GR1010497B - Μεθοδος και μεταλλα κατασκευης ανοδου ηλεκτροδιου υψηλης εντασης συνεχους ηλεκτρικου ρευματος - Google Patents

Μεθοδος και μεταλλα κατασκευης ανοδου ηλεκτροδιου υψηλης εντασης συνεχους ηλεκτρικου ρευματος Download PDF

Info

Publication number
GR1010497B
GR1010497B GR20220100250A GR20220100250A GR1010497B GR 1010497 B GR1010497 B GR 1010497B GR 20220100250 A GR20220100250 A GR 20220100250A GR 20220100250 A GR20220100250 A GR 20220100250A GR 1010497 B GR1010497 B GR 1010497B
Authority
GR
Greece
Prior art keywords
platinum
titanium
direct current
iridium alloy
metals
Prior art date
Application number
GR20220100250A
Other languages
English (en)
Inventor
Ανδρονικη Γερασιμου Βεστακη
Original Assignee
Ανδρονικη Γερασιμου Βεστακη
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ανδρονικη Γερασιμου Βεστακη filed Critical Ανδρονικη Γερασιμου Βεστακη
Priority to GR20220100250A priority Critical patent/GR1010497B/el
Priority to PCT/GR2023/000008 priority patent/WO2023180779A1/en
Publication of GR1010497B publication Critical patent/GR1010497B/el

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K20/00—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
    • B23K20/02—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating by means of a press ; Diffusion bonding
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
    • C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
    • C02F1/46109—Electrodes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K11/00—Resistance welding; Severing by resistance heating
    • B23K11/06—Resistance welding; Severing by resistance heating using roller electrodes
    • B23K11/061—Resistance welding; Severing by resistance heating using roller electrodes for welding rectilinear seams
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/24—Selection of soldering or welding materials proper
    • B23K35/32—Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at more than 1550 degrees C
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/24—Selection of soldering or welding materials proper
    • B23K35/32—Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at more than 1550 degrees C
    • B23K35/322—Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at more than 1550 degrees C a Pt-group metal as principal constituent
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
    • C02F1/467—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C5/00—Alloys based on noble metals
    • C22C5/04—Alloys based on a platinum group metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
    • C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
    • C25B11/055—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material
    • C25B11/057—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material consisting of a single element or compound
    • C25B11/061—Metal or alloy
    • C25B11/063—Valve metal, e.g. titanium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
    • C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
    • C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
    • C25B11/075—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of a single catalytic element or catalytic compound
    • C25B11/081—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of a single catalytic element or catalytic compound the element being a noble metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
    • C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
    • C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
    • C25B11/075—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of a single catalytic element or catalytic compound
    • C25B11/089—Alloys
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2101/00—Articles made by soldering, welding or cutting
    • B23K2101/36—Electric or electronic devices
    • B23K2101/38—Conductors
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2103/00—Materials to be soldered, welded or cut
    • B23K2103/08—Non-ferrous metals or alloys
    • B23K2103/14—Titanium or alloys thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
    • C02F1/467—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction
    • C02F1/4672—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction by electrooxydation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
    • C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
    • C02F1/46109—Electrodes
    • C02F2001/46133—Electrodes characterised by the material
    • C02F2001/46138—Electrodes comprising a substrate and a coating
    • C02F2001/46142—Catalytic coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
    • C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
    • C02F1/46109—Electrodes
    • C02F2001/46152—Electrodes characterised by the shape or form
    • C02F2001/46171—Cylindrical or tubular shaped
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
    • C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
    • C25B11/052—Electrodes comprising one or more electrocatalytic coatings on a substrate

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
  • Resistance Welding (AREA)

Abstract

Η εφεύρεση "Μέθοδος και μέταλλα κατασκευής ανόδου ηλεκτροδίου υψηλής έντασης συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος" είναι η ηλεκτροσυγκόλληση κράματος Πλατίνας / Ιριδίου σε υπόστρωμα Τιτανίου, η οποία πραγματοποιείται με: α) προκαθορισμένη σύσταση και πάχος του κράματος Πλατίνας / Ιριδίου, β) με προθέρμανση του υποστρώματος Τιτανίου, γ) με συγκεκριμένο εύρος θερμοκρασίας της τοπικής επαφής του ακροδέκτη που πραγματοποιεί την ηλεκτροσυγκόλληση, δ) με συγκεκριμένο εύρος της κάθετης πίεσης του ακροδέκτη στα προς ηλεκτροσυγκόλληση μέταλλα και ε) με συγκεκριμένο εύρος ταχύτητας της ηλεκτροσυγκόλλησης.

