JP2000019694A - Image forming method of silver halide photographic sensitive material - Google Patents

Image forming method of silver halide photographic sensitive material

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JP2000019694A
JP2000019694A JP10188983A JP18898398A JP2000019694A JP 2000019694 A JP2000019694 A JP 2000019694A JP 10188983 A JP10188983 A JP 10188983A JP 18898398 A JP18898398 A JP 18898398A JP 2000019694 A JP2000019694 A JP 2000019694A
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silver
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Toshiyuki Takabayashi
敏行 高林
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Konica Minolta Inc
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  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image forming method by which development and fixing are simultaneously carried out with one treating liquid, high sensitivity is obtd. even in a low replenishing treatment and silver sludge can be significantly decreased. SOLUTION: In this image forming method, the development and fixing of a silver halide photographic sensitive material containing a hydrazine deriv. in silver halide emulsion layers and/or nonphotosensitive hydrophilic colloid layers are simultaneously carried out with a single treating liquid to obtain an image. The treating liquid contains a kind of a compd. expressed by formula. In the formula, Z is a group of nonmetal atoms necessary to form a heteroring containing a nitrogen atom, M is a hydrogen atom. alkali metal atom, alkaline earth metal atom or ammonium ion.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は印刷製版用ハロゲン
化銀写真感光材料(以下、単に感光材料ともいう)の画
像形成方法に関し、特に現像と定着を一つの処理液で行
う印刷製版用感光材料の画像形成方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming an image on a silver halide photographic light-sensitive material for plate-making (hereinafter, simply referred to as a light-sensitive material). And an image forming method.

【0002】[0002]

【従来の技術】感光材料は、露光後現像、定着、洗浄、
安定化などの工程により処理される。処理は通常自動現
像機を用いて行われ、処理液の活性度を一定に保つた
め、補充液を補充する方式が一般に広く用いられてい
る。補充液の補充は感光材料からの溶出物の希釈、蒸発
量の補正及び消費成分の補充を目的としている。
2. Description of the Related Art Photosensitive materials are developed after exposure, fixed, washed,
It is processed by a process such as stabilization. Processing is usually performed using an automatic developing machine, and a method of replenishing a replenisher is generally widely used in order to keep the activity of the processing solution constant. The replenishment of the replenisher is intended to dilute the eluate from the light-sensitive material, correct the amount of evaporation, and replenish the consumed components.

【0003】このような処理の他に、現像と定着を一つ
の処理液で行ういわゆる一浴処理と呼ばれる方法があ
る。
In addition to such processing, there is a so-called one-bath processing in which development and fixing are performed with one processing solution.

【0004】一浴処理は、通常の2浴処理に比べ処理槽
が一つ減らせ、自動現像機の小型化ができ、調液作業が
軽減されるという長所があるものの、自動現像機の処理
層、ローラー等に銀が付着蓄積する銀汚れ又は銀スラッ
ジといわれる汚れが著しく、また、感度低下も大きいと
いう重大な問題を抱えており、解決が強く望まれてい
た。
[0004] The one-bath treatment has the advantages of reducing the number of processing tanks by one in comparison with the ordinary two-bath treatment, making it possible to reduce the size of the automatic developing machine and reducing the preparation of the solution. There is a serious problem that silver stains or silver sludge, in which silver adheres and accumulates on rollers and the like, and the sensitivity is greatly reduced, and a solution has been strongly desired.

【0005】一方、近年では環境問題への関心の高まり
から、写真処理廃液の低減が強く要求されてきている。
[0005] On the other hand, in recent years, interest in environmental issues has increased, and there has been a strong demand for reduction of photographic processing waste liquid.

【0006】従って、従来の処理液補充量は、処理され
る感光材料1m2当たり350ml以上であるのが通常
であったが、近年では1m2当たり250ml以下で処
理する必要が出てきた。
Therefore, the conventional replenishing amount of the processing solution is usually 350 ml or more per 1 m 2 of the photosensitive material to be processed, but in recent years, it has become necessary to process at less than 250 ml per 1 m 2 .

【0007】しかし、このような低補充化を行った際に
は、上述した銀汚れ及び感度低下の問題は更に顕著とな
る。
However, when such low replenishment is performed, the above-mentioned problems of silver contamination and sensitivity reduction become more remarkable.

【0008】また、一液処理の形態としても、液体処理
剤では相変わらず面倒な調液作業があることは変わらな
いことから、固体処理剤を用いた一浴処理が強く望まれ
ている。
[0008] In addition, even in the form of one-liquid treatment, since there is still a troublesome liquid preparation operation with a liquid treatment agent, there is a strong demand for a one-bath treatment using a solid treatment agent.

【0009】更に、従来のハイドロキノンのみを用いた
処理液で一浴処理を行うとカブリが上昇しやすいという
問題があり、改良が強く望まれていた。
Further, when a single bath treatment is carried out with a conventional treatment solution using only hydroquinone, there is a problem that fog tends to increase, and improvement has been strongly desired.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、現像
と定着を一つの処理液で同時に用い、低補充処理でも高
感度で、かつ銀スラッジの著しく軽減された感光材料の
画像形成方法を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method for forming an image on a photosensitive material which uses development and fixing simultaneously with a single processing solution, has high sensitivity even in low replenishment processing, and has significantly reduced silver sludge. To provide.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は以下
の構成により達成される。
The above object of the present invention is attained by the following constitutions.

【0012】1.ハロゲン化銀乳剤層及び/又は非感光
性親水性コロイド層中に、少なくとも1種のヒドラジン
誘導体を含有するハロゲン化銀写真感光材料を現像と定
着を一つの処理液で同時に行い画像を得る画像形成方法
であり、該処理液が下記一般式(1)で表される化合物
の少なくとも1種を含有することを特徴とするハロゲン
化銀写真感光材料の画像形成方法。
1. Image formation by simultaneously developing and fixing a silver halide photographic material containing at least one hydrazine derivative in a silver halide emulsion layer and / or a non-photosensitive hydrophilic colloid layer with one processing solution to obtain an image A method for forming an image of a silver halide photographic light-sensitive material, wherein the processing solution contains at least one compound represented by the following general formula (1).

【0013】[0013]

【化3】 Embedded image

【0014】Zは窒素原子を含む複素環を形成するのに
必要な非金属原子群を表し、Mは水素原子、アルカリ金
属原子、アルカリ土類金属原子又はアンモニウムイオン
を表す。
Z represents a group of nonmetallic atoms necessary for forming a heterocyclic ring containing a nitrogen atom, and M represents a hydrogen atom, an alkali metal atom, an alkaline earth metal atom or an ammonium ion.

【0015】2.ハロゲン化銀乳剤層及び/又は非感光
性親水性コロイド層中に、アミン化合物及び/又は4級
オニウム化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を
含有することを特徴とする1に記載のハロゲン化銀写真
感光材料の画像形成方法。
2. 2. The silver halide according to 1, wherein the silver halide emulsion layer and / or the non-photosensitive hydrophilic colloid layer contains at least one compound selected from an amine compound and / or a quaternary onium compound. Image forming method for photographic photosensitive material.

【0016】3.処理液補充量がハロゲン化銀写真感光
材料1m2当たり30〜250mlで処理し画像を得る
ことを特徴とする1又は2に記載のハロゲン化銀写真感
光材料の画像形成方法。
3. 3. The method for forming an image of a silver halide photographic light-sensitive material according to 1 or 2, wherein an image is obtained by processing at a processing solution replenishment rate of 30 to 250 ml per m 2 of the silver halide photographic light-sensitive material.

【0017】4.下記一般式(2)で表される化合物を
含有する固体処理剤で処理し画像を得ることを特徴とす
る1〜3のいずれか1項に記載の画像形成方法。
4. The image forming method according to any one of claims 1 to 3, wherein an image is obtained by processing with a solid processing agent containing a compound represented by the following general formula (2).

【0018】[0018]

【化4】 Embedded image

【0019】式中、R21及びR22はそれぞれアルキル
基、アミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基を表し、
これらは置換基を有してもよく、互いに結合して環を形
成してもよい。kは0又は1を表し、k=1のときXは
−CO−又は−CS−を表す。M21及びM22はそれぞれ
水素原子又はアルカリ金属原子を表す。
In the formula, R 21 and R 22 represent an alkyl group, an amino group, an alkoxy group, and an alkylthio group, respectively.
These may have a substituent and may combine with each other to form a ring. k represents 0 or 1, and when k = 1, X represents -CO- or -CS-. M 21 and M 22 each represent a hydrogen atom or an alkali metal atom.

【0020】以下、本発明について詳述する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0021】まず、本発明の上記一般式(1)で表され
る化合物について説明する。
First, the compound represented by the above general formula (1) of the present invention will be described.

【0022】一般式(1)において、Zで示される複素
環は、例えばオキサゾール、ベンゾオキサゾール、チア
ゾール、ベンゾチアゾール、トリアジン、ピリミジン、
テトラザインドリジン、トリアザインデン、プリン等の
各環が挙げられ、好ましくはベンゼン環が縮合されても
よい5〜6員の複素環である。Mは水素原子、アルカリ
金属原子、アルカリ土類金属原子又はアンモニウムイオ
ン等のカチオンを表す。又、上記複素環は、一般式
(1)に記載された−SM基以外の置換基を有していて
もよく、該置換基としては、例えばハロゲン原子、スル
ホ基、水酸基、低級アルキル基、フェニル基等が挙げら
れる。
In the general formula (1), the heterocyclic ring represented by Z is, for example, oxazole, benzoxazole, thiazole, benzothiazole, triazine, pyrimidine,
Each ring includes tetrazaindolizine, triazaindene, purine and the like, and is preferably a 5- to 6-membered heterocyclic ring to which a benzene ring may be condensed. M represents a cation such as a hydrogen atom, an alkali metal atom, an alkaline earth metal atom or an ammonium ion. Further, the heterocyclic ring may have a substituent other than the -SM group described in the general formula (1), and examples of the substituent include a halogen atom, a sulfo group, a hydroxyl group, a lower alkyl group, And a phenyl group.

【0023】以下に一般式(1)で表される化合物の具
体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
Specific examples of the compound represented by the general formula (1) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0024】[0024]

【化5】 Embedded image

【0025】[0025]

【化6】 Embedded image

【0026】一般式(1)で表される化合物は、本発明
においては一般式(A)〜(C)で示される構造を有す
ることが望ましい。
In the present invention, the compound represented by the general formula (1) preferably has a structure represented by the general formulas (A) to (C).

【0027】まず、一般式(A)で表される構造を有す
る化合物について説明する。
First, the compound having the structure represented by formula (A) will be described.

【0028】[0028]

【化7】 Embedded image

【0029】一般式(A)において、R1、R2は各々水
素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、ヒド
ロキシ基、メルカプト基、カルボキシ基、スルホ基、ホ
スホノ基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原
子、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシ
基等を表し、R1、R2は連結して飽和の5〜6員環を形
成してもよい。
In the general formula (A), R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a hydroxy group, a mercapto group, a carboxy group, a sulfo group, a phosphono group, an amino group, a nitro group, Represents a cyano group, a halogen atom, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, an alkoxy group, or the like, and R 1 and R 2 may be linked to form a saturated 5- to 6-membered ring.

【0030】アルキル基、アリール基、アラルキル基、
アミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アル
コキシ基等は更に置換基を有していてもよく、この置換
基としては、R1、R2で挙げた基を同様に挙げることが
出来る。
An alkyl group, an aryl group, an aralkyl group,
The amino group, the alkoxycarbonyl group, the aryloxycarbonyl group, the carbamoyl group, the sulfamoyl group, the alkoxy group, and the like may further have a substituent. As the substituent, the same groups as those described for R 1 and R 2 can be used. Can be listed.

【0031】R1、R2の好ましい例としてR1、R2のど
ちらか一方が、炭素数1〜10の置換、無置換のアルキ
ル基、炭素数6〜12の置換、無置換のアリール基、炭
素数7〜12の置換、無置換のアラルキル基、ニトロ
基、シアノ基、ハロゲン原子を挙げることが出来る。R
1、R2が連結して飽和の5〜6員環を形成する場合も好
ましい例として挙げることが出来る。
[0031] either of R 1, R 1 Preferred examples of R 2, R 2 is a substituted having 1 to 10 carbon atoms, an unsubstituted alkyl group, a substituted having 6 to 12 carbon atoms, an unsubstituted aryl group And a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, a nitro group, a cyano group, and a halogen atom. R
The case where 1 and R 2 are linked to form a saturated 5- or 6-membered ring can also be mentioned as a preferable example.

【0032】R1、R2の更に好ましい例として、R1
水素原子、或いはアミノ基(ジメチルアミノ基、ジエチ
ルアミノ基等)やヘテロ環残基(モルホリノ基、N−メ
チルピペラジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基
等)を置換基として有するアルキル基を挙げることがで
き、R2としては炭素数1〜10の置換、無置換のアル
キル基、炭素数6〜12の置換、無置換のアリール基を
挙げることが出来る。
As more preferred examples of R 1 and R 2 , R 1 is a hydrogen atom or an amino group (dimethylamino group, diethylamino group, etc.) or a heterocyclic residue (morpholino group, N-methylpiperazinyl group, pyrrolidinyl group). group, a piperidinyl group, etc.) can be exemplified an alkyl group having as a substituent, substituted C1-10 as R 2, an unsubstituted alkyl group, a substituted having 6 to 12 carbon atoms, an unsubstituted aryl group Can be mentioned.

【0033】具体的にはR1としてジメチルアミノメチ
ル基、モルホリノメチル基、N−メチルピペラジニルメ
チル基、ピロリジニルメチル基等を挙げることが出来
る。R2としてメチル基、エチル基、フェニル基、p−
メトキシフェニル基等を挙げることが出来る。
Specifically, R 1 includes a dimethylaminomethyl group, a morpholinomethyl group, an N-methylpiperazinylmethyl group, a pyrrolidinylmethyl group and the like. R 2 represents a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, p-
Examples include a methoxyphenyl group.

【0034】以下に一般式(A)で表される化合物を具
体的に示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
The compounds represented by formula (A) are specifically shown below, but the invention is not limited thereto.

【0035】[0035]

【化8】 Embedded image

【0036】[0036]

【化9】 Embedded image

【0037】次に、一般式(B)で表される構造を有す
る化合物について説明する。
Next, the compound having the structure represented by formula (B) will be described.

【0038】[0038]

【化10】 Embedded image

【0039】一般式(B)において、Z21、Y21はそれ
ぞれ不飽和の5員環又は6員環を形成するのに必要な非
金属原子群で(該5員環又は6員環としては、例えば、
ベンゼン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリ
ダジン、ピリミジン等の環)であり、一般式(B)で表
される化合物は5員、6員の組み合わせで縮合した化合
物であり、該縮合環は窒素原子を3個以上有し、且つ少
なくとも1つのメルカプト基を置換基として有する。
In the general formula (B), Z 21 and Y 21 each represent a group of non-metallic atoms necessary for forming an unsaturated 5- or 6-membered ring (as the 5- or 6-membered ring, For example,
A ring such as benzene, pyrrole, imidazole, pyrazole, pyridazine and pyrimidine), and the compound represented by the general formula (B) is a compound condensed in a combination of 5 members and 6 members, and the condensed ring has a nitrogen atom. It has three or more and has at least one mercapto group as a substituent.

【0040】一般式(B)で示される化合物は、メルカ
プト基以外の置換基を有していてもよく、該置換基とし
ては、ハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素原
子)、置換、無置換のアルキル基(特にメチル基、エチ
ル基等の炭素数5以下のものが好ましい。)、置換、無
置換の炭素数5以下のアルコキシ基(特にメトキシ基、
エトキシ基、ブトキシ基等の炭素数5以下のものが好ま
しい。)、ヒドロキシ基、スルホ基、置換、無置換のア
リル基(特に炭素数5以下のものが好ましい。)、アミ
ノ基、COOM21基(M21は前記一般式〔1〕のMと同
義)、カルバモイル基、フェニル基等が挙げられる。特
に、ヒドロキシ基、COOM21基、アミノ基、又はスル
ホ基を持つことが好ましい。
The compound represented by the formula (B) may have a substituent other than a mercapto group, and the substituent may be a halogen atom (for example, fluorine, chlorine, bromine atom), substituted or unsubstituted. A substituted alkyl group (especially those having 5 or less carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group are preferable), and a substituted or unsubstituted alkoxy group having 5 or less carbon atoms (especially a methoxy group,
Those having 5 or less carbon atoms such as an ethoxy group and a butoxy group are preferred. ), A hydroxy group, a sulfo group, a substituted or unsubstituted allyl group (especially those having 5 or less carbon atoms), an amino group, a COOM 21 group (M 21 has the same meaning as M in the general formula [1]), Examples include a carbamoyl group and a phenyl group. In particular, it preferably has a hydroxy group, a COOM 21 group, an amino group, or a sulfo group.

【0041】更に一般式(B)で表される化合物は次の
一般式(a)〜(f)で表される化合物が特に好まし
い。
Further, as the compound represented by the general formula (B), compounds represented by the following general formulas (a) to (f) are particularly preferable.

【0042】[0042]

【化11】 Embedded image

【0043】一般式(a)において、R21、R22、R23
は、ハロゲン原子、置換、無置換のアルキル基(特にメ
チル基、エチル基等の炭素数5以下のものが好まし
い。)、置換、無置換のアルコキシ基(特にメトキシ
基、エトキシ基、ブトキシ基等炭素数5以下のものが好
ましい。)、ヒドロキシ基、スルホ基、置換、無置換の
アリル基(特に炭素数5以下のものが好ましい。)、ア
ミノ基、COOM21基(M21は前記一般式(1)のMと
同義)、カルバモイル基、フェニル基であり、少なくと
も一つはメルカプト基である。特に、一般式(a)で表
される化合物のメルカプト基以外の置換基としては、ヒ
ドロキシ基、COOM21基、アミノ基又はスルホ基であ
ることが好ましい。
In the general formula (a), R 21 , R 22 , R 23
Is a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group (especially those having 5 or less carbon atoms such as a methyl group or an ethyl group), a substituted or unsubstituted alkoxy group (particularly a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, etc.) Those having 5 or less carbon atoms are preferred.), Hydroxy groups, sulfo groups, substituted and unsubstituted allyl groups (especially those having 5 or less carbon atoms), amino groups, and COOM 21 groups (M 21 is the general formula (Same as M in (1)), a carbamoyl group and a phenyl group, at least one of which is a mercapto group. In particular, the substituent other than the mercapto group of the compound represented by the general formula (a) is preferably a hydroxy group, a COOM 21 group, an amino group or a sulfo group.

【0044】[0044]

【化12】 Embedded image

【0045】一般式(b)において、R21、R22
23、R24は、ハロゲン原子、置換、無置換のアルキル
基(メチル基、エチル基等の炭素数5以下のものが好ま
しい。)、置換、無置換のアルコキシ基(炭素数5以下
のものが好ましい。)、ヒドロキシ基、スルホ基、置
換、無置換のアリル基(特に炭素数5以下のものが好ま
しい。)、アミノ基、COOM21基(M21は前記一般式
(1)のMと同義)、カルバモイル基、フェニル基であ
り、少なくとも一つはメルカプト基である。特に、一般
式(b)で表される化合物のメルカプト基以外の置換基
としてはヒドロキシ基、COOM21基、アミノ基又はス
ルホ基であることが好ましい。
In the general formula (b), R 21 , R 22 ,
R 23 and R 24 each represent a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group (preferably having a carbon number of 5 or less such as a methyl group or an ethyl group), a substituted or unsubstituted alkoxy group (having a carbon number of 5 or less) Is preferred.), A hydroxy group, a sulfo group, a substituted or unsubstituted allyl group (especially those having 5 or less carbon atoms), an amino group, and a COOM 21 group (M 21 is the same as M in the general formula (1)). Synonymous), a carbamoyl group and a phenyl group, at least one of which is a mercapto group. In particular, the substituent other than the mercapto group in the compound represented by the general formula (b) is preferably a hydroxy group, a COOM 21 group, an amino group or a sulfo group.

