JP2000011349A - Thin film device with electrostatic destruction preventing means - Google Patents

Thin film device with electrostatic destruction preventing means

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JP2000011349A
JP2000011349A JP11115569A JP11556999A JP2000011349A JP 2000011349 A JP2000011349 A JP 2000011349A JP 11115569 A JP11115569 A JP 11115569A JP 11556999 A JP11556999 A JP 11556999A JP 2000011349 A JP2000011349 A JP 2000011349A
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JP
Japan
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thin film
film
switch means
magnetic head
thin
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JP11115569A
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Japanese (ja)
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Koji Shimazawa
幸司 島沢
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TDK Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thin film device capable of easily constituting and releasing an electrostatic destruction preventive function and easily additionally fitting an electrostatic destruction preventing means. SOLUTION: This thin film device is provided with a thin film element 1, at least two lead conductors 21, 22 and a switch means 3. The lead conductors 21, 22 whose one ends are connected to the thin film element 1, and the other ends are connected to output terminals 41, 42. The switch means 3 is connected between the lead conductors 21-22, and switching operation is executed by energy S1 imparted from the outside to prevent the electrostatic destruction of the thin film element 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、静電破壊防止手段
を有する薄膜装置に関する。
The present invention relates to a thin film device having means for preventing electrostatic breakdown.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路素子や、薄膜磁気変換素
子等の各種薄膜素子は、電流容量がきわめて小さい。こ
のため、製造、組立工程において、薄膜素子を取り扱う
作業員の人体に帯電している静電荷が薄膜素子に印加さ
れた場合、薄膜素子に過電流が流れ、容易に静電破壊を
生じてしまう。更に、薄膜素子の諸特性が、過電流、そ
れに起因して発生する磁界や熱等によって、変化してし
まうこともある。
2. Description of the Related Art Various thin-film devices such as semiconductor integrated circuit devices and thin-film magnetic transducers have extremely small current capacities. For this reason, in a manufacturing and assembling process, when an electrostatic charge charged to a human body of a worker who handles a thin film element is applied to the thin film element, an overcurrent flows through the thin film element, and electrostatic breakdown easily occurs. . Further, various characteristics of the thin film element may change due to an overcurrent, a magnetic field or heat generated due to the overcurrent.

【0003】具体例として、磁気抵抗効果膜を、読み取
り素子として用いた薄膜磁気ヘッドを例にとって説明す
る。薄膜磁気ヘッドでは、磁気抵抗効果膜のより一層の
高感度化及び高出力化に対応する手段として、磁性層と
非磁性層とを積層して構成した高い磁気抵抗効果を有す
る磁性多層膜が注目され、実用に供されている。磁性多
層膜の中でも、その高い再生感度により、最も注目を集
めているのがスピンバルブ膜である。スピンバルブ膜に
関する公知文献例としては、例えばPHYSICAL REVIEW B
43巻、1297頁、1991年、Journal of applied physics 69
巻、4774頁、1991年、特開平4-358310号公報等がある。
As a specific example, a thin film magnetic head using a magnetoresistive film as a reading element will be described as an example. In thin-film magnetic heads, as a means for responding to higher sensitivity and higher output of a magnetoresistive film, a magnetic multilayer film having a high magnetoresistive effect formed by laminating a magnetic layer and a nonmagnetic layer attracts attention. It has been put to practical use. Among magnetic multilayer films, a spin valve film has attracted the most attention due to its high reproduction sensitivity. Known examples of spin valve films include, for example, PHYSICAL REVIEW B
43, 1297, 1991, Journal of applied physics 69
Vol., Page 4774, 1991, JP-A-4-358310.

【0004】一般的なスピンバルブ膜はNiFe/Cu/(NiFe
or Co)/FeMnの膜構成を有している。スピンバルブ膜で
は、反強磁性層(Pin層)に接している磁性層(Pined
層)の磁化が固定されるのに対し、もう一方の磁性層
(フリー層)の磁化が外部磁界によって自由に回転し、
磁化の反平行状態が実現されることにより、高い磁気抵
抗効果が得られる。
A typical spin valve film is NiFe / Cu / (NiFe
or Co) / FeMn. In a spin valve film, a magnetic layer (Pined layer) in contact with an antiferromagnetic layer (Pin layer)
Layer), while the magnetization of the other magnetic layer (free layer) is freely rotated by an external magnetic field,
By realizing the antiparallel state of magnetization, a high magnetoresistance effect can be obtained.

【0005】ところが、スピンバルブ膜は、電流容量が
きわめて小さい。このため、製造、組立工程において、
磁気ヘッド組立体を取り扱う作業員の人体に帯電してい
る静電荷が磁気ヘッド組立体に印加された場合、スピン
バルブ膜に過電流が流れ、容易に静電破壊を生じてしま
う。
However, the spin valve film has a very small current capacity. Therefore, in the manufacturing and assembly process,
When an electrostatic charge, which is charged on a human body of a worker who handles the magnetic head assembly, is applied to the magnetic head assembly, an overcurrent flows through the spin valve film, and electrostatic breakdown easily occurs.

【0006】また、スピンバルブ膜では、磁気抵抗効果
は、反強磁性層に接しているピン層の固定磁化方向に対
するフリー層の磁化方向の相対的な回転角度によって定
まる。このような構造のスピンバルブ膜に、静電荷が飛
び込んだ場合、電荷の移動方向、あるいは、電荷の移動
に起因して発生する磁界や熱等によって、ピン層の固定
磁化方向が変化してしまう。ピン層の固定磁化方向が変
化してしまうと、磁気抵抗効果の度合が変化し、所定の
再生特性が得られなくなる。
In the spin valve film, the magnetoresistance effect is determined by the relative rotation angle of the magnetization direction of the free layer with respect to the fixed magnetization direction of the pinned layer in contact with the antiferromagnetic layer. When the electrostatic charge jumps into the spin valve film having such a structure, the fixed magnetization direction of the pinned layer changes due to the moving direction of the charge, or a magnetic field or heat generated due to the movement of the charge. . If the fixed magnetization direction of the pin layer changes, the degree of the magnetoresistance effect changes, and a predetermined reproduction characteristic cannot be obtained.

【0007】薄膜磁気ヘッドにおいて、静電破壊を防止
する手段として、特開平7ー85422号公報は、誘導型薄膜
素子と、磁気抵抗型薄膜素子とを103〜109Ωcmの物
質で短絡すると共に、磁気抵抗効果膜に接続される一対
の端子間に、少なくとも1つ以上のダイオードを接続す
る技術を開示している。この先行技術の問題点は、磁気
ヘッドの製造工程において、その内部に、誘導型薄膜素
子と、磁気抵抗型薄膜素子とを短絡する抵抗物質を設け
なければならない点にある。
As means for preventing electrostatic breakdown in a thin film magnetic head, JP-A-7-85422 discloses that an inductive type thin film element and a magnetoresistive type thin film element are short-circuited with a substance of 10 3 to 10 9 Ωcm. Also disclosed is a technique for connecting at least one or more diodes between a pair of terminals connected to the magnetoresistive film. The problem of this prior art is that in the manufacturing process of the magnetic head, a resistive substance for short-circuiting the inductive type thin film element and the magnetoresistive type thin film element must be provided therein.

【0008】また、特開平7ー141636号公報は、フレキシ
ブルプリント基板を、磁気抵抗効果膜のためのリード導
体として用いる構成において、製造、組立作業中は、磁
気抵抗効果膜に接続される二つの端子を短絡しておき、
組立作業後の特性測定作業前に、フレキシブルプリント
基板を切断して短絡箇所を開放する技術を開示してい
る。特性測定作業は、フレキシブルプリント基板を切断
して短絡箇所を開放した状態で行なう。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-141636 discloses a configuration in which a flexible printed circuit board is used as a lead conductor for a magnetoresistive effect film. Short-circuit the terminals,
A technique for cutting a flexible printed circuit board to open a short-circuit portion before a characteristic measuring operation after an assembling operation is disclosed. The characteristic measurement operation is performed in a state where the flexible printed circuit board is cut to open the short-circuited portion.

【0009】この先行技術の問題点は、特性測定作業後
に発生することのある静電帯電、及び、それに伴う静電
破壊を防止するため、特性測定に当たって、一旦解除さ
れた静電破壊防止手段を、再度構成しなければならない
点にある。例えば、メーカからユーザへの輸送過程、ユ
ーザでの受け入れ検査時、及び、磁気ディスク装置への
組み立て時等においても、帯電、及び、それに伴う静電
破壊、特性変化を招く危険性があることから、これを回
避するために、特性測定作業に当たって、一旦解除され
た静電破壊防止手段を、再度構成しなければならない。
The problem of this prior art is that, in order to prevent electrostatic charging that may occur after the characteristic measuring operation and the accompanying electrostatic destruction, the electrostatic destruction preventing means once released in the characteristic measurement is used. In that it must be reconfigured. For example, during the transportation process from the manufacturer to the user, at the time of the acceptance inspection by the user, and also at the time of assembling to the magnetic disk device, there is a risk of causing the electrostatic charge and the resulting electrostatic breakdown and characteristic change. In order to avoid this, it is necessary to reconfigure the electrostatic breakdown preventing means once released in the characteristic measuring operation.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、静電
破壊防止機能の構成及び解除を、手軽に実行できる薄膜
装置を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a thin film device which can easily carry out the construction and release of an electrostatic discharge protection function.

【0011】本発明のもう一つの課題は、薄膜素子に対
して、静電破壊防止手段を簡単に外付できる薄膜装置を
提供することである。
Another object of the present invention is to provide a thin film device which can easily attach an electrostatic discharge preventing means to a thin film element.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上述した課題解決のた
め、本発明に係る薄膜装置は、薄膜素子と、少なくとも
2本のリード導体と、少なくとも1つのスイッチ手段と
を含む。前記リード導体は前記薄膜素子に接続されてい
る。前記スイッチ手段は前記リード導体に接続され、外
部から与えられるエネルギーによってスイッチング動作
をし、前記薄膜素子の静電破壊を防止する。
In order to solve the above-mentioned problems, a thin-film device according to the present invention includes a thin-film element, at least two lead conductors, and at least one switch. The lead conductor is connected to the thin film element. The switch means is connected to the lead conductor and performs a switching operation by externally applied energy to prevent electrostatic breakdown of the thin film element.

【0013】上述した薄膜装置において、リード導体は
薄膜素子に接続されているから、薄膜素子からの信号出
力、または、薄膜素子への信号の入力を、リード導体を
通して行なうことができる。
In the above-described thin film device, since the lead conductor is connected to the thin film element, a signal output from the thin film element or a signal input to the thin film element can be performed through the lead conductor.

【0014】スイッチ手段は、外部から与えられるエネ
ルギーによってスイッチング動作をする。従って、外部
からスイッチ手段へエネルギーを供給し、または、供給
を停止することにより、スイッチ手段にスイッチング動
作をさせることができる。
The switch means performs a switching operation by externally applied energy. Therefore, by supplying or stopping the supply of energy to the switch means from the outside, the switch means can perform a switching operation.

【0015】スイッチ手段は、リード導体に接続され、
スイッチング動作により、薄膜素子の静電破壊を防止す
る。具体的には、スイッチ手段のスイッチング動作に応
じて、薄膜素子に接続されたリード導体間を短絡し、ま
たは、リード導体及び薄膜素子を含む回路ループを、オ
ープン状態にする。このため、製造、組立工程におい
て、作業員の人体に帯電している静電荷が、リード導体
に飛び込んでも、薄膜素子に過電流が流れることがな
い。従って、薄膜素子の静電破壊や特性変化を防止する
ことができる。スイッチ手段にエネルギーを供給する手
段は薄膜装置自体に備えてもよいし、薄膜装置とは別に
備えてもよい。
The switch means is connected to the lead conductor,
The switching operation prevents the electrostatic breakdown of the thin film element. Specifically, according to the switching operation of the switch means, the lead conductors connected to the thin film element are short-circuited, or the circuit loop including the lead conductor and the thin film element is opened. For this reason, in the manufacturing and assembling processes, even if the electrostatic charge charged on the worker's body jumps into the lead conductor, no overcurrent flows through the thin film element. Therefore, it is possible to prevent electrostatic breakdown and characteristic change of the thin film element. The means for supplying energy to the switch means may be provided in the thin film device itself, or may be provided separately from the thin film device.

【0016】メーカからユーザへの輸送過程、ユーザで
の受け入れ検査時、及び、磁気ディスク装置への組み立
て時等においても、帯電、及び、それに伴う静電破壊や
特性変化を防止することができる。
In the transportation process from the manufacturer to the user, during the acceptance inspection by the user, and also during the assembling to the magnetic disk device, it is possible to prevent the charging, the electrostatic breakdown and the characteristic change accompanying the charging.

【0017】特性測定作業等のために、薄膜素子に信号
を供給し、または薄膜素子から信号を取り出す場合は、
スイッチ手段に対し、エネルギーを供給し、または、エ
ネルギー供給を停止することにより、薄膜素子から出力
端子に向かって正常な信号伝送ラインを構成できる。
When a signal is supplied to a thin film element or a signal is extracted from the thin film element for a characteristic measuring operation or the like,
By supplying energy to the switch means or stopping the supply of energy, a normal signal transmission line can be formed from the thin film element to the output terminal.

