JP2000043495A - Manufacture of decorative body - Google Patents

Manufacture of decorative body

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JP2000043495A
JP2000043495A JP10227576A JP22757698A JP2000043495A JP 2000043495 A JP2000043495 A JP 2000043495A JP 10227576 A JP10227576 A JP 10227576A JP 22757698 A JP22757698 A JP 22757698A JP 2000043495 A JP2000043495 A JP 2000043495A
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masking layer
layer
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pattern
form
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JP10227576A
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Japanese (ja)
Inventor
Hidetoshi Kodama
Tsuruo Nakayama
Masaki Shigemori
鶴雄 中山
英俊 小玉
正樹 重盛
Original Assignee
Pentel Kk
ぺんてる株式会社
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a pattern through roughing a surface regardless of the shape of a base by partially removing a masking layer using a laser and applying a surface roughing process to the surface of the base after the removal of the masking layer and further removing the remaining masking layer. SOLUTION: A coating obtained by diluting a mixture of an acrylic adhesive 1022 and carbon black with a mixed solvent of toluene and MEK is sprayed on a glass sphere with about 20 mm dia. to form a peelable adhesive layer 2. Next an elastic urethane coating GM-808C loaded with a specified curing agent and a thinner is sprayed to form a masking layer 4. Further, the masking layer 4 on the entire face of a base 1 is removed in a patternlike fashion using a YAG laser marking device and then the base 1 is sand-blasted. In this case, the sand-blasting process uses about 2-3 kg/cm2 air pressure and about 50 mesh sand. This process is applied to the entire periphery of the glass sphere for about 120 sec. while the glass sphere is rotated. After that, the masking layer 4 is peeled following the knack of peeling a pressure-sensitive adhesive tape.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラスチックス、 BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention is, plastics,
ガラス等のセラミックス、アルマイト皮膜、金属または木材などの基材を、部分的に粗面化することによりパタ−ンを形成した装飾体の製造方法に関するものである。 Ceramics such as glass, alumite film, a base material such as metal or wood, by partially roughening pattern - a method of manufacturing a decorative body to form a down.

【0002】 [0002]

【従来の技術】従来、基材上に粗面化したパタ−ンを形成するには、粗面化する部分以外をマスキングし、基材が露出した部分を粗面化処理し、その後マスキングを取り除くことにより行っていた。 Conventionally, pattern was roughened on the substrate - to form the down is the portion other than the portion to be roughened masked, and roughening a part substrate is exposed, then masking It has been performed by removing. マスキング層の形成には、基材上にマスキング用のペ−ストを筆などによりパタ−ン状に塗布する方法、粘着テ−プを張り付けてカッタ−等でパタ−ン状にテ−プを取り除く方法、スクリ− The formation of the masking layer, Bae for masking on the substrate - a method of applying the down-like, adhesive tape - - strike due brush pattern the flop - in such patterns - - by sticking a flop cutter hand down shape how to remove, subscription -
ン印刷などの印刷によりネガパタ−ンを形成する方法、 A method of forming a down, - Negapata by printing such as screen printing
感光性樹脂を塗布し部分的に樹脂を硬化させ、非硬化部分を除去する方法、紙まはた金属などのマスクを密着させる方法などが用いられていた。 The photosensitive resin to cure the coating partially resin, a method of removing uncured portions, and a method of adhering the mask such as paper Mahata metal has been used. またマスキング層は、 The masking layer,
形状に限定されることなく基材に形成でき、粗面化処理中に摩耗や剥離がなく、さらに基材形状に限定されないで微細パタ−ンが形成でき、パタ−ン形成後に簡単に剥離できる特性が必要であり、これらを全て満足する材料および形成方法がないのが現状であった。 Can be formed on the base material without being limited to the shape, without wear and flaking during roughening, yet without being limited to the substrate shape fine pattern - can be formed is down, pattern - can be easily peeled off after down formation characteristic is required, there no material and forming method satisfies all of these were present.

