JP2000020075A - Air conditioner system, interferometer system, and exposure device system - Google Patents

Air conditioner system, interferometer system, and exposure device system

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JP2000020075A
JP2000020075A JP10201104A JP20110498A JP2000020075A JP 2000020075 A JP2000020075 A JP 2000020075A JP 10201104 A JP10201104 A JP 10201104A JP 20110498 A JP20110498 A JP 20110498A JP 2000020075 A JP2000020075 A JP 2000020075A
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JP
Japan
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air conditioner
noise
chamber
exposure apparatus
duct
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Masaru Hachisuga
勝 蜂須賀
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Original Assignee
Nikon Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an air conditioner system, an interferometer system, and an exposure device system in which vibration caused by an air conditioner is less. SOLUTION: In an air conditioner 50 side of a duct 60, a first microphone 91 collects a noise NS from the air conditioner 50. A signal processing device 95 generates a signal having a waveform in which a phase is deviated from a waveform of a noise by the prescribed quantity based on a detected signal from the first microphone 91, a second microphone 92 generates a sound wave SW canceling the noise NS based on a signal from the signal processing device 95. Consequently, in the second microphone 92, the noise NS is hardly detected, and it can be prevented that a low frequency noise generated by the air conditioner 50 is diffused in a temperature controlled chamber 30.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、工作機械、測定機
器、半導体露光装置等の温調に用いられる空調システ
ム、並びにこれを備える干渉計システム及び露光装置シ
ステムに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an air conditioning system used for temperature control of a machine tool, a measuring instrument, a semiconductor exposure apparatus, and the like, and an interferometer system and an exposure apparatus system having the air conditioning system.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の超精密な工作機械や干渉計等の測
定装置にはきわめて高い工作精度や測定精度を要求され
るものがある。これらの装置に要求されるきわめて高い
精度を達成するためには、装置そのものの仕組みや構成
や剛性はもとより、その装置が設置される環境にも気を
配らなければならない。特に環境中の温度変化と、環境
中から装置に伝わる振動は、前述の装置の精度に大きな
影響を及ぼすことは明らかであり、温度変化と振動を極
力抑えることが、超精密な工作精度や測定精度を得るた
めに必須の条件となっている。
2. Description of the Related Art In recent years, some measuring devices such as ultra-precision machine tools and interferometers require extremely high machining accuracy and measurement accuracy. In order to achieve the extremely high accuracy required of these devices, attention must be paid not only to the mechanism, configuration and rigidity of the device itself, but also to the environment in which the device is installed. In particular, it is clear that the temperature change in the environment and the vibration transmitted to the equipment from the environment have a great effect on the accuracy of the equipment described above. This is an essential condition for obtaining accuracy.

【0003】通常、環境中の温度変化への対応は、装置
を温度管理がされた恒温室設置したり、或いは装置個別
にチャンバを設け、その中の温度管理を外部に設けた空
調機により厳密に行うことにより、装置に要求される精
度をクリアすることになる。
[0003] Usually, the response to the temperature change in the environment is strictly controlled by an air conditioner in which a device is installed in a constant temperature room in which temperature control is performed, or a chamber is provided for each device and the temperature control in the device is provided outside. By doing so, the accuracy required for the device is cleared.

【0004】一方、環境中、特に装置が設置してある床
から装置に伝わる振動に対しては、床と装置の間に除振
台を設け、極力装置本体に伝達しないような対策を講じ
たり、設置のために個別に独立な基礎を設け、基礎上の
床を外部の床と遮断することにより装置に伝わる振動を
極力抑えるなどの対策を講じている。
On the other hand, with respect to the vibration transmitted to the apparatus from the floor, particularly the apparatus, the vibration isolator is provided between the floor and the apparatus to take measures to minimize the transmission to the apparatus body. In addition, separate independent foundations have been set up for installation, and measures have been taken to minimize vibration transmitted to the equipment by blocking the floor on the foundation from the outside floor.

【0005】図6は、超精密工作機械や測定装置等にこ
れまで用いられてきた温調対策や除振対策を行ったシス
テムの一例として露光装置システムの概要を示す。図示
の露光装置システムは、ICの製造工程で用いられる露
光装置本体110と、露光装置本体を載置する除振台1
20と、これらを収容する温調チャンバ130と、除振
台120を支持する独立基礎140と、温調チャンバ1
30内を温度調節するための空調機150と、温調チャ
ンバ130及び空調機150を連通させるダクト160
とから構成される。
FIG. 6 shows an outline of an exposure apparatus system as an example of a system which has been used for an ultra-precision machine tool, a measuring apparatus, etc., which has taken measures for temperature control and vibration isolation. The illustrated exposure apparatus system includes an exposure apparatus main body 110 used in an IC manufacturing process, and an anti-vibration table 1 on which the exposure apparatus main body is mounted.
20, a temperature control chamber 130 for accommodating them, an independent foundation 140 supporting the vibration isolation table 120, and a temperature control chamber 1
An air conditioner 150 for controlling the temperature in the interior 30 and a duct 160 for communicating the temperature control chamber 130 and the air conditioner 150
It is composed of

