JP2000048338A - Composite head - Google Patents

Composite head

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JP2000048338A
JP2000048338A JP11173617A JP17361799A JP2000048338A JP 2000048338 A JP2000048338 A JP 2000048338A JP 11173617 A JP11173617 A JP 11173617A JP 17361799 A JP17361799 A JP 17361799A JP 2000048338 A JP2000048338 A JP 2000048338A
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JP
Japan
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magnetic
head
film
magnetic pole
pole film
Prior art date
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Pending
Application number
JP11173617A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuyuki Ishiwata
延行 石綿
Tsutomu Ishi
勉 石
Kiyokazu Nagahara
聖万 永原
Kazumasa Kumagai
一正 熊谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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  • Magnetic Heads (AREA)
  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composite head which prevents the misalignment of an MR head and an ID head, effectively suppresses the side fringe of the recording medium magnetic field of the ID head and decreases head crashes. SOLUTION: This composite head has a slider body 11, two magnetic shielding films 13, 14 disposed in parallel on the same plane on the downstream side of its floating surface and the MR head disposed therebetween and has the ID head, which is formed with the other magnetic shielding film 14 existing on the downstream side of the two magnetic shielding films 13, 14 as one magnetic pole film, and the other magnetic pole film 15 on the side opposite to the MR head via a magnetic gap on this one magnetic pole film. In such a case, recessed parts 15A, 15B to set the width of the other magnetic pole film are formed on both sides of the other magnetic pole film 15 on the floating surface of the slider body 11 along air flow. Nonmagnetic members are packed into these recessed parts 15A, 15B.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複合ヘッドに係
り、とくに磁気抵抗効果を利用した再生ヘッドと、イン
ダクティブ記録方式のIDヘッドとからなる複合ヘッド
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a composite head, and more particularly to a composite head comprising a reproducing head utilizing a magnetoresistance effect and an inductive recording type ID head.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気記録媒体の小型化、大容量化にとも
なって、読み取り用磁気ヘッドと磁気記録媒体(磁気デ
ィスク)の相対速度が小さくなって来ていることから、
再生出力が速度に依存しない磁気抵抗効果型ヘッド(以
下「MRヘッド」と記す)への期待が高まっている。こ
のMRヘッドについては、「IEEE Trans.o
n Magn.,MAG7(1970)150」におい
て、「A Magneto・resistivity
Readout Transducer」として論じら
れている。最も実用的なMRヘッド装置は、MRヘッド
とインダクティブヘッドとを備え、いわゆる磁気抵抗効
果型複合ヘッド(又は「複合ヘッド」)として知られて
いる。
2. Description of the Related Art As the relative speed between a magnetic head for reading and a magnetic recording medium (magnetic disk) is becoming smaller as the size and capacity of a magnetic recording medium are made smaller,
Expectations for a magnetoresistive head (hereinafter referred to as “MR head”) whose reproduction output does not depend on speed are increasing. Regarding this MR head, "IEEE Trans.o"
n Magn. , MAG7 (1970) 150 "," A Magneto-resistivity "
Readout Transducer ". The most practical MR head device includes an MR head and an inductive head, and is known as a so-called magnetoresistive composite head (or “composite head”).

【0003】この内、MRヘッドは、例えば図9乃至図
10に示すように、磁気記録媒体(磁気ディスク)に対
向して同一面上に平行に配置された二枚の短冊状の磁気
シールド膜53,54と、二枚の磁気シールド膜53,
54の相互間にあって絶縁体からなる磁気的分離層を介
して存在する磁気抵抗効果素子とからなり、再生を行う
機能を有する。
Among them, an MR head is, for example, as shown in FIGS. 9 and 10, two strip-shaped magnetic shield films which are arranged in parallel on the same surface facing a magnetic recording medium (magnetic disk). 53 and 54, and two magnetic shield films 53,
54, a magnetoresistive effect element interposed between them and existing through a magnetic separation layer made of an insulator, and has a function of performing reproduction.

【0004】又、同じく図9乃至図10に示すように、
インダクティブヘッド(以下、「IDヘッド」と記す)
は、前述した二枚の磁気シールド膜53,54の内の他
方の磁気シールド膜54を一方の磁極膜とし、この磁極
膜(他方の磁気シールド膜)54の前述した磁気抵抗効
果素子とは反対側の面に、絶縁体で挟まれたコイル(図
示せず)と他方の磁極膜55とが前述した一方の磁極膜
54に対して平行に積層されて成り、この磁極膜54,
55の相互間に設けられた磁気ギャップGIDに発生する
磁界によって記録を行う機能を備えたものとなってい
る。ここで、符号51はスライダ本体を示し、符号52
は素子保護用のアルミナ膜を示す。また、符号56,5
7は、他方の磁極膜55の両側に設けられた凹部を示
す。
Also, as shown in FIGS. 9 and 10,
Inductive head (hereinafter referred to as "ID head")
The other magnetic shield film 54 of the two magnetic shield films 53 and 54 is used as one magnetic pole film, and this magnetic pole film (the other magnetic shield film) 54 is opposite to the above-described magnetoresistive element. On the side surface, a coil (not shown) sandwiched between insulators and the other magnetic pole film 55 are laminated in parallel with the above-described one magnetic pole film 54, and the magnetic pole films 54,
A recording function is provided by a magnetic field generated in the magnetic gap GID provided between the 55. Here, reference numeral 51 indicates a slider body, and reference numeral 52
Indicates an alumina film for element protection. Reference numerals 56 and 5
Reference numeral 7 denotes a concave portion provided on both sides of the other magnetic pole film 55.

【0005】このように、複合型ヘッドでは、MRヘッ
ドとIDヘッドとが積層されているため、製造工程にお
けるフォトリソグラフィーの目合わせずれから、これら
二つのヘッド(MRヘッドとIDヘッド)とギャップ位
置が相対的にずれるという問題が発生している。
As described above, in the composite type head, since the MR head and the ID head are stacked, the misalignment of the photolithography in the manufacturing process causes the two heads (the MR head and the ID head) and the gap position. However, there is a problem that is relatively shifted.

【0006】一方、この複合ヘッドでは、記録中にかな
り大きいサイドフリンジ磁界が生じる。この磁界は、他
方の磁極膜55の幅が一方の磁極膜54の幅に比べて広
いため、一方の磁極膜54の部分への磁束の漏れに起因
して生じる。このサイドフリンジ磁界は、達成できる最
小トラック幅を制限するため、トラック密度の上限を制
限するという不都合が生じる。このため、上記の複合ヘ
ッドを用いて高密度記録を達成するために、このサイド
フリンジ磁界を小さくすることが必要である。
On the other hand, in this composite head, a considerably large side fringe magnetic field is generated during recording. Since the width of the other magnetic pole film 55 is wider than the width of the one magnetic pole film 54, this magnetic field is generated due to the leakage of the magnetic flux to the one magnetic pole film 54. This side fringe magnetic field limits the minimum achievable track width, and thus has the disadvantage of limiting the upper limit of track density. For this reason, it is necessary to reduce the side fringe magnetic field in order to achieve high-density recording using the composite head.

