JP2000096299A - Electrode device in electrical treating vessel - Google Patents

Electrode device in electrical treating vessel

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JP2000096299A
JP2000096299A JP10284788A JP28478898A JP2000096299A JP 2000096299 A JP2000096299 A JP 2000096299A JP 10284788 A JP10284788 A JP 10284788A JP 28478898 A JP28478898 A JP 28478898A JP 2000096299 A JP2000096299 A JP 2000096299A
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metal strip
protector
electrode
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protectors
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Yasunobu Maekawa
泰伸 前川
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NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the damage of protectors by metallic strip edges, etc., with an electrode device to be disposed in an electrical treating vessel for electrical treatment of the metallic strip. SOLUTION: The electrode device has insoluble electrodes which face a metallic strip bus line in the electrical treating vessel and are arranged at prescribed spacings from a metallic strip bus line and the insulative protectors projectingly disposed apart suitable spacings on the surfaces of the insoluble electrodes facing the metallic strip bus line. The protectors are composed of insulating materials of >=80 HSD in Shore hardness (the Shore hardness regulated by JIS Z 2264). The occurrence of the large shorting trouble and the surface appearance defects and surface defects of the strip by the damage of the protectors may be surely prevented and since there is no damage of the protectors, the service life of the insoluble electrodes may be prolonged.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明が属する技術分野】本発明は、金属ストリップに
電気めっき、電解研磨、電解洗浄等の通電処理を行うた
めの通電処理槽内に設けられる電極装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrode device provided in an energization processing tank for performing an energization process such as electroplating, electrolytic polishing, electrolytic cleaning, etc. on a metal strip.

【0002】[0002]

【従来の技術】電気めっき、電解研磨、電解洗浄等の金
属ストリップの通電処理においては、通電処理槽内の電
解液中において、例えば、通板する金属ストリップを陰
極、これに平行して設置した電極を陽極とし、これら陽
極・陰極の間で電気化学反応を起こさせるが、このよう
な通電処理では反応効率上両極間の距離(極間距離)を
適正化することが重要である。すなわち、極間距離が大
きいと電解液抵抗が増大して反応効率が低下するため、
原則として極間距離はできるだけ小さい方が望ましい。
2. Description of the Related Art In a current supply process of a metal strip such as electroplating, electrolytic polishing, and electrolytic cleaning, for example, a metal strip to be passed through is placed in parallel with the cathode in an electrolytic solution in a current supply tank. An electrode is used as an anode, and an electrochemical reaction is caused between the anode and the cathode. In such an energization treatment, it is important to optimize a distance between both electrodes (interelectrode distance) in terms of reaction efficiency. That is, if the distance between the electrodes is large, the electrolyte resistance increases and the reaction efficiency decreases,
In principle, it is desirable that the distance between the poles is as small as possible.

【0003】しかし、特に通電処理槽が水平方向に金属
ストリップを移動させて通電処理を行う水平型処理槽で
ある場合、金属ストリップの張力変動や形状不良等によ
って金属ストリップが上下方向でのバタツキを生じ、金
属ストリップが電極と接触しやすい問題がある。したが
って、このような金属ストリップのバタツキ分を考慮
し、定常操業状態における極間距離を広めに設定せざる
を得なかった。
[0003] However, in particular, when the energization processing tank is a horizontal processing tank for performing energization processing by moving a metal strip in the horizontal direction, the metal strip may flap in the vertical direction due to fluctuations in the tension of the metal strip, shape defects, and the like. As a result, there is a problem that the metal strip easily contacts the electrode. Therefore, in consideration of the flapping of the metal strip, the distance between the poles in the steady operation state has to be set wider.

