JP2000073095A - Mold removing composition - Google Patents

Mold removing composition

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JP2000073095A
JP2000073095A JP24395398A JP24395398A JP2000073095A JP 2000073095 A JP2000073095 A JP 2000073095A JP 24395398 A JP24395398 A JP 24395398A JP 24395398 A JP24395398 A JP 24395398A JP 2000073095 A JP2000073095 A JP 2000073095A
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group
substituted
mold
branched
linear
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JP24395398A
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Kazumi Yajima
和美 矢島
Minoru Kishi
実 岸
Hitoshi Kikawa
仁 木川
Kaori Fujita
香織 藤田
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Lion Corp
Original Assignee
Lion Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a mold removing agent composition having no pungent odor, no fear of generating a poisonous gas in use, high mold removing ability, useful for a bathroom, etc. by making the composition include a specific α- alkoxydihydroperoxide. SOLUTION: This mold removing composition contains preferably >=5 wt.% of an α-alkoxydihydroperoxide of the formula [R1 and R2 are each H, a (substituted) 1-50C alkyl, alkenyl or (substituted) aryl; X is H, a 1-20C hydrocarbon, (substituted) acyl or amido; A is a 2-3C alkylene; and (m) is 0-50]. Preferably, the mold removing composition further contains a metal complex and/or a polyacid.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は使用時に有害なガス
が発生せずに、しかも刺激臭のない、強力なカビ除去能
力を有するα−アルコキシヒドロ過酸化物系のカビ取り
剤組成物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an .alpha.-alkoxyhydroperoxide-based mold remover composition having strong mold removing ability without generating harmful gas during use and without irritating odor.

【0002】[0002]

【従来の技術】住居廻りにおける浴室、浴槽、トイレ、
流し台等、特に水を頻繁に使用する箇所の汚れは、カビ
に起因する有機物や不溶性の無機物によるものが多く、
界面活性剤を主成分とする通常の洗浄剤ではなかなか除
去することが出来ないため、これらの汚れを除去するに
は、従来、塩素系または酸素系漂白剤を主成分とするも
のを用い、その漂白効果によりカビの色を目立たなくす
るという方法が採られてきた。
2. Description of the Related Art Bathrooms, bathtubs, toilets around houses,
Stain, especially in places where water is frequently used, such as sinks, is often due to organic substances or insoluble inorganic substances caused by mold,
Since ordinary detergents containing surfactants as main components cannot be easily removed, to remove these stains, conventionally, those using chlorine-based or oxygen-based bleaching agents as main components are used. A method has been adopted in which the bleaching effect makes the color of the mold inconspicuous.

【0003】しかしながら、次亜塩素酸ナトリウムのよ
うな塩素系漂白剤を主成分とするものは、カビ色素の漂
白力とカビの除去性能は優れているものの、目や皮膚を
痛める危険性が大きい上、塩素臭が強く使用する際には
十分な換気に留意しなければならず、また酸性の洗浄剤
と誤って併用した場合、有害な塩素ガスを発生する等の
欠点を有している。
[0003] However, those containing a chlorine-based bleach such as sodium hypochlorite as a main component are excellent in the bleaching power of mold dye and the performance of removing mold, but have a great risk of damaging eyes and skin. In addition, when using a chlorine odor strongly, it is necessary to pay attention to sufficient ventilation, and there is a drawback that harmful chlorine gas is generated when used in combination with an acidic cleaning agent by mistake.

【0004】一方、過酸化水素に代表される酸素系漂白
剤を主成分とするものは、塩素ガスを発生するという欠
点はないが、単独では十分な漂白効果によるカビ色素の
退色効果が得られず、そのため各種の漂白活性化剤を併
用しなければならなかった(例えば、特開平2−225
600、特開平2−196896、特開昭62−479
4号公報)。
[0004] On the other hand, those containing an oxygen-based bleaching agent represented by hydrogen peroxide as a main component do not have a drawback of generating chlorine gas, but can provide a sufficient bleaching effect of a mold dye by themselves. Therefore, various bleach activators had to be used in combination (for example, see JP-A-2-225).
600, JP-A-2-196896, JP-A-62-479
No. 4).

【0005】しかしながら、これら有機過酸系漂白活性
剤を併用しても、カビ色素に対する漂白効果が若干向上
するのみで、カビ本来の除去という点に関しては依然不
十分であるために、繰り返しカビ汚れが付きやすいとい
う欠点を有している。
However, even when these organic peracid-based bleaching activators are used in combination, the bleaching effect on mold dyes is only slightly improved, and it is still insufficient in terms of removal of mold itself. It has the drawback that it tends to stick.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は上記
従来技術の実情に鑑みてなされたものであって、刺激臭
がなく、カビ本来の除去に適したカビ取り剤組成物を提
供することを目的としてなされたものである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances of the prior art, and has as its object to provide a mold remover composition which has no irritating odor and is suitable for removing mold. It was made for the purpose of.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、強力なカ
ビ除去力を示し、しかも刺激臭がないカビ取り剤組成物
を開発するために、鋭意研究を重ねた結果、α−アルコ
キシヒドロ過酸化物が前記課題を解決し得るカビ取り基
剤となることを見出し、本発明を完成するに至った。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have conducted intensive studies in order to develop a fungicide composition exhibiting strong mold removing power and having no pungent odor. The inventors have found that peroxide is a mold-removing base that can solve the above problems, and have completed the present invention.

【0008】即ち、本発明によれば、第一に、下記一般
式(I)で示されるα−アルコキシヒドロ過酸化物を含
有することを特徴とするカビ取り剤組成物が提供され
る。第二に、更に金属錯体及び/またはポリ酸を含有し
てなることを特徴とする上記第1に記載したカビ取り剤
組成物が提供される。
That is, according to the present invention, there is firstly provided a fungicide composition comprising an α-alkoxy hydroperoxide represented by the following general formula (I). Secondly, there is provided the mold remover composition as described in the above item 1, further comprising a metal complex and / or a polyacid.

