JP2000111820A - Multibeam scanner, multibeam scanning method and image forming device - Google Patents
Multibeam scanner, multibeam scanning method and image forming deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明はマルチビーム走査
装置、マルチビーム走査方法、マルチビーム走査装置の
製造方法および画像形成装置に関する。The present invention relates to a multi-beam scanning device, a multi-beam scanning method, a method of manufacturing a multi-beam scanning device, and an image forming apparatus.
【0002】[0002]
【従来の技術】画像信号に応じて独立に変調駆動可能な
複数の光源からの複数のビーム(この明細書中において
「光ビーム」を意味する)を、これらビームに共通の偏
向器により各々等角速度的に偏向し、各偏向ビームを、
共通の走査結像レンズにより、被走査面上に「副走査方
向に互いに分離した光スポット」として集光させ、被走
査面上の複数ラインを同時的に略等速に走査するマルチ
ビーム走査装置が実用化されつつある。光走査装置にお
いて、光源として用いられる半導体レーザやLEDから
放射されるビームの波長(光源の発光波長)は、製造上
の公差で光源単品ごとにバラついている。このため、マ
ルチビーム走査装置に、このような光源を複数個用いた
場合、各光源の発光波長は一般に、厳密には同一になら
ない。このように各光源ごとに発光波長が異なる場合、
走査結像レンズにおける倍率の色収差が問題となる。2. Description of the Related Art A plurality of beams (in this specification, "light beams") from a plurality of light sources which can be modulated and driven independently in accordance with image signals are respectively equalized by a deflector common to these beams. Deflected angularly, each deflected beam,
A multi-beam scanning device that uses a common scanning imaging lens to converge on the surface to be scanned as "light spots separated from each other in the sub-scanning direction" and simultaneously scan a plurality of lines on the surface to be scanned at substantially the same speed. Is being put to practical use. In an optical scanning device, the wavelength of a beam emitted from a semiconductor laser or an LED used as a light source (emission wavelength of a light source) varies among individual light sources due to manufacturing tolerances. Therefore, when a plurality of such light sources are used in a multi-beam scanning device, the emission wavelengths of the respective light sources are generally not exactly the same. If the light emission wavelength differs for each light source,
The chromatic aberration of magnification in the scanning imaging lens becomes a problem.
【0003】この問題を、図1を参照して具体的に説明
する。図1において、符号11,12は光源としての半
導体レーザを示す。これら半導体レーザ11,12は、
画像信号に応じて各々独立に変調駆動される。半導体レ
ーザ11,12から放射された各ビームはそれぞれ、カ
ップリングレンズ13,14により「以後の光学系に適
したビーム形態」に変換される。カップリングレンズ1
3,14を透過した各ビームは、シリンダレンズ15に
より副走査方向に集束され、各ビームとも主走査方向に
長い線像として結像する。偏向器16は、この例におい
て回転多面鏡であり、上記各線像の結像位置近傍に偏向
反射面を有し、各ビームを反射する。反射された各ビー
ムは、偏向器16の等速回転に伴い等角速度的に偏向さ
れ、走査結像レンズ17を透過し、走査結像レンズ17
の作用により、被走査面18(実体的には光導電性の感
光体の感光面等である)上に、副走査方向に互いに分離
した光スポットとして集光する。偏向器16により等角
速度的に偏向される2ビームは、書込領域に向かう途上
において、レンズ19により光センサ20上に集光され
て検出される。偏向する2ビームは、互いに主走査方向
にも分離しており、レンズ19と光センサ20により構
成される「同期光検知手段」により別個に検出される。
そして、同期光検知手段の検出結果に基づき、各ビーム
ごとに書込み開始の同期がとられる。[0003] This problem will be specifically described with reference to FIG. In FIG. 1, reference numerals 11 and 12 indicate semiconductor lasers as light sources. These semiconductor lasers 11 and 12 are:
Modulation driving is performed independently in accordance with image signals. Each beam emitted from the semiconductor lasers 11 and 12 is converted into a “beam form suitable for the subsequent optical system” by the coupling lenses 13 and 14, respectively. Coupling lens 1
Each beam transmitted through 3 and 14 is converged in the sub-scanning direction by the cylinder lens 15, and each beam is formed as a long line image in the main scanning direction. The deflector 16 is a rotating polygon mirror in this example, has a deflecting / reflecting surface in the vicinity of the image forming position of each line image, and reflects each beam. Each of the reflected beams is deflected at a constant angular velocity with the constant speed rotation of the deflector 16, passes through the scanning imaging lens 17, and
The light condenses as light spots separated from each other in the sub-scanning direction on the surface to be scanned 18 (substantially, a photosensitive surface of a photoconductive photoconductor). The two beams deflected at a constant angular velocity by the deflector 16 are focused on the optical sensor 20 by the lens 19 and detected on the way to the writing area. The two beams to be deflected are also separated from each other in the main scanning direction, and are separately detected by “synchronous light detecting means” constituted by the lens 19 and the optical sensor 20.
Then, the start of writing is synchronized for each beam based on the detection result of the synchronous light detecting means.
【0004】各光スポットによる光走査は、被走査面1
8上における書込み開始位置BGにおいて開始され「1
ライン分の情報が所定時間で書き込ま」れる。このよう
に、1ライン分の情報で書き込まれる長さを「書込み
幅」とよぶ。書込み幅は本来、装置の設計値として定ま
る。その際、光源の発光波長は、光源として用いられる
半導体レーザ等の規格により定まる。このように設計上
で想定される発光波長の規格値を「使用基準波長」と呼
び「λ」で表す。使用基準波長:λの1例として、半導
体レーザの発光波長:780nmを挙げることができ
る。使用基準波長はまた「光源製造に於ける規格値」で
もある。走査結像レンズ17のレンズ作用は光の波長に
依存するので、書込み幅は光源の発光波長に依存し、設
計値として決まる書込み幅は使用基準波長:λにより定
まる。この書込み幅を「基準書込み幅:L(λ)」と表
すことにする。光源の発光波長は、現実には、上述の如
く、光源単品ごとにバラついている。光源の発光波長
が、使用基準波長:λからλ±Δλ(Δλは微小な波長
変化)にずれている場合には、実際の書込み幅をL(λ
±Δλ)とすると、図1に示すように、前記設計上の基
準書込み幅:L(λ)と異なったものになる。前述の如
く、各ビームは、書込領域へ向かう途上で検出され、書
込み開始の同期がとられる。このとき、同期光検知手段
によるビーム検出位置と書込み開始位置BGは比較的近
接しているので、書込み開始位置BGは、各ビームとも
実質的に同一位置となってずれは発生しない。しかし、
書込み終了側では、色収差による倍率誤差の影響で、書
込み終了位置FNには無視できない「ずれ」が現れる。The light scanning by each light spot is performed on the surface to be scanned 1.
8 at the write start position BG on “8”
The information for the line is written in a predetermined time. " As described above, the length written with the information for one line is called "write width". The writing width is originally determined as a design value of the device. At that time, the emission wavelength of the light source is determined by the standard of the semiconductor laser or the like used as the light source. The standard value of the emission wavelength assumed in the design is called "used reference wavelength" and is represented by "λ". As an example of the reference wavelength for use: λ, an emission wavelength of a semiconductor laser: 780 nm can be mentioned. The reference wavelength used is also a "standard value in light source manufacturing". Since the lens action of the scanning imaging lens 17 depends on the wavelength of light, the writing width depends on the emission wavelength of the light source, and the writing width determined as a design value is determined by the reference wavelength used: λ. This write width is represented as “reference write width: L (λ)”. In actuality, the emission wavelength of the light source varies from light source to light source as described above. If the emission wavelength of the light source deviates from the used reference wavelength: λ to λ ± Δλ (Δλ is a minute wavelength change), the actual writing width is set to L (λ
± Δλ), as shown in FIG. 1, it is different from the design reference write width: L (λ). As described above, each beam is detected on the way to the writing area, and the start of writing is synchronized. At this time, since the beam detection position by the synchronous light detecting means and the writing start position BG are relatively close to each other, the writing start position BG is substantially the same for each beam, and no deviation occurs. But,
On the write end side, a non-negligible “deviation” appears at the write end position FN due to a magnification error due to chromatic aberration.
【0005】例えば、図1の「2ビームで走査を行う装
置」において、各光スポットが互いに隣接するラインを
走査する場合だと、図2に示すように、一方の光スポッ
トによる書込み終了位置FN1と、他方の光スポットに
よる書込み終了位置FN2が交互にずれるため、この部
分に縦線(副走査方向の直線)を書き込んだ場合に、本
来直線となるべき線が揺らぐ「縦線揺らぎ」が発生する
ことになる。1例として、光源として「使用基準波長:
λが780nmの半導体レーザ」を2個、図1のマルチ
ビーム走査装置で使用する場合を考えてみる。上記半導
体レーザの発振波長のバラツキ:Δλは±20nmであ
る。従って、同一のマルチビーム走査装置に光源として
用いられた2つの半導体レーザの発振波長の一方が80
0nmで、他方が760nmであることもありうる。こ
のような場合、設計上の基準書込み幅:L(780n
m)として216mmを考えた場合、書込み幅:L(8
00nm)とL(760nm)とで、70μm前後の差
が生じる。光走査による「書込みの1単位」である1ド
ットの大きさは、書込密度が400dpiでは63.5
μmであり、この場合、書込み終了位置の「ずれ」であ
る上記70μmは1ドットの大きさと同程度であり、こ
のような場合、前記「縦線揺らぎ」は殆ど目立たない。
近年、書込密度の高密度化が要請され、書込密度とし
て、600dpi(1インチあたり600ドット)以上
の書込密度が実現され、1200dpiという極めて高
い書込密度も実現されつつあり、さらには2400dp
iやそれ以上の書込み密度の実現も意図されている。例
えば、600dpiで縦線を書き込んだ場合、1ドット
の大きさは40μmであり、縦線揺らぎの「揺らぎの最
大振幅」である前記70μmは、1ドットの大きさの2
倍弱であり、縦線揺らぎは「目視で辛うじて認められる
程度」になる。発明者らが研究したところによれば、縦
線揺らぎが目立つようになるのは「揺らぎの最大振幅
が、1ドットの大きさの2倍より大きくなる場合」であ
ることがわかった。For example, in the "apparatus for scanning with two beams" in FIG. 1, if each light spot scans a line adjacent to each other, as shown in FIG. And the writing end position FN2 by the other light spot is alternately shifted, so that when a vertical line (a straight line in the sub-scanning direction) is written in this portion, "vertical line fluctuation" occurs in which the line that should be a straight line fluctuates. Will do. As an example, as a light source, "use reference wavelength:
Let us consider a case where two semiconductor lasers each having λ of 780 nm are used in the multi-beam scanning apparatus shown in FIG. Variation in oscillation wavelength of the semiconductor laser: Δλ is ± 20 nm. Therefore, one of the oscillation wavelengths of the two semiconductor lasers used as the light source in the same multi-beam scanning device is 80
0 nm and the other could be 760 nm. In such a case, the design reference writing width: L (780 n
Considering 216 mm as m), the writing width: L (8
00 nm) and L (760 nm) have a difference of about 70 μm. The size of one dot which is “one unit of writing” by optical scanning is 63.5 at a writing density of 400 dpi.
In this case, 70 μm, which is the “shift” of the writing end position, is about the same as the size of one dot. In such a case, the “vertical line fluctuation” is hardly noticeable.
In recent years, there has been a demand for a higher writing density, and a writing density of 600 dpi (600 dots per inch) or more has been realized, and an extremely high writing density of 1200 dpi has been realized. 2400dp
Realization of writing densities of i and higher is also contemplated. For example, when a vertical line is written at 600 dpi, the size of one dot is 40 μm, and the 70 μm, which is the “maximum amplitude of fluctuation” of vertical line fluctuation, is 2 μm of the size of one dot.
It is less than twice, and the fluctuation of the vertical line is "to barely be recognized visually". According to the research conducted by the inventors, it has been found that the vertical line fluctuation becomes conspicuous when the maximum amplitude of the fluctuation is larger than twice the size of one dot.
【0006】上には、縦線揺らぎの原因となる「走査結
像レンズの倍率誤差」として、色収差によるものを説明
したが、倍率誤差の原因は色収差以外にもある。マルチ
ビーム走査装置では、複数ビームを共通の走査結像レン
ズにより被走査面上に光スポットとして集光させるので
あるが、複数の偏向ビームは、副走査方向に互いに分離
しているので、走査結像レンズを通過する位置は、偏向
ビームごとに異なったものとなり、このことによっても
倍率誤差が生じる。以下、この場合の倍率誤差を「通過
位置差による倍率誤差」と呼ぶことにする。上記色収差
による倍率誤差を補正する方策としては、走査結像レン
ズを色消しレンズにすることが考えられるが、走査結像
レンズのコストが高くなる。また、走査結像レンズがプ
ラスチックレンズを含むような場合、光学用プラスチッ
ク材料は種類が少ないため、色収差補正は必ずしも容易
でない。As described above, the chromatic aberration has been described as the "magnification error of the scanning imaging lens" which causes vertical line fluctuation. However, the cause of the magni? Cation error is other than chromatic aberration. In a multi-beam scanning device, a plurality of beams are condensed as light spots on a surface to be scanned by a common scanning image forming lens. However, since a plurality of deflected beams are separated from each other in the sub-scanning direction, scanning is performed. The position at which the light passes through the image lens differs for each deflection beam, and this also causes a magnification error. Hereinafter, the magnification error in this case will be referred to as “magnification error due to the difference in the passing position”. As a measure for correcting the magnification error due to the chromatic aberration, it is conceivable to use an achromatic lens for the scanning imaging lens, but the cost of the scanning imaging lens increases. Further, when the scanning image forming lens includes a plastic lens, chromatic aberration correction is not always easy because there are few types of optical plastic materials.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】この発明は、マルチビ
ーム走査装置において、前記色収差による倍率誤差を軽
減し、縦線揺らぎを有効に軽減することを課題とする。
この発明はまた、マルチビーム走査装置において、前記
色収差による倍率誤差と通過位置差による倍率誤差とを
問わず、これらを軽減して縦線揺らぎを軽減することを
他の課題とする。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to reduce a magnification error due to the chromatic aberration and effectively reduce vertical line fluctuation in a multi-beam scanning apparatus.
Another object of the present invention is to reduce a vertical line fluctuation by reducing the magnification error due to the chromatic aberration and the magnification error due to the passing position difference in the multi-beam scanning apparatus.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】マルチビーム走査装置は
「画像信号に応じて独立に変調駆動可能な複数の光源か
らの複数のビームを、これらビームに共通の偏向器によ
り各々等角速度的に偏向し、各偏向ビームを共通の走査
結像レンズにより、被走査面上に、副走査方向に互いに
分離した光スポットとして集光させ、被走査面上の複数
ラインを同時的に略等速に走査するマルチビーム走査装
置」である。上記光源としては、半導体レーザやLED
等の使用が可能であるが、勿論、光源として望ましいの
は半導体レーザである(請求項9)。複数のビームに共
通の偏向器としては、回転多面鏡を初め、回転2面鏡や
回転単面鏡を用いることができる。請求項1記載のマル
チビーム走査装置は、以下の如き特徴を有する。A multi-beam scanning apparatus is used to "deflect a plurality of beams from a plurality of light sources which can be independently modulated and driven in accordance with an image signal at a uniform angular velocity by a deflector common to these beams. Each of the deflected beams is condensed on the surface to be scanned by a common scanning image forming lens as light spots separated from each other in the sub-scanning direction, and a plurality of lines on the surface to be scanned are simultaneously scanned at substantially constant speed. Multi-beam scanning device ". The light source is a semiconductor laser or LED
It is of course possible to use a semiconductor laser as the light source (claim 9). As a deflector common to a plurality of beams, a rotating polygon mirror, a rotating dihedral mirror, or a rotating single mirror can be used. The multi-beam scanning device according to the first aspect has the following features.
