GR1003421B - Βιοσυμβατες λιθογραφικες διαδικασιες και υλικα για διαμορφωση σχηματοποιημενων επιστρωσεων βιομοριων - Google Patents
Βιοσυμβατες λιθογραφικες διαδικασιες και υλικα για διαμορφωση σχηματοποιημενων επιστρωσεων βιομοριωνInfo
- Publication number
- GR1003421B GR1003421B GR990100173A GR990100173A GR1003421B GR 1003421 B GR1003421 B GR 1003421B GR 990100173 A GR990100173 A GR 990100173A GR 990100173 A GR990100173 A GR 990100173A GR 1003421 B GR1003421 B GR 1003421B
- Authority
- GR
- Greece
- Prior art keywords
- biomolecules
- patterning
- biocompatible
- scheme
- lithographic processes
- Prior art date
Links
Landscapes
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
Στην παρούσα εφεύρεση περιγράφονται βιοσυμβατές διαδικασίες και ειδικά σχεδιασμένα φωτοευαίσθητα υλικά μικρολιθογραφίας για διαμόρφωση σχηματοποιημένων επιστρώσεων βιομορίων σε επιφάνειες στερεών υποστρωμάτων όπως πλαστικά υλικά, πυρίτιο ή γυαλί. Η βασική διαδικασία που προτείνεται και παρουσιάζεται στο σχήμα 1 περιέχει στάδια που λαμβάνουν χώρα μετά την εναπόθεση των βιομορίων στο υπόστρωμα και ως εκ τούτου απαιτείται οι συνθήκες των διεργασιών που αντιστοιχούν στα στάδια αυτά να είναι βιοσυμβατές. Το προτιμόμενο λιθογραφικό υλικό εμπεριέχει μία φωτοευαίσθητη ένωση που παράγει οξύ κατά την έκθεση και πολυμερές στο οποίο οι ομάδες υδροξυλίου προστατεύονται από ομάδες όπως τριτοταγούς βουτυλεστέρα που διασπώνται παρουσία του φωτοπαραγόμενου οξέος. Με τον τρόπο αυτό οι εκτεθειμένες περιοχές καθίστανται διαλυτές σε αραιό υδατικό διάλυμα βάσης που δεν καταστρέφει ή/και δεν απενεργοποιεί τα βιομόρια. Τροποποίηση της διαδικασίας του σχήματος 1 επιτρέπει την διαμόρφωση σχεδίων με περισσότερα από ένα είδος βιομορίων στο ίδιο υπόστρωμα.ΰ
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GR99100173 | 1999-05-26 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
GR1003421B true GR1003421B (el) | 2000-09-01 |
Family
ID=10943828
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
GR990100173A GR1003421B (el) | 1999-05-26 | 1999-05-26 | Βιοσυμβατες λιθογραφικες διαδικασιες και υλικα για διαμορφωση σχηματοποιημενων επιστρωσεων βιομοριων |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
GR (1) | GR1003421B (el) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GR1004058B (el) * | 2001-05-31 | 2002-11-15 | Φωτοπολυμερικα υλικα με βιοσυμβατες λιθογραφικες απαιτησεις καταλληλα για σχηματοποιηση επιστρωσεων πολλαπλων βioμοριων |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02309358A (ja) * | 1989-05-24 | 1990-12-25 | Nippon Paint Co Ltd | ポジ型感光性樹脂組成物 |
-
1999
- 1999-05-26 GR GR990100173A patent/GR1003421B/el not_active IP Right Cessation
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02309358A (ja) * | 1989-05-24 | 1990-12-25 | Nippon Paint Co Ltd | ポジ型感光性樹脂組成物 |
Non-Patent Citations (5)
Title |
---|
DATABASE WPI Section Ch Week 199106, Derwent World Patents Index; Class A14, AN 1991-041225, XP002128609 * |
GLENN MCGALL ET AL: "Light-directed synthesis of high-density oligonucleotide arrays using semiconductor photoresists", PROCEEDINGS OF THE NATIONAL ACADEMY OF SCIENCES OF USA., vol. 93, no. 4, 1996, NATIONAL ACADEMY OF SCIENCE. WASHINGTON., US, pages 13555 - 13560, XP000867299, ISSN: 0027-8424 * |
KLEINFELD D ET AL: "Controlled outgrowth of dissociated neurons on patterned substrates", JOURNAL OF NEUROSCIENCE, November 1988 (1988-11-01), NEW YORK, NY, US, pages 4098 - 4120, XP000870072, ISSN: 0270-6474 * |
