JP2000091389A - Prober - Google Patents

Prober

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JP2000091389A
JP2000091389A JP10252536A JP25253698A JP2000091389A JP 2000091389 A JP2000091389 A JP 2000091389A JP 10252536 A JP10252536 A JP 10252536A JP 25253698 A JP25253698 A JP 25253698A JP 2000091389 A JP2000091389 A JP 2000091389A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a small-sized and light-weight prober with a stage which will not be tilted, even if a needle is brought into contact with it. SOLUTION: A prober provided with a stage which carries on itself a wafer disposed with a plurality of semiconductor chips and a probe to be brought into contact with electrode pads of each semiconductor chip. The stage is constituted of a mounting table 11 for mounting a wafer on, guides 22, 23, 24 for regulating the vertical movements of the mounting table, and a plurality of actuators for energizing a plurality of spots for the mounting table 11, so as to move the mounting table 11 vertically.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ウエハ上に形成さ
れた複数の半導体チップの電気的特性を測定するため
に、ウエハをステージに載置して、テスタに接続される
触針を各半導体チップの電極パッドに順次接触させるプ
ローバに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for measuring electrical characteristics of a plurality of semiconductor chips formed on a wafer. The present invention relates to a prober that sequentially contacts an electrode pad of a chip.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体チップの製造では、ウエハ上に形
成された多数のチップが正常に動作するか検査すること
が行われる。これは、正常に動作しない不良チップを後
の組み立て工程から除くことによる生産性の向上と共
に、製造工程が正常であるかの検査結果を速やかにフィ
ードバックできるようにするために行われる。ウエハ上
に形成された半導体チップを検査する時には、プローバ
と呼ばれる装置にウエハをセットし、触針(ニードル)
をチップの電極パッドに接触させた上で、ICテスタか
ら所定のニードルに電気信号を印加し、他のニードルに
出力された電気信号を検出する。また、このようにして
検査されたウエハは、ダイシング装置で切り離された
後、組み立てられる。
2. Description of the Related Art In the manufacture of semiconductor chips, it is examined whether a large number of chips formed on a wafer operate normally. This is performed in order to improve productivity by removing a defective chip that does not operate normally from a later assembling process and to promptly feed back an inspection result as to whether the manufacturing process is normal. When inspecting a semiconductor chip formed on a wafer, the wafer is set in a device called a prober, and a stylus is used.
Is brought into contact with the electrode pad of the chip, an electric signal is applied to a predetermined needle from the IC tester, and an electric signal output to another needle is detected. The wafer inspected in this way is cut by a dicing device and then assembled.

【0003】図1は、ウエハ上に形成された半導体チッ
プを示す図である。図1に示すように、ウエハ100に
は複数の半導体チップ110が格子状に形成される。各
半導体チップ110には、電極パッド120が形成され
ており、組み立て時にはこの電極パッド120とリード
フレームの端子がボンディングワイヤで接続される。半
導体チップの電気的な特性検査は、この電極パッド12
0にニードルを接触させて行われる。
FIG. 1 is a diagram showing a semiconductor chip formed on a wafer. As shown in FIG. 1, a plurality of semiconductor chips 110 are formed on a wafer 100 in a lattice shape. An electrode pad 120 is formed on each semiconductor chip 110, and the electrode pad 120 and a terminal of a lead frame are connected by a bonding wire during assembly. Inspection of the electrical characteristics of the semiconductor chip is performed using the electrode pads 12.
This is carried out by bringing the needle into contact with zero.

【0004】図2は、一般的なウエハ検査装置の従来例
の概略構成を示す図である。図2において、参照番号1
はプローバを、2は載置されたウエハを保持するステー
ジを、3はプローブカードを、4はプローブカード3に
設けられたニードルを、5はプローブカード3を保持す
る部材を、6はテスタを、7は、テスタ7の回転軸を示
す。ステージ2は、移動機構により3次元方向に移動可
能であると共に、ウエハを吸着する機構が設けられてい
る。ニードル4は検査する半導体チップの電極パッドに
合わせて作られており、プローブカード3は検査する半
導体チップの電極パッドの配列が異なる毎に交換され
る。プローブカード3の上面にはニードル4に接続され
る電極が設けられており、検査時にはテスタ6が回転軸
7の回りを回転してプローブカードの電極に接触し、テ
スタ6の端子とニードル4が接続される。この状態で、
テスタ6から所定の信号を印加して半導体チップからの
出力信号を検出し、それが正常であるかを検査する。な
お、検査するウエハ100は、ウエハカセットに複数枚
収容されて供給され、図示していない搬送アームでステ
ージ2に載置され、検査終了後再びウエハカセットに戻
されて回収される。また、ステージ2に載置されたウエ
ハ100は、図示していない画像システムにより半導体
チップの電極とニードル4の位置関係が精密に位置決め
される。ここでは、このような機構は発明に直接関係し
ないので省略してある。
FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration of a conventional example of a general wafer inspection apparatus. In FIG. 2, reference numeral 1
Is a prober, 2 is a stage for holding a mounted wafer, 3 is a probe card, 4 is a needle provided on the probe card 3, 5 is a member for holding the probe card 3, and 6 is a tester. , 7 indicate the rotation axis of the tester 7. The stage 2 is movable in a three-dimensional direction by a moving mechanism, and is provided with a mechanism for sucking a wafer. The needle 4 is made in accordance with the electrode pad of the semiconductor chip to be inspected, and the probe card 3 is replaced every time the arrangement of the electrode pad of the semiconductor chip to be inspected is different. An electrode connected to the needle 4 is provided on the upper surface of the probe card 3, and at the time of inspection, the tester 6 rotates around the rotation axis 7 to contact the electrode of the probe card, and the terminal of the tester 6 and the needle 4 Connected. In this state,
A predetermined signal is applied from the tester 6 to detect an output signal from the semiconductor chip, and it is checked whether the output signal is normal. A plurality of wafers 100 to be inspected are housed in a wafer cassette and supplied, placed on the stage 2 by a transfer arm (not shown), and returned to the wafer cassette again after the inspection is completed and collected. The positional relationship between the electrodes of the semiconductor chips and the needles 4 is precisely positioned on the wafer 100 placed on the stage 2 by an image system (not shown). Here, such a mechanism is omitted because it is not directly related to the invention.