【0046】[0046]

【化13】 Embedded image

【0047】一般式(c)において、R21、R22は、ハ
ロゲン原子、置換、無置換のアルキル基(特にメチル
基、エチル基等の炭素数5以下のものが好ましい。)、
置換、無置換のアルコキシ基(特に炭素数5以下のもの
が好ましい。)、ヒドロキシ基、スルホ基、置換、無置
換のアリル基(特に炭素数5以下のものが好まし
い。)、アミノ基、COOM21基(M21は前記一般式
(1)のMと同義)、カルバモイル基、フェニル基であ
り、少なくとも一つはメルカプト基である。特に、一般
式(c)で表される化合物のメルカプト基以外の置換基
としてはヒドロキシ基、COOM21基、アミノ基又はス
ルホ基であることが好ましい。
In the general formula (c), R 21 and R 22 each represent a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group (especially those having 5 or less carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group),
Substituted or unsubstituted alkoxy group (especially those having 5 or less carbon atoms), hydroxy group, sulfo group, substituted or unsubstituted allyl group (especially those having 5 or less carbon atoms), amino group, COOM 21 groups (M 21 has the same meaning as M in formula (1)), a carbamoyl group and a phenyl group, at least one of which is a mercapto group. In particular, the substituent other than the mercapto group of the compound represented by the general formula (c) is preferably a hydroxy group, a COOM 21 group, an amino group or a sulfo group.

【0048】[0048]

【化14】 Embedded image

【0049】一般式(d)において、R21、R22は、ハ
ロゲン原子、置換、無置換のアルキル基(特にメチル
基、エチル基等の炭素数5以下のものが好ましい。)、
置換、無置換のアルコキシ基(特に炭素数5以下のもの
が好ましい。)、ヒドロキシ基、スルホ基、置換、無置
換のアリル基(特に炭素数5以下のものが好まし
い。)、アミノ基、COOM21基(M21は前記一般式
(1)のMと同義)、カルバモイル基、フェニル基であ
り、少なくとも一つはメルカプト基である。特に、一般
式(d)で表される化合物のメルカプト基以外の置換基
としてはヒドロキシ基、COOM21基、アミノ基又はス
ルホ基等の水溶性基であることが好ましい。
In the general formula (d), R 21 and R 22 each represent a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group (particularly a methyl group, an ethyl group, or the like having 5 or less carbon atoms),
Substituted or unsubstituted alkoxy group (especially those having 5 or less carbon atoms), hydroxy group, sulfo group, substituted or unsubstituted allyl group (especially those having 5 or less carbon atoms), amino group, COOM 21 groups (M 21 has the same meaning as M in formula (1)), a carbamoyl group and a phenyl group, at least one of which is a mercapto group. In particular, the substituent other than the mercapto group in the compound represented by the general formula (d) is preferably a water-soluble group such as a hydroxy group, a COOM 21 group, an amino group or a sulfo group.

【0050】[0050]

【化15】 Embedded image

【0051】一般式(e)において、R21、R22
23、R24は、ハロゲン原子、置換、無置換のアルキル
基(特にメチル基、エチル基等の炭素数5以下のものが
好ましい。)、置換、無置換のアルコキシ基(特に炭素
数5以下のものが好ましい。)、ヒドロキシ基、スルホ
基、置換、無置換のアリル基(特に炭素数5以下のもの
が好ましい。)、アミノ基、COOM21基(M21は前記
一般式(1)のMと同義)、カルバモイル基、フェニル
基であり、少なくとも一つはメルカプト基である。特
に、一般式(e)で表される化合物のメルカプト基以外
の置換基としてはヒドロキシ基、COOM21基、アミノ
基又はスルホ基であることが好ましい。
In the general formula (e), R 21 , R 22 ,
R 23 and R 24 are a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group (especially those having 5 or less carbon atoms such as a methyl group or an ethyl group), a substituted or unsubstituted alkoxy group (especially 5 or less carbon atoms). Are preferred.), A hydroxy group, a sulfo group, a substituted or unsubstituted allyl group (especially those having 5 or less carbon atoms), an amino group, a COOM 21 group (M 21 is a group represented by the general formula (1)). M), a carbamoyl group and a phenyl group, at least one of which is a mercapto group. In particular, the substituent other than the mercapto group of the compound represented by the general formula (e) is preferably a hydroxy group, a COOM 21 group, an amino group or a sulfo group.

【0052】[0052]

【化16】 Embedded image

【0053】一般式(f)において、R21、R22、R23
は各々水素原子、−SM21基、ヒドロキシ基、アルコキ
シ基、−COOM22基、アミノ基、−SO323基又は
アルキル基であり、R21、R22、R23のうち少なくとも
一つは該−SM21基である。M21、M22、M23は各々水
素原子、アルカリ金属原子又はアンモニウム基を表し、
同じであっても異なってもよい。
In the general formula (f), R 21 , R 22 , R 23
Each hydrogen atom, -SM 21 group, hydroxy group, alkoxy group, -COOM 22 group, an amino group, -SO 3 M 23 group or an alkyl group, at least one of R 21, R 22, R 23 is The -SM 21 group. M 21 , M 22 and M 23 each represent a hydrogen atom, an alkali metal atom or an ammonium group;
They may be the same or different.

【0054】上記の一般式(f)において、R21
22、R23で表される置換、無置換のアルキル基及び置
換、無置換のアルコキシ基はそれぞれ炭素を1〜5個有
する基であり、好ましくは炭素数を1〜3個有する基で
あり、R21、R22、R23で表されるアミノ基は置換、無
置換のアミノ基を表し、好ましい置換基としては炭素数
5以下のアルキル基である。
In the above formula (f), R 21 ,
The substituted or unsubstituted alkyl group and the substituted or unsubstituted alkoxy group represented by R 22 and R 23 are each a group having 1 to 5 carbon atoms, preferably a group having 1 to 3 carbon atoms. , R 21 , R 22 , and R 23 represent a substituted or unsubstituted amino group, and a preferable substituent is an alkyl group having 5 or less carbon atoms.

【0055】上記の一般式(f)において、アンモニウ
ム基としては置換、無置換のアンモニウム基であり、好
ましくは無置換のアンモニウム基である。
In the above formula (f), the ammonium group is a substituted or unsubstituted ammonium group, preferably an unsubstituted ammonium group.

【0056】以下に一般式(a)〜(f)で表される化
合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
Specific examples of the compounds represented by formulas (a) to (f) are shown below, but the present invention is not limited to these.

【0057】[0057]

【化17】 Embedded image

【0058】[0058]

【化18】 Embedded image

【0059】[0059]

【化19】 Embedded image

【0060】[0060]

【化20】 Embedded image

【0061】[0061]

【化21】 Embedded image

【0062】[0062]

【化22】 Embedded image

【0063】次に、一般式(C)で示される構造を有す
る化合物について説明する。
Next, the compound having the structure represented by formula (C) will be described.

【0064】[0064]

【化23】 Embedded image

【0065】一般式(C)において、Z31、Y31はそれ
ぞれ不飽和の5員環又は6員環を形成するのに必要な非
金属原子群であり、かつZ31とY31をあわせて3つ以上
の窒素原子を含み、かつ少なくとも1つのメルカプト基
を置換基として有する。
In the general formula (C), Z 31 and Y 31 each represent a group of nonmetallic atoms necessary for forming an unsaturated 5- or 6-membered ring, and Z 31 and Y 31 together It contains three or more nitrogen atoms and has at least one mercapto group as a substituent.

【0066】一般式(C)で表される化合物は、下記一
般式(g)及び一般式(h)で表される化合物が好まし
い。
The compound represented by the general formula (C) is preferably a compound represented by the following general formulas (g) and (h).

【0067】[0067]

【化24】 Embedded image

【0068】一般式(g)及び一般式(h)において、
31、R32、R33、R34は各々水素原子、−SM31基、
ヒドロキシ基、アルコキシ基、−COOM32基、アミノ
基、−SO333基又はアルキル基であり、R31
32、R33、R34のうち少なくとも一つは−SM31基を
有する。M31、M32、M33は各々水素原子、アルカリ金
属原子又はアンモニウム基を表し、同じであっても異な
ってもよい。
In the general formulas (g) and (h),
R 31 , R 32 , R 33 and R 34 each represent a hydrogen atom, a —SM 31 group,
Hydroxy group, an alkoxy group, -COOM 32 group, an amino group, -SO 3 M 33 group or an alkyl group, R 31,
At least one of R 32, R 33, R 34 has the -SM 31 group. M 31 , M 32 and M 33 each represent a hydrogen atom, an alkali metal atom or an ammonium group, and may be the same or different.

【0069】上記の一般式(g)及び一般式(h)にお
いて、R31、R32、R33、R34で表されるアルキル基及
びアルコキシ基はそれぞれ炭素を1〜5個有する基であ
り、それらは更に置換基を有していてもよく、好ましく
は炭素を1〜3個有する基であり、R31、R32、R33
34で表されるアミノ基は置換、無置換のアミノ基を表
し、好ましいアミノ基の置換基としては炭素数1〜3の
アルキル基である。
In the above formulas (g) and (h), the alkyl group and the alkoxy group represented by R 31 , R 32 , R 33 and R 34 are groups each having 1 to 5 carbon atoms. , Which may further have a substituent, preferably a group having 1 to 3 carbon atoms, and R 31 , R 32 , R 33 ,
The amino group represented by R 34 represents a substituted or unsubstituted amino group, and a preferable substituent of the amino group is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.

【0070】以下に一般式(g)及び一般式(h)で示
される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定
されるものではない。
Specific examples of the compounds represented by formulas (g) and (h) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0071】一般式(g)で表される化合物の具体例を
示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the compound represented by formula (g) are shown below, but the present invention is not limited to these.

【0072】[0072]

【化25】 Embedded image

【0073】一般式(h)で表される化合物の具体例を
示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the compound represented by formula (h) are shown below, but the present invention is not limited to these.

【0074】[0074]

【化26】 Embedded image

【0075】本発明の上記一般式(1)で示される化合
物のバッキング層への添加の際の好ましい添加量の態様
は5〜200mg/m2であり、溶出銀量の低減、写真
特性等種々の条件を考慮すると更に好ましくは7〜15
0mg/m2、最も好ましくは10〜100mg/m2
ある。
The preferred embodiment of the addition amount of the compound represented by the above general formula (1) to the backing layer of the present invention is 5 to 200 mg / m 2 , and various factors such as reduction of the amount of eluted silver and photographic characteristics are provided. Is more preferably 7 to 15 in consideration of the condition of
0 mg / m 2, and most preferably 10-100 mg / m 2.

【0076】次に本発明のヒドラジン誘導体について説
明する。
Next, the hydrazine derivative of the present invention will be described.

【0077】本発明において、ヒドラジン誘導体として
は、下記一般式(H)で表される化合物が好ましい。
In the present invention, as the hydrazine derivative, a compound represented by the following formula (H) is preferable.

【0078】[0078]

【化27】 Embedded image

【0079】一般式(H)において、Aはアリール基、
硫黄原子又は酸素原子を少なくとも1個を含む複素環を
表し、Gは−(CO)n−基、スルホニル基、スルホキ
シ基、−P(=O)R2−基又はイミノメチレン基を表
し、nは1又は2の整数を表し、A1、A2はともに水素
原子又は一方が水素原子で他方が置換、無置換のアルキ
ルスルホニル基又は置換、無置換のアシル基を表し、R
は水素原子、各々置換、無置換のアルキル基、アルケニ
ル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アミノ基、
カルバモイル基又はオキシカルボニル基を表す。R2
各々置換、無置換のアルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ
基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基、アミノ基
等を表す。
In the general formula (H), A represents an aryl group,
Represents a heterocycle containing at least one sulfur atom or oxygen atom, G is - (CO) n-group, a sulfonyl group, a sulfoxy group, -P (= O) R 2 - represents a group or an iminomethylene radical, n Represents an integer of 1 or 2; A 1 and A 2 each represent a hydrogen atom or one of which is a hydrogen atom and the other represents a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group or a substituted or unsubstituted acyl group;
Is a hydrogen atom, each substituted, unsubstituted alkyl, alkenyl, aryl, alkoxy, alkenyloxy, aryloxy, heterocyclic oxy, amino,
Represents a carbamoyl group or an oxycarbonyl group. R 2 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, alkoxy group, alkenyloxy group, alkynyloxy group, aryloxy group, amino group and the like.

【0080】一般式(H)で表される化合物のうち、更
に好ましくは下記一般式(Ha)で表される化合物であ
る。
Of the compounds represented by the general formula (H), more preferred are the compounds represented by the following general formula (Ha).

【0081】[0081]

【化28】 Embedded image

【0082】一般式(Ha)において、R1は脂肪族基
(例えばオクチル基、デシル基)、芳香族基(例えばフ
ェニル基、2−ヒドロキシフェニル基、クロロフェニル
基)又は複素環基(例えばピリジル基、チェニル基、フ
リル基)を表し、これらの基は更に置換基で置換された
ものが好ましく用いられる。更に、R1には、耐拡散基
又はハロゲン化銀吸着促進基を少なくとも一つ含むこと
が好ましい。
In the general formula (Ha), R 1 represents an aliphatic group (for example, octyl group, decyl group), an aromatic group (for example, phenyl group, 2-hydroxyphenyl group, chlorophenyl group) or a heterocyclic group (for example, pyridyl group) , A phenyl group, a furyl group), and those groups further preferably substituted with a substituent are preferably used. Further, R 1 preferably contains at least one diffusion-resistant group or silver halide adsorption promoting group.

【0083】耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真
用添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、該バラ
スト基としては炭素数8以上の写真性に対して不活性で
ある、例えばアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アルコキシ基、アルキルフェノキシ基等の各基が挙
げられる。
As the non-diffusible group, a ballast group commonly used in immobile photographic additives such as couplers is preferable. As the ballast group, an alkyl group having a carbon number of 8 or more which is inactive to photographic properties, for example, an alkyl group Alkenyl group, alkynyl group, alkoxy group, alkylphenoxy group and the like.

【0084】ハロゲン化銀吸着促進基としては、チオ尿
素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、
チオン基、複素環基、チオアミド基を有する複素環基、
メルカプト基を有する複素環基又は特開昭64−904
39号に記載の吸着基等が挙げられる。
Examples of the silver halide adsorption promoting groups include thiourea, thiourethane, mercapto, thioether,
A thione group, a heterocyclic group, a heterocyclic group having a thioamide group,
Heterocyclic group having a mercapto group or JP-A-64-904
And the adsorbing groups described in No. 39.

【0085】Xはフェニル基に置換可能な基を表し、m
は0〜4の整数を表し、mが2以上の場合Xは同じであ
っても異なってもよい。A3、A4は一般式(H)におけ
るA1及びA2と同義であり、ともに水素原子であること
が好ましい。Gはカルボニル基、スルホニル基、スルホ
キシ基、ホスホリル基又はイミノメチレン基を表すが、
Gはカルボニル基が好ましい。R2としては水素原子、
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリル基、
複素環基、アルコキシ基、水酸基、アミノ基、カルバモ
イル基、オキシカルボニル基を表す。最も好ましいR2
としては、−COOR3基及び−CON(R4)(R5
基が挙げられる(R3はアルキニル基又は飽和複素環基
を表し、R4は水素原子、アルキル基、アルケニル基、
アルキニル基、アリール基又は複素環基を表し、R5
アルケニル基、アルキニル基、飽和複素環基、ヒドロキ
シ基又はアルコキシ基を表す)。
X represents a group substitutable for a phenyl group, and m
Represents an integer of 0 to 4, and when m is 2 or more, X may be the same or different. A 3 and A 4 have the same meanings as A 1 and A 2 in formula (H), and are preferably both hydrogen atoms. G represents a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfoxy group, a phosphoryl group or an iminomethylene group,
G is preferably a carbonyl group. R 2 is a hydrogen atom,
Alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, allyl group,
Represents a heterocyclic group, an alkoxy group, a hydroxyl group, an amino group, a carbamoyl group, or an oxycarbonyl group. Most preferred R 2
Are -COOR 3 groups and -CON (R 4 ) (R 5 )
Wherein R 3 represents an alkynyl group or a saturated heterocyclic group, R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group,
Represents an alkynyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and R 5 represents an alkenyl group, an alkynyl group, a saturated heterocyclic group, a hydroxy group or an alkoxy group).

【0086】次に一般式(H)、一般式(Ha)で表さ
れる化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに
限定されるものではない。
Next, specific examples of the compounds represented by formulas (H) and (Ha) are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0087】[0087]

【化29】 Embedded image

【0088】[0088]

【化30】 Embedded image

【0089】[0089]

【化31】 Embedded image

【0090】[0090]

【化32】 Embedded image

【0091】[0091]

【化33】 Embedded image

【0092】[0092]

【化34】 Embedded image

【0093】その他の好ましいヒドラジン誘導体の具体
例としては、米国特許5,229,248号第4カラム
〜第60カラムに記載されている(1)〜(252)で
ある。
Specific examples of other preferred hydrazine derivatives are (1) to (252) described in US Pat. No. 5,229,248, columns 4 to 60.

【0094】本発明のヒドラジン誘導体は、公知の方法
により合成することができ、例えば米国特許5,22
9,248号第59カラム〜第80カラムに記載された
ような方法により合成することができる。
The hydrazine derivative of the present invention can be synthesized by a known method. For example, US Pat.
No. 9,248, column 59 to column 80, can be synthesized by the method as described.

【0095】添加量は、硬調化させる量であれば良く、
ハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組成、化学増感の程
度、抑制剤の種類等により最適量は異なるが、一般的に
ハロゲン化銀1モル当たり10-6〜10-1モルの範囲で
あり、好ましくは10-5〜10-2モルの範囲である。
The addition amount may be any amount as long as it makes the contrast high.
The optimum amount varies depending on the particle size of the silver halide grains, the halogen composition, the degree of chemical sensitization, the type of the inhibitor and the like, but is generally in the range of 10 -6 to 10 -1 mol per mol of silver halide. , Preferably in the range of 10 -5 to 10 -2 mol.

【0096】本発明のヒドラジン誘導体は、ハロゲン化
銀乳剤層又はその隣接層に添加される。
The hydrazine derivative of the present invention is added to a silver halide emulsion layer or a layer adjacent thereto.

【0097】本発明において、ヒドラジン誘導体による
硬調化を効果的に促進するために、下記一般式(Na)
又は(Nb)で表される化合物を用いることが好まし
い。
In the present invention, the following general formula (Na) is used in order to effectively promote the contrast enhancement by the hydrazine derivative.
Alternatively, it is preferable to use a compound represented by (Nb).

【0098】[0098]

【化35】 Embedded image

【0099】一般式(Na)において、R31、R32、R
33は水素原子、置換、無置換のアルキル基、置換、無置
換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、置
換、無置換のアリール基を表す。R31、R32、R33で環
を形成することができる。特に好ましくは、脂肪族3級
アミン化合物である。これらの化合物は分子中に耐拡散
性基又はハロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。
耐拡散性を有するためには分子量は100以上の化合物
が好ましく、更に好ましくは分子量300以上である。
In the general formula (Na), R 31 , R 32 , R
33 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. R 31 , R 32 and R 33 can form a ring. Particularly preferred are aliphatic tertiary amine compounds. These compounds preferably have a diffusion-resistant group or a silver halide adsorption group in the molecule.
In order to have diffusion resistance, a compound having a molecular weight of 100 or more is preferable, and a compound having a molecular weight of 300 or more is more preferable.

