JP2000086274A - Grating - Google Patents

Grating

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JP2000086274A
JP2000086274A JP10260471A JP26047198A JP2000086274A JP 2000086274 A JP2000086274 A JP 2000086274A JP 10260471 A JP10260471 A JP 10260471A JP 26047198 A JP26047198 A JP 26047198A JP 2000086274 A JP2000086274 A JP 2000086274A
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JP
Japan
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grating
refractive index
raman scattering
irradiation
hydrogen filling
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JP10260471A
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Japanese (ja)
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Kazuo Imamura
一雄 今村
Tadahiko Nakai
忠彦 中井
Takahide Sudo
恭秀 須藤
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Mitsubishi Cable Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Cable Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a grating capable of improving the thermal stability and quality reliability for a long period of time, without need of hydrogen filling treatment. SOLUTION: The grating II is formed by irradiating a core of quartz glass co-doped with Sn and Al in addition to Ge with ultraviolet laser light without hydrogen filling treatment. In the state of the grating II, peaks (1)e, (3)e, (5)e and (6)e of Raman scattering, obtained in Raman spectral analysis, are shifted to low frequency side (low wave number side) from the state obtained before irradiating with the ultraviolet laser light. The density of bonding structure in the network structure of the glass is made to be changed to become higher and the stability to thermal load is enhanced by the shift to low frequency side.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバもしく
は光導波路のコアに対し紫外光を照射することにより周
期的に縞状の屈折率差をつけた屈折率変調縞を書き込
み、この屈折率変調縞に対応した特定波長の光を反射さ
せるフィルタもしくはデバイスとして用いられるグレー
ティングに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of irradiating a core of an optical fiber or an optical waveguide with ultraviolet light to write a refractive index modulation fringe having a periodic stripe-like refractive index difference. The present invention relates to a grating used as a filter or device that reflects light of a specific wavelength corresponding to a fringe.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、この種のファイバグレーティ
ングとして、光ファイバのコアに対しグレーティングを
2光束干渉法もしくは位相マスク法等によって書き込ま
れたものが知られている(例えば、特開平6−2358
08号公報、特開平7−140311号公報、特許第2
521708号参照)。このようなファイバグレーティ
ングでは、ゲルマニュウム(Ge )をドープした石英系
ガラス(コアガラス)に対しコヒーレントな紫外レーザ
ー光を照射することにより該当箇所に光誘起屈折率変化
を生ぜしめてグレーティングが生成(書き込み)される
ようになっている。上記の如くGeをドープした石英系
ガラスファイバにおける紫外光照射後のラマン散乱特性
はGe結合に関する580cm-1付近にラマン散乱ピー
クが発生するという点が特徴となることが知られている
(E.M.Dianov,et al.,Optics Letters,Vol.22,No.2
3,pp1754〜1756,1997.12参照)。また、SiO2ガラ
スの構成元素の違い、例えばGe、BもしくはPという
ドープ元素の違いによりラマン散乱状態がどのように現
れるかについての解析結果は知られている(Journal of
Non-Crystalline Solids 45,pp115〜126,North-Holla
nd Publish Company,1981参照)。
2. Description of the Related Art Hitherto, as this type of fiber grating, there has been known a fiber grating in which a grating is written into a core of an optical fiber by a two-beam interference method or a phase mask method (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 6-2358).
No. 08, Japanese Patent Application Laid-Open No. H7-140311, and Patent No. 2
No. 521708). In such a fiber grating, a silica-based glass (core glass) doped with germanium (Ge) is irradiated with a coherent ultraviolet laser beam to generate a light-induced refractive index change in a corresponding portion to generate (write) the grating. It is supposed to be. As described above, it is known that the Raman scattering characteristic after irradiation with ultraviolet light in a silica-based glass fiber doped with Ge is characterized in that a Raman scattering peak occurs near 580 cm −1 relating to Ge coupling (EMDianov, et al., Optics Letters, Vol.22, No.2
3, pp 1754-1756, 1997.12). In addition, an analysis result on how a Raman scattering state appears due to a difference in constituent elements of SiO 2 glass, for example, a difference in a doping element such as Ge, B or P is known (Journal of Japan).
Non-Crystalline Solids 45, pp115-126, North-Holla
nd Publish Company, 1981).

【0003】一方、上記のGeドープの石英系ガラスで
は、紫外光照射による光誘起屈折率変化に対する感度
(フォトセンシティビティ)が十分ではないため、この
フォトセンシティビティを高める、すなわち、比較的大
きな光誘起屈折率変化を生じさせるために、紫外光照射
前に上記Geドープの石英系ガラスであるコアガラスに
対し高圧下で水素を充填すること(以下、「水素充填処
理」という)が知られている(例えば特開平10−82
919号公報参照)。
On the other hand, the above-mentioned Ge-doped quartz glass does not have sufficient sensitivity (photosensitivity) to a photo-induced refractive index change due to ultraviolet light irradiation, so that the photosensitivity is increased, that is, relatively large light is emitted. It has been known that the Ge-doped quartz glass core glass is filled with hydrogen under a high pressure before irradiation with ultraviolet light to cause an induced refractive index change (hereinafter referred to as "hydrogen filling treatment"). (For example, see JP-A-10-82)
No. 919).

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、グレーティ
ングは、光軸方向に周期的な屈折率変調縞が形成された
ものであり、この屈折率変調縞の周期や変調形状を変化
させることにより、反射フィルタ,分波器,分散補償
器,ファイバレーザーミラー,EDF利得等価器,共振
器,温度センサ等の用途への応用が考えられている。そ
して、これらの各種用途に用いられるグレーティングに
は所定の伝送特性(例えば反射特性)が必要機能として
求められるのは当然のこととして、いずれの用途に用い
る場合であっても熱的安定性に対する長期信頼性を有す
ることが求められる。
By the way, the grating has periodic refractive index modulation fringes formed in the direction of the optical axis. By changing the period and the modulation shape of the refractive index modulation fringes, the grating is reflected. Applications to filters, duplexers, dispersion compensators, fiber laser mirrors, EDF gain equalizers, resonators, temperature sensors, and the like have been considered. It is a matter of course that gratings used for these various applications are required to have predetermined transmission characteristics (for example, reflection characteristics) as required functions. It is required to have reliability.

