JP2000132996A - Method and apparatus for sorting defective of semiconductor memory - Google Patents

Method and apparatus for sorting defective of semiconductor memory

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JP2000132996A
JP2000132996A JP10306093A JP30609398A JP2000132996A JP 2000132996 A JP2000132996 A JP 2000132996A JP 10306093 A JP10306093 A JP 10306093A JP 30609398 A JP30609398 A JP 30609398A JP 2000132996 A JP2000132996 A JP 2000132996A
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Japan
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defective
condition value
value
semiconductor memory
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Hiroshi Yoshihara
宏 吉原
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Sony Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and an apparatus for sorting defectives of a semiconductor memory whereby the semiconductor memory having a defective memory cell specifically inferior in performance which cannot be sorted according to a uniform sort condition among a plurality of memory cells of the semiconductor memory can be sorted. SOLUTION: There are provided a performance-testing part 6 for testing a performance of a semiconductor memory, a performance test control part 5 for executing the performance test to the semiconductor memory with a condition value designated to the performance-testing part 6, and judging good, defective memory cells, a correlation data-obtaining part 2 which outputs the condition value to the performance test control part 5, counts the number of defective memory cells of the semiconductor memory to the condition value from judgment results of the performance test control part 5, and obtains correlation data between the condition value and the number of defective memory cells, a reference condition value-determining part 3 for obtaining a reference condition value of a condition parameter reflecting an average performance of a plurality of memory cells, and a sort condition-determining part 4 for determining a sort condition value for the semiconductor memory on the basis of the reference condition value.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置の
良品、不良品を選別する半導体記憶装置の不良品選別方
法および不良品選別装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for selecting defective or defective semiconductor memory devices.

【0002】[0002]

【従来の技術】たとえば、SRAM(Static Random Ac
cess Memory )等の半導体記憶装置は、高速化、大容量
化、高機能化しており、また、信頼性の高い半導体記憶
装置を供給するためには、半導体記憶装置のテスト技術
も重要となっている。半導体記憶装置の性能試験は、た
とえば、メモリテスタと呼ばれる試験装置を用いて行わ
れ、たとえば、動作電圧、温度等に関して、性能試験が
行われる。従来、半導体記憶装置の良品、不良品の選別
は、同一種の半導体記憶装置であれば、たとえば、ある
一定の選別条件、たとえば、動作電圧であれば一定の電
圧条件に関して所定の性能試験を行い、この試験結果に
基づいて良品、不良品を選別していた。
2. Description of the Related Art For example, SRAM (Static Random Ac
Semiconductor memory devices such as cess memory) have become faster, larger in capacity, and more sophisticated. In addition, in order to supply highly reliable semiconductor memory devices, semiconductor memory device test techniques have become important. I have. The performance test of the semiconductor memory device is performed using, for example, a test device called a memory tester. For example, the performance test is performed on the operating voltage, the temperature, and the like. Conventionally, non-defective products and defective products of a semiconductor memory device are selected by performing a predetermined performance test under a certain screening condition, for example, in the case of the same type of semiconductor memory device, for example, a certain voltage condition in the case of operating voltage. Good products and defective products were selected based on the test results.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、半導体
記憶装置の良品、不良品の選別を、一律の選別条件で選
別すると、例えば、半導体記憶装置の有する記憶セル
に、欠陥やダストによる電気的断線・リークなどが存在
する場合、所定の選別条件で確実に除かれる記憶セル
と、ある選別条件の下では動作するが、性能が特異的に
劣った記憶セルも存在することが多い。このような性能
が特異的に劣る記憶セルを、以下、ウィークビットと呼
ぶ。ウィークビットは、選別自体はパスするものの、選
別後の加速試験や実使用下における故障を引き起こす場
合がある。たとえば、図8に示すように、同一の半導体
記憶装置を複数の異なる選別条件に関して試験した場
合、条件3と条件4を境に、厳しい選別条件になるほど
不良と判断される記憶セル数が増加する傾向にある。な
お、図8において、ハッチングの間隔が狭くなるほど、
不良と判定される記憶セルが増加することを示してい
る。また、条件3よりも条件が緩くなると、ウィークビ
ットを除くと、不良と判断される記憶セルはなくなる。
図8に示すケースにおいて、たとえば、条件6〜条件8
のいずれかの条件で一律に性能試験を行うと、ウィーク
ビットは検出されない。
However, if non-defective and defective semiconductor storage devices are selected under uniform selection conditions, for example, electrical disconnection due to defects or dust may occur in the storage cells of the semiconductor storage device. When there is a leak or the like, there are many storage cells that can be reliably removed under a predetermined selection condition, and storage cells that operate under a certain selection condition but have a specifically inferior performance. Such a memory cell having a specifically inferior performance is hereinafter referred to as a weak bit. Although the weak bit passes the selection itself, the weak bit may cause a failure in an accelerated test after the selection or in actual use. For example, as shown in FIG. 8, when the same semiconductor memory device is tested under a plurality of different selection conditions, the number of storage cells determined to be defective increases as the selection conditions become more severe after the conditions 3 and 4. There is a tendency. In FIG. 8, as the hatching interval becomes narrower,
This indicates that the number of storage cells determined to be defective increases. Further, when the condition becomes looser than the condition 3, except for the weak bit, there is no memory cell determined to be defective.
In the case shown in FIG. 8, for example, condition 6 to condition 8
When a performance test is uniformly performed under any of the conditions, weak bits are not detected.

【0004】図9(a)〜(c)は、それぞれ異なる性
能特性を持つ同一品種の3つの半導体記憶装置の性能特
性例を示したものであり、横軸は条件パラメータを示し
ており、横軸方向に進むほど緩い条件となり、縦軸は不
良記憶セル数の対数を示している。また、図9(a)に
示す半導体記憶装置の各記憶セルは、より厳しい条件を
パスする全体的に優れた性能を持ち、図9(b)に示す
半導体記憶装置の各記憶セルは欠陥はないが全体的に性
能が劣っており、図9(c)に示す半導体記憶装置はウ
ィークビットを持っている場合を示している。
FIGS. 9 (a) to 9 (c) show examples of performance characteristics of three semiconductor memory devices of the same type having different performance characteristics, and the horizontal axis shows condition parameters. The condition becomes looser as the position advances in the axial direction, and the vertical axis indicates the logarithm of the number of defective memory cells. Further, each memory cell of the semiconductor memory device shown in FIG. 9A has excellent overall performance that passes more severe conditions, and each memory cell of the semiconductor memory device shown in FIG. However, the overall performance is inferior, and the semiconductor memory device shown in FIG. 9C has a weak bit.

【0005】半導体記憶装置の各記憶セルの性能が全体
的に均一であると、図9(a)および図9(b)に示す
ように、全体的な性能の優劣に関わらず、条件パラメー
タに対する不良記憶セル数の対数値は滑らかに変化し、
条件パラメータの条件が緩やかになるにしたがって右下
がりに不良と判断される記憶セルは減少する。一方、図
9(c)に示す半導体記憶装置では、条件パラメータの
変化にしたがって、不良と判断されるウィークビットが
特異的に発生する。いずれの性能の半導体記憶装置も一
律に同じ条件値Vkで選別すると、図9(b)に示す全
体的に性能が劣った半導体記憶装置のみが不良品の半導
体記憶装置として選別され、ウィークビットを持ってい
る半導体記憶装置は、良品と判断されてしまい、ウィー
クビットを持っている半導体記憶装置の選別が困難であ
った。
When the performance of each memory cell of a semiconductor memory device is entirely uniform, as shown in FIGS. 9A and 9B, regardless of the overall performance, the condition parameter is not affected. The logarithmic value of the number of defective memory cells changes smoothly,
As the condition of the condition parameter becomes milder, the number of storage cells determined to be defective in the downward right direction decreases. On the other hand, in the semiconductor memory device shown in FIG. 9C, weak bits that are determined to be defective are specifically generated according to changes in the condition parameters. If the semiconductor memory devices of all performances are uniformly selected with the same condition value Vk, only the semiconductor memory device of poor overall performance shown in FIG. 9B is selected as a defective semiconductor memory device, and weak bits are determined. The semiconductor memory device having the weak bit was determined to be non-defective, and it was difficult to select the semiconductor memory device having the weak bit.