【0007】従来の記録再生を行うIDヘッドは、各磁
極膜54,55における記録媒体と対向する面(エアベ
アリング面、以下「ABS面」と略す)におけるトラッ
ク幅を規定する各々の面が、実質的に一致するように形
成されていた(同一面を成す)ため、サイドフリンジ磁
界は最小に抑えられていた。しかしながら、上述した複
合ヘッドでは、一方の磁極膜54の幅は、MR素子をシ
ールドするための機能を必要とするため、トラック幅を
規定する他方の磁極膜55の幅に比べて非常に広い幅を
有し、この幅の位相が他方の磁極膜55の幅を越えて横
方向にのびるサイドフリンジ磁束をもたらす。
In the conventional ID head for performing recording and reproduction, each of the magnetic pole films 54 and 55 has a surface (an air bearing surface, hereinafter abbreviated as “ABS surface”) that defines a track width on a surface facing the recording medium. The side fringe magnetic field was suppressed to a minimum because they were formed so as to substantially match (form the same plane). However, in the above-described composite head, the width of one magnetic pole film 54 is required to have a function of shielding the MR element, and therefore, is much wider than the width of the other magnetic pole film 55 that defines the track width. And the phase of this width causes a side fringe magnetic flux extending in the lateral direction beyond the width of the other magnetic pole film 55.

【0008】このサイドフリンジ磁界を従来のIDヘッ
ドのように低減する手法が、特開平7−262519号
公報に開示されている。この特開平7−262519号
公報に開示された手法によると、図11に示すように、
複合ヘッドにおいて、記録IDへッドの一方の磁極(他
方に磁気シールド)54とその磁気ギャップGIDとの間
に、当該一方の磁極54の膜面に平行で且つ他方の磁極
55と同一幅を有すると共に該一方の磁極54の面に直
交する面を有し、そして磁気的に一方の磁極(他方の磁
気シールド)54と連続する突出磁極54aを設ける。
これによって、記録磁界がこの突出磁極54aと他方の
磁極55との間に発生するため、サイドフリンジ磁束が
従来のIDヘッドと同程度に抑制される。
A method of reducing the side fringe magnetic field like a conventional ID head is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-262519. According to the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-262519, as shown in FIG.
In the composite head, the width between one magnetic pole (magnetic shield on the other) 54 of the recording ID head and its magnetic gap GID is parallel to the film surface of the one magnetic pole 54 and the same width as the other magnetic pole 55. And a projecting magnetic pole 54a having a surface perpendicular to the surface of the one magnetic pole 54 and magnetically continuous with the one magnetic pole (the other magnetic shield) 54 is provided.
As a result, a recording magnetic field is generated between the projecting magnetic pole 54a and the other magnetic pole 55, so that the side fringe magnetic flux is suppressed to the same degree as that of the conventional ID head.

【0009】この図11において、符号64はMRヘッ
ドを示し、符号65,66はそれぞれMRヘッド64の
端部領域を示す。また、符号64A,64B、それぞれ
MRヘッド64の上ギャップ,下ギャップを示す。
In FIG. 11, reference numeral 64 indicates an MR head, and reference numerals 65 and 66 indicate end regions of the MR head 64, respectively. Reference numerals 64A and 64B denote an upper gap and a lower gap of the MR head 64, respectively.

【0010】ここで、突出磁極54aの形成方法を、図
12に基づいて説明する。まず、MRヘッド64の他方
の磁気シールドと兼用される一方の磁極54(P1)上
に磁気ギャップGを形成し、次に、フォトレジストフレ
ーム74,75で規定されたフレームメッキ処理によ
り、所定の幅を持つ磁気シールドP2を形成し、この磁
気シールドP2をマスクとして、イオンビームミリング
により一方の磁極54を所望の深さエッチングし、これ
によって前述した突出磁極P3(54a)を形成する。
このとき、イオンビームBの入射角度を最適に設定する
ことによって、磁極P2と突出磁極P3(54a)を一
方の磁極54(P1)の面に直交するようにすることが
出来る。
Here, a method of forming the projecting magnetic pole 54a will be described with reference to FIG. First, a magnetic gap G is formed on one magnetic pole 54 (P1) also serving as the other magnetic shield of the MR head 64, and then a predetermined plating is performed by a frame plating process defined by the photoresist frames 74 and 75. A magnetic shield P2 having a width is formed, and one magnetic pole 54 is etched to a desired depth by ion beam milling using the magnetic shield P2 as a mask, thereby forming the above-described protruding magnetic pole P3 (54a).
At this time, by optimally setting the incident angle of the ion beam B, the magnetic pole P2 and the projecting magnetic pole P3 (54a) can be made orthogonal to the surface of one magnetic pole 54 (P1).

【0011】そして、突出磁極P3(54a)の高さを
所望の高さとすることによって、実質的に記録磁束は、
当該突出磁極P3(54a)と他方の磁極P2(55)
との間で規定され、サイドフリンジが従来のIDヘッド
並に抑制される。このように、特開平7−262519
号公報に開示されている複合型ヘッドの製造方法では、
突出磁極P3(54a)を形成するためにイオンビーム
ミリングを駆使している。このとき、磁極P2(55)
がマスクとして機能を果たすため、ミリングの進行に伴
って他方の磁極P2(55)の膜厚が減少する。即ち、
所望の突出磁極P3(54a)を形成した後に、所望す
る他方の磁極P2(55)を得るためには、イオンミリ
ングによって生じる他方の磁極P2(55)の膜厚の減
少を予め見込んでおく必要がある。
By setting the height of the projecting magnetic pole P3 (54a) to a desired height, the recording magnetic flux substantially becomes
The projecting magnetic pole P3 (54a) and the other magnetic pole P2 (55)
And the side fringe is suppressed to the same level as the conventional ID head. As described above, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-262519
In the manufacturing method of the composite type head disclosed in
Ion beam milling is used to form the protruding magnetic pole P3 (54a). At this time, the magnetic pole P2 (55)
Functions as a mask, the thickness of the other magnetic pole P2 (55) decreases as the milling progresses. That is,
After forming the desired protruding magnetic pole P3 (54a), in order to obtain the desired other magnetic pole P2 (55), it is necessary to anticipate a decrease in the film thickness of the other magnetic pole P2 (55) caused by ion milling. There is.

【0012】この図12に示した特開平7−26251
9号公報に開示されている複合型ヘッドの製造方法で
は、フレームメッキ処理による初期の磁極(他方の磁
極)P2(55)の形成のために、フレーム74,75
の高さを従来に比べて大幅に高くする必要があった。即
ち、ミリング後の他方の磁極P2(55)は、ミリング
前に比べて膜厚が大幅に減少するため、ミリング前の他
方の磁極P2(55)を相当分厚くしなければならな
い。
[0012] Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-26251 shown in FIG.
In the manufacturing method of the composite type head disclosed in Japanese Patent Application Publication No. 9-92, the frames 74 and 75 are formed to form the initial magnetic pole (the other magnetic pole) P2 (55) by frame plating.
It was necessary to greatly increase the height of the conventional device. That is, the thickness of the other magnetic pole P2 (55) after milling is significantly reduced as compared with that before milling. Therefore, the other magnetic pole P2 (55) before milling must be considerably thick.

