JP2000108259A - Ultraviolet ray absorbing resin material - Google Patents

Ultraviolet ray absorbing resin material

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JP2000108259A
JP2000108259A JP10285696A JP28569698A JP2000108259A JP 2000108259 A JP2000108259 A JP 2000108259A JP 10285696 A JP10285696 A JP 10285696A JP 28569698 A JP28569698 A JP 28569698A JP 2000108259 A JP2000108259 A JP 2000108259A
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inorganic fine
fine particles
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信久 野田
Toshibumi Nishida
俊文 西田
Takahiro Aoyama
孝浩 青山
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Nippon Shokubai Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the long period weatherability, the hardness of a surface, resistance to contamination and contamination removing property of a resin material by a method wherein a protecting layer, containing organic polymer composite inorganic micro-grain and a monomer produced by polymerizing a specified ultraviolet ray absorbing monomer, is provided on a substrate. SOLUTION: A substrate protecting layer, provided on at least one side of the resin substrate, contains inorganic polymer composite inorganic micro- grains and a polymer produced by polymerizing a monomer constituent containing at least one kind of monomer, selected from ultraviolet ray absorbing monomers shown by formula I and formula II. In the formula I, R1 is a hydrogen atom or a 1-8C hydrocarbon group, R2 is a lower alkylene group, R3 is hydrogen atom or methyl group, X is a hydrogen atom, a halogen, a 1-8C hydrocarbon atom, a lower alkoxy group, cyano group or nitro group. In the formula II, R4 represents a low class alkylene group, and R5 represents hydrogen atom or methyl group.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、低汚染性及び汚染
除去性に優れると共に耐候性に優れた紫外線吸収性樹脂
板に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ultraviolet-absorbing resin plate having excellent low-stainability and excellent stain-removal properties and excellent weatherability.

【0002】[0002]

【従来の技術】ポリカーボネートを初めとする樹脂板は
透明性や耐衝撃性、耐熱性、難燃性等に優れ、道路建材
や建築資材等に広く用いられており、今後もその用途拡
大が期待されている。しかしながら、金属やガラス等に
比べると表面硬度や耐汚染性、汚染除去性等の各種表面
特性に劣るところからその用途が制限され、樹脂板表面
特性の改良が強く要望されている。この表面特性の改良
方法として、例えば特開平7−178335号公報に
は、無機微粒子表面に有機ポリマーが固定された複合無
機微粒子を成膜用組成物として使用し表面硬度や強度を
向上させる技術が提案されている。また同公報には、成
膜用組成物に使用する添加剤として紫外線吸収剤が挙げ
られている。
2. Description of the Related Art Polycarbonate and other resin plates have excellent transparency, impact resistance, heat resistance, flame retardancy, etc., and are widely used in road building materials and building materials, and their use is expected to expand in the future. Have been. However, their use is limited because they are inferior in various surface properties such as surface hardness, stain resistance, and stain removal properties as compared with metals, glass, and the like, and there is a strong demand for improvement in resin sheet surface properties. As a method for improving the surface characteristics, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-178335 discloses a technique for improving surface hardness and strength by using composite inorganic fine particles having an organic polymer fixed on the surface of inorganic fine particles as a film-forming composition. Proposed. The publication also discloses an ultraviolet absorber as an additive used in the film-forming composition.

【0003】当該技術により、表層に複合無機微粒子を
含有させ、同時に耐候性の向上のために紫外線吸収剤を
含有させれば、良好な各種表面特性及び耐候性が得られ
るとも考えられる。しかしながら複合無機微粒子及び紫
外線吸収剤を表層に含有させていると、長期間の使用に
より表層からそれら添加剤がブリードアウトする可能性
があり、長期間の使用には必ずしも充分とは言えない状
況にあった。
[0003] It is considered that if various inorganic fine particles are contained in the surface layer and at the same time, an ultraviolet absorber is added for improving the weather resistance, good surface properties and weather resistance can be obtained. However, if the composite inorganic fine particles and the ultraviolet absorber are contained in the surface layer, these additives may bleed out from the surface layer over a long period of use, which is not necessarily sufficient for a long period of use. there were.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題に鑑
みなされたものであり、その目的は、長期耐候性に優れ
ると共に、表面硬度や耐汚染性、汚染除去性等の各種表
面特性に優れた樹脂材を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide excellent long-term weather resistance and excellent surface properties such as surface hardness, stain resistance, and stain removability. To provide a resin material.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本願第一の発明によれ
ば、樹脂基材の少なくとも片側面上に基材保護層を有す
る樹脂材であって、該基材保護層は、有機ポリマー複合
無機微粒子(以下「複合無機微粒子」と記すことがあ
る)を含有し、かつ下記一般式(1)及び(2)で表さ
れる紫外線吸収性単量体から選ばれる少なくとも1種を
含む単量体成分を重合してなる重合体を含有することを
特徴とする紫外線吸収性樹脂材が提供される。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a resin material having a base material protective layer on at least one side surface of a resin base material, wherein the base material protective layer is formed of an organic polymer composite inorganic material. A monomer containing fine particles (hereinafter sometimes referred to as “composite inorganic fine particles”) and containing at least one selected from ultraviolet absorbing monomers represented by the following general formulas (1) and (2) There is provided an ultraviolet absorbing resin material characterized by containing a polymer obtained by polymerizing components.

【0006】[0006]

【化5】 Embedded image

【0007】(式中、R1 は水素原子または炭素数1〜
8の炭化水素基を表し、R2 は低級アルキレン基を表
し、R3 は水素原子またはメチル基を表し、Xは水素原
子、ハロゲン、炭素数1〜8の炭化水素基、低級アルコ
キシ基、シアノ基またはニトロ基を表す。)
(Wherein, R 1 is a hydrogen atom or a group having 1 to 1 carbon atoms)
8 represents a hydrocarbon group, R 2 represents a lower alkylene group, R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, X represents a hydrogen atom, a halogen, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, a lower alkoxy group, a cyano group, Represents a group or a nitro group. )

【0008】[0008]

【化6】 Embedded image

【0009】(式中、R4 は低級アルキレン基を表し、
5 は水素原子またはメチル基を表す。)
Wherein R 4 represents a lower alkylene group;
R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group. )

【0010】長期耐候性の一層の向上には、当該単量体
成分は、下記一般式(3)及び(4)で表される紫外線
安定性単量体から選ばれる少なくとも1種をさらに含ん
でいることが好ましい。
In order to further improve the long-term weather resistance, the monomer component further contains at least one selected from ultraviolet stable monomers represented by the following general formulas (3) and (4). Is preferred.

【0011】[0011]

【化7】 Embedded image

【0012】(式中、R6 は水素原子またはシアノ基を
表し、R7 、R8 はそれぞれ独立して水素原子またはメ
チル基を表し、R9 は水素原子または炭化水素基を表
し、Yは酸素原子またはイミノ基を表す。)
(Wherein, R 6 represents a hydrogen atom or a cyano group, R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, R 9 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group, and Y represents Represents an oxygen atom or an imino group.)

【0013】[0013]

【化8】 Embedded image

【0014】(式中、R6 は水素原子またはシアノ基を
表し、R7 、R8 、R7'、R8'はそれぞれ独立して水素
原子またはメチル基を表し、Yは酸素原子またはイミノ
基を表す。)
(Wherein, R 6 represents a hydrogen atom or a cyano group, R 7 , R 8 , R 7 ′ and R 8 ′ each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and Y represents an oxygen atom or an imino group. Represents a group.)

【0015】また本願第二の発明によれば、樹脂基材の
少なくとも片側面上に基材保護層を有する樹脂材であっ
て、該基材保護層は、有機ポリマー複合無機微粒子を含
有し、該樹脂基材は紫外線吸収剤を含有することを特徴
とする紫外線吸収性樹脂材が提供される。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a resin material having a base material protective layer on at least one side surface of a resin base material, wherein the base material protective layer contains organic polymer composite inorganic fine particles, An ultraviolet absorbing resin material is provided, wherein the resin base contains an ultraviolet absorbing agent.

【0016】上記いずれの発明においても、該樹脂基材
と該基材保護層との間にプライマー層が形成さるのが好
ましい。
In any of the above inventions, it is preferable that a primer layer is formed between the resin substrate and the substrate protective layer.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】本発明者等は、長期耐候性に優
れ、しかも表面硬度や耐汚染性、汚染除去性等の各種表
面特性に優れた樹脂材について鋭意検討した結果、樹脂
基材上に基材保護層を形成する構造とし、基材保護層に
特定の複合無機微粒子及び特定の紫外線吸収性重合体を
含有させることにより、表面特性を向上させることがで
きると同時に長期耐候性、表面硬度、耐汚染性、汚染除
去性が飛躍的に向上できることを見出し本願第一の発明
を為すに至ったのである。以下本願第一の発明の構成に
ついて詳述する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present inventors have conducted intensive studies on resin materials having excellent long-term weather resistance and excellent surface properties such as surface hardness, stain resistance and stain removal properties. A structure in which a base material protective layer is formed on the base material, and by including specific composite inorganic fine particles and a specific ultraviolet absorbing polymer in the base material protective layer, it is possible to improve the surface characteristics and at the same time to have long-term weather resistance, surface The inventors have found that the hardness, stain resistance and stain removal properties can be drastically improved, and have reached the first invention of the present application. Hereinafter, the configuration of the first invention of the present application will be described in detail.

【0018】本発明で使用する樹脂基材としては、樹脂
であれば特に制限はなく、板状体であっても弾性体であ
ってもよい。またその透明性や形状、成型法、厚み等に
特に限定はない。使用できる樹脂としては、例えばポリ
カーボネート樹脂、アクリル系樹脂、ポリエチレン樹
脂、ポリエステル系樹脂、ポリプロピレン樹脂、ABS
樹脂、ポリスチレン樹脂、塩化ビニル樹脂等を挙げるこ
とができる。
The resin substrate used in the present invention is not particularly limited as long as it is a resin, and may be a plate-like body or an elastic body. The transparency, shape, molding method, thickness and the like are not particularly limited. Examples of usable resins include polycarbonate resin, acrylic resin, polyethylene resin, polyester resin, polypropylene resin, and ABS.
Resins, polystyrene resins, vinyl chloride resins and the like can be mentioned.

【0019】本発明における前記一般式(1)で表され
る紫外線吸収性単量体は、式中、R 1 は水素原子または
炭素数1〜8の炭化水素基で構成され、R2 は低級アル
キレン基で構成され、R3 は水素原子またはメチル基で
構成され、Xは水素、ハロゲン、炭素数1〜8の炭化水
素基、低級アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基で構
成されるベンゾトリアゾール類である。
In the present invention, the compound is represented by the general formula (1).
The ultraviolet absorbing monomer represented by the formula: 1 Is a hydrogen atom or
A hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms;Two Is lower al
Composed of a kylene group;Three Is a hydrogen atom or a methyl group
X is hydrogen, halogen, hydrocarbon having 1 to 8 carbon atoms
Group, a lower alkoxy group, a cyano group or a nitro group.
Benzotriazoles formed.

【0020】上記式中、R1 で表される置換基として
は、例えば水素原子、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ter
t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基などの鎖式炭化水素基;シクロプロピル基、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル
基、シクロオクチル基などの脂環式炭化水素基;フェニ
ル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、フェネチル
基などの芳香族炭化水素基であり、R2 で表される置換
基は、具体的には炭素数1〜6のアルキレン基であっ
て、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラ
メチレン基などの直鎖状アルキレン基及びプロピレン
基、2−メチルトリメチレン基、2−メチルテトラメチ
レン基などの分鎖状アルキレン基であり、Xで表される
置換基は、水素;フッソ、塩素、シュウ素、ヨウ素など
のハロゲン;メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基
などの鎖式炭化水素基:シクロプロピル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロ
オクチル基などの脂環式炭化水素基:フェニル基、トリ
ル基、キシリル基、ベンジル基、フェネチル基などの芳
香族炭化水素基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘプトキシ基など炭素
数1〜6の低級アルコキシ基;シアノ基;ニトロ基であ
る。
In the above formula, examples of the substituent represented by R 1 include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group and a tertiary group.
t-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group,
A chain hydrocarbon group such as an octyl group; a cyclopropyl group,
A cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, an alicyclic hydrocarbon group such as cyclooctyl group; a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a benzyl group, an aromatic hydrocarbon group such as a phenethyl group, Table by R 2 The substituent is specifically an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, such as a linear alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, and a tetramethylene group; a propylene group; and 2-methyltrimethylene. Group, a branched alkylene group such as a 2-methyltetramethylene group, and the substituent represented by X is hydrogen; a halogen such as fluorine, chlorine, iodine, iodine; a methyl group, an ethyl group, a propyl group; Chain hydrocarbon groups such as isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group and octyl group Alicyclic hydrocarbon groups such as cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group and cyclooctyl group: aromatic hydrocarbon groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, benzyl group and phenethyl group; methoxy group Ethoxy, propoxy, butoxy, pentoxy, heptoxy and the like; lower alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms; cyano groups; nitro groups.

【0021】前記一般式(1)で表される紫外線吸収性
単量体としては、例えば2−[2'−ヒドロキシ−5'
−(メタクリロイルオキシメチル)フェニル]−2H−
ベンゾトリアゾール、2−[2' −ヒドロキシ−5' −
(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベ
ンゾトリアゾール、2−[2' −ヒドロキシ−5' −
(メタクリロイルオキシプロピル)フェニル]−2H−
ベンゾトリアゾール、2−[2' −ヒドロキシ−5' −
(メタクリロイルオキシヘキシル)フェニル]−2H−
ベンゾトリアゾール、2−[2' −ヒドロキシ−3' −
tert−ブチル−5' −(メタクリロイルオキシエチ
ル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−
[2' −ヒドロキシ−5' −tert−ブチル−3' −
(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベ
ンゾトリアゾール、2−[2' −ヒドロキシ−5' −
(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−クロ
ロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2' −ヒドロキ
シ−5' −(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]
−5−メトキシ−2H−ベンゾトリアゾール、2−
[2' −ヒドロキシ−5' −(メタクリロイルオキシエ
チル)フェニル]−5−シアノ−2H−ベンゾトリアゾ
ール、2−[2' −ヒドロキシ−5' −(メタクリロイ
ルオキシエチル)フェニル]−5−tert−ブチル−
2H−ベンゾトリアゾール、2−[2' −ヒドロキシ−
5' −(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5
−ニトロ−2H−ベンゾトリアゾールなどが挙げられる
が、特にこれらに限定されるものではない。一般式
(1)で表されるこれら紫外線吸収性単量体は一種類の
みを用いてもよく、また二種類以上を適宜混合して用い
てもよい。
The UV-absorbing monomer represented by the general formula (1) includes, for example, 2- [2'-hydroxy-5 '
-(Methacryloyloxymethyl) phenyl] -2H-
Benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5'-
(Methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5'-
(Methacryloyloxypropyl) phenyl] -2H-
Benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5'-
(Methacryloyloxyhexyl) phenyl] -2H-
Benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-3'-
tert-butyl-5 ′-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2-
[2′-hydroxy-5′-tert-butyl-3′-
(Methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5'-
(Methacryloyloxyethyl) phenyl] -5-chloro-2H-benzotriazole, 2- [2′-hydroxy-5 ′-(methacryloyloxyethyl) phenyl]
-5-methoxy-2H-benzotriazole, 2-
[2'-Hydroxy-5 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -5-cyano-2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5'-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -5-tert-butyl −
2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-
5 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -5
-Nitro-2H-benzotriazole and the like, but are not particularly limited thereto. One kind of these ultraviolet absorbing monomers represented by the general formula (1) may be used alone, or two or more kinds thereof may be appropriately mixed and used.

