JP2000045944A - Pump member, turbo molecule pump, and surface treatment layer - Google Patents

Pump member, turbo molecule pump, and surface treatment layer

Info

Publication number
JP2000045944A
JP2000045944A JP10218256A JP21825698A JP2000045944A JP 2000045944 A JP2000045944 A JP 2000045944A JP 10218256 A JP10218256 A JP 10218256A JP 21825698 A JP21825698 A JP 21825698A JP 2000045944 A JP2000045944 A JP 2000045944A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
rotor
pump
surface treatment
metal plating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10218256A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshio Kobayashi
義雄 小林
Toyoaki Yasui
豊明 安井
Tomoaki Okamura
知明 岡村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP10218256A priority Critical patent/JP2000045944A/en
Publication of JP2000045944A publication Critical patent/JP2000045944A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
  • Structures Of Non-Positive Displacement Pumps (AREA)
  • Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pump member equipped with both good corrosion resistance and high emissivity and a turbo molecule pump, employing this pump member as the rotor, and to provide a surface treatment layer that may generally give any member the aforementioned performance. SOLUTION: A surface treatment layer S is formed on the surface of a rotor 4 that is a member of a turbo molecule pump. This surface treatment layer S comprises, as its first layer, a metal plating layer S1 that is made up of Ni-P alloy formed through electroless plating and, as its second layer, a resin layer S2 formed with an epoxy resin processed through cationic electro- deposition. An intermediate layer SM consisting of an amorphous organic metal film is placed between the metal plating layer S1 and the resin layer S2. With this configuration, corrosion resistance is improved by the metal plating layer S1 and heat dissipation performance is enhanced by the resin layer S2, respectively.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体プロセス等
に使用される真空ポンプにおいて、当該真空ポンプを構
成するポンプ部材に関するものである。また特に、本発
明は、そのポンプ部材がロータに該当する際のターボ分
子ポンプに関するとともに、一般に任意の部材表面上に
形成されうる表面処理層に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum pump used in a semiconductor process or the like, and to a pump member constituting the vacuum pump. More particularly, the present invention relates to a turbo molecular pump when the pump member corresponds to a rotor, and generally to a surface treatment layer that can be formed on an arbitrary member surface.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体プロセスは、光学的処理や化学的
処理等からなる様々な工程により実現される。光学的処
理の代表例としては、ウェハ面への回路パターン焼き付
けを行う露光処理が挙げられ、化学的処理では例えば、
ウェハ面において薄膜を作製する等の表面処理、エッチ
ング処理、洗浄処理等が挙げられる。また、これらの処
理を実現するためには、光学的処理においては露光装
置、化学的処理においては様々な化学薬品やこれを安全
に取り扱うための各種機器が用いられる。これら様々な
工程又は各種装置及び機器においては、半導体の更なる
高集積化等への要求が高まりつつある中で、それぞれが
技術的に高度な水準を要求されており、また更なる発展
をも図るべく関係各所にて鋭意研究、開発が進行するこ
ととなっている。
2. Description of the Related Art A semiconductor process is realized by various steps including optical processing and chemical processing. A typical example of the optical processing includes an exposure processing for printing a circuit pattern on a wafer surface, and a chemical processing includes, for example,
Surface treatment such as forming a thin film on the wafer surface, etching treatment, cleaning treatment and the like can be mentioned. In order to realize these processes, an exposure apparatus is used in optical processing, and various chemicals and various devices for safely handling the chemicals are used in chemical processing. In these various processes or various apparatuses and devices, while demands for further higher integration of semiconductors are increasing, each of them is required to have a technically high level, and further development is required. Intense research and development are to be carried out in various places concerned.

【0003】その中で特に具体的技術を挙げると、化学
的処理である表面処理工程に注目すれば、上述した薄膜
製造技術として、半導体プロセスにおいては必須となっ
た技術としてCVD(Chemical Vapor Deposition)技
術がある。このCVDとは、ウェハ等の基板上に対して
原料ガスを供給し、当該基板上でのガスの吸着及び化学
反応を経て、その基板上に所望の薄膜を形成する技術で
ある。この技術は、ゲートの薄膜化、配線間容量低減等
の半導体高集積化を実現するためには欠くことのできな
いものとなっている。
[0003] In particular, if a specific technique is mentioned, paying attention to a surface treatment step as a chemical treatment, CVD (Chemical Vapor Deposition) is an essential technique in the semiconductor process as the thin film manufacturing technique described above. There is technology. The CVD is a technique in which a source gas is supplied to a substrate such as a wafer, and a desired thin film is formed on the substrate through gas adsorption and chemical reaction on the substrate. This technology is indispensable for realizing high integration of semiconductors such as thinning of gates and reduction of capacitance between wirings.

【0004】ところで、上記CVDを実現するために
は、ガスの安定した供給を実現するための機器、また、
基板面上の化学反応を有効に進行させるよう、その基板
面周囲の領域をクリアに保つ環境保持用の機器等が必要
となってくる。なお、CVDにおいて使用されるガスと
は、一般に極めて有毒性が高いものが多く、その取り扱
いには十分な注意が必要となっている。したがって、ガ
ス供給用機器、またそれを回収する機器に関してはその
点に対する配慮が不可欠である。また、「基板面周囲の
領域をクリアに保つ」方法としては、具体的には真空雰
囲気を現出させる手段が一般的にとられ、したがって、
それを実現するため真空排気系が用意されることとな
る。
[0004] By the way, in order to realize the above-mentioned CVD, equipment for realizing a stable supply of gas,
In order for the chemical reaction on the substrate surface to proceed effectively, a device or the like for maintaining the environment that keeps the area around the substrate surface clear is required. In general, many gases used in CVD are extremely toxic, and their handling requires great care. Therefore, it is indispensable to consider gas supply equipment and equipment for recovering it. In addition, as a method of “keeping the area around the substrate surface clear”, specifically, a means for expressing a vacuum atmosphere is generally used, and therefore,
In order to realize this, an evacuation system will be prepared.

【0005】上記真空排気系としては、一般に大気圧か
らの多段階排気を可能とするようロータリポンプ、デフ
ュージョンポンプ、ターボ分子ポンプ等、複数のポンプ
により構成されたものが利用される。このうち、ターボ
分子ポンプをも含めた構成となる真空排気系では、その
真空度が約10-10Torrにまでも達する超高真空が実現
される。なお、ターボ分子ポンプとは、周知のように、
約90000rpmで回転するロータにより気体分子を圧縮しつ
つ排気するような構成を備えたものである。ここでロー
タとしては、これが上述したように非常に高速で回転す
る部材であるため、軽量かつ応力強度の高いアルミニウ
ム合金をその材質として選択されるのが一般的である。
As the vacuum evacuation system, a system constituted by a plurality of pumps such as a rotary pump, a diffusion pump, and a turbo molecular pump is generally used so as to enable multi-stage evacuation from atmospheric pressure. Among them, in a vacuum exhaust system having a configuration including a turbo molecular pump, an ultra-high vacuum whose vacuum degree reaches about 10 −10 Torr is realized. In addition, the turbo molecular pump is, as is well known,
It has a configuration in which gas molecules are exhausted while being compressed by a rotor rotating at about 90,000 rpm. Here, since the rotor is a member that rotates at a very high speed as described above, an aluminum alloy that is lightweight and has high stress strength is generally selected as its material.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、CVDにお
ける上記有毒なガスの中においては、腐食性を有するガ
スが存在する。例えば、乾燥した塩素ガスCl2は、アル
ミニウムを腐食させることが知られている。一方で、真
空排気系として用意されたターボ分子ポンプは、当然の
ことながらCVDの利用に供されるガスをも吸引するこ
とになる。また、ターボ分子ポンプを構成するロータ
は、上記したようにアルミニウム合金製であった。これ
らのことから明らかなように、一般にCVD等を含む半
導体プロセスにおいて、ターボ分子ポンプを利用するこ
とに関しては、大きな注意を払う必要がある。すなわ
ち、有毒なガスによるロータ部材の腐食を回避し、常に
安定した排気系の運転を可能ならしめるような技術的課
題が存在しているといえる。
By the way, among the above-mentioned toxic gases in CVD, there is a corrosive gas. For example, dry chlorine gas Cl 2 is known to corrode aluminum. On the other hand, the turbo molecular pump prepared as a vacuum evacuation system naturally also sucks gas used for CVD. The rotor constituting the turbo-molecular pump was made of an aluminum alloy as described above. As is evident from these facts, great care needs to be paid to the use of turbo molecular pumps in semiconductor processes including CVD and the like. In other words, it can be said that there is a technical problem that avoids corrosion of the rotor member due to toxic gas and always enables stable operation of the exhaust system.