【0018】上述のように、スイッチ手段に対して、外
部からエネルギーを供給し、または供給を停止するだけ
の手軽な操作で、静電破壊防止機能の構成及び解除を実
行できる。しかも、薄膜素子に対して、スイッチ手段を
外付けするだけで、静電破壊防止機能を簡単に付加する
ことができる。
As described above, the configuration and release of the electrostatic breakdown prevention function can be executed by a simple operation of simply supplying or stopping the supply of energy to the switch means from the outside. Moreover, the electrostatic breakdown preventing function can be easily added to the thin film element only by externally attaching the switch means.

【0019】静電破壊防止手段を構成するスイッチ手段
の好ましい例は、正の抵抗温度係数を有するサーミスタ
素子(以下PTCサーミスタ素子と称する)である。P
TCサーミスタ素子を制御するためのエネルギーは、熱
エネルギーとして与える。PTCサーミスタ素子を加熱
手段により直接に加熱してもよい。
A preferred example of the switching means constituting the electrostatic breakdown preventing means is a thermistor element having a positive temperature coefficient of resistance (hereinafter referred to as a PTC thermistor element). P
Energy for controlling the TC thermistor element is given as thermal energy. The PTC thermistor element may be directly heated by the heating means.

【0020】別の手段として、加熱用PTCサーミスタ
素子を備え、加熱用PTCサーミスタ素子により、スイ
ッチ手段を構成するPTCサーミスタ素子に熱エネルギ
ーを与える構成であってもよい。
As another means, a heating PTC thermistor element may be provided, and the heating PTC thermistor element may apply heat energy to the PTC thermistor element constituting the switch means.

【0021】スイッチ手段は、負の抵抗温度特性を有す
るサーミスタ素子(以下NTCサーミスタ素子と称す
る)を含むこともできる。
The switching means may include a thermistor element having a negative resistance temperature characteristic (hereinafter referred to as an NTC thermistor element).

【0022】スイッチ手段は、半導体スイッチを含むこ
ともできる。この場合、半導体スイッチは、フォトトラ
ンジスタと発光素子との組み合わせ(フォトカプラ)ま
たはフォトトランジスタであってもよいし、3端子スイ
ッチ素子であってもよい。更に、別の態様として、機械
的スイッチ手段を含んでいてもよい。
The switching means may include a semiconductor switch. In this case, the semiconductor switch may be a combination of a phototransistor and a light emitting element (photocoupler), a phototransistor, or a three-terminal switch element. Further, as another aspect, a mechanical switch means may be included.

【0023】本発明において、薄膜素子は、半導体集積
回路素子であってもよいし、磁気抵抗効果膜であっても
よい。薄膜素子が磁気抵抗効果膜でなる場合、本発明
は、多層膜構造を有する磁気抵抗効果膜に適用して、大
きな効果を得ることができる。多層膜構造を有する磁気
抵抗効果膜の代表例は、スピンバルブ膜構造を有する磁
気抵抗効果膜である。このような磁気抵抗効果膜は、薄
膜磁気ヘッドの再生素子として用いられる。
In the present invention, the thin film element may be a semiconductor integrated circuit element or a magnetoresistive film. When the thin film element is made of a magnetoresistive film, the present invention can be applied to a magnetoresistive film having a multilayer structure to obtain a great effect. A typical example of a magnetoresistive film having a multilayer structure is a magnetoresistive film having a spin valve film structure. Such a magnetoresistive film is used as a reproducing element of a thin film magnetic head.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】図1は本発明に係る薄膜装置の構
成を概略的に示す図である。図示するように、本発明に
係る薄膜装置は、薄膜素子1と、少なくとも2本のリー
ド導体21、22と、スイッチ手段3とを含む。薄膜素
子1は、リード導体21、22の一端に接続されてい
る。リード導体21、22は、他端が出力端子41、4
2に導かれている。
FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a thin film device according to the present invention. As shown, the thin-film device according to the present invention includes a thin-film element 1, at least two lead conductors 21 and 22, and switch means 3. The thin film element 1 is connected to one ends of the lead conductors 21 and 22. The other ends of the lead conductors 21 and 22 are output terminals 41 and 4.
It is led to 2.

【0025】スイッチ手段3を構成するスイッチ素子3
1は、リード導体21ー22間に接続され、外部から与
えられるエネルギーS1によってスイッチング動作を
し、薄膜素子の静電破壊を防止する回路を構成する。
Switch element 3 constituting switch means 3
Reference numeral 1 denotes a circuit connected between the lead conductors 21 and 22 for performing a switching operation by energy S1 given from the outside and preventing electrostatic breakdown of the thin film element.

【0026】上述した薄膜装置において、リード導体2
1、22は、一端が薄膜素子1に接続され、他端が出力
端子41、42に接続されているから、薄膜素子1から
の信号出力、または、薄膜素子1への信号の供給を、出
力端子41、42及びリード導体21、22を通して行
なうことができる。
In the thin film device described above, the lead conductor 2
Since one end of each of the thin film elements 1 and 22 is connected to the thin film element 1 and the other end is connected to each of the output terminals 41 and 42, the signal output from the thin film element 1 or the supply of the signal to the thin film element 1 is output. This can be performed through the terminals 41 and 42 and the lead conductors 21 and 22.

【0027】スイッチ素子31は外部から与えられるエ
ネルギーS1によってスイッチング動作をする。従っ
て、外部からスイッチ素子31へエネルギーS1を供給
し、または、供給を停止することにより、スイッチ手段
3にスイッチング動作させることができる。
The switching element 31 performs a switching operation by the energy S1 given from the outside. Therefore, by supplying or stopping the supply of the energy S1 to the switch element 31 from the outside, the switching means 3 can perform the switching operation.

【0028】実施例の場合、スイッチ手段3を構成する
スイッチ素子31はリード導体21ー22間に接続され
ているから、外部からのエネルギーS1によって、スイ
ッチ素子31を閉状態にした場合は、薄膜素子1に接続
されたリード導体21ー22間がスイッチ素子31によ
って短絡される。このため、製造、組立工程において、
作業員の人体に帯電している静電荷が、出力端子41、
42から飛び込んでも、スイッチ手段3によって短絡さ
れ、薄膜素子1に流れることがない。従って、薄膜素子
1の静電破壊や特性変化を防止することができる。
In the case of the embodiment, since the switch element 31 constituting the switch means 3 is connected between the lead conductors 21 and 22, when the switch element 31 is closed by the energy S1 from the outside, a thin film is used. The switch element 31 short-circuits between the lead conductors 21 and 22 connected to the element 1. Therefore, in the manufacturing and assembly process,
The static charge charged on the worker's body is output terminal 41,
Even when jumping from 42, it is short-circuited by the switch means 3 and does not flow into the thin film element 1. Therefore, it is possible to prevent the electrostatic breakdown and characteristic change of the thin film element 1.

【0029】メーカからユーザへの輸送過程、ユーザで
の受け入れ検査時、及び、磁気ディスク装置への組み立
て時等においても、スイッチ素子31が閉状態を維持す
る限り、帯電、及び、それに伴う静電破壊や特性変化を
防止することができる。
In the transportation process from the manufacturer to the user, at the time of the acceptance inspection by the user, and at the time of assembling to the magnetic disk drive, as long as the switch element 31 is kept closed, the charging and the accompanying electrostatic charge are performed. Destruction and characteristic change can be prevented.

【0030】特性測定作業等のために、薄膜素子1に信
号を供給し、または薄膜素子1から信号を取り出す場合
は、スイッチ素子31に対し、開状態にするエネルギー
S1を供給すればよい。これにより、薄膜素子1と出力
端子41、42との間に正常な信号伝送ラインが構成さ
れるので、特性測定作業を行なうことができる。
When a signal is supplied to the thin-film element 1 or a signal is extracted from the thin-film element 1 for a characteristic measuring operation or the like, the switching element 31 may be supplied with energy S1 for opening. Thus, a normal signal transmission line is formed between the thin film element 1 and the output terminals 41 and 42, so that a characteristic measuring operation can be performed.

【0031】上述のように、スイッチ素子31に対し
て、外部からエネルギーS1を供給し、または供給を停
止するだけの手軽な操作で、静電破壊防止機能の構成及
び解除を実行できる。しかも、薄膜素子1に対して、ス
イッチ素子31を外付けするだけで、静電破壊防止機能
を簡単に付加することができる。
As described above, the configuration and release of the electrostatic breakdown prevention function can be executed by a simple operation of simply supplying the energy S1 to the switch element 31 from the outside or stopping the supply. Moreover, the electrostatic breakdown preventing function can be easily added to the thin film element 1 simply by attaching the switch element 31 externally.

【0032】図2は本発明に係る薄膜装置の具体的な実
施例を示す図である。図において、図1に示された構成
部分と同一の構成部分については、同一の参照符号を付
してある。この実施例では、スイッチ手段3は、PTC
サーミスタ素子31で構成されている。PTCサーミス
タ素子31へのエネルギーS1は、熱エネルギーとして
与える。実施例の場合、PTCサーミスタ素子31を加
熱手段により直接に加熱する。
FIG. 2 is a view showing a specific embodiment of the thin film device according to the present invention. In the figure, the same components as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. In this embodiment, the switch means 3 is a PTC
It consists of a thermistor element 31. Energy S1 to the PTC thermistor element 31 is given as thermal energy. In the case of the embodiment, the PTC thermistor element 31 is directly heated by the heating means.

【0033】スイッチ手段3をPTCサーミスタ素子3
1で構成することの利点は、PTCサーミスタ素子31
は、常温で低抵抗体(例えば数Ω)として動作し、それ
によってリード導体21ー22間が短絡状態になるか
ら、静電破壊防止のために、外部からエネルギーS1を
供給する必要がないことである。このことは、静電帯電
を生じる可能性のある各場面、例えば、製造、組立工
程、メーカからユーザへの輸送過程、ユーザでの受け入
れ検査時、及び、磁気ディスク装置への組み立て時等に
おいて、外部から、エネルギーS1を与えることなく、
帯電、及び、それに伴う静電破壊や特性変化を防止する
ことができることを意味する。
The switching means 3 is a PTC thermistor element 3
1 is advantageous in that the PTC thermistor element 31
Operates as a low-resistance element (for example, several ohms) at normal temperature, which causes a short circuit between the lead conductors 21 and 22. Therefore, there is no need to supply energy S1 from the outside to prevent electrostatic breakdown. It is. This means that in various situations where electrostatic charging may occur, for example, in the manufacturing and assembly process, in the transportation process from the manufacturer to the user, during acceptance inspection by the user, and during assembly into the magnetic disk drive, Without giving energy S1 from outside,
This means that charging, and electrostatic breakdown and characteristic changes accompanying the charging can be prevented.

【0034】図3は本発明に係る薄膜装置の更に別の実
施例を示す図である。図において、図1に示された構成
部分と同一の構成部分については、同一の参照符号を付
してある。実施例において、スイッチ手段3として用い
られるPTCサーミスタ素子31の他、加熱用PTCサ
ーミスタ素子32を備える。加熱用PTCサーミスタ素
子32により、PTCサーミスタ素子31に熱エネルギ
ーを与える。加熱用PTCサーミスタ素子32は、外部
から供給される電気信号S1によって駆動される。
FIG. 3 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention. In the figure, the same components as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. In the embodiment, a heating PTC thermistor element 32 is provided in addition to the PTC thermistor element 31 used as the switch means 3. Heat energy is given to the PTC thermistor element 31 by the heating PTC thermistor element 32. The heating PTC thermistor element 32 is driven by an electric signal S1 supplied from the outside.

【0035】図4は本発明に係る薄膜装置の更に別の実
施例を示す図である。図において、図1に示された構成
部分と同一の構成部分については、同一の参照符号を付
してある。実施例において、スイッチ手段3は、負の抵
抗温度係数を有するサーミスタ素子(以下NTCサーミ
スタ素子と称する)311、312を含んでいる。NT
Cサーミスタ素子311、312は、リード導体21、
22に直列に接続されている。実施例では、2個のNT
Cサーミスタ素子311、312が示されているが1個
であってもよいし、2個以上であってもよい。
FIG. 4 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention. In the figure, the same components as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. In the embodiment, the switching means 3 includes thermistor elements 311 and 312 having a negative temperature coefficient of resistance (hereinafter referred to as NTC thermistor elements). NT
The C thermistor elements 311 and 312
22 in series. In the embodiment, two NTs
Although the C thermistor elements 311 and 312 are shown, the number may be one or two or more.

【0036】スイッチ手段3をNTCサーミスタ素子3
11、312で構成した場合は、駆動タイミングがPT
Cサーミスタ素子とは逆になる。即ち、NTCサーミス
タ素子311、312は、常温では抵抗値が高く、開状
態にある。閉動作をさせるには、熱エネルギーを与えれ
ばよい。
The switching means 3 is an NTC thermistor element 3
11, 312, the drive timing is PT
It is the reverse of the C thermistor element. That is, the NTC thermistor elements 311 and 312 have a high resistance at room temperature and are in an open state. To perform the closing operation, heat energy may be applied.