【0009】即ち、書込み幅に相当する画角をθ(ra
d)、書込密度をδ(dpi)、複数の光源間の最大波
長差をΔλとし、使用基準波長:λのビームで上記画
角:θに対応する基準書込み幅をL(λ)とするとき、δ
≧600dpiである。また、 ΔK=(1/θ)(dL/dλ) で定義される量:ΔKと上記最大波長差:Δλとが、条
件: (1) 0<Δλ/[25.4×2/{δ×ΔK×
θ}]≦1 を満足するように、上記複数の光源が選択される。上記
ΔKの定義における「dL/dλ」としては、実際上
は、使用基準波長:λから波長が1nmずれたときの書
込み幅:Lの変化を用いればよい。That is, the angle of view corresponding to the writing width is θ (ra
d), the writing density is δ (dpi), the maximum wavelength difference between the plurality of light sources is Δλ, and the reference writing width corresponding to the above-mentioned angle of view: θ is L (λ) with a beam having the used reference wavelength: λ. Then δ
≧ 600 dpi. Further, the quantity defined by ΔK = (1 / θ) (dL / dλ): ΔK and the maximum wavelength difference: Δλ satisfy the following conditions: (1) 0 <Δλ / [25.4 × 2 / {δ × ΔK ×
The plurality of light sources are selected so as to satisfy θ} ≦ 1. As the “dL / dλ” in the definition of ΔK, in practice, a change in the writing width: L when the wavelength is shifted by 1 nm from the reference wavelength to be used: λ may be used.
【0010】条件(1)は、色収差による倍率誤差によ
り、最大波長差:Δλになる2つの光源からのビームに
よる「書込み幅の差」が「1ドットの大きさの2倍以
下」となる条件、即ち、前述の縦線揺らぎが目立たない
条件である。即ち、ΔKに(1/θ)(dL/dλ)を
代入すると、(1)式は、 0<Δλ・(dL/dλ)・δ/(25.4)≦2 となるが、Δλ・(dL/dλ)は、上記最大波長差:
Δλに対応する書込み幅:Lの差:ΔL(図2を参照)
である。従って、Δλ・(dL/dλ)・δ/(25.
4)をΔL・δ/(25.4)と書き直すと、これは上
記ΔLが、書込密度:δにおいて1ドットの何倍に当る
かを表す。従って、上記条件(1)は、ΔLが1ドット
の2倍以下の大きさになる条件である。上記Δλは「複
数の光源間の最大波長差」であるから、3以上の光源が
ある場合でも、光源間の波長差はΔλより大きくなるこ
とは無い。従って、3以上の光源で3ライン以上を同時
に書き込む場合にも、上記ΔLは1ドットの2倍を超え
ることがない。上記条件(1)を満足させるためには、
通常、各光源の発光波長を測定し、条件(1)を満足す
るような光源を選別して組み合わせる必要がある。しか
し、工程能力的に「波長バラツキ」が小さい光源のグル
ープを用いれば、波長測定を省くことができる。複数光
源として「同一のウエハから作製された半導体レーザ」
を用いる(請求項2)と、これらは互いに波長のバラツ
キが小さいので、波長測定による選別をする必要がなく
なる。The condition (1) is a condition that the difference in the writing width due to the beams from the two light sources having the maximum wavelength difference: Δλ is “less than twice the size of one dot” due to a magnification error due to chromatic aberration. That is, this is a condition in which the vertical line fluctuation is not conspicuous. That is, when (1 / θ) (dL / dλ) is substituted for ΔK, the expression (1) is as follows: 0 <Δλ · (dL / dλ) · δ / (25.4) ≦ 2, but Δλ · ( dL / dλ) is the above maximum wavelength difference:
Write width corresponding to Δλ: difference of L: ΔL (see FIG. 2)
It is. Therefore, Δλ · (dL / dλ) · δ / (25.
If 4) is rewritten as ΔL · δ / (25.4), this indicates how many times the above-mentioned ΔL corresponds to one dot at the writing density: δ. Therefore, the above condition (1) is a condition in which ΔL is equal to or less than twice the size of one dot. Since Δλ is the “maximum wavelength difference between a plurality of light sources”, even when there are three or more light sources, the wavelength difference between the light sources does not become larger than Δλ. Therefore, even when three or more lines are simultaneously written by three or more light sources, the above ΔL does not exceed twice as large as one dot. In order to satisfy the above condition (1),
Normally, it is necessary to measure the emission wavelength of each light source and select and combine the light sources that satisfy the condition (1). However, if a group of light sources having a small “wavelength variation” in process capability is used, wavelength measurement can be omitted. "Semiconductor laser fabricated from the same wafer" as multiple light sources
Is used (claim 2), since these have small variations in wavelength, there is no need to select by wavelength measurement.
【0011】請求項3記載のマルチビーム走査装置は、
以下の如き特徴を有する。即ち、複数の光源の内の少な
くとも2つの光源について「これら光源からのビームに
よる書込み幅が実質的に等しくなる」ように、上記少な
くとも2つの光源の変調周波数を互いに異ならせる。光
スポットによる書込みにおいて、1ドットの書込みが行
われる時間を「T」とすると、該光スポット用の光源の
変調周波数は「1/T」で定義される。光スポットにお
ける書込みで書き込まれる1ラインの長さ、即ち、前述
の基準書込み幅:LがNドット分の長さであるとする
と、有効書込み幅:Lを書き込むのに必要な時間は「N
・T」である。上記2つの光源(光源1及び光源2と
し、変調周波数は同一であるとする)からのビームによ
る書込みにおいて、各ビームにより書き込まれる現実の
書込み幅が、倍率誤差(色収差および/または通過位置
差による倍率誤差)により互いに異なり、L(光源1)≠
L(光源2)となったとする。このとき、L(光源2)/L
(光源1)=sとすると、光源1からのビームが1ドット
を書込む時間:T(光源1)を、光源2からのビームが1
ドットを書き込む時間:T(光源2)のs倍にすると、光
源1からのビームが書き込む1ドットは、光源2からの
ビームが書き込む1ドットに対し、主走査方向のドット
径がs倍になるので、上記倍率誤差の存在に拘らず、上
記2つの光源からのビームが書き込む書込み幅を同一に
できる。即ち、光源2における変調周波数が、1/T
(光源2)であるとすれば、光源1における変調周波数を
1/{s・T(光源2)}とすればよい。光源1における変
調周波数は、必ずしも正確に1/{s・T(光源2)}に設
定できるとは限らないが、このような関係を必要な精度
で近似した関係を満足させることにより、光源1,2が
書き込む「実際の書込み幅」を、実質的に等しくするこ
とが可能である。上記のように、請求項3記載のマルチ
ビーム走査装置においては、倍率誤差の原因が、色収差
によるものであれ、通過位置差によるものであれ、ある
いはこれらの複合によるものであれ、倍率誤差の補正が
可能である。According to a third aspect of the present invention, there is provided a multi-beam scanning apparatus.
It has the following features. That is, the modulation frequencies of the at least two light sources are made different from each other such that "the writing widths by the beams from these light sources become substantially equal" for at least two of the plurality of light sources. In writing by a light spot, assuming that the time for writing one dot is “T”, the modulation frequency of the light source for the light spot is defined as “1 / T”. Assuming that the length of one line written by writing in the light spot, that is, the above-described reference writing width: L is the length of N dots, the time required to write the effective writing width: L is “N
* T ". In writing using beams from the above two light sources (the light sources 1 and 2 are assumed to have the same modulation frequency), the actual writing width written by each beam is different from the magnification error (chromatic aberration and / or passing position difference). L (light source 1) ≠
Suppose L (light source 2). At this time, L (light source 2) / L
If (light source 1) = s, the time for writing one dot by the beam from light source 1 is T (light source 1), and the time when the beam from light source 2 is 1
Dot writing time: Assuming that s times T (light source 2), one dot written by the beam from light source 1 has a dot diameter in the main scanning direction s times larger than one dot written by the beam from light source 2. Therefore, regardless of the existence of the magnification error, the writing width of the beam from the two light sources can be the same. That is, the modulation frequency of the light source 2 is 1 / T
(Light source 2), the modulation frequency of the light source 1 may be 1 / {s · T (light source 2)}. The modulation frequency of the light source 1 cannot always be set exactly to 1 / {s · T (light source 2)}, but by satisfying a relationship approximating such a relationship with necessary accuracy, the light source 1 , 2 can be made substantially equal. As described above, in the multi-beam scanning device according to the third aspect, correction of a magnification error is caused by a chromatic aberration, a passing position difference, or a combination thereof. Is possible.
【0012】このような「変調周波数の調整による倍率
誤差の補正」は、請求項1または2記載の発明と共用で
きる。即ち、請求項1または2記載のマルチビーム走査
装置において、複数の光源の内の少なくとも2つの光源
について、これら光源からのビームによる書込み幅が実
質的に等しくなるように、上記少なくとも2つの光源の
変調周波数を互いに異ならせることができる(請求項
4)。また、実際のマルチビーム走査装置において、倍
率誤差の主因が色収差にある場合は、予め、光源の発光
波長に応じてΔLが知れるので、このような場合は、複
数の光源の内の少なくとも2つの光源について、これら
の光源からの各ビームの波長に応じ、上記少なくとも2
つの光源の変調周波数を互いに異ならせる(請求項5)
ことにより、実質的にこれら2光源からのビームに対す
る倍率誤差を解消することができる。請求項6記載のマ
ルチビーム走査装置は、上記請求項3または4または5
記載のマルチビーム走査装置において「偏向ビームによ
る書込み開始側と書込み終了側とに配備された1対の光
センサを有し、これら光センサ間を各ビームが偏向によ
り通過する時間に応じて、各ビームの光源における変調
周波数を決定する手段を有する」ことを特徴とする。上
記請求項1〜6の任意の1に記載のマルチビーム走査装
置において、走査結像レンズは「1以上のプラスチック
レンズを含む」ことができる(請求項7)。Such "correction of the magnification error by adjusting the modulation frequency" can be shared with the first or second aspect of the present invention. That is, in the multi-beam scanning apparatus according to claim 1 or 2, the at least two light sources of at least two of the plurality of light sources are so arranged that writing widths by beams from these light sources are substantially equal. The modulation frequencies can be different from each other (claim 4). Further, in the actual multi-beam scanning device, if the main cause of the magnification error is chromatic aberration, ΔL is known in advance according to the emission wavelength of the light source. In such a case, at least two of the plurality of light sources are used. For light sources, at least two light sources are used depending on the wavelength of each beam from these light sources.
The modulation frequencies of the two light sources are different from each other.
Thus, a magnification error with respect to the beams from these two light sources can be substantially eliminated. The multi-beam scanning device according to the sixth aspect is the third, fourth, or fifth aspect.
In the multi-beam scanning device according to the description, “a pair of optical sensors disposed on a writing start side and a writing end side by a deflected beam is provided. And means for determining the modulation frequency of the beam at the light source. " In the multi-beam scanning device according to any one of the first to sixth aspects, the scanning image forming lens can include "one or more plastic lenses" (claim 7).
【0013】プラスチックレンズは材料が安価であるか
ら低コストに作製でき、非球面等の特殊なレンズ面形状
も容易に形成できるめ、走査結像レンズ用のレンズとし
て適している。しかし、光学用プラスチック材料は種類
が少ないため「色収差による倍率誤差」を色消しにより
補正することが困難である。したがって、走査結像レン
ズ中にプラスチックレンズを用いるマルチビーム走査装
置に本発明を適用する意義は大きい。複数の光源の数は
2であることができる(請求項8)。勿論、光源の数は
3以上であってもよい。なお、請求項3〜5記載の発明
において「少なくとも2つの光源」における「2つの光
源」は、光源の数が3以上であるときには、倍率誤差に
よる書込み幅の差が最も顕著に現れる2つの光源であ
る。請求項10記載のマルチビーム走査装置は、複数の
光源と、偏向器と、走査結像レンズとを有する。複数の
光源は、画像信号に応じて独立に変調駆動可能である。
偏向器は、これら複数の光源からの複数ビームを偏向反
射面により反射し、偏向反射面の回転により、各ビーム
を等角速度的に偏向させる。この偏向器は複数ビームに
共通である。走査結像レンズは、偏向器により偏向され
た複数ビームを、副走査方向に互いに分離した光スポッ
トとして被走査面上に集光させ、被走査面上の複数ライ
ンを同時的に略等速に走査させる。書込み幅に相当する
画角をθ(rad)、書込密度をδ(dpi)、複数の
光源間の最大波長差をΔλとし、使用基準波長:λのビ
ームで上記画角:θに対応する書込み幅をL(λ)とする
とき、上記複数の光源は、 ΔK=(1/θ)(dL/dλ) で定義される量:ΔKと上記Δλとが、条件: (1) 0<Δλ/[25.4×2/{δ×ΔK×
θ}]≦1 を満足するように選択されている。Since the plastic lens is inexpensive, it can be manufactured at low cost, and a special lens surface shape such as an aspherical surface can be easily formed. Therefore, the plastic lens is suitable as a lens for a scanning imaging lens. However, since there are few types of optical plastic materials, it is difficult to correct “magnification error due to chromatic aberration” by achromatism. Therefore, the significance of applying the present invention to a multi-beam scanning device using a plastic lens in the scanning imaging lens is significant. The number of the plurality of light sources may be two (claim 8). Of course, the number of light sources may be three or more. In the inventions according to claims 3 to 5, the "two light sources" in the "at least two light sources" means that when the number of light sources is three or more, the two light sources in which a difference in writing width due to a magnification error appears most remarkably. It is. A multi-beam scanning device according to a tenth aspect has a plurality of light sources, a deflector, and a scanning imaging lens. The plurality of light sources can be modulated and driven independently according to the image signal.
The deflector reflects a plurality of beams from the plurality of light sources on a deflecting / reflecting surface, and deflects each beam at a constant angular velocity by rotating the deflecting / reflecting surface. This deflector is common to a plurality of beams. The scanning imaging lens converges the plurality of beams deflected by the deflector on the surface to be scanned as light spots separated from each other in the sub-scanning direction, and simultaneously makes the plurality of lines on the surface to be scanned substantially uniform in speed. Scan. The angle of view corresponding to the writing width is θ (rad), the writing density is δ (dpi), the maximum wavelength difference between a plurality of light sources is Δλ, and a beam having a used reference wavelength: λ corresponds to the angle of view: θ. Assuming that the writing width is L (λ), the plurality of light sources have an amount defined by ΔK = (1 / θ) (dL / dλ): ΔK and Δλ satisfy the following conditions: (1) 0 <Δλ /[25.4×2/{δ×ΔK×
θ}] ≦ 1.