【0005】ここで、上記の紫外光照射により誘起屈折
率変化を引き起こすメカニズムに関しては複数の説があ
り、明確とはなっていない。加えて、水素充填処理を行
ったGeドープ石英系ガラスに紫外光照射した場合のラ
マン散乱特性が如何なるものになるかも全く知られてい
ない。
Here, there are several theories regarding the mechanism of causing the change in the refractive index induced by the irradiation of ultraviolet light, and the mechanism is not clear. In addition, it is not known at all what Raman scattering characteristics are when the Ge-doped quartz glass that has been subjected to the hydrogen filling treatment is irradiated with ultraviolet light.

【0006】上記の水素充填処理としては、通常、水素
が充填された密閉容器内にコアガラスを入れ、室温状態
でほぼ20MPaの圧力下で約2週間放置するという処
理が行われている。このため、この水素充填処理を行う
には、そのためだけの処理設備と比較的長期の処理時間
とが必要になる上に、充填した水素が時間経過とともに
放出されるため次工程の紫外光照射を早期に行わなけれ
ばならず、グレーティング作製タイミングについての制
約が生じることになる。その上に、上記水素充填処理に
よる光誘起屈折率変化の増大は紫外光の低い照射エネル
ギー密度で高い屈折率変化(高い反射率)を獲得し得る
ものの、熱的安定性が十分ではないおそれがあり、長期
信頼性に欠けるおそれもある。
[0006] In the hydrogen filling process, a process is usually performed in which a core glass is placed in a closed container filled with hydrogen and left at room temperature under a pressure of about 20 MPa for about 2 weeks. For this reason, in order to perform the hydrogen filling process, processing equipment and a relatively long processing time are required only for the hydrogen filling process, and the charged hydrogen is released over time. It must be performed early, which imposes restrictions on the grating fabrication timing. In addition, the increase of the photo-induced refractive index change by the hydrogen filling treatment can obtain a high refractive index change (high reflectivity) at a low irradiation energy density of ultraviolet light, but the thermal stability may not be sufficient. And may lack long-term reliability.

【0007】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、その目的とするところは、水素充填処理
を行うことなく熱的安定性に富み品質に対する長期信頼
性の向上が図り得るグレーティングを提供することにあ
る。
[0007] The present invention has been made in view of such circumstances, and it is an object of the present invention to improve the long-term reliability of quality with high thermal stability without performing hydrogen filling treatment. To provide a grating.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明者は、紫外光照射によりガラスのネットワー
ク構造が大きく変化して構造的に密度の高い屈折率変調
縞を形成することにより熱的安定性に富み長期信頼性を
確保することができ、その構造変化の状態をラマン散乱
状態の変化を見ることにより特定し得ることを見い出
し、本発明を想到するに至ったものである。
Means for Solving the Problems To achieve the above object, the present inventor has proposed that by irradiating ultraviolet light, the glass network structure is significantly changed to form structurally dense refractive index modulation fringes. It has been found that the present invention has excellent thermal stability, can secure long-term reliability, and can specify the state of the structural change by observing the change in the Raman scattering state, and has conceived the present invention.

【0009】具体的には、本発明は、少なくともGeが
添加された石英系ガラスに対し紫外光を照射することに
より屈折率変調縞が形成されたグレーティングを前提と
して、水素充填処理が未処理の状態の石英系ガラスに対
し紫外光を照射することにより屈折率変調縞の形成が行
われ、かつ、上記屈折率変調縞においてラマン散乱状態
におけるラマン散乱ピークの波数位置が上記紫外光照射
の前の波数位置よりも低周波側にシフトされた状態にさ
れていることを特定事項とするものである。
More specifically, the present invention is based on the premise that a quartz glass to which at least Ge is added is irradiated with ultraviolet light to form a grating in which refractive index modulation fringes are formed, and a hydrogen filling treatment is not performed. Irradiation of ultraviolet light to the quartz glass in the state causes the formation of refractive index modulation fringes, and the wave number position of the Raman scattering peak in the Raman scattering state in the refractive index modulation fringes before the ultraviolet light irradiation. The particular matter is that the state is shifted to a lower frequency side than the wave number position.

【0010】[0010]

【発明の作用及び効果】上記の発明の場合、ラマン散乱
ピークの波数位置が紫外光照射前よりも低周波側(低波
数側)にシフトされると、密度が紫外光照射前よりも高
い状態に変化しガラスのネットワーク構造間の結合がよ
り動き難い状態に変化することになるため、熱的負荷に
対しより安定化の傾向に変化することになる。これによ
り、熱的安定性の向上が図られ長期信頼性の実現が図ら
れることになる。しかも、紫外光の照射対象の石英系ガ
ラスとして水素充填処理が未処理のものを用いているた
め、水素充填処理のための処理設備及び処理時間の省略
や紫外光の照射タイミングの制約の解除が図られ、グレ
ーティングの大量生産に適したものとなる。
In the case of the above invention, when the wave number position of the Raman scattering peak is shifted to a lower frequency side (lower wave number side) than before the irradiation with ultraviolet light, the density becomes higher than before the irradiation with ultraviolet light. , And the connection between the glass network structures changes to a state in which it is more difficult to move, so that it tends to be more stable against thermal load. Thereby, thermal stability is improved and long-term reliability is realized. In addition, since the hydrogen-filled glass that has not been subjected to the hydrogen filling treatment is used as the quartz glass to be irradiated with the ultraviolet light, it is possible to omit the processing equipment and the processing time for the hydrogen filling treatment and to release the restriction on the timing of the ultraviolet light irradiation. This makes it suitable for mass production of gratings.

