JP2000003955A - Semiconductor wafer receiving device - Google Patents

Semiconductor wafer receiving device

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JP2000003955A
JP2000003955A JP16675998A JP16675998A JP2000003955A JP 2000003955 A JP2000003955 A JP 2000003955A JP 16675998 A JP16675998 A JP 16675998A JP 16675998 A JP16675998 A JP 16675998A JP 2000003955 A JP2000003955 A JP 2000003955A
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JP
Japan
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wafer carrier
shutter
semiconductor wafer
storage device
port
Prior art date
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Application number
JP16675998A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Fujisaki
淳 藤崎
Yoshiaki Yamada
義明 山田
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance carrying efficiency of a wafer carrier conveyor, by a method wherein a volume damper is provided in a duct for connecting a gas supplier to a semiconductor wafer storing device main body, and also an opening and closing actuator for opening and closing is provided. SOLUTION: A gas supplier 17 supplies a wind amount of a gas 18 equal to a wind amount escaping into a clean room 1 to an air supply chamber 7 in an open state of a shutter 9 according to an open signal from an opening and closing actuator 21 of a volume damper 20. An opening and closing operation of the shutter 9 is synchronous so as not to mix an air including a chemical mist of the clean room 1 into a semiconductor wafer storing device main body 2. At the time of storing or forwarding, a carrying apparatus installed outside in the case of a full automatic action, or an operator in the case of a manual operation transfers a wafer carrier 3 to a mounting stage 10 according to an instruction of an upper level computer. Thus, it is possible to adjust a gas supply amount from the gas supplier.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は半導体の製造工程
において、半導体ウエハを保管するための半導体ウエハ
収納装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor wafer storage device for storing semiconductor wafers in a semiconductor manufacturing process.

【0002】[0002]

【従来の技術】図6は従来の半導体ウエハ収納装置を示
す断面図である。図において、クリーンルーム41内に
設置された半導体ウエハ保管装置本体42は、ウエハを
搭載したウエハキャリア43を収納するウエハキャリア
収納棚44と、ウエハキャリア43を搬送するためのウ
エハキャリア搬送装置45と、ウエハキャリア43の投
入及び払出を行うポート46と、給気チャンバ47とか
ら構成される。半導体ウエハ保管装置本体42は、図示
しない保護カバーによって覆われ、内部に保管されるウ
エハキャリア43が、クリーンルーム41の環境に直接
さらされない構造となっている。
2. Description of the Related Art FIG. 6 is a sectional view showing a conventional semiconductor wafer storage device. In the figure, a semiconductor wafer storage device main body 42 installed in a clean room 41 includes a wafer carrier storage shelf 44 for storing a wafer carrier 43 loaded with wafers, a wafer carrier transfer device 45 for transferring the wafer carrier 43, It comprises a port 46 for loading and unloading the wafer carrier 43 and an air supply chamber 47. The semiconductor wafer storage device main body 42 is covered with a protective cover (not shown), and has a structure in which the wafer carrier 43 stored therein is not directly exposed to the environment of the clean room 41.

【0003】ウエハキャリア収納棚44は、お互いに対
面して設置され、ウエハキャリア43を上下左右に複数
保管できる。又、図6に示すようにウエハキャリア搬送
装置45は、ウエハキャリア収納棚44に沿って設けら
れた走行レール48上を移動し、ウエハキャリア43を
ウエハキャリア収納棚44やポート46へ自動搬送す
る。更に、図6に示すようにポート46は、内側シャッ
ター49と外側シャッター50の2重シャッターと、ウ
エハキャリアを受け渡すための載置ステージ51を備
え、シャッター49,50を片側ずつ開けることができ
る。
[0003] The wafer carrier storage shelves 44 are installed facing each other, and a plurality of wafer carriers 43 can be stored vertically and horizontally. Also, as shown in FIG. 6, the wafer carrier transfer device 45 moves on a traveling rail 48 provided along the wafer carrier storage shelf 44, and automatically transfers the wafer carrier 43 to the wafer carrier storage shelf 44 and the port 46. . Further, as shown in FIG. 6, the port 46 includes a double shutter of an inner shutter 49 and an outer shutter 50, and a mounting stage 51 for transferring a wafer carrier, and the shutters 49 and 50 can be opened one by one. .

【0004】給気チャンバ47は、ULPAフィルタ5
2とファン53を備える。半導体ウエハ保管装置本体4
2とは別置きで設置している気体供給機54から供給さ
れた気体55は、ダクト56を通過しファン53により
加圧され、例えば0.3m/sの風速でULPAフィル
タ52から常に面内均一に吹き出す。気体供給機54か
ら供給される気体55の風量は常に一定で、半導体ウエ
ハ保管装置本体42内の圧力がクリーンルーム41内の
圧力より若干高くなるようにボリュームダンパ57は調
整される。そしてポート46の内側シャッター49及び
外側シャッター50の交互動作とともに、半導体ウエハ
保管装置本体42内にクリーンルーム41内のケミカル
ミストを含んだ空気が混入しないようにする。
The air supply chamber 47 is provided with an ULPA filter 5.
2 and a fan 53. Semiconductor wafer storage device body 4
The gas 55 supplied from the gas supply device 54 installed separately from the gas passage 2 passes through the duct 56 and is pressurized by the fan 53, and is always in-plane from the ULPA filter 52 at a wind speed of, for example, 0.3 m / s. Spray evenly. The volume of the gas 55 supplied from the gas supply device 54 is always constant, and the volume damper 57 is adjusted so that the pressure in the semiconductor wafer storage device main body 42 becomes slightly higher than the pressure in the clean room 41. Then, together with the alternate operation of the inner shutter 49 and the outer shutter 50 of the port 46, the air containing the chemical mist in the clean room 41 is prevented from entering the semiconductor wafer storage device main body 42.

【0005】給気チャンバ47を通って吹き出された気
体55は、ウエハ保管中のウエハキャリア43を通り、
ベース台58に設けた図示しない排気口よりクリーンル
ーム41の外に排気される。気体供給機54から供給さ
れる気体55の種類としては、ウエハプロセスで要求さ
れる保管雰囲気に応じてドライエアやドライ窒素等があ
る。半導体ウエハ保管装置本体42は、図示しない上位
計算機の命令により制御される。入出庫時には、全自動
の場合は図示しない外部に設置の搬送機器が、手動の場
合は図示しない作業者が上位計算機の命令により、ウエ
ハキャリア43を移載ステージ51に移載する。
The gas 55 blown out through the air supply chamber 47 passes through the wafer carrier 43 during wafer storage, and
Air is exhausted out of the clean room 41 from an exhaust port (not shown) provided in the base table 58. Examples of the type of the gas 55 supplied from the gas supply device 54 include dry air and dry nitrogen according to the storage atmosphere required in the wafer process. The semiconductor wafer storage device main body 42 is controlled by a command from a host computer (not shown). At the time of loading and unloading, a transfer device installed outside (not shown in the case of full automatic operation) or an operator (not shown in the case of manual operation) transfers the wafer carrier 43 to the transfer stage 51 according to a command from a host computer.

【0006】次に動作について説明する。まず、ウエハ
キャリア43を半導体ウエハ保管装置本体42へ全自動
で入庫するときについて説明する。上位計算機は、ポー
ト46に外側シャッター50の開命令を出力する。上位
計算機は、ポート46から外側シャッター50の開完了
の報告を受けて、外部に設置の搬送機器へウエハキャリ
ア43を載置ステージ51へ移載する搬送の命令を出力
する。搬送終了後、上位計算機は、外部に設置の搬送機
器から搬送完了の報告を受けて、ポート46に外側シャ
ッター50の閉命令を出力する。上位計算機は、ポート
46から外側シャッター50の閉完了の報告を受ける。
Next, the operation will be described. First, a case where the wafer carrier 43 is fully automatically stored in the semiconductor wafer storage device main body 42 will be described. The host computer outputs an opening command of the outer shutter 50 to the port 46. The host computer receives the report of the completion of the opening of the outer shutter 50 from the port 46, and outputs a transfer command for transferring the wafer carrier 43 to the mounting stage 51 to a transfer device installed outside. After the transfer is completed, the host computer receives a report of the completion of the transfer from a transfer device installed outside and outputs a command to close the outer shutter 50 to the port 46. The host computer receives a report from the port 46 that the outer shutter 50 has been closed.

【0007】次に上位計算機は、ウエハキャリア搬送装
置45にウエハキャリア43を載置ステージ51からウ
エハキャリア収納棚44へ移載する搬送命令を出力す
る。ウエハキャリア搬送装置45は、載置ステージ51
にアクセスできるポイントまで移動した後、ポート46
に内側シャッター49の開命令を出力する。ウエハキャ
リア搬送装置45は、ポート46から内側シャッター4
9の開完了の報告を受け、載置ステージ51からウエハ
キャリア43を取り出す。ウエハキャリア搬送装置45
は、ポート46に内側シャッター49の閉命令を出力す
る。ウエハキャリア搬送装置45は、ポート46から内
側シャッター49の閉完了の報告を受けて、ウエハキャ
リア収納棚44へ移動し、ウエハキャリア43を載置す
る。その後、上位計算機は、ウエハキャリア搬送装置4
5の搬送完了の報告を受ける。
Next, the host computer outputs a transfer command for transferring the wafer carrier 43 from the mounting stage 51 to the wafer carrier storage shelf 44 to the wafer carrier transfer device 45. The wafer carrier transfer device 45 includes a mounting stage 51.
After moving to a point where you can access
, An opening command for the inner shutter 49 is output. The wafer carrier transfer device 45 is connected to the port 46 through the inner shutter 4.
In response to the report of the completion of opening 9, the wafer carrier 43 is taken out from the mounting stage 51. Wafer carrier transfer device 45
Outputs a command to close the inner shutter 49 to the port 46. Upon receiving a report from the port 46 that the inner shutter 49 has been closed, the wafer carrier transfer device 45 moves to the wafer carrier storage shelf 44 and places the wafer carrier 43 thereon. After that, the host computer operates the wafer carrier transfer device 4
5 is received.

【0008】次に、ウエハキャリア43を半導体ウエハ
保管装置本体42から全自動で出庫するときについて説
明する。上位計算機は、ウエハキャリア搬送装置45に
ウエハキャリア43をウエハキャリア収納棚44から載
置ステージ51へ移載する搬送命令を出力する。ウエハ
キャリア搬送装置45は、ウエハキャリア収納棚44へ
移動し、ウエハキャリア43を取り出す。ウエハキャリ
ア搬送装置45は、載置ステージ51にアクセスできる
ポイントまで移動した後、ポート46に内側シャッター
49の開命令を出力する。ウエハキャリア搬送装置45
は、ポート46から内側シャッター49の開完了の報告
を受け、載置ステージ51へウエハキャリア43を載置
する。ウエハキャリア搬送装置45は、ポート46に内
側シャッター49の閉命令を出力する。ウエハキャリア
搬送装置45は、ポート46から内側シャッター49の
閉完了の報告を受け、その後、上位計算機は、ウエハキ
ャリア搬送装置45からの搬送完了の報告を受ける。
Next, a case in which the wafer carrier 43 is fully automatically unloaded from the semiconductor wafer storage device main body 42 will be described. The host computer outputs a transfer command to transfer the wafer carrier 43 from the wafer carrier storage shelf 44 to the mounting stage 51 to the wafer carrier transfer device 45. The wafer carrier transfer device 45 moves to the wafer carrier storage shelf 44 and takes out the wafer carrier 43. After moving to a point where the mounting stage 51 can be accessed, the wafer carrier transfer device 45 outputs an opening command of the inner shutter 49 to the port 46. Wafer carrier transfer device 45
Receives the report of the opening completion of the inner shutter 49 from the port 46, and places the wafer carrier 43 on the placement stage 51. Wafer carrier transfer device 45 outputs a command to close inner shutter 49 to port 46. The wafer carrier transfer device 45 receives the report of the completion of the closing of the inner shutter 49 from the port 46, and thereafter, the host computer receives the transfer completion report from the wafer carrier transfer device 45.