【0037】上述のように、NTCサーミスタ素子31
1、312は、常温では抵抗値が高く、開状態にあるか
ら、静電破壊を阻止する必要がある場合は、NTCサー
ミスタ素子311、312は常温に保つ。この状態であ
れば、製造、組立工程において、作業員の人体に帯電し
ている静電荷が、出力端子41、42から飛び込んで
も、高抵抗値を有するNTCサーミスタ素子311、3
12による電流制限作用が働き、薄膜素子1に過電流が
流れることがない。従って、薄膜素子1の静電破壊や特
性変化を防止することができる。
As described above, the NTC thermistor element 31
1 and 312 have a high resistance at room temperature and are in an open state. Therefore, when it is necessary to prevent electrostatic breakdown, the NTC thermistor elements 311 and 312 are kept at room temperature. In this state, in the manufacturing and assembling processes, even if the electrostatic charge charged to the worker's body jumps from the output terminals 41 and 42, the NTC thermistor elements 311, 3 having a high resistance value.
As a result, the current limiting function of the thin film element 12 works, and no overcurrent flows through the thin film element 1. Therefore, it is possible to prevent the electrostatic breakdown and characteristic change of the thin film element 1.

【0038】メーカからユーザへの輸送過程、ユーザで
の受け入れ検査時、及び、磁気ディスク装置への組み立
て時等においても、帯電、及び、それに伴う静電破壊や
特性変化を防止することができる。
In the transportation process from the manufacturer to the user, at the time of the acceptance inspection by the user, and also at the time of assembling into the magnetic disk device, it is possible to prevent the charging, the electrostatic breakdown and the characteristic change accompanying the charging.

【0039】特性測定作業等のために、薄膜素子1に信
号を供給し、または薄膜素子1から信号を取り出す場合
は、NTCサーミスタ素子311、312に対し、熱エ
ネルギーを供給すればよい。これにより、NTCサーミ
スタ素子311、312の抵抗値が低下し、薄膜素子1
と出力端子41、42との間に正常な信号伝送ラインが
構成されるので、特性測定作業を行なうことができる。
When a signal is supplied to the thin-film element 1 or a signal is extracted from the thin-film element 1 for a characteristic measuring operation or the like, heat energy may be supplied to the NTC thermistor elements 311 and 312. As a result, the resistance values of the NTC thermistor elements 311 and 312 decrease, and the thin film element 1
Since a normal signal transmission line is formed between the output terminal 41 and the output terminals 41 and 42, a characteristic measuring operation can be performed.

【0040】上述のように、スイッチ手段3を構成する
NTCサーミスタ素子311、312に対して、外部か
ら、熱エネルギーを供給し、または、供給を停止するだ
けの手軽な操作で、静電破壊防止機能の構成及び解除を
実行できる。
As described above, a simple operation of supplying heat energy or stopping the supply of heat to the NTC thermistor elements 311 and 312 constituting the switch means 3 to prevent electrostatic breakdown. Configuration and release of functions can be performed.

【0041】スイッチ手段3をNTCサーミスタ素子3
11、312で構成することの利点は、NTCサーミス
タ素子311、312が、常温で高抵抗体として動作
し、それによって、薄膜素子1に流れる電流を制限する
ので、静電破壊防止のために、外部から熱エネルギーを
供給する必要がないことである。このことは、静電帯電
を生じる可能性のある各場面、例えば、製造、組立工
程、メーカからユーザへの輸送過程、ユーザでの受け入
れ検査時、及び、磁気ディスク装置への組み立て時等に
おいて、外部から熱エネルギーを与えることなく、帯
電、及び、それに伴う静電破壊や特性変化を防止するこ
とができることを意味する。
Switch means 3 is NTC thermistor element 3
The advantage of the configuration of the NTC thermistor elements 311 and 312 is that the NTC thermistor elements 311 and 312 operate as a high-resistance element at normal temperature, thereby limiting the current flowing through the thin-film element 1. There is no need to supply heat energy from outside. This means that in various situations where electrostatic charging may occur, for example, in the manufacturing and assembly process, in the transportation process from the manufacturer to the user, during acceptance inspection by the user, and during assembly into the magnetic disk drive, This means that electrification and the accompanying electrostatic breakdown and characteristic change can be prevented without applying external thermal energy.

【0042】図5は本発明に係る薄膜装置の更に別の実
施例を示す図である。図において、図1に示された構成
部分と同一の構成部分については、同一の参照符号を付
してある。実施例において、スイッチ手段3として用い
られるNTCサーミスタ素子311、312に対し、加
熱用PTCサーミスタ素子32により、熱エネルギーを
与えるようになっている。加熱用PTCサーミスタ素子
32は、端子43、44を通して外部から供給される電
気信号によって駆動される。
FIG. 5 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention. In the figure, the same components as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. In the embodiment, heat energy is applied to the NTC thermistor elements 311 and 312 used as the switch means 3 by the heating PTC thermistor element 32. The PTC thermistor element for heating 32 is driven by an electric signal supplied from the outside through terminals 43 and 44.

【0043】図6は本発明に係る薄膜装置の更に別の実
施例を示す図である。図において、図1〜図5に示され
た構成部分と同一の構成部分については、同一の参照符
号を付してある。この実施例の特徴は、スイッチ手段3
として、NTCサーミスタ素子311、312及びPT
Cサーミスタ素子313を含むことである。NTCサー
ミスタ素子311、312はリード導体21、22に直
列に接続されている。PTCサーミスタ素子313は出
力端子41ー42間に接続されている。
FIG. 6 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention. In the drawings, the same components as those shown in FIGS. 1 to 5 are denoted by the same reference numerals. The feature of this embodiment is that the switch means 3
As NTC thermistor elements 311, 312 and PT
The C thermistor element 313 is included. The NTC thermistor elements 311 and 312 are connected to the lead conductors 21 and 22 in series. The PTC thermistor element 313 is connected between the output terminals 41 and 42.

【0044】静電破壊を阻止する必要がある場面では、
NTCサーミスタ素子311、312及びPTCサーミ
スタ素子313は常温に保つ。この状態であれば、製
造、組立工程において、作業員の人体に帯電している静
電荷が、出力端子41、42から飛び込んでも、NTC
サーミスタ素子311、312による電流制限作用、及
び、PTCサーミスタ素子313の短絡作用が働き、薄
膜素子1に過電流が流れることがない。従って、薄膜素
子1の静電破壊や特性変化を防止することができる。
In a situation where it is necessary to prevent electrostatic breakdown,
The NTC thermistor elements 311 and 312 and the PTC thermistor element 313 are kept at room temperature. In this state, even if an electrostatic charge charged on the human body of the worker jumps from the output terminals 41 and 42 in the manufacturing and assembling processes, the NTC
The current limiting action of the thermistor elements 311 and 312 and the short-circuit action of the PTC thermistor element 313 work, so that no overcurrent flows through the thin film element 1. Therefore, it is possible to prevent the electrostatic breakdown and characteristic change of the thin film element 1.

【0045】しかも、実施例の場合、常温において高抵
抗として動作するNTCサーミスタ素子311、312
を薄膜素子1に直列に接続し、この直列回路をPTCサ
ーミスタ素子313に並列に接続した回路構成となるの
で、飛び込んだ静電荷が、NTCサーミスタ素子31
1、312及び薄膜素子1の直列回路よりも、PTCサ
ーミスタ素子313に一層流れ易くなる。このため、薄
膜素子1の静電破壊や特性変化を、より確実に防止する
ことができるようになる。
Further, in the case of the embodiment, the NTC thermistor elements 311 and 312 which operate as a high resistance at room temperature are used.
Are connected in series to the thin-film element 1 and this series circuit is connected in parallel to the PTC thermistor element 313.
1, 312 and the thin film element 1 are more easily flowed to the PTC thermistor element 313 than the series circuit. For this reason, it is possible to more reliably prevent electrostatic breakdown and characteristic changes of the thin film element 1.

【0046】特性測定作業等のために、薄膜素子1に信
号を供給し、または薄膜素子1から信号を取り出す場合
は、NTCサーミスタ素子311、312及びPTCサ
ーミスタ素子313に熱エネルギーを供給する。これに
より、NTCサーミスタ素子311、312の抵抗値が
低下するとともに、PTCサーミスタ素子313の抵抗
値が急激に増大して開状態になり、薄膜素子1と出力端
子41、42との間に正常な信号伝送ラインが構成され
る。
When a signal is supplied to the thin-film element 1 or a signal is extracted from the thin-film element 1 for a characteristic measuring operation or the like, heat energy is supplied to the NTC thermistor elements 311, 312 and the PTC thermistor element 313. As a result, the resistance values of the NTC thermistor elements 311 and 312 decrease, and the resistance value of the PTC thermistor element 313 increases sharply to be in an open state. A signal transmission line is configured.

【0047】図7は本発明に係る薄膜装置の更に別の実
施例を示す図である。図において、図1〜図6に示され
た構成部分と同一の構成部分については、同一の参照符
号を付してある。実施例において、スイッチ手段3は、
フォトトランジスタ311と、発光素子33とを含んで
いる。フォトトランジスタ311はリード導体21ー2
2間に接続されている。この実施例によれば、端子4
3、44に電気信号S1を供給し、または、供給を停止
することにより、発光素子33を発光または消光させ、
それによって、フォトトランジスタ311にスイッチン
グ動作をさせることができる。
FIG. 7 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention. In the drawings, the same components as those shown in FIGS. 1 to 6 are denoted by the same reference numerals. In the embodiment, the switch means 3 is
It includes a phototransistor 311 and a light emitting element 33. The phototransistor 311 is a lead conductor 21-2.
It is connected between the two. According to this embodiment, the terminal 4
By supplying or stopping the supply of the electric signal S1 to the light emitting elements 3 and 44, the light emitting element 33 emits or extinguishes light,
Thus, the phototransistor 311 can perform a switching operation.

【0048】静電破壊を阻止する必要がある場面では、
端子43、44に電気信号S1を供給し、発光素子33
を発光させることにより、フォトトランジスタ311を
オンの状態に保つ。この状態であれば、製造、組立工程
において、作業員の人体に帯電している静電荷が、出力
端子41、42から飛び込んでも、薄膜素子1に過電流
が流れることがない。従って、薄膜素子1の静電破壊や
特性変化を防止することができる。
In a situation where it is necessary to prevent electrostatic breakdown,
The electric signal S1 is supplied to the terminals 43 and 44, and the light emitting element 33 is supplied.
To keep the phototransistor 311 on. In this state, an overcurrent does not flow through the thin-film element 1 even when an electrostatic charge charged on the human body of the worker jumps from the output terminals 41 and 42 in the manufacturing and assembly processes. Therefore, it is possible to prevent the electrostatic breakdown and characteristic change of the thin film element 1.

【0049】特性測定作業等のために、薄膜素子1に信
号を供給し、または薄膜素子1から信号を取り出す場合
は、端子43、44に対する電気信号S1の供給を停止
し、発光素子33を消光させる。それによって、フォト
トランジスタ311がオフになるから、薄膜素子1と出
力端子41、42との間に正常な信号伝送ラインを構成
することができる。本発明に係る薄膜装置はフォトトラ
ンジスタのみを備えて、発光または消光は外部光源から
与える構成であってもよい。
When supplying a signal to the thin film element 1 or extracting a signal from the thin film element 1 for a characteristic measuring operation or the like, the supply of the electric signal S1 to the terminals 43 and 44 is stopped and the light emitting element 33 is turned off. Let it. As a result, the phototransistor 311 is turned off, so that a normal signal transmission line can be formed between the thin film element 1 and the output terminals 41 and 42. The thin film device according to the present invention may include only a phototransistor and emit or extinguish light from an external light source.

【0050】図8は本発明に係る薄膜装置の更に別の実
施例を示す図である。図において、図1〜図7に示され
た構成部分と同一の構成部分については、同一の参照符
号を付してある。この実施例では、スイッチ手段3は、
3端子スイッチ素子31を含んでいる。3端子スイッチ
素子31は、バイポーラトランジスタや電界効果トラン
ジスタ等によって構成され、リード導体21ー22間に
接続されている。図8に示された実施例において、3端
子スイッチ素子31の制御方法は、図7のフォトトラン
ジスタの制御方法と同じであり、図7の実施例とほぼ同
様の作用効果を奏する。
FIG. 8 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention. In the drawings, the same components as those shown in FIGS. 1 to 7 are denoted by the same reference numerals. In this embodiment, the switch means 3
A three-terminal switch element 31 is included. The three-terminal switch element 31 is configured by a bipolar transistor, a field effect transistor, or the like, and is connected between the lead conductors 21 and 22. In the embodiment shown in FIG. 8, the control method of the three-terminal switch element 31 is the same as the control method of the phototransistor of FIG. 7, and has substantially the same operation and effect as the embodiment of FIG.

【0051】図9は本発明に係る薄膜装置の更に別の実
施例を示す図である。図において、図1〜図8に示され
た構成部分と同一の構成部分については、同一の参照符
号を付してある。実施例において、スイッチ手段3は、
半導体スイッチ311、312を含んでいる。図示され
た半導体スイッチ311、312は3端子スイッチ素子
であり、制御電極に接続された端子43、44に供給さ
れる電気信号S1、S2によって制御される。
FIG. 9 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention. In the drawings, the same components as those shown in FIGS. 1 to 8 are denoted by the same reference numerals. In the embodiment, the switch means 3 is
It includes semiconductor switches 311, 312. The illustrated semiconductor switches 311 and 312 are three-terminal switching elements, and are controlled by electric signals S1 and S2 supplied to terminals 43 and 44 connected to control electrodes.