【0100】好ましいハロゲン化銀吸着剤としては複素
環基、メルカプト基、チオエーテル基、チオン基、チオ
ウレア基などが挙げられる。一般式(Na)として特に
好ましくは、分子中にハロゲン化銀吸着剤としてチオエ
ーテル基を少なくとも一つ有する化合物である。
Preferred silver halide adsorbents include a heterocyclic group, a mercapto group, a thioether group, a thione group and a thiourea group. Particularly preferred as the general formula (Na) is a compound having at least one thioether group as a silver halide adsorbent in the molecule.

【0101】以下、一般式(Na)で表される化合物の
具体例を挙げる。
Hereinafter, specific examples of the compound represented by formula (Na) will be described.

【0102】[0102]

【化36】 Embedded image

【0103】[0103]

【化37】 Embedded image

【0104】[0104]

【化38】 Embedded image

【0105】[0105]

【化39】 Embedded image

【0106】一般式(Nb)において、Arは各々置
換、無置換の芳香族基又は複素環基を表す。R34は水素
原子、アルキル基、アルキニル基、アリール基を表す
が、ArとR34は連結基で連結されて環を形成してもよ
い。これらの化合物は分子内に耐拡散性基又はハロゲン
化銀吸着基を有するものが好ましい。好ましい耐拡散性
を持たせるための分子量は120以上が好ましく、特に
好ましくは300以上である。
In the general formula (Nb), Ar represents a substituted or unsubstituted aromatic or heterocyclic group. R34 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkynyl group, or an aryl group, but Ar and R34 may be connected to each other by a linking group to form a ring. These compounds preferably have a diffusion-resistant group or a silver halide adsorption group in the molecule. The molecular weight for imparting preferable diffusion resistance is preferably 120 or more, and particularly preferably 300 or more.

【0107】以下に一般式(Nb)で表される化合物の
具体例を挙げる。
Specific examples of the compound represented by formula (Nb) are shown below.

【0108】[0108]

【化40】 Embedded image

【0109】[0109]

【化41】 Embedded image

【0110】その他の好ましい化合物の具体例は、特開
平6−258751号(13)頁「0062」〜(1
5)頁「0065」に記載されている(2−1)〜(2
−20)の化合物及び同6−258751号(15)頁
「0067」〜(16)頁「0068」に記載されてい
る3−1〜3−6である。
Specific examples of other preferred compounds are described in JP-A-6-258751, page 13 (13), “0062” to (1).
5) (2-1) to (2) described on page “0065”
-20) and 3-1 to 3-6 described in JP-A-6-258751, page (15), “0067” to page (16), “0068”.

【0111】本発明に好ましく用いられる上記の化合物
は、ハロゲン化銀乳剤層側の写真構成層ならば、どの層
にも用いてもよく、上述したヒドラジン誘導体と同様の
方法で用いることができる。また2種類以上を併用して
用いてもよい。
The above-mentioned compound preferably used in the present invention may be used in any layer as long as it is a photographic constituent layer on the side of the silver halide emulsion layer, and can be used in the same manner as in the above-mentioned hydrazine derivative. Also, two or more kinds may be used in combination.

【0112】添加量はハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲ
ン組成、化学増感の程度、抑制剤の種類などにより最適
量は異なるが、一般にハロゲン化銀1モル当たり10-6
〜10-1モルの範囲が好ましく、特に10-5〜10-2
ルの範囲が好ましい。
The optimum amount to be added varies depending on the particle size of the silver halide grains, the halogen composition, the degree of chemical sensitization, the type of the inhibitor and the like, but is generally 10 -6 per mol of silver halide.
The range is preferably 10 to 10 -1 mol, particularly preferably 10 -5 to 10 -2 mol.

【0113】次に本発明のハロゲン化銀写真感光材料に
好ましく用いられる4級オニウム塩化合物について述べ
る。
Next, quaternary onium salt compounds preferably used in the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention will be described.

【0114】本発明に好ましく用いられる4級オニウム
塩化合物は、分子内に窒素原子又は燐原子の4級カチオ
ン基を有する化合物であり、好ましくは下記一般式
(P)で表される化合物である。
The quaternary onium salt compound preferably used in the present invention is a compound having a quaternary cation group of a nitrogen atom or a phosphorus atom in the molecule, and is preferably a compound represented by the following formula (P). .

【0115】[0115]

【化42】 Embedded image

【0116】一般式(P)において、Qは窒素原子又は
燐原子を表し、R41、R42、R43及びR44は各々、水素
原子又は有機基を表し、X-はアニオンを表す。又、R
41〜R44は互いに連結して環を形成してもよい。
In the general formula (P), Q represents a nitrogen atom or a phosphorus atom, R 41 , R 42 , R 43 and R 44 each represent a hydrogen atom or an organic group, and X represents an anion. Also, R
41 to R 44 may combine with each other to form a ring.

【0117】R41〜R44で表される置換基としては、ア
ルキル基(例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、
ヘキシル、シクロヘキシル等の各基)、アルケニル基
(例えばアリル、ブテニル等の各基)、アルキニル基
(例えばプロパルギル、ブチニル等の各基)、アリール
基(フェニル、ナフチル等の各基)、複素環基(例えば
ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニル、ピリジ
ル、フリル、チエニル、テトラヒドロフリル、テトラヒ
ドロチエニル、スルホラニル等の各基)、アミノ基等が
挙げられる。R41〜R44が互いに連結して形成しうる環
としては、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン
環、キヌクリジン環、ピリジン環、ピロール環、イミダ
ゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環等が挙げら
れる。R41〜R44で表される基はヒドロキシル基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、カルボキシル基、スルホ
基、アルキル基、アリール基等の置換基を有してもよ
い。
As the substituent represented by R 41 to R 44 , an alkyl group (for example, methyl, ethyl, propyl, butyl,
Hexyl, cyclohexyl, etc.), alkenyl group (eg, allyl, butenyl, etc.), alkynyl group (eg, propargyl, butynyl, etc.), aryl group (phenyl, naphthyl, etc.), heterocyclic group (For example, piperidinyl, piperazinyl, morpholinyl, pyridyl, furyl, thienyl, tetrahydrofuryl, tetrahydrothienyl, sulfolanyl, etc.), an amino group and the like. Examples of the ring that R 41 to R 44 can form by linking each other include a piperidine ring, a morpholine ring, a piperazine ring, a quinuclidine ring, a pyridine ring, a pyrrole ring, an imidazole ring, a triazole ring, and a tetrazole ring. The groups represented by R 41 to R 44 may have a substituent such as a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a carboxyl group, a sulfo group, an alkyl group, and an aryl group.

【0118】R41、R42、R43及びR44としては、水素
原子及びアルキル基が好ましい。X-が表すアニオンと
しては、ハロゲンイオン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢
酸イオン、p−トルエンスルホン酸イオン等の無機及び
有機のアニオンが挙げられる。
As R 41 , R 42 , R 43 and R 44 , a hydrogen atom and an alkyl group are preferred. Examples of the anion represented by X include inorganic and organic anions such as a halogen ion, a sulfate ion, a nitrate ion, an acetate ion and a p-toluenesulfonic acid ion.

【0119】更に、本発明に好ましく用いられる4級オ
ニウム塩化合物としては、下記一般式(Pa)、(P
b)及び(Pc)で表される化合物、或いは下記一般式
(T)で表される化合物を用いることができる。
The quaternary onium salt compounds preferably used in the present invention include the following general formulas (Pa) and (P)
Compounds represented by b) and (Pc) or compounds represented by the following general formula (T) can be used.

【0120】[0120]

【化43】 Embedded image

【0121】一般式(Pa)、(Pb)及び(Pc)に
おいて、A1、A2、A3、A4及びA5は、含窒素複素環
を完成するのに必要な非金属原子群を表し、酸素原子、
窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、該窒素複素環はベ
ンゼン環が縮合されても構わない。A1、A2、A3、A4
及びA5で構成される含窒素複素環は置換基を有しても
よく、それぞれ同一でも異なっていてもよい。置換基と
しては、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、ハロゲン原子、アシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
スルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アミド基、スルファモイル基、
カルバモイル基、ウレイド基、アミノ基、スルホンアミ
ド基、スルホニル基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、アリールチオ基が挙げられる。
In the general formulas (Pa), (Pb) and (Pc), A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 each represent a nonmetallic atom group necessary for completing a nitrogen-containing heterocyclic ring. Represents an oxygen atom,
It may contain a nitrogen atom and a sulfur atom, and the nitrogen heterocyclic ring may be condensed with a benzene ring. A 1 , A 2 , A 3 , A 4
And the nitrogen-containing heterocycle composed of A 5 may have a substituent and may be the same or different. As a substituent, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a halogen atom, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group,
Sulfo group, carboxy group, hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, amide group, sulfamoyl group,
A carbamoyl group, a ureido group, an amino group, a sulfonamide group, a sulfonyl group, a cyano group, a nitro group, a mercapto group, an alkylthio group, and an arylthio group.

【0122】A1、A2、A3、A4及びA5の好ましい含
窒素複素環としては、5〜6員環(ピリジン、イミダゾ
ール、チアゾール、オキサゾール、ピラジン、ピリミジ
ン等の各環)を挙げることができ、更に好ましい例とし
てはピリジン環である。
Preferred examples of the nitrogen-containing heterocyclic ring represented by A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 include 5- to 6-membered rings (rings such as pyridine, imidazole, thiazole, oxazole, pyrazine and pyrimidine). A more preferred example is a pyridine ring.

【0123】Bpは2価の連結基を表し、mは0又は1
を表す。2価の連結基としては、アルキレン基、アリー
レン基、アルケニレン基、−SO2−、−SO−、−O
−、−S−、−CO−、−N(R6)−(R6は、例えば
水素原子アルキル基、アリール基を表す)を単独又は組
み合わせて構成されるものを表す。Bpとして好ましく
は、アルキレン基、アルケニレン基である。
Bp represents a divalent linking group, and m represents 0 or 1
Represents Examples of the divalent linking group include an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group, —SO 2 —, —SO—, and —O
—, —S—, —CO—, and —N (R 6 ) — (R 6 represents, for example, a hydrogen atom alkyl group or an aryl group) alone or in combination. Bp is preferably an alkylene group or an alkenylene group.

【0124】R1、R2及びR5は各々、置換、無置換の
炭素数1〜20のアルキル基を表す。又、R1及びR2
同一でも異っていてもよい。置換基としては、A1
2、A3、A4及びA5の置換基として挙げた置換基と同
義である。R1、R2及びR5の好ましくは、それぞれ炭
素数4〜10のアルキル基である。更に好ましくは、置
換、無置換のアリール置換アルキル基が挙げられる。
R 1 , R 2 and R 5 each represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. R 1 and R 2 may be the same or different. As the substituent, A 1 ,
The substituents have the same meanings as the substituents for A 2 , A 3 , A 4 and A 5 . R 1 , R 2 and R 5 are preferably each an alkyl group having 4 to 10 carbon atoms. More preferably, a substituted or unsubstituted aryl-substituted alkyl group is exemplified.

【0125】Xp-は分子全体の電荷を均衡させるのに
必要な対イオンを表し、例えば塩素イオン、臭素イオ
ン、沃素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエ
ンスルホナート、オキザラート等を表す。npは分子全
体の電荷を均衡させるに必要な対イオンの数を表し、分
子内塩の場合にはnpは0である。
[0125] Xp - is a counter ion necessary to balance the charge of the whole molecule, expressed as chlorine ion, bromine ion, iodine ion, nitrate ion, sulfate ion, p- toluenesulfonate, the oxalato or the like. np represents the number of counter ions required to balance the charge of the entire molecule, and np is 0 in the case of an internal salt.

【0126】[0126]

【化44】 Embedded image

【0127】上記一般式(T)で表されるトリフェニル
テトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R6、R7
8は水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメットの
シグマ値(σP)が負のものが好ましい。
In the triphenyltetrazolium compound represented by the general formula (T), the substituents R 6 , R 7 ,
R 8 is preferably a hydrogen atom or a compound having a negative Hammett sigma value (σP) indicating the degree of electron withdrawing property.

【0128】フェニル基におけるハメットのシグマ値は
多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミ
ストリー(Journal of Medical C
hemistry)20巻、304頁、1977年記載
のC.ハンシュ(C.Hansch)等の報文等に見る
ことが出来、特に好ましい負のシグマ値を有する基とし
ては、例えばメチル基(σP=−0.17以下何れもσ
P値)、エチル基(−0.15)、シクロプロピル基
(−0.21)、n−プロピル基(−0.13)、is
o−プロピル基(−0.15)、シクロブチル基(−
0.15)、n−ブチル基(−0.16)、iso−ブ
チル基(−0.20)、n−ペンチル基(−0.1
5)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−
0.66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロ
キシル基(−0.37)、メトキシ基(−0.27)、
エトキシ基(−0.24)、プロポキシ基(−0.2
5)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ基(−
0.34)等が挙げられ、これらは何れも一般式(T)
の化合物の置換基として有用である。
The Hammett's sigma value at the phenyl group is described in many literatures, for example, Journal of Medical Chemistry.
Chemistry) 20, vol. 304, p. As a group having a particularly preferable negative sigma value, for example, a methyl group ([sigma] P = -0.17 or less, and any group having a negative sigma value) can be seen in reports by C. Hansch et al.
P value), ethyl group (-0.15), cyclopropyl group (-0.21), n-propyl group (-0.13), is
o-propyl group (-0.15), cyclobutyl group (-
0.15), n-butyl group (-0.16), iso-butyl group (-0.20), n-pentyl group (-0.1
5), cyclohexyl group (-0.22), amino group (-
0.66), acetylamino group (-0.15), hydroxyl group (-0.37), methoxy group (-0.27),
Ethoxy group (-0.24), propoxy group (-0.2
5), butoxy group (-0.32), pentoxy group (-
0.34) and the like, all of which are represented by the general formula (T)
Is useful as a substituent of the compound of

【0129】XT n-で表されるアニオンとしては、例え
ば塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等のハ
ロゲンイオン、硝酸、硫酸、過塩素酸等の無機酸の酸
根、スルホン酸、カルボン酸等の有機酸の酸根、アニオ
ン系の活性剤、具体的にはp−トルエンスルホン酸アニ
オン等の低級アルキルベンゼンスルホン酸アニオン、p
−ドデシルベンゼンスルホン酸アニオン等の高級アルキ
ルベンゼンスルホン酸アニオン、ラウリルスルフェート
アニオン等の高級アルキル硫酸エステルアニオン、テト
ラフェニルボロン等の硼酸系アニオン、ジ−2−エチル
ヘキシルスルホサクシネートアニオン等のジアルキルス
ルホサクシネートアニオン、セチルポリエテノキシサル
フェートアニオン等の高級脂肪酸アニオン、ポリアクリ
ル酸アニオン等のポリマーに酸根のついたもの等を挙げ
ることができる。
Examples of the anion represented by X T n- include halogen ions such as chloride ion, bromide ion and iodide ion, acid radicals of inorganic acids such as nitric acid, sulfuric acid and perchloric acid, sulfonic acid and carboxylic acid. Acid radicals of an organic acid such as an anionic activator, specifically a lower alkylbenzenesulfonic acid anion such as a p-toluenesulfonic acid anion;
-Higher alkylbenzenesulfonic acid anions such as dodecylbenzenesulfonic acid anion, higher alkyl sulfate anions such as lauryl sulfate anion, boric acid anions such as tetraphenylboron, dialkylsulfosuccinates such as di-2-ethylhexylsulfosuccinate anion; Examples include anions, higher fatty acid anions such as cetyl polyethenoxy sulfate anion, and polymers having an acid root such as polyacrylate anion.

【0130】以下、4級オニウム塩化合物の具体例を下
記に挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
Hereinafter, specific examples of the quaternary onium salt compound will be shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0131】[0131]

【化45】 Embedded image

【0132】[0132]

【化46】 Embedded image

【0133】[0133]

【化47】 Embedded image

【0134】[0134]

【化48】 Embedded image

【0135】[0135]

【化49】 Embedded image

【0136】[0136]

【化50】 Embedded image

【0137】[0137]

【化51】 Embedded image

【0138】[0138]

【化52】 Embedded image

【0139】[0139]

【化53】 Embedded image

【0140】[0140]

【化54】 Embedded image

【0141】上記の4級オニウム塩化合物は公知の方法
に従って容易に合成でき、例えば上記テトラゾリウム化
合物はChemical Reviews 55.p.
335〜483に記載の方法を参考に容易に合成するこ
とができる。
The above quaternary onium salt compound can be easily synthesized according to a known method. For example, the above tetrazolium compound can be obtained from Chemical Reviews 55. p.
The compound can be easily synthesized with reference to the methods described in 335 to 483.

【0142】これら4級オニウム塩化合物の添加量は、
ハロゲン化銀1モル当たり通常1×10-8〜1モル、好
ましくは1×10-7〜1×10-1モルである。より好ま
しくは1×10-5〜1×10-2モルである。これらはハ
ロゲン化銀粒子形成時から塗布までの任意の時期に感光
材料中に添加できる。親水性コロイド層への添加量は上
記のハロゲン化銀乳剤層に準じた量でよい。
The addition amount of these quaternary onium salt compounds is as follows:
The amount is usually 1 × 10 -8 to 1 mol, preferably 1 × 10 -7 to 1 × 10 -1 mol, per mol of silver halide. More preferably, it is 1 × 10 −5 to 1 × 10 −2 mol. These can be added to the light-sensitive material at any time from the time of silver halide grain formation to the time of coating. The amount added to the hydrophilic colloid layer may be an amount according to the above silver halide emulsion layer.

【0143】4級オニウム塩化合物は、単独で用いても
2種以上を適宜併用して用いてもよい。また感光材料の
構成層中のいかなる層に添加してもよいが、好ましくは
ハロゲン化銀乳剤層を有する側の構成層の少なくとも1
層、更にはハロゲン化銀乳剤層及び/又はその隣接層に
添加する。
The quaternary onium salt compounds may be used alone or in combination of two or more. It may be added to any of the constituent layers of the light-sensitive material, but preferably at least one of the constituent layers on the side having the silver halide emulsion layer.
Layer and further added to the silver halide emulsion layer and / or the layer adjacent thereto.

【0144】次に一般式(2)で表される化合物につい
て説明する。
Next, the compound represented by formula (2) will be described.

【0145】前記一般式(2)で表される化合物として
は、R21とR22が互いに結合して環を形成した下記一般
式(2−a)で表される化合物を用いることが好まし
い。
As the compound represented by the general formula (2), it is preferable to use a compound represented by the following general formula (2-a) in which R 21 and R 22 are bonded to each other to form a ring.

【0146】[0146]

【化55】 Embedded image

【0147】式中、R23は水素原子、各々置換、無置換
のアルキル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、
又は、スルホ基、カルボキシル基、アミド基、スルホン
アミド基を表し、Y21はO又はSを表し、Y22はO、S
又はNR24を表す。R24は各々置換、無置換のアルキル
基、アリール基を表す。
In the formula, R 23 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an aryl group, an amino group, an alkoxy group,
Or a sulfo group, a carboxyl group, an amide group, or a sulfonamide group, Y 21 represents O or S, and Y 22 represents O, S
Or NR 24 . R 24 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group.

