JP2000040360A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JP2000040360A
JP2000040360A JP10209205A JP20920598A JP2000040360A JP 2000040360 A JP2000040360 A JP 2000040360A JP 10209205 A JP10209205 A JP 10209205A JP 20920598 A JP20920598 A JP 20920598A JP 2000040360 A JP2000040360 A JP 2000040360A
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JP
Japan
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internal step
power supply
down power
circuit
internal
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JP10209205A
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Japanese (ja)
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Akimitsu Mimura
晃満 三村
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor memory capable of reducing power consumption at the time RAS(row address strobe signal) is in an 'L' stand-by by controlling operations of buffer circuits for internal step-down voltage. SOLUTION: This memory is a 64M-bit DRAM and it is constituted of a memory array and its peripheral circuits or the like and in the internal step- down power source circuit to be incorporated in the internal power source voltage generating circuit of the peripheral circuit. An internal power source voltage down level sensor VDLS and plural internal step-down level buffer circuit VDLB are included. The internal step-down source circuit is constituted so as to prohibit operations of buffer circuits for internal step-down power source VDLB1 of one part of the circuit by controlling operations of other internal step-down level buffer circuit VDLB1 except a minimum internal step- down level buffer circuit assuring the 'L' stand-by state of the RAS among the buffer circuits for internal step-down power source VDLB by the output of the sensor VDLS while operating the internal power source voltage level sensor VDLS at the time the RAS is in the 'L' stand-by.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置の
技術に関し、特にロウアドレスストローブ信号の低レベ
ルによるスタンバイ時、いわゆる常に読み出し/書き込
みのアクセスに対応可能な状態のRAS“L”Stan
d−by時における低電力化に好適なDRAMなどの半
導体記憶装置に適用して有効な技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technology of a semiconductor memory device, and more particularly, to a RAS "L" Stan in a state capable of always supporting read / write access during standby due to a low level of a row address strobe signal.
The present invention relates to a technique that is effective when applied to a semiconductor memory device such as a DRAM suitable for low power consumption during d-by.

【0002】[0002]

【従来の技術】たとえば、本発明者が検討した技術とし
て、チップ内の回路に内部降圧電源を使用し、高速動作
を行うDRAMなどの半導体記憶装置においては、高速
動作時の内部降圧電源のレベルを保証するため、周辺回
路部にMOS定数が大きい多数の差動型バッファ回路を
配置する技術などが考えられる。
2. Description of the Related Art For example, as a technique studied by the present inventors, in a semiconductor memory device such as a DRAM which operates at high speed by using an internal step-down power supply for a circuit in a chip, the level of the internal step-down power supply at the time of high-speed operation In order to assure the above, a technique of arranging a large number of differential buffer circuits having large MOS constants in the peripheral circuit section can be considered.

【0003】なお、このようなDRAMなどの半導体記
憶装置に関する技術としては、たとえば1994年11
月5日、株式会社培風館発行の「アドバンスト エレク
トロニクスI−9 超LSIメモリ」などに記載される
技術などが挙げられる。
[0003] As a technique related to such a semiconductor memory device such as a DRAM, for example,
The technology described in “Advanced Electronics I-9 Ultra LSI Memory” issued by Baifukan Co., Ltd. on May 5 is exemplified.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、前記のよう
なDRAMなどの半導体記憶装置においては、通常、内
部降圧電源のバッファ回路のイネーブルはRAS同期で
あるため、RAS“L”Stand−by時のほとんど
の負荷が動作しないときにも、バッファ回路のイネーブ
ル時の電流により、RAS“L”Stand−by時の
電流が大きくなっている。すなわち、回路の安定動作を
保証するため、低消費電流化は困難と考えられる。
In a semiconductor memory device such as a DRAM as described above, the enable of the buffer circuit of the internal step-down power supply is usually RAS synchronous, so that the RAS "L" Stand-by signal is not used. Even when most loads do not operate, the current at the time of RAS “L” Stand-by is large due to the current at the time of enabling the buffer circuit. That is, it is considered difficult to reduce the current consumption in order to guarantee the stable operation of the circuit.

