IT202100002186A1 - SOLAR ENERGY CONVERSION DEVICE - Google Patents
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Description
DISPOSITIVO DI CONVERSIONE DI ENERGIA SOLARE SOLAR ENERGY CONVERSION DEVICE
CAMPO TECNICO TECHNICAL FIELD
La presente divulgazione si riferisce in generale ai dispositivi che sfruttano la luce solare e pi? in particolare un dispositivo di conversione di energia solare avente una copertura superiore costituita da uno strato di AZO (ossido di alluminio e zinco) depositata sopra uno strato intermedio di materiale, come l'allumina, che forma una superficie superiore piana sostanzialmente cristallina di deposito dell'AZO. This disclosure refers generally to devices that take advantage of sunlight and more? particularly a solar energy conversion device having a top cover consisting of a layer of AZO (aluminum zinc oxide) deposited over an intermediate layer of material, such as alumina, which forms a substantially crystalline flat top surface for depositing the 'AZO.
BACKGROUND BACKGROUND
Le applicazioni solari volte alla conversione energetica della luce solare in calore sono molteplici. Tra le pi? utilizzate si trovano, pannelli solari per la produzione di acqua calda ad uso domestico e/o industriale (temperature di esercizio medio basse), solare a concentrazione per la produzione di energia elettrica tramite fluido vettore e turbine (temperature di esercizio alte) e sistemi ibridi fotovoltaici/termici per la produzione domestica di corrente elettrica ed acqua calda (temperature di esercizio basse). There are many solar applications aimed at the energy conversion of sunlight into heat. Among the most used are solar panels for the production of hot water for domestic and/or industrial use (medium-low operating temperatures), concentrated solar power for the production of electricity using a vector fluid and turbines (high operating temperatures) and hybrid systems photovoltaic/thermal for domestic production of electricity and hot water (low operating temperatures).
In tutte queste applicazioni ? necessario ridurre al massimo le dispersioni termiche perch? esse costituiscono perdite in termini di efficienza del sistema. In all these applications ? necessary to reduce the thermal dispersions as much as possible, why? they constitute losses in terms of system efficiency.
Tipicamente, questi dispositivi hanno una lastra di vetro superiore che ? attraversata dai raggi solari che provengono dall'alto e che sono catturati dal pannello solare. Typically, these devices have a top glass plate that is ? crossed by the sun's rays that come from above and are captured by the solar panel.
In molti dispositivi, lo spazio tra il collettore e la lastra di vetro sovrastante ? sottovuoto al fine di ridurre al minimo le perdite per conduzione e convezione. In questi casi tuttavia restano presenti perdite termiche radiative che, soprattutto per i pannelli solari operanti a temperature elevate, possono diventare considerevoli riducendo significativamente l?efficienza finale del dispositivo. In many devices, the space between the collector and the glass plate above it is under vacuum in order to minimize conduction and convection losses. In these cases, however, radiative thermal losses remain which, especially for solar panels operating at high temperatures, can become considerable, significantly reducing the final efficiency of the device.
Per questo motivo in molti casi vengono utilizzati i cosiddetti heat mirrors, ossia strati di materiale posti sopra la lastra di vetro che sovrasta il pannello solare ed affacciati al pannello stesso, oppure direttamente cresciuti/depositati sopra di esso. Gli heat mirror sfruttano il differente range spettrale tra la luce solare ed il calore emesso sottoforma di perdita dal dispositivo. In particolare un heat mirror efficiente deve possedere un?alta trasmittanza ottica per la regione spettrale occupata dalla luce solare (tra 250 e 2500 nm circa) e allo stesso tempo un?elevata riflettanza per la regione spettrale nella quale il dispositivo solare emette radiativamente il calore (tipicamente nel medio e lontano infrarosso, lo spettro varia a seconda della temperatura di lavoro). For this reason, so-called heat mirrors are used in many cases, i.e. layers of material placed on top of the glass plate that overlooks the solar panel and facing the panel itself, or directly grown/deposited on top of it. Heat mirrors exploit the different spectral range between sunlight and the heat emitted in the form of loss from the device. In particular, an efficient heat mirror must have a high optical transmittance for the spectral region occupied by sunlight (between about 250 and 2500 nm) and at the same time a high reflectance for the spectral region in which the solar device emits heat radiatively (typically in the medium and far infrared, the spectrum varies according to the working temperature).