【0003】具体的な先行技術としては、特開昭54− [0003] Specific examples of the prior art, JP-A-54 -
152294号公報および特公昭57−12665号公報が上げられるが、これらは、弾性を有するマスキングインキを用いて基材上に直接印刷し、非印刷部をブラストにより処理し、その後マスキング層を剥離する方法であるが、これらに用いられている弾性を有するマスキングインキは、一部のプラスチックスを除き基材との密着性が十分得られなく、ブラスト中にマスキングのエッジ部分が剥離したり、マスキング部分の面積が小さいとマスキング自体が簡単に剥離してしまい、パタ−ン形成ができないことが確認された。 152294 JP and Sho 57-12665 ​​Patent Publication is raised, they are printed directly onto the substrate using the masking ink having elasticity, a non-printed portion was treated by blasting, peeling the subsequent masking layer is a method, a masking ink having elasticity used in the these are not obtained adhesion to a substrate except for some plastic enough, masking the edge portion peeled off during blasting, masking It will be peeled with a small area of ​​the masking itself easily portion pattern - may not be able to down forms was confirmed. また、マスキング層の形成は、印刷法を使用しているため平板状または円筒状などの印刷可能な形状に限定され、パタ−ン精度も数百μm The formation of the masking layer is limited to a printable form, such as flat or cylindrical due to the use of a printing method, pattern - emission accuracy several hundred μm
程度に限定されていた。 It has been limited to such an extent. さらに、特公昭57−1266 In addition, JP-B-57-1266
5号公報のマスキング層の剥離は、専用の水洗装置が必要となりその後の廃液処理が必要となる。 Peeling of 5 JP masking layer is required subsequent waste liquid treatment will need a dedicated washing device. また特開昭5 The JP-5
4−152294号公報のマスキング層は、サンドブラストの耐性が数秒しかなく、深く彫刻することが不可能であるため、マスキング層のサンドブラスト耐性を向上させるべく、マスキング層上に微細樹脂粉末をふりかけ付着させているが、微細粉末がパタ−ンエッジ部に付着し、特に、微細パタ−ンを形成する場合、パタ−ンがつぶれたり、線が細くなったり、ラインの鮮明さがなくなる等の不具合を有していた。 Masking layer of JP 4-152294 is not only resistant sandblasting a few seconds, since it is impossible to engrave deep, in order to improve the sandblast resistance of the masking layer, is deposited sprinkling fine resin powder masking layer and which is a fine powder patterns - adheres to N'ejji unit, in particular, fine patterns - when forming a down, pattern - or crushed down, or the line becomes thinner, problems such as the sharpness of the line is eliminated Yes Was.

【0004】 [0004]

【発明が解決しようとする課題】以上のように、粗面化パタ−ン形成用のマスキング層は、耐衝撃摩耗性を有し、さらに、粗面化処理中は基材に強固に接着しているが、該処理後は簡単に剥離できる特性が必要であるが、 As described above [0007], roughened pattern - masking layer for emission formation has impact wear resistance, further, in the roughening treatment is strongly adhered to the substrate and which it is, but after the processing is necessary characteristics that can be easily peeled off,
この特性を満足するマスキング材料がないことが問題点であった。 Masking material satisfying this characteristic that there is no was problem. さらに、球状物や凹部を有する基材に粗面化によるパタ−ン形成を行わんとした場合、マスキング層が従来技術では形成できないという問題点があった。 Furthermore, pattern by roughened substrate having spheres or recesses - When you perform a down formation, the masking layer has a problem that can not be formed in the prior art points.

【0005】 [0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題点を解決するため鋭意研究を重ねた結果、得られたもので、 The present invention SUMMARY OF] As a result of intensive studies for solving the above problems, those obtained,
基材上に密着する接着層とブラストの衝撃を吸収し、かつ、摩耗しにくい弾性を有する樹脂層を積層することにより、従来満足し得なかった特性を有するマスキング層が得られることを見い出し、さらに、レ−ザ−によりマスキング層を除去しパタ−ニングを行うことにより、基材形状に限定されることなく、粗面化処理によるパタ− To absorb the shock of the adhesive layer and the blast in close contact on the substrate, and, by laminating a resin layer having a wear hard elastic, found that masking layer having a conventional satisfied obtained not characteristics can be obtained, Furthermore, Les - the - removing the masking layer by and pattern - by performing training, without being limited to the substrate shape, pattern by roughening -
ン形成ができることを見い出し本発明を完成したものであり、基材上に、剥離性を有する接着層と弾性を有する樹脂層を順次形成してマスキング層となし、該マスキング層をレ−ザ−により部分的に除去し、次いで、マスキング層を除去した基材表面を粗面化処理した後、残りのマスキング層を除去した装飾体の製造方法を要旨とするものである。 Is obtained by completing the present invention found that it is down form, Le on the substrate, the adhesive layer and the elastic are formed successively by the masking layer and without a resin layer having a having a peelable, the masking layer - The - by partially removed and then, after the substrate surface to remove the masking layer and roughening treatment is for summarized as method for manufacturing a decorative body to remove residual masking layer.