【0148】以下に一般式(2)、一般式(2−a)で
表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに
限定されるものではない。
Specific examples of the compounds represented by formulas (2) and (2-a) are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0149】[0149]

【化56】 Embedded image

【0150】[0150]

【化57】 Embedded image

【0151】[0151]

【化58】 Embedded image

【0152】[0152]

【化59】 Embedded image

【0153】本発明に好ましく用いられる固体処理剤
は、前記一般式(2)で表される化合物に加えて、ジヒ
ドロキシベンゼン系現像剤と併用して用いることができ
る。
The solid processing agent preferably used in the present invention can be used in combination with a dihydroxybenzene-based developer in addition to the compound represented by the general formula (2).

【0154】ここで言うジヒドロキシベンゼン系現像剤
とは下記一般式(I)〜(III)で表される化合物であ
る。
The dihydroxybenzene-based developer mentioned here is a compound represented by the following general formulas (I) to (III).

【0155】[0155]

【化60】 Embedded image

【0156】一般式(I)〜(III)において、R5、R
6、R7及びR8は各々独立して、水素原子、アルキル
基、アリール基、カルボキシル基、ハロゲン原子或いは
スルホ基を表す。
In the general formulas (I) to (III), R 5 and R
6 , R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a carboxyl group, a halogen atom or a sulfo group.

【0157】本発明に用いられるジヒドロキシベンゼン
系現像主薬としてはハイドロキノン、クロロハイドロキ
ノン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハイドロキ
ノン、ハイドロキノンスルホン酸などがあるが、特にハ
イドロキノンが好ましい。
Examples of the dihydroxybenzene-based developing agent used in the present invention include hydroquinone, chlorohydroquinone, isopropylhydroquinone, methylhydroquinone, and hydroquinonesulfonic acid, with hydroquinone being particularly preferred.

【0158】ジヒドロキシベンゼン系現像主薬量(HQ
モル)と一般式(2)で表される化合物量(Bモル)と
のモル比(B/HQ)は0〜100であることが好まし
く、更に好ましくは50〜100である。
The amount of the dihydroxybenzene-based developing agent (HQ
Mol) and the amount (B mol) of the compound represented by the general formula (2) (B / HQ) are preferably from 0 to 100, more preferably from 50 to 100.

【0159】また現像主薬は、通常0.01〜1.4モ
ル/リットルの量で用いられるのが好ましい。
The developing agent is preferably used usually in an amount of 0.01 to 1.4 mol / liter.

【0160】固体処理剤に用いられる現像剤及び定着剤
の各々のパート顆粒は被覆されていることが好ましい。
被覆に好ましく用いられる糖類又は水溶性高分子化合物
としては、糖アルコール、単糖類(例えばグルコース、
ガラクトースなど)、二糖類(例えばマルトース、スク
ロース、ラクトースなど)、多糖類、ポリアルキレング
リコール、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリド
ン、ポリビニルアセタール、ポリビニルアセテート、ア
ミノアルキルメタクリレート共重合体、メタクリル酸−
メタクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸−アクリ
ル酸エステル共重合体、ベタイン構造を有するビニル重
合体などが挙げられる。この中で好ましいのは、糖アル
コール、多糖類及び下記一般式(G)で示されるポリア
ルキレングリコールである。
Each part granule of the developer and the fixing agent used for the solid processing agent is preferably coated.
Sugars or water-soluble polymer compounds preferably used for coating include sugar alcohols and monosaccharides (eg, glucose,
Galactose, etc.), disaccharides (eg, maltose, sucrose, lactose, etc.), polysaccharides, polyalkylene glycols, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl acetal, polyvinyl acetate, aminoalkyl methacrylate copolymer, methacrylic acid-
Examples include methacrylic acid ester copolymers, methacrylic acid-acrylic acid ester copolymers, and vinyl polymers having a betaine structure. Among these, sugar alcohols, polysaccharides and polyalkylene glycols represented by the following general formula (G) are preferred.

【0161】[0161]

【化61】 Embedded image

【0162】一般式(G)において、l、m、nは各々
0〜1000の整数を表し、l+m+nは10以上であ
る。
In the general formula (G), l, m and n each represent an integer of 0 to 1000, and 1 + m + n is 10 or more.

【0163】糖アルコールとして好ましい具体例として
は、トレイトール、エリスリトール、アラビトール、リ
ビトール、キシリトール、ソルビトール、マンニトー
ル、イジトール、タリトール、ガラクチトール、アロズ
リシトールが挙げられる。
Preferred specific examples of the sugar alcohol include threitol, erythritol, arabitol, ribitol, xylitol, sorbitol, mannitol, iditol, talitol, galactitol, and allozlicitol.

【0164】多糖類として好ましい具体例としては、プ
ルラン、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロ
キシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセ
ルロース、酢酸フタル酸セルロース、ヒドロキシプロピ
ルメチルセルロースフタレート、ヒドロキシプロピルメ
チルセルロースサクシネート、カルボキシメチルエチル
セルロース、デキストリン類、シクロデキストリン類、
澱粉分解物等が挙げられる。
Preferred examples of the polysaccharide include pullulan, methylcellulose, ethylcellulose, hydroxypropylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose, cellulose acetate phthalate, hydroxypropylmethylcellulose phthalate, hydroxypropylmethylcellulose succinate, carboxymethylethylcellulose, dextrins, cyclodextrin Dextrins,
Starch degradation products and the like.

【0165】澱粉分解物として特に好ましいのは、松谷
化学製パインフロー、パインデックスなどが挙げられ
る。
Particularly preferred starch degradation products include Pine Flow and Paindex manufactured by Matsutani Chemical.

【0166】一般式(G)で示される化合物として好ま
しい具体的化合物としては、次のような化合物が挙げら
れる。
Specific examples of preferred compounds represented by formula (G) include the following compounds.

【0167】[0167]

【化62】 Embedded image

【0168】上記化合物中のl、m、nはそれぞれ一般
式(G)のl、m、nと同義である。
In the above compounds, l, m and n have the same meanings as l, m and n in the general formula (G).

【0169】このうち特に好ましいのは、化合物例
(1)で示されるポリエチレングリコールである。ま
た、その平均分子量は1000〜10000であること
が好ましい。具体的には、関東化学製ポリエチレングリ
コール#2000、#4000、#6000などが挙げ
られる。
Of these, polyethylene glycol represented by the compound example (1) is particularly preferred. The average molecular weight is preferably from 1,000 to 10,000. Specific examples include polyethylene glycol # 2000, # 4000, and # 6000 manufactured by Kanto Chemical.

【0170】本発明で好ましく用いられる造粒の方法と
しては、転動造粒、押出造粒、噴流層造粒、流動層造
粒、解砕造粒、撹拌造粒、圧縮造粒などの方法が適用で
きる。また、本発明で糖類又は水溶性高分子化合物を顆
粒に被覆する方法としては、任意の方法で造粒した顆粒
をパンコーティング、転動コーティング、流動コーティ
ングなどで被覆することができる。
The granulation method preferably used in the present invention includes rolling granulation, extrusion granulation, spouted bed granulation, fluidized bed granulation, pulverized granulation, stirring granulation, and compression granulation. Can be applied. In addition, as a method of coating the saccharide or the water-soluble polymer compound on the granules in the present invention, the granules granulated by any method can be coated with pan coating, tumbling coating, fluid coating and the like.

【0171】流動層造粒装置は市販のものが利用でき、
具体的にはパウレック製のマルチプレックスシリーズ、
GPCGシリーズ、WST/WSGシリーズ、不二パウ
ダル製のニューマルメライザーシリーズ、大川原製作所
製のミクスグラードシリーズ、フロイント製スパイラフ
ローシリーズ、フローコーターシリーズ等が挙げられ
る。
A commercially available fluidized bed granulator can be used.
More specifically, Powrex multiplex series,
Examples include the GPCG series, WST / WSG series, Fujimaru's New Malmerizer series, Ogawara's Mixgrade series, Freund's Spiral flow series, and flow coater series.

【0172】一般式(2)で表される化合物とアルカリ
性化合物を含む現像剤パート、又はチオ硫酸塩、チオシ
アン酸塩類の少なくとも1種を含有する定着剤パートか
ら形成される2つのパート顆粒は、局在することなく1
種の成型物中に存在する。該2つのパート顆粒を均一に
混合するには、市販の混合機を用いるが、クロスロータ
リー混合機、又はV型混合機が本発明の効果の点で好ま
しい。
The two-part granules formed from a developer part containing the compound represented by the general formula (2) and an alkaline compound or a fixing part containing at least one of thiosulfates and thiocyanates are 1 without localization
Present in seed moldings. In order to uniformly mix the two part granules, a commercially available mixer is used, but a cross rotary mixer or a V-type mixer is preferable in view of the effects of the present invention.

【0173】前記成型物とは、顆粒、粉末、結晶及びこ
れらの混合物を一定の形に固めたもので、好ましいのは
圧縮により成型することを特徴とするいわゆる錠剤であ
る。錠剤の作製には、市販の単発打錠機、単発複式打錠
機、ロータリー打錠機などが用いられる。打錠する際の
打錠圧としては、0.5〜3ton/cm2が好まし
い。0.5ton/cm2に満たないと輸送時などに微
粉末が発生しやすくなり、3ton/cm2を超えると
保存性、溶解性の効果が小さくなる。
The above-mentioned molded product is obtained by solidifying granules, powders, crystals and a mixture thereof into a predetermined shape, and is preferably a so-called tablet characterized by being molded by compression. For the production of tablets, a commercially available single-shot tableting machine, single-shot double tableting machine, rotary tableting machine and the like are used. The compression pressure at the time of compression is preferably 0.5 to 3 ton / cm 2 . If it is less than 0.5 ton / cm 2 , fine powder is likely to be generated at the time of transportation and the like, and if it exceeds 3 ton / cm 2 , the effects of preservability and solubility are reduced.

【0174】糖類又は水溶性高分子化合物は、被覆され
るパート顆粒の重量に対し0.2重量%〜20重量%で
あることが好ましい。また、各々のパート顆粒の粒径分
布は、149μm以下の粒径の顆粒が各パート顆粒の重
量に対し20重量%以下であることが好ましく、かつ1
000μm以上の粒径の顆粒が各パート顆粒に対して2
0重量%以下であることが好ましい。本発明における粒
径の測定は、JIS規格の篩いを用いた篩い分け法によ
る。即ち、149μm(100mesh)或いは100
0μm(16mesh)の篩いを通過した粉体と不通過
の粉体の重量を測定することにより求める。
The content of the saccharide or the water-soluble polymer compound is preferably 0.2% by weight to 20% by weight based on the weight of the part granules to be coated. Further, the particle size distribution of each part granule is preferably such that granules having a particle size of 149 μm or less are 20% by weight or less based on the weight of each part granule.
Granules having a particle size of 000 μm or more
It is preferably 0% by weight or less. The measurement of the particle size in the present invention is based on a sieving method using a JIS standard sieve. That is, 149 μm (100 mesh) or 100
It is determined by measuring the weight of the powder that has passed through a 0 μm (16 mesh) sieve and the powder that has not passed.

【0175】本発明の感光材料の処理においては、廃液
量の低減の要望から感光材料の面積に比例した一定量の
処理液を補充しながら処理される。本発明において、そ
の処理液補充量は30〜250ml/m2であることが
好ましく、更に好ましくは30〜200ml/m2であ
る。
In the processing of the light-sensitive material of the present invention, the processing is carried out while replenishing a fixed amount of processing liquid in proportion to the area of the light-sensitive material in order to reduce the amount of waste liquid. In the present invention, the processing solution replenishing amount is preferably from 30~250ml / m 2, more preferably from 30 to 200 ml / m 2.

【0176】処理液補充量とは、補充される液の量を示
す。具体的には、現像−定着母液と同じ液を補充する場
合のそれぞれの液の補充量であり、現像−定着濃縮液を
水で希釈した液で補充される場合のそれぞれの濃縮液と
水の合計量であり、固体処理剤を水で溶解した液で補充
される場合のそれぞれの固体処理剤容積と水の容積の合
計量であり、また固体処理剤と水を別々に補充する場合
のそれぞれの固体処理剤容積と水の容積の合計量であ
る。固体処理剤で補充される場合は自動現像機の処理槽
に直接投入する固体処理剤の容積と、別に加える補充水
の容積を合計した量を表すことが好ましい。その現像−
定着補充液はそれぞれ自動現像機のタンク内の現像母液
及び定着母液と同じ液でも、異なった液又は固体処理剤
でも良い。
The processing solution replenishing amount indicates the amount of the replenishing solution. Specifically, this is the replenishment amount of each solution when replenishing the same solution as the developing-fixing mother liquor, and the respective concentrated solution and water when replenishing the developing-fixing concentrated solution with a solution diluted with water. The total amount is the total amount of each solid processing agent volume and water volume when the solid processing agent is replenished with a solution in which the solid processing agent is dissolved in water. Is the total of the volume of the solid processing agent and the volume of water. When replenished with a solid processing agent, it is preferable to express the total amount of the volume of the solid processing agent directly charged into the processing tank of the automatic developing machine and the volume of the replenishing water added separately. The development
The fixing replenisher may be the same as the developing mother liquor and the fixing mother liquor in the tank of the automatic developing machine, or different liquids or solid processing agents.

【0177】固体処理剤の場合、一回に投入される処理
剤の量は0.1〜50gが好ましく、この範囲の固形処
理剤を自動現像機の処理槽に直接投入し、ゆっくり溶解
させながら処理した場合でも写真性能には影響を与えな
い。なぜなら固体処理剤は急激には溶解せずゆっくり溶
解するために一回に添加する量が多くても処理しながら
消費される量と見合った組成にバランスされ、安定した
写真性能を示すからである。補充水を溶解に合わせて注
入することでも写真性能を一定とすることができること
がわかった。処理液は常に処理温度に温調されており、
ほぼ一定の温度に維持されている。即ち溶解スピードは
ほぼ一定であるために計算された固体処理剤の投入と成
分のバランス化が達成される。
In the case of a solid processing agent, the amount of the processing agent to be charged at one time is preferably from 0.1 to 50 g, and the solid processing agent in this range is directly charged into the processing tank of the automatic developing machine and slowly dissolved. Processing does not affect photographic performance. This is because the solid processing agent does not dissolve rapidly but dissolves slowly, so even if the amount added at a time is large, the composition is balanced to the amount consumed during processing and shows stable photographic performance. . It was found that the photographic performance could be kept constant by injecting the replenishing water along with the dissolution. The processing liquid is always adjusted to the processing temperature,
It is maintained at a nearly constant temperature. That is, since the dissolution speed is almost constant, the calculated addition of the solid processing agent and the balance of the components are achieved.

【0178】現像−定着、水洗及び/又は安定化浴の温
度は10〜50℃の間であることが好ましく、それぞれ
が別々に温度調整されていてもよい。
The temperature of the developing-fixing, washing and / or stabilizing bath is preferably between 10 ° C. and 50 ° C., and each may be separately adjusted.

【0179】感光材料の処理においては、現像−定着処
理の後に水洗を行うが、水洗層は処理に応じて新しい水
を毎分数リットルの量で供給する方式でも良いし、水洗
水を循環、薬剤やフィルター、オゾン、光等により処理
して再利用する方式、或いは水洗浴を安定化剤を加えた
安定化浴として処理量に応じて少量の安定化液を補充す
る方式等が用いられる。この工程は通常は常温である
が、30℃から50℃に加温してもよい。また安定化浴
を用いる場合は、水道と直結する必要のない無配管処理
にすることが出来る。また各処理層の前後にはリンス浴
を設けることができる。
In the processing of the light-sensitive material, washing is performed after the development-fixing processing. The washing layer may be a system in which fresh water is supplied at a rate of several liters per minute depending on the processing, or the washing water is circulated, Or a method of reusing after treating with a filter, ozone, light, or the like, or a method of replenishing a small amount of a stabilizing solution in accordance with a treatment amount by using a washing bath as a stabilizing bath with a stabilizer added. This step is usually at room temperature, but it may be heated to 30 ° C to 50 ° C. In addition, when a stabilizing bath is used, it is possible to perform a pipeless treatment that does not need to be directly connected to the water supply. A rinsing bath can be provided before and after each treatment layer.

【0180】自動現像機の乾燥ゾーンでは、通常温風を
用いて乾燥する方式が用いられるが、90℃以上の伝熱
体(例えば90℃〜130℃のヒートローラー等)或い
は150℃以上の輻射物体(例えばタングステン、炭
素、ニクロム、酸化ジルコニウム・酸化イットリウム・
酸化トリウムの混合物、炭化ケイ素などに直接電流を通
して発熱放射させたり、抵抗発熱体から熱エネルギーを
銅、ステンレス、ニッケル、各種セラミックなどの放射
体に伝達させて発熱させたりして赤外線を放出するも
の)で乾燥するゾーンを持つもの、或いは除湿装置、マ
イクロ波発生装置、吸水性樹脂など公知の乾燥手段を備
えたものが含まれる。また、乾燥状態の制御機構を設け
てもよい。
In the drying zone of the automatic developing machine, a method of drying using warm air is usually used. However, a heat transfer material of 90 ° C. or more (for example, a heat roller of 90 ° C. to 130 ° C.) or radiation of 150 ° C. or more is used. Objects (for example, tungsten, carbon, nichrome, zirconium oxide, yttrium oxide,
A substance that emits infrared rays by directly generating heat through a mixture of thorium oxide or silicon carbide and radiating heat, or transferring heat energy from a resistance heating element to a radiator such as copper, stainless steel, nickel, or various ceramics to generate heat and generate infrared rays ), Or those provided with a known drying means such as a dehumidifier, a microwave generator, and a water-absorbent resin. Further, a control mechanism for a dry state may be provided.

【0181】本発明の感光材料に好ましく用いられるハ
ロゲン化銀の平均粒径は0.7μm以下であることが好
ましく、特に0.5〜0.1μmが好ましい。ハロゲン
化銀粒子の形状には制限はなく、平板状、球状、立方体
状、14面体状、正八面体状その他いずれの形状でもよ
い。又、粒径分布は狭い方が好ましく、特に平均粒径の
±40%の粒径域内に全粒子数の90%、望ましくは9
5%が入るような、いわゆる単分散乳剤が好ましい。
The average grain size of the silver halide preferably used in the light-sensitive material of the present invention is preferably 0.7 μm or less, particularly preferably 0.5 to 0.1 μm. The shape of the silver halide grains is not particularly limited, and may be any of a tabular shape, a spherical shape, a cubic shape, a tetradecahedral shape, a regular octahedral shape, and any other shapes. Further, it is preferable that the particle size distribution is narrower, and in particular, 90% of the total number of particles, preferably 9
A so-called monodisperse emulsion containing 5% is preferable.

【0182】乳剤製造方法において可溶性銀塩と可溶性
ハロゲン塩を反応させる形式としては、片側混合法、同
時混合法、それらの組合せなどのいずれを用いてもよ
い。
In the method for producing an emulsion, the method of reacting a soluble silver salt with a soluble halide may be any of a one-side mixing method, a simultaneous mixing method, and a combination thereof.

