JP2000011423A - Information recording and reproducing optical system - Google Patents

Information recording and reproducing optical system

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JP2000011423A
JP2000011423A JP10175928A JP17592898A JP2000011423A JP 2000011423 A JP2000011423 A JP 2000011423A JP 10175928 A JP10175928 A JP 10175928A JP 17592898 A JP17592898 A JP 17592898A JP 2000011423 A JP2000011423 A JP 2000011423A
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JP
Japan
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light
sil
optical system
recording
total reflection
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JP10175928A
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Japanese (ja)
Inventor
Koichiro Nishikawa
幸一郎 西川
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Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form propagation light to a record medium to a microspot reflecting high NA by a solid immersion lens with a proximity effect by disposing a lightproof means in such a manner that the incident light to the plane part of the solid immersion lens satisfies total reflection conditions and forming the incident light to a non-propagation light when the recording surface does not exist proximatly. SOLUTION: An antireflection coating is applied on the plane part of an SIL(solid immersion lens):2 and the distance between both is held at 1/8 of a light source wavelength λ in order to efficiently condense the reflected light of the record medium 3 to the SIL:2. In addition, a thin transparent protective film which is not significant to λ/8 is applied on the recording medium 3 and is disposed to face the SIL:2. The lightproof means 4 formed by applying elliptic light shileding coatings on glass parallel flat plates is disposed between a semiconductor laser 5 and a beam splitter 7. Only the rays satisfying the total reflection conditions are used within the SIL:2. Then, only the rays satisfying the total reflection conditions are made incident on an objective lens 1 and the microspot below the spot reflecting the high NA of the optical system is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は情報記録再生光学系
に関し、特に高い開口数(以下、「NA」と称す。)を
有する対物レンズ系光学系に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an information recording / reproducing optical system, and more particularly to an objective lens optical system having a high numerical aperture (hereinafter, referred to as "NA").

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、ソリッドイマージョンレンズ(以
下、SILと称す。)を用いた高NAを有する対物レン
ズ系光学系を用いた情報記録再生光学系がさかんに研究
・開発されてきている。
2. Description of the Related Art In recent years, an information recording / reproducing optical system using an objective lens optical system having a high NA using a solid immersion lens (hereinafter, referred to as SIL) has been actively researched and developed.

【0003】そのようなものとして、例えば、米国特許
番号5,125,750(特開平5−189796号公
報)がある。
[0003] For example, there is US Pat. No. 5,125,750 (JP-A-5-189796).

【0004】対物レンズ系からの収束光線は、その対物
レンズ系に面するSILの球状面にほぼ垂直に入射し、
記録媒体に近接して面するSILの平面部に集光する。
そして、SIL内に於いては、波長が1/n(n;SI
L内屈折率)になることにより、光学系をNAはベース
となる対物レンズ系のNAのほぼn倍とすることが出来
る。
A convergent ray from the objective lens system is incident almost perpendicularly on the spherical surface of the SIL facing the objective lens system,
The light is condensed on the plane portion of the SIL facing the recording medium.
In the SIL, the wavelength is 1 / n (n; SI
(The refractive index within L), the NA of the optical system can be made approximately n times the NA of the objective lens system serving as a base.

【0005】そこで、先のSIL平面部の集光点にとっ
てのニアフィールド(近接場、或いは近視野)領域に、
記録媒体を配置することにより、高解像度記録再生が可
能となる。
Therefore, a near-field (near-field or near-field) region for the converging point on the SIL plane portion is
By arranging the recording medium, high-resolution recording / reproduction becomes possible.

【0006】また、さらに高NA化を目指して、SIL
の球状の厚みを増して図10に示すようにすることも周
知のことである。
In order to further increase the NA, SIL
It is also well known that the thickness of the spherical surface is increased as shown in FIG.

【0007】図10のように、SILの厚み増加分をr
/n(r;SIL曲率半径)とし、ベースとなる対物レ
ンズでSIL平面部に焦点を結ばせると、光学系のNA
をベースとなる対物レンズ系のNAのn2倍とすること
が出来る。
[0007] As shown in FIG.
/ N (r; radius of curvature of SIL), and when the SIL plane is focused by the objective lens serving as a base, the NA of the optical system becomes
Can be set to n 2 times the NA of the objective lens system serving as a base.

