JP2000072900A - Production of polyimide film having low shrinkage - Google Patents

Production of polyimide film having low shrinkage

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JP2000072900A
JP2000072900A JP11258711A JP25871199A JP2000072900A JP 2000072900 A JP2000072900 A JP 2000072900A JP 11258711 A JP11258711 A JP 11258711A JP 25871199 A JP25871199 A JP 25871199A JP 2000072900 A JP2000072900 A JP 2000072900A
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polyimide film
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acid
dianhydride
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a process for the production of a polyimide film having low shrinkage in high production efficiency. SOLUTION: A polyamic acid solution produced by polymerizing pyromellitic dianhydride and 4,4'-diaminodiphenyl ether in an organic solvent is cast or extruded in the form of a film and dried and heat-treated to obtain a polyimide film. The film is continuously heat-treated with hot air under a tension of 1-10 kg/m applied to the film in longitudinal direction and then cooled to obtain the objective film.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は熱に対する収縮性が
改善された低収縮性ポリイミドフイルムの製造方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a low shrinkage polyimide film having improved heat shrinkage.

【0002】[0002]

【従来の技術】芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香
族ジアミンを重縮合して得られるポリイミドは極めて耐
熱性に優れたポリマーとして知られている。
2. Description of the Related Art A polyimide obtained by polycondensing an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine is known as a polymer having extremely excellent heat resistance.

【0003】このポリイミドは溶媒に不溶であるが、そ
の前駆体であるポリアミド酸は特定の有機溶媒に可溶で
あるため、このポリアミド酸有機溶媒溶液を流延し、イ
ミド化と同時に乾燥することにより耐熱性のフイルムが
得られる。
[0003] Although this polyimide is insoluble in a solvent, its precursor, polyamic acid, is soluble in a specific organic solvent. Therefore, this polyamic acid organic solvent solution is cast and dried at the same time as imidization. As a result, a heat-resistant film can be obtained.

【0004】このポリイミドフイルムは耐熱性、絶縁性
及び機械特性に優れているため、フレキシブルプリント
基板のベースフイルムとして従来から利用されている。
Since this polyimide film has excellent heat resistance, insulation properties and mechanical properties, it has been conventionally used as a base film for flexible printed circuit boards.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ポリイミドフイルムを
ベースフイルムとしてフレキシブルプリント基板を作る
ためには銅等の金属箔を積層するかあるいは真空蒸着、
スパッタリング等により金属を付着させる必要がある
が、この工程でかなりの熱がかかるため、熱に対する寸
法安定性が要求される。
In order to make a flexible printed circuit board using a polyimide film as a base film, a metal foil such as copper is laminated or vacuum deposited.
It is necessary to attach a metal by sputtering or the like, but considerable heat is applied in this step, so dimensional stability against heat is required.

【0006】特に、最近ではフレキシブルプリント基板
のファインパターン化により、熱による収縮が小さいポ
リイミドフイルムが望まれている。
In particular, recently, a polyimide film which has a small shrinkage due to heat due to fine patterning of a flexible printed board has been desired.

【0007】このような要求に応える手段として、特開
昭62-41024号公報にはポリイミドフイルムを実質的に、
無張力化、加熱オーブン中で加熱処理した後、冷却する
方法が提案されている。無張力下で熱処理する方法は潜
在収縮応力を緩和し、その後の加熱に対して収縮が小さ
くなるため、有効的な方法であるが、次のような欠点が
ある。
As a means for meeting such a demand, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-41024 discloses that a polyimide film is substantially used.
A method has been proposed in which a tension is reduced, heat treatment is performed in a heating oven, and then cooling is performed. The method of heat treatment under no tension is an effective method because the latent shrinkage stress is relaxed and the shrinkage is reduced by subsequent heating, but has the following disadvantages.

【0008】即ち、無張力下で熱処理するためにはフイ
ルムを巻いたロールを加熱オーブン中に放置する方法
(特開昭62-41024号公報実施例)あるいは巻出し、巻取
り機を備えた連続的加熱炉中でフイルムを連続的に処理
する方法があるが、いずれにしても無張力下で長時間処
理することになるのでフイルムが波を打つ状態になり、
熱収縮率がばらつくという問題を生ずる。特に連続処理
の場合にはフイルムが蛇行して完全な製品ロールが得ら
れないという不都合が生じる。
That is, in order to perform heat treatment under no tension, a method in which a roll wound with a film is left in a heating oven (Example of Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-41024) or a continuous machine equipped with an unwinding and winding machine There is a method of continuously processing the film in a selective heating furnace, but in any case, it will be processed under no tension for a long time, so the film will be in a wavy state,
This causes a problem that the heat shrinkage ratio varies. In particular, in the case of continuous processing, there is a disadvantage that the film meanders and a complete product roll cannot be obtained.

