JP2000072838A - Naphthol resin, epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof - Google Patents

Naphthol resin, epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof

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JP2000072838A
JP2000072838A JP24660298A JP24660298A JP2000072838A JP 2000072838 A JP2000072838 A JP 2000072838A JP 24660298 A JP24660298 A JP 24660298A JP 24660298 A JP24660298 A JP 24660298A JP 2000072838 A JP2000072838 A JP 2000072838A
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epoxy resin
naphthol
resin
reaction
resin composition
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Japanese (ja)
Inventor
Katsuhiko Oshimi
克彦 押見
Yoshitaka Kajiwara
義孝 梶原
Koji Nakayama
幸治 中山
Yasumasa Akatsuka
泰昌 赤塚
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Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the subject resin useful as an insulating material for electric and electronic parts, a composite material for laminated sheets or the like, an adhesive, a coating material or the like, capable of manifesting excellent heat and moisture resistances by reacting a monomethylol derivative of a β-naph thol with phenylphenols in the presence of an acidic catalyst. SOLUTION: (A) One mol of a monomethylol derivative of a β-naphthol represented by formula I (R1 is H, a halogen or the like) (e.g. 1-methylol-2- naphthol) is reacted and condensed with (B) preferably 0.5-1.0 mol of phenylphenols represented by formula II [R2 and R3 are each H, a halogen or the like; (k) is 1 or 2; (m) is 1-5] (e.g. 2-phenylphenol) in the presence of an acidic catalyst (e.g. p-toluenesulfonic acid) preferably at 30-130 deg.C for 1-20 h to afford the objective resin. The resultant resin preferably contains a compound represented by formula III [(n) is 0-8]. The acidic catalyst used is used in an amount of preferably 0.1-20 pts.wt. based on 100 pts.wt. of the component A.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は高信頼性半導体封止
用を始めとする電気・電子部品絶縁材料用、及び積層板
(プリント配線板)やCFRP(炭素繊維強化プラスチ
ック)を始めとする各種複合材料用、接着剤、塗料等に
有用なナフトール樹脂、エポキシ樹脂、これを含むエポ
キシ樹脂組成物及びその硬化物に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an insulating material for electric and electronic parts such as a high-reliability semiconductor encapsulation, and various kinds of materials such as a laminate (printed wiring board) and CFRP (carbon fiber reinforced plastic). The present invention relates to a naphthol resin and an epoxy resin useful for a composite material, an adhesive, a paint, and the like, an epoxy resin composition containing the same, and a cured product thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】エポキシ樹脂は作業性及びその硬化物の
優れた電気特性、耐熱性、接着性、耐湿性(耐水性)等
により電気・電子部品、構造用材料、接着剤、塗料等の
分野で幅広く用いられている。
2. Description of the Related Art Epoxy resins are used in the fields of electric and electronic parts, structural materials, adhesives, paints, etc. due to workability and excellent electrical properties, heat resistance, adhesiveness, moisture resistance (water resistance), etc. of the cured product. Widely used in

【0003】しかし、近年特に電気・電子分野において
はその発展に伴い、高純度化を始め耐熱性、耐湿性、密
着性、フィラー高充填のための低粘度性、低誘電性等の
諸特性の一層の向上が求められている。また、構造材と
しては航空宇宙材料、レジャー・スポーツ器具用途等に
おいて軽量で機械特性の優れた材料が求められている。
これらの要求に対しフェノール樹脂(エポキシ樹脂硬化
剤)、エポキシ樹脂、及びそれらを含有するエポキシ樹
脂組成物について多くの提案がなされているが、未だ充
分とはいえない。
However, in recent years, particularly in the electric and electronic fields, with the development thereof, various properties such as high purity, heat resistance, moisture resistance, adhesion, low viscosity for high filling of filler, and low dielectric property have been developed. Further improvement is required. As structural materials, lightweight and excellent in mechanical properties are required for aerospace materials, leisure and sports equipment applications, and the like.
Many proposals have been made on phenolic resins (epoxy resin curing agents), epoxy resins, and epoxy resin compositions containing them to meet these requirements, but they have not been satisfactory yet.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、その硬化物
において優れた耐熱性、耐湿性(耐水性)を示す電気・
電子部品用絶縁材料(高信頼性半導体封止材料など)及
び積層板(プリント配線板など)やCFRPを始めとす
る各種複合材料用、接着剤、塗料等に有用なナフトール
樹脂、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化
物を提供することを目的とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention relates to an electric / electrical product which exhibits excellent heat resistance and moisture resistance (water resistance) in the cured product.
Naphthol resin, epoxy resin, epoxy useful for insulating materials for electronic components (high-reliability semiconductor encapsulation materials, etc.), laminated boards (printed wiring boards, etc.), composite materials including CFRP, adhesives, paints, etc. An object is to provide a resin composition and a cured product thereof.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは前記のよう
な特性を持つナフトール樹脂及びエポキシ樹脂について
鋭意研究の結果、本発明を完成した。即ち、本発明は、
(1)β−ナフトール類モノメチロール体とフェニルフ
ェノール類とを酸触媒の存在下反応させることにより得
られるナフトール樹脂、(2)一般式(1)で表される
化合物を含有する上記(1)記載のナフトール樹脂、
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies on naphthol resins and epoxy resins having the above-mentioned characteristics, and have completed the present invention. That is, the present invention
(1) a naphthol resin obtained by reacting a β-naphthol monomethylol compound with a phenylphenol in the presence of an acid catalyst; (2) the above-mentioned (1) containing a compound represented by the general formula (1) Naphthol resin described,

【0006】[0006]

