ITTO940308A1 - SYSTEM TO GENERATE AN ELECTRONIC BEAM - Google Patents

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ITTO940308A1
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cathode
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IT94TO000308A
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Inventor
Kurt-Manfred Tischer
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Nokia Technology Gmbh
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Description

DESCRIZIONE dell’invenzione industriale dal titolo: DESCRIPTION of the industrial invention entitled:

"Sistema per generare un fascio elettronico", "System for generating an electron beam",

DESCRIZIONE DESCRIPTION

Campo tecnico Technical field

L'invenzione riguarda la configurazione e la fabbricazione di sistemi per la generazione di fasci di elettroni, destinati ad apparecchi per la ripresa e la riproduzione di immagini. The invention relates to the configuration and manufacture of systems for the generation of electron beams, intended for apparatus for shooting and reproducing images.

Stato della tecnica State of the art

Secondo lo stato della tecnica, i sistemi per la generazione di fasci di elettroni, destinati ad apparecchi per la ripresa e la riproduzione di immagini, sono conformati in modo che gli elettroni emessi da un catodo incandescente per la formazione di un fascio di elettroni passino attraverso una serie di elettrodi, prima che essi vengano ad incontrare la superficie di incidenza (per esempio, il lato interno di un tubo per, immagini televisive (cinescopio)). I catodi ad incandescenza che tradizionalmente vengono utilizzati a tale scopo, ad esempio nei cinescopi, presentano delle densità massime di corrente dei fasci pari a circa 0,5 A/cm<z >. According to the state of the art, systems for the generation of electron beams, intended for apparatus for shooting and reproducing images, are shaped in such a way that the electrons emitted by an incandescent cathode for the formation of an electron beam pass through a series of electrodes, before they come to meet the incidence surface (for example, the inner side of a television tube (kinescope)). The incandescent cathodes that are traditionally used for this purpose, for example in picture tubes, have maximum beam current densities of about 0.5 A / cm <z>.

Oltre a questi catodi ad incandescenza sono noti i cosiddetti catodi a forte intensità di corrente, come quelli impiegati per la generazione di micro-onde, che presentano densità di corrente dei fasci elevantisi fino a 10 A/cm<2>. In addition to these incandescent cathodes, the so-called high current intensity cathodes are known, such as those used for the generation of microwaves, which have high beam current densities up to 10 A / cm <2>.

E' inoltre noto che l'aumento della densità di corrente dei fasci emessi dagli apparati catodici, ad esempio nei sistemi per la generazione di fasci di elettroni nei cinescopi, determina un miglioramento delle rese d'immagine, ossia immagini più nitide. It is also known that the increase in the current density of the beams emitted by the cathode apparatuses, for example in systems for the generation of electron beams in kinescopes, determines an improvement in image yields, ie sharper images.

Come hanno dimostrato le ricerche in campo ottico-elettronico compiute dalla Richiedente, se i catodi sopra menzionati, e designati in questa Domanda come catodi a forte intensità di corrente, debbono essere impiegati in cinescopi di apparecchi televisivi, è necessario mantenere ad un piccolo valore la distanza tra la superficie di emissione del catodo a forte intensità di corrente e l'elettrodo di griglia 1, nonché l'area di passaggio degli elettrodi attraverso lo stesso elettrodo di griglia 1, quando la tensione di griglia 2 deve essere contenuta nel campo compreso tra 800 e 1000 volt. As the researches in the optical-electronic field carried out by the Applicant have shown, if the cathodes mentioned above, and designated in this Application as cathodes with high current intensity, are to be used in kinescopes of television sets, it is necessary to keep the distance between the emission surface of the cathode at high intensity of current and the grid electrode 1, as well as the area of passage of the electrodes through the same grid electrode 1, when the grid voltage 2 must be contained in the range between 800 and 1000 volts.

Esperimenti compiuti in tal senso dalla Richiedente, allo scopo di rispettare le condizioni sopra esposte, non avevano avuto successo in passato, perché i catodi a forte intensità di corrente richiedono temperature d'esercizio pari a 1100 °C, e simili temperature non permettono di conseguire una stabilità termica per l'elettrodo di griglia 1 con il suo piccolo spessore. Experiments carried out in this sense by the Applicant, in order to comply with the conditions set out above, had not been successful in the past, because the cathodes with strong current intensity require operating temperatures equal to 1100 ° C, and similar temperatures do not allow to achieve a thermal stability for the grid electrode 1 with its small thickness.