Esistono alcuni materiali che posseggono intrinsecamente propriet? ottiche soddisfacenti per un loro utilizzo come heat mirrors. Questi materiali sono i cosiddetti ossidi trasparenti conduttivi (TCO), i quali vengono tipicamente impiegati sottoforma di film sottili depositati sul vetro di incapsulamento del dispositivo solare. Tra di essi il pi? performante ed il pi? riportato in letteratura ? l?ossido di indio drogato stagno (ITO). In certi casi vengono anche realizzati sistemi a pi? strati per aumentare le propriet? del materiale. Are there some materials that inherently possess properties? satisfactory optics for their use as heat mirrors. These materials are the so-called transparent conductive oxides (TCO), which are typically used in the form of thin films deposited on the encapsulation glass of the solar device. Among them the most performing and the pi? reported in the literature? doped indium tin oxide (ITO). In some cases are also made pi systems? layers to increase the properties? of the material.
Tuttavia ? noto come l?ITO sia un materiale costoso, destinato a diventare sempre meno sostenibile. La scarsit? del suo contenente principale (l?indio) e il suo impiego massiccio in altre tecnologie, quali i display e certe tipologie di celle solari, lo rendono un materiale poco praticabile in tecnologie a larga scala. However ? known as the ITO is an expensive material, destined to become less and less sustainable. The scarcity? of its main content (indium) and its massive use in other technologies, such as displays and certain types of solar cells, make it an impractical material in large-scale technologies.
Un materiale meno costoso ? l'ossido di zinco drogato con alluminio, noto anche con l'acronimo inglese AZO. Esso permette di ottenere valori accettabili di riflettanza della radiazione infrarossa quando depositato con spessori di alcune centinaia di nanometri. Sarebbe desiderabile avere la possibilit? di realizzare dispositivi solari ricoperti da uno strato di AZO di spessore intorno ai 100 nm e con migliorate prestazioni in termini di riflettanza. A less expensive material? aluminum-doped zinc oxide, also known by its acronym AZO. It allows to obtain acceptable values of reflectance of infrared radiation when deposited with thicknesses of some hundreds of nanometers. Would it be desirable to have the possibility? to create solar devices covered by a layer of AZO with a thickness of around 100 nm and with improved performance in terms of reflectance.
SOMMARIO SUMMARY
Eccellenti risultati sono stati ottenuti in dispositivi di conversione dell'energia solare come definiti nell'allegata rivendicazione 1. In particolare, i limiti summenzionati sull'utilizzo dell'AZO come materiale riflettente con spessori intorno ai 100 nm sono superati quando si deposita lo strato superiore di AZO sopra uno strato intermedio di un primo materiale avente un primo spessore e definente una superficie superiore sostanzialmente cristallina, in cui lo strato intermedio ha un primo spessore tale da essere sostanzialmente trasparente alla luce visibile. Excellent results have been obtained in solar energy conversion devices as defined in the attached claim 1. In particular, the aforementioned limits on the use of AZO as a reflective material with thicknesses around 100 nm are exceeded when the upper layer is deposited of AZO over an intermediate layer of a first material having a first thickness and defining a substantially crystalline top surface, wherein the intermediate layer has a first thickness to be substantially transparent to visible light.
Lo strato intermedio pu? essere depositato ad esempio mediante una tecnica di Atomic Layer Deposition (ALD) su un substrato di vetro di incapsulamento del dispositivo di conversione dell'energia solare oppure, particolarmente per pannelli fotovoltaici, pu? essere depositato direttamente sopra uno strato attivo del dispositivo stesso. The middle layer can be deposited for example by means of an Atomic Layer Deposition (ALD) technique on a glass substrate for the encapsulation of the solar energy conversion device or, particularly for photovoltaic panels, it can be deposited directly over an active layer of the device itself.