【0005】そこで、本発明の目的は、内部降圧電源用
のバッファ回路の動作を制御することにより、RAS
“L”Stand−by時の低電力化を図ることができ
るDRAMなどの半導体記憶装置を提供するものであ
る。
An object of the present invention is to control the operation of a buffer circuit for an internal step-down power supply, thereby providing a RAS.
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device such as a DRAM which can reduce power consumption during "L" Stand-by.

【0006】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
次のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0008】すなわち、本発明による半導体記憶装置
は、チップ内の回路に内部降圧電源を使用し、高速動作
を行うために内部降圧電源用の複数のバッファ回路を有
する半導体記憶装置に適用されるものであり、RAS
“L”Stand−by時に、低消費電流である内部降
圧電源レベルセンサを動作させ、この出力で内部降圧電
源用の一部のバッファ回路のイネーブル信号を制御する
ものである。
That is, the semiconductor memory device according to the present invention uses an internal step-down power supply for a circuit in a chip, and is applied to a semiconductor memory device having a plurality of buffer circuits for the internal step-down power supply for performing high-speed operation. And the RAS
At the time of "L" Stand-by, the internal step-down power supply level sensor which consumes low current is operated, and the output controls the enable signal of some buffer circuits for the internal step-down power supply.

【0009】この構成において、複数のバッファ回路は
それぞれ、内部降圧電源の電圧レベルと基準電圧レベル
とを比較するMOSトランジスタ回路からなり、このM
OSトランジスタ回路のMOS定数が大きく、かつ負帰
還構成であり、一方内部降圧電源レベルセンサは、内部
降圧電源の電圧レベルと基準電圧レベルとを比較するM
OSトランジスタ回路からなり、このMOSトランジス
タ回路のMOS定数が小さく、かつ帰還無し構成となっ
ているものである。
In this configuration, each of the plurality of buffer circuits comprises a MOS transistor circuit for comparing the voltage level of the internal step-down power supply with the reference voltage level.
The OS transistor circuit has a large MOS constant and a negative feedback configuration, while the internal step-down power supply level sensor compares the voltage level of the internal step-down power supply with the reference voltage level.
The MOS transistor circuit has a small MOS constant and has no feedback.

【0010】よって、前記半導体記憶装置によれば、内
部降圧電源用の一部のバッファ回路の動作を禁止するこ
とにより、バッファ回路での消費電流が低減でき、RA
S“L”Stand−by時の消費電力を低減すること
ができる。この結果、製品の低電力化が可能となる。特
に、DRAMなどに好適であり、内部降圧電源を使用す
る他のLSIなどについても適用可能である。
Therefore, according to the semiconductor memory device, the operation of a part of the buffer circuit for the internal step-down power supply is inhibited, so that the current consumption in the buffer circuit can be reduced.
Power consumption during S “L” Stand-by can be reduced. As a result, the power consumption of the product can be reduced. In particular, it is suitable for DRAMs and the like, and is also applicable to other LSIs and the like using an internal step-down power supply.

【0011】これは、バッファ回路のイネーブル時の電
流よりも低消費電流であるレベルセンサをバッファ動作
の代わりに動作させることで、低電力化が実現できるた
めである。
This is because the power consumption can be reduced by operating the level sensor having a lower current consumption than the current when the buffer circuit is enabled, instead of the buffer operation.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0013】図1は本発明の一実施の形態である半導体
記憶装置を示す概略ブロック図、図2は本実施の形態の
半導体記憶装置において、内部降圧電源回路を示す回路
図である。
FIG. 1 is a schematic block diagram showing a semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram showing an internal step-down power supply circuit in the semiconductor memory device of this embodiment.

【0014】まず、図1により本実施の形態の半導体記
憶装置の構成を説明する。
First, the configuration of the semiconductor memory device according to the present embodiment will be described with reference to FIG.

