JP2000072901A - Manufacture of polyimide film of low shrinkage - Google Patents

Manufacture of polyimide film of low shrinkage

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JP2000072901A
JP2000072901A JP11258716A JP25871699A JP2000072901A JP 2000072901 A JP2000072901 A JP 2000072901A JP 11258716 A JP11258716 A JP 11258716A JP 25871699 A JP25871699 A JP 25871699A JP 2000072901 A JP2000072901 A JP 2000072901A
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polyimide film
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a polyimide of low shrinkage and good productivity. SOLUTION: This film is manufactured by first obtaining a polyamide acidic solution by polymerizing pyromellitic acid dianhydride and 4,4'-diaminodiphenyl ether in an org. solvent, then the solution is casted extruded into a film, dried, and heat treated to obtain a polyimide film, then it is heat treated for a short time while keeping a tensile strength in length's direction not less than 1 kg/m but not greater than 10 kg/m by irradiation of a far-infrared ray, and finally cooled.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は熱に対する収縮性が
改善された低収縮性ポリイミドフイルムの製造方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a low shrinkage polyimide film having improved heat shrinkage.

【0002】[0002]

【従来の技術】芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香
族ジアミンを重縮合して得られるポリイミドは極めて耐
熱性に優れたポリマーとして知られている。
2. Description of the Related Art A polyimide obtained by polycondensing an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine is known as a polymer having extremely excellent heat resistance.

【0003】このポリイミドは溶媒に不溶であるが、そ
の前駆体であるポリアミド酸は特定の有機溶媒に可溶で
あるため、このポリアミド酸有機溶媒溶液を流延し、イ
ミド化と同時に乾燥することにより耐熱性のフイルムが
得られる。
[0003] Although this polyimide is insoluble in a solvent, its precursor, polyamic acid, is soluble in a specific organic solvent. Therefore, this polyamic acid organic solvent solution is cast and dried at the same time as imidization. As a result, a heat-resistant film can be obtained.

【0004】このポリイミドフイルムは耐熱性、絶縁性
及び機械特性に優れているため、フレキシブルプリント
基板のベースフイルムとして従来から利用されている。
Since this polyimide film has excellent heat resistance, insulation properties and mechanical properties, it has been conventionally used as a base film for flexible printed circuit boards.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ポリイミドフイルムを
ベースフイルムとしてフレキシブルプリント基板を作る
ためには銅等の金属箔を積層するかあるいは真空蒸着、
スパッタリング等により金属を付着させる必要がある
が、この工程でかなりの熱がかかるため、熱に対する寸
法安定性が要求される。
In order to make a flexible printed circuit board using a polyimide film as a base film, a metal foil such as copper is laminated or vacuum deposited.
It is necessary to attach a metal by sputtering or the like, but considerable heat is applied in this step, so dimensional stability against heat is required.

【0006】特に、最近ではフレキシブルプリント基板
のファインパターン化により、熱による収縮が小さいポ
リイミドフイルムが望まれている。
In particular, recently, a polyimide film which has a small shrinkage due to heat due to fine patterning of a flexible printed board has been desired.

【0007】このような要求に応える手段として、特開
昭62-41024号公報にはポリイミドフイルムを実質的に、
無張力化、加熱オーブン中で加熱処理した後、冷却する
方法が提案されている。無張力下で熱処理する方法は潜
在収縮応力を緩和し、その後の加熱に対して収縮が小さ
くなるため、有効的な方法であるが、次のような欠点が
ある。
As a means for meeting such a demand, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-41024 discloses that a polyimide film is substantially used.
A method has been proposed in which a tension is reduced, heat treatment is performed in a heating oven, and then cooling is performed. The method of heat treatment under no tension is an effective method because the latent shrinkage stress is relaxed and the shrinkage is reduced by subsequent heating, but has the following disadvantages.

【0008】即ち、無張力下で熱処理するためにはフイ
ルムを巻いたロールを加熱オーブン中に放置する方法
(特開昭62-41024号公報実施例)あるいは巻出し、巻取
り機を備えた連続的加熱炉中でフイルムを連続的に処理
する方法があるが、いずれにしても無張力下で長時間処
理することになるのでフイルムが波を打つ状態になり、
熱収縮率がばらつくという問題を生ずる。特に連続処理
の場合にはフイルムが蛇行して完全な製品ロールが得ら
れないという不都合が生じる。
That is, in order to perform heat treatment under no tension, a method in which a roll wound with a film is left in a heating oven (Example of Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-41024) or a continuous machine equipped with an unwinding and winding machine There is a method of continuously processing the film in a selective heating furnace, but in any case, it will be processed under no tension for a long time, so the film will be in a wavy state,
This causes a problem that the heat shrinkage ratio varies. In particular, in the case of continuous processing, there is a disadvantage that the film meanders and a complete product roll cannot be obtained.