【0011】水素充填処理が未処理の石英系ガラスを対
象として紫外光照射により屈折率変調縞を書き込み(形
成)するには、水素充填処理を行ったものを対象とする
場合よりもグレーティング長を長く設定することにより
照射エネルギー密度を大きくかせぐようにすればよい。
これにより、水素充填処理を行った場合と比べ低い紫外
光感度であっても、その感度不足を補い水素充填処理を
行った場合と同等の反射率を確保することが可能にな
る。また、上記の如き紫外光照射によるラマン散乱状態
の変化を生じさせるためには、上記石英系ガラスとして
Geに加え少なくともSnを共ドープ、あるいはSnに
加えAlをも共ドープして作製したものを用いるように
するのが好ましい。ドーパントがGeのみの場合の感度
不足を補い紫外光に対する誘起屈折率変化を増大させる
ことが可能になる。さらに、例えばファイバグレーティ
ングの場合に、コア及びクラッドからなる光ファイバ素
線の外表面に樹脂被覆層が形成された光ファイバ心線に
対し紫外光の照射を行うようにしてもよい。この場合に
は、グレーティング書き込みのために照射する紫外光に
対応する特定波長については透過し得る透過特性を有す
る紫外線透過型樹脂により上記樹脂被覆層を形成するよ
うにすればよい。
In order to write (form) refractive index modulation fringes by irradiating ultraviolet light to quartz glass that has not been subjected to hydrogen filling, the grating length is longer than that to which hydrogen-filling is applied. The irradiation energy density may be increased by setting the length to be long.
Thereby, even if the ultraviolet light sensitivity is lower than that in the case where the hydrogen filling process is performed, it is possible to compensate for the insufficient sensitivity and to ensure the same reflectance as that in the case where the hydrogen filling process is performed. Further, in order to cause the change of the Raman scattering state due to the irradiation of ultraviolet light as described above, the above-mentioned quartz glass is prepared by co-doping at least Sn in addition to Ge or co-doping Al in addition to Sn. Preferably, it is used. It is possible to compensate for the lack of sensitivity when the dopant is only Ge and to increase the change in the induced refractive index with respect to ultraviolet light. Furthermore, for example, in the case of a fiber grating, ultraviolet light may be applied to an optical fiber core in which a resin coating layer is formed on an outer surface of an optical fiber consisting of a core and a clad. In this case, the resin coating layer may be formed of an ultraviolet-transmissive resin having a transmission characteristic capable of transmitting a specific wavelength corresponding to ultraviolet light irradiated for writing a grating.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基いて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0013】図1は、本発明のグレーティングをファイ
バグレーティングに適用した実施形態を示し、1は所定
長さの光ファイバ心線、2は少なくともGeがドープさ
れた石英系ガラスであってグレーティング(例えばBrag
g Grating)21が書き込まれたコア、3は上記光ファ
イバ心線1のクラッド、4はこのクラッド3の外表面に
被覆された被覆層、5は上記グレーティング21を書き
込むための位相マスクである。上記光ファイバ心線1
は、図2にも示すように光ファイバ母材から線引きによ
り製造されたコア2及びクラッド3からなる光ファイバ
素線1′に対し被覆層4がコーティングされたものであ
る。上記グレーティング21を書き込むための紫外光
(紫外レーザ光)の照射は、通常は上記の光ファイバ心
線1から被覆層4を除去した状態で行われるが、後述の
如くコア2及び被覆層4に対し工夫を加えることで被覆
層4を除去することなしに被覆層4の外側から上記の照
射を行うようにしてもよい。被覆層4を除去した状態で
照射を行う場合にはグレーティング形成対象は光ファイ
バ素線1′となり、被覆層4の外側から照射を行う場合
にはグレーティング形成対象は光ファイバ心線1とな
る。本実施形態では、被覆層4の外側から紫外レーザ光
の照射を行い、かつ、その紫外レーザ光の照射を上記位
相マスク5を介して行う位相マスク法によりグレーティ
ングの形成を行う場合について説明する。つまり、上記
被覆層4の外側から紫外レーザ光が位相マスク5を介し
て照射されることにより、光ファイバ心線1のコア2に
対しファイバ軸方向に周期的な屈折率変調縞(グレーテ
ィング21)が書き込まれてファイバグレーティングが
作製される場合を対象として説明する。
FIG. 1 shows an embodiment in which the grating of the present invention is applied to a fiber grating. Reference numeral 1 denotes an optical fiber core wire having a predetermined length, and reference numeral 2 denotes a silica-based glass doped with at least Ge. Brag
g Grating) 21 is written on the core, 3 is the cladding of the optical fiber 1, 4 is a coating layer coated on the outer surface of the cladding 3, and 5 is a phase mask for writing the grating 21. The above optical fiber cable 1
As shown in FIG. 2, a coating layer 4 is coated on an optical fiber 1 'comprising a core 2 and a clad 3 manufactured by drawing from an optical fiber preform. Irradiation of ultraviolet light (ultraviolet laser light) for writing the grating 21 is usually performed in a state where the coating layer 4 is removed from the optical fiber core wire 1, but is applied to the core 2 and the coating layer 4 as described later. The above irradiation may be performed from the outside of the coating layer 4 without removing the coating layer 4 by adding a device. When the irradiation is performed with the coating layer 4 removed, the grating formation target is the optical fiber 1 ′. When the irradiation is performed from outside the coating layer 4, the grating formation target is the optical fiber core 1. In the present embodiment, a case will be described in which the ultraviolet laser light is irradiated from outside of the coating layer 4 and the grating is formed by a phase mask method in which the ultraviolet laser light is irradiated through the phase mask 5. That is, when the ultraviolet laser beam is irradiated from the outside of the coating layer 4 through the phase mask 5, the refractive index modulation fringes (grating 21) are periodically formed in the fiber axis direction with respect to the core 2 of the optical fiber 1. Will be described for the case where a fiber grating is produced by writing the symbol.