【0006】本発明は、上記の問題に鑑みてなされたも
のであって、半導体記憶装置の有する複数の記憶セルの
うち、一律の選別条件では選別できない特異的に性能の
劣る記憶セルを有する半導体記憶装置の選別が可能な半
導体記憶装置の不良品選別方法を提供することを目的と
する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has a semiconductor memory device having a memory cell having a specifically inferior performance which cannot be selected under a uniform selection condition among a plurality of storage cells of a semiconductor memory device. It is an object of the present invention to provide a method for selecting a defective semiconductor memory device that can select a memory device.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、半導体記憶装
置の有する複数の記憶セルについて、所定の条件パラメ
ータに関して性能試験を行い、試験結果に基づいて前記
半導体記憶装置の良品、不良品を選別する半導体記憶装
置の不良品選別方法であって、前記条件パラメータの複
数の条件値について前記記憶セルの性能試験を行い、前
記条件パラメータと不良記憶セル数との相関データを求
めるステップと、前記相関データに基づいて、前記半導
体記憶装置の良品、不良品を選別するための前記条件パ
ラメータの選別条件値を決定するステップとを有する。
According to the present invention, a performance test is performed on a plurality of storage cells included in a semiconductor memory device with respect to predetermined condition parameters, and good and defective semiconductor memory devices are selected based on the test results. Performing a performance test of the storage cell with respect to a plurality of condition values of the condition parameter to obtain correlation data between the condition parameter and the number of defective storage cells. Determining a selection condition value of the condition parameter for selecting non-defective products and defective products of the semiconductor storage device based on the data.

【0008】前記相関データを求めるステップおよび前
記選別条件値を決定するステップは、選別する半導体記
憶装置毎に行う。
The step of obtaining the correlation data and the step of determining the selection condition value are performed for each semiconductor memory device to be selected.

【0009】前記相関データを求めるステップは、前記
複数の記憶セルの全てについて前記性能試験を行う。
In the step of obtaining the correlation data, the performance test is performed on all of the plurality of storage cells.

【0010】前記相関データを求めるステップは、前記
複数の記憶セルのうち、一部の記憶セルについて前記条
件パラメータに関して性能試験を行うステップと、前記
性能試験の結果に基づく不良記憶セル数と前記条件パラ
メータとの相関データを求めるステップと、前記一部の
記憶セルについての相関データに基づいて、全ての記憶
セルについての不良記憶セル数と条件パラメータとの相
関データを推定するステップとを有する。
[0010] The step of obtaining the correlation data includes the step of performing a performance test on the condition parameters of some of the plurality of storage cells, and the step of determining the number of defective storage cells based on the result of the performance test and the condition. A step of obtaining correlation data with parameters; and a step of estimating correlation data between the number of defective storage cells and the condition parameters for all storage cells based on the correlation data for some of the storage cells.

【0011】前記選別条件値を決定するステップは、前
記相関データに基づいて、前記複数の記憶セルの平均的
な性能を反映する前記条件パラメータの基準条件値を求
めるステップと、前記相関データおよび基準条件値に基
づいて、前記半導体記憶装置の良品、不良品を選別する
ための選別条件値を決定するステップとを有する。
The step of determining the selection condition value includes the step of obtaining a reference condition value of the condition parameter reflecting an average performance of the plurality of storage cells based on the correlation data; Determining a selection condition value for selecting good or defective semiconductor memory devices based on the condition value.

【0012】前記基準条件値を求めるステップは、前記
相関データに基づいて、全記憶セル数と不良記憶セル数
との比を所定の値とする条件パラメータの値を求め、当
該条件パラメータの値を前記基準条件値とする。
In the step of obtaining the reference condition value, a value of a condition parameter for setting a ratio of the total number of storage cells to the number of defective storage cells to a predetermined value is determined based on the correlation data, and the value of the condition parameter is determined. The reference condition value is used.

【0013】前記条件パラメータと不良記憶セル数の対
数との関係において、前記不良記憶セル数の対数の値が
全記憶セル数の対数の値の半分となるときの条件パラメ
ータの値を前記基準条件値とする。
In the relationship between the condition parameter and the logarithm of the number of defective storage cells, the value of the condition parameter when the value of the logarithm of the number of defective storage cells is half of the logarithm of the total number of storage cells is set to the reference condition. Value.

【0014】前記選別条件値を決定するステップは、前
記条件パラメータと不良記憶セル数の対数との関係にお
いて、前記不良記憶セル数の対数の値が全記憶セル数の
対数の値の半分となるときの条件パラメータの値を前記
基準条件値とするステップと、前記基準パラメータ値近
傍における前記条件パラメータに関する前記不良記憶セ
ル数の対数の値の変化の割合を求めるステップと、前記
変化の割合を係数とし、前記条件パラメータを変数と
し、所定の定数項を有する一次方程式の解を前記選別条
件値とするステップとを有する。
In the step of determining the selection condition value, the logarithm of the number of defective memory cells is half the logarithm of the total number of memory cells in the relationship between the condition parameter and the logarithm of the number of defective memory cells. Setting the value of the condition parameter at the time as the reference condition value; determining a rate of change of the logarithmic value of the number of defective storage cells with respect to the condition parameter in the vicinity of the reference parameter value; Using the condition parameter as a variable and using a solution of a linear equation having a predetermined constant term as the screening condition value.

【0015】前記条件パラメータは、前記半導体記憶装
置の動作電圧である。
The condition parameter is an operating voltage of the semiconductor memory device.

【0016】前記選別条件値を決定した後、当該選別条
件値にしたがって不良品を選別し、選別された不良品の
半導体記憶装置に対してリペア処理を施すステップをさ
らに有する。
After the selection condition value is determined, the method further includes a step of selecting defective products according to the selected selection condition values and performing a repair process on the selected defective semiconductor memory device.

【0017】また、本発明は、半導体記憶装置の有する
複数の記憶セルについて、所定の条件パラメータに関し
て性能試験を行い、試験結果に基づいて前記半導体記憶
装置の良品、不良品を選別する半導体記憶装置の不良品
選別装置であって、前記半導体記憶装置に対して前記性
能試験を行う性能試験部と、前記性能試験部に指定され
た条件値で半導体記憶装置の性能試験を行わせ、当該性
能試験の結果から前記記憶セルの良品、不良品を判別す
る性能試験制御部と、性能試験制御部に対して前記条件
値を出力し、前記性能試験制御部の判別結果から前記条
件値に対する前記半導体記憶装置の不良記憶セル数をカ
ウントし、前記条件値と不良記憶セル数との相関データ
を取得する相関データ取得部と、前記相関データから、
前記複数の記憶セルの平均的な性能を反映する前記条件
パラメータの基準条件値を求める基準条件値決定部と、
前記基準条件値と前記相関データとに基づいて、前記半
導体記憶装置の良品、不良品を選別するための選別条件
値を決定する選別条件決定部とを有する。
Further, the present invention provides a semiconductor memory device which performs a performance test on a plurality of memory cells included in a semiconductor memory device with respect to predetermined condition parameters, and sorts a non-defective product or a defective product of the semiconductor memory device based on a test result. A performance test unit for performing the performance test on the semiconductor storage device, and causing the performance test unit to perform a performance test of the semiconductor storage device under specified condition values. And a performance test control unit for discriminating a non-defective product and a defective product of the storage cell from the result, and outputting the condition value to the performance test control unit. Count the number of defective storage cells of the device, a correlation data acquisition unit that acquires correlation data between the condition value and the number of defective storage cells, from the correlation data,
A reference condition value determination unit that obtains a reference condition value of the condition parameter that reflects an average performance of the plurality of storage cells;
A selection condition determination unit configured to determine a selection condition value for selecting a non-defective product or a defective product of the semiconductor storage device based on the reference condition value and the correlation data.