【0006】空調機150は、通常、熱交換器151と
送風機153により構成され、この熱交換器151によ
り温調された空気は、送風機153によりダクト160
とフィルタ165を介して温調チャンバ130内に供給
される。この温調チャンバ130内の温度は、センサに
より常にモニタされ、このセンサの信号は、空調機15
0にフィードバックされる。空調機150は、温調チャ
ンバ130内の温度が設定温度からずれないように動作
する。一方、独立基礎140は、まわりの床170の振
動が直接伝わらないようにこれと切り離されている。ま
た、独立基礎140と露光装置本体110との間に設け
た除振台120により、独立基礎140から露光装置本
体110への振動の伝達を防止している。
[0006] The air conditioner 150 is usually constituted by a heat exchanger 151 and a blower 153, and the air temperature controlled by the heat exchanger 151 is supplied to the duct 160 by the blower 153.
Is supplied into the temperature control chamber 130 through the filter 165. The temperature in the temperature control chamber 130 is constantly monitored by a sensor.
It is fed back to 0. The air conditioner 150 operates so that the temperature in the temperature control chamber 130 does not deviate from the set temperature. On the other hand, the independent foundation 140 is separated from the surrounding floor 170 so that the vibration of the surrounding floor 170 is not directly transmitted. In addition, a vibration isolation table 120 provided between the independent foundation 140 and the exposure apparatus main body 110 prevents transmission of vibration from the independent foundation 140 to the exposure apparatus main body 110.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】近年の露光装置や干渉
計に対する超精密化の要求は、すでに前項で述べたよう
な装置の設置環境の温度管理や、床振動の対策のみでは
達成することができない領域にまできている。
In recent years, the demand for ultra-precision of an exposure apparatus and an interferometer can be achieved only by controlling the temperature of the installation environment of the apparatus and taking measures against floor vibration as described in the previous section. The area that can not be done has been reached.

【0008】例えば、露光装置の半導体製造工程で求め
られるICパターンの線幅は0.35μm以下である。
さらに今後はICの集積度の向上にともない0.25μ
m、さらには0.15μm程度の線幅まで、露光装置の
守備範囲に入ってくると言われている。そのため、露光
装置を構成する部品に対しても極めて高い精度が要求さ
れている。
For example, the line width of an IC pattern required in a semiconductor manufacturing process of an exposure apparatus is 0.35 μm or less.
In the future, with the improvement of IC integration, 0.25μ
It is said that a line width of about m or even a line width of about 0.15 μm falls within the defense range of the exposure apparatus. For this reason, extremely high accuracy is also required for components constituting the exposure apparatus.

【0009】また、露光装置の光学部品の形状を測定す
るために用いられる干渉計には、λ/10000オーダ
の測定再現性が要求される。そのため、これまでは問題
にならない程度の、環境中の温度変化や振動等の外乱要
因でも大きくクローズアップされ、対策を講じる必要に
迫られる事態が発生している。
Further, an interferometer used for measuring the shape of an optical component of an exposure apparatus is required to have a measurement reproducibility on the order of λ / 10,000. For this reason, there has been a situation in which disturbance factors such as temperature change and vibration in the environment, which are not so far a problem, have been greatly focused on, and there has been a situation where countermeasures need to be taken.

【0010】問題となる外乱要因の一つとして、温調チ
ャンバの空調機で発生し、ダクトを介して温調チャンバ
内に伝達される騒音がある。
One of the problematic disturbance factors is noise generated in the air conditioner of the temperature control chamber and transmitted through the duct into the temperature control chamber.

【0011】図6に示した露光装置システムに当てはめ
て考えると、空調機150の送風機153や熱交換機1
51から発生した騒音は、温度コントロールされた空気
を媒体として露光装置本体110が設置してある温調チ
ャンバ130内に伝達され、露光装置本体110、すな
わち投影レンズ112、ウェハステージ113等の構成
部品のほか、ウェハ115やレチクル116を加振す
る。これにより、露光装置本体110の構成部品等の間
に相対的な変位が発生し、露光面でコンスタントに微細
な線幅を維持することが難しくなるといった問題が発生
する。
When applied to the exposure apparatus system shown in FIG. 6, the blower 153 of the air conditioner 150 and the heat exchanger 1
The noise generated from 51 is transmitted to the temperature control chamber 130 in which the exposure apparatus main body 110 is installed by using temperature-controlled air as a medium, and the exposure apparatus main body 110, that is, components such as the projection lens 112 and the wafer stage 113 In addition, the wafer 115 and the reticle 116 are vibrated. This causes a relative displacement between components of the exposure apparatus main body 110 and the like, which causes a problem that it is difficult to maintain a constant fine line width on the exposure surface.

【0012】また、干渉計システムにおいても、同様の
原因で発生、伝達された騒音が、チャンバ内に設置され
ている干渉計本体、例えば干渉計の心臓部であるフィゾ
ーレンズ等の光学系部品を加振する。そのことにより、
干渉計本体の各構成部品間に相対的な変位が発生し、干
渉縞に変動を発生させ測定の再現性を維持することが難
しくなるといった問題が発生する。
Also, in the interferometer system, noise generated and transmitted for the same reason may cause an interferometer body installed in the chamber, for example, an optical system component such as a Fizeau lens which is the heart of the interferometer. Excite. By doing so,
A relative displacement occurs between the components of the interferometer body, causing a problem that fluctuations occur in interference fringes and it becomes difficult to maintain reproducibility of measurement.

【0013】そこで、本発明は、空調に原因する振動が
少ない空調システム、干渉計システム、及び露光装置シ
ステムを提供することを目的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to provide an air conditioning system, an interferometer system, and an exposure apparatus system in which vibration caused by air conditioning is small.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の空調システムは、空調機と、チャンバと、
前記空調機及び前記チャンバを連結するダクトとを備え
る空調システムにおいて、前記ダクト及び前記空調機の
いずれか一方に配置されて騒音を検出する騒音検出装置
と、前記ダクト及び前記空調機のいずれか一方に配置さ
れて音波を発生する音波源と、前記騒音検出装置で検出
された騒音を相殺する音波を前記音波源から発生させる
制御装置とをさらに備えることを特徴とする。
In order to solve the above problems, an air conditioning system according to the present invention comprises an air conditioner, a chamber,
In an air conditioning system including the air conditioner and a duct connecting the chamber, a noise detection device that is disposed in one of the duct and the air conditioner and detects noise, and one of the duct and the air conditioner And a controller configured to generate a sound wave for canceling the noise detected by the noise detection device from the sound source.