【0014】上記の被覆層4の外側から紫外レーザ光を
照射することによりグレーティング21の書き込みを有
効に行うために、以下に説明するようにコア2及び被覆
層4として特別な構成を採用するのが好ましい。
In order to effectively write the grating 21 by irradiating an ultraviolet laser beam from the outside of the coating layer 4, a special structure is adopted as the core 2 and the coating layer 4 as described below. Is preferred.

【0015】すなわち、上記コア2としては、通常仕様
の光ファイバのコアと同等濃度のGe に加えSn 、或い
は、Sn 及びAl 、もしくは、Sn,Al及びBのドー
パントを添加したものを用いるのが光誘起屈折率変化を
定常的に高める上で好ましい。ここで、通常仕様の光フ
ァイバとは上記光ファイバ心線1に対し接続される接続
対象の光ファイバ心線のことであり、このような光ファ
イバ心線はそのコアに対し比屈折率差が0.9%となる
程度の量のGe がドープされて製造されたものである。
そして、上記光ファイバ心線1のコア2には、上記の通
常仕様の光ファイバのコアと同量(比屈折率差が0.9
%となる程度の量)のGe に加え、濃度10000pp
m以上、好ましくは濃度10000〜15000ppm
のSn 、或いは、このような濃度のSn 及び濃度100
0ppm以下のAl等を共ドープすればよい。上記のド
ープは種々の公知の方法により行えばよく、例えば液浸
により行う場合には、上記Ge やSn の化合物(Sn の
場合、例えばSn Cl2 ・2H2 O)をメチルアルコー
ルと混合し、その溶液の中に浸漬すればよい。
That is, as the core 2, a core obtained by adding a dopant of Sn, Sn and Al, or Sn, Al and B in addition to Ge having the same concentration as that of the core of the normal specification optical fiber is used. This is preferable for constantly increasing the photo-induced refractive index change. Here, the normal specification optical fiber is an optical fiber core to be connected to the optical fiber core 1, and such an optical fiber core has a relative refractive index difference with respect to its core. It is manufactured by doping Ge with an amount of about 0.9%.
The core 2 of the optical fiber core 1 has the same amount (a relative refractive index difference of 0.9
%) And a concentration of 10,000 pp
m or more, preferably at a concentration of 10,000 to 15000 ppm
Of Sn or such a concentration of Sn and a concentration of 100
Al and the like at 0 ppm or less may be co-doped. The above dope may be carried out by various known methods, for example, when carried out by immersion, the compound of the above Ge and Sn (For Sn, for example, Sn Cl 2 · 2H 2 O) was mixed with methyl alcohol, What is necessary is just to immerse in the solution.

【0016】また、上記被覆層4は上記光ファイバ素線
1′の線引き工程に引き続いてシングルコートにより所
定の膜厚になるように形成されたものである。この被覆
層4の形成素材は紫外線を透過する特性を有する紫外線
透過型の樹脂が用いられる。この紫外線透過型の樹脂と
しては、グレーティング21の書き込みのために照射さ
れる紫外線の特定波長帯(例えば240nm〜270n
mの波長帯)を少なくとも透過させるものであればよ
く、特に好ましくは上記特定波長帯の紫外線を殆ど吸収
せずに透過させる一方、上記特定波長帯よりも短い波長
または長い波長の紫外線を吸収して硬化反応を生じさせ
るものを用いればよい。つまり、同じ樹脂ではあるが波
長によって紫外線吸収特性が異なり、上記特定波長帯で
は紫外線透過型である一方、上記特定波長帯よりも短い
波長域または長い波長域では紫外線硬化型であるような
樹脂により上記被覆層4を形成するのが最も好ましい。
このような樹脂としては、ウレタン系アクリレートもし
くはエポキシ系アクリレートに対し例えば240nmよ
りも短い波長域または270nmよりも長い波長域の紫
外線を受けて硬化反応を開始・促進させるような光開始
剤(フォトイニシエータ)を配合したものを用いればよ
い。
The coating layer 4 is formed so as to have a predetermined thickness by a single coating after the step of drawing the optical fiber 1 '. As a material for forming the coating layer 4, an ultraviolet transmitting resin having a property of transmitting ultraviolet light is used. As this ultraviolet transmission type resin, a specific wavelength band (for example, 240 nm to 270 n
m wavelength band), and it is particularly preferable to transmit the ultraviolet ray of the specific wavelength band with little absorption and to absorb the ultraviolet ray of a shorter or longer wavelength than the specific wavelength band. What causes a hardening reaction may be used. In other words, although the same resin has different ultraviolet absorption characteristics depending on the wavelength, it is an ultraviolet ray transmitting type in the above specific wavelength band, and is an ultraviolet curing type resin in a wavelength range shorter or longer than the above specific wavelength band. Most preferably, the coating layer 4 is formed.
Examples of such a resin include a photoinitiator (photoinitiator) that initiates and accelerates a curing reaction by receiving ultraviolet light having a wavelength range shorter than 240 nm or a wavelength range longer than 270 nm with respect to urethane acrylate or epoxy acrylate. ) May be used.