【0014】請求項10記載のマルチビーム走査装置に
おいて、書込密度:δは、δ≧600dpiであること
もできるし(請求項11)、δ≧1200dpiである
こともでき(請求項12)、さらには、δ≧2400d
piであることもできる(請求項13)。複数の光源
は、半導体レーザを含むこともできるし(請求項1
4)、LED(発光ダイオード)を含むこともできる
(請求項15)。偏向器は、回転多面鏡とすることもで
きるし(請求項16)、1枚の回転平面ミラーの片面を
反射面とした「回転単面鏡」や、両面を反射面とした
「回転2面鏡」とすることもできる(請求項17)。回
転単面鏡や回転2面鏡は、偏向反射面とその回転軸との
空間的なずれが小さいので、所謂サグの発生を実質的に
防止することができるという利点がある。請求項10記
載のマルチビーム走査装置において、複数の光源のうち
の少なくとも1つを、使用基準波長:780nmのもの
とすることができ(請求項18)、さらには、複数の光
源の個々が使用基準波長:780nmのものであるよう
にすることもできる(請求項19)。In the multi-beam scanning device according to the tenth aspect, the writing density δ can be δ ≧ 600 dpi (claim 11) or δ ≧ 1200 dpi (claim 12), Furthermore, δ ≧ 2400d
pi (claim 13). The plurality of light sources may include a semiconductor laser.
4) An LED (light emitting diode) may be included (claim 15). The deflector can be a rotating polygon mirror (Claim 16), a "rotating single mirror" having one reflecting surface on one rotating flat mirror, or a "rotating two mirror having both reflecting surfaces." It can also be a "mirror" (claim 17). The rotating single-sided mirror and the rotating two-sided mirror have an advantage that a so-called sag can be substantially prevented since the spatial displacement between the deflecting reflection surface and the rotation axis is small. In the multi-beam scanning device according to the tenth aspect, at least one of the plurality of light sources may have a reference wavelength of 780 nm (claim 18), and furthermore, each of the plurality of light sources may be used. The reference wavelength may be 780 nm (claim 19).
【0015】請求項20記載のマルチビーム走査装置
は、請求項10記載のマルチビーム走査装置において、
600dpi以上の書込密度:δでの書込みにおいて
「縦線揺らぎを除去するように、複数の光源が調製され
ている」ことを特徴とする。上記請求項10記載のマル
チビーム走査装置においては、走査結像レンズを、以下
のごとき構成とすることができる。即ち、走査結像レン
ズが「40以上で80以下のアッベ数」を持つプラスチ
ック材料によるレンズを、少なくとも2つ有することが
できる(請求項21)。また、走査結像レンズが、少な
くとも2枚のレンズを有し、これらレンズの個々に就い
て、中心部の肉厚:t1と、主走査方向周辺部の肉厚:
t2が、条件: (2) 0.3≦t2/t1≦1.7 を満足するようにすることができる(請求項22)。走
査結像レンズを2枚のレンズで構成した場合を図5に例
示する。レンズ17Aは中心肉厚:d1、主走査方向周
辺部肉厚:d2を有し、レンズ17Bは中心肉厚:
d1’、主走査方向周辺部肉厚:d2’を有するが、この
場合には「0.3≦d2/d1≦1.7」で、かつ「0.
3≦d2’/d1’≦1.7」である。According to a twentieth aspect of the present invention, in the multi-beam scanning apparatus according to the tenth aspect,
In writing at a writing density of δ of 600 dpi or more, “a plurality of light sources are prepared so as to remove vertical line fluctuation”. In the multi-beam scanning device according to the tenth aspect, the scanning imaging lens may have the following configuration. That is, the scanning imaging lens can have at least two lenses made of a plastic material having an “Abbe number of 40 or more and 80 or less” (claim 21). Further, the scanning imaging lens has at least two lenses, and for each of these lenses, the thickness at the center: t1 and the thickness at the periphery in the main scanning direction:
t2 may satisfy the following condition: (2) 0.3 ≦ t2 / t1 ≦ 1.7 (claim 22). FIG. 5 exemplifies a case where the scanning imaging lens is constituted by two lenses. The lens 17A has a center thickness: d 1 and a peripheral portion thickness: d 2 , and the lens 17B has a center thickness: d 2.
d 1 ′ and thickness in the main scanning direction peripheral portion: d 2 ′. In this case, “0.3 ≦ d 2 / d 1 ≦ 1.7” and “0.
3 ≦ d 2 ′ / d 1 ′ ≦ 1.7 ”.
【0016】あるいはまた、走査結像レンズを少なくと
も2枚のレンズで構成し、2枚のレンズの内の一方に正
のパワーを持たせ、他方に負のパワーを持たせるように
することができる(請求項23)。さらにはまた、図6
に示すように、走査結像レンズ17を、少なくとも2枚
のレンズ17A,17Bで構成し、偏向器16の偏向の
起点(走査結像レンズの光軸と偏向反射面との交点)か
ら、もっとも偏向器16に近いレンズ17Aの射出側面
までの距離:l1と、上記偏向の起点から被走査面18
に至る距離:l2とが、条件: (3) l1/l2≧0.25 を満足するようにすることができる(請求項24)。ま
た、図7に示すように、走査結像レンズ17を、少なく
とも2枚のレンズ17A,17Bで構成し、被走査面1
8上の書込み開始位置BGに向かう偏向ビームの主光線
が、偏向器16にもっとも近いレンズ17Aの入射側面
に入射するときの偏向角を光軸から計って角:θ1と
し、上記主光線が、被走査面18に入射する角を上記光
軸から計って角:θ2とするとき、これらが、条件: (4)θ2/θ1≧0.4 を満足するようにすることができる(請求項25)。Alternatively, the scanning image forming lens may be constituted by at least two lenses, and one of the two lenses may have a positive power and the other may have a negative power. (Claim 23). Furthermore, FIG.
As shown in (1), the scanning image forming lens 17 is composed of at least two lenses 17A and 17B, and the scanning image forming lens 17 is most deviated from the starting point of deflection of the deflector 16 (the intersection between the optical axis of the scanning image forming lens and the deflecting reflection surface). the distance to the exit surface of the lens 17A closest to the deflector 16: and l 1, the surface to be scanned 18 from the starting point of the deflection
Leading to the distance: l 2 and is, conditions: can (3) so as to satisfy l 1 / l 2 ≧ 0.25 (claim 24). As shown in FIG. 7, the scanning image forming lens 17 is composed of at least two lenses 17A and 17B,
Principal ray of the deflected beam toward the write start position BG on the 8, corners measure the deflection angle when incident on the incident side of the closest lens 17A to the deflector 16 from the optical axis: the theta 1, the principal ray When the angle of incidence on the surface 18 to be scanned is measured from the optical axis to be an angle θ 2 , these can satisfy the condition: (4) θ 2 / θ 1 ≧ 0.4. (Claim 25).
【0017】前述のように、倍率の色収差に起因する縦
線揺らぎが目立たない条件は、 0<Δλ・(dL/dλ)・δ/(25.4)≦2 であるから、光源間の波長差:Δλに対する許容度は
「dL/dλ」が小さくなるほど大きくなる。請求項2
1におけるように、走査結像レンズが「40以上で80
以下のアッベ数」を持つプラスチック材料によるレンズ
を、少なくとも2つ有するようにすること、あるいは請
求項22におけるように条件(2)を満足させること、
請求項23におけるように条件(3)を満足させるこ
と、請求項24におけるように、走査結像レンズ内に正
・負のパワーを持つレンズを含めること、請求項25に
おけるように条件(4)を満足させることは、いずれ
も、倍率の色収差自体を有効に減少させて「dL/d
λ」を小さくする効果がある。従って、請求項21〜2
5(これらは単独で実施することも、組み合わせて実施
することもできる)のように走査結像レンズを構成する
ことにより、「互いに組み合わせられる複数の光源間の
波長差の許容度」を有効に大きくすることができる。As described above, the condition that vertical line fluctuation caused by chromatic aberration of magnification is not conspicuous is as follows: 0 <Δλ · (dL / dλ) · δ / (25.4) ≦ 2 Difference: The tolerance for Δλ increases as “dL / dλ” decreases. Claim 2
1, the scanning imaging lens is "40 or more and 80
Having at least two lenses made of a plastic material having the following Abbe number, or satisfying the condition (2) as in claim 22;
The condition (3) should be satisfied as in claim 23, the lens having positive and negative power should be included in the scanning imaging lens as in claim 24, and the condition (4) as in claim 25. In all cases, satisfying the condition (1) effectively reduces the chromatic aberration of magnification itself and reduces the dL / d
λ ”is reduced. Therefore, Claims 21 and 2
By configuring the scanning imaging lens as shown in FIG. 5 (these can be implemented alone or in combination), the “tolerance of the wavelength difference between a plurality of light sources combined with each other” can be effectively set. Can be bigger.
【0018】請求項26記載のマルチビーム走査装置
は、複数の光源と、偏向器と、走査結像レンズとを有す
る。これらは、請求項10記載のマルチビーム走査装置
におけると同様のものである。請求項26記載のマルチ
ビーム走査装置は、複数の光源の内の少なくとも2つの
光源について、これら光源からのビームによる書込み幅
が実質的に等しくなるように、上記少なくとも2つの光
源の変調周波数を互いに異ならせたことを特徴とする。
この請求項26記載のマルチビーム走査装置において、
少なくとも2つの光源の変調周波数は、これら光源の波
長差による書込み幅の倍率誤差を解消するように、互い
に異ならされることができる(請求項27)。また、偏
向ビームによる書込み開始側と書込み終了側とに配備さ
れた1対の光センサを設け、これら光センサ間を偏向ビ
ームが偏向により通過する時間を計測し、計測された時
間に応じて、上記少なくとも2つの光源の変調周波数を
決定することができる(請求項28)。請求項26記載
のマルチビーム走査装置において、書込密度:δは、δ
≧600dpiとすることも(請求項29)、δ≧12
00dpiとすることも(請求項30)、さらには、δ
≧2400dpiとすることもできる(請求項31)。A multi-beam scanning device according to a twenty-sixth aspect has a plurality of light sources, a deflector, and a scanning imaging lens. These are the same as those in the multi-beam scanning device according to the tenth aspect. 27. The multi-beam scanning apparatus according to claim 26, wherein at least two of the plurality of light sources have modulation frequencies of the at least two light sources such that writing widths by beams from the light sources are substantially equal. It is characterized by being different.
In the multi-beam scanning device according to claim 26,
The modulation frequencies of the at least two light sources can be different from each other so as to eliminate a magnification error of a writing width due to a wavelength difference between the light sources (claim 27). In addition, a pair of optical sensors provided on the writing start side and the writing end side by the deflection beam are provided, and the time when the deflection beam passes between these optical sensors by deflection is measured, and according to the measured time, A modulation frequency of the at least two light sources can be determined (claim 28). 27. The multi-beam scanning device according to claim 26, wherein the writing density: δ is equal to δ.
≧ 600 dpi (claim 29), δ ≧ 12
00 dpi (claim 30).
≧ 2400 dpi (claim 31).
【0019】また、複数の光源は、半導体レーザを含む
こともできるし(請求項32)、LEDを含むこともで
き(請求項33)、偏向器としては、回転多面鏡を用い
ることもできるし(請求項34)、回転単面鏡もしくは
回転2面鏡を用いることもできる(請求項35)。ま
た、複数の光源のうちの少なくとも1つを、使用基準波
長:780nmのものとすることができ(請求項3
6)、あるいは、複数の光源の個々を、使用基準波長:
780nmのものとすることができる(請求項37)。
上記請求項26記載のマルチビーム走査装置はまた、6
00dpi以上の書込密度:δでの書込みにおいて、縦
線揺らぎを除去するように、複数の光源を調製すること
ができる(請求項38)。Further, the plurality of light sources may include a semiconductor laser (claim 32), may include an LED (claim 33), and a rotating polygon mirror may be used as the deflector. (Claim 34) It is also possible to use a rotating single-sided mirror or a rotating two-sided mirror (Claim 35). In addition, at least one of the plurality of light sources may have an operating reference wavelength of 780 nm.
6) Alternatively, each of the plurality of light sources is used as a reference wavelength:
It can be 780 nm (claim 37).
The multi-beam scanning device according to claim 26, further comprises:
A plurality of light sources can be prepared so as to remove vertical line fluctuation in writing at a writing density: δ of 00 dpi or more (claim 38).
【0020】この発明のマルチビーム走査方法は「画像
信号に応じて独立に変調駆動可能な複数の光源からの複
数のビームを、これらビームに共通の偏向器により各々
等角速度的に偏向し、各偏向ビームを共通の走査結像レ
ンズにより、被走査面上に、副走査方向に互いに分離し
た光スポットとして集光させ、被走査面上の複数ライン
を同時的に略等速に走査する方法」である。請求項39
記載のマルチビーム走査方法は、このような走査方法に
おいて、複数光源のうちの少なくとも2つについて、そ
の発光波長の差を制限することにより、実質的に等しい
書込み幅でマルチビーム走査を行うことを特徴とする。
請求項40記載のマルチビーム走査方法は、複数光源か
らのビームのうちの少なくとも2つについて、その書込
み幅が実質的に等しくなるように、上記2つのビームを
放射する光源の変調周波数を互いに異ならせてマルチビ
ーム走査を行うことを特徴とする。この発明の、マルチ
ビーム走査装置製造方法は、画像信号に応じて独立に変
調駆動可能な複数の光源と、これら複数の光源からの複
数のビームに共通で、各ビームを等角速度的に偏向させ
る偏向器と、この偏向器に偏向された各偏向ビームに共
通で、各偏向ビームを、被走査面上に、副走査方向に互
いに分離した光スポットとして集光させ、被走査面上の
複数ラインを同時的に略等速に走査させる走査結像レン
ズとを各々用意する工程と、上記複数の光源、偏向器、
走査結像レンズを所定の光学配置に組み付ける工程とを
含み、組み付けるべき複数の光源として、書込み幅に相
当する画角:θ(rad)、書込密度:δ(dpi)、
複数の光源間の最大波長差:Δλ、使用基準波長:λの
ビームで上記画角:θに対応する書込み幅:L(λ)とし
て、 ΔK=(1/θ)(dL/dλ) で定義される量:ΔKと上記Δλとが、条件: (1) 0<Δλ/[25.4×2/{δ×ΔK×
θ}]≦1 を満足するように、上記複数の光源を選択することを特
徴とする。According to the multi-beam scanning method of the present invention, "a plurality of beams from a plurality of light sources which can be modulated and driven independently according to image signals are deflected at a uniform angular velocity by a deflector common to these beams. Method of condensing the deflected beam on the surface to be scanned by a common scanning imaging lens as light spots separated from each other in the sub-scanning direction, and simultaneously scanning a plurality of lines on the surface to be scanned at substantially the same speed. " It is. Claim 39
The described multi-beam scanning method uses such a scanning method to perform multi-beam scanning with substantially equal writing widths by limiting the difference in emission wavelength of at least two of the plurality of light sources. Features.
41. The multi-beam scanning method according to claim 40, wherein at least two of the beams from the plurality of light sources have different modulation frequencies of the light sources that emit the two beams such that the writing widths thereof are substantially equal. And performing multi-beam scanning. According to the method of manufacturing a multi-beam scanning device of the present invention, a plurality of light sources capable of being independently modulated and driven in accordance with an image signal, and a plurality of beams from the plurality of light sources are commonly used to deflect each beam at an equal angular velocity. The deflector and the respective deflectors deflected by the deflector converge the respective deflected beams on the surface to be scanned as light spots separated from each other in the sub-scanning direction. A step of preparing a scanning imaging lens for simultaneously scanning at substantially constant speed, and the plurality of light sources, deflectors,
Assembling the scanning image forming lens into a predetermined optical arrangement, wherein as a plurality of light sources to be assembled, an angle of view corresponding to a writing width: θ (rad), a writing density: δ (dpi),
Defined as ΔK = (1 / θ) (dL / dλ) as a writing width: L (λ) corresponding to the angle of view: θ with a beam having a maximum wavelength difference between a plurality of light sources: Δλ and a reference wavelength to be used: λ. The amount to be performed: ΔK and the above-mentioned Δλ satisfy the following conditions: (1) 0 <Δλ / [25.4 × 2 / {δ × ΔK ×
θ}] ≦ 1 is selected, the plurality of light sources are selected.