【0015】本実施の形態の半導体記憶装置は、たとえ
ば64MビットDRAMとされ、複数のメモリセルから
なるメモリセルアレイMCAと、このメモリセルアレイ
MCAのアドレスを指定するためのロウアドレスバッフ
ァRAB、カラムアドレスバッファCAB、ロウデコー
ダRDE、カラムデコーダCDE、ロウドライバRD
R、およびカラムドライバCDRと、データの読み出し
/書き込みを行うためのセンスアンプSA、メインアン
プMA、出力バッファDOBおよび入力バッファDIB
と、各制御信号のバッファRB,CB,WBと、内部電
圧発生回路VGなどの周知の構成からなり、これらが周
知の半導体製造技術によって1個の半導体チップ上に形
成されて構成されている。
The semiconductor memory device of the present embodiment is, for example, a 64-Mbit DRAM, and includes a memory cell array MCA including a plurality of memory cells, a row address buffer RAB for designating an address of the memory cell array MCA, and a column address buffer. CAB, row decoder RDE, column decoder CDE, row driver RD
R, a column driver CDR, a sense amplifier SA for reading / writing data, a main amplifier MA, an output buffer DOB, and an input buffer DIB.
And known configurations such as control signal buffers RB, CB, and WB, and an internal voltage generation circuit VG. These components are formed on a single semiconductor chip by a known semiconductor manufacturing technique.

【0016】このDRAMには、外部からアドレス信号
Aiが入力され、ロウアドレスバッファRAB、カラム
アドレスバッファCABによりロウアドレス信号、カラ
ムアドレス信号が生成されて、それぞれロウデコーダR
DEおよびロウドライバRDR、カラムデコーダCDE
およびカラムドライバCDRを介してメモリセルアレイ
MCA内の任意のメモリセルが選択される。そして、読
み出し動作時には、センスアンプSA、入出力線I/
O、メインアンプMAを介して出力バッファDOBから
出力データDoが出力され、書き込み動作時には、入力
データDiが入力バッファDIBから入力される。
An address signal Ai is externally input to this DRAM, and a row address signal and a column address signal are generated by a row address buffer RAB and a column address buffer CAB.
DE and row driver RDR, column decoder CDE
An arbitrary memory cell in memory cell array MCA is selected via column driver CDR. During the read operation, the sense amplifier SA and the input / output line I /
O, output data Do is output from the output buffer DOB via the main amplifier MA, and input data Di is input from the input buffer DIB during a write operation.

【0017】さらに、DRAMの制御信号として、外部
からロウアドレスストローブ信号/RAS、カラムアド
レスストローブ信号/CAS、ライトイネーブル信号/
WEなどがそれぞれバッファRB,CB,WBを介して
入力され、これらの制御信号に基づいて内部制御信号が
生成され、この内部制御信号により内部回路の動作が制
御される。また、内部電源系統は、外部から電源電圧V
DD、接地電圧VSSが入力され、内部電圧発生回路V
Gにより、基板電源、昇圧電源、降圧電源などの各種内
部電圧レベルが発生され、それぞれメモリセルアレイM
CAおよびその周辺回路などの内部回路に供給される。
Further, as a control signal of the DRAM, a row address strobe signal / RAS, a column address strobe signal / CAS, a write enable signal /
WE and the like are input via buffers RB, CB, and WB, respectively, and an internal control signal is generated based on these control signals, and the operation of the internal circuit is controlled by the internal control signal. In addition, the internal power supply system has a power supply voltage V
DD and the ground voltage VSS are input, and the internal voltage generation circuit V
G generates various internal voltage levels such as a substrate power supply, a step-up power supply, and a step-down power supply.
It is supplied to internal circuits such as CA and its peripheral circuits.