【0004】このような問題に対して、特公昭50−8
020号公報には、電極として不溶解性陽極を用いると
ともに、この不溶性陽極のストリップパスラインと相対
する面に短絡防止用のプロテクタ設けた構造の水平型電
気めっき槽が提案されている。図4及び図5は、この従
来の水平型電気めっき槽を示すもので、図4はめっき槽
の縦断面図、図5はめっき槽内部の平面図であり、4は
不溶性電極、5はプロテクタ、6はコンダクタロール、
7はめっき液入口、8はめっき液受槽、9はめっき液出
口である。
To solve such a problem, Japanese Patent Publication No. Sho 50-8
No. 020 proposes a horizontal electroplating tank having a structure in which an insoluble anode is used as an electrode and a protector for preventing short circuit is provided on a surface of the insoluble anode opposite to the strip pass line. 4 and 5 show this conventional horizontal electroplating tank. FIG. 4 is a longitudinal sectional view of the plating tank, FIG. 5 is a plan view of the inside of the plating tank, 4 is an insoluble electrode, and 5 is a protector. , 6 is a conductor roll,
7 is a plating solution inlet, 8 is a plating solution receiving tank, and 9 is a plating solution outlet.

【0005】金属ストリップSはコンダクタロール6に
より水平方向に案内されてめっき槽内に進入し、めっき
される。めっき槽としては別途槽体を設けてもよいが、
この例では金属ストリップSと対向して上下に設けられ
る不溶性電極4自体でめっき槽を構成し、必要に応じて
ゴム、合成樹脂等の絶縁体で外側をライニングしてあ
る。めっき槽内には、めっき液入口7からめっき液が導
入されて金属ストリップ進行方向と対向して不溶性電極
4間を流れ、下部のめっき液受槽8からめっき液出口9
へと流出して回収される。
[0005] The metal strip S is guided in the horizontal direction by the conductor roll 6, enters the plating tank, and is plated. Although a separate tank body may be provided as a plating tank,
In this example, the plating bath is constituted by the insoluble electrodes 4 provided vertically above and below the metal strip S, and the outside is lined with an insulator such as rubber or synthetic resin as required. Into the plating bath, a plating solution is introduced from a plating solution inlet 7 and flows between the insoluble electrodes 4 in a direction opposite to the metal strip advancing direction, and a plating solution outlet 9 from a lower plating solution receiving tank 8.
Spilled out and collected.

【0006】不溶性電極4の金属ストリップパスライン
と相対する面には、金属ストリップの張力変動その他の
要因によって金属ストリップSと不溶性電極4とが短絡
しないように、ベークライト等の絶縁材料で作られたプ
ロテクタ5が取り付けられている。このプロテクタ5は
長方形断面の短冊状の部材であり、この構造例では、め
っき槽内のめっき液流れを均一化するとともに金属スト
リップSの幅方向にめっきむらが生じないようにするた
め、プロテクタ5はパスライン方向に向かってハの字状
に配置されている。
The surface of the insoluble electrode 4 facing the metal strip pass line is made of an insulating material such as bakelite so that the metal strip S and the insoluble electrode 4 are not short-circuited due to fluctuations in tension of the metal strip and other factors. The protector 5 is attached. The protector 5 is a rectangular member having a rectangular cross section. In this structural example, the protector 5 is used to make the plating solution flow in the plating tank uniform and to prevent uneven plating in the width direction of the metal strip S. Are arranged in a C shape in the direction of the pass line.

【0007】このような不溶性電極に設けられる短絡防
止用のプロテクタに関しては、上記の公報以外にも例え
ば特開平7−150396号公報、特開昭61−124
599号公報、特開平7−11489号公報、特開平7
−11488号公報、実開平4−25864号公報等に
おいて様々な形状のものが提案されている。
[0007] Regarding the protector for preventing short circuit provided on such an insoluble electrode, besides the above-mentioned publications, for example, JP-A-7-150396 and JP-A-61-124.
599, JP-A-7-11489, JP-A-7-11
Various shapes are proposed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11488, Japanese Utility Model Application Laid-Open No. 4-25864, and the like.

