JP2000048951A - Luminescent element - Google Patents

Luminescent element

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JP2000048951A
JP2000048951A JP10240987A JP24098798A JP2000048951A JP 2000048951 A JP2000048951 A JP 2000048951A JP 10240987 A JP10240987 A JP 10240987A JP 24098798 A JP24098798 A JP 24098798A JP 2000048951 A JP2000048951 A JP 2000048951A
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JP
Japan
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light emitting
emitting device
light
substrate
layer
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JP10240987A
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Japanese (ja)
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Yoshihisa Okamoto
好久 岡本
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OPUTEKU KK
Optech Co Ltd
Original Assignee
OPUTEKU KK
Optech Co Ltd
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Publication date
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10K2102/302Details of OLEDs of OLED structures
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    • HELECTRICITY
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To widen a using range for an organic EL luminescent element by imparting flexibility to the organic EL luminescent element, and/or imparting translucency to the element, and/or allowing a light emitting direction of the element to be directed to an element direction in the view from a substrate. SOLUTION: A flexible material such as plastics is used for a substrate 11 to impart flexibility to an organic EL luminescent element. Light transmittance of a negative electrode 15 in a visible light band is made 50% or more to impart translucency to the organic EL luminescent element. The organic EL luminescent element is constituted to put in order the negative electrode 15, a luminous layer, a hole transport layer, and a positive electrode 13 from a substrate side to direct a lighting direction to an upper face direction of the element.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、有機化合物を用いた有
機エレクトロルミネッセンス発光素子(以下、有機EL
素子ともいう)に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic electroluminescent light emitting device using an organic compound (hereinafter referred to as an organic EL device).
Element).

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、有機エレクトロルミネッセンス発
光素子が盛んに研究されている。これは例えば、ガラス
基板21上に形成された錫ドープ酸化インジウム(IT
O)などの透明電極(陽電極)上にテトラフェニルジア
ミン(TPD)などのホール輸送材料を蒸着等により薄
膜とし、さらにアルミキノリノール錯体(Alq3)な
どの蛍光物質を発光層として積層し、さらにMgなどの
仕事関数の小さな金属電極(陰電極)を形成した基本構
成を有する素子で、10V前後の電圧で数100〜10
00cd/cm2ときわめて高い輝度が得られることで
注目されている。
2. Description of the Related Art In recent years, organic electroluminescent light emitting devices have been actively studied. This is achieved, for example, by using tin-doped indium oxide (IT) formed on a glass substrate 21.
O) or the like, a hole transport material such as tetraphenyldiamine (TPD) is thinned by vapor deposition or the like on a transparent electrode (positive electrode), and a fluorescent substance such as an aluminum quinolinol complex (Alq3) is laminated as a light emitting layer. Element having a basic structure in which a metal electrode (negative electrode) having a small work function is formed.
It is noted that a very high luminance of 00 cd / cm2 can be obtained.

【0003】このような有機EL素子の陰電極として用
いられる材料は、発光層へ電子を多く注入するものが有
効であり、仕事関数の小さい材料ほど陰電極として適し
ている。仕事関数の小さい材料としては種々のものがあ
るが、EL発光素子の陰電極として用いられるものとし
ては、例えば特開平4−233194号公報に記載され
ているMgAg、MgIn等の合金や、アルカリ金属と
仕事関数の大きな金属との組み合わせとしてAlCa、
AlLi等が知られている。
As a material used as a negative electrode of such an organic EL element, a material that injects a large amount of electrons into a light emitting layer is effective, and a material having a smaller work function is more suitable as a negative electrode. There are various materials having a small work function. Examples of materials used as a negative electrode of an EL light-emitting element include alloys such as MgAg and MgIn described in JP-A-4-233194, alkali metals and the like. And a metal having a large work function as a combination of AlCa,
AlLi and the like are known.

【0004】しかし、有機EL素子が前記のような構造
の場合、陰電極側には透光性がないため、陽電極側から
発光光を取り出すこととなる。このため、素子後方の物
体を視認する必要があるといった用途に使用することは
できず、応用範囲を限定せざるをえなかった。
However, in the case where the organic EL element has the above-described structure, since the negative electrode has no light-transmitting property, light is emitted from the positive electrode. For this reason, it cannot be used for applications in which an object behind the element needs to be visually recognized, and the application range has to be limited.

【0005】また、有機EL素子は一般的にガラス基板
をベースに構成されており、基板自身に可撓性がないた
め、例えば曲面を有するディスプレイ、ショーウィンド
ウ等の用途には応用できず、応用範囲が限定されてしま
っていた。
Further, the organic EL element is generally formed on a glass substrate, and the substrate itself has no flexibility. Therefore, it cannot be applied to, for example, a display having a curved surface, a show window, and the like. The range was limited.