【0009】また、乾燥機の中に放置するバッチ式であ
ってもフイルム表面にしわが発生することを防ぐことが
できず、精密なプリント基板のベースフイルムとしては
適用できなくなる欠点がある。しかもこれらの方法で
は、低収縮率効果にバラツキを生じ、たとえばしわが発
生した部分では、MD方向、TD方向の熱収縮率が大きく変
動してしまうという問題もあった。
Further, even in the case of a batch type in which the film is left in a dryer, it is impossible to prevent wrinkles from being generated on the film surface, so that it cannot be used as a base film for a precision printed circuit board. In addition, these methods have a problem in that the effect of the low shrinkage ratio varies, and for example, in the portion where wrinkles occur, the heat shrinkage ratio in the MD direction and the TD direction fluctuates greatly.

【0010】さらに、熱に対する寸法安定性を良くする
ために、芳香族テトラカルボン酸二無水物としてビフェ
ニルテトラカルボン酸二無水物を、芳香族ジアミンとし
てフェニレンジアミンをそれぞれ採用したポリアミド酸
溶液からポリイミドフィルムを製造するという特殊な原
料による方法が採られていたのである。
Furthermore, in order to improve the dimensional stability against heat, a polyimide film is prepared from a polyamic acid solution employing biphenyltetracarboxylic dianhydride as aromatic tetracarboxylic dianhydride and phenylenediamine as aromatic diamine. A special raw material production method was used.

【0011】本発明は上記従来技術の欠点を解消し、低
収縮性で、かつ製品の製造効率のよいポリイミドフイル
ムの製造方法の提供を課題とするものである。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art and to provide a method for producing a polyimide film having low shrinkage and high production efficiency.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は次の手段をとる。
In order to solve the above problems, the present invention employs the following means.

【0013】すなわち本発明は、ピロメリット酸二無水
物と4,4’−ジアミノジフェニルエーテルを、有機溶
媒中で重合して得たポリアミド酸溶液を流延またはフィ
ルム状に押出し、乾燥、熱処理して得たポリイミドフィ
ルムを、フィルムの長さ方向に張力を1kg/m以上、
10kg/m以下に保ち、遠赤外線を照射して短時間で
加熱処理した後、冷却処理を施してなる低収縮性ポリイ
ミドフィルムの製造方法、であり、好ましくはその乾
燥、熱処理を触媒および脱水剤の存在下で行うことを特
徴とする上記低熱収縮性ポリイミドフィルムの製造方法
である。
That is, in the present invention, a polyamic acid solution obtained by polymerizing pyromellitic dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether in an organic solvent is cast or extruded into a film, dried and heat-treated. A tension of 1 kg / m or more in the length direction of the obtained polyimide film,
A method for producing a low-shrinkage polyimide film obtained by subjecting to heat treatment in a short period of time by irradiating far-infrared rays with keeping it at 10 kg / m or less, and then subjecting the film to a cooling treatment. The method for producing a low heat shrinkable polyimide film described above, wherein the method is carried out in the presence of:

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明におけるポリイミドは次の
(I)式の構造を主として有するものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The polyimide in the present invention mainly has a structure of the following formula (I).

【0015】[0015]

【化1】 Embedded image

【0016】この( I) 式の構造は下記(II)式の前駆体
が閉環したものである。
The structure of the formula (I) is a ring-closed precursor of the following formula (II).

【0017】[0017]

【化2】 Embedded image

【0018】(ここでRはピロメリット酸二無水物残
基、R' は4,4’−ジアミノジフェニルエーテル残
基、nは自然数である。) (I)式の構造を有するポリイミドは、ピロメリット酸
二無水物と4,4’−ジアミノジフェニルエーテルを、
有機溶媒中で、触媒及び脱水剤の存在下に縮重合するこ
とにより得られる。
(Where R is a pyromellitic dianhydride residue, R 'is a 4,4'-diaminodiphenyl ether residue, and n is a natural number) The polyimide having the structure of formula (I) is pyromellitic Acid dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether,
It is obtained by condensation polymerization in an organic solvent in the presence of a catalyst and a dehydrating agent.