【0009】また、乾燥機の中に放置するバッチ式であ
ってもフイルム表面にしわが発生することを防ぐことが
できず、精密なプリント基板のベースフイルムとしては
適用できなくなる欠点がある。しかもこれらの方法で
は、低収縮率効果にバラツキを生じ、たとえばしわが発
生した部分では、MD方向、TD方向の熱収縮率が大きく変
動してしまうという問題もあった。
Further, even in the case of a batch type in which the film is left in a dryer, it is impossible to prevent wrinkles from being generated on the film surface, so that it cannot be used as a base film for a precision printed circuit board. In addition, these methods have a problem in that the effect of the low shrinkage ratio varies, and for example, in the portion where wrinkles occur, the heat shrinkage ratio in the MD direction and the TD direction fluctuates greatly.

【0010】さらに、熱に対する寸法安定性を良くする
ために、芳香族テトラカルボン酸二無水物としてビフェ
ニルテトラカルボン酸二無水物を、芳香族ジアミンとし
てフェニレンジアミンをそれぞれ採用したポリアミド酸
溶液からポリイミドフィルムを製造するという特殊な原
料による方法が採られていたのである。
Furthermore, in order to improve the dimensional stability against heat, a polyimide film is prepared from a polyamic acid solution employing biphenyltetracarboxylic dianhydride as aromatic tetracarboxylic dianhydride and phenylenediamine as aromatic diamine. A special raw material production method was used.

【0011】本発明は上記従来技術の欠点を解消し、低
収縮性で、かつ製品の製造効率のよいポリイミドフイル
ムの製造方法の提供を課題とするものである。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art and to provide a method for producing a polyimide film having low shrinkage and high production efficiency.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は次の手段をとる。
In order to solve the above problems, the present invention employs the following means.

【0013】すなわち本発明は、ピロメリット酸二無水
物と4,4’−ジアミノジフェニルエーテルを、有機溶
媒中で重合して得たポリアミド酸溶液を流延またはフィ
ルム状に押出し、乾燥、熱処理して得たポリイミドフィ
ルムを、フィルムの長さ方向に1〜10kg/mの張力
をかけながら連続的に熱風で加熱処理を施した後、冷却
処理を施してなる低収縮性ポリイミドフィルムの製造方
法、であり、好ましくはそのポリアミド酸溶液に触媒お
よび脱水剤を添加することを特徴とする上記低熱収縮性
ポリイミドフィルムの製造方法である。
That is, in the present invention, a polyamic acid solution obtained by polymerizing pyromellitic dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether in an organic solvent is cast or extruded into a film, dried and heat-treated. The obtained polyimide film is subjected to a heat treatment with hot air continuously while applying a tension of 1 to 10 kg / m in the length direction of the film, and then subjected to a cooling process, thereby producing a low-shrinkage polyimide film. And preferably, a catalyst and a dehydrating agent are added to the polyamic acid solution.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明におけるポリイミドは次の
(I)式の構造を主として有するものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The polyimide in the present invention mainly has a structure of the following formula (I).

【0015】[0015]

【化1】 この(I) 式の構造は下記(II)式の前駆体が閉環したも
のである。
Embedded image In the structure of the formula (I), a precursor of the following formula (II) is closed.

【0016】[0016]

【化2】 (ここでRはピロメリット酸二無水物残基、R' は4,
4’−ジアミノジフェニルエーテル残基、nは自然数で
ある。) (I)式の構造を有するポリイミドは、ピロメリット酸
二無水物と4,4’−ジアミノジフェニルエーテルを、
有機溶媒中で、触媒及び脱水剤の存在下に縮重合するこ
とにより得られる。
Embedded image (Where R is a pyromellitic dianhydride residue, R 'is 4,
4'-diaminodiphenyl ether residue, n is a natural number. The polyimide having the structure of the formula (I) comprises pyromellitic dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether,
It is obtained by condensation polymerization in an organic solvent in the presence of a catalyst and a dehydrating agent.