【0006】さらに、従来の構成の有機EL素子は発光
層が陰電極の基板側にあるため、主に発光光を取り出せ
るのは素子を構成した基板側のみであって、例えば有機
EL素子上に他の機能素子を作り込み、有機EL素子を
バックライトとして機能させる、といった応用は困難で
あった。
Further, in the organic EL device having the conventional structure, the light emitting layer is located on the substrate side of the negative electrode, so that light can be mainly extracted only on the substrate side where the device is formed. It has been difficult to apply such a technique that another functional element is formed and the organic EL element functions as a backlight.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、有機
EL発光素子に可撓性を持たせ、且つ/又は有機EL発
光素子に透光性を持たせ、且つ/又は有機EL発光素子
の発光方向を基板からみて素子方向にも構成できるよう
にすることにより、有機EL発光素子の用途範囲を拡大
せんとするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an organic EL light emitting device with flexibility and / or to provide an organic EL light emitting device with a light transmitting property and / or to provide an organic EL light emitting device. By allowing the light emitting direction to be configured in the element direction as viewed from the substrate, the range of use of the organic EL light emitting element is expanded.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
の本発明により達成される。 (1)基板に、プラスチック等の可撓姓を持つ材料を使
用することで、有機EL発光素子に可撓姓を持たせる。 (2)陰電極を、可視光帯域での光透過率を50%以上
とすることにより、有機EL発光素子に透光性を持たせ
る。 (3)有機EL発光素子の構成を基板側から陰電極、発
光層、ホール輸送層、陽電極の順に構成することで、採
光方向を素子上面方向とする。 上記各項を実施することで、可撓性を持ち、且つ/又は
透光性を持ち、且つ/又は採光方向を任意に構成できる
有機EL発光素子が実現され、もってその応用範囲の拡
大に寄与するものである。
This and other objects are achieved by the present invention described below. (1) By using a material having a flexible property such as plastic for the substrate, the organic EL light emitting element has a flexible property. (2) The organic EL light emitting element is made to have a light transmitting property by making the negative electrode have a light transmittance of 50% or more in the visible light band. (3) By configuring the organic EL light-emitting device in the order of the negative electrode, the light-emitting layer, the hole transport layer, and the positive electrode from the substrate side, the lighting direction is the upper surface direction of the device. By implementing the above items, an organic EL light-emitting element having flexibility and / or translucency and / or having an arbitrary lighting direction can be realized, thereby contributing to expansion of its application range. Is what you do.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的構成につい
て詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be described in detail.

【0010】(実施例1)図1は、本発明の有機EL発
光素子の一つの構成を示した模式図である。可撓性を持
った透明基板11上に、陽電極12、正孔注入・輸送層
13、発光および電子注入輸送層14および陰電極15
が形成されている。
Embodiment 1 FIG. 1 is a schematic diagram showing one configuration of an organic EL light emitting device of the present invention. On a flexible transparent substrate 11, a positive electrode 12, a hole injection / transport layer 13, a light emitting and electron injection / transport layer 14, and a negative electrode 15
Are formed.

【0011】本実施例では、可撓性を持った透明基板1
1としてボリエチレンテレフタレートを主成分とする基
板を用いた。ここで、透明基板の材料は前記に限定され
るものではなく、PESやPMMAなど他の材料を用い
ても問題無い。
In this embodiment, a transparent substrate 1 having flexibility is used.
As 1, a substrate containing polyethylene terephthalate as a main component was used. Here, the material of the transparent substrate is not limited to the above, and there is no problem even if other materials such as PES and PMMA are used.

【0012】本発明のEL素子は、図示例に限らず、種
々の構成とすることができ、例えば発光層と陰電極との
間に電子注入輸送層を介在させた構成とすることもでき
る。
The EL device of the present invention is not limited to the illustrated example, but may have various configurations. For example, the EL device may have a configuration in which an electron injection / transport layer is interposed between a light emitting layer and a negative electrode.

【0013】陰電極は蒸着やスパッタ法により成膜し、
発光層等の有機物層は真空蒸着等により、陽電極は上記
の方法により成膜することができるが、これらの膜のそ
れぞれは、必要に応じてマスク蒸着または膜形成後にエ
ッチングなどの方法によってパターニングでき、これに
よって、所望の発光パターンを得ることができる。さら
には、基板が薄膜トランジスタ(TFT)であって、そ
のパターンに応じて各膜を形成することでそのまま表示
および駆動パターンとすることもできる。最後に、Si
OX等の無機材料、テフロン等の有機材料からなる保護
層を形成すればよい。
The cathode is formed by vapor deposition or sputtering.
The organic layer such as the light emitting layer can be formed by vacuum evaporation or the like, and the positive electrode can be formed by the above-described method. Each of these films is patterned by a method such as mask evaporation or etching after forming the film as necessary. Thus, a desired light emission pattern can be obtained. Further, the substrate is a thin film transistor (TFT), and by forming each film according to the pattern, a display and drive pattern can be used as it is. Finally, Si
A protective layer made of an inorganic material such as OX or an organic material such as Teflon may be formed.