【0008】ところで、上記のようなプロテクタは、電
気的に絶縁性であることが必要であり、特開平7−11
488号公報に示されるように、その素材としてはFR
P、ベークライト、高分子ポリエチレン等の合成樹脂が
採用されている。一方において、近年では金属ストリッ
プと電極間の距離が短縮化する傾向にあり、その距離を
9〜15mm程度に設定することが一般化しつつある。
このため金属ストリップの中伸、耳波、反り等の形状不
良や、通電処理槽内での金属ストリップの蛇行、バタツ
キ等の原因により、金属ストリップとプロテクタの接触
が不可避的になっている。
Incidentally, the above-mentioned protector needs to be electrically insulative.
No. 488, the material is FR
Synthetic resins such as P, bakelite, and high-molecular polyethylene are employed. On the other hand, in recent years, the distance between the metal strip and the electrode tends to be shortened, and setting the distance to about 9 to 15 mm is becoming common.
For this reason, contact between the metal strip and the protector is unavoidable due to poor shape such as middle elongation, ear waves, and warpage of the metal strip, meandering and flapping of the metal strip in the electric treatment tank.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかし、このように金
属ストリップとプロテクタが接触すると、金属ストリッ
プエッジによりプロテクタが損傷するという問題が生じ
る。特に、従来一般に使用されているプロテクタの材質
では、金属ストリップエッジがプロテクタに喰い込んで
しまうような事態が発生し、これにより以下のような重
大な問題が生じる。すなわち、図6(a)に示すように
金属ストリップSのエッジがプロテクタ5に喰い込む
と、金属ストリップSが不溶性電極4と連続的に接触し
てしまうため大短絡を生じてしまい、場合によっては不
溶性電極の穴開きが発生してしまう。
However, such contact between the metal strip and the protector causes a problem that the protector is damaged by the metal strip edge. In particular, in the case of the protector material generally used in the related art, a situation occurs in which the metal strip edge bites into the protector, thereby causing the following serious problem. That is, as shown in FIG. 6A, when the edge of the metal strip S bites into the protector 5, the metal strip S continuously contacts the insoluble electrode 4, causing a large short circuit. A hole in the insoluble electrode occurs.

【0010】さらに、一旦喰い込んだ金属ストリップS
のエッジがプロテクタ5から外れた後も、図6(b)に
示すように損傷したプロテクタ部分のタレ下り部50が
残ってしまう。このようなタレ下り部50は、図7に示
すように金属ストリップ−不溶性電極間を流れるめっき
液流の障害となってめっき液流を不均一にし、この結
果、特開平7−150396号公報にも示されるよう
に、製造されるめっき鋼板の表面外観不良を発生させ、
品質上の問題を生じさせる。また、図6(c)に示すよ
うにプロテクタ5の損傷によるタレ下り部50が特に著
しい場合には、これが金属ストリップSと接触してスト
リップ面にスリ疵や押疵等の表面欠陥を生じさせる。
Further, the metal strip S once bitten
6B, the sagging down portion 50 of the damaged protector portion remains even after the edge of the protector 5 comes off the protector 5. As shown in FIG. 7, such a dripping portion 50 obstructs the flow of the plating solution flowing between the metal strip and the insoluble electrode and makes the plating solution flow non-uniform. As a result, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-150396 discloses As shown in the figure, the surface appearance of the manufactured plated steel sheet causes poor appearance,
Causes quality problems. In addition, as shown in FIG. 6C, when the sagging portion 50 due to the damage of the protector 5 is particularly remarkable, the sagging portion 50 comes into contact with the metal strip S and causes surface defects such as scratches and dents on the strip surface. .