【0052】静電破壊を阻止する必要がある場面では、
3端子スイッチ素子311、312をオフの状態に保
つ。この状態であれば、製造、組立工程において、作業
員の人体に帯電している静電荷が、出力端子41、42
から飛び込んでも、薄膜素子1に過電流が流れることが
ない。従って、薄膜素子1の静電破壊や特性変化を防止
することができる。
In a situation where it is necessary to prevent electrostatic breakdown,
The three-terminal switch elements 311 and 312 are kept off. In this state, in the manufacturing and assembling processes, the electrostatic charges charged to the human body of the worker are output to the output terminals 41 and 42.
No overcurrent flows through the thin-film element 1 even if it jumps into the thin film element 1. Therefore, it is possible to prevent the electrostatic breakdown and characteristic change of the thin film element 1.

【0053】特性測定作業等のために、薄膜素子1に信
号を供給し、または薄膜素子1から信号を取り出す場合
は、3端子スイッチ素子311、312の制御電極に制
御信号S1、S2を与えて、3端子スイッチ素子31
1、312を導通させる。これにより、薄膜素子1と出
力端子41、42との間に正常な信号伝送ラインが構成
される。
To supply a signal to the thin film element 1 or take out a signal from the thin film element 1 for a characteristic measuring operation or the like, control signals S1 and S2 are applied to control electrodes of the three-terminal switch elements 311 and 312. , Three-terminal switch element 31
1, 312 are made conductive. Thus, a normal signal transmission line is formed between the thin film element 1 and the output terminals 41 and 42.

【0054】図10は本発明に係る薄膜装置の更に別の
実施例を示す図である。図において、図1〜図9に示さ
れた構成部分と同一の構成部分については、同一の参照
符号を付してある。実施例では、フォトトランジスタ3
11、312と、発光素子33とを含んでいる。この実
施例によれば、発光素子33を、端子43、44に供給
される電気信号により、発光または消光させ、それによ
って、フォトトランジスタ311、312にスイッチン
グ動作をさせることができる。
FIG. 10 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention. In the drawings, the same components as those shown in FIGS. 1 to 9 are denoted by the same reference numerals. In the embodiment, the phototransistor 3
11 and 312 and a light emitting element 33. According to this embodiment, the light emitting element 33 emits or extinguishes the light by the electric signal supplied to the terminals 43 and 44, whereby the phototransistors 311 and 312 can perform the switching operation.

【0055】フォトトランジスタ311、312の制御
タイミングは、図9の3端子スイッチ素子の場合と同じ
であり、図9の実施例とほぼ同様の作用効果を奏する。
The control timings of the phototransistors 311 and 312 are the same as in the case of the three-terminal switch element in FIG. 9, and have substantially the same functions and effects as in the embodiment in FIG.

【0056】図11は本発明に係る薄膜装置の更に別の
実施例を示す図である。図において、図1〜図10に示
された構成部分と同一の構成部分については、同一の参
照符号を付してある。この実施例の特徴は、スイッチ手
段3として、フォトトランジスタ311、312及びP
TCサーミスタ素子313を有することである。フォト
トランジスタ311、312はリード導体21、22に
直列に接続されている。PTCサーミスタ素子313は
端子41ー42間に接続されている。図示はされていな
いが、フォトトランジスタ311、312を駆動する発
光素子が備えられる。
FIG. 11 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention. In the drawings, the same components as those shown in FIGS. 1 to 10 are denoted by the same reference numerals. This embodiment is characterized in that the phototransistors 311, 312 and P
It has a TC thermistor element 313. The phototransistors 311 and 312 are connected to the lead conductors 21 and 22 in series. The PTC thermistor element 313 is connected between the terminals 41 and 42. Although not shown, a light-emitting element for driving the phototransistors 311 and 312 is provided.

【0057】静電破壊を阻止する必要がある場面では、
フォトトランジスタ311、312をオフに保つ。ま
た、PTCサーミスタ素子313は常温に保つ。この状
態であれば、製造、組立工程において、作業員の人体に
帯電している静電荷が、出力端子41、42から飛び込
んでも、フォトトランジスタ311、312がオフにな
っていることと、PTCサーミスタ素子313が短絡状
態にあることから、薄膜素子1に過電流が流れることが
ない。従って、薄膜素子1の静電破壊や特性変化を防止
することができる。
In a situation where it is necessary to prevent electrostatic breakdown,
The phototransistors 311 and 312 are kept off. Further, the PTC thermistor element 313 is kept at room temperature. In this state, the phototransistors 311 and 312 are turned off even when the electrostatic charge charged to the human body of the worker jumps from the output terminals 41 and 42 in the manufacturing and assembly processes. Since the element 313 is in a short-circuit state, no overcurrent flows through the thin-film element 1. Therefore, it is possible to prevent the electrostatic breakdown and characteristic change of the thin film element 1.

【0058】特性測定作業等のために、薄膜素子1に信
号を供給し、または薄膜素子1から信号を取り出す場合
は、フォトトランジスタ311、312をオンにすると
共に、PTCサーミスタ素子313に熱エネルギーを供
給する。これにより、フォトトランジスタ311、31
2が導通するとともに、PTCサーミスタ素子313の
抵抗値が急激に増大して開状態になるので、薄膜素子1
と出力端子41、42との間に正常な信号伝送ラインが
構成される。
When supplying a signal to the thin film element 1 or extracting a signal from the thin film element 1 for a characteristic measuring operation or the like, the phototransistors 311 and 312 are turned on, and thermal energy is supplied to the PTC thermistor element 313. Supply. Thereby, the phototransistors 311 and 31
2 becomes conductive and the resistance value of the PTC thermistor element 313 increases sharply to open.
A normal signal transmission line is configured between the output terminals 41 and 42.

【0059】図12は本発明に係る薄膜装置の更に別の
実施例を示す図である。図において、図1〜図11に示
された構成部分と同一の構成部分については、同一の参
照符号を付してある。この実施例では、信号処理回路2
0を含んでいる。信号処理回路20は薄膜素子1に接続
されている。
FIG. 12 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention. In the drawings, the same components as those shown in FIGS. 1 to 11 are denoted by the same reference numerals. In this embodiment, the signal processing circuit 2
Contains 0. The signal processing circuit 20 is connected to the thin film element 1.

【0060】図12の実施例の特徴は、信号処理回路2
0が動作した時に発生する熱エネルギーによって、スイ
ッチ手段3にスイッチング動作をさせることである。実
施例では、スイッチ手段3はPTCサーミスタ素子31
を含んでおり、PTCサーミスタ素子31は、端子41
ー42間に接続されている。
The feature of the embodiment shown in FIG.
That is, the switching means 3 is caused to perform a switching operation by thermal energy generated when 0 operates. In the embodiment, the switch means 3 is a PTC thermistor element 31
And the PTC thermistor element 31 has a terminal 41
-42.

【0061】静電破壊を阻止する必要がある場面では、
PTCサーミスタ素子31は常温に保つ。この状態であ
れば、製造、組立工程において、作業員の人体に帯電し
ている静電荷が、出力端子41、42から飛び込んで
も、PTCサーミスタ素子31が短絡状態にあることか
ら、薄膜素子1に過電流が流れることがない。従って、
薄膜素子1の静電破壊や特性変化を防止することができ
る。
In a situation where it is necessary to prevent electrostatic breakdown,
The PTC thermistor element 31 is kept at room temperature. In this state, the PTC thermistor element 31 is in a short-circuit state even when an electrostatic charge charged on the human body of the worker jumps from the output terminals 41 and 42 in the manufacturing and assembly processes. No overcurrent flows. Therefore,
It is possible to prevent electrostatic breakdown and characteristic change of the thin film element 1.

【0062】特性測定作業等のために、薄膜素子1に信
号を供給し、または薄膜素子1から信号を取り出す場合
は、信号処理回路20が動作し、発熱する。この発熱動
作により、PTCサーミスタ素子31が加熱され、PT
Cサーミスタ素子31の抵抗値が急激に増大して開状態
になり、薄膜素子1と出力端子41、42との間に正常
な信号伝送ラインが構成される。
When a signal is supplied to the thin film element 1 or a signal is extracted from the thin film element 1 for a characteristic measuring operation or the like, the signal processing circuit 20 operates to generate heat. By this heating operation, the PTC thermistor element 31 is heated,
The resistance value of the C thermistor element 31 sharply increases and becomes an open state, and a normal signal transmission line is formed between the thin film element 1 and the output terminals 41 and 42.

【0063】信号処理回路20が動作を開始できるよう
に、特性測定作業の初期に、PTCサーミスタ素子31
を、信号処理回路20とは別の外部熱源によって加熱す
る。そして、信号処理回路20が動作を開始して、その
発熱温度が、PTCサーミスタ素子31を高抵抗領域で
動作させるのに充分な温度まで上昇した後に、信号処理
回路20の発熱を専ら利用するとよい。
In order to start the operation of the signal processing circuit 20, the PTC thermistor element 31 is set at the beginning of the characteristic measuring operation.
Is heated by an external heat source different from the signal processing circuit 20. Then, after the signal processing circuit 20 starts operating and its heat generation temperature rises to a temperature sufficient for operating the PTC thermistor element 31 in the high resistance region, it is preferable to exclusively use the heat generation of the signal processing circuit 20. .

【0064】PTCサーミスタ素子31は、信号処理回
路20の後段に備えられている。従って、この実施例に
よれば、薄膜素子1のみならず、信号処理回路20の静
電破壊をも阻止することができる。
The PTC thermistor element 31 is provided downstream of the signal processing circuit 20. Therefore, according to this embodiment, not only the thin film element 1 but also the signal processing circuit 20 can be prevented from being electrostatically damaged.

【0065】図13は本発明に係る薄膜装置の更に別の
実施例を示す図である。図において、図1〜図12に示
された構成部分と同一の構成部分については、同一の参
照符号を付してある。この実施例も、信号処理回路20
を含んでいる。スイッチ手段3は、フォトトランジスタ
311、312と、発光素子33とを含んでおり、信号
処理回路20の後段に備えられている。従って、この実
施例によれば、薄膜素子1のみならず、信号処理回路2
0の静電破壊をも阻止することができる。
FIG. 13 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention. In the drawings, the same components as those shown in FIGS. 1 to 12 are denoted by the same reference numerals. In this embodiment, the signal processing circuit 20
Contains. The switch unit 3 includes phototransistors 311, 312 and a light emitting element 33, and is provided at a subsequent stage of the signal processing circuit 20. Therefore, according to this embodiment, not only the thin film element 1 but also the signal processing circuit 2
0 electrostatic breakdown can be prevented.

【0066】図示は省略したが、スイッチ手段3は、機
械的スイッチ手段3によって構成されていてもよい。機
械的スイッチ手段3は、機械的接点を、手動によって操
作されるタイプであってもよいし、電気、磁気、熱また
は光等の信号によって、機械的接点を開閉するタイプで
あってもよい。後者には、例えば、コイルを用いたリレ
ー、リードリレー、サーマルリレー等が含まれる。
Although not shown, the switch means 3 may be constituted by mechanical switch means 3. The mechanical switch means 3 may be of a type in which a mechanical contact is manually operated, or may be of a type in which the mechanical contact is opened and closed by a signal such as electric, magnetic, heat or light. The latter includes, for example, a coil-based relay, a reed relay, a thermal relay, and the like.

【0067】本発明において、薄膜素子1は、半導体集
積回路素子であってもよいし、磁気抵抗効果膜であって
もよい。薄膜素子1が磁気抵抗効果膜でなる場合、本発
明は、多層膜構造を有する磁気抵抗効果膜に適用して、
大きな効果を得ることができる。多層膜構造を有する磁
気抵抗効果膜の代表例は、スピンバルブ膜構造を有する
磁気抵抗効果膜である。スピンバルブ膜構造を有する磁
気抵抗効果膜は、薄膜磁気ヘッドの再生素子として用い
られる。次に、本発明を薄膜磁気ヘッド装置に適用した
例を示す。
In the present invention, the thin film device 1 may be a semiconductor integrated circuit device or a magnetoresistive film. When the thin film element 1 is formed of a magnetoresistive film, the present invention is applied to a magnetoresistive film having a multilayer structure,
A great effect can be obtained. A typical example of a magnetoresistive film having a multilayer structure is a magnetoresistive film having a spin valve film structure. A magnetoresistive film having a spin valve film structure is used as a reproducing element of a thin film magnetic head. Next, an example in which the present invention is applied to a thin-film magnetic head device will be described.

【0068】図14は本発明に係る磁気ヘッド装置の平
面図である。本発明に係る磁気ヘッド装置は、薄膜磁気
ヘッド5と、ヘッド支持装置6と、2組のリード導体
(21、22)及び(71、72)と、スイッチ手段3
とを含む。スイッチ手段3による静電破壊防止のための
回路は、図1〜図13に示した実施例の何れかによって
構成されている。
FIG. 14 is a plan view of a magnetic head device according to the present invention. The magnetic head device according to the present invention includes a thin film magnetic head 5, a head support device 6, two sets of lead conductors (21, 22) and (71, 72), and a switch means 3.
And A circuit for preventing electrostatic breakdown by the switch means 3 is constituted by any of the embodiments shown in FIGS.

【0069】図14に示す実施例では、スイッチ手段3
は、ヘッド支持6の一面上に搭載されている。スイッチ
手段3はリード導体(21、22)及び(71、72)
のうち、リード導体21ー22間に接続されている。ヘ
ッド支持装置6に対するスイッチ手段3の搭載に当たっ
ては、回路基板やフレキシブル配線板を用いてもよい
し、直付けしてもよい。
In the embodiment shown in FIG.
Are mounted on one surface of the head support 6. The switch means 3 includes lead conductors (21, 22) and (71, 72)
Are connected between the lead conductors 21-22. In mounting the switch means 3 on the head support device 6, a circuit board or a flexible wiring board may be used, or may be directly attached.

