JP2000002612A - Collective manufacture of pressure capacitance transducer made of glass - Google Patents

Collective manufacture of pressure capacitance transducer made of glass

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JP2000002612A
JP2000002612A JP19354198A JP19354198A JP2000002612A JP 2000002612 A JP2000002612 A JP 2000002612A JP 19354198 A JP19354198 A JP 19354198A JP 19354198 A JP19354198 A JP 19354198A JP 2000002612 A JP2000002612 A JP 2000002612A
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glass
pressure
plates
frit
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JP19354198A
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Inventor
J Burnott Anthony
ジエイ.バーノツト アンソニー
H Nisuka Raymond
エイチ.ニスカ レイモンド
F Schmidt Nicholas
エフ.シユミツト ニコラス
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize manufacture of transducers in a batch unit, by forming a plurality of pressure sensors for composing the transducers by sputtering an electrode pattern on a glass plate, and by separately breaking them into individual sensors. SOLUTION: The collective manufacture of pressure capacitance transducer with a glass diaphragm or the like in a batch unit is started from a glass sheet with a thickness based on a pressure range or the like. For example, the glass sheet is set to a plate with specific dimensions by a breaking along a scratch line, and a capacitor electrode or the like is formed on the plate by sputtering treatment. Then, glass frit or a crossover tab such as silver are screen-printed. Each plate for forming a capacitor is fixed for treating in a vacuum oven, pressure in the capacitor is reduced, and at the same time, a joint part is sealed. The jointed plate is subjected to, for example, a pressure cycle test or the like and is broken along the scratch line, thus obtaining a number of sensors.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は圧力変換器、特にガ
ラス圧力容量変換器をバツチ単位で製造する方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a pressure transducer, particularly a glass pressure capacity transducer, in batches.

【0002】[0002]

【従来の技術】本願の譲渡人に譲渡されたベルノツトに
よる米国特許第5,189,591号には、アルミノシ
リケートガラス圧力センサおよび同種のセンサを一度に
1個製造する方法が開示されている。明らかに、このよ
うなセンサがバツチ単位で製造できるならばその製造費
を低減できることは明らかであろう。オウトレイによる
米国特許第5,317,919号はガラスセンサをバツ
チ単位で製造する一方法が開示されている。この方法で
は、周知のフオトリソグラフ・エツチング技術を採用
し、導電性被覆を形成する。
BACKGROUND OF THE INVENTION U.S. Pat. No. 5,189,591 to Bellnott, assigned to the assignee of the present application, discloses a method for manufacturing aluminosilicate glass pressure sensors and similar sensors one at a time. Obviously, if such a sensor could be manufactured in batches, it would be clear that the manufacturing costs could be reduced. U.S. Pat. No. 5,317,919 to Autrey discloses one method of batching glass sensors. In this method, a well-known photolithographic etching technique is employed to form a conductive coating.

【0003】一方、このようなガラスセンサをバツチ単
位で製造する新規な方法が依然求められる。
On the other hand, there is still a need for a new method of manufacturing such a glass sensor in batches.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の一目的はガラ
スセンサをバツチ単位で製造する方法を提供することに
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a glass sensor in batches.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、この目
的は次の工程、即ちガラスプレートを引掻き処理する工
程とこのプレート上に電極パターンをスパツタリング処
理する工程と、このスパツタリング工程に続き、その上
にガラスフリツトおよびクロスオーバタブをスクリーン
印刷する工程とを含む方法により達成される。プレート
は前以て艶付けされ共に接着されて複数のセンサが形成
される。プレートは次に引掻き処理線に沿つて破断され
てここのセンサが得られる。
According to the present invention, this object is achieved in the following steps: a step of scratching a glass plate, a step of spattering an electrode pattern on the plate, and a step of spattering. Screen printing a glass frit and a crossover tab thereon. The plates are pre-glazed and glued together to form a plurality of sensors. The plate is then broken along the scratch line to obtain the sensor.