【0018】特に、本実施の形態においては、内部電圧
発生回路VGに内蔵される内部降圧電源回路VDLGの
回路構成が工夫され、RAS“L”Stand−by時
に、低消費電流である内部降圧電源レベルセンサを動作
させ、この出力で内部降圧電源用の一部のバッファ回路
のイネーブル信号を制御することができるように構成さ
れている。なお、この場合には、RAS“L”Stan
d−by状態を保証する最小限のバッファ回路は動作可
能となっている。
In particular, in the present embodiment, the circuit configuration of the internal step-down power supply circuit VDLG built in the internal voltage generating circuit VG is devised so that the internal step-down power supply which consumes low current during RAS "L" Stand-by. The level sensor is operated, and the enable signal of some buffer circuits for the internal step-down power supply can be controlled by this output. In this case, RAS “L” Stan
The minimum buffer circuit that guarantees the d-by state is operable.

【0019】すなわち、内部降圧電源回路VDLGに
は、たとえば図2に示すように、内部降圧電源レベルセ
ンサVDLSと複数の内部降圧電源用バッファ回路VD
LBとが含まれている。内部降圧電源用バッファ回路V
DLBは、定数が大きく、負帰還があるので、消費電流
が大きくなる。これに対して、内部降圧電源レベルセン
サVDLSは、定数が小さく、帰還がないので、消費電
流を小さくすることができる。
That is, as shown in FIG. 2, for example, the internal step-down power supply circuit VDLG includes an internal step-down power supply level sensor VDLS and a plurality of internal step-down power supply buffer circuits VD.
LB. Buffer circuit V for internal step-down power supply
Since the DLB has a large constant and has negative feedback, the current consumption increases. On the other hand, since the internal step-down power supply level sensor VDLS has a small constant and no feedback, the current consumption can be reduced.

【0020】内部降圧電源レベルセンサVDLSは、図
2のように、PMOSトランジスタTP1〜TP3、N
MOSトランジスタTN1〜TN5、インバータIV
1、ディレイ回路DLY1および否定論理和ゲートNO
R1からなり、ディレイ回路DLY1にはロウアドレス
ストローブ信号RASが入力され、NMOSトランジス
タTN3,TN5のゲートにはイネーブル信号が入力さ
れ、ロウアドレスストローブ信号RASに同期して動作
する構成となっている。
The internal step-down power supply level sensor VDLS includes PMOS transistors TP1 to TP3, N as shown in FIG.
MOS transistors TN1 to TN5, inverter IV
1, delay circuit DLY1 and NOR gate NO
A row address strobe signal RAS is input to the delay circuit DLY1, and an enable signal is input to the gates of the NMOS transistors TN3 and TN5. The delay circuit DLY1 operates in synchronization with the row address strobe signal RAS.

【0021】この構成において、NMOSトランジスタ
TN1のゲートに基準レベル、NMOSトランジスタT
N2のゲートに内部降圧電源がそれぞれ印加され、内部
降圧電源が基準レベル以上の時にはLowレベル、基準
レベル以下の時にはHighレベルとなる制御信号が内
部降圧電源用バッファ回路VDLBに出力される。
In this configuration, the reference level and the NMOS transistor T are connected to the gate of the NMOS transistor TN1.
An internal step-down power supply is applied to the gate of N2. When the internal step-down power supply is higher than the reference level, a low level control signal is output. When the internal step-down power supply is lower than the reference level, a high level control signal is output to the internal step-down power supply buffer circuit VDLB.

【0022】内部降圧電源用バッファ回路VDLBは、
それぞれ図2のように、PMOSトランジスタTP4〜
TP6およびNMOSトランジスタTN6〜TN9から
なり、NMOSトランジスタTN8,TN9のゲートに
は内部降圧電源レベルセンサVDLSからの制御信号が
入力され、内部降圧電源レベルセンサVDLSと同様に
ロウアドレスストローブ信号RASに同期して動作する
構成となっている。
The internal step-down power supply buffer circuit VDLB
As shown in FIG.
A control signal from the internal step-down power supply level sensor VDLS is input to the gates of the NMOS transistors TN8 and TN9. The control signal is synchronized with the row address strobe signal RAS similarly to the internal step-down power supply level sensor VDLS. It is configured to operate.