【0070】図15は図14に示した磁気ヘッド装置の
磁気ヘッド取り付け部分の拡大正面図、図16は図14
に示した磁気ヘッド装置の磁気ヘッド取り付け部分の拡
大底面図である。
FIG. 15 is an enlarged front view of a magnetic head mounting portion of the magnetic head device shown in FIG. 14, and FIG.
FIG. 4 is an enlarged bottom view of a magnetic head mounting portion of the magnetic head device shown in FIG.

【0071】図15及び図16を参照すると、薄膜磁気
ヘッド5は、スライダ51と、薄膜素子1、52とを有
する。スライダ51は、一面側が媒体対向面511で、
反対側が支持面512となっている。スライダ51の媒
体対向面511は1〜3本のレール部を有することがあ
り、レール部を持たない平面となることもある。また、
浮上特性改善等のために、媒体対向面511に種々の幾
何学的形状が付されることもある。何れのタイプのスラ
イダであっても、本発明の適用が可能である。媒体対向
面511の最も突出する表面は、表面性の高い空気ベア
リング面を構成する。図示のスライダ51は、媒体対向
面511に2本のレール部513、514を有し、レー
ル部513、514の表面を空気ベアリング面510と
して利用する。
Referring to FIGS. 15 and 16, the thin-film magnetic head 5 has a slider 51 and thin-film elements 1 and 52. The slider 51 has a medium facing surface 511 on one side,
The opposite side is a support surface 512. The medium facing surface 511 of the slider 51 may have one to three rails, and may be a flat surface without the rails. Also,
In order to improve the flying characteristics, the medium facing surface 511 may have various geometric shapes. The present invention can be applied to any type of slider. The most protruding surface of the medium facing surface 511 forms an air bearing surface having a high surface property. The illustrated slider 51 has two rail portions 513 and 514 on the medium facing surface 511, and uses the surfaces of the rail portions 513 and 514 as the air bearing surface 510.

【0072】薄膜素子1、52は、スライダ51の側面
に配置され、スライダ51の外部に現われる取出電極5
15、516、517及び518を有する。薄膜素子
1、52は、矢印aで示す媒体走行方向(空気流出方
向)で見て、その流出端部に配置されている。薄膜素子
1、52はIC製造技術と同様のプロセスに従って製造
される。
The thin film elements 1, 52 are arranged on the side surfaces of the slider 51, and take out electrodes 5 appearing outside the slider 51.
15, 516, 517 and 518. The thin-film elements 1 and 52 are disposed at the outflow end thereof when viewed in the medium traveling direction (air outflow direction) indicated by the arrow a. The thin film elements 1 and 52 are manufactured according to a process similar to the IC manufacturing technology.

【0073】図17は薄膜磁気ヘッド5の薄膜素子1、
52の部分を拡大して示す断面図である。薄膜素子1、
52の内、薄膜素子1は磁気抵抗効果膜による再生素子
であり、薄膜素子52は誘導型記録素子である。以下、
磁気抵抗効果膜を用いた薄膜素子1をMR素子と称す
る。
FIG. 17 shows the thin film element 1 of the thin film magnetic head 5,
It is sectional drawing which expands and shows the part of 52. Thin film element 1,
Of the 52, the thin film element 1 is a reproducing element using a magnetoresistive film, and the thin film element 52 is an inductive recording element. Less than,
The thin film element 1 using the magnetoresistive film is called an MR element.

【0074】図18は薄膜磁気ヘッドに含まれるMR素
子1の更に詳しい構造を示す拡大断面図である。スライ
ダ51を構成する基体80の上に積層された下地絶縁膜
81上に、第1の磁気シールド膜82、絶縁膜83、M
R素子1、絶縁膜83、第2の磁気シールド膜(第1の
磁性膜)521が順次積層されている。
FIG. 18 is an enlarged sectional view showing a more detailed structure of the MR element 1 included in the thin-film magnetic head. A first magnetic shield film 82, an insulating film 83, and a first magnetic shield film 82 are formed on a base insulating film 81 laminated on a base 80 constituting the slider 51.
An R element 1, an insulating film 83, and a second magnetic shield film (first magnetic film) 521 are sequentially stacked.

【0075】MR素子1を構成する中央能動領域11
は、磁気異方性磁気抵抗効果膜を利用したものであって
もよいが、スピンバルブ膜によって構成することが更に
望ましい。図示の中央能動領域11はスピンバルブ膜に
よって構成されている。このスピンバルブ膜は、磁界応
答膜(第1の強磁性膜)111、非磁性膜112、磁化
固定膜(第2の強磁性膜)113及び反強磁性膜114
を含んでいる。このようなスピンバルブ膜の膜構成の
他、他の膜構成を採用できることは勿論である。
Central active area 11 constituting MR element 1
May use a magnetic anisotropic magnetoresistive effect film, but is more preferably constituted by a spin valve film. The illustrated central active region 11 is formed of a spin valve film. The spin valve film includes a magnetic field responsive film (first ferromagnetic film) 111, a nonmagnetic film 112, a fixed magnetization film (second ferromagnetic film) 113, and an antiferromagnetic film 114
Contains. Needless to say, other film configurations other than the film configuration of the spin valve film can be adopted.

【0076】スピンバルブ膜によって構成される中央能
動領域11は、例えば2.5μm以下のトラック幅に形
成され、その両端にリード導体12が備えられている。
リード導体12は、Co−Pt合金膜121及び電極膜
122を備えている。Co−Pt合金膜121は、スピ
ンバルブ膜に縦バイアス磁界を印加することにより、ス
ピンバルブ膜の磁界応答膜111の磁区を制御するため
に備えられている。
The central active region 11 composed of a spin valve film is formed with a track width of, for example, 2.5 μm or less, and has lead conductors 12 at both ends.
The lead conductor 12 includes a Co—Pt alloy film 121 and an electrode film 122. The Co—Pt alloy film 121 is provided for controlling a magnetic domain of the magnetic field responsive film 111 of the spin valve film by applying a longitudinal bias magnetic field to the spin valve film.

【0077】スピンバルブ膜は、具体的には、次のよう
な膜構成になる。まず磁界応答膜111は、約0.1μ
mの膜厚を持つNiFe膜でなる。磁界応答膜111の
下には約0.05μmの膜厚を持つTa膜でなる下地膜
が形成されている。非磁性膜112は約0.025μm
の膜厚を持つCu膜である。磁化固定膜113は、約
0.05μmの膜厚を持つNiFe膜である。反強磁性
膜114は、約0.1μmの膜厚を持つFeMn膜で構
成され、約0.05μmの膜厚を持つTaでなる保護膜
を有する。但し、これらの膜構成及び膜厚の数値は一例
であり、何ら限定するものではなく、他の膜構成を採用
できる。
Specifically, the spin valve film has the following film configuration. First, the magnetic field response film 111 has a thickness of about 0.1 μm.
It is made of a NiFe film having a thickness of m. Under the magnetic field responsive film 111, a base film made of a Ta film having a thickness of about 0.05 μm is formed. Non-magnetic film 112 is about 0.025 μm
Is a Cu film having a thickness of The magnetization fixed film 113 is a NiFe film having a thickness of about 0.05 μm. The antiferromagnetic film 114 is formed of a FeMn film having a thickness of about 0.1 μm, and has a protective film of Ta having a thickness of about 0.05 μm. However, these film configurations and the numerical values of the film thickness are examples, and are not limited in any way, and other film configurations can be adopted.

【0078】上述したように、スピンバルブ膜は多層薄
膜構造を有しており、電流容量がきわめて小さい。この
ため、製造、組立工程において、磁気ヘッド組立体を取
り扱う作業員の人体に帯電している静電荷が磁気ヘッド
組立体に印加された場合、スピンバルブ膜に過電流が流
れ、容易に静電破壊を生じてしまう。
As described above, the spin valve film has a multilayer thin film structure and has a very small current capacity. For this reason, in the manufacturing and assembling processes, when an electrostatic charge that is charged on the human body of a worker handling the magnetic head assembly is applied to the magnetic head assembly, an overcurrent flows through the spin valve film, and the electrostatic valve is easily discharged. Destruction will occur.

【0079】また、スピンバルブ膜では、磁気抵抗効果
が、反強磁性層114に接している磁化固定膜(pined
層)113の固定磁化方向に対する磁界応答膜(フリー
層)111の磁化方向の相対的な回転角度によって定ま
る。このような構造のスピンバルブ膜に、静電荷が飛び
込んだ場合、電荷の移動方向及び電荷移動に起因して発
生する磁界や熱等によって、磁化固定膜(pined層)1
13の固定磁化方向が変化してしまう。磁化固定膜(pi
ned層)113の固定磁化方向が変化してしまうと、磁
気抵抗効果が変化し、所定の再生特性が得られなくな
る。
In the spin valve film, the magnetoresistance effect is caused by the magnetization fixed film (pinned film) in contact with the antiferromagnetic layer 114.
It is determined by the relative rotation angle of the magnetization direction of the magnetic field responsive film (free layer) 111 with respect to the fixed magnetization direction of the layer 113. When an electrostatic charge jumps into the spin valve film having such a structure, the magnetization fixed film (pined layer) 1 is moved by a moving direction of the charge and a magnetic field or heat generated due to the charge transfer.
13, the fixed magnetization direction changes. Magnetization fixed film (pi
If the fixed magnetization direction of the (ned layer) 113 changes, the magnetoresistive effect changes, and a predetermined reproduction characteristic cannot be obtained.

【0080】記録素子となる薄膜素子52は、図17に
示すように、上部シールド膜を兼ねている下部磁性膜5
21、上部磁性膜522、コイル膜523、アルミナ等
でなるギャップ膜524、有機樹脂で構成された絶縁膜
525及び保護膜526などを有している。下部磁性膜
521及び上部磁性膜522の先端部は微小厚みのギャ
ップ膜524を隔てて対向するポール部P1、P2とな
っており、ポール部P1、P2において書き込みを行な
う。
As shown in FIG. 17, the thin film element 52 serving as a recording element is composed of a lower magnetic film 5 serving also as an upper shield film.
21, an upper magnetic film 522, a coil film 523, a gap film 524 made of alumina or the like, an insulating film 525 made of an organic resin, a protective film 526, and the like. The tip portions of the lower magnetic film 521 and the upper magnetic film 522 are pole portions P1 and P2 opposed to each other with a very small gap film 524 therebetween, and writing is performed in the pole portions P1 and P2.

【0081】下部磁性膜521及び上部磁性膜522
は、そのヨーク部がポール部P1、P2とは反対側にあ
るバックギャップ部において、磁気回路を完成するよう
に互いに結合されている。絶縁膜525の上に、ヨーク
部の結合部のまわりを渦巻状にまわるように、コイル膜
523を形成してある。コイル膜523の両端は、取り
出し電極517、518(図15、図16参照)に導通
されている。
The lower magnetic film 521 and the upper magnetic film 522
Are connected to each other to complete a magnetic circuit at a back gap portion whose yoke portion is opposite to the pole portions P1 and P2. A coil film 523 is formed on the insulating film 525 so as to spiral around the joint of the yoke. Both ends of the coil film 523 are electrically connected to extraction electrodes 517 and 518 (see FIGS. 15 and 16).

【0082】次に、ヘッド支持装置6は、図14、15
及び16に図示するように、長手方向の一端側が固定
端、他端側が自由端となっていて、自由端の側に可撓性
支持部61を有し、可撓性支持部61がスライダ51の
支持面512に取付けられている。ヘッド支持装置6
は、薄膜磁気ヘッド5が磁気ディスク(図示しない)の
表面変動に対して追従できるように、薄膜磁気ヘッド5
を支持している。このようなヘッド支持装置は、従来よ
り種々のタイプのものが提案され、実用に供されてい
る。図示のヘッド支持装置6において、可撓性支持部6
1は、長手方向に取られた第1の軸線の周りのロール運
動と、第1軸線と直交する第2軸の周りのピッチ運動を
許容するジンバルとなっており、その下面に薄膜磁気ヘ
ッド5を構成するスライダ51の支持面512を、例え
ば接着等の手段によって結合してある。
Next, the head supporting device 6 is shown in FIGS.
And 16, the one end in the longitudinal direction is a fixed end, the other end is a free end, and has a flexible support portion 61 on the free end side. Is mounted on the support surface 512 of the. Head support device 6
Are thin film magnetic heads 5 so that the thin film magnetic heads 5 can follow the surface fluctuation of a magnetic disk (not shown).
I support. Various types of such head support devices have been proposed and put into practical use. In the illustrated head support device 6, the flexible support portion 6
Reference numeral 1 denotes a gimbal which allows a roll motion about a first axis taken in the longitudinal direction and a pitch motion about a second axis orthogonal to the first axis. The support surface 512 of the slider 51 is connected by, for example, bonding.