【0013】一方、十分な膜厚を確保するためにフレー
ム74,75を高くすると、多くはフレーム間隔を狭く
することが困難となる。特開平7−262519号公報
では、この限界を2〔μm〕としている。換言すると、
この特開平7−262519号公報に開示された方法で
は、トラック幅2〔μm〕以下の高密度記録を実現する
複合ヘッドの実現は困難なものとなっていた。
On the other hand, if the height of the frames 74 and 75 is increased in order to secure a sufficient film thickness, it is often difficult to reduce the frame interval. In JP-A-7-262519, this limit is set to 2 [μm]. In other words,
With the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-262519, it has been difficult to realize a composite head that realizes high-density recording with a track width of 2 [μm] or less.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、MR
ヘッドとIDヘッドとの複合による複合型ヘッドでは、
MRヘッドとIDヘッドとの位置ずれの問題、或いはI
Dヘッドの記録磁界のサイドフリンジを小さくするため
の構造を採用すると逆に狭いトラックヘッドの作製が困
難になるといった問題等があった。これらの解決策とし
て、ウエハ処理により、IDヘッドの磁極55(P2)
の幅を規定したり磁極54(P1)上に磁極55(P
2)との同一側面を持つ磁極54a(P3)を形成する
のではなく、ABS面からイオンビームエッチングによ
って磁極55(P2)の幅規制や、磁極54a(P3)
を行う方法が挙げられる。
SUMMARY OF THE INVENTION As described above, the MR
In the composite type head by combining the head and the ID head,
The problem of misalignment between the MR head and the ID head, or I
If a structure for reducing the side fringe of the recording magnetic field of the D head is adopted, there is a problem that it is difficult to manufacture a narrow track head. As a solution to these problems, the magnetic pole 55 (P2) of the ID head is processed by wafer processing.
Of the magnetic pole 55 (P1) on the magnetic pole 54 (P1).
Rather than forming the magnetic pole 54a (P3) having the same side as that of 2), the width of the magnetic pole 55 (P2) is regulated by ion beam etching from the ABS surface, and the magnetic pole 54a (P3) is formed.
Is performed.

【0015】これに関連して、IDヘッドにより記録再
生を行う従来の薄膜ヘッドでは、再生波形のアンダーシ
ュートを抑制するためにABS面からイオンビームエッ
チングを実施する方法が用いられていることが、例え
ば、「IEEE Trans.on Magn.,Vo
l.29,No.6(1993)3837」において
「Edge Eliminated Head」として
述べられている。
In connection with this, in a conventional thin film head which performs recording and reproduction by an ID head, a method of performing ion beam etching from an ABS surface to suppress undershoot of a reproduction waveform is used. For example, “IEEE Trans. On Magn., Vo”
l. 29, No. 6 (1993) 3837 "as" Edge Eliminated Head ".

【0016】しかしながら、MRヘッドとIDヘッドと
の複合ヘッドのように高密度記録に用いられるヘッドに
この方法を適用しようとすると、ヘッドと媒体との間隙
が極度に小さくなるため、イオンビームエッチングによ
り形成された凹部にゴミが溜まり易く、最悪の場合には
ヘッドクラッシュを引き起こす原因となる。
However, if this method is applied to a head used for high-density recording such as a combined head of an MR head and an ID head, the gap between the head and the medium becomes extremely small. Dust easily accumulates in the formed recess, and in the worst case, it causes a head crash.

【0017】[0017]

【発明の目的】本発明は、かかる従来例の有する不都合
を改善し、とくに、MRヘッドとIDヘッドとの位置ず
れや、IDヘッドの記録磁界のサイドフリンジを有効に
抑制すると共に生産性良好な、更にはヘッドクラッシュ
の発生を低減可能な、複合ヘッドを提供することを、そ
の目的とする。
An object of the present invention is to improve the disadvantages of the prior art, and in particular, to effectively suppress the displacement between the MR head and the ID head, the side fringe of the recording magnetic field of the ID head, and improve the productivity. It is another object of the present invention to provide a composite head capable of reducing the occurrence of head crash.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明では、磁気ディスクに対する浮上面を備えた
スライダ本体と、このスライダ本体の浮上面の下流側に
所定間隔を隔てて且つ空気流に直交するようにして同一
面上に配設された二枚の磁気シールド膜と、前記二枚の
対向する磁気シールド膜の相互間に絶縁体からなる磁気
的分離層を介して装備された磁気抵抗効果型ヘッドとを
備えている。また、二枚の磁気シールド膜の内の下流側
に位置する他方の磁気シールド膜を一方の磁極膜とし、
この一方の磁極膜に磁気ギャップを介して前記磁気抵抗
効果型ヘッドとは反対側の面に装備された他方の磁極膜
を備え、且つこの磁気ギャップに発生する磁界により記
録を行う機能を備えたインダクティブヘッドとを備えて
いる。
In order to achieve the above object, the present invention provides a slider body having a flying surface for a magnetic disk, and an air flow at a predetermined distance downstream of the flying surface of the slider body. And two magnetic shield films disposed on the same surface so as to be orthogonal to the magnetic shield film provided between the two opposing magnetic shield films via a magnetic separation layer made of an insulator. And a resistance effect type head. Further, the other magnetic shield film located on the downstream side of the two magnetic shield films is used as one magnetic pole film,
The one magnetic pole film is provided with the other magnetic pole film provided on the surface opposite to the magnetoresistive head via a magnetic gap, and has a function of performing recording by a magnetic field generated in the magnetic gap. And an inductive head.

【0019】更に、前述したスライダ本体の浮上面にお
ける他方の磁極膜の空気流に沿った方向の両側に、当該
他方の磁極膜の幅を規定する凹部を形成する。そして、
この各凹部内に酸化物、窒化物又は炭化物のいずれかよ
りなる非磁性部材を充填する、という構成を採ってい
る。
Further, a concave portion for defining the width of the other magnetic pole film is formed on both sides of the air bearing surface of the slider body in the direction along the air flow of the other magnetic pole film. And
Each of the recesses is filled with a non-magnetic member made of any one of oxide, nitride, and carbide.

【0020】そして、前述した他方の磁極膜の幅を設定
する凹部を、一方の磁極膜の一部に食い込むように配設
しても良い。
The above-described recess for setting the width of the other magnetic pole film may be provided so as to bite into a part of the one magnetic pole film.

【0021】ここで、本発明では、ABS面に形成され
た凹部を埋め込む材料としては、酸化物、窒化物又は炭
化物よりなる非磁性体で有れば基本的には磁気ヘッドと
しての性能を満足するが、より高い信頼性を実現するた
めにはアルミナを用いることが望ましい。
Here, in the present invention, if the material for filling the concave portion formed on the ABS surface is a non-magnetic material made of oxide, nitride or carbide, basically the performance as a magnetic head is satisfied. However, in order to achieve higher reliability, it is desirable to use alumina.

【0022】このように構成された本発明の複合ヘッド
について、他方の磁極膜の両側面の凹部に充填アルミナ
膜を初め何らの充填物をも充填しない場合(図10に示
す従来例)を基準として、その記録再生特性を評価して
みた。この結果、凹部の形成により狭い幅に規定された
他方の磁極膜によって良好な狭トラック記録特性が得ら
れると共に、当該他方の磁極膜の側面の凹部によってM
R素子部とID素子部との位置ずれが修正されることと
なり、これがため、製造歩留まりの向上を図ることがで
きた。
With respect to the composite head of the present invention having the above-described structure, a case where no filling material such as a filling alumina film is filled in the concave portions on both side surfaces of the other magnetic pole film (the conventional example shown in FIG. 10) is used as a reference. The recording and reproducing characteristics were evaluated. As a result, a good narrow track recording characteristic is obtained by the other magnetic pole film having a narrow width defined by the formation of the concave portion, and the M is formed by the concave portion on the side surface of the other magnetic pole film.
The displacement between the R element portion and the ID element portion is corrected, and therefore, the production yield can be improved.