【0017】本発明において、芳香族テトラカルボン酸
二無水物として、ピロメリット酸二無水物を単独で用い
るのが好ましいが、40モル%以下であれば他の芳香族
テトラカルボン酸二無水物を併用することができる。ピ
ロメリット酸二無水物と併用できる芳香族テトラカルボ
ン酸二無水物としては、2,3,6,7 −ナフタレンテトラカ
ルボン酸二無水物、3,3',4,4' −ジフェニルテトラカル
ボン酸二無水物、2,2'−ビス(3,4 −ジカルボキシフェ
ニル)プロパン二無水物、ビス(3,4 −ジカルボキシフ
ェニル)スルホン二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラ
カルボン酸二無水物、ビス(3,4 −カルボキシフェニ
ル)エーテル二無水物、ナフタレン−1,2,4,5 −テトラ
カルボン酸二無水物、ナフタレン-1,4,5,8−テトラカル
ボン酸二無水物、デカヒドロ−ナフタレン-1,4,5,8−テ
トラカルボン酸二無水物、4,8-ジメチル-1,2,3,5,7−ヘ
キサヒドロナフタレン−1,2,5,6 −テトラカルボン酸二
無水物、 2,6- ジクロロナフタレン−1,4,5,8 −テトラ
カルボン酸二無水物、2,7-ジクロロナフタレン−1,4,5,
8 −テトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7 −テトラクロ
ロナフタレン−1,4,5,8 −テトラカルボン酸二無水物、
フェナントレン−1,8,9,10−テトラカルボン酸二無水
物、2,2 −ビス(2,3−ジカルボキシフェニル) エタン二
無水物、1,1 −ビス(3,4−ジカルボキシフェニル) エタ
ン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル) メタン
二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル) メタン二
無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル) スルホン二
無水物、ベンゼン−1,2,3,4 −テトラカルボン酸二無水
物、3,4,3',4' −ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物など、またはこれらの2種以上の混合物が挙げられ
る。
In the present invention, it is preferable to use pyromellitic dianhydride alone as the aromatic tetracarboxylic dianhydride, but if it is 40 mol% or less, another aromatic tetracarboxylic dianhydride may be used. Can be used together. Aromatic tetracarboxylic dianhydrides that can be used in combination with pyromellitic dianhydride include 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride and 3,3 ′, 4,4′-diphenyltetracarboxylic acid Dianhydride, 2,2'-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic Acid dianhydride, bis (3,4-carboxyphenyl) ether dianhydride, naphthalene-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride Anhydride, decahydro-naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 4,8-dimethyl-1,2,3,5,7-hexahydronaphthalene-1,2,5,6- Tetracarboxylic dianhydride, 2,6-dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 2,7-dichloronaphthalene-1,4,5,
8-tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-tetrachloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride,
Phenanthrene-1,8,9,10-tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) Ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, Benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, 3,4,3 ′, 4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, or a mixture of two or more of these.