【0015】この空調システムでは、制御装置が前記騒
音検出装置で検出された騒音を相殺する音波を前記音波
源から発生させるので、空調に起因する振動がチャンバ
内に伝達されることを防止することができる。
In this air conditioning system, the control device generates sound waves from the sound wave source for canceling the noise detected by the noise detection device, so that vibrations caused by air conditioning are prevented from being transmitted into the chamber. Can be.

【0016】また、本発明の露光装置システムは、空調
機と、原版上のパターンを感光基板上に露光する露光装
置本体を内蔵するチャンバと、前記空調機及び前記チャ
ンバを連結するダクトとを備える露光装置システムにお
いて、前記ダクト及び前記空調機のいずれか一方に配置
されて騒音を検出する騒音検出装置と、前記ダクト及び
前記空調機のいずれか一方に配置されて音波を発生する
音波源と、前記騒音検出装置で検出された騒音を相殺す
る音波を前記音波源から発生させる制御装置とをさらに
備えることを特徴とする。
The exposure apparatus system of the present invention includes an air conditioner, a chamber containing an exposure apparatus main body for exposing a pattern on an original onto a photosensitive substrate, and a duct connecting the air conditioner and the chamber. In the exposure apparatus system, a noise detection device that is disposed in one of the duct and the air conditioner to detect noise, and a sound source that generates a sound wave that is disposed in one of the duct and the air conditioner, And a control unit configured to generate, from the sound source, a sound wave that cancels the noise detected by the noise detection device.

【0017】この露光装置システムでは、制御装置が前
記騒音検出装置で検出された騒音を相殺する音波を前記
音波源から発生させるので、空調に起因する振動がチャ
ンバ内に伝達されることを防止することができ、精密な
露光を行うことができる。
In this exposure apparatus system, the control unit generates a sound wave for canceling the noise detected by the noise detection device from the sound source, thereby preventing the vibration caused by air conditioning from being transmitted into the chamber. And precise exposure can be performed.

【0018】また、本発明の干渉計システムは、空調機
と、物体の形状を光学的に計測する干渉計本体を内蔵す
るチャンバと、前記空調機及び前記チャンバを連結する
ダクトとを備える干渉計システムにおいて、前記ダクト
及び前記空調機のいずれか一方に配置されて騒音を検出
する騒音検出装置と、前記ダクト及び前記空調機のいず
れか一方に配置されて音波を発生する音波源と、前記騒
音検出装置で検出された騒音を相殺する音波を前記音波
源から発生させる制御装置とをさらに備えることを特徴
とする。
Further, the interferometer system of the present invention comprises an air conditioner, a chamber containing an interferometer body for optically measuring the shape of an object, and a duct connecting the air conditioner and the chamber. In the system, a noise detection device arranged in one of the duct and the air conditioner to detect noise, a sound source arranged in one of the duct and the air conditioner to generate a sound wave, A control device for generating, from the sound source, a sound wave that cancels the noise detected by the detection device.

【0019】この干渉計システムでは、制御装置が前記
騒音検出装置で検出された騒音を相殺する音波を前記音
波源から発生させるので、空調に起因する振動がチャン
バ内に伝達されることを防止することができ、精密な計
測を行うことができる。
In this interferometer system, since the control device generates a sound wave from the sound source for canceling the noise detected by the noise detection device, the vibration caused by air conditioning is prevented from being transmitted into the chamber. And accurate measurement can be performed.

【0020】[0020]

【発明の説明】本発明では、高い精度を要求される工作
機械や測定機器等のシステムにおいて、空調機により内
部の空気を清浄かつ恒温に保ったチャンバ内で、露光装
置や干渉計等による超精密加工や測定を行う際に、チャ
ンバの空調機から発生する騒音を、アクティブ消音方法
を用いて減少させる。
DESCRIPTION OF THE INVENTION According to the present invention, in a system such as a machine tool or a measuring instrument which requires high accuracy, an air conditioner is used to clean an internal air at a constant temperature in a chamber. The noise generated by the air conditioner in the chamber when performing precision processing or measurement is reduced by using an active noise reduction method.

【0021】チャンバ内の騒音のかなりの部分は、チャ
ンバの空調機内の送風機と冷凍機により発生したものが
原因と考えられる。露光装置システムやその部品の測定
に用いる干渉計システムにおいては、装置本体が大型で
あるため、チャンバやその空調機も大型化し、十数Hz
で80dBに達する低周波振動を発生させ、これがチャ
ンバ内の装置に照射される。一方でチャンバ内に設置さ
れた装置のメカ的な部分の振動の固有値は一般に100
Hz以下のものが多く、チャンバの空調機からチャンバ
内に照射された低周波騒音に共振して、思わぬ振動が装
置に発生してしまい、工作精度や測定精度を低下させる
要因になることがある。また、干渉計等の測定器におい
ては、数十Hzの振動にきわめて弱いことが多く、その
ため低周波騒音の消音は、精度を追求する装置にはきわ
めて重要である。
It is believed that a significant portion of the noise in the chamber is caused by blowers and refrigerators in the air conditioner of the chamber. In an exposure apparatus system and an interferometer system used for measuring components thereof, since the apparatus body is large, the chamber and its air conditioner also become large, and the
Generates a low frequency vibration reaching up to 80 dB, which is applied to the device in the chamber. On the other hand, the eigenvalue of the vibration of the mechanical part of the device installed in the chamber is generally 100
Hz or less, which resonates with the low-frequency noise emitted from the air conditioner in the chamber into the chamber, causing unexpected vibrations in the equipment, which can be a factor in reducing machining accuracy and measurement accuracy. is there. In addition, a measuring instrument such as an interferometer is often extremely vulnerable to vibration of several tens of Hz, and therefore, silencing of low-frequency noise is extremely important for a device that pursues accuracy.