【0023】更に、前述した凹部に何の充填物をも充填
しない従来型の複合ヘッドでは、磁極端に形成された凹
部に、媒体潤滑剤や微小な粒子がたまる結果、ABS面
の汚れが著しく、クラッシュの発生が顕著であったが、
これに対して、本発明にかかる複合ヘッドにあっては、
高密度記録に対応したABS面と磁気媒体との狭い間隙
にもかかわらず、ABS面の汚れが発生しにくく、この
ため、ヘッドクラッシュの発生を有効に抑制することが
できた。
Further, in the conventional composite head in which the recess is not filled with any filling material, medium lubricant and fine particles accumulate in the recess formed at the pole tip, so that the ABS surface is significantly contaminated. , The crash was noticeable,
On the other hand, in the composite head according to the present invention,
Despite the narrow gap between the ABS surface and the magnetic medium corresponding to high-density recording, contamination of the ABS surface is unlikely to occur, so that the occurrence of a head crash could be effectively suppressed.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に従って説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

【0025】(第1の実施形態)図1乃至図5にこれを
示す。ここで、図1はMRヘッド/IDヘッドの複合ヘ
ッドを装備したスライダ全体を磁気記録媒体(磁気ディ
スク)と対向する面(ABS面)から見た概略斜視図で
ある。また、図2は浮上面(ABS面)を示す平面図、
図3は図1における複合ヘッド部分の拡大斜視図であ
る。
(First Embodiment) FIGS. 1 to 5 show this. Here, FIG. 1 is a schematic perspective view of the entire slider equipped with a combined MR head / ID head as viewed from a surface (ABS surface) facing a magnetic recording medium (magnetic disk). FIG. 2 is a plan view showing an air bearing surface (ABS surface);
FIG. 3 is an enlarged perspective view of the composite head portion in FIG.

【0026】まず、図1において、符号11はアルミナ
とチタンカーバイドとの複合セラミックによるスライダ
本体を示す。また、符号12はMR素子等が装備された
領域全体を覆うアルミナ膜を示し、符号13および14
はMR素子用の磁気シールドを示す。この内、符号13
は一方の磁気シールド、符号14は他方の磁気シールド
である。これらの各磁気シールド13,14は、NiF
e合金(パーマロイ)により形成され、その膜厚は、一
方の磁気シールド13が2〔μm〕に、他方の磁気シー
ルド14が3〔μm〕にそれぞれ設定されている。この
各磁気シールド13,14の相互間には、図4に示すM
R素子5が配設装備されている。
First, in FIG. 1, reference numeral 11 denotes a slider body made of a composite ceramic of alumina and titanium carbide. Reference numeral 12 denotes an alumina film that covers the entire area provided with the MR element and the like, and reference numerals 13 and 14
Indicates a magnetic shield for the MR element. Among them, reference numeral 13
Denotes one magnetic shield, and reference numeral 14 denotes the other magnetic shield. These magnetic shields 13 and 14 are made of NiF
The thickness of the magnetic shield 13 is set to 2 [μm], and the thickness of the other magnetic shield 14 is set to 3 [μm]. The space between the magnetic shields 13 and 14 is M
An R element 5 is provided.

【0027】このMR素子5は、図4に示すように、感
磁部である中央領域5Aと,この感磁部である中央領域
5Aに電流と縦バイアスとを供給する機能を備えた端部
領域5B,5Cとにより形成されている(図4参照)。
そして、この図4に示すMR素子5の中央領域5Aは、
MR効果を有し膜厚が10〔nm〕のNiFe膜からな
るMR効果膜5Aaと、このMR効果膜5Aa横バイア
スをかけるための膜厚が15〔nm〕のCoZrMo膜
からなる横バイアス印加膜5Abと、NiFe膜とCo
ZrMo膜とを磁気的に分離するための膜厚が7〔n
m〕のTa膜からなる磁気分離膜5Acとにより構成さ
れている。これらは、図4の下側から順に、横バイアス
印加膜(CoZrMo膜)5Ab,磁気分離膜(Ta
膜)5Ac,MR効果膜(NiFe膜)5Aaがそれぞ
れ積層されている。
As shown in FIG. 4, the MR element 5 has a central region 5A which is a magnetically sensitive portion, and an end portion having a function of supplying a current and a vertical bias to the central region 5A which is a magnetically sensitive portion. It is formed by regions 5B and 5C (see FIG. 4).
The central region 5A of the MR element 5 shown in FIG.
An MR effect film 5Aa made of a NiFe film having an MR effect and having a thickness of 10 [nm], and a lateral bias application film made of a CoZrMo film having a thickness of 15 [nm] for applying a lateral bias to the MR effect film 5Aa. 5 Ab, NiFe film and Co
The thickness for magnetically separating the ZrMo film is 7 [n
m], a magnetic separation film 5Ac made of a Ta film. These are, in order from the lower side in FIG. 4, a lateral bias application film (CoZrMo film) 5Ab and a magnetic separation film (Ta
The film 5Ac and the MR effect film (NiFe film) 5Aa are respectively laminated.

【0028】この図4に示す上記MR素子5の中央領域
5Aの幅は0.8〔μm〕に設定されている。また、端
部領域5B,5Cは、この中央領域5Aと電気的に接合
しており、それぞれ、中央領域5AのMR効果膜5Aa
に縦バイアスを供給する縦バイアス供給膜(CoPtC
r膜)5Ba,5Caと、中央領域5Aに電流を供給す
る中央電流供給膜(Au膜)5Bb,5Cbとからな
る。
The width of the central region 5A of the MR element 5 shown in FIG. 4 is set to 0.8 [μm]. The end regions 5B and 5C are electrically connected to the central region 5A, and the MR effect films 5Aa in the central region 5A are respectively provided.
Bias supply film (CoPtC) for supplying a vertical bias to
r films) 5Ba and 5Ca, and central current supply films (Au films) 5Bb and 5Cb for supplying current to the central region 5A.

【0029】ここで、縦バイアス供給膜(CoPtCr
膜)5Ba,5Caの膜厚は25〔nm〕に設定されて
いる。そして、上述した中央領域5Aおよび端部領域5
B,5CからなるMR素子5は、アルミナ膜6,7によ
って前述した各磁気シールド13,14の相互間に対し
て絶縁されている。この場合、アルミナ膜6の膜厚は9
0〔nm〕、アルミナ膜7の膜厚は65〔nm〕であ
る。
Here, the vertical bias supply film (CoPtCr)
The thickness of each of the (films) 5Ba and 5Ca is set to 25 [nm]. Then, the above-described central region 5A and end region 5
The MR element 5 composed of B and 5C is insulated from the magnetic shields 13 and 14 by the alumina films 6 and 7. In this case, the thickness of the alumina film 6 is 9
0 [nm], and the thickness of the alumina film 7 is 65 [nm].