【0006】以下図面に基づき本発明を詳細に説明する。 [0006] detailed description of the present invention based on the drawings. 参照符号1は、基材であり、該基材1の材質は、特に限定されず、プラスチックス、ガラス等のセラミックス、アルマイト皮膜、金属または木材など通常装飾体の製造に使用されている公知の材料が使用される。 Reference numeral 1 is a substrate, the material of the substrate 1 is not particularly limited, plastics, such as glass ceramic, anodized aluminum film, known which are used in the production of ordinary ornamental body such as a metal or wood materials are used. また、 Also,
基材上に塗装法や印刷法で樹脂層を形成したもの、めっき法や物理蒸着法により金属またはその化合物を形成したもの、溶射法などによりセラミックス皮膜を形成したものを用いてもよい。 Obtained by forming a resin layer by coating method or a printing method on a substrate obtained by forming a metal or a compound thereof by plating or physical vapor deposition, it may be used in which the formation of the ceramic film due to thermal spraying.

【0007】参照符号2は剥離性を有する接着剤層、参照符号3は弾性を有する樹脂層であり、この接着剤層2 [0007] The adhesive layer reference numeral 2 having a release property, reference numeral 3 is a resin layer having elasticity, the adhesive layer 2
と弾性を有する樹脂層3とによってマスキング層4を構成している。 Constitute the masking layer 4 by a resin layer 3 having elasticity and. 接着剤層2は、マスキング層4を最後に除去するため、剥離性を有するものを用いるが、具体的には、ゴム系、アクリル系、ポリイソブチレン系、シリコ−ン系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリビニルエ−テル系などの粘着性を有する樹脂材料を含むものが挙げられる。 The adhesive layer 2, to remove the masking layer 4 Finally, uses a material having release properties, specifically, rubber-based, acrylic, polyisobutylene-based, silicone - emission, polyurethane, polyester , Poribinirue - include those containing a resin material having adhesiveness such as ether system. 粘着力としては、室温において100〜 The adhesive strength, 100 at room temperature
4,000g/25mm範囲が好ましい。 4,000g / 25mm range is preferred. その理由は、 The reason is,
粘着力が100g/25mm未満だと基材に対する接着強さが弱いため剥離しやすく、また、4,000g/2 Adhesive force is easily peeled off because of poor adhesion strength to the substrate and less than 100 g / 25 mm, also, 4,000 g / 2
5mmを超えると基材に対する接着強さが強すぎ剥離できないことがあるからである。 This is because there may be a not be peeled too strong adhesive strength to the substrate exceeds 5 mm.

【0008】弾性を有する樹脂層3は、粗面化処理されることから、耐衝撃摩耗や耐薬品性を有する材料を用いる必要があ、また、マスキング層4を除去するときに接着層を剥ぎ取るための基材となることから、接着層との接着力が大きく、かつ、引き裂き強度が大きい必要がある。 [0008] resin layer 3 having elasticity, since it is roughening, must use a material having impact abrasion and chemical resistance, also strip the adhesive layer when removing the masking layer 4 since as the base material for taking the adhesive force between the adhesive layer is large and it is necessary tear strength is large. 特に、層の形成のし易さ、衝撃吸収性、取り扱い性を考慮するとポリウレタン系の材料が好ましい。 In particular, forming easiness of the layer, shock absorption, are preferred materials for consideration of polyurethane handling properties. マスキング層4を形成する前記剥離性を有する接着剤層2並びに弾性を有する樹脂層3を形成する材料は、特に、基材1の形状が複雑であったり、球状であるような場合、性状は溶剤に溶解しているものや粉体状のものが好ましく、また、形成方法は塗装法が好ましい。 Material forming the resin layer 3 having a 2 and elastic adhesive layer having a release property of forming a masking layer 4, especially when or a complex shape of the substrate 1, such that spherical nature is preferably it has one or powdery dissolved in a solvent, also forming method coating method is preferable. その理由は、 The reason is,
形状を選ばず均一に形成できるからである。 Shape because the can be uniformly formed choosing. さらに、後述するレ−ザ−による除去性を向上させるため、カ−ボンブラック等の黒色顔料を含む材料を用いることが好ましい。 Furthermore, Les later - to improve the removability by mosquitoes - - The it is preferable to use a material containing a black pigment such as carbon black. これは、レ−ザ−の吸収効率が向上することと、 This is - The - and that the absorption efficiency is improved of,
顔料を含むことによりマスキング層の強度の向上が期待できるからである。 Improving the strength of the masking layer by containing a pigment can be expected.