【0005】ステージ2の移動機構は、水平面の2方向
であるX方向とY方向、上下方向であるZ方向の3つの
1次元の移動機構を組み合わせて実現しており、X方向
の移動機構の上にY方向の移動機構を載せ、その上にZ
方向の移動機構を載せている。図3は、ステージ2のZ
方向の移動機構の基本構成を示す図である。参照番号1
2と13で示す部材の間にボールベアリング14が配置
され、ガイド機構を構成する。また、ボールねじ15に
ねじ合わされるねじ部材16は、部材12に取り付けら
れており、パルスモータ17でボールねじ15を回転す
ることにより、部材12がガイドに沿って移動する。ウ
エハを載置する載物台11は部材12に取り付けられて
いるので、パルスモータ17を駆動することにより、ガ
イドに沿って上下方向に移動する。なお、図3では、部
材12の内部にボールねじ15を設けたが、ボールねじ
15により移動方向に付勢される部分をガイドと離れた
部分に設ける場合もあり、その位置関係については各種
の変形例が可能である。ボールねじ15などにより載物
台11を移動方向に付勢する構成部分を、ここではアク
チュエータと呼ぶことにする。図3に示すように、従来
のステージのZ方向の移動機構は、1個のガイドと1個
のアクチュエータを有している。
[0005] The moving mechanism of the stage 2 is realized by combining three one-dimensional moving mechanisms in the X direction and the Y direction, which are two horizontal directions, and the Z direction, which is the vertical direction. The Y-direction moving mechanism is placed on top, and Z
The direction moving mechanism is mounted. FIG. 3 shows the Z of stage 2
FIG. 3 is a diagram illustrating a basic configuration of a direction moving mechanism. Reference number 1
A ball bearing 14 is arranged between members indicated by 2 and 13 to constitute a guide mechanism. The screw member 16 screwed to the ball screw 15 is attached to the member 12, and when the ball screw 15 is rotated by the pulse motor 17, the member 12 moves along the guide. Since the stage 11 on which the wafer is placed is attached to the member 12, by driving the pulse motor 17, the stage 11 moves up and down along the guide. In FIG. 3, the ball screw 15 is provided inside the member 12, but a portion urged in the moving direction by the ball screw 15 may be provided in a portion away from the guide. Modifications are possible. The component that urges the stage 11 in the moving direction by the ball screw 15 or the like will be referred to as an actuator herein. As shown in FIG. 3, the conventional stage moving mechanism in the Z direction has one guide and one actuator.

【0006】検査を行う場合には、検査する半導体チッ
プの電極がニードル4の真下に位置するようにステージ
を移動した上で、ステージを上昇させて半導体チップの
電極とニードル4を接触させる。検査が終了するとステ
ージを下降させた上で、次に検査する半導体チップにつ
いて同様の動作を行う。1枚のウエハには多数の半導体
チップが形成されており、これらすべてについて上記の
動作を繰り返すため、1枚のウエハの検査に長い時間が
かかる。
When performing the inspection, the stage is moved so that the electrode of the semiconductor chip to be inspected is located directly below the needle 4, and then the stage is raised to bring the electrode of the semiconductor chip into contact with the needle 4. When the inspection is completed, the stage is lowered, and the same operation is performed for the next semiconductor chip to be inspected. A large number of semiconductor chips are formed on one wafer, and the above operation is repeated for all of them, so that it takes a long time to inspect one wafer.