【0009】次に上位計算機は、ポート46に外側シャ
ッター50の開命令を出力する。上位計算機は、ポート
46から外側シャッター50の開完了の報告を受けて、
外部に設置の搬送機器へウエハキャリア43を載置ステ
ージ51から移載する搬送の命令を出力する。搬送終了
後、上位計算機は、外部に設置の搬送機器から搬送完了
の報告を受けて、ポート46に外側シャッター50の閉
命令を出力する。そして上位計算機は、ポート46から
外側シャッター50の閉完了の報告を受ける。手動で入
出庫するときは、外部に設置の搬送機器のところが作業
者にかわるだけで他の操作は上記で示したものと同様に
動作が行なわれる。
Next, the host computer outputs an instruction to open the outer shutter 50 to the port 46. The host computer receives the report from the port 46 that the outer shutter 50 has been opened,
A transfer command for transferring the wafer carrier 43 from the mounting stage 51 to a transfer device installed outside is output. After the transfer is completed, the host computer receives a report of the completion of the transfer from a transfer device installed outside and outputs a command to close the outer shutter 50 to the port 46. Then, the host computer receives a report from the port 46 that the outer shutter 50 has been closed. When manually entering or leaving the warehouse, only the transfer equipment installed outside is replaced by the operator, and other operations are performed in the same manner as described above.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体ウエハ保
管装置は以上のように構成されているので、半導体ウエ
ハ収納装置へウエハキャリアを入出庫するために、ウエ
ハキャリア搬送装置がポートへ移動を行なう時は、ウエ
ハキャリア搬送装置がポートの載置ステージにアクセス
できるポイントまで移動した後に、ポートに対し内側シ
ャッターの開命令を出力し、内側シャッターを開けてい
た為、ウエハキャリア搬送装置はポートから内側シャッ
ターの開完了の報告を受けるまで待たなければならず、
ウエハキャリア搬送装置の搬送効率を低下させるという
問題点があった。また、ポートの内側シャッターの開
閉、及び外側シャッターの開閉にそれぞれ時間を要すた
め、単位時間当たりの入出庫数が低下し、半導体ウエハ
収納装置全体の作業効率を低下させるという問題点があ
った。
Since the conventional semiconductor wafer storage device is constructed as described above, the wafer carrier transfer device moves to the port in order to move the wafer carrier into and out of the semiconductor wafer storage device. At this time, after the wafer carrier transfer device moved to the point where the mounting stage of the port can be accessed, an open command for the inner shutter was output to the port and the inner shutter was opened. You have to wait until you receive a report that the shutter has opened,
There is a problem that the transfer efficiency of the wafer carrier transfer device is reduced. Further, since it takes time to open and close the inner shutter of the port and open and close the outer shutter, there is a problem that the number of warehouses per unit time decreases, and the work efficiency of the entire semiconductor wafer storage device decreases. .

【0011】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、ウエハキャリア搬送装置の搬送
効率を向上させ、半導体ウエハ収納装置全体の作業効率
を向上させることを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and has as its object to improve the transfer efficiency of a wafer carrier transfer device and improve the work efficiency of the entire semiconductor wafer storage device.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】この発明の請求項1に係
る半導体ウエハ収納装置は、クリーンルーム内に設置さ
れた半導体ウエハ保管装置本体と、ULPAフィルタ及
びファンを備える給気チャンバと、半導体ウエハ保管装
置本体内に設けられたウエハキャリアを収納するための
ウエハキャリア収納棚と、ウエハキャリアを搬送するた
めのウエハキャリア搬送装置と、シャッター及びウエハ
キャリアを受け渡すための載置ステージを備えたポート
と、半導体ウエハ保管装置本体に気体を供給するのため
の気体供給機とから構成されるものであって、気体供給
機と半導体ウエハ保管装置本体をつなぐダクトにボリュ
ームダンパを設けると共に、このボリュームダンパの開
閉を行なうための開閉アクチュエータを設けたものであ
る。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor wafer storage apparatus, a semiconductor wafer storage apparatus main body installed in a clean room, an air supply chamber having an ULPA filter and a fan, and a semiconductor wafer storage apparatus. A wafer carrier storage shelf provided in the apparatus main body for storing a wafer carrier, a wafer carrier transfer device for transferring the wafer carrier, a shutter and a port having a mounting stage for transferring the wafer carrier; A gas supply device for supplying gas to the semiconductor wafer storage device main body, wherein a volume damper is provided in a duct connecting the gas supply device and the semiconductor wafer storage device main body, and the volume damper is An opening and closing actuator for opening and closing is provided.

【0013】この発明の請求項2に係る半導体ウエハ収
納装置は、クリーンルーム内に設置された半導体ウエハ
保管装置本体と、ULPAフィルタ及びファンを備える
給気チャンバと、半導体ウエハ保管装置本体内に設けら
れたウエハキャリアを収納するためのウエハキャリア収
納棚と、ウエハキャリアを搬送するためのウエハキャリ
ア搬送装置と、シャッター及びウエハキャリアを受け渡
すための載置ステージを備えたポートと、半導体ウエハ
保管装置本体に気体を供給するのための気体供給機とか
ら構成されるものであって、シャッターの開状態でクリ
ーンルーム内に逃げる風量を測定するためのセンサーを
設け、上記風量と等しい気体の風量を気体供給機から供
給するものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor wafer storage apparatus provided in a semiconductor wafer storage apparatus main body installed in a clean room, an air supply chamber having an ULPA filter and a fan, and a semiconductor wafer storage apparatus main body. Carrier storage shelf for storing a wafer carrier, a wafer carrier transfer device for transferring a wafer carrier, a port having a shutter and a mounting stage for transferring the wafer carrier, and a semiconductor wafer storage device body And a gas supply device for supplying gas to the clean room, provided with a sensor for measuring the amount of air escaping into the clean room when the shutter is open, and supplying a gas amount equal to the above air amount. It is supplied from the machine.

【0014】この発明の請求項3に係る半導体ウエハ収
納装置は、クリーンルーム内に設置された半導体ウエハ
保管装置本体と、ULPAフィルタ及びファンを備える
給気チャンバと、半導体ウエハ保管装置本体内に設けら
れたウエハキャリアを収納するためのウエハキャリア収
納棚と、ウエハキャリアを搬送するためのウエハキャリ
ア搬送装置と、シャッター及びウエハキャリアを受け渡
すための載置ステージを備えたポートと、半導体ウエハ
保管装置本体に気体を供給するのための気体供給機とか
ら構成されるものであって、気体供給機と半導体ウエハ
保管装置本体をつなぐダクトにボリュームダンパを設け
ると共に、シャッターとボリュームダンパとを連動させ
るための連結部を設けたものである。
According to a third aspect of the present invention, a semiconductor wafer storage apparatus is provided in a semiconductor wafer storage apparatus main body installed in a clean room, an air supply chamber having an ULPA filter and a fan, and a semiconductor wafer storage apparatus main body. Carrier storage shelf for storing a wafer carrier, a wafer carrier transfer device for transferring a wafer carrier, a port having a shutter and a mounting stage for transferring the wafer carrier, and a semiconductor wafer storage device body A gas supply device for supplying gas to the gas supply device, and a volume damper is provided in a duct connecting the gas supply device and the semiconductor wafer storage device main body, and a shutter and the volume damper are interlocked. A connecting portion is provided.

【0015】この発明の請求項4に係る半導体ウエハ収
納装置は、シャッターと開閉アクチュエータの開閉動作
を同期に行なうものである。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor wafer storage device wherein the opening and closing operations of a shutter and an opening and closing actuator are performed synchronously.

【0016】この発明の請求項5に係る半導体ウエハ収
納装置は、シャッターの開状態でクリーンルーム内に逃
げる風量と等しい気体の風量を気体供給機から供給する
ものである。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor wafer storage device, wherein a gas amount equal to an air amount escaping into a clean room when a shutter is opened is supplied from a gas supply device.

【0017】この発明の請求項6に係る半導体ウエハ収
納装置は、ウエハキャリア搬送装置からシャッターに開
閉命令の信号を出力するものである。
According to a sixth aspect of the present invention, a semiconductor wafer storage device outputs a signal of an opening / closing command from a wafer carrier transport device to a shutter.

【0018】この発明の請求項7に係る半導体ウエハ収
納装置は、ウエハキャリア搬送装置の走行経路に位置検
出センサーを設け、この位置検出センサーがシャッター
の開閉命令信号を出力するものである。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a semiconductor wafer storage device, wherein a position detection sensor is provided on a traveling path of a wafer carrier transfer device, and the position detection sensor outputs a shutter opening / closing command signal.

【0019】この発明の請求項8に係る半導体ウエハ収
納装置は、ウエハキャリア搬送装置に設けられたブロッ
クと接触することによりウエハキャリア搬送装置の走行
動力をシャッターの開閉動作に変換する伝達方向変換部
を設けたものである。
According to a eighth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor wafer storage device, wherein a transmission direction changing unit converts the running power of the wafer carrier transfer device into a shutter opening / closing operation by contacting a block provided in the wafer carrier transfer device. Is provided.

【0020】この発明の請求項9に係る半導体ウエハ収
納装置は、気体供給機を2つ以上設けると共に、シャッ
ターを一重にしたものである。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor wafer storage apparatus in which two or more gas feeders are provided and a single shutter is provided.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】実施の形態1.以下、この発明の
一実施形態を図について説明する。図1はこの発明の実
施の形態1による半導体ウエハ収納装置を示す断面図で
ある。図において、クリーンルーム1内に設置された半
導体ウエハ保管装置本体2は、ウエハを搭載したウエハ
キャリア3を収納するウエハキャリア収納棚4と、ウエ
ハキャリア3を搬送するウエハキャリア搬送装置5と、
ウエハキャリア3の投入及び払出を行うポート6と、給
気チャンバ7とから構成される。半導体ウエハ保管装置
本体2は、図示しない保護カバーによって覆われ、内部
に保管されるウエハキャリア3が、クリーンルーム1の
環境に直接さらされない構造である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment 1 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view showing a semiconductor wafer storage device according to Embodiment 1 of the present invention. In the figure, a semiconductor wafer storage device main body 2 installed in a clean room 1 includes a wafer carrier storage shelf 4 for storing a wafer carrier 3 on which a wafer is mounted, a wafer carrier transfer device 5 for transferring the wafer carrier 3, and
It comprises a port 6 for loading and unloading the wafer carrier 3 and an air supply chamber 7. The semiconductor wafer storage device main body 2 is covered with a protective cover (not shown), and has a structure in which the wafer carrier 3 stored therein is not directly exposed to the environment of the clean room 1.

【0022】ウエハキャリア収納棚4は、お互いに対面
して設置され、ウエハキャリア3を上下左右に複数保管
できる。又、図1に示すようにウエハキャリア搬送装置
5は、ウエハキャリア収納棚4に沿って設けられた走行
レール8上を移動し、ウエハキャリア3をウエハキャリ
ア収納棚4やポート6へ自動搬送する。更に、図1に示
すようにポート6は、シャッター9と、ウエハキャリア
を受け渡すための載置ステージ10を備える。
The wafer carrier storage shelves 4 are installed so as to face each other, and a plurality of wafer carriers 3 can be stored vertically and horizontally. Further, as shown in FIG. 1, the wafer carrier transfer device 5 moves on a traveling rail 8 provided along the wafer carrier storage shelf 4 and automatically transfers the wafer carrier 3 to the wafer carrier storage shelf 4 and the port 6. . Further, as shown in FIG. 1, the port 6 includes a shutter 9 and a mounting stage 10 for transferring a wafer carrier.