L'invenzione ha pertanto lo scopo di provvedere un sistema per la generazione di fasci di elettroni, il quale permetta di impiegare catodi a forte intensità di corrente negli apparecchi di ripresa e di riproduzione delle immagini. Poiché questi sistemi per la generazione di fasci di elet-troni, provvisti di catodi a forte intensità di corrente, rivestono interesse particolarmente nel caso di cinescopi di grande formato, e questi cinescopi sono stati finora prodotti solo in piccoli quantitativi, un ulteriore scopo dell'invenzione era quello di provvedere un procedimento di la fabbricazione dei sistemi per la generazione di fasci di elettroni con catodi a forte intensità di corrente, che permettesse di realizzare i sistemi suddetti in procedimenti per produzioni su larga scala, ossia senza grandi interventi di riallestimento delle linee di lavorazione che vengono impiegate per la fabbricazione di sistemi per la generazione di fasci di elettroni con catodi ad incandescenza aventi le caratteristiche tradizionali. The purpose of the invention is therefore to provide a system for the generation of electron beams, which allows the use of cathodes with a high intensity of current in the apparatus for recording and reproducing images. Since these electron beam generation systems, equipped with high current intensity cathodes, are of particular interest in the case of large format picture tubes, and these picture tubes have so far only been produced in small quantities, a further purpose of the invention was to provide a process for the manufacture of systems for the generation of electron beams with high current intensity cathodes, which would allow the aforementioned systems to be realized in processes for large-scale production, i.e. without major interventions of rearrangement of the lines which are used for the manufacture of systems for the generation of electron beams with incandescent cathodes having the traditional characteristics.

Esposizione dell'invenzione Presentation of the invention

In base alla Rivendicazione 1, il primo compito dell'invenzione viene assolto per il fatto che: According to Claim 1, the first task of the invention is accomplished due to the fact that:

l'apparato catodico è conformato come apparato catodico a forte intensità di corrente; the cathode apparatus is shaped as a cathode apparatus with a strong current intensity;

ad una distanza di 30 ÷ 80 pm dalla superficie di emissione del catodo a forte intensità di corrente è disposto un elettrodo di griglia 1 conformato a guisa di cappello, che nella zona di passaggio degli elettroni presenta uno spessore variante da 30 a 70 pm; l'elettrodo di griglia 2, nella zona di passaggio degli elettroni, presenta uno spessore di almeno 250 pm, e il lato di entrata dell'elettrodo di griglia 3, nella zona di passaggio degli elettroni, presenta uno spessore variante da 250 a 400 pm. at a distance of 30 ÷ 80 µm from the emitting surface of the cathode at high current intensity a grid electrode 1 is arranged in the shape of a hat, which in the passage area of the electrons has a thickness varying from 30 to 70 µm; the grid electrode 2, in the electron passage area, has a thickness of at least 250 µm, and the entry side of the grid electrode 3, in the electron passage area, has a thickness ranging from 250 to 400 µm .

Se, in base alla Rivendicazione 2, la superficie di emissione del catodo ad incandescenza ha solamente un diametro variante da 0,5 ad 1,5 min, per effetto di questa piccola superficie di emissione viene ridotta al minimo l'evaporazione dei materiali costituenti il catodo, e ciò ha un effetto positivo per quanto riguarda la prevenzione di corto-circuiti e di emissioni termiche di griglia. If, according to Claim 2, the emission surface of the incandescent cathode has only a diameter ranging from 0.5 to 1.5 min, the evaporation of the materials constituting the cathode, and this has a positive effect as regards the prevention of short-circuits and thermal grid emissions.

Per effetto della configurazione a guisa di cappello della zona di passaggio degli elettroni nell'elettrodo di griglia 2, secondo l'indicazione della Rivendicazione 3, viene assicurato che anche alle temperature d'esercizio del catodo a forte intensità di corrente, elevantisi fino a 1100 °C, non si manifestino distorsioni nella zona molto sottile di passaggio dell'elettrodo di griglia 2. As a result of the hat-like configuration of the electron passage area in the grid electrode 2, according to the indication of Claim 3, it is ensured that even at the operating temperatures of the cathode with high current intensity, which rise up to 1100 ° C, no distortions occur in the very thin passage area of the grid electrode 2.

In base alla Rivendicazione 4, la pre-distorsione del fascio di elettroni può essere ottenuta per il fatto che la zona di passaggio nell'elettrodo di griglia 2 è conformata come foro per fascio astigmatico. According to Claim 4, the pre-distortion of the electron beam can be obtained due to the fact that the passage area in the grid electrode 2 is shaped as an astigmatic beam hole.