【0006】本発明の他の目的、特徴および利点は本発
明の好ましい実施例の以下の詳細な説明に述べられ、添
付図面に沿つての説明が進むにつれ以下の説明から明ら
かとなろう。
[0006] Other objects, features and advantages of the present invention are set forth in the following detailed description of preferred embodiments of the invention, which will be apparent as the description proceeds with reference to the accompanying drawings.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】1993年2月に発行され、アラ
イド・シグナル社に譲渡されたベルノツトによる米国特
許第5,189,591号を本発明の参考のためここに
開示する。本発明によりアルミノシリケートガラスで作
られた容量性圧力変換器が提供される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION U.S. Pat. No. 5,189,591 to Vernott, issued Feb. 1993 and assigned to Allied Signal Inc., is disclosed herein by reference. The present invention provides a capacitive pressure transducer made of aluminosilicate glass.

【0008】本発明によるガラス圧力センサあるいは変
換器10が図1並びに図2に示される。ガラス圧力変換
器10には頂部のダイアフラム12と底部のダイアフラ
ム14とが包有され、これらのダイアフラムはガラス、
好ましくはコーニング#1723あるいは#1737F
のようなアルミノシリケートガラスで作られる。接地シ
ールド部18、24はダイアフラム12、14の外面上
に配設される。電極20はダイアフラム12、14の内
面に配設される。クロスオーバ金属のタブ26は好まし
くは銀で作られ、電極20から頂部のリード線21へ延
びる導体として機能する。またクロスオーバ金属タブ2
6はパラデイウムあるいは金のような他の金属で作るこ
ともできる。電極22は底部電極のリード線23に接続
されている。接地用のリード線25を付加することもで
きる。リード線21、23、25は白金で作られること
が好ましい。図示してないが別のリード線を上述のリー
ド線に接続し得る。電極20、22の形状は円形あるい
は方形にでき、標準的なコンデンサを形成させることが
できる。接地シールド部18、24および電極20、2
2は貴金属、好ましくは白金で作られる。
A glass pressure sensor or transducer 10 according to the present invention is shown in FIGS. The glass pressure transducer 10 includes a top diaphragm 12 and a bottom diaphragm 14, which are made of glass,
Preferably Corning # 1723 or # 1737F
Made of aluminosilicate glass like. The ground shield portions 18 and 24 are provided on the outer surfaces of the diaphragms 12 and 14. The electrode 20 is provided on the inner surfaces of the diaphragms 12 and 14. The crossover metal tab 26 is preferably made of silver and serves as a conductor extending from the electrode 20 to the top lead 21. Also crossover metal tab 2
6 can also be made of other metals such as palladium or gold. The electrode 22 is connected to the lead 23 of the bottom electrode. A grounding lead wire 25 can be added. The leads 21, 23, 25 are preferably made of platinum. Although not shown, another lead may be connected to the lead described above. The shape of the electrodes 20, 22 can be circular or square, and can form a standard capacitor. Ground shield portions 18 and 24 and electrodes 20 and 2
2 is made of a noble metal, preferably platinum.

【0009】ダイアフラム12、14は共に接合され、
電極20、22によりコンデンサが形成される。この接
合は水和接合あるいはガラスフリツト処理により行われ
る。フリツトガラス30はダイアフラム12、14間の
スペーサとして、且つダイアフラム間に空洞部32を形
成する密封部として機能する。空洞部32は減圧され、
真空あるいは他の基準圧力にされる。
The diaphragms 12, 14 are joined together,
The electrodes 20 and 22 form a capacitor. This bonding is performed by hydration bonding or glass fritting. The frit glass 30 functions as a spacer between the diaphragms 12 and 14 and as a sealing part forming a cavity 32 between the diaphragms. The cavity 32 is decompressed,
Vacuum or other reference pressure.