【0023】給気チャンバ7は、ULPAフィルタ11
とファン12を備える。半導体ウエハ保管装置本体2と
は別置きで設置している気体供給機13から供給された
気体14は、ダクト15を通過してファン12により加
圧され、例えば0.3m/sの風速でULPAフィルタ
11から常に面内均一に吹き出す。気体供給機13から
供給される気体14の風量は常に一定で、半導体ウエハ
保管装置本体2内の圧力がクリーンルーム1内の圧力よ
り若干高くなるようにボリュームダンパ16は調整され
る。また半導体ウエハ保管装置本体2とは別置きで設置
している気体供給機17から供給される気体18は、同
じくダクト19を通過し給気チャンバ7へ供給される。
The air supply chamber 7 includes an ULPA filter 11
And a fan 12. A gas 14 supplied from a gas supply device 13 installed separately from the semiconductor wafer storage device main body 2 passes through a duct 15 and is pressurized by a fan 12, and is, for example, ULPA at a wind speed of 0.3 m / s. The air is always blown out uniformly from the filter 11. The volume of the gas 14 supplied from the gas supply device 13 is always constant, and the volume damper 16 is adjusted such that the pressure in the semiconductor wafer storage device main body 2 is slightly higher than the pressure in the clean room 1. The gas 18 supplied from the gas supply device 17 installed separately from the semiconductor wafer storage device main body 2 also passes through the duct 19 and is supplied to the air supply chamber 7.

【0024】気体供給機17から供給される気体18の
風量は、通常“0”で、気体供給機17は、ボリューム
ダンパ20の開閉アクチュエータ21からの開信号によ
り、シャッター9の開状態でクリーンルーム1内に逃げ
る風量と等しい気体18の風量を給気チャンバ7へ供給
する。シャッター9の開閉動作とボリュームダンパ20
の開閉動作は、半導体ウエハ保管装置本体2内にクリー
ンルーム1内のケミカルミストを含んだ空気が混入しな
いように同期動作をする。
The gas flow rate of the gas 18 supplied from the gas supply device 17 is normally “0”, and the gas supply device 17 receives the open signal from the opening / closing actuator 21 of the volume damper 20 and operates the clean room 1 with the shutter 9 open. The gas 18 is supplied to the air supply chamber 7 at the same flow rate as the gas 18 escaping inside. Opening / closing operation of shutter 9 and volume damper 20
The opening and closing operations are performed synchronously so that air containing the chemical mist in the clean room 1 does not enter the semiconductor wafer storage device main body 2.

【0025】給気チャンバ7を通って吹き出された気体
は、ウエハ保管中のウエハキャリア3を通り、ベース台
22に設けた図示しない排気口よりクリーンルーム1の
外に排気される。気体供給機13,17から供給される
気体14,18としては、ウエハプロセスで要求される
保管雰囲気に応じてドライエアやドライ窒素等がある。
半導体ウエハ保管装置本体2は、図示しない上位計算機
の命令により制御される。入出庫時には、全自動の場合
は図示しない外部に設置の搬送機器が、手動の場合は図
示しない作業者が上位計算機の命令により、ウエハキャ
リア3を載置ステージ10に移載する。
The gas blown out through the air supply chamber 7 passes through the wafer carrier 3 during wafer storage, and is exhausted from the clean room 1 through an exhaust port (not shown) provided in the base table 22. Examples of the gases 14 and 18 supplied from the gas supply devices 13 and 17 include dry air and dry nitrogen depending on the storage atmosphere required in the wafer process.
The semiconductor wafer storage device main body 2 is controlled by a command from a host computer (not shown). At the time of loading and unloading, a transfer device installed outside (not shown in the case of fully automatic operation) or an operator (not shown in the case of manual operation) transfers the wafer carrier 3 to the mounting stage 10 according to a command from a host computer.

【0026】次に動作について説明する。まず、ウエハ
キャリア3を半導体ウエハ保管装置本体2へ全自動で入
庫するときについて説明する。上位計算機は、外部に設
置の搬送機器へウエハキャリア3を載置ステージ10へ
移載する搬送の命令を出力する。搬送終了後、上位計算
機は外部に設置の搬送機器から搬送完了の報告を受け
る。次に上位計算機は、ウエハキャリア搬送装置5にウ
エハキャリア3を載置ステージ10からウエハキャリア
収納棚4へ移載する搬送命令を出力する。ウエハキャリ
ア搬送装置5は、上位計算機より搬送命令を入力した時
点で、載置ステージ10にアクセスできるポイントまで
移動開始するとともに、ポート6にシャッター9の開命
令を出力する。ポート6は、シャッター9の開命令を入
力した時点で、シャッター9を開けるとともに、開閉ア
クチュエータ21にボリュームダンパ20の開命令を出
力する。
Next, the operation will be described. First, a case where the wafer carrier 3 is fully automatically stored in the semiconductor wafer storage device main body 2 will be described. The host computer outputs a transfer command to transfer the wafer carrier 3 to the mounting stage 10 to a transfer device installed outside. After the transfer is completed, the host computer receives a report of the completion of the transfer from a transfer device installed outside. Next, the host computer outputs a transfer command to transfer the wafer carrier 3 from the mounting stage 10 to the wafer carrier storage shelf 4 to the wafer carrier transfer device 5. When a transfer command is input from the host computer, the wafer carrier transfer device 5 starts moving to a point where the mounting stage 10 can be accessed, and outputs a command to open the shutter 9 to the port 6. The port 6 opens the shutter 9 and outputs an opening command of the volume damper 20 to the opening / closing actuator 21 when the opening command of the shutter 9 is input.

【0027】ポート6は、開閉アクチュエータ21から
ボリュームダンパ20の開完了の報告を受ける。ウエハ
キャリア搬送装置5は、ポート6からシャッター9の開
完了の報告を受け、載置ステージ10からウエハキャリ
ア3を取り出す。ウエハキャリア搬送装置5は、ポート
6にシャッター9の閉命令を出力するとともに、ウエハ
キャリア収納棚4へ移動しウエハキャリア3を載置す
る。ポート6は、シャッター9の閉命令を入力した時点
で、シャッター9を閉めるとともに、開閉アクチュエー
タ21にボリュームダンパ20の閉命令を出力する。ポ
ート6は、開閉アクチュエータ21からボリュームダン
パ20の閉完了の報告を受けると共に、ウエハキャリア
搬送装置5は、ポート6からシャッター9の閉完了の報
告を受ける。その後、上位計算機は、ウエハキャリア搬
送装置5より搬送完了の報告を受ける。
The port 6 receives a report from the opening / closing actuator 21 that the opening of the volume damper 20 has been completed. The wafer carrier transport device 5 receives the report of the completion of the opening of the shutter 9 from the port 6 and takes out the wafer carrier 3 from the mounting stage 10. The wafer carrier transport device 5 outputs a command to close the shutter 9 to the port 6 and moves to the wafer carrier storage shelf 4 to place the wafer carrier 3 thereon. The port 6 closes the shutter 9 and outputs a command to close the volume damper 20 to the opening / closing actuator 21 when the command to close the shutter 9 is input. The port 6 receives a report from the opening / closing actuator 21 that the volume damper 20 has been closed, and the wafer carrier transport device 5 receives a report from the port 6 that the shutter 9 has been closed. Thereafter, the host computer receives a report of the completion of the transfer from the wafer carrier transfer device 5.

【0028】次に、ウエハキャリア3を半導体ウエハ保
管装置本体2から全自動で出庫するときについて説明す
る。上位計算機は、ウエハキャリア搬送装置5にウエハ
キャリア3をウエハキャリア収納棚4から載置ステージ
10へ移載する搬送命令を出力する。ウエハキャリア搬
送装置5は、ウエハキャリア収納棚4へ移動し、ウエハ
キャリア3を取り出す。ウエハキャリア搬送装置5は、
載置ステージ10にアクセスできるポイントまで移動開
始するとともに、ポート6にシャッター9の開命令を出
力する。ポート6は、シャッター9の開命令を入力した
時点で、シャッター9を開けるとともに、開閉アクチュ
エータ21にボリュームダンパ20の開命令を出力す
る。ポート6は、開閉アクチュエータ21からボリュー
ムダンパ20の開完了の報告を受ける。
Next, the case where the wafer carrier 3 is fully automatically unloaded from the semiconductor wafer storage apparatus main body 2 will be described. The host computer outputs a transfer command to transfer the wafer carrier 3 from the wafer carrier storage shelf 4 to the mounting stage 10 to the wafer carrier transfer device 5. The wafer carrier transport device 5 moves to the wafer carrier storage shelf 4 and takes out the wafer carrier 3. The wafer carrier transfer device 5 includes:
It starts moving to a point where the mounting stage 10 can be accessed, and outputs a command to open the shutter 9 to the port 6. The port 6 opens the shutter 9 and outputs an opening command of the volume damper 20 to the opening / closing actuator 21 when the opening command of the shutter 9 is input. The port 6 receives a report from the opening / closing actuator 21 that the volume damper 20 has been opened.

【0029】ウエハキャリア搬送装置5は、ポート6か
らシャッター9の開完了の報告を受け、載置ステージ1
0へウエハキャリア3を載置する。次にウエハキャリア
搬送装置5は、ポート6にシャッター9の閉命令を出力
する。ポート6は、シャッター9の閉命令を入力した時
点で、シャッター9を閉めるとともに、開閉アクチュエ
ータ21にボリュームダンパ20の閉命令を出力する。
ポート6は、開閉アクチュエータ21からボリュームダ
ンパ20の閉完了の報告を受け、またウエハキャリア搬
送装置5は、ポート6からシャッター9の閉完了の報告
を受ける。その後、上位計算機は、ウエハキャリア搬送
装置5からの搬送完了の報告を受ける。上位計算機は、
外部に設置の搬送機器へウエハキャリア3を載置ステー
ジ10から移載する搬送の命令を出力する。搬送終了
後、上位計算機は、外部に設置の搬送機器から搬送完了
の報告を受ける。手動で入出庫するときは、外部に設置
の搬送機器のところが作業者にかわるだけでその他の動
作は上記説明と同様である。
The wafer carrier transfer device 5 receives a report from the port 6 that the shutter 9 has been opened, and
The wafer carrier 3 is mounted on the wafer carrier 0. Next, the wafer carrier transfer device 5 outputs a command to close the shutter 9 to the port 6. The port 6 closes the shutter 9 and outputs a command to close the volume damper 20 to the opening / closing actuator 21 when the command to close the shutter 9 is input.
The port 6 receives a report from the opening / closing actuator 21 that the volume damper 20 has been closed, and the wafer carrier transfer device 5 receives a report from the port 6 that the shutter 9 has been closed. Thereafter, the host computer receives a report of the completion of the transfer from the wafer carrier transfer device 5. The host computer is
A transfer command for transferring the wafer carrier 3 from the mounting stage 10 to a transfer device installed outside is output. After the transfer is completed, the host computer receives a report of the transfer completion from a transfer device installed outside. When manually entering and leaving the warehouse, the operation is otherwise the same as described above, except that the transport equipment installed outside is replaced by an operator.

【0030】実施の形態2.以下、この発明の実施の形
態2を図について説明する。図2はこの発明の実施の形
態2による半導体ウエハ収納装置を示す断面図であり、
図において、ウエハキャリア搬送装置5の走行レール8
に位置検出センサー23を備えたものである。
Embodiment 2 FIG. Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a sectional view showing a semiconductor wafer storage device according to a second embodiment of the present invention.
In the figure, a running rail 8 of a wafer carrier transfer device 5 is shown.
And a position detection sensor 23.