【0022】また前記一般式(2)で表される紫外線吸
収性単量体は、式中、R4 で表される置換基は低級アル
キレン基で構成され、R5 で表される水素原子またはメ
チル基で構成されるベンゾトリアゾール類である。
Further, in the ultraviolet absorbing monomer represented by the general formula (2), a substituent represented by R 4 is a lower alkylene group, and a hydrogen atom represented by R 5 or Benzotriazoles composed of a methyl group.

【0023】上記式中、R4 で表される置換基は、具体
的には炭素数2または3のアルキレン基であって、エチ
レン基、トリメチレン基、プロピレン基などを挙げるこ
とができる。
In the above formula, the substituent represented by R 4 is specifically an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms, such as an ethylene group, a trimethylene group and a propylene group.

【0024】前記一般式(2)で表される紫外線吸収性
単量体としては、例えば、2−〔2' ヒドロキシ−5'
−(β−メタクリロイルオキシエトキシ)−3' −te
rt−ブチルフェニル〕−4−tert−ブチル−2H
−ベンゾトリアゾールが挙げられるが、特にこれに限定
されるものではない。一般式(2)で表されるこれら紫
外線吸収性単量体は一種類のみを用いてもよく、また二
種類以上を適宜混合してもよい。
Examples of the ultraviolet absorbing monomer represented by the general formula (2) include 2- [2'hydroxy-5 '
-(Β-methacryloyloxyethoxy) -3′-te
rt-butylphenyl] -4-tert-butyl-2H
-Benzotriazole, but is not particularly limited thereto. Only one kind of these ultraviolet absorbing monomers represented by the general formula (2) may be used, or two or more kinds may be appropriately mixed.

【0025】耐候性の一層の向上を図るため、本発明で
使用する単量体成分は、一般式(3)及び(4)で表さ
れる紫外線安定性単量体から選ばれる少なくとも1種を
さらに含んでいるのが好ましい。
In order to further improve the weather resistance, the monomer component used in the present invention is at least one kind selected from the ultraviolet stable monomers represented by the general formulas (3) and (4). Preferably, it further contains.

【0026】本発明で使用する一般式(3)、(4)の
紫外線安定性単量体において、式中、R6 で示される置
換基は水素原子またはシアノ基で構成され、R7 、R
8 、R 7'、R8'で示される置換基はそれぞれ独立して水
素原子またはメチル基で構成され、R9 で示される置換
基が水素原子または炭化水素基で構成され、Yで示され
る置換基が酸素原子またはイミノ基で構成されるピペリ
ジン類である。
The general formulas (3) and (4) used in the present invention
In the UV-stable monomer, where R6 Indicated by
The substituent comprises a hydrogen atom or a cyano group;7 , R
8 , R 7 ', R8 'Each independently represent water
R or R9 Replacement indicated by
The group consists of a hydrogen atom or a hydrocarbon group and is represented by Y
Piper whose substituent is an oxygen atom or an imino group
Gins.

【0027】上記R9 で示される置換基としては、具体
的には水素原子、炭素数1〜18の炭化水素基であっ
て、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニ
ル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシ
ル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル
基、ヘプタデシル基、オクタデシル基など鎖式炭化水素
基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などの脂
環式炭化水素基;フェニル基、トリル基、キシリル基、
ベンジル基、フェネチル基などの芳香族炭化水素基など
が非限定的に例示される。
Specific examples of the substituent represented by R 9 include a hydrogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, and isobutyl. Groups, tert-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl, octadecyl, etc. Alicyclic hydrocarbon groups such as cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group and cyclooctyl group; phenyl group, tolyl group, xylyl group,
Non-limiting examples include aromatic hydrocarbon groups such as a benzyl group and a phenethyl group.

【0028】前記一般式(3)で表される紫外線安定性
単量体としては、例えば4−(メタ)アクリロイルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−
(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン、4−(メタ)アクリロイルオキシ−
1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン、4−
(メタ)アクリロイルアミノ−1,2,2,6,6−ペ
ンタメチルピペリジン、4−シアノ−4−(メタ)アク
リロイルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン、4−クロトノイルオキシ−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン、4−クロトノイルアミノ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジンなどが挙げられ、
これらの一種のみを用いてもよく、また二種以上を適宜
混合して用いてもよい。もちろん一般式(3)の紫外線
安定性単量体はこれら化合物に限定されるものではな
い。
The UV-stable monomer represented by the general formula (3) includes, for example, 4- (meth) acryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine,
(Meth) acryloylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4- (meth) acryloyloxy-
1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine, 4-
(Meth) acryloylamino-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine, 4-cyano-4- (meth) acryloylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-crotonoyloxy- 2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-crotonoylamino-2,
2,6,6-tetramethylpiperidine and the like,
One of these may be used alone, or two or more thereof may be appropriately mixed and used. Of course, the UV stable monomer of the general formula (3) is not limited to these compounds.

【0029】前記一般式(4)で表される紫外線安定性
単量体としては、例えば1−(メタ)アクリロイル−4
−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン、1−(メタ)アクリロイル−4−
シアノ−4−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン、1−クロトノイル−
4−クロトイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジンなどが挙げられ、これら一種のみを用いても
よく、また二種以上を適宜混合して用いてもよい。なお
一般式(4)の紫外線安定性単量体はこれらに限定され
るものではない。
The UV-stable monomer represented by the general formula (4) includes, for example, 1- (meth) acryloyl-4
-(Meth) acryloylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1- (meth) acryloyl-4-
Cyano-4- (meth) acryloylamino-2,2,2
6,6-tetramethylpiperidine, 1-crotonoyl-
Examples thereof include 4-crotoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, and these may be used alone or in a combination of two or more. The UV-stable monomer of the general formula (4) is not limited to these.

【0030】一般式(1)、(2)で表される紫外線吸
収性単量体の使用量は、特に限定されないが、紫外線吸
収性重合体に対して1〜90wt%とすることが望まれ
る。より好ましい範囲について述べると、下限側として
好ましくは5wt%、さらに好ましくは10wt%であ
る。他方上限側として好ましくは70wt%、さらに好
ましくは50wt%である。紫外線吸収性単量体の使用
量が1wt%よりも少ないと、樹脂基材の紫外線による
劣化を防ぐためには基材保護層の厚みを厚くする必要が
生じ、その上に表面保護層を形成するときに亀裂が発生
しやすく、また長期間の使用によっても亀裂が発生する
おそれがある。他方、90wt%よりも多いと基材保護
層の物性の低下を招くおそれがある。
The amount of the UV-absorbing monomer represented by the general formulas (1) and (2) is not particularly limited, but is desirably 1 to 90% by weight based on the UV-absorbing polymer. . Describing a more preferable range, the lower limit is preferably 5 wt%, more preferably 10 wt%. On the other hand, the upper limit is preferably 70 wt%, more preferably 50 wt%. If the amount of the UV-absorbing monomer is less than 1 wt%, it is necessary to increase the thickness of the substrate protective layer in order to prevent the resin substrate from being deteriorated by ultraviolet rays, and to form a surface protective layer thereon. Occasionally, cracks are likely to occur, and cracks may occur even after prolonged use. On the other hand, if it is more than 90 wt%, the physical properties of the base material protective layer may be reduced.

【0031】また、一般式(3)、(4)で表される紫
外線安定性単量体の使用量は、特に限定されるものでは
ないが、紫外線吸収性重合体に対して0.1〜15wt
%とすることが望まれる。より好ましい範囲について述
べると、下限側として好ましくは0.5wt%、さらに
好ましくは1wt%である。他方上限側として好ましく
は5wt%、さらに好ましくは3wt%である。紫外線
安定性単量体の合計使用量が0.1wt%よりも少ない
と、基材保護層の劣化を防ぐことができないおそれがあ
り、他方15wt%よりも多いと、基材保護層の物性低
下を招くおそれがある。
The amount of the UV-stable monomer represented by the general formulas (3) and (4) is not particularly limited, but is 0.1 to 0.1 with respect to the UV-absorbing polymer. 15wt
% Is desired. Describing a more preferable range, the lower limit is preferably 0.5 wt%, more preferably 1 wt%. On the other hand, the upper limit is preferably 5 wt%, more preferably 3 wt%. If the total amount of the UV-stable monomer is less than 0.1 wt%, the deterioration of the base material protective layer may not be prevented, while if it is more than 15 wt%, the physical properties of the base material protective layer may be reduced. May be caused.

【0032】また上記単量体以外のその他の共重合可能
な不飽和単量体は、紫外線吸収性単量体が繰り返し単位
の一部として含まれる重合体に要求される各種物性を損
なわないものであればいずれも使用することができ、耐
候性の点からは下記一般式(5)に表される不飽和単量
体の使用が好ましい。
Other copolymerizable unsaturated monomers other than the above-mentioned monomers do not impair various physical properties required for a polymer containing an ultraviolet absorbing monomer as a part of a repeating unit. Any of them can be used, and from the viewpoint of weather resistance, use of an unsaturated monomer represented by the following general formula (5) is preferred.

【0033】[0033]

【化9】 Embedded image

【0034】(式中、R10は水素原子またはメチル基を
表し、Zは炭素数が4以上の炭化水素基を表す。)
(In the formula, R 10 represents a hydrogen atom or a methyl group, and Z represents a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms.)

【0035】上記式中、Zで表される置換基はシクロヘ
キシル基、メチルシクロヘキシル基、シクロドデシル基
などの炭素数4以上の脂環式炭化水素基;ブチル基、イ
ソブチル基、tert−ブチル基、2−エチルヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、オクタデシ
ル基など炭素数4以上の直鎖または分枝鎖のアルキル
基;ボルニル基、イソボルニル基などの炭素数4以上の
多環式炭化水素基であり、中でも脂環式炭化水素基、分
枝鎖のアルキル基、炭素数6以上の直鎖アルキル基が好
ましい。
In the above formula, the substituent represented by Z is an alicyclic hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms such as a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, a cyclododecyl group; a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group; Linear or branched alkyl groups having 4 or more carbon atoms such as 2-ethylhexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, pentadecyl, octadecyl; bornyl, isobornyl, etc. A polycyclic hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms, among which an alicyclic hydrocarbon group, a branched alkyl group, and a straight-chain alkyl group having 6 or more carbon atoms are preferable.

【0036】一般式(5)に表される不飽和単量体とし
て、例えばシクロヘキシル(メタ)アクリレート、メチ
ルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロドデシ
ル(メタ)アクリレート、tert−ブチルシクロヘキ
シル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリ
レート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、ラウ
リル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アク
リレート、ステアリル(メタ)アクリレート、2−エチ
ルヘキシル(メタ)アクリレートなどが挙げられ、これ
らの一種または二種以上が使用できる。
As the unsaturated monomer represented by the general formula (5), for example, cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, cyclododecyl (meth) acrylate, tert-butylcyclohexyl (meth) acrylate, isobutyl (Meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and the like, and one or more of these. Can be used.

【0037】一般式(5)に表される不飽和単量体の使
用量は、特に限定はないが、紫外線吸収性重合体に対し
て3〜70wt%の範囲が好ましく、より好ましくは5
〜50wt%の範囲である。当該使用量が3wt%未満
の場合、所望の耐候性を得にくくなるおそれがあり、他
方70wt%を超えるは場合、樹脂基材との層間密着性
の低下を招くおそれがある。
The amount of the unsaturated monomer represented by the general formula (5) is not particularly limited, but is preferably in the range of 3 to 70% by weight, more preferably 5 to 70% by weight based on the ultraviolet absorbing polymer.
-50 wt%. If the used amount is less than 3 wt%, it may be difficult to obtain desired weather resistance, while if it exceeds 70 wt%, the interlayer adhesion to the resin substrate may be reduced.

【0038】その他の共重合可能な不飽和単量体として
は、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、無
水マレイン酸等のカルボキシル基含有不飽和単量体;2
−(メタ)アクリロイロキシエチルアシッドホスフェー
ト等の酸性リン酸エステル系不飽和単量体;ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシ(メ
タ)アクリレート(例えば、ダイセル化学工業株式会社
製;商品名「プラクセルFM」)等の活性水素を有する
基を含有する不飽和単量体;メチル(メタ)アクリレー
ト、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)ア
クリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート等の
(メタ)アクリル酸低級アルキルエステル;グリシジル
(メタ)アクリレート等のエポキシ基含有不飽和単量
体;(メタ)アクリルアミド、N,N' −ジメチルアミ
ノチル(メタ)アクリレート、イミド(メタ)アクリレ
ート等の含窒素不飽和単量体;エチレングリコールジ
(メタ)アクリレート等の2個の重合性二重結合を有す
る不飽和単量体;塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロ
ゲン含有不飽和単量体;スチレン、α−メチルスチレ
ン、ビニルトルエン等の芳香族不飽和単量体;酢酸ビニ
ル等のビニルエステル;ビニルエーテル等が挙げられる
が、特にこれらに限定されるものではない。その他単量
体は必要に応じて一種類のみを用いてもよく、また二種
以上を用いてもよい。
Other unsaturated monomers which can be copolymerized include carboxyl group-containing unsaturated monomers such as (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic acid and maleic anhydride;
-Acid phosphate unsaturated monomers such as (meth) acryloyloxyethyl acid phosphate; hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, caprolactone-modified hydroxy (meth) acrylate (for example, Daicel Chemical Industries, Ltd.) Unsaturated monomer containing a group having an active hydrogen such as manufactured by Co., Ltd. (trade name "Placcel FM"); methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate (Meth) acrylic acid lower alkyl esters such as glycidyl (meth) acrylate; epoxy group-containing unsaturated monomers; (meth) acrylamide, N, N'-dimethylaminotyl (meth) acrylate, imide (meth) acrylate Nitrogen-containing unsaturated Unsaturated monomers having two polymerizable double bonds such as ethylene glycol di (meth) acrylate; halogen-containing unsaturated monomers such as vinyl chloride and vinylidene chloride; styrene, α-methylstyrene, Examples thereof include aromatic unsaturated monomers such as vinyl toluene; vinyl esters such as vinyl acetate; and vinyl ethers, but are not particularly limited thereto. As the other monomer, only one kind may be used as needed, or two or more kinds may be used.