【0008】即ち、大まかに見て、SILを使用するこ
とにより、光学系のNAをベースとなる対物レンズ系の
NAのn〜n2倍とすることが出来る。
That is, when the SIL is used, the NA of the optical system can be made n to n 2 times the NA of the objective lens system as a base.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ところで、ベースとな
る対物レンズ系のNAをn〜n2倍に出来るとすると、
容易に光学系のNAが1を超えることが可能となる。
By the way, assuming that the NA of the objective lens system serving as a base can be increased by n to n 2 times,
The NA of the optical system can easily exceed 1.

【0010】ところが、光学系のNAが1を超えている
場合、SIL平面部への入射する光線としては、透過・
伝播するものと全反射するものとが存在する。
[0010] However, when the NA of the optical system exceeds 1, the light incident on the SIL plane portion is transmitted and transmitted.
There are those that propagate and those that totally reflect.

【0011】全反射領域では、SIL平面部から記録媒
体へ向けてのSIL平面部近傍の空間にエバネッセント
モードの光が存在していて、記録媒体が近接した時初め
て、フォトントンネリングにより(近接場効果により)
光が伝播する。
In the total reflection area, light in the evanescent mode exists in the space near the SIL plane from the SIL plane to the recording medium. By)
Light propagates.

【0012】このエバネッセントモードの光は、透過・
伝播するのものに比較すれば弱い強度のものであり、さ
らに、伝播方向をxとすると、全反射領域での光は、
This evanescent mode light is transmitted and
As compared with the propagating type, the intensity is weaker. Further, when the propagating direction is x, the light in the total reflection area is

【0013】[0013]

【数1】 但し、(Equation 1) However,

【0014】[0014]

【数2】 に比例して伝播方向に指数関数的に減衰する光である。(Equation 2) Is light that attenuates exponentially in the propagation direction in proportion to.

【0015】従って、記録媒体が近接する状態にあって
も、記録媒体から見て、全反射領域の光は、減衰フィル
ターがかかったように見え、透過・伝播する領域の光が
支配的に記録媒体に到達するように見える。
Therefore, even when the recording medium is close to the recording medium, the light in the total reflection area looks as if the attenuation filter has been applied to the recording medium, and the light in the transmitting and propagating area is predominantly recorded. Seems to reach the medium.

【0016】上記減衰フィルターは、光学的なローパス
フィルターとして働く。
The attenuating filter functions as an optical low-pass filter.

【0017】また、SIL平面への入射角が臨界角に近
づく(即ち、NAが1)と、全反射に近づくこととな
り、透過率が急激に低下する。従って、NAがほぼ0.
9を超える径から光学的なローパスフィルターが働いて
いるように見える。
When the angle of incidence on the SIL plane approaches the critical angle (that is, NA is 1), it approaches total reflection, and the transmittance sharply decreases. Therefore, when the NA is almost 0.
It appears that the optical low pass filter is working from diameters above 9.

【0018】よって、結像されるスポットは、SILを
用いて得られるNAに比較して実効的に低NAによる結
像されるスポットとなってしまう。
Therefore, the spot to be imaged is a spot which is effectively formed by a low NA as compared with the NA obtained by using the SIL.

【0019】従って、本発明の目的は、光学系構成要素
の対物レンズとSILからなる光学系の高NAを十分に
反映した微小なスポットが得られる光学系を提供するこ
とにある。
Accordingly, it is an object of the present invention to provide an optical system capable of obtaining a minute spot sufficiently reflecting the high NA of an optical system including an objective lens and an SIL as components of the optical system.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】本発明の情報記録再生光
学系に於いては、上記課題を解決するものとして、光源
からの光束を対物レンズで集光し、SILの平面部に焦
点を結ばせ、SIL平面部に近接した記録面に情報を記
録し、または、前記記録面に記録された情報を再生する
為の光学系に於いて、記録、または再生に関与する光
は、前記記録面が近接して存在しない場合には、ほぼ非
伝播光となる光とする。
In the information recording / reproducing optical system of the present invention, as a means for solving the above-mentioned problems, a light beam from a light source is condensed by an objective lens and focused on a plane portion of the SIL. In an optical system for recording information on a recording surface close to the SIL plane portion or reproducing information recorded on the recording surface, light involved in recording or reproduction is transmitted to the recording surface. When there is no close proximity, the light is assumed to be substantially non-propagating light.

