the external contact surface 2a of the measurement block 2 is brought into close contact with the spindle end surface of the spindle S, the reference surface 1b and the measurement surface 2b become The angle relationship between the anvil end face and the spindle end face is slightly similar to that between the anvil end face and the spindle end face.

【0010】そして、前記参照面1b及び前記測定面2
bに対応したビームスプリッタブロック1及び測定ブロ
ック2の円筒形の対向端部1c,2c間には、金属ベロ
ーズ3の場合を示す弾性体の両端部が気密に固定され、
密閉空間である同金属ベローズ3の内部空間4に空気圧
等の流体圧力を給排できる。つまり、金属ベローズ3の
内部空間4に真空圧を作用させると、金属ベローズ3全
体が縮小するから、アンビルAとスピンドルSの間から
平行度検査装置を外すことができ、また、同内部空間4
を大気圧に解放することにより、金属ベローズ3自体の
弾性による略一定した圧力でアンビル端面及びスピンド
ル端面にビームスプリッタブロック1及び測定ブロック
2を押圧できる。
The reference surface 1b and the measurement surface 2
b, between the opposite ends 1c and 2c of the cylindrical shape of the beam splitter block 1 and the measurement block 2 corresponding to b, both ends of an elastic body as shown in the case of the metal bellows 3 are fixed in an airtight manner.
Fluid pressure such as air pressure can be supplied to and discharged from the internal space 4 of the metal bellows 3 which is a closed space. That is, when vacuum pressure is applied to the internal space 4 of the metal bellows 3, the entire metal bellows 3 is reduced, so that the parallelism inspection device can be removed from between the anvil A and the spindle S.
Is released to the atmospheric pressure, the beam splitter block 1 and the measurement block 2 can be pressed against the anvil end face and the spindle end face with a substantially constant pressure due to the elasticity of the metal bellows 3 itself.

【0011】勿論、金属ベローズ3の内部空間4に対す
る流体圧力の給排においては、同内部空間4を大気に解
放することでビームスプリッタブロック1及び測定ブロ
ック2をアンビルA及びスピンドルSから外し、同内部
空間4に対する流体圧力の供給により金属ベローズ3を
伸張させてビームスプリッタブロック1及び測定ブロッ
ク2をアンビルA及びスピンドルSにそれぞれ密着させ
る実施形態にすることもできる。
Of course, in supplying and discharging fluid pressure to and from the internal space 4 of the metal bellows 3, the beam splitter block 1 and the measuring block 2 are removed from the anvil A and the spindle S by releasing the internal space 4 to the atmosphere. An embodiment may be adopted in which the metal bellows 3 is extended by supplying a fluid pressure to the internal space 4 so that the beam splitter block 1 and the measurement block 2 are brought into close contact with the anvil A and the spindle S, respectively.

【0012】前記ビームスプリッタブロック1の上部に
は内部に偏光ビームスプリッタ5及びλ/4波長板6を
内蔵した光学系ハウジング7が固定され、この光学系ハ
ウジング7の端部には図2に示すレーザ光源8から導か
れる光学ファイバ9が接続される。即ち、この光学ファ
イバ9から出射されるレーザ光はレンズ10により平行
ビームとされ、偏光ビームスプリッタ5及びλ/4波長
板6を介して前述したビームスプリッタブロック1に入
射され、測定面2bからの反射光と参照面1bからの反
射光との干渉が行われる。
An optical system housing 7 having a polarizing beam splitter 5 and a λ / 4 wave plate 6 built therein is fixed above the beam splitter block 1, and an end of the optical system housing 7 is shown in FIG. An optical fiber 9 guided from a laser light source 8 is connected. That is, the laser light emitted from the optical fiber 9 is converted into a parallel beam by the lens 10 and is incident on the above-described beam splitter block 1 via the polarization beam splitter 5 and the λ / 4 wavelength plate 6, and is transmitted from the measurement surface 2b. Interference between the reflected light and the reflected light from the reference surface 1b occurs.

【0013】また、干渉信号はλ/4波長板6の通過に
より入射レーザ光に対して偏向面が90度回転し、偏光
ビームスプリッタ5により反射され、レンズ11により
CCDカメラ12の感光面に結像され、同CCDカメラ
12からの干渉縞画像を表示するモニタ(図示せず)で
観察・測定される。
The interference signal is rotated by 90 degrees with respect to the incident laser light by passing through the λ / 4 wavelength plate 6, reflected by the polarization beam splitter 5, and coupled to the photosensitive surface of the CCD camera 12 by the lens 11. The image is observed and measured by a monitor (not shown) that displays an interference fringe image from the CCD camera 12.

