JP2000105464A - Laser irradiating device and exposure device - Google Patents
Laser irradiating device and exposure deviceInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明はレーザ光の強度分
布を均一化するレーザ照射装置および強度分布が均一化
されたレーザ光によってマスクのパターンを基板に投影
する露光装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser irradiating apparatus for equalizing the intensity distribution of a laser beam and an exposure apparatus for projecting a mask pattern onto a substrate by using the laser beam having a uniform intensity distribution.
【０００２】[0002]
【従来の技術】光共振器から発振出力されたレーザ光を
目的部位に導いて照射するレーザ照射装置は、レーザ加
工、リソグラフィなどの露光技術、検査技術など種々の
用途に利用されている。レーザ光の強度分布は通常ガウ
シアン分布となっており、均一な強度分布をもたないか
ら、目的部位を均一に照射することができないという欠
点がある。2. Description of the Related Art A laser irradiation apparatus for guiding a laser beam oscillated and output from an optical resonator to a target portion and irradiating the laser beam is used for various uses such as laser processing, lithography and other exposure techniques, and inspection techniques. The intensity distribution of the laser beam is usually a Gaussian distribution and does not have a uniform intensity distribution, so that there is a disadvantage that a target portion cannot be uniformly irradiated.
【０００３】そこで、レーザ光によって目的部位を均一
な強度で照射するために、そのレーザ光をカライドスコ
ープやフライアイレンズなどの光学系を用いて空間的な
多重露光することで強度分布を均一化させるということ
が行われている。In order to irradiate a target portion with a uniform intensity by using a laser beam, the laser beam is subjected to a spatial multiple exposure using an optical system such as a kaleidoscope or a fly-eye lens to make the intensity distribution uniform. Is being done.
【０００４】しかしながら、レーザ光は空間的な可干渉
性が強いため、空間的に多重露光すると照射面に干渉縞
が生じ、均一な強度分布での照射ができないという欠点
がある。However, since the laser light has a strong spatial coherence, interference fringes are generated on the irradiation surface when spatially multiple exposure is performed, and irradiation with a uniform intensity distribution cannot be performed.
【０００５】また、レーザ照射装置では光学系の色収差
によるフォーカスずれを防ぐために波長幅を狭くするこ
とがある。一般にレーザ光は波長幅が広いほど出力は安
定し、狭くすると不安定になる。そこで、狭い波長幅で
出力を安定化させるためには単一縦モード発振のレーザ
光が用いられる。Further, in a laser irradiation apparatus, the wavelength width may be narrowed in order to prevent a focus shift due to chromatic aberration of an optical system. In general, the output of a laser beam becomes more stable as the wavelength width increases, and becomes unstable as the wavelength width decreases. Therefore, in order to stabilize the output with a narrow wavelength width, laser light of single longitudinal mode oscillation is used.
【０００６】したがって、レーザ照射装置においては、
単一縦モード発振されたレーザ光を空間的に多重露光し
た場合に、照射面に干渉縞が生じても、できるだけ均一
な強度分布で照射することができるようにすることが望
まれている。Accordingly, in a laser irradiation apparatus,
It is desired that even when interference light fringes occur on an irradiation surface when laser light oscillated in a single longitudinal mode is spatially multiplexed, irradiation can be performed with as uniform an intensity distribution as possible.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】このように、レーザ照
射装置においては、強度分布の均一化や色収差によるフ
ォーカスずれを防ぐために波長幅を狭くすることが望ま
れ、さらにその場合、狭い波長幅で出力を安定化させる
ために単一縦モード発振のレーザ光を用いることが望ま
れているものの、強度分布を均一化するために空間的な
多重露光をすると、照射面に干渉縞が生じて強度分布の
均一化を損なうということがあった。As described above, in a laser irradiation apparatus, it is desired to narrow the wavelength width in order to make the intensity distribution uniform and to prevent a focus shift due to chromatic aberration. Although it is desired to use a single longitudinal mode oscillation laser beam to stabilize the output, spatial multiple exposures to make the intensity distribution uniform produce interference fringes on the irradiated surface, In some cases, uniformity of distribution was impaired.