【0018】本発明では、条件パラメータと半導体記憶
装置の不良記憶セル数との相関データを求め、この相関
データに基づいて半導体記憶装置の良品、不良品を選別
するための条件パラメータの選別条件値を決定するた
め、選別条件値は半導体記憶装置の記憶セルの有する性
能特性を反映したものとなる。したがって、一律の選別
条件値では選別できない不良記憶セルを有する半導体記
憶装置の選別が可能となる。
According to the present invention, correlation data between a condition parameter and the number of defective memory cells of a semiconductor memory device is obtained, and a condition parameter selection condition value for selecting a good or defective semiconductor memory device based on the correlation data. Is determined, the selection condition value reflects the performance characteristic of the storage cell of the semiconductor memory device. Therefore, it is possible to select a semiconductor memory device having a defective memory cell that cannot be selected with a uniform selection condition value.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して詳細に説明する。図1は、本発明の一実施形
態に係る不良品選別装置の構成を示す構成図である。図
1において、不良品選別装置1は、相関データ取得部2
と、基準条件値決定部3と、選別条件決定部4と、主制
御部5と、性能試験部6とを有する。性能試験部6は、
試験対象である半導体記憶装置に対して各種の性能試験
を行い、試験結果を信号6sとして主制御部5に出力す
る機能を有する。主制御部5は、性能試験部6を動作制
御する制御指令5saを性能試験部6に出力し、性能試
験部6に指定された条件値で半導体記憶装置の性能試験
を行わせ、性能試験の結果から半導体記憶装置の各記憶
セルの良品、不良品を判別し、判別試験結果を信号5s
bとして相関データ取得部5sbに出力する機能を有す
る。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a configuration diagram illustrating a configuration of a defective product selection device according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, a defective product selection device 1 includes a correlation data acquisition unit 2.
And a reference condition value determination unit 3, a selection condition determination unit 4, a main control unit 5, and a performance test unit 6. The performance test unit 6
It has a function of performing various performance tests on the semiconductor memory device to be tested and outputting the test results to the main control unit 5 as a signal 6s. The main control unit 5 outputs a control command 5sa for controlling the operation of the performance test unit 6 to the performance test unit 6 and causes the performance test unit 6 to perform a performance test of the semiconductor memory device under the specified condition value. Based on the result, a good product or a bad product of each memory cell of the semiconductor memory device is determined, and the result of the determination test is signal 5s.
It has a function of outputting to the correlation data acquisition unit 5sb as b.

【0020】相関データ取得部2は、主制御部3に対し
て半導体記憶装置の性能試験の条件パラメータに関する
条件値を指定する制御指令2saを出力し、主制御部3
の各記憶セルの良品、不良品の判別結果から、条件値に
対する半導体記憶装置の不良記憶セル数をカウントし、
条件値と不良記憶セル数との相関データを取得する機能
を有する。
The correlation data acquisition unit 2 outputs a control command 2sa for designating a condition value relating to a condition parameter of a performance test of the semiconductor memory device to the main control unit 3.
The number of defective memory cells of the semiconductor memory device with respect to the condition value is counted from the determination result of the non-defective product and the defective product of each memory cell,
It has a function of acquiring correlation data between the condition value and the number of defective storage cells.

【0021】基準条件値決定部3は、半導体記憶装置の
性能試験の条件パラメータVに関する条件値を指定し、
この指定された条件値3を信号3saとして相関データ
取得部2に出力するとともに、相関データ取得部2が取
得した相関データを信号2sbとして相関データ取得部
2から得る。また、基準条件値決定部3は、得られた相
関データから半導体記憶装置の記憶セルの平均的な性能
を反映する条件パラメータVの基準条件値Vaを求める
機能を有する。
The reference condition value determining unit 3 designates a condition value relating to a condition parameter V of a performance test of the semiconductor memory device,
The designated condition value 3 is output to the correlation data acquisition unit 2 as the signal 3sa, and the correlation data acquired by the correlation data acquisition unit 2 is acquired from the correlation data acquisition unit 2 as the signal 2sb. Further, the reference condition value determination unit 3 has a function of obtaining a reference condition value Va of a condition parameter V that reflects the average performance of the storage cell of the semiconductor memory device from the obtained correlation data.

【0022】ここで、図3に条件パラメータVと半導体
記憶装置の有する記憶セルの不良記憶セル数Cとの関係
を示す。なお、縦軸は不良記憶セル数Cを対数表示して
おり、横軸の条件パラメータVは、横軸方向に進むほど
厳しい条件から緩やかな条件となっている。半導体記憶
装置の各記憶セルにウィークビットWBが存在せず、各
記憶セルの性能特性が平均的な場合には、厳しい条件か
ら緩やかな条件になるにしたがって、図3の曲線Xで示
すように、不良記憶セル数Cの対数は滑らかに右下がり
となる。また、半導体記憶装置にウィークビットWBが
存在すると、曲線Xは右下がり領域で滑らかに変化せ
ず、たとえば、点線WBで示すように変化することにな
る。基準条件値決定部3では、条件パラメータVに関し
て、総記憶セル数Aに対する不良記憶セル数Cが所定の
割合となるとき、たとえば、総記憶セル数Aの二乗根の
値Caとなるときの条件パラメータVの値を基準条件値
Vaとする。なお、図3における点Paを以下、基準点
Paと呼ぶ。
FIG. 3 shows the relationship between the condition parameter V and the number C of defective storage cells of the storage cells of the semiconductor memory device. The vertical axis represents the number C of defective memory cells in a logarithmic manner, and the condition parameter V on the horizontal axis is changed from a strict condition to a gentle condition as it progresses in the horizontal axis direction. In the case where the weak bit WB does not exist in each memory cell of the semiconductor memory device and the performance characteristics of each memory cell are average, as shown by a curve X in FIG. , The logarithm of the defective memory cell number C smoothly falls to the right. Further, when the weak bit WB exists in the semiconductor memory device, the curve X does not change smoothly in the lower right region, but changes as shown by a dotted line WB, for example. The reference condition value determination unit 3 determines a condition when the number C of defective storage cells with respect to the total number A of storage cells is a predetermined ratio, for example, when the value Ca is the square root value of the total number A of storage cells. The value of the parameter V is set as a reference condition value Va. The point Pa in FIG. 3 is hereinafter referred to as a reference point Pa.