【0021】また、記録、または再生に関与する光は、
前記記録面が近接して存在しない場合には、非伝播光と
なる光とする為に、SILの平面部に入射する光は全反
射条件を満たしているように、遮光手段を設ける、或い
は光源からの光束の一部を偏向する偏向手段を設ける。
The light involved in recording or reproduction is:
When the recording surface does not exist close to the light source, a light-shielding unit is provided or a light source is provided so that light incident on the plane portion of the SIL satisfies the condition of total reflection, so that the light becomes non-propagating light. A deflecting means for deflecting a part of the light beam from the light source.

【0022】以上のようにすることにより、近接場効果
により記録媒体に伝播する光は、SILによる高NAを
反映したものとなる。
With the above arrangement, the light propagating to the recording medium due to the near-field effect reflects the high NA caused by the SIL.

【0023】また、透過・伝播する領域の光が非使用と
なる光学的超解像効果により、SILによる高NAを反
映したスポット、或いはそれよりもさらに微小なスポッ
トが形成出来る。
Further, a spot reflecting the high NA by the SIL or a spot smaller than that can be formed by the optical super-resolution effect in which the light in the transmitting / propagating region is not used.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】[実施形態1]次に、本発明の実
施形態1について述べる。
[Embodiment 1] Next, Embodiment 1 of the present invention will be described.

【0025】図1は記録再生に係る光磁気用光学ヘッド
光学系の概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram of a magneto-optical head optical system for recording and reproduction.

【0026】SIL2と記録媒体3の間隔は、浮上機構
(図示せず)で光源波長(λ)の1/8程度以下に保持
されている。
The distance between the SIL 2 and the recording medium 3 is kept at about 1 / or less of the light source wavelength (λ) by a levitation mechanism (not shown).

【0027】半導体レーザー5からの光束を、ビームス
プリッター7を経て対物レンズ1、SIL2の光学系で
SIL2の平面部に焦点を結ぶように結像している。半
導体レーザー5からビームスプリッター7への光路上に
後述する仕様の遮光手段4が設けられている。
The light beam from the semiconductor laser 5 passes through the beam splitter 7 and is imaged by the objective lens 1 and the optical system of the SIL 2 so as to focus on the plane portion of the SIL 2. On the optical path from the semiconductor laser 5 to the beam splitter 7, a light-shielding means 4 having the following specification is provided.

【0028】記録媒体3上には、λ/8という値に対し
て、有意な値を持たない程度の薄い透明保護膜で覆われ
た記録面がSIL2と対向して設けられている。
On the recording medium 3, a recording surface covered with a thin transparent protective film that does not have a significant value with respect to the value of λ / 8 is provided facing the SIL 2.

【0029】記録面が、焦点からλ/8程度という、焦
点から見て近接場光領域にあるので、結像スポットとほ
ぼ同等のスポットで記録再生がなされる。
Since the recording surface is located in the near-field light region when viewed from the focal point, which is about λ / 8 from the focal point, recording and reproduction are performed at a spot substantially equivalent to the imaged spot.

【0030】記録媒体3の記録面で反射した光は、記録
媒体3の記録面の情報を持ち、センサー11へと導かれ
る。8は1/2波長板、10は偏光ビームスプリッター
である。
The light reflected on the recording surface of the recording medium 3 has information on the recording surface of the recording medium 3 and is guided to the sensor 11. Reference numeral 8 denotes a half-wave plate, and reference numeral 10 denotes a polarization beam splitter.

【0031】そして、センサー11からの出力より、周
知の方法により、フォーカスエラー、トラッキングエラ
ー、光磁気信号等を得る。
Then, a focus error, a tracking error, a magneto-optical signal and the like are obtained from the output from the sensor 11 by a known method.

【0032】センサー12は、半導体レーザー5からの
光束の一部を受光し、半導体レーザー5出力をモニター
する。
The sensor 12 receives a part of the light beam from the semiconductor laser 5 and monitors the output of the semiconductor laser 5.

【0033】図2は、本実施形態の対物レンズとSIL
からなる高NA光学系を示している。
FIG. 2 shows the objective lens and SIL of this embodiment.
1 shows a high NA optical system consisting of:

【0034】単体での対物レンズ1のNAは0.60で
ある。
The NA of the objective lens 1 by itself is 0.60.

【0035】SIL2によるNA増大効果について考え
ると、SIL2の半球からの厚み増加分をtとすると、
Considering the NA increasing effect of SIL2, assuming that the thickness increase of SIL2 from the hemisphere is t,

【0036】[0036]

【数3】 但し、(Equation 3) However,

【0037】[0037]

【数4】 となる。(Equation 4) Becomes

【0038】本実施形態では、α≒0.77として、n
≒1.83でトータルのNAをNA≒1.68としてい
る。
In this embodiment, when α ≒ 0.77, n
At $ 1.83, the total NA is set to NA $ 1.68.