Se in base alla Rivendicazione 5 la parte di entrata dell'elettrodo di griglia 3 è provvista di un diaframma, tutte le parti costruttive della stessa griglia 3 possono essere ottenute dalla fabbricazione normale, perché mediante il diaframma da un lato è possibile impostare in maniera molto semplice lo spessore della parte di entrata necessario per il catodo a forte intensità di corrente, ed inoltre il diametro di apertura, necessario per catodi a forte intensità di corrente in questo campo, risulta ridotto rispetto alla parte di entrata ottenuta con la fabbricazione normale. If according to Claim 5 the inlet part of the grid electrode 3 is provided with a diaphragm, all the constructive parts of the same grid 3 can be obtained from normal manufacture, because by means of the diaphragm on one side it is possible to set very the thickness of the inlet part necessary for the high-current cathode is simple, and furthermore the aperture diameter, necessary for high-current cathodes in this range, is reduced compared to the inlet part obtained with normal fabrication.

I sistemi per la generazione di fasci di elettroni con catodi a forte intensità di corrente possono essere realizzati in maniera particolarmente economica quando viene applicata la sequenza di operazioni indicata nella Rivendicazione 7. In particolare, con questo procedimento tali sistemi possono essere prodotti anche in piccoli quantitativi sulle linee di lavorazione destinate a sistemi normali, senza interventi di riallestimento dei processi di fabbricazione. Systems for the generation of electron beams with high current intensity cathodes can be made in a particularly economical way when the sequence of operations indicated in Claim 7 is applied. In particular, with this process such systems can also be produced in small quantities on processing lines destined for normal systems, without reorganization of manufacturing processes.

Ciò è dovuto al fatto che l'elettrodo di griglia 4, ed almeno le, parti costruttive dell’elettrodo di griglia 3, rivolto verso lo stesso elettrodo di griglia 4, sono ottenuti dai processi di fabbricazione normale. E' pure possibile il montaggio del sistema medesimo sulle apposite spine di fusione del vetro. Tuttavia occorre tener conto del fatto che, già nella connessione delle parti costruttive in base al procedimento secondo l'invenzione, nel vetro medesimo viene incorporato un organo di alloggiamento o di supporto della griglia 1, nella cui apertura più tardi, ossia al di fuori della linea di fabbricazione, viene inserito e connesso l'apparato catodico con l'elettrodo di griglia 1 a forma di cappello (= apparato catodico di griglia 1). This is due to the fact that the grid electrode 4, and at least the constructive parts of the grid electrode 3, facing the same grid electrode 4, are obtained from normal manufacturing processes. It is also possible to assemble the system itself on the appropriate glass melting pins. However, it must be borne in mind that, already in the connection of the constructive parts according to the method according to the invention, a housing or support member of the grille 1 is incorporated in the glass itself, in which opening later, i.e. outside the production line, the cathode apparatus is inserted and connected with the hat-shaped grid electrode 1 (= grid cathode apparatus 1).

Se, in base alla Rivendicazione 8, il lato di entrata dell'elettrodo di griglia 3 viene provvisto di un diaframma, si semplifica ulteriormente lo svolgimento del processo, perché anche il lato di entrata dell'elettrodo dì griglia 3 può essere ottenuto con la lavorazione normale. If, according to Claim 8, the inlet side of the grid electrode 3 is provided with a diaphragm, the process is further simplified, because the inlet side of the grid electrode 3 can also be obtained by machining normal.

Breve esposizione dell'invenzione Sono mostrati: Brief explanation of the invention The following are shown:

nella Figura 1, una mezza sezione di un sistema per la generazione di fasci di elettroni, e in Figure 1, a half section of a system for generating electron beams, e

nella Figura 2, la sezione di un apparato catodico di griglia 1. in Figure 2, the section of a grid cathode apparatus 1.

Forme di attuazione dell'invenzione L'invenzione viene ora descritta in modo più particolareggiato con riferimento alle due figure. Embodiments of the invention The invention is now described in more detail with reference to the two figures.