【0018】また、芳香族ジアミンとしては、4,4’
−ジアミノジフェニルエーテルを単独で用いるのが好ま
しいが、40モル%以下であれば他の芳香族ジアミンを
併用することができる。4,4’−ジアミノジフェニル
エーテルと併用できる芳香族ジアミンとしては、メタフ
ェニレンジアミン、パラフェニレンジアミン、4,4'−ジ
アミノジフェニルプロパン、4,4'−ジアミノジフェニル
メタン、ベンチジン、4,4'−ジアミノジフェニルサルフ
ァイド、4,4'−ジアミノジフェニルスルホン、3,3'−ジ
アミノジフェニルスルホン、2,6 −ジアミノピリジン、
ビス−(4−アミノフェニル) ジエチルシラン、ビス−(4
−アミノフェニル) ジフェニルシラン、3,3'−ジクロロ
ベンチジン、ビス−(4−アミノフェニル) エチルホスフ
ィンオキサイド、ビス−(4−アミノフェニル) フェニル
ホスフィンオキサイド、ビス−(4−アミノフェニル) −
N−フェニルアミン、ビス−(4−アミノフェニル) −N
−メチルアミン、1,5 −ジアミノナフタレン、3,3'−ジ
メチル−4,4'−ジアミノビフェニル、3,4'−ジメチル−
3',4−ジアミノビフェニル、3,3'−ジメトキシベンチジ
ン、2,4 −ビス(ベータ−アミノ−t−ブチル)トルエ
ン、ビス(パラ−ベータ−アミノ−t−ブチル−フェニ
ル)エーテル、パラ−ビス−(2 −メチル−4−アミノ
−ベンチル)ベンゼン、パラ−ビス−(1,1 −ジメチル
−5−アミノ−ベンチル)ベンゼン、m−キシリレンジ
アミン、p−キシリレンジアミン、1,3 −ジアミノアダ
マンタン、3,3'−ジアミノ−1,1'−ジアダマンタン、3,
3'−ジアミノ−1,1'−ジアダマンタン、ビス(パラ−ア
ミノ−シクロヘキシル)メタン、ヘキサメチレンジアミ
ン、ペプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミ
ン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、3
−メチルヘプタメチレンジアミン、4,4 −ジメチルヘプ
タメチレンジアミン、2,11−ジアミノ−ドデカン、1,2
−ビス−(3 −アミノ−プロポキシ)エタン、2,2 −ジ
メチルプロピレンジアミン、3 −メトキシ−ヘキサメチ
レンジアミン、2,5 −ジメチルヘキサメチレンジアミ
ン、5 −メチルノナメチレンジアミン、5 −メチルノナ
メチレンジアミン、1,4 −ジアミノ−シクロヘキサン、
1,12−ジアミノ−オクタデカン、2,5 −ジアミノ−1,3,
4 −オキサジアゾール、2,2 −ビス(4 −アミノフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、N−(3 −アミノフェニ
ル)−4 −アミノベンズアミド、4 −アミノフェニル−
3 −アミノベンゾエート等が挙げられる。
As the aromatic diamine, 4,4 ′
It is preferable to use -diaminodiphenyl ether alone, but other aromatic diamines can be used in combination as long as the content is 40 mol% or less. Aromatic diamines that can be used in combination with 4,4′-diaminodiphenyl ether include metaphenylenediamine, paraphenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenylmethane, benzidine, 4,4′-diaminodiphenyl Sulfide, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 2,6-diaminopyridine,
Bis- (4-aminophenyl) diethylsilane, bis- (4
-Aminophenyl) diphenylsilane, 3,3'-dichlorobenzidine, bis- (4-aminophenyl) ethylphosphine oxide, bis- (4-aminophenyl) phenylphosphine oxide, bis- (4-aminophenyl)-
N-phenylamine, bis- (4-aminophenyl) -N
-Methylamine, 1,5-diaminonaphthalene, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,4'-dimethyl-
3 ', 4-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,4-bis (beta-amino-t-butyl) toluene, bis (para-beta-amino-t-butyl-phenyl) ether, para -Bis- (2-methyl-4-amino-bentyl) benzene, para-bis- (1,1-dimethyl-5-amino-bentyl) benzene, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,3 -Diaminoadamantane, 3,3'-diamino-1,1'-diadamantane, 3,
3'-diamino-1,1'-diadamantane, bis (para-amino-cyclohexyl) methane, hexamethylenediamine, peptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, decamethylenediamine, 3
-Methylheptamethylenediamine, 4,4-dimethylheptamethylenediamine, 2,11-diamino-dodecane, 1,2
-Bis- (3-amino-propoxy) ethane, 2,2-dimethylpropylenediamine, 3-methoxy-hexamethylenediamine, 2,5-dimethylhexamethylenediamine, 5-methylnonamethylenediamine, 5-methylnonamethylenediamine , 1,4-diamino-cyclohexane,
1,12-diamino-octadecane, 2,5-diamino-1,3,
4-oxadiazole, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, N- (3-aminophenyl) -4-aminobenzamide, 4-aminophenyl-
3-aminobenzoate and the like.

【0019】次に、本発明でポリイミドの縮重合に用い
られる有機溶剤としては、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチル
ホルムアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N−ジ
メチルメトキシアセトアミド、N−メチル−カプロラク
タム、ジメチルスルホキシド、N−メチル−2−ピロリ
ドン、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホ
ン、ヘキサメチルホスホルアミド、テトラメチレンスル
ホン、ホルムアミド、N−メチルホルムアミド及びプチ
ロラクトンである。これらの有機溶媒は単独または溶媒
の組み合わせで、或いはベンゼン、ベンゾニトリル、ジ
オキサン、プチロラクトン、キシレン、トルエン及びシ
クロヘキサンの如き溶媒性の劣る溶媒との組み合わせい
おいて用いることができる。
The organic solvent used for the condensation polymerization of the polyimide in the present invention includes N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylformamide, N, N-diethylacetamide, -With dimethylmethoxyacetamide, N-methyl-caprolactam, dimethylsulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, tetramethylurea, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylphosphoramide, tetramethylenesulfone, formamide, N-methylformamide and butyrolactone is there. These organic solvents can be used alone or in combination of solvents, or in combination with a solvent having poor solvent properties such as benzene, benzonitrile, dioxane, butyrolactone, xylene, toluene and cyclohexane.