【0023】選別条件決定部4は、基準条件値決定部3
において決定された基準条件値Vaと相関データ取得部
2が取得した相関データが信号3sbとして入力され、
基準条件値と相関データとに基づいて、半導体記憶装置
の良品、不良品を選別するための選別条件値Vcを決定
する機能を有する。具体的には、図3に示す曲線Xの基
準点Paにおける接線Lと横軸が交わる点Pcにおける
条件パラメータの値を選別条件値Vcとする。なお、接
線Lは、基準条件値Vaから微小な値で離れた条件パラ
メータの値Vbに対応する曲線X上の点Pbと基準点P
aとを結ぶ直線を求めることによって得られる。この選
別条件値Vcで選別すれば、図3に示すように、半導体
記憶装置がウィークビットを有していると、ウィークビ
ットを検出することができることがわかる。
The selection condition deciding section 4 includes a reference condition value deciding section 3
And the correlation data acquired by the correlation data acquisition unit 2 are input as a signal 3sb,
Based on the reference condition value and the correlation data, the semiconductor memory device has a function of determining a selection condition value Vc for selecting good or defective semiconductor storage devices. Specifically, the value of the condition parameter at the point Pc where the tangent L at the reference point Pa of the curve X shown in FIG. 3 intersects the horizontal axis is set as the selection condition value Vc. The tangent line L is defined by a point Pb and a reference point P on the curve X corresponding to the condition parameter value Vb separated by a small value from the reference condition value Va.
It can be obtained by finding a straight line connecting to a. If the selection is performed using the selection condition value Vc, as shown in FIG. 3, if the semiconductor memory device has the weak bits, the weak bits can be detected.

【0024】図2は、本発明が適用されるメモリテスタ
の一例を示す構成図である。図2に示すメモリテスタ
は、マイクロプロセッサ21と、メインメモリ22と、
データレベル電源23と、プログラマブル電源24と、
測定ユニット25と、パターンジェネレータ26と、タ
イミングパターンジェネレータ27と、パターンフォー
マッタ28と、ピンインターフェース部29とを有す
る。
FIG. 2 is a configuration diagram showing an example of a memory tester to which the present invention is applied. The memory tester shown in FIG. 2 includes a microprocessor 21, a main memory 22,
A data level power supply 23, a programmable power supply 24,
It has a measurement unit 25, a pattern generator 26, a timing pattern generator 27, a pattern formatter 28, and a pin interface unit 29.

【0025】マイクロプロセッサ21は、メモリテスタ
全体の制御や、測定データの処理等を行う。メインメモ
リ22は、メモリテスタを動作させるプログラムや、測
定データ等の各種プログラムおよびデータを記憶する。
データレベル電源23は、ピンインターフェース部29
の動作電圧レベルを決定するための電源である。プログ
ラマブル電源24は、被測定半導体記憶装置の性能試験
を行う際に、被測定半導体記憶装置に動作電圧を与える
ための直流電源である。
The microprocessor 21 controls the entire memory tester, processes measured data, and the like. The main memory 22 stores a program for operating a memory tester and various programs and data such as measurement data.
The data level power supply 23 includes a pin interface unit 29
Is a power supply for determining the operating voltage level. The programmable power supply 24 is a DC power supply for applying an operating voltage to the semiconductor memory device under test when a performance test of the semiconductor memory device under test is performed.

【0026】測定ユニット25は、定電圧供給−電流測
定、または、定電流供給−電圧測定の2つの機能が選択
できる測定機能付きの直流電源である。パターンジェネ
レータ26は、被測定半導体記憶装置へのテストパター
ンを発生するパターン発生器であり、マイクロプログラ
ミングにより被測定半導体記憶装置へのアドレス、デー
タおよびクロックのテストパターンを発生させる。タイ
ミングパターンジェネレータ27は、パターンジェネレ
ータ26の発生するパルス信号をパターンフォーマッタ
28で所定のパルス幅をもつパターン信号に生成するた
めに、パルス波形の立ち上がり、立ち下がりのタイミン
グを指定する。
The measuring unit 25 is a DC power supply with a measuring function capable of selecting two functions of constant voltage supply-current measurement or constant current supply-voltage measurement. The pattern generator 26 is a pattern generator that generates a test pattern for the semiconductor memory device to be measured, and generates a test pattern of an address, data, and a clock for the semiconductor memory device to be measured by microprogramming. The timing pattern generator 27 designates rising and falling timings of a pulse waveform so that the pattern formatter 28 generates a pulse signal generated by the pattern generator 26 into a pattern signal having a predetermined pulse width.

【0027】パターンフォーマッタ28は、被測定半導
体記憶装置の性能試験を行う際に、被測定半導体記憶装
置の各入力ピンに供給するパターン信号を形成する。ピ
ンインターフェース部29は、単体の被測定半導体記憶
装置とのインターフェースを行い、プログラマブル電源
24、測定ユニット25およびパターンフォーマッタ2
8からの信号を被測定半導体記憶装置の各指定ピンに供
給し、被測定半導体記憶装置の出力ピンに現れる電圧を
判別条件と比較するためのコンパレータ等から構成され
る。
The pattern formatter 28 forms a pattern signal to be supplied to each input pin of the semiconductor memory device under test when a performance test of the semiconductor memory device under test is performed. The pin interface unit 29 interfaces with a single semiconductor memory device to be measured, and includes a programmable power supply 24, a measurement unit 25, and a pattern formatter 2.
8 is provided to each designated pin of the semiconductor memory device to be measured, and a comparator for comparing a voltage appearing at an output pin of the semiconductor memory device to be measured with a determination condition.

【0028】上記した性能試験部6は、データレベル電
源23、プログラマブル電源24と、測定ユニット2
5、パターンジェネレータ26、タイミングパターンジ
ェネレータ27、パターンフォーマッタ28およびピン
インターフェース部29によって構成することができ
る。また、主制御部5は、マイクロプロセッサ21およ
びメインメモリ22に準備された所定のソフトウェアに
よって構成することができる。
The performance test section 6 includes a data level power supply 23, a programmable power supply 24,
5, a pattern generator 26, a timing pattern generator 27, a pattern formatter 28, and a pin interface unit 29. Further, the main control unit 5 can be configured by predetermined software prepared in the microprocessor 21 and the main memory 22.

【0029】さらに、相関データ取得部2、基準条件値
決定部3および選別条件決定部4は、マイクロプロセッ
サ21およびメインメモリ22に準備された所定のソフ
トウェアによって構成することができる。具体的には、
相関データ取得部2は、条件パラメータの条件値を入力
パラメータとして入れると、出力として被測定半導体記
憶装置の条件値における不良記憶セル数Cを返す関数F
をメインメモリ22に用意することにより構成すること
ができる。なお、この関数Fは、1回呼び出されると、
以下の処理を制御部5および性能試験部6に行わせる。
Further, the correlation data acquisition unit 2, the reference condition value determination unit 3, and the selection condition determination unit 4 can be constituted by predetermined software prepared in the microprocessor 21 and the main memory 22. In particular,
When the correlation data acquisition unit 2 receives the condition value of the condition parameter as an input parameter, the function F that returns, as an output, the number C of defective storage cells in the condition value of the semiconductor memory device to be measured.
Is provided in the main memory 22. Note that, when this function F is called once,
The following processing is performed by the control unit 5 and the performance test unit 6.

【0030】まず、基準条件値決定部3から指定された
条件値にしたがって、被測定半導体記憶装置の全記憶セ
ルについて性能試験を行なわせ、各記憶セルの良品、不
良品の判別結果(パス・フェイル判定)を読み込む。次
いで、記憶セルのフェイル数をカウントし、このフェイ
ル数を戻り値として出力する。
First, a performance test is performed on all the memory cells of the semiconductor memory device to be measured in accordance with the condition value specified by the reference condition value determining unit 3, and the result of discriminating the pass / fail of each memory cell (pass / fail). Read (fail judgment). Next, the number of failures of the memory cell is counted, and the number of failures is output as a return value.

【0031】一般に、半導体記憶装置の有する総記憶セ
ル数をAとすると、被測定半導体記憶装置の全記憶セル
について性能試験を行わせる処理に要する時間は、An
に比例する。ただし、nは性能試験パターンの内容によ
って決まる定数(n≧1)である。 また、各記憶セル
の良品、不良品の判別結果(パス・フェイル判定)を主
制御部3から読み込み、記憶セルのフェイル数をカウン
トする処理に必要な時間は、総記憶セル数Aに比例す
る。
In general, assuming that the total number of memory cells of a semiconductor memory device is A, the time required to perform a performance test on all memory cells of the semiconductor memory device to be measured is A n
Is proportional to Here, n is a constant (n ≧ 1) determined by the contents of the performance test pattern. In addition, the time required to read the discrimination result (pass / fail judgment) of each storage cell from the main control unit 3 and count the number of failures of the storage cell is proportional to the total number A of storage cells. .