L'apparato mostrato nella Figura 1 è un sistema 10 per la generazione di fasci di elettroni per cinescopi televisivi, il quale è pre-montato con esclusione dell'apparato catodico 11 di griglia 1. Questo apparato catodico 11 di griglia 1 sarà più tardi applicato nella sede di alloggiamento indicata con 12. Il sistema 10 per la generazione di fasci di elettroni, rappresentato nella Figura 1, è formato da un elettrodo 13 di griglia 4, rivolto verso lo schermo per l'immagine (qui non rappresentato), dall'adiacente elettrodo 14 di griglia 3, costituito da più parti costruttive, e dal successivo elettrodo 15 di griglia 2. The apparatus shown in Figure 1 is a system 10 for generating electron beams for television picture tubes, which is pre-assembled with the exception of the grid 1 cathode apparatus 11. This grid 1 cathode apparatus 11 will later be applied in the housing seat indicated by 12. The system 10 for the generation of electron beams, shown in Figure 1, is formed by a grid electrode 13, facing the screen for the image (not shown here), from the adjacent electrode 14 of grid 3, consisting of several constructive parts, and of the subsequent electrode 15 of grid 2.

Inoltre tra il luogo 12 e l'elettrodo 15 di griglia 2 è presente un organo 16 di supporto della griglia 1. Tutte queste parti costruttive 13, 14, 15 e 16 sono disposte a prestabilite distanze l'una dall'altra, e sono collegate tra loro mediante due barrette 17 di vetro. Tutti gli elettrodi 13 ÷ 15 di griglia sono conformati a guisa di tazze, e nei loro fondi essi presentano dei fori 18 per il passaggio dei fasci di elettroni. Nella forma di attuazione mostrata in Figura 1, questi fori 18 di passaggio sono resi visibili nella parte destra della rappresentazione. Furthermore, between the location 12 and the electrode 15 of the grid 2 there is a support member 16 of the grid 1. All these constructive parts 13, 14, 15 and 16 are arranged at predetermined distances from each other, and are connected between them by means of two glass bars 17. All the grid electrodes 13 ÷ 15 are shaped like cups, and in their bottoms they have holes 18 for the passage of the electron beams. In the embodiment shown in Figure 1, these passage holes 18 are made visible in the right part of the representation.

Solo per ragioni di completezza si può ancora accennare al fatto che più apparati del tipo rappresentato nella Figura 1 possono essere combinati fra loro, formando cosi il sistema 10 per fasci di elettroni destinato ad apparecchi televisivi. In un altro sistema per la generazione di fasci di elettroni, destinato ad apparecchi televisivi a colori e parimenti non rappresentato, gli elettrodi 13, 14, 15, 24 di griglia possono essere conformati in modo che in ciascun fondo delle rispettive tazze siano presenti tre fori 18; 18.1; 18.2 di passaggio, in posizioni affiancate tra loro, per cui ogni elettrodo 13, 14, 15, 24 di griglia costituisce l'elettrodo comune per tre diversi fasci di elettroni. Only for the sake of completeness it can again be mentioned that several apparatuses of the type shown in Figure 1 can be combined with each other, thus forming the electron beam system 10 intended for television sets. In another system for the generation of electron beams, intended for color television sets and likewise not shown, the grid electrodes 13, 14, 15, 24 can be shaped so that in each bottom of the respective cups there are three holes 18; 18.1; 18.2 of passage, in positions side by side, whereby each grid electrode 13, 14, 15, 24 constitutes the common electrode for three different electron beams.

Come si può rilevare chiaramente dalla Figura 1, la parte 19 di entrata dell'elettrodo 14 di griglia 3 è provvista di un diaframma 20 sul lato situato in posizione opposta all'elettrodo 13 di griglia 4. Questo diaframma presenta il vantaggio che, nella fabbricazione di un sistema per la generazione di fasci di elettroni ad alta intensità di corrente, tutte le parti costruttive degli elettrodi 13, 14 di griglia 4 e 3 possono essere ottenute dai processi di produzione destinati ai sistemi 10 per la generazione di fasci di elettroni senza catodi ad alta intensità di corrente (= produzione normale) e, rispetto alla parte 19 di entrata dell'elettrodo di griglia 3 della produzione normale, mediante il diaframma 20 è possibile ridurre il diametro del foro 18.1 di passaggio ed accrescere lo spessore di fondo della tazza. As can be clearly seen from Figure 1, the inlet part 19 of the grid electrode 14 3 is provided with a diaphragm 20 on the side opposite the grid electrode 13 4. This diaphragm has the advantage that, in manufacturing of a system for the generation of electron beams with high current intensity, all the constructive parts of the electrodes 13, 14 of grids 4 and 3 can be obtained from the production processes intended for the systems 10 for the generation of electron beams without cathodes at high current intensity (= normal production) and, with respect to the inlet part 19 of the grid electrode 3 of the normal production, by means of the diaphragm 20 it is possible to reduce the diameter of the passage hole 18.1 and increase the bottom thickness of the cup .