Description

ΜΕΘΟΔΟΣ ΚΑΙ ΜΕΤΑΛΛΑ ΚΑΤΑΣΚΕΥΗΣ ΑΝΟΔΟΥ ΗΛΕΚΤΡΟΔΙΟΥ ΥΨΗΛΗΣ ΕΝΤΑΣΗΣ ΣΥΝΕΧΟΥΣ ΗΛΕΚΤΡΙΚΟΥ ΡΕΥΜΑΤΟΣ
ΤΕΧΝΙΚΟ ΠΕΔΙΟ
Η εφεύρεση, “Μέθοδος και μέταλλα κατασκευής ανόδου ηλεκτροδίου υψηλής έντασης συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος”, αναφέρεται στον τρόπο κατασκευής ανόδου ηλεκτροδίου μεγάλης αντοχής σε υψηλή ένταση συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος ανά cm<2>επιφάνειας ανόδου, για την ηλεκτρόλυση νερού που περιέχει οργανικά και ηλεκτρολύτες. Συγκεκριμένα, η εφεύρεση είναι η βέλτιστη ενσωμάτωση μέσω ηλεκτροσυγκόλλησης, κράματος Πλατίνας / Ιριδίου συγκεκριμένης αναλογίας σε Πλατίνα και Ιρίδιο και συγκεκριμένου πάχους, σε ράβδο Τιτανίου υψηλής καθαρότητας, με προκαθορισμένες συνθήκες: α) θερμοκρασίας που προκαλείται με ηλεκτρική ενέργεια, β) καθέτου πίεσης από μηχανισμό που έρχεται σε επαφή με το σύμπλεγμα κράματος Πλατίνας / Ιριδίου και Τιτανίου και καταλήγει σε κυλινδρικής μορφής περιστρεφόμενο ακροδέκτη από Βολφράμιο και γ) ταχύτητας ηλεκτροσυγκόλλησης των ως άνω μετάλλων.
ΣΤΑΘΜΗ ΠΡΟΗΓΟΥΜΕΝΗΣ ΤΕΧΝΙΚΗΣ ΚΑΙ ΑΞΙΟΛΟΓΗΣΗ ΑΥΤΗΣ
Η άνοδος ηλεκτροδίων που παρασκευάζεται μέχρι στιγμής με ηλεκτροσυγκόλληση, όπως αναφέρεται στο Δ.Ε 1004008 και ΕΡ 1711436, έχει μεν ικανοποιητικά αποτελέσματα, αλλά παρουσιάζει προβλήματα διάβρωσης που οφείλονται στην μη ομοιόμορφη επένδυση του Τιτανίου, λόγω: α) της τοπικής και μόνον αναπτυσσόμενης θερμοκρασίας μεταξύ του Τιτανίου, του Τανταλίου και των κραμάτων των μετάλλων που περιλαμβάνονται στο προαναφερόμενο Δ.Ε 1004008 και ΕΡ 1711436 όπως: Πλατίνα, Ιρίδιο, Ρουθένιο, Ρόδιο και Παλλάδιο, β) της χαμηλής αναπτυσσόμενης τοπικής θερμοκρασίας, γ) της πίεσης που είναι αναγκαία για την πλήρη ενσωμάτωση της επένδυσης δ) της ταχύτητας επένδυσης και ε) της συστάσεως των κραμάτων που έχουν χρησιμοποιηθεί, με αποτέλεσμα την μη ομοιόμορφη ροή του θετικού συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος από την επιφάνεια της ανόδου κατά την ηλεκτρολυτική λειτουργία αυτής, επιφέροντας υπέρμετρη καταπόνηση ορισμένων σημείων της ανόδου, με αποτέλεσμα την απώλεια του προστατευτικού στρώματος ευγενών μετάλλων και την πρόωρη καταστροφή αυτής. Επίσης, λόγω της μηχανικής καταπόνησης στην επιφάνεια της ανόδου από την συνεχή ροή νερού που περιέχει μικροσωματίδια, επέρχεται η απώλεια του προστατευτικού στρώματος ευγενών μετάλλων που επιφέρει την πρόωρη καταστροφή αυτής.
ΠΛΕΟΝΕΚΤΗΜΑΤΑ ΤΗΣ ΕΦΕΥΡΕΣΗΣ