【0020】触媒としては、第三級アミン類の使用が望
ましく、これらのアミン類の具体例としては、トリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、
ピリジン、イソキノリン、2 −エチルピリジン、2 −メ
チルピリジン、N−エチルモルフォリン、N−メチルモ
ルフォリン、ジエチルシクロヘキシルアミン、N−ジメ
チルシクロヘキシルアミン、4 −ベンゾイルピリジン、
2,4 −ルチジン、2,6−ルチジン、2,4,6 −コリジン、
3,4 −ルチジン、3,5 −ルチジン、4 −メチルピリジ
ン、3 −メチルピリジン、4 −イソプロピルピリジン、
N−ジメチルベンジルアミン、4 −ベンジルピリジン、
及びN−ジメチルドデシルアミンなどが挙げられる。
As the catalyst, tertiary amines are preferably used. Specific examples of these amines include trimethylamine, triethylamine, triethylenediamine, and the like.
Pyridine, isoquinoline, 2-ethylpyridine, 2-methylpyridine, N-ethylmorpholine, N-methylmorpholine, diethylcyclohexylamine, N-dimethylcyclohexylamine, 4-benzoylpyridine,
2,4-lutidine, 2,6-lutidine, 2,4,6-collidine,
3,4-lutidine, 3,5-lutidine, 4-methylpyridine, 3-methylpyridine, 4-isopropylpyridine,
N-dimethylbenzylamine, 4-benzylpyridine,
And N-dimethyldodecylamine.

【0021】さらに脱水剤としては有機カルボン酸無水
物、N,N −ジアルキルカルボジイミド類、低級脂肪酸ハ
ロゲン化物、ハロゲン化低級脂肪酸ハロゲン化物、ハロ
ゲン化低級脂肪酸無水物、アリールホスホン酸ジハロゲ
ン化物及びチオニルハロゲン化物が挙げられる。
Examples of the dehydrating agent include organic carboxylic acid anhydrides, N, N-dialkylcarbodiimides, lower fatty acid halides, halogenated lower fatty acid halides, halogenated lower fatty acid anhydrides, arylphosphonic dihalides and thionyl halides. Is mentioned.

【0022】ここで、有機カルボン酸無水物としては無
水酢酸、プロピオン酸無水物、酪酸無水物、吉草酸無水
物、これらが互いに混合された無水物及び芳香族モノカ
ルボン酸たとえば安息香酸、ナフトエ酸等の無水物との
混合物、及び炭酸及びギ酸並びに脂肪酸ケテン類(ケテ
ン及びジメチルケテン)の無水物との混合物などが挙げ
られるが、なかでも無水酢酸およびケテン類の使用が好
ましい。
Here, the organic carboxylic acid anhydrides include acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride, valeric anhydride, anhydrides thereof mixed with each other, and aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid and naphthoic acid. And mixtures thereof with anhydrides of carbonic acid and formic acid and fatty acid ketene (ketene and dimethylketene). Among them, the use of acetic anhydride and ketene is preferable.

【0023】安息香酸無水物のほか、他の使用し得る芳
香族酸無水物には、o−,m−及びp−トルイル酸、m
−及びp−エチル安息香酸、p−プロピル安息香酸、p
−イソプロピル安息香酸、アニス酸、o−、m−及びp
−ニトロ安息香酸、o−、m−及びp−ハロ安息香酸、
種々のジブロモ及びジクロロ安息香酸、トリブロモ及び
トリクロロ安息香酸、ジメチル安息香酸の異性体たとえ
ばヘメリチル酸、3,4−キシリル酸、イソキシリル酸及
びメシチレン酸、ベラトルム酸、トリメトキシ安息香
酸、アルファ及びベータナフトエ酸、及びビフェニルカ
ルボン酸などの酸無水物、及び上記無水物相互の混合無
水物及び脂肪酸モノカルボン酸たとえば酢酸、プロピオ
ン酸等の無水物との混合物無水物、及び炭酸及びギ酸各
無水物との混合無水物が挙げられる。
In addition to benzoic anhydride, other aromatic anhydrides which can be used include o-, m- and p-toluic acid, m-
-And p-ethylbenzoic acid, p-propylbenzoic acid, p
-Isopropylbenzoic acid, anisic acid, o-, m- and p
-Nitrobenzoic acid, o-, m- and p-halobenzoic acid,
Various dibromo and dichlorobenzoic acids, tribromo and trichlorobenzoic acids, isomers of dimethyl benzoic acid such as hemelicylic acid, 3,4-xylylic acid, isoxylylic acid and mesitylene acid, veratric acid, trimethoxybenzoic acid, alpha and beta naphthoic acid, Mixed anhydrides of the above anhydrides and mixed anhydrides of fatty acids and monocarboxylic acids such as acetic acid and propionic acid; and mixed anhydrides of carbonic acid and formic acid. Things.