【0007】近年、生産性の向上のため、検査のスルー
プットの向上が要求されており、そのための方策とし
て、複数の半導体チップを同時に検査するマルチプロー
ビングと呼ばれる方法が取られている。図4はこのマル
チプロービングを説明する図で、ニードル4を4aと4
bの2組設け、隣接する2個の半導体チップ110aと
110bの電極パッドに同時に接触する。図では2個の
半導体チップを同時に検査するように示してあるが、よ
り多数の半導体チップが同時に検査される場合もある。
また、チップの高機能化も図られており、チップ1個当
りの電極パッドの個数が非常に多いものもある。そのた
め、ニードルの本数は非常に大きくなっており、また配
列されたニードルの端から端までの長さも長くなってい
る。
In recent years, an improvement in inspection throughput has been demanded in order to improve productivity, and as a measure therefor, a method called multi-probing for simultaneously inspecting a plurality of semiconductor chips has been adopted. FIG. 4 is a view for explaining this multi-probing.
The two sets of b are provided so as to simultaneously contact the electrode pads of two adjacent semiconductor chips 110a and 110b. Although two semiconductor chips are inspected at the same time in the drawing, a larger number of semiconductor chips may be inspected at the same time.
In addition, the function of the chip has been enhanced, and there is a case where the number of electrode pads per chip is extremely large. Therefore, the number of needles is very large, and the length of the arranged needles from end to end is also long.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】図5は、ニードル4の
電極パッド120への接触状態を示す図である。図5の
(1)に示すように、ニードル4の先端は曲げられてお
り、この先端部が電極パッド120に接触する。ニード
ル4は細い金属製で弾性があり、ステージに載置された
ウエハ100を押し当てることによりある程度の接触圧
で接触するようにしている。そのため、上記のようにニ
ードルの本数が増加すると、全体ではステージ2に非常
に大きな力がかかることになる。この力がステージ2の
中心付近にかかる場合には特に問題ないが、ステージ2
の周辺部にかかると、ステージ2やガイドのたわみのた
め、ステージの上面が傾く。ステージの上面が傾くと、
すなわちウエハ面とニードル4が平行でなくなり、角度
θをなす。
FIG. 5 is a view showing a state where the needle 4 is in contact with the electrode pad 120. As shown in FIG. 5A, the tip of the needle 4 is bent, and this tip contacts the electrode pad 120. The needle 4 is made of a thin metal and has elasticity, and is brought into contact with a certain contact pressure by pressing the wafer 100 placed on the stage. Therefore, when the number of needles increases as described above, a very large force is applied to the stage 2 as a whole. There is no particular problem when this force is applied to the vicinity of the center of stage 2.
, The upper surface of the stage is inclined due to the deflection of the stage 2 and the guide. When the top of the stage tilts,
That is, the wafer surface and the needle 4 are no longer parallel, and form an angle θ.

【0009】そのため、図4の(2)に示すように、す
べてのニードルが均一の接触圧で接触しなくなるという
問題が生じる。図ではニードル4に対してウエハ100
が大きく傾いており、図の右側では接触しているが、左
側では接触しておらず、これでは測定は行えない。図示
のように大きく傾かない場合でも、ある程度傾けば左右
のニードルの接触圧に差が生じる。すべてのニードルが
所定の接触圧の範囲内であればよいが、大きすぎる場合
には、電極パッドを損傷するといった問題が生じ、小さ
い場合には接触抵抗が大きくなり、正常な検査が行えな
いという問題が生じる。なお、この問題は、ニードルの
接触によるステージのたわみのためだけでなく、ニード
ル、すなわちプローブカードとステージの平行度が不十
分な場合にも生じる。この問題は、ニードルの本数が大
きくなって、両端のニードル間の距離が大きくなるとよ
り顕著になる。
Therefore, as shown in FIG. 4 (2), there arises a problem that all the needles do not come into contact with a uniform contact pressure. In the figure, the wafer 100 is
Are greatly inclined, and contact is made on the right side of the figure, but not on the left side, so that measurement cannot be performed. As shown in the figure, even if the inclination is not large, a slight difference in the contact pressure between the left and right needles occurs if the inclination is to some extent. It is sufficient if all the needles are within the predetermined contact pressure range. However, if the needle pressure is too large, a problem such as damage to the electrode pad occurs.If the needle pressure is too small, the contact resistance increases and normal inspection cannot be performed. Problems arise. Note that this problem occurs not only because of the deflection of the stage due to the contact of the needle, but also when the parallelism between the needle, that is, the probe card and the stage is insufficient. This problem becomes more pronounced as the number of needles increases and the distance between the needles at both ends increases.

【0010】ステージ2は、3軸方向の移動に加えて、
上面を回転するための回転機構も有している。そのた
め、ニードルとの接触圧がステージ2の上面の周辺部に
かかった場合には、ひずみは複雑な形で現れるが、模式
的には、図4の(3)に示すように、中心線の下方の回
転中心Oを中心として回転し、その回転量はモーメント
によって決定されると考えられる。このような回転が生
じると、図4の(3)に示すように、ニードルがステー
ジ上面のAの位置で接触するように移動した上で、ステ
ージを上昇させた場合、この回転によりステージ上面の
Aの位置はA’の位置に変化してしまい、接触位置は図
示の分だけずれることになる。このようなずれがある
と、ニードルが電極パッドの外で半導体チップに接触
し、半導体チップを損傷するといった問題が生じる。
The stage 2 moves in three axial directions,
It also has a rotation mechanism for rotating the upper surface. Therefore, when the contact pressure with the needle is applied to the periphery of the upper surface of the stage 2, the distortion appears in a complicated form, but typically, as shown in (3) of FIG. It rotates around the lower rotation center O, and the amount of rotation is considered to be determined by the moment. When such a rotation occurs, as shown in (3) of FIG. 4, the needle moves so as to contact at the position A on the upper surface of the stage, and when the stage is raised, the rotation causes the upper surface of the stage to be rotated. The position of A changes to the position of A ', and the contact position is shifted by the amount shown. Such a shift causes a problem that the needle contacts the semiconductor chip outside the electrode pad and damages the semiconductor chip.

【0011】更に、従来例においては、測定しようとす
る半導体チップがニードルの下に位置するように相対移
動させてからウエハを所定位置まで上昇させてニードル
を半導体チップの電極パッドに接触させているだけで、
ニードルの接触圧については特に制御していなかった。
ニードルには弾性があるので、これでも接触圧は所望の
範囲であった。しかし、上記のようなたわみが生じる場
合には、ウエハをニードルに対して所定位置まで上昇さ
せても、実際の接触圧は接触位置により変化し、接触圧
が所望の範囲に入るとは限らない。
Further, in the conventional example, the semiconductor chip to be measured is relatively moved so as to be located below the needle, and then the wafer is raised to a predetermined position to bring the needle into contact with the electrode pad of the semiconductor chip. Just
The contact pressure of the needle was not particularly controlled.
Because of the elasticity of the needle, the contact pressure was still in the desired range. However, when the above-described bending occurs, even if the wafer is raised to a predetermined position with respect to the needle, the actual contact pressure varies depending on the contact position, and the contact pressure does not always fall within a desired range. .