【0011】したがって本発明の目的は、このような従
来技術の課題を解決し、金属ストリップエッジ等による
プロテクタの損傷を適切に防止することができる電極装
置を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to solve the problems of the prior art and to provide an electrode device capable of appropriately preventing damage to a protector due to a metal strip edge or the like.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上述した
ようなプロテクタの損傷が極力抑えられる電極装置を提
供すべく種々の実験を重ねた結果、プロテクタとしてシ
ョア硬度(JIS Z2264で規定するショア硬度)
が80HSD以上の絶縁材料を用いることにより、金属
ストリップエッジ等によるプロテクタの損傷を効果的に
防止できることを見い出した。
The present inventors have conducted various experiments in order to provide an electrode device in which damage to the protector as described above is suppressed as much as possible. As a result, the protector has a Shore hardness (defined by JIS Z2264). Shore hardness)
Found that using an insulating material of 80 HSD or more can effectively prevent damage to the protector due to metal strip edges and the like.

【0013】本発明はこのような知見に基づきなされた
もので、その特徴は、金属ストリップを通電処理するた
めの通電処理槽内に設けられる電極装置であって、槽内
の金属ストリップパスラインと対向し、且つ金属ストリ
ップパスラインとの間で所定の間隔をもって配置される
不溶性電極と、該不溶性電極の金属ストリップパスライ
ンと相対する面に、適宜間隔をおいて突設された絶縁性
のプロテクタとを有する電極装置において、前記プロテ
クタをショア硬度(JIS Z 2264で規定するショ
ア硬度)が80HSD以上の絶縁材料により構成したこ
とを特徴とする通電処理槽内の電極装置である。
The present invention has been made on the basis of such knowledge, and is characterized by an electrode device provided in an electric treatment tank for energizing a metal strip, wherein the electrode device is provided with a metal strip pass line in the tank. An insoluble electrode opposed to the metal strip pass line and disposed at a predetermined distance from the metal strip pass line; and an insulative protector projecting from the surface of the insoluble electrode facing the metal strip pass line at an appropriate interval. Wherein the protector is made of an insulating material having a Shore hardness (Shore hardness specified in JIS Z 2264) of 80 HSD or more.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】図1及び図2は、本発明の電極装
置が設けられた水平型通電処理槽の一実施形態を示して
いる。図において、Sは通電処理槽内を水平に連続通板
する金属ストリップ、1は該金属ストリップSのパスラ
インに下方にこれと対向し、且つ所定の間隔をもって配
置された不溶性電極(下部電極)であり、図示されてい
ないが、ストリップパスラインの上方にもストリップパ
スラインを挟んで前記下部電極と略対称に不溶性電極
(上部電極)が配置されている。
1 and 2 show an embodiment of a horizontal energization processing tank provided with an electrode device according to the present invention. In the figure, S is a metal strip that passes horizontally continuously through the electric treatment tank, and 1 is an insoluble electrode (lower electrode) that is disposed at a predetermined distance below and facing the pass line of the metal strip S at a predetermined distance. Although not shown, an insoluble electrode (upper electrode) is arranged above the strip pass line symmetrically with the lower electrode with the strip pass line interposed therebetween.

【0015】前記不溶性電極1と金属ストリップパスラ
インとの間隙部aには、金属ストリップ進行方向の下流
側に配置された噴流ノズル3から、金属ストリップ進行
方向の上流側に向けてめっき液等の電解液が流されるよ
うになっている。前記不溶性電極1のストリップパスラ
インと相対する面には、適宜間隔をおいて絶縁性のプロ
テクタ2が突設されている。このプロテクタ2の形状に
特別な制約はないが、通常、例えば長方形断面の短冊状
の部材により構成される。このプロテクタ2は、形状不
良や通板不良を生じた金属ストリップSが不溶性電極1
に直接接触することを防止する働きをする。
In the gap a between the insoluble electrode 1 and the metal strip pass line, a jet nozzle 3 arranged downstream of the metal strip in the direction of travel of the metal strip is supplied with a plating solution or the like toward the upstream side of the direction of travel of the metal strip. The electrolyte is allowed to flow. An insulating protector 2 is protruded from the surface of the insoluble electrode 1 facing the strip pass line at an appropriate interval. Although there is no particular limitation on the shape of the protector 2, the protector 2 is usually formed of, for example, a rectangular member having a rectangular cross section. The protector 2 has a configuration in which the metal strip S having a shape defect or a sheet passing defect has an insoluble electrode 1.
Acts to prevent direct contact with