【0083】リード導体(21、22)、(71、7
2)の内、リード導体21、22はMR素子1のために
備えられており、リード導体71、72は記録素子とな
る薄膜素子52のために備えられている。リード導体2
1、22は撚り合わされている。このようなリード導体
21、22は、一般にはツイストペア線と呼ばれてい
る。リード導体21、22のそれぞれは、一端がMR素
子1に接続されている。具体的には、リード導体21、
22のそれぞれは、取り出し電極515、516(図1
5、図16参照)に接続され、図18に示したMR素子
1の端部受動領域121、122に導通する。リード導
体21ー22間には、その長さ方向の中間部において、
ヘッド支持装置6に搭載されたスイッチ手段3が接続さ
れている。
The lead conductors (21, 22), (71, 7)
In 2), the lead conductors 21 and 22 are provided for the MR element 1, and the lead conductors 71 and 72 are provided for the thin film element 52 serving as a recording element. Lead conductor 2
1, 22 are twisted. Such lead conductors 21 and 22 are generally called a twisted pair wire. One end of each of the lead conductors 21 and 22 is connected to the MR element 1. Specifically, the lead conductor 21,
22 are provided with extraction electrodes 515 and 516 (FIG. 1).
5, see FIG. 16) and conducts to the end passive regions 121 and 122 of the MR element 1 shown in FIG. Between the lead conductors 21 and 22, at an intermediate portion in the length direction,
The switch means 3 mounted on the head support device 6 is connected.

【0084】実施例において、リード導体71、72も
ツイストペア線で構成されている。リード導体71、7
2の一端は取り出し電極517、518(図15、図1
6参照)に接続され、記録素子を構成する薄膜素子52
のコイル膜523(図17参照)に接続される。
In the embodiment, the lead conductors 71 and 72 are also constituted by twisted pair wires. Lead conductor 71, 7
2 are connected to extraction electrodes 517 and 518 (FIGS. 15 and 1).
6), and the thin film element 52 constituting the recording element
(See FIG. 17).

【0085】図19は図14〜図18に示した磁気ヘッ
ド装置の電気結線図を示す。図示するように、スピンバ
ルブ膜で構成されたMR素子1は、リード導体21、2
2によって出力端子41、42に導かれており、リード
導体21ー22間に、スイッチ手段3が接続されてい
る。このため、製造、組立工程において、作業員の人体
に帯電している静電荷が、出力端子41、42から飛び
込んでも、スイッチ手段3によって短絡され、MR素子
1に流れることがない。このため、MR素子1の静電破
壊や特性変化を防止することができる。
FIG. 19 is an electrical connection diagram of the magnetic head device shown in FIGS. As shown in the figure, the MR element 1 composed of a spin valve film has lead conductors 21 and 2
The switch means 3 is guided to output terminals 41 and 42 by a switch 2 and is connected between the lead conductors 21 and 22. Therefore, in the manufacturing and assembling processes, even if the electrostatic charge charged to the human body of the worker jumps from the output terminals 41 and 42, it is short-circuited by the switch means 3 and does not flow to the MR element 1. For this reason, it is possible to prevent electrostatic destruction and characteristic changes of the MR element 1.

【0086】メーカからユーザへの輸送過程、ユーザで
の受け入れ検査時、及び、磁気ディスク装置への組み立
て時等においても、スイッチ手段3が閉状態を維持する
限り、帯電、及び、それに伴う静電破壊や特性変化を防
止することができる。
In the transportation process from the manufacturer to the user, in the acceptance inspection by the user, and in the assembling to the magnetic disk device, etc., as long as the switch means 3 is kept in the closed state, the charging and the accompanying electrostatic charge are performed. Destruction and characteristic change can be prevented.

【0087】特性測定作業等のために、MR素子1に信
号を供給し、または、MR素子1から信号を取り出す場
合は、スイッチ手段3に対し、開状態にするエネルギー
S1を供給すればよい。これにより、MR素子1と出力
端子41、42との間に正常な信号伝送ラインが構成さ
れるので、特性測定作業を行なうことができる。
When a signal is supplied to the MR element 1 or a signal is extracted from the MR element 1 for a characteristic measuring operation or the like, the switch means 3 may be supplied with energy S1 for opening. Thus, a normal signal transmission line is formed between the MR element 1 and the output terminals 41 and 42, so that a characteristic measuring operation can be performed.

【0088】実施例に示すように、MR素子1をスピン
バルブ膜で構成した場合、スピンバルブ膜の電流容量が
きわめて小さく、このため、製造、組立工程において、
磁気ヘッド組立体を取り扱う作業員の人体に帯電してい
る静電荷が磁気ヘッド組立体に印加された場合、スピン
バルブ膜に過電流が流れ、容易に静電破壊を生じてしま
うのであるが、本発明を適用した実施例によれば、スピ
ンバルブ膜の静電破壊を確実に防止できる。
As shown in the embodiment, when the MR element 1 is made of a spin valve film, the current capacity of the spin valve film is extremely small.
When an electrostatic charge, which is charged on the human body of a worker who handles the magnetic head assembly, is applied to the magnetic head assembly, an overcurrent flows through the spin valve film, which easily causes electrostatic breakdown. According to the embodiment to which the present invention is applied, electrostatic breakdown of the spin valve film can be reliably prevented.

【0089】また、スピンバルブ膜に、静電荷が飛び込
んだ場合、電荷の移動方向及び電荷移動に起因して発生
する磁界や熱等によって、磁化固定膜(pined層)11
3の固定磁化方向が変化し、磁気抵抗効果が変化し、所
定の再生特性が得られなくなるのであるが、本発明を適
用した実施例によれば、このような問題も解決できる。
When an electrostatic charge jumps into the spin valve film, the magnetization fixed film (pined layer) 11 is moved by the moving direction of the charge and the magnetic field or heat generated due to the charge transfer.
The fixed magnetization direction of No. 3 changes, the magnetoresistive effect changes, and a predetermined reproduction characteristic cannot be obtained. According to the embodiment to which the present invention is applied, such a problem can be solved.

【0090】次に、薄膜磁気ヘッド装置の他の実施例に
ついて、図20〜図36を参照して説明する。図20は
本発明に係る磁気ヘッド装置の別の実施例を示す平面
図、図21は図20に示された磁気ヘッド装置の電気回
路図である。図20、21に示す実施例は、図3に示し
た薄膜装置を適用した磁気ヘッド装置を示している。ヘ
ッド支持装置6の側部に、基板30を取り付け、この基
板30上に静電破壊防止のためのスイッチ手段3を構成
するPTCサーミスタ素子31及び加熱用PTCサーミ
スタ素子32を取り付けてある。基板30には、記録素
子52(図17及び図21参照)のための端子71、7
2、MR素子1のための端子41、42及び加熱用PT
Cサーミスタ素子32のための端子43、44が設けら
れている。PTCサーミスタ素子31は、端子41、4
2に接続されている。ヘッド支持装置6は、例えば、タ
ブテープ等のフレキシブル配線板等を用いて構成でき
る。
Next, another embodiment of the thin-film magnetic head device will be described with reference to FIGS. FIG. 20 is a plan view showing another embodiment of the magnetic head device according to the present invention, and FIG. 21 is an electric circuit diagram of the magnetic head device shown in FIG. The embodiment shown in FIGS. 20 and 21 shows a magnetic head device to which the thin film device shown in FIG. 3 is applied. A substrate 30 is mounted on a side portion of the head support device 6, and a PTC thermistor element 31 and a heating PTC thermistor element 32 constituting the switch means 3 for preventing electrostatic breakdown are mounted on the substrate 30. Terminals 71, 7 for the recording element 52 (see FIGS. 17 and 21) are provided on the substrate 30.
2. Terminals 41 and 42 for MR element 1 and PT for heating
Terminals 43 and 44 for the C thermistor element 32 are provided. The PTC thermistor element 31 has terminals 41, 4
2 are connected. The head support device 6 can be configured using, for example, a flexible wiring board such as a tab tape.

【0091】薄膜素子であるMR素子1の静電破壊及び
特性変化の防止作用、及び、特性測定作業時の取り扱い
は、図3に示した薄膜装置の場合と同様である。磁気記
録再生装置へ組み込む直前、または、組み込んだ後に、
基板30を切断線XーXで切断し、PTCサーミスタ素
子31、32を、MR素子1の回路から切り離す。
The action of preventing the electrostatic breakdown and characteristic change of the MR element 1, which is a thin film element, and handling during the characteristic measuring operation are the same as those of the thin film device shown in FIG. Immediately before or after incorporating into a magnetic recording / reproducing device,
The substrate 30 is cut along a cutting line XX to separate the PTC thermistor elements 31 and 32 from the circuit of the MR element 1.

【0092】図22は本発明に係る磁気ヘッド装置の更
に別の実施例を示す平面図である。図20、21の実施
例と異なる点は、スイッチ手段3を構成するPTCサー
ミスタ素子31及び加熱用PTCサーミスタ素子32
が、ヘッド支持装置6の上に搭載されていることであ
る。ヘッド支持装置6がタブテープ等のフレキシブル配
線板によって構成されている場合は、上述のようなPT
Cサーミスタ素子31、32の配置は、容易に実現でき
る。この相違点を除けば、図20、21の実施例と同様
であるので、説明は省略する。
FIG. 22 is a plan view showing still another embodiment of the magnetic head device according to the present invention. 20 and 21 is that the PTC thermistor element 31 and the heating PTC thermistor element 32 that constitute the switch means 3 are different from the embodiment of FIGS.
Is mounted on the head support device 6. When the head support device 6 is formed of a flexible wiring board such as a tab tape, the above-described PT
The arrangement of the C thermistor elements 31 and 32 can be easily realized. Except for this difference, it is the same as the embodiment of FIGS.

【0093】図23は本発明に係る磁気ヘッド装置の別
の実施例を示す平面図、図24は図23に示された磁気
ヘッド装置の電気回路図である。図23、24に示す実
施例も、図3に示した薄膜装置を適用した磁気ヘッド装
置を示している。スイッチ手段3を構成するPTCサー
ミスタ素子31及び加熱用PTCサーミスタ素子32
は、ヘッド支持装置6の上に搭載されている。PTCサ
ーミスタ素子31は、MR素子1に接続されるリード導
体21、22に対して、端子45、46において接続さ
れている。
FIG. 23 is a plan view showing another embodiment of the magnetic head device according to the present invention, and FIG. 24 is an electric circuit diagram of the magnetic head device shown in FIG. 23 and 24 also show a magnetic head device to which the thin film device shown in FIG. 3 is applied. PTC thermistor element 31 and PTC thermistor element 32 for heating constituting switch means 3
Are mounted on the head support device 6. The PTC thermistor element 31 is connected to the lead conductors 21 and 22 connected to the MR element 1 at terminals 45 and 46.

【0094】記録素子52(図24参照)のための端子
71、72は、硬質の基板70に形成された導体によっ
て構成されている。MR素子1のための端子41、42
も、硬質の基板40に形成された導体によって構成され
ている。これらの基板70、40は特性測定の際に、測
定装置(図示しない)に対して挿入されるコネクタとし
て用いることができる。
The terminals 71 and 72 for the recording element 52 (see FIG. 24) are constituted by conductors formed on a rigid substrate 70. Terminals 41 and 42 for MR element 1
Is also formed by a conductor formed on the hard substrate 40. These substrates 70 and 40 can be used as connectors to be inserted into a measuring device (not shown) at the time of characteristic measurement.

【0095】薄膜素子であるMR素子1の静電破壊及び
特性変化の防止作用、及び、特性測定作業時の取り扱い
は、図3に示した薄膜装置の場合と同様である。
The action of preventing the electrostatic breakdown and characteristic change of the MR element 1 which is a thin film element, and the handling at the time of the characteristic measurement operation are the same as those of the thin film device shown in FIG.

【0096】図25は本発明に係る磁気ヘッド装置の別
の実施例を示す平面図、図26は図25に示された磁気
ヘッド装置の電気回路図である。図25、26に示す実
施例も、図3に示した薄膜装置を適用した磁気ヘッド装
置を示している。記録素子52(図26参照)のための
端子71、72、及び、MR素子1のための端子41、
42は硬質の基板70、40に形成されている。これら
の基板70、40は、特性測定の際に、測定装置(図示
しない)に対して挿入されるコネクタとして用いること
ができる。
FIG. 25 is a plan view showing another embodiment of the magnetic head device according to the present invention, and FIG. 26 is an electric circuit diagram of the magnetic head device shown in FIG. The embodiment shown in FIGS. 25 and 26 also shows a magnetic head device to which the thin film device shown in FIG. 3 is applied. Terminals 71 and 72 for the recording element 52 (see FIG. 26), and terminals 41 for the MR element 1,
Reference numeral 42 is formed on the hard substrates 70 and 40. These substrates 70 and 40 can be used as connectors to be inserted into a measuring device (not shown) at the time of characteristic measurement.

【0097】スイッチ手段3を構成するPTCサーミス
タ素子31は、基板40に形成されたMR素子1のため
の端子41、42に接続されている。加熱用PTCサー
ミスタ素子32は、PTCサーミスタ素子31に熱結合
される。
The PTC thermistor element 31 constituting the switch means 3 is connected to terminals 41 and 42 for the MR element 1 formed on the substrate 40. The heating PTC thermistor element 32 is thermally coupled to the PTC thermistor element 31.

【0098】薄膜素子であるMR素子1の静電破壊及び
特性変化の防止にかかわる作用、及び、特性測定作業時
の取り扱いは、図3に示した薄膜装置の場合と同様であ
る。磁気記録再生装置へ組み込む直前、または、組み込
んだ後に、基板30を切断線XーXで切断し、PTCサ
ーミスタ素子31を、基板40から切り離す。
The action relating to the prevention of electrostatic breakdown and characteristic change of the MR element 1 which is a thin film element, and the handling at the time of the characteristic measurement work are the same as those of the thin film device shown in FIG. Immediately before or after assembling into the magnetic recording / reproducing device, the substrate 30 is cut along the cutting line XX, and the PTC thermistor element 31 is separated from the substrate 40.