【0022】チャンバ内の騒音を減少させるには、静音
タイプの送風機や冷凍機を用いることが一般的である
が、超精密加工や測定を行う装置に対しては、その要求
精度に照らし合わせると、効果には限界があることが多
い。
In order to reduce the noise in the chamber, it is common to use a silent type blower or refrigerator. However, in the case of an apparatus for performing ultra-precision processing or measurement, it is necessary to consider the required accuracy. Often, the effect is limited.

【0023】一方、本願の空調システム等で用いるアク
ティブ消音技術は、周知の吸音現象、共鳴現象などを利
用したいわゆる受動的な消音技術ではなく、基本的には
騒音に対して別の音波(二次音源)を作り、音波干渉に
よって結果的に騒音を低減させようとする技術である。
さらに、この技術は吸音材などを用いる受動的な消音技
術では不得意な、特に低周波領域での高い消音効果が期
待できる。低域で効果があるとなると、この技術は、微
少な振動を嫌う露光装置や干渉計に用いるチャンバの消
音にはうってつけである。
On the other hand, the active noise reduction technique used in the air conditioning system or the like of the present application is not a so-called passive noise reduction technique utilizing a well-known sound absorption phenomenon, resonance phenomenon, and the like. A second sound source is created, and as a result, noise is reduced by sound wave interference.
Furthermore, this technique can be expected to have a high noise reduction effect especially in a low frequency region, which is not good with a passive noise reduction technique using a sound absorbing material or the like. When effective at low frequencies, this technique is ideal for silencing chambers used in exposure equipment and interferometers that do not like minute vibrations.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態である
露光装置システムについて図面を参照しつつ説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An exposure apparatus system according to one embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0025】図1は、縮小投影露光用の露光装置システ
ムの構造を説明する図である。図示の露光装置システム
は、ICの製造工程で用いられる露光装置本体10と、
露光装置本体を載置する除振台20と、これらを収容す
る温調チャンバ30と、除振台20を支持する独立基礎
40と、温調チャンバ30内を温度調節するための空調
機50と、温調チャンバ30及び空調機50を連通させ
るダクト60と、アクティブ消音装置90とを備える。
FIG. 1 is a diagram for explaining the structure of an exposure apparatus system for reduction projection exposure. The illustrated exposure apparatus system includes an exposure apparatus main body 10 used in an IC manufacturing process,
An anti-vibration table 20 for mounting the exposure apparatus main body, a temperature control chamber 30 for accommodating them, an independent foundation 40 for supporting the anti-vibration table 20, and an air conditioner 50 for controlling the temperature inside the temperature control chamber 30; , A duct 60 for communicating the temperature control chamber 30 and the air conditioner 50, and an active silencer 90.

【0026】露光装置本体10は、投影レンズ12、ウ
ェハステージ13等の構成部品のほか、シリコンウェハ
15やレチクル16を備える。また、温調チャンバ30
外には、露光用の照明光源17が配置されており、照明
光源17からの照明光は、ミラー18を介して温調チャ
ンバ30内に導かれる。
The exposure apparatus main body 10 includes a silicon wafer 15 and a reticle 16 in addition to components such as a projection lens 12 and a wafer stage 13. The temperature control chamber 30
An illumination light source 17 for exposure is disposed outside, and illumination light from the illumination light source 17 is guided into the temperature control chamber 30 via the mirror 18.

【0027】温調チャンバ30は、露光装置本体10を
外界から隔離して、露光に際しての温度の変化に起因す
る線幅不良を防止する。
The temperature control chamber 30 isolates the exposure apparatus main body 10 from the outside to prevent a line width defect caused by a change in temperature during exposure.

【0028】独立基礎40は、緩衝材80を介在させる
ことによってまわりの床70と切り離されており、支柱
71によって地面100上に支持された床70からの振
動が直接伝わらないようになっている。また、独立基礎
40と露光装置本体10との間に設けた除振台20によ
り、独立基礎40等から露光装置本体10に振動が伝達
することを防止している。
The independent foundation 40 is separated from the surrounding floor 70 by interposing the cushioning material 80, so that vibrations from the floor 70 supported on the ground 100 by the columns 71 are not transmitted directly. . Further, the vibration isolation table 20 provided between the independent foundation 40 and the exposure apparatus main body 10 prevents transmission of vibration from the independent foundation 40 and the like to the exposure apparatus main body 10.

【0029】空調機50は、熱交換器51と、ファン及
び排風器が共通になった送風機53とを備える。この熱
交換器51により温調された空気は、送風機53により
ダクト60とフィルタ65とを介して温調チャンバ30
内に供給される。空調機50は、温調チャンバ30内の
温度が設定温度からずれないように熱交換器51及び送
風機53の動作を調整する。
The air conditioner 50 includes a heat exchanger 51 and a blower 53 having a common fan and exhaust fan. The air whose temperature has been adjusted by the heat exchanger 51 is passed through a duct 60 and a filter 65 by a blower 53 to a temperature adjusting chamber 30.
Supplied within. The air conditioner 50 adjusts the operation of the heat exchanger 51 and the blower 53 so that the temperature in the temperature control chamber 30 does not deviate from the set temperature.