Η άνοδος που κατασκευάζεται με την συγκεκριμένη εφεύρεση, “Μέθοδος και μέταλλα κατασκευής ανόδου ηλεκτροδίου υψηλής έντασης συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος”, έχει ομοιόμορφη συγκόλληση στο σύνολο του υποστρώματος Τιτανίου, από το κατά το δοκούν κράμα Πλατίνας / Ιριδίου στο οποίο κράμα, το Ιρίδιο, ως το σκληρότερο γνωστό φυσικό μέταλλο, προσδίδει στην Πλατίνα εξαιρετικές μηχανικές αντιστάσεις στην ροη του νερού που περιέχει μικροσωματίδια. Ως συνέπεια των ανωτέρω, η άνοδος έχει βέλτιστα αποτελέσματα ως προς την ηλεκτρολυτική διάσπαση νερού που περιέχει οργανικά και ηλεκτρολύτες, δεχόμενη υψηλή ένταση συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος ανά cm<2>επιφάνειας ανόδου, που είναι αναγκαία συνθήκη για την παραγωγή έντονων Οξειδωτικών.
ΠΕΡΙΓΡΑΦΗ
Η εφεύρεση, “Μέθοδος και μέταλλα κατασκευής ανόδου ηλεκτροδίου υψηλής έντασης συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος”, πραγματοποιείται ως εξής: Σε κυρίως υπόστρωμα από ράβδο Τιτανίου που έχει σημείο τήξης τους 1.668 βαθμούς Κελσίου, γίνεται αμμοβολή και εν συνεχεία γίνεται καθαρισμός από τα οξείδια μέσω εμβάπτισης αυτού σε Κιτρικό οξύ συγκέντρωσης 25% επί 3 λεπτά της ώρας. Κατόπιν η ράβδος, ξεπλένεται με απιονισμένο νερό και στεγνώνει μέσω θερμού ρεύματος αέρα. Το σύμπλεγμα της ράβδου Τιτανίου με το Κράμα Πλατίνας / Ιριδίου, που το σημείο τήξης για την μεν Πλατίνα είναι στους 1.768 βαθμούς Κελσίου και για το δε Ιρίδιο στους 2.446 βαθμούς Κελσίου, τοποθετείται σε ειδικής κατασκευής μηχάνημα το οποίο αποτελείται από σταθερό πάγκο έδρασης και κάθετο κινητό βραχίονα ακρίβειας, ο οποίος στην άκρη του, φέρει κατασκευή που καταλήγει σε κυλινδρικής μορφής περιστρεφόμενο ακροδέκτη από Βολφράμιο, του οποίου το σημείο τήξης είναι στους 3.422 βαθμούς Κελσίου, όργανα έλεγχου θερμοκρασίας, πίεσης και δυο συσκευές μετατροπής εναλλασσόμενου ηλεκτρικού ρεύματος σε συνεχές [AC/DC] συνδεδεμένες με PLC. Ο βραχίονας έχει την δυνατότητα οριζόντιας και καθέτου κίνησης με ρυθμιζόμενη κάθετη πίεση μέσω υδραυλικών συστημάτων και μέτρησης της θερμοκρασίας μέσω οργάνου επί του ακροδέκτη Βολφραμίου. Στα δύο άκρα της ράβδου Τιτάνιου, υπάρχει σπείρωμα το οποίο έχει διάμετρο εν σχέση με την διάμετρο του Τιτανίου 5/8 και στο οποίο βιδώνονται ράβδοι Βολφραμίου για την διέλευση του συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος και δημιουργία της ηλεκτρικής αντίστασης που προθερμαίνει και κατόπιν διατηρεί την θερμοκρασία στην ράβδο Τιτανίου μεταξύ των 950 βαθμών Κελσίου και 1.050 βαθμών Κελσίου μέσω του PLC που λαμβάνει ενδείξεις από μετρητή θερμοκρασίας στην ράβδο Τιτανίου και ελέγχει την ροη του συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος. Επίσης, το PLC μέσω ενδείξεων από πιεσόμετρο, εφαρμόζει κάθετη πίεση επί των υλικών προς συγκόλληση μεταξύ των 10kg/cm<2>έως 11 kg/cm<2>και κινεί τον βραχίονα με ρυθμιζόμενη ταχύτητα από ενός cm ανά 6 sec, έως, ενός cm ανά 9 sec, εφαρμόζοντας