【0183】粒子を銀イオン過剰の下において形成させ
る方法(いわゆる逆混合法)を用いることもできる。同
時混合法の一つの形式としてハロゲン化銀の生成される
液相中のpAgを一定に保つ方法、即ちいわゆるコント
ロールド・ダブルジェット法を用いることができ、この
方法によると、結晶形が規則的で粒径が均一に近いハロ
ゲン化銀乳剤が得られる。
A method of forming grains in the presence of excess silver ions (so-called reverse mixing method) can also be used. As one type of the double jet method, a method of maintaining a constant pAg in a liquid phase in which silver halide is formed, that is, a so-called controlled double jet method can be used. Thus, a silver halide emulsion having a nearly uniform grain size can be obtained.

【0184】ハロゲン化銀乳剤は粒子を形成する過程又
は成長させる過程の少なくとも1つの過程で、カドミウ
ム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウム塩、ロジ
ウム塩、ルテニウム塩、オスニウム塩、鉄塩、銅塩、白
金塩、パラジウム塩等の周期律表の3族から13族の元
素を含む錯塩を添加することが好ましい。これらの錯塩
の配位子としては、ハロゲン原子、ニトロシル基、シア
ノ基、アコ基、アルキル基、擬ハロゲン基、アルコキシ
基、アンモニウム基、及びこれらの任意の組み合わせな
どを用いることができる。
In the silver halide emulsion, cadmium salt, zinc salt, lead salt, thallium salt, iridium salt, rhodium salt, ruthenium salt, osnium salt, iron salt may be formed in at least one of the steps of forming or growing grains. , Copper salts, platinum salts, palladium salts and the like are preferably added. As a ligand of these complex salts, a halogen atom, a nitrosyl group, a cyano group, an aquo group, an alkyl group, a pseudohalogen group, an alkoxy group, an ammonium group, and any combination thereof can be used.

【0185】またハロゲン化銀粒子の表面は水溶性ハロ
ゲン化物、或いはハロゲン化銀微粒子を用いてハロゲン
組成を制御することができる。この手法は当業界におい
てはコンバージョンといわれ、広く知られている。
On the surface of the silver halide grains, the halogen composition can be controlled by using water-soluble halides or silver halide fine grains. This technique is known in the art as conversion and is widely known.

【0186】ハロゲン化銀粒子は、内部から表面まで均
一であってもよいし、ハロゲン組成、ドープ剤種及び
量、格子欠陥の分布などが異なる複数の層からなってい
てもよい。
The silver halide grains may be uniform from the inside to the surface, or may be composed of a plurality of layers having different halogen compositions, types and amounts of dopants, distributions of lattice defects, and the like.

【0187】ハロゲン化銀乳剤及びその調製方法につい
ては、詳しくはリサーチ・ディスクロージャー(Res
earch Disclosure)176号1764
3,22〜23頁(1978年12月)に記載もしくは
引用された文献に記載されている。
For details of the silver halide emulsion and its preparation method, see Research Disclosure (Res).
(Earth Disclosure) 176 No. 1764
3, pages 22 to 23 (December 1978).

【0188】本発明の感光材料は、一般的に知られてい
る硫黄増感、セレン又はテルル増感、還元増感及び貴金
属増感法などの化学増感法を適宜選択し併用してもよ
い。またこれら化学増感を行わなくてもよい。
The light-sensitive material of the present invention may be appropriately selected from commonly used chemical sensitization methods such as sulfur sensitization, selenium or tellurium sensitization, reduction sensitization and noble metal sensitization. . Further, these chemical sensitizations may not be performed.

【0189】硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれ
る硫黄化合物の他、種々の硫黄化合物、例えばチオ硫酸
塩、チオ尿素類、ローダニン類、ポリスルフィド化合物
等を用いることができる。
As the sulfur sensitizer, various sulfur compounds such as thiosulfates, thioureas, rhodanines, polysulfide compounds and the like can be used in addition to the sulfur compounds contained in gelatin.

【0190】セレン増感剤としては広範な種類のセレン
化合物を使用することができる。有用なセレン増感剤と
してはコロイドセレン金属、イソセレノシアネート類
(例えば、アリルイソセレノシアネート等)、セレノ尿
素類(例えば、N,N−ジメチルセレノ尿素、N,N,
N′−トリエチルセレノ尿素、N,N,N′−トリメチ
ル−N′−ヘプタフルオロセレノ尿素、N,N,N′−
トリメチル−N′−ヘプタフルオロプロピルカルボニル
セレノ尿素、N,N,N′−トリメチル−N′−4−ニ
トロフェニルカルボニルセレノ尿素等)、セレノケトン
類(例えば、セレノアセトン、セレノアセトフェノン
等)、セレノアミド類(例えば、セレノアセトアミド、
N,N−ジメチルセレノベンズアミド等)、セレノカル
ボン酸類及びセレノエステル類(例えば、2−セレノプ
ロピオン酸、メチル−3−セレノブチレート等)、セレ
ノフォスフェート類(例えば、トリ−p−トリセレノフ
ォスフェート等)、セレナイド類(トリフェニルフォス
フィンセレナイド、ジエチルセレナイド、ジエチルジセ
レナイド等)が挙げられる。特に、好ましいセレン増感
剤は、セレノ尿素類、セレノアミド類、及びセレノケト
ン類、セレナイド類が挙げられる。セレン増感剤として
は、トリフェニルセレノホスフィン等が好ましく用いら
れる。
A wide variety of selenium compounds can be used as the selenium sensitizer. Useful selenium sensitizers include colloidal selenium metal, isoselenocyanates (eg, allyl isoselenocyanate, etc.), and selenoureas (eg, N, N-dimethylselenourea, N, N,
N'-triethylselenourea, N, N, N'-trimethyl-N'-heptafluoroselenourea, N, N, N'-
Trimethyl-N'-heptafluoropropylcarbonylselenourea, N, N, N'-trimethyl-N'-4-nitrophenylcarbonylselenourea, selenoketones (eg, selenoacetone, selenoacetophenone, etc.), selenoamides ( For example, selenoacetamide,
N, N-dimethylselenobenzamide, etc.), selenocarboxylic acids and selenoesters (eg, 2-selenopropionic acid, methyl-3-selenobutyrate, etc.), selenophosphates (eg, tri-p-triselenophos) And selenides (such as triphenylphosphine selenide, diethyl selenide and diethyl diselenide). In particular, preferred selenium sensitizers include selenoureas, selenamides, and selenoketones, selenides. As the selenium sensitizer, triphenylselenophosphine and the like are preferably used.

【0191】これらの増感剤の添加方法としては、水溶
性であれば、そのまま添加できるが、水に難溶性の場
合、様々な方法を採用することができる。例えば硫黄増
感剤及び又はセレン増感剤及び又はテルル増感剤を、ゼ
ラチン溶液と予め十分混合して添加する方法がある。或
いは増感剤が溶解する低沸点有機溶媒に溶解後、界面活
性剤存在下で乳化分散して添加する方法も採用できる。
この方法の時は、乳化分散後に低沸点有機溶媒を除去し
た方が好ましい。更に特開平4−140739号に開示
されている方法で、水不溶性でかつ有機溶媒可溶性の重
合体との混合溶液の乳化分散物の形態で添加する方法も
可能である。また、高速インペラー分散、サンドミル分
散、超音波分散、ボールミル分散などにより平均粒子径
が0.01から6μmまで任意に分散する方法も採用で
きる。
As a method for adding these sensitizers, if they are water-soluble, they can be added as they are, but if they are hardly soluble in water, various methods can be adopted. For example, there is a method in which a sulfur sensitizer and / or a selenium sensitizer and / or a tellurium sensitizer are sufficiently mixed in advance with a gelatin solution and then added. Alternatively, a method of dissolving in a low-boiling organic solvent in which a sensitizer is dissolved and then emulsifying and dispersing in the presence of a surfactant to add the sensitizer can also be adopted.
In this method, it is preferable to remove the low-boiling organic solvent after emulsification and dispersion. Further, a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-140739 is also possible in which the compound is added in the form of an emulsified dispersion of a mixed solution with a water-insoluble and organic solvent-soluble polymer. Also, a method of arbitrarily dispersing the average particle diameter from 0.01 to 6 μm by high-speed impeller dispersion, sand mill dispersion, ultrasonic dispersion, ball mill dispersion, or the like can be adopted.

【0192】貴金属増感法のうち金増感法はその代表的
なもので、金化合物、主として金錯塩を用いる。金以外
の貴金属、例えば白金、パラジウム、ロジウム等の錯塩
を含有しても差支えない。還元増感剤としては第一錫
塩、アミン類、ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化
合物などを用いることができる。
The gold sensitization method is a typical one of the noble metal sensitization methods, and uses a gold compound, mainly a gold complex salt. Noble metals other than gold, for example, complex salts such as platinum, palladium, and rhodium may be contained. Stannous salts, amines, formamidinesulfinic acid, silane compounds and the like can be used as the reduction sensitizer.

【0193】また、本発明においては、感光材料の製造
工程において銀に対する酸化剤を使用することができ
る。用いることができる酸化剤としては無機酸化剤とし
て例えば、過酸化水素(水)、過酸化水素の付加物(例
えばNaBO2・H22・3H2O、2NaCO3・3H2
2、Na427・2H22、2Na2SO4・H22
2H2Oなど)、ペルオキシ酸塩(例えばK228、K
226、K428など)、ペルオキシ錯体化合物(例
えばK2[Ti(O2)C24]・3H2O、4K2SO4
・Ti(O2)・OH・SO4・2H2O、Na2[VO
(O2)(C24)]2・6H2Oなど)、過マンガン酸
塩(例えばKMnO4など)、クロム酸塩(例えばK2
rOなど)などの酸素酸塩、沃度や臭素などのハロゲン
元素、過ハロゲン酸塩(例えば過沃素酸カリウム)、高
原子価の金属塩(例えばフェリシアン化カリウムなど)
及びチオスルフォン酸塩などがある。
In the present invention, an oxidizing agent for silver can be used in the production process of the photosensitive material. Examples of the oxidizing agent that can be used include inorganic oxidizing agents such as hydrogen peroxide (water) and hydrogen peroxide adducts (eg, NaBO 2 .H 2 O 2 .3H 2 O, 2NaCO 3 .3H 2)
O 2, Na 4 P 2 O 7 · 2H 2 O 2, 2Na 2 SO 4 · H 2 O 2 ·
2H 2 O, etc.), peroxy acid salts (eg, K 2 S 2 O 8 , K
2 C 2 O 6, K 4 P like 2 O 8), peroxy complex compounds (e.g., K 2 [Ti (O 2) C 2 O 4] · 3H 2 O, 4K 2 SO 4
・ Ti (O 2 ) ・ OH ・ SO 4・ 2H 2 O, Na 2 [VO
(O 2 ) (C 2 O 4 )] 2.6H 2 O, permanganate (eg, KMnO 4 ), chromate (eg, K 2 C)
oxyacids such as rO), halogen elements such as iodine and bromine, perhalates (eg, potassium periodate), and high-valent metal salts (eg, potassium ferricyanide)
And thiosulfonates.

【0194】また、有機酸化剤としては、p−キノンな
どのキノン類、過酢酸や過安息香酸などの有機過酸化
物、活性ハロゲンを放出する化合物(例えばN−ブロム
サクシンイミド、クロラミンT、クロラミンBなど)が
例として挙げられる。
Examples of the organic oxidizing agent include quinones such as p-quinone, organic peroxides such as peracetic acid and perbenzoic acid, and compounds that release active halogen (eg, N-bromosuccinimide, chloramine T, chloramine). B, etc.).

【0195】特に好ましい酸化剤は、オゾン、過酸化水
素及びその付加物、ハロゲン元素の無機酸化剤、キノン
類及び活性ハロゲンを放出する有機酸化剤である。
Particularly preferred oxidizing agents are ozone, hydrogen peroxide and its adducts, inorganic oxidizing agents for halogen elements, quinones and organic oxidizing agents which release active halogens.

【0196】酸化剤の添加量はハロゲン化銀1モル当た
り、10-7〜10-1モル添加するのが好ましい。更に好
ましいのは10-6〜10-2モルであり、特に好ましいの
は10-5〜10-3モルである。
The oxidizing agent is preferably added in an amount of 10 -7 to 10 -1 mol per mol of silver halide. More preferred is 10 -6 to 10 -2 mol, and particularly preferred is 10 -5 to 10 -3 mol.

【0197】本発明の感光材料は増感色素により所望の
波長に分光増感できる。用いることができる増感色素に
は、シアニン、メロシアニン、複合シアニン、複合メロ
シアニン、ホロポーラーシアニン、ヘミシアニン、スチ
リル色素及びヘミオキソノール色素などが包含される。
これらの色素には、塩基性異節環核としてシアニン色素
類に通常利用される核のいずれをも適用できる。即ち、
ピロリン核、オキサゾリン核、チアゾリン核、ピロール
核、オキサゾール核、チアゾール核、セレナゾール核、
イミダゾール核、テトラゾール核、ピリジン核など、こ
れらの核に脂環式炭化水素環が融合した核、及びこれら
の核に芳香炭化水素環が融合した核、即ち、インドレニ
ン核、ベンズインドレニン核、インドール核、ベンズオ
キサゾール核、ナフトオキサゾール核、ベンゾチアゾー
ル核、ナフトチアゾール核、ベンゾセレナゾール核、ベ
ンズイミダゾール核、キノリン核などが適用できる。こ
れらの核は炭素原子上に置換されていてもよい。
The light-sensitive material of the present invention can be spectrally sensitized to a desired wavelength by a sensitizing dye. Sensitizing dyes that can be used include cyanine, merocyanine, complex cyanine, complex merocyanine, holopolar cyanine, hemicyanine, styryl dye, hemioxonol dye, and the like.
Any of nuclei generally used as basic heterocyclic nuclei in cyanine dyes can be applied to these dyes. That is,
Pyrroline nucleus, oxazoline nucleus, thiazoline nucleus, pyrrole nucleus, oxazole nucleus, thiazole nucleus, selenazole nucleus,
Imidazole nucleus, tetrazole nucleus, pyridine nucleus, etc., these nuclei are fused with an alicyclic hydrocarbon ring, and these nuclei are fused with an aromatic hydrocarbon ring, that is, indolenine nucleus, benzindolenin nucleus Indole nucleus, benzoxazole nucleus, naphthoxazole nucleus, benzothiazole nucleus, naphthothiazole nucleus, benzoselenazole nucleus, benzimidazole nucleus, quinoline nucleus and the like can be applied. These nuclei may be substituted on carbon atoms.

【0198】メロシアニン又は複合メロシアニンにはケ
トメチレン構造を有する核として、ピラゾリン−5−オ
ン核、チオヒダントイン核、2−チオオキサゾリジン−
2,4−ジオン核、チアゾリジン−2,4−ジオン核、
ローダニン核、チオバルビツール酸核などの5〜6員異
節環を適用することができる。具体的には、リサーチ・
ディスクロージャー(RD)17643(1978年1
2月号)第2〜3頁、米国特許4,425,425号、
同4,425,426号に記載されているものを用いる
ことができる。また増感色素は米国特許3,485,6
34号に記載されている超音波振動を用いて溶解しても
よい。
The merocyanine or the complex merocyanine includes a pyrazolin-5-one nucleus, a thiohydantoin nucleus and a 2-thiooxazolidine-nucleus as nuclei having a ketomethylene structure.
2,4-dione nucleus, thiazolidine-2,4-dione nucleus,
A 5- to 6-membered heterocyclic ring such as a rhodanine nucleus and a thiobarbituric acid nucleus can be applied. Specifically, research and
Disclosure (RD) 17643 (1978/1
February issue) page 2-3, U.S. Pat. No. 4,425,425,
No. 4,425,426 can be used. The sensitizing dye is disclosed in U.S. Pat.
The dissolution may be performed by using ultrasonic vibration described in No. 34.

【0199】これらの増感色素は単独に用いてもよい
が、それらの組み合わせを用いてもよく、増感色素の組
み合わせは特に強色増感の目的でしばしば用いられる。
有用な強色増感を示す色素の組み合わせ及び強色増感を
示す物質は(RD)17643)第23頁IVのJ項に
記載されている。
These sensitizing dyes may be used alone or in combination, and the combination of sensitizing dyes is often used particularly for supersensitization.
Useful supersensitizing dye combinations and supersensitizing substances are described in (RD) 17643), page 23, IV, J.

【0200】本発明の感光材料は感光材料の製造工程、
保存中或いは写真処理中のカブリを防止し、或いは写真
性能を安定化させる目的で、種々の化合物を含有させる
ことができる。即ちアゾール類(例えばベンゾチアゾリ
ウム塩)、ニトロインダゾール類、ニトロベンズイミダ
ゾール類、クロロベンズイミダゾール類、ブロモベンズ
イミダゾール類、メルカプトチアゾール類、メルカプト
ベンゾチアゾール類、メルカプトベンズイミダゾール
類、メルカプトチアジアゾール類、アミノトリアゾール
類、ベンゾトリアゾール類、ニトロベンゾトリアゾール
類、メルカプトテトラゾール類(特に1−フェニル−5
−メルカプトテトラゾール等)、メルカプトピリミジン
類、メルカプトトリアジン類(例えば、オキサゾリンチ
オンのようなチオケト化合物等)、アザインデン類(例
えば、トリアザインデン類、テトラザインデン類(特
に、4−ヒドロキシ置換−1,3,3a,7−テトラザ
インデン類)、ペンタザインデン類等、ベンゼンチオス
ルホン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼンスルホン酸
アミド、臭化カリウム等のようなカブリ防止剤又は安定
剤として知られた多くの化合物を加えることができる。
特に好ましくは、N、O、S、Seのいずれかを含む置
換、無置換の複素環或いは複素縮合環、水溶性ハロゲン
化物である。
The light-sensitive material of the present invention can be prepared by the following steps:
Various compounds can be incorporated for the purpose of preventing fog during storage or photographic processing or stabilizing photographic performance. That is, azoles (eg, benzothiazolium salts), nitroindazoles, nitrobenzimidazoles, chlorobenzimidazoles, bromobenzimidazoles, mercaptothiazoles, mercaptobenzothiazoles, mercaptobenzimidazoles, mercaptothiadiazoles, amino Triazoles, benzotriazoles, nitrobenzotriazoles, mercaptotetrazoles (especially 1-phenyl-5
-Mercaptotetrazole, etc.), mercaptopyrimidines, mercaptotriazines (e.g., thioketo compounds such as oxazolinethione), azaindenes (e.g., triazaindenes, tetrazaindenes (especially 4-hydroxy-substituted-1, 3,3a, 7-tetrazaindenes), pentazaindenes and the like, many of which are known as antifoggants or stabilizers such as benzenethiosulfonic acid, benzenesulfinic acid, benzenesulfonic acid amide, potassium bromide and the like. Can be added.
Particularly preferred are a substituted or unsubstituted heterocyclic or fused heterocyclic ring containing any of N, O, S and Se, and a water-soluble halide.