【0007】また、ターボ分子ポンプに係る技術的課題
は、上記事情だけに限られるものではない。すなわち、
そのロータは、より熱を放散しやすいような、つまり輻
射率が高くなるような構成とする必要がある。これは、
ロータが上述したように非常に高速で回転することで大
量の熱を発生するためである。また特に、想定気体吸入
量よりも多くの気体をロータが吸引するような事態が発
生した場合、発生する熱量は劇的に増加する。この発生
した熱をそのままに放置しておけば、やがてロータ動翼
にクリープが発生する等して、ターボ分子ポンプの動作
に大きな影響を及ぼすこととなる。しかし一方で、ター
ボ分子ポンプは超高真空度における運転が想定されてい
るため、ロータが回転動作する雰囲気においては、通常
期待し得るような対流現象による熱の放散が促されるこ
とがない。したがって、この問題はより深刻な技術的課
題として現前しているといえる。
[0007] Further, the technical problems relating to the turbo-molecular pump are not limited to the above circumstances. That is,
The rotor must be configured to dissipate heat more easily, that is, to have a higher emissivity. this is,
This is because a large amount of heat is generated when the rotor rotates at a very high speed as described above. Further, particularly, when a situation occurs in which the rotor sucks more gas than the assumed gas suction amount, the amount of generated heat increases dramatically. If the generated heat is left as it is, creep will be generated in the rotor rotor blades and the like, which will greatly affect the operation of the turbo molecular pump. However, on the other hand, since the turbo molecular pump is assumed to be operated at an ultra-high vacuum degree, in an atmosphere in which the rotor rotates, heat dissipation due to a convection phenomenon which can be normally expected is not promoted. Therefore, it can be said that this problem has emerged as a more serious technical problem.

【0008】今挙げた二つの課題は、一般にこれらを解
決しようとすると、互いに相反する性格のものである。
つまり、前者の課題を解決する対策として、従来、ロー
タ表面にニッケルメッキ処理を施す等して耐食性を備え
させる等の手段がとられてきたが、この場合輻射率が十
分でなくロータに発生する熱を速やかに放散させること
ができなかった。また逆に、後者の課題を念頭に置き、
ロータ表面に輻射率の大きい塗膜を施すことを考える
と、この場合は耐食性が不十分で即座にガスにより腐食
されてしまうことになる。またさらに、ニッケルメッキ
表面に酸化処理を施す等により輻射率を高めるよう試み
た場合であっても、十分な輻射率を得ることは極めて困
難であり、二つの課題を同時に解決することはできなか
った。
[0008] The two problems mentioned above generally have conflicting characteristics in an attempt to solve them.
In other words, as a countermeasure to solve the former problem, conventionally, measures such as applying nickel plating to the rotor surface to provide corrosion resistance have been taken, but in this case, the emissivity is not sufficient and the rotor is generated. The heat could not be dissipated quickly. Conversely, with the latter challenge in mind,
Considering that a coating having a high emissivity is applied to the rotor surface, in this case, the corrosion resistance is insufficient and the gas is immediately corroded by the gas. Further, even when an attempt is made to increase the emissivity by subjecting the nickel plating surface to an oxidation treatment or the like, it is extremely difficult to obtain a sufficient emissivity, and the two problems cannot be solved simultaneously. Was.

【0009】要は、従来までにおいては、上記二つの課
題を一挙に解決するような効果的な手段が開発されてお
らず、したがって、実際上の対策は、ターボ分子ポンプ
の運用面において十分な注意を喚起するに留まってお
り、このためユーザには余計な負担をかけることとなっ
ていた。なお上記までに述べたことは、ターボ分子ポン
プに限られることではない。
The point is that until now, no effective means has been developed so as to solve the above two problems at once, so that practical measures are not sufficient in terms of operation of the turbo-molecular pump. This is only to call attention, and this places an extra burden on the user. The above description is not limited to the turbo-molecular pump.

【0010】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、耐食性及び高輻射率の両
方の性能を備えたポンプ部材、及びこのポンプ部材をロ
ータとして適用したターボ分子ポンプを提供することに
ある。また、一般に任意の部材に対して上記性能を付与
することが可能な表面処理層を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a pump member having both corrosion resistance and high emissivity, and a turbo molecular pump using the pump member as a rotor. Is to provide. Another object of the present invention is to provide a surface treatment layer capable of imparting the above-described performance to an arbitrary member.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するために以下の手段をとった。すなわち、請求項
1記載のポンプ部材は、基材上に形成される金属メッキ
層と、該金属メッキ層上に形成される樹脂層とを有する
ことを特徴とするものである。
The present invention employs the following means in order to solve the above-mentioned problems. That is, a pump member according to claim 1 has a metal plating layer formed on a base material and a resin layer formed on the metal plating layer.

【0012】このポンプ部材は、金属メッキ層により十
分な耐食作用を発揮可能であるとともに、樹脂層により
高い輻射率をも備えたものであるといえる。したがっ
て、このポンプ部材は、超高真空雰囲気等におけるよう
な熱の放散を期待することができず、また、腐食性ガス
が流通するような雰囲気において、非常に有効な作用を
有するものであるということがいえる。
This pump member can be said to have a sufficient corrosion resistance due to the metal plating layer and also have a higher emissivity than the resin layer. Therefore, this pump member cannot be expected to dissipate heat as in an ultra-high vacuum atmosphere or the like, and has a very effective action in an atmosphere where a corrosive gas flows. I can say that.

【0013】請求項2記載のポンプ部材は、前記金属メ
ッキ層と前記樹脂層との間に、中間層が設けられている
ことを特徴とする。
A pump member according to a second aspect is characterized in that an intermediate layer is provided between the metal plating layer and the resin layer.

【0014】これによれば、金属メッキ層と樹脂層との
付着強度が、中間層により十分に保証されることが期待
されうる。したがって、容易には剥離することのない安
定性の高い表面処理層を得ることが可能となる。
According to this, it can be expected that the adhesion strength between the metal plating layer and the resin layer is sufficiently ensured by the intermediate layer. Therefore, it is possible to obtain a highly stable surface treatment layer that does not easily peel off.

【0015】請求項3記載のポンプ部材は、前記金属メ
ッキ層は、無電解メッキにより形成されていることを特
徴とするものである。
According to a third aspect of the present invention, in the pump member, the metal plating layer is formed by electroless plating.

【0016】これによれば、前記基材と前記金属メッキ
層とは強固に付着される。また電気メッキで懸念される
ように、突起物等、電流が集中する部分においてメッキ
が進行して、部材全面に関してメッキが不均等に形成さ
れるような事態について心配する必要がない。すなわ
ち、ポンプ部材全面に渡って均等な厚さとなる表面処理
層を形成することが可能となる。
According to this, the base material and the metal plating layer are firmly attached to each other. Further, as is a concern in electroplating, there is no need to worry about a situation in which plating progresses in a portion where current is concentrated, such as a projection, and plating is unevenly formed on the entire surface of the member. That is, it is possible to form a surface treatment layer having a uniform thickness over the entire surface of the pump member.