συνεχές ηλεκτρικό ρεύμα DC στο σημείο επαφής του συμπλέγματος, κράμα Πλατίνας / Ιριδίου με το Τιτάνιο που είναι προς συγκόλληση. Το σημείο επαφής του Βολφραμίου, εν σχέση με την περιφέρεια του συμπλέγματος Τιτάνιου και του κράματος Πλατίνας / Ιριδίου είναι, από: 1 προς 50, έως, 1 προς 500. Ο μετρητής θερμοκρασίας επί του ακροδέκτη Βολφραμίου στο σημείο επαφής με το κράμα Πλατίνας / Ιριδίου είναι συνδεδεμένος με το PLC, το οποίο ελέγχει την ροη του συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος και διατηρεί την θερμοκρασία ηλεκτροσυγκόλλησης μεταξύ των 1.600 βαθμών Κελσίου, έως 1.660 βαθμών Κελσίου. Με το τέλος της προκαθορισμένης διαδρομής του βραχίονα, το PLC ανεβάζει τον βραχίονα και μέσω αυτόματου μηχανικού διαιρέτη ακρίβειας στο μηχάνημα έδρασης, το σύμπλεγμα ράβδου Τιτανίου με το Κράμα Πλατίνας / Ιριδίου περιστρέφεται κατά το δοκούν με διαιρέτη και επαναλαμβάνεται η διαδικασία επένδυσης της ράβδου Τιτανίου με το κράμα Πλατίνας / Ιριδίου.
ΠΑΡΑΔΕΙΓΜΑ (Σχήμα 1)
Η εφεύρεση, “Μέθοδος και μέταλλα κατασκευής ανόδου ηλεκτροδίου υψηλής έντασης συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος” πραγματοποιείται ως εξής: Σε ράβδο Τιτανίου Grade 2, μήκους 30cm και διαμέτρου 2,54cm (α), γίνεται αμμοβολή και χημικός καθαρισμός με οξύ και τοποθετείται στην συσκευή ηλεκτροσυγκολλήσεως (β) σφιχτά τυλιγμένη με φύλλο κράματος Πλατίνας 95% και Ιριδίου 5% πάχους 600 μικρών. Από την πρώτη πηγή συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος [DC] (γ) διοχετεύεται ελεγχόμενα μέσω μετρητή θερμοκρασίας (δ) από το PLC, συνεχές ηλεκτρικό ρεύμα στην ράβδο Τιτανίου και αυτή θερμαίνεται στους 1.000 βαθμούς Κελσίου. Παράλληλα, μέσω του κινούμενου βραχίονα ηλεκτροσυγκολλήσεως (ε), που καταλήγει σε κυλινδρικό περιστρεφόμενο ακροδέκτη, ασκείται κάθετη πίεση στο σύμπλεγμα Τιτανίου και κράματος Πλατίνας / Ιριδίου 10,5 kg/cm<2>, η οποία κάθετη πίεση ελέγχεται από το PLC μέσω πιεσόμετρου (στ), ο δε βραχίονας κινείται ελεγχόμενα από το PLC με ταχύτητα 1cm / 7,5sec και εφαρμόζει ελεγχόμενα από το PLC μέσω μετρητή θερμοκρασίας (ζ), συνεχές ηλεκτρικό ρεύμα από την δεύτερη πηγή ηλεκτρικού ρεύματος [DC] (η), που δημιουργεί τοπική θερμοκρασία 1.640 βαθμούς Κελσίου και πραγματοποιείται η ομοιόμορφη ηλεκτροσυγκόλληση / ενσωμάτωση του κράματος Πλατίνας / Ιριδίου στην ράβδο Τιτανίου λόγω του ότι: Το Τιτάνιο έχει χαμηλότερο σημείο τήξης, και συγκεκριμένα 1.668 βαθμούς Κελσίου, έναντι 1.768 βαθμούς Κελσίου της Πλατίνας και 2.446 βαθμούς Κελσίου του Ιριδίου. Η συσκευή ηλεκτροσυγκόλλησης φέρει διαιρέτη (θ), ο οποίος περιστρέφει την ράβδο για την συνέχιση της ηλεκτροσυγκόλλησης. Η όλη διαδικασία, ελέγχεται από το PLC (ι)