【０００８】この発明は、色収差をなくすために波長幅
を狭くし、しかも出力を安定化させるために単一縦モー
ド発振させたレーザ光を空間的に多重露光して強度分布
の均一化を計る場合に、照射面における強度分布が干渉
によって不均一になるのを低減できるようにしたレーザ
照射装置および露光装置を提供することにある。According to the present invention, the wavelength width is narrowed in order to eliminate chromatic aberration, and the laser light oscillated in a single longitudinal mode is spatially multiplex-exposed to stabilize the output, thereby making the intensity distribution uniform. In this case, it is an object of the present invention to provide a laser irradiation apparatus and an exposure apparatus capable of reducing a non-uniform intensity distribution on an irradiation surface due to interference.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、高反
射ミラーと出力ミラーとを所定間隔で対向させて配置し
た光共振器と、この光共振器内に設けられたレーザ媒質
およびこのレーザ媒質を励起する励起手段と、上記光共
振器内に設けられ上記レーザ媒質が励起されることで上
記出力ミラーから出力されるレーザ光を単一縦モード発
振させる波長選択手段と、この波長選択手段により選択
される波長が連続的に変化するよう上記波長選択手段を
制御する制御手段と、上記出力ミラーから出力されたレ
ーザ光の強度分布を均一化させる光学均一化手段とを具
備したことを特徴とするレーザ照射装置にある。According to the first aspect of the present invention, there is provided an optical resonator in which a high reflection mirror and an output mirror are arranged to face each other at a predetermined interval, a laser medium provided in the optical resonator, and an optical resonator. Pumping means for exciting the laser medium; wavelength selecting means provided in the optical resonator for exciting the laser medium output from the output mirror in a single longitudinal mode by exciting the laser medium; Control means for controlling the wavelength selection means so that the wavelength selected by the means changes continuously; and optical uniformization means for uniformizing the intensity distribution of the laser light output from the output mirror. There is a laser irradiation device characterized.
【００１０】請求項２の発明は、マスクに形成されたパ
ターンを基板に投影する露光装置において、高反射ミラ
ーと出力ミラーとを所定間隔で対向させて配置した光共
振器と、この光共振器内に設けられたレーザ媒質および
このレーザ媒質を励起する励起手段と、上記光共振器内
に設けられ上記レーザ媒質が励起されることで上記出力
ミラーから出力されるレーザ光を単一縦モード発振させ
る波長選択手段と、この波長選択手段により選択される
波長が連続的に変化するよう上記波長選択手段を制御す
る制御手段と、上記出力ミラーから出力されたレーザ光
の強度分布を均一化させて上記マスクに入射させる光学
均一化手段と、上記マスクを透過したレーザ光を上記基
板に投影する投影光学系とを具備したことを特徴とする
露光装置にある。According to a second aspect of the present invention, in an exposure apparatus for projecting a pattern formed on a mask onto a substrate, an optical resonator in which a high-reflection mirror and an output mirror are arranged to face each other at a predetermined interval, and this optical resonator is provided. A laser medium provided in the optical resonator, and excitation means for exciting the laser medium; and a single longitudinal mode oscillation of laser light output from the output mirror by exciting the laser medium provided in the optical resonator. Wavelength selection means for controlling, a control means for controlling the wavelength selection means so that the wavelength selected by the wavelength selection means changes continuously, and a uniform intensity distribution of the laser light output from the output mirror. An exposure apparatus includes: an optical uniformizing unit that makes the mask incident on the mask; and a projection optical system that projects the laser beam transmitted through the mask onto the substrate.
【００１１】請求項１の発明によれば、波長選択手段に
より選択されるレーザ光の波長を連続的に変化させる
と、空間的に多重露光されたレーザ光によって生じる干
渉縞もその波長の変化に応じてずれるから、照射面を所
定の時間内にほぼ均一に照射することが可能となる。According to the first aspect of the present invention, when the wavelength of the laser light selected by the wavelength selecting means is continuously changed, the interference fringes generated by the spatially multiple-exposed laser light also change in the wavelength. Therefore, the irradiation surface can be irradiated almost uniformly within a predetermined time.
【００１２】請求項２の発明によれば、波長選択手段に
より選択されるレーザ光の波長を連続的に変化させ、空
間的に多重露光されたレーザ光によって生じる干渉縞の
位置をその波長の変化に応じてずらすことで、レーザ光
の強度分布を空間的に多重露光しただけの場合に比べて
均一化することができるから、そのレーザ光によって基
板へのマスクのパターンの投影を均一に行うことができ
る。According to the second aspect of the present invention, the wavelength of the laser beam selected by the wavelength selecting means is continuously changed, and the position of the interference fringe generated by the spatially multiple-exposed laser beam is changed by the change of the wavelength. The laser light intensity distribution can be made uniform as compared with the case where only multiple spatial exposure is performed, so that the mask pattern can be uniformly projected onto the substrate using the laser light. Can be.