【0017】請求項4記載のポンプ部材は、前記樹脂層
は、カチオン電着塗装により形成されていることを特徴
とする
According to a fourth aspect of the present invention, in the pump member, the resin layer is formed by cationic electrodeposition coating.

【0018】これによれば、これによれば、前記金属メ
ッキ層又は中間層と樹脂層とは、強固に付着されること
が保証される。また、カチオン電着塗装を利用すること
によって、複雑な形状のポンプ部材に対して均一な塗膜
を形成することが可能となるとともに、当該塗膜のタ
レ、溶け落ち等のない高品質な膜を形成することが可能
となる。
According to this, according to this, it is guaranteed that the metal plating layer or the intermediate layer and the resin layer are firmly adhered. In addition, by using the cationic electrodeposition coating, it is possible to form a uniform coating film on a pump member having a complicated shape, and a high-quality film without sagging or burn-through of the coating film. Can be formed.

【0019】請求項5記載のポンプ部材は、前記金属メ
ッキ層はニッケルを材質とし、前記樹脂層はエポキシ系
樹脂を材質とすることを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the pump member, the metal plating layer is made of nickel, and the resin layer is made of epoxy resin.

【0020】これによれば、耐食性及び輻射率に関し
て、より有効な作用を期待することが可能となる。すな
わち、腐食性ガスに対するより効果的な耐性が発揮され
ること、及びより効果的な熱の放散を実現することが可
能となる。
According to this, a more effective action can be expected with respect to corrosion resistance and emissivity. That is, more effective resistance to corrosive gas can be exhibited, and more effective heat dissipation can be realized.

【0021】請求項6記載のポンプ部材は、アルミニウ
ム合金を基材とするロータであることを特徴としてい
る。
A pump member according to a sixth aspect of the present invention is characterized in that the pump member is a rotor made of an aluminum alloy as a base material.

【0022】これによれば、前記ポンプ部材がロータで
あることから、一般的にそれはターボ分子ポンプの構成
中において使用されることが想定される。また、超高真
空かつ腐食性ガスの存在する雰囲気において高速回転を
行うロータにおいては、前記金属メッキ層、前記樹脂層
を備えることにより得られる作用、すなわち、耐食性、
高輻射率なる作用を最も有効に生かすことが可能とな
る。
According to this, since the pump member is a rotor, it is generally assumed that it is used in the construction of a turbo-molecular pump. Further, in a rotor that performs high-speed rotation in an atmosphere in which an ultra-high vacuum and corrosive gas is present, the effect obtained by providing the metal plating layer and the resin layer, that is, corrosion resistance,
The effect of high emissivity can be used most effectively.

【0023】請求項7記載のターボ分子ポンプは、アル
ミニウム合金からなる基材上に無電解メッキにより形成
されるニッケル層と、該ニッケル層の上にカチオン電着
塗装により形成されるエポキシ系樹脂層とを有するロー
タを備えたことを特徴とするものである。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a turbo molecular pump, comprising: a nickel layer formed by electroless plating on a base material made of an aluminum alloy; and an epoxy resin layer formed by cation electrodeposition coating on the nickel layer. And a rotor having:

【0024】このターボ分子ポンプは、上までに記した
各種作用を得られることが明らかである。
It is clear that this turbo-molecular pump can obtain the various actions described above.

【0025】請求項8記載の表面処理層は、第一層が無
電解メッキにより形成されたニッケル合金層、第二層が
エポキシ系樹脂をカチオン電着塗装することにより形成
された樹脂層とされていることを特徴とするものであ
る。
In the surface treatment layer according to the present invention, the first layer is a nickel alloy layer formed by electroless plating, and the second layer is a resin layer formed by cationic electrodeposition coating of an epoxy resin. It is characterized by having.

【0026】この表面処理層は、これまでに記述してき
たことから、耐食性、高輻射率、各層間における高付着
強度等の優れた作用を備えた均一なメッキ層、塗膜から
構成されているものといえる。また、この表面処理層
を、一般に上記各性能が必要とされる雰囲気中に曝され
る任意の部材表面上に形成することによって、その作用
を最大限有効に利用することが可能となる。
The surface treatment layer, as described above, is composed of a uniform plating layer and a coating film having excellent functions such as corrosion resistance, high emissivity, and high adhesion strength between the layers. It can be said. Further, by forming this surface treatment layer on an arbitrary member surface which is generally exposed to an atmosphere in which the above-mentioned respective performances are required, it is possible to make the most of its action.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下では、本発明の実施の形態に
ついて、図を参照して説明する。図1は、ターボ分子ポ
ンプPの構成を示している。なお、本実施形態において
は、請求項でいうポンプ部材として、図1に示すロータ
4がそれに該当するものとしての説明を行う。以下で
は、まずターボ分子ポンプPの構成を説明した後に、ロ
ータ4表面上に形成された表面処理層S(図2)に関す
る説明を行い、最後に当該表面処理層Sを中心として、
ロータ4の製作方法に関する説明を行うとともに、その
表面処理層Sの性質に関して説明することとする。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a configuration of the turbo-molecular pump P. In the present embodiment, a description will be given assuming that the rotor 4 shown in FIG. 1 corresponds to the pump member described in the claims. Hereinafter, first, the configuration of the turbo-molecular pump P will be described, and then the surface treatment layer S (FIG. 2) formed on the surface of the rotor 4 will be described.
The method of manufacturing the rotor 4 will be described, and the properties of the surface treatment layer S will be described.

【0028】ターボ分子ポンプPは、上半部1a及び下
半部1bとからなるケーシング1内部に各種機器が備え
られた構成となっている。このケーシング1において
は、その上半部1aに吸気口1c、下半部1bに排気口
1dが、それぞれ形成されている。
The turbo-molecular pump P has a structure in which various devices are provided inside a casing 1 having an upper half 1a and a lower half 1b. In the casing 1, an intake port 1c is formed in an upper half 1a, and an exhaust port 1d is formed in a lower half 1b.

【0029】ケーシング1内部におけるロータ室2に
は、ロータ4が配設されている。ロータ4は、鉛直に立
設されたロータシャフト4aと、当該ロータシャフト4
a周囲に放射状に配置された動翼5とを備えた構成とな
っている。また、ケーシング上半部1aには静翼3が固
定されている。このロータ4は、後述するように高速回
転する部材であるから、一般には軽量かつ応力強度の高
いアルミニウム合金等をその材質として選択するのが好
ましい。
A rotor 4 is provided in the rotor chamber 2 inside the casing 1. The rotor 4 includes a vertically-rotated rotor shaft 4a and the rotor shaft 4a.
a) and a rotor blade 5 radially arranged around the periphery. A stationary blade 3 is fixed to the upper half 1a of the casing. Since the rotor 4 is a member that rotates at a high speed as described later, it is generally preferable to select an aluminum alloy or the like that is lightweight and has high stress strength.

【0030】前記ロータシャフト4aの下端部には、ス
ラスト磁気ディスク6が備えられている。このスラスト
磁気ディスク6の上下面には、これに対向した形でスラ
スト磁気軸受け8が設けられている。また、ロータシャ
フト4aとケーシング下半部1bとの対向面における上
方及び下方には、それぞれラジアル磁気軸受け7a、7
bが設けられている。さらに、ロータシャフト4a上端
部にラジアル用上部保護軸受けとして設けられたボール
ベアリング9、同下端ネック部にはラジアル及びスラス
ト用下部保護軸受けとして設けられたボールベアリング
10が設けられている。そして、ケーシング下半部1b
には、ロータ駆動用モータ11が設けられている。
At the lower end of the rotor shaft 4a, a thrust magnetic disk 6 is provided. Thrust magnetic bearings 8 are provided on the upper and lower surfaces of the thrust magnetic disk 6 so as to face the same. Radial magnetic bearings 7a and 7b are provided above and below the facing surface of the rotor shaft 4a and the casing lower half 1b, respectively.
b is provided. Further, a ball bearing 9 provided as an upper radial protection bearing is provided at an upper end portion of the rotor shaft 4a, and a ball bearing 10 provided as a lower protection bearing for radial and thrust is provided at the lower end neck portion. And the casing lower half 1b
Is provided with a motor 11 for driving the rotor.