【0021】この発明の画像形成装置は「潜像担持体の
光走査により所望の潜像を形成し、形成された潜像を現
像して可視化する画像形成装置」であって、潜像担持体
を光走査する光走査装置として、前記請求項1〜38の
任意の1に記載のマルチビーム走査装置を用いることを
特徴とする(請求項42)。潜像担持体としては「銀塩
写真フィルム」や「光導電性の感光体」を用いることが
できる。銀塩写真フィルムを潜像担持体として用いる場
合は、マルチビーム走査装置による光走査により形成さ
れる潜像を、通常の銀塩写真プロセスで現像することに
より、所望の画像を得ることができる。このような画像
形成装置は具体的には光製版機として実施することがで
きる。潜像担持体として光導電性の感光体を用いる場合
には、潜像担持体を均一に帯電したのち光走査による書
込みで静電潜像を形成し、形成された静電潜像を現像し
てトナー画像を得る(請求項43)。トナー画像は記録
媒体上に定着される。光導電性の感光体としては酸化亜
鉛紙の如きシート状のものを用いても良く、この場合に
は、潜像担持体自体を記録媒体としてトナー画像を定着
することができる。また潜像担持体に形成された静電潜
像を現像して得られるトナー画像を、シート状の記録媒
体(転写紙やオーバヘッドプロジェクタ用のプラスチッ
クシート等)に転写して定着することもできるし、静電
潜像を上記シート状の記録媒体に転写してから現像し、
得られるトナー画像を記録媒体上に定着しても良い。The image forming apparatus of the present invention is an "image forming apparatus for forming a desired latent image by optical scanning of a latent image carrier, and developing and visualizing the formed latent image". The multi-beam scanning device according to any one of claims 1 to 38 is used as an optical scanning device that optically scans (Claim 42). As the latent image carrier, a "silver salt photographic film" or a "photoconductive photoreceptor" can be used. When a silver halide photographic film is used as a latent image carrier, a desired image can be obtained by developing a latent image formed by optical scanning with a multi-beam scanning device by a normal silver halide photographic process. Such an image forming apparatus can be specifically implemented as an optical plate making machine. When a photoconductive photoconductor is used as the latent image carrier, the latent image carrier is uniformly charged, then an electrostatic latent image is formed by writing by optical scanning, and the formed electrostatic latent image is developed. To obtain a toner image (claim 43). The toner image is fixed on the recording medium. As the photoconductive photoconductor, a sheet-shaped one such as zinc oxide paper may be used. In this case, the toner image can be fixed using the latent image carrier itself as a recording medium. Further, a toner image obtained by developing the electrostatic latent image formed on the latent image carrier can be transferred and fixed to a sheet-like recording medium (such as a transfer sheet or a plastic sheet for an overhead projector). Transferring the electrostatic latent image to the sheet-shaped recording medium and then developing;
The obtained toner image may be fixed on a recording medium.
【0022】トナー画像の「シート状の記録媒体」への
転写は、潜像担持体から記録媒体へ直接行っても良い
し、中間転写ベルト等の中間転写媒体を介して行っても
良い。上記画像形成装置は、具体的にはデジタル複写機
やデジタル製版機、光プリンタや光プロッタとして実施
できる。The transfer of the toner image to the “sheet-shaped recording medium” may be performed directly from the latent image carrier to the recording medium, or may be performed via an intermediate transfer medium such as an intermediate transfer belt. The image forming apparatus can be specifically implemented as a digital copying machine, a digital plate making machine, an optical printer, or an optical plotter.
【0023】[0023]
【発明の実施の形態】以下、具体的な実施例に即して、
発明の実施の形態を説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
An embodiment of the invention will be described.
【0024】以下に挙げる各実施例は、図1に示した光
学配置に関するものである。カップリングレンズ13,
14によりカップリングされた光束は、平行光束となる
ことも、弱い集束性もしくは弱い発散性の光束となるこ
ともできるが、以下に挙げる実施例では、カップリング
レンズ13,14の作用は「コリメート作用」であり、
光源11,12からの光束を平行光束化する。走査結像
レンズに関するデータは以下の通りである。図1に示す
ように走査結像レンズ17は、2枚のレンズにより構成
される。これら2枚のレンズを、偏向器4の側から被走
査面側へ向かって「第1レンズ」、「第2レンズ」と呼
ぶ。第1レンズは、両面とも「共軸非球面」である。共
軸非球面は、光軸方向の座標をX、光軸直交方向の座標
をr、近軸曲率半径をR、円錐定数をK、高次の非球面
係数をA4,A6,A8,A10,..として、周知の式: X=r2/[R+R√{1-(1+K)r2/R2}]+A4・r4+A6・r6+A8・r8+A10・r
10+.. において、R,K,A4,A6,A8,A10,..を与え
て特定される。The following embodiments relate to the optical arrangement shown in FIG. Coupling lens 13,
The light beam coupled by the light source 14 can be a parallel light beam or a light beam having weak focusing or weak divergence. In the embodiments described below, the action of the coupling lenses 13 and 14 is “collimation”. Action "
The light beams from the light sources 11 and 12 are converted into parallel light beams. The data on the scanning imaging lens is as follows. As shown in FIG. 1, the scanning imaging lens 17 is composed of two lenses. These two lenses are called “first lens” and “second lens” from the side of the deflector 4 toward the surface to be scanned. Both surfaces of the first lens are “coaxial aspherical surfaces”. Coaxial aspherical surface, the optical axis coordinates X, the direction perpendicular to the optical axis of the coordinate r, the paraxial curvature radius R, the conic constant K, the aspherical coefficients of higher order A 4, A 6, A 8 , A 10 ,. . X = r 2 / [R + R√ {1- (1 + K) r 2 / R 2 }] + A 4 · r 4 + A 6 · r 6 + A 8 · r 8 + A 10・ r
10 + .. In, R, K, A 4, A 6, A 8, A 10,. . Given.
【0025】第1レンズのデータ 材料(光学用プラスチック材料)の屈折率:N=1.5244
1(波長:780nm) 光軸上の面間隔:D=22.0mm 第1面(偏向器側のレンズ面)の共軸非球面形状 R=-179.1,K=-1.267,A4= 1.702E-7,A6=-3.926E-1
2,A8=-2.564E-13,A10= 4.493E-17,A12= 1.6923E-21 第2面(被走査面側のレンズ面)の共軸非球面形状 R=-62.7,K=-0.041,A4= 5.540E-7,A6=-4.239E-11,
A8= 1.994E-14,A10=-3.779E-17
。Data of the first lens Refractive index of material (plastic material for optics): N = 1.5244
1 (Wavelength: 780 nm) surface interval on the optical axis: D = 22.0 mm first surface coaxial aspherical shape (deflector-side lens surface of) R = -179.1, K = -1.267 , A 4 = 1.702E- 7, A 6 = -3.926E-1
2, A 8 = -2.564E-13, A 10 = 4.493E-17, A 12 = 1.6923E-21 Coaxial aspherical shape of the second surface (lens surface on the scanned surface side) R = -62.7, K = -0.041, A 4 = 5.540E-7, A 6 = -4.239E-11,
A 8 = 1.994E-14, A 10 = -3.779E-17
.
【0026】第2レンズは、両面とも主走査断面(光軸
を含み、副走査方向に直交する仮想的な平断面)内の形
状が「非円弧形状」である。非円弧形状は、光軸方向の
座標をX、主走査方向の座標をY、主走査断面内の近軸
曲率半径をRm、円錐定数をKm、高次の非球面係数を
a4,a6,a8,a10,..として、周知の式:X=Y2/
[Rm+Rm√{1-(1+Km)r2/Rm2}]+a4・r4+a6・r6+a8・r
8+a10・r10+..において、Rm,Km,a4,a6,a8,
a10,..を与えて特定される。また、副走査断面(主
走査方向に直交する仮想的な平断面)内の曲率半径:rs
は、副走査断面の座標をY、光軸上(Y=0)における
上記曲率半径をRs、係数をb2,b4,b6,b8,b10,
b12,...として、多項式: rs=Rs+b2・Y2+b4・Y4+b6・Y6+b8・Y8+b10・Y10+b
12・Y12+... において、Rs、係数をb2,b4,b6,b8,b10,...を
与えて特定される。The shape of the second lens on both surfaces in the main scanning section (virtual plane section including the optical axis and orthogonal to the sub-scanning direction) is a "non-arc shape". For the non-circular shape, the coordinate in the optical axis direction is X, the coordinate in the main scanning direction is Y, the paraxial radius of curvature in the main scanning section is Rm, the conic constant is Km, and the higher order aspherical coefficients are a 4 and a 6. , A 8 , a 10 ,. . As a well-known formula: X = Y 2 /
[Rm + Rm√ {1- (1 + Km) r 2 / Rm 2}] + a 4 · r 4 + a 6 · r 6 + a 8 · r
8 + a 10 · r 10 + . . In, Rm, Km, a 4, a 6, a 8,
a 10 ,. . Given. Also, the radius of curvature in the sub-scanning section (imaginary plane section orthogonal to the main scanning direction): rs
Is the coordinate of the sub-scan section, Y is the radius of curvature on the optical axis (Y = 0), and the coefficients are b 2 , b 4 , b 6 , b 8 , b 10 ,
b 12 ,. . . As a polynomial: rs = Rs + b 2 · Y 2 + b 4 · Y 4 + b 6 · Y 6 + b 8 · Y 8 + b 10 · Y 10 + b
12・ Y 12 +. . . , Rs and coefficients are b 2 , b 4 , b 6 , b 8 , b 10 ,. . . Given.
【0027】第2レンズのデータ 材料(光学用プラスチック材料)の屈折率:N=1.5244
1(波長:780nm) 光軸上の面間隔:D=3.5mm 第3面(偏向器側のレンズ面)の非円弧形状 Rm=-340.0,Km=-85.0,a4=-6.765E-8,a6=-7.694E-12,
a8=-1.163E-15,a10= 1.593E-19 第3面の副走査断面内の曲率半径 Rs=-31.6,b2=1.506E-3,b4=-5.750E-7,b6= 5.131E-1
1,b8=1.043E-14,b10=-6.061E-18,b12= 6.959E-22 第4面(被走査面側のレンズ面)の非円弧形状 Rm=-680.0,Km= 4.805,a4=-1.633E-7,a6=-7.019E-1
2,a8=-2.358E-16,a10= 1.879E-20 第4面の副走査断面内の曲率半径 Rs=-16.68,b2=b4=b6=b8=b10=b12=0
。Data of second lens Refractive index of material (plastic material for optical use): N = 1.5244
1 (wavelength: 780 nm) Surface spacing on the optical axis: D = 3.5 mm Non-arc shape of the third surface (lens surface on the deflector side) Rm = -340.0, Km = -85.0, a 4 = -6.765E-8 , A 6 = -7.694E-12,
a 8 = -1.163E-15, a 10 = 1.593E-19 Curvature radius in the sub-scanning section of the third surface Rs = -31.6, b 2 = 1.506E-3, b 4 = -5.750E-7, b 6 = 5.131E-1
1, b 8 = 1.043E-14, b 10 = -6.061E-18, b 12 = 6.959E-22 Non-circular shape of the fourth surface (lens surface on the side to be scanned) Rm = -680.0, Km = 4.805 , A 4 = -1.633E-7, a 6 = -7.019E-1
2, a 8 = -2.358E-16, a 10 = 1.879E-20 Radius of curvature Rs = -16.68, b 2 = b 4 = b 6 = b 8 = b 10 = b in the sub-scanning section of the fourth surface 12 = 0
.
【0028】光源11からの偏向光束の主光線が、副走
査方向から見て、走査結像レンズ17の光軸に合致する
状態において、偏向器16による偏向の起点と第1面と
の距離:45.8、第2面と第3面との光軸上の面間隔:5
2.1、第4面と被走査面との光軸上の間隔:105.5であ
る。なお、上のデータ表示において例えば「E−8」
は、「10−8」を意味し、この数値が直前の数値にか
かる。また、上のデータにおいて、長さの次元を持つも
のの単位は「mm」である。When the principal ray of the deflected light beam from the light source 11 matches the optical axis of the scanning imaging lens 17 when viewed from the sub-scanning direction, the distance between the starting point of deflection by the deflector 16 and the first surface: 45.8, distance between the second and third surfaces on the optical axis: 5
2.1, the distance between the fourth surface and the surface to be scanned on the optical axis: 105.5. In the above data display, for example, "E-8"
Means "10-8", and this numerical value depends on the immediately preceding numerical value. In the above data, the unit having the dimension of length is “mm”.
【0029】[0029]
【実施例】実施例1 図1の走査結像レンズ17が上記データを有する場合、
光学用プラスチック材料による走査結像レンズは、波長
が使用基準波長:780nmから1nmずれると、屈折
率が0.00002変化する。画角:θ=1.285r
ad、設計上の基準書込み幅:L(λ=780nm)=21
6mmとする。このとき、(dL/dλ)=0.003
3981で、ΔK=0.0026445となる。書込密
度:δ=1200dpiとすると、条件(1)を満足す
る波長差:Δλ≦12.4nmである。従って、Δλ=
10nmとすると、(1)式の左辺は0.8となり、条
件式(1)を満たすのに十分である。従って、例えば、
光源11,12として、使用基準波長が780nmで、
相互の発光波長差が最大10nmのものを用いれば、色
収差に起因する倍率誤差の存在に拘らず、縦線揺らぎを
目視で殆ど目立たないようにすることができる。また、
書込密度:δ=600dpiであれば、光源11,12
間に許容される波長差:Δλ≦24.8nmとなり、δ
=2400dpiの場合でも、光源11,12として波
長差:Δλが5nm以下のものを組み合わせれば、倍率
色収差に起因する縦線揺らぎの問題を実質的に解消でき
る。Embodiment 1 In the case where the scanning imaging lens 17 of FIG. 1 has the above data,
The refractive index of the scanning imaging lens made of an optical plastic material changes by 0.00002 when the wavelength deviates from the reference wavelength of use: 780 nm by 1 nm. Angle of view: θ = 1.285r
ad, design reference write width: L (λ = 780 nm) = 21
6 mm. At this time, (dL / dλ) = 0.003
At 3981, ΔK = 0.0026445. Assuming that the writing density is δ = 1200 dpi, the wavelength difference satisfying the condition (1) is Δλ ≦ 12.4 nm. Therefore, Δλ =
Assuming 10 nm, the left side of the expression (1) is 0.8, which is sufficient to satisfy the conditional expression (1). So, for example,
As the light sources 11 and 12, the reference wavelength used is 780 nm,
If the wavelength difference between the light emission wavelengths is at most 10 nm, the vertical line fluctuation can be made almost invisible regardless of the presence of a magnification error caused by chromatic aberration. Also,
Writing density: If δ = 600 dpi, light sources 11 and 12
Wavelength difference allowed between: Δλ ≦ 24.8 nm, δ
Even in the case of = 2400 dpi, the problem of the vertical line fluctuation caused by the chromatic aberration of magnification can be substantially solved by combining the light sources 11 and 12 having the wavelength difference: Δλ of 5 nm or less.