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施の形態を
図面を参照して説明する。図１はこの発明のレーザ照射
装置が用いられた露光装置を示し、この露光装置はレー
ザ発振部１を備えている。このレーザ発振部１は高反射
ミラー２と出力ミラー３とを所定の間隔で離間対向させ
て配置した光共振器４を有する。この光共振器４内には
レーザ媒質としてのたとえばＮｄ：ＹＡＧなどの固体レ
ーザロッド５がその軸線を上記光共振器４の光軸に一致
させて設けられている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows an exposure apparatus using the laser irradiation apparatus of the present invention, and the exposure apparatus includes a laser oscillation unit 1. The laser oscillation unit 1 has an optical resonator 4 in which a high reflection mirror 2 and an output mirror 3 are arranged so as to face each other at a predetermined interval. In the optical resonator 4, a solid-state laser rod 5 such as Nd: YAG as a laser medium is provided with its axis aligned with the optical axis of the optical resonator 4.
【００１４】上記固体レーザロッド５の側方には励起ラ
ンプ６が配設されている。この励起ランプ６によって上
記固体レーザロッド５が光励起されることでレーザ光Ｌ
が発生し、そのレーザ光Ｌは光共振器４で増幅されてそ
の出力ミラー３から発振出力されるようになっている。An excitation lamp 6 is provided beside the solid-state laser rod 5. When the solid state laser rod 5 is optically excited by the excitation lamp 6, the laser light L
Is generated, and the laser light L is amplified by the optical resonator 4 and oscillated and output from the output mirror 3.
【００１５】上記光共振器４内には、固体レーザロッド
５の一方の端面と出力ミラー３との間に上記出力ミラー
３から発振出力されるレーザ光Ｌの波長を選択する波長
選択手段としてのエタロン８が設けられている。エタロ
ン８は所定間隔で対向して配置された２枚のエタロン板
８ａから構成されていて、この２枚のエタロン板８ａが
平面ミラーの場合、これらミラーの反射率Ｒと間隔ｄに
より決定される下記（１）式の波長間隔Δｆで透過率が
ピークとなる。The optical resonator 4 has a wavelength selecting means for selecting a wavelength of the laser light L oscillated and output from the output mirror 3 between one end face of the solid-state laser rod 5 and the output mirror 3. An etalon 8 is provided. The etalon 8 is composed of two etalon plates 8a opposed to each other at a predetermined interval. When the two etalon plates 8a are plane mirrors, the etalon 8 is determined by the reflectance R and the interval d of these mirrors. The transmittance peaks at the wavelength interval Δf in the following equation (1).
【００１６】 Δｆ＝ｃ／（２ｎ・ｄ・ｃｏｓθ） …（１）式 ここで、ｃは光速、ｎはミラー間の屈折率、ｄはミラー
間隔、θは光軸に対するミラー面の傾き角度である。Δf = c / (2n · d · cos θ) (1) where c is the speed of light, n is the refractive index between mirrors, d is the mirror interval, and θ is the angle of inclination of the mirror surface with respect to the optical axis. is there.
【００１７】したがって、エタロン８を光軸に対して傾
けたり、ミラー間隔ｄを変えたり、ミラー間の気体の圧
力を変えるなどのことによって上記エタロン８の透過率
がピークとなる波長を制御すれば、上記出力ミラー３か
ら単一縦モード発振されるレーザ光Ｌの波長を変えるこ
とができる。Therefore, by controlling the wavelength at which the transmittance of the etalon 8 becomes a peak by tilting the etalon 8 with respect to the optical axis, changing the mirror distance d, or changing the gas pressure between the mirrors. The wavelength of the laser light L oscillated in the single longitudinal mode from the output mirror 3 can be changed.