【0019】本発明において、芳香族テトラカルボン酸
二無水物として、ピロメリット酸二無水物を単独で用い
るのが好ましいが、40モル%以下であれば他の芳香族
テトラカルボン酸二無水物を併用することができる。ピ
ロメリット酸二無水物と併用できる芳香族テトラカルボ
ン酸二無水物としては、2,3,6,7 −ナフタレンテトラカ
ルボン酸二無水物、3,3',4,4' −ジフェニルテトラカル
ボン酸二無水物、2,2'−ビス(3,4 −ジカルボキシフェ
ニル)プロパン二無水物、ビス(3,4 −ジカルボキシフ
ェニル)スルホン二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラ
カルボン酸二無水物、ビス(3,4 −カルボキシフェニ
ル)エーテル二無水物、ナフタレン−1,2,4,5 −テトラ
カルボン酸二無水物、ナフタレン-1,4,5,8−テトラカル
ボン酸二無水物、デカヒドロ−ナフタレン-1,4,5,8−テ
トラカルボン酸二無水物、4,8-ジメチル-1,2,3,5,7−ヘ
キサヒドロナフタレン−1,2,5,6 −テトラカルボン酸二
無水物、 2,6- ジクロロナフタレン−1,4,5,8 −テトラ
カルボン酸二無水物、2,7-ジクロロナフタレン−1,4,5,
8 −テトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7 −テトラクロ
ロナフタレン−1,4,5,8 −テトラカルボン酸二無水物、
フェナントレン−1,8,9,10−テトラカルボン酸二無水
物、2,2 −ビス(2,3−ジカルボキシフェニル) エタン二
無水物、1,1 −ビス(3,4−ジカルボキシフェニル) エタ
ン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル) メタン
二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル) メタン二
無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル) スルホン二
無水物、ベンゼン−1,2,3,4 −テトラカルボン酸二無水
物、3,4,3',4' −ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物など、またはこれらの2種以上の混合物が挙げられ
る。
In the present invention, it is preferable to use pyromellitic dianhydride alone as the aromatic tetracarboxylic dianhydride, but if it is 40 mol% or less, another aromatic tetracarboxylic dianhydride may be used. Can be used together. Aromatic tetracarboxylic dianhydrides that can be used in combination with pyromellitic dianhydride include 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride and 3,3 ′, 4,4′-diphenyltetracarboxylic acid Dianhydride, 2,2'-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic Acid dianhydride, bis (3,4-carboxyphenyl) ether dianhydride, naphthalene-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride Anhydride, decahydro-naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 4,8-dimethyl-1,2,3,5,7-hexahydronaphthalene-1,2,5,6- Tetracarboxylic dianhydride, 2,6-dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 2,7-dichloronaphthalene-1,4,5,
8-tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-tetrachloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride,
Phenanthrene-1,8,9,10-tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) Ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, Benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, 3,4,3 ′, 4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, or a mixture of two or more of these.