【0031】次に動作について説明する。まず、ウエハ
キャリア3を半導体ウエハ保管装置本体2へ全自動で入
庫するときについて説明する。上位計算機は、外部に設
置の搬送機器へウエハキャリア3を載置ステージ10へ
移載する搬送の命令を出力する。搬送終了後、上位計算
機は、外部に設置の搬送機器から搬送完了の報告を受け
る。次に上位計算機は、ウエハキャリア搬送装置5にウ
エハキャリア3を載置ステージ10からウエハキャリア
収納棚4へ移載する搬送命令を出力する。ウエハキャリ
ア搬送装置5は、上位計算機より搬送命令を入力した時
点で、載置ステージ10にアクセスできるポイントまで
移動開始する。ウエハキャリア搬送装置5の位置を、ウ
エハキャリア搬送装置5の走行レール8にある位置検出
センサー23で認識し、位置検出センサー23を通過し
た時点で、ポート6にシャッター9の開命令を出力す
る。ポート6は、シャッター9の開命令を入力した時点
で、シャッター9を開けるとともに、開閉アクチュエー
タ21にボリュームダンパ20の開命令を出力する。そ
してポート6は、開閉アクチュエータ21からボリュー
ムダンパ20の開完了の報告を受ける。
Next, the operation will be described. First, a case where the wafer carrier 3 is fully automatically stored in the semiconductor wafer storage device main body 2 will be described. The host computer outputs a transfer command to transfer the wafer carrier 3 to the mounting stage 10 to a transfer device installed outside. After the transfer is completed, the host computer receives a report of the transfer completion from a transfer device installed outside. Next, the host computer outputs a transfer command to transfer the wafer carrier 3 from the mounting stage 10 to the wafer carrier storage shelf 4 to the wafer carrier transfer device 5. The wafer carrier transfer device 5 starts moving to a point where the mounting stage 10 can be accessed when a transfer command is input from a host computer. The position of the wafer carrier transfer device 5 is recognized by the position detection sensor 23 on the traveling rail 8 of the wafer carrier transfer device 5, and when the wafer carrier has passed the position detection sensor 23, an instruction to open the shutter 9 is output to the port 6. The port 6 opens the shutter 9 and outputs an opening command of the volume damper 20 to the opening / closing actuator 21 when the opening command of the shutter 9 is input. Then, the port 6 receives a report from the opening / closing actuator 21 that the opening of the volume damper 20 has been completed.

【0032】ウエハキャリア搬送装置5は、ポート6か
らシャッター9の開完了の報告を受け、載置ステージ1
0からウエハキャリア3を取り出す。ウエハキャリア搬
送装置5は、ウエハキャリア収納棚4へ移動しウエハキ
ャリア3を載置する。ウエハキャリア搬送装置5の位置
を、ウエハキャリア搬送装置5の走行レール8にある位
置検出センサー23で認識し、位置検出センサー23を
通過した時点で、ポート6にシャッター9の閉命令を出
力する。ポート6は、シャッター9の閉命令を入力した
時点で、シャッター9を閉めるとともに、開閉アクチュ
エータ21にボリュームダンパ20の閉命令を出力す
る。ポート6は、開閉アクチュエータ21からボリュー
ムダンパ20の閉完了の報告を受ける。ウエハキャリア
搬送装置5は、ポート6からシャッター9の閉完了の報
告を受ける。その後、上位計算機は、ウエハキャリア搬
送装置5の搬送完了の報告を受ける。
The wafer carrier transfer device 5 receives a report from the port 6 that the shutter 9 has been opened, and
The wafer carrier 3 is taken out from 0. The wafer carrier transport device 5 moves to the wafer carrier storage shelf 4 and places the wafer carrier 3 thereon. The position of the wafer carrier transfer device 5 is recognized by a position detection sensor 23 provided on the traveling rail 8 of the wafer carrier transfer device 5, and a command to close the shutter 9 is output to the port 6 when passing through the position detection sensor 23. The port 6 closes the shutter 9 and outputs a command to close the volume damper 20 to the opening / closing actuator 21 when the command to close the shutter 9 is input. The port 6 receives a report from the opening / closing actuator 21 that the volume damper 20 has been closed. Wafer carrier transfer device 5 receives a report from port 6 that shutter 9 has been closed. Thereafter, the host computer receives a report that the transfer by the wafer carrier transfer device 5 has been completed.

【0033】次に、ウエハキャリア3を半導体ウエハ保
管装置本体2から全自動で出庫する場合について説明す
る。上位計算機は、ウエハキャリア搬送装置5にウエハ
キャリア3をウエハキャリア収納棚4から載置ステージ
10へ移載する搬送命令を出力する。ウエハキャリア搬
送装置5は、ウエハキャリア収納棚4へ移動し、ウエハ
キャリア3を取り出し、ウエハキャリア搬送装置5は、
載置ステージ10にアクセスできるポイントまで移動開
始する。ウエハキャリア搬送装置5の位置を、ウエハキ
ャリア搬送装置5の走行レール8にある位置検出センサ
ー23で認識し、位置検出センサー23を通過した時点
で、ポート6にシャッター9の開命令を出力する。ポー
ト6は、シャッター9の開命令を入力した時点で、シャ
ッター9を開けるとともに、開閉アクチュエータ21に
ボリュームダンパ20の開命令を出力する。
Next, a case where the wafer carrier 3 is fully automatically unloaded from the semiconductor wafer storage device main body 2 will be described. The host computer outputs a transfer command to transfer the wafer carrier 3 from the wafer carrier storage shelf 4 to the mounting stage 10 to the wafer carrier transfer device 5. The wafer carrier transport device 5 moves to the wafer carrier storage shelf 4, takes out the wafer carrier 3, and the wafer carrier transport device 5
The movement starts to a point where the mounting stage 10 can be accessed. The position of the wafer carrier transfer device 5 is recognized by the position detection sensor 23 on the traveling rail 8 of the wafer carrier transfer device 5, and when the wafer carrier has passed the position detection sensor 23, an instruction to open the shutter 9 is output to the port 6. The port 6 opens the shutter 9 and outputs an opening command of the volume damper 20 to the opening / closing actuator 21 when the opening command of the shutter 9 is input.

【0034】ポート6は、開閉アクチュエータ21から
ボリュームダンパ20の開完了の報告を受ける。ウエハ
キャリア搬送装置5は、ポート6からシャッター9の開
完了の報告を受け、載置ステージ10へウエハキャリア
3を載置する。載置後、ウエハキャリア搬送装置5は、
退避位置へ移動する。ウエハキャリア搬送装置5の位置
を、ウエハキャリア搬送装置5の走行レール8にある位
置検出センサー23で認識し、位置検出センサー23を
通過した時点で、ポート6にシャッター9の閉命令を出
力する。ポート6は、シャッター9の閉命令を入力した
時点で、シャッター9を閉めるとともに、開閉アクチュ
エータ21にボリュームダンパ20の閉命令を出力す
る。ポート6は、開閉アクチュエータ21からボリュー
ムダンパ20の閉完了の報告を受け、ウエハキャリア搬
送装置5は、ポート6からシャッター9の閉完了の報告
を受ける。その後、上位計算機は、ウエハキャリア搬送
装置5から搬送完了の報告を受ける。上位計算機は、外
部に設置の搬送機器へウエハキャリア3を載置ステージ
10から移載する搬送の命令を出力する。搬送終了後、
上位計算機は、外部に設置の搬送機器から搬送完了の報
告を受ける。手動で入出庫するときは、外部に設置の搬
送機器のところが作業者にかわるだけでその他の動作は
上記説明と同様である。
The port 6 receives a report from the opening / closing actuator 21 that the volume damper 20 has been opened. The wafer carrier transfer device 5 receives the report of the completion of the opening of the shutter 9 from the port 6, and places the wafer carrier 3 on the placement stage 10. After the placement, the wafer carrier transport device 5
Move to the evacuation position. The position of the wafer carrier transfer device 5 is recognized by a position detection sensor 23 provided on the traveling rail 8 of the wafer carrier transfer device 5, and a command to close the shutter 9 is output to the port 6 when passing through the position detection sensor 23. The port 6 closes the shutter 9 and outputs a command to close the volume damper 20 to the opening / closing actuator 21 when the command to close the shutter 9 is input. The port 6 receives a report from the opening / closing actuator 21 that the volume damper 20 has been closed, and the wafer carrier transfer device 5 receives a report from the port 6 that the shutter 9 has been closed. Thereafter, the host computer receives a report of the completion of the transfer from the wafer carrier transfer device 5. The host computer outputs a transfer command to transfer the wafer carrier 3 from the mounting stage 10 to a transfer device installed outside. After the transfer,
The host computer receives a report of the transfer completion from a transfer device installed outside. When manually entering and leaving the warehouse, the operation is otherwise the same as described above, except that the transport equipment installed outside is replaced by an operator.

【0035】実施の形態3.以下、この発明の実施の形
態3について説明する。図3はこの発明の実施の形態3
による半導体ウエハ収納装置を示す断面図である。図に
おいて、ウエハキャリア搬送装置5の本体に取り付けて
あるブロック24と、このブロック24と接触しウエハ
キャリア搬送装置5の走行動力を受け取り、外部へ力を
変換し伝える伝達方向変換部25と、この伝達方向変換
部25とポート6のシャッター9を接続する連結部26
とを備え、ウエハキャリア搬送装置5とポート6におけ
るシャッター9の同期動作を実現する。伝達方向変換部
25は、入力部27と変換部28と出力部29から構成
され、伝達方向変換部25は、例えば油圧や空圧のよう
な圧力機器や、ラックピニオン、リンク機構のような機
械部品で動力伝達を行なうように構成されている。
Embodiment 3 FIG. Hereinafter, a third embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 shows Embodiment 3 of the present invention.
1 is a sectional view showing a semiconductor wafer storage device according to the present invention. In the figure, a block 24 attached to the main body of the wafer carrier transport device 5, a transmission direction converter 25 which comes into contact with the block 24, receives traveling power of the wafer carrier transport device 5, and converts and transmits force to the outside. Connecting part 26 connecting transmission direction changing part 25 and shutter 9 of port 6
And a synchronous operation of the wafer carrier transfer device 5 and the shutter 9 at the port 6 is realized. The transmission direction conversion unit 25 includes an input unit 27, a conversion unit 28, and an output unit 29. The transmission direction conversion unit 25 includes, for example, a pressure device such as hydraulic pressure or pneumatic pressure, or a machine such as a rack and pinion or a link mechanism. The components are configured to transmit power.

【0036】次に動作について説明する。まず、ウエハ
キャリア3を半導体ウエハ保管装置本体2へ全自動で入
庫するときについて説明する。上位計算機は、外部に設
置の搬送機器へウエハキャリア3を載置ステージ10へ
移載する搬送の命令を出力する。搬送終了後、上位計算
機は、外部に設置の搬送機器から搬送完了の報告を受け
る。次に上位計算機は、ウエハキャリア搬送装置5にウ
エハキャリア3を載置ステージ10からウエハキャリア
収納棚4へ移載する搬送命令を出力する。ウエハキャリ
ア搬送装置5は、上位計算機より搬送命令を入力した時
点で、載置ステージ10にアクセスできるポイントまで
移動を開始する。ウエハキャリア搬送装置5の本体が載
置ステージ10に近づくと、ウエハキャリア搬送装置5
の本体に取り付けてあるブロック24と伝達方向変換部
25の入力部27が矢印A方向に移動する。
Next, the operation will be described. First, a case where the wafer carrier 3 is fully automatically stored in the semiconductor wafer storage device main body 2 will be described. The host computer outputs a transfer command to transfer the wafer carrier 3 to the mounting stage 10 to a transfer device installed outside. After the transfer is completed, the host computer receives a report of the transfer completion from a transfer device installed outside. Next, the host computer outputs a transfer command to transfer the wafer carrier 3 from the mounting stage 10 to the wafer carrier storage shelf 4 to the wafer carrier transfer device 5. The wafer carrier transfer device 5 starts moving to a point where the mounting stage 10 can be accessed when a transfer command is input from a host computer. When the main body of the wafer carrier transport device 5 approaches the mounting stage 10, the wafer carrier transport device 5
The block 24 attached to the main body and the input unit 27 of the transmission direction conversion unit 25 move in the direction of arrow A.