【0030】アクティブ消音装置90は、空調機50で
発生した騒音を収集して信号検出を行う騒音検出装置で
ある第1マイクロフォン91と、ダクト60の出口付近
における騒音を収集するモニタ用の第2マイクロフォン
92と、第1マイクロフォン91の検出した騒音に基づ
いてこの騒音を相殺する音波に対応する信号を発生する
制御装置である信号処理装置95と、信号処理装置95
が発生する信号に基づいて音波を発生する音波源である
スピーカ97とを備える。アクティブ消音装置90のタ
ーゲットとなる騒音の周波数は十数Hz〜数百Hzであ
るので、第1及び第2マイクロフォン91、92として
音圧測定用の超低周波まで感度があるものを用い、二次
音波を発生するスピーカ97も、超低周波対応の大型の
スピーカシステム(スーパウーハ)を用いている。信号
処理装置95は、不要な音波成分を除き、消音の対象と
なる周波数を取り出すフィルタ、信号の振幅を調整する
レベル調整器、騒音信号の位相を反転させた音波信号を
発生するための移相器、及び音波信号を適宜パワー調整
するパワーアンプから構成されている。それにより、マ
イクロフォン92での音圧が最小になるようにフィード
バックをかけている。ここで用いられるフィルタ、レベ
ル調整器、移相器は、A/Dコンバータ、パソコン、D
/Aコンバータに置き換えることができる。
The active silencer 90 collects noise generated by the air conditioner 50 to detect a signal and a first microphone 91, and a second microphone 91 for monitoring noise near the outlet of the duct 60. A microphone 92; a signal processing device 95 that is a control device that generates a signal corresponding to a sound wave that cancels the noise based on the noise detected by the first microphone 91;
And a speaker 97 that is a sound wave source that generates a sound wave based on the signal generated by the speaker 97. Since the frequency of the noise that is the target of the active silencer 90 is in the range of tens of Hz to hundreds of Hz, the first and second microphones 91 and 92 are those having sensitivity up to a very low frequency for sound pressure measurement. The speaker 97 that generates the next sound wave also uses a large speaker system (super woofer) that is compatible with an extremely low frequency. The signal processing device 95 removes unnecessary sound wave components, filters for extracting frequencies to be silenced, a level adjuster for adjusting the amplitude of the signal, and a phase shift for generating a sound wave signal in which the phase of the noise signal is inverted. And a power amplifier for appropriately adjusting the power of the sound wave signal. Thereby, feedback is applied so that the sound pressure at the microphone 92 is minimized. The filters, level adjusters, and phase shifters used here are A / D converters, personal computers,
/ A converter.

【0031】なお、第2マイクロフォン92は、信号処
理装置95の動作を調整して露光装置本体10に与えら
れる振動加速度をゼロに近づけるためのものである。し
たがって、第2マイクロフォン92に代えて、露光装置
本体10を支える除振台20上にサーボ型振動検出セン
サ98を配置して振動加速度を直接監視することもでき
る。
The second microphone 92 is for adjusting the operation of the signal processing device 95 so that the vibration acceleration applied to the exposure apparatus main body 10 approaches zero. Therefore, instead of the second microphone 92, the servo-type vibration detection sensor 98 can be disposed on the anti-vibration table 20 supporting the exposure apparatus main body 10, and the vibration acceleration can be directly monitored.

【0032】まず、露光装置システムの一般的な動作に
ついて説明する。照明光源17から放射されたレーザ光
等の照明光ILは、ICの回路パターンのネガフィルム
にあたるレチクル16に照射される。レチクル16を通
過した照明光ILは、投影レンズ12に入射し、ここで
1/5の像に縮小されて、ウェハステージ13に設置さ
れたシリコンウェハ15に照射される。シリコンウェハ
15は、ウェハステージ13上に設置され、投影レンズ
12の光軸と直角な平面内で、外部からの指令により任
意の位置に移動させることができる。ウェハステージ1
3の移動機構により、投影レンズ12を通過した照明光
ILを、シリコンウェハ15の定まった位置に、照射さ
せることができる。
First, a general operation of the exposure apparatus system will be described. Illumination light IL such as laser light emitted from an illumination light source 17 is applied to a reticle 16 corresponding to a negative film of an IC circuit pattern. The illumination light IL that has passed through the reticle 16 enters the projection lens 12, where it is reduced to a 1 / image, and illuminates the silicon wafer 15 placed on the wafer stage 13. The silicon wafer 15 is set on the wafer stage 13 and can be moved to an arbitrary position by a command from the outside in a plane perpendicular to the optical axis of the projection lens 12. Wafer stage 1
The moving mechanism 3 can irradiate the illumination light IL that has passed through the projection lens 12 to a predetermined position on the silicon wafer 15.

【0033】露光の工程では、ウェハステージ13の位
置決めが完了した時点で照明光源17からの照明光IL
が照射され、その光は投影レンズ12で縮小されて、レ
チクル16に画かれた回路パターンの1/5の線画とし
てシリコンウェハ15上に投影され、シリコンウェハ1
5上に塗られた感光剤を露光させる。露光の工程が終了
すると、再びウェハステージ13を駆動し、位置決めを
行い、さらに露光を行う。この位置決め、露光の行程を
繰り返すことにより、ICの回路パターンをシリコンウ
ェハ15上に縮小し投影して行く。
In the exposure step, when the positioning of the wafer stage 13 is completed, the illumination light IL
And the light is reduced by the projection lens 12 and projected onto the silicon wafer 15 as a 1/5 line drawing of the circuit pattern drawn on the reticle 16, and the silicon wafer 1
Exposure of the photosensitive agent applied on 5 is performed. When the exposure process is completed, the wafer stage 13 is driven again to perform positioning, and exposure is performed. By repeating the positioning and exposure processes, the circuit pattern of the IC is reduced and projected on the silicon wafer 15.