【0201】写真乳剤層及び非感光性の親水性コロイド
には、無機又は有機の硬膜剤を含有してよい。例えばク
ロム塩(クロム明礬、酢酸クロム等)、アルデヒド類
(ホルムアルデヒド、グリオキザール、グルタルアルデ
ヒド等)、N−メチロール化合物(ジメチロール尿素、
メチロールジメチルヒダントイン等)、ジオキサン誘導
体(2,3−ジヒドロキシジオキサン等)、活性ビニル
化合物(1,3,5−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ
−s−トリアジン、ビス(ビニルスルホニル)メチルエ
ーテル、N,N′−メチレンビス−〔β−(ビニルスル
ホニル)プロピオンアミド〕等)、活性ハロゲン化合物
(2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン
等)、ムコハロゲン酸類(ムコクロル酸、フェノキシム
コクロル酸等)イソオキサゾール類、ジアルデヒド澱
粉、2−クロロ−6−ヒドロキシトリアジニル化ゼラチ
ン、イソシアネート類、カルボキシル基活性型硬膜剤等
を、単独又は組み合わせて用いることができる。
The photographic emulsion layer and the non-photosensitive hydrophilic colloid may contain an inorganic or organic hardener. For example, chromium salts (chromium alum, chromium acetate, etc.), aldehydes (formaldehyde, glyoxal, glutaraldehyde, etc.), N-methylol compounds (dimethylol urea,
Methylol dimethylhydantoin, etc.), dioxane derivatives (2,3-dihydroxydioxane, etc.), active vinyl compounds (1,3,5-triacryloyl-hexahydro-s-triazine, bis (vinylsulfonyl) methyl ether, N, N'- Methylenebis- [β- (vinylsulfonyl) propionamide], etc., active halogen compounds (2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine, etc.), mucohalic acids (mucochloric acid, phenoxymucochloric acid, etc.) isoxazole , Dialdehyde starch, 2-chloro-6-hydroxytriazinylated gelatin, isocyanates, carboxyl group-activated hardeners and the like can be used alone or in combination.

【0202】乳剤層及び/又は非感光性の親水性コロイ
ド層には、塗布助剤、帯電防止、滑り性改良、乳化分
散、接着防止及び写真特性改良など種々の目的で種々の
公知の界面活性剤を用いてもよい。
The emulsion layer and / or the non-photosensitive hydrophilic colloid layer may contain various known surfactants for various purposes such as coating aids, antistatic, slipperiness improvement, emulsification dispersion, adhesion prevention and photographic property improvement. An agent may be used.

【0203】写真乳剤の結合剤又は保護コロイドとして
はゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水
性コロイドも用いることができる。例えばゼラチン誘導
体、ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アル
ブミン、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロ
ース、カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エ
ステル類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ナトリ
ウム、澱粉誘導体などの糖誘導体;ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−
ビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル
酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポ
リビニルピラゾール等の単一或いは共重合体の如き多種
の合成親水性高分子物質を用いることができる。
It is advantageous to use gelatin as the binder or protective colloid of the photographic emulsion, but other hydrophilic colloids can also be used. For example, gelatin derivatives, graft polymers of gelatin and other polymers, proteins such as albumin and casein; cellulose derivatives such as hydroxyethylcellulose, carboxymethylcellulose and cellulose sulfates; sugar derivatives such as sodium alginate and starch derivatives; polyvinyl alcohol , Polyvinyl alcohol partial acetal, poly-N-
Various kinds of synthetic hydrophilic high-molecular substances such as homo- or copolymers such as vinylpyrrolidone, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylimidazole, and polyvinylpyrazole can be used.

【0204】ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの他、
酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、
ゼラチン酵素分解物も用いることができる。
As the gelatin, in addition to the lime-processed gelatin,
Acid-treated gelatin may be used, gelatin hydrolyzate,
Enzymatic degradation products of gelatin can also be used.

【0205】写真乳剤には、寸度安定性の改良、銀スラ
ッジの低減などの目的で水不溶又は難溶性合成ポリマー
の分散物を含むことができる。例えばアルキル(メタ)
アクリレート、アルコキシアクリル(メタ)アクリレー
ト、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリ
ルアミド、ビニルエステル(例えば酢酸ビニル)、アク
リロニトリル、オレフィン、スチレンなどの単独もしく
は組合せ、又はこれらとアクリル酸、メタクリル酸、
α,β−不飽和ジカルボン酸、ヒドロキシアルキル(メ
タ)アクリレート、スルホアルキル(メタ)アクリレー
ト、スチレンスルホン酸等の組合せを単量体成分とする
ポリマーを用いることができる。また複数のエチレン性
不飽和基を有するモノマーを単量体成分として用いても
よい。これらのモノマーには水酸基、スルホン基、カル
ボキシル基、アミド基等の水溶性基を有してもよく、ま
た1から4級のアミノ基、ホスホニウム基、脂肪族、芳
香族、−NR1NR2−R3(R1、R2、R3は互いに異な
っていてもよい水素原子、脂肪族基、、芳香族基、スル
フィン酸残基、カルボニル基、オキサリル基、カルバモ
イル基、アミノ基、スルホニル基、スルホキシ基、イミ
ノメチレン基、アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオ
キシ基、アリールオキシ基等を介して結合する任意の
基)、カチオン基等を有していてもよい。合成方法とし
ては、通常の合成方法の他、ゼラチンやポリビニルアル
コール類等の水溶性有機物の存在下で重合してもよい。
また合成の終了後、ゼラチンやシランカップリング剤で
シェリングしてもよい。
The photographic emulsion may contain a dispersion of a water-insoluble or poorly-soluble synthetic polymer for the purpose of improving dimensional stability, reducing silver sludge, and the like. For example, alkyl (meth)
Acrylate, alkoxyacryl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, vinyl ester (for example, vinyl acetate), acrylonitrile, olefin, styrene or the like alone or in combination, or acrylic acid, methacrylic acid,
A polymer having a combination of α, β-unsaturated dicarboxylic acid, hydroxyalkyl (meth) acrylate, sulfoalkyl (meth) acrylate, styrenesulfonic acid and the like as a monomer component can be used. Further, a monomer having a plurality of ethylenically unsaturated groups may be used as a monomer component. These monomers may have a water-soluble group such as a hydroxyl group, a sulfone group, a carboxyl group, and an amide group, and may have a primary to quaternary amino group, a phosphonium group, an aliphatic group, an aromatic group, -NR 1 NR 2 —R 3 (R 1 , R 2 and R 3 may be different from each other; a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a sulfinic acid residue, a carbonyl group, an oxalyl group, a carbamoyl group, an amino group, a sulfonyl group , A sulfoxy group, an iminomethylene group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxy group, an alkenyloxy group, an alkynyloxy group, an arbitrary group bonded via an aryloxy group, etc.), a cation group, etc. Is also good. As a synthesis method, in addition to a usual synthesis method, polymerization may be performed in the presence of a water-soluble organic substance such as gelatin or polyvinyl alcohols.
After completion of the synthesis, shelling may be performed with gelatin or a silane coupling agent.

【0206】本発明の感光材料には、その他の種々の添
加剤が用いられる。例えば、減感剤、可塑剤、滑り剤、
現像促進剤、オイル、コロイド状シリカなどが挙げられ
る。
In the light-sensitive material of the present invention, various other additives are used. For example, desensitizers, plasticizers, slip agents,
Development accelerators, oils, colloidal silica and the like can be mentioned.

【0207】これらの添加剤及び前述の添加剤について
具体的には、前記(RD)17643号22〜31頁な
どに記載されたものを用いることができる。
As these additives and the above-mentioned additives, those described in (RD) No. 17643, pp. 22 to 31, etc. can be used.

【0208】本発明の感光材料において、写真構成層は
感光材料に通常用いられる可撓性支持体の片面に塗布さ
れる。可撓性支持体として有用なものは、酢酸セルロー
ス、酢酸酪酸セルロース、ポリスチレン、ポリエチレン
テレフタレート、ポエチレンテレナフタレートの合成高
分子から成るフィルム(これらは有色の顔料を含んでい
てよい)、或いはポリエチレンやポリエチレンテレフタ
レート等の高分子でコーティングされた紙支持体等であ
る。これらの支持体は磁気記録層、帯電防止層、剥離層
を有していてもよい。
In the light-sensitive material of the present invention, the photographic constituent layer is coated on one side of a flexible support usually used for the light-sensitive material. Useful as flexible supports are films of synthetic polymers of cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, polystyrene, polyethylene terephthalate, polyethylene terephthalate (which may contain colored pigments) or polyethylene or Paper supports and the like coated with a polymer such as polyethylene terephthalate. These supports may have a magnetic recording layer, an antistatic layer, and a release layer.

【0209】[0209]

【実施例】以下、本発明を実施例にて具体的に説明する
が、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではな
い。
EXAMPLES The present invention will be described below in more detail with reference to Examples, but the embodiments of the present invention are not limited thereto.

【0210】実施例1 (ハロゲン化銀乳剤A1の調製)同時混合法を用いて塩
化銀70モル%、残りは臭化銀を有する平均直径0.0
9μmの塩臭化銀コア粒子を調製した。コア粒子調製時
にK3Rh(NO)4(H2O)2を銀1モル当たり粒子形
成終了時の銀1モルに対して80μgの存在下に40
℃、pH3.0、銀電位(EAg)165mVに保ちな
がら硝酸銀水溶液と水溶性ハライド溶液を同時混合し
た。このコア粒子に、EAgを食塩で125mVに下げ
て同時混合法を用いてシェルを付けた。その際ハライド
液にK3RhCl6を銀1モルに対して20μg添加し
た。更に沃化銀微粒子を用いてKIコンバージョンを行
い、得られた乳剤は平均直径0.15μmのコア/シェ
ル型単分散(変動係数10%)の塩沃臭化銀(塩化銀7
0モル%、沃臭化銀0.2モル%、残りは臭化銀からな
る)立方晶の乳剤であった。ついで特開平2−2801
39号に記載の変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基を
フェニルカルバミルで置換したもので例えば特開平2−
280139号287(3)頁の例示化合物G−8)を
使い脱塩した。脱塩後のEAgは50℃で190mVあ
った。
[0210] Example 1 (Preparation of Silver Halide Emulsion A 1) co-precipitation method 70 mol% of silver chloride with an average diameter rest has a silver bromide 0.0
9 μm silver chlorobromide core particles were prepared. At the time of preparation of the core particles, K 3 Rh (NO) 4 (H 2 O) 2 was added in an amount of 40 μg per mol of silver to 1 mol of silver at the end of grain formation in the presence of 80 μg.
An aqueous silver nitrate solution and a water-soluble halide solution were simultaneously mixed while maintaining the same at ℃, pH 3.0, and silver potential (EAg) 165 mV. The core particles were shelled using a double jet method with EAg reduced to 125 mV with saline. At that time, 20 μg of K 3 RhCl 6 was added to the halide solution per 1 mol of silver. Further, KI conversion was performed using silver iodide fine particles, and the obtained emulsion was a core / shell type monodisperse (coefficient of variation: 10%) silver chloroiodobromide (silver chloride 7) having an average diameter of 0.15 μm.
0 mol%, silver iodobromide 0.2 mol%, and the remainder was silver bromide). Then, JP-A-2-2801
No. 39 (denatured gelatin wherein amino groups in the gelatin are substituted with phenylcarbamyl).
The salt was desalted using Exemplified compound G-8) on page 287 (3) of No. 280139. The EAg after desalting was 190 mV at 50 ° C.

【0211】得られた乳剤に臭化カリウムを銀1モルに
対して100mg及びクエン酸を添加してpH5.6、
EAg123mVに調整してN−クロロ−p−トルエン
スルホンアミドナトリウム3水和物(クロラミンT)を
銀1モルに対して170mg添加して反応させた。そし
て、固体分散した無機硫黄(S8)化合物(分散機PM
−1200セイシン企業(株)製を用いてサポニンを加
えて平均0.5μmに分散したもの)を銀1モルに対し
て0.6mg及び塩化金酸6mgを添加して温度55℃
で120分化学熟成を行った後、40℃で下記増感色素
d−1を200mg、d−10を150mg添加し、4
−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラ
ザインデンを銀1モルあたり600mg、1−フェニル
−5−メルカプトテトラゾールを20mg及び沃化カリ
ウムを300mg添加したのちクエン酸でpHを5.1
に調整し、ハロゲン化銀乳剤A1を得た。
To the obtained emulsion, potassium bromide (100 mg per mol of silver) and citric acid were added to adjust the pH to 5.6.
The EAg was adjusted to 123 mV, and 170 mg of sodium N-chloro-p-toluenesulfonamide trichloride (chloramine T) was added to 1 mol of silver for reaction. Then, a solid-dispersed inorganic sulfur (S8) compound (dispersing machine PM
-200 mg of saponin added and dispersed to an average of 0.5 µm using Seishin Enterprise Co., Ltd.) in an amount of 0.6 mg per mol of silver and 6 mg of chloroauric acid.
After 120 minutes of chemical ripening at 200 ° C., 200 mg of the following sensitizing dye d-1 and 150 mg of d-10 were added at 40 ° C.
After adding 600 mg of 1-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene per mol of silver, 20 mg of 1-phenyl-5-mercaptotetrazole and 300 mg of potassium iodide, the pH was adjusted to 5 with citric acid. .1
It was adjusted to give the silver halide emulsion A 1.

【0212】[0212]

【化63】 Embedded image

【0213】(He−Neレーザー光源用印刷製版スキ
ャナー用感光材料の調製)支持体上に、下記の処方1の
ゼラチン下塗層をゼラチン量が0.3g/m2になるよ
うに、更にその上層に処方2のハロゲン化銀乳剤層を銀
量3.3g/m2、ゼラチン量が1g/m2になるよう
に、更に下記処方3の保護層塗布液をゼラチン量が1.
0g/m2になるように、カーテン塗布方式で200m
/minの速さで乳剤層側を同時塗布し、−1℃で冷却
セット、乾燥した。また、乳剤層側の反対側の下引層上
には下記処方4のバッキング層をゼラチン量が1.5g
/m2になるように、その上に下記処方5のバッキング
保護層をゼラチン量が0.8g/m2になるように乳剤
層側とカーテン塗布方式で200m/minの速さでバ
ッキング層側を同時重層塗布し−1℃で冷却セット、乾
燥し、試料No.11〜19を得た。
(Preparation of photosensitive material for printing plate making scanner for He-Ne laser light source) On a support, a gelatin subbing layer of the following formula 1 was further prepared so that the amount of gelatin became 0.3 g / m 2. The silver halide emulsion layer of Formula 2 was formed on the upper layer so that the amount of silver was 3.3 g / m 2 , and the amount of gelatin was 1 g / m 2 .
200m by curtain coating method so that it becomes 0g / m 2
The emulsion layer side was simultaneously coated at a rate of / min, cooled at -1 ° C, and dried. On the undercoat layer on the side opposite to the emulsion layer side, a backing layer of the following formulation 4 was prepared with 1.5 g of gelatin.
/ M 2, and a backing protective layer of the following formulation 5 on the emulsion layer side and the backing layer side at a speed of 200 m / min by a curtain coating method so that the amount of gelatin becomes 0.8 g / m 2. At the same time, and cooled and set at -1 ° C, and dried. 11-19 were obtained.

【0214】 処方1(ゼラチン下塗層) ゼラチン 0.3g/m2 殺菌剤Z 0.5mg/m2 固体分散染料1−25 30mg/m2 化合物t−5 10mg/m2 処方2(ハロゲン化銀乳剤層の組成) ハロゲン化銀乳剤A1 銀量3.3g/m2相当量 ヒドラジン化合物 例示H−30 10mg/m2 アミン化合物 表1に記載 界面活性剤S1 1.7mg/m2 DBS(ドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウム) 50mg/m2 2−メルカプトヒポキサンチン 2mg/m2 ニコチン酸アミド 1mg/m2 没食子酸n−プロピルエステル 50mg/m2 メルカプトピリミジン 1mg/m2 EDTA(エチレンジアミン4酢酸・2Na) 50mg/m2 ポリマーラテックスL1 0.25g/m2 複合ラテックスL6 1.0g/m2 染料k 10mg/m2 ゼラチンはフタル化ゼラチンを用い塗布液pHは4.8
であった。
Formulation 1 (Gelatin Undercoat Layer) Gelatin 0.3 g / m 2 Fungicide Z 0.5 mg / m 2 Solid Disperse Dye 1-25 30 mg / m 2 Compound t-5 10 mg / m 2 Formula 2 (Halogenated Composition of silver emulsion layer) Silver halide emulsion A 1 silver amount 3.3 g / m 2 equivalent hydrazine compound Exemplified H-30 10 mg / m 2 amine compound described in Table 1 Surfactant S1 1.7 mg / m 2 DBS ( Sodium dodecylbenzenesulfonate) 50 mg / m 2 2-mercaptohypoxanthine 2 mg / m 2 Nicotinamide 1 mg / m 2 Gallic acid n-propyl ester 50 mg / m 2 Mercaptopyrimidine 1 mg / m 2 EDTA (ethylenediaminetetraacetic acid · 2Na) 50 mg / m 2 polymer latex L1 0.25 g / m 2 composite latex L6 1.0 g / m 2 dye k 10 mg / 2 gelatin coating solution pH using phthalated gelatin 4.8
Met.

【0215】 処方3(乳剤保護層組成) ゼラチン 1.0g/m2 界面活性剤S1 12mg/m2 マット剤:平均粒径3.5μmの球状ポリメチルメタクリレート 15mg/m2 マット剤:平均粒径8μm不定形シリカ 13mg/m 界面活性剤S1 30mg/m2 界面活性剤b 20mg/m2 滑り剤(シリコーンオイル) 10mg/m2 化合物p 15mg/m2 複合ラテックスL6 0.3g/m2 1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノール 40mg/m2 硬膜剤h4 60mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 殺菌剤Z 0.5mg/m2 KBr 20mg/m2 2−メルカプトヒポキサンチン 15mg/m2 処方4(バッキング層組成) ゼラチン 1.5g/m2 界面活性剤S1 5mg/m2 ポリマーラテックスL3 0.3g/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 100mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 染料f1 65mg/m2 染料f2 15mg/m2 染料f3 100mg/m2 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 10mg/m2 硬膜剤h3 100mg/m2 水酸化亜鉛 15mg/m2 EDTA 50mg/m2 処方5(バッキング保護層) ゼラチン 0.8g/m2 マット剤:平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート 50mg/m2 マット剤:平均粒径3μm不定形シリカ 12.5mg/m2 ソジウム−ジ−(2−エチルヘキシル)−スルホサクシネート 10mg/m2 界面活性剤S1 1mg/m2 染料f1 65mg/m2 染料f2 15mg/m2 染料f3 100mg/m2 界面活性剤b 20mg/m2 KBr 20mg/m2 硬膜剤h2 20mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m Formulation 3 (Emulsion protective layer composition) Gelatin 1.0 g / m 2 Surfactant S1 12 mg / m 2 matting agent: spherical polymethyl methacrylate having an average particle size of 3.5 μm 15 mg / m 2 matting agent: average particle size 8 μm amorphous silica 13 mg / m 2 Surfactant S1 30 mg / m 2 Surfactant b 20 mg / m 2 Sliding agent (silicone oil) 10 mg / m 2 Compound p 15 mg / m 2 Composite latex L6 0.3 g / m 2 1 , 3-vinylsulfonyl-2-propanol 40 mg / m 2 Hardener h4 60 mg / m 2 Sodium polystyrene sulfonate 10 mg / m 2 Fungicide Z 0.5 mg / m 2 KBr 20 mg / m 2 2-Mercaptohypoxanthine 15 mg / m 2 formulation 4 (backing layer composition) gelatin 1.5 g / m 2 surfactant S1 5 mg / m 2 polymer latex L 0.3 g / m 2 Colloidal silica (average particle size 0.05μm) 100mg / m 2 of sodium polystyrenesulfonate 10 mg / m 2 Dye f1 65 mg / m 2 Dye f2 15 mg / m 2 Dye f3 100mg / m 2 1- phenyl - 5-mercaptotetrazole 10 mg / m 2 Hardener h3 100 mg / m 2 Zinc hydroxide 15 mg / m 2 EDTA 50 mg / m 2 Prescription 5 (backing protective layer) Gelatin 0.8 g / m 2 Matting agent: average particle size 5 μm Monodispersed polymethyl methacrylate 50 mg / m 2 matting agent: average particle size 3 μm amorphous silica 12.5 mg / m 2 sodium-di- (2-ethylhexyl) -sulfosuccinate 10 mg / m 2 surfactant S1 1 mg / m 2 dyes f1 65 mg / m 2 dye f2 15 mg / m 2 dye f3 100 mg / m 2 surfactant b 20 m / M 2 KBr 20mg / m 2 hardener h2 20 mg / m 2 Sodium polystyrenesulfonate 10 mg / m 2

【0216】[0216]

【化64】 Embedded image

【0217】[0219]

【化65】 Embedded image

【0218】[0218]

【化66】 Embedded image

【0219】このようにして得られた試料を、光源とし
て633nmのHe−Neレーザーを用いたレーザー感
光計で1.5×10−7秒で光量変化しながらステップ
露光を行い、コニカ(株)製自動現像機GR−26SR
を改造し一浴処理が可能としたものを用いて(現像―定
着処理槽35L)、感光材料1m2当たり処理液250
mlを補充しながら下記処方の処理剤を用いて下記条件
で処理した。得られた現像済みの試料について濃度計P
DA−65(コニカ[株]製)で黒化濃度を測定した。
The sample thus obtained was subjected to step exposure by a laser sensitometer using a 633 nm He-Ne laser as a light source while changing the light amount in 1.5 × 10 −7 seconds, and Konica Corporation Automatic developing machine GR-26SR
Using what was possible remodeled Ichiyoku processing (development - fixing processing tank 35L), the photosensitive material 1 m 2 per treatment liquid 250
The mixture was treated under the following conditions using a treating agent having the following formulation while replenishing ml. A densitometer P is used for the obtained developed sample.
The blackening density was measured with DA-65 (manufactured by Konica Corporation).