【化2】 Embedded image

【0007】(式(1)中、R、R及びRはそれ
ぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキ
ル基またはアリル基を表す。kは1または2の整数を、
mは1〜5の整数を、nは0〜8の整数をそれぞれ示
す。)(3)上記(1)または(2)記載のナフトール
樹脂のフェノール性水酸基をグリシジルエーテル化して
なるエポキシ樹脂(a)、(4)エポキシ樹脂(b)、
上記(1)または(2)記載のナフトール樹脂(c)を
含有してなるエポキシ樹脂組成物、(5)上記(3)記
載のエポキシ樹脂(a)、硬化剤(d)を含有してなる
エポキシ樹脂組成物、(6)上記(3)記載のエポキシ
樹脂(a)、上記(1)または(2)記載のナフトール
樹脂(c)を含有してなるエポキシ樹脂組成物、(7)
硬化促進剤を含有する上記(4)〜(6)のいずれか1
項に記載のエポキシ樹脂組成物、(8)上記(4)〜
(7)のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物を硬
化してなる硬化物、(9)β−ナフトール類モノメチロ
ール体とフェニルフェノール類とを酸触媒の存在下反応
させた後、反応系に必要により酸触媒を添加し次いで反
応系の温度を30〜130℃に昇温し更に後反応を行う
ことを特徴とするナフトール樹脂の製造法に関する。
(In the formula (1), R 1 , R 2 and R 3 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an allyl group. K is an integer of 1 or 2;
m represents an integer of 1 to 5, and n represents an integer of 0 to 8, respectively. (3) an epoxy resin (a) obtained by glycidyl etherifying a phenolic hydroxyl group of the naphthol resin according to the above (1) or (2), (4) an epoxy resin (b),
An epoxy resin composition containing the naphthol resin (c) described in (1) or (2) above, and (5) an epoxy resin (a) described above in (3) above, containing a curing agent (d). An epoxy resin composition, (6) an epoxy resin composition containing the epoxy resin (a) described in (3) above, or the naphthol resin (c) described in (1) or (2) above, (7)
Any one of the above (4) to (6) containing a curing accelerator
(8) The epoxy resin composition according to (8) above,
(7) a cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of (7), (9) reacting a β-naphthol monomethylol compound with a phenylphenol in the presence of an acid catalyst, The present invention relates to a method for producing a naphthol resin, which comprises adding an acid catalyst to the system as required, then raising the temperature of the reaction system to 30 to 130 ° C., and further performing a post-reaction.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明のナフトール樹脂は、β−
ナフトール類をホルムアルデヒド発生源物質と反応させ
得られた生成物をフェニルフェノール類と酸触媒の存在
下反応させ得ることができる。上記においてβ−ナフト
ール類としては、β−ナフトール、アルキル(メチル、
エチル、プロピル、ブチル等の炭素数1〜10のアルキ
ル基)置換β−ナフトール、ハロゲン(塩素、臭素、ヨ
ウ素等)置換β−ナフトール、アリル置換β−ナフトー
ル等が挙げられ、β−ナフトールが好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The naphthol resin of the present invention has β-
A product obtained by reacting naphthols with a formaldehyde generating source material can be reacted with phenylphenols in the presence of an acid catalyst. In the above, β-naphthols include β-naphthol, alkyl (methyl,
An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as ethyl, propyl and butyl) -substituted β-naphthol, halogen (chlorine, bromine, iodine and the like) -substituted β-naphthol, allyl-substituted β-naphthol and the like, preferably β-naphthol. .

【0009】ホルムアルデヒド発生源物質としては、塩
基性条件下にホルムアルデヒドを発生する物質であり、
パラホルムアルデヒド、トリオキサン、テトラオキサン
等が挙げられる。β−ナフトール類とホルムアルデヒド
発生源物質の反応は、β−ナフトール類1モルに対し
て、通常ホルムアルデヒド発生源物質0.9〜1.3モ
ル(ホルムアルデヒドとして)を塩基性条件下、5〜4
0℃で、5分〜5時間行う。反応は通常塩基性触媒の存
在下に行う。用いうる塩基性触媒の具体例としては、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム等が挙げられ、水酸化ナトリウムが好まし
い。塩基性触媒の使用量はβ−ナフトール類1モルに対
して通常0.02〜1.5当量である。反応は、トルエ
ン、キシレン、メチルイソブチルケトン等の溶剤中で行
うこともでき、この場合の溶剤の使用量は仕込んだ原料
の総重量に対して通常30〜300重量%である。反応
終了後、塩酸、硫酸等の酸性物質を中和剤として用い、
例えば中和剤を含む水溶液で分液抽出操作を反応混合物
の洗浄液のpHが4〜7、好ましくは5〜7になるまで
洗浄を繰り返し、更に必要により溶媒等を留去すること
により、目的とする生成物を得ることができる。
The formaldehyde generating substance is a substance that generates formaldehyde under basic conditions.
Examples include paraformaldehyde, trioxane, tetraoxane and the like. The reaction between the β-naphthols and the formaldehyde-generating substance is usually carried out by adding 0.9 to 1.3 mol (as formaldehyde) of the formaldehyde-generating substance under basic conditions to 5 to 4 mols per mol of the β-naphthols.
Perform at 0 ° C. for 5 minutes to 5 hours. The reaction is usually performed in the presence of a basic catalyst. Specific examples of the basic catalyst that can be used include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, and the like, with sodium hydroxide being preferred. The amount of the basic catalyst to be used is generally 0.02 to 1.5 equivalents per 1 mol of β-naphthols. The reaction can also be carried out in a solvent such as toluene, xylene or methyl isobutyl ketone. In this case, the amount of the solvent used is usually 30 to 300% by weight based on the total weight of the charged raw materials. After the completion of the reaction, using an acidic substance such as hydrochloric acid or sulfuric acid as a neutralizing agent,
For example, the separation and extraction operation with an aqueous solution containing a neutralizing agent is repeated until the pH of the washing solution of the reaction mixture becomes 4 to 7, preferably 5 to 7, and the solvent and the like are distilled off as necessary. Product can be obtained.

【0010】こうして得られたβ−ナフトール類とホル
ムアルデヒド発生源物質との反応生成物(以下ナフトー
ルメチロール体という)のうち下記式(2)
The reaction product (hereinafter referred to as naphthol methylol) of the thus obtained β-naphthols with a formaldehyde generating substance has the following formula (2)

【0011】[0011]

【化3】 Embedded image

【0012】(式(2)中、Rは式(1)におけるの
と同じ意味を表す。)で表されるβ−ナフトール類モノ
メチロール体、好ましくは、1−メチロール−2−ナフ
トールと下記式(3)
(In the formula (2), R 1 has the same meaning as in the formula (1).) Β-naphthols monomethylol, preferably 1-methylol-2-naphthol, Equation (3)

【0013】[0013]

【化4】 Embedded image

【0014】(式(3)中、R、R、k及びmは式
(1)におけるのと同じ意味を表す。)で表されるフェ
ニルフェノール類を酸性触媒の存在下において縮合し、
本発明のナフトール樹脂を得ることができる。反応温度
は通常5〜180℃、好ましくは30〜130℃であ
る。反応時間は通常0.5〜30時間、好ましくは1〜
20時間である。尚、反応中生成する水を分留管等を用
いて反応系外に除去することは、反応を速やかに行う上
で好ましい。
(Wherein R 2 , R 3 , k and m have the same meanings as in formula (1)) in the formula (3) in the presence of an acidic catalyst,
The naphthol resin of the present invention can be obtained. The reaction temperature is usually 5 to 180 ° C, preferably 30 to 130 ° C. The reaction time is usually 0.5 to 30 hours, preferably 1 to 30 hours.
20 hours. In addition, it is preferable to remove the water generated during the reaction to the outside of the reaction system using a fractionating tube or the like, in order to quickly perform the reaction.