【0032】したがって、全記憶セルについて性能試験
を行うと時間を要するため、本実施形態では、条件パラ
メータの条件値を入力すると、一部の記憶セルについて
性能試験を行わせ、出力として被測定半導体記憶装置の
条件パラメータVの条件値における不良記憶セル数Cの
推定値(C’とする)を返す関数Gをメインメモリ22
に用意する。
Therefore, it takes time to perform a performance test on all the memory cells. In this embodiment, when a condition value of a condition parameter is input, a performance test is performed on some of the memory cells, and the output of the semiconductor device under test is output. A function G for returning an estimated value (C ′) of the number C of defective storage cells under the condition value of the condition parameter V of the storage device is stored in the main memory 22.
To prepare.

【0033】具体的には、関数Gは、まず、被測定チッ
プの任意の一部分の記憶セル数Bについて性能試験を行
わせる。次いで、記憶セル数Bのパス・フェイル判定結
果を読み込み、フェイル数をカウントする。次いで、戻
り値をフェイル数の(A/B)倍とする。
Specifically, the function G first causes a performance test to be performed on the number B of storage cells in an arbitrary part of the chip under test. Next, the pass / fail judgment result of the memory cell number B is read, and the number of fail is counted. Next, the return value is set to (A / B) times the number of failures.

【0034】関数Gは関数Fに比較して、処理時間が少
なくともB/Aとなる。ただし、関数Gの戻り値を十分
に有意な数値とするためには、被測定記憶セル数の不良
記憶セル数がある程度多い必要があり、たとえば、少な
くとも数百は必要である。本実施形態では、たとえば、
総記憶セル数Aを16Mbitとし、一部の記憶セル数
Bを4Mbitとしており、関数Fの代わりに関数Gを
用いた場合には、半導体記憶装置の記憶セルのフェイル
数を得るのに要する時間を約1/4に短縮することがで
きる。
The processing time of the function G is at least B / A compared to the function F. However, in order for the return value of the function G to be a sufficiently significant numerical value, the number of defective storage cells in the number of storage cells to be measured needs to be large to some extent, for example, at least several hundreds are required. In the present embodiment, for example,
When the total number A of memory cells is 16 Mbit, the number B of some memory cells is 4 Mbit, and the function G is used instead of the function F, the time required to obtain the number of failures of the memory cells of the semiconductor memory device Can be reduced to about 1/4.

【0035】次に、上記構成の不良品選別装置1におけ
る処理手順の一例について、図3および図4に示すフロ
ーチャートを参照して説明する。なお、被測定チップの
記憶セルの性能試験における条件パラメータとして、被
測定半導体記憶装置の動作電圧Vとした場合について説
明する。まず、基準条件値決定部3において、動作電圧
の基準条件値Vaを求める。動作電圧変数Viと、動作
電圧変数Viの増減変数Vjと、増減変数Vjのしきい
電圧Vtを定義する(ステップS1)。動作電圧変数V
i、増減変数Vj、および、しきい電圧Vtの初期値
は、たとえば、動作電圧変数Viは動作電圧Vの基準条
件値Vaに期待される平均的な値とし、増減変数Vjの
基準条件値Vaの最大のバラツキ値の1/2程度の値と
し、しきい電圧Vtは基準条件値Vaに要求される精度
と同じ値とする。具体的には、動作電圧変数Viの初期
値は、2.3〔V〕とし、増減変数Vjの初期値は、
0.2〔V〕とし、しきい電圧Vtは0.05〔V〕と
した。
Next, an example of a processing procedure in the defective product sorting apparatus 1 having the above configuration will be described with reference to flowcharts shown in FIGS. The case where the operating voltage V of the semiconductor memory device to be measured is used as the condition parameter in the performance test of the memory cell of the chip to be measured will be described. First, the reference condition value determining section 3 determines a reference condition value Va of the operating voltage. An operating voltage variable Vi, an increasing / decreasing variable Vj of the operating voltage variable Vi, and a threshold voltage Vt of the increasing / decreasing variable Vj are defined (step S1). Operating voltage variable V
The initial values of i, increase / decrease variable Vj, and threshold voltage Vt are, for example, operating voltage variable Vi is an average value expected for reference condition value Va of operating voltage V, and reference condition value Va of increase / decrease variable Vj And the threshold voltage Vt is the same value as the accuracy required for the reference condition value Va. Specifically, the initial value of the operating voltage variable Vi is 2.3 [V], and the initial value of the increase / decrease variable Vj is
0.2 [V], and the threshold voltage Vt was 0.05 [V].

【0036】次いで、上記した関数Gを呼び出して、動
作電圧変数Viを入力し、関数Gの戻り値と被測定半導
体記憶装置の総記憶セル数Aの二乗根の値Caとを比較
する(ステップS2)。関数Gの戻り値が総記憶セル数
Aの二乗根の値Caよりも大きい場合には、動作電圧変
数Viに増減変数Vjを加算して動作電圧変数Viを更
新する(ステップS3)。関数Gの戻り値が総記憶セル
数Aの二乗根の値Caよりも小さい場合には、動作電圧
変数Viから増減変数Vjを減算して動作電圧変数Vi
を更新する(ステップS4)。動作電圧変数Viを更新
すると、増減変数Vjを2で除算し、増減変数Vjを更
新する(ステップS5)。次いで、増減変数Vjとしき
い電圧Vtとの大小を比較判断し(ステップS6)、増
減変数Vjがしきい電圧Vtよりも小さい場合には、ス
テップS2に戻って上記の処理を繰り返す。増減変数V
jがしきい電圧Vtよりも大きい場合には、現在の動作
電圧変数Viを基準条件値Vaとする(ステップS
7)。上記の基準電圧決定部3における処理によって基
準条件値Vaが決定される。
Next, the above-mentioned function G is called, the operating voltage variable Vi is input, and the return value of the function G is compared with the square root value Ca of the total number A of memory cells of the semiconductor memory device to be measured (step). S2). If the return value of the function G is larger than the square root value Ca of the total number A of memory cells, the operating voltage variable Vi is updated by adding the increase / decrease variable Vj to the operating voltage variable Vi (step S3). When the return value of the function G is smaller than the value Ca of the square root of the total memory cell number A, the increase / decrease variable Vj is subtracted from the operating voltage variable Vi to determine the operating voltage variable Vi.
Is updated (step S4). When the operating voltage variable Vi is updated, the increase / decrease variable Vj is divided by 2 to update the increase / decrease variable Vj (step S5). Next, the magnitude of the increase / decrease variable Vj is compared with the threshold voltage Vt (step S6). If the increase / decrease variable Vj is smaller than the threshold voltage Vt, the process returns to step S2 to repeat the above processing. Increase / decrease variable V
If j is higher than the threshold voltage Vt, the current operating voltage variable Vi is set as the reference condition value Va (Step S).
7). The reference condition value Va is determined by the processing in the reference voltage determination unit 3 described above.