【0039】特にプライマー層又は樹脂基材との密着性
の点からイミド(メタ)アクリレートを使用することが
好ましい。
It is particularly preferable to use imide (meth) acrylate from the viewpoint of adhesion to the primer layer or the resin substrate.

【0040】上記単量体の混合方法は、特に限定される
ものではなく、従来公知の混合方法が採用され得る。
The method of mixing the above monomers is not particularly limited, and a conventionally known mixing method can be employed.

【0041】また単量体組成物を共重合させる際の重合
方法は、特に限定されるものではなく、従来公知の重合
方法が採用され得る。例えば、溶液重合、分散重合、懸
濁重合、乳化重合等の重合方法が使用できる。溶液重合
法を用いて単量体組成物を重合させる場合に用いること
ができる溶媒としては、トルエン、キシレン、その他の
芳香族系溶媒;iso−プロピルアルコール、n−ブチ
ルアルコール、プロピレングリコールメチルエーテル、
ジプロピレングリコールメチルエーテル等のアルコール
系溶媒;酢酸ブチル、酢酸エチル、セロソルブアセテー
ト等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;ジメチ
ルホルムアミドなどが挙げられる。もちろん使用し得る
溶媒がこれら溶媒に限定されるものではないが、樹脂基
材を浸食する溶剤は好ましくない。これら溶媒は一種の
みを使用してもよいし、二種以上を混合して使用しても
よい。なお、溶媒の使用量は生成物の濃度などを考慮し
適宜定めればよい。
The polymerization method for copolymerizing the monomer composition is not particularly limited, and a conventionally known polymerization method can be employed. For example, polymerization methods such as solution polymerization, dispersion polymerization, suspension polymerization, and emulsion polymerization can be used. Solvents that can be used when polymerizing the monomer composition using the solution polymerization method include toluene, xylene, and other aromatic solvents; iso-propyl alcohol, n-butyl alcohol, propylene glycol methyl ether,
Alcohol solvents such as dipropylene glycol methyl ether; ester solvents such as butyl acetate, ethyl acetate and cellosolve acetate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; dimethylformamide. Of course, solvents that can be used are not limited to these solvents, but solvents that erode the resin substrate are not preferred. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The amount of the solvent used may be appropriately determined in consideration of the concentration of the product and the like.

【0042】また単量体組成物を共重合させる際には重
合開始剤を用いる。重合開始剤としては、たとえば2,
2' −アゾビス−(2−メチルブチロニトリル)、te
rt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、
2,2' −アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパ
ーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイド等
の通常のラジカル重合開始剤が挙げられる。重合開始剤
の使用量は、要求される重合体の特性値などから適宜決
定されるべきものであり、特に限定はないが、単量体成
分全量に対して0.01〜50wt%の範囲が好まし
く、より好ましくは0.05〜20wt%の範囲であ
る。
When copolymerizing the monomer composition, a polymerization initiator is used. As the polymerization initiator, for example, 2,
2'-azobis- (2-methylbutyronitrile), te
rt-butylperoxy-2-ethylhexanoate,
Examples include ordinary radical polymerization initiators such as 2,2'-azobisisobutyronitrile, benzoyl peroxide, and di-tert-butyl peroxide. The amount of the polymerization initiator to be used should be appropriately determined from the required characteristic values of the polymer and the like, and is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.01 to 50 wt% based on the total amount of the monomer components. Preferably, it is in the range of 0.05 to 20 wt%.

【0043】反応温度は、特に限定されるものではない
が、室温〜200℃の範囲が好ましく、40〜140℃
がより好ましい。なお反応時間は、用いる単量体組成物
の組成や重合開始剤の種類などに応じて、重合反応が完
結するように適宜設定すればよい。
The reaction temperature is not particularly limited, but is preferably in the range of room temperature to 200 ° C, and is preferably 40 to 140 ° C.
Is more preferred. The reaction time may be appropriately set according to the composition of the monomer composition to be used, the type of the polymerization initiator, and the like so that the polymerization reaction is completed.

【0044】紫外線吸収性重合体の重量平均分子量(M
w)は、特に限定されないが、2,000〜500,0
00が好ましく、より好ましくは4,000〜300,
000であり、さらに好ましくは5,000〜200,
000である。なお重量平均分子量は、ポリスチレン標
準GPCで測定した値である。
The weight average molecular weight (M
w) is not particularly limited, but 2,000 to 500,0.
00, more preferably 4,000 to 300,
5,000, more preferably 5,000 to 200,
000. Note that the weight average molecular weight is a value measured by polystyrene standard GPC.

【0045】本発明で使用する有機ポリマー複合無機微
粒子とは、無機微粒子表面に有機ポリマーが固定された
複合無機微粒子を意味し、当該無機微粒子を基材保護層
に含有させることにより耐汚染性及び汚染除去性の向上
が図られる。無機微粒子と有機ポリマーの一体化は、無
機微粒子に有機ポリマーが固定されることで達成されて
もよく、後述するように有機質部分と無機質部分を有す
る含ケイ素ポリマーを加水分解・縮合することで無機微
粒子を形成すると同時に有機ポリマーとの一体化を達成
してもよい。ここに固定とは、一時的な接着及び付着を
意味するものではなく、当該複合無機微粒子を溶剤で洗
ったときに洗浄液中に有機ポリマーが検出されないこと
を意味しており、この現象は、有機ポリマーと無機微粒
子の間で化学結合が生成していることを強く示唆してい
る。
The organic polymer composite inorganic fine particles used in the present invention mean composite inorganic fine particles in which an organic polymer is fixed on the surface of the inorganic fine particles. The contamination removal property is improved. The integration of the inorganic fine particles and the organic polymer may be achieved by fixing the organic polymer to the inorganic fine particles, and the inorganic fine particles are hydrolyzed and condensed by a silicon-containing polymer having an organic portion and an inorganic portion as described later. At the same time as forming the fine particles, integration with the organic polymer may be achieved. Here, fixing does not mean temporary adhesion and adhesion, but means that the organic polymer is not detected in the cleaning liquid when the composite inorganic fine particles are washed with a solvent. This strongly suggests that a chemical bond is formed between the polymer and the inorganic fine particles.

【0046】使用できる無機微粒子は、実質的に無機物
からなる微粒子であればよく、構成する元素の種類を問
わないが、無機酸化物が好ましく用いられる。無機微粒
子の形状は、球状、針状、板状、鱗片状、破砕状等任意
の形状でよく、特に限定されない。
The inorganic fine particles that can be used may be fine particles substantially composed of an inorganic substance, regardless of the type of the constituent elements, but inorganic oxides are preferably used. The shape of the inorganic fine particles may be any shape such as a sphere, a needle, a plate, a scale, and a crushed shape, and is not particularly limited.

【0047】複合無機微粒子の平均粒子径は5〜200
nmの範囲が好ましく、より好ましくは5〜100nm
の範囲である。複合無機微粒子の平均粒子径が5nm未
満であると、複合無機微粒子の表面エネルギーが高くな
り、複合無機微粒子の凝集が起こりやすくなる。他方複
合無機微粒子の平均粒径が200nmを超えると、表面
保護層の透明性が低下する。複合無機微粒子の粒子径の
変動係数(粒子径分布)は、50%以下であり、30%
以下が好ましい。複合無機微粒子の粒子径分布が広すぎ
る、すなわち粒子径の変動係数が50%を超えると表面
保護層表面の凹凸が激しくなり、表面保護層の平滑性が
失われるからである。
The average particle diameter of the composite inorganic fine particles is 5 to 200.
nm is preferable, and more preferably 5 to 100 nm.
Range. When the average particle diameter of the composite inorganic fine particles is less than 5 nm, the surface energy of the composite inorganic fine particles increases, and aggregation of the composite inorganic fine particles easily occurs. On the other hand, when the average particle size of the composite inorganic fine particles exceeds 200 nm, the transparency of the surface protective layer decreases. The variation coefficient (particle size distribution) of the particle diameter of the composite inorganic fine particles is 50% or less, and is 30% or less.
The following is preferred. This is because if the particle size distribution of the composite inorganic fine particles is too wide, that is, if the variation coefficient of the particle size exceeds 50%, the surface of the surface protective layer becomes very uneven, and the smoothness of the surface protective layer is lost.

【0048】該無機酸化物は、金属元素が主に酸素原子
との結合を介して3次元ネットワークを構成した種々の
含酸素金属化合物と定義される。無機酸化物を構成する
金属元素としては、例えば元素周期律表II〜VI族から選
ばれる元素が好ましく、元素周期律表III 〜V族から選
ばれる元素がさらに好ましい。その中でもSi、Al、
Ti、Zrから選ばれる元素が好ましい。金属元素がS
iであるシリカ微粒子は製造しやすく、入手が容易であ
るので、最も好ましい無機微粒子である。無機酸化物
は、その製造中に有機基や水酸基を含有することがあ
る。当該有機基とは、例えば置換されていてもよい炭素
数20以下のアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、アラルキル基からなる群より選ばれる少なくとも1
種である。無機微粒子を構成する無機酸化物は1種のみ
である必要はなく、2種以上であってもよい。
The inorganic oxide is defined as various oxygen-containing metal compounds in which a metal element mainly forms a three-dimensional network through a bond with an oxygen atom. As the metal element constituting the inorganic oxide, for example, an element selected from Groups II to VI of the Periodic Table of the Elements is preferable, and an element selected from Groups III to V of the Periodic Table of the Elements is more preferable. Among them, Si, Al,
Elements selected from Ti and Zr are preferred. The metal element is S
The silica fine particles i are the most preferable inorganic fine particles because they are easy to produce and easily available. The inorganic oxide may contain an organic group or a hydroxyl group during the production thereof. The organic group is, for example, at least one selected from the group consisting of an optionally substituted alkyl group having 20 or less carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, and an aralkyl group.
Is a seed. The inorganic oxide constituting the inorganic fine particles need not be only one kind, but may be two or more kinds.

【0049】有機ポリマーは、樹脂内での無機微粒子の
分散性や有機媒体との親和性の向上に寄与するほか、有
機ポリマー自体がバインダーやマトリックスとして寄与
することもある。有機ポリマーの構造は、直鎖状、分枝
状、架橋構造等任意である。有機ポリマーを構成する樹
脂としては、例えば(メタ)アクリル樹脂、ポリスチレ
ン、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレンやポリプロピレン等
のポリオレフィン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ポリ
エチレンテレフタレート等のポリエステル及びこれらの
共重合体であり、これらをアミノ基、エポキシ基、ヒド
ロキシル基、カルボキシル基等の官能基で一部変性した
樹脂等であってもよい。これらの中でも、アクリル系樹
脂、アクリル−スチレン系樹脂、アクリル−ポリエステ
ル系樹脂等のアクリル単位を含む有機ポリマーは、層形
成能を有し、層形成組成物用途に好適である。上記アク
リル単位としては、例えばメチルアクリレート単位、エ
チルアクリレート単位、メチルメタクリレート単位、ポ
リエチレングリコール側鎖等の水酸基を有するアクリレ
ート単位、ポリエチレングリコール側鎖等の水酸基を有
するメタクリレート単位等の極性の高い側鎖を有する単
位を挙げることができ、これらの単位は層の耐汚染性及
び汚染除去性を向上させる。
The organic polymer contributes to the improvement of the dispersibility of the inorganic fine particles in the resin and the affinity with the organic medium, and the organic polymer itself sometimes contributes as a binder or a matrix. The structure of the organic polymer is arbitrary, such as a linear, branched, or crosslinked structure. Examples of the resin constituting the organic polymer include (meth) acrylic resin, polystyrene, polyvinyl acetate, polyolefin such as polyethylene and polypropylene, vinyl chloride, vinylidene chloride, polyester such as polyethylene terephthalate, and copolymers thereof. May be a resin partially modified with a functional group such as an amino group, an epoxy group, a hydroxyl group or a carboxyl group. Among these, an organic polymer containing an acrylic unit such as an acrylic resin, an acrylic-styrene resin, and an acrylic-polyester resin has a layer forming ability and is suitable for a layer forming composition. Examples of the acrylic unit include methyl acrylate units, ethyl acrylate units, methyl methacrylate units, acrylate units having a hydroxyl group such as a polyethylene glycol side chain, and highly polar side chains such as a methacrylate unit having a hydroxyl group such as a polyethylene glycol side chain. Units which have, which improve the soil resistance and the decontamination properties of the layer.

【0050】有機ポリマーは官能基を有するものであっ
てもよい。官能基がパーフルオロアルキル基及び/又は
シリコーン基であると、層の耐汚染性及び自己洗浄性が
向上するため好ましい。有機ポリマーの主鎖とパーフル
オロアルキル基及び/又はシリコーン基との結合状態は
特に限定されないが、これらの基と有機ポリマーの主鎖
とが直接に結合したもののほかに、エステル基(−CO
O−)又はエーテル基(−O−)等を介して結合したも
のでもよい。有機ポリマー中のパーフルオロアルキル基
及び/又はシリコーン基の含有量は特に限定されない
が、全体重量の0.01〜50%がより好ましい。含有
量が0.01%未満であると、被膜形成時に複合無機微
粒子の層表面への移行が起こりにくい。他方、含有量が
50%を超えると、層表面から複合無機微粒子が抜け落
ち、層の耐汚染性及び汚染除去性が低下するおそれがあ
る。
The organic polymer may have a functional group. It is preferable that the functional group be a perfluoroalkyl group and / or a silicone group because the stain resistance and self-cleaning property of the layer are improved. The bonding state between the main chain of the organic polymer and the perfluoroalkyl group and / or silicone group is not particularly limited. In addition to those in which these groups are directly bonded to the main chain of the organic polymer, an ester group (-CO
O-) or those bonded via an ether group (-O-) or the like may be used. The content of the perfluoroalkyl group and / or the silicone group in the organic polymer is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 50% of the total weight. If the content is less than 0.01%, migration of the composite inorganic fine particles to the surface of the layer during the formation of the film is unlikely to occur. On the other hand, if the content exceeds 50%, the composite inorganic fine particles may fall off from the surface of the layer, and the stain resistance and stain removal properties of the layer may be reduced.