【化2】 (式中、R1、R2、X、A、nは下記のとおりである。
1、R2は下記[a群]より選ばれるいずれかの置換基
を示し、R1、R2は同一でも異なっていてもよい。 [a群]: (a−1)水素原子 (a−2)ホルミル基、ヒドロキシル基、ヒドロペルオ
キシル基、ペルオキシル基、カルボニル基、カルボキシ
ル基、アミノ基、アミド基、エステル基、エーテル基、
1−(AO)n−基、及びアリール基の中から選ばれ
る1種以上の基で置換されてもよい直鎖または分岐鎖の
炭素数1〜50のアルキル基またはアルケニル基 (a−3)直鎖または分岐鎖の炭素数1〜20のアルキ
ル基、アルケニル基またはアルコキシル基で置換されて
もよいアリール基 Xは下記[b群]より選ばれるいずれかの置換基を示
す。 [b群]: (b−1)水素原子 (b−2)直鎖または分岐鎖の炭素数1〜20の炭化水
素基 (b−3)直鎖または分岐鎖の炭素数1〜20の炭化水
素基で置換されてもよいアシル基またはアミド基 Aは炭素数2〜3のアルキレン基を示す。nは0〜50
の整数を示す。)
Embedded image (Wherein, R 1 , R 2 , X, A, and n are as follows.
R 1 and R 2 each represent a substituent selected from the following [Group a], and R 1 and R 2 may be the same or different. [Group a]: (a-1) hydrogen atom (a-2) formyl group, hydroxyl group, hydroperoxyl group, peroxyl group, carbonyl group, carboxyl group, amino group, amide group, ester group, ether group,
A linear or branched C1-C50 alkyl or alkenyl group (a-3) which may be substituted with one or more groups selected from R 1- (AO) n- groups and aryl groups; A) Aryl group X which may be substituted with a linear or branched C1-C20 alkyl group, alkenyl group or alkoxyl group X represents any substituent selected from the following [group b]. [Group b]: (b-1) a hydrogen atom (b-2) a linear or branched C1-C20 hydrocarbon group (b-3) a linear or branched C1-C20 carbon atom An acyl group or an amide group A that may be substituted with a hydrogen group A represents an alkylene group having 2 to 3 carbon atoms. n is 0 to 50
Indicates an integer. )

【0009】[0009]

【発明の実施の態様】本発明における一般式(I)で表
されるα−アルコキシヒドロ過酸化物において、一般式
(I)中、R1及びR2におけるアミノ基としては、メチ
ルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソ
プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチルアミノ
基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジイソプ
ロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、トリメチルアミノ
基、トリエチルアミノ基、トリプロピルアミノ基、トリ
イソプロピルアミノ基、トリブチルアミノ基等が挙げら
れる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the α-alkoxyhydroperoxide represented by the general formula (I) in the present invention, in the general formula (I), the amino group for R 1 and R 2 is a methylamino group, Ethylamino group, propylamino group, isopropylamino group, butylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, dipropylamino group, diisopropylamino group, dibutylamino group, trimethylamino group, triethylamino group, tripropylamino group, tripropylamino group. Examples thereof include an isopropylamino group and a tributylamino group.

【0010】R1及びR2におけるアミド基としては、ホ
ルムアミド基、アセトアミド基、プロパンアミド基、ペ
ンタンアミド基、ヘキサンアミド基、ヘプタンアミド
基、オクタンアミド基、ノナンアミド基、デカンアミド
基、ドデカンアミド基、テトラデカンアミド基、ヘキサ
デカンアミド基、オクタデカンアミド基、エイコサンア
ミド基、N−メチルホルムアミド基、N−メチルアセト
アミド基、N−メチルペンタンアミド基、N−メチルヘ
キサンアミド基、N−メチルオクタンアミド基、N−メ
チルデカンアミド基、N−メチルドデカンアミド基、N
−メチルテトラデカンアミド基、N−メチルヘキサデカ
ンアミド基、N−メチルオクタデカンアミド基、N−メ
チルエイコサンアミド基等が挙げられる。
The amide group represented by R 1 and R 2 includes a formamide group, an acetamido group, a propanamide group, a pentanamido group, a hexaneamide group, a heptanamid group, an octanamido group, a nonanamido group, a decanamido group, a dodecanamido group, Tetradecaneamide group, hexadecaneamide group, octadecanamide group, eicosanamide group, N-methylformamide group, N-methylacetamide group, N-methylpentanamide group, N-methylhexanamide group, N-methyloctaneamide group, N-methyldecaneamide group, N-methyldodecaneamide group, N
-Methyltetradecanamido group, N-methylhexadecanamido group, N-methyloctadecanamido group, N-methyleicosanamide group and the like.

【0011】R1及びR2におけるエステル基としては、
アセトキシル基、プロピオニルオキシル基、ブチリルオ
キシル基、イソブチリルオキシル基、バレリルオキシル
基、イソバレリルオキシル基、ピバロイルオキシル基、
ラウロイルオキシル基、ミリストイルオキシル基、ステ
アロイルオキシル基等が挙げられる。
The ester groups in R 1 and R 2 include:
Acetoxyl group, propionyloxyl group, butyryloxyl group, isobutyryloxyl group, valeryloxyl group, isovaleryloxyl group, pivaloyloxyl group,
Examples thereof include a lauroyloxyl group, a myristoyloxyl group, and a stearoyloxyl group.

【0012】R1及びR2におけるエーテル基としては、
ジメチルエーテル基、ジエチルエーテル基、ジプロピル
エーテル基、ジブチルエーテル基、ジペンチルエーテル
基、ジヘキシルエーテル基、ジオクチルエーテル基、ジ
デシルエーテル基、ジドデシルエーテル基、ジテトラデ
シルエーテル基、ジヘキサデシルエーテル基、ジオクタ
デシルエーテル基、メチルエチルエーテル基、メチルプ
ロピルエーテル基、メチルブチルエーテル基、メチルヘ
キシルエーテル基、メチルオクチルエーテル基、メチル
デシルエーテル基、エチルプロピルエーテル基、エチル
ブチルエーテル基、エチルヘキシルエーテル基、エチル
オクチルエーテル基、エチルデシルエーテル基等が挙げ
られる。
As the ether group in R 1 and R 2 ,
Dimethyl ether group, diethyl ether group, dipropyl ether group, dibutyl ether group, dipentyl ether group, dihexyl ether group, dioctyl ether group, didecyl ether group, didodecyl ether group, ditetradecyl ether group, dihexadecyl ether group, Dioctadecyl ether, methyl ethyl ether, methyl propyl ether, methyl butyl ether, methyl hexyl ether, methyl octyl ether, methyl decyl ether, ethyl propyl ether, ethyl butyl ether, ethyl hexyl ether, ethyl octyl ether And an ethyldecyl ether group.

【0013】R1及びR2における直鎖または分岐鎖の炭
素数1〜20のアルキル基またはアルケニル基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、エイコシル基、イソステアリル基等が挙げられる。
The linear or branched alkyl or alkenyl group having 1 to 20 carbon atoms in R 1 and R 2 includes methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, Examples include octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, and isostearyl.