【0039】表1にレンズ系の設計例を示す。対物レン
ズの非球面係数を表2に示す。
Table 1 shows a design example of the lens system. Table 2 shows the aspheric coefficient of the objective lens.

【0040】[0040]

【表1】 [Table 1]

【0041】[0041]

【表2】 非球面形状は、光線高さをhとして、[Table 2] The aspherical shape has a ray height h,

【0042】[0042]

【数5】 で表される。(Equation 5) It is represented by

【0043】また、SIL2の平面部には図7に示され
ている特性の反射防止コートが施されている。これによ
り、記録媒体3からの反射光を効率よくSIL2へ集光
することが出来る。
The flat portion of the SIL 2 is provided with an antireflection coat having the characteristics shown in FIG. Thereby, the reflected light from the recording medium 3 can be efficiently focused on the SIL 2.

【0044】図中、縦軸はSIL2平面部の透過率、横
軸は、SIL2の屈折率とSIL2平面部への記録媒体
3からの反射光の入射角θの積である。TsはS偏光成
分の特性であり、TpはP偏光成分の特性である。
In the figure, the vertical axis represents the transmittance of the SIL2 plane, and the horizontal axis represents the product of the refractive index of the SIL2 and the incident angle θ of the reflected light from the recording medium 3 to the SIL2 plane. Ts is the characteristic of the S-polarized light component, and Tp is the characteristic of the P-polarized light component.

【0045】図より、n・Sinθが0.9程度までは
非常に高い透過率となっている。即ち、対物レンズ1、
SIL2の光学系を受光系として見た場合、NA=0.
9程度の受光系となる。
As shown in the figure, the transmittance is very high up to n · Sin θ of about 0.9. That is, the objective lens 1,
When the optical system of SIL2 is viewed as a light receiving system, NA = 0.
About 9 light receiving systems are provided.

【0046】次に、遮光手段4について説明する。Next, the light shielding means 4 will be described.

【0047】遮光手段4は、ガラス平行平板に楕円状に
遮光コートしたものを用いている。
As the light-shielding means 4, a glass parallel plate coated with an elliptical light-shield is used.

【0048】図3を用いて遮光手段4の仕様について述
べる。
The specification of the light shielding means 4 will be described with reference to FIG.

【0049】θ1を本実施形態でのSIL2への最大入
射角とし、SIL2内でθ2とする。即ち、Sinθ1
0.60、n・Sinθ2≒1.68である。
Let θ 1 be the maximum incident angle on the SIL 2 in this embodiment, and let θ 2 be within the SIL 2 . That is, Sin θ 1
0.60 and n · Sin θ 2 ≒ 1.68.

【0050】一方、n・Sinθ4≒1.0とすると、
θ4が臨界角に相当する。従って、θ 4以下の入射光線は
ほぼ透過する。
On the other hand, n · Sin θFourIf ≒ 1.0,
θFourCorresponds to the critical angle. Therefore, θ FourThe incident light below
Almost transparent.

【0051】従って、θ4に相当するSIL2への入射
角θ3以下の光線を遮光することにより、SIL2内で
θ4〜θ2の全反射条件を満たす光線のみを使用すること
が出来る。
Therefore, by blocking light rays having an angle of incidence θ 3 or less on SIL 2 corresponding to θ 4 , only light rays satisfying the total reflection condition of θ 4 to θ 2 in SIL 2 can be used.

【0052】図4に於いて、Wt≒1、Wr≒2(Wt
はビーム整形の作用する方向、Wrはそれと垂直方向を
示し、ビームスプリッター7のビーム整形比は約2.0
である。)とすることにより上記条件を満たせる。この
値は、Wrであれば、
In FIG. 4, Wt ≒ 1, Wr ≒ 2 (Wt ≒ 2)
Indicates the direction in which the beam shaping works, Wr indicates the direction perpendicular thereto, and the beam shaping ratio of the beam splitter 7 is about 2.0.
It is. ), The above condition can be satisfied. If this value is Wr,

【0053】[0053]

【数6】 Wtであれば、(Equation 6) If Wt,

【0054】[0054]

【数7】 より算出される。(Equation 7) It is calculated from:

【0055】以上のような光学系を用いると、対物レン
ズ1への入射強度分布は、近似的に図5の様になる。図
では、横軸は対物レンズの有効径の半径で規格化してあ
る。
When the optical system as described above is used, the distribution of the incident intensity on the objective lens 1 is approximately as shown in FIG. In the figure, the horizontal axis is normalized by the radius of the effective diameter of the objective lens.