【0014】陰電極の構成材料としては、電子注入を効
果的に行うために、低仕事関数の物質として、例えば、
K、Li、Na、Mg、La、Ce、Ca、Sr、B
a、Al、Ag、In、Sn、Zn、Zr等の金属元素
単体、または安定性を向上させるためにそれらを含む2
成分、3成分の合金系を用いることが好ましい。合金系
としては、例えばAg・Mg(Ag:1〜20at
%)、Al・Li(Li:0.5〜10at%)、In
・Mg(Mg:50〜80at%)、Al・Ca(C
a:5〜20at%)等が好ましい。
As a constituent material of the negative electrode, as a material having a low work function, for example, for effective electron injection, for example,
K, Li, Na, Mg, La, Ce, Ca, Sr, B
a, a metal element such as Al, Ag, In, Sn, Zn, Zr, etc., or a metal element containing them in order to improve stability.
It is preferable to use a three-component alloy system. As an alloy system, for example, Ag · Mg (Ag: 1 to 20 at)
%), Al.Li (Li: 0.5 to 10 at%), In
-Mg (Mg: 50-80 at%), Al-Ca (C
a: 5 to 20 at%).

【0015】また、陰電極薄膜の厚さは、電子注入を十
分行える一定以上の厚さとすればよく、50nm以上、
好ましくは100nm以上とすればよい。また、その上
限値には特に制限はないが、通常膜厚は100〜500
nm程度とすればよい。
The thickness of the cathode electrode thin film may be a certain thickness or more for sufficiently injecting electrons.
Preferably, the thickness may be 100 nm or more. The upper limit is not particularly limited, but is usually 100 to 500.
It may be about nm.

【0016】保護層は、透明であっても不透明であって
もよく、透明とする場合には、透明な材料(例えばSi
O2、SIALON等)を選択して用いるか、あるいは
厚さを制御して透明(好ましくは発光光の透過率が80
%以上)となるようにすればよい。一般に、保護層の厚
さは50〜1200nm程度とする。保護層の形成方法
については特に限定するものではなく、蒸着等でもよい
が、スパッタ法によれば、陰電極との連続製膜が可能で
ある。
The protective layer may be transparent or opaque, and when transparent, a transparent material (for example, Si
O2, SIALON, etc.), or by controlling the thickness to be transparent (preferably, the transmittance of emitted light is 80%).
% Or more). Generally, the thickness of the protective layer is about 50 to 1200 nm. The method for forming the protective layer is not particularly limited, and may be evaporation or the like. However, according to the sputtering method, continuous film formation with the negative electrode is possible.

【0017】次に、本発明のEL素子に設けられる有機
物層について述べる。
Next, the organic layer provided in the EL device of the present invention will be described.

【0018】発光層は、正孔(ホール)および電子の注
入機能、それらの輸送機能、正孔と電子の再結合により
励起子を生成させる機能を有する。発光層には比較的電
子的にニュートラルな化合物を用いることが好ましい。
The light emitting layer has a function of injecting holes (holes) and electrons, a function of transporting them, and a function of generating excitons by recombination of holes and electrons. It is preferable to use a relatively electronically neutral compound for the light emitting layer.

【0019】電荷輸送層は、陽電極からの正孔の注入を
容易にする機能、正孔を輸送する機能および電子を妨げ
る機能を有し、正孔注入輸送層とも称される。
The charge transport layer has a function of facilitating injection of holes from the positive electrode, a function of transporting holes, and a function of blocking electrons, and is also called a hole injection transport layer.

【0020】このほか、必要に応じ、例えば発光層に用
いる化合物の電子注入輸送機能がさほど高くないときな
ど、前述のように、発光層と陰電極との間に、陰電極か
らの電子の注入を容易にする機能、電子を輸送する機能
および正孔を妨げる機能を有する電子注入輸送層を設け
てもよい。
In addition, if necessary, for example, when the electron injecting / transporting function of the compound used in the light emitting layer is not so high, injection of electrons from the negative electrode between the light emitting layer and the negative electrode as described above. May be provided with an electron injecting and transporting layer having a function of facilitating electron transport, a function of transporting electrons, and a function of blocking holes.

【0021】正孔注入輸送層および電子注入輸送層は、
発光層へ注入される正孔や電子を増大・閉じ込めさせ、
再結合領域を最適化させ、発光効率を改善する。
The hole injection transport layer and the electron injection transport layer are
Increases and confines holes and electrons injected into the light emitting layer,
Optimize the recombination region and improve luminous efficiency.

【0022】なお、正孔注入輸送層および電子注入輸送
層は、それぞれにおいて、注入機能を持つ層と輸送機能
を持つ層とに別個に設けてもよい。
The hole injecting / transporting layer and the electron injecting / transporting layer may be separately provided in a layer having an injection function and a layer having a transport function.