【0037】変換部28は出力部29を矢印B方向に押
し出し、出力部29と接続されている連結部26及び連
結部26と接続されているポート6のシャッター9も同
様に矢印B方向に押し出し、ポート6のシャッター9が
開き始める。ウエハキャリア搬送装置5の本体が載置ス
テージ10にアクセスできるポイントまで移動完了した
時点で、シャッター9の開が完了する。ポート6は、シ
ャッター9の開を開始した時点で、開閉アクチュエータ
21にボリュームダンパ20の開命令を出力する。ポー
ト6は、開閉アクチュエータ21からボリュームダンパ
20の開完了の報告を受ける。ウエハキャリア搬送装置
5は、ポート6からシャッター9の開完了の報告を受
け、載置ステージ10からウエハキャリア3を取り出
す。ウエハキャリア搬送装置5は、ウエハキャリア収納
棚4へ移動しウエハキャリア3を載置する。ウエハキャ
リア搬送装置5の本体が載置ステージ10から遠ざかる
と、ウエハキャリア搬送装置5の本体に取り付けてある
ブロック24と伝達方向変換部25の入力部27が、矢
印C方向に移動する。
The conversion section 28 pushes the output section 29 in the direction of arrow B, and the connecting section 26 connected to the output section 29 and the shutter 9 of the port 6 connected to the connecting section 26 similarly push in the direction of arrow B. Then, the shutter 9 of the port 6 starts to open. The opening of the shutter 9 is completed when the movement of the main body of the wafer carrier transfer device 5 to the point where the mounting stage 10 can be accessed is completed. The port 6 outputs an opening command of the volume damper 20 to the opening / closing actuator 21 when the opening of the shutter 9 is started. The port 6 receives a report from the opening / closing actuator 21 that the volume damper 20 has been opened. The wafer carrier transport device 5 receives the report of the completion of the opening of the shutter 9 from the port 6 and takes out the wafer carrier 3 from the mounting stage 10. The wafer carrier transport device 5 moves to the wafer carrier storage shelf 4 and places the wafer carrier 3 thereon. When the main body of the wafer carrier transfer device 5 moves away from the mounting stage 10, the block 24 attached to the main body of the wafer carrier transfer device 5 and the input unit 27 of the transmission direction conversion unit 25 move in the direction of arrow C.

【0038】変換部28は出力部29を矢印D方向に引
っ張り、出力部29と接続されている連結部26及び連
結部26と接続されているポート6のシャッター9も同
様に矢印D方向に引っ張られ、ポート6のシャッター9
が閉じ始める。ウエハキャリア搬送装置5の本体に取り
付けてあるブロック24と伝達方向変換部25の入力部
27が接触しないポイントまで移動した時点で、シャッ
ター9の閉が完了する。ポート6は、シャッター9の閉
を開始した時点で、開閉アクチュエータ21にボリュー
ムダンパ20の閉命令を出力する。ポート6は、開閉ア
クチュエータ21からボリュームダンパ20の閉完了の
報告を受ける。ウエハキャリア搬送装置5は、ポート6
からシャッター9の閉完了の報告を受け、その後、上位
計算機は、ウエハキャリア搬送装置5から搬送完了の報
告を受ける。
The conversion section 28 pulls the output section 29 in the direction of arrow D, and also pulls the connection section 26 connected to the output section 29 and the shutter 9 of the port 6 connected to the connection section 26 in the arrow D direction. And shutter 9 of port 6
Begins to close. When the block 24 attached to the main body of the wafer carrier transfer device 5 and the input unit 27 of the transfer direction conversion unit 25 have moved to a point where they do not contact, the closing of the shutter 9 is completed. The port 6 outputs a closing command of the volume damper 20 to the opening / closing actuator 21 when the closing of the shutter 9 is started. The port 6 receives a report from the opening / closing actuator 21 that the volume damper 20 has been closed. The wafer carrier transfer device 5 has a port 6
, The host computer receives a report of the completion of the transfer from the wafer carrier transfer device 5.

【0039】次に、ウエハキャリア3を半導体ウエハ保
管装置本体2から全自動で出庫するときについて説明す
る。上位計算機は、ウエハキャリア搬送装置5にウエハ
キャリア3をウエハキャリア収納棚4から載置ステージ
10へ移載する搬送命令を出力する。ウエハキャリア搬
送装置5は、ウエハキャリア収納棚4へ移動し、ウエハ
キャリア3を取り出す。ウエハキャリア搬送装置5は、
載置ステージ10にアクセスできるポイントまで移動開
始する。ウエハキャリア搬送装置5の本体が載置ステー
ジ10に近づくと、ウエハキャリア搬送装置5の本体に
取り付けてあるブロック24と伝達方向変換部25の入
力部27が矢印A方向に移動する。
Next, a case where the wafer carrier 3 is fully automatically unloaded from the semiconductor wafer storage apparatus main body 2 will be described. The host computer outputs a transfer command to transfer the wafer carrier 3 from the wafer carrier storage shelf 4 to the mounting stage 10 to the wafer carrier transfer device 5. The wafer carrier transport device 5 moves to the wafer carrier storage shelf 4 and takes out the wafer carrier 3. The wafer carrier transfer device 5 includes:
The movement starts to a point where the mounting stage 10 can be accessed. When the main body of the wafer carrier transfer device 5 approaches the mounting stage 10, the block 24 attached to the main body of the wafer carrier transfer device 5 and the input unit 27 of the transmission direction conversion unit 25 move in the direction of arrow A.

【0040】変換部28は出力部29を矢印B方向に押
し出し、出力部29と接続されている連結部26及び連
結部26と接続されているポート6のシャッター9も同
様に矢印B方向に押し出され、ポート6のシャッター9
が開き始める。ウエハキャリア搬送装置5の本体が載置
ステージ10にアクセスできるポイントまで移動完了し
た時点で、シャッター9の開が完了する。ポート6は、
シャッター9の開命令を入力した時点で、シャッター9
を開けるとともに、開閉アクチュエータ21にボリュー
ムダンパ20の開命令を出力する。ポート6は、開閉ア
クチュエータ21からボリュームダンパ20の開完了の
報告を受ける。ウエハキャリア搬送装置5は、ポート6
からシャッター9の開完了の報告を受け、載置ステージ
10へウエハキャリア3を載置する。
The conversion section 28 pushes the output section 29 in the direction of arrow B, and the connecting section 26 connected to the output section 29 and the shutter 9 of the port 6 connected to the connecting section 26 similarly push in the direction of arrow B. And the shutter 9 at port 6
Begins to open. The opening of the shutter 9 is completed when the movement of the main body of the wafer carrier transfer device 5 to the point where the mounting stage 10 can be accessed is completed. Port 6 is
When the shutter 9 is opened, the shutter 9 is opened.
And outputs an opening command of the volume damper 20 to the opening / closing actuator 21. The port 6 receives a report from the opening / closing actuator 21 that the volume damper 20 has been opened. The wafer carrier transfer device 5 has a port 6
, The wafer carrier 3 is placed on the placement stage 10.

【0041】載置後、ウエハキャリア搬送装置5の本体
が載置ステージ10から遠ざかると、ウエハキャリア搬
送装置5の本体に取り付けてあるブロック24と伝達方
向変換部25の入力部27が、矢印C方向に移動する。
変換部28は出力部29を矢印D方向に引っ張り、出力
部29と接続されている連結部26及び連結部26と接
続されているポート6のシャッター9も同様に矢印D方
向に引っ張られ、ポート6のシャッター9が閉じ始め
る。ウエハキャリア搬送装置5の本体に取り付けてある
ブロック24と伝達方向変換部25の入力部27が接触
しないポイントまで移動した時点で、シャッター9の閉
が完了する。ポート6は、シャッター9の閉を開始した
時点で、開閉アクチュエータ21にボリュームダンパ2
0の閉命令を出力する。ポート6は、開閉アクチュエー
タ21からボリュームダンパ20の閉完了の報告を受
け、ウエハキャリア搬送装置5は、ポート6からシャッ
ター9の閉完了の報告を受ける。その後、上位計算機
は、ウエハキャリア搬送装置5から搬送完了の報告を受
ける。
After the mounting, when the main body of the wafer carrier transfer device 5 moves away from the mounting stage 10, the block 24 attached to the main body of the wafer carrier transfer device 5 and the input portion 27 of the transmission direction conversion unit 25 are moved by the arrow C. Move in the direction.
The conversion unit 28 pulls the output unit 29 in the direction of the arrow D, and the connecting unit 26 connected to the output unit 29 and the shutter 9 of the port 6 connected to the connecting unit 26 are also pulled in the direction of the arrow D in the same manner. The shutter 9 of 6 starts to close. When the block 24 attached to the main body of the wafer carrier transfer device 5 and the input unit 27 of the transfer direction conversion unit 25 have moved to a point where they do not contact, the closing of the shutter 9 is completed. When the closing of the shutter 9 is started, the port 6 sends the volume damper 2 to the opening / closing actuator 21.
Outputs a 0 close command. The port 6 receives a report from the opening / closing actuator 21 that the volume damper 20 has been closed, and the wafer carrier transfer device 5 receives a report from the port 6 that the shutter 9 has been closed. Thereafter, the host computer receives a report of the completion of the transfer from the wafer carrier transfer device 5.

【0042】上位計算機は、外部に設置の搬送機器へウ
エハキャリア3を載置ステージ10から移載する搬送の
命令を出力する。搬送終了後、上位計算機は、外部に設
置の搬送機器から搬送完了の報告を受ける。手動で入出
庫するときは、外部に設置の搬送機器のところが作業者
にかわるだけでその他の動作は上記説明と同様である。
The host computer outputs a transfer command for transferring the wafer carrier 3 from the mounting stage 10 to a transfer device installed outside. After the transfer is completed, the host computer receives a report of the transfer completion from a transfer device installed outside. When manually entering and leaving the warehouse, the operation is otherwise the same as described above, except that the transport equipment installed outside is replaced by an operator.

【0043】実施の形態4.以下、この発明の実施の形
態4について説明する。図4は本実施形態による半導体
ウエハ保管装置を示す断面図である。図において、気体
供給機17はインバータ機能を持ち、気体供給機17か
ら供給される気体18の風量は、通常“0”で、気体供
給機17は、ポート6に備えているセンサー30の信号
により、ポート6のシャッター9の開状態でクリーンル
ーム1内に逃げる風量と等しい気体18の風量を判断
し、給気チャンバ7へ供給する。センサー30として
は、圧力センサーや風速センサーなどが用いられる。
Embodiment 4 FIG. Hereinafter, a fourth embodiment of the present invention will be described. FIG. 4 is a sectional view showing the semiconductor wafer storage device according to the present embodiment. In the figure, the gas supply device 17 has an inverter function, and the air volume of the gas 18 supplied from the gas supply device 17 is normally “0”. When the shutter 9 of the port 6 is open, the air flow of the gas 18 equal to the air flow escaping into the clean room 1 is determined and supplied to the air supply chamber 7. As the sensor 30, a pressure sensor, a wind speed sensor, or the like is used.

