JP2000074985A - Survey point obtaining method in ic testing - Google Patents

Survey point obtaining method in ic testing

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JP2000074985A
JP2000074985A JP10246377A JP24637798A JP2000074985A JP 2000074985 A JP2000074985 A JP 2000074985A JP 10246377 A JP10246377 A JP 10246377A JP 24637798 A JP24637798 A JP 24637798A JP 2000074985 A JP2000074985 A JP 2000074985A
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search
test
search range
point
specified
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JP10246377A
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Japanese (ja)
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Yuichi Sato
雄一 佐藤
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Ando Electric Co Ltd
Original Assignee
Ando Electric Co Ltd
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Publication date
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  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To drastically shorten the measuring time of a device to be tested as a whole and reduce the production cost of a measuring device as a whole. SOLUTION: The survey point obtaining method in IC testing is to give two additional values form an impressing system 10A of an IC test device 1 to a device to be tested 2, takes in a measured value from the device to be tested 2 into the measuring system 10B of the IC test device 1 and obtain a variation point to be a reference for determining which of pass region or fail region the measured value comes in by a binary search method. Here, the region where the number of the variation points concentrate in a wafer unit and a lot unit in a device production process is limited as a survey region and survey with the binary search method is conducted.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、IC試験装置に
おいて二分探索法によりデバイスの合否判定基準とする
探索ポイントを取得するIC試験における探索ポイント
取得方式に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a search point acquisition method in an IC test for acquiring a search point to be used as a pass / fail decision criterion of a device by a binary search method in an IC test apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】図1は、一般的なIC試験装置を示すブ
ロック図である。同図において、1はIC試験装置で、
これが印加系10Aおよび測定系10Bを有する。これ
によれば、印加系10Aから被測定デバイス2に付加値
を与え、その測定結果を測定系10Bに取り込む。二分
探索法は、印加系10Aから被測定デバイス2にいくつ
かの付加値を与えて、その被測定デバイス2から測定系
10Bに取り込まれた値により探索ポイントを調査する
方法である。また、図5は被測定デバイス2の入出力特
性図であり、同図において、基準値S以上をパス(PA
SS)領域、基準値以下をフェイル(FAIL)領域と
して、IC試験装置1で二分探索法を使用して、データ
を取得する方法を示す。図6はこの二分探索法によるデ
ータ取得の手順を示すフローチャートであり、探索して
求める点は、パス領域およびフェイル領域の変化点であ
る。パス領域,フェイル領域の変化点は、印加系10A
から被測定デバイス2に与えられる付加値のA点および
B点間の探索範囲L内で1点のみであることを前提とし
ている。まず、IC試験装置1において、印加系10A
から被測定デバイス2に与えられる付加値の探索範囲L
を指定する(ステップS1)。そして、この探索範囲L
を決めるA点,B点がパス領域にあるのか、フェイル領
域にあるのかを試験する(ステップS2,S3)。
2. Description of the Related Art FIG. 1 is a block diagram showing a general IC test apparatus. In the figure, reference numeral 1 denotes an IC test device,
This has an application system 10A and a measurement system 10B. According to this, an additional value is given from the application system 10A to the device under test 2, and the measurement result is taken into the measurement system 10B. The binary search method is a method in which some additional values are given from the application system 10A to the device under measurement 2 and the search points are investigated based on the values taken from the device under measurement 2 into the measurement system 10B. FIG. 5 is an input / output characteristic diagram of the device under test 2. In FIG.
A method for acquiring data using the binary search method in the IC test apparatus 1 will be described with the SS test area and the reference value or less as a fail area. FIG. 6 is a flowchart showing the procedure of data acquisition by the binary search method. The points searched for and obtained are the changing points of the pass area and the fail area. The change point of the pass area and the fail area is determined by the application system 10A.
It is assumed that there is only one point within the search range L between the point A and the point B of the additional value given to the device under test 2 from. First, in the IC test apparatus 1, the application system 10A
Search range L of additional value given to device under test 2 from
Is specified (step S1). Then, this search range L
It is tested whether the points A and B that determine the position are in the pass area or the fail area (steps S2 and S3).