【００１８】この実施の形態では、光共振器４から発振
出力されるレーザ光Ｌの中心波長の制御は、上記エタロ
ン８の傾き角度を制御装置１１によって連続的に変える
ことで行われるようになっている。具体的な制御の方法
としては、エタロン８の傾き角度に対する透過率を予め
測定しておき、このデータを制御装置１１のメモリに格
納しておき、所望の透過率に対するエタロン８の角度制
御量を求め、その角度制御量に応じて上記エタロン８を
駆動すればよい。In this embodiment, the control of the center wavelength of the laser light L oscillated and output from the optical resonator 4 is performed by continuously changing the inclination angle of the etalon 8 by the control device 11. ing. As a specific control method, the transmittance with respect to the tilt angle of the etalon 8 is measured in advance, this data is stored in the memory of the control device 11, and the angle control amount of the etalon 8 with respect to the desired transmittance is determined. Then, the etalon 8 may be driven according to the angle control amount.
【００１９】上記光共振器４の出力ミラー３から発振出
力されたレーザ光Ｌは第１の非線形結晶１２によって波
長が半分の第１高調波に変換され、ついで第２の非線形
結晶１３によってさらに波長が半分の第２高調波に変換
される。具体的には、レーザ光ＬがＹＡＧレーザで、そ
の波長が１０６４ｎｍの場合、第１の非線型結晶１２に
はＬＢＯ（ＬｉＢ3 Ｏ5 ）結晶を用いることで波長が５
３２ｎｍに変換され、第２の非線型結晶１３にはＢＢＯ
（β―Ｂａ2 ＢＯ4 ）結晶が用いられることで、波長が
２６６ｎｍに変換されるようになっている。The laser light L oscillated and output from the output mirror 3 of the optical resonator 4 is converted by a first nonlinear crystal 12 into a first harmonic having a half wavelength, and then further converted by a second nonlinear crystal 13 into a first harmonic. Is converted to a half second harmonic. Specifically, when the laser beam L is a YAG laser and the wavelength is 1064 nm, the wavelength is set to 5 by using an LBO (LiB 3 O 5 ) crystal for the first nonlinear crystal 12.
Is converted to 32 nm, and the second nonlinear crystal 13 has BBO
The wavelength is converted to 266 nm by using the (β-Ba 2 BO 4 ) crystal.
【００２０】上記第２の非線型結晶１３から出射したレ
ーザ光Ｌは光学均一化手段１４に入射する。この光学均
一化手段１４はカライドスコープやフライアイレンズな
どが用いられており、そこに入射したレーザ光Ｌを所定
の照射面に多重露光して強度分布を均一化させることが
できるようになっている。The laser light L emitted from the second non-linear crystal 13 enters the optical uniformizing means 14. The optical homogenizing means 14 uses a kaleidoscope, a fly-eye lens, or the like, and makes it possible to make the intensity distribution uniform by performing multiple exposure of the laser light L incident thereon onto a predetermined irradiation surface. ing.
【００２１】上記光学均一化手段１４から出射したレー
ザ光Ｌはマスク１５を経て反射ミラー１６で反射し、投
影レンズ１７を通って基板１８を照射するようになって
いる。The laser light L emitted from the optical uniformizing means 14 is reflected by a reflection mirror 16 through a mask 15 and irradiates a substrate 18 through a projection lens 17.
【００２２】このような構成の露光装置においては、エ
タロン８の透過波長幅を狭くし、かつ透過波長間隔をレ
ーザゲイン幅（レーザ発振部にてレーザ発振している光
の波長幅）の数倍に設定した場合、透過波長ピークとレ
ーザ光Ｌの縦モード発振とを一致させれば、単一縦モー
ド発振が得られ、またこれらが一致しなければ発振しな
い。In the exposure apparatus having such a configuration, the transmission wavelength width of the etalon 8 is narrowed, and the transmission wavelength interval is set to several times the laser gain width (the wavelength width of light oscillated by the laser oscillation section). When the transmission wavelength peak and the longitudinal mode oscillation of the laser light L are matched, a single longitudinal mode oscillation is obtained, and if they do not match, no oscillation occurs.
【００２３】エタロン８の傾き角度を制御装置１１によ
って変化させ、エタロン８の透過波長をスキャンしてい
けば、透過波長がレーザ光Ｌの縦モード発振と一致する
ときにのみレーザ発振する。エタロン８のスキャン速度
を増加した場合、レーザ光Ｌの発振はパルス的になる。
これはＱスイッチ発振とみなすことができ、一定速度で
スキャンした場合、一定周波数でレーザ光Ｌがパルス発
振するとともに、各パルスごとに波長が異なり、波長の
ずれ分はレーザ縦モード間隔に等しい。If the transmission angle of the etalon 8 is scanned by changing the inclination angle of the etalon 8 by the control device 11, laser oscillation is performed only when the transmission wavelength matches the longitudinal mode oscillation of the laser light L. When the scan speed of the etalon 8 is increased, the oscillation of the laser light L becomes pulse-like.