【0015】用いうるフェニルフェノール類の具体例と
しては、2−フェニルフェノール、3−フェニルフェノ
ール、4−フェニルフェノール、アルキル(メチル、エ
チル、プロピル、ブチル等の炭素数1〜10のアルキル
基)置換フェニルフェノール、ハロゲン(塩素、臭素、
ヨウ素等)置換フェニルフェノール、アリル置換フェニ
ルフェノール等が挙げられ、2−フェニルフェノールま
たは4−フェニルフェノールが好ましい。これらフェニ
ルフェノール類は、単独でまたは2種以上を混合して使
用することが出来る。上記反応においてフェニルフェノ
ール類の使用量はナフトールメチロール体1モルに対し
て通常0.4〜1.1モル、好ましくは0.5〜1.0
モルである。
Specific examples of phenylphenols that can be used include 2-phenylphenol, 3-phenylphenol, 4-phenylphenol and alkyl (alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl and butyl). Phenylphenol, halogen (chlorine, bromine,
Iodine and the like) substituted phenylphenol, allyl-substituted phenylphenol and the like, and 2-phenylphenol or 4-phenylphenol is preferable. These phenylphenols can be used alone or in combination of two or more. In the above reaction, the amount of the phenylphenol used is usually 0.4 to 1.1 mol, preferably 0.5 to 1.0 mol per mol of the naphthol methylol compound.
Is a mole.

【0016】また、本発明の好ましい実施態様である式
(2)の化合物を使用した場合、上記反応中に副成する
β−ナフトール類の2量体(式(1)中におけるnが0
である化合物)がナフトール樹脂中に大量に存在する
と、硬化物の耐熱性が悪くなる等の問題が出てくる場合
があるので、縮合反応終了後、必要により酸触媒を更に
添加し、反応系の温度を30〜130℃に昇温し更に後
反応を行うのが好ましい。後反応において、β−ナフト
ール類の2量体の再配列(β−ナフトール類の2量体の
解離とフェニルフェノール類との反応)が起こると推定
される。
When the compound of the formula (2), which is a preferred embodiment of the present invention, is used, a dimer of β-naphthols by-produced during the reaction (where n in the formula (1) is 0)
If the compound is present in a large amount in the naphthol resin, problems such as deterioration of heat resistance of the cured product may occur. Therefore, after the condensation reaction is completed, an acid catalyst is further added if necessary. Is preferably raised to a temperature of 30 to 130 ° C. to further carry out a post-reaction. It is estimated that rearrangement of the dimer of β-naphthols (dissociation of the dimer of β-naphthols and reaction with phenylphenols) occurs in the post-reaction.

【0017】上記反応においては酸触媒を用いる。酸触
媒としては種々のものが使用できるが塩酸、硫酸、p−
トルエンスルホン酸、シュウ酸等の有機あるいは無機
酸、三弗化ホウ素、無水塩化アルミニウム、塩化亜鉛等
のルイス酸が好ましく、特にp−トルエンスルホン酸、
硫酸、塩酸が好ましい。これら酸触媒の使用量は特に限
定されるものではないが、ナフトールメチロール体10
0重量部に対して通常0.05〜50重量部、好ましく
は0.1〜20重量部である。
In the above reaction, an acid catalyst is used. Various acid catalysts can be used, but hydrochloric acid, sulfuric acid, p-
Toluenesulfonic acid, organic or inorganic acids such as oxalic acid, boron trifluoride, anhydrous aluminum chloride, Lewis acids such as zinc chloride are preferred, especially p-toluenesulfonic acid,
Sulfuric acid and hydrochloric acid are preferred. The use amount of these acid catalysts is not particularly limited, but the naphthol methylol derivative 10
It is usually 0.05 to 50 parts by weight, preferably 0.1 to 20 parts by weight, based on 0 parts by weight.

【0018】上記縮合反応は無溶剤下で、あるいは溶剤
の存在下で行うことができる。溶剤を使用する場合の具
体例としてはトルエン、キシレン、メチルイソブチルケ
トン、水などが挙げられ、これらは単独で用いてもよ
く、2種以上用いてもよい。溶剤の使用量は仕込んだ原
料の総重量に対して通常50〜300重量%、好ましく
は100〜250重量%である。
The above condensation reaction can be carried out without a solvent or in the presence of a solvent. Specific examples of the case where a solvent is used include toluene, xylene, methyl isobutyl ketone, and water, and these may be used alone or in combination of two or more. The amount of the solvent to be used is generally 50 to 300% by weight, preferably 100 to 250% by weight, based on the total weight of the charged raw materials.

【0019】反応終了後、反応生成物の水洗浄液のpH
が3〜7、好ましくは5〜7になるまで水洗処理を行
う。水洗処理を行う場合は水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムなどのアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウ
ム、水酸化マグネシウムなどのアルカリ土類金属水酸化
物、アンモニア、リン酸二水素ナトリウムさらにはジエ
チレントリアミン、トリエチレンテトラミン、アニリ
ン、フェニレンジアミンなどの有機アミンなど様々な塩
基性物質等を中和剤として用いて処理してもよい。また
水洗処理の場合は常法に従って行えばよい。例えば反応
混合物中に上記中和剤を溶解した水を加え分液抽出操作
を繰り返す。
After completion of the reaction, the pH of the water washing solution of the reaction product
Is preferably 3 to 7, preferably 5 to 7. When performing a water washing treatment, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide, ammonia, sodium dihydrogen phosphate, diethylene triamine, triethylene The treatment may be performed using various basic substances such as organic amines such as ethylenetetramine, aniline, and phenylenediamine as neutralizing agents. In the case of a water washing treatment, it may be carried out according to a conventional method. For example, water in which the neutralizing agent is dissolved is added to the reaction mixture, and the liquid separation extraction operation is repeated.

【0020】水洗(中和)処理を行った後、減圧加熱下
で未反応のナフトールメチロール体及び溶剤を留去し生
成物の濃縮を行い、本発明のナフトール樹脂を得ること
が出来る。こうしてられた本発明のナフトール樹脂のう
ち、式(2)の化合物と式(3)の化合物を反応させて
得られたものが前記式(1)で表される。
After the water washing (neutralization) treatment, the unreacted naphthol methylol and the solvent are distilled off under reduced pressure heating, and the product is concentrated to obtain the naphthol resin of the present invention. Of the naphthol resins of the present invention thus obtained, those obtained by reacting the compound of the formula (2) with the compound of the formula (3) are represented by the above formula (1).

【0021】また、こうして得られた本発明のナフトー
ル樹脂中にエピハロヒドリンを反応させることによって
上記(3)項記載のエポキシ樹脂が得られる。この反応
に使用されるエピハロヒドリンとしては、エピクロルヒ
ドリン、エピブロムヒドリン、エピヨードヒドリン等が
あるが、工業的に入手し易く安価なエピクロルヒドリン
が好ましい。この反応は従来公知の方法に準じて行うこ
とが出来る。
The epoxy resin described in the above item (3) can be obtained by reacting epihalohydrin with the naphthol resin of the present invention thus obtained. The epihalohydrin used in this reaction includes epichlorohydrin, epibromhydrin, epiiodohydrin and the like, but epichlorohydrin, which is easily available industrially and is inexpensive, is preferable. This reaction can be performed according to a conventionally known method.