【0003】そして、これらのA点,B点での試験結
果、両測定値が図5に示すようなパス領域またはフェイ
ル領域にある場合には、求める変化点は、指定探索範囲
内に存在しないことになり、この場合には探索を終了す
る(ステップS4)。一方、A点がフェイル領域に、B
点がパス領域にある場合には、求める変化点は、A点と
B点の間に存在することとなる。そこで、こんどはA点
とB点の中間点であるC点=[(A+B)/2]点で、
前記同様に再度試験をする(ステップS5)。そして、
この再試験による測定の結果、C点がフェイル領域にあ
る場合には、求める変化点は、C点とB点の間に存在す
ることになる。そこで、こんどはC点とB点の中間点で
あるD点=[(C+B)/2]点で、前記同様に再度試
験をする(ステップS6)。
When the test results at points A and B indicate that both measured values are in a pass area or a fail area as shown in FIG. 5, the change point to be found does not exist within the designated search range. In this case, the search ends (step S4). On the other hand, point A is in the fail area and B is
If the point is in the path area, the change point to be found will be between point A and point B. Then, at this point, point C = [(A + B) / 2] which is an intermediate point between points A and B,
The test is performed again as described above (step S5). And
As a result of the measurement by the retest, when the point C is in the fail area, the change point to be found exists between the point C and the point B. Then, the test is performed again in the same manner as described above at point D = [(C + B) / 2], which is an intermediate point between points C and B (step S6).

【0004】この測定の結果、D点がフェイル領域にあ
る場合には、求める変化点は、D点とB点の間に存在す
ることになる。そこで、さらにD点とB点の中間点であ
るE点=[(D+B)/2]点で再度試験をする(ステ
ップS7)。この試験による測定の結果、E点がパス領
域にある場合には、求める変化点は、D点とE点の間に
存在することとなる。そこで、D点とE点の中間点であ
るF点=[(D+E)/2]点で再度試験する(ステッ
プS8)。そして、このF点の測定結果は、パス点なの
で、求める変化点は、D点とF点の間に存在することに
なる。そして、前記と同様にして、D点,F点の間で探
索可能な最小分解能まで試験を順に繰り返し、変化点を
求めていく。
As a result of this measurement, if the point D is in the fail area, the change point to be found will be between the points D and B. Therefore, the test is performed again at point E, which is an intermediate point between point D and point B = [(D + B) / 2] (step S7). As a result of the measurement by this test, when the point E is in the pass area, the change point to be found exists between the point D and the point E. Therefore, the test is performed again at point F = [(D + E) / 2], which is an intermediate point between points D and E (step S8). Since the measurement result at the point F is a pass point, the change point to be found exists between the point D and the point F. Then, in the same manner as described above, the test is sequentially repeated until the minimum resolution that can be searched between the point D and the point F, and the change point is obtained.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
従来のIC試験における探索ポイント取得方式にあって
は、被測定デバイスの評価を、二分探索法を利用し、デ
バイスプログラムによる試験を実行してデバイスの良,
不良を判定することにより行っているため、被測定デバ
イスを大量生産する場合に測定時間が長引き、被測定デ
バイス全体のコストアップが避けられないという課題が
あった。
However, in such a conventional search point acquisition method in an IC test, evaluation of a device under test is performed by using a binary search method and executing a test based on a device program to execute device test. Good,
Since the measurement is performed by determining a defect, there is a problem that the measurement time is prolonged when mass-producing the device to be measured, and the cost of the entire device to be measured cannot be avoided.