【0220】ランニング開始時と感光材料を200m2
処理(黒化率50%:未露光試料1枚と全面露光試料1
枚を交互に処理)したランニング後の試料について下記
評価をした。
At the start of running and when the photosensitive material is 200 m 2
Treatment (blackening ratio 50%: one unexposed sample and one sample exposed entirely)
The following evaluation was performed on the samples after running in which the sheets were alternately processed).

【0221】 (一浴処理用処理剤の作製) 処理液Aの作製(1リットル分) 亜硫酸ナトリウム 25g 炭酸ナトリウム 11.2g 1−フェニル−4−ヒドロキシエチル−4−メチル−3−ピラゾリドン 0.7g KBr 2g ジエチレントリアミン5酢酸・5Na 3g ベンゾトリアゾール 0.26g ハイドロキノン 30g マンニット 10g 一般式(1)の化合物 表1に記載 処理液Bの作製(1リットル分) 亜硫酸ナトリウム 15g 炭酸ナトリウム 10g チオ硫酸アンモニウム 56.8g 酢酸ナトリウム 18.5g マンニット 10g 粉末ソルビット 5g 以上、得られた処理液A、Bのそれぞれを5リットル分
ずつ市販のロータリー混合機で混合し、100リットル
分を作製した。
(Preparation of treatment agent for one-bath treatment) Preparation of treatment liquid A (for one liter) Sodium sulfite 25 g Sodium carbonate 11.2 g 1-phenyl-4-hydroxyethyl-4-methyl-3-pyrazolidone 0.7 g KBr 2 g Diethylenetriaminepentaacetic acid / 5Na 3 g Benzotriazole 0.26 g Hydroquinone 30 g Mannit 10 g Compound of general formula (1) described in Table 1 Preparation of treatment liquid B (for 1 liter) Sodium sulfite 15 g Sodium carbonate 10 g 56.8 g ammonium thiosulfate Sodium acetate 18.5 g Mannit 10 g Powder sorbite 5 g Each of the above-mentioned treatment liquids A and B was mixed with a commercially available rotary mixer in an amount of 5 liter each to prepare 100 liters.

【0222】この様にして出来た処理液の内の35リッ
トル分を用いて現像−定着母液とした。
A developing-fixing mother liquor was prepared using 35 liters of the processing solution thus prepared.

【0223】 処理条件 処理 温度(℃) 時間(秒) 補充量(ml/m2) 現像−定着 35 30 250 水洗 35 30 乾燥 48 20 (感度の評価)得られた現像済み試料を濃度計PDA−
65(コニカ[株]製)で測定した。
Processing Conditions Processing Temperature (° C.) Time (second) Replenishment Rate (ml / m 2 ) Development-Fixing 35 30 250 Washing 35 30 Drying 48 20 (Evaluation of Sensitivity) The obtained developed sample was subjected to a densitometer PDA-
65 (manufactured by Konica Corporation).

【0224】表中の感度は試料No.11の濃度3.0
における感度を100とした場合の相対感度で表した。
The sensitivities in the table indicate the values of Sample No. Concentration of 3.0
Is expressed as a relative sensitivity when the sensitivity at 100 is taken as 100.

【0225】(銀汚れの評価)ランニング後の現像−定
着処理層の銀汚れの度合いを目視評価した。
(Evaluation of Silver Stain) The degree of silver stain of the development-fixing layer after running was visually evaluated.

【0226】5が良好で1が劣るレベルである。実用上
使えるレベルを3とした。
5 is a good level and 1 is a poor level. The practically usable level was set to 3.

【0227】こららの結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

【0228】[0228]

【表1】 [Table 1]

【0229】表1より、本発明の感光材料の画像形式方
法で得られるHe−Neレーザー光源印刷製版スキャナ
ー用感光材料は、感光材料を大量に処理した後でも高感
度かつ銀汚れが少ないことがわかる。
From Table 1, it can be seen that the photosensitive material for plate-making scanner of He-Ne laser light source printing obtained by the image forming method of the photosensitive material of the present invention has high sensitivity and little silver stain even after processing a large amount of the photosensitive material. Understand.

【0230】実施例2 (ハロゲン化銀乳剤B1の調製)同時混合法を用いて塩
化銀70モル%、残りは臭化銀を含有する平均直径0.
09μmの塩臭化銀コア粒子を調製した。コア粒子調製
時は、36℃、pH3.0、銀電位(EAg)120m
Vに保ちながら硝酸銀水溶液と水溶性ハライド溶液を同
時混合した。このコア粒子に、EAgを食塩で100m
Vに下げて同時混合法を用いてシェルを付けた。その際
ハライド液に銀1モル当たりK3RhCl6を38.2μ
g添加した。得られた乳剤は平均直径0.20μmのコ
ア/シェル型単分散(変動係数10%)の塩沃臭化銀
(塩化銀70モル%、沃臭化銀0.2モル%、残りは臭
化銀からなる)立方晶の乳剤であった。その後下記増感
色素d−3を銀1モル当たり70mg加えた。ついで特
開平2−280139号に記載の変性ゼラチン(ゼラチ
ン中のアミノ基をフェニルカルバミルで置換したもので
例えば特開平2−280139号287(3)頁の例示
化合物G−8)を使い脱塩した。その後40℃でクロラ
ミンTを銀1モル当たり90mg添加した。得られた乳
剤のEAgは40℃で177mV、pHは5.6であっ
た。
[0230] Example 2 (Preparation of Silver Halide Emulsion B 1) co-precipitation method 70 mol% of silver chloride with an average diameter remainder containing silver bromide 0.
09 μm silver chlorobromide core particles were prepared. At the time of core particle preparation, 36 ° C., pH 3.0, silver potential (EAg) 120 m
While maintaining V, the aqueous silver nitrate solution and the water-soluble halide solution were simultaneously mixed. EAg was added to the core particles with salt for 100 m.
V and shelled using a double jet method. At that time, 38.2 µ of K 3 RhCl 6 was added per mole of silver to the halide solution.
g was added. The obtained emulsion was a core / shell type monodisperse (coefficient of variation: 10%) silver chloroiodobromide having an average diameter of 0.20 μm (silver chloride: 70 mol%, silver iodobromide: 0.2 mol%, the rest being bromide). (Composed of silver). Thereafter, 70 mg of the following sensitizing dye d-3 was added per 1 mol of silver. Then, desalting is carried out by using a modified gelatin described in JP-A-2-280139 (in which the amino group in the gelatin is substituted with phenylcarbamyl, for example, compound G-8 on page 287 (3) of JP-A-2-280139). did. Thereafter, at 40 ° C., 90 mg of chloramine T was added per mole of silver. The EAg of the obtained emulsion was 177 mV at 40 ° C., and the pH was 5.6.

【0231】得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モルあ
たり60mg、KBrを100mg反応させた後、固体
に分散した無機硫黄(S8)化合物(セイシン企業
(株);PM−1200を用いてサポニンを加えて平均
0.5μmに分散したもの)及び、塩化金酸1.5×1
-5モルを添加して温度60℃で120分間化学熟成を
行った。
The resulting emulsion was reacted with 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene at a concentration of 60 mg per mole of silver and 100 mg of KBr, and then inorganic sulfur (S8 ) Compound (Seisin Enterprise Co .; Saponin added using PM-1200 and dispersed to an average of 0.5 μm) and chloroauric acid 1.5 × 1
0 -5 mol was added was 120 minutes chemical ripening at a temperature 60 ° C..

【0232】その後、銀1モルあたり4−ヒドロキシ−
6メチル−1,3,3a,7−テトラザインデンを40
0mgと沃化カリウム100mgを添加し、40℃で増
感色素d−11を300mg添加した。そしてクエン酸
を添加してpHを5.1に調整し、ハロゲン化銀乳剤B
1を調製した。
Thereafter, 4-hydroxy-
6 methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene is added to 40
0 mg and potassium iodide 100 mg were added, and at 40 ° C., 300 mg of sensitizing dye d-11 was added. Then, the pH was adjusted to 5.1 by adding citric acid, and silver halide emulsion B was added.
1 was prepared.

【0233】[0233]

【化67】 Embedded image

【0234】(ハロゲン化銀乳剤B2の調製)ハロゲン
化銀乳剤B1に対し、反応温度を45℃に上げて粒径を
0.28μmにし、シェル部のK3RhCl6を銀1モル
あたり10μgとした以外は全く同様にしてハロゲン化
銀乳剤B2を調製した。同一の化学増感を行った場合、
2の乳剤はB1の乳剤よりも30%感度が高かった。
[0234] (Preparation of Silver Halide Emulsion B 2) with respect to the silver halide emulsion B 1, the reaction temperature was the particle diameter 0.28μm raised to 45 ° C., per mole of silver of K 3 RhCl 6 of the shell portion except that the 10μg in exactly the same manner to prepare a silver halide emulsion B 2. When the same chemical sensitization is performed,
Emulsion of B 2 was higher 30% sensitivity than Emulsion of B 1.

【0235】(印刷製版撮影用感光材料の調製)支持体
上に、下記処方6のゼラチン下塗層をゼラチン量が0.
3g/m2になるように調製し、下記処方7のハロゲン
化銀乳剤層1を銀量0.3g/m2、ゼラチン量0.3
g/m2になるように、その上層に処方8のゼラチン中
間層をゼラチン量が0.8g/m2になるように、更に
その上層に処方9のハロゲン化銀乳剤層2を銀量3.0
g/m2、ゼラチン量が1.5g/m2になるように、更
に下記処方10の保護層塗布液をゼラチン量が0.6g
/m2になるように、カーテン塗布方式で200m/m
inの速さで乳剤層側を同時塗布し、−1℃で冷却セッ
ト乾燥した。
(Preparation of Photographic Material for Printing and Plate Making) On a support, a gelatin undercoat layer having the following formulation 6 was prepared with a gelatin content of 0.1%.
3 g / m 2 , and the silver halide emulsion layer 1 of the following formula 7 was prepared by mixing 0.3 g / m 2 of silver and 0.3 of gelatin.
g / m 2 , a gelatin intermediate layer of Formula 8 on the upper layer, and a silver halide emulsion layer 2 of Formula 9 on the upper layer so that the amount of gelatin is 0.8 g / m 2. .0
g / m 2 and the amount of gelatin is 1.5 g / m 2.
/ M 2 , 200m / m by curtain coating method
The emulsion layer side was simultaneously coated at a speed of "in", and cooled and dried at -1 ° C.

【0236】また、乳剤層側の反対側の下引層上には、
下記処方11のバッキング層をゼラチン量が1.5g/
2になるように、その上に、下記処方12のバッキン
グ保護層をゼラチン量が1.0g/m2になるように、
カーテン塗布方式で200m/minの速さでバッキン
グ層側を同時重層塗布し−1℃で冷却セット、乾燥し試
料No.21〜29を得た。
Further, on the undercoat layer opposite to the emulsion layer side,
The amount of gelatin in the backing layer of the following formulation 11 was 1.5 g /
such that m 2, thereon, a backing protective layer having the following formulation 12 so that the amount of gelatin is 1.0 g / m 2,
The backing layer side was simultaneously coated at a speed of 200 m / min by a curtain coating method, cooled at -1 ° C., dried and dried. 21-29 were obtained.

【0237】 処方6(ゼラチン下塗層組成) ゼラチン 0.3g/m2 界面活性剤S1 0.4mg/m2 化合物O 3mg/m2 処方7(ハロゲン化銀乳剤層1の組成) ゼラチン 0.3g/m2 ハロゲン化銀乳剤B2 銀量0.3g/m2相当量 ポリマーラテックスL2(粒径0.25μm) 0.1g/m2 固体分散染料1−24 30mg/m2 化合物t−6 10mg/m2 処方8(ゼラチン中間層組成) ゼラチン 0.8g/m2 サポニン 80mg/m2 ハイドロキノン 0.5g/m2 殺菌剤Z 0.5mg/m2 染料f9 5mg/m2 処方9(ハロゲン化銀乳剤層2の組成) ハロゲン化銀乳剤B1 銀量3.0g/m2相当量 ヒドラジン化合物 H−31 7mg/m2 界面活性剤S1 5mg/m2 2−メルカプトヒポキサンチン 1mg/m ニコチン酸アミド 1mg/m2 没食子酸n−プロピルエステル 50mg/m2 メルカプトピリミジン 1mg/m2 ポリマーラテックスL2(粒径0.25μm) 0.5g/m2 EDTA 50mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 15mg/m2 複合ラテックスL6 1.0g/m2 ゼラチンはフタル化ゼラチンを用い塗布液pHは5.0
であった。
Formulation 6 (Gelatin undercoat layer composition) Gelatin 0.3 g / m 2 Surfactant S1 0.4 mg / m 2 Compound O 3 mg / m 2 Formulation 7 (Composition of silver halide emulsion layer 1) Gelatin 0. 3 g / m 2 silver halide emulsion B 2 silver 0.3 g / m 2 corresponding weight polymer latex L2 (particle size 0.25μm) 0.1g / m 2 solid disperse dye 1-24 30 mg / m 2 compound t-6 10 mg / m 2 formulation 8 (gelatin intermediate layer composition) gelatin 0.8 g / m 2 saponin 80 mg / m 2 hydroquinone 0.5 g / m 2 fungicide Z 0.5 mg / m 2 dye f9 5 mg / m 2 formulation 9 (halogen Composition of silver halide emulsion layer 2) Silver halide emulsion B 1 Silver amount 3.0 g / m 2 equivalent Hydrazine compound H-31 7 mg / m 2 Surfactant S1 5 mg / m 2 2-mercaptohypoxanthine 1 mg / m 2 Nicochi Acid amide 1 mg / m 2 gallate n- propyl ester 50 mg / m 2 mercaptopyrimidine 1 mg / m 2 Polymer latex L2 (particle size 0.25μm) 0.5g / m 2 EDTA 50mg / m 2 Sodium polystyrenesulfonate 15 mg / m 2 Composite latex L6 1.0 g / m 2 Gelatin is phthalated gelatin and the coating solution pH is 5.0.
Met.

【0238】 処方10(乳剤保護層組成) ゼラチン 0.6g/m2 界面活性剤S1 12mg/m2 界面活性剤b 0.6mg/m2 4級オニウム塩化合物 表2記載 複合ラテックスL6 0.2g/m2 1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノール 40mg/m2 硬膜剤h4 80mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 20mg/m2 殺菌剤Z 0.5mg/m2 染料f6 50mg/m2 処方11(バッキング層組成) ゼラチン 1.5g/m2 ポリマーラテックスL3 0.3g/m2 複合ラテックスL6 0.5g/m2 染料f1 40mg/m2 染料f2 7mg/m2 染料f3 60mg/m2 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 10mg/m2 硬膜剤h3 100mg/m2 EDTA 50mg/m2 処方12(バッキング保護層) ゼラチン 1.0g/m2 マット剤:平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート 50mg/m2 マット剤:平均粒径3μm不定形シリカ 12.5mg/m2 染料f1 40mg/m2 染料f2 7mg/m2 染料f3 60mg/m2 硬膜剤h1 100mg/m2 界面活性剤S1 6mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 KI 15mg/m2 アミン化合物例示Na−21 15mg/m Formulation 10 (Emulsion protective layer composition) Gelatin 0.6 g / m 2 surfactant S1 12 mg / m 2 surfactant b 0.6 mg / m 2 Quaternary onium salt compound Listed in Table 2 0.2 g of composite latex L6 / M 2 1,3-vinylsulfonyl-2-propanol 40 mg / m 2 Hardener h4 80 mg / m 2 Sodium polystyrene sulfonate 20 mg / m 2 Fungicide Z 0.5 mg / m 2 Dye f6 50 mg / m 2 Formulation 11 (Backing layer composition) Gelatin 1.5 g / m 2 Polymer latex L3 0.3 g / m 2 Composite latex L6 0.5 g / m 2 Dye f1 40 mg / m 2 Dye f2 7 mg / m 2 Dye f3 60 mg / m 2 1− Phenyl-5-mercaptotetrazole 10 mg / m 2 Hardener h3 100 mg / m 2 EDTA 50 mg / m 2 Formulation 12 (backing protective layer) Gelatin 1.0 g / m 2 matting agent: monodispersed polymethyl methacrylate having an average particle size of 5 μm 50 mg / m 2 matting agent: average particle size 3 μm amorphous silica 12.5 mg / m 2 dye f1 40 mg / m 2 dye f2 7 mg / m 2 dye f3 60 mg / m 2 hardener h1 100 mg / m 2 surfactant S1 6 mg / m 2 sodium polystyrenesulfonate 10 mg / m 2 KI 15 mg / m 2 amine compounds exemplified Na-21 15 mg / m 2

【0239】[0239]

【化68】 Embedded image

【0240】得られた試料をステップウェッジに密着
し、3200°Kのタングステン光で3秒間露光し、表
2に示す一般式(1)の化合物を用い、処理液の補充量
を150mlとした以外は実施例1と同じ条件で処理し
評価を行った。なお、感度は試料No.21の濃度3.
0における感度を100とした場合の相対感度で表し
た。
The obtained sample was brought into close contact with a step wedge, exposed to tungsten light at 3200 ° K. for 3 seconds, and the compound of the general formula (1) shown in Table 2 was used, except that the replenishing amount of the processing solution was changed to 150 ml. Was processed and evaluated under the same conditions as in Example 1. Note that the sensitivity is the same as that of Sample No. 2. concentration of 21
It was expressed as a relative sensitivity when the sensitivity at 0 was taken as 100.

【0241】結果を表2に示す。The results are shown in Table 2.

【0242】[0242]

【表2】 [Table 2]

【0243】本発明の感光材料の画像形成方法で得られ
る印刷製版撮影用感光材料は、感光材料1m当たり処
理液150mlの低補充量で感光材料を大量に処理した
後も、高感度かつ銀汚れが良好であることがわかる。
[0243] The image forming method prepress photographic light-sensitive material obtained in the light-sensitive material of the present invention, even after the photosensitive material was treated in large quantities at a low replenishing amount of the photosensitive material 1 m 2 per treatment liquid 150 ml, high sensitivity Katsugin It turns out that dirt is favorable.