【0031】本実施形態におけるターボ分子ポンプP
は、上記構成から明らかなように、軸受けとして能動型
磁気軸受けを有し、これらとロータ駆動用モータ11の
発生する駆動力とにより、ロータ4の回転が実現される
ものとなっている。このとき、ロータ4の回転速度は約
90000rpm(1500回転/秒)になるとともに、その温度は
通常運転時においても約130℃程にも達することにな
る。なお、本発明は、ターボ分子ポンプPの構成に関し
てこのことに限定されるものではなく、ボールベアリン
グ型及びその他の軸受けを使用したターボ分子ポンプに
おいても適用可能なことはもちろんである。
The turbo molecular pump P in the present embodiment
As is apparent from the above configuration, the rotor has active magnetic bearings, and the rotation of the rotor 4 is realized by these and the driving force generated by the rotor driving motor 11. At this time, the rotation speed of the rotor 4 is about
At 90,000 rpm (1500 rpm), the temperature will reach about 130 ° C even during normal operation. The present invention is not limited to the configuration of the turbo-molecular pump P, and it is needless to say that the present invention is applicable to a turbo-molecular pump using a ball bearing type and other bearings.

【0032】上記構成となるターボ分子ポンプPは、例
えば、半導体プロセスで利用されるCVD装置等に、ロ
ータリポンプ、デフュージョンポンプ等と共に排気系の
一部として付設され使用される。すなわち、CVD装置
に同時に付設されるチャンバ内の排気を行うことを目的
として利用されることになる。なお、CVD装置におい
ては、前記チャンバ内に基板面上と化学反応させるため
のガスが供給されることになるから、ターボ分子ポンプ
Pはこのガスをも必然的に吸引することになる。ところ
で、このガスは、前にも述べたように一般に有毒なもの
が多く、アルミニウムに対して腐食作用を有するトリメ
チルガリウムGa(CH3)3や乾燥した塩素ガスCl2等の
場合には、ターボ分子ポンプP、すなわちアルミニウム
合金製のロータ4にとって特に問題のあるガスであると
いえる。なお、半導体プロセスにおいて、一般に広く用
いられるガスとしては、これらの他、モノシランSi
4、フォスフィンPH3、アルシンAsH3、ジボランB
26、セレン化水素H2Se、モノゲルマンGeH4、ジシ
ランSi26等が挙げられる。
The turbo-molecular pump P having the above structure is used, for example, as a part of an exhaust system together with a rotary pump, a diffusion pump and the like in a CVD apparatus used in a semiconductor process. In other words, it is used for the purpose of evacuating the inside of the chamber provided simultaneously with the CVD apparatus. In the CVD apparatus, a gas for causing a chemical reaction with the surface of the substrate is supplied into the chamber, and the turbo molecular pump P inevitably sucks this gas. By the way, as described above, this gas is generally toxic, and in the case of trimethylgallium Ga (CH 3 ) 3 or a dry chlorine gas Cl 2 having a corrosive action on aluminum, a turbo gas is used. It can be said that the gas is particularly problematic for the molecular pump P, that is, the rotor 4 made of an aluminum alloy. In addition, in the semiconductor process, gases generally widely used include, in addition to these, monosilane Si.
H 4, phosphine PH 3, arsine AsH 3, diborane B
Examples include 2 H 6 , hydrogen selenide H 2 Se, monogermane GeH 4 , and disilane Si 2 H 6 .

【0033】次に、ロータ4に関してその構成を詳しく
説明する。図2は、ロータ4を構成する動翼5の断面図
を一部拡大して示した図である。ロータ4、すなわち動
翼5は、上述したように、アルミニウム合金により構成
されている。より具体的には、JIS2014やJIS2618等の、
JIS種別番号で2000番台のアルミニウム合金(Al-Cu系
合金)を用いるのが好ましい。
Next, the structure of the rotor 4 will be described in detail. FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view of the rotor blade 5 constituting the rotor 4. The rotor 4, that is, the moving blade 5, is made of an aluminum alloy as described above. More specifically, such as JIS2014 and JIS2618,
It is preferable to use an aluminum alloy (Al-Cu-based alloy) in the 2000 series in the JIS classification number.

【0034】ロータ4における全表面上には、表面処理
層Sが形成されている。この表面処理層Sは、図2拡大
図に示すように大きく二層構造とされており、その第一
層が金属メッキ層S1、第二層が樹脂層S2とされてい
る。前者、金属メッキ層S1としては、本実施形態にお
いては、ニッケルを材質とし、これを無電解メッキによ
り形成したものとなっている。より具体的には、Ni-P
合金、又はNi-B合金として形成されたものとなってい
る。また、樹脂層S2としては、エポキシ系樹脂をカチ
オン電着塗装により形成したものとなっている。
A surface treatment layer S is formed on the entire surface of the rotor 4. The surface treatment layer S has a large two-layer structure as shown in the enlarged view of FIG. 2, and the first layer is a metal plating layer S1 and the second layer is a resin layer S2. In the present embodiment, the former metal plating layer S1 is made of nickel and formed by electroless plating. More specifically, Ni-P
It is formed as an alloy or a Ni-B alloy. The resin layer S2 is made of an epoxy resin formed by cationic electrodeposition.

【0035】上記金属メッキ層及び樹脂層はその厚さと
して、それぞれ約50μm、約20μm程度であることが好
ましい。金属メッキ層の厚さに関していえば、それが50
μmを越えるようだとロータ4の回転に負担となる可能
性があり、また逆に、あまり薄すぎれば耐食性作用が十
分に得られないことが考えられる。これが、50μmとい
う厚さが最も好ましいものとされる理由である。また、
樹脂層の厚さに関しても同様である。なお、表面処理層
S全体からみた厚さとしては(この例では70μm)、上
記したようにロータ4の回転性能との兼ね合いでそれを
考えなければならないことから、可能な限り薄くするほ
うがより好ましい状態であるということがいえる。
It is preferable that the metal plating layer and the resin layer have a thickness of about 50 μm and about 20 μm, respectively. Speaking of the thickness of the metal plating layer, it is 50
If it exceeds μm, there is a possibility that the load on the rotation of the rotor 4 may be burdened. Conversely, if it is too thin, it may not be possible to obtain sufficient corrosion resistance. This is why a thickness of 50 μm is most preferred. Also,
The same applies to the thickness of the resin layer. The thickness of the surface treatment layer S as a whole (70 μm in this example) must be considered in consideration of the rotational performance of the rotor 4 as described above. Therefore, it is more preferable to make the thickness as thin as possible. It can be said that it is a state.

【0036】また、上記した金属メッキ層と樹脂層との
間には、中間層SMが設けられている。この中間層SM
は、塗装下地用Crフリー表面処理薬剤を用いて金属メ
ッキ層S1表面を化成処理することによって形成される
非晶質有機金属の皮膜である。この中間層SMの存在に
より、金属メッキ層S1と樹脂層S2との密着性は向上
し、また、耐食性を強化する作用が得られることとな
る。
An intermediate layer SM is provided between the metal plating layer and the resin layer. This intermediate layer SM
Is an amorphous organometallic film formed by subjecting the surface of the metal plating layer S1 to a chemical conversion treatment using a Cr-free surface treatment agent for a coating base. Due to the presence of the intermediate layer SM, the adhesion between the metal plating layer S1 and the resin layer S2 is improved, and an effect of enhancing corrosion resistance is obtained.