【0012】上記のような問題を防止するため、ステー
ジの剛性を高めるなどの対策がとられている。しかし、
ニードル数が益々増加しているため全体の接触圧が大き
くなっている上、ウエハの大口径化が進められているた
め、ステージが非常の大型化し、重量も増加する。これ
では、プローバが大型で非常に重いものになり、コスト
も増加するという問題を生じる。
In order to prevent the above-mentioned problems, measures such as increasing the rigidity of the stage have been taken. But,
As the number of needles increases more and more, the overall contact pressure increases, and as the diameter of the wafer increases, the stage becomes extremely large and the weight increases. This causes a problem that the prober becomes large and very heavy, and the cost increases.

【0013】本発明は、このような問題点を解決するた
めのもので、載置したウエハに多数のニードルが接触す
る場合にもステージ上面の傾きを生じないプローバを簡
単な機構で実現することを目的とする。
An object of the present invention is to solve such a problem, and to realize a prober which does not tilt the upper surface of a stage even when a large number of needles come into contact with a mounted wafer by a simple mechanism. With the goal.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記目的を実現するた
め、本発明のプローバでは、ステージの載物台がガイド
に沿って上下方向に移動するように付勢するアクチュエ
ータを複数個設け、載物台の複数の箇所を付勢する。す
なわち、本発明のプローバは、複数の半導体チップが配
列されたウエハを載置して移動するステージと、各半導
体チップの電極パッドに接触する触針と備えるプローバ
であって、ステージは、ウエハを載置する載物台と、載
物台の上下の移動方向を規制するガイドと、載物台が上
下方向に移動するように、載物台の複数箇所を付勢する
複数のアクチュエータとを備えることを特徴とする。
In order to achieve the above object, in the prober of the present invention, a plurality of actuators are provided for urging the stage stage so that the stage stage moves vertically along a guide. Energize multiple locations on the platform. That is, the prober of the present invention is a prober including a stage for mounting and moving a wafer on which a plurality of semiconductor chips are arranged, and a stylus for contacting an electrode pad of each semiconductor chip. The apparatus includes a mounting table to be mounted, a guide for regulating the vertical movement direction of the mounting table, and a plurality of actuators for urging a plurality of positions of the mounting table so that the mounting table moves in the vertical direction. It is characterized by the following.

【0015】本発明のプローバでは、複数のアクチュエ
ータが載物台の複数箇所を付勢するので、載物台に載置
されたウエハに触針(ニードル)を接触させて載物台に
圧力を加えた場合にも、発生するモーメントを小さくで
きる。例えば、3個のアクチュエータで載物台の周辺の
3箇所を付勢する場合、3箇所をむすぶ3角形の内側に
接触するのであれば、モーメントは生じない。この3角
形の外側に接触する場合には、接触位置と3角形のもっ
とも近い辺の距離に応じたモーメントが生じるが、この
距離は短いので、モーメントは小さくなる。
In the prober of the present invention, since the plurality of actuators urge the plurality of portions of the stage, the stylus (needle) is brought into contact with the wafer placed on the stage to apply pressure to the stage. Also when added, the generated moment can be reduced. For example, in the case where three actuators urge three places around the stage, no moment is generated as long as the three parts come into contact with the inside of a triangular shape. When contact is made with the outside of the triangle, a moment is generated in accordance with the distance between the contact position and the nearest side of the triangle, but since this distance is short, the moment is small.

【0016】各アクチュエータを駆動する駆動源は、各
アクチュエータ毎に独立して設けても、共通の駆動源を
設けてもよい。各アクチュエータ毎に独立し駆動源を設
ける場合には、各駆動源(35a、35b)を共通に制
御する駆動信号を発生する駆動信号発生回路(36)を
設けることが望ましい。
A drive source for driving each actuator may be provided independently for each actuator, or a common drive source may be provided. When an independent drive source is provided for each actuator, it is desirable to provide a drive signal generation circuit (36) for generating a drive signal for commonly controlling each drive source (35a, 35b).

【0017】また、各アクチュエータ毎に独立し駆動源
を設ける場合には、載物台の複数のアクチュエータによ
り付勢される複数箇所の上下方向の位置を検出する複数
の位置検出器を設けて載物台の傾きを検出し、駆動制御
回路により検出結果に基づいて傾きが一定になるよう
に、独立した各駆動源を制御することも可能である。ア
クチュエータは、例えば、ボールネジで実現され、その
場合には駆動源は、パルスモータやACサーボモータ等
が使用される。
In the case where an independent drive source is provided for each actuator, a plurality of position detectors are provided for detecting the vertical positions of a plurality of positions energized by the plurality of actuators of the stage. It is also possible to detect the inclination of the pedestal and control each independent driving source so that the inclination becomes constant based on the detection result by the drive control circuit. The actuator is realized by, for example, a ball screw. In that case, a pulse motor, an AC servomotor, or the like is used as a drive source.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】図6は、本発明の第1実施例のプ
ローバのステージのZ方向の移動機構を示す図である。
図6において、参照番号22と23で示す部材の間にボ
ール(ローラ)ベアリング24が配置され、ガイド機構
を構成する。載物台11は部材22に固定されており、
ガイド機構に沿って上下(Z)方向に移動する。部材2
2の外筒面及び部材23の内筒面は、直径及び直線性が
非常な高精度で作られており、高精度なボール(ロー
ラ)ベアリング24を配置することにより、高精度のガ
イド機構が実現される。
FIG. 6 is a view showing a Z-direction moving mechanism of a stage of a prober according to a first embodiment of the present invention.
In FIG. 6, a ball (roller) bearing 24 is disposed between members indicated by reference numerals 22 and 23 to constitute a guide mechanism. The stage 11 is fixed to a member 22,
It moves up and down (Z) along the guide mechanism. Member 2
The outer cylindrical surface 2 and the inner cylindrical surface of the member 23 are formed with extremely high precision in diameter and linearity. By arranging a high-precision ball (roller) bearing 24, a high-precision guide mechanism is formed. Is achieved.