【0010】図3を参照するに、3部材からなる加速度
計40がガラスの、好ましくはアルミニウムシリケート
の地振質量体42を頂部および底部のダイアフラム1
2、14間に装着することにより、圧力変換器10に形
成できる。地振質量体42は電極20と対向して設けら
れた電極44と、電極22と対向して設けられた電極4
6とを有している。地振質量体42は空洞部49を形成
するような方法でフリツト48によりダイアフラム1
2、14に接合される。
Referring to FIG. 3, a three-membered accelerometer 40 is provided with a glass, preferably aluminum silicate, ground vibration mass 42 on top and bottom diaphragm 1.
The pressure transducer 10 can be formed by being mounted between 2 and 14. The ground vibration mass body 42 includes an electrode 44 provided to face the electrode 20 and an electrode 4 provided to face the electrode 22.
6. The ground vibration mass 42 is separated from the diaphragm 1 by a frit 48 in such a manner that a cavity 49 is formed.
2, 14 are joined.

【0011】図4および図5を参照するに、ガラス圧力
変換器10あるいは加速度計40、およびそれと同様な
他の変換器および加速度計を以下のようにバツチ単位で
低コストで製造可能になる。この方法はアルミニウムシ
リケートガラス、コーニング#1737Fのような被覆
されていないガラスシートから開始される。ガラスの厚
さはセンサの圧力レンジに基づき選択される。例えば2
0psiセンサでは厚さは0.5mmにできよう。ガラ
スシートは工程50で引掻きが行われ、工程52で破断
されて6×6インチ平方のプレートが、好ましくは5・
3/4×5・3/4インチのプレートに作成される。所
望ならば上述した米国特許第5,189,591号に図
示されるような離間空洞部がエツチング処理されてガラ
スにされる。各プレートは次にスピン・リンサ・ドライ
アでの洗浄およびオゾン洗浄を含む洗浄処理を約60分
間、工程54および56で受けるが、この洗浄処理は上
述の洗浄に限定されるものではない。
Referring to FIGS. 4 and 5, the glass pressure transducer 10 or accelerometer 40 and other similar transducers and accelerometers can be manufactured in batches at low cost as follows. The method begins with an uncoated glass sheet such as aluminum silicate glass, Corning # 1737F. The thickness of the glass is selected based on the pressure range of the sensor. For example, 2
With a 0 psi sensor, the thickness could be 0.5 mm. The glass sheet is scratched in step 50 and broken in step 52 to form a 6 x 6 inch square plate, preferably 5 x 6 inches.
Created on a 3/4 x 5.33 / 4 inch plate. If desired, the spaced cavities, as illustrated in the aforementioned U.S. Pat. No. 5,189,591, are etched into glass. Each plate is then subjected to a cleaning process, including a spin rinser dryer and an ozone cleaning, for approximately 60 minutes at steps 54 and 56, but the cleaning process is not limited to the cleaning described above.