【0023】この構成において、NMOSトランジスタ
TN6のゲートに基準レベル、NMOSトランジスタT
N7のゲートに内部降圧電源がそれぞれ印加され、内部
降圧電源が基準レベル以上、基準レベル以下の時に対応
して動作し、複数の内部降圧電源用バッファ回路VDL
Bを動作させて高速動作時における内部降圧電源のレベ
ルが保証されるとともに、RAS“L”Stand−b
y時における動作も制御されている。
In this configuration, the reference level and the NMOS transistor T are connected to the gate of the NMOS transistor TN6.
An internal step-down power supply is applied to the gate of N7, and the internal step-down power supply operates when the internal step-down power supply is equal to or higher than the reference level and equal to or lower than the reference level.
B to ensure the level of the internal step-down power supply at the time of high-speed operation, as well as the RAS “L” Stand-b
The operation at the time of y is also controlled.

【0024】次に、本実施の形態の作用について、複数
の内部降圧電源用バッファ回路VDLBの動作の制御方
法を説明する。
Next, a method of controlling the operation of the plurality of internal step-down power supply buffer circuits VDLB for the operation of the present embodiment will be described.

【0025】たとえば、内部降圧電源レベルセンサVD
LSが、NMOSトランジスタTN1のゲートに印加さ
れる基準レベルと、NMOSトランジスタTN2のゲー
トに印加される内部降圧電源とを比較して、内部降圧電
源が基準レベル以上のときには、NMOSトランジスタ
TN2がオン状態、NMOSトランジスタTN1がオフ
状態となり、NMOSトランジスタTN4がオン状態に
なる。
For example, an internal step-down power supply level sensor VD
LS compares the reference level applied to the gate of the NMOS transistor TN1 with the internal step-down power supply applied to the gate of the NMOS transistor TN2. When the internal step-down power supply is equal to or higher than the reference level, the NMOS transistor TN2 is turned on. , The NMOS transistor TN1 is turned off, and the NMOS transistor TN4 is turned on.

【0026】このNMOSトランジスタTN4のオン状
態によるLowレベルの信号は、インバータIV1を通
して反転されてHighレベルとなり、さらに他方にデ
ィレイ回路DLY1を介してロウアドレスストローブ信
号RASが入力される否定論理和ゲートNOR1を通じ
て論理演算して、Lowレベルの制御信号を出力する。
The low-level signal due to the ON state of the NMOS transistor TN4 is inverted through the inverter IV1 to be at the high level, and the other is the NOR gate NOR1 to which the row address strobe signal RAS is input via the delay circuit DLY1. , And outputs a low-level control signal.

【0027】そして、複数の内部降圧電源用バッファ回
路VDLBのうち、一部の内部降圧電源用バッファ回路
VDLB1は、Lowレベルの制御信号を入力として、
この制御信号に基づいてNMOSトランジスタTN8,
TN9がゲート制御され、NMOSトランジスタTN
8,TN9はオフ状態となり、一部の内部降圧電源用バ
ッファ回路VDLB1はディスエーブル状態となる。
Some of the internal step-down power supply buffer circuits VDLB1 among the plurality of internal step-down power supply buffer circuits VDLB receive a low-level control signal as an input.
Based on this control signal, the NMOS transistors TN8,
TN9 is gate-controlled, and the NMOS transistor TN
8, TN9 are turned off, and some internal step-down power supply buffer circuits VDLB1 are disabled.

【0028】また、内部降圧電源レベルセンサVDLS
からの制御信号を入力とする内部降圧電源用バッファ回
路VDLB1を除く他の内部降圧電源用バッファ回路V
DLB2は、内部降圧電源レベルセンサVDLSを通す
ことなく、別系統の制御信号により常にイネーブル状態
となっている。
An internal step-down power supply level sensor VDLS
Except for the internal step-down power supply buffer circuit VDLB1 which receives the control signal from
The DLB2 is always enabled by a control signal of another system without passing through the internal step-down power supply level sensor VDLS.