【0022】例えば、本発明のナフトール樹脂とエピク
ロルヒドリンの混合物に水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムなどのアルカリ金属水酸化物の固体を添加し、また
は添加しながら20〜120℃で0.5〜10時間反応
させる。この際アルカリ金属水酸化物は水溶液を使用し
てもよく、その場合は該アルカリ金属水酸化物を連続的
に添加すると共に反応混合物中から減圧下、または常圧
下、連続的に水及びエピクロルヒドリンを留出せしめ更
に分液し水は除去しエピクロルヒドリンは反応混合中に
連続的に戻す方法でもよい。
For example, a solid of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is added to a mixture of the naphthol resin of the present invention and epichlorohydrin, or at a temperature of 20 to 120 ° C. for 0.5 to 10 hours while the solid is added. Let react. At this time, the alkali metal hydroxide may be used in the form of an aqueous solution.In this case, the alkali metal hydroxide is continuously added, and water and epichlorohydrin are continuously removed from the reaction mixture under reduced pressure or normal pressure. A method may be employed in which the water is removed by distilling and separating water, and epichlorohydrin is continuously returned during the reaction and mixing.

【0023】上記の方法において、エピクロルヒドリン
の使用量は本発明のナフトール樹脂の水酸基1当量に対
して通常0.5〜20モル、好ましくは0.7〜10モ
ルである。アルカリ金属水酸化物の使用量は本発明のナ
フトール樹脂中の水酸基1当量に対し通常0.5〜1.
5モル、好ましくは0.7〜1.2モルである。ジメチ
ルスルホン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムア
ミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等の非
プロトン溶媒を添加することにより下記に定義する加水
分解性ハロゲン量の低いエポキシ樹脂が得られ、このエ
ポキシ樹脂は電子材料封止用途に適する。
In the above method, the amount of epichlorohydrin used is usually 0.5 to 20 mol, preferably 0.7 to 10 mol, per equivalent of the hydroxyl group of the naphthol resin of the present invention. The amount of the alkali metal hydroxide to be used is generally 0.5 to 1. 1 equivalent to 1 equivalent of the hydroxyl group in the naphthol resin of the present invention.
It is 5 mol, preferably 0.7 to 1.2 mol. By adding an aprotic solvent such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, an epoxy resin having a low hydrolyzable halogen content defined below is obtained. Is suitable for electronic material sealing applications.

【0024】非プロトン性極性溶媒の使用量はエピクロ
ルヒドリンの重量に対し5〜200%、好ましくは10
〜100%である。上記の溶媒以外にもメタノール、エ
タノールとのアルコール類を添加することによっても反
応が進み易くなる。また、トルエン、キシレン等も使用
することができる。ここで加水分解性ハロゲン量とは、
例えば該エポキシ樹脂をジオキサンに入れ、数十分還流
しながらKOH/エタノール溶液で滴定することにより
測定することができる。
The amount of the aprotic polar solvent used is 5 to 200%, preferably 10%, based on the weight of epichlorohydrin.
100100%. The addition of alcohols with methanol and ethanol other than the above solvents facilitates the reaction. Further, toluene, xylene and the like can also be used. Here, the amount of hydrolyzable halogen is
For example, it can be measured by placing the epoxy resin in dioxane and titrating with a KOH / ethanol solution while refluxing for several tens minutes.

【0025】また本発明のナフトール樹脂と過剰のエピ
ハロヒドリンの混合物にテトラメチルアンモニウムクロ
ライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、トリメ
チルベンジルアンモニウムクロライドなどの第四級アン
モニウム塩を触媒として使用し、50〜150℃で1〜
10時間反応させ、得られる本発明のナフトール樹脂の
ハロヒドリンエーテルに水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムなどのアルカリ金属水酸化物の固体または水溶液を
加え、再び20〜120℃で1〜10時間反応させてハ
ロヒドリンエーテルを閉環させて本発明のエポキシ樹脂
を得ることもできる。この場合の第四級アンモニウム塩
の使用量は本発明のナフトール樹脂の水酸基1当量に対
して通常0.001〜0.2モル、好ましくは0.05
〜0.1モルである。
A quaternary ammonium salt such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide or trimethylbenzylammonium chloride is used as a catalyst in a mixture of the naphthol resin of the present invention and an excess of epihalohydrin at 50 to 150 ° C.
The reaction is performed for 10 hours, and a solid or aqueous solution of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is added to the resulting halohydrin ether of the naphthol resin of the present invention, and the reaction is performed again at 20 to 120 ° C. for 1 to 10 hours. Then, the epoxy resin of the present invention can be obtained by ring closure of the halohydrin ether. In this case, the amount of the quaternary ammonium salt used is usually 0.001 to 0.2 mol, preferably 0.05 to 1 equivalent of the hydroxyl group of the naphthol resin of the present invention.
0.10.1 mol.

【0026】通常これらの反応生成物は水洗後、または
水洗無しに加熱減圧下、過剰のエピハロヒドリンを除去
した後、再びトルエン、メチルイソブチルケトン等の溶
媒に溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの
アルカリ金属水酸化物の水溶液を加えて再び反応を行
う。この場合アルカリ金属水酸化物の使用量は本発明の
ナフトール樹脂の水酸基1当量に対して通常0.01〜
0.2モル、好ましくは0.05〜0.1モルである。
反応温度は通常50〜120℃、反応時間は通常0.5
〜2時間である。
Usually, these reaction products are washed with water, or without heating, under heating and reduced pressure to remove excess epihalohydrin, and then dissolved again in a solvent such as toluene or methyl isobutyl ketone. The reaction is carried out again by adding an aqueous solution of an alkali metal hydroxide. In this case, the amount of the alkali metal hydroxide to be used is usually 0.01 to 1 equivalent of the hydroxyl group of the naphthol resin of the present invention.
It is 0.2 mole, preferably 0.05-0.1 mole.
The reaction temperature is usually 50 to 120 ° C, and the reaction time is usually 0.5.
~ 2 hours.

【0027】反応終了後、副生した塩をろ過、水洗など
により除去し、更に加熱減圧下、トルエン、メチルイソ
ブチルケトン等の溶媒を留去することにより加水分解性
ハロゲン量の少ない本発明のエポキシ樹脂を得ることが
できる。
After completion of the reaction, by-produced salts are removed by filtration, washing with water, etc., and the solvent such as toluene, methyl isobutyl ketone or the like is distilled off under reduced pressure under heating to obtain the epoxy of the present invention having a small amount of hydrolyzable halogen. A resin can be obtained.

【0028】以下、本発明のエポキシ樹脂組成物につい
て説明する。前記(4)または(6)項記載のエポキシ
樹脂組成物において本発明のナフトール樹脂はエポキシ
樹脂の硬化剤として作用し、この場合本発明のナフトー
ル樹脂を単独でまたは他の硬化剤と併用することができ
る。併用する場合、本発明のナフトール樹脂の全硬化剤
中に占める割合は30%重量以上が好ましく、特に40
重量%以上が好ましい。
Hereinafter, the epoxy resin composition of the present invention will be described. In the epoxy resin composition according to the above (4) or (6), the naphthol resin of the present invention acts as a curing agent for the epoxy resin. In this case, the naphthol resin of the present invention is used alone or in combination with another curing agent. Can be. When used in combination, the proportion of the naphthol resin of the present invention in the total curing agent is preferably at least 30% by weight, more preferably at least 40% by weight.
% By weight or more is preferred.