Preferibilmente, lo strato intermedio ? di allumina, ad esempio con uno spessore da 5nm a 50nm, o con uno spessore da 10nm a 30nm, o preferibilmente con uno spessore di 20nm. Preferably, the intermediate layer ? of alumina, for example with a thickness of 5nm to 50nm, or with a thickness of 10nm to 30nm, or preferably with a thickness of 20nm.
Ulteriori forme di realizzazione sono definite nelle rivendicazioni dipendenti. Further embodiments are defined in the dependent claims.
BREVE DESCRIZIONE DEI DISEGNI BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
La figura 1 ? una vista in sezione di una struttura multistrato ?heat mirror? applicabile ad un dispositivo solare secondo questa divulgazione. Figure 1 ? a sectional view of a multilayered ?heat mirror? applicable to a solar device according to this disclosure.
La figura 2 ? una vista in sezione di una struttura multistrato secondo la presente divulgazione con uno strato di AZO superiore sopra uno strato intermedio deposto direttamente su uno strato attivo di un dispositivo di conversione di energia solare. La figura 3 ? un grafico comparativo dello spettro di riflettanza di una struttura multistrato composta da uno strato di AZO depositato tramite ALD su un substrato di vetro, o su uno strato intermedio di allumina da 10 nm e da 20 nm, con tempo di deposizione di 15 minuti. Figure 2 ? a sectional view of a multilayer structure according to the present disclosure with a top AZO layer over an intermediate layer deposited directly on an active layer of a solar energy conversion device. Figure 3 ? a comparative graph of the reflectance spectrum of a multilayer structure composed of an AZO layer deposited via ALD on a glass substrate, or on an intermediate layer of 10 nm and 20 nm alumina, with a deposition time of 15 minutes.
La figura 4 ? un grafico comparativo dello spettro di riflettanza di una struttura multistrato composta da uno strato di AZO depositato tramite ALD su un substrato di vetro, o su uno strato intermedio di allumina da 10 nm e da 20 nm, con tempo di deposizione di 30 minuti. Figure 4 ? a comparative graph of the reflectance spectrum of a multilayer structure composed of an AZO layer deposited via ALD on a glass substrate, or on an intermediate layer of 10 nm and 20 nm alumina, with a deposition time of 30 minutes.
La figura 5 ? un grafico comparativo dello spettro di riflettanza di una struttura multistrato composta da uno strato di AZO depositato tramite ALD su un substrato di vetro, o su uno strato intermedio di allumina da 10 nm e da 20 nm, con tempo di deposizione di 45 minuti. Figure 5 ? a comparative graph of the reflectance spectrum of a multilayer structure composed of an AZO layer deposited via ALD on a glass substrate, or on an intermediate layer of 10 nm and 20 nm alumina, with a deposition time of 45 minutes.
La figura 6 ? un grafico comparativo dello spettro di riflettanza di una struttura multistrato composta da uno strato di AZO depositato tramite magnetron sputtering su un substrato di vetro o su un substrato di silicio monocristallino con tempi di deposizione di 100, 150, 200, 250 secondi. Figure 6 ? a comparative graph of the reflectance spectrum of a multilayer structure composed of an AZO layer deposited by magnetron sputtering on a glass substrate or on a monocrystalline silicon substrate with deposition times of 100, 150, 200, 250 seconds.
DESCRIZIONE DI FORME DI REALIZZAZIONE ESEMPLIFICATIVE DESCRIPTION OF EXAMPLE EMBODIMENTS
Una struttura riflettente multistrato applicabile ad uno strato attivo di un dispositivo solare 1 ? illustrata schematicamente in figura 1. Essa ? sostanzialmente composta da uno strato intermedio 2, depositato in maniera conforme su un supporto 4, e da uno strato di ossido di zinco drogato con alluminio 3, pi? brevemente AZO. Lo strato intermedio 2 ? depositato in modo da definire una superficie piana cristallina S sulla quale viene depositato lo strato di ossido di zinco drogato con alluminio 3. A multilayer reflective structure applicable to an active layer of a solar device 1 ? schematically illustrated in figure 1. It ? substantially composed of an intermediate layer 2, deposited in a conformal manner on a support 4, and of a layer of zinc oxide doped with aluminum 3, more? briefly AZO. The middle layer 2 ? deposited so as to define a flat crystalline surface S on which the aluminum doped zinc oxide layer 3 is deposited.