【0020】また、芳香族ジアミンとしては、4,4’
−ジアミノジフェニルエーテルを単独で用いるのが好ま
しいが、40モル%以下であれば他の芳香族ジアミンを
併用することができる。4,4’−ジアミノジフェニル
エーテルと併用できる芳香族ジアミンとしては、メタフ
ェニレンジアミン、パラフェニレンジアミン、4,4'−ジ
アミノジフェニルプロパン、4,4'−ジアミノジフェニル
メタン、ベンチジン、4,4'−ジアミノジフェニルサルフ
ァイド、4,4'−ジアミノジフェニルスルホン、3,3'−ジ
アミノジフェニルスルホン、2,6 −ジアミノピリジン、
ビス−(4−アミノフェニル) ジエチルシラン、ビス−(4
−アミノフェニル) ジフェニルシラン、3,3'−ジクロロ
ベンチジン、ビス−(4−アミノフェニル) エチルホスフ
ィンオキサイド、ビス−(4−アミノフェニル) フェニル
ホスフィンオキサイド、ビス−(4−アミノフェニル) −
N−フェニルアミン、ビス−(4−アミノフェニル) −N
−メチルアミン、1,5 −ジアミノナフタレン、3,3'−ジ
メチル−4,4'−ジアミノビフェニル、3,4'−ジメチル−
3',4−ジアミノビフェニル、3,3'−ジメトキシベンチジ
ン、2,4 −ビス(ベータ−アミノ−t−ブチル)トルエ
ン、ビス(パラ−ベータ−アミノ−t−ブチル−フェニ
ル)エーテル、パラ−ビス−(2 −メチル−4−アミノ
−ベンチル)ベンゼン、パラ−ビス−(1,1 −ジメチル
−5−アミノ−ベンチル)ベンゼン、m−キシリレンジ
アミン、p−キシリレンジアミン、1,3 −ジアミノアダ
マンタン、3,3'−ジアミノ−1,1'−ジアダマンタン、3,
3'−ジアミノ−1,1'−ジアダマンタン、ビス(パラ−ア
ミノ−シクロヘキシル)メタン、ヘキサメチレンジアミ
ン、ペプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミ
ン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、3
−メチルヘプタメチレンジアミン、4,4 −ジメチルヘプ
タメチレンジアミン、2,11−ジアミノ−ドデカン、1,2
−ビス−(3 −アミノ−プロポキシ)エタン、2,2 −ジ
メチルプロピレンジアミン、3 −メトキシ−ヘキサメチ
レンジアミン、2,5 −ジメチルヘキサメチレンジアミ
ン、5 −メチルノナメチレンジアミン、5 −メチルノナ
メチレンジアミン、1,4 −ジアミノ−シクロヘキサン、
1,12−ジアミノ−オクタデカン、2,5 −ジアミノ−1,3,
4 −オキサジアゾール、2,2 −ビス(4 −アミノフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、N−(3 −アミノフェニ
ル)−4 −アミノベンズアミド、4 −アミノフェニル−
3 −アミノベンゾエート等が挙げられる。
As the aromatic diamine, 4,4 ′
It is preferable to use -diaminodiphenyl ether alone, but other aromatic diamines can be used in combination as long as the content is 40 mol% or less. Aromatic diamines that can be used in combination with 4,4′-diaminodiphenyl ether include metaphenylenediamine, paraphenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenylmethane, benzidine, 4,4′-diaminodiphenyl Sulfide, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 2,6-diaminopyridine,
Bis- (4-aminophenyl) diethylsilane, bis- (4
-Aminophenyl) diphenylsilane, 3,3'-dichlorobenzidine, bis- (4-aminophenyl) ethylphosphine oxide, bis- (4-aminophenyl) phenylphosphine oxide, bis- (4-aminophenyl)-
N-phenylamine, bis- (4-aminophenyl) -N
-Methylamine, 1,5-diaminonaphthalene, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,4'-dimethyl-
3 ', 4-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,4-bis (beta-amino-t-butyl) toluene, bis (para-beta-amino-t-butyl-phenyl) ether, para -Bis- (2-methyl-4-amino-bentyl) benzene, para-bis- (1,1-dimethyl-5-amino-bentyl) benzene, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,3 -Diaminoadamantane, 3,3'-diamino-1,1'-diadamantane, 3,
3'-diamino-1,1'-diadamantane, bis (para-amino-cyclohexyl) methane, hexamethylenediamine, peptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, decamethylenediamine, 3
-Methylheptamethylenediamine, 4,4-dimethylheptamethylenediamine, 2,11-diamino-dodecane, 1,2
-Bis- (3-amino-propoxy) ethane, 2,2-dimethylpropylenediamine, 3-methoxy-hexamethylenediamine, 2,5-dimethylhexamethylenediamine, 5-methylnonamethylenediamine, 5-methylnonamethylenediamine , 1,4-diamino-cyclohexane,
1,12-diamino-octadecane, 2,5-diamino-1,3,
4-oxadiazole, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, N- (3-aminophenyl) -4-aminobenzamide, 4-aminophenyl-
3-aminobenzoate and the like.

【0021】次に、本発明でポリイミドの縮重合に用い
られる有機溶剤としては、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチル
ホルムアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N−ジ
メチルメトキシアセトアミド、N−メチル−カプロラク
タム、ジメチルスルホキシド、N−メチル−2−ピロリ
ドン、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホ
ン、ヘキサメチルホスホルアミド、テトラメチレンスル
ホン、ホルムアミド、N−メチルホルムアミド及びプチ
ロラクトンである。これらの有機溶媒は単独または溶媒
の組み合わせで、或いはベンゼン、ベンゾニトリル、ジ
オキサン、プチロラクトン、キシレン、トルエン及びシ
クロヘキサンの如き溶媒性の劣る溶媒との組み合わせい
おいて用いることができる。
Next, the organic solvent used for the condensation polymerization of the polyimide in the present invention includes N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylformamide, N, N-diethylacetamide, -With dimethylmethoxyacetamide, N-methyl-caprolactam, dimethylsulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, tetramethylurea, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylphosphoramide, tetramethylenesulfone, formamide, N-methylformamide and butyrolactone is there. These organic solvents can be used alone or in combination of solvents, or in combination with a solvent having poor solvent properties such as benzene, benzonitrile, dioxane, butyrolactone, xylene, toluene and cyclohexane.