【0034】以下、空調機50及びアクティブ消音装置
90の動作について説明する。空調機50は、温調チャ
ンバ30中の温度コントロールを行うために、温調チャ
ンバ30に清浄な空気を送風する。これにより、温調チ
ャンバ30の内部の空気を恒温かつ清浄に保ち、温度変
化による露光精度の低下を防ぐとともに、塵による露光
精度の低下を防いでいる。さらに、空調機50より発生
した低周波騒音が温調チャンバ30内に拡散するのを防
ぐため、温調チャンバ30や空調機50の付近に取り付
けたアクティブ消音装置90により、温調チャンバ30
内の音圧レベルを低く抑える。
Hereinafter, the operation of the air conditioner 50 and the active silencer 90 will be described. The air conditioner 50 blows clean air to the temperature control chamber 30 in order to control the temperature in the temperature control chamber 30. This keeps the air inside the temperature control chamber 30 constant and clean, preventing a decrease in exposure accuracy due to a temperature change, and preventing a decrease in exposure accuracy due to dust. Further, in order to prevent low frequency noise generated from the air conditioner 50 from diffusing into the temperature control chamber 30, the temperature control chamber 30 and the active noise reduction device 90 mounted near the air conditioner 50 are used.
Keep the sound pressure level inside.

【0035】図2は、アクティブ消音の原理を説明する
図である。ダクト60の空調機50側では、第1マイク
ロフォン91が空調機50からの騒音NSを収集する。
信号処理装置95は、第1マイクロフォン91からの検
出信号に基づいて騒音の波形に対して所定量だけ位相を
ずらした波形の信号を発生し、第2マイクロフォン92
は、信号処理装置95からの信号に基づいて騒音NSを
相殺する音波SWを発生する。この結果、第2マイクロ
フォン92では、騒音NSがほとんど検出されなくな
る。
FIG. 2 is a diagram for explaining the principle of active silencing. On the air conditioner 50 side of the duct 60, the first microphone 91 collects noise NS from the air conditioner 50.
The signal processing device 95 generates a signal having a waveform shifted in phase by a predetermined amount with respect to the noise waveform based on the detection signal from the first microphone 91,
Generates a sound wave SW for canceling the noise NS based on a signal from the signal processing device 95. As a result, the noise NS is hardly detected by the second microphone 92.

【0036】アクティブ消音装置90の動作原理につい
てより概念的に説明する。騒音源(空調機の送風機や冷
凍機)から出た音波は、粗密波となってダクト60中を
伝播する。その際、動作原理として最も重要な点は、空
気中の音波の伝搬速度は、電気信号の速度と比較して遙
かに(桁違いに)遅いということである。すなわち騒音
NSが検出される場所(第1マイクロフォン91の位
置)から下流に伝搬して、消音が行われる場所に到達す
るまでの時間内に、第1マイクロフォン91で拾った騒
音信号を信号処理装置95で波形処理し、伝搬音と同振
幅で逆位相の音をスピーカ97から発生させる。このス
ピーカ97からの打ち消し音(音波SW)と、ダクト6
0を伝わってきた騒音NSがたがいに干渉を起こすこと
により、ダクト60の出口の目標点(第2マイクロフォ
ン92の位置)で積極的に騒音を消去することができ
る。なお、第1マイクロフォン91とスピーカ97との
間に距離がある場合、この距離に起因する位相補償を行
う必要があり、信号処理装置95では騒音信号の位相を
180°とは異なる値にずらした信号を発生する必要が
ある。
The principle of operation of the active silencer 90 will be described more conceptually. A sound wave emitted from a noise source (a blower or a refrigerator of an air conditioner) propagates through the duct 60 as a compression wave. In this case, the most important point of the operation principle is that the propagation speed of the sound wave in the air is much slower (by an order of magnitude) than the speed of the electric signal. That is, the noise signal propagated downstream from the location where the noise NS is detected (the location of the first microphone 91) and reaches the location where the noise is to be eliminated, and is picked up by the first microphone 91 within the signal processing device. Waveform processing is performed at 95, and a sound having the same amplitude and opposite phase as the propagation sound is generated from the speaker 97. The cancellation sound (sound wave SW) from the speaker 97 and the duct 6
By causing the noise NS that has transmitted 0 to interfere with each other, the noise can be positively canceled at the target point at the exit of the duct 60 (the position of the second microphone 92). When there is a distance between the first microphone 91 and the speaker 97, it is necessary to perform phase compensation due to this distance, and the signal processing device 95 shifts the phase of the noise signal to a value different from 180 °. A signal needs to be generated.