Nella forma di realizzazione mostrata in figura 1, lo strato intermedio 2 ha un primo spessore ed ? ottenuto depositando del materiale sopra il supporto 4 in modo conforme per definire la superficie piana cristallina S sulla quale viene depositato lo strato di AZO 3. La struttura multistrato cos? ottenuta viene disposta al disopra dello strato attivo 1 e a distanza da esso, con lo strato di ossido di AZO 3 orientato verso strato attivo 1 e il supporto 4 rivolto verso una la radiazione solare diretta allo strato attivo 1. In the embodiment shown in figure 1, the intermediate layer 2 has a first thickness and ? obtained by depositing material on the support 4 in a conformal manner to define the flat crystalline surface S on which the AZO layer 3 is deposited. The multilayer structure thus? obtained is arranged above the active layer 1 and at a distance from it, with the AZO oxide layer 3 oriented towards the active layer 1 and the support 4 facing towards solar radiation directed at the active layer 1.
Il materiale cristallino usato per realizzare lo strato intermedio 2 ? scelto in modo tale che lo strato intermedio 2 avente il primo spessore sia sostanzialmente trasparente alla luce visibile. The crystalline material used to make the intermediate layer 2 ? selected in such a way that the intermediate layer 2 having the first thickness is substantially transparent to visible light.
Secondo la forma di realizzazione mostrata in figura 2, lo strato intermedio 2 ? depositato in modo conforme direttamente sopra uno strato attivo 1 del dispositivo di conversione di energia solare. Anche in questa forma di realizzazione, lo strato intermedio 2 definir? una superficie piana cristallina S. According to the embodiment shown in figure 2, the intermediate layer 2 is conformally deposited directly on top of an active layer 1 of the solar energy conversion device. Also in this embodiment, the intermediate layer 2 will define? a flat crystalline surface S.
In entrambe le forme di realizzazione esemplificate nelle figure 1 e 2, sopra tale superficie piana cristallina S ? depositato lo strato di AZO 3, che pu? essere depositato con una qualsiasi tecnica di deposito conforme, ad esempio con una tecnica di Atomic Layer Deposition (ALD) o di magnetron sputtering. Sorprendentemente, gli inventori hanno trovato che depositare uno strato di AZO su una superficie cristallina migliora le propriet? ottiche dello strato di AZO 3. In both embodiments exemplified in figures 1 and 2, above this flat crystalline surface S ? deposited the layer of AZO 3, which pu? be deposited with any compliant deposition technique, for example with an Atomic Layer Deposition (ALD) or magnetron sputtering technique. Surprisingly, the inventors have found that depositing an AZO layer on a crystalline surface improves the properties of the crystal. AZO layer optics 3.
Senza vincolarsi ad alcuna teoria, l'inatteso miglioramento delle propriet? dello strato di AZO 3 potrebbe essere dovuto al fatto che in questo modo lo strato di AZO ha una struttura pi? cristallina. Secondo le tecniche attuali, lo strato di AZO viene depositato direttamente su un substrato di vetro che, non presentando una superficie di deposizione cristallina, fa s? che lo strato di AZO abbia una struttura parzialmente amorfa, cosa che peggiora le sue propriet?. Without committing ourselves to any theory, the unexpected improvement of the properties? of the layer of AZO 3 could be due to the fact that in this way the layer of AZO has a structure more? crystalline. According to current techniques, the AZO layer is deposited directly on a glass substrate which, not having a crystalline deposition surface, makes s? that the AZO layer has a partially amorphous structure, which worsens its properties.
Se invece si deposita lo strato di AZO su una superficie piana cristallina, lo strato di AZO ha anch'esso una struttura cristallina e questo spiegherebbe le migliori caratteristiche che si ottengono con il dispositivo di questa divulgazione. In pratica, secondo questa teoria, la struttura dello strato di AZO dipende dalla natura cristallina o amorfa della superficie piana del supporto sul quale viene depositato. If instead the AZO layer is deposited on a flat crystalline surface, the AZO layer also has a crystalline structure and this would explain the better characteristics obtained with the device of this disclosure. In practice, according to this theory, the structure of the AZO layer depends on the crystalline or amorphous nature of the flat surface of the support on which it is deposited.