【0037】以上の各ステップにおける動作電圧変数V
iおよび増減変数Vjの取りうる値の一例を図7に示
す。図7に示すように、ステップS2〜ステップS6の
処理を3回繰り返すと、動作電圧変数Viの取りうる値
は8通りとなる。また、最終的には、動作電圧変数Vi
のばらつきは、増減変数Vjの約2倍程度となり、増減
変数Vjの初期値を決定する際にこの点を考慮に入れる
ことが望ましい。
The operating voltage variable V in each of the above steps
FIG. 7 shows an example of possible values of i and the increase / decrease variable Vj. As shown in FIG. 7, when the processing of steps S2 to S6 is repeated three times, the operating voltage variable Vi has eight possible values. Further, finally, the operating voltage variable Vi
Is about twice as large as the increase / decrease variable Vj, and it is desirable to take this point into account when determining the initial value of the increase / decrease variable Vj.

【0038】次いで、選択条件決定部4において、図3
において説明した選択条件値Vcを求める手順について
説明する。図4に示すように、まず、上記の基準条件値
Vaに任意の微小の電圧値ΔVを加算し、上記した基準
条件値Vaから微小な値で離れた条件パラメータの値で
ある電圧値Vbを算出する(ステップS10)。ΔVの
値は、たとえば、選択条件値Vcに要求される精度と同
じ値でよい。
Next, in the selection condition determining section 4, FIG.
The procedure for obtaining the selection condition value Vc described in the above will be described. As shown in FIG. 4, first, an arbitrary minute voltage value ΔV is added to the above-described reference condition value Va, and a voltage value Vb which is a value of a condition parameter separated from the above-mentioned reference condition value Va by a minute value is obtained. It is calculated (step S10). The value of ΔV may be, for example, the same value as the accuracy required for the selection condition value Vc.

【0039】次いで、関数Gを呼び出して、基準条件値
Vaにおける不良記憶セル数Caと動作電圧Vbにおけ
る不良記憶セル数Cbを求める。すなわち、Ca=G
(Va)、Cb=G(Vb)とする(ステップS1
1)。
Next, the function G is called to find the number Ca of defective memory cells at the reference condition value Va and the number Cb of defective memory cells at the operating voltage Vb. That is, Ca = G
(Va), Cb = G (Vb) (Step S1)
1).

【0040】次いで、不良記憶セル数CaとCbとを比
較判断し(ステップS12)、不良記憶セル数Caと不
良記憶セル数Cbとが等しい場合には、例外処理へ進
み、別途任意の選別条件値を決める(ステップS1
5)。不良記憶セル数Caと不良記憶セル数Cbとが異
なる場合には、基準条件値Va,動作電圧Vb,不良記
憶セル数Ca,Cbを用いて、次式(1)に示す一次方
程式の解を求めて、選択条件値Vcを決定する。なお、
V0 は、任意のオフセット値である。また、求めた選択
条件値Vcがある任意の基準を満たさないのであれば、
例外処理へ進み、別途任意の選別条件を決める(ステッ
プS14)。
Next, the number of defective memory cells Ca and Cb are compared and determined (step S12). If the number of defective memory cells Ca and the number of defective memory cells Cb are equal, the process proceeds to an exception process, and an arbitrary selection condition is separately set. Determine the value (Step S1
5). When the number Ca of defective memory cells is different from the number Cb of defective memory cells, the solution of the linear equation shown in the following equation (1) is calculated using the reference condition value Va, the operating voltage Vb, and the numbers Ca, Cb of defective memory cells. Then, the selection condition value Vc is determined. In addition,
V0 is an arbitrary offset value. Also, if the obtained selection condition value Vc does not satisfy a certain criterion,
The process proceeds to the exception process, and an arbitrary selection condition is separately determined (step S14).

【0041】[0041]

【数1】 (Equation 1)

【0042】図6は、以上のような処理手順によって記
憶セルが各種の性能特性を有す同一種の半導体記憶装置
の選択条件値Vcを求めた結果を示す図である。図6
(a)は、各記憶セルがより厳しい条件をパスする全体
的に優れた性能を半導体記憶装置の場合であり、図6
(b)は、各記憶セルは欠陥はないが全体的に性能が劣
っている場合であり、図6(c)は、ウィークビットを
持っている場合を示している。図6から分かるように、
上記の処理手順にしたがって選択条件値Vcを求める
と、各半導体記憶装置の記憶セルの全体的な性能特性に
応じて選択条件値Vcが決定され、図6(c)に示すよ
うに、半導体記憶装置がウィークビットを持っている場
合には、確実にウィークビットが検出される。すなわ
ち、半導体記憶装置の記憶セルに特異的な性能特性を持
つウィークビットが存在しないと、図6に示すように、
条件パラメータVと不良記憶セル数の対数の関係は、滑
らかな右下がりの曲線となることから、この右下がり曲
線の傾きが半導体記憶装置の記憶セルの平均的な性能特
性を反映しているといえる。したがって、条件パラメー
タVと不良記憶セル数の対数の関係が滑らかな右下がり
の曲線にならずに、右下がり曲線の接線から外れる場合
には、その半導体記憶装置はウィークビットを有してい
ると判断することができる。
FIG. 6 is a diagram showing the result of obtaining the selection condition value Vc of the same type of semiconductor memory device having the memory cell having various performance characteristics by the above-described processing procedure. FIG.
FIG. 6A shows the case of a semiconductor memory device having excellent overall performance in which each memory cell passes more severe conditions.
FIG. 6B shows a case where each memory cell has no defect but has poor overall performance, and FIG. 6C shows a case where each memory cell has a weak bit. As can be seen from FIG.
When the selection condition value Vc is obtained according to the above-described processing procedure, the selection condition value Vc is determined according to the overall performance characteristics of the storage cell of each semiconductor memory device, and as shown in FIG. If the device has a weak bit, the weak bit is reliably detected. That is, if there is no weak bit having a specific performance characteristic in the memory cell of the semiconductor memory device, as shown in FIG.
Since the relationship between the condition parameter V and the logarithm of the number of defective memory cells is a smooth downward-sloping curve, the slope of the downward-sloping curve reflects the average performance characteristics of the memory cells of the semiconductor memory device. I can say. Therefore, if the relationship between the condition parameter V and the logarithm of the number of defective memory cells does not form a smooth right-downward curve but deviates from the tangent of the right-downward curve, the semiconductor memory device is considered to have weak bits. You can judge.

【0043】本実施形態では、上記の半導体記憶装置の
選別工程の次工程として、選別された半導体記憶装置の
ウィークビットに対してリペア処理を行う。リペア処理
は、ウィークビットを半導体記憶装置に容易された予備
の記憶セル(冗長セル)に入れ替える処理である。ウィ
ークビットと冗長セルとの入れ替え作業は、たとえば、
レーザカッタ装置で半導体記憶装置のある特定の部分配
線を切断すること(通常、ヒューズをブローするとい
う)によって行われ、ウィークビットは電気的にほぼ等
価な冗長セルに交換される。したがって、半導体記憶装
置がウィークビットを有していても、このリペア処理に
よって良品として再生可能となる。
In the present embodiment, as a step subsequent to the above-described step of selecting a semiconductor memory device, repair processing is performed on weak bits of the selected semiconductor memory device. The repair process is a process of replacing weak bits with spare memory cells (redundant cells) facilitated by a semiconductor memory device. The work of replacing weak bits with redundant cells is, for example,
This is performed by cutting a specific partial wiring of the semiconductor memory device with a laser cutter device (usually, blowing a fuse), and the weak bit is replaced with a substantially equivalent electrically redundant cell. Therefore, even if the semiconductor memory device has a weak bit, it can be reproduced as a non-defective product by this repair process.