【0024】N,N’−ジアルキルカルボジイミド類は 式: R−N=C=N−R (式中Rは異なったアルキル基であり得るが、一般に同
一である)により表され、好ましくは、R基は1乃至8
個の炭素原子の低級アルキル基である。
The N, N'-dialkylcarbodiimides are represented by the formula: RN = C = NR, where R can be different alkyl groups, but are generally the same, preferably Groups are 1 to 8
Is a lower alkyl group of carbon atoms.

【0025】ハロゲンを含む脱水剤には、塩化アセチ
ル、臭化アセチル、沃化アセチル及び弗化アセチル、塩
化プロピオニル、集荷プロピオニル、沃化プロピオニ
ル、及び弗化プロピオニル、塩化イソブチリル、臭化イ
ソブチリル、塩化n−ブチリル、臭化n−ブチリル、塩
化バレリル、塩化モノー、塩化ジー及び塩化トリ−クロ
ロアセチル、臭化ブロモアセチル、クロロ酢酸無水物、
フェニルホスホン酸ジクロライド、塩化チオニル、臭化
チオニル、弗化チオニル及びチオニルクロロフルオライ
ド、及びトリフルオロ酢酸無水物が挙げられる。
Halogen-containing dehydrating agents include acetyl chloride, acetyl bromide, acetyl iodide and acetyl fluoride, propionyl chloride, collected propionyl, propionyl iodide, and propionyl fluoride, isobutyryl chloride, isobutyryl bromide, n-chloride -Butyryl, n-butyryl bromide, valeryl chloride, mono-chloride, di- and tri-chloroacetyl chloride, bromoacetyl bromide, chloroacetic anhydride,
Examples include phenylphosphonic dichloride, thionyl chloride, thionyl bromide, thionyl fluoride and thionyl chlorofluoride, and trifluoroacetic anhydride.

【0026】得られるポリアミド酸溶液は流延またはフ
イルム状に押出され、乾燥、熱処理を行うことにより、
イミド化が進み前記(I)式構造を有するポリイミドフ
イルムが得られる。
The resulting polyamic acid solution is extruded in a cast or film form, and dried and heat-treated.
The imidization proceeds and a polyimide film having the structure of the above formula (I) is obtained.

【0027】この乾燥・熱処理は、流延またはフィルム
状に押し出されたポリアミド酸溶液を200〜 550
℃、好ましくは250〜500℃の高温雰囲気に維持し
た乾燥熱処理ゾーンを通過することにより達成すること
ができる。
The drying and heat treatment is performed by subjecting the polyamic acid solution cast or extruded to a film shape to 200 to 550.
It can be achieved by passing through a dry heat treatment zone maintained in a high temperature atmosphere at 250C, preferably 250 to 500C.

【0028】本発明においてフイルム厚みが5〜150
μm、好ましくは7〜125μmになるように調整する
ことが必要である。
In the present invention, the film thickness is 5 to 150.
It is necessary to adjust the thickness to be μm, preferably 7 to 125 μm.

【0029】得られたポリイミドフイルムを本発明にお
いてはフイルムの長さ方向に1〜10kg/mの張力を
かけながら連続的に熱風で加熱処理を施した後、冷却処
理を行う。
In the present invention, the obtained polyimide film is continuously subjected to a heat treatment with hot air while applying a tension of 1 to 10 kg / m in a longitudinal direction of the film, and then subjected to a cooling treatment.

【0030】長さ方向の張力が1kg/m未満であると
フィルムにシワが生じ、連続巻き取り時に蛇行するので
製品化が困難であり、また10kg/mを越えると本発
明の低収縮性のフィルムが得られなくなる。そして好ま
しい張力の範囲は2kg/m〜7kg/mである。
If the tension in the longitudinal direction is less than 1 kg / m, the film will be wrinkled and meandered during continuous winding, making it difficult to commercialize the film. The film cannot be obtained. The preferred range of the tension is 2 kg / m to 7 kg / m.

【0031】熱処理の加熱源は熱風であり、これをフィ
ルム表面に吹きつけることにより、フィルムに低収縮性
を付与する。
The heat source for the heat treatment is hot air, which is blown onto the film surface to impart low shrinkage to the film.

