GR1003421B - Βιοσυμβατες λιθογραφικες διαδικασιες και υλικα για διαμορφωση σχηματοποιημενων επιστρωσεων βιομοριων - Google Patents

Βιοσυμβατες λιθογραφικες διαδικασιες και υλικα για διαμορφωση σχηματοποιημενων επιστρωσεων βιομοριων

Info

Publication number
GR1003421B
GR1003421B GR990100173A GR990100173A GR1003421B GR 1003421 B GR1003421 B GR 1003421B GR 990100173 A GR990100173 A GR 990100173A GR 990100173 A GR990100173 A GR 990100173A GR 1003421 B GR1003421 B GR 1003421B
Authority
GR
Greece
Prior art keywords
biomolecules
patterning
biocompatible
scheme
lithographic processes
Prior art date
Application number
GR990100173A
Other languages
English (en)
Inventor
Original Assignee
-
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by , - filed Critical
Publication of GR1003421B publication Critical patent/GR1003421B/el

Links

Landscapes

  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Abstract

Στην παρούσα εφεύρεση περιγράφονται βιοσυμβατές διαδικασίες και ειδικά σχεδιασμένα φωτοευαίσθητα υλικά μικρολιθογραφίας για διαμόρφωση σχηματοποιημένων επιστρώσεων βιομορίων σε επιφάνειες στερεών υποστρωμάτων όπως πλαστικά υλικά, πυρίτιο ή γυαλί. Η βασική διαδικασία που προτείνεται και παρουσιάζεται στο σχήμα 1 περιέχει στάδια που λαμβάνουν χώρα μετά την εναπόθεση των βιομορίων στο υπόστρωμα και ως εκ τούτου απαιτείται οι συνθήκες των διεργασιών που αντιστοιχούν στα στάδια αυτά να είναι βιοσυμβατές. Το προτιμόμενο λιθογραφικό υλικό εμπεριέχει μία φωτοευαίσθητη ένωση που παράγει οξύ κατά την έκθεση και πολυμερές στο οποίο οι ομάδες υδροξυλίου προστατεύονται από ομάδες όπως τριτοταγούς βουτυλεστέρα που διασπώνται παρουσία του φωτοπαραγόμενου οξέος. Με τον τρόπο αυτό οι εκτεθειμένες περιοχές καθίστανται διαλυτές σε αραιό υδατικό διάλυμα βάσης που δεν καταστρέφει ή/και δεν απενεργοποιεί τα βιομόρια. Τροποποίηση της διαδικασίας του σχήματος 1 επιτρέπει την διαμόρφωση σχεδίων με περισσότερα από ένα είδος βιομορίων στο ίδιο υπόστρωμα.ΰ
GR990100173A 1999-05-26 1999-05-26 Βιοσυμβατες λιθογραφικες διαδικασιες και υλικα για διαμορφωση σχηματοποιημενων επιστρωσεων βιομοριων GR1003421B (el)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GR99100173 1999-05-26

Publications (1)

Publication Number Publication Date
GR1003421B true GR1003421B (el) 2000-09-01

Family

ID=10943828

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
GR990100173A GR1003421B (el) 1999-05-26 1999-05-26 Βιοσυμβατες λιθογραφικες διαδικασιες και υλικα για διαμορφωση σχηματοποιημενων επιστρωσεων βιομοριων

Country Status (1)

Country Link
GR (1) GR1003421B (el)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GR1004058B (el) * 2001-05-31 2002-11-15 Φωτοπολυμερικα υλικα με βιοσυμβατες λιθογραφικες απαιτησεις καταλληλα για σχηματοποιηση επιστρωσεων πολλαπλων βioμοριων

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02309358A (ja) * 1989-05-24 1990-12-25 Nippon Paint Co Ltd ポジ型感光性樹脂組成物

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02309358A (ja) * 1989-05-24 1990-12-25 Nippon Paint Co Ltd ポジ型感光性樹脂組成物