【0017】次に、上記光ファイバ心線1の外側、つま
り、樹脂被覆層4の外側から紫外光を照射することによ
りコア2に対しグレーティング21の書き込みを行う。
このグレーティング21の書き込みは周知の種々の方法
を採用して行えばよく、位相マスク法により行う場合に
は、図3に作製装置の例を示すように上記光ファイバ心
線1の側方直前に格子状の位相マスク5を配設し、この
位相マスク5に対しNd−YAGレーザ源6から例えば
その4倍波長(4ω)である266nmの紫外レーザ光
をシリンドリカルレンズ系7により集光した状態で照射
すればよい。これにより、上記紫外レーザ光が位相マス
ク5及び樹脂被覆層4を透過し、上記コア2に対し上記
位相マスク5の格子ピッチに対応したグレーティングピ
ッチの部分の屈折率が増大されてグレーティング21が
書き込まれることになる。なお、図3中8は紫外レーザ
光を拡大して平行ビーム化するビームエキスパンダー、
9は上記の平行ビーム化された紫外レーザ光のパワーが
均一の部分を切り出す微小幅のスリットであり、これら
は照射系の一部を構成している。また、10は上記光フ
ァイバ心線1の長手方向(一点鎖線の矢印参照)に移動
可能とされた可動式反射ミラー、11は光スペクトルア
ナライザ、12は光アイソレータ、13は光カプラであ
り、これらにより計測系が構成されている。
Next, the grating 21 is written on the core 2 by irradiating ultraviolet light from outside the optical fiber core 1, that is, outside the resin coating layer 4.
The writing of the grating 21 may be performed by using various well-known methods. In the case of performing the writing by the phase mask method, as shown in FIG. A grid-like phase mask 5 is provided, and an Nd-YAG laser source 6 focuses, for example, a 266 nm ultraviolet laser beam having a wavelength four times as large (4ω) from the Nd-YAG laser source 6 on the phase mask 5 by a cylindrical lens system 7. Irradiation may be performed. As a result, the ultraviolet laser light passes through the phase mask 5 and the resin coating layer 4, and the refractive index of the grating 2 corresponding to the grating pitch of the phase mask 5 is increased with respect to the core 2 so that the grating 21 is written. Will be. In FIG. 3, reference numeral 8 denotes a beam expander that expands the ultraviolet laser beam and converts it into a parallel beam.
Reference numeral 9 denotes a slit having a minute width for cutting out a portion where the power of the above-mentioned ultraviolet beam converted into a parallel beam is uniform, and these slits constitute a part of the irradiation system. Reference numeral 10 denotes a movable reflection mirror movable in the longitudinal direction of the optical fiber core wire 1 (see the dashed line arrow), 11 denotes an optical spectrum analyzer, 12 denotes an optical isolator, and 13 denotes an optical coupler. Constitutes a measurement system.

【0018】そして、上記のグレーティング21のファ
イバ軸方向のグレーティング長を比較的長く設定してよ
り多くの照射エネルギー密度の紫外レーザ光を受けるよ
うにすることにより、誘起屈折率変化量を増大させて目
標の反射率(屈折率差)を実現させるようにする。つま
り、同じ反射率を実現させるのに、水素充填処理を行っ
た場合にはより短いグレーティング長さでもより小さい
照射エネルギー密度で短時間の紫外光照射により達成し
得るのに対し、上記水素充填処理を行わない場合にはよ
り長いグレーティング長さに設定し、より大きな照射エ
ネルギー密度でより長時間をかけて紫外光の吸収を行わ
せるようにすればよい。
The amount of induced refractive index change is increased by setting the grating length of the grating 21 in the fiber axis direction to be relatively long so as to receive an ultraviolet laser beam having a larger irradiation energy density. The target reflectance (refractive index difference) is realized. In other words, in order to realize the same reflectance, when hydrogen filling processing is performed, shorter grating length can be achieved by shorter irradiation of ultraviolet light with smaller irradiation energy density, whereas the above hydrogen filling processing can be achieved. If not performed, the grating length may be set to be longer, and ultraviolet light may be absorbed at a larger irradiation energy density for a longer time.

【0019】上記の如く水素充填処理を行うことなしに
紫外レーザ光をより長い照射時間をかけて行うことによ
り、ラマン散乱状態におけるラマン散乱ピークが照射前
の状態からより低周波側にシフトされてガラスのネット
ワーク構造におる結合構造がより密度の高い側に変化す
る。この変化によりたとえ紫外レーザ光の照射による誘
起屈折率変化度合いが水素充填処理したものと比べ低く
ても熱的安定性に富み、長期信頼性を期待し得るグレー
ティングとすることができるようになる。
As described above, by performing the ultraviolet laser light for a longer irradiation time without performing the hydrogen filling treatment, the Raman scattering peak in the Raman scattering state is shifted from the state before the irradiation to a lower frequency side. The bonding structure in the glass network structure changes to the denser side. Due to this change, even if the degree of change in the refractive index induced by the irradiation of the ultraviolet laser beam is lower than that in the case of hydrogen-filled treatment, a grating having a high thermal stability and a long-term reliability can be obtained.

【0020】<他の実施形態>なお、本発明は上記実施
形態に限定されるものではなく、その他種々の実施形態
を包含するものである。すなわち、上記実施形態では、
樹脂被覆層4の外側から紫外レーザ光の照射を行ってい
るが、これに限らず、上記樹脂被覆層4を除去した光フ
ァイバ素線1′に対し紫外レーザ光の照射を行うように
してもよい。
<Other Embodiments> The present invention is not limited to the above embodiments, but includes various other embodiments. That is, in the above embodiment,
Irradiation with ultraviolet laser light is performed from the outside of the resin coating layer 4, but the invention is not limited to this. Irradiation with ultraviolet laser light may be performed on the optical fiber 1 'from which the resin coating layer 4 has been removed. Good.