【0023】発光層の厚さ、正孔注入輸送層の厚さおよ
び電子注入輸送層の厚さは特に限定されず、形成方法に
よっても異なるが、通常、5〜100nm程度、特に1
0〜100nmとすることが好ましい。
The thickness of the light emitting layer, the thickness of the hole injecting and transporting layer, and the thickness of the electron injecting and transporting layer are not particularly limited, and vary depending on the forming method.
It is preferable to set the thickness to 0 to 100 nm.

【0024】正孔注入輸送層の厚さおよび電子注入輸送
層の厚さは、再結合・発光領域の設計によるが、発光層
の厚さと同程度もしくは1/10〜10倍程度とすれば
よい。電子もしくは正孔の、各々の注入層と輸送層を分
ける場合は、注入層は1nm以上、輸送層は20nm以
上とするのが好ましい。このときの注入層、輸送層の厚
さの上限は、通常、注入層で100nm程度、輸送層で
100nm程度である。このような膜厚については注入
輸送層を2層設けるときも同じである。
The thickness of the hole injecting / transporting layer and the thickness of the electron injecting / transporting layer depend on the design of the recombination / light emitting region, but may be about the same as the thickness of the light emitting layer or about 1/10 to 10 times. . When the injection layer and the transport layer for electrons or holes are separated from each other, the thickness of the injection layer is preferably 1 nm or more, and the thickness of the transport layer is preferably 20 nm or more. At this time, the upper limits of the thicknesses of the injection layer and the transport layer are generally about 100 nm for the injection layer and about 100 nm for the transport layer. Such a film thickness is the same when two injection / transport layers are provided.

【0025】また、組み合わせる発光層や電子注入輸送
層や正孔注入輸送層のキャリア移動度やキャリア密度
(イオン化ポテンシャル・電子親和力により決まる)を
考慮しながら、膜厚をコントロールすることで、再結合
領域・発光領域を自由に設計することが可能であり、発
光色の設計や、両電極の干渉効果による発光輝度・発光
スペクトルの制御や、発光の空間分布の制御を可能にで
きる。
Further, by controlling the film thickness in consideration of the carrier mobility and carrier density (determined by ionization potential and electron affinity) of the combined light emitting layer, electron injection transport layer and hole injection transport layer, recombination is achieved. It is possible to freely design the region and the light emitting region, and it is possible to design the light emission color, control the light emission luminance and light emission spectrum by the interference effect of both electrodes, and control the spatial distribution of light emission.

【0026】本発明のEL素子の発光層には発光機能を
有する化合物である蛍光性物質を含有させる。この蛍光
性物質としては、例えば、特開昭63−264692号
公報等に開示されているようなトリス(8−キノリノラ
ト)アルミニウム等の金属錯体色素が挙げられる。この
他、これに加え、あるいは単体で、キナクリドン、クマ
リン、ルブレン、スチリル系色素、その他テトラフェニ
ルブタジエン、アントラセン、ペリレン、コロネン、1
2−フタロペリノン誘導体等を用いることもできる。発
光層は電子注入輸送層を兼ねたものであってもよく、こ
のような場合はトリス(8−キノリノラト)アルミニウ
ム等を使用することが好ましい。これらの蛍光性物質を
蒸着等すればよい。
The light emitting layer of the EL device of the present invention contains a fluorescent substance which is a compound having a light emitting function. Examples of the fluorescent substance include metal complex dyes such as tris (8-quinolinolato) aluminum disclosed in JP-A-63-264692. In addition, or in addition, or alone, quinacridone, coumarin, rubrene, styryl dye, other tetraphenylbutadiene, anthracene, perylene, coronene,
A 2-phthaloperinone derivative or the like can also be used. The light emitting layer may also serve as the electron injection / transport layer. In such a case, it is preferable to use tris (8-quinolinolato) aluminum or the like. These fluorescent substances may be deposited or the like.

【0027】また、必要に応じて設けられる電子注入輸
送層には、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム等
の有機金属錯体、オキサジアゾール誘導体、ペリレン誘
導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、キノリン誘
導体、キノキサリン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、
ニトロ置換フルオレン誘導体等を用いることができる。
上述のように、電子注入輸送層は発光層を兼ねたもので
あってもよく、このような場合はトリス(8−キノリノ
ラト)アルミニウム等を使用することが好ましい。電子
注入輸送層の形成も発光層と同様に蒸着等によればよ
い。
The electron injecting / transporting layer provided as necessary includes an organic metal complex such as tris (8-quinolinolato) aluminum, an oxadiazole derivative, a perylene derivative, a pyridine derivative, a pyrimidine derivative, a quinoline derivative, and a quinoxaline derivative. , A diphenylquinone derivative,
Nitro-substituted fluorene derivatives and the like can be used.
As described above, the electron injection / transport layer may also serve as the light emitting layer. In such a case, it is preferable to use tris (8-quinolinolato) aluminum or the like. The formation of the electron injecting and transporting layer may be performed by vapor deposition or the like, similarly to the light emitting layer.