【0037】このような表面処理層Sを含むロータ4
は、次に示すような手順で製作されることになる。ま
ず、円筒状に加工されたアルミニウム合金を準備し、こ
の表面がロータ4の外形形状におおよそ一致するように
旋盤等で削り加工を行う。そしてさらに、この表面から
複数の動翼5の形状を粗く削りだす加工を行った後で、
これら各々の動翼5に対して、放電加工、マシニングセ
ンタ加工等の手法により精密な形状を最終的に付与して
いく。これでロータ4に関する形状加工は終了し、次に
表面処理層Sの形成工程へと進む。したがってこの時点
におけるロータ4が、請求項でいう「基材」にあたるこ
とになる。
The rotor 4 including such a surface treatment layer S
Will be manufactured in the following procedure. First, an aluminum alloy machined into a cylindrical shape is prepared, and the aluminum alloy is machined by a lathe or the like so that the surface of the aluminum alloy substantially matches the outer shape of the rotor 4. Then, after performing a process of roughly shaving the shapes of the plurality of rotor blades 5 from this surface,
A precise shape is finally given to each of the moving blades 5 by a method such as electric discharge machining or machining center machining. This completes the shape processing for the rotor 4 and then proceeds to the step of forming the surface treatment layer S. Therefore, the rotor 4 at this time corresponds to the “base material” in the claims.

【0038】まず、上記ロータ4に対して、上述した金
属メッキ層S1を形成する。ただし、その前にロータ4
表面に関する洗浄、エッチング等の前処理を実施する。
金属メッキ層S1は、すぐ後で述べるように、無電解メ
ッキにより形成されるのであるが、この前処理は当該無
電解メッキの前処理として通常行われているものと特別
相違はない。簡単に順を追っていえば、アルカリ脱脂、
エッチング、スマット除去、第1ジンケート処理、ジン
ケート剥離、第2ジンケート処理、中和処理という各処
理により本実施形態における前処理は構成されている。
ちなみに、上記各処理間には水洗処理が挿入されること
となるのは言うまでもない。
First, the metal plating layer S1 described above is formed on the rotor 4. However, before that, rotor 4
Perform pretreatment such as cleaning and etching on the surface.
The metal plating layer S1 is formed by electroless plating, as will be described later, but this pretreatment is not specially different from that usually performed as a pretreatment for the electroless plating. If you follow the steps easily, alkaline degreasing,
The pre-processing in the present embodiment is configured by each processing of etching, smut removal, first zincate processing, zincate peeling, second zincate processing, and neutralization processing.
By the way, it goes without saying that a water washing process is inserted between the above-mentioned processes.

【0039】金属メッキ層S1の形成は、上記前処理が
完了しその水洗を行った後、無電解メッキ法により行わ
れる。無電解メッキとは、金属のカソード析出と還元剤
のアノード酸化が同時に起こる条件で化学的に進行する
メッキ方法である。すなわち、電気メッキのように外部
に直流電源を設けるのとは異なり、還元剤の放出する電
子を金属イオンが受け取ることによって、金属析出が自
動的に進行することになる。本実施形態においては、金
属としてNi-P合金を選択し、これを上記ロータ4表面
上に析出させるようにした。
The formation of the metal plating layer S1 is performed by an electroless plating method after the completion of the above pretreatment and washing with water. Electroless plating is a plating method that proceeds chemically under conditions in which cathode deposition of a metal and anodic oxidation of a reducing agent occur simultaneously. That is, unlike the case where an external DC power source is provided as in the case of electroplating, the metal ions receive the electrons emitted by the reducing agent, whereby the metal deposition automatically proceeds. In the present embodiment, a Ni-P alloy is selected as the metal and is deposited on the surface of the rotor 4.

【0040】無電解Ni(Ni-P)メッキの工程は、具
体的には以下のようにとり行う。まず、適当な容器に還
元剤であるホスフィン酸ナトリウム水溶液を注入してお
く。本実施形態においては、市販により容易に入手可能
なトップニコロンBL-M及びBL-1(奥野製薬製)を
使用した。なお、濃度は水溶液1リットルにつき、それ
ぞれ100ml、60mlとした。無電解Niメッキは、この水溶
液を90℃に保つとともに、上記ロータ4を4時間浸漬さ
せると完了する。
The step of electroless Ni (Ni-P) plating is specifically performed as follows. First, an aqueous solution of sodium phosphinate as a reducing agent is poured into an appropriate container. In this embodiment, Top Nicolon BL-M and BL-1 (manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.), which are easily available commercially, were used. The concentrations were 100 ml and 60 ml, respectively, per liter of the aqueous solution. The electroless Ni plating is completed by keeping the aqueous solution at 90 ° C. and immersing the rotor 4 for 4 hours.

【0041】なおこの場合、電気メッキによるNiメッ
キとは異なり、ロータ4表面上には均一なNi-P層を形
成することが可能となる。というのは、ロータ4は、図
1に示すように極めて複雑な形状なものとなっているた
め、これに仮に電気メッキを適用したとすると、突起部
(例えば、動翼5の先端等)に電流が集中することとな
り、その部分のメッキが他の部分よりも進行することと
なって、ロータ4全体として不均一なメッキ層が形成さ
れる可能性が大きいからである。したがって、無電解メ
ッキ法を採用することは、ロータ4のような複雑形状の
部材に対しては非常に有効であるといえる。
In this case, unlike Ni plating by electroplating, a uniform Ni-P layer can be formed on the surface of the rotor 4. This is because the rotor 4 has an extremely complicated shape as shown in FIG. 1, and if electroplating is applied to the rotor 4, the protrusions (for example, the tip of the moving blade 5) may be formed. This is because the current is concentrated, and the plating in that portion proceeds more than in other portions, and there is a high possibility that a non-uniform plating layer is formed on the entire rotor 4. Therefore, it can be said that adopting the electroless plating method is very effective for a member having a complicated shape such as the rotor 4.

【0042】金属メッキ層S1の形成が完了したら、当
該金属メッキ層S1表面に関して化成処理を行う。これ
は、次なる樹脂層S2のカチオン電着塗装の前処理にあ
たる。この化成処理を行うことにより、非晶質有機金属
皮膜からなる中間層SMが形成され、上記金属メッキ層
S1と樹脂層S2の密着性向上が図られることになる。
この中間層SMの形成方法は、具体的には、ステンレス
鋼に電着塗装を実施する際に通常とられる化成処理を行
う方法に依ればよい。例えば、次のような工程により中
間層SMは形成される。まず、金属メッキ層S1表面の
洗浄、乾燥を行う。そして、温度が常温から40℃程度と
されたパルコート3841(市販品、日本パーカ製)水溶液
中にロータ4全体を5〜30秒浸漬させる。最後に、これ
を引き上げ水洗することなしに乾燥させれば完了であ
る。
When the formation of the metal plating layer S1 is completed, a chemical conversion treatment is performed on the surface of the metal plating layer S1. This corresponds to the pretreatment of the next resin layer S2 for cationic electrodeposition coating. By performing the chemical conversion treatment, the intermediate layer SM made of the amorphous organic metal film is formed, and the adhesion between the metal plating layer S1 and the resin layer S2 is improved.
The method of forming the intermediate layer SM may be, for example, a method of performing a chemical conversion treatment which is usually performed when performing electrodeposition coating on stainless steel. For example, the intermediate layer SM is formed by the following steps. First, the surface of the metal plating layer S1 is washed and dried. Then, the entire rotor 4 is immersed for 5 to 30 seconds in an aqueous solution of Palcoat 3841 (commercial product, manufactured by Nippon Parka) whose temperature is set to about 40 ° C. from normal temperature. Finally, it is completed if this is pulled up and dried without washing with water.