Non-Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
DATABASE WPI Section Ch Week 199106, Derwent World Patents Index; Class A14, AN 1991-041225, XP002128609 *
GLENN MCGALL ET AL: "Light-directed synthesis of high-density oligonucleotide arrays using semiconductor photoresists", PROCEEDINGS OF THE NATIONAL ACADEMY OF SCIENCES OF USA., vol. 93, no. 4, 1996, NATIONAL ACADEMY OF SCIENCE. WASHINGTON., US, pages 13555 - 13560, XP000867299, ISSN: 0027-8424 *
KLEINFELD D ET AL: "Controlled outgrowth of dissociated neurons on patterned substrates", JOURNAL OF NEUROSCIENCE, November 1988 (1988-11-01), NEW YORK, NY, US, pages 4098 - 4120, XP000870072, ISSN: 0270-6474 *
MIYAHARA Y ET AL: "Integrated enzyme fets for simultaneous detections of urea and glucose", SENSORS AND ACTUATORS., 1985, ELSEVIER SEQUOIA S.A. LAUSANNE., CH, pages 23 - 41, XP000867171 *
WILBUR J L ET AL: "MICROFABRICATION BY MICROCONTACT PRINTING OF SELF-ASSEMBLED MONOLAYERS", ADVANCED MATERIALS,DE,VCH VERLAGSGESELLSCHAFT, WEINHEIM, vol. 6, no. 7/08, pages 600-604, XP000457139, ISSN: 0935-9648 *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GR1004058B (el) * 2001-05-31 2002-11-15 Φωτοπολυμερικα υλικα με βιοσυμβατες λιθογραφικες απαιτησεις καταλληλα για σχηματοποιηση επιστρωσεων πολλαπλων βioμοριων
WO2002097533A1 (en) * 2001-05-31 2002-12-05 National Center For Scientific Research 'demokritos' Photoresists processable under biocompatible conditions for multi-biomolecule patterning
US7608389B2 (en) 2001-05-31 2009-10-27 National Centre For Scientific Research Demokritos Photoresists processable under biocompatible conditions for multi-biomolecule patterning

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6379869B1 (en) Method of improving the etch resistance of chemically amplified photoresists by introducing silicon after patterning
WO1999014256A8 (en) Photoresist compositions comprising polycyclic polymers with acid labile pendant groups
WO1999001795A8 (en) Pattern-forming methods and radiation sensitive materials
CA2045200A1 (en) Immobilization of biomolecules by enhanced electophoretic precipitation
AU2327297A (en) Photoresist compositions comprising polycyclic polymers with acid labile pendant groups
TW429481B (en) Process for treating semiconductor substrates and structures obtained by this process
CA2329063A1 (en) Substrate which is made from paper and is provided with an integrated circuit
EP0391636A3 (en) Method of correcting proximity effects
EP0814503A3 (en) Solid state radiation detector
DE69700652T2 (de) Bedruckbare folie
WO2003050613A3 (en) Method and apparatus for modification of chemically amplified photoresist by electron beam exposure
TWI256469B (en) Polymer coatings for chemical sensors
TW373249B (en) Composition for anti-reflection coating
US5250395A (en) Process for imaging of photoresist including treatment of the photoresist with an organometallic compound
WO2002003766A3 (en) Process for thick film circuit patterning
AU2003255284A1 (en) Method for immobilizing hydrogel-bonding polymers on polymer substrate surfaces
GR1003421B (el) Βιοσυμβατες λιθογραφικες διαδικασιες και υλικα για διαμορφωση σχηματοποιημενων επιστρωσεων βιομοριων
DE69403577D1 (de) Verfahren und Vorrichtung um sehr flache Wafer zu ätzen.
WO2001018603A3 (en) Polymer for chemically amplified resist and a resist composition using the same
EP1054296A3 (en) Fine pattern forming method
US5879863A (en) Pattern forming method
DE59301908D1 (de) Sulfoniumsalze und verfahren zu deren herstellung
BR8704580A (pt) Composicao de revestimento antiestatica a base de agua e pelicula polimerica
EP1103805A3 (en) Ultraviolet light permeable filter for flaw detection apparatus and method for detection of flaws
EP1035437A3 (en) A radiation-sensitive resist material and a process for device fabrication using the same

Legal Events

Date Code Title Description
ML Lapse due to non-payment of fees

Effective date: 20121204