Quest'ultimo aspetto appare interessante in particolare per il fatto che attualmente non risulta ancora economico fabbricare, con i processi per produzione di massa, i sistemi 10 per la generazione di fasci di elettroni con l'apparato catodico 22 a forte intensità di corrente. This latter aspect appears particularly interesting due to the fact that currently it is not yet economical to manufacture, with mass production processes, the systems 10 for the generation of electron beams with the cathode apparatus 22 at high current intensity.

superficie laterale 26 forma un angolo a di 135°. lateral surface 26 forms an angle a of 135 °.

Alla estremità libera della superficie laterale 26 è applicata una porzione marginale 27, che rispetto alla zona centrale 25 forma un angolo di 90°. Con la flangia 28, applicata alla porzione marginale 27, l'elettrodo 24 di griglia 1 è collocato e collegato come inserto in un elemento tubolare 29. Il catodo 22 a forte intensità di corrente è inserito in questo stesso elemento tubolare 29, e mediante un dischetto ceramico 30 esso è collegato con la superficie laterale interna dell'elemento tubolare 29. A marginal portion 27 is applied to the free end of the lateral surface 26, which forms an angle of 90 ° with respect to the central zone 25. With the flange 28, applied to the marginal portion 27, the grid 1 electrode 24 is placed and connected as an insert in a tubular element 29. The high-current cathode 22 is inserted into this same tubular element 29, and by means of a ceramic disk 30 it is connected with the internal lateral surface of the tubular element 29.

La superficie 23 di emissione del catodo 22 a forte intensità di corrente presenta un diametro di 0,75 mm. In questo modo viene assicurato che i fenomeni di evaporazione del materiale catodico non producano dei corto-circuiti negli elettrodi di griglia. The emitting surface 23 of the cathode 22 at high current intensity has a diameter of 0.75 mm. In this way it is ensured that the phenomena of evaporation of the cathode material do not produce short-circuits in the grid electrodes.

Sulla superficie esterna dell'elemento tubolare 29 è provvisto un gradino, mediante il quale ciascuno dei tre apparati catodici 11 di griglia 1 sono inseriti ed opportunamente connessi entro apposite aperture nell'elemento 21 di supporto. A step is provided on the external surface of the tubular element 29, by means of which each of the three cathode devices 11 of grid 1 are inserted and suitably connected within suitable openings in the support element 21.

In un altro esempio di attuazione - qui non rappresentato - l'elettrodo di griglia 1 con caratteristiche foggiature a forma di cappello può anche essere realizzato in un sol pezzo, ossia ad esempio per tre catodi 22 disposti in linea. Non è neppure necessario che ciascun catodo 22 a forte Tuttavia l'impiego del diaframma mostrato nella Figura 1 non significa che la parte 19 di entrata dell'elettrodo 14 di griglia 3 debba essere necessariamente provvista di un diaframma 20. Invece, senza tener conto di considerazioni economiche, in un altro esempio di attuazione, qui non rappresentato, la parte 19 di entrata può essere fabbricata subito con le dimensioni che presenta la parte 19 di entrata di un elettrodo 14 di griglia 3 dopo il collegamento con un diaframma 20. In another embodiment example - not shown here - the grid electrode 1 with characteristic hat-shaped moldings can also be made in one piece, ie for example for three cathodes 22 arranged in line. Neither is it necessary that each cathode 22 a strong. However, the use of the diaphragm shown in Figure 1 does not mean that the input part 19 of the grid electrode 14 must necessarily be provided with a diaphragm 20. Instead, without taking into account economic considerations, in another embodiment, not shown here, the inlet part 19 can be manufactured immediately with the dimensions that the inlet part 19 of a grid 3 electrode 14 has after connection with a diaphragm 20.