Secondo questa divulgazione, invece di depositare lo strato di AZO direttamente sul supporto, che pu? essere un substrato di vetro 4 di incapsulamento di un dispositivo solare oppure uno strato attivo 1 del dispositivo solare stesso, si deposita prima uno strato intermedio 2 sul supporto. Il materiale e lo spessore dello strato intermedio 2 sono scelti in modo che lo strato intermedio 2 sia trasparente alla luce visibile. Lo spessore minimo di tale strato intermedio sar? determinato in modo tale da essere sostanzialmente trasparente alla luce visibile e da formare una superficie piana cristallina S. Essendo depositato sopra un supporto (ad esempio un substrato di vetro 4 di incapsulamento oppure uno strato attivo 1 di un pannello fotovoltaico), la parte dello strato intermedio 2 a diretto contatto con il supporto in generale sar? policristallina, per cui esso deve avere uno spessore minimo sufficiente per formare una superficie piana S con migliore cristallinit? sulla quale depositare lo strato di AZO. According to this disclosure, instead of depositing the AZO layer directly onto the substrate, which can be an encapsulation glass substrate 4 of a solar device or an active layer 1 of the solar device itself, an intermediate layer 2 is first deposited on the support. The material and thickness of the intermediate layer 2 are selected so that the intermediate layer 2 is transparent to visible light. The minimum thickness of this intermediate layer sar? determined in such a way as to be substantially transparent to visible light and to form a flat crystalline surface S. Being deposited on a support (for example an encapsulation glass substrate 4 or an active layer 1 of a photovoltaic panel), the part of the layer intermediate 2 in direct contact with the support in general sar? polycrystalline, so it must have a minimum thickness sufficient to form a flat surface S with better crystallinity? on which to deposit the AZO layer.
Lo spessore minimo dello strato intermedio 2 dipender? dal materiale utilizzato e corrisponder? allo spessore del pi? sottile strato di tale materiale che presenta una superficie piana S cristallina anche se depositato su un substrato di vetro 4. Inoltre, lo strato intermedio 2 deve essere praticamente trasparente alla luce visibile, per cui il suo spessore massimo dipender? anch'esso dal materiale utilizzato e sar? determinato in modo da non attenuare in maniera sostanziale la luce visibile incidente. The minimum thickness of the intermediate layer 2 will depend? from the material used and correspond? to the thickness of the pi? thin layer of this material which has a flat crystalline surface S even if deposited on a glass substrate 4. Furthermore, the intermediate layer 2 must be practically transparent to visible light, so that its maximum thickness will depend on the also from the material used and sar? determined so as not to substantially attenuate the incident visible light.
Test effettuati dagli inventori su diversi materiali hanno mostrato che l'allumina ? un materiale idoneo per realizzare lo strato intermedio 2 perch? gi? uno strato di allumina di soli 10 nm depositato su un substrato di vetro 4 presenta una superficie piana S cristallina. Inoltre, uno strato di allumina cos? sottile ? praticamente trasparente alla luce visibile, per cui esso non riduce le caratteristiche del dispositivo solare. Tests carried out by the inventors on various materials have shown that alumina is a suitable material to make the intermediate layer 2 why? already a layer of alumina of only 10 nm deposited on a glass substrate 4 has a flat crystalline surface S. Furthermore, an alumina layer like this? subtle ? practically transparent to visible light, so it does not reduce the characteristics of the solar device.
Preferibilmente, si realizzer? uno strato intermedio 2 di allumina dello spessore di 20 nm, in modo da migliorarne ulteriormente la cristallinit? e di conseguenza essere certi che lo strato di AZO 3 che viene depositato sulla superficie piana S abbia le migliori propriet? di riflettanza. Preferably, will it be realized? an intermediate layer 2 of alumina with a thickness of 20 nm, so as to further improve its crystallinity? and consequently be certain that the layer of AZO 3 which is deposited on the flat surface S has the best properties? of reflectance.