【0044】次に動作について説明する。まず、ウエハ
キャリア3を半導体ウエハ保管装置本体2へ全自動で入
庫するときについて説明する。上位計算機は、外部に設
置の搬送機器へウエハキャリア3を載置ステージ10へ
移載する搬送の命令を出力する。搬送終了後、上位計算
機は、外部に設置の搬送機器から搬送完了の報告を受け
る。次に上位計算機は、ウエハキャリア搬送装置5にウ
エハキャリア3を載置ステージ10からウエハキャリア
収納棚4へ移載する搬送命令を出力する。ウエハキャリ
ア搬送装置5は、上位計算機より搬送命令を入力した時
点で、載置ステージ10にアクセスできるポイントまで
移動開始するとともに、ポート6にシャッター9の開命
令を出力する。
Next, the operation will be described. First, a case where the wafer carrier 3 is fully automatically stored in the semiconductor wafer storage device main body 2 will be described. The host computer outputs a transfer command to transfer the wafer carrier 3 to the mounting stage 10 to a transfer device installed outside. After the transfer is completed, the host computer receives a report of the transfer completion from a transfer device installed outside. Next, the host computer outputs a transfer command to transfer the wafer carrier 3 from the mounting stage 10 to the wafer carrier storage shelf 4 to the wafer carrier transfer device 5. When a transfer command is input from the host computer, the wafer carrier transfer device 5 starts moving to a point where the mounting stage 10 can be accessed, and outputs a command to open the shutter 9 to the port 6.

【0045】ポート6は、シャッター9の開命令を入力
した時点で、シャッター9を開ける。気体供給機17
は、ポート6に備えているセンサー30の信号により、
気体18の風量を判断し、給気チャンバ7へ必要な気体
を供給する。ウエハキャリア搬送装置5は、ポート6か
らシャッター9の開完了の報告を受け、載置ステージ1
0からウエハキャリア3を取り出す。ウエハキャリア搬
送装置5は、ポート6にシャッター9の閉命令を出力す
るとともに、ウエハキャリア収納棚4へ移動しウエハキ
ャリア3を載置する。ポート6は、シャッター9の閉命
令を入力した時点で、シャッター9を閉める。気体供給
機17は、ポート6に備えているセンサー30の信号に
より、気体18の風量を判断し、給気チャンバ7への供
給を停止する。ウエハキャリア搬送装置5は、ポート6
からシャッター9の閉完了の報告を受ける。その後、上
位計算機は、ウエハキャリア搬送装置5より搬送完了の
報告を受ける。
The port 6 opens the shutter 9 when a command to open the shutter 9 is input. Gas supply device 17
Is based on the signal of the sensor 30 provided in the port 6,
The air flow of the gas 18 is determined, and a necessary gas is supplied to the air supply chamber 7. The wafer carrier transfer device 5 receives the report of the completion of the opening of the shutter 9 from the port 6 and
The wafer carrier 3 is taken out from 0. The wafer carrier transport device 5 outputs a command to close the shutter 9 to the port 6 and moves to the wafer carrier storage shelf 4 to place the wafer carrier 3 thereon. The port 6 closes the shutter 9 when a command to close the shutter 9 is input. The gas supply device 17 determines the air volume of the gas 18 based on the signal of the sensor 30 provided in the port 6 and stops the supply to the air supply chamber 7. The wafer carrier transfer device 5 has a port 6
Receives a report that the shutter 9 has been closed. Thereafter, the host computer receives a report of the completion of the transfer from the wafer carrier transfer device 5.

【0046】次に、ウエハキャリア3を半導体ウエハ保
管装置本体2から全自動で出庫するときについて説明す
る。上位計算機は、ウエハキャリア搬送装置5にウエハ
キャリア3をウエハキャリア収納棚4から載置ステージ
10へ移載する搬送命令を出力する。ウエハキャリア搬
送装置5は、ウエハキャリア収納棚4へ移動し、ウエハ
キャリア3を取り出す。ウエハキャリア搬送装置5は、
載置ステージ10にアクセスできるポイントまで移動開
始するとともに、ポート6にシャッター9の開命令を出
力する。ポート6は、シャッター9の開命令を入力した
時点で、シャッター9を開ける。気体供給機17は、ポ
ート6に備えているセンサー30の信号により、気体1
8の風量を判断し、給気チャンバ7へ供給する。
Next, a case where the wafer carrier 3 is fully automatically unloaded from the semiconductor wafer storage device main body 2 will be described. The host computer outputs a transfer command to transfer the wafer carrier 3 from the wafer carrier storage shelf 4 to the mounting stage 10 to the wafer carrier transfer device 5. The wafer carrier transport device 5 moves to the wafer carrier storage shelf 4 and takes out the wafer carrier 3. The wafer carrier transfer device 5 includes:
It starts moving to a point where the mounting stage 10 can be accessed, and outputs a command to open the shutter 9 to the port 6. The port 6 opens the shutter 9 when an opening command for the shutter 9 is input. The gas supply device 17 supplies a gas 1 based on a signal from a sensor 30 provided in the port 6.
The air volume of the air supply 8 is determined and supplied to the air supply chamber 7.

【0047】ウエハキャリア搬送装置5は、ポート6か
らシャッター9の開完了の報告を受け、載置ステージ1
0へウエハキャリア3を載置する。そしてウエハキャリ
ア搬送装置5は、ポート6にシャッター9の閉命令を出
力する。ポート6は、シャッター9の閉命令を入力した
時点で、シャッター9を閉める。気体供給機17は、ポ
ート6に備えているセンサー30の信号により、気体1
8の風量を判断し、給気チャンバ7への供給を停止す
る。ウエハキャリア搬送装置5は、ポート6からシャッ
ター9の閉完了の報告を受け、その後、上位計算機は、
ウエハキャリア搬送装置5からの搬送完了の報告を受け
る。上位計算機は、外部に設置の搬送機器へウエハキャ
リア3を載置ステージ10から移載する搬送の命令を出
力する。搬送終了後、上位計算機は、外部に設置の搬送
機器から搬送完了の報告を受ける。手動で入出庫すると
きは、外部に設置の搬送機器のところが作業者にかわる
だけでその他の動作は上記説明と同様である。
The wafer carrier transfer device 5 receives a report from the port 6 that the shutter 9 has been opened, and
The wafer carrier 3 is mounted on the wafer carrier 0. Then, the wafer carrier transfer device 5 outputs a command to close the shutter 9 to the port 6. The port 6 closes the shutter 9 when a command to close the shutter 9 is input. The gas supply device 17 supplies a gas 1 based on a signal from a sensor 30 provided in the port 6.
Then, the supply of air to the air supply chamber 7 is stopped. The wafer carrier transfer device 5 receives a report from the port 6 that the shutter 9 has been closed, and thereafter, the host computer
The transfer completion report is received from the wafer carrier transfer device 5. The host computer outputs a transfer command to transfer the wafer carrier 3 from the mounting stage 10 to a transfer device installed outside. After the transfer is completed, the host computer receives a report of the transfer completion from a transfer device installed outside. When manually entering and leaving the warehouse, the operation is otherwise the same as described above, except that the transport equipment installed outside is replaced by an operator.

【0048】実施の形態5.以下、この発明の実施の形
態5について説明する。図5は本実施形態による半導体
ウエハ収納装置を示す断面図である。図において、ポー
ト6のシャッター9に取り付けてあるブロック31と、
伝達部32と、この伝達部32とボリュームダンパ20
を接続する連結部33とを備える。伝達部32は、例え
ば油圧や空圧のような圧力機器や、ラックピニオン、リ
ンク機構のような機械部品で動力伝達を行なう。気体供
給機17から供給される気体18の風量は、通常“0”
で、気体供給機17は、ポート6のシャッター9とボリ
ュームダンパ20とのメカニカルな同期により、シャッ
ター9の開状態でクリーンルーム1内に逃げる風量と等
しい気体18の風量を給気チャンバ7へ供給する。
Embodiment 5 FIG. Hereinafter, a fifth embodiment of the present invention will be described. FIG. 5 is a sectional view of the semiconductor wafer storage device according to the present embodiment. In the figure, a block 31 attached to the shutter 9 of the port 6;
The transmission unit 32, the transmission unit 32 and the volume damper 20
And a connecting portion 33 for connecting The transmission unit 32 transmits power using, for example, a pressure device such as hydraulic pressure or pneumatic pressure, or a mechanical component such as a rack and pinion or a link mechanism. The air volume of the gas 18 supplied from the gas supply device 17 is usually “0”.
The gas supply unit 17 supplies the air supply chamber 7 with an air flow of the gas 18 equal to the air flow escaping into the clean room 1 when the shutter 9 is opened by mechanical synchronization between the shutter 9 of the port 6 and the volume damper 20. .

【0049】次に動作について説明する。まず、ウエハ
キャリア3を半導体ウエハ保管装置本体2へ全自動で入
庫するときについて説明する。上位計算機は、外部に設
置の搬送機器へウエハキャリア3を載置ステージ10へ
移載する搬送の命令を出力する。搬送終了後、上位計算
機は、外部に設置の搬送機器から搬送完了の報告を受け
る。次に上位計算機は、ウエハキャリア搬送装置5にウ
エハキャリア3を載置ステージ10からウエハキャリア
収納棚4へ移載する搬送命令を出力する。ウエハキャリ
ア搬送装置5は、上位計算機より搬送命令を入力した時
点で、載置ステージ10にアクセスできるポイントまで
移動開始するとともに、ポート6にシャッター9の開命
令を出力する。ポート6は、シャッター9の開命令を入
力した時点で、シャッター9を開ける。シャッター9の
上昇に伴い、シャッター9に取り付けてあるブロック3
1は上昇を始め、ブロック31に取り付けている伝達部
32及び、伝達部32に取り付けている連結部33も上
昇を始める。
Next, the operation will be described. First, a case where the wafer carrier 3 is fully automatically stored in the semiconductor wafer storage device main body 2 will be described. The host computer outputs a transfer command to transfer the wafer carrier 3 to the mounting stage 10 to a transfer device installed outside. After the transfer is completed, the host computer receives a report of the transfer completion from a transfer device installed outside. Next, the host computer outputs a transfer command to transfer the wafer carrier 3 from the mounting stage 10 to the wafer carrier storage shelf 4 to the wafer carrier transfer device 5. When a transfer command is input from the host computer, the wafer carrier transfer device 5 starts moving to a point where the mounting stage 10 can be accessed, and outputs a shutter 9 opening command to the port 6. The port 6 opens the shutter 9 when an opening command for the shutter 9 is input. As the shutter 9 rises, the block 3 attached to the shutter 9
1 starts to rise, and the transmission part 32 attached to the block 31 and the connecting part 33 attached to the transmission part 32 also start to rise.

【0050】連結部33に取り付けているボリュームダ
ンパ20は、機械的に開けられ、気体供給機17は、気
体18を給気チャンバ7へ供給する。ウエハキャリア搬
送装置5は、ポート6からシャッター9の開完了の報告
を受け、載置ステージ10からウエハキャリア3を取り
出す。ウエハキャリア搬送装置5は、ポート6にシャッ
ター9の閉命令を出力するとともに、ウエハキャリア収
納棚4へ移動しウエハキャリア3を載置する。ポート6
は、シャッター9の閉命令を入力した時点で、シャッタ
ー9を閉める。ポート6のシャッター9の下降に伴い、
シャッター9に取り付けてあるブロック31は下降を始
め、ブロック31に取り付けられている伝達部32及
び、伝達部32に取り付けられている連結部33も下降
を始める。連結部33に取り付けられているボリューム
ダンパ20は、機械的に閉められ、気体供給機17は、
気体18の給気チャンバ7への供給を停止する。ウエハ
キャリア搬送装置5は、ポート6からシャッター9の閉
完了の報告を受ける。その後、上位計算機は、ウエハキ
ャリア搬送装置5より搬送完了の報告を受ける。
The volume damper 20 attached to the connecting portion 33 is opened mechanically, and the gas supply device 17 supplies the gas 18 to the gas supply chamber 7. The wafer carrier transport device 5 receives the report of the completion of the opening of the shutter 9 from the port 6 and takes out the wafer carrier 3 from the mounting stage 10. The wafer carrier transport device 5 outputs a command to close the shutter 9 to the port 6 and moves to the wafer carrier storage shelf 4 to place the wafer carrier 3 thereon. Port 6
Closes the shutter 9 when the shutter closing command is input. With the lowering of the shutter 9 of the port 6,
The block 31 attached to the shutter 9 starts descending, and the transmitting section 32 attached to the block 31 and the connecting section 33 attached to the transmitting section 32 also start descending. The volume damper 20 attached to the connecting portion 33 is mechanically closed, and the gas supply device 17 is
The supply of the gas 18 to the supply chamber 7 is stopped. Wafer carrier transfer device 5 receives a report from port 6 that shutter 9 has been closed. Thereafter, the host computer receives a report of the transfer completion from the wafer carrier transfer device 5.