【0014】R1及びR2における直鎖または分岐鎖の炭
素数1〜20のアルコキシル基としては、メトキシル
基、エトキシル基、プロポキシル基、ブトキシル基、ペ
ンチルオキシル基、ヘキシルオキシル基、ヘプチルオキ
シル基、オクチルオキシル基、ノニルオキシル基、デシ
ルオキシル基、ウンデシルオキシル基、ドデシルオキシ
ル基、トリデシルオキシル基、テトラデシルオキシル
基、ヘキサデシルオキシル基、オクタデシルオキシル
基、エイコシルオキシル基、イソステアリルオキシル基
等が挙げられる。
The linear or branched alkoxyl group having 1 to 20 carbon atoms in R 1 and R 2 includes methoxyl, ethoxyl, propoxyl, butoxyl, pentyloxyl, hexyloxyl, heptyloxyl. Octyloxyl, nonyloxyl, decyloxyl, undecyloxyl, dodecyloxyl, tridecyloxyl, tetradecyloxyl, hexadecyloxyl, octadecyloxyl, eicosyloxyl, isostearyloxyl, etc. No.

【0015】R1及びR2におけるアリール基としては、
フェニル基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナ
フチル基、アントリル基、フェナントリル基等が挙げら
れる。
As the aryl group for R 1 and R 2 ,
Examples include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group.

【0016】一般式(I)中、Xにおける直鎖または分
岐鎖の炭素数1〜20の炭化水素基としては、アルキル
基やアルケニル基、アリール基等が挙げられ、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、
デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、
テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エ
イコシル基、イソステアリル基、フェニル基、トリル
基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリ
ル基、フェナントリル基等が挙げられる。
In the general formula (I), examples of the straight-chain or branched-chain hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in X include an alkyl group, an alkenyl group and an aryl group. Propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl,
Decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group,
Examples include tetradecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isostearyl, phenyl, tolyl, xylyl, biphenyl, naphthyl, anthryl, phenanthryl and the like.

【0017】Xにおけるアシル基としては、ホルミル
基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブ
チリル基、バレリル基、イソバレリル基等が挙げられ
る。
Examples of the acyl group for X include a formyl group, an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, an isobutyryl group, a valeryl group and an isovaleryl group.

【0018】Xにおけるアミド基としては、ホルムアミ
ド基、アセトアミド基、プロパンアミド基、ペンタンア
ミド基、ヘキサンアミド基、ヘプタンアミド基、オクタ
ンアミド基、ノナンアミド基、デカンアミド基、ドデカ
ンアミド基、テトラデカンアミド基、ヘキサデカンアミ
ド基、オクタデカンアミド基、エイコサンアミド基、N
−メチルホルムアミド基、N−メチルアセトアミド基、
N−メチルペンタンアミド基、N−メチルヘキサンアミ
ド基、N−メチルオクタンアミド基、N−メチルデカン
アミド基、N−メチルドデカンアミド基、N−メチルテ
トラデカンアミド基、N−メチルヘキサデカンアミド
基、N−メチルオクタデカンアミド基、N−メチルエイ
コサンアミド基等が挙げられる。
Examples of the amide group in X include a formamide group, an acetamido group, a propanamide group, a pentanamido group, a hexaneamide group, a heptanamido group, an octanamido group, a nonanamido group, a decanamido group, a dodecanamido group, a tetradecanamido group, Hexadecaneamide group, octadecanamido group, eicosanamide group, N
-Methylformamide group, N-methylacetamido group,
N-methylpentanamide group, N-methylhexanamide group, N-methyloctaneamide group, N-methyldecaneamide group, N-methyldodecanamido group, N-methyltetradecanamido group, N-methylhexadecanamido group, N -Methyloctadecaneamide group, N-methyleicosanamide group and the like.

【0019】一般式(I)で表されるα−アルコキシヒ
ドロ過酸化物におけるR1及びR2としては、カビに対し
て有効な疎水性相互作用を生じさせる観点からは、R1
及びR2のうちの一方が水素原子またはメチル基で、も
う一方が炭素数4〜12の炭化水素基またはフェニル基
であることが好ましい。
Examples of the R 1 and R 2 in formula are α- alkoxy hydroperoxide peroxide by the general formula (I), from the viewpoint of generating an effective hydrophobic interactions against molds, R 1
And one of R 2 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, and the other is a hydrocarbon group having 4 to 12 carbon atoms or a phenyl group.

【0020】また水溶性を高める観点からは、Xとして
は水素原子、メチル基、アセチル基が好ましく、更にn
としては2〜14の数が好ましい。尚、一般式(I)で
表されるα−アルコキシヒドロ過酸化物において、アル
キレンオキサイドの付加モル数であるnを適宜変更する
ことにより、本発明のカビ取り剤組成物は液体及び粉体
のどちらの性状にも調整することが出来る。
From the viewpoint of increasing the water solubility, X is preferably a hydrogen atom, a methyl group or an acetyl group.
Is preferably a number of 2 to 14. In addition, in the α-alkoxy hydroperoxide represented by the general formula (I), by appropriately changing n, which is the number of moles of the alkylene oxide, the mold remover composition of the present invention can be used as a liquid or powder. Both properties can be adjusted.

【0021】本発明における一般式(I)で表されるα
−アルコキシヒドロ過酸化物は、下記の反応式に示すよ
うに、一般式(II)で表される化合物の中から選ばれる
1種以上1モルに対して、一般式(III)で表される化
合物の中から選ばれる1種以上0.1〜2000モルを
添加した後、オゾンを含有する空気または酸素ガスに接
触させて製造することが出来る。
In the present invention, α represented by the general formula (I)
The alkoxyhydroperoxide is represented by the general formula (III) with respect to one or more mols selected from the compounds represented by the general formula (II), as shown in the following reaction formula. The compound can be produced by adding 0.1 to 2000 mol of at least one compound selected from the compounds and then bringing the mixture into contact with ozone-containing air or oxygen gas.