【0051】有機ポリマーの平均分子量は特に限定され
ないが、有機溶剤に対する溶解性や複合無機微粒子の製
造し易さ等を考慮すると、200,000以下であるの
が好ましく、50,000以下であるのがより好まし
い。
Although the average molecular weight of the organic polymer is not particularly limited, it is preferably 200,000 or less, more preferably 50,000 or less, in consideration of solubility in an organic solvent, ease of production of composite inorganic fine particles, and the like. Is more preferred.

【0052】本発明で使用する複合無機微粒子は任意の
方法で製造することができる。前述の有機質部分と無機
質部分を有するシロキサン化合物を用いて作成する場
合、使用するシロキサン化合物としては、有機鎖とポリ
シロキサン基から構成され、1分子当たり少なくとも1
個のポリシロキサン基が結合しており、かつ該ポリシロ
キサン基中に少なくとも1個のSi−OR1 基(R1
水素原子又はアルキル基、アシル基から選ばれる、置換
されていてもよい少なくとも一種の基であり、R 1 が1
分子中に複数ある場合、複数のR1 は互いに同一であっ
ても、異っていてもよい。)を含有する構造を有する含
ケイ素ポリマーが好ましく挙げられる。かかる含ケイ素
ポリマーを単独で又は加水分解可能な金属化合物ととも
に、加水分解・縮合する製造方法が好ましい。
The composite inorganic fine particles used in the present invention may be any
It can be manufactured by a method. The organic part mentioned above and inorganic
When using a siloxane compound having a crystalline moiety
In this case, the siloxane compound used
Consisting of siloxane groups, at least one per molecule
Polysiloxane groups are bonded and the polysiloxane
At least one Si-OR in a xanth group1 Group (R1 Is
Substitution selected from a hydrogen atom or an alkyl group or an acyl group
At least one group which may be 1 Is 1
When more than one R is present in the molecule,1 Are identical to each other
Or different. )
Silicon polymers are preferred. Such silicon containing
Polymer alone or with a hydrolyzable metal compound
And a production method of hydrolysis and condensation.

【0053】なお複合無機微粒子とその製造方法の詳細
は、特開平7−178335号公報及び特開平9−30
2257号に記載されており、また本発明で使用する複
合無機微粒子には、特願平9−291390号に記載さ
れているような複合無機微粒子にエチレン性不飽和基を
導入したものも含まれる。
The details of the composite inorganic fine particles and the production method thereof are described in JP-A-7-178335 and JP-A-9-30.
No. 2257, and the composite inorganic fine particles used in the present invention include those obtained by introducing an ethylenically unsaturated group into composite inorganic fine particles as described in Japanese Patent Application No. 9-291390. .

【0054】上記複合無機微粒子を含有する樹脂の市販
品としては、例えば「ユーダブルC−3300」、「ユ
ーダブルC−3600」(以上、(株)日本触媒社製)
等が挙げられる。
Commercial products of the resin containing the composite inorganic fine particles include, for example, “U-double C-3300” and “U-double C-3600” (all manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.).
And the like.

【0055】次に基材保護層の形成について説明する。
生成された紫外線吸収性重合体及び上記複合無機微粒子
を、必要により他の重合体と混合して基材保護層組成物
とし、樹脂基材上に塗布する。このとき基材保護層は、
樹脂基材に直接形成してもよいし、基材保護層形成用溶
剤が樹脂基材を溶解するものである場合は、樹脂基材表
面にプライマー層を形成し、その上に形成するのがよ
い。基材保護層形成用溶剤が樹脂基材を溶解するもので
ない場合であっても、プライマー層を形成することによ
り本発明の一層の効果を奏させることができる。プライ
マー層は、例えばシランカップリング剤や熱可塑性樹脂
又は硬化性樹脂などから選択されたものからなる接着促
進作用を有する層や樹脂基材の可塑移行防止作用を有す
る層である。
Next, the formation of the base material protective layer will be described.
The produced ultraviolet-absorbing polymer and the above-mentioned composite inorganic fine particles are mixed with another polymer, if necessary, to obtain a base material protective layer composition, which is applied onto a resin base material. At this time, the base material protective layer is
It may be formed directly on the resin base material, or if the solvent for forming the base material protective layer dissolves the resin base material, it is preferable to form a primer layer on the surface of the resin base material and form the primer layer thereon. Good. Even when the solvent for forming the base material protective layer does not dissolve the resin base material, the further effect of the present invention can be exhibited by forming the primer layer. The primer layer is, for example, a layer having an adhesion promoting action made of a material selected from a silane coupling agent, a thermoplastic resin, a curable resin, or the like, and a layer having an action of preventing plastic transfer of the resin substrate.

【0056】樹脂プライマーとして、具体例としては、
熱可塑性樹脂としてポリエステル、ポリアミド、ポリエ
ステルアミド、ポリビニルアセタール、塩化ビニル、ポ
リ(メタ)アクリル酸エステル、ポリイミド、ポリウレ
タン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルペ
ンテン、ポリオレフィン、ハロゲン化ポリオレフィン、
アルキド樹脂、ポリアミドイミド、ケイ素樹脂、フッ素
樹脂等やこれらの共重合体や混合体等を用いることがで
きる。また光、熱、酸素などにより硬化する硬化性樹脂
としては、例えばフェノール樹脂、メラミン樹脂、エポ
キシ樹脂、架橋型有機ケイ素樹脂等を用いることができ
る。樹脂プライマーは層の耐水性、耐溶剤性、耐摩耗
性、機械強度などから熱硬化性樹脂を用いるのが好まし
く、さらには周知の架橋剤の併用で架橋化が図れるもの
がより好ましい。
As specific examples of the resin primer,
Polyester, polyamide, polyesteramide, polyvinyl acetal, vinyl chloride, poly (meth) acrylate, polyimide, polyurethane, polycarbonate, polystyrene, polymethylpentene, polyolefin, halogenated polyolefin as thermoplastic resin,
Alkyd resins, polyamide imides, silicon resins, fluorine resins and the like, and copolymers and mixtures thereof can be used. In addition, as the curable resin that is cured by light, heat, oxygen, or the like, for example, a phenol resin, a melamine resin, an epoxy resin, a crosslinkable organosilicon resin, or the like can be used. As the resin primer, a thermosetting resin is preferably used in view of the water resistance, solvent resistance, abrasion resistance, mechanical strength, and the like of the layer, and more preferably a resin primer that can be crosslinked by using a known crosslinking agent in combination.

【0057】本発明では、上記プライマー剤のうちでも
エポキシ樹脂やポリエステル樹脂、アクリル樹脂共重合
体系樹脂の使用が望ましい。例えば、樹脂基材が軟質塩
化ビニル樹脂の場合、その可塑剤防止剤としてポリメン
トNK−380((株)日本触媒社製)を単独若しくは
エポキシ硬化剤と併用して使用される。なお、プライマ
ー剤の溶媒としては、水系でもよいが、周知のアルコー
ル系、カルボン酸エステル系、ケトン系、脂肪族炭化水
素、脂環式又は芳香族炭化水素系及びこれらの混合系を
用いることもできる。もちろん使用し得る溶媒がこれら
の溶媒に限定されるものではないが、樹脂基材を浸食す
るする溶剤は好ましくない。
In the present invention, it is desirable to use an epoxy resin, a polyester resin, or an acrylic resin copolymer resin among the above primers. For example, when the resin substrate is a soft vinyl chloride resin, Polyment NK-380 (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) is used alone or in combination with an epoxy curing agent as a plasticizer inhibitor. In addition, as a solvent for the primer, an aqueous solvent may be used, but a well-known alcohol solvent, a carboxylic acid ester solvent, a ketone solvent, an aliphatic hydrocarbon, an alicyclic or aromatic hydrocarbon solvent, and a mixture thereof may be used. it can. Of course, solvents that can be used are not limited to these solvents, but solvents that erode the resin substrate are not preferred.

【0058】プライマー層の厚さは特に限定はなく、
0.01〜50ミクロンの範囲が好ましく、中でも0.
5〜15ミクロンの範囲にあるものがプライマー層の均
一形成性、密着性等の点から好ましい。
The thickness of the primer layer is not particularly limited.
It is preferably in the range of 0.01 to 50 microns, and in particular, 0.1 to 50 microns.
Those having a size in the range of 5 to 15 microns are preferred in terms of uniformity of formation of the primer layer, adhesion and the like.

【0059】上記組成物の樹脂基材への塗布は、浸漬、
吹き付け、刷毛塗り、カーテンフローコータ、グラビア
コート、ロールコート、スピンコート、バーコート、静
電塗装などの方法により行うことができる。その後に塗
布した基材保護層を加熱したり、紫外線や電子線を照射
して硬化させて最終成形物を得る。
The above composition is applied to a resin substrate by dipping,
Spraying, brush coating, curtain flow coater, gravure coating, roll coating, spin coating, bar coating, electrostatic coating and the like can be used. Thereafter, the applied base material protective layer is heated or irradiated with ultraviolet rays or electron beams to be cured to obtain a final molded product.

【0060】ここで、生成された紫外線吸収性重合体が
単独で硬化できない重合体の場合には、硬化剤を添加す
る必要がある。かかる硬化剤は、紫外線吸収性重合体に
存在する硬化性官能基、例えば水酸基やアミノ基、カル
ボキシル基又はその無水物、エポキシ基、アミド基等と
架橋硬化反応する官能基を1分子当たり2個以上含む化
合物又はポリマーであって、紫外線吸収性重合体に存在
する官能基の種類に応じて選択・使用される。例えば、
紫外線吸収性重合体に存在する官能基がカルボキシル基
又はその無水物である場合には、ポリイソシアネート化
合物又はその変性物、アミノプラスト樹脂、エポキシ樹
脂、オキサゾリン基含有樹脂等の架橋硬化剤、当該官能
基がエポキシ基である場合には、アミンやカルボン酸、
アミド、N−メチロールアルキルエーテル等を含む化合
物からなる架橋硬化剤、当該官能基が水酸基やアミノ基
である場合には、ポリイソシアネート化合物又はその変
性物、エポキシ樹脂、アミノプラスト樹脂等の架橋硬化
剤を挙げることができる。これら硬化剤の中でも、活性
水素を有する基との組み合わせにおいて、イソシアネー
ト化合物、エポキシ樹脂、アミノプラスト樹脂が好まし
い。
Here, when the produced ultraviolet absorbing polymer is a polymer which cannot be cured alone, it is necessary to add a curing agent. Such a curing agent contains two functional groups capable of crosslinking and curing with a curable functional group present in the ultraviolet absorbing polymer, for example, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group or an anhydride thereof, an epoxy group or an amide group. The compound or polymer contained above is selected and used depending on the type of the functional group present in the ultraviolet absorbing polymer. For example,
When the functional group present in the ultraviolet absorbing polymer is a carboxyl group or an anhydride thereof, a cross-linking curing agent such as a polyisocyanate compound or a modified product thereof, an aminoplast resin, an epoxy resin, and an oxazoline group-containing resin; When the group is an epoxy group, an amine, a carboxylic acid,
Crosslinking curing agent comprising a compound containing amide, N-methylol alkyl ether, etc., and when the functional group is a hydroxyl group or an amino group, a crosslinking curing agent such as a polyisocyanate compound or a modified product thereof, an epoxy resin, an aminoplast resin, etc. Can be mentioned. Among these curing agents, isocyanate compounds, epoxy resins and aminoplast resins are preferable in combination with a group having active hydrogen.

【0061】また、紫外線吸収性重合体と混合される上
記他の重合体としては、熱可塑性重合体又は単独あるい
は架橋剤によって架橋硬化する熱硬化性重合体を使用す
ることができる。本発明の樹脂材の用途・要求される特
性によって、当該重合体の種類・使用量を適宜決定すれ
ばよい。当該重合体としては、例えば塩化ビニル樹脂、
ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、シリコン樹脂等の熱
可塑性重合体;ウレタン樹脂、アミノプラスト樹脂、シ
リコン樹脂、エポキシ樹脂等の単独硬化する熱硬化性重
合体;ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂
等の硬化剤によって硬化する熱硬化性重合体を挙げるこ
とができる。
As the other polymer to be mixed with the ultraviolet absorbing polymer, a thermoplastic polymer or a thermosetting polymer which can be crosslinked and cured alone or with a crosslinking agent can be used. The type and amount of the polymer may be appropriately determined depending on the use and required characteristics of the resin material of the present invention. As the polymer, for example, vinyl chloride resin,
Thermoplastic polymers such as polyester resin, acrylic resin, and silicone resin; thermosetting polymers that cure independently such as urethane resin, aminoplast resin, silicone resin, and epoxy resin; curing agents such as polyester resin, acrylic resin, and epoxy resin And a thermosetting polymer which is cured by the heat treatment.

【0062】架橋硬化剤は単独又は2種以上併用しても
よい。架橋硬化剤の使用量は、架橋硬化剤の種類等によ
って適宜決定されるものであるが、一般的には基材保護
層に存在する硬化性官能基と架橋硬化剤中に含まれる架
橋硬化反応する官能基とのモル比が0.8〜1.2の範
囲であることが好ましい。また架橋反応を促進させるた
めに架橋触媒を添加してもよい。かかる架橋触媒として
は例えば、塩類や無機物質、有機物質、酸物質、アルカ
リ物質等が挙げられる。
The crosslinking curing agents may be used alone or in combination of two or more. The amount of the cross-linking curing agent used is appropriately determined depending on the type of the cross-linking curing agent and the like. Generally, the curable functional group present in the base material protective layer and the cross-linking curing reaction contained in the cross-linking curing agent are used. It is preferable that the molar ratio with the functional group to be used is in the range of 0.8 to 1.2. Further, a crosslinking catalyst may be added to promote the crosslinking reaction. Examples of such a crosslinking catalyst include salts, inorganic substances, organic substances, acid substances, and alkaline substances.