【0029】本発明のナフトール樹脂と併用されうる他
の硬化剤としては、例えばアミン系化合物、酸無水物系
化合物、アミド系化合物、フェノール系化合物などが挙
げられる。用いうる硬化剤の具体例としては、ジアミノ
ジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレ
ンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロ
ンジアミン、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体と
エチレンジアミンより合成されるポリアミド樹脂、無水
フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、
無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテ
トラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキ
サヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル
酸、ビスフェノールA、ビスフェノールS、ビスフェノ
ールF、フルオレンビスフェノール、テルペンジフェノ
ール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノー
ル、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオー
ル、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,
1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エ
タン、フェノール類(フェノール、アルキル置換フェノ
ール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロ
キシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等)とホルムア
ルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p−
ヒドロキシベンズアルデヒド、ジシクロペンタジエン等
との重縮合物及びこれらの変性物、イミダゾール、BF
-アミン錯体、グアニジン誘導体などが挙げられる
が、これらに限定されるものではない。これらは単独で
用いてもよく、2種以上を用いてもよい。
Other curing agents that can be used in combination with the naphthol resin of the present invention include, for example, amine compounds, acid anhydride compounds, amide compounds and phenol compounds. Specific examples of the curing agent that can be used include diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, dicyandiamide, a polyamide resin synthesized from a dimer of linolenic acid and ethylenediamine, phthalic anhydride, and trimellit anhydride. Acid, pyromellitic anhydride,
Maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, bisphenol A, bisphenol S, bisphenol F, fluorene bisphenol, terpene diphenol, 4, 4′-biphenol, 2,2′-biphenol, hydroquinone, resorcinol, naphthalene diol, tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,
1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenols (phenol, alkyl-substituted phenol, naphthol, alkyl-substituted naphthol, dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene, etc.) and formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-
Polycondensates with hydroxybenzaldehyde, dicyclopentadiene, etc. and modified products thereof, imidazole, BF
Examples include, but are not limited to, 3 -amine complexes and guanidine derivatives. These may be used alone or in combination of two or more.

【0030】前記(5)または(6)項記載のエポキシ
樹脂組成物において本発明のエポキシ樹脂は単独でまた
は他のエポキシ樹脂と併用して使用することができる。
併用する場合、本発明のエポキシ樹脂の全エポキシ樹脂
中に占める割合は30重量%以上が好ましく、特に40
重量%以上が好ましい。
In the epoxy resin composition described in the above (5) or (6), the epoxy resin of the present invention can be used alone or in combination with another epoxy resin.
When used in combination, the proportion of the epoxy resin of the present invention in the total epoxy resin is preferably at least 30% by weight, more preferably at least 40% by weight.
% By weight or more is preferred.

【0031】本発明のエポキシ樹脂と併用されうる他の
エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA、ビスフェノ
ールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノー
ル、テルペンジフェノール、4,4’−ビフェノール、
2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシ
ン、ナフタレンジオール、トリス−(4−ヒドロキシフ
ェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒ
ドロキシフェニル)エタン、フェノール類(フェノー
ル、アルキル置換フェノール、ナフトール、アルキル置
換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナ
フタレン等)とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、
ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、
ジシクロペンタジエン等との重縮合物及びこれらの変性
物、テトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビス
フェノール類から誘導されるグリシジルエーテル化物、
脂環式エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹
脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂等の固形または
液状エポキシ樹脂が挙げられるが、これらに限定される
ものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上
を用いてもよい。
Other epoxy resins that can be used in combination with the epoxy resin of the present invention include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, terpene diphenol, 4,4'-biphenol,
2,2′-biphenol, hydroquinone, resorcinol, naphthalene diol, tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenols (phenol, alkyl-substituted phenol, Naphthol, alkyl-substituted naphthol, dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene, etc.) and formaldehyde, acetaldehyde,
Benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde,
Polycondensates with dicyclopentadiene and the like and modified products thereof, glycidyl ether compounds derived from halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A,
Examples include, but are not limited to, solid or liquid epoxy resins such as alicyclic epoxy resins, glycidylamine epoxy resins, and glycidyl ester epoxy resins. These may be used alone or in combination of two or more.

【0032】前記(4)項記載のエポキシ樹脂組成物に
おいて、硬化剤として本発明のナフトール樹脂を用いる
場合、エポキシ樹脂としては前記の他のエポキシ樹脂や
本発明のエポキシ樹脂を用いることができる。
In the epoxy resin composition described in the above item (4), when the naphthol resin of the present invention is used as a curing agent, the other epoxy resin or the epoxy resin of the present invention can be used as the epoxy resin.

【0033】また前記(5)項記載のエポキシ樹脂組成
物において、エポキシ樹脂として本発明のエポキシ樹脂
を用いる場合、硬化剤としては前記の他の硬化剤や本発
明のナフトール樹脂を用いることができる。
In the epoxy resin composition described in the above item (5), when the epoxy resin of the present invention is used as the epoxy resin, the above-mentioned other curing agent or the naphthol resin of the present invention can be used as a curing agent. .

【0034】本発明のエポキシ樹脂組成物において硬化
剤の使用量は、エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対し
て0.5〜1.5当量が好ましく、0.6〜1.2当量
が特に好ましい。エポキシ基1当量に対して、0.5当
量に満たない場合、あるいは1.5当量を超える場合、
いずれも硬化が不完全になり良好な硬化物性が得られな
い恐れがある。
The amount of the curing agent used in the epoxy resin composition of the present invention is preferably 0.5 to 1.5 equivalents, and particularly preferably 0.6 to 1.2 equivalents, per equivalent of the epoxy group of the epoxy resin. . When less than 0.5 equivalent, or more than 1.5 equivalent to 1 equivalent of epoxy group,
In any case, curing may be incomplete and good cured physical properties may not be obtained.

