FR3140298A1 - Thick suspension for stereolithography and process for manufacturing three-dimensional additive product - Google Patents

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Abstract

Une suspension épaisse pour stéréolithographie du mode de réalisation contient : des particules inorganiques ; une résine photodurcissable liquide ; et un agent dispersant. L’agent dispersant comporte un agent dispersant non ionique et un agent dispersant ionique. Dans la suspension épaisse pour stéréolithographie du mode de réalisation, une viscosité η0,5 lorsqu’une vitesse de cisaillement est de 0,5 s-1, une viscosité η10 lorsque la vitesse de cisaillement est de 10 s-1 et une viscosité η30 lorsque la vitesse de cisaillement est de 30 s-1 satisfont les relations de η0,5 ≥ 0 [Pa.s], η10 ≤ 65 [Pa.s], η30 ≤ 50 [Pa.s], η0,5/η10 ≤ 11,00, et η10/η30 ≥ 0,86.A stereolithography slurry of the embodiment contains: inorganic particles; a liquid photocurable resin; and a dispersing agent. The dispersing agent includes a nonionic dispersing agent and an ionic dispersing agent. In the stereolithography slurry of the embodiment, a viscosity η0.5 when a shear rate is 0.5 s-1, a viscosity η10 when the shear rate is 10 s-1, and a viscosity η30 when the shear rate is 30 s-1 satisfy the relationships of η0.5 ≥ 0 [Pa.s], η10 ≤ 65 [Pa.s], η30 ≤ 50 [Pa.s], η0.5/η10 ≤ 11 .00, and η10/η30 ≥ 0.86.

Description

Suspension épaisse pour stéréolithographie et procédé de fabrication de produit additif tridimensionnelThick suspension for stereolithography and process for manufacturing three-dimensional additive product DOMAINE DE L’INVENTIONFIELD OF INVENTION

Les modes de réalisation décrits ici portent de manière générale sur une suspension épaisse pour stéréolithographie et un procédé de fabrication d’un produit additif tridimensionnel.
The embodiments described herein relate generally to a slurry for stereolithography and a method of manufacturing a three-dimensional additive product.

CONTEXTE DE L’INVENTIONBACKGROUND OF THE INVENTION

Lors de la fabrication d’un produit additif tridimensionnel, par exemple, une suspension épaisse pour stéréolithographie contenant des particules inorganiques (particules céramiques, ou autres particules) et une résine photodurcissable liquide est tout d’abord placée dans une cuve, ensuite une platine est abaissée à partir du dessus, et une lumière est irradiée à partir d’une surface inférieure de la cuve pour durcir la résine photodurcissable, en formant ainsi une couche durcie en dessous de la platine. Ensuite, la suspension épaisse est amenée à s’écouler et apportée à une zone où la suspension épaisse prend en bref la place de la couche durcie par élévation de la platine. La formation ci-dessus de la couche durcie est répétée sur la base de données de conception tridimensionnelle du produit additif tridimensionnel, et un stratifié des couches durcies est fabriqué. Ensuite, le produit additif tridimensionnel est fabriqué, par exemple, par retrait de la résine photodurcissable durcie dans le procédé ci-dessus par accomplissement d’un traitement de dégraissage, et frittage des particules inorganiques par accomplissement d’un traitement de frittage pour le stratifié des couches durcies.When manufacturing a three-dimensional additive product, for example, a stereolithography slurry containing inorganic particles (ceramic particles, or other particles) and a liquid photocurable resin is first placed in a tank, then a stage is lowered from above, and light is irradiated from a lower surface of the tank to harden the photocurable resin, thereby forming a hardened layer below the stage. Then the slurry is made to flow and brought to an area where the slurry briefly takes the place of the hardened layer by elevation of the stage. The above formation of the hardened layer is repeated on the basis of three-dimensional design data of the three-dimensional additive product, and a laminate of the hardened layers is manufactured. Then, the three-dimensional additive product is manufactured, for example, by removing the photocurable resin cured in the above method by performing a degreasing treatment, and sintering the inorganic particles by performing a sintering treatment for the laminate hardened layers.