【0021】また、上記実施形態では、グレーティング
を光ファイバに形成したファイバグレーティングについ
て説明したが、これに限らず、グレーティングは光導波
路の一部に形成したものであってもよい。
In the above embodiment, a fiber grating in which the grating is formed on the optical fiber has been described. However, the present invention is not limited to this, and the grating may be formed on a part of the optical waveguide.

【0022】さらに、上記実施形態ではGeに加えSn
及びAlを共ドープしているが、これに限らず、ドーパ
ントとしてGeのみにしてもよい。この場合であって
も、水素充填処理を行わずに紫外レーザ光の照射を行う
ことによりラマン散乱状態を低周波側に変化させて熱的
負荷に対し変動し難く長期安定性を有するグレーティン
グとすることができる。
Further, in the above-described embodiment, in addition to Ge, Sn
And Al are co-doped, but the present invention is not limited thereto, and Ge alone may be used as a dopant. Even in this case, by irradiating the ultraviolet laser light without performing the hydrogen filling process, the Raman scattering state is changed to a low frequency side, and the grating has a long-term stability that is not easily changed with respect to a thermal load. be able to.

【0023】[0023]

【実施例】Geに加えSn及びAlを共ドープした石英
系ガラスをコア2(図1及び図2参照)としクラッド3
の外表面を樹脂被覆層4により覆った所定長さの光ファ
イバ心線1を初期試料Giとして作製し、この初期試料
Giを用い水素充填処理を行ったものに紫外レーザ光の
照射を行うことによりグレーティングを形成した比較例
としての試料Iと、上記初期試料Giに対し水素充填処
理を行わずに紫外レーザ光の照射を行うことによりグレ
ーティングを形成した実施例としての試料IIとを作製し
た。そして、上記の試料I,IIについて照射エネルギー
密度と反射率との関係を調べる一方、上記の初期試料G
i、試料I及びIIについてラマン分光分析を行い水素充
填処理の有無によるラマン散乱状態の変化を調べた。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A silica glass co-doped with Sn and Al in addition to Ge is used as a core 2 (see FIGS. 1 and 2) and a cladding 3 is used.
Of an optical fiber core 1 having a predetermined length whose outer surface is covered with a resin coating layer 4 as an initial sample Gi, and irradiating an ultraviolet laser beam to a hydrogen-filled one using the initial sample Gi. A sample I as a comparative example in which a grating was formed by the method described above, and a sample II as an example in which a grating was formed by irradiating the initial sample Gi with an ultraviolet laser beam without performing hydrogen filling treatment were produced. Then, while examining the relationship between the irradiation energy density and the reflectance for the samples I and II, the initial sample G
i, samples I and II were subjected to Raman spectroscopic analysis to examine the change in Raman scattering state with and without hydrogen filling treatment.

【0024】上記石英系ガラスにおいて、Geのドープ
量は比屈折率差Δが0.97%となる程度の量とし、S
nの濃度は15000ppm、Alの濃度は900pp
mとした。水素充填処理は20MPaの高圧水素を充填
した密閉容器内に初期試料Giのコアガラスを入れて2
週間放置することにより行った。紫外レーザ光としては
Nd−YAGレーザ(図3中の6参照)の4倍波長(2
66nm)を用い、グレーティングの形成は図3に示す
ような装置を用いて位相マスク法により実施した。な
お、この際のグレーティング長の設定を試料Iでは2m
m、試料IIでは24mmとした。
In the above quartz-based glass, the doping amount of Ge is such that the relative refractive index difference Δ is 0.97%.
The concentration of n is 15000 ppm, and the concentration of Al is 900 pp.
m. The hydrogen filling process is performed by placing the core glass of the initial sample Gi in a closed container filled with high-pressure hydrogen of 20 MPa.
Performed by leaving for a week. As the ultraviolet laser light, the wavelength (2 times) of the Nd-YAG laser (see 6 in FIG. 3) is used.
66 nm), and the grating was formed by a phase mask method using an apparatus as shown in FIG. In this case, the grating length was set to 2 m for sample I.
m and 24 mm for Sample II.

【0025】上記の試料Iと試料IIとについてのグレー
ティング形成法の諸元と、形成されたグレーティングの
反射率及びこの反射率から換算した推定屈折率差(屈折
率変化量の計算値)Δnmodとを表1に、また、照射エ
ネルギー密度と反射率とにより表される反射率特性を図
4にそれぞれ示す。
The specifications of the grating forming method for the above-mentioned samples I and II, the reflectance of the formed grating and the estimated refractive index difference (calculated value of refractive index variation) Δnmod converted from the reflectance. Is shown in Table 1, and the reflectance characteristics represented by the irradiation energy density and the reflectance are shown in FIG. 4, respectively.

【0026】[0026]

【表1】 [Table 1]

【0027】試料Iと試料IIとを比較すると、試料Iで
は、水素充填処理により紫外光に対する誘起屈折率変化
が増大されているため、2mmという短いグレーティン
グ長、2.25kJ/cm2という小さい照射エネルギ
ー密度、及び、15分という短い照射時間で99%以上
という高反射率のグレーティングが得られた。そして、
これにより形成されたグレーティングの推定屈折率差は
1×10-3程度であった。これに対し水素充填処理を行
っていない試料IIでは、90%程度の反射率に到達させ
るのに24mmという比較的長いグレーティング長、6
7.5kJ/cm2という大きい照射エネルギー密度、
及び、450分という長い照射時間が必要となる。そし
て、形成されたグレーティングの推定屈折率率差が1×
10-4以下と試料Iよりも1桁小さい程度に止まってい
る。
A comparison between Sample I and Sample II shows that, in Sample I, the induced refractive index change with respect to ultraviolet light is increased by the hydrogen filling treatment, so that the grating length is as short as 2 mm and the irradiation is as small as 2.25 kJ / cm 2. A grating having a high reflectivity of 99% or more was obtained with an energy density and a short irradiation time of 15 minutes. And
The estimated refractive index difference of the grating thus formed was about 1 × 10 −3 . On the other hand, in the case of the sample II not subjected to the hydrogen filling treatment, a relatively long grating length of 24 mm,
A large irradiation energy density of 7.5 kJ / cm 2 ,
In addition, a long irradiation time of 450 minutes is required. Then, the estimated refractive index difference of the formed grating is 1 ×
It is only 10 -4 or less, which is one digit smaller than that of Sample I.