【0029】これにより、常に読み出し/書き込みのア
クセスに対応可能な状態のRAS“L”Stand−b
y時には、この状態を保証する最小限の内部降圧電源用
バッファ回路VDLB2のみを動作させ、これを除く他
の内部降圧電源用バッファ回路VDLB1は動作を禁止
することができる。
As a result, the RAS "L" Stand-b in a state where it can always respond to read / write access.
At the time of y, only the minimum internal step-down power supply buffer circuit VDLB2 that guarantees this state is operated, and other internal step-down power supply buffer circuits VDLB1 other than this can be prohibited from operating.

【0030】たとえば、64MビットDRAMにおいて
は、3.3Vの電源電圧に対する内部降圧電源が2.2Vの
場合に、2Vの基準電圧と比較し、内部降圧電源が基準
電圧以下のRAS“L”Stand−by時には、4つ
の内部降圧電源用バッファ回路VDLBのうち、3つの
内部降圧電源用バッファ回路VDLB1の動作を禁止
し、1つの内部降圧電源用バッファ回路VDLB2のみ
を動作させるように構成されている。
For example, in a 64-Mbit DRAM, when the internal step-down power supply for a power supply voltage of 3.3 V is 2.2 V, the internal step-down power supply is compared with a reference voltage of 2 V, and the RAS "L" Stand is lower than the reference voltage. At -by, the operation of three internal step-down power supply buffer circuits VDLB1 of the four internal step-down power supply buffer circuits VDLB is prohibited, and only one internal step-down power supply buffer circuit VDLB2 is operated. .

【0031】従って、本実施の形態の半導体記憶装置に
よれば、RAS“L”Stand−by状態を保証する
最小限の内部降圧電源用バッファ回路VDLB2を除く
他の内部降圧電源用バッファ回路VDLB1の動作を制
御し、この一部の内部降圧電源用バッファ回路VDLB
1の動作を禁止することにより、内部降圧電源用バッフ
ァ回路VDLBのイネーブル時の電流よりも低消費電流
である内部降圧電源レベルセンサVDLSを内部降圧電
源用バッファ回路VDLBの代わりに動作させること
で、内部降圧電源用バッファ回路VDLBでの消費電流
が低減でき、RAS“L”Stand−by時の消費電
力を低減することができる。
Therefore, according to the semiconductor memory device of the present embodiment, except for the minimum internal step-down power supply buffer circuit VDLB2 except for the minimum internal step-down power supply buffer circuit VDLB2 which guarantees the RAS "L" Stand-by state, The operation is controlled, and a part of the internal step-down power supply buffer circuit VDLB is controlled.
By disabling the operation of the internal step-down power supply buffer circuit VDLB, the internal step-down power supply level sensor VDLS, which consumes a lower current than the current when the internal step-down power supply buffer circuit VDLB is enabled, is operated instead of the internal step-down power supply buffer circuit VDLB. The current consumption of the internal step-down power supply buffer circuit VDLB can be reduced, and the power consumption during RAS “L” Stand-by can be reduced.

【0032】なお、このような複数の内部降圧電源用バ
ッファ回路VDLBと内部降圧電源レベルセンサVDL
Sとを有する構成は、たとえばレベルセンサの出力信号
に基づいてオシレータを制御し、チャージポンプ回路を
通じて昇圧電源を発生する昇圧電源回路などと比較する
と、使用目的が異なるばかりではなく、オシレータを用
いていない点と、常に最小限の内部降圧電源用バッファ
回路VDLB2を動作させている点で異なるものであ
る。
It should be noted that such a plurality of internal step-down power supply buffer circuits VDLB and internal step-down power supply level sensors VDL
The configuration including S controls the oscillator based on the output signal of the level sensor, for example, and not only has a different purpose of use but also uses an oscillator when compared with a boost power supply circuit that generates a boost power supply through a charge pump circuit. The difference is that the buffer circuit VDLB2 always operates with a minimum internal step-down power supply buffer circuit.