【0022】触媒としては、第三級アミン類の使用が望
ましく、これらのアミン類の具体例としては、トリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、
ピリジン、イソキノリン、2 −エチルピリジン、2 −メ
チルピリジン、N−エチルモルフォリン、N−メチルモ
ルフォリン、ジエチルシクロヘキシルアミン、N−ジメ
チルシクロヘキシルアミン、4 −ベンゾイルピリジン、
2,4 −ルチジン、2,6−ルチジン、2,4,6 −コリジン、
3,4 −ルチジン、3,5 −ルチジン、4 −メチルピリジ
ン、3 −メチルピリジン、4 −イソプロピルピリジン、
N−ジメチルベンジルアミン、4 −ベンジルピリジン、
及びN−ジメチルドデシルアミンなどが挙げられる。
As the catalyst, tertiary amines are desirably used. Specific examples of these amines include trimethylamine, triethylamine, triethylenediamine, and the like.
Pyridine, isoquinoline, 2-ethylpyridine, 2-methylpyridine, N-ethylmorpholine, N-methylmorpholine, diethylcyclohexylamine, N-dimethylcyclohexylamine, 4-benzoylpyridine,
2,4-lutidine, 2,6-lutidine, 2,4,6-collidine,
3,4-lutidine, 3,5-lutidine, 4-methylpyridine, 3-methylpyridine, 4-isopropylpyridine,
N-dimethylbenzylamine, 4-benzylpyridine,
And N-dimethyldodecylamine.

【0023】さらに脱水剤としては有機カルボン酸無水
物、N,N −ジアルキルカルボジイミド類、低級脂肪酸ハ
ロゲン化物、ハロゲン化低級脂肪酸ハロゲン化物、ハロ
ゲン化低級脂肪酸無水物、アリールホスホン酸ジハロゲ
ン化物及びチオニルハロゲン化物が挙げられる。
Examples of the dehydrating agent include organic carboxylic acid anhydrides, N, N-dialkylcarbodiimides, lower fatty acid halides, halogenated lower fatty acid halides, halogenated lower fatty acid anhydrides, arylphosphonic dihalides and thionyl halides. Is mentioned.

【0024】ここで、有機カルボン酸無水物としては無
水酢酸、プロピオン酸無水物、酪酸無水物、吉草酸無水
物、これらが互いに混合された無水物及び芳香族モノカ
ルボン酸たとえば安息香酸、ナフトエ酸等の無水物との
混合物、及び炭酸及びギ酸並びに脂肪酸ケテン類(ケテ
ン及びジメチルケテン)の無水物との混合物などが挙げ
られるが、なかでも無水酢酸およびケテン類の使用が好
ましい。
The organic carboxylic acid anhydrides include acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride, valeric anhydride, anhydrides thereof mixed with each other, and aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid and naphthoic acid. And mixtures thereof with anhydrides of carbonic acid and formic acid and fatty acid ketene (ketene and dimethylketene). Among them, the use of acetic anhydride and ketene is preferable.

【0025】安息香酸無水物のほか、他の使用し得る芳
香族酸無水物には、o−,m−及びp−トルイル酸、m
−及びp−エチル安息香酸、p−プロピル安息香酸、p
−イソプロピル安息香酸、アニス酸、o−、m−及びp
−ニトロ安息香酸、o−、m−及びp−ハロ安息香酸、
種々のジブロモ及びジクロロ安息香酸、トリブロモ及び
トリクロロ安息香酸、ジメチル安息香酸の異性体たとえ
ばヘメリチル酸、3,4−キシリル酸、イソキシリル酸及
びメシチレン酸、ベラトルム酸、トリメトキシ安息香
酸、アルファ及びベータナフトエ酸、及びビフェニルカ
ルボン酸などの酸無水物、及び上記無水物相互の混合無
水物及び脂肪酸モノカルボン酸たとえば酢酸、プロピオ
ン酸等の無水物との混合物無水物、及び炭酸及びギ酸各
無水物との混合無水物が挙げられる。
In addition to benzoic anhydride, other aromatic anhydrides which can be used include o-, m- and p-toluic acid, m-
-And p-ethylbenzoic acid, p-propylbenzoic acid, p
-Isopropylbenzoic acid, anisic acid, o-, m- and p
-Nitrobenzoic acid, o-, m- and p-halobenzoic acid,
Various dibromo and dichlorobenzoic acids, tribromo and trichlorobenzoic acids, isomers of dimethyl benzoic acid such as hemelicylic acid, 3,4-xylylic acid, isoxylylic acid and mesitylene acid, veratric acid, trimethoxybenzoic acid, alpha and beta naphthoic acid, Mixed anhydrides of the above anhydrides and mixed anhydrides of fatty acids and monocarboxylic acids such as acetic acid and propionic acid; and mixed anhydrides of carbonic acid and formic acid. Things.

【0026】N,N’−ジアルキルカルボジイミド類は 式: R−N=C=N−R (式中Rは異なったアルキル基であり得るが、一般に同
一である)により表され、好ましくは、R基は1乃至8
個の炭素原子の低級アルキル基である。
The N, N'-dialkylcarbodiimides are represented by the formula: RN = C = NR, wherein R can be different alkyl groups, but are generally the same, Groups are 1 to 8
Is a lower alkyl group of carbon atoms.