This can be regarded as Q-switch oscillation, and when scanning at a constant speed, the laser light L oscillates at a constant frequency with a pulse, the wavelength differs for each pulse, and the wavelength shift is equal to the laser longitudinal mode interval.
【００２４】レーザ光Ｌを光学均一化手段１４によって
空間的に多重露光して強度分布を均一化する場合、上述
したように基板１８の照射面には図３（ａ）に示すよう
に干渉縞Ｚが生じ、その強度分布は図３（ｂ）に示すよ
うになる。When the laser beam L is spatially multiple-exposed by the optical homogenizing means 14 to make the intensity distribution uniform, as described above, the interference pattern is formed on the irradiation surface of the substrate 18 as shown in FIG. Z is generated, and the intensity distribution is as shown in FIG.
【００２５】基板１８の照射面における干渉縞Ｚの発生
位置は波長に依存する。そのため、レーザ発振部１から
レーザ光Ｌをパルス発振させるとともに、制御装置１１
によってエタロン８の傾き角度を連続的に変化させ、こ
のエタロン８から出力されるレーザ光Ｌの波長をパルス
ごとにずらせば、基板１８を照射するレーザ光Ｌの干渉
縞のピークもパルスごとにずれることになる。したがっ
て、数パルスの積算光量において、基板１８の照射面で
は照射光量を均一化することができる。The position where the interference fringes Z occur on the irradiation surface of the substrate 18 depends on the wavelength. Therefore, the laser oscillation section 1 causes the laser beam L to oscillate in pulses and the control device 11
If the inclination angle of the etalon 8 is continuously changed by changing the wavelength of the laser light L output from the etalon 8 for each pulse, the peak of the interference fringe of the laser light L irradiating the substrate 18 also shifts for each pulse. Will be. Therefore, the irradiation light amount can be made uniform on the irradiation surface of the substrate 18 with the integrated light amount of several pulses.
【００２６】図２は基板１８にレーザ光Ｌを３パルス照
射したときに、各パルスの干渉縞Ｚ1 、Ｚ2 、Ｚ3 がず
れる状態を示している。すなわち、光共振器４内にエタ
ロン８を設け、それによってレーザ光Ｌを短波長化して
色収差によるフォーカスずれを防ぐとともに、短波長で
の出力の安定化を計るために単一縦モード発振させる場
合、上記エタロン８の傾き角度を制御装置１１によって
連続的に変えることで、多重反射によって生じる干渉縞
の位置をずらすことができるから、照射強度の均一化を
計ることができる。FIG. 2 shows a state where the interference fringes Z 1 , Z 2 and Z 3 of each pulse are shifted when the substrate 18 is irradiated with three laser beams L. That is, a case where the etalon 8 is provided in the optical resonator 4 to thereby shorten the wavelength of the laser light L to prevent a focus shift due to chromatic aberration and to oscillate in a single longitudinal mode to stabilize the output at a short wavelength By continuously changing the inclination angle of the etalon 8 by the control device 11, the position of the interference fringes generated by the multiple reflection can be shifted, so that the irradiation intensity can be made uniform.
【００２７】この発明は上記一実施の形態に限定され
ず、種々変形可能である。たとえば、波長選択手段とし
てエタロンを用いた場合について説明したが、エタロン
に代わり回折格子を用いてもよく、その場合も回折格子
の角度を光軸に対して連続的に変化させるようにすれば
よい。The present invention is not limited to the above embodiment, but can be variously modified. For example, although the case where an etalon is used as the wavelength selecting means has been described, a diffraction grating may be used instead of the etalon, and in that case, the angle of the diffraction grating may be continuously changed with respect to the optical axis. .
【００２８】[0028]
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、レーザ
光を多重露光して強度分布を均一化する場合、波長選択
手段により選択されるレーザ光の波長を連続的に変化さ
せるようにした。そのため、波長の変化に応じて照射面
における干渉縞のピーク位置もずれるから、その照射面
におけるレーザ光の強度分布を均一化することができ
る。As described above, according to the present invention, when the laser beam is subjected to multiple exposure to make the intensity distribution uniform, the wavelength of the laser beam selected by the wavelength selecting means is continuously changed. . Therefore, the peak position of the interference fringes on the irradiation surface also shifts according to the change in the wavelength, so that the intensity distribution of the laser light on the irradiation surface can be made uniform.