【0006】この発明は前記課題を解決するものであ
り、二分探索法により同一試験項目を繰り返し測定する
デバイスプログラムの場合に、同一測定回数を減らし、
被測定デバイス全体として測定時間を大幅に短縮でき、
従って被測定デバイス全体の製造コストを低減できるI
C試験における探索ポイント取得方式を得ることを目的
とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problem. In the case of a device program for repeatedly measuring the same test item by a binary search method, the same measurement frequency is reduced,
The measurement time can be significantly reduced for the entire device under test,
Therefore, the manufacturing cost of the entire device under test can be reduced.
The purpose is to obtain a search point acquisition method in the C test.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】前記目的達成のため、請
求項1の発明にかかるIC試験における探索ポイント取
得方式は、IC試験装置の印加系から被測定デバイスに
二つの付加値を与え、その被測定デバイスから前記IC
試験装置の測定系に測定値を取り込み、その測定値が二
分探索法によりパス領域またはフェイル領域のいずれに
入るかの決定の基準となる変化点を求めるIC試験にお
ける探索ポイント取得方式であって、デバイス製造工程
のウエハやロット単位で前記変化点の数が集中する範囲
を探索範囲として限定して、前記二分探索法による探索
を実施するものである。
In order to achieve the above object, a search point acquiring method in an IC test according to the present invention provides two additional values to a device under test from an application system of an IC test apparatus. From the device under test to the IC
A search point acquisition method in an IC test in which a measurement value is taken into a measurement system of a test apparatus and a change point serving as a criterion for determining whether the measurement value falls into a pass area or a fail area by a binary search method, The search by the binary search method is performed by limiting a range in which the number of the change points is concentrated on a wafer or lot basis in a device manufacturing process as a search range.

【0008】また、請求項2の発明にかかるIC試験に
おける探索ポイント取得方式は、前記探索範囲を試験実
行ごとに変更して二分探索を行うようにしたものであ
る。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a search point acquiring method in an IC test in which a binary search is performed by changing the search range every time a test is executed.

【0009】また、請求項3の発明にかかるIC試験に
おける探索ポイント取得方式は、二つの付加値に対する
被測定デバイスからの測定値について初期の探索範囲を
指定し、この探索範囲内の測定値がパス領域にあるかフ
ェイル領域にあるかの測定を行い、続いて、前記二分探
索法で求める変化点の数が集中する探索範囲を二つの付
加値間に指定して、この指定した探索範囲内に求める変
化点があるか否かを調べ、その探索範囲内に求める変化
点がある場合には、前記指定したのと同じ付加値を使用
して、次のデバイス試験を行い、一方、前記指定した探
索範囲内に求める変化点がない場合には、前記初期の探
索範囲を指定して測定を行い、求める変化点が指定した
探索範囲内にある場合には、測定結果が前記指定した探
索範囲外のとき、その測定結果を前記の指定した探索範
囲を指定する二つの付加値として決定するようにしたも
のである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for acquiring a search point in an IC test, in which an initial search range is specified for a measured value from a device to be measured for two additional values, and the measured value within this search range is A measurement is performed to determine whether the point is in the pass area or in the fail area. Subsequently, a search range in which the number of change points determined by the binary search method is concentrated is specified between two additional values. It is checked whether or not there is a change point to be searched for.If there is a change point to be found within the search range, the next device test is performed using the same additional value as specified above, while If there is no change point to be found within the search range obtained, measurement is performed by specifying the initial search range, and if the change point to be found is within the specified search range, the measurement result indicates that the specified search range When outside Is the measurement result that determined as the two additional values that specifies the specified search range of the.

【0010】また、請求項4の発明にかかるIC試験に
おける探索ポイント取得方式は、デバイス製造工程でウ
エハの切り替わりで、前記初期の探索範囲内の測定値が
パス領域にあるかフェイル領域にあるかの測定手順に戻
り、二分探索を再開するようにしたものである。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for acquiring a search point in an IC test in which a measurement value within the initial search range is in a pass area or a fail area when a wafer is switched in a device manufacturing process. Returning to the measurement procedure, the binary search is restarted.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の一形態を
図について説明する。この発明のIC試験における探索
ポイント取得方式は、図1に示すブロック図を用いて、
図2および図3に示すよな方法にて実施される。また、
一般的に、二分探索法で求められる探索範囲に対する求
めた変化点の数は、図4に示すヒストグラムのようにな
る。このようにして求めた変化点の数が一定の範囲内に
集まる傾向が、デバイス製造工程のウェハやロット単位
で見ることができる。この発明は、このような特性に着
目し、試験探索範囲を限定することで、探索回数を減ら
すことが可能となる。すなわち、この発明では、探索範
囲を試験実行毎に変更し、二分探索を行なう。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. The search point acquisition method in the IC test according to the present invention uses the block diagram shown in FIG.
This is performed by a method as shown in FIGS. Also,
Generally, the number of change points obtained for the search range obtained by the binary search method is as shown in a histogram in FIG. The tendency of the number of change points thus obtained to fall within a certain range can be seen for each wafer or lot in the device manufacturing process. The present invention can reduce the number of searches by focusing on such characteristics and limiting the test search range. That is, in the present invention, the search range is changed every time the test is executed, and the binary search is performed.