【0043】中間層SMの形成が完了したら、次に樹脂
層S2の形成を行う。この樹脂層S2の形成はカチオン
電着塗装により行われる。カチオン電着塗装とは、樹脂
を中和剤で中和しイオン化した水溶液中に、被塗物を浸
漬して直流電圧をかけることにより、被塗物上で電気永
動、電気分解、電気析出、電気浸透を生じさせ、当該被
塗物上に樹脂塗膜を形成させる方法である。特に「カチ
オン」とは、電着塗料がプラス電荷を帯びている状態で
あることを示しいるとともに、塗膜形成機構としてはエ
ポキシ系樹脂のイソシアネート部分が反応することに依
るものとなっている。なお、このカチオン電着塗装に対
してアニオン電着塗装という方法も存在するが、前者の
方が大幅に耐食性が良い等の理由により、現在市場で使
用されているのはほとんどがカチオン型となっている。
When the formation of the intermediate layer SM is completed, a resin layer S2 is formed next. The formation of the resin layer S2 is performed by cationic electrodeposition coating. Cationic electrodeposition coating is a process of immersing an object in an aqueous solution in which a resin is neutralized with a neutralizing agent and ionizing it, and applying a DC voltage to apply electro-permanence, electrolysis, and electro-deposition on the object. A method of causing electro-osmosis to form a resin coating film on the object to be coated. In particular, “cation” indicates that the electrodeposition paint is in a state of being charged with a positive charge, and the mechanism for forming a coating film is based on the reaction of the isocyanate portion of the epoxy resin. In addition, there is a method called anion electrodeposition coating for this cationic electrodeposition coating, but most of the currently used in the market are cationic type because of the reason that the former has much better corrosion resistance. ing.

【0044】本実施形態においては、具体的に次のよう
な工程により樹脂層S2の形成をはかる。まず、適当な
容器に上記したようなエポキシ系の電着塗料を含む水溶
液を注入しておく。また、前記容器内部における側壁近
傍には、グラファイト製等のプラス電極を設置してお
く。このような容器に、上述までの工程を終えたロータ
4を浸漬し、これと前記プラス電極とを直流電源を介し
て電気的に接続する。すなわち、この場合ロータ4は陰
極となる。この後、プラス電極とロータ4との間に、15
0Vの電圧をかけ、その状態を2〜3min間保持する。す
ると、上記した塗膜形成機構により、ロータ4表面上に
はエポキシ系樹脂による塗膜、すなわち樹脂層S2が形
成されることになる。
In this embodiment, the resin layer S2 is formed by the following steps. First, an aqueous solution containing the above-mentioned epoxy electrodeposition paint is poured into an appropriate container. A positive electrode made of graphite or the like is provided near the side wall inside the container. The rotor 4 having been subjected to the steps described above is immersed in such a container, and the rotor 4 and the positive electrode are electrically connected via a DC power supply. That is, in this case, the rotor 4 becomes a cathode. Thereafter, a distance between the positive electrode and the rotor 4 of 15
A voltage of 0 V is applied and the state is maintained for 2-3 minutes. Then, a coating film of an epoxy resin, that is, a resin layer S2 is formed on the surface of the rotor 4 by the above-described coating film forming mechanism.

【0045】なおこの場合、カチオン電着塗装を適用す
る利点として一般に言われているとおり、ロータ4のよ
うな複雑形状のものに関しても、均一な樹脂層S2の形
成が行われる。また、この樹脂層Sは、塗膜のタレ、溶
け落ち等のない高品質なものともなっている。また、樹
脂層S2の下地に対する密着性は、前記中間層SMの存
在も相俟って、極めて強固なものとなる。
In this case, as is generally said as an advantage of applying the cationic electrodeposition coating, a uniform resin layer S2 can be formed even on a rotor having a complicated shape such as the rotor 4. Further, the resin layer S is of high quality without sagging or burn-through of the coating film. In addition, the adhesion of the resin layer S2 to the base becomes extremely strong due to the presence of the intermediate layer SM.

【0046】最後に、上記工程を終えたロータ4には、
水洗処理を施した後、ベーキング処理を実施する。具体
的には、焼成炉等で190℃、30min間程度の条件で実施す
ればよい。これは、カチオン電着塗装直後において存在
するブロック剤を脱離させると同時に塗膜の架橋を実現
し、樹脂層S2の密着を確実なものとするために行われ
るものである。
Finally, the rotor 4 after the above process is
After performing the water washing process, a baking process is performed. Specifically, it may be carried out in a firing furnace or the like at 190 ° C. for about 30 minutes. This is performed in order to release the blocking agent immediately after the cationic electrodeposition coating and to realize the crosslinking of the coating film and to ensure the close contact of the resin layer S2.

【0047】以上のような製作過程を経て得られた表面
処理層Sを含むロータ4に関して、当該表面処理層Sに
関する輻射率εの計測及び耐食性試験を行った結果を表
1にまた、超高真空雰囲気において実際にロータ4を稼
働させたときの当該ロータ4の温度計測結果を表2にそ
れぞれ示す。なお、耐食性試験は、HCl水溶液にロー
タ4全体を浸漬し、基材の腐食がいつ始まるかという時
間を計測することによってその評価を行った。
Table 1 shows the results of measurement of the emissivity ε and the corrosion resistance test on the rotor 4 including the surface treatment layer S obtained through the above-described manufacturing process. Table 2 shows the temperature measurement results of the rotor 4 when the rotor 4 was actually operated in a vacuum atmosphere. The corrosion resistance test was evaluated by immersing the entire rotor 4 in an aqueous HCl solution and measuring the time when corrosion of the base material started.

【0048】[0048]

【表1】 [Table 1]

【0049】[0049]

【表2】 [Table 2]

【0050】表1及び表2において、本実施形態の表面
処理層Sと比較の対象とされている二例は、そのそれぞ
れが、基材上に無電解Niメッキのみを施したもの、
基材上に陽極酸化被膜を形成したもの、となってい
る。まず、表1からわかるように、においては輻射率
εが0.2であるのに対し、本実施形態の表面処理層Sに
おいてはε=0.9と飛躍的に向上していることがわかる。
このことをふまえて、表2における温度計測結果におい
て及び本実施形態とを比較すると、前者においてはそ
の温度が130℃まで上昇しているのに対して、本実施形
態においては100℃に抑えられていることがわかる。ま
た、表1に戻り、においては輻射率εは0.9と本実施
形態と同値であるが、耐食性試験では1時間後に基材の
腐食が始まっているのに対し、本実施形態における表面
処理層Sは、168時間浸漬しても腐食が始まらなかっ
た。
In Tables 1 and 2, two examples to be compared with the surface treatment layer S of the present embodiment are those obtained by applying only electroless Ni plating on the base material,
In this case, an anodic oxide film is formed on a substrate. First, as can be seen from Table 1, while the emissivity ε is 0.2 in the surface treatment layer S of the present embodiment, it can be seen that ε = 0.9 is dramatically improved.
Based on this fact, when comparing the temperature measurement results in Table 2 and the present embodiment, the temperature is increased to 130 ° C. in the former, whereas it is suppressed to 100 ° C. in the present embodiment. You can see that it is. Returning to Table 1, the emissivity ε is 0.9, which is the same value as that of the present embodiment. However, in the corrosion resistance test, the corrosion of the base material started after 1 hour, whereas the surface treatment layer S of the present embodiment started. Did not start corrosion after immersion for 168 hours.