【0037】図3は、空調機50のオン・オフにより、
温調チャンバ30内の騒音がどのように変化するかを示
すグラフである。横軸は騒音の周波数を示し、縦軸は音
圧レベル(SPL)を示す。騒音の計測に際しては、超
低周波まで測定可能な騒音計を用いた。この測定におい
ては、測定に影響を与えると思われる温調チャンバ30
が設置されているクリーンルームに送風している大形の
空調機は停止し、温調チャンバ30外から侵入する騒音
の影響を極力取りのぞいて測定した。グラフからも明ら
かなように、空調機50を稼動することによって、空調
機50をオフにした時と比較して、約15dB程度の音
圧レベルの上昇が認められる。特に、きわめて低い可聴
域外の騒音(空気の粗密波として伝わる低周波の振動)
である3Hz付近から上でその差が徐々に拡大し、10
Hz前後では約80dB近くの音圧レベルに達している
ことがわかる。この低周波の騒音は、空調機50を停止
した場合のとの比較から、主に空調機50によって生じ
ているものと思われ、特に空調機50内の送風機53と
熱交換機(冷凍機)51により発生した騒音と考えられ
る。
FIG. 3 shows how the air conditioner 50 is turned on and off.
5 is a graph showing how the noise in the temperature control chamber 30 changes. The horizontal axis indicates the frequency of the noise, and the vertical axis indicates the sound pressure level (SPL). When measuring noise, a sound level meter capable of measuring up to an extremely low frequency was used. In this measurement, the temperature control chamber 30 which is considered to affect the measurement is used.
The large-sized air conditioner that blows into the clean room where is installed is stopped, and the influence of noise entering from outside the temperature control chamber 30 was measured as much as possible. As is clear from the graph, an increase in the sound pressure level of about 15 dB is recognized by operating the air conditioner 50 as compared to when the air conditioner 50 is turned off. In particular, extremely low noise outside the audible range (low-frequency vibrations transmitted as compression waves in the air)
The difference gradually increases from around 3 Hz, which is
It can be seen that the sound pressure level reaches about 80 dB around Hz. Compared to the case where the air conditioner 50 is stopped, this low frequency noise is considered to be mainly caused by the air conditioner 50, and in particular, the blower 53 and the heat exchanger (refrigerator) 51 in the air conditioner 50 It is considered to be noise generated by

【0038】図4は、図3の低周波の空気振動が、除振
台20上に設置された露光装置システムにどの程度の振
動を誘起させるかをシミュレーションした結果を示す。
ここで、横軸は振動周波数(Hz)を示し、縦軸は振動
加速度(m/s2)を示す。除振台20や独立基礎40
上には、振動周波数が6〜100Hzで、7〜13mg
alの振動加速度が発生することになる。
FIG. 4 shows the result of a simulation of how much the low-frequency air vibration of FIG. 3 induces vibration in the exposure apparatus system installed on the vibration isolation table 20.
Here, the horizontal axis indicates the vibration frequency (Hz), and the vertical axis indicates the vibration acceleration (m / s 2 ). Vibration isolation table 20 and independent foundation 40
Above, the vibration frequency is 6-100Hz, 7-13mg
Al vibration acceleration is generated.

【0039】露光装置本体10が設置されている除振台
20は、除振機能を有し、除振台20上での振動加速度
は最大で0.7mgal程度になるものと考えられる。
通常考えられる振動加速度値としての0.7mgalと
いう値は、ほとんど影響のないきわめて小さな値である
と思われるが、微細な加工や、λ/10000レベルの
測定をすることを前提として設置される露光装置や干渉
計にとっては、意味を持ってしまう値である。さらにこ
の0.7mgalという振動加速度の値は、騒音のみに
よって誘起されるものであり、実際には地盤から伝わる
床振動などもこの値に加算されることから、実際に要求
精度を確保することは厳しい状況となり、何らかの対策
が必要となることが分かる。
The vibration isolation table 20 on which the exposure apparatus main body 10 is installed has a vibration isolation function, and the vibration acceleration on the vibration isolation table 20 is considered to be about 0.7 mgal at the maximum.
The value of 0.7 mgal as a normally considered vibration acceleration value is considered to be an extremely small value having almost no influence. However, it is assumed that a fine processing or an exposure which is set on the assumption that a measurement at a λ / 10000 level is performed. For a device or an interferometer, the value has a meaning. Further, the value of the vibration acceleration of 0.7 mgal is induced only by noise, and in fact, floor vibration transmitted from the ground is also added to this value. It turns out that the situation is severe and some measures are needed.

【0040】図5は、騒音の周波数と除振台20上に到
達する音圧レベルとの関係を示すグラフである。グラフ
からも明らかなように、アクティブ消音装置90を利用
して消音を行っている場合、その音圧レベルを10dB
〜15dB程度低減できる。つまり、空調機50からの
騒音が原因で発生する除振台20上の振動加速度の値を
1/5〜1/7程度に抑えることが可能になり、除振台
20上部の装置ベース上では、騒音に起因する振動レベ
ルを0.1mgal以下にすることができることにな
る。
FIG. 5 is a graph showing the relationship between the frequency of noise and the sound pressure level reaching the vibration isolation table 20. As is clear from the graph, when sound is silenced using the active silencer 90, the sound pressure level is set to 10 dB.
1515 dB can be reduced. That is, the value of the vibration acceleration on the vibration isolation table 20 generated due to the noise from the air conditioner 50 can be suppressed to about 1/5 to 1/7. Therefore, the vibration level caused by noise can be reduced to 0.1 mgal or less.