Claims (9)

  1. ΑΞΙΩΣΕΙΣ
    1 . Μέθοδος και μέταλλα κατασκευής ανόδου ηλεκτροδίου υψηλής έντασης συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος, με ηλεκτροσυγκόλληση κράματος Πλατίνας / Ιριδίου σε υπόστρωμα Τιτανίου, το οποίο υπόστρωμα Τιτάνιου προθερμαίνεται και με επιπλέον ανάπτυξη τοπικής θερμοκρασίας στο σημείο επαφής του κυλιόμενου ακροδέκτη Βολφραμίου που ασκεί κάθετη πίεση ενώ κινείται κατά μήκος των υπό ηλεκτροσυγκόλληση μετάλλων πραγματοποιείται η ηλεκτροσυγκόλληση του κράματος Πλατίνας / Ιριδίου στο υπόστρωμα Τιτανίου,
  2. 2. Μέθοδος και μέταλλα κατασκευής ανόδου ηλεκτροδίου υψηλής έντασης συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος κατά την αξίωση 1, κατά την οποία, το κράμα Πλατίνας Ιριδίου έχει περιεκτικότητα από: 98% Πλατίνα και 2% Ιρίδιο, έως, 90% Πλατίνα και 10% Ιρίδιο.
  3. 3. Μέθοδος και μέταλλα κατασκευής ανόδου ηλεκτροδίου υψηλής έντασης συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος κατά την αξίωση 1, κατά την οποία, το κράμα Πλατίνας / Ιριδίου που ηλεκτροσυγκολλήται με το στρώμα Τιτανίου, έχει πάχος από 32 μικρά έως 700 μικρά.
  4. 4. Μέθοδος και μέταλλα κατασκευής ανόδου ηλεκτροδίου υψηλής έντασης συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος κατά την αξίωση 1, κατά την οποία, το υπόστρωμα Τιτανίου για την ηλεκτροσυγκόλληση με το κράμα Πλατίνας / Ιριδίου, προθερμαίνεται μέσω συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος που εφαρμόζεται σε αυτό σε θερμοκρασία μεταξύ των: 950 βαθμών Κελσίου, έως 1.050 βαθμών Κελσίου και η θερμοκρασία διατηρείται έως το τέλος ηλεκτροσυγκόλλησης.
  5. 5. Μέθοδος και μέταλλα κατασκευής ανόδου ηλεκτροδίου υψηλής έντασης συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος κατά την αξίωση 1, κατά την οποία, στο σημείο που εφαρμόζεται η κάθετη πίεση επί κράματος Πλατίνας / Ιριδίου που επενδύει το Τιτάνιο, η θερμοκρασία που αναπτύσσεται είναι μεταξύ των 1.600 βαθμών Κελσίου, έως 1 .660 βαθμών Κελσίου.
  6. 6. Μέθοδος και μέταλλα κατασκευής ανόδου ηλεκτροδίου υψηλής έντασης συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος κατά την αξίωση 1, κατά την οποία, η κάθετη πίεση που εφαρμόζεται στο σημείο επαφής επί του κράματος Πλατίνας / Ιριδίου που επενδύει το υπόστρωμα Τιτανίου, είναι μεταξύ των: 10kg/cm<2>, έως 11 kg/cm<2>.
  7. 7. Μέθοδος και μέταλλα κατασκευής ανόδου ηλεκτροδίου υψηλής έντασης συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος κατά την αξίωση 1, κατά την οποία, ο κυλινδρικός περιστρεφόμενος ακροδέκτης Βολφραμίου που εφάπτεται με το κράμα Πλατίνας / Ιριδίου που επενδύει το Τιτάνιο έχει πλάτος επιφάνειας επαφής, εν σχέση με την περιφέρεια του υποστρώματος Τιτανίου από: 1 προς 50 έως 1 προς 500.
  8. 8. Μέθοδος και μέταλλα κατασκευής ανόδου ηλεκτροδίου υψηλής έντασης συνεχούς ηλεκτρικού ρεύματος κατά την αξίωση 1, κατά την οποία, η ταχύτητα ηλεκτροσυγκόλλησης του κράματος Πλατίνας / Ιριδίου με το Τιτάνιο είναι: από 6 sec έως 9 sec ανά τρέχον cm επιφάνειας προς επένδυση.
  9. 9. Μέθοδος και μέταλλα κατασκευής ανόδο ηλεκτρικού ρεύματος κατά την αξίωση 1, κ που βιδώνει το Βολφράμιο για την θέρ διαμέτρων Βολφράμιο προς Τιτάνιο 5/8.
    υ ηλεκτροδίου υψηλής έντασης συνεχούς ατά την οποία, τα σπειρώματα στο Τιτάνιο μανση του Τιτάνιου να έχουν αναλογία
GR20220100250A 2022-03-22 2022-03-22 Μεθοδος και μεταλλα κατασκευης ανοδου ηλεκτροδιου υψηλης εντασης συνεχους ηλεκτρικου ρευματος GR1010497B (el)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GR20220100250A GR1010497B (el) 2022-03-22 2022-03-22 Μεθοδος και μεταλλα κατασκευης ανοδου ηλεκτροδιου υψηλης εντασης συνεχους ηλεκτρικου ρευματος
PCT/GR2023/000008 WO2023180779A1 (en) 2022-03-22 2023-03-21 Method for producing an electrode