【0030】更に、図1において、前述した他方の磁気
シールド14は、本実施形態にあってはIDヘッドの一
方の磁極膜を兼ね備えている。そして、このIDヘッド
の一方の磁極である他方の磁気シールド14に対応し
て、アルミナによる磁気ギャップGIDを介して、NiF
eから成る他方の磁極膜15が形成されている。この他
方の磁極15の前述した他方の磁気シールド(一方の磁
極膜)14の長さに沿った方向の幅は、1.1〔μm〕
となるように、当該他方の磁極膜15の両側に形成され
た凹部15A,15Bによって規制されている。
Further, in FIG. 1, the other magnetic shield 14 described above has one magnetic pole film of the ID head in this embodiment. Then, corresponding to the other magnetic shield 14 which is one magnetic pole of the ID head, NiF is passed through a magnetic gap G ID of alumina.
The other magnetic pole film 15 made of e is formed. The width of the other magnetic pole 15 in the direction along the length of the other magnetic shield (one magnetic pole film) 14 is 1.1 [μm].
Are regulated by the concave portions 15A and 15B formed on both sides of the other magnetic pole film 15.

【0031】この他方の磁極膜15の両側に形成された
凹部15A,15Bには、アルミナ膜15Aa,15B
aが埋め込まれている。このアルミナ膜15Aa,15
Baが埋め込まれた凹部15A,15Bは、その深さが
1〔μm〕、幅が2〔μm〕、磁極膜15の厚さ方向の
高さは4〔μm〕である。また、他方の磁極膜15の厚
さは3.5〔μm〕、磁気ギャップGIDのギャップ長は
0.25〔μm〕に設定されている。
The recesses 15A, 15B formed on both sides of the other magnetic pole film 15 have alumina films 15Aa, 15B.
a is embedded. These alumina films 15Aa, 15
The recesses 15A and 15B in which Ba is embedded have a depth of 1 μm, a width of 2 μm, and a height in the thickness direction of the pole film 15 of 4 μm. The thickness of the other magnetic pole film 15 is set to 3.5 [μm], and the gap length of the magnetic gap G ID is set to 0.25 [μm].

【0032】前述した一方の磁極膜(他方の磁気シール
ド)14及び他方の磁極膜15のABS面から約2〔μ
m〕奥には、フォトレジスト材料によって絶縁されたC
uコイル(図示せず)が形成され、このCuコイルに電
流を流すことによって、磁気ギャップGIDに記録磁界を
発生させる。
From the ABS surface of one of the magnetic pole films (the other magnetic shield) 14 and the other magnetic pole film 15, about 2 μm
m] In the back, C insulated by photoresist material
A u coil (not shown) is formed, and a current flows through the Cu coil to generate a recording magnetic field in the magnetic gap G ID .

【0033】次に、上記第1の実施形態による複合ヘッ
ドの製造方法について、図5を用いて説明する。図5に
おいて、工程1はウエハ工程を示す。このウエハ工程
は、アルミナとチタンカーバイドからなる複合セラミッ
ク(以下、「アルチック」と略す)のウエハにおいて、
近接して装備された二枚の磁気シールド膜13および1
4と、これら二枚の磁気シールド膜13および14の相
互間に絶縁体からなる磁気的分離層を介して配設された
MR素子5とからなるMRエレメントとを形成する工程
である。
Next, a method of manufacturing the composite head according to the first embodiment will be described with reference to FIG. In FIG. 5, Step 1 shows a wafer step. In this wafer process, a composite ceramic (hereinafter abbreviated as “Altic”) wafer made of alumina and titanium carbide is used.
Two magnetic shield films 13 and 1 mounted in close proximity
4 and an MR element comprising an MR element 5 disposed between the two magnetic shield films 13 and 14 via a magnetic separation layer made of an insulator.

【0034】更に、このウエハ工程(工程1)では、前
述した二枚の磁気シールド膜13および14の内の他方
の磁気シールド膜14を一方の磁極膜とし,この磁極膜
14のMR素子5とは反対側の面に絶縁体で挟まれたコ
イルと他方の磁極膜15とが一方の磁極膜14に対して
平行に積層され,当該一方と他方の磁極膜14,15の
相互間に設けられた磁気ギャップGIDに発生する磁界に
より記録を行うIDエレメントを形成する工程でもあ
る。
Further, in this wafer step (Step 1), the other magnetic shield film 14 of the two magnetic shield films 13 and 14 is used as one magnetic pole film, and the MR element 5 of this magnetic pole film 14 In the other, a coil sandwiched between insulators on the opposite side and the other magnetic pole film 15 are laminated in parallel with one magnetic pole film 14, and provided between the one and the other magnetic pole films 14, 15. This is also a step of forming an ID element for performing recording by a magnetic field generated in the magnetic gap G ID .

【0035】この工程1のウエハ工程の後に、図5に示
す如く、ウエハをバー状に切断する工程2(バー切断工
程),バーの媒体対向面を研磨する工程3(ABS面粗
研磨工程),媒体対向面に露出した他方の磁極膜15の
幅を規定するために当該磁極膜15の側面に凹部15
A,15Bを形成するための工程4(凹部形成工程)
を、順次行う。
After the wafer process of this process 1, as shown in FIG. 5, a process 2 for cutting the wafer into bars (bar cutting process), a process for polishing the medium facing surface of the bar 3 (ABS surface rough polishing process) In order to define the width of the other magnetic pole film 15 exposed on the medium facing surface, a concave portion 15 is formed on the side surface of the magnetic pole film 15.
Step 4 for forming A and 15B (recess forming step)
Are sequentially performed.

【0036】この工程4の凹部形成工程は、高い精度が
要求されることから本実施形態では集束イオンビーム
(FIB)を用いて行った。更に、図5の工程5に示す
凹部15A,15Bを埋め込むためのアルミナ膜(充填
アルミナ膜)15Aa,15Baを成膜する工程(凹部
埋め込み膜成膜工程)と、工程6に示す非磁性膜が形成
されたABS面を研磨し前述したMR素子5および他方
の磁極膜15の媒体対向面からの奥行きを規定する工程
(ポールハイトラップ工程)を順次行い、図5の工程7
に示すように凹部15A,15Bを完全に埋め込んだ後
に、スライダを加工し、これによって、図2に示す複合
ヘッドが完成する。
The concave portion forming step of Step 4 is performed using a focused ion beam (FIB) in this embodiment because high precision is required. Further, a step of forming alumina films (filled alumina films) 15Aa and 15Ba for filling the recesses 15A and 15B shown in step 5 of FIG. 5 (recess filling film formation step) and a non-magnetic film shown in step 6 are formed. The step of polishing the formed ABS surface and defining the depth of the MR element 5 and the other magnetic pole film 15 from the medium facing surface (pole high trapping step) is sequentially performed.
After the recesses 15A and 15B are completely buried as shown in FIG. 2, the slider is processed, whereby the composite head shown in FIG. 2 is completed.

【0037】上述した第1の実施形態における複合ヘッ
ドに対し、他方の磁極膜15の側面の凹部15A,15
Bに充填アルミナ膜を初め何らの充填物をも充填しない
場合(図10に示す従来例)を基準として、その記録再
生特性を評価してみた。この場合、前述した本実施形態
による複合ヘッドでは、凹部の形成により狭い幅に規定
された他方の磁極膜15によって良好な狭トラック記録
特性が得られると共に、当該他方の磁極膜15の側面の
凹部15A,15BによってMR素子部とID素子部と
の位置ずれが修正されることとなり、これがため、製造
歩留まりの向上を図ることができた。
In contrast to the composite head of the first embodiment described above, the recesses 15A, 15A on the side surfaces of the other pole film 15 are provided.
The recording / reproducing characteristics were evaluated on the basis of the case where B was not filled with any filling material at the beginning with the filled alumina film (the conventional example shown in FIG. 10). In this case, in the composite head according to the present embodiment described above, good narrow track recording characteristics can be obtained by the other magnetic pole film 15 having a narrow width due to the formation of the concave portion, and the concave portion on the side surface of the other magnetic pole film 15 can be obtained. 15A and 15B correct the misalignment between the MR element part and the ID element part, thereby improving the production yield.