Tel que décrit ci-dessus, lors de la fabrication du produit additif tridimensionnel, il est nécessaire d’apporter la suspension épaisse pour stéréolithographie dans la cuve à la zone irradiée par la lumière et durcie lorsque la platine est élevée. Par conséquent, la suspension épaisse pour stéréolithographie ci-dessus doit avoir une thixotropie présentant une viscosité élevée lorsqu’une vitesse de cisaillement est faible et une faible viscosité lorsque la vitesse de cisaillement est élevée tout en maintenant une fluidité. De plus, une suppression de dilatance est également requise puisqu’une forte dilatance, qui a une faible viscosité à faible vitesse de cisaillement et une viscosité élevée à vitesse de cisaillement élevée, provoque la décantation des particules dans la suspension épaisse.As described above, when manufacturing the three-dimensional additive product, it is necessary to bring the stereolithography slurry in the tank to the area irradiated by light and hardened when the stage is raised. Therefore, the above stereolithography slurry should have a thixotropy exhibiting high viscosity when shear rate is low and low viscosity when shear rate is high while maintaining fluidity. Additionally, dilatancy suppression is also required since high dilatancy, which has low viscosity at low shear rate and high viscosity at high shear rate, causes the particles to settle in the slurry.

Toutefois, il est parfois difficile d’atteindre une thixotropie présentant une fluidité et une suppression de dilatance dans une suspension épaisse pour stéréolithographie conventionnelle. En particulier, lorsque des particules inorganiques ayant des petites tailles de particule sont utilisées pour atteindre une fabrication de haute définition, une agrégation de particules inorganiques tend à se produire dans la suspension épaisse pour stéréolithographie, ce qui augmente la propriété thixotropique de la suspension épaisse pour stéréolithographie et la suspension épaisse peut ne pas s’écouler. De plus, lorsqu’une propriété de dispersion est faible, la propriété de dilatance augmente et les particules peuvent décanter facilement. En résultat de ces facteurs, il peut être difficile de fabriquer un produit fabriqué d’additif tridimensionnel ayant une précision et une stabilité élevées.
However, it is sometimes difficult to achieve thixotropy with fluidity and dilatancy suppression in a conventional stereolithography slurry. Particularly, when inorganic particles having small particle sizes are used to achieve high-definition manufacturing, aggregation of inorganic particles tends to occur in the stereolithography slurry, which increases the thixotropic property of the slurry for stereolithography and the thick suspension may not flow. Additionally, when a dispersion property is low, the dilatancy property increases and particles can settle easily. As a result of these factors, it may be difficult to produce a three-dimensional additive fabricated product having high precision and stability.

RÉSUMÉSUMMARY

Un problème devant être résolu par la présente invention est de prévoir une suspension épaisse pour stéréolithographie qui permette une fabrication de haute précision et stable de produits additifs tridimensionnels et un procédé de fabrication des produits additifs tridimensionnels utilisant la suspension épaisse.A problem to be solved by the present invention is to provide a slurry for stereolithography which enables high-precision and stable manufacturing of three-dimensional additive products and a method for manufacturing the three-dimensional additive products using the slurry.

Selon la présente invention, une suspension épaisse pour stéréolithographie qui permette une fabrication de haute précision et stable de produits additifs tridimensionnels et un procédé de fabrication des produits additifs tridimensionnels utilisant la suspension épaisse sont prévus.According to the present invention, a slurry for stereolithography which enables high-precision and stable manufacturing of three-dimensional additive products and a method for manufacturing the three-dimensional additive products using the slurry are provided.

La est un organigramme illustrant une vue d’ensemble d’un procédé de fabrication d’un produit additif tridimensionnel selon un mode de réalisation.There is a flowchart illustrating an overview of a process for manufacturing a three-dimensional additive product according to one embodiment.

La est un diagramme illustrant schématiquement une vue d’ensemble d’une étape de formation de couche durcie (ST20) dans le procédé de fabrication du produit additif tridimensionnel selon le mode de réalisation.There is a diagram schematically illustrating an overview of a hardened layer forming step (ST20) in the method of manufacturing the three-dimensional additive product according to the embodiment.