Un altro vantaggio, connesso con l'utilizzazione delle parti costruttive 13, 14 di griglia provenienti dalla fabbricazione normale, è rappresentato dal fatto che il montaggio dei sistemi 10 per la generazione di fasci di elettroni, destinati all'apparato catodico 22 a forte intensità di corrente, può avvenire in larga misura su linee di lavorazione che vengono utilizzate per il montaggio dei sistemi normali. A tale scopo, le parti costruttive dell'elettrodo 13 di griglia 4, dell'elettrodo 14 di griglia 3, dell'elettrodo 15 di griglia 2 e dell'organo 16 di supporto della griglia 1 vengono posizionate l'una rispetto all'altra ad opportune distanze reciproche su cosiddette spine di fusione del vetro, prima che le barrette 17 di vetro, accostate dai lati, realizzino un collegamento permanente delle parti costruttive sopra menzionate. Another advantage, connected with the use of the grid constructive parts 13, 14 coming from normal manufacturing, is represented by the fact that the assembly of the systems 10 for the generation of electron beams, intended for the cathode apparatus 22 with high intensity of current, can occur to a large extent on processing lines that are used for the assembly of normal systems. For this purpose, the constructive parts of the grid electrode 13 4, of the grid 3 electrode 14, of the grid 2 electrode 15 and of the support member 16 of the grid 1 are positioned with respect to each other. suitable mutual distances on so-called glass melting pins, before the glass bars 17, placed side by side, make a permanent connection of the aforementioned constructive parts.

Quando le parti costruttive sono unite insieme nella disposizione mostrata in Figura 1, l'apparato catodico 11 di griglia 1 viene inserito e connesso nell'organo 16 di supporto della stessa griglia 1. Nella Figura 2 è illustrata in modo più particolareggiato la forma costruttiva dell'apparato catodico 11 di griglia 1. Nell'esempio di attuazione mostrato in Figura 2, tre apparati catodici 11 di griglia 1 sono inseriti in un elemento 21 di supporto. Le parti costruttive essenziali di ciascun apparato catodico 11 di griglia 1 sono il rispettivo catodo 22 a forte intensità di corrente, che nell'esempio di attuazione qui rappresentato presenta una densità di corrente del fascio pari a 5 A/cm<2>, in corri-spondenza ad una temperatura d'esercizio di 1100 °C, e l'elettrodo 24 di griglia 1, situato a tale scopo ad una piccola distanza (qui 40 pm) dalla superficie 23 di emissione. When the constructive parts are joined together in the arrangement shown in Figure 1, the cathode apparatus 11 of grid 1 is inserted and connected in the support member 16 of the same grid 1. Figure 2 illustrates in more detail the construction form of the grid 1. grid 1 cathode apparatus 11. In the embodiment shown in Figure 2, three grid 1 cathode apparatuses 11 are inserted in a support element 21. The essential constructive parts of each cathode apparatus 11 of grid 1 are the respective cathode 22 with high current intensity, which in the embodiment shown here has a current density of the beam equal to 5 A / cm <2>, in correspondence - correspondence to an operating temperature of 1100 ° C, and the electrode 24 of grid 1, located for this purpose at a small distance (here 40 pm) from the emission surface 23.

Nell'esempio di attuazione qui rappresentato, lo spessore dell'elettrodo 24 di griglia 1, nella zona 18.2 di passaggio, ha parimenti il valore di 40 pm. Per garantire una sufficiente stabilità termica di questo elettrodo 24 di griglia 1, straordinariamente sottile, alle temperature d'esercizio elevantisi fino a 1100 °C, esistenti nella zona dello stesso elettrodo 24 di griglia 1, alla zona centrale 25, situata parallelamente alla superficie 23 di emissione e provvista,dell'apertura 18.2 di emissione, fa seguito una superficie laterale 26. Sul lato della suddetta zona centrale 25, che è rivolto verso la superficie 23 di emissione, la intensità di corrente sia inserito in un elemento tubolare separato 29. Invece in un altro esempio di attuazione - qui non rappresentato - tutti i catodi 22 a forte intensità di corrente possono essere tenuti da un elemento comune. La distanza dall'elettrodo di griglia 1 può essere allora assicurata, per la realizzazione di un apparato catodico 11 di griglia 1, mediante altri accorgimenti che dipendono dalle scelte dello specialista. In the embodiment shown here, the thickness of the grid 1 electrode 24, in the passage area 18.2, also has the value of 40 µm. To ensure sufficient thermal stability of this extraordinarily thin grid 1 electrode 24, at operating temperatures rising up to 1100 ° C, existing in the area of the same electrode 24 of grid 1, to the central area 25, located parallel to the surface 23 and provided with the emission opening 18.2, a lateral surface 26 follows. On the side of the aforementioned central zone 25, which faces the emission surface 23, the intensity of the current is inserted in a separate tubular element 29. On the other hand, in another example of embodiment - not shown here - all the cathodes 22 with high current intensity can be held by a common element. The distance from the grid electrode 1 can then be ensured, for the realization of a cathode apparatus 11 of grid 1, by means of other measures which depend on the choices of the specialist.