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GR20220100250A GR1010497B (el) 2022-03-22 2022-03-22 Μεθοδος και μεταλλα κατασκευης ανοδου ηλεκτροδιου υψηλης εντασης συνεχους ηλεκτρικου ρευματος

Publications (1)

Publication Number Publication Date
GR1010497B true GR1010497B (el) 2023-06-30

Family

ID=83362591

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
GR20220100250A GR1010497B (el) 2022-03-22 2022-03-22 Μεθοδος και μεταλλα κατασκευης ανοδου ηλεκτροδιου υψηλης εντασης συνεχους ηλεκτρικου ρευματος

Country Status (2)

Country Link
GR (1) GR1010497B (el)
WO (1) WO2023180779A1 (el)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3443055A (en) * 1966-01-14 1969-05-06 Ross M Gwynn Laminated metal electrodes and method for producing the same

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GR1004008B (el) 2000-07-13 2002-10-02 Environmental Focus International Bv (Efi) Μεθοδος και μεταλλα για την κατασκευη ανοδου ηλεκτροδιου για ηλεκτρολυση υγρων αποβλητων

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3443055A (en) * 1966-01-14 1969-05-06 Ross M Gwynn Laminated metal electrodes and method for producing the same

Also Published As

Publication number Publication date
WO2023180779A1 (en) 2023-09-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101700599B (zh) Sa335p91钢埋弧自动焊焊接方法
US5178742A (en) Method of and apparatus for forming a micromelt structure on an electrically-conductive probe tip
Gabler et al. Ultrashort pulse laser-structured nickel surfaces as hydrogen evolution electrodes for alkaline water electrolysis
CN108817610A (zh) 一种12Cr1MoVG小径厚壁管焊接方法
US10111597B2 (en) Electrodeposition of platinum/iridium (Pt/Ir) on Pt microelectrodes with improved charge injection properties
JP2007533845A5 (el)
US20130313234A1 (en) Method for manufacturing inspection probe
Medgyes et al. Electrochemical migration of micro-alloyed low Ag solders in NaCl solution
GR1010497B (el) Μεθοδος και μεταλλα κατασκευης ανοδου ηλεκτροδιου υψηλης εντασης συνεχους ηλεκτρικου ρευματος
US3443055A (en) Laminated metal electrodes and method for producing the same
EP2233614A1 (en) Anodic growth of titanium dioxide nanostructures
US4442829A (en) Material for selective absorption of solar energy and production thereof
US3801489A (en) Tool for electrolytic drilling of holes
JPS60169586A (ja) 電着方法及び生成物
NO128204B (el)
JP4365415B2 (ja) マイクロアーク酸化によるバルブ金属部品の高接着性の厚い保護コーティングを生産する方法
JP7069843B2 (ja) アルミニウム部品の製造方法
JP2006220469A (ja) 熱電対を用いた温度測定装置及びその熱電対の製造方法
US3698050A (en) Method of producing a composite electrode
EP0196251B1 (fr) Appareillage et installation de réalisation d&#39;un dépôt métallique électrolytique d&#39;épaisseur constante
TWI640652B (zh) 由第一金屬製成且具有由第二金屬製成之外鞘層之線的製造方法
RU2418889C2 (ru) Электрический контактный узел инертного анода для получения алюминия в солевом расплаве и способ его монтажа
US1521002A (en) Temperature control for electrolytic cells
EP1711436B1 (en) Method and metals to produce an electrode anode to electrolyze liquid wastes
Britton et al. CCXXXIII.—The passivity of metals. Part VI. A comparison between the penetrating powers of anions

Legal Events

Date Code Title Description
PG Patent granted

Effective date: 20230710