【0028】なお、電子注入輸送層を電子注入層と電子
輸送層とに分けて設層する場合は、電子注入輸送層用の
化合物のなかから好ましい組合せを選択して用いること
ができる。このとき、陰電極側から電子親和力の値の大
きい化合物の層の順に積層することが好ましい。このよ
うな積層順については電子注入輸送層を2層以上設ける
ときも同様である。
When the electron injecting and transporting layer is provided separately for the electron injecting layer and the electron transporting layer, a preferable combination can be selected from the compounds for the electron injecting and transporting layer. At this time, it is preferable to stack the layers of the compound having the higher electron affinity from the cathode side. This stacking order is the same when two or more electron injection / transport layers are provided.

【0029】また、正孔注入輸送層には、例えば、特開
昭63−295695号公報、特開平2−191694
号公報、特開平3−792号公報、特開平5−2346
81号公報、特開平5−239455号公報、特開平5
−299174号公報、特開平7−126225号公
報、特開平7−126226号公報、特開平8−100
172号公報、EP0650955A1等に記載されて
いる各種有機化合物を用いることができる。例えば、テ
トラアリールベンジシン化合物(テトラアリールジアミ
ンないしテトラフェニルジアミン:TPD)、芳香族三
級アミン、ヒドラゾン誘導体、カルバゾール誘導体、ト
リアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、アミノ基を有
するオキサジアゾール誘導体、ポリチオフェン等であ
る。これらの化合物は2種以上を併用してもよく、併用
するときは別層にして積層したり、混合したりすればよ
い。
The hole injecting and transporting layer is described in, for example, JP-A-63-295695 and JP-A-2-191694.
JP, JP-A-3-792, JP-A-5-2346
No. 81, JP-A-5-239455, JP-A-5
JP-A-299174, JP-A-7-126225, JP-A-7-126226, JP-A-8-100
Various organic compounds described in JP-A-172, EP0650955A1, and the like can be used. For example, a tetraarylbendicine compound (tetraaryldiamine or tetraphenyldiamine: TPD), an aromatic tertiary amine, a hydrazone derivative, a carbazole derivative, a triazole derivative, an imidazole derivative, an oxadiazole derivative having an amino group, polythiophene, or the like. . Two or more of these compounds may be used in combination, and when they are used in combination, they may be stacked as separate layers or mixed.

【0030】正孔注入輸送層を正孔注入層と正孔輸送層
とに分けて設層する場合は、正孔注入輸送層用の化合物
のなかから好ましい組合せを選択して用いることができ
る。このとき、陽電極(ITO等)側からイオン化ポテ
ンシャルの小さい化合物の層の順に積層することが好ま
しい。また陽電極表面には薄膜性の良好な化合物を用い
ることが好ましい。このような積層順については、正孔
注入輸送層を2層以上設けるときも同様である。このよ
うな積層順とすることによって、駆動電圧が低下し、電
流リークの発生やダークスポットの発生・成長を防ぐこ
とができる。また、素子化する場合、蒸着を用いている
ので1〜10nm程度の薄い膜も、均一かつピンホール
フリーとすることができるため、正孔注入層にイオン化
ポテンシャルが小さく、可視部に吸収をもつような化合
物を用いても、発光色の色調変化や再吸収による効率の
低下を防ぐことができる。
When the hole injecting and transporting layer is provided separately as a hole injecting and transporting layer, a preferable combination can be selected from the compounds for the hole injecting and transporting layer. At this time, it is preferable to stack the layers of the compound having the smaller ionization potential in order from the positive electrode (ITO or the like) side. It is preferable to use a compound having a good thin film property on the surface of the positive electrode. Such a stacking order is the same when two or more hole injection / transport layers are provided. With such a stacking order, the driving voltage is reduced, and the occurrence of current leakage and the occurrence and growth of dark spots can be prevented. In the case of forming an element, a thin film having a thickness of about 1 to 10 nm can be made uniform and pinhole-free because evaporation is used, so that the hole injection layer has a small ionization potential and has absorption in the visible part. Even when such a compound is used, it is possible to prevent a change in the color tone of the emission color or a decrease in efficiency due to reabsorption.

【0031】正孔注入輸送層は、発光層等と同様に上記
の化合物を蒸着すればよい。
The hole injection transport layer may be formed by depositing the above compound in the same manner as the light emitting layer.

【0032】本発明において、陽電極として用いられる
透明電極は、好ましくは発光した光の透過率が80%以
上となるように陽電極の材料および厚さを決定すること
が好ましい。具体的には、例えば、錫ドープ酸化インジ
ウム(ITO)、亜鉛ドープ酸化インジウム(IZ
O)、SnO2、ドーパントをドープしたポリピロール
などを陽電極に用いることが好ましい。また、陽電極の
厚さは10〜500nm程度とすることが好ましい。ま
た、素子の信頼性を向上させるために駆動電圧が低いこ
とが必要である。
In the present invention, the material and thickness of the transparent electrode used as the positive electrode are preferably determined so that the transmittance of emitted light is preferably 80% or more. Specifically, for example, tin-doped indium oxide (ITO), zinc-doped indium oxide (IZ)
O), SnO2, polypyrrole doped with a dopant, or the like is preferably used for the positive electrode. The thickness of the positive electrode is preferably about 10 to 500 nm. Further, it is necessary that the driving voltage be low in order to improve the reliability of the element.