【0022】[0022]

【化3】 (式中、n、X、A、R1及びR2は前記と同じであり、
3、R4は上記A群より選ばれる置換基及び−OR5
−OCOR6、−COOR7、−CN、−CH2CN、一
CH2CF3、−CH2F、−CH2Br、−CH2C1、
−CHSO2CH3、−CHC12、−CHF2、−CCl
3基を示す。R5、R6、R7はホルミル基、ヒドロキシル
基、カルボニル基、カルボキシル基、アミノ基、アミド
基、エステル基及びエーテル基の中から選ばれる1種以
上の基で置換されてもよい直鎖または分岐鎖の炭素数1
〜20のアルキル基、アルケニル基またはアリール基を
示す。尚、R34は同一でも異なっていてもよい。)
Embedded image (Wherein, n, X, A, R 1 and R 2 are the same as described above;
R 3 and R 4 are a substituent selected from the above group A and —OR 5 ,
-OCOR 6, -COOR 7, -CN, -CH 2 CN, one CH 2 CF 3, -CH 2 F , -CH 2 Br, -CH 2 C1,
-CHSO 2 CH 3, -CHC1 2, -CHF 2, -CCl
Three groups are shown. R 5 , R 6 and R 7 are linear groups which may be substituted with one or more groups selected from a formyl group, a hydroxyl group, a carbonyl group, a carboxyl group, an amino group, an amide group, an ester group and an ether group. Or 1 carbon atom in the branched chain
And represents an alkyl group, an alkenyl group or an aryl group. Incidentally, R 3 and 4 may be the same or different. )

【0023】また上記製造方法において、反応には必ず
しも溶媒を必要としないが、用いても差し支えない。こ
こで用いられる溶媒としては、原料および反応生成物に
対して不活性なものであればいかなる溶媒でもよい。こ
のような溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホル
ム、n−ヘキサン、シクロヘキサン、べンゼン、トルエ
ン、キシレン、ジエチルエーテル、酢酸エチル、アセト
ニトリル、アセトン等の溶媒を挙げることができる。
In the above production method, the reaction does not necessarily require a solvent, but may be used. The solvent used here may be any solvent as long as it is inert to the raw materials and the reaction products. Examples of such a solvent include dichloromethane, chloroform, n-hexane, cyclohexane, benzene, toluene, xylene, diethyl ether, ethyl acetate, acetonitrile, acetone and the like.

【0024】これら溶媒の単品または混合物を上記一般
式(II)で表される化合物の中から選ばれる1種以上1
重量部に対して0〜100重量部、好ましくは0〜50
重量部、更に好ましくは0〜30重量部用いる。
One or more of these solvents may be used alone or as a mixture of at least one compound selected from the compounds represented by formula (II).
0-100 parts by weight, preferably 0-50 parts by weight based on parts by weight
Parts by weight, more preferably 0 to 30 parts by weight.

【0025】また上記一般式(II)で表される化合物の
中から選ばれる1種以上1モルに対して、上記一般式
(III)で表される化合物の中から選ばれる1種以上を
0.1〜2000モル、好ましくは0.5〜100モ
ル、更に好ましくは1〜20モル添加する。
In addition, one or more compounds selected from the compounds represented by the general formula (III) may be used in an amount of 0 to 1 mol of at least one compound selected from the compounds represented by the general formula (II). 0.1 to 2000 mol, preferably 0.5 to 100 mol, more preferably 1 to 20 mol.

【0026】更に、上記反応では、混合ガス中のオゾン
濃度が0.01〜10vol%、好ましくは0.05〜
7vol%、更に好ましくは0.1〜5vo1%である
酸素または空気との混合ガスを導入し、−100〜50
℃、好ましくは−70℃〜40℃、更に好ましくは0℃
〜25℃の温度条件下で、1〜200分間、好ましくは
5〜100分間、更に好ましくは10〜60分間反応を
行う。
Further, in the above reaction, the ozone concentration in the mixed gas is 0.01 to 10 vol%, preferably 0.05 to 10 vol%.
A mixed gas of 7 vol%, more preferably 0.1 to 5 vol 1%, with oxygen or air is introduced, and -100 to 50 vol.
° C, preferably -70 ° C to 40 ° C, more preferably 0 ° C
The reaction is carried out at a temperature of 2525 ° C. for 1 to 200 minutes, preferably 5 to 100 minutes, more preferably 10 to 60 minutes.

【0027】オゾンの導入量は、一般式(II)で表され
る化合物の中から選ばれる1種以上1モルに対して、
0.1〜20モル、好ましくは0.5〜10モル、更に
好ましくは1.0〜5.0モルである。
The amount of ozone introduced is based on one or more moles of one or more compounds selected from the compounds represented by the general formula (II).
0.1 to 20 mol, preferably 0.5 to 10 mol, more preferably 1.0 to 5.0 mol.

【0028】これらα−アルコキシヒドロ過酸化物の含
有量は特に限定されないが、カビ取り剤組成物浴中にお
いて0.1重量%以上、好ましくは1重量%以上、更に
好ましくは5重量%以上配合することが好適である。組
成物浴中の配合量が0.1重量%未満であるとカビの除
去効果が低下するので好ましくない。
The content of these α-alkoxy hydroperoxides is not particularly limited, but is preferably 0.1% by weight or more, preferably 1% by weight or more, more preferably 5% by weight or more in the fungicide composition bath. It is preferred to do so. If the amount is less than 0.1% by weight in the composition bath, the effect of removing mold is undesirably reduced.

【0029】本発明においては、前記α−アルコキシヒ
ドロ過酸化物を必須成分とするものであるが、更に金属
錯体及び/またはポリ酸を配合すると、カビの除去性能
が向上するので好ましい。
In the present invention, the α-alkoxy hydroperoxide is used as an essential component. However, it is preferable to further add a metal complex and / or a polyacid, since the mold removing performance is improved.

【0030】このような金属錯体としては、中心金属の
まわりに配位子が結合しているものが挙げられる。具体
的には、ピリジン、エチレンジアミン等の2座配位子、
ターピリジン、ポルフィリン等の3座以上平面配位子、
環状アミン等の3座以上立体配位子、2核確定配位子等
の配位子が金属に結合したものが挙げられる。
Examples of such a metal complex include those in which a ligand is bound around a central metal. Specifically, bidentate ligands such as pyridine and ethylenediamine,
3 or more planar ligands such as terpyridine and porphyrin,
Examples thereof include those in which a ligand such as a tridentate or more stereodentate ligand such as a cyclic amine and a binuclear defined ligand is bonded to a metal.

【0031】ここで中心金属としては、遷移金属が挙げ
られるが、その中でも特にV、Cr、Mn、Fe、C
o、Ni、Cu、Zn、Mo、Tc、Ru、Rh、P
d、W、Re、Ir、Pt、Au、より選ばれるII〜VI
I価の酸化状態の遷移金属が好ましい。
Here, the center metal may be a transition metal, of which V, Cr, Mn, Fe, C
o, Ni, Cu, Zn, Mo, Tc, Ru, Rh, P
II to VI selected from d, W, Re, Ir, Pt, and Au
Transition metals in the I-valent oxidation state are preferred.