【0099】図27は本発明に係る磁気ヘッド装置の別
の実施例を示す平面図、図28は図27に示された磁気
ヘッド装置の電気回路図である。図27、28に示す実
施例は、図4に示した薄膜装置を適用した磁気ヘッド装
置を示している。記録素子52(図28参照)のための
端子71、72、及び、MR素子1のための端子41、
42は、硬質の基板70、40に形成されている。これ
らの基板70、40は特性測定の際に、測定装置(図示
しない)に対して挿入されるコネクタとして用いること
ができる。
FIG. 27 is a plan view showing another embodiment of the magnetic head device according to the present invention, and FIG. 28 is an electric circuit diagram of the magnetic head device shown in FIG. The embodiment shown in FIGS. 27 and 28 shows a magnetic head device to which the thin film device shown in FIG. 4 is applied. Terminals 71 and 72 for the recording element 52 (see FIG. 28), and terminals 41 for the MR element 1,
Reference numeral 42 is formed on the rigid substrates 70 and 40. These substrates 70 and 40 can be used as connectors to be inserted into a measuring device (not shown) at the time of characteristic measurement.

【0100】スイッチ手段3は、NTCサーミスタ素子
311、312で構成されている。NTCサーミスタ素
子311、312は、リード導体21、22のそれぞれ
と、基板40の上に設けられた端子41、42との間に
直列に接続されている。実施例では、2個のNTCサー
ミスタ311、312が示されているが1個であっても
よいし、2個以上であってもよい。
The switch means 3 is composed of NTC thermistor elements 311 and 312. The NTC thermistor elements 311 and 312 are connected in series between each of the lead conductors 21 and 22 and terminals 41 and 42 provided on the substrate 40. In the embodiment, two NTC thermistors 311 and 312 are shown, but may be one or two or more.

【0101】スイッチ手段3をNTCサーミスタ素子3
11、312で構成した場合の駆動タイミング、及び、
その作用効果については、既に、図4を参照して説明し
た通りであり、NTCサーミスタ素子311、312に
対して、外部から、熱エネルギーを供給し、または、供
給を停止するだけの手軽な操作で、静電破壊防止機能の
構成及び解除を実行できる。
The switching means 3 is replaced by the NTC thermistor element 3
11, 312, and the drive timing,
The function and effect thereof are as already described with reference to FIG. 4. A simple operation of supplying heat energy to the NTC thermistor elements 311 and 312 from the outside or stopping the supply is only a simple operation. Thus, the configuration and release of the electrostatic breakdown prevention function can be executed.

【0102】図29は本発明に係る磁気ヘッド装置の更
に別の実施例を示す平面図、図30は図29に示された
磁気ヘッド装置の電気回路図である。図29、30に示
す実施例は、図5に示した薄膜装置を適用した磁気ヘッ
ド装置を示している。ヘッド支持装置6の側部に、基板
30を取り付け、この基板30上に静電破壊防止のため
のスイッチ手段3を構成するPTCサーミスタ素子31
及び加熱用PTCサーミスタ素子32を搭載してある。
基板30には、記録素子52(図30参照)のための端
子71、72、MR素子1のための端子41、42及び
加熱用PTCサーミスタ素子32のための端子43、4
4が設けられている。
FIG. 29 is a plan view showing still another embodiment of the magnetic head device according to the present invention, and FIG. 30 is an electric circuit diagram of the magnetic head device shown in FIG. The embodiment shown in FIGS. 29 and 30 shows a magnetic head device to which the thin film device shown in FIG. 5 is applied. A substrate 30 is mounted on the side of the head support device 6, and a PTC thermistor element 31 constituting the switch means 3 for preventing electrostatic breakdown on the substrate 30.
And a PTC thermistor element 32 for heating.
On the substrate 30, terminals 71 and 72 for the recording element 52 (see FIG. 30), terminals 41 and 42 for the MR element 1, and terminals 43 and 4 for the PTC thermistor element 32 for heating.
4 are provided.

【0103】スイッチ手段3は、NTCサーミスタ素子
311、312で構成されている。NTCサーミスタ素
子311、312は、基板30の上に搭載され、リード
導体21、22のそれぞれと、基板30の上に設けられ
た端子41、42との間に直列に接続されている。
The switch means 3 is composed of NTC thermistor elements 311 and 312. The NTC thermistor elements 311 and 312 are mounted on a substrate 30, and are connected in series between each of the lead conductors 21 and 22 and terminals 41 and 42 provided on the substrate 30.

【0104】基板30の上には、更に、加熱用PTCサ
ーミスタ素子32が備えられている。加熱用PTCサー
ミスタ32は、基板30上で、NTCサーミスタ素子3
11、312に熱結合される。加熱用PTCサーミスタ
32は、基板30の上に設けられた端子43、44に接
続されている。
On the substrate 30, a heating PTC thermistor element 32 is further provided. The heating PTC thermistor 32 is provided on the substrate 30 by the NTC thermistor element 3.
11 and 312. The heating PTC thermistor 32 is connected to terminals 43 and 44 provided on the substrate 30.

【0105】スイッチ手段3をNTCサーミスタ素子3
11、312で構成した場合の駆動タイミング、及び、
その作用効果については、既に、図5を参照して説明し
た通りであり、NTCサーミスタ素子311、312に
対して、加熱用PTCサーミスタ素子32から、熱エネ
ルギーを供給し、または、供給を停止するだけの手軽な
操作で、静電破壊防止機能の構成及び解除を実行でき
る。
The switching means 3 is replaced by the NTC thermistor element 3
11, 312, and the drive timing,
The operation and effect are as described with reference to FIG. 5. Heat energy is supplied to the NTC thermistor elements 311 and 312 from the heating PTC thermistor element 32 or the supply of heat energy is stopped. The configuration and release of the electrostatic breakdown prevention function can be executed with only a simple operation.

【0106】図31は本発明に係る磁気ヘッド装置の更
に別の実施例を示す平面図、図32は図31に示された
磁気ヘッド装置の電気回路図である。図31、32に示
す実施例は、図6に示した薄膜装置を適用した磁気ヘッ
ド装置を示している。記録素子52(図32参照)のた
めの端子71、72、及び、MR素子1のための端子4
1、42が、硬質の基板70、40に形成されている。
これらの基板70、40は特性測定の際に測定装置に対
して挿入されるコネクタとして用いることができる。
FIG. 31 is a plan view showing still another embodiment of the magnetic head device according to the present invention, and FIG. 32 is an electric circuit diagram of the magnetic head device shown in FIG. The embodiment shown in FIGS. 31 and 32 shows a magnetic head device to which the thin film device shown in FIG. 6 is applied. Terminals 71 and 72 for the recording element 52 (see FIG. 32) and terminal 4 for the MR element 1
1 and 42 are formed on rigid substrates 70 and 40.
These substrates 70 and 40 can be used as connectors to be inserted into a measuring device when measuring characteristics.

【0107】スイッチ手段3は、NTCサーミスタ素子
311、312及びPTCサーミスタ313を含んでい
る。NTCサーミスタ素子311、312は、リード導
体21、22のそれぞれと、基板40の上に設けられた
端子41、42との間に直列に接続されている。PTC
サーミスタ素子313は、基板40に形成された端子4
1、42に接続されている。加熱用PTCサーミスタ素
子32は、PTCサーミスタ素子313に熱結合され
る。
The switching means 3 includes NTC thermistor elements 311, 312 and a PTC thermistor 313. The NTC thermistor elements 311 and 312 are connected in series between each of the lead conductors 21 and 22 and terminals 41 and 42 provided on the substrate 40. PTC
The thermistor element 313 is connected to the terminal 4 formed on the substrate 40.
1, 42. The heating PTC thermistor element 32 is thermally coupled to the PTC thermistor element 313.

【0108】スイッチ手段3を構成するNTCサーミス
タ素子311、312及びPTCサーミスタ素子313
の駆動タイミング、及び、その作用効果については、既
に、図6を参照して説明した通りである。磁気記録再生
装置へ組み込む直前、または、組み込んだ後に、基板4
0を切断線XーXで切断し、PTCサーミスタ素子31
3を基板40から切り離す。
The NTC thermistor elements 311 and 312 and the PTC thermistor element 313 constituting the switch means 3
The drive timing and the operation and effect thereof are as described with reference to FIG. Immediately before or after incorporation into the magnetic recording / reproducing device, the substrate 4
0 along the cutting line XX, and the PTC thermistor element 31
3 is separated from the substrate 40.

【0109】図33は本発明に係る磁気ヘッド装置の更
に別の実施例を示す平面図、図34は図33に示された
磁気ヘッド装置の電気回路図である。図33、34に示
す実施例は、図12の薄膜装置を適用した磁気ヘッド装
置を示している。信号処理回路20はヘッド支持装置6
の上に搭載されいる。信号処理回路20は、読み書き回
路であり、MR素子1及び記録素子52(図34参照)
に接続されている。スイッチ手段3は、PTCサーミス
タ素子31で構成され、ヘッド支持装置6の上で、信号
処理回路20に熱結合されている。
FIG. 33 is a plan view showing still another embodiment of the magnetic head device according to the present invention, and FIG. 34 is an electric circuit diagram of the magnetic head device shown in FIG. The embodiment shown in FIGS. 33 and 34 shows a magnetic head device to which the thin film device of FIG. 12 is applied. The signal processing circuit 20 includes the head support device 6
It is mounted on. The signal processing circuit 20 is a read / write circuit, and includes the MR element 1 and the recording element 52 (see FIG. 34).
It is connected to the. The switch means 3 comprises a PTC thermistor element 31 and is thermally coupled to the signal processing circuit 20 on the head support device 6.

【0110】信号処理回路20は、信号処理時に、かな
りの温度で発熱する。PTCサーミスタ素子31は、信
号処理回路20が動作した時に発生する熱エネルギーに
よって、スイッチング動作をする。
The signal processing circuit 20 generates heat at a considerable temperature during signal processing. The PTC thermistor element 31 performs a switching operation by thermal energy generated when the signal processing circuit 20 operates.

【0111】ヘッド支持装置6の側部には、基板30が
取り付けられており、この基板30上に、記録素子52
(図34参照)のための端子71、72、MR素子1の
ための端子41、42及び加熱用PTCサーミスタ素子
32のための端子43、44が設けられている。PTC
サーミスタ素子31は、端子41、42に接続されてい
る。
A substrate 30 is attached to the side of the head support device 6, and the recording element 52 is placed on the substrate 30.
(See FIG. 34), terminals 41 and 42 for the MR element 1 and terminals 43 and 44 for the PTC thermistor element 32 for heating are provided. PTC
The thermistor element 31 is connected to terminals 41 and 42.

【0112】スイッチ手段3を構成するPTCサーミス
タ素子31の駆動タイミング、及び、その作用効果につ
いては、既に、図12を参照して説明した通りである。
The drive timing of the PTC thermistor element 31 constituting the switch means 3 and the operation and effect thereof have already been described with reference to FIG.

【0113】図35は本発明に係る磁気ヘッド装置の更
に別の実施例における電気回路図である。この実施例
は、スイッチ手段3を、半導体スイッチ素子やフォトト
ランジスタ等を用いて構成する(図7〜11参照)場合
に適した例を示す。
FIG. 35 is an electric circuit diagram of still another embodiment of the magnetic head device according to the present invention. This embodiment shows an example suitable for a case where the switch means 3 is configured using a semiconductor switch element, a phototransistor, or the like (see FIGS. 7 to 11).

【0114】スイッチ手段3を構成するフォトトランジ
スタ311、312及び発光素子33は、信号処理回路
20と共に、一体化回路200を構成している。
The phototransistors 311 and 312 and the light emitting element 33 constituting the switch means 3 constitute an integrated circuit 200 together with the signal processing circuit 20.

【0115】図36は図35の一体化回路200をヘッ
ド支持装置6の上に搭載した磁気ヘッド装置の平面図で
ある。ヘッド支持装置6の側部に、基板30が取り付け
られており、基板30には端子71、72及び41〜4
4が備えられている。
FIG. 36 is a plan view of a magnetic head device in which the integrated circuit 200 of FIG. 35 is mounted on the head support device 6. A substrate 30 is attached to a side portion of the head support device 6, and terminals 71, 72 and 41 to 4
4 are provided.

【0116】図37は本発明に係る磁気記録再生装置を
示す図である。本発明に係る磁気記録再生装置は位置決
め装置10、磁気ディスク9、周知のヘッド支持装置6
及び本発明に係る薄膜磁気ヘッド5を含んでいる。磁気
ディスク9は、図示しない回転駆動機構により、矢印a
の方向に回転駆動される。位置決め装置10は、ロータ
リ・アクチュエータ方式であり、ヘッド支持装置6の一
端側を支持し磁気ディスク9の面上で所定角度(スキュ
ー角)で、矢印b1またはb2の方向に駆動する。それ
によって、所定のトラックにおいて、磁気ディスク9へ
の書き込み及び磁気ディスク9からの読み出しが行なわ
れる。
FIG. 37 is a view showing a magnetic recording / reproducing apparatus according to the present invention. The magnetic recording / reproducing apparatus according to the present invention includes a positioning device 10, a magnetic disk 9, and a well-known head support device 6.
And a thin-film magnetic head 5 according to the present invention. The magnetic disk 9 is moved by an arrow a by a rotation driving mechanism (not shown).
Is rotated in the direction of. The positioning device 10 is of a rotary actuator type and supports one end of the head support device 6 and is driven at a predetermined angle (skew angle) on the surface of the magnetic disk 9 in the direction of the arrow b1 or b2. As a result, writing to the magnetic disk 9 and reading from the magnetic disk 9 are performed on a predetermined track.