【0032】また熱風に加えてラジエーションヒーター
を併用することも可能である。
It is also possible to use a radiation heater in addition to the hot air.

【0033】加熱処理温度は300〜500℃が好まし
く、更に好ましくは350〜450℃である。また、処
理時間は1秒から10分程度が好ましい。処理時間がこ
れよりも長くなると、フィルムの平面性が悪くなるなど
の特性の低下を生じるため好ましくない。
The heat treatment temperature is preferably from 300 to 500 ° C, more preferably from 350 to 450 ° C. Further, the processing time is preferably about 1 second to 10 minutes. If the treatment time is longer than this, it is not preferable because the properties such as the flatness of the film are deteriorated.

【0034】[0034]

【実施例】実施例1 ピロメリット酸二無水物と4,4'−ジアミノジフェニルエ
ーテルを等モルずつN,N−ジメチルホルムアミド中に
入れ攪拌しながら反応を進めることにより、ポリアミド
酸溶液を得た。
Example 1 An equimolar amount of pyromellitic dianhydride and 4,4'-diaminodiphenyl ether were placed in N, N-dimethylformamide and the reaction was allowed to proceed with stirring to obtain a polyamic acid solution.

【0035】このポリアミド酸溶液に無水酢酸、イソキ
ノリンを加え攪拌した後、加熱支持体上に溶液を押出
し、ポリイミドに転化させて自己支持性のフイルムとし
た後、支持体から剥離し、さらにイミドへの転化反応を
完結すると共に溶媒を乾燥し、厚み25μmのポリイミ
ドフイルムとしてロール状に巻き取った。このポリイミ
ドフイルムを、トンネル型熱風炉に連続的に送り込み、
室温に冷却しながら巻き取った。熱処理中のフィルム張
力は送りローラと巻き取りローラの回転速度差で調節
し、熱処理時間は各ローラの相対的回転速度で調節し
た。
After adding acetic anhydride and isoquinoline to the polyamic acid solution and stirring, the solution is extruded on a heated support, converted into a polyimide to form a self-supporting film, peeled from the support, and further removed to an imide. Was completed, the solvent was dried, and the resultant was rolled up into a roll of a polyimide film having a thickness of 25 μm. This polyimide film is continuously fed into a tunnel type hot blast stove,
It was wound up while cooling to room temperature. The film tension during the heat treatment was adjusted by the difference in rotation speed between the feed roller and the take-up roller, and the heat treatment time was adjusted by the relative rotation speed of each roller.

【0036】熱処理、冷却後のフィルムの収縮性は、試
料を350℃で30分処理して、処理前の長さと比べ、
長さ方向(MD)、幅方向(TD)の収縮率として算出
した。測定方法はJPCA−BM01−1988に準じ
た。
The shrinkage of the film after heat treatment and cooling was determined by treating the sample at 350 ° C. for 30 minutes,
It was calculated as a shrinkage ratio in the length direction (MD) and the width direction (TD). The measuring method conformed to JPCA-BM01-1988.

【0037】得られた結果を表1に示す。Table 1 shows the obtained results.

【0038】[0038]

【表1】 なお、比較として、0kg/m、0.5kg/mの実験
を行ったが、いずれも熱収縮率はすぐれていたが、フィ
ルムが波を打って、連続的に巻き取ることが困難であっ
た。
[Table 1] As a comparison, experiments at 0 kg / m and 0.5 kg / m were performed, and although the heat shrinkage rate was excellent in each case, the film was wavy and it was difficult to continuously wind the film. .

【0039】実施例2 ピロメリット酸二無水物と、ジアミン成分として4,4'−
ジアミノジフェニルエーテル(70モル%)およびp−
フェニレンジアミン(30モル%)とを等モルずつN,
N−ジメチルホルムアミド中に入れ攪拌しながら反応を
進めることにより、ポリアミド酸溶液を得た。
Example 2 Pyromellitic dianhydride and 4,4'- as diamine component
Diaminodiphenyl ether (70 mol%) and p-
Phenylenediamine (30 mol%) and N,
The polyamic acid solution was obtained by allowing the reaction to proceed while stirring in N-dimethylformamide.