【0030】即ち、上に説明した実施例1は、画像信号
に応じて独立に変調駆動可能な複数の光源11,12か
らの複数のビームを、これらビームに共通の偏向器16
により各々等角速度的に偏向し、各偏向ビームを走査結
像レンズ17により被走査面18上に、副走査方向に互
いに分離した光スポットとして集光させ、被走査面上の
複数ラインを同時的に略等速的に走査するマルチビーム
走査装置において、有効書込み幅に相当する画角をθ
(=1.285rad)、書込密度をδ(=1200d
pi)、複数の光源間の最大波長差をΔλ=10nmと
し、使用基準波長:λ=780nmのビームで上記画
角:θに対応する書込み幅をL(λ)=216mmとする
とき、δ≧600dpiであり、ΔK=(1/θ)(d
L/dλ)で定義される量:ΔKと上記Δλとが、条件
(1)を満足するように、上記複数の光源11,12を
選択したものである(請求項1)。また、走査結像レン
ズ17は2枚のプラスチックレンズで構成され(請求項
7)、光源の数が2であり(請求項8)、光源11,1
2は半導体レーザである(請求項9)。なお、通常、使
用基準波長:780nmの半導体レーザの波長バラツキ
の仕様は±20nmであるが、同一ウエハから作製され
た半導体レーザ群における波長バラツキは±4σ(σ:
標準偏差)で±1.1nmとなり、±4σの範囲で波長
差:2.2nmしか生じず、工程能力的に十分、条件
(1)を満足できる(請求項2)。That is, in the first embodiment described above, a plurality of beams from a plurality of light sources 11 and 12 which can be modulated and driven independently in accordance with an image signal are converted into a deflector 16 common to these beams.
Are deflected at the same angular velocity, and the respective deflected beams are condensed on the surface to be scanned 18 by the scanning image forming lens 17 as light spots separated from each other in the sub-scanning direction. In a multi-beam scanning device that scans at substantially constant speed, the angle of view corresponding to the effective writing width is θ
(= 1.285 rad), and the writing density is δ (= 1,200 d).
pi), when the maximum wavelength difference between a plurality of light sources is Δλ = 10 nm, and the writing width corresponding to the above-mentioned angle of view: θ is L (λ) = 216 mm with a beam having a reference wavelength of use: λ = 780 nm, δ ≧ 600 dpi and ΔK = (1 / θ) (d
L / dλ): The plurality of light sources 11 and 12 are selected so that the amount ΔK and the above Δλ satisfy the condition (1) (claim 1). The scanning imaging lens 17 is composed of two plastic lenses (claim 7), the number of light sources is two (claim 8), and the light sources 11, 1
Reference numeral 2 denotes a semiconductor laser. Normally, the specification of the wavelength variation of a semiconductor laser having a reference wavelength of 780 nm is ± 20 nm, but the wavelength variation in a semiconductor laser group manufactured from the same wafer is ± 4σ (σ:
(Standard deviation) is ± 1.1 nm, and the wavelength difference is only 2.2 nm in the range of ± 4σ, which satisfies the condition (1) sufficiently in terms of process capability (claim 2).
【0031】上記実施例1のマルチビーム走査装置はま
た、画像信号に応じて独立に変調駆動可能な複数の光源
11,12と、これら複数の光源からの複数ビームを偏
向反射面により反射し、偏向反射面の回転により、各ビ
ームを等角速度的に偏向させる、複数ビームに共通の偏
向器16と、この偏向器により偏向された複数ビーム
を、副走査方向に互いに分離した光スポットとして被走
査面上に集光させ、被走査面上の複数ラインを同時的に
略等速に走査させる走査結像レンズ17とを有し、書込
み幅に相当する画角をθ(rad)、書込密度をδ(d
pi)、複数の光源間の最大波長差をΔλとし、使用基
準波長:λのビームで上記画角:θに対応する書込み幅
をL(λ)とするとき、 ΔK=(1/θ)(dL/dλ) で定義される量:ΔKと上記Δλとが、条件: (1) 0<Δλ/[25.4×2/{δ×ΔK×
θ}]≦1 を満足するように、複数の光源11,12を選択したも
のであり(請求項10)、書込密度:δが、δ=600
もしくはδ=1200または2400dpiであり(請
求項11〜13)、複数の光源11,12は半導体レー
ザであり(請求項14)、偏向器16は回転多面鏡であ
る(請求項16)。また、複数の光源11,12の個々
は、使用基準波長:780nmのものであり(請求項1
9)、600dpi以上の書込密度:δでの書込みにお
いて、縦線揺らぎを除去するように調製されている(請
求項20)。The multi-beam scanning device according to the first embodiment also includes a plurality of light sources 11 and 12 that can be independently modulated and driven in accordance with an image signal, and reflects a plurality of beams from the plurality of light sources by a deflecting reflecting surface. A deflector 16 common to a plurality of beams for deflecting each beam at a uniform angular velocity by rotation of the deflecting reflection surface, and the plurality of beams deflected by the deflector are scanned as light spots separated from each other in the sub-scanning direction. A scanning imaging lens 17 for converging light on the surface and simultaneously scanning a plurality of lines on the surface to be scanned at substantially the same speed, wherein an angle of view corresponding to the writing width is θ (rad), the writing density is To δ (d
pi), when the maximum wavelength difference between a plurality of light sources is Δλ, and the writing width corresponding to the angle of view: θ is L (λ) with a beam having a reference wavelength of use: λ, ΔK = (1 / θ) ( dL / dλ): ΔK and Δλ satisfy the following conditions: (1) 0 <Δλ / [25.4 × 2 / {δ × ΔK ×
A plurality of light sources 11 and 12 are selected so as to satisfy θ}] ≦ 1 (claim 10), and the writing density: δ is δ = 600.
Alternatively, δ = 1200 or 2400 dpi (claims 11 to 13), the plurality of light sources 11 and 12 are semiconductor lasers (claim 14), and the deflector 16 is a rotating polygon mirror (claim 16). Each of the plurality of light sources 11 and 12 has a reference wavelength of 780 nm.
9) In writing at a writing density: δ of 600 dpi or more, the vertical line fluctuation is adjusted (claim 20).
【0032】また、走査結像レンズ17を構成する第
1、第2レンズ(共にプラスチックレンズ)において、
第1レンズのアッベ数は55.5、第2レンズのアッベ
数は55.5であって、共に「40〜80の範囲」内に
あり(請求項21)、第1レンズの中心肉厚:t1=2
2.0mm、主走査方向周辺部の肉厚:t2=14mm
で、t2/t1=0.64、第2レンズの中心肉厚:t
1=3.5mm、主走査方向周辺部の肉厚:t2=2.
8mmで、t2/t1=0.8であって、共に条件
(2)を満足する。 、また、これら第1、第2レンズ
の一方(第1レンズ)は正のパワーを持ち、他方(第2
レンズ)は負のパワーを持ち(請求項23)、偏向器1
6の偏向の起点から、もっとも偏向器に近いレンズ(第
1レンズ)の射出側面までの距離:l1=67.8mm
と、偏向の起点から被走査面に至る距離:l2=22
8.9であるから、これらの比:l1/l2=0.30で
あって、条件(3)を満足する(請求項)24。さら
に、図7に即して説明した角:θ1,θ2は、それぞれ、
θ1=36.8度,θ2=21度であって、これらの比:
θ2/θ1=0.57となって、条件(4)を満足する
(請求項25)。In the first and second lenses (both plastic lenses) constituting the scanning image forming lens 17,
The Abbe number of the first lens is 55.5, and the Abbe number of the second lens is 55.5, both of which fall within the range of 40 to 80 (Claim 21). t1 = 2
2.0 mm, thickness in the peripheral portion in the main scanning direction: t2 = 14 mm
Where t2 / t1 = 0.64 and the center thickness of the second lens: t
1 = 3.5 mm, thickness at the peripheral portion in the main scanning direction: t2 = 2.
At 8 mm, t2 / t1 = 0.8, and both satisfy the condition (2). One of the first and second lenses (first lens) has a positive power, and the other (second lens)
Lens) has a negative power (claim 23), and the deflector 1
Distance from the starting point of deflection 6 to the exit side of the lens (first lens) closest to the deflector: l 1 = 67.8 mm
And the distance from the starting point of deflection to the surface to be scanned: l 2 = 22
Since it is 8.9, these ratios: l 1 / l 2 = 0.30, which satisfies the condition (3) (claim) 24. Further, the angles: θ 1 and θ 2 described with reference to FIG.
θ 1 = 36.8 degrees, θ 2 = 21 degrees, and their ratios are:
θ 2 / θ 1 = 0.57, thereby satisfying the condition (4) (claim 25).
【0033】実施例2 上に説明した実施例1では、書込密度:δ≧1200の
場合には、光源11,12として、その使用基準波長が
780nmのもので、発光波長の差:Δλが「12.4
μmより小となる」ものを用いねばならない。使用基準
波長が780nmの半導体レーザの場合、波長のバラツ
キは±20nm程度であるから、実施例1を実施するた
めには、使用基準波長が780nmのもので、発光波長
の差:Δλが12.4μmより小となるものを選別して
用いる必要がある。請求項3記載の発明では、このよう
な半導体レーザの選別は不要である。Second Embodiment In the first embodiment described above, when the writing density: δ ≧ 1200, the light sources 11 and 12 use the reference wavelengths of 780 nm, and the difference between the emission wavelengths is Δλ. "12.4
smaller than μm ”must be used. In the case of a semiconductor laser having a reference wavelength of 780 nm, the variation in wavelength is about ± 20 nm. Therefore, in order to carry out Example 1, the reference wavelength used is 780 nm, and the difference in emission wavelength: Δλ is 12. It is necessary to select and use those smaller than 4 μm. According to the third aspect of the present invention, such sorting of the semiconductor laser is unnecessary.
【0034】上にデータを挙げた走査結像レンズの場
合、使用基準波長:780nmに対して、Δλ=20n
mとし、発光波長:760nmの半導体レーザ(光源1
1)と発光波長:800nmの半導体レーザ(光源1
2)とを光源とする場合を考えてみる。上記データで特
定される走査結像レンズでは、使用基準波長:780n
m対して216mmに設計された書込み幅は、発光波長
が760nmの半導体レーザに対しては215.944
mmとなって、−0.026%の倍率誤差を生じ、80
0nmの発光波長を持つ半導体レーザに対しては21
6.012mmとなって、0.006%の倍率誤差を生
じる。この場合、各光スポットの書込み終了位置は主走
査方向に互いに「68μmのずれ」となり、書込密度:
1200dpi(1ドットの大きさ:21.2μm)のと
き、上記ずれは2ドット以上となり、縦線揺らぎが目立
ってしまう。このとき、216.012/215.94
4=1.00031であるので、光源12(発光波長:
800nm)に対する変調周波数を、光源11に対する
変調周波数の1.00031倍に設定すると、光源12
による書込み幅は、光源11による書込み幅:215.
944mmと同じになる。即ち、各光スポットに対する
倍率誤差が同じになり、縦線揺らぎを有効に解消でき
る。なお、この場合の書込み幅:215.944mmと
設計上の値:216mmとの差は、実用上何ら問題とな
るものではない。In the case of the scanning imaging lens described above, Δλ = 20 n with respect to the reference wavelength used: 780 nm.
m, and a semiconductor laser having an emission wavelength of 760 nm (light source 1
1) and a semiconductor laser having an emission wavelength of 800 nm (light source 1).
Consider the case where 2) is used as a light source. In the scanning imaging lens specified by the above data, the reference wavelength used is 780 n
The writing width designed to be 216 mm for m is 215.944 for a semiconductor laser having an emission wavelength of 760 nm.
mm, a magnification error of -0.026% occurs, and
21 for a semiconductor laser with an emission wavelength of 0 nm.
6.012 mm, giving a magnification error of 0.006%. In this case, the writing end positions of the respective light spots are “a deviation of 68 μm” from each other in the main scanning direction.
When the resolution is 1200 dpi (the size of one dot: 21.2 μm), the above-mentioned shift is two dots or more, and vertical line fluctuation becomes conspicuous. At this time, 216.012 / 215.94
4 = 1.00031, the light source 12 (emission wavelength:
If the modulation frequency for the light source 12 is set to 1.00031 times the modulation frequency for the light source 11, the light source 12
Is the writing width by the light source 11: 215.
It is the same as 944 mm. That is, the magnification error for each light spot becomes the same, and vertical line fluctuation can be effectively eliminated. In this case, the difference between the writing width: 215.944 mm and the designed value: 216 mm does not pose any problem in practical use.
【0035】即ち、上に説明した実施例2は、画像信号
に応じて独立に変調駆動可能な複数の光源11,12か
らの複数のビームを、これらビームに共通の偏向器16
により各々等角速度的に偏向し、各偏向ビームを共通の
走査結像レンズ17により被走査面18上に、副走査方
向に互いに分離した光スポットとして集光させ、被走査
面18上の複数ラインを同時的に略等速に走査するマル
チビーム走査装置において、複数の光源の光源11,1
2について、これら光源からのビームによる書込み幅が
実質的に等しくなるように、2つの光源11,12の変
調周波数を互いに異ならせたものである(請求項3)。
この実施例2の場合、倍率誤差の主因が色収差に基づく
もので、光源として用いられる半導体レーザ11,12
の発光周波数が予め分かるのであれば、色収差に基づく
倍率誤差は予め算出できるから、光源11,12の発光
波長に応じて変調周波数を互いに異ならせることによ
り、各光源からのビームによる書込み幅が実質的に等し
くなるようにできる(請求項5)。倍率誤差の原因が色
収差によるものと限らない場合には、請求項6に記載の
発明のように、偏向ビームによる書込み開始側と書込み
終了側とに配備された1対の光センサの間を、各ビーム
が「偏向により通過する時間」に応じて、各ビームの光
源における変調周波数を決定することができる。That is, in the second embodiment described above, a plurality of beams from a plurality of light sources 11 and 12 which can be modulated and driven independently in accordance with an image signal are converted into a deflector 16 common to these beams.
, Each beam is deflected at a constant angular velocity, and each deflected beam is condensed on a surface to be scanned 18 by a common scanning and imaging lens 17 as light spots separated from each other in the sub-scanning direction. In a multi-beam scanning apparatus that scans light sources at substantially the same speed simultaneously, a plurality of light sources 11, 1
In No. 2, the modulation frequencies of the two light sources 11 and 12 are different from each other so that the writing widths by the beams from these light sources are substantially equal (claim 3).
In the case of the second embodiment, the main cause of the magnification error is based on chromatic aberration, and the semiconductor lasers 11 and 12 used as light sources are used.
If the emission frequency of the light source is known in advance, the magnification error based on the chromatic aberration can be calculated in advance. Therefore, by making the modulation frequencies different from each other according to the emission wavelengths of the light sources 11 and 12, the writing width by the beam from each light source can be substantially reduced. (Claim 5). In the case where the cause of the magnification error is not necessarily caused by chromatic aberration, as in the invention according to claim 6, between a pair of optical sensors provided on the writing start side and the writing end side by the deflection beam, The modulation frequency of each beam at the light source can be determined according to the “time that each beam passes by deflection”.