【0009】参照符号5は、レ−ザ−によりマスキング層4を部分的に除去した部分である。 [0009] Reference numeral 5 is - The - by a portion of the masking layer 4 is partially removed. マスキング層4の除去は、市販のYAGまたは炭酸ガスレ−ザ−装置を用いて行えばよい。 Removal of the masking layer 4, a commercially available YAG or carbon Gasure - The - may be performed using the device. 参照符号6は、粗面化処理面である。 Reference numeral 6 is a roughening treated surface.
粗面化処理は、市販の薬品、装置を用いて行えばよく特に限定されるものではない。 Roughening treatment, a commercially available drug, is not particularly limited may be performed using the apparatus. 粗面化は、化学的または物理的エッチング法やブラスト処理により行う。 Roughening is performed by chemical or physical etching or blasting. 化学的エッチング処理は、素材を溶解する薬品とその他添加剤よりなる溶液中に浸漬して行う。 Chemical etching treatment is conducted by immersing in a solution consisting of chemicals and other additives to dissolve the material. 基材の材質により処理溶液を適宜選択して使用する。 Processing solution by the material of the substrate is appropriately selected and used. 物理的エッチング処理は、 Physical etching process,
ガスプラズマ等を用いて基材表面を微細に粗面化する方法であり、ブラスト処理は、砂やガラスまたは樹脂ビ− A method of finely roughening the substrate surface with a gas plasma or the like, blasting, sand, glass or resin bi -
ズを高圧のエア−をキャリア−として基材に吹き付ける方法である。 Figure high pressure air - a method of spraying as the base material - the carrier. これらの方法の中で、特に、粗面化処理の設備とコストの問題から化学的エッチングまたはブラスト処理が好ましい。 Among these methods, in particular, chemical etching or blasting from the equipment and cost issues roughening treatment. 粗面化表面の粗さおよび深さは、処理液、材質、処理時間などにより適宜処理条件を選択し調整すればよい。 Roughness and depth of the roughened surface, the processing solution, the material may be selected as appropriate processing conditions adjusted such as by treatment time. 粗面化処理しないマスキング層4は、 Masking layer 4 without roughening treatment,
粘着テ−プを剥がす要領で簡単に手で剥離することができる。 Adhesive tape - can be peeled easily with hands in the manner of peeling the flop. また、接着剤層2が強粘着性を有する場合は、お湯の中に浸漬することにより簡単に剥離することができる。 Also, when having the strength tack adhesive layer 2 can be easily peeled off by immersing in hot water.

【0010】 [0010]

【作用】本発明の装飾体の製造方法は、プラスチックス、ガラス等のセラミックス、アルマイト皮膜、金属または木材などの基材上に、剥離性を有する接着層と弾性を有する樹脂層を順次形成したものをマスキング層としたので、粗面化処理によりマスキング層が剥離したり、 Method for producing a decorative material of the effects of the present invention, plastics, ceramics such as glass, anodized aluminum coating on a substrate such as a metal or wood, the resin layer having an adhesive layer and elasticity of the peelable sequentially formed Having things masking layer, or masking layer is removed by the roughening treatment,
摩耗することがなく所望のパタ−ンが得られ、さらに、 Desired pattern without having to wear - down is obtained, further,
レ−ザ−によりマスキング層を部分的に除去し、パタ− Les - The - masking layer is partially removed by, pattern -
ニングを行うため基材形状に限定されることなく精度の高いパタ−ン形成ができ、そして接着層の粘着力を適切にすることにより、粗面化処理中はマスキング層が剥離することなく、粗面化処理後のマスキング層の除去は、 Precise pattern is not limited to a substrate configuration for performing training - can down form, and by the appropriate adhesion of the adhesive layer, during the roughening process without masking layer is peeled off, removal of the masking layer after roughening treatment,
粘着テ−プを剥離するのと同様の要領で剥離することができる。 Adhesive tape - can be peeled off in the same manner as to peel the flop.