【0016】以上のような構成の電極装置において、本
発明ではプロテクタ2をショア硬度(JIS Z 226
4で規定するショア硬度)が80HSD以上、好ましく
は150HSD以上の絶縁材料により構成する。このよ
うな絶縁材料としてはプラスチック等の合成樹脂類が用
いられ、そのなかでも特に、高分子ポリエチレン、ポリ
エチレンテレフタレート等が好適である。また、これら
素材の中でも物性により硬度が異なるため、ショア硬度
が80HSD以上のものを選択して用いる。
In the electrode device having the above configuration, in the present invention, the protector 2 is provided with a Shore hardness (JIS Z 226).
(Shore hardness specified in 4) is 80 HSD or more, preferably 150 HSD or more. As such an insulating material, synthetic resins such as plastics are used. Among them, high-molecular polyethylene, polyethylene terephthalate, and the like are particularly preferable. Further, among these materials, since hardness differs depending on physical properties, those having a Shore hardness of 80 HSD or more are selected and used.

【0017】表1は、図1及び図2に示すような構造の
電極装置を備えた電気めっき槽において、不溶性電極1
のプロテクタ2としてショア硬度の異なる種々の絶縁材
料を用いてめっきを行った場合について、電極損傷の有
無、製造された金属ストリップのめっき表面外観、表面
欠陥発生の有無を調査した結果を示している。また、図
3は同様の電気めっき槽において、プロテクタ2のショ
ア硬度と不溶性電極1の寿命との関係をを調査した結果
を示している。
Table 1 shows that an insoluble electrode 1 was used in an electroplating tank provided with an electrode device having a structure as shown in FIGS.
In the case where plating was performed using various insulating materials having different Shore hardnesses as protector 2 of Example 2, the results of investigating the presence or absence of electrode damage, the appearance of the plated surface of the manufactured metal strip, and the occurrence of surface defects are shown. . FIG. 3 shows the results of an investigation on the relationship between the Shore hardness of the protector 2 and the life of the insoluble electrode 1 in a similar electroplating tank.

【0018】表1によれば、プロテクタのショア硬度を
80HSD以上とすることで、金属ストリップによるプ
ロテクタの損傷が殆どなくなり、このため電極自体の損
傷度が小さくなり、また、優れためっき表面外観と表面
欠陥の無いめっき鋼板が製造できることが判る。また、
図3によれば、プロテクタ2のショア硬度を80HSD
以上とすることによりプロテクタの損傷が殆どなくなる
ため、不溶性電極1の長寿命化が図られることが示され
ている。
According to Table 1, by setting the Shore hardness of the protector to 80 HSD or more, the protector is hardly damaged by the metal strip, so that the degree of damage to the electrode itself is reduced, and the excellent plating surface appearance and It can be seen that a plated steel sheet having no surface defects can be manufactured. Also,
According to FIG. 3, the Shore hardness of protector 2 is 80 HSD.
It is shown that since the above-described arrangement causes almost no damage to the protector, the life of the insoluble electrode 1 can be extended.

【0019】[0019]

【表1】 [Table 1]

【0020】なお、プロテクタのショア硬度の上限は特
にないが、高硬度化に伴ない材料や製造コストが上昇す
るため、経済的性の観点からショア硬度の上限は250
HSD程度とすることが好ましい。
Although there is no particular upper limit for the Shore hardness of the protector, since the material and manufacturing costs increase with the increase in hardness, the upper limit of the Shore hardness is 250 from the viewpoint of economic efficiency.
It is preferable to be about HSD.