La est un diagramme illustrant schématiquement la vue d’ensemble de l’étape de formation de couche durcie (ST20) dans le procédé de fabrication du produit additif tridimensionnel selon le mode de réalisation.There is a diagram schematically illustrating the overview of the hardened layer forming step (ST20) in the manufacturing process of the three-dimensional additive product according to the embodiment.

La est un diagramme illustrant schématiquement la vue d’ensemble de l’étape de formation de couche durcie (ST20) dans le procédé de fabrication du produit additif tridimensionnel selon le mode de réalisation.There is a diagram schematically illustrating the overview of the hardened layer forming step (ST20) in the manufacturing process of the three-dimensional additive product according to the embodiment.

La est un diagramme illustrant schématiquement la vue d’ensemble de l’étape de formation de couche durcie (ST20) dans le procédé de fabrication du produit additif tridimensionnel selon le mode de réalisation.There is a diagram schematically illustrating the overview of the hardened layer forming step (ST20) in the manufacturing process of the three-dimensional additive product according to the embodiment.

La est un diagramme illustrant un état avant qu’une étape de dégraissage (ST30) soit mise en œuvre dans le procédé de fabrication du produit additif tridimensionnel selon le mode de réalisation.There is a diagram illustrating a state before a degreasing step (ST30) is implemented in the process of manufacturing the three-dimensional additive product according to the embodiment.

La est un diagramme illustrant un état après que l’étape de dégraissage (ST30) est mise en œuvre dans le procédé de fabrication du produit additif tridimensionnel selon le mode de réalisation.There is a diagram illustrating a state after the degreasing step (ST30) is implemented in the manufacturing process of the three-dimensional additive product according to the embodiment.

La est un diagramme illustrant un état après qu’une étape de frittage (ST40) est mise en œuvre dans le procédé de fabrication du produit additif tridimensionnel selon le mode de réalisation.There is a diagram illustrating a state after a sintering step (ST40) is carried out in the manufacturing method of the three-dimensional additive product according to the embodiment.

La est un graphique illustrant une viscosité de la suspension épaisse pour stéréolithographie dans chaque exemple mesurée dans une pluralité de conditions avec différentes vitesses de cisaillement.There is a graph illustrating viscosity of the stereolithography slurry in each example measured under a plurality of conditions with different shear rates.

La est un graphique illustrant des détails de la vitesse de cisaillement 10 s-1à la vitesse de cisaillement 30 s-1sur la .There is a graph illustrating details from shear rate 10 s -1 to shear rate 30 s -1 on the .

DESCRIPTION DÉTAILLÉEDETAILED DESCRIPTION

Une suspension épaisse pour stéréolithographie de ce mode de réalisation contient des particules inorganiques, une résine photodurcissable liquide, et un agent dispersant, dans laquelle l’agent dispersant comporte un agent dispersant non ionique et un agent dispersant ionique. Dans la suspension épaisse pour stéréolithographie de ce mode de réalisation, une viscosité η0,5 lorsqu’une vitesse de cisaillement est de 0,5 s-1, une viscosité η10 lorsque la vitesse de cisaillement est de 10 s-1et une viscosité η30 lorsque la vitesse de cisaillement est de 30 s-1satisfont les relations de η0,5 ≥ 0 [Pa.s], η10 ≤ 65 [Pa.s], η30 ≤ 50 [Pa.s], η0,5/η10 ≤ 11,00, et η10/η30 ≥ 0,86.A stereolithography slurry of this embodiment contains inorganic particles, a liquid photocurable resin, and a dispersing agent, wherein the dispersing agent comprises a nonionic dispersing agent and an ionic dispersing agent. In the thick suspension for stereolithography of this embodiment, a viscosity η0.5 when a shear rate is 0.5 s -1 , a viscosity η10 when the shear rate is 10 s -1 and a viscosity η30 when the shear speed is 30 s -1 satisfy the relationships of η0.5 ≥ 0 [Pa.s], η10 ≤ 65 [Pa.s], η30 ≤ 50 [Pa.s], η0.5/η10 ≤ 11.00, and η10/η30 ≥ 0.86.