【0051】次に、ウエハキャリア3を半導体ウエハ保
管装置本体2から全自動で出庫するときについて説明す
る。上位計算機は、ウエハキャリア搬送装置5にウエハ
キャリア3をウエハキャリア収納棚4から載置ステージ
10へ移載する搬送命令を出力する。ウエハキャリア搬
送装置5は、ウエハキャリア収納棚4へ移動し、ウエハ
キャリア3を取り出す。ウエハキャリア搬送装置5は、
載置ステージ10にアクセスできるポイントまで移動開
始するとともに、ポート6にシャッター9の開命令を出
力する。ポート6は、シャッター9の開命令を入力した
時点で、シャッター9を開ける。ポート6のシャッター
9の上昇に伴い、シャッター9に取り付けてあるブロッ
ク31は上昇を始め、ブロック31に取り付けられてい
る伝達部32及び、伝達部32に取り付けられている連
結部33も上昇を始める。
Next, a case where the wafer carrier 3 is fully automatically unloaded from the semiconductor wafer storage device main body 2 will be described. The host computer outputs a transfer command to transfer the wafer carrier 3 from the wafer carrier storage shelf 4 to the mounting stage 10 to the wafer carrier transfer device 5. The wafer carrier transport device 5 moves to the wafer carrier storage shelf 4 and takes out the wafer carrier 3. The wafer carrier transfer device 5 includes:
It starts moving to a point where the mounting stage 10 can be accessed, and outputs a command to open the shutter 9 to the port 6. The port 6 opens the shutter 9 when an opening command for the shutter 9 is input. As the shutter 9 of the port 6 rises, the block 31 attached to the shutter 9 starts to rise, and the transmission part 32 attached to the block 31 and the connecting part 33 attached to the transmission part 32 also start to rise. .

【0052】連結部33に取り付けられているボリュー
ムダンパ20は、機械的に開けられ、気体供給機17
は、気体18を給気チャンバ7へ供給する。ウエハキャ
リア搬送装置5は、ポート6からシャッター9の開完了
の報告を受け、載置ステージ10へウエハキャリア3を
載置する。ウエハキャリア搬送装置5は、ポート6にシ
ャッター9の閉命令を出力する。ポート6は、シャッタ
ー9の閉命令を入力した時点で、シャッター9を閉め
る。ポート6のシャッター9の下降に伴い、シャッター
9に取り付けてあるブロック31は下降を始め、ブロッ
ク31に取り付けられている伝達部32及び、伝達部3
2に取り付けられている連結部33も下降を始める。連
結部33に取り付けられているボリュームダンパ20
は、機械的に閉められ、気体供給機17は、気体18の
給気チャンバ7への供給を停止する。ウエハキャリア搬
送装置5は、ポート6からシャッター9の閉完了の報告
を受ける。搬送終了後、上位計算機は、ウエハキャリア
搬送装置5からの搬送完了の報告を受ける。手動で入出
庫するときは、外部に設置の搬送機器のところが作業者
にかわるだけでその他の動作は上記説明と同様である。
The volume damper 20 attached to the connecting portion 33 is opened mechanically, and the gas feeder 17 is opened.
Supplies gas 18 to the supply chamber 7. The wafer carrier transfer device 5 receives the report of the completion of the opening of the shutter 9 from the port 6, and places the wafer carrier 3 on the placement stage 10. The wafer carrier transfer device 5 outputs a command to close the shutter 9 to the port 6. The port 6 closes the shutter 9 when a command to close the shutter 9 is input. With the lowering of the shutter 9 of the port 6, the block 31 attached to the shutter 9 starts to descend, and the transmission unit 32 and the transmission unit 3 attached to the block 31
The connecting portion 33 attached to the second member also starts to descend. Volume damper 20 attached to connecting portion 33
Is mechanically closed, and the gas supply device 17 stops supplying the gas 18 to the supply chamber 7. Wafer carrier transfer device 5 receives a report from port 6 that shutter 9 has been closed. After the transfer, the host computer receives a report of the transfer completion from the wafer carrier transfer device 5. When manually entering and leaving the warehouse, the operation is otherwise the same as described above, except that the transport equipment installed outside is replaced by an operator.

【0053】実施の形態6.又、上記実施の形態1〜6
で、それぞれウエハキャリア搬送装置5がポート6のシ
ャッター9を開閉する機構並びに気体供給機17が、気
体18を給気チャンバ7へ供給する機構を示したが、そ
れぞれの機構を別々に組み合わせて装置全体を構成して
もよい。
Embodiment 6 FIG. Also, the first to sixth embodiments
In the above, the mechanism for opening and closing the shutter 9 of the port 6 by the wafer carrier transfer apparatus 5 and the mechanism for supplying the gas 18 to the gas supply chamber 7 by the gas supply unit 17 have been described. The whole may be constituted.

【0054】[0054]

【発明の効果】この発明の請求項1に係る半導体ウエハ
収納装置によれば、クリーンルーム内に設置された半導
体ウエハ保管装置本体と、ULPAフィルタ及びファン
を備える給気チャンバと、半導体ウエハ保管装置本体内
に設けられたウエハキャリアを収納するためのウエハキ
ャリア収納棚と、ウエハキャリアを搬送するためのウエ
ハキャリア搬送装置と、シャッター及びウエハキャリア
を受け渡すための載置ステージを備えたポートと、半導
体ウエハ保管装置本体に気体を供給するのための気体供
給機とから構成されるものであって、気体供給機と半導
体ウエハ保管装置本体をつなぐダクトにボリュームダン
パを設けると共に、このボリュームダンパの開閉を行な
うための開閉アクチュエータを設けたので、気体供給機
からの気体供給量を調整することができる。
According to the semiconductor wafer storage device according to the first aspect of the present invention, a semiconductor wafer storage device main body installed in a clean room, an air supply chamber having an ULPA filter and a fan, and a semiconductor wafer storage device main body A wafer carrier accommodating shelf for accommodating a wafer carrier provided therein, a wafer carrier carrying device for carrying the wafer carrier, a port having a shutter and a mounting stage for delivering the wafer carrier, and a semiconductor. A gas supply device for supplying gas to the wafer storage device main body, wherein a volume damper is provided in a duct connecting the gas supply device and the semiconductor wafer storage device main body, and the volume damper is opened and closed. Opening / closing actuator is provided to perform gas supply from the gas supply unit. It can be adjusted.

【0055】この発明の請求項2に係る半導体ウエハ収
納装置によれば、クリーンルーム内に設置された半導体
ウエハ保管装置本体と、ULPAフィルタ及びファンを
備える給気チャンバと、半導体ウエハ保管装置本体内に
設けられたウエハキャリアを収納するためのウエハキャ
リア収納棚と、ウエハキャリアを搬送するためのウエハ
キャリア搬送装置と、シャッター及びウエハキャリアを
受け渡すための載置ステージを備えたポートと、半導体
ウエハ保管装置本体に気体を供給するのための気体供給
機とから構成されるものであって、シャッターの開状態
でクリーンルーム内に逃げる風量を測定するためのセン
サーを設け、上記風量と等しい気体の風量を気体供給機
から供給するので、半導体ウエハ保管装置本体に過不足
なく気体を送ることができる。
According to the semiconductor wafer storage device of the second aspect of the present invention, the semiconductor wafer storage device main body installed in the clean room, the air supply chamber having the ULPA filter and the fan, and the semiconductor wafer storage device main body are provided. A wafer carrier storage shelf for storing the provided wafer carrier, a wafer carrier transport device for transporting the wafer carrier, a port having a shutter and a mounting stage for transferring the wafer carrier, and a semiconductor wafer storage A gas supply device for supplying gas to the apparatus main body, provided with a sensor for measuring the amount of air escaping into the clean room with the shutter open, and adjusting the air volume of the gas equal to the above air volume. Since the gas is supplied from the gas supply unit, the gas can be sent to the semiconductor wafer storage device Can.

【0056】この発明の請求項3に係る半導体ウエハ収
納装置によれば、クリーンルーム内に設置された半導体
ウエハ保管装置本体と、ULPAフィルタ及びファンを
備える給気チャンバと、半導体ウエハ保管装置本体内に
設けられたウエハキャリアを収納するためのウエハキャ
リア収納棚と、ウエハキャリアを搬送するためのウエハ
キャリア搬送装置と、シャッター及びウエハキャリアを
受け渡すための載置ステージを備えたポートと、半導体
ウエハ保管装置本体に気体を供給するのための気体供給
機とから構成されるものであって、気体供給機と半導体
ウエハ保管装置本体をつなぐダクトにボリュームダンパ
を設けると共に、シャッターとボリュームダンパとを連
動させるための連結部を設けたので、シャッターとボリ
ュームダンパの開閉動作を同期に行なうことができる。
According to the semiconductor wafer storage apparatus of the third aspect of the present invention, the semiconductor wafer storage apparatus main body installed in the clean room, the air supply chamber having the ULPA filter and the fan, and the semiconductor wafer storage apparatus main body are provided. A wafer carrier storage shelf for storing the provided wafer carrier, a wafer carrier transport device for transporting the wafer carrier, a port having a shutter and a mounting stage for transferring the wafer carrier, and a semiconductor wafer storage A gas supply device for supplying gas to the apparatus main body, wherein a volume damper is provided in a duct connecting the gas supply apparatus and the semiconductor wafer storage device main body, and the shutter and the volume damper are interlocked. Connection section for opening the shutter and volume damper. It can perform operation in synchronization.

【0057】この発明の請求項4に係る半導体ウエハ収
納装置によれば、シャッターと開閉アクチュエータの開
閉動作を同期に行なうようにしたので、作業効率を向上
させることができる。
According to the semiconductor wafer storage device of the fourth aspect of the present invention, since the opening and closing operations of the shutter and the opening and closing actuator are performed synchronously, work efficiency can be improved.

【0058】この発明の請求項5に係る半導体ウエハ収
納装置によれば、シャッターの開状態でクリーンルーム
内に逃げる風量と等しい気体の風量を気体供給機から供
給するようにしたので、半導体ウエハ保管装置本体に過
不足なく気体を送ることができる。
According to the semiconductor wafer storage device of the fifth aspect of the present invention, the gas flow rate is equal to the flow rate of the gas escaping into the clean room when the shutter is open. Gas can be sent to the main unit without excess or shortage.

【0059】この発明の請求項6に係る半導体ウエハ収
納装置によれば、ウエハキャリア搬送装置からシャッタ
ーに開閉命令の信号を出力するようにしたので、ウエハ
キャリア搬送装置を拘束する時間が減少し、搬送効率の
向上を図ることができる。
According to the semiconductor wafer storage device of the sixth aspect of the present invention, the opening / closing command signal is output from the wafer carrier transfer device to the shutter, so that the time for restraining the wafer carrier transfer device is reduced. The transport efficiency can be improved.

【0060】この発明の請求項7に係る半導体ウエハ収
納装置によれば、ウエハキャリア搬送装置の走行経路に
位置検出センサーを設け、この位置検出センサーがシャ
ッターの開閉命令信号を出力するようにしたので、ウエ
ハキャリア搬送装置を拘束する時間が減少し、搬送効率
の向上を図ることができる。
According to the semiconductor wafer storage device of the present invention, the position detection sensor is provided on the traveling path of the wafer carrier transfer device, and the position detection sensor outputs a shutter opening / closing command signal. Therefore, the time for restraining the wafer carrier transfer device is reduced, and the transfer efficiency can be improved.