【0011】 [0011]

【実施例】次に実施例に基づき本発明を説明する。 EXAMPLES Next with reference to examples illustrating the present invention. 〈実施例1〉直径20mmのガラス製の球に、市販のアクリル系接着剤1022(SKダイン、綜研化学(株) Glass spheres of <Example 1> diameter 20 mm, a commercially available acrylic adhesive 1022 (SK Dyne, Soken Chemical & Engineering Co.
製)を用いてカ−ボンブラックを混合し、トルエン、M Mosquitoes by using Ltd.) - a mixture of carbon black, toluene, M
EKの混合溶剤で希釈しスプレ−塗装で剥離性を有する接着剤層を形成した。 Diluted with EK mixed solvent of spray - to form an adhesive layer having a release property in painting. その後、市販の弾性ウレタン塗料GM−808C(ハニソフトン黒色、ハニ−化成(株) Then, a commercially available elastic urethane coating GM-808C (Hanisofuton black, Hani - Kasei Co.
製)を用いて所定の硬化剤、シンナ−を添加しスプレ− Predetermined curing agent using Ltd.), thinner - added spray -
塗装しマスキング層を形成した。 Painted to form a masking layer. その後、YAGレ−ザ−マ−キング装置で基材全面をパタ−ン状にマスキング層を除去し、サンドブラスト処理を行った。 Thereafter, YAG Les - The - Ma - the substrate whole surface by King device pattern - a masking layer is removed to down-like and subjected to sandblasting. サンドブラストは、2〜3kg/cm 2のエア−圧、50メッシュの砂を用いて、120秒間球を回しながら全周に行った。 Sandblasting, 2-3 kg / cm 2 of air - pressure, with a 50-mesh sand was performed the entire circumference while turning 120 seconds sphere. その後、マスキング層を粘着テ−プを剥離する要領で剥離した。 Thereafter, the adhesive tape masking layer - was peeled in a manner of separating the flop. ガラス球の全面に凹みが深く表面粗さが大きい彫刻状のパタ−ンが形成できた。 Entire surface depressions deeper surface roughness of the glass bulb sculpture-like large pattern - emissions could be formed.

【0012】〈実施例2〉直径30mmの樹脂製の凹レンズに、市販のゴム系接着剤RB810(JSR製)を用いてカ−ボンブラックを混合し、トルエン、MEKの混合溶剤で希釈しスプレ−塗装で剥離性を有する接着剤層を形成した。 [0012] resin-concave <Example 2> diameter 30 mm, mosquitoes using a commercially available rubber adhesive RB810 (manufactured by JSR) - mixing carbon black, toluene, spray diluted with a mixed solvent of MEK - to form an adhesive layer having a release property in painting. その後、市販の弾性ウレタン塗料SF− Then, commercially available elastic urethane paint SF-
6(ファンタスコ−ト黒色、オリジン電気(株)製)を用いて所定の硬化剤、シンナ−を添加しスプレ−塗装しマスキング層を形成した。 6 - predetermined curing agent with (fan Taxco preparative black, Origin Electric Co., Ltd.), thinner - added spray - to form a paint masking layer. その後、炭酸ガスレ−ザ−マ−キング装置で一部分をパタ−ン状にマスキング層を除去し、サンドブラスト処理を行った。 Thereafter, carbonate Gasure - The - Ma - part pattern King device - the masking layer is removed to down-like and subjected to sandblasting. サンドブラストは、2〜3kg/cm 2のエア−圧、200メッシュの砂を用いて10秒間行った。 Sandblasting, 2-3 kg / cm 2 of air - pressure, was carried out for 10 seconds using a 200-mesh sand. その後、マスキング層を粘着テ−プを剥離する要領で剥離した。 Thereafter, the adhesive tape masking layer - was peeled in a manner of separating the flop. 樹脂製の凹レンズの一部に凹みが浅く表面粗さの小さい彫刻状のパタ−ンが形成できた。 Pattern part recessed shallow surface roughness smaller sculpture-like resin-made concave - down was formed.