【0063】基材保護層が、加熱によって硬化される場
合、硬化温度は架橋性官能基の種類や使用する硬化剤の
種類によって異なるが、例えば室温〜250℃の温度で
硬化するのか好ましい。
When the substrate protective layer is cured by heating, the curing temperature varies depending on the type of the crosslinkable functional group and the type of the curing agent used, but it is preferable to cure at a temperature of room temperature to 250 ° C., for example.

【0064】紫外線照射によって硬化される場合、その
硬化方法は、使用する光重合開始剤、紫外線を発生させ
る光源の種類、光源と塗布面との距離などの条件によっ
ても異なってくるが、例えば波長1,000〜8,00
0オングストロームの紫外線を通常数秒間、長くとも数
十秒間照射する方法を挙げることができる。
In the case of curing by irradiation with ultraviolet rays, the curing method varies depending on conditions such as the photopolymerization initiator used, the type of light source for generating ultraviolet rays, and the distance between the light source and the coated surface. 1,000-8,000
A method of irradiating 0 angstrom ultraviolet rays for several seconds or at most tens of seconds at the most can be mentioned.

【0065】電子線照射によって硬化される場合には、
たとえば通常50〜1000kev、好ましくは100
〜300kevの加速電圧で、吸収線が1〜20Mra
d程度となるように電子線を照射する方法を挙げること
ができる。電子線照射は大気中で行ってもよいが、窒素
などの不活性ガス中で行うのが好ましい。
When cured by electron beam irradiation,
For example, usually 50 to 1000 kev, preferably 100
With an acceleration voltage of ~ 300 keV, the absorption line is 1 ~ 20Mra
A method of irradiating an electron beam so as to be about d can be given. The electron beam irradiation may be performed in the air, but is preferably performed in an inert gas such as nitrogen.

【0066】また紫外線照射又は電子線照射後、必要に
応じて加熱を行い、硬化を一層進行させてもよい。
After the irradiation with ultraviolet rays or the irradiation with electron beams, heating may be performed, if necessary, to further advance the curing.

【0067】基材保護層の厚さは、Lambert−B
eerの法則により共重合される紫外線吸収剤量に依存
するため、所望の樹脂基材の耐候性や表面保護層の性能
を満足する範囲であれば特に限定はなく、例えば0.5
〜200ミクロンが好ましく、より好ましくは1〜10
0ミクロン、さらに好ましくは2〜30ミクロンであ
る。厚さが200ミクロンより厚いと、塗工速度が遅く
なり、また樹脂基材本来の性能が低下することがある。
他方厚さが0.5ミクロンより薄いと、樹脂基材上への
均一塗工が困難となり、また紫外線吸収能が不十分とな
ることがある。
The thickness of the base material protective layer is Lambert-B
Since it depends on the amount of the ultraviolet absorber to be copolymerized according to the eer's law, there is no particular limitation as long as the weather resistance of the desired resin base material and the performance of the surface protective layer are satisfied.
~ 200 microns is preferred, more preferably 1-10
0 microns, more preferably 2-30 microns. If the thickness is greater than 200 microns, the coating speed will be slow and the inherent performance of the resin substrate may be reduced.
On the other hand, if the thickness is less than 0.5 μm, it becomes difficult to apply the resin uniformly on the resin substrate, and the ultraviolet absorbing ability may be insufficient.

【0068】次に本願第二の発明について説明する。本
願第二発明の大きな特徴は、樹脂材を樹脂基材上に基材
保護層を形成した2層構造とし、基材保護層に有機ポリ
マー複合無機微粒子を含有させ、樹脂基材に紫外線吸収
剤を含有させた点にある。すなわち、基材保護層に該複
合無機微粒子を含有させることにより、優れた耐汚染性
及び汚染除去性が得られ、また紫外線吸収剤を使用する
ことにより優れた耐候性が得られた。加えて、樹脂材を
2層構造として、樹脂基材に紫外線吸収剤を含有させて
いるので、単層構造の樹脂材に紫外線吸収剤を含有させ
ていた従来の樹脂材に比べ紫外線吸収剤のブリードアウ
トが抑制でき一層の長期耐候性を実現することができた
のである。
Next, the second invention of the present application will be described. The major feature of the second invention of the present application is that the resin material has a two-layer structure in which a base material protective layer is formed on a resin base material, and the base material protective layer contains organic polymer composite inorganic fine particles, and the resin base material has an ultraviolet absorber. Is contained. That is, by including the composite inorganic fine particles in the base material protective layer, excellent stain resistance and stain removal properties were obtained, and by using an ultraviolet absorber, excellent weather resistance was obtained. In addition, since the resin material has a two-layer structure and the resin base material contains an ultraviolet absorber, compared to the conventional resin material in which a single-layer structure resin material contains an ultraviolet absorber, the ultraviolet absorber has Bleed-out was suppressed and further long-term weather resistance was realized.

【0069】本発明で使用する紫外線吸収剤としては特
に限定はなく、例えばベンゾトリアゾール系、ベンゾフ
ェノン系、サリチル酸フェニルエステル系、トリアジン
系等の紫外線吸収剤を挙げることができる。ベンゾトリ
アゾール系紫外線吸収剤としては、2−(5−メチル−
2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
[2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,αジメチルベン
ジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−
(2' −ヒドロキシ−5' −t−オクチルフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(2' −ヒドロキシ−5' −メ
チルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2' −ヒド
ロキシ−5' −t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2,2−メチレンビス[4−(1,1,3,3−テ
トラメチレンブチル)−6−(2Hベンゾトリアゾール
−2−イル)フェノール]等を例示することができ、ベ
ンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、2−ヒドロキシ
−4−オクトキシベンソフェノン、2,4−ジヒドロキ
シベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−
4' −クロルベンゾフェノン、2,2−ジヒドロキシ−
4−メトキシベンゾフェノン、2,2−ジヒドロキシ−
4,4' −ジメトキシベンゾフェノン等を例示すること
ができる。
The ultraviolet absorbent used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include benzotriazole-based, benzophenone-based, salicylic acid phenyl ester-based, and triazine-based ultraviolet absorbers. Benzotriazole-based ultraviolet absorbers include 2- (5-methyl-
2-hydroxyphenyl) benzotriazole, 2-
[2-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2-
(2′-hydroxy-5′-t-octylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5′-t-butylphenyl) Benzotriazole, 2,2-methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylenebutyl) -6- (2Hbenzotriazol-2-yl) phenol] and the like, and benzophenone-based ultraviolet absorption As the agent, 2-hydroxy-4-octoxybensophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-
4'-chlorobenzophenone, 2,2-dihydroxy-
4-methoxybenzophenone, 2,2-dihydroxy-
4,4'-dimethoxybenzophenone and the like can be exemplified.

【0070】また、サリチル酸フェニルエステル系紫外
線吸収剤としては、パラ−t−ブチルフェニルサリチル
酸エステル、パラ−オクチルフェニルサリチル酸エステ
ル等が例示でき、トリアジン系紫外線吸収剤としては、
2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−メト
キシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジ
フェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−エトキシフェニ
ル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−
6−(2−ヒドロキシ−4−プロポキシフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−
(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,
5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒド
ロキシ−4−へキシルオキシフェニル)−1,3,5−
トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2一ヒドロキ
シ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリ
アジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−
4−ドデシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−
ベンジルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、
2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ブト
キシエトキシ)−1,3,5−トリアジン等が例示でき
る。
Examples of the salicylic acid phenyl ester ultraviolet absorber include para-t-butylphenyl salicylate and para-octylphenyl salicylate. Examples of the triazine ultraviolet absorber include:
2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-ethoxyphenyl) -1,3,3 5-triazine, 2,4-diphenyl-
6- (2-hydroxy-4-propoxyphenyl)-
1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6
(2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -1,3,3
5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-hexyloxyphenyl) -1,3,5-
Triazine, 2,4-diphenyl-6- (21-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-
4-dodecyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-
Benzyloxyphenyl) -1,3,5-triazine,
2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-butoxyethoxy) -1,3,5-triazine and the like can be exemplified.

【0071】該紫外線吸収剤の使用量は、樹脂基材に対
して1〜35重量%、より好ましくは5〜25重量%、
さらに好ましくは10〜20重量%の範囲である。当該
使用量が1重量%未満の場合、紫外線による樹脂基材の
劣化が生じることがある。他方、当該使用量が35重量
%を超える場合、該紫外線吸収剤が樹脂基材からブリー
ドアウトしやすく、樹脂基材の透明性が損なわれるおそ
れがある。
The amount of the ultraviolet absorber used is 1 to 35% by weight, more preferably 5 to 25% by weight, based on the resin base material.
More preferably, it is in the range of 10 to 20% by weight. If the amount is less than 1% by weight, the resin substrate may be deteriorated by ultraviolet rays. On the other hand, when the used amount exceeds 35% by weight, the ultraviolet absorber tends to bleed out from the resin substrate, and the transparency of the resin substrate may be impaired.

【0072】該紫外線吸収剤を樹脂基材に含有させる手
段としては特に限定はないが、例えば樹脂基材の組成物
中に該紫外線吸収剤を添加・混合し成形することにより
樹脂基材中に紫外線吸収剤を含有させることができる。
The means for incorporating the ultraviolet absorber into the resin substrate is not particularly limited. For example, by adding and mixing the ultraviolet absorber into the composition of the resin substrate and molding the resin substrate, An ultraviolet absorber can be included.

【0073】基材保護層に使用する樹脂としては、熱可
塑性樹脂又は単独あるいは架橋剤によって架橋硬化する
熱硬化性樹脂を使用することができる。当該樹脂として
は、例えば塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、アクリ
ル樹脂、シリコン樹脂等の熱可塑性重合体;ウレタン樹
脂、アミノプラスト樹脂、シリコン樹脂等の単独硬化す
る熱硬化性重合体;ポリエステル樹脂、アクリル樹脂等
の硬化剤によって硬化する熱硬化性重合体を挙げること
ができる。
As the resin used for the base material protective layer, a thermoplastic resin or a thermosetting resin which can be crosslinked and cured alone or with a crosslinking agent can be used. Examples of the resin include a thermoplastic polymer such as a vinyl chloride resin, a polyester resin, an acrylic resin, and a silicone resin; a thermosetting polymer that cures alone such as a urethane resin, an aminoplast resin, and a silicone resin; a polyester resin and an acrylic resin And the like, a thermosetting polymer which is cured by a curing agent such as

【0074】使用する樹脂基材や複合無機微粒子は本願
第一の発明のものと共通し、樹脂基材上に基材保護層を
形成する方法についても共通する。
The resin substrate and the composite inorganic fine particles used are the same as those of the first invention of the present application, and the method for forming the substrate protective layer on the resin substrate is also common.

【0075】本願第一の発明及び第二の発明において、
樹脂基材及び基材保護層はその他に種々の添加剤を含ん
でもよい。添加剤としては、例えば、塗料などの層形成
用組成物に一般に使用されるレベリング剤;黄鉛、モリ
ブデートオレンジ、紺青、カドミウム系顔料、チタン
白、複合酸化物顔料、透明酸化鉄、カーボンブラック、
環式高級顔料、溶性アゾ顔料、銅フタロシアニン顔料、
染付顔料、顔料中間体などの顔料;顔料分散剤;抗酸化
剤;粘性改質剤;耐光安定剤;金属不活性化剤;過酸化
物分解剤;充填剤;補強剤;可塑剤;潤滑剤;防食剤;
防錆剤;蛍光性増白剤;有機・無機防炎剤;滴下防止
剤;溶融流改質剤;静電防止剤;シランカップリング剤
などが挙げられる。
In the first invention and the second invention of the present application,
The resin base material and the base material protective layer may further contain various additives. As an additive, for example, a leveling agent generally used in a composition for forming a layer such as a paint; graphite, molybdate orange, navy blue, cadmium-based pigment, titanium white, composite oxide pigment, transparent iron oxide, carbon black ,
Cyclic high-grade pigments, soluble azo pigments, copper phthalocyanine pigments,
Pigments such as dyed pigments and pigment intermediates; pigment dispersants; antioxidants; viscosity modifiers; light stabilizers; metal deactivators; peroxide decomposers; fillers; Agent; anticorrosive;
Rust inhibitors; fluorescent brighteners; organic and inorganic flame retardants; anti-dripping agents; melt flow modifiers; antistatic agents; silane coupling agents.

【0076】[0076]

【実施例】以下、実施例および比較例によって本発明を
さらに詳細に説明するが、本発明はこれらにより何ら限
定されるものではない。なお特に断りのない限り、実施
例および比較例に記載された「部」は重量部を、「%」
は「重量%」を示すものとする。
The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto. Unless otherwise specified, "parts" described in Examples and Comparative Examples are parts by weight and "%"
Represents "% by weight".

【0077】(重合体の合成) (合成例1)攪拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒
素ガス導入口を備えた500ミリリットルのフラスコ
に、シクロヘキシルメタクリレート40部、ブチルアク
リレート30部、n−ブチルメタクリレート15部、イ
ミドアクリレート(「アロニクスTO−1429」東亜
合成社製)15部、ジプロピレングリコールメチルエー
テル80部を仕込み、窒素ガスを導入し、撹拌しながら
110℃まで加熱した。開始剤としてt−ブチルパーオ
キシ−2−エチルヘキサノエート1部及びジプロピレン
グリコールメチルエーテル20部の混合物を2時間かけ
て仕込物に滴下し、滴下後さらに2時間加熱させてアク
リル樹脂の49.9%溶液を得た。
(Synthesis of Polymer) (Synthesis Example 1) 40 parts of cyclohexyl methacrylate, 30 parts of butyl acrylate, and n-type were placed in a 500 ml flask equipped with a stirrer, a dropping port, a thermometer, a cooling tube, and a nitrogen gas inlet. 15 parts of butyl methacrylate, 15 parts of imide acrylate ("Aronix TO-1429" manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and 80 parts of dipropylene glycol methyl ether were charged, and nitrogen gas was introduced, and the mixture was heated to 110 ° C while stirring. As an initiator, a mixture of 1 part of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate and 20 parts of dipropylene glycol methyl ether was added dropwise to the charge over 2 hours, and after the addition, the mixture was heated for another 2 hours to give 49 parts of acrylic resin. A 9.9% solution was obtained.