【0012】次に図2を用いて、この発明による基準値
S以上をパス領域、基準値以下をフェイル領域とするI
C試験装置1で、二分探索法を使用することにより、探
索ポイントとしてのデータを取得する方式を説明する。
また、二分探索法によるデータ取得の手順は図3のフロ
ーチャートに示す通りである。この発明による二分探索
では、1回目の測定結果が得られるまでは、探索範囲
A′,B′は不確定な状態であり、前記した従来技術に
よる二分探索法を使用する。そして、変化点が1回取得
できれば、それ以降の試験では、取得した測定結果の最
小値をA′,最大値をB′として指定して、A′点およ
びB′点間の探索範囲L1を決定し、試験を行なう。以
下にその手順を示す。ここで、A′点,B′点は探索範
囲の初期値のA点およびB点間の範囲を越えないものと
する。
Next, referring to FIG. 2, an area I or more according to the present invention is defined as a pass area, and an area below the reference value S is defined as a fail area.
A method of acquiring data as a search point by using the binary search method in the C test apparatus 1 will be described.
The procedure for acquiring data by the binary search method is as shown in the flowchart of FIG. In the binary search according to the present invention, the search ranges A ′ and B ′ are in an indeterminate state until the first measurement result is obtained, and the above-described binary search method according to the related art is used. If the change point can be obtained once, in the subsequent tests, the minimum value of the obtained measurement results is designated as A 'and the maximum value is designated as B', and the search range L1 between the points A 'and B' is determined. Decide and test. The procedure is described below. Here, the points A 'and B' do not exceed the range between the points A and B of the initial value of the search range.

【0013】すなわち、最初に、1回目の測定結果が得
られるまでは、前記した図6のフローチャートのステッ
プS1からステップS8の従来技術による二分探索法に
より、被測定デバイス2から測定値を取り込んでデータ
の探索を行う(ステップS11)。1回目の測定結果が
得られたら、取得した測定結果の最小値をA′、最大値
をB′の値とする(ステップS12)。そこで、次の試
験では、A′点およびB′点間の探索範囲L1を指定し
て測定を実行する(ステップS13)。次に、この探索
範囲L1内に変化点が存在するか否かを調べ(ステップ
S14)、指定探索範囲L1内に変化点が存在しない場
合は、探索範囲L1に初期値であるA点およびB点間の
探索範囲Lを指定して変化点を求める(ステップS1
5)。A点,B点での両測定結果が共にパス点またはフ
ェイル点の場合には、求める変化点は、指定探索範囲内
に存在しないことになり、従って、この場合には探索を
終了することになる(ステップS16)。
That is, first, until the first measurement result is obtained, the measured values are fetched from the device under test 2 by the binary search method according to the prior art in steps S1 to S8 of the flowchart of FIG. Data search is performed (step S11). When the first measurement result is obtained, the minimum value of the obtained measurement results is set to A 'and the maximum value is set to B' (step S12). Therefore, in the next test, measurement is performed by designating the search range L1 between the points A 'and B' (step S13). Next, it is checked whether or not a change point exists within the search range L1 (step S14). If no change point exists within the designated search range L1, points A and B, which are initial values, are included in the search range L1. A change point is determined by designating a search range L between points (step S1).
5). If both the measurement results at points A and B are pass points or fail points, the change point to be found does not exist within the designated search range, and in this case, the search is terminated. (Step S16).

