IT1257635B - Impianto per l'ossidazione termica di dischetti di silicio - Google Patents

Impianto per l'ossidazione termica di dischetti di silicio

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IT1257635B
IT1257635B ITBO920027A ITBO920027A IT1257635B IT 1257635 B IT1257635 B IT 1257635B IT BO920027 A ITBO920027 A IT BO920027A IT BO920027 A ITBO920027 A IT BO920027A IT 1257635 B IT1257635 B IT 1257635B
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Leonello Dori
Paolo Negrini
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Consiglio Nazionale Ricerche
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L'impianto (1) comprende:un forno (3) presentante un primo tubo (4) lungo il quale fluisce gas inerte e tricloroetano ed un secondo tubo (6) interno al primo tubo e lungo il quale fluisce ossigeno per l'ossidazione di dischetti di silicio (2);un organo riscaldante (7) installato all'esterno del primo tubo;un terzo tubo (51) nel quale si realizza la decomposizione termica degli idrocarburi presenti nell'ossigeno e che è installato all'interno del primo tubo fra una parete laterale (8) di questo ed una parete laterale (25) del secondo tubo; ed un criostato (57) che realizza l'adsorbimento dell'acqua formatasi con la decomposizione degli idrocarburi.
ITBO920027A 1992-01-24 1992-01-24 Impianto per l'ossidazione termica di dischetti di silicio IT1257635B (it)

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