【0013】〈実施例3〉直径10mm、長さ100m [0013] <Example 3> diameter 10mm, length 100m
mの円筒形のアルミ軸をアルマイト処理した。 Aluminum axis of the cylindrical m was anodized. アルマイト処理したアルミ軸に市販のシリコ−ン系接着剤KR1 Commercially available silicone alumite treated aluminum shaft - down adhesive KR1
01−10(シリコ−ンワニス、信越化学工業(株) 01-10 (silico - Nwanisu, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
製)を用いてカ−ボンブラックを混合し、トルエン、M Mosquitoes by using Ltd.) - a mixture of carbon black, toluene, M
EKの混合溶剤で希釈しスプレ−塗装で剥離性を有する接着剤層を形成した。 Diluted with EK mixed solvent of spray - to form an adhesive layer having a release property in painting. その後、市販の弾性ウレタン塗料ラビ(S)(黒色、大橋化学工業(株)製)を用いて所定の硬化剤、シンナ−を添加しスプレ−塗装しマスキング層を形成した。 Then, a commercially available elastic urethane coating Rabbi (S) with (black, Ohashi Chemical Industries Co., Ltd.) predetermined curing agent, thinner - added spray - to form a paint masking layer. その後、YAGレ−ザ−マ−キング装置で基材全面をパタ−ン状にマスキング層を除去し、サンドブラスト処理を行った。 Thereafter, YAG Les - The - Ma - the substrate whole surface by King device pattern - a masking layer is removed to down-like and subjected to sandblasting. サンドブラストは、2〜3 Sandblasting, 2-3
kg/cm 2のエア−圧、100メッシュの砂を用いて、30秒間軸を回しながら全周に行った。 kg / cm 2 of air - pressure, using a 100 mesh sand was performed on the entire circumference while turning the shaft 30 seconds. その後、軸をお湯の中に浸漬しマスキング層を剥離した。 It was then peeled immersed masking layer the shaft into the water. アルマイト軸の全面に凹みが深く表面粗さががやや大きい彫刻状のパタ−ンが形成できた。 Entire surface depressions deeper surface roughness of alumite axis sculpture shaped slightly larger pattern - emissions could be formed.

【0014】〈実施例4〉直径10mm、長さ100m [0014] <Example 4> diameter 10 mm, length 100m
mの円筒形の真鍮軸に市販のポリウレタン系接着剤ニッポラン3222(日本ポリウレタン工業(株)製)を用いてカ−ボンブラックを混合し、トルエン、MEKの混合溶剤で希釈しスプレ−塗装で剥離性を有する接着剤層を形成した。 m mosquitoes with a cylindrical brass shaft in commercial polyurethane adhesive Nippolan 3222 (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co.) of - mixing the carbon black, toluene, spray diluted with a mixed solvent of MEK - peeling paint to form an adhesive layer having a sex. その後、市販の弾性ウレタン塗料V−7 Then, commercially available elastic urethane paint V-7
X−8550(黒色、長島ペイント(株)製)を用いて所定の硬化剤、シンナ−を添加しスプレ−塗装しマスキング層を形成した。 X-8550 with (black, Nagashima Paint Co., Ltd.) predetermined curing agent, thinner - added spray - to form a paint masking layer. その後、炭酸ガスレ−ザ−マ−キング装置で基材全面をパタ−ン状にマスキング層を除去し、サンドブラスト処理を行った。 Thereafter, carbonate Gasure - The - Ma - the substrate whole surface by King device pattern - a masking layer is removed to down-like and subjected to sandblasting. サンドブラストは、 Sandblasting,
2〜3kg/cm 2のエア−圧、50メッシュの砂を用いて、60秒間軸を回しながら全周に行った。 2-3 kg / cm 2 of air - pressure, with a 50-mesh sand was performed the entire circumference while turning the 60 seconds shaft. その後、 after that,
軸を水の中に浸漬しマスキング層を剥離した。 The shaft was peeled immersed masking layer in water. 真鍮軸の全面に凹みが深く表面粗さが大きい彫刻状のパタ−ンが形成できた。 Entire surface depressions deeper surface roughness is large sculpture-like pattern brass shaft - emissions could be formed.