【0117】[0117]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、次
のような効果が得られる。 (a)静電破壊防止機能の構成及び解除を、手軽に実行
できる薄膜装置、薄膜磁気ヘッド装置及び磁気記録再生
装置を提供することができる。 (b)薄膜素子に対して、静電破壊防止機能を簡単に外
付できる薄膜装置、薄膜磁気ヘッド装置及び磁気記録再
生装置を提供することができる。
As described above, according to the present invention, the following effects can be obtained. (A) It is possible to provide a thin film device, a thin film magnetic head device, and a magnetic recording / reproducing device that can easily perform the configuration and release of the electrostatic breakdown prevention function. (B) It is possible to provide a thin film device, a thin film magnetic head device, and a magnetic recording / reproducing device that can easily provide an electrostatic breakdown preventing function to a thin film element.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る薄膜装置の構成を概略的に示す図
である。
FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a thin film device according to the present invention.

【図2】本発明に係る薄膜装置の具体的な実施例を示す
図である。
FIG. 2 is a view showing a specific embodiment of the thin film device according to the present invention.

【図3】本発明に係る薄膜装置の更に別の実施例を示す
図である。
FIG. 3 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention.

【図4】本発明に係る薄膜装置の更に別の実施例を示す
図である。
FIG. 4 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention.

【図5】本発明に係る薄膜装置の更に別の実施例を示す
図である。
FIG. 5 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention.

【図6】本発明に係る薄膜装置の更に別の実施例を示す
図である。
FIG. 6 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention.

【図7】本発明に係る薄膜装置の更に別の実施例を示す
図である。
FIG. 7 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention.

【図8】本発明に係る薄膜装置の更に別の実施例を示す
図である。
FIG. 8 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention.

【図9】本発明に係る薄膜装置の更に別の実施例を示す
図である。
FIG. 9 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention.

【図10】本発明に係る薄膜装置の更に別の実施例を示
す図である。
FIG. 10 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention.

【図11】本発明に係る薄膜装置の更に別の実施例を示
す図である。
FIG. 11 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention.

【図12】本発明に係る薄膜装置の更に別の実施例を示
す図である。
FIG. 12 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention.

【図13】本発明に係る薄膜装置の更に別の実施例を示
す図である。
FIG. 13 is a view showing still another embodiment of the thin film device according to the present invention.

【図14】本発明に係る磁気ヘッド装置の平面図であ
る。
FIG. 14 is a plan view of a magnetic head device according to the present invention.

【図15】図14に示した磁気ヘッド装置の磁気ヘッド
取り付け部分の拡大正面図である。
FIG. 15 is an enlarged front view of a magnetic head attachment portion of the magnetic head device shown in FIG.

【図16】図14に示した磁気ヘッド装置の磁気ヘッド
取り付け部分の拡大底面図である。
16 is an enlarged bottom view of a magnetic head mounting portion of the magnetic head device shown in FIG.

【図17】薄膜磁気ヘッドの薄膜素子の部分を拡大して
示す断面図である。
FIG. 17 is an enlarged cross-sectional view showing a thin-film element portion of the thin-film magnetic head.

【図18】薄膜磁気ヘッドに含まれるMR素子の更に詳
しい構造を示す拡大断面図である。
FIG. 18 is an enlarged sectional view showing a more detailed structure of an MR element included in the thin-film magnetic head.

【図19】図14〜図18に示した磁気ヘッド装置の電
気結線図である。
19 is an electrical connection diagram of the magnetic head device shown in FIGS. 14 to 18. FIG.

【図20】本発明に係る磁気ヘッド装置の別の実施例を
示す平面図である。
FIG. 20 is a plan view showing another embodiment of the magnetic head device according to the present invention.

【図21】図20に示された磁気ヘッド装置の電気回路
図である。
21 is an electric circuit diagram of the magnetic head device shown in FIG.

【図22】本発明に係る磁気ヘッド装置の更に別の実施
例を示す平面図である。
FIG. 22 is a plan view showing still another embodiment of the magnetic head device according to the present invention.

【図23】本発明に係る磁気ヘッド装置の別の実施例を
示す平面図である。
FIG. 23 is a plan view showing another embodiment of the magnetic head device according to the present invention.

【図24】図23に示された磁気ヘッド装置の電気回路
図である。
24 is an electric circuit diagram of the magnetic head device shown in FIG.

【図25】本発明に係る磁気ヘッド装置の別の実施例を
示す平面図である。
FIG. 25 is a plan view showing another embodiment of the magnetic head device according to the present invention.

【図26】図25に示された磁気ヘッド装置の電気回路
図である。
26 is an electric circuit diagram of the magnetic head device shown in FIG.

【図27】本発明に係る磁気ヘッド装置の別の実施例を
示す平面図である。
FIG. 27 is a plan view showing another embodiment of the magnetic head device according to the present invention.

【図28】図27に示された磁気ヘッド装置の電気回路
図である。
28 is an electric circuit diagram of the magnetic head device shown in FIG. 27.

【図29】本発明に係る磁気ヘッド装置の更に別の実施
例を示す平面図である。
FIG. 29 is a plan view showing still another embodiment of the magnetic head device according to the present invention.

【図30】図29に示された磁気ヘッド装置の電気回路
図である。
30 is an electric circuit diagram of the magnetic head device shown in FIG.

【図31】本発明に係る磁気ヘッド装置の更に別の実施
例を示す平面図である。
FIG. 31 is a plan view showing still another embodiment of the magnetic head device according to the present invention.

【図32】図31に示された磁気ヘッド装置の電気回路
図である。
32 is an electric circuit diagram of the magnetic head device shown in FIG.

【図33】本発明に係る磁気ヘッド装置の更に別の実施
例を示す平面図である。
FIG. 33 is a plan view showing still another embodiment of the magnetic head device according to the present invention.

【図34】図33に示された磁気ヘッド装置の電気回路
図である。
34 is an electric circuit diagram of the magnetic head device shown in FIG.

【図35】本発明に係る磁気ヘッド装置の更に別の実施
例における電気回路図である。
FIG. 35 is an electric circuit diagram of still another embodiment of the magnetic head device according to the present invention.

【図36】図35に図示された一体化回路をヘッド支持
装の上に搭載した磁気ヘッド装置の平面図である。
36 is a plan view of a magnetic head device in which the integrated circuit shown in FIG. 35 is mounted on a head supporting device.

【図37】本発明に係る磁気記録再生装置を示す図であ
る。
FIG. 37 is a diagram showing a magnetic recording / reproducing apparatus according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 薄膜素子 21、22 リード導体 3 スイッチ手段 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Thin film element 21, 22 Lead conductor 3 Switching means

Claims (23)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 薄膜素子と、少なくとも2つのリード導
体と、スイッチ手段とを含む薄膜装置であって、 前記リード導体は、前記薄膜素子に接続されており、 前記スイッチ手段は、前記リード導体に接続され、外部
から与えられるエネルギーによってスイッチング動作を
し、前記薄膜素子の静電破壊を防止する。
1. A thin film device comprising a thin film element, at least two lead conductors, and switch means, wherein the lead conductor is connected to the thin film element, and wherein the switch means is connected to the lead conductor. The thin film element is connected and performs a switching operation by energy given from the outside to prevent electrostatic breakdown of the thin film element.
【請求項2】 請求項1に記載された装置であって、 前記スイッチ手段は、サーミスタ素子を含む。2. The apparatus according to claim 1, wherein said switch means includes a thermistor element. 【請求項3】 請求項2に記載された装置であって、 前記スイッチ手段は、正の抵抗温度係数を有するサーミ
スタ素子を含む。
3. The apparatus according to claim 2, wherein said switch means includes a thermistor element having a positive temperature coefficient of resistance.
【請求項4】 請求項3に記載された装置であって、 前記サーミスタ素子は、前記リード導体間に接続されて
いる。
4. The device according to claim 3, wherein the thermistor element is connected between the lead conductors.
【請求項5】 請求項2に記載された装置であって、 前記スイッチ手段は、負の抵抗温度係数を有するサーミ
スタ素子を含む。
5. The apparatus according to claim 2, wherein said switch means includes a thermistor element having a negative temperature coefficient of resistance.
【請求項6】 請求項5に記載された装置であって、 前記サーミスタ素子は、前記リード導体に直列に接続さ
れている。
6. The device according to claim 5, wherein the thermistor element is connected in series to the lead conductor.
【請求項7】 請求項1乃至6の何れかに記載された装
置であって、 前記外部から与えられるエネルギーは、熱エネルギーで
ある。
7. The device according to claim 1, wherein the externally applied energy is thermal energy.
【請求項8】 請求項7に記載された装置であって、 更に、発熱素子を含み、前記発熱素子が前記スイッチ手
段に前記熱エネルギーを与える。
8. The apparatus according to claim 7, further comprising a heating element, said heating element providing said thermal energy to said switch means.
【請求項9】 請求項8に記載された装置であって、 前記発熱素子は、正の抵抗温度係数を有するサーミスタ
を含む。
9. The apparatus according to claim 8, wherein the heating element includes a thermistor having a positive temperature coefficient of resistance.
【請求項10】 請求項1に記載された装置であって、 前記スイッチ手段は、半導体スイッチを含む。10. The apparatus according to claim 1, wherein said switch means includes a semiconductor switch. 【請求項11】 請求項10に記載された装置であっ
て、 前記半導体スイッチは、フォトトランジスタを含む。
11. The device according to claim 10, wherein said semiconductor switch includes a phototransistor.
【請求項12】 請求項10に記載された装置であっ
て、 前記半導体スイッチは、フォトトランジスタと、発光素
子との組み合わせを含む。
12. The device according to claim 10, wherein the semiconductor switch includes a combination of a phototransistor and a light emitting element.
【請求項13】 請求項10に記載された装置であっ
て、 前記半導体スイッチは、3端子スイッチ素子を含む。
13. The device according to claim 10, wherein the semiconductor switch includes a three-terminal switch element.
【請求項14】 請求項10に記載された装置であっ
て、 前記スイッチ手段は、機械的スイッチ手段を含む。
14. The apparatus according to claim 10, wherein said switch means comprises a mechanical switch means.
【請求項15】 請求項1乃至14の何れかに記載され
た装置であって、 更に、信号処理回路を含んでおり、前記信号処理回路は
前記薄膜素子に接続されており、 前記スイッチ手段は、前記信号処理回路の後段に備えら
れている。
15. The apparatus according to claim 1, further comprising a signal processing circuit, wherein the signal processing circuit is connected to the thin film element, and wherein the switch means , Provided at a subsequent stage of the signal processing circuit.
【請求項16】 請求項15に記載された装置であっ
て、 前記スイッチ手段は、前記信号処理回路が動作した時に
発生する熱エネルギーによってスイッチング動作をす
る。
16. The device according to claim 15, wherein said switch means performs a switching operation by thermal energy generated when said signal processing circuit operates.
【請求項17】 請求項1乃至16の何れかに記載され
た装置であって、 更に、スライダを含んでおり、 前記薄膜素子は磁気変換素子であって、前記スライダの
上に搭載されており、 前記スライダ及び前記薄膜素子は薄膜磁気ヘッドを構成
する。
17. The device according to claim 1, further comprising a slider, wherein the thin-film element is a magnetic transducer, and is mounted on the slider. The slider and the thin-film element constitute a thin-film magnetic head.
【請求項18】 請求項17に記載された装置であっ
て、 更に、ヘッド支持装置を含んでおり、前記ヘッド支持装
置は前記薄膜磁気ヘッドを支持している。
18. The apparatus according to claim 17, further comprising a head support device, wherein said head support device supports said thin-film magnetic head.
【請求項19】 請求項17または18の何れかに記載
された装置であって、 前記薄膜素子は、磁気抵抗効果膜を含む。
19. The device according to claim 17, wherein the thin film element includes a magnetoresistive film.
【請求項20】 請求項19に記載された装置であっ
て、 前記磁気抵抗効果膜は、多層膜構造を有する。
20. The device according to claim 19, wherein the magnetoresistive film has a multilayer structure.
【請求項21】 請求項20に記載された装置であっ
て、 前記磁気抵抗効果膜は、スピンバルブ膜構造を有する。
21. The device according to claim 20, wherein the magnetoresistive film has a spin valve film structure.
【請求項22】 請求項17乃至21の何れかに記載さ
れた装置であって、 更に、書き込み用薄膜素子を含み、前記書き込み用素子
は前記スライダの上に搭載されている。
22. The apparatus according to claim 17, further comprising a writing thin film element, wherein said writing element is mounted on said slider.
【請求項23】 磁気ディスクと、磁気ヘッド装置とを
含む磁気記録再生装置であって、 前記磁気ディスクは、回転駆動され、 前記磁気ヘッド装置は、請求項16乃至21の何れかに
記載されたものでなり、前記磁気ディスクとの間で記録
及び再生を行なう。
23. A magnetic recording / reproducing device including a magnetic disk and a magnetic head device, wherein the magnetic disk is driven to rotate, and the magnetic head device is described in any one of claims 16 to 21. And performs recording and reproduction with the magnetic disk.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7944648B2 (en) 2007-06-07 2011-05-17 Toshiba Storage Device Corporation Head slider and storage medium driving device

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