【0056】また、SIL2平面上でのスポット強度分
布は、近似的に図6の様になる。図では、横軸はλ/N
Aで規格化してある。実線が本実施形態で、点線が比較
のための、光学的超解像効果のない場合に相当する。光
学的超解像効果によりスポット径が2割程度縮小してい
ることが分かる。
The spot intensity distribution on the SIL2 plane is approximately as shown in FIG. In the figure, the horizontal axis is λ / N
Standardized by A. A solid line corresponds to the present embodiment, and a dotted line corresponds to a case where there is no optical super-resolution effect for comparison. It can be seen that the spot diameter is reduced by about 20% due to the optical super-resolution effect.

【0057】図5より分かるように、光量損がかなり出
るが、形成されるスポットが、図6で示されているよう
に、高NAを反映して非常に微小なので、スポットの強
度密度はかなり大きくなり、相殺されて問題は無い。
As can be seen from FIG. 5, a considerable amount of light loss occurs. However, as shown in FIG. 6, since the formed spot is very small reflecting the high NA, the intensity density of the spot is considerably large. There is no problem because it gets bigger and is offset.

【0058】ところで、図6より分かるように、スポッ
ト径が縮小される分、サイドローブが大きくなる。
By the way, as can be seen from FIG. 6, the side lobe increases as much as the spot diameter is reduced.

【0059】しかしながら、前述した全反射領域が受光
時には遮光領域として働き、記録媒体からの反射光は概
ねNA<1に相当する光のみがSIL2へ戻るので、符
号間干渉や隣接トラックからのクロストークが抑えられ
る。
However, the above-described total reflection area functions as a light-shielding area when light is received, and only light corresponding to NA <1 returns to the SIL 2 as reflected light from the recording medium, so that intersymbol interference and crosstalk from adjacent tracks occur. Is suppressed.

【0060】以上のように、本実施形態の利点は、全反
射条件を満たす光線のみが対物レンズ1へ入射し、光学
系の高NAを反映したスポット以下の微小なスポットが
得られることにある。
As described above, the advantage of this embodiment is that only light rays satisfying the condition of total reflection are incident on the objective lens 1 and a minute spot smaller than the spot reflecting the high NA of the optical system is obtained. .

【0061】[実施形態2]次に、本発明の実施形態2
を示す。
[Embodiment 2] Next, Embodiment 2 of the present invention
Is shown.

【0062】図8は記録再生に係る光磁気用光学ヘッド
光学系の概略図である。
FIG. 8 is a schematic view of a magneto-optical head optical system for recording and reproduction.

【0063】本実施形態では、半導体レーザー5からの
光束を、ビームスプリッター7を経て対物レンズ1、S
IL2の光学系でSIL2の平面部に焦点を結ぶように
結像している。半導体レーザー5からビームスプリッタ
ー7への光路上に先の遮光手段4の遮光部分と同じ大き
さの偏向部を有する偏向手段13が設けられている。
In this embodiment, the luminous flux from the semiconductor laser 5 is passed through the beam splitter 7 to the objective lens 1, S
An image is formed by the optical system of the IL2 so as to focus on the plane portion of the SIL2. On the optical path from the semiconductor laser 5 to the beam splitter 7, there is provided a deflecting means 13 having a deflecting portion having the same size as the light shielding portion of the light shielding means 4 described above.

【0064】偏向部は図9に示すようなブレーズ化され
た回折格子を有し、その回折格子で、ほぼ100%の光
を光源出力モニター用センサー12へ向けて回折する。
The deflecting unit has a blazed diffraction grating as shown in FIG. 9, and the diffraction grating diffracts almost 100% of the light toward the light source output monitor sensor 12.

【0065】対物レンズ1、SIL2からなる光学系は
実施形態1に同じであり、スポットもほぼ同じものが得
られる。
The optical system including the objective lens 1 and the SIL 2 is the same as that of the first embodiment, and almost the same spot can be obtained.