【0033】以上、本発明者によってなされた発明をそ
の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前
記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸
脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもな
い。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiment, the invention is not limited to the embodiment, and various modifications may be made without departing from the gist of the invention. It goes without saying that it is possible.

【0034】たとえば、前記実施の形態においては、6
4MビットDRAMに適用した場合について説明した
が、これに限定されるものではなく、256Mビットな
ど、さらに大容量のDRAMなどについても適用可能で
ある。さらに、DRAMに限らず、シンクロナスDRA
M、ラムバス仕様DRAMなど、内部降圧電源を使用す
る他の半導体記憶装置などにも広く適用可能である。
For example, in the above embodiment, 6
Although the case where the present invention is applied to a 4M bit DRAM has been described, the present invention is not limited to this, and the present invention is also applicable to a DRAM having a larger capacity such as 256M bit. Furthermore, not limited to DRAM, synchronous DRA
The present invention can be widely applied to other semiconductor memory devices using an internal step-down power supply, such as M and Rambus specification DRAMs.

【0035】[0035]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described.
It is as follows.

【0036】(1).内部降圧電源の電圧レベルと基準電圧
レベルとを比較する内部降圧電源レベルセンサを有する
ことで、RAS“L”Stand−by時に、内部降圧
電源レベルセンサを動作させ、この出力に基づいて最小
限のバッファ回路のみを動作させ、これを除く他のバッ
ファ回路の動作を禁止することができるので、バッファ
回路での消費電流を低減してRAS“L”Stand−
by時の消費電力を低減することが可能となる。
(1) The provision of the internal step-down power supply level sensor for comparing the voltage level of the internal step-down power supply with the reference voltage level enables the internal step-down power supply level sensor to operate during RAS “L” Stand-by. Since only the minimum buffer circuit can be operated based on the output and the operation of the other buffer circuits can be prohibited, the current consumption in the buffer circuit can be reduced and the RAS "L" Stand-
It is possible to reduce the power consumption at the time of by.

【0037】(2).内部降圧電源レベルセンサは、バッフ
ァ回路に比べてMOS定数が小さく、かつ帰還無し構成
のMOSトランジスタ回路を用いることで、バッファ回
路のイネーブル時の電流よりも低消費電流である内部降
圧電源レベルセンサをバッファ動作の代わりに動作させ
ることができるので、低消費電力化を図ることが可能と
なる。
(2) Since the internal step-down power supply level sensor uses a MOS transistor circuit having a smaller MOS constant than the buffer circuit and having no feedback, the current consumption is lower than the current when the buffer circuit is enabled. Since a certain internal step-down power supply level sensor can be operated instead of the buffer operation, low power consumption can be achieved.

【0038】(3).前記(1) および(2) により、内部降圧
電源を使用するDRAMなどの半導体記憶装置におい
て、高速動作時の回路の安定動作を保証し、かつ低消費
電流による低電力化を実現することが可能となる。
(3) According to the above (1) and (2), in a semiconductor memory device such as a DRAM using an internal step-down power supply, stable operation of the circuit at the time of high-speed operation is guaranteed, and low power consumption due to low current consumption is achieved. Can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態である半導体記憶装置を
示す概略ブロック図である。
FIG. 1 is a schematic block diagram showing a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施の形態の半導体記憶装置におい
て、内部降圧電源回路を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing an internal step-down power supply circuit in the semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