【0061】この発明の請求項8に係る半導体ウエハ収
納装置によれば、ウエハキャリア搬送装置に設けられた
ブロックと接触することによりウエハキャリア搬送装置
の走行動力をシャッターの開閉動作に変換する伝達方向
変換部を設けたので、ウエハキャリア搬送装置を拘束す
る時間が減少し、搬送効率の向上を図ることができる。
According to the semiconductor wafer storage device of the present invention, the transmission direction in which the traveling power of the wafer carrier transfer device is converted into the opening and closing operation of the shutter by contacting the block provided in the wafer carrier transfer device. Since the conversion unit is provided, the time for restraining the wafer carrier transfer device is reduced, and transfer efficiency can be improved.

【0062】この発明の請求項9に係る半導体ウエハ収
納装置によれば、気体供給機を2つ以上設けると共に、
シャッターを一重にしたので、シャッターの開閉時間を
短縮して半導体ウエハ収納装置の作業効率の向上を図る
ことができると共に、機器サイズの縮小化を図ることが
できる。
According to the semiconductor wafer storage device of the ninth aspect of the present invention, two or more gas feeders are provided,
Since the single shutter is used, the opening and closing time of the shutter can be shortened to improve the working efficiency of the semiconductor wafer storage device, and the size of the device can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の実施の形態1による半導体ウエハ
収納装置を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a semiconductor wafer storage device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 この発明の実施の形態2による半導体ウエハ
収納装置を示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing a semiconductor wafer storage device according to a second embodiment of the present invention.

【図3】 この発明の実施の形態3による半導体ウエハ
収納装置を示す断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing a semiconductor wafer storage device according to a third embodiment of the present invention.

【図4】 この発明の実施の形態4による半導体ウエハ
収納装置を示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing a semiconductor wafer storage device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】 この発明の実施の形態5による半導体ウエハ
収納装置を示す断面図である。
FIG. 5 is a sectional view showing a semiconductor wafer storage device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図6】 従来の半導体ウエハ収納装置を示す断面図で
ある。
FIG. 6 is a sectional view showing a conventional semiconductor wafer storage device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 クリーンルーム、2 半導体ウエハ保管装置本体、
3 ウエハキャリア、4 ウエハキャリア収納棚、5
ウエハキャリア搬送装置、6 ポート、9 シャッタ
ー、10 載置ステージ、17 気体供給機、19 ダ
クト、20 ボリュームダンパ、21 開閉アクチュエ
ータ、23 位置検出センサー、24 ブロック、25
伝達方向変換部、30センサ。
1 clean room, 2 semiconductor wafer storage device body,
3 wafer carrier, 4 wafer carrier storage shelves, 5
Wafer carrier transfer device, 6 port, 9 shutter, 10 mounting stage, 17 gas supply device, 19 duct, 20 volume damper, 21 opening / closing actuator, 23 position detection sensor, 24 block, 25
Transmission direction converter, 30 sensors.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3F022 AA08 BB09 CC02 EE05 FF01 JJ09 MM11 MM35 PP06 QQ01 QQ07 3L058 BD02 BE02 BF03 BF08 BG01 BG03 BG04 5F031 BB01 BB05 BC10 LL01 LL03 LL05  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 3F022 AA08 BB09 CC02 EE05 FF01 JJ09 MM11 MM35 PP06 QQ01 QQ07 3L058 BD02 BE02 BF03 BF08 BG01 BG03 BG04 5F031 BB01 BB05 BC10 LL01 LL03 LL05

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 クリーンルーム内に設置された半導体ウ
エハ保管装置本体と、ULPAフィルタ及びファンを備
える給気チャンバと、上記半導体ウエハ保管装置本体内
に設けられたウエハキャリアを収納するためのウエハキ
ャリア収納棚と、上記ウエハキャリアを搬送するための
ウエハキャリア搬送装置と、シャッター及び上記ウエハ
キャリアを受け渡すための載置ステージを備えたポート
と、上記半導体ウエハ保管装置本体に気体を供給するた
めの気体供給機とを備えた半導体ウエハ収納装置におい
て、上記気体供給機と上記半導体ウエハ保管装置本体を
つなぐダクトにボリュームダンパを設けると共に、この
ボリュームダンパの開閉を行なうための開閉アクチュエ
ータを設けたことを特徴とする半導体ウエハ収納装置。
1. A semiconductor wafer storage device main body installed in a clean room, an air supply chamber provided with an ULPA filter and a fan, and a wafer carrier storage for storing a wafer carrier provided in the semiconductor wafer storage device main body. A shelf, a wafer carrier transfer device for transferring the wafer carrier, a port having a shutter and a mounting stage for transferring the wafer carrier, and a gas for supplying gas to the semiconductor wafer storage device body In a semiconductor wafer storage device provided with a supply device, a volume damper is provided in a duct connecting the gas supply device and the semiconductor wafer storage device main body, and an opening / closing actuator for opening and closing the volume damper is provided. Semiconductor wafer storage device.
【請求項2】 クリーンルーム内に設置された半導体ウ
エハ保管装置本体と、ULPAフィルタ及びファンを備
える給気チャンバと、上記半導体ウエハ保管装置本体内
に設けられたウエハキャリアを収納するためのウエハキ
ャリア収納棚と、上記ウエハキャリアを搬送するための
ウエハキャリア搬送装置と、シャッター及び上記ウエハ
キャリアを受け渡すための載置ステージを備えたポート
と、上記半導体ウエハ保管装置本体に気体を供給するた
めの気体供給機とを備えた半導体ウエハ収納装置におい
て、上記シャッターの開状態で上記クリーンルーム内に
逃げる風量を測定するためのセンサーを設け、上記風量
と等しい気体の風量を上記気体供給機から供給すること
を特徴とする半導体ウエハ収納装置。
2. A semiconductor wafer storage device main body installed in a clean room, an air supply chamber provided with an ULPA filter and a fan, and a wafer carrier storage for storing a wafer carrier provided in the semiconductor wafer storage device main body. A shelf, a wafer carrier transfer device for transferring the wafer carrier, a port having a shutter and a mounting stage for transferring the wafer carrier, and a gas for supplying gas to the semiconductor wafer storage device body In a semiconductor wafer storage device provided with a supply device, a sensor for measuring the amount of air escaping into the clean room with the shutter open is provided, and the gas amount equal to the air amount is supplied from the gas supply device. Characteristic semiconductor wafer storage device.
【請求項3】 クリーンルーム内に設置された半導体ウ
エハ保管装置本体と、ULPAフィルタ及びファンを備
える給気チャンバと、上記半導体ウエハ保管装置本体内
に設けられたウエハキャリアを収納するためのウエハキ
ャリア収納棚と、上記ウエハキャリアを搬送するための
ウエハキャリア搬送装置と、シャッター及び上記ウエハ
キャリアを受け渡すための載置ステージを備えたポート
と、上記半導体ウエハ保管装置本体に気体を供給するた
めの気体供給機とを備えた半導体ウエハ収納装置におい
て、上記気体供給機と上記半導体ウエハ保管装置本体を
つなぐダクトにボリュームダンパを設けると共に、上記
シャッターと上記ボリュームダンパとを連動させるため
の連結部を設けたことを特徴とする半導体ウエハ収納装
置。
3. A semiconductor wafer storage device main body installed in a clean room, an air supply chamber provided with an ULPA filter and a fan, and a wafer carrier storage for storing a wafer carrier provided in the semiconductor wafer storage device main body. A shelf, a wafer carrier transfer device for transferring the wafer carrier, a port having a shutter and a mounting stage for transferring the wafer carrier, and a gas for supplying gas to the semiconductor wafer storage device body In a semiconductor wafer storage device provided with a supply device, a volume damper is provided in a duct connecting the gas supply device and the semiconductor wafer storage device main body, and a connecting portion for interlocking the shutter and the volume damper is provided. A semiconductor wafer storage device characterized by the above-mentioned.
【請求項4】 シャッターと開閉アクチュエータの開閉
動作を同期に行なうことを特徴とする請求項1記載の半
導体ウエハ収納装置。
4. The semiconductor wafer storage device according to claim 1, wherein the opening and closing operations of the shutter and the opening and closing actuator are performed synchronously.
【請求項5】 シャッターの開状態でクリーンルーム内
に逃げる風量と等しい気体の風量を気体供給機から供給
することを特徴とする請求項1又は請求項3又は請求項
4記載の半導体ウエハ収納装置。
5. The semiconductor wafer storage device according to claim 1, wherein a gas flow amount equal to a gas flow amount escaping into the clean room when the shutter is open is supplied from the gas supply device.
【請求項6】 ウエハキャリア搬送装置からシャッター
に開閉命令の信号を出力することを特徴とする請求項1
から請求項5のいずれか1項に記載の半導体ウエハ収納
装置。
6. An open / close instruction signal is output from a wafer carrier transfer device to a shutter.
The semiconductor wafer storage device according to claim 1.
【請求項7】 ウエハキャリア搬送装置の走行経路に位
置検出センサーを設け、この位置検出センサーがシャッ
ターの開閉命令信号を出力することを特徴とする請求項
1から請求項5のいずれか1項に記載の半導体ウエハ収
納装置。
7. The apparatus according to claim 1, wherein a position detection sensor is provided on a traveling route of the wafer carrier transfer device, and the position detection sensor outputs a shutter opening / closing command signal. A semiconductor wafer storage device as described in the above.
【請求項8】 ウエハキャリア搬送装置に設けられたブ
ロックと接触することにより上記ウエハキャリア搬送装
置の走行動力をシャッターの開閉動作に変換する伝達方
向変換部を設けたことを特徴とする請求項1から請求項
5のいずれか1項に記載の半導体ウエハ収納装置。
8. A transmission direction conversion unit for converting a traveling power of the wafer carrier transfer device into a shutter opening / closing operation by contacting a block provided on the wafer carrier transfer device. The semiconductor wafer storage device according to claim 1.
【請求項9】 気体供給機を2つ以上設けると共に、シ
ャッターを一重にしたことを特徴とする請求項1から請
求項8のいずれか1項に記載の半導体ウエハ収納装置。
9. The semiconductor wafer storage device according to claim 1, wherein two or more gas supply devices are provided and a single shutter is provided.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008068210A (en) * 2006-09-14 2008-03-27 Hitachi Plant Technologies Ltd Environmental maintenance system
US8807914B2 (en) 2002-04-05 2014-08-19 Ebara Corporation Seal device and method for operating the same and substrate processing apparatus comprising a vacuum chamber
CN107924857A (en) * 2015-08-28 2018-04-17 村田机械株式会社 Storage appts and keeping method
WO2018135137A1 (en) * 2017-01-23 2018-07-26 村田機械株式会社 Article relaying device and stocker
JP2019218156A (en) * 2018-06-15 2019-12-26 Juki株式会社 Warehouse system

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8807914B2 (en) 2002-04-05 2014-08-19 Ebara Corporation Seal device and method for operating the same and substrate processing apparatus comprising a vacuum chamber
JP2008068210A (en) * 2006-09-14 2008-03-27 Hitachi Plant Technologies Ltd Environmental maintenance system
CN107924857A (en) * 2015-08-28 2018-04-17 村田机械株式会社 Storage appts and keeping method
CN107924857B (en) * 2015-08-28 2022-04-05 村田机械株式会社 Storage apparatus and storage method
WO2018135137A1 (en) * 2017-01-23 2018-07-26 村田機械株式会社 Article relaying device and stocker
JPWO2018135137A1 (en) * 2017-01-23 2019-11-07 村田機械株式会社 Article relay device and stocker
JP2019218156A (en) * 2018-06-15 2019-12-26 Juki株式会社 Warehouse system
JP7142475B2 (en) 2018-06-15 2022-09-27 Juki株式会社 warehouse system

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