【0078】この紫外線吸収性重合体を重合体1とす
る。表1に単量体組成物の種類と配合量、及び得られた
重合体の特性値を示す。
This ultraviolet absorbing polymer is referred to as polymer 1. Table 1 shows the types and amounts of the monomer compositions and the characteristic values of the obtained polymers.

【0079】(合成例2〜7)表1に示す単量体組成物
及び配合量で、合成例1と同様にして重合体を製造し
た。製造した重合体をそれぞれ重合体2〜7とする。な
お、合成例4及び合成例7については、合成例1と同様
にして紫外線吸収性重合体を合成した後、窒素と酸素の
混合ガスを導入し、撹拌しながら110℃で、アクリル
酸15部、テトラフェニルホスホニウムブロミド0.2
部、メトキノン0.01部の混合物を30分間かけて滴
下し、その後さらに4時間反応させて重合体の側鎖にア
クロイル基を有する重合体4及び重合体7を製造した。
(Synthesis Examples 2 to 7) Polymers were produced in the same manner as in Synthesis Example 1 using the monomer compositions and compounding amounts shown in Table 1. The produced polymers are referred to as polymers 2 to 7, respectively. In Synthesis Examples 4 and 7, an ultraviolet absorbing polymer was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1, and a mixed gas of nitrogen and oxygen was introduced. , Tetraphenylphosphonium bromide 0.2
And a mixture of 0.01 part of methoquinone were added dropwise over 30 minutes, and the mixture was further reacted for 4 hours to produce Polymer 4 and Polymer 7 having an acroyl group in the side chain of the polymer.

【0080】[0080]

【表1】 [Table 1]

【0081】UVA1:2−[ 2' −ヒドロキシ−5'
−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル] −2H−
ベンゾトリアゾール UVA2:2−[ 2' −ヒドロキシ−5' −(β−メタ
クリロイルオキシエトキシ)−3' −tert−ブチル
フェニル] −4−tert−ブチル−2H−ベンゾトリ
アゾール HALS1:4−メタクリロイルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン HALS2:1−メタクリロイル−4−メタクリロイル
アミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン CHMA:シクロヘキシルメタクリレート TBMA:t−ブチルアクリレート MMA:メチルメタクリレート BA:ブチルアクリレート n−BMA:n−ブチルメタクリレート IA:イミドアクリレート HEMA:2−ヒドロキシエチルメタクリレート MAA:メタクリル酸 GMA:グリシジルメタクリレート 開始剤:tert−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキ
サノエート 反応溶剤1:酢酸n−ブチル 反応溶剤2:ジプロピレングリコールメチルエーテル
UVA1: 2- [2'-hydroxy-5 '
-(Methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-
Benzotriazole UVA2: 2- [2′-hydroxy-5 ′-(β-methacryloyloxyethoxy) -3′-tert-butylphenyl] -4-tert-butyl-2H-benzotriazole HALS1: 4-methacryloyloxy-2 , 2,6,
6-tetramethylpiperidine HALS2: 1-methacryloyl-4-methacryloylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine CHMA: cyclohexyl methacrylate TBMA: t-butyl acrylate MMA: methyl methacrylate BA: butyl acrylate n-BMA: n -Butyl methacrylate IA: imido acrylate HEMA: 2-hydroxyethyl methacrylate MAA: methacrylic acid GMA: glycidyl methacrylate Initiator: tert-butyl peroxy-2-ethylhexanoate Reaction solvent 1: n-butyl acetate Reaction solvent 2: di Propylene glycol methyl ether

【0082】(有機ポリマー複合無機微粒子の製造) 重合性ポリシロキサン(S−1)の合成 攪拌機、温度計及び冷却管を備えた300ミリリットル
の四つ口フラスコに、テトラメトキシシラン144.5
部、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン2
3.6部、水19部、メタノール30.0部、陽イオン
交換樹脂(「アンバーリスト15」ローム・アンド・ハ
ース社製)5.0部を入れ、65℃で2時間撹拌し反応
させた。反応混合物を室温まで冷却した後、冷却管に代
えて蒸留塔、これに接続させた冷却管及び流出口を設
け、常圧下に80℃まで2時間かけて昇温し、メタノー
ルが流出しなくなるまで同温度で保持した。さらに圧力
200mmHg、温度90℃でメタノールが流出しなく
なるまで同温度で保持し、反応をさらに進行させた。再
び室温まで冷却した後、「アンバーリスト15」を濾別
し、数平均分子量1,800の重合性ポリシロキサン
(S−1)を得た。
(Production of Organic Polymer Composite Inorganic Fine Particles) Synthesis of Polymerizable Polysiloxane (S-1) Tetramethoxysilane 144.5 was placed in a 300 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser.
Parts, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane 2
3.6 parts, 19 parts of water, 30.0 parts of methanol, and 5.0 parts of a cation exchange resin (“Amberlyst 15” manufactured by Rohm and Haas) were added, and the mixture was stirred and reacted at 65 ° C. for 2 hours. . After the reaction mixture was cooled to room temperature, a distillation column was provided in place of the cooling tube, a cooling tube connected to the distillation column and an outlet were provided, and the temperature was raised to 80 ° C. over 2 hours under normal pressure until methanol did not flow out. It was kept at the same temperature. Further, the temperature was maintained at a pressure of 200 mmHg and a temperature of 90 ° C. until methanol no longer flowed out, and the reaction was further advanced. After cooling to room temperature again, "Amberlyst 15" was separated by filtration to obtain a polymerizable polysiloxane (S-1) having a number average molecular weight of 1,800.

【0083】含ケイ素ポリマー(P−1)の合成 攪拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口
を備えた1リットルのフラスコに、有機溶剤として酢酸
n−ブチル200部を入れ、窒素ガスを導入し、撹拌し
ながらフラスコ内温を110℃まで加熱した。次いで重
合性ポリシロキサン(S―1)20部、メチルメタクリ
レート80部、エチルアクリレート80部、2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート20部、2,2' −アゾビス
イソブチロニトリル6部を混合した溶液を滴下口から2
時間かけて滴下した。滴下後も同温度で1時間撹拌した
後、1,1' −ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,
3',5−トリメチルシクロヘキサン0.4部を30分
おきに2回添加し、さらに2時間加熱して共重合を行
い、数平均分子量13,000の含ケイ素ポリマーが酢
酸n−ブチルに溶解した溶液を得た。得られた含ケイ素
ポリマーの固形分は49.0%であった。
Synthesis of Silicon-Containing Polymer (P-1) A 1-liter flask equipped with a stirrer, a dropping port, a thermometer, a cooling tube and a nitrogen gas inlet was charged with 200 parts of n-butyl acetate as an organic solvent. Gas was introduced, and the flask was heated to 110 ° C. while stirring. Next, a solution obtained by mixing 20 parts of polymerizable polysiloxane (S-1), 80 parts of methyl methacrylate, 80 parts of ethyl acrylate, 20 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate, and 6 parts of 2,2′-azobisisobutyronitrile is dropped. 2 from the mouth
It was dropped over time. After the addition, the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour, and then added with 1,1′-bis (t-butylperoxy) -3,
0.4 parts of 3 ', 5-trimethylcyclohexane was added twice every 30 minutes, and further heated for 2 hours to carry out copolymerization, and the silicon-containing polymer having a number average molecular weight of 13,000 was dissolved in n-butyl acetate. A solution was obtained. The solid content of the obtained silicon-containing polymer was 49.0%.

【0084】含ケイ素ポリマー(P−2)の合成 撹拌機、滴下口、温度計、冷却管及び窒素ガス導入口を
備えた0.5リットルのフラスコに、有機溶剤としてエ
タノール168部を仕込み、窒素ガスを導入し、撹拌し
ながらフラスコ内温を78℃まで加熱した。ついで重合
性ポリシロキサン(S−1)16部、メチルメタクリレ
ート56部、ブチルアクリレート56部、ヒドロキシエ
チルメタクリレート32部、2,2' −アゾビス(2,
4−ジメチルバレロニトリル)3.2部を混合した溶液
を流下口より仕込物に2時間かけて滴下した。上記溶液
の滴下後も、反応混合物を同温度で1時間撹拌続けた
後、反応混合物に2,2' −アソビス(2,4−ジメチ
ルバレロニトリル)0.3部を30分おきに2回添加
し、反応混合物をさらに2時間加熱して共重合を行い、
数平均分子量が9,000の含ケイ素ポリマー(P−
2)がエタノールに溶解した溶液を得た。得られた溶液
に含される含ケイ素ポリマー(P−2)の固形分は4
0.0%であった。
Synthesis of Silicon-Containing Polymer (P-2) A 0.5-liter flask equipped with a stirrer, a dropping port, a thermometer, a cooling tube and a nitrogen gas inlet was charged with 168 parts of ethanol as an organic solvent. Gas was introduced, and the flask was heated to 78 ° C. while stirring. Then, 16 parts of the polymerizable polysiloxane (S-1), 56 parts of methyl methacrylate, 56 parts of butyl acrylate, 32 parts of hydroxyethyl methacrylate, 2,2′-azobis (2,
A solution obtained by mixing 3.2 parts of 4-dimethylvaleronitrile) was dropped into the charge from the downflow port over 2 hours. After the addition of the above solution, the reaction mixture was continuously stirred at the same temperature for 1 hour, and then 0.3 parts of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was added to the reaction mixture twice every 30 minutes. And the reaction mixture was heated for an additional 2 hours to effect copolymerization,
A silicon-containing polymer having a number average molecular weight of 9,000 (P-
A solution of 2) dissolved in ethanol was obtained. The solid content of the silicon-containing polymer (P-2) contained in the obtained solution was 4%.
0.0%.

【0085】複合無機微粒子の前駆体(SZA−1)の
製造 攪拌機、2つの滴下口(滴下口イ及び滴下口ロ)、温度
計を備えた500ミリリットルの四つ口フラスコに、酢
酸n−ブチル200部、メタノール50部を仕込み、内
温を20℃に調整した。ついでフラスコ内を撹拌しなが
ら上記作成した含ケイ素ポリマー(P−1)の酢酸n−
ブチル溶液20部、テトラメトキシシラン30部、酢酸
n−ブチル20部の混合液(原料液A)を滴下口イか
ら、25%アンモニア水20部、メタノール20部の混
合液(原料液B)を滴下口ロから、1時間かけて滴下し
た。滴下後、同温度で2時間撹拌を続け複合無機微粒子
分散体(SZ−1)を得た。
Preparation of precursor (SZA-1) of composite inorganic fine particles n-butyl acetate was placed in a 500 ml four-necked flask equipped with a stirrer, two dropping ports (dropping port A and dropping port B), and a thermometer. 200 parts and 50 parts of methanol were charged, and the internal temperature was adjusted to 20 ° C. Then, while stirring the inside of the flask, n-acetic acid of the silicon-containing polymer (P-1) prepared above was used.
A mixed solution (raw material liquid A) of 20 parts of a butyl solution, 30 parts of tetramethoxysilane, and 20 parts of n-butyl acetate (a raw material liquid A) was added through a dropping port A to a mixed liquid (raw material liquid B) of 20 parts of 25% aqueous ammonia and 20 parts of methanol. The solution was dropped over 1 hour from the dropper. After dropping, stirring was continued at the same temperature for 2 hours to obtain a composite inorganic fine particle dispersion (SZ-1).

【0086】攪拌機、温度計、冷却管及び流出口が接続
した蒸留塔を備えた500ミリリットルの四つ口フラス
コに、上記で得た複合無機微粒子の前駆体(SZ−1)
を400部入れ、110mmHgの圧力下でフラスコを
100℃まで昇温し、アンモニア、メタノール、酢酸n
−ブチルを固形分濃度が30%となるまで留去し、複合
無機微粒子が酢酸n−ブチルに分散した分散体(SZA
−1)を得た。
The precursor (SZ-1) of the composite inorganic fine particles obtained above was placed in a 500-ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, a cooling pipe, and a distillation column connected to an outlet.
, And the flask was heated to 100 ° C. under a pressure of 110 mmHg, and ammonia, methanol, acetic acid n
-Butyl was distilled off until the solid content concentration became 30%, and a dispersion of composite inorganic fine particles dispersed in n-butyl acetate (SZA
-1) was obtained.

【0087】複合無機微粒子(SZB−1)の製造 攪拌機、2つの滴下口(滴下口イ及びロ)、温度計を備
えた1リットルの四つ口フラスコに、エタノール627
部を仕込み、内温を20℃に調整した。ついでこの仕込
物に、含ケイ素ポリマー(P−2)のエタノール溶液3
2部、テトラメトキシシラン70部の混合液(原料液
A)を滴下口イから、25%アンモニア水9部、エタノ
ール36部、水27部の混合液(原料液B)を滴下口か
ら、撹拌しながら1時間かけて滴下した。滴下後、反応
混合物を同温度で30分間撹拌した後、この反応混合物
に3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン10
部及びエタノール10部の混合液(原料液C)を、滴下
口イから15分間かけて滴下した。さらに反応混合物を
30分間撹拌して、複合無機微粒子が分散した複合無機
微粒子分散体(SZ−1)を得た。
Production of Composite Inorganic Fine Particles (SZB-1) Ethanol 627 was placed in a 1-liter four-necked flask equipped with a stirrer, two dropping ports (dropping ports A and B), and a thermometer.
The internal temperature was adjusted to 20 ° C. Then, an ethanol solution 3 of the silicon-containing polymer (P-2) was added to this charge.
A mixture of 2 parts and 70 parts of tetramethoxysilane (raw material liquid A) was stirred through a dropping port A, and a mixed liquid of 9% of 25% ammonia water, 36 parts of ethanol and 27 parts of water (raw material liquid B) was stirred through a dropping port. While dropping over 1 hour. After the dropwise addition, the reaction mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes, and then 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane was added to the reaction mixture.
A liquid mixture (raw material liquid C) of 10 parts of ethanol and 10 parts of ethanol was dropped from the dropping port a over 15 minutes. The reaction mixture was further stirred for 30 minutes to obtain a composite inorganic fine particle dispersion (SZ-1) in which the composite inorganic fine particles were dispersed.