【0027】ハロゲンを含む脱水剤には、塩化アセチ
ル、臭化アセチル、沃化アセチル及び弗化アセチル、塩
化プロピオニル、集荷プロピオニル、沃化プロピオニ
ル、及び弗化プロピオニル、塩化イソブチリル、臭化イ
ソブチリル、塩化n−ブチリル、臭化n−ブチリル、塩
化バレリル、塩化モノー、塩化ジー及び塩化トリ−クロ
ロアセチル、臭化ブロモアセチル、クロロ酢酸無水物、
フェニルホスホン酸ジクロライド、塩化チオニル、臭化
チオニル、弗化チオニル及びチオニルクロロフルオライ
ド、及びトリフルオロ酢酸無水物が挙げられる。
Halogen-containing dehydrating agents include acetyl chloride, acetyl bromide, acetyl iodide and acetyl fluoride, propionyl chloride, collected propionyl, propionyl iodide, and propionyl fluoride, isobutyryl chloride, isobutyryl bromide, n-chloride -Butyryl, n-butyryl bromide, valeryl chloride, mono-chloride, di- and tri-chloroacetyl chloride, bromoacetyl bromide, chloroacetic anhydride,
Examples include phenylphosphonic dichloride, thionyl chloride, thionyl bromide, thionyl fluoride and thionyl chlorofluoride, and trifluoroacetic anhydride.

【0028】得られるポリアミド酸溶液は流延またはフ
イルム状に押出され、乾燥、熱処理を行うことにより、
イミド化が進み前記(I)式構造を有するポリイミドフ
イルムが得られる。
The resulting polyamic acid solution is extruded in a cast or film form, and dried and heat-treated.
The imidization proceeds and a polyimide film having the structure of the above formula (I) is obtained.

【0029】この乾燥・熱処理は、流延またはフィルム
状に押し出されたポリアミド酸溶液を200〜 550
℃、好ましくは250〜500℃の高温雰囲気に維持し
た乾燥熱処理ゾーンを通過することにより達成すること
ができる。
This drying and heat treatment is performed by subjecting the polyamic acid solution cast or extruded to a film shape to 200 to 550.
It can be achieved by passing through a dry heat treatment zone maintained in a high temperature atmosphere at 250C, preferably 250 to 500C.

【0030】本発明においてフイルム厚みが5〜150
μm、好ましくは7〜125μmになるように調整する
ことが必要である。
In the present invention, the film thickness is 5 to 150.
It is necessary to adjust the thickness to be μm, preferably 7 to 125 μm.

【0031】得られたポリイミドフイルムを本発明にお
いてはフイルムの長さ方向の張力を1kg/m以上、1
0kg/m以下に保ち、遠赤外線を照射して短時間で加
熱処理する。
In the present invention, the tension of the obtained polyimide film in the longitudinal direction of the film is set to 1 kg / m or more.
Heating is performed in a short time by irradiating far-infrared rays while maintaining the pressure at 0 kg / m or less.

【0032】張力は小さい程、低熱収縮性のフイルムが
得られるが、完全無張力下では特に連続巻取りを行うと
き、フィルムが蛇行する傾向があるので、1kg/m以上が
好ましい。また、10 kg/mを越えると本発明の目
的である加熱低収縮性のフイルムが得られなくなる。
Although a film having a low heat shrinkage can be obtained as the tension is smaller, a film having a tendency to meander under complete non-tension, particularly when continuous winding is performed, is preferably 1 kg / m or more. On the other hand, if it exceeds 10 kg / m, the film having low heat shrinkage, which is the object of the present invention, cannot be obtained.

【0033】加熱の手段としては遠赤外線を照射する。
ポリイミドフイルムは遠赤外線領域に吸収ピークがあ
り、この吸収波長を含む遠赤外線を照射することによ
り、極めて短時間で加熱が行なわれる。遠赤外線のヒー
ターとしては特に限定されないが、セラミックヒーター
が好ましい。また、遠赤外線照射に加えて、熱風を併用
することもできる。
As a heating means, far infrared rays are irradiated.
The polyimide film has an absorption peak in the far-infrared region, and is heated in a very short time by irradiating far-infrared rays including this absorption wavelength. The far-infrared heater is not particularly limited, but a ceramic heater is preferred. Further, in addition to far-infrared irradiation, hot air can be used in combination.

【0034】本発明においては遠赤外線を用いることに
より、加熱時間は極めて短くてよく、好ましくは1〜6
0秒、更に好ましくは2〜30秒である。加熱処理温度
は特に限定されないが、180〜470℃、好ましくは
200〜450℃が好ましい。
In the present invention, by using far-infrared rays, the heating time may be extremely short, preferably from 1 to 6 hours.
0 second, more preferably 2 to 30 seconds. The heat treatment temperature is not particularly limited, but is preferably from 180 to 470 ° C, and more preferably from 200 to 450 ° C.