【0033】基板材料としては、可撓性のある樹脂等の
透明ないし半透明材料を用いる。また、基板に色フィル
ター膜や蛍光性物質を含む色変換膜、あるいは誘電体反
射膜を用いて発光色をコントロールしてもよい。
As a substrate material, a transparent or translucent material such as a flexible resin is used. Further, the emission color may be controlled by using a color filter film, a color conversion film containing a fluorescent substance, or a dielectric reflection film on the substrate.

【0034】本発明の有機EL素子は、通常、直流駆動
型のEL素子として用いられるが、交流駆動またはパル
ス駆動とすることもできる。印加電圧は、通常、5〜2
0V程度とされる。
The organic EL device of the present invention is generally used as a DC drive type EL device, but it can be AC drive or pulse drive. The applied voltage is usually 5 to 2
It is about 0V.

【0035】本発明の有機EL素子は、素子自身が可撓
性を有するため、例えば曲面を持つウィンドウディスプ
レイ等への応用が可能となり、有機EL素子の応用用途
を拡大する効果がある。
Since the organic EL element of the present invention has flexibility, it can be applied to, for example, a window display having a curved surface, and has the effect of expanding the application of the organic EL element.

【0036】(実施例2)次に、本発明の他の実施の形
態を説明する。図2は、本発明に係る他の実施例を説明
するための模式図である。本実施例に於いては、ガラ
ス、樹脂等を用いた透明基板21上に、陽電極22、正
孔注入・輸送層23、発光および電子注入輸送層24、
陰電極25が形成されている。本実施例に於いては、陰
電極25は二層から構成されており、発光層に接する側
には膜厚5nmのマグネシウムと銀の合金層26が、逆
側にはITO透明電極層27が形成されている。ここ
で、発光層に接する側のマグネシウムと銀の合金層26
の膜厚は1nmから20nm、望ましくは3nmから1
0nmの範囲で設定すればよい。また、逆側の透明電極
層27としては、錫ドープの酸化インジウム(IT
O)、亜鉛ドープの酸化インジウム(IZO)、又はア
ンチモンドープの酸化錫、及び、金等の電極材料を可視
光の透過率が50%以上となるように極めて薄く形成す
る等で作成した透明電極を用いることが出来る。
(Embodiment 2) Next, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 2 is a schematic diagram for explaining another embodiment according to the present invention. In this embodiment, a positive electrode 22, a hole injecting / transporting layer 23, a light emitting and electron injecting / transporting layer 24,
A negative electrode 25 is formed. In this embodiment, the negative electrode 25 is composed of two layers, a 5 nm-thickness magnesium-silver alloy layer 26 on the side in contact with the light-emitting layer, and an ITO transparent electrode layer 27 on the opposite side. Is formed. Here, the magnesium-silver alloy layer 26 on the side in contact with the light emitting layer
Has a thickness of 1 nm to 20 nm, preferably 3 nm to 1 nm.
What is necessary is just to set in the range of 0 nm. Further, as the transparent electrode layer 27 on the opposite side, tin-doped indium oxide (IT
O), an electrode material such as zinc-doped indium oxide (IZO) or antimony-doped tin oxide, and a transparent electrode formed by forming an electrode material such as gold to be extremely thin so as to have a visible light transmittance of 50% or more. Can be used.

【0037】本実施例に於いては、陰電極の構成を上記
のようにしたことで素子に透光性を持たせることが出来
る。なお、本実施例に於いては基板の選択は可撓性のあ
るものに限定されるものではない。前記の陰電極の構成
以外の他の膜に関しては、実施例1と同様のブロセスで
形成することが出来る。
In this embodiment, the element can be made translucent by making the configuration of the negative electrode as described above. In this embodiment, the selection of the substrate is not limited to a flexible substrate. Other films other than the negative electrode configuration can be formed by the same process as in the first embodiment.

【0038】本実施例の方法を用いることで、有機EL
素子に透光性を持たせることが可能となり、例えば商品
展示用のボックスなどに用いて、内部の商品を見せつつ
イルミネーションするといった応用が可能となり、有機
EL素子の応用範囲を拡大することが出来る。
By using the method of this embodiment, the organic EL
The element can be made to have a light-transmitting property. For example, it can be used in a box for a product display, for example, to illuminate while showing an internal product, and the application range of the organic EL element can be expanded. .