【0038】更に、凹部15A,15Bに何の充填物を
も充填しない従来型の複合ヘッドでは、記録特性は本実
施形態の複合ヘッドと同等であるが、磁極端に形成され
た凹部に、媒体潤滑剤や微小な粒子がたまる結果、AB
S面の汚れが著しく、クラッシュの発生が顕著であった
が、これに対して、本実施形態にあっては、高密度記録
に対応したABS面と磁気媒体との狭い間隙にもかかわ
らず、ABS面の汚れが発生しにくく、このため、ヘッ
ドクラッシュの発生を有効に抑制することができた。
Furthermore, in the conventional composite head in which the recesses 15A and 15B are not filled with any filler, the recording characteristics are the same as those of the composite head of the present embodiment, but the medium formed in the magnetic pole is formed with a concave portion. As a result of accumulation of lubricant and fine particles, AB
The S surface was significantly contaminated and the crash was remarkable. On the other hand, in the present embodiment, despite the narrow gap between the ABS surface and the magnetic medium corresponding to high density recording, Dirt on the ABS was hardly generated, and therefore, the occurrence of a head crash could be effectively suppressed.

【0039】(第2の実施形態)次に、第2の実施形態
を図6乃至図8に基づいて説明する。まず、図6におい
て、符号21はアルミナとチタンカーバイドとの複合セ
ラミックによるスライダ本体を示し、符号22は素子を
覆うアルミナ膜を示す。符号23,24はMR素子用の
磁気シールドを示す。この内、符号23は一方の磁気シ
ールド、符号24は他方の磁気シールドを示す。これら
の各磁気シールド23,24は、NiFe合金(パーマ
ロイ)により形成され、その膜厚は一方の磁気シールド
23が2〔μm〕、他方の磁気シールド24が3〔μ
m〕である。
(Second Embodiment) Next, a second embodiment will be described with reference to FIGS. First, in FIG. 6, reference numeral 21 indicates a slider body made of a composite ceramic of alumina and titanium carbide, and reference numeral 22 indicates an alumina film covering the element. Reference numerals 23 and 24 indicate magnetic shields for the MR element. Reference numeral 23 denotes one magnetic shield, and reference numeral 24 denotes the other magnetic shield. Each of these magnetic shields 23 and 24 is formed of a NiFe alloy (permalloy), and has a thickness of 2 μm for one magnetic shield 23 and 3 μm for the other magnetic shield 24.
m].

【0040】この各磁気シールド23,24の相互間
に、前述した図4におけるのと同等の構成および同等の
機能を備えたMR素子が装備されている。この第2の実
施形態におけるMR素子は、前述した第1の実施形態に
おけるMR素子とその構成および機能は同等であるが、
中央領域の幅は0.5〔μm〕に設定されている。
An MR element having the same configuration and the same function as those in FIG. 4 is provided between the magnetic shields 23 and 24. The MR element according to the second embodiment has the same configuration and function as the MR element according to the first embodiment described above.
The width of the central region is set to 0.5 [μm].

【0041】IDヘッドの一方の磁極膜としても機能す
る他方の磁気シールド24に対応して、アルミナによる
磁気ギャップGIDを介してNiFe膜による他方の磁極
膜25が形成されている。そして、この他方の磁極膜2
5の幅が0.7〔μm〕となるように、当該他方の磁極
膜25の両側に前述した第1の実施形態の場合と同様の
凹部25A,25Bが当該他方の磁極膜25の両側に沿
って形成されている。
Corresponding to the other magnetic shield 24 which also functions as one magnetic pole film of the ID head, another magnetic pole film 25 made of a NiFe film is formed via a magnetic gap G ID made of alumina. And the other pole film 2
The recesses 25A and 25B similar to those in the first embodiment described above are formed on both sides of the other magnetic pole film 25 so that the width of the second magnetic pole film 25 becomes 0.7 [μm]. It is formed along.

【0042】更に、図7に示すように、この他方の磁極
膜25の側面に形成された凹部25A,25Bは、(記
録用の磁気ギャップGIDを越えて)直線状に一方の磁極
膜(他方の磁気シールド)24に食い込むまで延設さ
れ、更にこの凹部25A,25Bには、アルミナ膜25
Aa,25Baが埋め込まれている。このアルミナ膜2
5Aa,25Baが埋め込まれた凹部25A,25B
は、その深さが0.8〔μm〕、幅は2〔μm〕、凹部
25A,25Bによって一方の磁極膜24に食い込んで
形成された他方の磁極膜25と面一を成す側面の高さは
0.7〔μm〕に設定されている。
Further, as shown in FIG. 7, the concave portions 25A and 25B formed on the side surfaces of the other magnetic pole film 25 are linearly formed (beyond the recording magnetic gap G ID ). The other magnetic shield) 24 extends into the recess 25A, 25B.
Aa and 25Ba are embedded. This alumina film 2
Recesses 25A and 25B in which 5Aa and 25Ba are embedded
Has a depth of 0.8 [μm], a width of 2 [μm], and a height of a side surface flush with the other pole film 25 formed by cutting into one pole film 24 by the recesses 25A and 25B. Is set to 0.7 [μm].

【0043】この一方の磁極膜24及び他方の磁極膜2
5のABS面から約2〔μm〕奥には、フォトレジスト
材料によって絶縁されたCuコイル(図示せず)が装備
され、このCuコイルに電流を流すことによって、磁気
ギャップGIDに記録磁界を発生させる。
The one magnetic pole film 24 and the other magnetic pole film 2
A Cu coil (not shown) insulated by a photoresist material is provided at a depth of about 2 [μm] from the ABS surface of No. 5 and a recording magnetic field is applied to the magnetic gap G ID by applying a current to the Cu coil. generate.

【0044】次に、上記第2の実施形態による複合ヘッ
ドの製造方法について、図8を用いて説明する。この図
8において、工程1はウエハ工程を示す。このウエハ工
程は、アルミナとチタンカーバイドからなる複合セラミ
ック(以下「アルチック」と略す)のウエハにおいて、
二枚の磁気シールド膜23および24と、これら二枚の
磁気シールド膜23および24の相互間に絶縁体からな
る磁気的分離層を介して存在するMR素子とからなるM
Rエレメントとを形成する工程である。
Next, a method of manufacturing the composite head according to the second embodiment will be described with reference to FIG. In FIG. 8, Step 1 shows a wafer step. This wafer process is performed on a wafer of a composite ceramic (hereinafter abbreviated as “Altic”) composed of alumina and titanium carbide.
An M element consisting of two magnetic shield films 23 and 24 and an MR element existing between the two magnetic shield films 23 and 24 via a magnetic separation layer made of an insulator.
This is a step of forming an R element.