【0051】このように、本実施形態における表面処理
層Sは、高い輻射率及び優れた耐食性の双方の性質を備
えたものとなっていることがわかる。したがって、この
表面処理層Sが形成されたロータ4を、上で説明したタ
ーボ分子ポンプPに備え、さらにこれをCVD装置等に
設置する場合を考えると、ロータ4から発生する熱を超
高真空下においても有効に放散させ得て、動翼5等がク
リープ破損する可能性を極めて小さく抑えることが可能
となるとともに、腐食性ガスにロータ4が曝されていて
も、簡単に腐食されるようなことがなくなる。すなわ
ち、常に安定したターボ分子ポンプPの運転を実施する
ことができるとともに、ひいては、極めて信頼性の高い
半導体プロセスの実施を支援することができる。
Thus, it can be seen that the surface treatment layer S in the present embodiment has both high emissivity and excellent corrosion resistance. Therefore, when the rotor 4 on which the surface treatment layer S is formed is provided in the turbo molecular pump P described above and further installed in a CVD apparatus or the like, the heat generated from the rotor 4 is reduced to an ultrahigh vacuum. It is possible to effectively dissipate even underneath, so that the possibility of the rotor blades 5 and the like being creep-damaged can be kept extremely small, and even if the rotor 4 is exposed to corrosive gas, it is easily corroded. No more. That is, the operation of the turbo molecular pump P can always be stably performed, and further, the extremely reliable semiconductor process can be supported.

【0052】なお、上記実施形態においては、ポンプ部
材として、ターボ分子ポンプPにおけるロータ4がそれ
に該当するものとしての説明を行ったが、本発明はこの
ことに限定されるものではない。つまりその他、真空雰
囲気下において熱を発生し、かつ腐食性ガスに曝される
ような可能性のあるロータ4以外のポンプ部材に対して
も、本発明は適用可能である。なお、この場合における
ポンプ部材とは、ターボ分子ポンプPに限らず、上記で
例示したようなロータリポンプ、デフュージョンポンプ
等におけるポンプ部材もその概念内に収めるものであ
る。
In the above embodiment, the rotor 4 of the turbo molecular pump P is described as a pump member, but the present invention is not limited to this. That is, the present invention is also applicable to a pump member other than the rotor 4 that generates heat in a vacuum atmosphere and may be exposed to corrosive gas. Note that the pump member in this case is not limited to the turbo molecular pump P, but includes a pump member in a rotary pump, a diffusion pump, or the like as exemplified above.

【0053】より言えば、本発明は、上記したような環
境で用いられる可能性のある部材であれば、ポンプ部材
に限らず一般にどのようなものであっても、その表面に
上記実施形態にて説明したような当該表面処理層Sを形
成して、その作用効果を享受することを妨げるものでは
ない。つまり、本発明はこのこともその範囲内に収める
ものである。
In other words, the present invention is not limited to the pump member as long as it is a member that can be used in the above-described environment. This does not prevent the formation of the surface treatment layer S as described above to enjoy the function and effect. That is, the present invention also falls within this range.

【0054】さらに、金属メッキ層S1としては、上記
したNi-P合金の他、Ni-B合金やCr、Co、また場合
によってはAu等、無電解メッキにより形成可能な金属
に置換可能である。また、樹脂層S2としては、上記エ
ポキシ系樹脂の他、アクリル系樹脂をその代用として用
いてもよい。この場合、上記したカチオン電着塗装を実
施することなく、通常の塗膜形成方法によって樹脂層S
2を得るようにしても良い。ただしこのときは、例えば
ロータ4の高速回転によっても剥離が生じないような付
着強度が得られるよう十分な注意を払う必要がある。い
ずれにしても、これらのこと全ては本発明の概念の範囲
内にあるものである。
Furthermore, the metal plating layer S1 can be replaced with a metal that can be formed by electroless plating, such as Ni-P alloy, Ni-B alloy, Cr, Co, and in some cases, Au, in addition to the above-mentioned Ni-P alloy. . As the resin layer S2, an acrylic resin may be used instead of the epoxy resin. In this case, without performing the above-mentioned cationic electrodeposition coating, the resin layer S
2 may be obtained. However, at this time, it is necessary to pay sufficient attention so that an adhesion strength such that peeling does not occur even when the rotor 4 rotates at a high speed is obtained. In any case, all of these are within the scope of the inventive concept.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載のポ
ンプ部材は、基材上に形成される金属メッキ層、及びそ
の上面に形成される樹脂層とを有することから、十分な
耐食作用及び高い輻射率の双方の性質を兼ね備えたもの
であるということがいえる。したがって、超高真空等、
熱の放散が困難な雰囲気であって、かつ腐食性ガスが流
通するような環境において、本ポンプ部材は、効果的な
熱の放散能力及び腐食性ガスに対する対抗能力を発揮す
ることができる。
As described above, the pump member according to the first aspect has a metal plating layer formed on the base material and a resin layer formed on the upper surface thereof, so that a sufficient corrosion resistance action is obtained. It can be said that it has both the properties of high emissivity and high emissivity. Therefore, such as ultra-high vacuum,
In an environment in which heat is difficult to dissipate and an environment in which corrosive gas flows, the present pump member can exhibit an effective heat dissipation ability and an ability to oppose corrosive gas.

【0056】請求項2記載のポンプ部材は、前記金属メ
ッキ層と前記樹脂層との間に中間層を設けていることか
ら、両層の付着は当該中間層により十分に保証される。
したがって、容易には剥離することのない安定性の高い
表面処理層を得ることができる。
In the pump member according to the present invention, since the intermediate layer is provided between the metal plating layer and the resin layer, the adhesion of the two layers is sufficiently ensured by the intermediate layer.
Therefore, a highly stable surface treatment layer that does not easily peel off can be obtained.

【0057】請求項3記載のポンプ部材は、前記金属メ
ッキ層が無電解メッキにより形成されていることから、
確実な付着、均一なメッキ層の形成を行うことができ
る。
According to the third aspect of the present invention, the metal plating layer is formed by electroless plating.
Reliable adhesion and formation of a uniform plating layer can be performed.

【0058】請求項4記載のポンプ部材は、前記樹脂層
がカチオン電着塗装により形成されていることから、確
実な付着、均一な塗膜の形成、また、タレ、溶け落ち等
のない高品質な塗膜の形成を行うことができる。
In the pump member according to the fourth aspect, since the resin layer is formed by cationic electrodeposition coating, it is possible to provide a high quality without a reliable adhesion, a uniform coating film formation, and sagging and burnout. It is possible to carry out formation of a coating film.

【0059】請求項5記載のポンプ部材は、前記金属メ
ッキ層がニッケルを材質とし、前記樹脂層がエポキシ系
樹脂を材質としていることから、耐食性及び輻射率に関
してより有効な作用を期待することが可能であって、耐
食効果及び熱の放散能力に関する効果をより有効に生か
すことができる。
In the pump member according to the fifth aspect, since the metal plating layer is made of nickel and the resin layer is made of epoxy resin, more effective action can be expected with respect to corrosion resistance and emissivity. It is possible to make more effective use of the effects relating to the corrosion resistance effect and the heat dissipation ability.

【0060】請求項6記載のポンプ部材は、アルミニウ
ム合金を基材とするロータであることから、一般的にそ
れはターボ分子ポンプの構成中において使用されること
が想定される。また、この場合におけるロータは、超高
真空かつ腐食性ガスの存在する雰囲気において高速回転
を行う部材であるから、上までに記した耐食性、高輻射
率なる作用から得られる効果を最も有効に生かすことが
できる。また、ロータは高速で回転する部材であるか
ら、確実な付着という作用効果をも同時に有効に生かせ
るものである。
Since the pump member according to the sixth aspect is a rotor based on an aluminum alloy, it is generally assumed that it is used in the construction of a turbo-molecular pump. Further, since the rotor in this case is a member that performs high-speed rotation in an atmosphere in which an ultra-high vacuum and corrosive gas are present, the effects obtained from the above-described effects of corrosion resistance and high emissivity are most effectively utilized. be able to. In addition, since the rotor is a member that rotates at a high speed, the function and effect of reliable adhesion can be effectively utilized at the same time.