【0014】なお、測定面2bからの反射光と参照面1
bからの反射光との強度差によりコントラストの高い干
渉縞が得られない場合は、測定面2b及び/又は参照面
1bの表面に反射率(透過率)を制御するコーティング
層を形成すればよい。
The light reflected from the measurement surface 2b and the reference surface 1
If interference fringes with high contrast cannot be obtained due to the difference in intensity from the reflected light from b, a coating layer for controlling the reflectance (transmittance) may be formed on the surface of the measurement surface 2b and / or the reference surface 1b. .

【0015】図示実施例によるマイクロメータの平行度
検査装置は、以上のような構成であるから、マイクロメ
ータのアンビルAとスピンドルSとの間にビームスプリ
ッタブロック1及び測定ブロック2を挟んで測定面2b
の反射光と参照面1bからの反射光による干渉縞を観察
することにより、アンビル端面とスピンドル端面との間
の平行度を簡単に知ることができる。ことに、弾性体で
ある金属ベローズ3の内部空間4に流体圧力を給排する
構成では、アンビル端面とスピンドル端面に対する安定
した測定圧が得られるばかりでなく、流体圧力の給排で
平行度検査装置をアンビルAとスピンドルSとの間から
簡単に外すことができるため、ビームスプリッタブロッ
ク1及び測定ブロック2の貴重な外部接触面を傷めるお
それも少なく、また、傷ついても反射面が傷つくわけで
はないので干渉縞画像が劣化しないため、自動化した検
査工程とすることが可能である。
Since the parallelism inspection apparatus for a micrometer according to the illustrated embodiment has the above-described configuration, the measurement surface is sandwiched between the beam splitter block 1 and the measurement block 2 between the micrometer anvil A and the spindle S. 2b
By observing the interference fringes caused by the reflected light from the reference surface 1b and the light reflected from the reference surface 1b, the parallelism between the anvil end face and the spindle end face can be easily known. In particular, in a configuration in which fluid pressure is supplied to and discharged from the internal space 4 of the metal bellows 3 which is an elastic body, not only a stable measurement pressure can be obtained for the anvil end face and the spindle end face, but also the parallelism inspection by supplying and discharging fluid pressure. Since the device can be easily removed from between the anvil A and the spindle S, there is little risk of damaging the valuable external contact surfaces of the beam splitter block 1 and the measurement block 2, and even if it is damaged, the reflection surface is not damaged. Since there is no interference fringe image, the inspection process can be automated because the image does not deteriorate.

【0016】なお、前述した実施例の説明では、測定ブ
ロック2の外部接触面をスピンドルSに、また、ビーム
スプリッタブロック1の外部接触面をアンビルAに接触
させる例を説明したが、測定ブロック2をアンビルA側
に、また、ビームスプリッタブロック1をスピンドルS
側に接触させても同様の作用効果が得られるのは、改め
て指摘するまでもない。
In the above description of the embodiment, an example is described in which the external contact surface of the measurement block 2 is brought into contact with the spindle S and the external contact surface of the beam splitter block 1 is brought into contact with the anvil A. To the anvil A side, and the beam splitter block 1 to the spindle S
It is needless to point out again that the same operation and effect can be obtained even when the contact is made to the side.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
のマイクロメータの平行度検査装置によれば、従来で
は、手作業で行われていたマイクロメータの平行度検査
工程を自動化でき、従来では、熟練を要していた個人差
のある検査結果の信頼性を保つことができる。
As is apparent from the above description, according to the micrometer parallelism inspection apparatus of the present invention, the micrometer parallelism inspection process conventionally performed manually can be automated. Thus, it is possible to maintain the reliability of test results that require skill and differ from individual to individual.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるマイクロメータの平行度検査装置
の断面図である。
FIG. 1 is a sectional view of a micrometer parallelism inspection apparatus according to the present invention.

【図2】同平行度検査装置の光学系の系統図である。FIG. 2 is a system diagram of an optical system of the parallelism inspection apparatus.