MCA メモリセルアレイ RAB ロウアドレスバッファ CAB カラムアドレスバッファ RDE ロウデコーダ CDE カラムデコーダ RDR ロウドライバ CDR カラムドライバ SA センスアンプ MA メインアンプ DOB 出力バッファ DIB 入力バッファ RB,CB,WB バッファ VG 内部電圧発生回路 VDLG 内部降圧電源回路 VDLS 内部降圧電源レベルセンサ VDLB,VDLB1,VDLB2 内部降圧電源用バ
ッファ回路 TP1〜TP6 PMOSトランジスタ TN1〜TN9 NMOSトランジスタ IV1 インバータ DLY1 ディレイ回路 NOR1 否定論理和ゲート
MCA memory cell array RAB row address buffer CAB column address buffer RDE row decoder CDE column decoder RDR row driver CDR column driver SA sense amplifier MA main amplifier DOB output buffer DIB input buffer RB, CB, WB buffer VG internal voltage generation circuit VDLG internal step-down power supply Circuit VLLS Internal step-down power supply level sensor VDLB, VDLB1, VDLB2 Internal step-down power supply buffer circuit TP1 to TP6 PMOS transistors TN1 to TN9 NMOS transistor IV1 Inverter DLY1 Delay circuit NOR1 NOR gate

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 内部降圧電源を含み、この内部降圧電源
の電圧レベルを保証するために内部降圧電源用の複数の
バッファ回路を有する半導体記憶装置であって、前記内
部降圧電源の電圧レベルと基準電圧レベルとを比較し、
この比較結果に基づいて前記複数のバッファ回路の動作
を制御する内部降圧電源レベルセンサを有し、ロウアド
レスストローブ信号のLowレベルによるスタンバイ時
に、前記内部降圧電源レベルセンサを動作させ、この内
部降圧電源レベルセンサの出力に基づいて前記複数のバ
ッファ回路の動作を制御することを特徴とする半導体記
憶装置。
1. A semiconductor memory device including an internal step-down power supply and a plurality of buffer circuits for the internal step-down power supply for guaranteeing the voltage level of the internal step-down power supply, wherein the voltage level of the internal step-down power supply and a reference Compare with the voltage level,
An internal step-down power supply level sensor for controlling the operation of the plurality of buffer circuits based on the comparison result, and operating the internal step-down power supply level sensor during standby at a low level of a row address strobe signal; A semiconductor memory device which controls operations of the plurality of buffer circuits based on an output of a level sensor.
【請求項2】 請求項1記載の半導体記憶装置であっ
て、前記複数のバッファ回路はそれぞれ、前記内部降圧
電源の電圧レベルと前記基準電圧レベルとを比較するM
OSトランジスタ回路からなり、このMOSトランジス
タ回路のMOS定数が大きく、かつ負帰還構成であり、
前記内部降圧電源レベルセンサは、前記内部降圧電源の
電圧レベルと前記基準電圧レベルとを比較するMOSト
ランジスタ回路からなり、このMOSトランジスタ回路
のMOS定数が小さく、かつ帰還無し構成であることを
特徴とする半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein each of said plurality of buffer circuits compares a voltage level of said internal step-down power supply with said reference voltage level.
The MOS transistor circuit has a large MOS constant and a negative feedback configuration.
The internal step-down power supply level sensor includes a MOS transistor circuit that compares a voltage level of the internal step-down power supply with the reference voltage level, and has a small MOS constant and no feedback. Semiconductor storage device.
【請求項3】 請求項1記載の半導体記憶装置であっ
て、前記複数のバッファ回路のうち、前記ロウアドレス
ストローブ信号のLowレベルによるスタンバイ状態を
保証するバッファ回路を除く他のバッファ回路の動作を
禁止することを特徴とする半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein an operation of another buffer circuit of the plurality of buffer circuits except for a buffer circuit that guarantees a standby state based on a low level of the row address strobe signal is performed. A semiconductor memory device which is prohibited.
【請求項4】 請求項1、2または3記載の半導体記憶
装置であって、前記半導体記憶装置は、DRAMである
ことを特徴とする半導体記憶装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device is a DRAM.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6424579B1 (en) 2000-11-20 2002-07-23 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device with internal power supply potential generation circuit
US7002854B2 (en) 2000-07-25 2006-02-21 Nec Electronics Corp. Internal voltage level control circuit and semiconductor memory device as well as method of controlling the same
CN104296808A (en) * 2014-10-14 2015-01-21 大连理工大学 Hazardous chemical substance transportation monitoring sensor signal collecting system and method

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