【0036】この発明の実施の形態を、図3を参照して
説明する。図3(a)に示すように、被走査面18の延
長となる部分の、書込み開始側と書込み終了側に1対の
光センサ25,26を配備し、各光源からの偏向ビーム
を、これら光センサ25,26により検出すると、光セ
ンサ25,26の出力は、図3(b)に示す如きものと
なる。時間:t1 は、光源11からのビームが光センサ
25,26間を通過する時間で、時間:t2 は、光源1
2からのビームが光センサ25,26間を通過する時間
である。従って、光源12の変調周波数を光源11の変
調周波数の(t1/t2)倍にするか、または逆に、光源1
1の変調周波数を光源12の変調周波数の(t2/t1)倍
にすれば、各ビームによる書込み幅は互いに等しくなっ
て、縦線揺らぎは有効に防止される。図3の実施の形態
では、各光センサ25,26の出力はカウンタ27に入
力され、A/D変換されて時間:t1,t2がカウントさ
れる。このカウント結果は演算器28に入力される。演
算器28は、(t1/t2)を演算し、この結果に基づきク
ロック発生器29におけるクロック周波数を変更し、光
源11を駆動するクロック周波数(クロック発生器31
で決定され、LD駆動回路32に印加される)の(t1/
t2)倍のクロック周波数を設定する。そして、このクロ
ック発生器29からのクロック周波数を変調周波数とし
て、光源12のLD駆動回路30を駆動すれば、各光源
11,12を所望の変調周波数で変調して、各ビームの
書込み幅を等しくすることができる。An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 3A, a pair of optical sensors 25 and 26 are provided on a writing start side and a writing end side of a portion which is an extension of the surface to be scanned 18, and a deflected beam from each light source is provided. When detected by the optical sensors 25 and 26, the outputs of the optical sensors 25 and 26 are as shown in FIG. Time: t 1 is the time when the beam from the light source 11 passes between the optical sensors 25 and 26, and time: t 2 is the time
This is the time when the beam from 2 passes between the optical sensors 25 and 26. Therefore, the modulation frequency of the light source 12 is set to (t 1 / t 2 ) times the modulation frequency of the light source 11, or conversely, the light source 1
If the modulation frequency of 1 is set to (t 2 / t 1 ) times the modulation frequency of the light source 12, the writing width of each beam becomes equal to each other, and vertical line fluctuation is effectively prevented. In the embodiment shown in FIG. 3, the outputs of the optical sensors 25 and 26 are input to the counter 27, A / D converted, and the times: t 1 and t 2 are counted. This count result is input to the calculator 28. The calculator 28 calculates (t 1 / t 2 ), changes the clock frequency in the clock generator 29 based on the result, and changes the clock frequency for driving the light source 11 (clock generator 31).
And applied to the LD drive circuit 32) (t 1 /
Set the clock frequency t 2 ) times. When the LD driving circuit 30 of the light source 12 is driven by using the clock frequency from the clock generator 29 as a modulation frequency, the light sources 11 and 12 are modulated at a desired modulation frequency, and the writing width of each beam is made equal. can do.
【0037】上に説明した実施例2はまた、画像信号に
応じて独立に変調駆動可能な複数の光源11,12と、
これら複数の光源からの複数ビームを偏向反射面により
反射し、偏向反射面の回転により、各ビームを等角速度
的に偏向させる、複数ビームに共通の偏向器16と、こ
の偏向器により偏向された複数ビームを、副走査方向に
互いに分離した光スポットとして被走査面18上に集光
させ、被走査面上の複数ラインを同時的に略等速に走査
させる走査結像レンズ17とを有し、複数の光源の内の
少なくとも2つの光源について、これら光源からのビー
ムによる書込み幅が実質的に等しくなるように、上記少
なくとも2つの光源11,12の変調周波数を互いに異
ならせたマルチビーム走査装置であり(請求項26)、
少なくとも2つの光源11,12の変調周波数は、これ
ら光源の波長差による書込み幅の倍率誤差を解消するよ
うに互いに異ならされており(請求項27)、偏向ビー
ムによる書込み開始側と書込み終了側とに配備された1
対の光センサ25,26を有し、これら光センサ間を偏
向ビームが偏向により通過する時間:t1、t2に応じ
て、少なくとも2つの光源11,12の変調周波数が決
定される(請求項28)。そして、書込密度:δは、δ
=1200dpiであり(請求項30)、複数の光源1
1,12は半導体レーザであり(請求項32)、偏向器
16は回転多面鏡である(請求項34)、複数の光源1
1,12の個々は、使用基準波長:780nmのもので
ある(請求項37)。即ち、実施例2のマルチビーム走
査装置は、600dpi以上の書込密度:δでの書込み
において、縦線揺らぎを除去するように、複数の光源が
調製されている(請求項38)。The second embodiment described above also includes a plurality of light sources 11 and 12 that can be independently driven for modulation in accordance with an image signal.
A plurality of beams from the plurality of light sources are reflected by a deflecting reflection surface, and the rotation of the deflecting reflection surface deflects each beam at an equal angular velocity. A scanning imaging lens 17 for converging the plurality of beams on the surface 18 to be scanned as light spots separated from each other in the sub-scanning direction and simultaneously scanning a plurality of lines on the surface to be scanned at substantially the same speed; A multi-beam scanning apparatus in which the modulation frequencies of the at least two light sources 11 and 12 are different from each other so that at least two of the plurality of light sources have substantially the same writing width by the beams from these light sources. (Claim 26),
The modulation frequencies of the at least two light sources 11 and 12 are different from each other so as to eliminate a magnification error of a writing width due to a wavelength difference between the light sources (claim 27). 1 deployed to
It has a pair of optical sensors 25 and 26, and the modulation frequency of at least two light sources 11 and 12 is determined according to the times t 1 and t 2 at which the deflected beam passes between these optical sensors by deflection (claim). Item 28). And the writing density: δ is δ
= 1200 dpi (claim 30), and the plurality of light sources 1
Reference numerals 1 and 12 denote semiconductor lasers (claim 32), and the deflector 16 is a rotary polygon mirror (claim 34).
Each of 1 and 12 has a reference wavelength of 780 nm (claim 37). That is, in the multi-beam scanning apparatus according to the second embodiment, a plurality of light sources are prepared so as to remove vertical line fluctuation in writing at a writing density: δ of 600 dpi or more (claim 38).
【0038】上に説明した実施例1では、画像信号に応
じて独立に変調駆動可能な複数の光源11,12からの
複数のビームを、これらビームに共通の偏向器16によ
り各々等角速度的に偏向し、各偏向ビームを共通の走査
結像レンズ17により、被走査面18上に、副走査方向
に互いに分離した光スポットとして集光させ、被走査面
上の複数ラインを同時的に略等速に走査するマルチビー
ム走査方法において、複数光源のうちの少なくとも2つ
11,12について、その発光波長の差を制限すること
により、実質的に等しい書込み幅で、マルチビーム走査
を行うマルチビーム走査方法が実施される(請求項3
9)。また、上に説明した実施例2では、画像信号に応
じて独立に変調駆動可能な複数の光源11,12からの
複数のビームを、これらビームに共通の偏向器16によ
り各々等角速度的に偏向し、各偏向ビームを共通の走査
結像レンズ17により、被走査面18上に、副走査方向
に互いに分離した光スポットとして集光させ、被走査面
上の複数ラインを同時的に略等速に走査するマルチビー
ム走査方法において、複数光源からのビームのうちの少
なくとも2つ11,12について、その書込み幅が実質
的に等しくなるように、上記2つのビームを放射する光
源11,12の変調周波数を互いに異ならせて、マルチ
ビーム走査を行うマルチビーム走査方法が実施される
(請求項40)。In the first embodiment described above, a plurality of beams from a plurality of light sources 11 and 12 which can be modulated and driven independently in accordance with an image signal are respectively separated at a uniform angular velocity by a deflector 16 common to these beams. Each scanning beam is deflected and condensed by a common scanning imaging lens 17 onto a surface to be scanned 18 as light spots separated from each other in the sub-scanning direction. In the multi-beam scanning method of scanning at a high speed, at least two of the plurality of light sources 11 and 12 are limited in the difference in the emission wavelength to perform the multi-beam scanning with substantially the same writing width. The method is performed (claim 3
9). In the second embodiment described above, a plurality of beams from a plurality of light sources 11 and 12 which can be modulated and driven independently in accordance with an image signal are deflected at a uniform angular velocity by a deflector 16 common to these beams. Then, the respective deflected beams are condensed on the surface to be scanned 18 as light spots separated from each other in the sub-scanning direction by the common scanning and imaging lens 17, and a plurality of lines on the surface to be scanned are simultaneously scanned at substantially the same speed. In the multi-beam scanning method, at least two of the beams from the plurality of light sources are modulated so that the writing widths thereof are substantially equal. A multi-beam scanning method for performing multi-beam scanning with different frequencies is performed (claim 40).
【0039】図1に示した如きマルチビーム走査装置
は、画像信号に応じて独立に変調駆動可能な複数の光源
11,12と、これら複数の光源からの複数のビームに
共通で、各ビームを等角速度的に偏向させる偏向器16
と、この偏向器に偏向された各偏向ビームに共通で、各
偏向ビームを、被走査面上に、副走査方向に互いに分離
した光スポットとして集光させ、被走査面上の複数ライ
ンを同時的に略等速に走査させる走査結像レンズ17と
を各々用意する工程と、上記複数の光源、偏向器、走査
結像レンズを所定の光学配置に組み付ける工程とを含
み、組み付けるべき複数の光源11,12として、書込
み幅に相当する画角:θ(rad)、書込密度:δ(d
pi)、複数の光源間の最大波長差:Δλ、使用基準波
長:λのビームで上記画角:θに対応する書込み幅:L
(λ)として、 ΔK=(1/θ)(dL/dλ) で定義される量:ΔKと上記Δλとが、条件: (1) 0<Δλ/[25.4×2/{δ×ΔK×
θ}]≦1 を満足するように、複数の光源を選択する製造方法で製
造することができる。The multi-beam scanning apparatus as shown in FIG. 1 has a plurality of light sources 11 and 12 which can be modulated and driven independently in accordance with an image signal, and a plurality of beams from the plurality of light sources. Deflector 16 for deflecting at uniform angular velocity
Each of the deflected beams is condensed on the surface to be scanned as light spots separated from each other in the sub-scanning direction. A plurality of light sources to be assembled, including a step of preparing a scanning imaging lens 17 for scanning at substantially constant speed and a step of assembling the plurality of light sources, the deflectors, and the scanning imaging lens in a predetermined optical arrangement. Angles of view corresponding to the writing width: θ (rad) and writing density: δ (d
pi), a writing width corresponding to the above-mentioned angle of view: θ with a beam having a maximum wavelength difference between a plurality of light sources: Δλ, and a reference wavelength used: λ
As (λ), the quantity defined by ΔK = (1 / θ) (dL / dλ): ΔK and the above Δλ satisfy the following conditions: (1) 0 <Δλ / [25.4 × 2 / {δ × ΔK ×
θ}] ≦ 1 can be achieved by a manufacturing method of selecting a plurality of light sources.
【0040】図8は、この発明の画像形成装置の実施の
1形態を示している。この画像形成装置はレーザプリン
タである。レーザプリンタ100は潜像担持体111と
して「円筒状に形成された光導電性の感光体」を有して
いる。潜像担持体111の周囲には、帯電手段としての
帯電ローラ112、現像装置113、転写ローラ11
4、クリーニング装置115が配備されている。帯電手
段としては「コロナチャージャ」を用いることもでき
る。また、レーザビームLB1,LB2による2ビーム
のマルチビーム走査装置117が設けられ、帯電ローラ
112と現像装置113との間で「光書込による露光」
を行うようになっている。図8において、符号116は
定着装置、符号118はカセット、符号119はレジス
トローラ対、符号120は給紙コロ、符号121は搬送
路、符号122は排紙ローラ対、符号123はトレイ、
符号Pは記録媒体としての転写紙を示している。マルチ
ビーム走査装置117は、上に実施例1もしくは実施例
2により説明したものである。画像形成を行うときは、
光導電性の感光体である潜像担持体111が時計回りに
等速回転され、その表面が帯電ローラ112により均一
帯電され、光走査装置117のレーザビームLB1,L
B2による光書込による露光を受けて静電潜像が形成さ
れる。形成された静電潜像は所謂「ネガ潜像」であっ
て、画像部が露光されている。この静電潜像は、現像装
置113により反転現像され、潜像担持体111上にト
ナー画像が形成される。転写紙Pを収納したカセット1
18は、画像形成装置100本体に着脱可能であり、図
の如く装着された状態において、収納された転写紙Pの
最上位の1枚が給紙コロ120により給紙され、給紙さ
れた転写紙Pは、その先端部をレジストローラ対119
に銜えられる。レジストローラ対119は、潜像担持体
111上のトナー画像が転写位置へ移動するのにタイミ
ングをあわせて、転写紙Pを転写部へ送りこむ。送りこ
まれた転写紙Pは、転写部においてトナー画像と重ね合
わせられ、転写ローラ114の作用によりトナー画像を
静電転写される。トナー画像を転写された転写紙Pは定
着装置116へ送られ、定着装置116においてトナー
画像を定着され、搬送路121を通り、排紙ローラ対1
22によりトレイ123上に排出される。トナー画像が
転写されたのちの潜像担持体111の表面は、クリーニ
ング装置115によりクリーニングされ、残留トナーや
紙粉等が除去される。FIG. 8 shows an embodiment of the image forming apparatus of the present invention. This image forming apparatus is a laser printer. The laser printer 100 has a “photoconductive photoconductor formed in a cylindrical shape” as the latent image carrier 111. Around the latent image carrier 111, a charging roller 112 as a charging unit, a developing device 113, a transfer roller 11
4. A cleaning device 115 is provided. "Corona charger" can be used as the charging means. Further, a two-beam multi-beam scanning device 117 using the laser beams LB1 and LB2 is provided, and “exposure by optical writing” is performed between the charging roller 112 and the developing device 113.
It is supposed to do. 8, reference numeral 116 denotes a fixing device, reference numeral 118 denotes a cassette, reference numeral 119 denotes a pair of registration rollers, reference numeral 120 denotes a paper feed roller, reference numeral 121 denotes a conveyance path, reference numeral 122 denotes a pair of paper discharge rollers, reference numeral 123 denotes a tray,
Reference symbol P indicates a transfer sheet as a recording medium. The multi-beam scanning device 117 has been described in the first embodiment or the second embodiment. When performing image formation,
The latent image carrier 111, which is a photoconductive photoreceptor, is rotated clockwise at a constant speed, the surface thereof is uniformly charged by the charging roller 112, and the laser beams LB1, L
An electrostatic latent image is formed upon exposure by optical writing by B2. The formed electrostatic latent image is a so-called “negative latent image”, and the image portion is exposed. This electrostatic latent image is reversely developed by the developing device 113, and a toner image is formed on the latent image carrier 111. Cassette 1 containing transfer paper P
Numeral 18 is detachable from the main body of the image forming apparatus 100, and in a state where it is mounted as shown in FIG. The leading end of the paper P has a pair of registration rollers 119.
Can be bitten. The registration roller pair 119 sends the transfer paper P to the transfer section in synchronization with the timing at which the toner image on the latent image carrier 111 moves to the transfer position. The transferred transfer paper P is superimposed on the toner image at the transfer section, and the toner image is electrostatically transferred by the operation of the transfer roller 114. The transfer paper P on which the toner image has been transferred is sent to the fixing device 116, where the toner image is fixed by the fixing device 116, passes through the conveyance path 121, and passes through the discharge roller pair 1
The sheet 22 is discharged onto the tray 123. The surface of the latent image carrier 111 after the transfer of the toner image is cleaned by the cleaning device 115 to remove residual toner, paper dust, and the like.