Se però, com'è mostrato nella Figura 2, l'apparato catodico 11 di griglia 1 è conformato come unità fissa, ciò presenta il vantaggio che una siffatta unità può essere inserita e connessa senza problemi e senza grandi interventi di taratura nell'organo 16 di supporto della griglia 1, che in base alla Figura 1 è già collegato con gli altri elementi del sistema per la generazione di fasci di elettroni. Poiché l'inserimento dell'apparato catodico 11 di griglia 1 nell'organo 16 di supporto della griglia 1 può avvenire senza grandi problemi al di fuori del processo di fabbricazione per sistemi normali, le linee di produzione esistenti possono quindi essere rese disponibili in larga misura anche per la produzione del sistema 10 per la generazione di fasci di elettroni con apparati catodici 22 per forti intensità di corrente.. However, if, as shown in Figure 2, the cathode apparatus 11 of grid 1 is shaped as a fixed unit, this has the advantage that such a unit can be inserted and connected without problems and without major calibration interventions in the organ 16. support of the grid 1, which according to Figure 1 is already connected with the other elements of the system for the generation of electron beams. Since the insertion of the cathode apparatus 11 of grid 1 into the support member 16 of the grid 1 can take place without major problems outside the manufacturing process for normal systems, the existing production lines can therefore be made available to a large extent also for the production of the system 10 for the generation of electron beams with cathode devices 22 for strong current intensities.

Claims (8)