【0044】なお、リペア処理において、いずれの記憶
セルをリペアするかは、通常は、上記のメモリテスタに
おいて、半導体記憶装置についてある一定の条件でファ
ンクション試験を行い、この試験結果から決定してい
る。すなわち、上記試験で不良であった記憶セルのアド
レスはメモリテスタのメインメモリ22に取り込まれ、
この情報に基づいてリペアすべき箇所を求め、レーザカ
ッタ装置で半導体記憶装置の配線を切断する
In the repair process, which memory cell is to be repaired is usually determined by performing a function test on the semiconductor memory device under certain conditions in the above-described memory tester and based on the test result. . That is, the address of the storage cell that is defective in the above test is taken into the main memory 22 of the memory tester,
The location to be repaired is determined based on this information, and the wiring of the semiconductor memory device is cut by the laser cutter device.

【0045】以上のように、本実施形態によれば、半導
体記憶装置の記憶セルの平均的な性能特性に応じて選択
条件値Vcを決定するため、半導体記憶装置の記憶セル
の平均的な性能特性から外れた特異的な性能特性を有す
るウィークビットの検出が可能となる。この結果、より
信頼性の高い半導体記憶装置の選別が可能となる。
As described above, according to the present embodiment, the selection condition value Vc is determined according to the average performance characteristics of the storage cells of the semiconductor memory device. It is possible to detect weak bits having specific performance characteristics deviating from the characteristics. As a result, a more reliable semiconductor memory device can be selected.

【0046】また、本実施形態によれば、不良記憶セル
数の対数を用いて選別条件値Vcを決定するため、半導
体記憶装置にウィークビットが存在している場合にも、
グラフ上の基準点Paはほとんどずれることがない。ま
た、基準点Paにおける接線Lの傾きも、ほとんどずれ
ることがなく、精度良く選別条件値Vcを求めることが
できる。また、本実施形態によれば、半導体記憶装置の
性能試験を各条件値について複数回行う必要があるが、
関数Gを用いることにより、全ての記憶セルについて性
能試験を行わなくても良いので、半導体記憶装置の性能
試験に要する時間が長くなるのを最小限に抑制すること
が可能である。
According to the present embodiment, the selection condition value Vc is determined using the logarithm of the number of defective memory cells. Therefore, even when a weak bit exists in the semiconductor memory device,
The reference point Pa on the graph hardly shifts. In addition, the inclination of the tangent line L at the reference point Pa hardly shifts, and the sorting condition value Vc can be obtained with high accuracy. According to the present embodiment, it is necessary to perform the performance test of the semiconductor memory device a plurality of times for each condition value.
By using the function G, it is not necessary to perform the performance test on all the memory cells, so that the time required for the performance test of the semiconductor memory device can be minimized.

【0047】また、本実施形態によれば、半導体記憶装
置の性能試験の後工程においてリペア処理を行うため、
ウィークビットの再生が可能となり、ウィークビットを
有する半導体記憶装置を廃棄しなくてもよくなり、半導
体記憶装置の製造における歩留り低下を最小限に抑制す
ることができる。
According to the present embodiment, the repair process is performed in the post-process of the performance test of the semiconductor memory device.
Reproduction of a weak bit becomes possible, and a semiconductor memory device having a weak bit does not have to be discarded, and a decrease in yield in the manufacture of a semiconductor memory device can be suppressed to a minimum.

【0048】なお、本実施形態では、条件パラメータV
として半導体記憶装置の動作電圧の場合について説明し
たが、本発明はこれに限定されるわけではなく、たとえ
ば、動作温度や、各種の試験パターンや、リテンション
電圧を条件パラメータVとして選別条件値Vcを決定す
ることが可能である。なお、上記のリテンション電圧
は、半導体記憶装置においてスタンバイモード(非動作
時)での、最低記憶保持電圧である。このリテンション
電圧を条件パラメータVした場合も、リテンション電圧
と不良記憶セル数との関係も、図6に示した関係と同様
の関係にある。
In this embodiment, the condition parameter V
As described above, the case of the operating voltage of the semiconductor memory device has been described. However, the present invention is not limited to this. For example, the operating temperature, various test patterns, and the retention voltage are used as the condition parameters V to select the sorting condition value Vc. It is possible to decide. Note that the above retention voltage is the minimum storage holding voltage in the standby mode (when not operating) in the semiconductor memory device. Even when the retention voltage is set to the condition parameter V, the relationship between the retention voltage and the number of defective memory cells is the same as the relationship shown in FIG.

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明によれば、半導体記憶装置の記憶
セルの性能特性に応じて、半導体記憶装置毎の選別条件
値を決定するため、一律の選別条件では選別できない特
異的に性能の劣るウィークビットを有する半導体記憶装
置の選別が可能な半導体記憶装置の不良品選別を効果的
に行うことができる。
According to the present invention, the selection condition value for each semiconductor memory device is determined in accordance with the performance characteristics of the memory cells of the semiconductor memory device. Defective semiconductor storage devices capable of selecting weak semiconductor memory devices can be effectively selected.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係る不良品選別装置の構
成を示す構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram illustrating a configuration of a defective product selection device according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明が適用されるメモリテスタの一例を示す
構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram showing an example of a memory tester to which the present invention is applied.

【図3】条件パラメータVと半導体記憶装置の有する記
憶セルの不良記憶セル数Cとの関係を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a relationship between a condition parameter V and the number C of defective storage cells of storage cells included in the semiconductor storage device.

【図4】本発明の不良品選別装置の処理手順の一例を説
明するためのフローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart illustrating an example of a processing procedure of the defective product selection device of the present invention.

【図5】図4に続く処理手順を説明するためのフローチ
ャートである。
FIG. 5 is a flowchart for explaining a processing procedure following FIG. 4;

【図6】本発明に係る方法によって各種の性能特性を有
す同一種の半導体記憶装置の選択条件値Vを求めた結果
を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a result of obtaining a selection condition value V of the same type of semiconductor memory device having various performance characteristics by the method according to the present invention.

【図7】動作電圧変数Viおよび増減変数Vjの取りう
る値の一例を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing an example of possible values of an operating voltage variable Vi and an increase / decrease variable Vj.

【図8】ウィークビットに起因する問題を説明するため
の説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram for explaining a problem caused by weak bits.

【図9】異なる性能特性を持つ同一品種の3つの半導体
記憶装置の性能特性例を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing an example of performance characteristics of three semiconductor memory devices of the same type having different performance characteristics.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…不良品選別装置、2…相関データ取得部、3…基準
条件値決定部、4…選択条件決定部、5…主制御部、6
…性能試験部。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Defective product selection apparatus, 2 ... Correlation data acquisition part, 3 ... Reference condition value determination part, 4 ... Selection condition determination part, 5 ... Main control part, 6
... Performance testing department.

フロントページの続き Fターム(参考) 2G032 AA07 AB01 AB04 AB13 AD01 AD08 AE08 AE10 AE12 AE14 AG02 AL14 3F079 AD06 CA37 4M106 AB01 AB07 AB15 AC07 CA01 CA05 CA32 DJ18 5B015 JJ00 RR02 5L106 AA02 DD22 DD24 DD25 DD35 GG07 Continued on the front page F term (reference) 2G032 AA07 AB01 AB04 AB13 AD01 AD08 AE08 AE10 AE12 AE14 AG02 AL14 3F079 AD06 CA37 4M106 AB01 AB07 AB15 AC07 CA01 CA05 CA32 DJ18 5B015 JJ00 RR02 5L106 AA02 DD22 DD24 DD25 DD35 GG07