【0035】また上記硬化物を用いる際に硬化促進剤を
併用しても差し支えない。用いうる硬化促進剤として
は、例えば、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミ
ダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−エチル−4
−メチルイミダゾール等のイミダゾール類、2−(ジメ
チルアミノメチル)フェノール、トリエチレンジアミ
ン、トリエタノールアミン、1,8−ジアザビシクロ
(5,4,0)ウンデセン−7等の第3級アミン類、ト
リフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、トリブ
チルホスフィン等の有機ホスフィン類、オクチル酸スズ
などの金属化合物、テトラフェニルホスホニウム・テト
ラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウム・エ
チルトリフェニルボレート等のテトラ置換ホスホニウム
・テトラ置換ボレート、2−エチル−4−メチルイミダ
ゾール・テトラフェニルボレート、N−メチルモルホリ
ン・テトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン
塩などが挙げられる。硬化促進剤を使用する場合の使用
量はエポキシ樹脂100重量部に対して0.01〜15
重量部が必要に応じ用いられる。
When using the above cured product, a curing accelerator may be used in combination. Examples of the curing accelerator that can be used include 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-phenylimidazole, and 2-ethyl-4.
Imidazoles such as -methylimidazole, tertiary amines such as 2- (dimethylaminomethyl) phenol, triethylenediamine, triethanolamine, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, triphenylphosphine Organic phosphines such as diphenylphosphine and tributylphosphine, metal compounds such as tin octylate, tetra-substituted phosphonium / tetra-substituted borates such as tetraphenylphosphonium / tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium / ethyltriphenylborate, and 2-ethyl-. Tetraphenylboron salts such as 4-methylimidazole / tetraphenylborate and N-methylmorpholine / tetraphenylborate. When the curing accelerator is used, the amount is 0.01 to 15 parts by weight per 100 parts by weight of the epoxy resin.
Parts by weight are used as needed.

【0036】更に、本発明のエポキシ樹脂組成物には、
必要に応じて充填剤やシランカップリング材、離型剤、
顔料等の種々の配合剤を添加することができる。充填剤
としては、結晶シリカ、溶融シリカ、アルミナ、ジルコ
ン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化ケイ素、窒
化ケイ素、窒化ホウ素、ジルコニア、フォステライト、
ステアタイト、スピネル、チタニア、タルク等の粉体ま
たはこれらを球形化したビーズ等が挙げられるが、これ
らに限定されるものではない。これらは単独で用いても
よく、2種以上を用いてもよい。これら充填剤は、エポ
キシ樹脂組成物の硬化物の耐熱性、耐湿性、力学的性質
などの面から、エポキシ樹脂組成物中で50〜90重量
%を占める割合で使用するのが好ましい。
Further, the epoxy resin composition of the present invention includes:
If necessary, filler, silane coupling material, release agent,
Various compounding agents such as pigments can be added. As the filler, crystalline silica, fused silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, zirconia, fosterite,
Examples include, but are not limited to, powders of steatite, spinel, titania, talc and the like, and spherical beads of these. These may be used alone or in combination of two or more. These fillers are preferably used in a proportion occupying 50 to 90% by weight in the epoxy resin composition from the viewpoint of heat resistance, moisture resistance, mechanical properties and the like of the cured product of the epoxy resin composition.

【0037】本発明のエポキシ樹脂組成物は、各成分を
均一に混合することにより得られる。本発明のエポキシ
樹脂組成物は従来知られている方法と同様の方法で容易
にその硬化物とすることができる。例えば、本発明のエ
ポキシ樹脂と硬化剤、並びに必要により硬化促進剤及び
充填剤等の添加剤とを必要に応じて押出機、ニーダ、ロ
ール等を用いて均一になるまで充分に混合して本発明の
エポキシ樹脂組成物を得、そのエポキシ樹脂組成物を溶
融後、注型あるいはトランスファー成形機などを用いて
成型し、更に80〜200℃で2〜10時間に加熱する
ことにより本発明の硬化物を得ることができる。
The epoxy resin composition of the present invention can be obtained by uniformly mixing the components. The epoxy resin composition of the present invention can be easily made into a cured product by a method similar to a conventionally known method. For example, the epoxy resin of the present invention, a curing agent, and, if necessary, additives such as a curing accelerator and a filler are mixed as necessary using an extruder, a kneader, a roll, or the like, until the mixture is uniformly mixed, and the mixture is cured. The epoxy resin composition of the present invention is obtained, and after the epoxy resin composition is melted, molded using a casting or transfer molding machine or the like, and further heated at 80 to 200 ° C. for 2 to 10 hours. You can get things.

【0038】また、本発明のエポキシ樹脂組成物をトル
エン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン等の溶剤に溶解させ、ガラス繊維、
カーボン繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維、ア
ルミナ繊維、紙などの基材に含浸させ加熱乾燥して得た
プリプレグを熱プレス成形して硬化物を得ることもでき
る。
Further, the epoxy resin composition of the present invention is dissolved in a solvent such as toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and the like.
A prepreg obtained by impregnating a substrate such as carbon fiber, polyester fiber, polyamide fiber, alumina fiber, paper or the like and drying by heating may be subjected to hot press molding to obtain a cured product.

【0039】この際用いる希釈溶剤の使用量は本発明の
エポキシ樹脂組成物と該希釈溶剤の合計重量に対し通常
10〜70重量%、好ましくは15〜65重量%であ
る。
The amount of the diluting solvent used at this time is usually 10 to 70% by weight, preferably 15 to 65% by weight, based on the total weight of the epoxy resin composition of the present invention and the diluting solvent.

【0040】[0040]

【実施例】以下、本発明を実施例で更に詳細に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
尚、実施例中のエポキシ当量、水酸基当量の単位はg/
eqである。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
In addition, the unit of the epoxy equivalent and the hydroxyl equivalent in Examples is g /
eq.

【0041】製造例1 β−ナフトール282重量部を600重量部のメチルイ
ソブチルケトン(以下、MIBK)に溶解し、30重量
%苛性ソーダ水溶液53重量部を加えた。この溶液にパ
ラホルムアルデヒド(93%)67重量部を添加し、2
0℃で3時間反応を行った。反応終了後、35%塩酸約
42重量部を加え中和し、式(2)においてR1が水素
原子である化合物を含む反応液を得た。この反応液は、
1−メチロール−2−ナフトールを主成分として含む。
Production Example 1 282 parts by weight of β-naphthol were dissolved in 600 parts by weight of methyl isobutyl ketone (hereinafter, MIBK), and 53 parts by weight of a 30% by weight aqueous sodium hydroxide solution was added. 67 parts by weight of paraformaldehyde (93%) was added to this solution,
The reaction was performed at 0 ° C. for 3 hours. After completion of the reaction, about 42 parts by weight of 35% hydrochloric acid was added for neutralization to obtain a reaction solution containing a compound in which R 1 is a hydrogen atom in the formula (2). This reaction solution
Contains 1-methylol-2-naphthol as a main component.