Le figure da 3 a 5 sono grafici di test di misura della riflettanza di strutture multistrato secondo la presente divulgazione composte da un substrato di vetro 4, da uno strato di allumina di 10nm o di 20nm di spessore depositato a mezzo di ALD sul substrato di vetro 4, e da uno strato di AZO 3 depositato sempre per ALD sulla superficie piana S dello strato di allumina con tempi di deposizione di 15, 30 e 45 minuti. Le propriet? di queste strutture multistrato sono state comparate con una struttura classica formata da strati di AZO depositati con gli stessi spessori direttamente a contatto sopra un substrato di vetro. Si nota immediatamente che la riflettanza R% nell'infrarosso aumenta notevolmente a parit? di spessore dello strato di AZO, quando esso non ? depositato direttamente sul substrato di vetro ma ? depositato sul substrato di allumina. Dai grafici di figura 2 emerge chiaramente che uno strato di AZO depositato direttamente su un substrato di vetro con 15 nm di deposizione ha riflettanza R% inaccettabile perch? inferiore al 50%, mentre lo stesso strato di AZO 3 ha una riflettanza R% praticamente doppia quando depositato su uno strato intermedio 2 di allumina da 10nm e una riflettanza R% superiore allo 80% quando depositato su uno strato intermedio 2 di allumina da 20nm. Valori di riflettanza R% migliori si ottengono con uno strato di AZO 3 pi? spesso depositato sullo strato intermedio 2 di allumina, anche se le differenze sono meno marcate rispetto al caso in cui lo strato di AZO ? direttamente depositato sopra il substrato di vetro (figure 4 e 5). Figures 3 to 5 are test graphs for measuring the reflectance of multilayer structures according to the present disclosure composed of a glass substrate 4, a 10nm or 20nm thick alumina layer deposited by means of ALD on the glass substrate 4, and by a layer of AZO 3 deposited again by ALD on the flat surface S of the alumina layer with deposition times of 15, 30 and 45 minutes. The properties? of these multilayer structures have been compared with a classical structure formed by AZO layers deposited with the same thicknesses directly in contact on a glass substrate. It is immediately noted that the infrared reflectance R% increases considerably for the same? thickness of the AZO layer, when it is not? deposited directly on the glass substrate but ? deposited on the alumina substrate. From the graphs of figure 2 it clearly emerges that an AZO layer deposited directly on a glass substrate with a 15 nm deposition has an unacceptable R% reflectance because? less than 50%, while the same layer of AZO 3 has a practically double reflectance R% when deposited on an intermediate layer 2 of 10nm alumina and a reflectance R% greater than 80% when deposited on an intermediate layer 2 of 20nm alumina . Better R% reflectance values are obtained with a layer of AZO 3 pi? often deposited on the intermediate layer 2 of alumina, even if the differences are less marked than in the case in which the layer of AZO ? directly deposited on top of the glass substrate (figures 4 and 5).
Per avvalorare la teoria secondo la quale le caratteristiche della superficie piana di materiale amorfo o cristallino sulla quale viene depositato lo strato di AZO influenzano le propriet? di riflettanza R% dello stesso, sono stati effettuati test su strutture multistrato in cui uno strato di AZO ? stato depositato su una superficie di silicio monocristallino o di vetro, a mezzo di tecnica magnetron sputtering e con tempi di deposizione di 100, 150, 200 e 250 secondi. Dai relativi grafici rappresentati in figura 6 emerge chiaramente che gli strati di AZO depositati su silicio presentano migliori propriet? di riflettanza della radiazione con lunghezza d'onda da 2500 nm in su rispetto a quelli depositati direttamente sul substrato. To validate the theory according to which the characteristics of the flat surface of amorphous or crystalline material on which the AZO layer is deposited influence the properties? of reflectance R% of the same, tests have been carried out on multilayer structures in which a layer of AZO ? was deposited on a monocrystalline silicon or glass surface, by means of a magnetron sputtering technique and with deposition times of 100, 150, 200 and 250 seconds. From the relative graphs represented in figure 6 it clearly emerges that the layers of AZO deposited on silicon have better properties? of reflectance of the radiation with a wavelength from 2500 nm upwards compared to those deposited directly on the substrate.