【0021】また、図1の実施形態では、プロテクタ2
は金属ストリップSの幅方向に沿って設けられている
が、その配置形態は任意であり、例えば、図5に示すよ
うに、パスライン方向に向かってハの字状に配置しても
よい。本発明の電極装置は、金属ストリップに電気めっ
きを施すための電気めっき槽以外に、電解研磨、電解洗
浄等の通電処理を行う各種の通電処理槽に適用すること
ができる。
In the embodiment shown in FIG. 1, the protector 2
Are provided along the width direction of the metal strip S, but the arrangement form is arbitrary. For example, as shown in FIG. 5, they may be arranged in a C shape toward the pass line direction. The electrode device of the present invention can be applied to various kinds of energization processing tanks for performing energization processing such as electropolishing and electrolytic cleaning, in addition to electroplating tanks for electroplating metal strips.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上述べたように、本発明の電極装置に
よれば、金属ストリップエッジ等の接触によるプロテク
タの損傷を適切に防止でき、このためプロテクタの損傷
による大短絡トラブルやストリップの表面外観不良、表
面欠陥(スリ疵、押疵)の発生を確実に防止することが
できる。また、プロテクタの損傷がないため、不溶性電
極の長寿命化を図ることもできる。
As described above, according to the electrode device of the present invention, damage to the protector due to contact with the metal strip edge or the like can be properly prevented. The occurrence of defects and surface defects (scratch flaws, press flaws) can be reliably prevented. Further, since there is no damage to the protector, the life of the insoluble electrode can be extended.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の電極装置の一実施形態について、上部
電極を省略した状態で示す平面図
FIG. 1 is a plan view showing one embodiment of an electrode device of the present invention with an upper electrode omitted.

【図2】本発明の電極装置の一実施形態について、上部
電極を省略した状態で示す側面図
FIG. 2 is a side view showing an embodiment of the electrode device according to the present invention with an upper electrode omitted;

【図3】電極装置を構成するプロテクタのショア硬度が
不溶性電極の寿命に及ぼす影響を示すグラフ
FIG. 3 is a graph showing the influence of the Shore hardness of a protector constituting an electrode device on the life of an insoluble electrode.

【図4】従来の水平型電気めっき槽の一例を示す縦断面
FIG. 4 is a longitudinal sectional view showing an example of a conventional horizontal electroplating tank.

【図5】図4に示す電気めっき槽内部の平面図FIG. 5 is a plan view showing the inside of the electroplating tank shown in FIG. 4;

【図6】従来の電極装置におけるプロテクタの損傷状態
を示す説明図
FIG. 6 is an explanatory diagram showing a damaged state of a protector in a conventional electrode device.

【図7】従来の電極装置におけるプロテクタの損傷状態
を示す説明図
FIG. 7 is an explanatory view showing a damaged state of a protector in a conventional electrode device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…不溶性電極、2…プロテクタ、3…噴流ノズル、a
…間隙部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Insoluble electrode, 2 ... Protector, 3 ... Jet nozzle, a
… Gap

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 金属ストリップを通電処理するための通
電処理槽内に設けられる電極装置であって、槽内の金属
ストリップパスラインと対向し、且つ金属ストリップパ
スラインとの間で所定の間隔をもって配置される不溶性
電極と、該不溶性電極の金属ストリップパスラインと相
対する面に、適宜間隔をおいて突設された絶縁性のプロ
テクタとを有する電極装置において、前記プロテクタを
ショア硬度(JIS Z 2264で規定するショア硬
度)が80HSD以上の絶縁材料により構成したことを
特徴とする通電処理槽内の電極装置。
1. An electrode device provided in an energization processing tank for energizing a metal strip, wherein the electrode device faces a metal strip pass line in the tank and has a predetermined interval between the metal strip pass line and the metal strip pass line. In an electrode device having an insoluble electrode to be disposed and an insulative protector protruding from a surface of the insoluble electrode facing a metal strip pass line at an appropriate interval, the protector may have a Shore hardness (JIS Z 2264). Characterized in that the electrode device is formed of an insulating material having a Shore hardness of 80 HSD or more.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7563352B2 (en) 2001-10-27 2009-07-21 Atotech Deutschland Gmbh Method and conveyorized system for electorlytically processing work pieces

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