【0035】[0035]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明の効果を具体的
に説明する。
EXAMPLES Hereinafter, the effects of the present invention will be specifically described with reference to examples.

【0036】なお、実施例中の熱収縮率とはフィルム試
料を350℃で30分処理した後のフィルム長さ方向
(MD)および幅方向(TD)の収縮率(%)を示した
ものであり、この値が0.1%以下になると極めて実用
性が高くなる。測定方法はJPCA−BM01−198
8に準じた。
The term "heat shrinkage ratio" in Examples means the shrinkage ratio (%) in the film length direction (MD) and width direction (TD) after a film sample was treated at 350 ° C. for 30 minutes. If the value is 0.1% or less, the practicability is extremely increased. The measuring method was JPCA-BM01-198.
According to 8.

【0037】実施例1 ピロメリット酸二無水物と4,4'−ジアミノジフェニルエ
ーテルを等モルずつN,N−ジメチルアセトアミド中に
入れて攪拌しながら反応を進めることにより、ポリアミ
ド酸溶液を得た。
Example 1 A polyamic acid solution was obtained by placing pyromellitic dianhydride and 4,4'-diaminodiphenyl ether in an equimolar amount in N, N-dimethylacetamide and agitating the reaction while stirring.

【0038】このポリアミド酸溶液に無水酢酸、イソキ
ノリンを加え攪拌した後、加熱支持体上に溶液を押出
し、ポリイミドに転化させて自己支持性のフイルムとし
た後、支持体から剥離し、さらにイミドへの転化反応を
完結すると共に250〜450℃の乾燥熱処理ゾーンを
通過させることにより乾燥・熱処理し、厚み25μmの
ポリイミドフイルムとしてロール上に巻き取った。この
ポリイミドフイルムを、表1に示した温度のトンネル型
赤外線照射炉に連続的に送り込み、夫々表1に示した条
件で熱処理した後、炉外で巻取りながら室温まで冷却し
た。熱処理中のフイルム張力は送りローラと巻取ローラ
の回転速度差で調節し、熱処理時間は各ローラの相対回
転速度で調節した。
Acetic anhydride and isoquinoline are added to this polyamic acid solution, and the mixture is stirred. The solution is extruded on a heated support, converted into a polyimide to form a self-supporting film, peeled from the support, and further removed to an imide. Was completed and dried and heat-treated by passing through a drying heat treatment zone at 250 to 450 ° C., and wound up on a roll as a 25 μm-thick polyimide film. This polyimide film was continuously fed into a tunnel-type infrared irradiation furnace at the temperature shown in Table 1, and heat-treated under the conditions shown in Table 1, and then cooled to room temperature while being wound outside the furnace. The film tension during the heat treatment was adjusted by the rotation speed difference between the feed roller and the winding roller, and the heat treatment time was adjusted by the relative rotation speed of each roller.

【0039】得られたフィルムの熱収縮率評価結果を表
1に示す。
Table 1 shows the evaluation results of the heat shrinkage of the obtained film.

【0040】[0040]

【表1】 [Table 1]

【0041】なお、比較として張力0.5kg/m、温
度を260℃として同様の実験を行ったが、フイルムが
波を打って、連続的に巻き取ることが困難であった。
As a comparison, a similar experiment was conducted with a tension of 0.5 kg / m and a temperature of 260 ° C. However, it was difficult to wind the film continuously and wind it.

【0042】実施例2 実施例1と同様にして、厚み125 μm のポリイミドフイ
ルムを得た。これを250℃のトンネル型赤外線照射炉
に送り込み、表2に示した処理張力で30秒間熱処理し
た後、室温まで冷却した。
Example 2 In the same manner as in Example 1, a polyimide film having a thickness of 125 μm was obtained. This was fed into a tunnel-type infrared irradiation furnace at 250 ° C., heat-treated for 30 seconds at the treatment tension shown in Table 2, and then cooled to room temperature.

【0043】得られたフイルムの熱収縮率評価結果を表
2に示す。
Table 2 shows the evaluation results of the heat shrinkage of the obtained film.

【0044】[0044]

【表2】 [Table 2]

【0045】実施例3 ピロメリット酸二無水物と、ジアミン成分として4,4'−
ジアミノジフェニルエーテル(70モル%)およびp−
フェニレンジアミン(30モル%)とを等モルずつN,
N−ジメチルアセトアミド中に入れて攪拌しながら反応
を進めることにより、ポリアミド酸溶液を得た。
Example 3 Pyromellitic dianhydride and 4,4'- as diamine component
Diaminodiphenyl ether (70 mol%) and p-
Phenylenediamine (30 mol%) and N,
The polyamic acid solution was obtained by proceeding the reaction while stirring in N-dimethylacetamide.