【図１】この発明の一実施の形態を示す露光装置の概略
的構成図。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an exposure apparatus showing an embodiment of the present invention.
【図２】同じく干渉縞のピークパルスをずらした状態の
説明図。FIG. 2 is an explanatory diagram showing a state where peak pulses of interference fringes are shifted.
【図３】（ａ）は基板に形成される干渉縞の説明図、
（ｂ）は同じく干渉縞のピークパルスの強度分布の説明
図。FIG. 3A is an explanatory diagram of interference fringes formed on a substrate,
(B) is an explanatory view of the intensity distribution of the peak pulse of the interference fringe.
２…高反射ミラー ３…出力ミラー ４…光共振器 ５…固体レーザロッド（レーザ媒質） ６…励起ランプ（励起手段） ８…エタロン（波長選択手段） １４…光学均一化手段 １５…マスク 2 high reflection mirror 3 output mirror 4 optical resonator 5 solid laser rod (laser medium) 6 excitation lamp (excitation means) 8 etalon (wavelength selection means) 14 optical homogenization means 15 mask
Claims (2)
で対向させて配置した光共振器と、 この光共振器内に設けられたレーザ媒質およびこのレー
ザ媒質を励起する励起手段と、 上記光共振器内に設けられ上記レーザ媒質が励起される
ことで上記出力ミラーから出力されるレーザ光を単一縦
モード発振させる波長選択手段と、 この波長選択手段により選択される波長が連続的に変化
するよう上記波長選択手段を制御する制御手段と、 上記出力ミラーから出力されたレーザ光の強度分布を均
一化させる光学均一化手段とを具備したことを特徴とす
るレーザ照射装置。An optical resonator in which a high-reflection mirror and an output mirror are opposed to each other at a predetermined interval; a laser medium provided in the optical resonator; and excitation means for exciting the laser medium; A wavelength selecting means provided in a resonator to oscillate the laser light output from the output mirror in a single longitudinal mode by exciting the laser medium; and a wavelength selected by the wavelength selecting means changes continuously. A laser irradiating apparatus comprising: a controller for controlling the wavelength selector so as to perform the above operation; and an optical homogenizer for homogenizing the intensity distribution of the laser beam output from the output mirror.
影する露光装置において、 高反射ミラーと出力ミラーとを所定間隔で対向させて配
置した光共振器と、 この光共振器内に設けられたレーザ媒質およびこのレー
ザ媒質を励起する励起手段と、 上記光共振器内に設けられ上記レーザ媒質が励起される
ことで上記出力ミラーから出力されるレーザ光を単一縦
モード発振させる波長選択手段と、 この波長選択手段により選択される波長が連続的に変化
するよう上記波長選択手段を制御する制御手段と、 上記出力ミラーから出力されたレーザ光の強度分布を均
一化させて上記マスクに入射させる光学均一化手段と、 上記マスクを透過したレーザ光を上記基板に投影する投
影光学系とを具備したことを特徴とする露光装置。2. An exposure apparatus for projecting a pattern formed on a mask onto a substrate, comprising: an optical resonator in which a high-reflection mirror and an output mirror are arranged to face each other at a predetermined interval; and an optical resonator provided in the optical resonator. A laser medium and excitation means for exciting the laser medium; wavelength selection means provided in the optical resonator, for exciting the laser medium output from the output mirror by exciting the laser medium in a single longitudinal mode; Control means for controlling the wavelength selection means so that the wavelength selected by the wavelength selection means is continuously changed; and uniformizing the intensity distribution of the laser light output from the output mirror to make the laser light incident on the mask. An exposure apparatus comprising: an optical homogenization unit; and a projection optical system that projects a laser beam transmitted through the mask onto the substrate.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10275360A JP2000105464A (en) | 1998-09-29 | 1998-09-29 | Laser irradiating device and exposure device |
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| JP10275360A JP2000105464A (en) | 1998-09-29 | 1998-09-29 | Laser irradiating device and exposure device |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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|---|---|---|---|
| JP10275360A Pending JP2000105464A (en) | 1998-09-29 | 1998-09-29 | Laser irradiating device and exposure device |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP2000105464A (en) |
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1998
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