【0040】このポリアミド酸溶液に無水酢酸、イソキ
ノリンを加え攪拌した後、加熱支持体上に溶液を押出
し、ポリイミドに転化させて自己支持性のフイルムとし
た後、支持体から剥離し、さらにイミドへの転化反応を
完結すると共に250〜450℃の乾燥熱処理ゾーンを
通過させることにより乾燥・熱処理し、厚み25μmの
ポリイミドフイルムとしてロール状に巻き取った。この
ポリイミドフイルムを、トンネル型熱風炉に連続的に送
り込み、室温に冷却しながら巻き取った。熱処理中のフ
ィルム張力は送りローラと巻き取りローラの回転速度差
で調節し、熱処理時間は各ローラの相対的回転速度で調
節した。
Acetic anhydride and isoquinoline were added to the polyamic acid solution, and the mixture was stirred. The solution was extruded on a heated support, converted into a polyimide to form a self-supporting film, peeled from the support, and further separated into an imide. Was completed, and dried and heat-treated by passing through a drying heat treatment zone at 250 to 450 ° C., and wound into a roll as a 25 μm-thick polyimide film. This polyimide film was continuously fed into a tunnel type hot blast stove and wound up while cooling to room temperature. The film tension during the heat treatment was adjusted by the difference in rotation speed between the feed roller and the take-up roller, and the heat treatment time was adjusted by the relative rotation speed of each roller.

【0041】熱処理、冷却後のフィルムの収縮性は、試
料を350℃で30分処理して、処理前の長さと比べ、
長さ方向(MD)、幅方向(TD)の収縮率として算出
した。測定方法はJPCA−BM01−1988に準じ
た。
The shrinkability of the film after heat treatment and cooling was determined by treating the sample at 350 ° C. for 30 minutes,
It was calculated as a shrinkage ratio in the length direction (MD) and the width direction (TD). The measuring method conformed to JPCA-BM01-1988.

【0042】得られた結果を表2に示す。Table 2 shows the obtained results.

【0043】[0043]

【表2】 なお、比較として、張力0kg/m、0.5kg/mの
実験を行ったが、いずれも熱収縮率はすぐれていたが、
フィルムが波を打って、連続的に巻き取ることが困難で
あった。
[Table 2] In addition, for comparison, experiments were performed with tensions of 0 kg / m and 0.5 kg / m.
The film was wavy and difficult to wind continuously.

【0044】[0044]

【発明の効果】本発明の製造方法によれば、低収縮性ポ
リイミドフイルムは、長さ方向の張力を1〜10kg/mの
張力をかけ、連続的に熱風で処理するものであり、無張
力下で熱処理するものに比べフィルム形状が良く、連続
処理が可能である。
According to the production method of the present invention, the low-shrinkage polyimide film is prepared by applying a tension of 1 to 10 kg / m in the longitudinal direction and continuously treating it with hot air. The film shape is better than that of heat treatment below, and continuous processing is possible.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // B29K 79:00 105:02 C08L 79:08 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification FI FI Theme Court II (Reference) // B29K 79:00 105: 02 C08L 79:08

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ピロメリット酸二無水物と4,4’−ジ
アミノジフェニルエーテルを、有機溶媒中で重合して得
たポリアミド酸溶液を流延またはフィルム状に押出し、
乾燥、熱処理して得たポリイミドフィルムを、フィルム
の長さ方向に1〜10kg/mの張力をかけながら連続
的に熱風で加熱処理を施した後、冷却処理を施してなる
低収縮性ポリイミドフィルムの製造方法。
A polyamic acid solution obtained by polymerizing pyromellitic dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether in an organic solvent is cast or extruded into a film,
A low-shrinkage polyimide film obtained by subjecting a polyimide film obtained by drying and heat treatment to heat treatment with hot air continuously while applying a tension of 1 to 10 kg / m in the length direction of the film, and then to cooling treatment. Manufacturing method.
【請求項2】 ピロメリット酸二無水物と4,4’−ジ
アミノジフェニルエーテルを、有機溶媒中で重合して得
たポリアミド酸溶液に触媒および脱水剤を添加し、これ
を流延またはフィルム状に押出し、乾燥、熱処理して得
たポリイミドフィルムを、フィルムの長さ方向に1〜1
0kg/mの張力をかけながら連続的に熱風で加熱処理
を施した後、冷却処理を施してなる低収縮性ポリイミド
フィルムの製造方法。
2. A catalyst and a dehydrating agent are added to a polyamic acid solution obtained by polymerizing pyromellitic dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether in an organic solvent, and the resultant is cast or formed into a film. Extrusion, drying, heat treatment polyimide film obtained in the length direction of the film 1 to 1
A method for producing a low-shrinkage polyimide film, which is subjected to heat treatment with hot air continuously while applying a tension of 0 kg / m, and then to cooling treatment.
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