【0046】このポリアミド酸溶液に無水酢酸、イソキ
ノリンを加え攪拌した後、加熱支持体上に溶液を押出
し、ポリイミドに転化させて自己支持性のフイルムとし
た後、支持体から剥離し、さらにイミドへの転化反応を
完結すると共に溶媒を乾燥し、厚み25μmのポリイミ
ドフイルムとしてロール上に巻き取った。このポリイミ
ドフイルムを、表1に示した温度のトンネル型赤外線照
射炉に連続的に送り込み、夫々表1に示した条件で熱処
理した後、炉外で巻取りながら室温まで冷却した。熱処
理中のフイルム張力は送りローラと巻取ローラの回転速
度差で調節し、熱処理時間は各ローラの相対回転速度で
調節した。
Acetic anhydride and isoquinoline were added to the polyamic acid solution, and the mixture was stirred. The solution was extruded on a heated support, converted into a polyimide to form a self-supporting film, peeled from the support, and further converted to imide. Was completed, the solvent was dried, and the film was wound up on a roll as a polyimide film having a thickness of 25 μm. This polyimide film was continuously fed into a tunnel-type infrared irradiation furnace at the temperature shown in Table 1, and heat-treated under the conditions shown in Table 1, and then cooled to room temperature while being wound outside the furnace. The film tension during the heat treatment was adjusted by the rotation speed difference between the feed roller and the winding roller, and the heat treatment time was adjusted by the relative rotation speed of each roller.

【0047】得られたフィルムの熱収縮率評価結果を表
3に示す。
Table 3 shows the evaluation results of the heat shrinkage of the obtained film.

【0048】[0048]

【表3】 [Table 3]

【0049】なお、比較として張力0.5kg/m、温
度を260℃として同様の実験を行ったが、フイルムが
波を打って、連続的に巻き取ることが困難であった。
A similar experiment was conducted with a tension of 0.5 kg / m and a temperature of 260 ° C. for comparison, but it was difficult to continuously wind the film due to the waves.

【0050】[0050]

【発明の効果】本発明の製造方法によれば、低収縮性ポ
リイミドフイルムは、長さ方向の張力を1kg/m以
上、10kg/m以下に保ち赤外線を照射して熱処理す
るものであるので、極めて加熱効率が良く、短時間で低
収縮率のポリイミドフィルムが得られる。
According to the production method of the present invention, the low-shrinkage polyimide film is subjected to heat treatment by irradiating infrared rays while maintaining the longitudinal tension at 1 kg / m or more and 10 kg / m or less. A polyimide film having extremely low heating efficiency and a low shrinkage rate can be obtained in a short time.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B29K 105:02 C08L 79:08 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat II (Reference) B29K 105: 02 C08L 79:08

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ピロメリット酸二無水物と4,4’−ジ
アミノジフェニルエーテルを、有機溶媒中で重合して得
たポリアミド酸溶液を流延またはフィルム状に押出し、
乾燥、熱処理して得たポリイミドフィルムを、フィルム
の長さ方向に張力を1kg/m以上、10kg/m以下
に保ち、遠赤外線を照射して短時間で加熱処理した後、
冷却処理を施してなる低収縮性ポリイミドフィルムの製
造方法。
A polyamic acid solution obtained by polymerizing pyromellitic dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether in an organic solvent is cast or extruded into a film,
After drying and heat-treating the polyimide film, the tension is maintained at 1 kg / m or more and 10 kg / m or less in the length direction of the film, and the film is heat-treated in a short time by irradiating far infrared rays.
A method for producing a low-shrinkage polyimide film subjected to a cooling treatment.
【請求項2】 ピロメリット酸二無水物と4,4’−ジ
アミノジフェニルエーテルを、有機溶媒中で重合して得
たポリアミド酸溶液に触媒および脱水剤を添加し、それ
を流延またはフィルム状に押出し、乾燥、熱処理して得
たポリイミドフィルムを、フィルムの長さ方向に張力を
1kg/m以上、10kg/m以下に保ち、遠赤外線を
照射して短時間で加熱処理した後、冷却処理を施してな
る低収縮性ポリイミドフィルムの製造方法。
2. A catalyst and a dehydrating agent are added to a polyamic acid solution obtained by polymerizing pyromellitic dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether in an organic solvent, and the resultant is cast or formed into a film. The polyimide film obtained by extrusion, drying and heat treatment is heated in a short time by irradiating far-infrared rays with the tension kept at 1 kg / m or more and 10 kg / m or less in the length direction of the film, and then cooled. A method for producing a low shrinkage polyimide film.
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