【0028】一方、上記の初期試料Giと、試料I及び
試料IIとについてのラマン分光分析結果を図5に、初期
試料Giに対する各試料I,IIのラマン散乱状態の変化
を表2にそれぞれ示す。
On the other hand, FIG. 5 shows the results of Raman spectroscopic analysis of the above-mentioned initial sample Gi, samples I and II, and Table 2 shows the change in the Raman scattering state of each of the samples I and II with respect to the initial sample Gi. .

【0029】[0029]

【表2】 [Table 2]

【0030】このラマン分光分析はグレーティングが形
成されたコア部分について反射型ラマン分析を行ったも
のであ。具体的には、レーザラマンマイクロプローブ法
を採用し、488nmの励起波長を使用してラマン反射
光を評価した。なお、そのレーザのスポット径は約1μ
mである。また、上記の図5は、波形の違い等の明確化
のために、初期試料Giのラマンスペクトルと、試料I
のラマンスペクトルと、試料IIのラマンスペクトルとの
3者をラマン散乱強度の方向に互いに間隔を開けて個別
に図示している。上記の3者のラマンスペクトルの各右
端位置が本来は同一位置で合致することになる。
In this Raman spectroscopic analysis, reflection Raman analysis was performed on the core portion where the grating was formed. Specifically, the laser Raman microprobe method was employed, and the Raman reflected light was evaluated using an excitation wavelength of 488 nm. The laser spot diameter is about 1μ.
m. FIG. 5 shows the Raman spectrum of the initial sample Gi and the sample I
And the Raman spectrum of Sample II are separately shown in the direction of the Raman scattering intensity at intervals. The right ends of the three Raman spectra coincide with each other at the same position.

【0031】上記ラマン分光分析によるラマン散乱状態
の変化を見ることにより、紫外レーザ光照射前後でのグ
レーティング形成部分におけるガラスの構造変化が水素
充填処理の有無によってどのような違いとなって現れる
かを確認した。ここで、ラマンスペクトルは、そのパタ
ーンを見ることにより化合物を同定したり、ラマン散乱
ピーク(ラマンバンド)の位置,形状,強度比等を見る
ことにより物質の結晶性や配向等の構造状態に関する情
報を得ることができる。このため、水素充填処理の有無
の違いにより紫外レーザ光照射の前後でそれぞれガラス
のネットワーク構造がどのように変化するかをラマン散
乱状態の変化を見ることにより、形成されたグレーティ
ング(試料I,II)の特性の相違を特定しようとしてい
る。
By observing the change in the Raman scattering state by the Raman spectroscopic analysis, it can be seen how the structural change of the glass in the grating forming portion before and after the irradiation of the ultraviolet laser light appears depending on the presence or absence of the hydrogen filling treatment. confirmed. Here, the Raman spectrum is information on the structural state such as crystallinity and orientation of a substance by identifying a compound by looking at its pattern or by looking at the position, shape, intensity ratio, etc. of a Raman scattering peak (Raman band). Can be obtained. Therefore, by observing the change in the Raman scattering state before and after the irradiation of the ultraviolet laser light depending on the presence or absence of the hydrogen filling treatment, the grating formed (samples I and II) was observed. ) Trying to identify the differences in characteristics.

【0032】水素充填処理を行った試料Iの場合、紫外
レーザ光照射を行うことにより、ラマン散乱状態が大き
く変化する点は主として以下の2点である。すなわち、
初期試料Giの6員環モードに起因するラマン散乱ピー
クが紫外レーザ光照射を受けることによりラマン散乱
ピークrへと高波数側(高周波側)にシフトしラマン
散乱ピーク強度も低下するとともに、波数715cm-1
にラマン散乱ピークrが新規に発生する。これら以外
のラマン散乱ピークr〜rは初期試料Giのラマン散
乱状態とほぼ同一であった。上記のラマン散乱ピーク
rは、水素充填処理により充填された水素と結合した構
造に起因するラマン散乱ピークであると考えられる。
In the case of the sample I which has been subjected to the hydrogen filling treatment, the following two points mainly change the Raman scattering state by irradiation with the ultraviolet laser light. That is,
The Raman scattering peak caused by the 6-membered ring mode of the initial sample Gi is shifted to a Raman scattering peak r toward a higher wavenumber (higher frequency side) by being irradiated with an ultraviolet laser beam, the Raman scattering peak intensity is reduced, and the wavenumber is 715 cm. -1
, A Raman scattering peak r is newly generated. The Raman scattering peaks r to r other than these were almost the same as the Raman scattering state of the initial sample Gi. Raman scattering peak above
r is considered to be a Raman scattering peak due to a structure bonded to hydrogen filled by the hydrogen filling treatment.

【0033】これに対し、水素充填処理を行わなかった
試料IIの場合、紫外レーザ光照射を行うことにより、初
期試料Giの殆どのラマン散乱ピーク,,,が
ラマン散乱ピークe,e,e,eへと低波数側(低
周波側)にシフトしてそれぞれラマン散乱ピーク強度も
低下した。
On the other hand, in the case of the sample II not subjected to the hydrogen filling treatment, by irradiating an ultraviolet laser beam, almost all of the Raman scattering peaks of the initial sample Gi are Raman scattering peaks e, e, e, and. The peak shifted to the lower wavenumber side (lower frequency side) to e, and the Raman scattering peak intensity also decreased.