【0032】これら金属錯体の中でも特に好ましいもの
としては、大環式有機分子であるリガンドを有する金属
錯体、例えば下記一般式[A]で示されるものが挙げら
れる。
Among these metal complexes, particularly preferred are metal complexes having a ligand which is a macrocyclic organic molecule, for example, those represented by the following general formula [A].

【化4】 〔式中、MはV、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、C
u、Zn、Mo、Ru、Rh、Pd、W、Reより選ば
れるII〜V価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
あり、n及びmはそれぞれ1〜4の整数であり、Xは配
位種又は架橋種を表し、pは0〜12の整数であり、Y
は対イオンであって、その種類は正、0若しくは負であ
り得る錯体の電荷zに依存し、qはz/(Yの電荷)で
あり、Lは下記一般式[B]:
Embedded image [Wherein M is V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, C
u, Zn, Mo, Ru, Rh, Pd, W, or a transition metal in the oxidation state of a valence of II to V selected from Re, or a mixture thereof, n and m are each an integer of 1 to 4, and X is Represents a coordinating species or a crosslinking species, p is an integer of 0 to 12,
Is a counter ion, the type of which depends on the charge z of the complex, which can be positive, zero or negative, q is z / (charge of Y), and L is the following general formula [B]:

【化5】 (式中、R1及びR2はO、H、任意に置換されたアルキ
ル基又はアリール基であり、t及びt’はそれぞれ2〜
3の整数であり、各DはそれぞれN、NR、PR、O又
はSであり、ここでRはH、任意に置換されたアルキル
基又はアリール基であり、sは2〜5の整数である、)
を有するリガンドである。〕
Embedded image (Wherein R 1 and R 2 are O, H, an optionally substituted alkyl group or aryl group, and t and t ′ are each 2 to
And each D is N, NR, PR, O or S, where R is H, an optionally substituted alkyl or aryl group, and s is an integer of 2-5 ,)
Is a ligand having ]

【0033】即ち、中心金属としてV、Cr、Mn、F
e、Co、Ni、Cu、Zn、Mo、Ru、Rh、P
d、W、Reをベースとし、好ましくは、下記一般式
[A]:
That is, V, Cr, Mn, F
e, Co, Ni, Cu, Zn, Mo, Ru, Rh, P
Based on d, W and Re, preferably the following general formula [A]:

【化6】 〔式中、Mは上記金属においてII、III、IV若しくはV
価の酸化状態の金属又はその混合物を示し、Xは配位種
又は架橋種であって、例えばH2O、OH-、O 2-
2-、>S=O、N3-、HOO-、O2 2-、O2 -、R−C
OO-、RO-、NR 3(但し、RはH又は置換若しくは
未置換のアルキル基若しくはアリール基)、芳香族窒素
化合物、アセチルアセトナート基、シュウ酸基、C
-、SCN-等、又はその組み合わせを示し、pは0〜
12好ましくは3〜6の整数を示し、Yは錯体の電荷z
に基づく性質の対イオンを示し、zは錯体の電荷を正の
整数、0又は負の整数で示し、zが正の時Yはアニオ
ン、例えばCl-、Br-、I-、NO3 -、ClO4 -、N
CS-、PF6 -、RSO4 -、OAc-、CF3SO3 -、R
SO3 -、RSO4 -等であり、zが負の時Yはカチオン、
例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属又はアンモニウ
ムカチオン等を示し、qはz/(Yの電荷)を示し、L
は下記一般式[B]:
Embedded imageWherein M is II, III, IV or V
X represents a metal in a multivalent oxidation state or a mixture thereof, and X represents a coordinating species.
Or a crosslinked species such as HTwoO, OH-, O 2-,
S2-,> S = O, N3-, HOO-, OTwo 2-, OTwo -, RC
OO-, RO-, NR Three(Where R is H or substituted or
Unsubstituted alkyl or aryl group), aromatic nitrogen
Compound, acetylacetonate group, oxalic acid group, C
l-, SCN-Or a combination thereof, and p is 0 to
12 preferably represents an integer of 3 to 6, and Y represents a charge z of the complex.
And z represents the charge of the complex as a positive ion.
Represented by an integer, 0 or a negative integer, and when z is positive, Y is anio
For example, Cl-, Br-, I-, NOThree -, ClOFour -, N
CS-, PF6 -, RSOFour -, OAc-, CFThreeSOThree -, R
SOThree -, RSOFour -Y is a cation when z is negative,
For example, alkali metal, alkaline earth metal or ammonium
And q represents z / (charge of Y);
Is the following general formula [B]:

【化7】 (式中、R1及びR2の各々は、O、H、置換若しくは未
置換のアルキル基若しくはアリール基を示し、Dは各々
は個別にN、NR、PR、O又はSで、RはH、置換若
しくは未置換のアルキル基若しくはアリール基を示し、
DがNの時このDに結合したヘテロ炭素原子の1つが不
飽和で−N=CR1−フラグメントを形成し、t及び
t’の各々は個別に2又は3の整数であり、sは2、
3、4又は5である、)で示される大環式有機分子から
なるリガンドである、〕で示される金属錯体が挙げられ
る。
Embedded image (Wherein each of R 1 and R 2 represents O, H, a substituted or unsubstituted alkyl group or an aryl group, D is each independently N, NR, PR, O or S, and R is H Represents a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group,
D is one of -N unsaturated = CR heteroatom carbon atoms bound to the D when N 1 - fragment is formed, each of t and t 'is an integer independently 2 or 3, s is 2 ,
3, 4 or 5), which is a ligand comprising a macrocyclic organic molecule represented by the following formula:

【0034】上記に示す金属錯体の一般式[A]におい
て、配位種又は架橋種Xは、好ましくは小さい配位イオ
ン又は架橋分子又はその組み合わせがよく、リガンドL
は好ましくは下記一般式[C]:
In the above general formula [A] of the metal complex, the coordinating species or bridging species X is preferably a small coordinating ion or bridging molecule or a combination thereof.
Is preferably the following general formula [C]:

【化8】 (式中、R1及びR2の各々は、O、H、置換若しくは未
置換のアルキル基若しくはアリール基を示し、D及び
D’の各々は個別にN、NR、PR、O又はSで、Rは
H、置換若しくは未置換のアルキル基若しくはアリール
基を示し、t及びt’の各々は個別に2又は3の整数で
あり、sは2〜4の整数である、)で示される大環式有
機分子が挙げられる。
Embedded image (Wherein each of R 1 and R 2 represents O, H, a substituted or unsubstituted alkyl or aryl group, and each of D and D ′ is individually N, NR, PR, O or S; R represents H, a substituted or unsubstituted alkyl group or an aryl group, each of t and t ′ is independently an integer of 2 or 3, and s is an integer of 2 to 4) Formula organic molecules.