【0039】(実施例3)次に、本発明の他の実施の形
態を説明する。図3は、本発明に係る他の実施例を説明
するための模式図である。本実施例に於いては、ガラ
ス、樹脂等を用いた透明基板31上に、陰電極32、正
孔注入・輸送層33、発光および電子注入輸送層34、
陽電極35が形成されている。
(Embodiment 3) Next, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 is a schematic diagram for explaining another embodiment according to the present invention. In this embodiment, a negative electrode 32, a hole injection / transport layer 33, a light emitting and electron injection / transport layer 34,
A positive electrode 35 is formed.

【0040】本実施例に於いては、陰電極を基板側に形
成することによって、発光光の射出方向を一般の有機E
L素子と逆方向にすることが出来、例えば有機EL素子
上に他の機能素子を作り込み、そのパックライトとして
利用する等の応用が可能となる。なお、各膜の構成に関
しては、実施例1または実施例2と同様のプロセスで形
成することが出来る。
In this embodiment, by forming the negative electrode on the substrate side, the emission direction of the emitted light can be changed to the general organic E
The direction can be opposite to that of the L element. For example, it is possible to apply another function element on the organic EL element and use it as a pack light. The structure of each film can be formed by a process similar to that of the first or second embodiment.

【0041】また、本実施例の方法を用いることで、最
初に基板上にITO等の透明電極を形成する事が可能と
なり、プロセス上もメリットが大きい。
Further, by using the method of the present embodiment, it is possible to first form a transparent electrode such as ITO on a substrate, which is advantageous in terms of process.

【0042】[0042]

【発明の効果】本発明によれば、有機EL発光素子に可
撓性を持たせ、且つ/又は有機EL発光素子に透光性を
持たせ、且つ/又は有機EL発光素子の発光方向を基板
からみて素子方向にも構成できるようにすることによ
り、有機EL発光素子の用途範囲の拡大が可能となる。
According to the present invention, the organic EL element is made flexible and / or the organic EL element is made transparent, and / or the light emitting direction of the organic EL element is changed to the substrate. By being configured in the element direction from the viewpoint, the range of use of the organic EL light emitting element can be expanded.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の例を示す概念図。FIG. 1 is a conceptual diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の他の実施の例を示す概念図。FIG. 2 is a conceptual diagram showing another embodiment of the present invention.

【図3】本発明の他の実施の例を示す概念図。FIG. 3 is a conceptual diagram showing another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 可撓性を持った透明基板 12 陽電極 13 正孔注入・輸送層 14 発光および電子注入輸送層 15 陰電極 21 透明基板 22 陽電極 23 正孔注入・輸送層 24 発光および電子注入輸送層 25 陰電極 26 マグネシウムと銀の合金層 27 透明電極層 31 透明基板 32 陰電極 33 正孔注入・輸送層 34 発光および電子注入輸送層 35 陽電極 11 Flexible Transparent Substrate 12 Positive Electrode 13 Hole Injection / Transport Layer 14 Emission and Electron Injection / Transport Layer 15 Negative Electrode 21 Transparent Substrate 22 Positive Electrode 23 Hole Injection / Transport Layer 24 Light Emission and Electron Injection / Transport Layer 25 Negative electrode 26 Alloy layer of magnesium and silver 27 Transparent electrode layer 31 Transparent substrate 32 Negative electrode 33 Hole injection / transport layer 34 Light emission and electron injection / transport layer 35 Positive electrode