【0012】ダイアフラム12を形成するため、開口マ
スク100はガラスプレート102の頂部に固定され、
開口マスク104がガラスプレート102の底部に固定
される。使用するスパツタリング処理装置の種類によ
り、プレート102、114の各側部は別個にスパツタ
リング処理される、あるいは両方のプレートが同時にス
パツタリング処理される。別個にスパツタリング処理さ
れる場合、プレートはスパツタリング処理の間オゾン洗
浄される。ダイアフラム14の場合、開口マスク116
はガラスプレート114の底部に固定され、開口マスク
112はガラスプレート114の頂部に固定される。工
程60においてそれぞれのマスクを有するプレート10
2、114は周知なスパツタリング装置内に挿入され、
ここで5〜10分間プリエツチング処理される。開口マ
スク100のパターンはガラスプレート102上でスパ
ツタリング処理されて接地シールド部18が形成され、
開口マスク104上のパターンは電極20を構成する。
同様に開口マスク116のパターンはガラスプレート1
14の底部上でスパツタリング処理されて接地シールド
部24が形成され、開口マスク112は電極22を構成
する。好ましいスパツタリングガスはアルゴンである。
パターンは厚さ750〜1000オングストローム、好
ましくは1000オングストロームまで蒸着される。蒸
着は酸素の部分圧で行われる。蒸着には別の方法および
材料、例えば電子ビーム、イオンビームあるいは有機金
属を使用できる。オプシヨンとして歩留まりを上げるた
め、シリコンダイオキサイド絶縁体110が電極22上
に厚さ1000オングストロームまでスパツタリング処
理できる。
To form the diaphragm 12, an aperture mask 100 is fixed on top of a glass plate 102,
An aperture mask 104 is fixed to the bottom of the glass plate 102. Depending on the type of spattering equipment used, each side of the plates 102, 114 may be sputtered separately, or both plates may be sputtered simultaneously. If sputtered separately, the plate is ozone washed during the spattering process. In the case of the diaphragm 14, the aperture mask 116
Is fixed to the bottom of the glass plate 114, and the aperture mask 112 is fixed to the top of the glass plate 114. Plate 60 with each mask in step 60
2, 114 are inserted into a well-known spattering device,
Here, a pre-etching process is performed for 5 to 10 minutes. The pattern of the opening mask 100 is sputtered on the glass plate 102 to form the ground shield portion 18,
The pattern on the opening mask 104 forms the electrode 20.
Similarly, the pattern of the opening mask 116 is the glass plate 1
The bottom shield 14 is sputtered to form the ground shield 24, and the aperture mask 112 constitutes the electrode 22. The preferred sputtering gas is argon.
The pattern is deposited to a thickness of 750-1000 Angstroms, preferably 1000 Angstroms. The deposition is performed at a partial pressure of oxygen. Other methods and materials can be used for vapor deposition, for example, electron beams, ion beams or organometallics. In order to increase the yield as an option, the silicon dioxide insulator 110 can be sputtered on the electrode 22 to a thickness of 1000 angstroms.

【0013】検査工程64後の次の工程66では、ガラ
スプレート102の底面にわたりガラススクリーンフリ
ツト処理が行われる。ガラスフリツト106はガラスと
整合するよう選択される。コーニング1737の場合、
ガラスフリツトコーニング7574あるいはセミコムS
CB1が使用できる。ガラスフリツト106が周知なス
クリーン印刷装置により塗布され、好ましくは325メ
ツシユあるいはそれ以上のメツシユを有している。一方
メツシユはセンサの圧力レンジにより変動する。メツシ
ユとして他に200あるいは250にできる。クロスオ
ーバ金属タブ108はまたガラスフリツトと同じメツシ
ユでガラスプレート114の頂面上でスクリーン印刷さ
れる。
In the next step 66 after the inspection step 64, a glass screen fritting process is performed over the bottom surface of the glass plate 102. Glass frit 106 is selected to match the glass. For Corning 1737,
Glass frit Corning 7574 or Semicom S
CB1 can be used. The glass frit 106 is applied by a well-known screen printing device and preferably has 325 mesh or more. On the other hand, the mesh varies depending on the pressure range of the sensor. Another 200 or 250 can be used as a mesh. Crossover metal tab 108 is also screen printed on top of glass plate 114 with the same mesh as the glass frit.