RIVENDICAZIONI 1. Sistema per la generazione di fasci di elettroni, avente almeno un apparato catodico ed almeno un elettrodo di griglia, caratterizzato dal fatto che: l'apparato catodico è conformato come apparato catodico (22) a forte intensità di corrente; ad una distanza di 30 ÷ 80 pm dalla superficie (23) di emissione del catodo (22) a forte intensità di corrente è disposto un elettrodo (24) di griglia 1 conformato a guisa di cappello, che nella zona (18.2) di passaggio degli elettroni presenta uno spessore variante da 30 a 70 pm; l'elettrodo (15) di griglia 2, nella zona (18) di passaggio degli elettroni, presenta uno spessore di almeno 250 pm, e il lato (19) di entrata dell'elettrodo (14) di griglia 3, nella zona (18.1) di passaggio degli elettroni, presenta uno spessore variante da 250 a 400 pm. CLAIMS 1. System for the generation of electron beams, having at least one cathode apparatus and at least one grid electrode, characterized in that: the cathode apparatus is shaped as a cathode apparatus (22) with a strong current intensity; at a distance of 30 ÷ 80 µm from the emitting surface (23) of the cathode (22) at high current intensity there is a grid 1 electrode (24) shaped like a hat, which in the area (18.2) of passage of the electrons has a thickness ranging from 30 to 70 µm; the grid 2 electrode (15), in the electron passage area (18), has a thickness of at least 250 µm, and the side (19) of entry of the electrode (14) of grid 3, in the zone (18.1) of passage of the electrons, has a thickness varying from 250 to 400 µm. 2. Sistema per la generazione di fasci di elettroni secondo la rivendicazione 1, caratterizzato dal fatto che la superficie (23) di emissione del catodo (22) per forti intensità di corrente presenta un diametro variante da 0,5 ad 1,5 mm. 2. Electron beam generation system according to claim 1, characterized in that the emitting surface (23) of the cathode (22) has a diameter ranging from 0.5 to 1.5 mm for strong current intensities. 3. Sistema per la generazione di fasci di elettroni secondo la rivendicazione 1 o 2, caratterizzato dal fatto che l'elettrodo (24) di griglia 1 nella zona (18.2) di passaggio degli elettroni è conformato a guisa di cappello, e presenta una zona centrale (25) provvista dell'apertura, una superficie laterale (26) contigua a questa, formante un angolo a compreso tra 100° e 170° con il lato interno della suddetta zona centrale (25), ed un bordo (27) contiguo alla superficie laterale (26), orientato verso la zona centrale (25), e formante con questa un angolo di 90° più/meno 10°. 3. Electron beam generation system according to claim 1 or 2, characterized in that the grid 1 electrode (24) in the electron passage zone (18.2) is hat-like, and has a zone central (25) provided with the opening, a lateral surface (26) contiguous thereto, forming an angle a between 100 ° and 170 ° with the internal side of the aforementioned central area (25), and an edge (27) contiguous to the lateral surface (26), oriented towards the central zone (25), and forming with this an angle of 90 ° plus / minus 10 °. 4. Sistema per la generazione di fasci di elettroni secondo una delle rivendicazioni la 3, caratterizzato dal fatto che la zona (18) di passaggio degli elettroni nell'elettrodo (15) di griglia 2 è conformata come quadripolo. System for generating electron beams according to one of claims 1a 3, characterized in that the area (18) of passage of the electrons in the grid electrode (15) is shaped as a quadripole. 5. Sistema per la generazione di fasci di elettroni secondo una delle rivendicazioni la 4, caratterizzato dal fatto che la parte (19) di entrata dell'elettrodo (14) di griglia 3 è provvista di un diaframma (20). Electron beam generation system according to one of claims 1a 4, characterized in that the input part (19) of the grid electrode (14) 3 is provided with a diaphragm (20). 6. Sistema per la generazione di fasci di elettroni secondo la rivendicazione 5, caratterizzato dal fatto che il diaframma (20) presenta uno spessore variante da 150 a 400 pm, ed ha un diametro ridotto rispetto a quello dell'apertura nella parte (19) di entrata dell'elettrodo (14) di griglia 3. 6. System for the generation of electron beams according to claim 5, characterized in that the diaphragm (20) has a thickness ranging from 150 to 400 µm, and has a reduced diameter with respect to that of the opening in the part (19) inlet of the grid electrode (14) 3. 7. Procedimento per la fabbricazione di un sistema per la generazione di fasci di elettroni con almeno un catodo a forte intensità di corrente ed almeno un elettrodo di griglia, in particolare di un sistema per la generazione di fasci di elettroni secondo la rivendicazione 1, caratterizzato dalle seguenti fasi operative, indicate nella loro successione cronologica: Is fase - esecuzione mediante tranciatura degli elettrodi (13, 14, 15) di griglia 2 ÷ 4 e di un organo (16) di supporto della griglia 1, e realizzazione di un apparato catodico (11) di griglia 1; 2- fase - fabbricazione dell'elettrodo (14) di griglia 3; 3- fase - fabbricazione di un'unità costituita dall'elettrodo (13) di griglia 4, dall'elettrodo (14) di griglia 3, formato nella 2- fase, dall'elettrodo (15) di griglia 2 e dall'organo (16) di supporto della griglia 1, su linee di lavorazione che normalmente vengono utilizzate per la fabbricazione di sistemi per la generazione di fasci di elettroni senza apparati catodici a forte intensità di corrente, ed a tale riguardo le parti costruttive, opportunamente posizionate sulle cosiddette spine di fusione del vetro, vengono collegate in modo permanente mediante due barrette (17) di vetro; 4- fase - collegamento dell'apparato catodico (11) di griglia 1 con l'organo (16) di supporto della stessa griglia 1. 7. Process for the manufacture of an electron beam generation system with at least one high current cathode and at least one grid electrode, in particular of an electron beam generation system according to claim 1, characterized from the following operational phases, indicated in their chronological succession: Is phase - execution by shearing the electrodes (13, 14, 15) of grid 2 ÷ 4 and of a support member (16) of grid 1, and construction of a cathode apparatus (11) of grid 1; 2- step - fabrication of the electrode (14) of grid 3; 3- phase - fabrication of a unit consisting of the electrode (13) of grid 4, the electrode (14) of grid 3, formed in the 2- phase, the electrode (15) of grid 2 and the organ ( 16) supporting the grid 1, on processing lines that are normally used for the manufacture of systems for the generation of electron beams without cathodic apparatus with high current intensity, and in this regard the construction parts, suitably positioned on the so-called plugs glass fusion, are permanently connected by means of two glass bars (17); 4- phase - connection of the cathode apparatus (11) of grid 1 with the support member (16) of the same grid 1. 8. Procedimento secondo la rivendicazione 7, caratterizzato dal fatto che il lato (19) di entrata dell'elettrodo (14) di griglia 3 viene provvisto di un diaframma (20) dopo o durante la realizzazione dell'elettrodo (14) di griglia 3. Method according to claim 7, characterized in that the inlet side (19) of the grid 3 electrode (14) is provided with a diaphragm (20) after or during the production of the grid 3 electrode (14) .
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