【0019】図6ではアクチュエータは2個だけ示され
ているが、実際には4個のアクチュエータが設けられて
いる。各アクチュエータは、載物台11に固定された部
材31a、31bと、ボールねじ32a、32bと、部
材31a、31bに固定され、ボールねじ32a、32
bにねじ合わされるねじ部材33a、33bと、ボール
ねじ32a、32bを回転駆動するパルスモータ35
a、35bとを有する。部材34a、34bは、パルス
モータ35a、35bを保持するための部分で、Z方向
の移動機構のベースに設けられる。各アクチュエータを
構成する部品は、同じものが使用され、対応する部品間
の誤差が非常に小さいものが選定されて使用される。駆
動信号発生回路36は、プローバのZ方向移動を指示す
る信号に基づいてパルス信号を発生してパルスモータ3
5a、35bに印加する。図示のように、各パルスモー
タ35a、35bには同一のパルス信号が印加されるの
で、各アクチュエータは同一量だけ移動する。
Although only two actuators are shown in FIG. 6, actually four actuators are provided. Each actuator is fixed to members 31a, 31b fixed to the stage 11, ball screws 32a, 32b, and members 31a, 31b.
b, and a pulse motor 35 for rotating and driving the ball screws 32a, 32b.
a and 35b. The members 34a and 34b are portions for holding the pulse motors 35a and 35b, and are provided on the base of the moving mechanism in the Z direction. The same components are used for each actuator, and those having very small errors between the corresponding components are selected and used. The drive signal generation circuit 36 generates a pulse signal based on a signal instructing movement of the prober in the Z direction, and
5a and 35b. As shown, since the same pulse signal is applied to each of the pulse motors 35a and 35b, each actuator moves by the same amount.

【0020】図7は、第1実施例のプローバのステージ
を上方から見た図である。図示のように、円形の中心に
ガイド機構が設けられ、円形の周辺の4分割した位置に
アクチュエータが設けられる。載物台11は、アクチュ
エータにより4箇所で付勢されており、その部分では上
下(Z)方向の位置はアクチュエータにより規定される
ので、ニードルを押し当てる位置がこの4箇所を結ぶ4
角形の内側であれば、押し当てる力が分散してアクチュ
エータにかかるので、図5の(3)に示したようなモー
メントは発生しない。従って、載物台11は傾かないの
で、各ニードルは一様な力でウエハに接触する。図7か
らも明らかなように、載物台11の上面の大部分は、こ
の4角形の内側にあり、ウエハは載物台11の上面より
小さく、ウエハの周辺にはチップは形成されないので、
チップはほとんど4角形の内側に位置し、モーメントは
発生しない。
FIG. 7 is a view of the stage of the prober of the first embodiment as viewed from above. As shown in the figure, a guide mechanism is provided at the center of the circle, and an actuator is provided at four divided positions around the circle. The mounting table 11 is urged at four points by an actuator, and in that part, the position in the vertical (Z) direction is defined by the actuator. Therefore, the position where the needle is pressed against the four points connects the four points.
If it is inside the square, the pressing force is dispersed and acts on the actuator, so that the moment shown in (3) of FIG. 5 does not occur. Therefore, since the stage 11 does not tilt, each needle contacts the wafer with a uniform force. As is clear from FIG. 7, most of the upper surface of the stage 11 is inside the square, the wafer is smaller than the upper surface of the stage 11, and no chips are formed around the wafer.
The tip is almost inside the quadrilateral and generates no moment.

【0021】ニードルを押し当てる位置がこの4角形の
外側であれば、4角形のもっとも近い辺をモーメント軸
として、ニードルを押し当てる位置からモーメント軸ま
での距離に応じたモーメントが発生する。しかし、ニー
ドルを押し当てる位置からモーメント軸までの距離は小
さいので、モーメントも小さく、載物台11はほとんど
傾かない。
If the position where the needle is pressed is outside this quadrangle, a moment corresponding to the distance from the position where the needle is pressed to the moment axis is generated with the closest side of the quadrangle as the moment axis. However, since the distance from the position where the needle is pressed to the moment axis is small, the moment is also small and the stage 11 hardly tilts.