【0041】即ち、図8に示した画像形成装置は、潜像
担持体111の光走査により所望の潜像を形成し、形成
された潜像を現像して可視化する画像形成装置であっ
て、請求項1〜38の任意の1に記載のマルチビーム走
査装置を用いるもの(請求項42)であり、潜像担持体
111が「光導電性の感光体」であって、光走査により
形成される静電潜像が、トナー画像として可視化される
(請求項43)。上に、図1〜図3に即して説明した実
施の形態では、光源11,12を近接させることによ
り、各光源からのビームをビーム合成せずに偏向器に入
射させているが、ビーム合成を行う場合にも、この発明
を適用できる。例えば、図4に示すように、光源である
半導体レーザ11,12からのビームをカップリングレ
ンズ13,14でカップリングし、ビーム合成プリズム
50でビーム合成した各ビームによりマルチビーム走査
を行う場合に、この発明を適用できることは言うまでも
ない。図4において、ビーム合成プリズムは50は、カ
ップリングレンズ14からのビームの入射位置に1/2
波長板51を有し、プリズム内部に偏光分離膜52を有
する。半導体レーザ11からのビームはカップリングレ
ンズ13によりカップリングされてビーム合成プリズム
50に入射し、偏光分離膜52を透過してビーム合成プ
リズム50から射出する。半導体レーザ12からのビー
ムはカップリングレンズ14によりカップリングされた
のち、1/2波長板により偏光面を90度旋回され、ビ
ーム合成プリズム50に入射するとプリズム面で全反射
され、偏光反射面52で反射されることにより、半導体
レーザ11からのビームと合成されてビーム合成プリズ
ム50から射出する。この発明は、走査結像レンズがガ
ラスレンズで構成されている場合にも適用できることは
勿論、光源の数が3以上の場合にも実施できる。That is, the image forming apparatus shown in FIG. 8 is an image forming apparatus that forms a desired latent image by optical scanning of the latent image carrier 111, develops the formed latent image, and visualizes the latent image. A multi-beam scanning device according to any one of claims 1 to 38 (claim 42), wherein the latent image carrier 111 is a "photoconductive photoconductor" and is formed by optical scanning. The electrostatic latent image is visualized as a toner image (claim 43). In the embodiment described above with reference to FIGS. 1 to 3, the light sources 11 and 12 are brought close to each other so that the beams from the respective light sources enter the deflector without combining the beams. The present invention can be applied to the case of performing synthesis. For example, as shown in FIG. 4, when beams from semiconductor lasers 11 and 12 as light sources are coupled by coupling lenses 13 and 14 and multi-beam scanning is performed by each beam synthesized by a beam synthesizing prism 50. Needless to say, the present invention can be applied. In FIG. 4, the beam combining prism 50 is positioned at a position where the beam from the coupling lens 14 is incident by 1 /.
It has a wavelength plate 51 and a polarization separation film 52 inside the prism. The beam from the semiconductor laser 11 is coupled by the coupling lens 13, enters the beam combining prism 50, passes through the polarization splitting film 52, and exits from the beam combining prism 50. After the beam from the semiconductor laser 12 is coupled by the coupling lens 14, the polarization plane is turned by 90 degrees by the half-wave plate, and when the beam enters the beam combining prism 50, it is totally reflected by the prism surface and the polarization reflection surface 52. Are combined with the beam from the semiconductor laser 11 and emitted from the beam combining prism 50. The present invention can be applied not only to the case where the scanning imaging lens is formed of a glass lens, but also to the case where the number of light sources is three or more.
【0042】[0042]
【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば新規なマルチビーム走査装置を実現できる。As described above, according to the present invention, a novel multi-beam scanning device can be realized.
【0043】請求項1,2,10〜25記載のマルチビ
ーム走査装置は、走査結像レンズの色収差に起因する倍
率誤差を軽減することにより、縦線揺らぎを有効に軽減
することができる。請求項3〜6、26〜38の任意の
1に記載の発明のマルチビーム走査装置は、走査結像レ
ンズにおける倍率誤差を有効に解消して、縦線ゆらぎを
有効に防止することができる。また、この発明のマルチ
ビーム走査方法では、縦線揺らぎを有効に軽減したマル
チビーム走査が可能であり、この発明の画像形成装置
は、上記マルチビーム走査装置を用いることにより、縦
線揺らぎのない良好な画像を形成できる。In the multi-beam scanning device according to the first, second, tenth to twenty-fifth aspects, it is possible to effectively reduce the vertical line fluctuation by reducing the magnification error caused by the chromatic aberration of the scanning image forming lens. The multi-beam scanning device according to any one of claims 3 to 6 and 26 to 38 can effectively eliminate a magnification error in the scanning imaging lens and effectively prevent vertical line fluctuation. Further, the multi-beam scanning method of the present invention enables multi-beam scanning in which vertical line fluctuation is effectively reduced. The image forming apparatus of the present invention has no vertical line fluctuation by using the multi-beam scanning device. A good image can be formed.
【図1】この発明を適用可能なマルチビーム走査装置に
関連して、発明の解決すべき課題を説明するための図で
ある。FIG. 1 is a diagram for describing a problem to be solved by the present invention in relation to a multi-beam scanning device to which the present invention can be applied.
【図2】発明が解決すべき課題である縦線揺らぎを説明
するための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining vertical line fluctuation which is a problem to be solved by the invention.
【図3】請求項5記載の発明の実施の1形態の特徴部分
を説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining a characteristic portion of one embodiment of the invention described in claim 5;
【図4】マルチビーム走査装置におけるビーム合成の1
例を説明するための図である。FIG. 4 is a diagram showing beam synthesis in a multi-beam scanning device.
It is a figure for explaining an example.
【図5】請求項22記載の発明を説明するための図であ
る。FIG. 5 is a diagram for explaining the invention according to claim 22;
【図6】請求項24記載の発明を説明するための図であ
る。FIG. 6 is a diagram for explaining the invention described in claim 24;
【図7】請求項25記載の発明を説明するための図であ
る。FIG. 7 is a diagram for explaining the invention according to claim 25;
【図8】この発明の画像形成装置の実施の1形態を説明
するための図である。FIG. 8 is a diagram for explaining an embodiment of the image forming apparatus of the present invention.
11,12 光源としての半導体レーザ 13,14 カップリングレンズ 15 シリンダレンズ 16 偏向器としての回転多面鏡 17 走査結像レンズ 18 被走査面 11, 12 Semiconductor laser as light source 13, 14 Coupling lens 15 Cylinder lens 16 Rotating polygon mirror as deflector 17 Scanning imaging lens 18 Scanned surface
Claims (43)
数の光源からの複数のビームを、これらビームに共通の
偏向器により各々等角速度的に偏向し、各偏向ビームを
共通の走査結像レンズにより、被走査面上に、副走査方
向に互いに分離した光スポットとして集光させ、被走査
面上の複数ラインを同時的に略等速に走査するマルチビ
ーム走査装置において、 書込み幅に相当する画角をθ(rad)、書込密度をδ
(dpi)、複数の光源間の最大波長差をΔλとし、使
用基準波長:λのビームで上記画角:θに対応する書込
み幅をL(λ)とするとき、 δ≧600dpiであり、 ΔK=(1/θ)(dL/dλ) で定義される量:ΔKと上記Δλとが、条件: (1) 0<Δλ/[25.4×2/{δ×ΔK×
θ}]≦1 を満足するように、上記複数の光源を選択したことを特
徴とするマルチビーム走査装置。A plurality of beams from a plurality of light sources which can be modulated and driven independently according to image signals are respectively deflected at a uniform angular velocity by a deflector common to these beams, and each deflected beam is subjected to a common scanning connection. In a multi-beam scanning device that converges on the surface to be scanned as light spots separated from each other in the sub-scanning direction by an image lens and simultaneously scans a plurality of lines on the surface to be scanned at substantially the same speed, The corresponding angle of view is θ (rad) and the writing density is δ
(Dpi), when a maximum wavelength difference between a plurality of light sources is Δλ, and a writing width corresponding to the above-mentioned angle of view: θ is L (λ) with a beam having a used reference wavelength: λ, δ ≧ 600 dpi, ΔK = (1 / θ) (dL / dλ) The quantity: ΔK and the above Δλ satisfy the following conditions: (1) 0 <Δλ / [25.4 × 2 / {δ × ΔK ×
A plurality of light sources are selected so as to satisfy θ}] ≦ 1.
いて、 複数の光源は、同一のウエハから作製された半導体レー
ザであることを特徴とするマルチビーム走査装置。2. The multi-beam scanning device according to claim 1, wherein the plurality of light sources are semiconductor lasers manufactured from the same wafer.
数の光源からの複数のビームを、これらビームに共通の
偏向器により各々等角速度的に偏向し、各偏向ビームを
共通の走査結像レンズにより、被走査面上に、副走査方
向に互いに分離した光スポットとして集光させ、被走査
面上の複数ラインを同時的に略等速に走査するマルチビ
ーム走査装置において、 複数の光源の内の少なくとも2つの光源について、これ
ら光源からのビームによる書込み幅が実質的に等しくな
るように、上記少なくとも2つの光源の変調周波数を互
いに異ならせたことを特徴とするマルチビーム走査装
置。3. A plurality of beams from a plurality of light sources which can be modulated and driven independently in accordance with an image signal are respectively deflected at a uniform angular velocity by a deflector common to these beams, and each deflected beam is subjected to a common scanning connection. In a multi-beam scanning device that converges on a surface to be scanned as light spots separated from each other in a sub-scanning direction by an image lens and simultaneously scans a plurality of lines on the surface to be scanned at substantially the same speed, a plurality of light sources are provided. Wherein at least two of the light sources have modulation frequencies different from each other such that writing widths by beams from the light sources are substantially equal.
装置において、 複数の光源の内の少なくとも2つの光源について、これ
ら光源からのビームによる書込み幅が実質的に等しくな
るように、上記少なくとも2つの光源の変調周波数を互
いに異ならせたことを特徴とするマルチビーム走査装
置。4. The multi-beam scanning device according to claim 1, wherein at least two of the plurality of light sources are arranged such that writing widths by beams from these light sources are substantially equal. A multi-beam scanning device, wherein the modulation frequencies of two light sources are different from each other.
装置において、 複数の光源の内の少なくとも2つの光源について、これ
らの光源からの各ビームの波長に応じて、上記少なくと
も2つの光源の変調周波数を互いに異ならせたことを特
徴とするマルチビーム走査装置。5. The multi-beam scanning apparatus according to claim 3, wherein at least two of the plurality of light sources are modulated according to the wavelength of each beam from these light sources. A multi-beam scanning device having different frequencies.
ーム走査装置において、 偏向ビームによる書込み開始側と書込み終了側とに配備
された1対の光センサを有し、これら光センサ間を各ビ
ームが偏向により通過する時間に応じて、各ビームの光
源における変調周波数を決定する手段を有することを特
徴とするマルチビーム走査装置。6. The multi-beam scanning device according to claim 3, further comprising a pair of optical sensors provided on a writing start side and a writing end side by using a deflected beam. A multi-beam scanning apparatus, comprising: means for determining a modulation frequency of each beam in a light source according to a time required for a beam to pass by deflection.
ーム走査装置において、 走査結像レンズが、1以上のプラスチックレンズを含む
ことを特徴とするマルチビーム走査装置。7. The multi-beam scanning device according to claim 1, wherein the scanning imaging lens includes one or more plastic lenses.
ーム走査装置において、 光源の数が2であることを特徴とするマルチビーム走査
装置。8. The multi-beam scanning device according to claim 1, wherein the number of light sources is two.
6または7または8記載のマルチビーム走査装置におい
て、 光源が半導体レーザであることを特徴とするマルチビー
ム走査装置。9. The multi-beam scanning device according to claim 1, wherein the light source is a semiconductor laser.
複数の光源と、 これら複数の光源からの複数ビームを偏向反射面により
反射し、上記偏向反射面の回転により、各ビームを等角
速度的に偏向させる、上記複数ビームに共通の偏向器
と、 この偏向器により偏向された複数ビームを、副走査方向
に互いに分離した光スポットとして被走査面上に集光さ
せ、被走査面上の複数ラインを同時的に略等速に走査さ
せる走査結像レンズとを有し、 書込み幅に相当する画角をθ(rad)、書込密度をδ
(dpi)、複数の光源間の最大波長差をΔλとし、使
用基準波長:λのビームで上記画角:θに対応する書込
み幅をL(λ)とするとき、 ΔK=(1/θ)(dL/dλ) で定義される量:ΔKと上記Δλとが、条件: (1) 0<Δλ/[25.4×2/{δ×ΔK×
θ}]≦1 を満足するように、上記複数の光源を選択したことを特
徴とするマルチビーム走査装置。10. A plurality of light sources which can be modulated and driven independently in accordance with an image signal, and a plurality of beams from the plurality of light sources are reflected by a deflecting / reflecting surface. A deflector common to the plurality of beams to be deflected, and the plurality of beams deflected by the deflector are condensed on the surface to be scanned as light spots separated from each other in the sub-scanning direction. A scanning imaging lens for simultaneously scanning a plurality of lines at a substantially constant speed, wherein an angle of view corresponding to a writing width is θ (rad), and a writing density is δ
(Dpi), when the maximum wavelength difference between a plurality of light sources is Δλ, and a writing width corresponding to the above-mentioned angle of view: θ is L (λ) with a beam having a used reference wavelength: λ, ΔK = (1 / θ) The quantity defined by (dL / dλ): ΔK and the above Δλ satisfy the following conditions: (1) 0 <Δλ / [25.4 × 2 / {δ × ΔK ×
A plurality of light sources are selected so as to satisfy θ}] ≦ 1.
において、 書込密度:δが、δ≧600dpiであることを特徴と
するマルチビーム走査装置。11. The multi-beam scanning device according to claim 10, wherein the writing density δ is δ ≧ 600 dpi.
において、 書込密度:δが、δ≧1200dpiであることを特徴
とするマルチビーム走査装置。12. The multi-beam scanning apparatus according to claim 10, wherein the writing density δ is δ ≧ 1200 dpi.
において、 書込密度:δが、δ≧2400dpiであることを特徴
とするマルチビーム走査装置。13. The multi-beam scanning device according to claim 10, wherein the writing density: δ satisfies δ ≧ 2400 dpi.
において、 複数の光源が半導体レーザを含むことを特徴とするマル
チビーム走査装置。14. The multi-beam scanning device according to claim 10, wherein the plurality of light sources include a semiconductor laser.
において、 複数の光源がLEDを含むことを特徴とするマルチビー
ム走査装置。15. The multi-beam scanning device according to claim 10, wherein the plurality of light sources include LEDs.
において、 偏向器が回転多面鏡であることを特徴とするマルチビー
ム走査装置。16. The multi-beam scanning device according to claim 10, wherein the deflector is a rotary polygon mirror.
において、 偏向器が回転単面鏡もしくは回転2面鏡であることを特
徴とするマルチビーム走査装置。17. The multi-beam scanning device according to claim 10, wherein the deflector is a rotating single-sided mirror or a rotating two-sided mirror.
において、 複数の光源のうちの少なくとも1つは、使用基準波長:
780nmのものであることを特徴とするマルチビーム
走査装置。18. The multi-beam scanning apparatus according to claim 10, wherein at least one of the plurality of light sources has a reference wavelength used:
A multi-beam scanning device having a wavelength of 780 nm.
において、 複数の光源の個々が、使用基準波長:780nmのもの
であることを特徴とするマルチビーム走査装置。19. The multi-beam scanning apparatus according to claim 10, wherein each of the plurality of light sources has a reference wavelength of 780 nm.