【0014】スクリーン印刷後重要なことは、(クロス
オーバタブではなく)スクリーン印刷されたフリツトが
沈降して突起あるいは小さなボイドが広がり平滑になる
ことである。工程68はフリツトを約30分間沈降させ
ることにより実行され、次に工程70においてフリツト
を150℃で乾燥される。フリツト処理されたプレート
は次に工程72で平坦な光石英プレートへ移され、僅か
に手操作でラツプ処理され、数秒間5ミクロンに研磨仕
上げて乾燥されたフリツト上の高いスポツトを除去し、
リントレスワイプで美麗にふき取られる。銀のクロスオ
ーバタブを有するカラスプレート114も美麗にふき取
られる。プレート102、114の両方は工程74でオ
ーブンあるいは炉内で前以て艶付けされる。代表的な前
艶付け工程は、約1時間にわたり25℃(室温)から5
70℃へ加熱し、約45分間570℃の一定温度に維持
し、約30分間にわたり約640℃に加熱し、約30分
間640℃の一定温度に維持し、オーブン内でヒータを
オフにして自然冷却される。
What is important after screen printing is that the screen-printed frit (as opposed to the crossover tab) settles out, causing protrusions or small voids to spread out and become smooth. Step 68 is performed by allowing the frit to settle for about 30 minutes, and then in step 70 the frit is dried at 150 ° C. The fritted plate is then transferred to a flat quartz plate at step 72, slightly wrapped, polished to 5 microns for a few seconds to remove the high spots on the dried frit,
It is beautifully wiped off with a lintless wipe. The crow plate 114 having the silver crossover tab is also beautifully wiped off. Both plates 102, 114 are pre-glazed in an oven or furnace at step 74. A typical pre-gloss step is from 25 ° C (room temperature) to 5 ° C for about 1 hour.
Heat to 70 ° C, maintain a constant temperature of 570 ° C for about 45 minutes, heat to about 640 ° C for about 30 minutes, maintain a constant temperature of 640 ° C for about 30 minutes, turn off the heater in the oven and allow Cooled.

【0015】オプシヨンとして、再び研磨された平坦光
面にわたり数秒間手操作でラツプ処理してフリツト上の
高いスポツトを除去する。
Optionally, a manual lap is applied over the polished flat light surface for a few seconds to remove high spots on the frit.

【0016】工程76ではクリツプ当たり約3psiの
圧力でインコネルクリツプ付き固定体を用いて、ガラス
プレート114をフリツトが銀タブと対向するようガラ
スプレート102に対し固定する。一度好適に整合され
ると、固定体は真空炉へ移される。工程78において炉
は真空(100ミルトル以下の圧力)まで減圧される。
プレートは次に60±10分の期間にわたり室温から約
600℃まで加熱することにより、共に密封される。約
15±1分間の間600℃に維持される。約45±1分
間の間680℃に維持される。ヒータはオフにされて自
然冷却される。400℃以下で、炉は大気に開放され
る。この工程で述べる温度は全て±50℃の範囲で変動
させ得る。
In step 76, the glass plate 114 is secured to the glass plate 102 at a pressure of about 3 psi per clip using a fixture with Inconel clips so that the frit faces the silver tab. Once properly aligned, the fixture is transferred to a vacuum furnace. In step 78, the furnace is evacuated to a vacuum (pressure less than 100 mil torr).
The plates are then sealed together by heating from room temperature to about 600 ° C. for a period of 60 ± 10 minutes. Maintain at 600 ° C. for about 15 ± 1 minute. Maintain at 680 ° C. for about 45 ± 1 minutes. The heater is turned off to cool naturally. Below 400 ° C., the furnace is open to the atmosphere. All the temperatures mentioned in this step can be varied in the range of ± 50 ° C.

【0017】工程80で固定体は除去されフリツト密封
部が検査される。オプシヨンとして、工程82で圧力サ
イクルテストが行われる。固定体は圧力室内に置かれ、
センサ動作圧力上までサイクル処理されて圧力ヒステリ
シスが残される。
In step 80, the fixture is removed and the frit seal is inspected. Optionally, a pressure cycle test is performed at step 82. The fixed body is placed in the pressure chamber,
Cycling over the sensor operating pressure leaves pressure hysteresis.

【0018】工程84では、接合されたプレートは引掻
き処理され、破断テーブルへ移され、引掻き線に沿つて
破断されて、多くのセンサが得られる。工程86で可視
検査された後、工程88でセンサは圧力ハウジングベー
ス部上に装着される。
In step 84, the joined plates are scratched, transferred to a break table, and broken along the scratch line to obtain a number of sensors. After being visually inspected at step 86, the sensor is mounted on the pressure housing base at step 88.