【0045】更に、このウエハ工程は、前述した二枚の
磁気シールド膜23および24の内の他方の磁気シール
ド膜24を一方の磁極膜とし,この他方の磁気シールド
膜でもある一方の磁極膜24の前述したMR素子とは反
対側の面に絶縁体で挟まれたコイルと他方の磁極膜25
とが磁極膜24に対して平行に配設され,当該一方と他
方の磁極膜24,25の相互間に設けられた磁気ギャッ
プGIDに発生する磁界により記録を行うIDエレメント
を形成する工程でもある。
Further, in this wafer process, the other magnetic shield film 24 of the two magnetic shield films 23 and 24 is used as one magnetic pole film, and the other magnetic shield film 24 is used as the other magnetic shield film. And the other magnetic pole film 25 sandwiched between insulators on the surface opposite to the aforementioned MR element.
Are arranged in parallel with the magnetic pole film 24, and the step of forming an ID element for recording by a magnetic field generated in a magnetic gap G ID provided between the one and the other magnetic pole films 24, 25 is also performed. is there.

【0046】この工程1のウエハ工程の後に、図8に示
す如く、ウエハをバー状に切断する工程2(バー切断工
程),バーの媒体対向面を研磨する工程3(ABS面粗
研磨工程),媒体対向面に露出した他方の磁極膜25の
幅を規定するために当該他方の磁極膜25の側面に凹部
25A,25Bを形成するための工程4(凹部形成工
程)を、順次行う。この工程4の凹部形成工程は、高い
精度が要求されることから本実施形態では集束イオンビ
ーム(FIB)を用いて行った。
As shown in FIG. 8, after the wafer process of this process 1, a process 2 for cutting the wafer into bars (bar cutting process), a process for polishing the medium facing surface of the bar 3 (ABS surface rough polishing process) In order to define the width of the other magnetic pole film 25 exposed on the medium facing surface, Step 4 (recess forming step) for forming the concave portions 25A and 25B on the side surfaces of the other magnetic pole film 25 is sequentially performed. In the present embodiment, the concave portion forming step of Step 4 is performed using a focused ion beam (FIB) because high accuracy is required.

【0047】更に、図8の工程5に示す凹部を埋め込む
ためのアルミナ膜(充填アルミナ膜)を成膜する工程
(凹部埋め込み膜成膜工程)と、工程6に示す非磁性膜
が形成されたABS面を研磨し前述したMR素子5およ
び磁極膜25の媒体対向面からの奥行きを規定する工程
(ポールハイトラップ工程)を順次行い、図8の工程7
に示すように凹部25A,25Bをを完全に埋め込んだ
後に、スライダを加工し、これによって、図2に示す複
合ヘッドが完成する。
Further, a step of forming an alumina film (filled alumina film) for filling the recess shown in step 5 of FIG. 8 (a step of forming a recess filling film) and a nonmagnetic film shown in step 6 were formed. The step of polishing the ABS surface and defining the depth of the MR element 5 and the magnetic pole film 25 from the medium facing surface (pole high trapping step) is sequentially performed.
After the recesses 25A and 25B are completely buried as shown in FIG. 2, the slider is processed, whereby the composite head shown in FIG. 2 is completed.

【0048】以上の本第2の実施形態における複合ヘッ
ドに対し、他方の磁極膜25の側面の凹部25A,25
Bに充填アルミナ膜等の充填物を充填しない場合(図1
0に示す従来例)を基準として、その記録再生特性を評
価してみた。この場合、本第2の実施形態による複合ヘ
ッドでは、凹部の形成により狭い幅に規定された他方の
磁極膜25により良好な狭いトラック記録特性が得られ
ると共に、凹部形成によってMR素子部とID素子部と
の位置ずれが修正されるために製造歩留まりを大幅に改
善することができた。
In contrast to the composite head of the second embodiment described above, the concave portions 25A, 25
B is not filled with a filler such as a filled alumina film (FIG. 1)
The recording / reproducing characteristics were evaluated on the basis of the conventional example shown in FIG. In this case, in the composite head according to the second embodiment, a good narrow track recording characteristic is obtained by the other magnetic pole film 25 defined to have a narrow width by the formation of the recess, and the MR element portion and the ID element are formed by the formation of the recess. Since the misalignment with the part was corrected, the manufacturing yield was able to be greatly improved.

【0049】一方、従来の複合ヘッドでは、記録特性は
この第2の実施形態と同等であるが、磁極端に形成され
た凹部に媒体潤滑剤や微小な粒子がたまる結果となり、
ABS面の汚れが著しく、クラッシュの発生が顕著であ
った。これに対して、上記した第2の実施形態では、一
方と他方の磁極膜24,25を連続して面一の側面を形
成したことにより、良好なサイドフリンジ特性の実現を
みることができた。さらに、高密度記録に対応したAB
S面と磁気媒体との狭い間隙にもかかわらず、ABS面
の汚れが発生しにくく、ヘッドクラッシュを大幅に低減
させることが可能となった。
On the other hand, in the conventional composite head, the recording characteristics are the same as those of the second embodiment, but the medium lubricant and minute particles accumulate in the concave portions formed at the magnetic poles.
The stain on the ABS was remarkable, and the occurrence of crash was remarkable. On the other hand, in the above-described second embodiment, good side fringe characteristics can be realized by forming the one and the other pole films 24 and 25 continuously on the same side surface. . Furthermore, AB corresponding to high density recording
Despite the narrow gap between the S surface and the magnetic medium, the ABS surface is hardly stained, and the head crash can be greatly reduced.

【0050】また、本発明は、記録ギャップ膜近傍に高
Bs膜を導入した構造のヘッドに適用しても、同様の効
果を得ることができる。このBs膜としては、CoTa
Zr膜等のCo系アモルファス膜、FeN系膜、FeM
L系膜(ここで、MはTa,Zr,Nb,Hf,Mo,
Tiから選択される少なくとも一種類の元素、Lは窒
素、炭素、ホウ素、酸素から選択される少なくとも一種
類の元素)を主たる成分とする高Bs膜が適当である。
The same effect can be obtained by applying the present invention to a head having a structure in which a high Bs film is introduced near the recording gap film. As this Bs film, CoTa
Co-based amorphous film such as Zr film, FeN-based film, FeM
L-based film (where M is Ta, Zr, Nb, Hf, Mo,
A high-Bs film containing at least one element selected from Ti and L as at least one element selected from nitrogen, carbon, boron, and oxygen as main components is suitable.

【0051】また、凹部15A,15B(25A,25
B)を埋め込む材料として、アルミナ以外の酸化物、例
えば、SiO2 やTa25 でも同様な効果が得られ
る。或いは酸化物でなくとも、窒化物や炭化物などの非
磁性体であれば有効である。
The recesses 15A, 15B (25A, 25
A similar effect can be obtained by using an oxide other than alumina, for example, SiO 2 or Ta 2 O 5 as a material for embedding B). Alternatively, a non-magnetic material such as a nitride or a carbide is effective even if it is not an oxide.