【0041】以上、実施形態に即してこの発明を説明し
たが、この発明は上記実施形態に限定されるものではな
い。例えば、上記実施形態では、露光装置システムにア
クティブ消音装置90を組み込んだが、各種干渉計をチ
ャンバ中にセットした干渉計システムにアクティブ消音
装置90を組み込んでも空調に起因する振動が温調チャ
ンバ30内に伝達し、振動の原因となることを防止する
ことができる。
Although the present invention has been described with reference to the embodiment, the present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the above-described embodiment, the active silencer 90 is incorporated in the exposure apparatus system. To prevent vibration from occurring.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の空調システムによれば、制御装置が前記騒音検出装置
で検出された騒音を相殺する音波を前記音波源から発生
させるので、空調に起因する振動がチャンバ内に伝達さ
れることを防止することができる。したがって、振動の
少ない空調雰囲気下で、精密な計測や加工を行うことが
できる。今後さらに超精密化が予想される工作機械や、
干渉計をはじめとする測定機器システムや、半導体関連
の露光装置システムに対して、きわめて有効な環境を提
供することができる。
As is apparent from the above description, according to the air conditioning system of the present invention, the control unit generates sound waves for canceling the noise detected by the noise detection device from the sound wave source. The resulting vibration can be prevented from being transmitted into the chamber. Therefore, precise measurement and processing can be performed in an air-conditioned atmosphere with little vibration. Machine tools that are expected to become even more precise in the future,
An extremely effective environment can be provided for a measurement instrument system such as an interferometer and a semiconductor-related exposure apparatus system.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態である露光装置システムの
概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an exposure apparatus system according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1のシステムに組み込まれるアクティブ消音
装置の動作を説明する図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating the operation of an active silencer incorporated in the system of FIG.

【図3】チャンバ内における空調騒音の影響を説明する
グラフである。
FIG. 3 is a graph illustrating the effect of air conditioning noise in a chamber.

【図4】装置ベース上での振動加速度のシミュレーショ
ン結果を説明するグラフである。
FIG. 4 is a graph illustrating a simulation result of vibration acceleration on a device base.

【図5】アクティブ消音装置を動作させた際の、チャン
バ内における騒音の影響を説明するグラフである。
FIG. 5 is a graph illustrating the effect of noise in a chamber when the active silencer is operated.

【図6】従来の縮小投影露光システムの概略構成図であ
る。
FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a conventional reduction projection exposure system.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 露光装置本体 12 投影レンズ 13 ウェハステージ 17 照明光源 20 除振台 30 温調チャンバ 40 独立基礎 50 空調機 51 熱交換器 53 送風機 60 ダクト 65 フィルタ 71 支柱 70 床 80 緩衝材 90 アクティブ消音装置 91 第1マイクロフォン 92 第2マイクロフォン 95 信号処理装置 97 スピーカ 98 サーボ型振動検出センサ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Exposure apparatus main body 12 Projection lens 13 Wafer stage 17 Illumination light source 20 Vibration isolation table 30 Temperature control chamber 40 Independent foundation 50 Air conditioner 51 Heat exchanger 53 Blower 60 Duct 65 Filter 71 Support 70 Floor 80 Buffer material 90 Active noise reduction device 91 First 1 microphone 92 second microphone 95 signal processing device 97 speaker 98 servo-type vibration detection sensor

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 空調機と、チャンバと、前記空調機及び
前記チャンバを連結するダクトとを備える空調システム
において、 前記ダクト及び前記空調機のいずれか一方に配置されて
騒音を検出する騒音検出装置と、前記ダクト及び前記空
調機のいずれか一方に配置されて音波を発生する音波源
と、前記騒音検出装置で検出された騒音を相殺する音波
を前記音波源から発生させる制御装置とをさらに備える
ことを特徴とする空調システム。
1. An air conditioning system comprising an air conditioner, a chamber, and a duct connecting the air conditioner and the chamber, wherein a noise detection device arranged in one of the duct and the air conditioner to detect noise. And a sound source arranged in one of the duct and the air conditioner to generate sound waves, and a control device configured to generate, from the sound source, sound waves for canceling noise detected by the noise detection device. An air conditioning system characterized by that:
【請求項2】 空調機と、原版上のパターンを感光基板
上に露光する露光装置本体を内蔵するチャンバと、前記
空調機及び前記チャンバを連結するダクトとを備える露
光装置システムにおいて、 前記ダクト及び前記空調機のいずれか一方に配置されて
騒音を検出する騒音検出装置と、前記ダクト及び前記空
調機のいずれか一方に配置されて音波を発生する音波源
と、前記騒音検出装置で検出された騒音を相殺する音波
を前記音波源から発生させる制御装置とをさらに備える
ことを特徴とする露光装置システム。
2. An exposure apparatus system comprising: an air conditioner; a chamber containing an exposure apparatus main body for exposing a pattern on an original onto a photosensitive substrate; and a duct connecting the air conditioner and the chamber. A noise detection device that is disposed in any one of the air conditioners and detects noise, a sound source that generates a sound wave that is disposed in any one of the duct and the air conditioner, and is detected by the noise detection device An exposure apparatus system, further comprising: a control device configured to generate a sound wave for canceling noise from the sound source.
【請求項3】 空調機と、物体の形状を光学的に計測す
る干渉計本体を内蔵するチャンバと、前記空調機及び前
記チャンバを連結するダクトとを備える干渉計システム
において、 前記ダクト及び前記空調機のいずれか一方に配置されて
騒音を検出する騒音検出装置と、前記ダクト及び前記空
調機のいずれか一方に配置されて音波を発生する音波源
と、前記騒音検出装置で検出された騒音を相殺する音波
を前記音波源から発生させる制御装置とをさらに備える
ことを特徴とする干渉計システム。
3. An interferometer system comprising an air conditioner, a chamber containing an interferometer main body for optically measuring the shape of an object, and a duct connecting the air conditioner and the chamber. A noise detection device that is disposed on one of the air conditioners and detects noise, a sound source that generates a sound wave that is disposed on one of the duct and the air conditioner, and a noise that is detected by the noise detection device. A controller for generating a canceling sound wave from the sound source.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005209793A (en) * 2004-01-21 2005-08-04 Canon Inc Exposure system
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