【0014】一方、前記ステップS14において、指定
した探索範囲L1内に変化点が存在すると判定された場
合は、同じ値のA′,B′を使用し、次のデバイス試験
を繰り返し行なう。測定結果が得られたら、その値を
A′,B′と比較する。測定結果が、探索範囲L1外な
らば、次のように変更する(ステップS17)。すなわ
ち、測定結果がA′より小さいときは、その測定結果を
A′とする。一方、測定結果がB′より大きいときは、
その測定結果をB′とする。こうして、ステップS13
からステップS17の試験を繰り返し、探索範囲L1を
試験実行毎に測定結果により決定する。そして、図4の
ヒストグラムで示した傾向であれば、探索範囲L1が初
期値L内の一定範囲に収束し、つまり、探索範囲L1が
初期値の探索範囲Lより狭められていることにより、二
分探索法のデータ探索回数を減らすことが可能となる。
従って、探索範囲L1での範囲指定における試験回数が
多くなるほど、従来の探索範囲Lで試験したものより、
デバイス評価にかかるトータル試験時間を短縮できる。
探索範囲L1が、被測定デバイス2のロット,ウエハ単
位で傾向が変化することを考慮して、ウエハの切り替わ
りで、ステップS11に戻って二分探索を開始すれば、
試験時間短縮の効果向上につながる。
On the other hand, if it is determined in step S14 that a change point exists within the designated search range L1, the next device test is repeated using the same values A 'and B'. When the measurement result is obtained, the value is compared with A 'and B'. If the measurement result is out of the search range L1, it is changed as follows (step S17). That is, when the measurement result is smaller than A ', the measurement result is set to A'. On the other hand, when the measurement result is larger than B ',
The measurement result is defined as B '. Thus, step S13
The test from step S17 to step S17 is repeated, and the search range L1 is determined based on the measurement result every time the test is executed. Then, if the tendency is shown by the histogram in FIG. 4, the search range L1 converges to a certain range within the initial value L, that is, the search range L1 is narrower than the search range L of the initial value. It is possible to reduce the number of data searches in the search method.
Therefore, as the number of tests in the range specification in the search range L1 increases, the number of tests performed in the conventional search range L becomes larger.
The total test time required for device evaluation can be reduced.
In consideration of the fact that the search range L1 changes in units of lots and wafers of the device under test 2 and returns to step S11 at the wafer switching, the binary search is started.
This leads to an improvement in the effect of shortening the test time.

【0015】[0015]

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、IC
試験装置の印加系から被測定デバイスに二つの付加値を
与え、その被測定デバイスから前記IC試験装置の測定
系に測定値を取り込み、その測定値が二分探索法により
パス領域またはフェイル領域のいずれに入るかの決定の
基準となる変化点を求めるIC試験における探索ポイン
ト取得方式であって、デバイス製造工程のウエハやロッ
ト単位で前記変化点の数が集中する範囲を探索範囲とし
て限定して、二分探索法による探索を実施するようにし
たので、IC試験装置においてデータを取得する場合
に、データ探索回数を削減することができ、この結果デ
バイス試験全体の時間および製造コストを大幅に削減で
きるという効果が得られる。
As described above, according to the present invention, the IC
Two additional values are given from the application system of the test apparatus to the device under test, and the measured values are fetched from the device under test into the measurement system of the IC test apparatus. A search point acquisition method in an IC test for finding a change point that is a reference for determining whether to enter, wherein a range in which the number of the change points is concentrated on a wafer or lot unit in a device manufacturing process is limited as a search range, Since the search is performed by the binary search method, the number of data searches can be reduced when acquiring data in an IC test apparatus, and as a result, the time and manufacturing cost of the entire device test can be significantly reduced. The effect is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 IC試験装置の一般的な構成を示すブロック
図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a general configuration of an IC test apparatus.

【図2】 この発明のIC試験における探索ポイント取
得方式を示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a search point acquisition method in an IC test according to the present invention.

【図3】 この発明のIC試験における探索ポイント取
得方式の実行手順を示すフローチャートである。
FIG. 3 is a flowchart showing an execution procedure of a search point acquisition method in an IC test according to the present invention.

【図4】 この発明が着目した二分探索法で求められた
探索結果を示すヒストグラムである。
FIG. 4 is a histogram showing a search result obtained by a binary search method of the present invention.

【図5】 従来のIC試験における探索ポイント取得方
式を示す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a search point acquisition method in a conventional IC test.