【0052】[0052]

【発明の効果】本発明は以上のように構成され機能する
ので、これによると、再生用磁気抵抗効果(MR)ヘッ
ドと記録用インダクティブ(ID)ヘッドとが積層され
た構造の複合型ヘッドにおいて、MRヘッドとIDヘッ
ドとのウエハ上での位置ずれを少なくすることが可能と
なり、高密度記録に対応した良好な狭い幅記録とサイド
フリンジ特性が得られ、更にはヘッドのABS面の汚れ
が少ないことから、ヘッドクラッシュなどのトラブル発
生の少ない信頼性の高い複合ヘッドを得ることができ
る。
Since the present invention is constructed and functions as described above, the present invention relates to a composite type head having a structure in which a reproducing magnetoresistive (MR) head and a recording inductive (ID) head are laminated. In addition, it is possible to reduce the misalignment of the MR head and the ID head on the wafer, obtain good narrow width recording and side fringe characteristics corresponding to high-density recording, and further remove dirt on the ABS surface of the head. Since the number is small, it is possible to obtain a highly reliable composite head with less trouble such as head crash.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態を示す複合ヘッドの磁
気浮上面(ABS面)から見た概略斜視図である。
FIG. 1 is a schematic perspective view of a composite head according to a first embodiment of the present invention, viewed from a magnetic air bearing surface (ABS surface).

【図2】図1に示す第1の実施形態におけるスライダ浮
上面(ABS面)から見た概略平面図である。
FIG. 2 is a schematic plan view of the slider flying surface (ABS surface) according to the first embodiment shown in FIG. 1;

【図3】図1に開示した複合ヘッドのヘッド素子部分を
示す拡大説明図である。
FIG. 3 is an enlarged explanatory view showing a head element portion of the composite head disclosed in FIG. 1;

【図4】磁気抵抗効果ヘッド(MRヘッド)部分を示す
拡大概略説明図である。
FIG. 4 is an enlarged schematic explanatory view showing a magnetoresistive effect head (MR head).

【図5】図1に示す複合ヘッドの製造方法を示す説明図
である。
FIG. 5 is an explanatory view showing a method of manufacturing the composite head shown in FIG.

【図6】第2の実施形態における複合ヘッドの磁気浮上
面(ABS面)から見た概略平面図である。
FIG. 6 is a schematic plan view of a composite head according to a second embodiment as viewed from a magnetic air bearing surface (ABS surface).

【図7】図6の複合ヘッド装置におけるヘッド素子部分
を示す拡大部分斜視図である。
FIG. 7 is an enlarged partial perspective view showing a head element portion in the composite head device of FIG. 6;

【図8】図6に開示した複合ヘッドの製造方法を示す説
明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram illustrating a method of manufacturing the composite head disclosed in FIG. 6;

【図9】従来例における複合ヘッドのスライダ浮上面
(ABS面)から見た概略平面図である。
FIG. 9 is a schematic plan view of a composite head according to a conventional example viewed from a slider floating surface (ABS surface).

【図10】図9に開示した複合ヘッドのヘッド素子部分
を示す拡大説明図である。
FIG. 10 is an enlarged explanatory view showing a head element portion of the composite head disclosed in FIG.

【図11】従来例における複合ヘッドのヘッド素子部分
の具体的な構成例を示す拡大説明図である。
FIG. 11 is an enlarged explanatory view showing a specific configuration example of a head element portion of a composite head in a conventional example.

【図12】従来例における複合ヘッドの製造方法におい
て、ウエハ工程のイオンミリングによってP1をパタン
化する工程を示す説明図である。
FIG. 12 is an explanatory view showing a step of patterning P1 by ion milling in a wafer step in a method of manufacturing a composite head in a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11,21 スライダ本体 12,22 素子保護アルミナ 13,23 (MRヘッドの)一方の磁気シールド 14,24 (MRヘッドの)他方の磁気シールド(I
Dヘッドの磁極膜) 15,25 (IDヘッドの)他方の磁極膜 15A,15B,25A,25B 凹部 15Aa,15Ba,25Aa,25Ba 埋め込まれ
た非磁性部材である充填アルミナ膜(アルミナ膜) GID IDヘッドの磁気ギャップ
11, 21 Slider body 12, 22 Element protection alumina 13, 23 One magnetic shield (of MR head) 14, 24 The other magnetic shield (of MR head)
The magnetic pole film of the D head) 15, 25 The other magnetic pole film 15A, 15B, 25A, 25B (of the ID head) Concave portions 15Aa, 15Ba, 25Aa, 25Ba Filled alumina film (alumina film) which is a nonmagnetic member embedded therein G ID Magnetic gap of ID head

フロントページの続き (72)発明者 永原 聖万 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 熊谷 一正 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内Continuing from the front page (72) Inventor Seiman Nagahara 5-7-1 Shiba, Minato-ku, Tokyo Inside the NEC Corporation (72) Inventor Kazumasa Kumagai 5-7-1 Shiba, Minato-ku, Tokyo NEC Inside a stock company

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】磁気ディスクに対する浮上面を備えたスラ
イダ本体と、このスライダ本体の浮上面の下流側に所定
間隔を隔てて且つ空気流に直交するようにして同一面上
に平行に配設された一方と他方の二枚の磁気シールド膜
と、この二枚の磁気シールド膜の相互間に絶縁体からな
る磁気的分離層を介して装備された磁気抵抗効果型ヘッ
ドとを備え、前記二枚の磁気シールド膜の内の下流側に
位置する他方の磁気シールド膜を一方の磁極膜とし、こ
の一方の磁極膜に磁気ギャップを介して前記磁気抵抗効
果型ヘッドとは反対側の面に装備された他方の磁極膜を
備え、且つこの磁気ギャップに発生する磁界により記録
を行う機能を備えたインダクティブヘッドとからなる複
合ヘッド装置において、前記スライダ本体の浮上面にお
ける前記他方の磁極膜の空気流に沿った方向の両側に、
当該他方の磁極膜の幅を規定する凹部を設け、この凹部
内に酸化物、窒化物、又は炭化物のいずれかよりなる非
磁性部材を充填したことを特徴とする複合ヘッド。
1. A slider body having a flying surface for a magnetic disk, and a slider body disposed at a predetermined distance downstream of the flying surface of the slider body at a predetermined interval and perpendicular to an air flow and in parallel on the same surface. One and the other two magnetic shield films, and a magnetoresistive head provided between the two magnetic shield films via a magnetic separation layer made of an insulator. The other magnetic shield film located on the downstream side of the magnetic shield film is used as one magnetic pole film, and the one magnetic pole film is provided on a surface opposite to the magnetoresistive head through a magnetic gap. And an inductive head having a function of performing recording by a magnetic field generated in the magnetic gap, the other magnetic pole film being provided on the air bearing surface of the slider body. The opposite sides of which along the air flow of the membrane,
A composite head, wherein a concave portion defining the width of the other magnetic pole film is provided, and the concave portion is filled with a non-magnetic member made of any one of oxide, nitride, and carbide.
【請求項2】前記他方の磁極膜の幅を規定する凹部を、
前記一方の磁極膜の一部に食い込むように配設したこと
を特徴とする請求項1記載の複合ヘッド。
2. A recess defining a width of the other pole film,
2. The composite head according to claim 1, wherein said one magnetic pole film is disposed so as to cut into a part thereof.
【請求項3】前記非磁性部材をアルミナとしたことを特
徴とする請求項1又は2記載の複合ヘッド。
3. The composite head according to claim 1, wherein said non-magnetic member is made of alumina.
【請求項4】前記凹部によって規定された磁極の幅が
1.1μm以下であることを特徴とする請求項1,2又
は3記載の複合ヘッド。
4. The composite head according to claim 1, wherein the width of the magnetic pole defined by the recess is 1.1 μm or less.
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