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 陰電極と陽電極の間に発光層を有する有
機エレクトロルミネッセンス発光素子であって、素子を
形成する基板が可撓性を有することを特徴とする発光素
子。
1. An organic electroluminescent light emitting device having a light emitting layer between a negative electrode and a positive electrode, wherein a substrate on which the device is formed has flexibility.
【請求項2】 該基板は、可撓性を有する樹脂等の透明
基板であることを特徴とする請求項1記載の発光素子。
2. The light emitting device according to claim 1, wherein the substrate is a transparent substrate made of a flexible resin or the like.
【請求項3】 該陰電極及び陽電極は、透光性を有する
ことを特徴とする請求項2記載の発光素子。
3. The light emitting device according to claim 2, wherein the negative electrode and the positive electrode have translucency.
【請求項4】 該陰電極は、錫ドープの酸化インジウム
(ITO)、亜鉛ドープの酸化インジウム(IZO)、
又はアンチモンドープの酸化錫、及び、金等の電極材料
を可視光の透過率が50%以上となるように、極めて薄
く形成する等で作成した透明電極と発光層の間に、透光
性を損なわない膜厚を有し且つ仕事関数の小さな材料を
形成したものであることを特徴とする請求項3記載の発
光素子。
4. The negative electrode comprises tin-doped indium oxide (ITO), zinc-doped indium oxide (IZO),
Alternatively, a light-transmitting property can be provided between a light-emitting layer and a transparent electrode formed by forming an electrode material such as antimony-doped tin oxide and gold so as to have a transmittance of visible light of 50% or more so as to be extremely thin. 4. The light emitting device according to claim 3, wherein the light emitting device is formed of a material having a thickness that does not impair and having a small work function.
【請求項5】 該陰電極に用いられる、該仕事関数の小
さな材料は、マグネシウムと銀の合金であることを特徴
とする請求項4記載の発光素子。
5. The light emitting device according to claim 4, wherein the material having a low work function used for the cathode is an alloy of magnesium and silver.
【請求項6】 該陰電極に用いられるマグネシウムと銀
の合金層の膜厚は、1nmから20nmの範囲、望まし
くは3nmから10nmの範囲内であることを特徴とす
る請求項5記載の発光素子。
6. The light emitting device according to claim 5, wherein the thickness of the alloy layer of magnesium and silver used for the negative electrode is in the range of 1 nm to 20 nm, preferably in the range of 3 nm to 10 nm. .
【請求項7】 該陽電極は、錫ドープの酸化インジウム
(ITO)、亜鉛ドープの酸化インジウム(IZO)、
又はアンチモンドープの酸化錫等の金属酸化物導電体、
或いはドーパントを加えたポリピロール、ポリアニリン
等の有機導電体であることを特徴とする請求項3記載の
発光素子。
7. The positive electrode comprises tin-doped indium oxide (ITO), zinc-doped indium oxide (IZO),
Or a metal oxide conductor such as antimony-doped tin oxide,
4. The light emitting device according to claim 3, wherein the light emitting device is an organic conductor such as polypyrrole or polyaniline to which a dopant is added.
【請求項8】 陰電極と陽電極の間に発光層を有する有
機エレクトロルミネッセンス発光素子であって、素子を
形成する基板側からの構成が陰電極、発光層、陽電極の
順に形成されたことを特徴とする発光素子。
8. An organic electroluminescent light-emitting device having a light-emitting layer between a cathode and a cathode, wherein the structure from the substrate side on which the device is formed is formed in the order of a cathode, a light-emitting layer, and a cathode. A light emitting element characterized by the above-mentioned.
【請求項9】 該陰電極及び陽電極は、透光性を有する
ことを特徴とする請求項8記載の発光素子。
9. The light emitting device according to claim 8, wherein the negative electrode and the positive electrode have translucency.
【請求項10】 該陰電極は、基板上に形成された錫ド
ープの酸化インジウム(ITO)、亜鉛ドープの酸化イ
ンジウム(IZO)、又はアンチモンドープの酸化錫、
及び、金等の電極材料を可視光の透過率が50%以上と
なるように、極めて薄く形成する等で作成した透明電極
上に、透光性を損なわない膜厚を有し且つ仕事関数の小
さな材料を形成したものであることを特徴とする請求項
9記載の発光素子。
10. The negative electrode comprises tin-doped indium oxide (ITO), zinc-doped indium oxide (IZO), or antimony-doped tin oxide formed on a substrate;
And a transparent electrode formed by forming an electrode material such as gold so as to have a visible light transmittance of 50% or more so as to be extremely thin, so as to have a film thickness which does not impair the light transmittance and a work function of The light emitting device according to claim 9, wherein a small material is formed.
【請求項11】 該陰電極に用いられる、該仕事関数の
小さな材料は、マグネシウムと銀の合金であることを特
徴とする請求項10記載の発光素子。
11. The light emitting device according to claim 10, wherein the material having a small work function used for the cathode is an alloy of magnesium and silver.
【請求項12】 該陰電極に用いられるマグネシウムと
銀の合金層の膜厚は、1nmから20nmの範囲、望ま
しくは3nmから10nmの範囲内であることを特徴と
する請求項11記載の発光素子。
12. The light emitting device according to claim 11, wherein the thickness of the magnesium-silver alloy layer used for the cathode is in the range of 1 nm to 20 nm, preferably in the range of 3 nm to 10 nm. .
【請求項13】 該陽電極は、錫ドープの酸化インジウ
ム(ITO)、亜鉛ドープの酸化インジウム(IZ
O)、又はアンチモンドープの酸化錫等の金属酸化物導
電体、或いはドーパントを加えたポリピロール、ポリア
ニリン等の有機導電体であることを特徴とする請求項9
記載の発光素子。
13. The positive electrode is made of tin-doped indium oxide (ITO) or zinc-doped indium oxide (IZ).
O) or a metal oxide conductor such as antimony-doped tin oxide, or an organic conductor such as polypyrrole or polyaniline to which a dopant is added.
The light-emitting element according to any one of the preceding claims.
【請求項14】 該基板は、ガラス、透明樹脂等の透明
基板であることを特徴とする請求項8記載の発光素子。
14. The light emitting device according to claim 8, wherein said substrate is a transparent substrate made of glass, transparent resin or the like.
【請求項15】 該基板は、可撓性を有することを特徴
とする請求項8記載の発光素子。
15. The light emitting device according to claim 8, wherein the substrate has flexibility.
【請求項16】 該基板は、可撓性を有する樹脂等の透
明基板であることを特徴とする請求項14及び請求項1
5記載の発光素子。
16. The substrate according to claim 14, wherein said substrate is a transparent substrate made of a flexible resin or the like.
5. The light-emitting device according to 5.
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