【0019】上述した好ましい実施例に対する各種の設
計変更物は当業者には明らかであろう。従つて本発明
の、ここに開示は一例にすぎず以下の請求項に述べる発
明の範囲および精神を制限するものではないと考えられ
る。
Various modifications to the preferred embodiment described above will be apparent to those skilled in the art. Accordingly, the disclosure of the present invention is intended to be illustrative only and is not intended to limit the scope and spirit of the invention, which is set forth in the following claims.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は本発明によるバツチ法により製造された
ガラス圧力変換器の頂部平面図である。
FIG. 1 is a top plan view of a glass pressure transducer manufactured by the batch method according to the present invention.

【図2】図2は図1の圧力変換器の側面図である。FIG. 2 is a side view of the pressure transducer of FIG.

【図3】図3は本発明によるバツチ法により製造された
ガラス加速度計の側面図である。
FIG. 3 is a side view of a glass accelerometer manufactured by the batch method according to the present invention.

【図4】図4は本発明によるバツチ法のフローチヤート
である。
FIG. 4 is a flow chart of the batch method according to the present invention.

【図5】図5は本発明による方法を用いる図1の圧力変
換器を製造するに使用される部材である。
FIG. 5 shows components used to make the pressure transducer of FIG. 1 using the method according to the invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ガラス圧力変換器 12、14 ダイアフラム 18 接地シールド部 20 電極 21、23、25 リード線 30 フリツトガラス 32 空洞部 40 加速度計 42 地振質量体 44 電極 46 電極 48 フリツト 100 開口マスク 102、114 プレート 104 開口マスク 106 ガラスフリツト 108 クロスオーバ金属タブ 110 シリコンダイオキサイド絶縁体 112 開口マスク 114 ガラスプレート 116 開口マスク DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Glass pressure transducer 12, 14 Diaphragm 18 Ground shield part 20 Electrode 21, 23, 25 Lead wire 30 Flit glass 32 Cavity part 40 Accelerometer 42 Ground vibration mass body 44 Electrode 46 Electrode 48 Flit 100 Opening mask 102, 114 Plate 104 Opening Mask 106 glass frit 108 crossover metal tab 110 silicon dioxide insulator 112 opening mask 114 glass plate 116 opening mask

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 レイモンド エイチ.ニスカ アメリカ合衆国 アリゾナ州 85234,ギ ルバート,イー.チヤパラ ストリート 15836 (72)発明者 ニコラス エフ.シユミツト アメリカ合衆国 アリゾナ州 85028,フ エニツクス,イー.サニーサイド ドライ ブ 3906 Fターム(参考) 2F055 AA40 BB20 CC02 DD07 EE25 FF43 GG01 GG11  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (72) Inventor Raymond H. NISKA USA Arizona 85234, Gilbert, E. Chiapala Street 15836 (72) Inventor Nicholas F. Schmidt United States 85028 Arizona, Phoenix, E. Sunnyside Drive 3906 F-term (reference) 2F055 AA40 BB20 CC02 DD07 EE25 FF43 GG01 GG11