【0035】前記一般式[A]において、好ましくはn
=m=2である。また、好ましいリガンドは、前記一般
式[B]又は[C]において、D又はD’がNH又はN
Rを示し、t及びt’が2又は3で、sが2、R1及び
2がH又はアルキル基を示す錯体であり、より好まし
いリガンドはD又はD’がNCH3で、t=t’=2、
sが2、R1及びR2の各々がH又はアルキル基を示す錯
体である。
In the general formula [A], preferably, n
= M = 2. Further, preferred ligands are those in which D or D ′ is NH or N in the general formula [B] or [C].
R is a complex in which t and t ′ are 2 or 3, s is 2, R 1 and R 2 are H or an alkyl group, and a more preferred ligand is D or D ′ is NCH 3 and t = t '= 2,
s is 2, and each of R 1 and R 2 is a complex showing H or an alkyl group.

【0036】最も簡単な形態のリガンドの例としては、
下記の式(i)〜(iv)で表されるものが挙げられる。
Examples of the simplest form of ligand include:
Examples represented by the following formulas (i) to (iv) are given.

【0037】[0037]

【化9】 Embedded image

【0038】[0038]

【化10】 Embedded image

【0039】[0039]

【化11】 Embedded image

【0040】[0040]

【化12】 Embedded image

【0041】これらの金属錯体は、予め形成されていて
も、カビ取り剤組成物浴中で形成されてもよい。また、
これらの金属錯体は単核でも多核でもよい。配位子の種
類及び金属の酸化状態で、2核又は多核の金属錯体を形
成し得る。該錯体中で配位種及び/又は架橋種が金属中
心間の架橋を形成している。
These metal complexes may be formed in advance or may be formed in a mold remover composition bath. Also,
These metal complexes may be mononuclear or polynuclear. Depending on the type of ligand and the oxidation state of the metal, a binuclear or polynuclear metal complex can be formed. In the complex, the coordinating species and / or the bridging species form a bridge between the metal centers.

【0042】なお、前記リガンドのうちで最も好ましい
ものとしては、式(iii)の1,4,7−トリメチル−
1,4,7−トリアザシクロノナン(略号Me−TAC
N)が挙げられる。
The most preferred of the above ligands is 1,4,7-trimethyl-
1,4,7-triazacyclononane (abbreviation Me-TAC
N).

【0043】金属錯体の具体例としては、次に示される
ものが挙げられる。
Specific examples of the metal complex include the following.

【0044】[0044]

【化13】 Embedded image

【0045】これら金属錯体の含有量は特に限定されな
いが、カビ取り剤組成物浴中において、0.01〜10
00ppm、好ましくは1〜500ppmである。
The content of these metal complexes is not particularly limited, but may be 0.01 to 10 in the mold remover composition bath.
00 ppm, preferably 1 to 500 ppm.

【0046】また、本発明においては金属錯体の替わり
にポリ酸を用いてもよく、このようなポリ酸としては、
二個以上の無機酸素酸が縮合した多核錯体、及びその塩
が挙げられる。
In the present invention, a polyacid may be used in place of the metal complex.
Examples include a polynuclear complex in which two or more inorganic oxygen acids are condensed, and a salt thereof.

【0047】ポリ酸の中心元素としては、周期表中III
族ないしVI族元素、特にB、Si、P、S、V、Nb、
Ta、Cr、Mo、Wが挙げられる。ポリ酸としては、
これら金属を1種類含むイソポリ酸と、2種以上含むヘ
テロポリ酸があるが、性能面からはヘテロポリ酸が好ま
しい。
As the central element of the polyacid, III in the periodic table
Group VI element, especially B, Si, P, S, V, Nb,
Ta, Cr, Mo, W are mentioned. As polyacids,
There are an isopolyacid containing one kind of these metals and a heteropolyacid containing two or more kinds of these metals, but a heteropolyacid is preferred from the viewpoint of performance.

【0048】これらの化合物の具体例としては、モリブ
デン酸、タングステン酸、リンモリブデン酸、リンタン
グステン酸、ケイモリブデン酸、ケイタングステン酸、
リンタングストモリブデン酸、リンバナドモリブデン
酸、リンバナドタングステン酸及びこれらのナトリウム
塩、またはアンモニウム塩等が挙げられる。
Specific examples of these compounds include molybdic acid, tungstic acid, phosphomolybdic acid, phosphotungstic acid, silicomolybdic acid, silicotungstic acid,
Examples thereof include phosphorus tungstomolybdic acid, phosphorus vanadomolybdic acid, phosphorus vanadotungstic acid, and a sodium salt or an ammonium salt thereof.

【0049】これらポリ酸の含有量は特に限定されない
が、カビ取り剤組成物浴中において、0.01ppm〜
1%、好ましくは1〜500ppmである。
The content of these polyacids is not particularly limited, but is 0.01 ppm to 10 ppm in the fungicide composition bath.
1%, preferably 1 to 500 ppm.

【0050】本発明のカビ取り剤組成物は、他のペルオ
キシ化合物を併用してもよい。他のペルオキシ化合物と
しては過酸化水素、水溶液中で過酸化水素を遊離するか
またはそれ自体過酸結合を有する無機の過塩、有機過酸
及び水溶液中で過酸化水素と反応して有機過酸を発生す
る有機過酸前駆体なとが挙げられる。
The fungicide composition of the present invention may be used in combination with other peroxy compounds. Other peroxy compounds include hydrogen peroxide, which releases hydrogen peroxide in an aqueous solution or an inorganic persalt, which itself has a peracid bond, an organic peracid, and an organic peroxide which reacts with hydrogen peroxide in an aqueous solution. And organic peracid precursors that generate

【0051】本発明において浴中のpHは特に限定され
ないが、7〜12、好ましくは8〜11に調整されるこ
とが好ましい。このための調整剤としては、アルカリ金
属やアンモニウムの水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩等、
水に溶解してアルカリ性を呈するものであればよい。
In the present invention, the pH in the bath is not particularly limited, but is preferably adjusted to 7 to 12, preferably 8 to 11. As an adjusting agent for this, hydroxides, carbonates, bicarbonates and the like of alkali metals and ammonium,
What is necessary is just to dissolve in water and exhibit alkalinity.