【0042】実施例1 製造例1で得られた反応液に2−フェニルフェノール1
70重量部を加えた後、p−トルエンスルホン酸2重量
部を加え30℃で2時間、70℃で10時間の反応を行
った。その後、反応液の水洗浄液が中性になるまで水洗
を行い、油層中のMIBKを加熱減圧下で留去した。こ
の結果、459重量部の本発明のナフトール樹脂を得
た。得られたナフトール樹脂(P1)の軟化点は121
℃、水酸基当量は161であった。また、この樹脂をG
PC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)で分
析した結果、下記式(4)
Example 1 2-Phenylphenol 1 was added to the reaction solution obtained in Production Example 1.
After adding 70 parts by weight, 2 parts by weight of p-toluenesulfonic acid was added, and the reaction was carried out at 30 ° C. for 2 hours and at 70 ° C. for 10 hours. Thereafter, the reaction solution was washed with water until the water washing solution became neutral, and MIBK in the oil layer was distilled off under heating and reduced pressure. As a result, 459 parts by weight of the naphthol resin of the present invention was obtained. The softening point of the obtained naphthol resin (P1) is 121.
° C and a hydroxyl equivalent were 161. In addition, this resin is G
As a result of analysis by PC (gel permeation chromatography), the following formula (4) was obtained.

【0043】[0043]

【化5】 Embedded image

【0044】においてnが1である成分の含有量は35
重量%であった。なお、分析条件は次の通りである。
In the above, the content of the component in which n is 1 is 35
% By weight. The analysis conditions are as follows.

【0045】 GPC装置:日立製作所 (カラム:GPC KF−803(1本)+GPC K
F−802.5(1本) +GPC KF−802(1本) 昭和電工製) 溶媒 :テトラヒドロフラン 1ml/分 検出 :UV(254nm)
GPC device: Hitachi, Ltd. (Column: GPC KF-803 (1 pc.) + GPC K
F-802.5 (1) + GPC KF-802 (1) (Showa Denko) Solvent: tetrahydrofuran 1 ml / min Detection: UV (254 nm)

【0046】実施例2 実施例1で得られたナフトール樹脂(P1)161重量
部にエピクロルヒドリン370重量部、ジメチルスルホ
キシド93重量部を加えて溶解後、40℃に加熱し、フ
レーク状水酸化ナトリウム(純度99%)42重量部を
100分かけて添加し、その後、さらに50℃で2時
間、70℃で1時間反応させた。 ついで反応液の水洗
浄液が中性になるまで水洗を繰り返した後、油層から加
熱減圧下、過剰のエピクロルヒドリンを留去し、残留物
に391重量部のMIBKを添加し溶解した。さらにこ
のMIBK溶液を70℃に加熱し30重量%の水酸化ナ
トリウム水溶液10重量部を添加し、1時間反応させた
後、反応液の水洗浄液が中性となるまで水洗を繰り返し
た。ついで油層から加熱減圧下、MIBKを留去するこ
とにより本発明のエポキシ樹脂(E1)204重量部を
得た。得られたエポキシ樹脂(E1)のエポキシ当量は
223、軟化点は97℃であった。 このようにして得
られた本発明のエポキシ樹脂(E1)は、ナフトール樹
脂(P1)のフェノール性水酸基がグリシジルエーテル
化されたものである。
Example 2 To 161 parts by weight of the naphthol resin (P1) obtained in Example 1 were added 370 parts by weight of epichlorohydrin and 93 parts by weight of dimethyl sulfoxide, and the mixture was heated. 42% by weight (purity: 99%) was added over 100 minutes. Thereafter, the reaction was further performed at 50 ° C. for 2 hours and at 70 ° C. for 1 hour. Subsequently, after repeatedly washing with water until the water washing solution of the reaction solution became neutral, excess epichlorohydrin was distilled off from the oil layer under heating and reduced pressure, and 391 parts by weight of MIBK was added to the residue and dissolved. Further, the MIBK solution was heated to 70 ° C., 10 parts by weight of a 30% by weight aqueous sodium hydroxide solution was added, and the mixture was allowed to react for 1 hour. Thereafter, the water washing was repeated until the reaction solution became neutral. Then, MIBK was distilled off from the oil layer under heating and reduced pressure to obtain 204 parts by weight of the epoxy resin (E1) of the present invention. The obtained epoxy resin (E1) had an epoxy equivalent of 223 and a softening point of 97 ° C. The epoxy resin (E1) of the present invention thus obtained is obtained by glycidyl etherification of the phenolic hydroxyl group of the naphthol resin (P1).

【0047】実施例3 実施例2で得られたエポキシ樹脂(E1)を使用し、こ
れらエポキシ樹脂1エポキシ当量に対して硬化剤(フェ
ノールノボラック樹脂(日本化薬(株)製、PN−8
0、150℃におけるICI粘度1.5ps、軟化点8
6℃、水酸基当量106)を1水酸基当量配合し、更に
硬化促進剤(トリフェニルホスフィン)をエポキシ樹脂
100重量部あたり1重量配合し、トランスファー成型
により樹脂成形体を調製し、160℃で2時間、更に1
80℃で8時間で硬化させた。
Example 3 Using the epoxy resin (E1) obtained in Example 2, a curing agent (phenol novolak resin (PN-8, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
0, ICI viscosity at 150 ° C. 1.5 ps, softening point 8
6 ° C., hydroxyl equivalent 106), 1 hydroxyl equivalent, 1 part by weight of a curing accelerator (triphenylphosphine) per 100 parts by weight of epoxy resin, transfer molding to prepare a resin molded body, 160 ° C. for 2 hours And one more
Cured at 80 ° C. for 8 hours.

【0048】実施例4 エポキシ樹脂として、EOCN−1020−55(日本
化薬(株)製、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹
脂、150℃におけるICI粘度0.8ps、軟化点5
4℃、エポキシ当量198)を使用し、1エポキシ当量
に対して硬化剤として実施例1で得られたナフトール樹
脂(P1)を1水酸基当量配合し、更に硬化促進剤(ト
リフェニルホスフィン)をエポキシ樹脂100重量部あ
たり1重量配合し、トランスファー成型により樹脂成形
体を調製し、160℃で2時間、更に180℃で8時間
硬化させた。
Example 4 As an epoxy resin, EOCN-1020-55 (o-cresol novolak type epoxy resin manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), ICI viscosity at 150 ° C. 0.8 ps, softening point 5
Using a naphthol resin (P1) obtained in Example 1 as a curing agent for 1 epoxy equivalent at 4 ° C. and an epoxy equivalent of 198), 1 hydroxyl equivalent was added, and a curing accelerator (triphenylphosphine) was added to the epoxy equivalent. One part by weight was added per 100 parts by weight of the resin, and a resin molded body was prepared by transfer molding, and cured at 160 ° C. for 2 hours and further at 180 ° C. for 8 hours.

【0049】実施例5 実施例2で得られたエポキシ樹脂(E1)を使用し、こ
れらエポキシ樹脂1エポキシ当量に対して硬化剤として
実施例1で得られたナフトール樹脂(P1)を1水酸基
当量配合し、更に硬化促進剤(トリフェニルホスフィ
ン)をエポキシ樹脂100重量部あたり1重量配合し、
トランスファー成型により樹脂成形体を調製し、160
℃で2時間、更に180℃で8時間で硬化させた。
Example 5 The epoxy resin (E1) obtained in Example 2 was used, and the naphthol resin (P1) obtained in Example 1 was used as a curing agent for one epoxy equivalent of these epoxy resins. Compounding, and further 1 part by weight of a curing accelerator (triphenylphosphine) per 100 parts by weight of the epoxy resin,
A resin molded body is prepared by transfer molding, and 160
Curing was carried out at 2 hours at 180 ° C and further at 8 hours at 180 ° C.