【0061】請求項7記載のターボ分子ポンプは、アル
ミニウム合金からなる基材上に無電解メッキにより形成
されるニッケル層と、該ニッケル層の上にカチオン電着
塗装により形成されるエポキシ系樹脂層とを有するロー
タを備えている。したがって、このターボ分子ポンプ
は、上までに記した各種作用効果を享受できるものであ
り、安定した運転を実施することができる。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a turbo molecular pump, comprising: a nickel layer formed by electroless plating on a substrate made of an aluminum alloy; and an epoxy resin layer formed by cation electrodeposition coating on the nickel layer. And a rotor having: Therefore, this turbo molecular pump can enjoy the various effects described above, and can perform stable operation.

【0062】請求項8記載の表面処理層は、第一層が無
電解メッキにより形成されたニッケル層、第二層がエポ
キシ系樹脂をカチオン電着塗装することにより形成され
た樹脂層とされている。したがって、この表面処理層
は、耐食性、高輻射率、各層間における高付着強度、各
層の均一性等の優れた作用効果を有する。また、一般に
上記各性能が要求されるような場面において用いられる
任意の部材表面に、この表面処理層を形成することによ
って、その作用効果を最大限享受することができる。
According to the present invention, the first layer is a nickel layer formed by electroless plating, and the second layer is a resin layer formed by cationic electrodeposition coating of an epoxy resin. I have. Therefore, this surface treatment layer has excellent effects such as corrosion resistance, high emissivity, high adhesion strength between layers, uniformity of each layer, and the like. In addition, by forming this surface treatment layer on the surface of any member generally used in a situation where each of the above-mentioned performances is required, the function and effect can be enjoyed to the maximum.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 ターボ分子ポンプの構成を示す一部断面視し
た斜視図である。
FIG. 1 is a partially sectional perspective view showing a configuration of a turbo-molecular pump.

【図2】 ロータの一部を拡大視した断面図である。FIG. 2 is an enlarged sectional view of a part of a rotor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

4 ロータ P ターボ分子ポンプ S 表面処理層 S1 金属メッキ層 S2 樹脂層 4 Rotor P Turbo molecular pump S Surface treatment layer S1 Metal plating layer S2 Resin layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡村 知明 広島県広島市西区観音新町四丁目6番22号 三菱重工業株式会社広島製作所内 Fターム(参考) 3H022 AA03 BA04 CA55 DA14 3H031 DA02 EA06 FA03 3H076 AA16 AA21 BB26 CC34  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Tomoaki Okamura 4-22, Kannonshinmachi, Nishi-ku, Hiroshima-shi, Hiroshima Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Hiroshima Works F-term (reference) 3H022 AA03 BA04 CA55 DA14 3H031 DA02 EA06 FA03 3H076 AA16 AA21 BB26 CC34

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材上に形成される金属メッキ層と、該
金属メッキ層上に形成される樹脂層とを有することを特
徴とするポンプ部材。
1. A pump member comprising: a metal plating layer formed on a base material; and a resin layer formed on the metal plating layer.
【請求項2】 前記金属メッキ層と前記樹脂層との間に
は、中間層が設けられていることを特徴とする請求項1
記載のポンプ部材。
2. An intermediate layer is provided between the metal plating layer and the resin layer.
The pump member according to any one of the preceding claims.
【請求項3】 前記金属メッキ層は、無電解メッキによ
り形成されていることを特徴とする請求項1又は2記載
のポンプ部材。
3. The pump member according to claim 1, wherein the metal plating layer is formed by electroless plating.
【請求項4】 前記樹脂層は、カチオン電着塗装により
形成されていることを特徴とする請求項1又は2記載の
ポンプ部材。
4. The pump member according to claim 1, wherein the resin layer is formed by cationic electrodeposition coating.
【請求項5】 前記金属メッキ層はニッケルを材質と
し、前記樹脂層はエポキシ系樹脂を材質とすることを特
徴とする請求項1から4のいずれかに記載のポンプ部
材。
5. The pump member according to claim 1, wherein said metal plating layer is made of nickel, and said resin layer is made of epoxy resin.
【請求項6】 前記ポンプ部材はアルミニウム合金を基
材とするロータであることを特徴とする請求項1から5
のいずれにかに記載のポンプ部材。
6. The pump member according to claim 1, wherein the pump member is a rotor having an aluminum alloy as a base material.
The pump member according to any one of the above.
【請求項7】 アルミニウム合金からなる基材上に無電
解メッキにより形成されるニッケル層と、該ニッケル層
の上にカチオン電着塗装により形成されるエポキシ系樹
脂層とを有するロータを備えたことを特徴とするターボ
分子ポンプ。
7. A rotor having a nickel layer formed by electroless plating on a base material made of an aluminum alloy, and an epoxy resin layer formed by cation electrodeposition coating on the nickel layer. The turbo molecular pump characterized by the above.
【請求項8】 第一層が無電解メッキにより形成された
ニッケル層、第二層がエポキシ系樹脂をカチオン電着塗
装することにより形成された樹脂層とされていることを
特徴とする表面処理層。
8. A surface treatment wherein the first layer is a nickel layer formed by electroless plating, and the second layer is a resin layer formed by cationic electrodeposition coating of an epoxy resin. layer.
JP10218256A 1998-07-31 1998-07-31 Pump member, turbo molecule pump, and surface treatment layer Pending JP2000045944A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10218256A JP2000045944A (en) 1998-07-31 1998-07-31 Pump member, turbo molecule pump, and surface treatment layer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10218256A JP2000045944A (en) 1998-07-31 1998-07-31 Pump member, turbo molecule pump, and surface treatment layer

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006156642A Division JP2006233978A (en) 2006-06-05 2006-06-05 Turbo-molecular pump

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000045944A true JP2000045944A (en) 2000-02-15

Family

ID=16717039

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10218256A Pending JP2000045944A (en) 1998-07-31 1998-07-31 Pump member, turbo molecule pump, and surface treatment layer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000045944A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104121222A (en) * 2013-04-24 2014-10-29 江苏洪流化工机械有限公司 Improved plastic-lined pump

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104121222A (en) * 2013-04-24 2014-10-29 江苏洪流化工机械有限公司 Improved plastic-lined pump

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108878246B (en) Multilayer plasma erosion protection for chamber components
US7732056B2 (en) Corrosion-resistant aluminum component having multi-layer coating
JP3308091B2 (en) Surface treatment method and plasma treatment device
US7323230B2 (en) Coating for aluminum component
US6579430B2 (en) Semiconductor wafer plating cathode assembly
TWI259502B (en) Cleaning process residues on a process chamber component
US20040118697A1 (en) Metal deposition process with pre-cleaning before electrochemical deposition
US8133812B2 (en) Methods and systems for barrier layer surface passivation
JP2018515685A (en) Method for cleaning film forming apparatus
CN109534460B (en) Titanium electrode and preparation method and application thereof
CN108885979B (en) Aluminum electroplating and oxide formation as barrier layers for aluminum semiconductor processing equipment
JP3148878B2 (en) Aluminum plate, method of manufacturing the same, and anti-adhesive cover using the aluminum plate
JP2000045944A (en) Pump member, turbo molecule pump, and surface treatment layer
JP2006233978A (en) Turbo-molecular pump
JP2003065285A (en) Pump member, turbo molecular pump and surface finished layer
TW202113117A (en) Rf components with chemically resistant surfaces
JP2934263B2 (en) Aluminum material and method of manufacturing the same
CN108779568B (en) Method for electrochemically forming yttria on semiconductor processing equipment
JPH0365438B2 (en)
US11692267B2 (en) Plasma induced modification of silicon carbide surface
US20120082596A1 (en) Reactor for Moisture Generation
JPH08281868A (en) Corrosion-resistant structure
KR100445839B1 (en) Fabricating Method of silver Film for Semiconductor Interconnection
US20230103643A1 (en) ADVANCED BARRIER NICKEL OXIDE (BNiO) COATING DEVELOPMENT FOR THE PROCESS CHAMBER COMPONENTS
JP2001065489A (en) Vacuum pump

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20031028

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040105

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20040108

A912 Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20040312

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060605