【0052】また本発明のカビ取り剤組成物には、通常
の洗浄剤組成物中に含有される成分を併用することがで
きる。具体的には界面活性剤、ゼオライトなとのビルダ
ー、エチレンジアミン四酢酸ナトリウムなどのキレート
剤、プロテアーゼなどの酵素、ポリビニルアルコール、
カルボキシメチルセルロースなどの再汚染防止剤、ハイ
ドロトロープ剤、増粘剤、抑泡剤、着色剤、香料なとが
挙げられる。
The mold remover composition of the present invention may contain components contained in a general detergent composition. Specifically, a surfactant, a builder with zeolite, a chelating agent such as sodium ethylenediaminetetraacetate, an enzyme such as a protease, polyvinyl alcohol,
Examples include a re-staining agent such as carboxymethyl cellulose, a hydrotrope agent, a thickener, a foam inhibitor, a colorant, and a fragrance.

【0053】[0053]

【実施例】次に実施例により本発明を更に詳細に説明す
るが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるもの
ではない。
Next, the present invention will be described in more detail by way of examples, which should not be construed as limiting the present invention.

【0054】尚、各表における金属錯体、ポリ酸は以下
に示す試料を用いた。 金属錯体A:シス−ジクロロジアンミン白金(II);
N.E CHEMCAT製 金属錯体B:トリス−μ−オキソ−ビス−[(1,4,
7−トリメチル−1,4,7−トリアザシクロノナン)
マンガン(IV)]ヘキサフルオロリン酸塩;合成品 ポリ酸C:リンモリブデン酸ナトリウム;日本新金属製
The following samples were used for the metal complexes and polyacids in each table. Metal complex A: cis-dichlorodiammineplatinum (II);
N. Metal complex B manufactured by E CHEMCAT: Tris-μ-oxo-bis-[(1,4
7-trimethyl-1,4,7-triazacyclononane)
Manganese (IV)] hexafluorophosphate; synthetic product Polyacid C: sodium phosphomolybdate; manufactured by Nippon Shinkin

【0055】〔α−アルコキシヒドロ過酸化物の製造
例〕C9α−アルコキシヒドロ過酸化物テトラエチレン
グリコール体の合成;導入管を装備した50ml二つ口
フラスコに、1−デセン(1.030g)、テトラエチ
レングリコール(9.556g)と塩化メチレン15m
lを加え、−70℃下1.3vol%のオゾンを酸素と
の混合ガスとして30分間吹き込んだ。反応終了後、溶
媒を減圧留去して、粗生成物を得た。粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し下記構造式
(IV)で示されるC9α−アルコキシヒドロ過酸化物テ
トラエチレングリコール体(A)を得た。
[Production Example of α-Alkoxy Hydroperoxide] Synthesis of C9 α-alkoxy hydroperoxide tetraethylene glycol compound; 1-decene (1.030 g) was placed in a 50 ml two-necked flask equipped with an inlet tube. Tetraethylene glycol (9.556g) and methylene chloride 15m
Then, 1.3 vol% of ozone was blown at -70 ° C as a mixed gas with oxygen for 30 minutes. After completion of the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a crude product. The crude product was purified by silica gel column chromatography to obtain a C9α-alkoxyhydroperoxide tetraethylene glycol derivative (A) represented by the following structural formula (IV).

【化14】 Embedded image

【0056】生成物(A)のH−NMR(270MH
z,CDCl3)のピークの帰属は以下の通りであっ
た。 δ 0.88(t,3H),1.26−1.43(m,
12H),1.54−1.74(m,2H),2.62
(br,s,1H),3.58−3.90(m,16
H),4.83(t,1H),10.74(s,1H)
H-NMR of the product (A) (270 MH
z, CDCl 3 ) were as follows. δ 0.88 (t, 3H), 1.26-1.43 (m,
12H), 1.54-1.74 (m, 2H), 2.62.
(Br, s, 1H), 3.58-3.90 (m, 16
H), 4.83 (t, 1H), 10.74 (s, 1H)

【0057】尚、以下同様にして製造したα−アルコキ
シヒドロ過酸化物(B)〜(D)の構造を下記の表に示
The structures of α-alkoxy hydroperoxides (B) to (D) produced in the same manner are shown in the following table.

【0058】[0058]

【表1】 [Table 1]

【0059】各例におけるカビの除去効果、及び刺激臭
の無さは次の様にして測定した。 (イ)カビの除去効果;黒カビ(Cladospori
um cladosporioides)を培養し、被
着させて調整した素焼きタイル表面(2.5×2.5c
m)に、各試料を等量(0.5mL)滴下して、30分
間放置した後、水洗を行い、30℃で2時間乾燥した。
このタイルに、フードスタンプ(真菌用:サブロー寒
天)を1時間密着させ、30℃による経時(2日)変化
を観察し、以下の評価基準で判定した。
The mold removing effect and absence of irritating odor in each example were measured as follows. (A) Mold removing effect; black mold (Cladospori)
um cladosporioides), and the unglazed tile surface (2.5 × 2.5c
An equivalent amount (0.5 mL) of each sample was dropped on m), left for 30 minutes, washed with water, and dried at 30 ° C. for 2 hours.
A food stamp (for fungus: Sabouraud agar) was adhered to the tile for 1 hour, and the change with time (30 days) at 30 ° C. was observed, and the evaluation was made according to the following evaluation criteria.

【0060】 評価基準; 5(点) コロニーの発生無し 4 コロニーの発生1〜10 3 コロニーの発生10〜100 2 コロニーの発生100以上Evaluation criteria: 5 (points) No occurrence of colonies 4 Occurrence of colonies 1 to 10 3 Occurrence of colonies 10 to 100 2 Occurrence of 100 or more colonies

【0061】刺激臭の無さ;5.5m3の密閉された浴
室の側面全体に、各試料200mLをスプレー容器より
満遍なく噴霧し、3分間そのままの状態でいた時の刺激
臭の程度を、以下の評価基準で判定した。尚試験は5人
で行った。
[0061] lack of irritating odor; the entire side of the closed bathroom 5.5 m 3, the respective sample 200mL evenly sprayed from a spray container, the degree of irritating odor when had intact 3 minutes, or less The evaluation criteria were as follows. The test was performed by five people.