【図6】 従来のIC試験における探索ポイント取得方
式の実行手順を示すフローチャートである。
FIG. 6 is a flowchart showing an execution procedure of a search point acquisition method in a conventional IC test.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 IC試験装置 2 被測定デバイス 10A 印加系 10B 測定系 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 IC test apparatus 2 Device under test 10A Application system 10B Measurement system

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 IC試験装置の印加系から被測定デバイ
スに二つの付加値を与え、その被測定デバイスから前記
IC試験装置の測定系に測定値を取り込み、その測定値
が二分探索法によりパス領域またはフェイル領域のいず
れに入るかの決定の基準となる変化点を求めるIC試験
における探索ポイント取得方式において、デバイス製造
工程のウエハやロット単位で前記変化点の数が集中する
範囲を探索範囲として限定して、前記二分探索法による
探索を実施することを特徴とするIC試験における探索
ポイント取得方式。
1. Two additional values are given to a device under test from an application system of an IC test apparatus, and measured values are taken into the measurement system of the IC test apparatus from the device under test, and the measured values are passed by a binary search method. In a search point acquisition method in an IC test for finding a change point that is a reference for determining whether to enter a region or a fail region, a range in which the number of the change points is concentrated on a wafer or lot unit in a device manufacturing process is set as a search range. A search point acquisition method in an IC test, wherein a search by the binary search method is performed in a limited manner.
【請求項2】 前記探索範囲を試験実行ごとに変更して
二分探索を行うことを特徴とする請求項1に記載のIC
試験における探索ポイント取得方式。
2. The IC according to claim 1, wherein the binary search is performed by changing the search range every time a test is executed.
Search point acquisition method for testing.
【請求項3】 前記二つの付加値に対する測定値につい
て初期の探索範囲を指定し、この探索範囲内の測定値が
パス領域にあるかフェイル領域にあるかの測定を行い、 続いて、前記二分探索法で求める変化点の数が集中する
探索範囲を二つの付加値間に指定して、この指定した探
索範囲内に求める変化点があるか否かを調べ、 その探索範囲内に求める変化点がある場合には、前記指
定したのと同じ付加値を使用して、次のデバイス試験を
行い、 一方、前記指定した探索範囲内に求める変化点がない場
合には、前記初期の探索範囲を指定して測定を行い、 この初期の探索範囲を指定する二つの付加値に対応する
測定値が共にパス領域またはフェイル領域にある場合に
は、求める変化点が指定した探索範囲内にないとして探
索を終了し、 一方、求める変化点が指定した探索範囲内にある場合に
は、測定結果が前記指定した探索範囲外のとき、その測
定結果を前記の指定した探索範囲を指定する二つの付加
値として決定することを特徴とする請求項1に記載のI
C試験における探索ポイント取得方式。
3. An initial search range is specified for the measured values for the two additional values, and a measurement is performed to determine whether the measured values within the search range are in a pass area or a fail area. A search range in which the number of change points to be obtained by the search method is concentrated is specified between two additional values, and it is checked whether or not there is a change point to be found in the specified search range. If there is, the next device test is performed using the same additional value as specified above, while if there is no change point to be found within the specified search range, the initial search range is If the measured values corresponding to the two additional values that specify the initial search range are both in the pass area or the fail area, it is determined that the change point to be found is not within the specified search range. And, on the other hand, If the change point falls within the specified search range, when the measurement result is out of the specified search range, the measurement result is determined as two additional values that specify the specified search range. The I according to claim 1, wherein
Search point acquisition method in C test.
【請求項4】 デバイス製造工程でウエハの切り替わり
で、前記初期の探索範囲内の測定値がパス領域にあるか
フェイル領域にあるかの測定手順に戻り、二分探索を再
開することを特徴とする請求項3に記載のIC試験にお
ける探索ポイント取得方式。
4. The method according to claim 1, wherein when the wafer is switched in the device manufacturing process, the process returns to the measurement procedure as to whether the measurement value within the initial search range is in the pass area or the fail area, and the binary search is restarted. A search point acquisition method in the IC test according to claim 3.
JP10246377A 1998-08-31 1998-08-31 Survey point obtaining method in ic testing Pending JP2000074985A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010045379A (en) * 2001-10-17 2010-02-25 Kla-Tencor Corp Apparatus and methods for semiconductor ic failure detection

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