【0088】次に、撹拌機、滴下口、温度計を備えた1
リットルの四つ口フラスコに、上記で得られた複合無機
微粒子分散体(SZ−1)400部、界面活性剤として
の「ノニポール200」(三洋化成社製)20部及び水
100部を仕込み、内温100℃に調整し、仕込物の固
形分濃度が30%となるまで、アンモニア、エタノール
及びメタノールを留去して複合無機微粒子が水中に分散
した複合無機微粒子分散体(SZB−1)を得た。
Next, a device equipped with a stirrer, a dropping port and a thermometer was prepared.
400 parts of the composite inorganic fine particle dispersion (SZ-1) obtained above, 20 parts of "Nonipol 200" (manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.) as a surfactant, and 100 parts of water were charged into a four-neck four-liter flask, The internal temperature was adjusted to 100 ° C., and ammonia, ethanol, and methanol were distilled off until the solid content concentration of the charge became 30% to obtain a composite inorganic fine particle dispersion (SZB-1) in which the composite inorganic fine particles were dispersed in water. Obtained.

【0089】得られた分散体(SZA−1、SZB−
1)の複合無機微粒子濃度、複合無機微粒子中の無機物
含有量、複合無機微粒子の平均粒子径と変動係数、複合
無機微粒子中のアルコキシ基含有量、経時安定性を表2
に示す。
The resulting dispersions (SZA-1, SZB-
Table 2 shows the concentration of the composite inorganic fine particles of 1), the content of the inorganic substance in the composite inorganic fine particles, the average particle diameter and the variation coefficient of the composite inorganic fine particles, the content of the alkoxy group in the composite inorganic fine particles, and the stability over time.
Shown in

【0090】得られた複合無機微粒子(SZA−1、S
ZB−1)を遠心分離器にかけて得られた上澄み液をG
PCで分析したが、有機ポリマーは検出されなかった。
また上記遠心分離後の沈殿物であり複合無機微粒子をT
HF又は水で洗浄し、その洗液をGPCで分析したが有
機ポリマーは検出されなかった。以上の結果は、複合無
機微粒子では有機ポリマーは無機微粒子に単に付着して
いるのではなく、強固に固定されていることを示してい
る。
The obtained composite inorganic fine particles (SZA-1, SZA-1
ZB-1) was centrifuged to obtain a supernatant,
Analysis by PC revealed no organic polymer.
Further, the composite inorganic fine particles, which are precipitates after the centrifugation, are
After washing with HF or water, the washing solution was analyzed by GPC, but no organic polymer was detected. The above results indicate that in the composite inorganic fine particles, the organic polymer is not simply attached to the inorganic fine particles but is firmly fixed.

【0091】[0091]

【表2】 [Table 2]

【0092】複合無機微粒子の評価 上記で得られた複合無機微粒子分散体について、複合無
機微粒子濃度、複合微粒子中の無機物含有量、複合無機
微粒子の平均粒径と変動係数、複合無機微粒子中のアル
コキシ基含有量、経時安定性は下記方法により分析・評
価した。
Evaluation of Composite Inorganic Fine Particles The composite inorganic fine particle dispersion obtained above was evaluated for the composite inorganic fine particle concentration, the inorganic content in the composite fine particles, the average particle size and the variation coefficient of the composite inorganic fine particles, the alkoxy fine particles in the composite inorganic fine particles. The group content and the stability over time were analyzed and evaluated by the following methods.

【0093】複合無機微粒子濃度 複合無機微粒子分散体を100mmHgの圧力下、13
0℃で24時間乾燥し、下記式から算出した。 複合無機微粒子濃度(重量%)=100×D/W (ここで、D:乾燥後の複合無機微粒子重量(g)、
W:乾燥前の複合無機微粒子分散体重量(g))
Concentration of Composite Inorganic Fine Particles
It was dried at 0 ° C. for 24 hours and calculated from the following equation. Composite inorganic fine particle concentration (% by weight) = 100 × D / W (where D: weight of composite inorganic fine particles after drying (g),
W: Weight of the composite inorganic fine particle dispersion before drying (g)

【0094】複合無機微粒子中の無機物含有量 複合無機微粒子分散体を100mmHgの圧力下、13
0℃で24時間乾燥したものについて元素分析を行い、
灰分を複合無機微粒子中の無機物含有量とした。
Inorganic Content in Composite Inorganic Fine Particles The composite inorganic fine particle dispersion was treated under a pressure of 100 mmHg at 13
Elemental analysis was performed on the product dried at 0 ° C for 24 hours.
The ash content was defined as the inorganic content in the composite inorganic fine particles.

【0095】平均粒子径及び変動係数 動的光散乱測定法で、下記装置を用いて23℃で測定し
た。測定した平均粒子径は体積平均粒子径である。
Average Particle Size and Coefficient of Variation Measured at 23 ° C. by dynamic light scattering measurement using the following apparatus. The measured average particle diameter is a volume average particle diameter.

【0096】装置:サブミクロン粒子径アナライザー
(「NICOMP MODEL 370」野崎産業社
製) 測定試料:複合無機微粒子濃度が0.1〜2.0重量%
のテトロヒドロフランに分散させた複合無機微粒子分散
体(複合無機微粒子中の有機ポリマーが、テトラヒドロ
フランに溶けない場合は有機ポリマーが溶解する溶媒に
分散させた分散体)。 変動係数:変動係数は下記式から算出する。 変動係数(%)=(複合無機微粒子粒子径の標準偏差)
/(複合無機微粒子の平均粒子径)
Apparatus: Submicron particle size analyzer (“NICOMP MODEL 370” manufactured by Nozaki Sangyo Co., Ltd.) Measurement sample: Composite inorganic fine particle concentration of 0.1 to 2.0% by weight
(In the case where the organic polymer in the composite inorganic fine particles is not dissolved in tetrahydrofuran, the composite inorganic fine particle dispersion is dispersed in a solvent in which the organic polymer is dissolved). Coefficient of variation: The coefficient of variation is calculated from the following equation. Coefficient of variation (%) = (standard deviation of particle diameter of composite inorganic fine particles)
/ (Average particle diameter of composite inorganic fine particles)

【0097】複合無機微粒子中のアルコキシ基含有量 複合無機微粒子分散体を100mmHgの圧力下、13
0℃で24時間乾燥した5部を、アセトン50部、2N
−NaOH水溶液50部の混合物に分散させ、室温で2
4時間撹拌した。その後ガスクロマトグラフ装置で液中
のアルコールを定量し、複合無機微粒子のアルコキシ基
含有量を算出した。
Alkoxy Group Content in Composite Inorganic Fine Particles
5 parts dried at 0 ° C. for 24 hours are mixed with 50 parts of acetone and 2N
Dispersed in a mixture of 50 parts of an aqueous NaOH solution,
Stir for 4 hours. Thereafter, the alcohol in the liquid was quantified using a gas chromatograph, and the alkoxy group content of the composite inorganic fine particles was calculated.

【0098】経時安定性 得られた分散体をガードナー粘度チューブ中に密閉し、
50℃で保存した。1ヶ月後、粒子の凝集、沈殿や粘度
の上昇が認められないものを「○」とした。
Stability over time The obtained dispersion was sealed in a Gardner viscosity tube,
Stored at 50 ° C. One month later, those in which no aggregation, sedimentation or increase in viscosity of the particles were observed were evaluated as “○”.

【0099】実施例1 合成例1で得られた重合体1の100部に、レベリング
剤(「BYK300」ビッグケミー社製)0.01部を
加えてよく撹拌し、所定粘度になるようにアクリル樹脂
溶液を調整した。次にポリカーボネート樹脂板の表面を
エチルアルコールで洗浄し、当該アクリル樹脂溶液を塗
膜厚さが5ミクロンとなるようにポリカーボネート樹脂
板表面に塗工し、風乾後80℃で30分間加熱硬化させ
た。次に、重合体5の樹脂100部に無機酸化物含有量
が10%となるように上記製造した複合無機微粒子(S
ZA−1)を混合した混合液に、混合液中に含まれるヒ
ドロキシル基と硬化剤B中に含まれるイソシアネート基
がモル比で1:1となるように硬化剤Bを配合し、レベ
リング剤(「BYK300」ビッグケミー社製)0.0
1部を加えてよく撹拌し、所定粘度になるようにアクリ
ル樹脂溶液を調整した。プライマー層を施したポリカー
ボネート樹脂板表面に当該溶液を塗膜厚さが5ミクロン
となるように塗工し、100℃で30分間熱硬化させ、
試験板を作成した。得られた試験板を後述する評価項目
について評価した。
Example 1 To 100 parts of the polymer 1 obtained in Synthesis Example 1, 0.01 part of a leveling agent (“BYK300” manufactured by Big Chemie Co.) was added, and the mixture was thoroughly stirred. The solution was prepared. Next, the surface of the polycarbonate resin plate was washed with ethyl alcohol, the acrylic resin solution was applied to the surface of the polycarbonate resin plate so that the coating film thickness became 5 μm, air-dried, and then heat-cured at 80 ° C. for 30 minutes. . Next, the composite inorganic fine particles (S) prepared as described above were adjusted so that the inorganic oxide content was 10% in 100 parts of the resin of the polymer 5.
The curing agent B is blended with the mixed solution obtained by mixing ZA-1) such that the molar ratio of the hydroxyl group contained in the mixed solution to the isocyanate group contained in the curing agent B is 1: 1 and the leveling agent ( "BYK300" manufactured by Big Chemie) 0.0
One part was added and stirred well, and an acrylic resin solution was adjusted to a predetermined viscosity. The solution is applied to the surface of the polycarbonate resin plate on which the primer layer has been applied so that the thickness of the coating film becomes 5 μm, and thermally cured at 100 ° C. for 30 minutes.
Test plates were made. The obtained test plate was evaluated for evaluation items described later.

【0100】実施例2 重合体6の樹脂100部に無機酸化物含有量が10%と
なるように上記製造した複合無機微粒子(SZA−1)
を混合した混合液に、混合液中に含まれるヒドロキシル
基と硬化剤A中に含まれるイソシアネート基がモル比で
1:1となるように硬化剤Aを配合し、レベリング剤
(「BYK300」ビッグケミー社製)0.01部を加
えてよく撹拌し、所定粘度になるようにアクリル樹脂溶
液を調整した。プライマー層を形成していない塩化ビニ
ル樹脂板表面に当該溶液を塗膜厚さが5ミクロンとなる
ように塗工し、80℃で30分間熱硬化させ、試験板を
作成した。得られた試験板を後述する評価項目について
評価した。
Example 2 The composite inorganic fine particles (SZA-1) produced as described above such that the content of the inorganic oxide in the resin of the polymer 6 was 10%.
And a leveling agent ("BYK300" Big Chemie) in which a hydroxyl group contained in the mixture and an isocyanate group contained in the curing agent A are mixed at a molar ratio of 1: 1. (Manufactured by K.K.) and stirred well to prepare an acrylic resin solution so as to have a predetermined viscosity. The solution was applied to the surface of the vinyl chloride resin plate on which the primer layer was not formed so that the thickness of the coating film became 5 μm, and was thermally cured at 80 ° C. for 30 minutes to prepare a test plate. The obtained test plate was evaluated for evaluation items described later.

【0101】実施例3 実施例1と同様にして、表3に示す樹脂基材上に可塑剤
移行防止剤である「NK−380」((株)日本触媒社
製)と硬化剤Cを組み合わせてプライマー層を形成さ
せ、次に実施例2と同様にして、基材保護層を形成し試
験板を作成し評価を行った。評価結果を表3に示す。
Example 3 In the same manner as in Example 1, a plasticizer transfer inhibitor "NK-380" (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) and a curing agent C were combined on a resin substrate shown in Table 3. Then, a base layer was formed and a test plate was prepared and evaluated in the same manner as in Example 2. Table 3 shows the evaluation results.

【0102】実施例4 合成例2で得られた重合体2の100部を用い、硬化剤
Aを7部使用する以外は実施例1と同様にして樹脂基材
表面にプライマー層を形成した。次に重合体7の100
部に無機酸化物含有量が10%となるように上記製造し
た複合無機微粒子分散体(SZA−1)を添加し、さら
にレベリング剤(「BYK300」ビッグケミー社製)
0.01部を加えてよく撹拌し、所定粘度になるように
アクリル樹脂溶液を調整した。塗膜厚さが20ミクロン
となるようにプライマー層上に該溶液を塗工し、80℃
で10分間乾燥させた。その後エリアビーム型電子線照
射装置(日新ハイボルテージ社製)を用いて、窒素雰囲
気下、加速電圧200kV、線量10Mradの条件で
照射し、電子線硬化を行なって試験板を作成し評価を行
った。評価結果を表3に示す。
Example 4 A primer layer was formed on the surface of a resin substrate in the same manner as in Example 1 except that 100 parts of the polymer 2 obtained in Synthesis Example 2 was used and 7 parts of the curing agent A was used. Next, 100 of polymer 7
The composite inorganic fine particle dispersion (SZA-1) produced above was added so that the content of the inorganic oxide became 10% in the part, and a leveling agent ("BYK300" manufactured by Big Chemie) was further added.
0.01 part was added and the mixture was stirred well, and the acrylic resin solution was adjusted to a predetermined viscosity. The solution is coated on the primer layer so that the coating thickness becomes 20 microns,
For 10 minutes. Thereafter, irradiation was performed using an area beam type electron beam irradiation apparatus (manufactured by Nissin High Voltage) under a nitrogen atmosphere under the conditions of an acceleration voltage of 200 kV and a dose of 10 Mrad. Was. Table 3 shows the evaluation results.

【0103】実施例5 合成例3で得られた重合体3の100部を用いる以外は
実施例4と同様にして樹脂基材表面にプライマー層を形
成した。次に重合体4の100部に無機酸化物含有量が
10%となるように上記製造した複合無機微粒子分散体
(SZB−1)を添加し、さらにレベリング剤(「BY
K300」ビッグケミー社製)0.01部を加えてよく
撹拌し、所定粘度になるようにアクリル樹脂溶液を調整
した。塗膜厚さが10ミクロンとなるようにプライマー
層上に該溶液を塗工し、80℃で10分間乾燥させた。
その後エリアビーム型電子線照射装置(日新ハイボルテ
ージ社製)を用いて、窒素雰囲気下、加速電圧200k
V、線量10Mradの条件で照射し、電子線硬化を行
なって試験板を作成し評価を行った。評価結果を表3に
示す。
Example 5 A primer layer was formed on the surface of a resin substrate in the same manner as in Example 4 except that 100 parts of the polymer 3 obtained in Synthesis Example 3 was used. Next, the above-prepared composite inorganic fine particle dispersion (SZB-1) was added to 100 parts of the polymer 4 so that the inorganic oxide content became 10%, and a leveling agent (“BY
K300 (manufactured by Big Chemie Co., Ltd.) (0.01 part) was added and stirred well to prepare an acrylic resin solution to a predetermined viscosity. The solution was applied on the primer layer so that the coating thickness became 10 μm, and dried at 80 ° C. for 10 minutes.
Then, using an area beam type electron beam irradiator (manufactured by Nissin High Voltage) under an atmosphere of nitrogen and an acceleration voltage of 200 k
Irradiation was performed under the conditions of V and a dose of 10 Mrad, electron beam curing was performed, and a test plate was prepared and evaluated. Table 3 shows the evaluation results.