【図3】従来のオプティカルパラレルを用いた平行度検
査法の説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a parallelism inspection method using a conventional optical parallel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A アンビル S スピンドル 1 ビームスプリッタブロック 1a 外部接触面 1b 参照面 2 測定ブロック 2a 外部接触面 2b 測定面 3 金属ベローズ 4 内部空間 5 偏光ビームスプリッタ 6 λ/4波長板 7 光学ハウジング 8 レーザ光源 12 CCDカメラ A Anvil S Spindle 1 Beam splitter block 1a External contact surface 1b Reference surface 2 Measurement block 2a External contact surface 2b Measurement surface 3 Metal bellows 4 Internal space 5 Polarization beam splitter 6 λ / 4 wavelength plate 7 Optical housing 8 Laser light source 12 CCD camera

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 測定ブロックとビームスプリッタブロッ
クとの間に弾性体を介装してマイクロメータのアンビル
端面及びスピンドル端面に前記測定ブロック及び前記ビ
ームスプリッタブロックを密着させ、測定面となる反射
面を前記測定ブロックに形成すると共に参照面となる半
透過面を前記ビームスプリッタブロックに形成し、前記
ビームスプリッタブロックにレーザ光を入射させること
により前記測定面からの反射光と参照面からの反射光の
干渉縞を検出し、前記アンビル端面とスピンドル端面の
平行度を測定することを特徴とするマイクロメータの平
行度検査装置。
1. An elastic body is interposed between a measurement block and a beam splitter block, and the measurement block and the beam splitter block are brought into close contact with an anvil end face and a spindle end face of a micrometer to form a reflection surface serving as a measurement surface. A semi-transmissive surface, which is formed on the measurement block and serves as a reference surface, is formed on the beam splitter block. A parallelism inspection apparatus for a micrometer, which detects interference fringes and measures the parallelism between the end face of the anvil and the end face of the spindle.
【請求項2】 前記アンビル端面及び前記スピンドル端
面の何れか一方に接する前記測定ブロックの外部接触面
は前記測定面に対して平行であり、前記アンビル端面及
び前記スピンドル端面の他方に接する前記ビームスプリ
ッタブロックの外部接触面は前記参照面に対して平行で
あることを特徴とする請求項1記載のマイクロメータの
平行度検査装置。
2. The beam splitter, wherein an external contact surface of the measurement block that is in contact with one of the anvil end surface and the spindle end surface is parallel to the measurement surface, and is in contact with the other of the anvil end surface and the spindle end surface. 2. The micrometer parallelism inspection apparatus according to claim 1, wherein an external contact surface of the block is parallel to the reference surface.
【請求項3】 前記弾性体は弾性変形できる金属ベロー
ズであり、この金属ベローズの弾性により前記測定ブロ
ック及び前記ビームスプリッタブロックの外部接触面が
対応した前記アンビル端面及び前記スピンドル端面にそ
れぞれ弾性接触されることを特徴とする請求項1又は請
求項2に記載のマイクロメータの平行度検査装置。
3. The elastic body is a metal bellows that can be elastically deformed, and the elastic contact of the metal bellows causes the external contact surfaces of the measuring block and the beam splitter block to elastically contact the corresponding anvil end surface and the spindle end surface, respectively. The parallelism inspection apparatus for a micrometer according to claim 1 or 2, wherein:
【請求項4】 前記弾性体は内部空間に給排される流体
圧力で弾性変形でき、送与された同流体圧力で前記測定
ブロック及び前記ビームスプリッタブロックの外部接触
面が対応した前記アンビル端面及び前記スピンドル端面
にそれぞれ弾性接触されることを特徴とする請求項1又
は請求項2記載のマイクロメータの平行度検査装置。
4. The elastic body can be elastically deformed by the fluid pressure supplied to and discharged from the internal space, and the anvil end face and the external contact surface of the measurement block and the beam splitter block corresponding to the supplied fluid pressure. 3. The micrometer parallelism inspection apparatus according to claim 1, wherein the spindle end faces are elastically contacted with each other.
【請求項5】 前記弾性体は内部空間に給排される流体
圧力で弾性変形でき、同流体圧力が排出されたとき、前
記測定ブロック及び前記ビームスプリッタブロックの外
部接触面が対応した前記アンビル端面及び前記スピンド
ル端面から離れることを特徴とする請求項1又は請求項
2記載のマイクロメータの平行度検査装置。
5. The anvil end face corresponding to an external contact surface of the measurement block and the beam splitter block when the elastic body is elastically deformed by a fluid pressure supplied to and discharged from an internal space. 3. The micrometer parallelism inspection apparatus according to claim 1, wherein the apparatus is separated from the spindle end face.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009300100A (en) * 2008-06-10 2009-12-24 Nikon Instech Co Ltd Shape measuring apparatus and its shape measuring method

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JP2009300100A (en) * 2008-06-10 2009-12-24 Nikon Instech Co Ltd Shape measuring apparatus and its shape measuring method

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