【0244】実施例3 (ハロゲン化銀乳剤Cの調製)同時混合法を用いて塩化
銀70モル%、残りは臭化銀を含有する平均厚み0.0
5μm平均直径0.15μmの塩臭化銀コア粒子を調製
した。コア粒子調製時にK3RuCl6を銀1モル当たり
8×10-8モル添加した。このコア粒子に、同時混合法
を用いてシェルを付けた。その際K2IrCl6を銀1モ
ルあたり3×10-7モル添加した。得られた乳剤は平均
厚み0.10μm、平均直径0.25μmのコア/シェ
ル型単分散(変動係数10%)の塩沃臭化銀(塩化銀9
0モル%、沃臭化銀0.2モル%、残りは臭化銀からな
る)平板粒子の乳剤であった。ついで特開平2−280
139号に記載の変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基
をフェニルカルバミルで置換したもので例えば特開平2
−280139号287(3)頁の例示化合物G−8)
を使い脱塩した。脱塩後のEAgは50℃で190mV
であった。
Example 3 (Preparation of Silver Halide Emulsion C) An average thickness of 0.07 mol% containing silver chloride and the remainder was silver bromide using a double jet method.
Silver chlorobromide core particles having a 5 μm average diameter of 0.15 μm were prepared. During the preparation of the core particles, 8 × 10 −8 mol of K 3 RuCl 6 was added per mol of silver. The core particles were shelled using a double jet method. At that time, K 2 IrCl 6 was added in an amount of 3 × 10 −7 mol per mol of silver. The emulsion thus obtained had a core / shell type monodisperse (coefficient of variation: 10%) silver chloroiodobromide (silver chloride 9) having an average thickness of 0.10 μm and an average diameter of 0.25 μm.
0 mol%, silver iodobromide 0.2 mol%, the balance being silver bromide). Then, JP-A-2-280
No. 139, which is a modified gelatin wherein the amino group in the gelatin is substituted by phenylcarbamyl.
-280139, Exemplified compound G-8 on page 287 (3))
It was desalted using. EAg after desalting is 190 mV at 50 ° C.
Met.

【0245】得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a7−テトラザインデンを銀1モル当た
り1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン酸
を添加してpH5.6、EAg123mVに調整して、
銀1モル当たり5mgの塩化金酸と0.5mgの硫黄華
を添加して温度60℃で120分間化学熟成を行った。
熟成終了後4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a
7−テトラザインデンを銀1モルあたり2×10-3
ル、1−フェニル−5−メルカプトテトラゾールを3×
10-4モル及びゼラチンを添加し、ハロゲン化銀乳剤C
を調製した。
To the resulting emulsion, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a7-tetrazaindene was added in an amount of 1 × 10 -3 mol per mol of silver, and potassium bromide and citric acid were added to adjust the pH to 5%. .6, adjust to EAg123mV,
5 mg of chloroauric acid and 0.5 mg of sulfur were added per mole of silver, and the mixture was chemically ripened at a temperature of 60 ° C. for 120 minutes.
After aging, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a
7-tetrazaindene was added in an amount of 2 × 10 −3 mol per mol of silver, and 1-phenyl-5-mercaptotetrazole was added to 3 ×
10 -4 mol and gelatin were added, and silver halide emulsion C was added.
Was prepared.

【0246】(赤色半導体レーザー光源印刷製版スキャ
ナー用感光材料の調製)PET支持体上に、下記の処方
13のゼラチン下塗層をゼラチン量が0.3g/m2
なるように、その上に処方14のハロゲン化銀乳剤層を
銀量3.0g/m2、ゼラチン量が1.5g/m2になる
ように、更にその上層に処方15の保護層下層をゼラチ
ン量が0.5g/m2になるように、その上層に処方1
6の保護層上層をゼラチン量が0.5g/m2になるよ
うに、カーテン塗布方式で200m/minの速さで乳
剤層側を同時塗布し、−1℃で冷却セット、乾燥した。
(Preparation of photosensitive material for plate making scanner using red semiconductor laser light source printing) On a PET support, a gelatin subbing layer having the following formulation 13 was coated so that the amount of gelatin became 0.3 g / m 2. The silver halide emulsion layer of Formulation 14 was adjusted so that the silver amount was 3.0 g / m 2 and the gelatin amount was 1.5 g / m 2. as will become m 2, formulated thereon 1
The upper layer of the protective layer No. 6 was simultaneously coated on the emulsion layer side at a speed of 200 m / min by a curtain coating method so that the amount of gelatin was 0.5 g / m 2 , and cooled and set at -1 ° C. and dried.

【0247】また、乳剤層の反対側の下塗層上には下記
処方17のバッキング層をゼラチン量が0.6g/m2
になるように、その上に下記処方18のポリマー層を、
更にその上に下記処方19のバッキング保護層をゼラチ
ン量が0.4g/m2になるようにカーテン塗布方式で
200m/minの速さで同時重層塗布、−1℃で冷却
セットし、乾燥して試料No.31〜39を得た。
On the undercoat layer opposite to the emulsion layer, a backing layer of the following formula 17 was coated with a gelatin having an amount of 0.6 g / m 2.
So that the polymer layer of the following formula 18 is
Further, a backing protective layer having the following formulation 19 was coated simultaneously with the curtain coating method at a speed of 200 m / min so as to have a gelatin amount of 0.4 g / m 2 , cooled at -1 ° C. and dried. Sample No. 31-39 were obtained.

【0248】 処方13(ゼラチン下塗層組成) ゼラチン 0.3g/m2 界面活性剤S1 0.4mg/m2 化合物O 3mg/m2 処方14(ハロゲン化銀乳剤層組成) ハロゲン化銀乳剤C 銀量3.0g/m2になるように 増感色素d−5 6mg/m2 増感色素d−2 3mg/m2 ヒドラジン化合物H−30 10mg/m2 アミン化合物Na−21 10mg/m2 4級オニウム塩化合物 表3に記載 化合物e 100mg/m2 複合ラテックスL6 1.0g/m2 2−メルカプトヒポキサンチン 2mg/m2 EDTA 50mg/m2 処方15(乳剤保護層下層組成) ゼラチン 0.5g/m2 ポリマーラテックスL1 0.25g/m2 殺菌剤Z 0.5mg/m 処方16(乳剤保護層上層組成) ゼラチン 0.5g/m2 マット剤:平均粒径3.5μmの単分散シリカ 25mg/m2 1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノール 40mg/m2 界面活性剤b 20mg/m2 化合物p 30mg/m2 複合ラテックスL6 0.5g/m2 硬膜剤h2 130mg/m2 処方17(バッキング層組成) ゼラチン 0.6g/m2 ポリマーラテックスL3 0.3g/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 20mg/m2 処方18(疎水性ポリマー層組成) ラテックス(メチルメタクリレート:アクリル酸=97:3) 1.0g/m2 硬膜剤h1 6mg/m2 処方19(バッキング保護層) ゼラチン 0.4g/m2 KBr 20mg/m2 マット剤:平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート 50mg/m2 界面活性剤b 20mg/m2 染料k 40mg/m2 H−(OCH2CH268−OH 50mg/m2 硬膜剤h1 20mg/m Formulation 13 (Composition of gelatin undercoat layer) Gelatin 0.3 g / m 2 Surfactant S1 0.4 mg / m 2 Compound O 3 mg / m 2 Formulation 14 (Silver halide emulsion layer composition) Silver halide emulsion C silver amount 3.0 g / m sensitized 2 sensitization sensitizing dye d-5 6mg / m so that the second dye d-2 3 mg / m 2 hydrazine compound H-30 10mg / m 2 amine compound Na-21 10mg / m 2 Quaternary onium salt compound Table 3 Compound e 100 mg / m 2 Composite latex L6 1.0 g / m 2 2-mercaptohypoxanthine 2 mg / m 2 EDTA 50 mg / m 2 Formulation 15 (Emulsion protective layer lower layer composition) Gelatin 0. 5 g / m 2 Polymer latex L1 0.25 g / m 2 Fungicide Z 0.5 mg / m 2 Formulation 16 (Emulsion protective layer upper layer composition) Gelatin 0.5 g / m 2 Matting agent: Average particle size 3. 5 μm monodisperse silica 25 mg / m 2 1,3-vinylsulfonyl-2-propanol 40 mg / m 2 Surfactant b 20 mg / m 2 Compound p 30 mg / m 2 Composite latex L6 0.5 g / m 2 Hardener h2 130 mg / m 2 Formula 17 (backing layer composition) Gelatin 0.6 g / m 2 Polymer latex L3 0.3 g / m 2 Sodium polystyrene sulfonate 20 mg / m 2 Formula 18 (hydrophobic polymer layer composition) Latex (methyl methacrylate: acrylic) Acid = 97: 3) 1.0 g / m 2 Hardener h1 6 mg / m 2 Prescription 19 (backing protective layer) Gelatin 0.4 g / m 2 KBr 20 mg / m 2 Matting agent: monodisperse poly with an average particle size of 5 μm methyl methacrylate 50 mg / m 2 surfactant b 20 mg / m 2 dye k 40mg / m 2 H- (OCH 2 CH 2) 68 OH 50mg / m 2 hardener h1 20mg / m 2

【0249】[0249]

【化69】 Embedded image

【0250】[0250]

【化70】 Embedded image

【0251】このようにして得られた試料を、光源とし
て赤色半導体レーザーを用いたレーザー感光計で1.5
×10−7秒で光量変化しながらステップ露光を行い、
下記処方の固体処理剤を用い、処理液の補充量を70m
l/m2とした以外は実施例1と同様に処理、評価を行
った。なお、感度は試料No.31の濃度3.0におけ
る感度を100とした場合の相対感度で表した。
The sample thus obtained was subjected to a 1.5-mm laser sensitometer using a red semiconductor laser as a light source.
Step exposure is performed while changing the light amount in × 10 −7 seconds,
Using the solid processing agent of the following formulation, the replenishment amount of the processing solution is 70 m
The processing and evaluation were performed in the same manner as in Example 1 except that 1 / m 2 was used. Note that the sensitivity is the same as that of Sample No. The sensitivity was expressed as a relative sensitivity when the sensitivity at a density of 3.0 was set to 100.

【0252】 一浴処理用固体処理剤の作製 顆粒Aの作製(1リットル分) 亜硫酸ナトリウム 23g 炭酸ナトリウム 12g 1−フェニル−4−ヒドロキシエチル−4−メチル−3−ピラゾリドン 0.7g KBr 5g ジエチレントリアミン5酢酸・5Na 3g ベンゾトリアゾール 0.26g 一般式(2)の化合物 (例示2−41) 80g ハイドロキノン 5g マンニット 10g 一般式(1)の化合物 表3に記載 上記の素材を市販の攪拌造粒機に入れ3分間混合しよく
解砕し、全重量の5%の水を徐々に添加した。得られた
造粒物を流動層乾燥機に移し給気温度60℃で約2時間
乾燥した。こうして得られた顆粒を再度市販の整粒機に
入れ5mmメッシュで整粒した。
Preparation of Solid Treatment Agent for One-Bath Treatment Preparation of Granule A (for 1 L) Sodium sulfite 23 g Sodium carbonate 12 g 1-phenyl-4-hydroxyethyl-4-methyl-3-pyrazolidone 0.7 g KBr 5 g Diethylenetriamine 5 Acetic acid / 5Na 3g Benzotriazole 0.26g Compound of general formula (2) (Exemplary 2-41) 80g Hydroquinone 5g Mannit 10g Compound of general formula (1) listed in Table 3 The mixture was mixed for 3 minutes, crushed well, and 5% of the total weight of water was gradually added. The obtained granules were transferred to a fluid bed dryer and dried at an air supply temperature of 60 ° C. for about 2 hours. The granules thus obtained were again placed in a commercially available granulator and sized with a 5 mm mesh.

【0253】 顆粒Bの作製(1リットル分) 亜硫酸ナトリウム 20g 炭酸ナトリウム 10g チオ硫酸アンモニウム 58g 酢酸ナトリウム 15g マンニット 10g 粉ソルビット 5g 上記の素材を市販の攪拌造粒機に入れ3分間混合しよく
解砕し、全重量の5%の水を徐々に添加した。得られた
造粒物を流動層乾燥機に移し、給気温度60℃で約2時
間乾燥した。こうして得られた顆粒を再度市販の整粒機
にいれ5mmメッシュで整粒した。
Preparation of Granules B (for 1 L) Sodium sulfite 20 g Sodium carbonate 10 g Ammonium thiosulfate 58 g Sodium acetate 15 g Mannit 10 g Powdered sorbite 5 g The above materials were put in a commercially available stirring granulator, mixed for 3 minutes, and crushed well. , 5% of the total weight of water was gradually added. The obtained granules were transferred to a fluid bed dryer and dried at a supply air temperature of 60 ° C. for about 2 hours. The granules thus obtained were again placed in a commercially available granulator and sized with a 5 mm mesh.

【0254】A及びBの顆粒を、それぞれ5リットル分
パウレック社製流動層造粒装置GPCG−5型に入れ、
給気温度60℃、風量8m3/minで流動させた。ソ
ルビトール30%水溶液を1リットル分当たり20gを
2流体スプレーで噴霧することで顆粒表面をコーティン
グした。得られた表面被覆した顆粒をa、bと呼ぶ。
The granules A and B were placed in a fluid bed granulator GPCG-5, manufactured by Powrex Co., Ltd. in an amount of 5 liters.
It was made to flow at an air supply temperature of 60 ° C. and an air flow of 8 m 3 / min. The surface of the granules was coated by spraying 20 g of a 30% aqueous solution of sorbitol per liter with a two-fluid spray. The resulting surface-coated granules are called a and b.

【0255】以上の操作で得られたa、bの2種の顆粒
を15リットル分ずつ作製し、それらを合わせた重量の
2重量%分の1−オクタンスルホン酸ナトリウムを加
え、それをクロスロータリー混合機で10分間混合し
た。この混合機をオイルプレス機で直径30mm、一錠
あたりの充填量を10g、打錠圧1ton/cm2にて
打錠した。
The two types of granules a and b obtained by the above operation were prepared for each 15 liters, and 2% by weight of the combined weight of sodium 1-octanesulfonate was added thereto. Mix for 10 minutes with a mixer. This mixer was tableted with an oil press at a diameter of 30 mm, a filling amount per tablet of 10 g, and a tableting pressure of 1 ton / cm 2 .

【0256】この様にして得られた固体処理剤の内の3
5リットル分を用いて現像−定着母液とした。
Of the solid processing agents thus obtained, 3
A developing-fixing mother liquor was used using 5 liters.

【0257】 処理条件 処理 温度(℃) 時間(秒) 補充量(ml/m2) 現像−定着 35 20 70 水洗 35 20 乾燥 48 20 得られた結果を表3に示す。Processing conditions Processing temperature (° C.) Time (second) Replenishment rate (ml / m 2 ) Developing-fixing 35 20 70 Washing 35 20 Drying 48 20 The results obtained are shown in Table 3.

【0258】[0258]

【表3】 [Table 3]

【0259】本発明の感光材料の画像形成方法で得られ
る赤色半導体レーザー光源印刷製版スキャナー用感光材
料は、アスコルビン酸を現像主薬とする固体処理液を用
いて感光材料1m2当たり処理液70mlの超低補充量
で感光材料を大量に処理した後も、高感度かつ銀汚れが
良好である。
[0259] red semiconductor laser light source graphic arts scanner photosensitive materials obtained by the image forming method of the light-sensitive material of the present invention, ultra-sensitive material 1 m 2 per treatment liquid 70ml using a solid processing solution to the ascorbic acid and developing agent Even after processing a large amount of the light-sensitive material with a low replenishment amount, high sensitivity and good silver stain are obtained.

【0260】[0260]

【発明の効果】本発明のハロゲン化銀写真感光材料の画
像形成方法により、調液が簡便な固体単一処理液で低補
充処理でも高感度で、かつ銀スラッジの著しく軽減した
画像形成方法が得られた。
According to the method for forming an image of a silver halide photographic light-sensitive material of the present invention, an image forming method which has a high sensitivity even with a low replenishment process and a remarkably reduced silver sludge can be obtained by a simple solid processing solution having a simple preparation. Obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03C 5/38 G03C 5/38 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G03C 5/38 G03C 5/38

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ハロゲン化銀乳剤層及び/又は非感光性
親水性コロイド層中に、少なくとも1種のヒドラジン誘
導体を含有するハロゲン化銀写真感光材料を現像と定着
を一つの処理液で同時に行い画像を得る画像形成方法で
あり、該処理液が下記一般式(1)で表される化合物の
少なくとも1種を含有することを特徴とするハロゲン化
銀写真感光材料の画像形成方法。 【化1】 Zは窒素原子を含む複素環を形成するのに必要な非金属
原子群を表し、Mは水素原子、アルカリ金属原子、アル
カリ土類金属原子又はアンモニウムイオンを表す。
1. A silver halide photographic material containing at least one hydrazine derivative in a silver halide emulsion layer and / or a non-photosensitive hydrophilic colloid layer is simultaneously developed and fixed with one processing solution. An image forming method for obtaining an image, wherein the processing solution contains at least one compound represented by the following general formula (1). Embedded image Z represents a group of non-metallic atoms necessary to form a heterocyclic ring containing a nitrogen atom, and M represents a hydrogen atom, an alkali metal atom, an alkaline earth metal atom or an ammonium ion.
【請求項2】 ハロゲン化銀乳剤層及び/又は非感光性
親水性コロイド層中に、アミン化合物及び/又は4級オ
ニウム化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を含
有することを特徴とする請求項1に記載のハロゲン化銀
写真感光材料の画像形成方法。
2. The method according to claim 1, wherein the silver halide emulsion layer and / or the non-photosensitive hydrophilic colloid layer contain at least one compound selected from an amine compound and / or a quaternary onium compound. 2. The method for forming an image of a silver halide photographic material according to item 1.
【請求項3】 処理液補充量がハロゲン化銀写真感光材
料1m2当たり30〜250mlで処理し画像を得るこ
とを特徴とする請求項1又は2に記載のハロゲン化銀写
真感光材料の画像形成方法。
3. The image formation of a silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1 or 2, wherein an image is obtained by processing at a processing solution replenishment amount of 30 to 250 ml per m 2 of the silver halide photographic light-sensitive material. Method.
【請求項4】 下記一般式(2)で表される化合物を含
有する固体処理剤で処理し画像を得ることを特徴とする
請求項1〜3のいずれか1項に記載の画像形成方法。 【化2】 式中、R21及びR22はそれぞれアルキル基、アミノ基、
アルコキシ基、アルキルチオ基を表し、これらは置換基
を有してもよく、互いに結合して環を形成してもよい。
kは0又は1を表し、k=1のときXは−CO−又は−
CS−を表す。M21及びM22はそれぞれ水素原子又はア
ルカリ金属原子を表す。
4. The image forming method according to claim 1, wherein an image is obtained by processing with a solid processing agent containing a compound represented by the following general formula (2). Embedded image In the formula, R 21 and R 22 each represent an alkyl group, an amino group,
Represents an alkoxy group or an alkylthio group, which may have a substituent and may combine with each other to form a ring;
k represents 0 or 1, and when k = 1, X represents -CO- or-
Represents CS-. M 21 and M 22 each represent a hydrogen atom or an alkali metal atom.
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