MIYAHARA Y ET AL: "Integrated enzyme fets for simultaneous detections of urea and glucose", SENSORS AND ACTUATORS., 1985, ELSEVIER SEQUOIA S.A. LAUSANNE., CH, pages 23 - 41, XP000867171 * |
WILBUR J L ET AL: "MICROFABRICATION BY MICROCONTACT PRINTING OF SELF-ASSEMBLED MONOLAYERS", ADVANCED MATERIALS,DE,VCH VERLAGSGESELLSCHAFT, WEINHEIM, vol. 6, no. 7/08, pages 600-604, XP000457139, ISSN: 0935-9648 * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GR1004058B (el) * | 2001-05-31 | 2002-11-15 | Φωτοπολυμερικα υλικα με βιοσυμβατες λιθογραφικες απαιτησεις καταλληλα για σχηματοποιηση επιστρωσεων πολλαπλων βioμοριων | |
WO2002097533A1 (en) * | 2001-05-31 | 2002-12-05 | National Center For Scientific Research 'demokritos' | Photoresists processable under biocompatible conditions for multi-biomolecule patterning |
US7608389B2 (en) | 2001-05-31 | 2009-10-27 | National Centre For Scientific Research Demokritos | Photoresists processable under biocompatible conditions for multi-biomolecule patterning |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6379869B1 (en) | Method of improving the etch resistance of chemically amplified photoresists by introducing silicon after patterning | |
WO1999014256A8 (en) | Photoresist compositions comprising polycyclic polymers with acid labile pendant groups | |
WO1999001795A8 (en) | Pattern-forming methods and radiation sensitive materials | |
CA2045200A1 (en) | Immobilization of biomolecules by enhanced electophoretic precipitation | |
AU2327297A (en) | Photoresist compositions comprising polycyclic polymers with acid labile pendant groups | |
TW429481B (en) | Process for treating semiconductor substrates and structures obtained by this process | |
CA2329063A1 (en) | Substrate which is made from paper and is provided with an integrated circuit | |
EP0391636A3 (en) | Method of correcting proximity effects | |
EP0814503A3 (en) | Solid state radiation detector | |
DE69700652T2 (de) | Bedruckbare folie | |
WO2003050613A3 (en) | Method and apparatus for modification of chemically amplified photoresist by electron beam exposure | |
TWI256469B (en) | Polymer coatings for chemical sensors | |
TW373249B (en) | Composition for anti-reflection coating | |
US5250395A (en) | Process for imaging of photoresist including treatment of the photoresist with an organometallic compound | |
WO2002003766A3 (en) | Process for thick film circuit patterning | |
AU2003255284A1 (en) | Method for immobilizing hydrogel-bonding polymers on polymer substrate surfaces | |
GR1003421B (el) | Βιοσυμβατες λιθογραφικες διαδικασιες και υλικα για διαμορφωση σχηματοποιημενων επιστρωσεων βιομοριων | |
DE69403577D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung um sehr flache Wafer zu ätzen. | |
WO2001018603A3 (en) | Polymer for chemically amplified resist and a resist composition using the same | |
EP1054296A3 (en) | Fine pattern forming method | |
US5879863A (en) | Pattern forming method | |
DE59301908D1 (de) | Sulfoniumsalze und verfahren zu deren herstellung | |
BR8704580A (pt) | Composicao de revestimento antiestatica a base de agua e pelicula polimerica | |
EP1103805A3 (en) | Ultraviolet light permeable filter for flaw detection apparatus and method for detection of flaws | |
EP1035437A3 (en) | A radiation-sensitive resist material and a process for device fabrication using the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
ML | Lapse due to non-payment of fees |
Effective date: 20121204 |