【0022】アクチュエータの個数を増加させるほどモ
ーメントの発生しない範囲が広がるが、アクチュエータ
の個数が増加するとその分コストやスペースが増加する
ので、これとのトレードオフの関係にある。載物台11
に対するウエハの大きさなどが関係するが、アクチュエ
ータが3個の場合でも、アクチュエータが載物台11を
付勢する3箇所を結ぶ3角形内にほとんどのチップが入
り、入らないチップの3角形の辺からの距離は小さいの
で、アクチュエータは最低でも3個以上であることが望
ましい。また、上記のように、アクチュエータが4個で
あれば、ほとんどのチップが4角形内に入るので、4個
あれば十分であり、ほとんどの場合5個以上のアクチュ
エータを設ける必要はない。但し全体のサイズが制限さ
れている様な場合、5個以上のアクチュエータが有効な
場合もある。
As the number of actuators increases, the range in which no moment is generated increases. However, as the number of actuators increases, the cost and space increase accordingly, and there is a trade-off with this. Stage 11
However, even if there are three actuators, most of the chips fall within a triangle connecting the three positions at which the actuator urges the stage 11, and the triangles of chips that do not fit Since the distance from the side is small, it is desirable that the number of actuators is at least three or more. Also, as described above, if there are four actuators, most of the chips fall within the square, so four is sufficient, and in most cases there is no need to provide five or more actuators. However, when the overall size is limited, five or more actuators may be effective.

【0023】図8は、本発明の第2実施例のプローバの
ステージのZ方向の移動機構を示す図である。第1実施
例では各アクチュエータ毎にパルスモータ35a、35
bを設けたが、第2実施例では、共通に1個のパルスモ
ータ44を設け、プーリ42、41a、41b及びタイ
ミングベルト45を介して、各アクチュエータのボール
ねじ32a、32bを一緒に駆動する点が異なる。他の
部分は第1実施例と同じである。参照番号43は、パル
スモータ44の保持部材である。
FIG. 8 is a view showing a mechanism for moving the prober stage in the Z direction according to the second embodiment of the present invention. In the first embodiment, the pulse motors 35a, 35
However, in the second embodiment, one pulse motor 44 is provided in common, and the ball screws 32a and 32b of each actuator are driven together via the pulleys 42, 41a and 41b and the timing belt 45. The points are different. Other parts are the same as in the first embodiment. Reference numeral 43 denotes a holding member for the pulse motor 44.

【0024】第2実施例では、1個のパルスモータ44
により各アクチュエータのボールねじ32a、32bが
駆動されるので、各ボールねじ32a、32bは同じよ
うに回転する。従って、各アクチュエータの移動量は同
一である。図9は、第3実施例のプローバのステージの
Z方向の移動機構を示す図である。第3実施例は、第1
実施例において、載物台11の各アクチュエータにより
付勢される部分の近くにコーナーキューブ52a、52
bを設け、Z方向移動機構のベースにレーザ干渉計51
a、51bを設けて、その部分のZ方向の位置を検出で
きるようにしたものである。駆動制御回路53は、プロ
ーバのZ方向移動を指示する信号に基づいてパルス信号
を発生してパルスモータ35a、35bに印加する。こ
の時にパルスモータ35a、35bに印加されるパルス
信号は同一である。次に、ニードルが載置したウエハに
接触すると、載物台11は傾くが、この時のレーザ干渉
計51a、51bの検出した変位に基づいて、載物台1
1を傾く前の状態に戻すように、各パルスモータ35
a、35bにパルス信号を印加する。これにより、載物
台11は傾く前の状態に戻る。
In the second embodiment, one pulse motor 44
Drives the ball screws 32a and 32b of each actuator, so that the ball screws 32a and 32b rotate in the same manner. Therefore, the amount of movement of each actuator is the same. FIG. 9 is a view showing a mechanism for moving the stage of the prober in the Z direction in the third embodiment. The third embodiment is similar to the first embodiment.
In the embodiment, the corner cubes 52a, 52 near the portions of the stage 11 urged by the actuators.
b, and the laser interferometer 51 is provided at the base of the Z-direction moving mechanism.
a and 51b are provided so that the position of the portion in the Z direction can be detected. The drive control circuit 53 generates a pulse signal based on a signal instructing the prober to move in the Z direction, and applies the pulse signal to the pulse motors 35a and 35b. At this time, the pulse signals applied to the pulse motors 35a and 35b are the same. Next, when the needle comes into contact with the mounted wafer, the stage 11 tilts, but based on the displacement detected by the laser interferometers 51a and 51b at this time, the stage 1 is tilted.
1 to return to the state before tilting.
Pulse signals are applied to a and 35b. Thereby, the stage 11 returns to the state before the inclination.

【0025】もちろん、レーザ干渉計以外のリニアスケ
ールや他のセンサ等も使用できる。以上、本発明の実施
例について説明したが、実施例の構成を示す図では、各
アクチュエータは従来例と同じような大きさであるよう
に示したが、本発明では複数のアクチュエータが使用さ
れるので、各アクチュエータの駆動力は、1個のアクチ
ュエータのみを使用する場合に比べて小さくすることが
でき、その分小型で低コストにできる。また、本発明に
よれば、ステージの剛性をあまり高くする必要がないた
め、載物台などを小型で軽量のものにできる。従って、
この点からもアクチュエータを小さくできる。
Of course, a linear scale other than the laser interferometer, another sensor, or the like can be used. As described above, the embodiment of the present invention has been described. In the drawings showing the configuration of the embodiment, each actuator is shown as having the same size as the conventional example, but a plurality of actuators are used in the present invention. Therefore, the driving force of each actuator can be reduced as compared with the case where only one actuator is used, and the size and cost can be reduced accordingly. Further, according to the present invention, it is not necessary to increase the rigidity of the stage so much that the stage and the like can be made small and lightweight. Therefore,
Also from this point, the actuator can be made smaller.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ニードルを接触させた場合にも載物面の傾きを生じない
小型で軽量のステージを低コストで実現できる。これに
より、プローバ全体の小型化、軽量化及び低コスト化が
図れる。
As described above, according to the present invention,
A small and lightweight stage that does not tilt the load surface even when the needle is brought into contact can be realized at low cost. Thus, the size, weight, and cost of the entire prober can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】半導体ウエハ上の半導体チップの配列と、半導
体チップの電極パッドを示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing an arrangement of semiconductor chips on a semiconductor wafer and electrode pads of the semiconductor chips.