【0062】 評価基準; 5(点) 刺激臭が全くしない 4 刺激臭が微かにする 3 刺激臭がする 2 刺激臭がかなりする 1 刺激臭が激しくするEvaluation criteria; 5 (point) No irritating odor at all 4 Weak irritating odor 3 Some irritating odor 2 Great irritating odor 1 Strong irritating odor

【0063】実施例1〜4及び比較例1、2 α−アルコキシヒドロ過酸化物(AHP)(A)〜
(D)をそれぞれ300mM、炭酸水素ナトリウム35
0mM、水酸化ナトリウム400mMを添加した水溶液
を用いてカビの除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行
った。また比較として300mMの過酸化水素水溶液
(比較例1)と300mMの次亜塩素酸ナトリウム水溶
液(比較例2)を用いて試験を行った。その結果を表2
に示す。
Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 α-Alkoxy hydroperoxide (AHP) (A)
(D): 300 mM each, 35% sodium bicarbonate
Using an aqueous solution to which 0 mM and 400 mM of sodium hydroxide were added, a test was conducted on the effect of removing mold and the absence of pungent odor. For comparison, a test was performed using a 300 mM aqueous solution of hydrogen peroxide (Comparative Example 1) and a 300 mM aqueous solution of sodium hypochlorite (Comparative Example 2). Table 2 shows the results.
Shown in

【0064】[0064]

【表2】 [Table 2]

【0065】実施例5〜16 α−アルコキシヒドロ過酸化物(AHP)(A)〜
(D)をそれぞれ300mM、炭酸水素ナトリウム35
0mM、水酸化ナトリウム400mM及び表3、4に示
した金属錯体、ポリ酸それぞれ50ppmを添加した水
溶液を用いてカビの除去効果、及び刺激臭の無さの試験
を行った。その結果を表3、4に示す。
Examples 5 to 16 α-Alkoxy hydroperoxide (AHP) (A)
(D): 300 mM each, 35% sodium bicarbonate
Using an aqueous solution to which 0 mM, 400 mM of sodium hydroxide, 50 ppm of each of the metal complexes and polyacids shown in Tables 3 and 4, were added, a test for the effect of removing mold and the absence of a pungent odor were conducted. The results are shown in Tables 3 and 4.

【0066】[0066]

【表3】 [Table 3]

【0067】[0067]

【表4】 [Table 4]

【0068】[0068]

【発明の効果】本発明のカビ取り剤組成物はカビ取り基
剤としてα−アルコキシヒドロ過酸化物を用いたことか
ら、高いカビ取り除去能力を有するばかりでなく、カビ
の再繁殖を極力低下させると共に、刺激臭がなくしかも
使用時に有害なガスが発生する危険性がないので、カビ
取り剤として好適である。
As described above, the mold removing composition of the present invention uses an α-alkoxyhydroperoxide as a mold removing base, so that it has not only a high mold removing ability but also a reduction in mold regrowth as much as possible. In addition, since it has no irritating odor and no danger of generating harmful gas during use, it is suitable as a mold remover.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木川 仁 東京都墨田区本所一丁目3番7号 ライオ ン株式会社内 (72)発明者 藤田 香織 東京都墨田区本所一丁目3番7号 ライオ ン株式会社内 Fターム(参考) 4H003 DA06 DA08 DA17 DB01 EA16 EA21 EE06 4H011 AA03 BA03 BB06 BC09 BC18 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (72) Inventor Hitoshi Kikawa 1-3-7 Honjo, Sumida-ku, Tokyo Inside Lion Corporation (72) Inventor Kaori Fujita 1-3-7 Honjo, Sumida-ku, Tokyo F-term in Lion Corporation (reference) 4H003 DA06 DA08 DA17 DB01 EA16 EA21 EE06 4H011 AA03 BA03 BB06 BC09 BC18

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(I)で示されるα−アルコ
キシヒドロ過酸化物を含有することを特徴とするカビ取
り剤組成物。 【化1】 (式中、R1、R2、X、A、nは下記のとおりである。
1、R2は下記[a群]より選ばれるいずれかの置換基
を示し、R1、R2は同一でも異なっていてもよい。 [a群]: (a−1)水素原子 (a−2)ホルミル基、ヒドロキシル基、ヒドロペルオ
キシル基、ペルオキシル基、カルボニル基、カルボキシ
ル基、アミノ基、アミド基、エステル基、エーテル基、
1−(AO)n−基、及びアリール基の中から選ばれ
る1種以上の基で置換されてもよい直鎖または分岐鎖の
炭素数1〜50のアルキル基またはアルケニル基 (a−3)直鎖または分岐鎖の炭素数1〜20のアルキ
ル基、アルケニル基またはアルコキシル基で置換されて
もよいアリール基Xは下記[b群]より選ばれるいずれ
かの置換基を示す。 [b群]: (b−1)水素原子 (b−2)直鎖または分岐鎖の炭素数1〜20の炭化水
素基 (b−3)直鎖または分岐鎖の炭素数1〜20の炭化水
素基で置換されてもよいアシル基またはアミド基 Aは炭素数2〜3のアルキレン基を示す。nは0〜50
の整数を示す。)
1. A mold remover composition comprising an α-alkoxy hydroperoxide represented by the following general formula (I). Embedded image (Wherein, R 1 , R 2 , X, A, and n are as follows.
R 1 and R 2 each represent a substituent selected from the following [Group a], and R 1 and R 2 may be the same or different. [Group a]: (a-1) hydrogen atom (a-2) formyl group, hydroxyl group, hydroperoxyl group, peroxyl group, carbonyl group, carboxyl group, amino group, amide group, ester group, ether group,
A linear or branched C1-C50 alkyl or alkenyl group (a-3) which may be substituted with one or more groups selected from R 1- (AO) n- groups and aryl groups; ) The aryl group X which may be substituted with a linear or branched C1-C20 alkyl group, alkenyl group or alkoxyl group is any substituent selected from the following [group b]. [Group b]: (b-1) a hydrogen atom (b-2) a linear or branched C1-C20 hydrocarbon group (b-3) a linear or branched C1-C20 carbon atom An acyl group or an amide group A that may be substituted with a hydrogen group A represents an alkylene group having 2 to 3 carbon atoms. n is 0 to 50
Indicates an integer. )
【請求項2】 更に金属錯体及び/またはポリ酸を含有
することを特徴とする請求項1記載のカビ取り剤組成
物。
2. The mold remover composition according to claim 1, further comprising a metal complex and / or a polyacid.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005112647A3 (en) * 2004-05-21 2006-04-27 Fellows Adrian An antimicrobial composition

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