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (a)被覆されていないガラスの第1お
よび第2のプレートを引掻き処理する工程と、(b)第
1および第2のプレートを洗浄する工程と、(c)電極
パターンを有する第1の開口マスクを第1のプレートの
第1の側部に固定する工程と、(d)電極パターンを有
する第2の開口マスクを第2のプレートの第1の側部に
固定する工程と、(e)第1および第2のプレートの第
1の側部上で電極パターンをスパツタリング処理する工
程と、(f)第1および第2の開口マスクを除去する工
程と、(g)第1のプレートの第1の側部上でガラスフ
リツトをスクリーン印刷する工程と、(h)第2のプレ
ートの第1の側部上でクロスオーバタブをスクリーン印
刷する工程と、(i)第1および第2のプレートを前以
て艶付け処理する工程と、(j)第1および第2のプレ
ートを共に固定し第1のそれぞれの側部を接触させる工
程と、(k)第1および第2のプレートを密封し接合し
て複数のセンサを形成する工程と、(l)接合されたプ
レートを引掻き処理する線に沿つて破断して多数のセン
サを形成する工程とを包有してなるガラス圧力容量変換
器をバツチ単位で製造する方法。
(A) scratching the first and second plates of uncoated glass; (b) cleaning the first and second plates; and (c) forming the electrode pattern. Fixing the first opening mask having the first opening mask to the first side of the first plate; and (d) fixing the second opening mask having the electrode pattern to the first side of the second plate. (E) sputtering the electrode pattern on the first side of the first and second plates, (f) removing the first and second aperture masks, and (g) removing the first and second aperture masks. Screen printing glass frit on a first side of one plate; (h) screen printing a crossover tab on a first side of a second plate; Work to pre-polish the second plate And (j) securing the first and second plates together and contacting the first respective sides; and (k) sealing and bonding the first and second plates to form the plurality of sensors. A method of manufacturing a glass pressure-capacity transducer in batches, comprising a forming step and (l) a step of forming a large number of sensors by breaking along a line for scratching a bonded plate.
【請求項2】 研磨されたシールドパターンを有する第
3の開口マスクを第1のプレートの第2の側部に固定す
る工程と、研磨されたシールドパターンを有する第4の
開口マスクを第2のプレートの第2の側部に固定する工
程と、第1および第2のプレートの第2の側部上で研磨
されたシールドパターンをスパツタリング処理する工程
と、第3および第4の開口マスクを除去する工程とを包
有してなる請求項1の方法。
2. A step of fixing a third opening mask having a polished shield pattern to a second side of the first plate, and a step of fixing a fourth opening mask having a polished shield pattern to a second side. Securing to the second side of the plate, sputtering the polished shield pattern on the second side of the first and second plates, and removing the third and fourth aperture masks Performing the method of claim 1.
【請求項3】 スパツタリング処理する工程には前以て
スパツタリング・エツチング処理する工程が包有されて
なる請求項2の方法。
3. The method of claim 2 wherein the step of spattering comprises the step of spattering and etching.
【請求項4】 洗浄工程には超音波洗浄、引掻き処理お
よびオゾン洗浄が含まれてなる請求項1の方法。
4. The method of claim 1, wherein the cleaning step includes ultrasonic cleaning, scratching and ozone cleaning.
【請求項5】 工程(g)の後にフリツトを自然に沈着
させる工程を包有してなる請求項1の方法。
5. The method of claim 1 including the step of spontaneously depositing the frit after step (g).
【請求項6】 沈着工程後、フリツトを乾燥し手でラツ
プ処理する工程を包有してなる請求項5の方法。
6. The method of claim 5 further comprising the step of drying the frit after the depositing step and lapping the frit by hand.
【請求項7】 工程(f)後、第1の側部の一方の上で
シリコンダイオキサイド絶縁体をスパツタリング処理す
る工程を包有してなる請求項1の方法。
7. The method of claim 1, further comprising, after step (f), sputtering the silicon dioxide insulator on one of the first sides.
【請求項8】 工程(l)後、ハウジングのベース部上
にここのセンサを装着する工程を包有してなる請求項8
の方法。
8. The method according to claim 8, further comprising: after step (l), mounting the sensor on a base portion of the housing.
the method of.
【請求項9】 工程(k)にはプレートを真空内で加熱
する工程が包有されてなる請求項1の方法。
9. The method of claim 1 wherein step (k) includes heating the plate in a vacuum.
【請求項10】 工程(k)の後、プレートに対し圧力
サイクルテストを実行する工程を包有してなる請求項1
の方法。
10. The method of claim 1, further comprising the step of performing a pressure cycle test on the plate after step (k).
the method of.
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