【0015】〈比較例1〉直径20mmのガラス製の球に、市販の弾性ウレタン塗料GM−808C(ハニソフトン黒色、ハニ−化成(株)製)を用いて所定の硬化剤、シンナ−を添加しスプレ−塗装しマスキング層を形成した。 [0015] glass spheres <Comparative Example 1> diameter 20 mm, commercially available elastic urethane coating GM-808C (Hanisofuton black, Hani - Kasei Co., Ltd.) predetermined curing agent using a thinner - added spray - to form a paint masking layer. その後、YAGレ−ザ−マ−キング装置で基材全面をパタ−ン状にマスキング層を除去し、サンドブラスト処理を行った。 Thereafter, YAG Les - The - Ma - the substrate whole surface by King device pattern - a masking layer is removed to down-like and subjected to sandblasting. サンドブラストは、2〜3kg/c Sandblasting, 2~3kg / c
2のエア−圧、50メッシュの砂を用いて、10秒間球を回しながら全周に行った。 m 2 of air - pressure, with a 50-mesh sand was performed the entire circumference while turning the 10 seconds sphere. その後、マスキング層を粘着テ−プを剥離する要領で剥離した。 Thereafter, the adhesive tape masking layer - was peeled in a manner of separating the flop. マスキング層が剥離したり、一部浮いてしまいパタ−ン形成ができなかった。 Or masking layer is separated, it will float part pattern - could not down form.

【0016】〈比較例2〉直径20mmのガラス製の球に、市販のアクリル系接着剤材1022(SKダイン、 [0016] <Comparative Example 2> glass spheres having a diameter of 20 mm, a commercially available acrylic adhesive material 1022 (SK Dyne,
綜研化学(株)製)を用いて、トルエン、MEKの混合溶剤で希釈しスプレ−塗装で接着剤層(マスキング層) Soken Chemical & Engineering using Ltd.), toluene, diluted with a mixed solvent of MEK spray - coated with an adhesive layer (a masking layer)
を形成した。 It was formed. その後、YAGレ−ザ−マ−キング装置で基材全面をパタ−ン状にマスキング層を除去し、サンドブラスト処理を行った。 Thereafter, YAG Les - The - Ma - the substrate whole surface by King device pattern - a masking layer is removed to down-like and subjected to sandblasting. サンドブラストは、2〜3kg Sandblasting, 2~3kg
/cm 2のエア−圧、50メッシュの砂を用いて、30 / Cm 2 of air - pressure, with a 50-mesh sand, 30
秒間球を回しながら全周に行った。 We went to the entire circumference while turning the ball seconds. その後、マスキング層を粘着テ−プを剥離する要領で剥離した。 Thereafter, the adhesive tape masking layer - was peeled in a manner of separating the flop. 接着剤層にゴミ等が付着しレ−ザ−でパタ−ニングができない部分があった。 The adhesive layer adheres dust Les - The - in pattern - there is a training can not be part. またブラストの砂が接着剤層に付着しパタ− The pattern blasting sand adheres to the adhesive layer -
ンエッジが鮮明にならなかった。 N'ejji does not become clear.

【0017】 [0017]

【発明の効果】本発明によれば、実施例、比較例の結果が示すように、任意の彫刻の深さおよび精度のパタ−ンを基材形状に限定されることなく再現性良く粗面化パタ−ンが形成できるものである。 According to the present invention, examples, as shown in the results of the comparative example, the depth of any engravings and accuracy of pattern - good reproducibility roughened without being limited down to the substrate shape of pattern - in which emission can be formed.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明の処理工程説明図。 [1] process illustration of the present invention.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 基材 2 剥離性を有する接着層 3 弾性を有する樹脂層 4 マスキング層 5 レーザーにより除去した部分 6 粗面化処理面 Portion 6 roughening treated surface is removed by the resin layer 4 masking layer 5 laser having an adhesive layer 3 elastically with 2 peelable first substrate

Claims (1)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】基材上に、剥離性を有する接着層と弾性を有する樹脂層を順次形成してマスキング層となし、該マスキング層をレ−ザ−により部分的に除去し、次いで、 On the 1. A substrate, the adhesive layer and the elastic are formed successively by the masking layer and without a resin layer having, the masking layer les having release properties - The - by partially removing, then
    マスキング層を除去した基材表面を粗面化処理した後、 After the substrate surface to remove the masking layer and roughening treatment,
    残りのマスキング層を除去した装飾体の製造方法。 Manufacturing method of the remaining masking layer is removed with decorative body.
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