【0066】以上のように、この実施形態の利点も、実
施形態1と同様、全反射条件を満たす光線のみが対物レ
ンズ1へ入射し、光学系の高NAを反映したスポット以
下の微小なスポットが得られることにある。
As described above, the advantage of this embodiment is that, similarly to the first embodiment, only the light beam satisfying the total reflection condition is incident on the objective lens 1 and a minute spot smaller than the spot reflecting the high NA of the optical system. Is to be obtained.

【0067】[0067]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
1.0を超える高NA光学系で、全反射条件を満たす光
線のみを使用するようにしたので、その高NAを反映し
たスポット、或いはそれ以下の大きさの微小なスポット
が形成出来、本光学系を用いることにより超高密度情報
記録再生装置の提供が可能となる。
As described above, according to the present invention,
Since only a light beam satisfying the condition of total reflection is used in a high NA optical system exceeding 1.0, a spot reflecting the high NA or a small spot smaller in size can be formed. By using the system, it becomes possible to provide an ultra-high-density information recording / reproducing apparatus.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態1に係る光磁気用光学ヘッド
光学系を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a magneto-optical head optical system according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施形態1及び2に係る高NA光学系
を示す図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a high NA optical system according to Embodiments 1 and 2 of the present invention.

【図3】遮光手段の仕様を説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining specifications of a light shielding unit.

【図4】本発明の実施形態1に係る遮光手段を示す概念
図である。
FIG. 4 is a conceptual diagram illustrating a light shielding unit according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施形態1及び2に係る対物レンズ入
射強度分布を近似的に表した図である。
FIG. 5 is a diagram approximately illustrating an objective lens incident intensity distribution according to Embodiments 1 and 2 of the present invention.

【図6】本発明の実施形態1及び2に係るスポット強度
分布を近似的に表した図である。
FIG. 6 is a diagram schematically showing a spot intensity distribution according to the first and second embodiments of the present invention.

【図7】SIL平面部の為に設計された反射防止コート
の特性を示すグラフである。
FIG. 7 is a graph showing characteristics of an anti-reflection coat designed for an SIL flat portion.

【図8】本発明の実施形態2に係る光磁気用光学ヘッド
光学系を示す概略図である。
FIG. 8 is a schematic diagram showing a magneto-optical optical head optical system according to a second embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施形態2に係る偏向手段を示す概念
図である。
FIG. 9 is a conceptual diagram showing a deflection unit according to a second embodiment of the present invention.

【図10】従来例のSIL光学系を説明するための図で
ある。
FIG. 10 is a diagram illustrating a conventional SIL optical system.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 対物レンズ 2 ソリッドイマージョンレンズ(SIL) 3 記録媒体 4 遮光手段 13 偏向手段 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Objective lens 2 Solid immersion lens (SIL) 3 Recording medium 4 Shielding means 13 Deflection means

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光源からの光束を対物レンズで集光し、
ソリッドイマージョンレンズの平面部に焦点を結ばせ、
該ソリッドイマージョンレンズ平面部に近接した記録面
に情報を記録し、または、前記記録面に記録された情報
を再生する為の光学系に於いて、 記録、または再生に関与する光は、前記記録面が近接し
て存在しない場合には、ほぼ非伝播光となる光であるこ
とを特徴とする情報記録再生光学系。
1. A light beam from a light source is condensed by an objective lens.
Focus on the flat part of the solid immersion lens,
In the optical system for recording information on the recording surface close to the solid immersion lens plane portion or for reproducing the information recorded on the recording surface, the light involved in recording or reproduction is the recording. An information recording / reproducing optical system characterized in that the light is substantially non-propagating light when the surface does not exist in proximity.
【請求項2】 前記ソリッドイマージョンレンズの平面
部に入射する光が全反射条件を満たしているように、遮
光手段を設けたことを特徴とする請求項1に記載の情報
記録再生光学系。
2. The information recording / reproducing optical system according to claim 1, wherein a light shielding means is provided so that light incident on a plane portion of the solid immersion lens satisfies a condition of total reflection.
【請求項3】 前記ソリッドイマージョンレンズの平面
部に入射する光が全反射条件を満たしているように、前
記光源からの光束の一部を偏向する偏向手段を設けたこ
とを特徴とする請求項1に記載の情報記録再生光学系。
3. A deflecting means for deflecting a part of a light beam from the light source so that light incident on a plane portion of the solid immersion lens satisfies a condition of total reflection. 2. The information recording / reproducing optical system according to 1.
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