Raffrontando i grafici delle figure da 3 a 6 si pu? concludere che a parit? di spessore dello strato di AZO le peggiori prestazioni si ottengono quando esso ? depositato direttamente su un substrato di vetro che non quando ? depositato su una superficie piana cristallina. Di conseguenza si ritiene che possano essere utilizzati altri materiali, diversi dall'allumina, per costituire lo strato intermedio 2 sul quale depositare lo strato di AZO 3, purch? essi siano idonei a formare una superficie piana S cristallina quando depositati su un substrato di vetro 4. Dato che sar? necessario depositare uno strato intermedio 2 avente almeno uno spessore tale che si formi una superficie piana S con tali caratteristiche, il materiale sar? scelto in modo che uno strato intermedio 2 di tale spessore non risulti opaco alla luce visibile. By comparing the graphs of figures from 3 to 6, can one? conclude that on equal terms? thickness of the layer of AZO the worst performances are obtained when it? deposited directly on a glass substrate that does not when ? deposited on a flat crystalline surface. Consequently, it is believed that other materials, different from alumina, can be used to form the intermediate layer 2 on which the AZO layer 3 is deposited, provided that the AZO layer 3 is deposited. they are suitable to form a flat crystalline surface S when deposited on a glass substrate 4. Since it will be? necessary to deposit an intermediate layer 2 having at least a thickness such as to form a flat surface S with these characteristics, the material will be? chosen so that an intermediate layer 2 of this thickness is not opaque to visible light.
Secondo un aspetto, detto strato superiore di ossido di zinco drogato con alluminio 3 ha uno spessore compreso tra 100nm e 400nm, preferibilmente 200nm. Test effettuati dalla Richiedente hanno mostrato che con tali spessori, anche se attualmente essi vengono considerati troppo piccoli per ottenere risultati accettabili, lo strato di AZO 3 depositato sopra la superficie piana S ha le desiderate caratteristiche di cristallinit?. According to one aspect, said upper layer of aluminum-doped zinc oxide 3 has a thickness of between 100nm and 400nm, preferably 200nm. Tests carried out by the Applicant have shown that with such thicknesses, even if they are currently considered too small to obtain acceptable results, the layer of AZO 3 deposited on the flat surface S has the desired crystallinity characteristics.
La struttura multistrato cos? realizzata pu? essere usata per incapsulare un dispositivo solare (pannello fotovoltaico o collettore di calore), come ad esempio mostrato in figura 1. Essa risulta particolarmente adatta per dispositivi destinati a lavorare a temperature relativamente alte, come i collettori di calore a concentrazione. The multilayer structure so? made can? be used to encapsulate a solar device (photovoltaic panel or heat collector), as for example shown in figure 1. It is particularly suitable for devices designed to work at relatively high temperatures, such as concentrating heat collectors.
Per i pannelli fotovoltaici, che lavorano a temperature relativamente basse, si pu? eventualmente depositare lo strato intermedio 2, preferibilmente di allumina, direttamente sullo strato attivo 1 del dispositivo evitando il substrato vetro 4, come ad esempio mostrato in figura 2. For photovoltaic panels, which work at relatively low temperatures, is it possible? optionally deposit the intermediate layer 2, preferably of alumina, directly on the active layer 1 of the device avoiding the glass substrate 4, as for example shown in figure 2.
Sullo strato di AZO 3 possono essere depositati uno o pi? strati antiriflettenti, come ad esempio uno o pi? strati di fluoruro di magnesio e/o uno o pi? strati di allumina. On the layer of AZO 3 can be deposited one or more? anti-reflective layers, such as one or more? layers of magnesium fluoride and/or one or more? layers of alumina.
La presente invenzione ? stata finora descritta con riferimento a forme di realizzazione preferite. ? inteso che potrebbero esserci altre forme di realizzazione che si riferiscono allo stesso concetto inventivo definito dall'ambito delle seguenti rivendicazioni. The present invention ? heretofore described with reference to preferred embodiments. ? understood that there could be other embodiments referring to the same inventive concept defined by the scope of the following claims.
Claims (7)
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Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2011127318A2 (en) * | 2010-04-07 | 2011-10-13 | Applied Materials, Inc. | Use of al barrier layer to produce high haze zno films on glass substrates |
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