IL194400A - מקור אוניברסלי משולב של זרם הפלזמה המסוננת ואטומים נייטרליים - Google Patents

מקור אוניברסלי משולב של זרם הפלזמה המסוננת ואטומים נייטרליים

Info

Publication number
IL194400A
IL194400A IL194400A IL19440008A IL194400A IL 194400 A IL194400 A IL 194400A IL 194400 A IL194400 A IL 194400A IL 19440008 A IL19440008 A IL 19440008A IL 194400 A IL194400 A IL 194400A
Authority
IL
Israel
Prior art keywords
magnetron
target
source
cathode
magnetic field
Prior art date
Application number
IL194400A
Other languages
English (en)
Inventor
Yafim Bender
Original Assignee
Yafim Bender
Lumiks P T I Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yafim Bender, Lumiks P T I Ltd filed Critical Yafim Bender
Priority to IL194400A priority Critical patent/IL194400A/he
Publication of IL194400A publication Critical patent/IL194400A/he

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
IL194400A 2008-09-28 2008-09-28 מקור אוניברסלי משולב של זרם הפלזמה המסוננת ואטומים נייטרליים IL194400A (he)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IL194400A IL194400A (he) 2008-09-28 2008-09-28 מקור אוניברסלי משולב של זרם הפלזמה המסוננת ואטומים נייטרליים

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IL194400A IL194400A (he) 2008-09-28 2008-09-28 מקור אוניברסלי משולב של זרם הפלזמה המסוננת ואטומים נייטרליים

Publications (1)

Publication Number Publication Date
IL194400A true IL194400A (he) 2013-12-31

Family

ID=49784155

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
IL194400A IL194400A (he) 2008-09-28 2008-09-28 מקור אוניברסלי משולב של זרם הפלזמה המסוננת ואטומים נייטרליים

Country Status (1)

Country Link
IL (1) IL194400A (he)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10056237B2 (en) Low pressure arc plasma immersion coating vapor deposition and ion treatment
US20160326635A1 (en) Remote Arc Discharge Plasma Assisted Processes
EP2778254B1 (en) Low pressure arc plasma immersion coating vapor deposition and ion treatment
US7381311B2 (en) Filtered cathodic-arc plasma source
CA2867451C (en) Low pressure arc plasma immersion coating vapor deposition and ion treatment
EP3091560A1 (en) Remote arc discharge plasma assisted system
JPH01272765A (ja) スパッタ被覆装置およびその被覆方法
EP3644343B1 (en) A coating system for high volume pe-cvd processing
TW201444421A (zh) 電漿增強化學氣相沉積源
Aksenov et al. Transformation of axial vacuum-arc plasma flows into radial streams and their use in coating deposition
US6756596B2 (en) Filtered ion source
KR102533881B1 (ko) 단일 빔 플라즈마 소스
Brown Vacuum arc metal plasma production and the transition of processing mode from metal ion beam to dc metal plasma immersion
IL194400A (he) מקור אוניברסלי משולב של זרם הפלזמה המסוננת ואטומים נייטרליים
CN112359330A (zh) 带有扫描线圈的离子镀膜装置
RU2173911C2 (ru) Получение электродуговой плазмы в криволинейном плазмоводе и нанесение покрытия на подложку
EP3644342B1 (en) A coating system
Gulbiński Deposition of thin films by sputtering
RU2463382C2 (ru) Способ и устройство для получения многослойно-композиционных наноструктурированных покрытий и материалов
Bugaev et al. Studies and application of intense low-energy electron and ion beams
Bilek et al. Deposition of Nanoscale Multilayered Structures Using Filtered Cathodic Vacuum Arc Plasma Beams
IL194399A (he) מקור מוארך של פלזמת לייזר מסוננת/פלזמת לייזר קשתית עבור ביצוע הציפוי

Legal Events

Date Code Title Description
FF Patent granted
KB20 Patent renewed for 20 years