において、 600dpi以上の書込密度:δでの書込みにおいて、
縦線揺らぎを除去するように、複数の光源が調製されて
いることを特徴とするマルチビーム走査装置。20. The multi-beam scanning device according to claim 10, wherein at a writing density: δ of 600 dpi or more,
A multi-beam scanning device, wherein a plurality of light sources are prepared so as to remove vertical line fluctuation.
において、 走査結像レンズが、40以上で80以下のアッベ数を持
つプラスチック材料によるレンズを、少なくとも2つ有
することを特徴とするマルチビーム走査装置。21. The multi-beam scanning apparatus according to claim 10, wherein the scanning imaging lens has at least two lenses made of a plastic material having an Abbe number of 40 or more and 80 or less. apparatus.
において、 走査結像レンズが、少なくとも2枚のレンズを有し、 これらレンズの個々は、中心部の肉厚:t1と、主走査
方向周辺部の肉厚:t2とが、条件: (2) 0.3≦t2/t1≦1.7 を満足することを特徴とするマルチビーム走査装置。22. The multi-beam scanning device according to claim 10, wherein the scanning imaging lens has at least two lenses, each of which has a thickness at a central portion: t1 and a peripheral portion in a main scanning direction. A multi-beam scanning apparatus, wherein the thickness of the portion: t2 satisfies the condition: (2) 0.3 ≦ t2 / t1 ≦ 1.7.
において、 走査結像レンズが、少なくとも2枚のレンズを有し、 これらレンズの一方は正のパワーを持ち、他方は負のパ
ワーを持つことを特徴とするマルチビーム走査装置。23. The multi-beam scanning device according to claim 10, wherein the scanning imaging lens has at least two lenses, one of which has a positive power and the other of which has a negative power. A multi-beam scanning device.
において、 走査結像レンズが、少なくとも2枚のレンズを有し、 偏向器の偏向の起点から、もっとも上記偏向器に近いレ
ンズの射出側面までの距離:l1と、上記偏向の起点か
ら被走査面に至る距離:l2とが、条件: (3) l1/l2≧0.25 を満足することを特徴とするマルチビーム走査装置。24. The multi-beam scanning apparatus according to claim 10, wherein the scanning imaging lens has at least two lenses, and extends from a starting point of deflection of the deflector to an exit side of the lens closest to the deflector. distance: between l 1, the distance reaches the surface to be scanned from a starting point of the deflection: l 2 and is the condition: (3) multi-beam scanning apparatus characterized by satisfying l 1 / l 2 ≧ 0.25 .
において、 走査結像レンズが、少なくとも2枚のレンズを有し、 被走査面上の書込み開始位置に向かう偏向ビームの主光
線が、もっとも偏向器に近いレンズの入射側面に入射す
るときの偏向角を、光軸から計って角:θ1とし、上記
主光線が、被走査面に入射する角を上記光軸から計って
角:θ2とするとき、これらが、条件: (4)θ2/θ1≧0.4 を満足することを特徴とするマルチビーム走査装置。25. The multi-beam scanning apparatus according to claim 10, wherein the scanning image forming lens has at least two lenses, and a principal ray of the deflected beam directed to the writing start position on the surface to be scanned is most deflected. The deflection angle when the light is incident on the incident side surface of the lens close to the device is defined as an angle θ 1 measured from the optical axis, and the angle at which the principal ray is incident on the surface to be scanned is measured as the angle θ 2 from the optical axis. Where: (4) a multi-beam scanning apparatus characterized by satisfying the following condition: (4) θ 2 / θ 1 ≧ 0.4.
複数の光源と、 これら複数の光源からの複数ビームを偏向反射面により
反射し、上記偏向反射面の回転により、各ビームを等角
速度的に偏向させる、上記複数ビームに共通の偏向器
と、 この偏向器により偏向された複数ビームを、副走査方向
に互いに分離した光スポットとして被走査面上に集光さ
せ、被走査面上の複数ラインを同時的に略等速に走査さ
せる走査結像レンズとを有し、 複数の光源の内の少なくとも2つの光源について、これ
ら光源からのビームによる書込み幅が実質的に等しくな
るように、上記少なくとも2つの光源の変調周波数を互
いに異ならせたことを特徴とするマルチビーム走査装
置。26. A plurality of light sources which can be modulated and driven independently in accordance with an image signal, and a plurality of beams from the plurality of light sources are reflected by a deflecting / reflecting surface. A deflector common to the plurality of beams to be deflected, and the plurality of beams deflected by the deflector are condensed on the surface to be scanned as light spots separated from each other in the sub-scanning direction. A scanning imaging lens for simultaneously scanning a plurality of lines at a substantially constant speed, wherein at least two of the plurality of light sources have substantially equal writing widths by beams from these light sources, A multi-beam scanning device, wherein the modulation frequencies of the at least two light sources are different from each other.
において、 少なくとも2つの光源の変調周波数は、これら光源の波
長差による書込み幅の倍率誤差を解消するように、互い
に異ならされていることを特徴とするマルチビーム走査
装置。27. The multi-beam scanning apparatus according to claim 26, wherein the modulation frequencies of at least two light sources are different from each other so as to eliminate a magnification error of a writing width due to a wavelength difference between these light sources. Multi-beam scanning device.
において、 偏向ビームによる書込み開始側と書込み終了側とに配備
された1対の光センサを有し、これら光センサ間を偏向
ビームが偏向により通過する時間に応じて、 少なくとも2つの光源の変調周波数が決定されたことを
特徴とするマルチビーム走査装置。28. A multi-beam scanning apparatus according to claim 26, further comprising a pair of optical sensors provided on a writing start side and a writing end side by a deflection beam, wherein the deflection beam is deflected between these optical sensors. A multi-beam scanning device, wherein the modulation frequencies of at least two light sources are determined according to the passing time.
において、 書込密度:δが、δ≧600dpiであることを特徴と
するマルチビーム走査装置。29. The multi-beam scanning device according to claim 26, wherein the writing density δ is δ ≧ 600 dpi.
において、 書込密度:δが、δ≧1200dpiであることを特徴
とするマルチビーム走査装置。30. The multi-beam scanning device according to claim 26, wherein the writing density δ is δ ≧ 1200 dpi.
において、 書込密度:δが、δ≧2400dpiであることを特徴
とするマルチビーム走査装置。31. The multi-beam scanning device according to claim 26, wherein the writing density δ is δ ≧ 2400 dpi.
において、 複数の光源が半導体レーザを含むことを特徴とするマル
チビーム走査装置。32. The multi-beam scanning device according to claim 26, wherein the plurality of light sources include a semiconductor laser.
において、 複数の光源がLEDを含むことを特徴とするマルチビー
ム走査装置。33. The multi-beam scanning device according to claim 26, wherein the plurality of light sources include LEDs.
において、 偏向器が回転多面鏡であることを特徴とするマルチビー
ム走査装置。34. The multi-beam scanning device according to claim 26, wherein the deflector is a rotary polygon mirror.
において、 偏向器が回転単面鏡もしくは回転2面鏡であることを特
徴とするマルチビーム走査装置。35. The multi-beam scanning device according to claim 26, wherein the deflector is a rotating single-sided mirror or a rotating two-sided mirror.
において、 複数の光源のうちの少なくとも1つは、使用基準波長:
780nmのものであることを特徴とするマルチビーム
走査装置。36. The multi-beam scanning apparatus according to claim 26, wherein at least one of the plurality of light sources has a reference wavelength used:
A multi-beam scanning device having a wavelength of 780 nm.
において、 複数の光源の個々が、使用基準波長:780nmのもの
であることを特徴とするマルチビーム走査装置。37. The multi-beam scanning apparatus according to claim 26, wherein each of the plurality of light sources has a reference wavelength of 780 nm.
において、 600dpi以上の書込密度:δでの書込みにおいて、
縦線揺らぎを除去するように、複数の光源が調製されて
いることを特徴とするマルチビーム走査装置。38. The multi-beam scanning apparatus according to claim 26, wherein at a writing density: δ of 600 dpi or more,
A multi-beam scanning device, wherein a plurality of light sources are prepared so as to remove vertical line fluctuation.
複数の光源からの複数のビームを、これらビームに共通
の偏向器により各々等角速度的に偏向し、各偏向ビーム
を共通の走査結像レンズにより、被走査面上に、副走査
方向に互いに分離した光スポットとして集光させ、被走
査面上の複数ラインを同時的に略等速に走査するマルチ
ビーム走査方法において、 複数光源のうちの少なくとも2つについて、その発光波
長の差を制限することにより、実質的に等しい書込み幅
で、マルチビーム走査を行うことを特徴とするマルチビ
ーム走査方法。39. A plurality of beams from a plurality of light sources which can be modulated and driven independently in accordance with an image signal are deflected at a uniform angular velocity by a deflector common to these beams, and each deflected beam is subjected to a common scanning connection. In a multi-beam scanning method in which an image lens converges on a surface to be scanned as light spots separated from each other in a sub-scanning direction and simultaneously scans a plurality of lines on the surface to be scanned at substantially the same speed, A multi-beam scanning method comprising: performing a multi-beam scan with substantially equal writing widths by limiting a difference between emission wavelengths of at least two of them.
複数の光源からの複数のビームを、これらビームに共通
の偏向器により各々等角速度的に偏向し、各偏向ビーム
を共通の走査結像レンズにより、被走査面上に、副走査
方向に互いに分離した光スポットとして集光させ、被走
査面上の複数ラインを同時的に略等速に走査するマルチ
ビーム走査方法において、 複数光源からのビームのうちの少なくとも2つについ
て、その書込み幅が実質的に等しくなるように、上記2
つのビームを放射する光源の変調周波数を互いに異なら
せて、マルチビーム走査を行うことを特徴とするマルチ
ビーム走査方法。40. A plurality of beams from a plurality of light sources which can be modulated and driven independently in accordance with image signals are respectively deflected at a uniform angular velocity by a deflector common to these beams, and each deflected beam is subjected to a common scanning connection. In a multi-beam scanning method in which an image lens converges on the surface to be scanned as light spots separated from each other in the sub-scanning direction and simultaneously scans a plurality of lines on the surface to be scanned at substantially the same speed, 2 such that at least two of the beams have substantially the same write width.
A multi-beam scanning method comprising performing multi-beam scanning by changing the modulation frequencies of light sources that emit two beams.
あって、 画像信号に応じて独立に変調駆動可能な複数の光源と、 これら複数の光源からの複数のビームに共通で、各ビー
ムを等角速度的に偏向させる偏向器と、 この偏向器に偏向された各偏向ビームに共通で、各偏向
ビームを、被走査面上に、副走査方向に互いに分離した
光スポットとして集光させ、被走査面上の複数ラインを
同時的に略等速に走査させる走査結像レンズとを各々用
意する工程と、上記複数の光源、偏向器、走査結像レン
ズを所定の光学配置に組み付ける工程とを含み、 組み付けるべき複数の光源として、 書込み幅に相当する画角:θ(rad)、書込密度:δ
(dpi)、複数の光源間の最大波長差:Δλ、使用基
準波長:λのビームで上記画角:θに対応する書込み
幅:L(λ)として、 ΔK=(1/θ)(dL/dλ) で定義される量:ΔKと上記Δλとが、条件: (1) 0<Δλ/[25.4×2/{δ×ΔK×
θ}]≦1 を満足するように、上記複数の光源を選択することを特
徴とするマルチビーム走査装置の製造方法。41. A method for manufacturing a multi-beam scanning apparatus, comprising: a plurality of light sources which can be modulated and driven independently in accordance with an image signal; and a plurality of beams from the plurality of light sources. A deflector that deflects at an angular velocity, common to the respective deflection beams deflected by the deflector, and converges the respective deflection beams on the surface to be scanned as light spots separated from each other in the sub-scanning direction; A step of preparing a scanning imaging lens for simultaneously scanning a plurality of lines on the surface at substantially constant speed, and a step of assembling the plurality of light sources, deflectors, and scanning imaging lens in a predetermined optical arrangement. As a plurality of light sources to be assembled, an angle of view corresponding to a writing width: θ (rad), a writing density: δ
(Dpi), the maximum wavelength difference between the plurality of light sources: Δλ, the writing width corresponding to the above-mentioned angle of view: θ with a beam of the reference wavelength: λ: L (λ), ΔK = (1 / θ) (dL / dλ) is defined by the following equation: ΔK and Δλ satisfy the following conditions: (1) 0 <Δλ / [25.4 × 2 / {δ × ΔK ×
θ}] ≦ 1. A method of manufacturing a multi-beam scanning device, wherein the plurality of light sources are selected so as to satisfy the following condition.
形成し、形成された潜像を現像して可視化する画像形成
装置であって、 光走査装置として、請求項1〜38の任意の1に記載の
マルチビーム走査装置を用いることを特徴とする画像形
成装置。42. An image forming apparatus for forming a desired latent image by optical scanning of a latent image carrier and developing and visualizing the formed latent image, wherein the optical scanning device is an optical scanning device. An image forming apparatus using the multi-beam scanning device according to any one of the preceding claims.
て、 潜像担持体が光導電性の感光体であって、光走査により
形成される静電潜像が、トナー画像として可視化される
ことを特徴とする画像形成装置。43. The image forming apparatus according to claim 42, wherein the latent image carrier is a photoconductive photoconductor, and an electrostatic latent image formed by optical scanning is visualized as a toner image. Characteristic image forming apparatus.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP22291299A JP3850593B2 (en) | 1998-08-06 | 1999-08-05 | Multi-beam scanning apparatus, multi-beam scanning method, and image forming apparatus |
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ID=26524993
Family Applications (1)
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JP22291299A Expired - Lifetime JP3850593B2 (en) | 1998-08-06 | 1999-08-05 | Multi-beam scanning apparatus, multi-beam scanning method, and image forming apparatus |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US7233425B2 (en) | 2000-05-19 | 2007-06-19 | Ricoh Company, Ltd. | Multi-beam scanner, multi-beam scanning method, synchronizing beam detecting method and image forming apparatus |
JP2007298997A (en) * | 2007-05-28 | 2007-11-15 | Ricoh Co Ltd | Multibeam scanner, multibeam scanning method, and image forming apparatus |
JP2011059570A (en) * | 2009-09-14 | 2011-03-24 | Ricoh Co Ltd | Optical writing device, image forming apparatus, and optical writing method |
-
1999
- 1999-08-05 JP JP22291299A patent/JP3850593B2/en not_active Expired - Lifetime
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US7233425B2 (en) | 2000-05-19 | 2007-06-19 | Ricoh Company, Ltd. | Multi-beam scanner, multi-beam scanning method, synchronizing beam detecting method and image forming apparatus |
US7372604B2 (en) | 2000-05-19 | 2008-05-13 | Ricoh Company, Ltd. | Multi-beam scanner, multi-beam scanning method, synchronizing beam detecting method and image forming apparatus |
US6650454B2 (en) | 2001-03-09 | 2003-11-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Multi-beam scanning optical system and image forming apparatus using the same |
JP2007298997A (en) * | 2007-05-28 | 2007-11-15 | Ricoh Co Ltd | Multibeam scanner, multibeam scanning method, and image forming apparatus |
JP4516094B2 (en) * | 2007-05-28 | 2010-08-04 | 株式会社リコー | Multi-beam scanning device, multi-beam scanning method, image forming device |
JP2011059570A (en) * | 2009-09-14 | 2011-03-24 | Ricoh Co Ltd | Optical writing device, image forming apparatus, and optical writing method |
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