【0034】上記の試料Iと試料IIとの紫外レーザ光照
射によるラマン散乱状態の変化について検討するに、試
料IIの場合には殆どのラマン散乱ピークが低周波側にシ
フトしてガラスのネットワーク構造が低周波側へ大きく
変化しているのに対し、試料Iの場合には紫外レーザ光
を照射してもラマン散乱状態は余り変化はなくわずかに
ラマン散乱ピークにおいてネットワーク構造が高周波
側にシフトしたのみであった。試料IIの場合には、屈折
率変化が1×10-4と試料Iのそれよりも1桁小さいに
も拘わらず、ラマン散乱ピークが低周波側にシフトする
ことによりガラスのネットワーク構造のほぼ全体がより
密度の高い側に変化し、外部環境、特に熱的負荷を受け
たとしても上記ネットワーク構造の各結合がより変動し
難い構造に変化している。これに対し、試料Iの場合に
は水素充填処理によりガラスに充填された水素に起因し
てガラスのネットワーク構造の変化を殆ど招くことなく
試料IIとは異なるメカニズムで大きな屈折率変化を誘起
したものと考えられる。そして、試料Iの場合には上記
の高周波側へのシフトによりそれに対応してネットワー
ク構造がより密度の低い側に変化し、特に上記の熱的負
荷を受けてより変動し易い構造に変化して不安定化して
いるものと考えられる。つまり、たとえ屈折率差が同じ
グレーティングを形成したとしても、ラマン散乱状態が
紫外レーザ光照射により低周波側にシフトしたものの方
がより安定化したガラスネットワーク構造に変化してよ
り長期安定性が期待し得ることになる。従って、水素充
填処理を行わない試料IIの方が紫外レーザ光照射による
屈折率変化度合いは低いとしても長期安定性の観点から
は水素充填処理を行った試料Iよりも優れている。逆に
言うと、水素充填処理を行った試料Iは、見掛けの屈折
率変化は試料IIよりも大であるものの、長期安定性に欠
けるといえる。
To examine the change in the Raman scattering state of Sample I and Sample II due to the irradiation of the ultraviolet laser beam, it was found that in the case of Sample II, most of the Raman scattering peaks shifted to the low frequency side and the glass network structure was changed. In the case of sample I, the Raman scattering state did not change much, and the network structure shifted slightly at the Raman scattering peak to the high frequency side, while the sample I was irradiated with ultraviolet laser light. Was only. In the case of sample II, the Raman scattering peak shifts to the lower frequency side even though the refractive index change is 1 × 10 −4 , which is an order of magnitude smaller than that of sample I. Has changed to a denser side, and each connection of the network structure has changed to a structure that is less likely to fluctuate even when subjected to an external environment, particularly a thermal load. On the other hand, in the case of sample I, a large change in the refractive index was induced by a mechanism different from that of sample II, with almost no change in the network structure of the glass caused by the hydrogen filled in the glass by the hydrogen filling treatment. it is conceivable that. In the case of Sample I, the shift to the high-frequency side causes the network structure to change correspondingly to a lower-density side, and in particular, changes to a structure that is more susceptible to fluctuations due to the thermal load. It is considered that it has become unstable. In other words, even if a grating with the same refractive index difference is formed, the one whose Raman scattering state shifts to the lower frequency side by irradiation with ultraviolet laser light changes to a more stabilized glass network structure, and longer-term stability is expected. Will be able to do it. Therefore, the sample II without hydrogen filling is superior to the sample I with hydrogen filling from the viewpoint of long-term stability, even though the degree of change in the refractive index due to ultraviolet laser light irradiation is lower. Conversely, it can be said that sample I which has been subjected to the hydrogen filling treatment lacks long-term stability although the apparent refractive index change is larger than that of sample II.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態のグレーティングを示す説明
図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a grating according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の拡大横断面図である。FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of FIG.

【図3】グレーティングの作製装置を示す模式図であ
る。
FIG. 3 is a schematic diagram showing a grating manufacturing apparatus.

【図4】照射エネルギー密度と反射率との関係を示す図
である。
FIG. 4 is a diagram showing a relationship between irradiation energy density and reflectance.

【図5】ラマンスペクトルを示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a Raman spectrum.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 コア(石英系ガラス) 21 グレーティング(屈折率変調縞) 2 core (quartz glass) 21 grating (refractive index modulation fringe)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02B 6/10 G02B 6/10 C 6/122 6/12 A ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat ゛ (Reference) G02B 6/10 G02B 6/10 C 6/122 6/12 A

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくともGeが添加された石英系ガラ
スに対し紫外光を照射することにより屈折率変調縞が形
成されたグレーティングにおいて、 水素充填処理が未処理の状態の石英系ガラスに対し紫外
光を照射することにより屈折率変調縞の形成が行われ、
かつ、 上記屈折率変調縞においてラマン散乱状態におけるラマ
ン散乱ピークの波数位置が上記紫外光照射の前の波数位
置よりも低周波側にシフトされた状態にされていること
を特徴とするグレーティング。
1. A grating in which refractive index modulation fringes are formed by irradiating at least Ge-added quartz glass with ultraviolet light, wherein the hydrogen-filled quartz glass is not treated with ultraviolet light. Irradiates to form a refractive index modulation fringe,
Further, the grating is characterized in that the wave number position of the Raman scattering peak in the Raman scattering state in the refractive index modulation fringe is shifted to a lower frequency side than the wave number position before the irradiation of the ultraviolet light.
【請求項2】 請求項1において、 石英系ガラスはGeに加え少なくともSnが共ドープさ
れて作製されたものであることを特徴とするグレーティ
ング。
2. The grating according to claim 1, wherein the quartz glass is formed by co-doping at least Sn in addition to Ge.
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