【図2】従来のプローバの基本的な構成を示す図であ
る。
FIG. 2 is a diagram showing a basic configuration of a conventional prober.

【図3】従来のプローバのステージのZ方向の移動機構
の基本構成を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a basic configuration of a conventional moving mechanism of a stage of a prober in a Z direction.

【図4】マルチプロービングにおける触針(ニードル)
の配置例を示す図である。
FIG. 4: a stylus in multi-probing
It is a figure which shows the example of arrangement | positioning.

【図5】ニードルのウエハへの接触状況と、傾いた場合
の問題点を説明する図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a contact state of a needle with a wafer and a problem when the needle is tilted.

【図6】本発明の第1実施例のプローバのステージのZ
方向の移動機構を示す図である。
FIG. 6 shows the Z of the prober stage according to the first embodiment of the present invention.
It is a figure which shows the moving mechanism of a direction.

【図7】第1実施例のステージの上側から見た図であ
る。
FIG. 7 is a view of the stage of the first embodiment as viewed from above.

【図8】本発明の第2実施例のプローバのステージのZ
方向の移動機構を示す図である。
FIG. 8 shows the Z of the prober stage according to the second embodiment of the present invention.
It is a figure which shows the moving mechanism of a direction.

【図9】本発明の第3実施例のプローバのステージのZ
方向の移動機構を示す図である。
FIG. 9 shows the Z of the prober stage according to the third embodiment of the present invention.
It is a figure which shows the moving mechanism of a direction.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…プローバ 2…ステージ 3…プローブカード 4…触針(ニードル) 5…プローブカード取付け部材 6…テスタ 11…載物台 22、23…ガイド部材 24…ボールベアリング 31a、31b…アクチュエータ部材 32a、32b…ボールねじ 33a、33b…ねじ 35a、35b、44…パルスモータ 36…駆動信号発生回路 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Prober 2 ... Stage 3 ... Probe card 4 ... Stylus (needle) 5 ... Probe card mounting member 6 ... Tester 11 ... Placement table 22, 23 ... Guide member 24 ... Ball bearing 31a, 31b ... Actuator member 32a, 32b ... Ball screw 33a, 33b ... Screw 35a, 35b, 44 ... Pulse motor 36 ... Drive signal generation circuit

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成11年10月20日(1999.10.
20)
[Submission date] October 20, 1999 (1999.10.
20)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】特許請求の範囲[Correction target item name] Claims

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【特許請求の範囲】[Claims]

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0009[Correction target item name] 0009

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0009】そのため、図の(2)に示すように、す
べてのニードルが均一の接触圧で接触しなくなるという
問題が生じる。図ではニードル4に対してウエハ100
が大きく傾いており、図の右側では接触しているが、左
側では接触しておらず、これでは測定は行えない。図示
のように大きく傾かない場合でも、ある程度傾けば左右
のニードルの接触圧に差が生じる。すべてのニードルが
所定の接触圧の範囲内であればよいが、大きすぎる場合
には、電極パッドを損傷するといった問題が生じ、小さ
い場合には接触抵抗が大きくなり、正常な検査が行えな
いという問題が生じる。なお、この問題は、ニードルの
接触によるステージのたわみのためだけでなく、ニード
ル、すなわちプローブカードとステージの平行度が不十
分な場合にも生じる。この問題は、ニードルの本数が大
きくなって、両端のニードル間の距離が大きくなるとよ
り顕著になる。
[0009] Therefore, as shown in (2) in FIG. 5, a problem that all the needles not contact with uniform contact pressure is generated. In the figure, the wafer 100 is
Are greatly inclined, and contact is made on the right side of the figure, but not on the left side, so that measurement cannot be performed. As shown in the figure, even if the inclination is not large, a slight difference in the contact pressure between the left and right needles occurs if the inclination is to some extent. It is sufficient if all the needles are within the predetermined contact pressure range. However, if the needle pressure is too large, a problem such as damage to the electrode pad occurs.If the needle pressure is too small, the contact resistance increases and normal inspection cannot be performed. Problems arise. Note that this problem occurs not only because of the deflection of the stage due to the contact of the needle, but also when the parallelism between the needle, that is, the probe card and the stage is insufficient. This problem becomes more pronounced as the number of needles increases and the distance between the needles at both ends increases.

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0010[Correction target item name] 0010

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0010】ステージ2は、3軸方向の移動に加えて、
上面を回転するための回転機構も有している。そのた
め、ニードルとの接触圧がステージ2の上面の周辺部に
かかった場合には、ひずみは複雑な形で現れるが、模式
的には、図の(3)に示すように、中心線の下方の回
転中心Oを中心として回転し、その回転量はモーメント
によって決定されると考えられる。このような回転が生
じると、図の(3)に示すように、ニードルがステー
ジ上面のAの位置で接触するように移動した上で、ステ
ージを上昇させた場合、この回転によりステージ上面の
Aの位置はA’の位置に変化してしまい、接触位置は図
示の分だけずれることになる。このようなずれがある
と、ニードルが電極パッドの外で半導体チップに接触
し、半導体チップを損傷するといった問題が生じる。
The stage 2 moves in three axial directions,
It also has a rotation mechanism for rotating the upper surface. Therefore, when the contact pressure of the needle is applied to the peripheral portion of the upper surface of the stage 2 is the strain appears in a complex form, the schematic, as shown in (3) in FIG. 5, the center line It rotates around the lower rotation center O, and the amount of rotation is considered to be determined by the moment. When such a rotation occurs, as shown in (3) of FIG. 5 , the needle moves so as to come into contact at the position A on the upper surface of the stage, and when the stage is raised, the rotation causes the upper surface of the stage to be rotated. The position of A changes to the position of A ', and the contact position is shifted by the amount shown. Such a shift causes a problem that the needle contacts the semiconductor chip outside the electrode pad and damages the semiconductor chip.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0014[Correction target item name] 0014