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体記憶装置の有する複数の記憶セルに
ついて、所定の条件パラメータに関して性能試験を行
い、試験結果に基づいて前記半導体記憶装置の良品、不
良品を選別する半導体記憶装置の不良品選別方法であっ
て、 前記条件パラメータの複数の条件値について前記記憶セ
ルの性能試験を行い、前記条件パラメータと不良記憶セ
ル数との相関データを求めるステップと、 前記相関データに基づいて、前記半導体記憶装置の良
品、不良品を選別するための前記条件パラメータの選別
条件値を決定するステップとを有する半導体記憶装置の
不良品選別方法。
A performance test is performed on a plurality of storage cells of a semiconductor memory device with respect to predetermined condition parameters, and based on the test results, a non-defective product of the semiconductor memory device is selected. A method of performing a performance test of the storage cell for a plurality of condition values of the condition parameter to obtain correlation data between the condition parameter and the number of defective storage cells; Determining a selection condition value of the condition parameter for selecting non-defective and defective products of the device.
【請求項2】前記相関データを求めるステップおよび前
記選別条件値を決定するステップは、選別する半導体記
憶装置毎に行う請求項1に記載の半導体記憶装置の不良
品選別方法。
2. The method according to claim 1, wherein the step of obtaining the correlation data and the step of determining the selection condition value are performed for each semiconductor storage device to be selected.
【請求項3】前記相関データを求めるステップは、前記
複数の記憶セルの全てについて前記性能試験を行う請求
項1に記載の半導体記憶装置の不良品選別方法。
3. The method according to claim 1, wherein the step of obtaining the correlation data includes performing the performance test on all of the plurality of storage cells.
【請求項4】前記相関データを求めるステップは、前記
複数の記憶セルのうち、一部の記憶セルについて前記条
件パラメータに関して性能試験を行うステップと、 前記性能試験の結果に基づく不良記憶セル数と前記条件
パラメータとの相関データを求めるステップと、 前記一部の記憶セルについての相関データに基づいて、
全ての記憶セルについての不良記憶セル数と条件パラメ
ータとの相関データを推定するステップとを有する請求
項1に記載の半導体記憶装置の不良品選別方法。
4. The step of obtaining the correlation data includes the step of performing a performance test on the condition parameters of some of the plurality of storage cells, and the number of defective storage cells based on the result of the performance test. Obtaining correlation data with the condition parameter; based on the correlation data for the some storage cells,
2. The method according to claim 1, further comprising the step of: estimating correlation data between the number of defective storage cells and the condition parameters for all storage cells.
【請求項5】前記選別条件値を決定するステップは、前
記相関データに基づいて、前記複数の記憶セルの平均的
な性能を反映する前記条件パラメータの基準条件値を求
めるステップと、 前記相関データおよび基準条件値に基づいて、前記半導
体記憶装置の良品、不良品を選別するための選別条件値
を決定するステップとを有する請求項1に記載の半導体
記憶装置の不良品選別方法。
5. The step of determining the selection condition value includes the step of obtaining a reference condition value of the condition parameter reflecting an average performance of the plurality of storage cells based on the correlation data; 2. The method according to claim 1, further comprising the step of: determining, based on the reference condition value, a selection condition value for selecting non-defective products and defective products of the semiconductor storage device.
【請求項6】前記基準条件値を求めるステップは、前記
相関データに基づいて、全記憶セル数と不良記憶セル数
との比を所定の値とする条件値を求め、当該条件値を前
記基準条件値とする請求項4に記載の半導体記憶装置の
不良品選別方法。
6. The step of obtaining the reference condition value includes the step of obtaining a condition value for setting a ratio of the total number of storage cells to the number of defective storage cells to a predetermined value based on the correlation data, and 5. The method according to claim 4, wherein the condition value is a condition value.
【請求項7】前記選別条件値を決定するステップは、前
記条件パラメータと不良記憶セル数の対数との関係にお
いて、前記不良記憶セル数の対数の値が全記憶セル数の
対数の値の半分となるときの条件パラメータの値を前記
基準条件値とするステップと、 前記基準パラメータ値近傍における前記条件パラメータ
に関する前記不良記憶セル数の対数の値の変化の割合を
求めるステップと、 前記変化の割合を係数とし、前記条件パラメータを変数
とし、所定の定数項を有する一次方程式の解を前記選別
条件値とするステップとを有する請求項6に記載の半導
体記憶装置の不良品選別方法。
7. The step of determining the selection condition value includes the step of determining that the logarithm of the number of defective storage cells is half the logarithm of the total number of storage cells in the relationship between the condition parameter and the logarithm of the number of defective storage cells. Setting the value of the condition parameter when the reference condition value is satisfied; determining a rate of change of the logarithm of the number of defective storage cells with respect to the condition parameter in the vicinity of the reference parameter value; and the rate of change The method according to claim 6, further comprising the step of: setting a solution of a linear equation having a predetermined constant term as the selection condition value.
【請求項8】前記条件パラメータは、前記半導体記憶装
置の動作電圧である請求項1に記載の半導体記憶装置の
不良品選別方法。
8. The method according to claim 1, wherein the condition parameter is an operating voltage of the semiconductor memory device.
【請求項9】前記選別条件値を決定した後、当該選別条
件値にしたがって不良品を選別し、選別された不良品の
半導体記憶装置に対してリペア処理を施すステップをさ
らに有する請求項1に記載の半導体記憶装置の不良品選
別方法。
9. The method according to claim 1, further comprising the step of, after determining the selection condition value, selecting a defective product according to the selection condition value and performing a repair process on the semiconductor storage device of the selected defective product. 13. A method for selecting a defective product of a semiconductor storage device according to the above.
【請求項10】半導体記憶装置の有する複数の記憶セル
について、所定の条件パラメータに関して性能試験を行
い、試験結果に基づいて前記半導体記憶装置の良品、不
良品を選別する半導体記憶装置の不良品選別装置であっ
て、 前記半導体記憶装置に対して前記性能試験を行う性能試
験部と、 前記性能試験部に指定された条件値で半導体記憶装置の
性能試験を行わせ、当該性能試験の結果から前記記憶セ
ルの良品、不良品を判別する性能試験制御部と、 性能試験制御部に対して前記条件値を出力し、前記性能
試験制御部の判別結果から前記条件値に対する前記半導
体記憶装置の不良記憶セル数をカウントし、前記条件値
と不良記憶セル数との相関データを取得する相関データ
取得部と、 前記相関データから、前記複数の記憶セルの平均的な性
能を反映する前記条件パラメータの基準条件値を求める
基準条件値決定部と、 前記基準条件値と前記相関データとに基づいて、前記半
導体記憶装置の良品、不良品を選別するための選別条件
値を決定する選別条件決定部とを有する半導体記憶装置
の不良品選別装置。
10. A plurality of storage cells of a semiconductor memory device are subjected to a performance test with respect to predetermined condition parameters, and a non-defective / non-defective semiconductor memory device is selected based on a test result. A performance test unit for performing the performance test on the semiconductor storage device; and causing the performance test unit to perform a performance test on the semiconductor storage device under specified condition values, and performing the performance test on the basis of a result of the performance test. A performance test control unit for discriminating a non-defective product or a defective product of the storage cell; and outputting the condition value to the performance test control unit. A correlation data acquisition unit that counts the number of cells and acquires correlation data between the condition value and the number of defective storage cells, and from the correlation data, an average of the plurality of storage cells. A reference condition value determining unit for obtaining a reference condition value of the condition parameter reflecting performance; and a selection condition value for selecting a non-defective product or a defective product of the semiconductor storage device based on the reference condition value and the correlation data. And a sorting condition determining unit for determining a defective product.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003045197A (en) * 2001-06-29 2003-02-14 Hynix Semiconductor Inc Semiconductor memory device and method for testing the same
JP2008171540A (en) * 2007-01-08 2008-07-24 Arm Ltd Performance control of integrated circuit
KR101061694B1 (en) 2008-08-29 2011-09-01 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 Semiconductor devices

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003045197A (en) * 2001-06-29 2003-02-14 Hynix Semiconductor Inc Semiconductor memory device and method for testing the same
JP2008171540A (en) * 2007-01-08 2008-07-24 Arm Ltd Performance control of integrated circuit
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