【0104】比較例1 複合無機微粒子を添加しない以外は実施例1と同様にし
て試験板を作成し、評価を行った。評価結果を表3に示
す。
Comparative Example 1 A test plate was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the composite inorganic fine particles were not added. Table 3 shows the evaluation results.

【0105】比較例2 添加型紫外線吸収剤(「MARK LA31」アデカ・
アーガス化学社製)を重合体4(固形分)に対して15
wt%添加し、塗膜厚さを20ミクロンとし、電子線硬
化した以外は実施例4と同様にして試験板を作成し評価
を行った。評価結果を表3に示す。
Comparative Example 2 Additive type UV absorber ("MARK LA31" Adeka
Argus Chemical Co., Ltd.) to polymer 4 (solid content)
A test plate was prepared and evaluated in the same manner as in Example 4 except that wt% was added, the coating film thickness was set to 20 μm, and electron beam curing was performed. Table 3 shows the evaluation results.

【0106】比較例3 樹脂基材層に添加型紫外線吸収剤を添加せず、基材保護
層の塗膜厚さを5ミクロンとした以外は実施例5と同様
にして試験板を作成し評価を行った。評価結果を表3に
示す。
Comparative Example 3 A test plate was prepared and evaluated in the same manner as in Example 5, except that the additive type ultraviolet absorber was not added to the resin base material layer and the coating thickness of the base material protective layer was changed to 5 μm. Was done. Table 3 shows the evaluation results.

【0107】(耐汚染性)被膜に0.05%のカーボン
水溶液を刷毛で30回塗布し、80℃で1時間強制乾燥
させた後、水洗しながら刷毛で30回洗浄したときの被
膜汚れの程度を目視によって下記基準で評価した。 ◎:付着なし ○:ほとんど付着なし △:やや付着あり ×:付着あり
(Stain resistance) A 0.05% aqueous solution of carbon was applied to the film 30 times with a brush, and the solution was forcibly dried at 80 ° C. for 1 hour, and then washed 30 times with a brush while washing with water. The degree was visually evaluated according to the following criteria. :: No adhesion ○: Almost no adhesion △: Some adhesion x: Adhesion

【0108】(汚染除去性)試験板を大阪府吹田市で南
(30゜)に向けて暴露し、JISZ8730に準拠し
て、一体型分光色差計(日本電子工業社製)を用いて被
膜の初期明度と3ヶ月後及び6ヶ月後の被膜明度を測定
し、その差(△L)を汚染除去性の指標として評価し
た。△L値がゼロに近いほど汚れにくいことを表してい
る。
(Contamination Removal Property) A test plate was exposed to south (30 °) in Suita-shi, Osaka, and the coating film was formed using an integrated spectral colorimeter (manufactured by JEOL Ltd.) in accordance with JISZ8730. The initial lightness and the lightness of the film after 3 months and 6 months were measured, and the difference (ΔL) was evaluated as an index of the decontamination property. The closer the ΔL value is to zero, the less the stain is.

【0109】(光沢保持性)サンシャインウェザーメー
ター(スガ試験機社製)を用いて、温度63℃一定下
で、降雨なし2時間と降雨18分間のサイクルを繰り返
す条件で試験板を3,000時間暴露し、暴露前後の試
験板の光沢(角度60゜)を測定し、光沢保持性を評価
した。
(Gloss retention property) Using a sunshine weather meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), the test plate was subjected to a cycle of 2 hours without rainfall and 18 minutes of rainfall at a constant temperature of 63 ° C. for 3,000 hours. After the exposure, the gloss (angle 60 °) of the test plate before and after the exposure was measured, and the gloss retention was evaluated.

【0110】(黄変度)JISK−7103に準拠し、
耐候性試験前後の雰囲気温度23℃における試験板の着
色(特に黄色味)を示す黄色度を測定し、その差を黄変
度として評価した。黄変度が4を超えると着色したこと
が目視で認識できる。
(Yellowness) Based on JISK-7103,
The yellowness indicating the coloring (particularly yellowishness) of the test plate at an ambient temperature of 23 ° C. before and after the weather resistance test was measured, and the difference was evaluated as the yellowing degree. When the yellowing degree exceeds 4, it can be visually recognized that coloring has occurred.

【0111】(表面硬度)JIS K5400 6.14の
鉛筆引っかき試験(鉛筆硬度試験)を行い、スリ傷によ
る評価を行った。
(Surface Hardness) A pencil scratch test (pencil hardness test) in accordance with JIS K5400 6.14 was performed, and evaluation was carried out for scratches.

【0112】[0112]

【表3】 [Table 3]

【0113】NK−380:可塑剤移行防止剤(「ポリ
メントNK−380」日本触媒社製) 硬化剤A:多官能イソシアネート(「スミジュールN−
3200」住友バイエルウレタン社製) 硬化剤B:ブロックイソシアネート(「デュラネートM
F−K60X」旭化成工業社製) 硬化剤C:ビスフェノールA型エポキシ(「エピコート
828」油化シェル社製) レベリング剤:「BYK300」ビッグケミー社製 ポリカーボネート(UVA):ポリカーボネート樹脂
(「タフロンIV2500」出光石油化学社製)90w
t%と添加型紫外線吸収剤(「MARK LA31」ア
デカ・アーガス化学社製)15wt%を混合して、押し
出し成形してなるポリカーボネート樹脂板。
NK-380: plasticizer migration inhibitor (“Polyment NK-380” manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) Curing agent A: polyfunctional isocyanate (“Sumidur N-
3200 "manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd. Curing agent B: blocked isocyanate (" Duranate M
F-K60X, manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.) Curing agent C: bisphenol A type epoxy (“Epicoat 828” manufactured by Yuka Shell) Leveling agent: “BYK300” manufactured by Big Chemie Polycarbonate (UVA): polycarbonate resin (“Teflon IV 2500” Idemitsu) Petrochemical 90w
A polycarbonate resin plate obtained by mixing t% and 15 wt% of an additive type ultraviolet absorber (“MARK LA31” manufactured by Adeka Argus Chemical Co., Ltd.) and extruding the mixture.

【0114】基材保護層に複合無機微粒子及び紫外線吸
収性重合体を含有する実施例1〜4の樹脂材では、表面
硬度と耐汚染性及び汚染除去性のバランスに優れ、耐候
性試験後でも光沢は保持され、黄変度も小さい値であっ
た。特に、樹脂基材と基材保護層との間にプライマー層
を形成した実施例1,3,4では優れた結果が得られ
た。また樹脂基材に紫外線吸収剤が含有され、基材保護
層に複合無機微粒子が含有された実施例5の樹脂材は、
紫外線吸収性重合体を使用した他の実施例のものより黄
変度の値は高めではあるもの実用レベルであり、表面硬
度、耐汚染性及び汚染除去性、光沢保持性については非
常に優れた値を示した。一方、基材保護層に複合無機微
粒子を含有しない比較例1の樹脂材では、黄変度は小さ
い値を示しているものの、表面硬度、耐汚染性及び汚染
除去性が劣り、基材保護層に添加型紫外線吸収剤を含有
する比較例2の樹脂材では、耐汚染性及び6ヶ月後の耐
汚染除去性が劣り、表面硬度、光沢保持性および黄変度
も劣っていた。基材保護層に複合無機微粒子を含有する
ものの、紫外線吸収性重合体や紫外線吸収剤を含有しな
い比較例3の樹脂材では、表面硬度、耐汚染性及び汚染
除去性は優れた効果が認められるものの、黄変度が15
と目視によってもはっきりと判るほど黄色味が発現し
た。
The resin materials of Examples 1 to 4 containing the composite inorganic fine particles and the ultraviolet absorbing polymer in the base material protective layer are excellent in the balance between surface hardness, stain resistance and stain removal properties, and even after the weather resistance test. The gloss was maintained and the yellowing degree was also a small value. In particular, in Examples 1, 3, and 4 in which the primer layer was formed between the resin substrate and the substrate protective layer, excellent results were obtained. The resin material of Example 5 in which the resin base material contains an ultraviolet absorber and the base material protective layer contains composite inorganic fine particles,
The yellowing degree was higher than that of the other examples using the UV absorbing polymer, but at a practical level, and the surface hardness, stain resistance and stain removal properties, and gloss retention were excellent. The value was shown. On the other hand, in the resin material of Comparative Example 1 in which the composite inorganic fine particles are not contained in the base material protective layer, although the yellowing degree shows a small value, the surface hardness, the stain resistance and the stain removal property are poor, and the base material protective layer In addition, the resin material of Comparative Example 2 containing an additive type ultraviolet absorber had poor stain resistance and stain-removability after 6 months, and was also inferior in surface hardness, gloss retention and yellowing degree. In the resin material of Comparative Example 3 which contains the composite inorganic fine particles in the base material protective layer but does not contain the ultraviolet absorbing polymer or the ultraviolet absorbing agent, excellent effects are observed in the surface hardness, stain resistance and stain removal property. However, the yellowing degree is 15
And yellowish color developed so as to be clearly recognized by visual observation.

【0115】[0115]

【発明の効果】本発明の紫外線吸収性樹脂材は、長期耐
候性に優れると共に、表面硬度や耐汚染性、汚染除去性
といった各種表面特性にも優れており、自動車の窓、天
窓や採光材、トンネル内壁板、看板等の建築資材、道路
建材等の従来は金属やガラス等が用いられていたところ
に広く使用することができる。
The ultraviolet-absorbing resin material of the present invention has excellent long-term weather resistance and various surface characteristics such as surface hardness, stain resistance, and stain removal properties. It can be widely used in places where metal, glass and the like are conventionally used, such as building materials such as wall plates in tunnels and signs, and road building materials.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09D 5/32 C09D 5/32 7/12 7/12 Z 139/04 139/04 (72)発明者 青山 孝浩 大阪府吹田市西御旅町5番8号 株式会社 日本触媒内 Fターム(参考) 4D075 CA32 CA34 CB07 DA04 DA06 DB31 DC01 DC05 DC13 EB11 4F100 AA20 AH03 AK45 AK52 BA02 BA03 BA05 BA06 BA13 CA02 CA18 EH46 GB07 GB90 JK14 JL06 JL09 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C09D 5/32 C09D 5/32 7/12 7/12 Z 139/04 139/04 (72) Inventor Aoyama Takahiro 5-8 Nishiomibashi-cho, Suita-shi, Osaka F-term (reference) in Nippon Shokubai Co., Ltd. 4D075 CA32 CA34 CB07 DA04 DA06 DB31 DC01 DC05 DC13 EB11 4F100 AA20 AH03 AK45 AK52 BA02 BA03 BA05 BA06 BA13 CA02 CA18 EH46 GB07 GB90 JK14 JL06 JL09

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 樹脂基材の少なくとも片側面上に基材保
護層を有する樹脂材であって、 該基材保護層は、有機ポリマー複合無機微粒子を含有
し、かつ下記一般式(1)及び(2)で表される紫外線
吸収性単量体から選ばれる少なくとも1種を含む単量体
成分を重合してなる重合体を含有することを特徴とする
紫外線吸収性樹脂材。 【化1】 (式中、R1 は水素原子または炭素数1〜8の炭化水素
基を表し、R2 は低級アルキレン基を表し、R3 は水素
原子またはメチル基を表し、Xは水素原子、ハロゲン、
炭素数1〜8の炭化水素基、低級アルコキシ基、シアノ
基またはニトロ基を表す。) 【化2】 (式中、R4 は低級アルキレン基を表し、R5 は水素原
子またはメチル基を表す。)
1. A resin material having a substrate protective layer on at least one side surface of a resin substrate, wherein the substrate protective layer contains organic polymer composite inorganic fine particles, and has the following general formula (1): An ultraviolet-absorbing resin material comprising a polymer obtained by polymerizing a monomer component containing at least one selected from ultraviolet-absorbing monomers represented by (2). Embedded image (Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, R 2 represents a lower alkylene group, R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, X represents a hydrogen atom, a halogen,
Represents a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, a lower alkoxy group, a cyano group or a nitro group. ) (In the formula, R 4 represents a lower alkylene group, and R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group.)
【請求項2】 当該単量体成分が下記一般式(3)及び
(4)で表される紫外線安定性単量体から選ばれる少な
くとも1種を更に含む請求項1記載の紫外線吸収性樹脂
材。 【化3】 (式中、R6 は水素原子またはシアノ基を表し、R7
8 はそれぞれ独立して水素原子またはメチル基を表
し、R9 は水素原子または炭化水素基を表し、Yは酸素
原子またはイミノ基を表す。) 【化4】 (式中、R6 は水素原子またはシアノ基を表し、R7
8 、R7'、R8'はそれぞれ独立して水素原子またはメ
チル基を表し、Yは酸素原子またはイミノ基を表す。)
2. The ultraviolet absorbing resin material according to claim 1, wherein said monomer component further contains at least one selected from ultraviolet stable monomers represented by the following general formulas (3) and (4). . Embedded image (Wherein, R 6 represents a hydrogen atom or a cyano group, R 7,
R 8 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group; R 9 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group; and Y represents an oxygen atom or an imino group. ) (Wherein, R 6 represents a hydrogen atom or a cyano group, R 7,
R 8 , R 7 ′ and R 8 ′ each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and Y represents an oxygen atom or an imino group. )
【請求項3】 樹脂基材の少なくとも片側面上に基材保
護層を有する樹脂材であって、 該基材保護層は、有機ポリマー複合無機微粒子を含有
し、 該樹脂基材は紫外線吸収剤を含有することを特徴とする
紫外線吸収性樹脂材。
3. A resin material having a base material protective layer on at least one side surface of a resin base material, wherein the base material protective layer contains organic polymer composite inorganic fine particles, and the resin base material is an ultraviolet absorbent. An ultraviolet-absorbing resin material comprising:
【請求項4】 該樹脂基材と該基材保護層との間にプラ
イマー層が形成された請求項1乃至3のいずれかに記載
の紫外線吸収性樹脂材。
4. The ultraviolet absorbing resin material according to claim 1, wherein a primer layer is formed between said resin substrate and said substrate protective layer.
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