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記目的を実現するた
め、本発明のプローバでは、ステージの載物台がガイド
に沿って上下方向に移動するように付勢するアクチュエ
ータを複数個設け、載物台の複数の箇所を付勢する。す
なわち、本発明のプローバは、複数の半導体チップが配
列されたウエハを載置して移動するステージと、各半導
体チップの電極パッドに接触する触針と備えるプローバ
であって、ステージは、ウエハを載置する載物台と、載
物台の上下の移動方向を規制するガイドと、1個の駆動
源により共通に駆動され、載物台が上下方向に移動する
ように、載物台の複数箇所を付勢する複数のアクチュエ
ータとを備えることを特徴とする。
In order to achieve the above object, in the prober of the present invention, a plurality of actuators are provided for urging the stage stage so that the stage stage moves vertically along a guide. Energize multiple locations on the platform. That is, the prober of the present invention is a prober including a stage for mounting and moving a wafer on which a plurality of semiconductor chips are arranged, and a stylus for contacting an electrode pad of each semiconductor chip. A stage to be placed, a guide to regulate the vertical movement direction of the stage, and one drive
And a plurality of actuators that are commonly driven by a source and biases a plurality of places on the stage so that the stage moves in the vertical direction.

【手続補正5】[Procedure amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0016[Correction target item name] 0016

【補正方法】削除[Correction method] Deleted

【手続補正6】[Procedure amendment 6]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0017[Correction target item name] 0017

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0017】アクチュエータは、例えば、ボールネジで
実現され、その場合には駆動源は、パルスモータやAC
サーボモータ等が使用される。
The actuator is realized by, for example, a ball screw. In this case, the driving source is a pulse motor or an AC motor.
A servo motor or the like is used.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の半導体チップ(110)が配列さ
れたウエハ(100)を載置して移動するステージ
(2)と、 各半導体チップ(110)の電極パッド(120)に接
触する触針(4)と備えるプローバであって、 前記ステージ(2)は、 前記ウエハ(100)を載置する載物台(11)と、 該載物台(11)の上下の移動方向を規制するガイド
(22、23、24)と、 前記載物台(11)が上下方向に移動するように、前記
載物台(11)の複数箇所を付勢する複数のアクチュエ
ータとを備えることを特徴とするプローバ。
A stage (2) on which a wafer (100) on which a plurality of semiconductor chips (110) are arranged is mounted and moved, and a stylus in contact with an electrode pad (120) of each semiconductor chip (110). The stage (2) comprises: a stage (11) on which the wafer (100) is placed; and a guide for regulating a vertical movement direction of the stage (11). (22, 23, 24), and a plurality of actuators for urging a plurality of positions of the article table (11) so that the article table (11) moves vertically. Prober.
【請求項2】 請求項1に記載のプローバであって、 各アクチュエータは、独立した駆動源(35a、35
b)を備えるプローバ。
2. The prober according to claim 1, wherein each actuator has an independent drive source (35a, 35a).
A prober comprising b).
【請求項3】 請求項2に記載のプローバであって、 独立した各駆動源(35a、35b)を共通に制御する
駆動信号を発生する駆動信号発生回路(36)を備える
プローバ。
3. The prober according to claim 2, further comprising a drive signal generation circuit (36) for generating a drive signal for commonly controlling each of the independent drive sources (35a, 35b).
【請求項4】 請求項2に記載のプローバであって、 前記載物台(11)の前記複数のアクチュエータにより
付勢される複数箇所の上下方向の位置を検出する複数の
位置検出器(51a、52a;51b、52b)と、 該複数の位置検出器の検出結果に基づいて、前記載物台
(11)の傾きが一定になるように、前記独立した各駆
動源(35a、35b)を制御する駆動信号を発生する
駆動制御回路(53)を備えるプローバ。
4. The prober according to claim 2, wherein a plurality of position detectors (51a) for detecting vertical positions of a plurality of positions of the stage (11) which are energized by the plurality of actuators. , 52a; 51b, 52b), and based on the detection results of the plurality of position detectors, the independent drive sources (35a, 35b) are controlled so that the inclination of the stage (11) is constant. A prober including a drive control circuit (53) for generating a drive signal to be controlled.
【請求項5】 請求項1に記載のプローバであって、 前記複数のアクチュエータは、1個の駆動源(44)に
より共通に駆動されるプローバ。
5. The prober according to claim 1, wherein the plurality of actuators are commonly driven by a single drive source (44).
【請求項6】 請求項2又は5に記載のプローバであっ
て、 各アクチュエータは、ボールネジ(32a、32b)を
備え、 前記駆動源は、位置制御可能なモータであるプローバ。
6. The prober according to claim 2, wherein each actuator includes a ball screw (32a, 32b), and the drive source is a motor whose position can be controlled.
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