【0050】このようにして得られた硬化物の物性を測
定した結果を表1に示す。尚、物性値の測定は以下の方
法で行った。 ・ガラス転移温度(TMA):真空理工(株)製 TM−7000 昇温速度 2℃/min. ・吸水率:直径5cm×厚み4mmの円盤状の試験片を100℃の水中で24時 間煮沸した後の重量増加率(%)
Table 1 shows the results of measuring the physical properties of the cured product thus obtained. In addition, the measurement of the physical property value was performed by the following method. Glass transition temperature (TMA): TM-7000 manufactured by Vacuum Riko Co., Ltd. Temperature rising rate 2 ° C./min.・ Water absorption: Weight increase rate (%) after boiling a disc-shaped test specimen of 5 cm in diameter x 4 mm in water at 100 ° C for 24 hours.

【0051】[0051]

【表1】 表1 実施例3 実施例4 実施例5 エポキシ樹脂 E1 EOCN− E1 1020−55 硬化剤 PN−80 P1 P1 ガラス転移温度(℃) 157 158 162 吸水率(%) 1.0 1.0 0.9 Table 1 Example 3 Example 4 Example 5 Epoxy resin E1 EOCN- E1 1020-55 Curing agent PN-80 P1 P1 Glass transition temperature (° C) 157 158 162 Water absorption (%) 1.0 0 0.9

【0052】表1より本発明の硬化物はガラス転移温度
が高く耐熱性に優れ、また吸水率が低いため耐湿性に優
れるのが明らかである。
From Table 1, it is clear that the cured product of the present invention has a high glass transition temperature and excellent heat resistance, and also has a low water absorption and therefore excellent moisture resistance.

【0053】[0053]

【発明の効果】本発明のナフトール樹脂及び/またはエ
ポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物はその硬化物
において優れた耐熱性、耐湿性(耐水性)、機械強度を
有するため、電気・電子部品用絶縁材料(高信頼性半導
体封止材料など)及び積層板(プリント配線板など)や
CFRPを始めとする各種複合材料、接着剤、塗料等に
使用する場合に極めて有用である。
The epoxy resin composition of the present invention containing a naphthol resin and / or an epoxy resin has excellent heat resistance, moisture resistance (water resistance) and mechanical strength in the cured product, and is therefore suitable for electric and electronic parts. It is extremely useful when used for insulating materials (such as highly reliable semiconductor encapsulating materials) and laminates (such as printed wiring boards) and various composite materials such as CFRP, adhesives, and paints.

フロントページの続き Fターム(参考) 4J033 CA01 CA02 CA22 CA32 CA34 CC03 CC04 CC08 CC09 HB02 HB03 HB06 HB08 HB09 4J036 AC02 AC03 AC05 AD07 AD08 AD09 AD12 AF05 AF06 AF34 AF36 BA01 DB06 DB20 DB21 DB22 DC03 DC06 DC09 DC10 DC31 DC41 DC46 DD01 DD05 DD07 FA01 FA05 FB08 FB13 GA04 GA06 GA09 GA20 JA07 JA08 Continued on the front page F term (reference) 4J033 CA01 CA02 CA22 CA32 CA34 CC03 CC04 CC08 CC09 HB02 HB03 HB06 HB08 HB09 4J036 AC02 AC03 AC05 AD07 AD08 AD09 AD12 AF05 AF06 AF34 AF36 BA01 DB06 DB20 DB21 DB22 DC03 DC06 DC09 DC10 DC31 DC41 DC46 DD07 FA01 FA05 FB08 FB13 GA04 GA06 GA09 GA20 JA07 JA08

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】β−ナフトール類モノメチロール体とフェ
ニルフェノール類とを酸触媒の存在下反応させることに
より得られるナフトール樹脂。
1. A naphthol resin obtained by reacting a β-naphthol monomethylol compound with a phenylphenol in the presence of an acid catalyst.
【請求項2】一般式(1)で表される化合物を含有する
請求項1記載のナフトール樹脂。 【化1】 (式(1)中、R、R及びRはそれぞれ水素原
子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基または
アリル基を表す。kは1または2の整数を、mは1〜5
の整数を、nは0〜8の整数をそれぞれ示す。)
2. The naphthol resin according to claim 1, which contains a compound represented by the general formula (1). Embedded image (In the formula (1), R 1 , R 2 and R 3 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or an allyl group having 1 to 10 carbon atoms. K is an integer of 1 or 2, and m is 1 to 2. 5
And n represents an integer of 0 to 8, respectively. )
【請求項3】請求項1または2記載のナフトール樹脂の
フェノール性水酸基をグリシジルエーテル化してなるエ
ポキシ樹脂(a)。
3. An epoxy resin (a) obtained by glycidyl etherification of a phenolic hydroxyl group of the naphthol resin according to claim 1 or 2.
【請求項4】エポキシ樹脂(b)、請求項1または2記
載のナフトール樹脂(c)を含有してなるエポキシ樹脂
組成物。
4. An epoxy resin composition comprising the epoxy resin (b) and the naphthol resin (c) according to claim 1 or 2.
【請求項5】請求項3記載のエポキシ樹脂(a)、硬化
剤(d)を含有してなるエポキシ樹脂組成物。
5. An epoxy resin composition comprising the epoxy resin (a) according to claim 3 and a curing agent (d).
【請求項6】請求項3記載のエポキシ樹脂(a)、請求
項1または2記載のナフトール樹脂(c)を含有してな
るエポキシ樹脂組成物。
6. An epoxy resin composition comprising the epoxy resin (a) according to claim 3 and the naphthol resin (c) according to claim 1 or 2.
【請求項7】硬化促進剤を含有する請求項4〜6のいず
れか1項に記載のエポキシ樹脂組成物。
7. The epoxy resin composition according to claim 4, which comprises a curing accelerator.
【請求項8】請求項4〜7のいずれか1項に記載のエポ
キシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物。
8. A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of claims 4 to 7.
【請求項9】β−ナフトール類モノメチロール体とフェ
ニルフェノール類とを酸触媒の存在下反応させた後、反
応系に必要により酸触媒を添加し次いで反応系の温度を
30〜130℃に昇温し更に後反応を行うことを特徴と
するナフトール樹脂の製造法。
9. After reacting a β-naphthol monomethylol compound with phenylphenol in the presence of an acid catalyst, an acid catalyst is added to the reaction system if necessary, and then the temperature of the reaction system is raised to 30 to 130 ° C. A method for producing a naphthol resin, which comprises heating and further performing a post-reaction.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014058633A (en) * 2012-09-19 2014-04-03 Dic Corp Biphenol-naphthol resin, curable resin composition, cured product thereof, and printed circuit board
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