Ci-après, une suspension épaisse pour stéréolithographie et un procédé de fabrication d’un produit additif tridimensionnel de modes de réalisation seront décrits en référence aux dessins. Dans les modes de réalisation décrits ci-dessous, sensiblement les mêmes composants sont désignés par les mêmes signes de référence et une description de ceux-ci peut être partiellement omise. Les dessins sont schématiques, et une relation entre l’épaisseur et la dimension planaire, un rapport d’épaisseur entre les composants, et ainsi de suite peuvent être différents des réels.Hereinafter, a slurry for stereolithography and a method for manufacturing a three-dimensional additive product of embodiments will be described with reference to the drawings. In the embodiments described below, substantially the same components are designated by the same reference signs and a description thereof may be partially omitted. The drawings are schematic, and a relationship between thickness and planar dimension, thickness ratio between components, and so on may differ from actual ones.

La est un organigramme illustrant une vue d’ensemble d’un procédé de fabrication d’un produit additif tridimensionnel selon un mode de réalisation. Tel qu’illustré sur la , le procédé de fabrication du produit additif tridimensionnel est réalisé par mise en œuvre séquentielle d’une étape de préparation (ST10), d’une étape de formation de couche durcie (ST20), d’une étape de dégraissage (ST30), et d’une étape de frittage (ST40). La fabrication du produit additif tridimensionnel est réalisée en utilisant un dispositif de fabrication (par exemple, numéro de modèle ARM-10 fabriqué par Roland DG Corporation). Chaque étape sera décrite ci-dessous.There is a flowchart illustrating an overview of a process for manufacturing a three-dimensional additive product according to one embodiment. As illustrated on the , the process for manufacturing the three-dimensional additive product is carried out by sequential implementation of a preparation step (ST10), a hardened layer formation step (ST20), a degreasing step (ST30), and of a sintering step (ST40). Manufacturing of the three-dimensional additive product is accomplished using a manufacturing device (e.g., model number ARM-10 manufactured by Roland DG Corporation). Each step will be described below.

[A-1] Étape de préparation (ST10)
[A-1] Preparation stage (ST10)

Tout d’abord, dans l’étape de préparation (ST10), une suspension épaisse pour stéréolithographie utilisée dans la fabrication du produit additif tridimensionnel est préparée. La suspension épaisse pour stéréolithographie est fabriquée par mélange de particules inorganiques, d’une résine photodurcissable liquide, et d’un agent dispersant.Firstly, in the preparation step (ST10), a stereolithography slurry used in the manufacturing of the three-dimensional additive product is prepared. The slurry for stereolithography is manufactured by mixing inorganic particles, a liquid photocurable resin, and a dispersing agent.

[A-1-1] Particules inorganiques
[A-1-1] Inorganic particles

Les particules inorganiques sont des particules céramiques formées d’alumine, de zircone (y compris zircone stabilisée par oxyde d’yttrium, ou autre), et ainsi de suite, par exemple. Les particules inorganiques peuvent être des particules métalliques formées d’un matériau métallique.Inorganic particles are ceramic particles formed of alumina, zirconia (including zirconia stabilized by yttrium oxide, or other), and so on, for example. The inorganic particles may be metallic particles formed from a metallic material.

Ici, des particules inorganiques, dont la taille moyenne de particule R satisfait une relation représentée par l’Inégalité (A) ci-dessous, sont de préférence utilisées. La taille moyenne de particule R est une taille de particule à un volume moyen de 50 % (taille D50) et est une valeur équivalente à une taille de particule dont la valeur intégrée en volume est de 50 % en termes de distribution de taille de particule mesurée sur la base d’un procédé de diffraction par diffusion laser (JIS Z 8825 : 2013).
Here, inorganic particles, whose average particle size R satisfies a relationship represented by Inequality (A) below, are preferably used. Average particle size R is a particle size at an average volume of 50% (D50 size) and is a value equivalent to a particle size whose volume integrated value is 50% in terms of particle size distribution measured based on a laser scattering diffraction method (JIS Z 8825: 2013).

0,1 μm ≤ R ≤ 5,0 μm … (A)0.1 μm ≤ R ≤ 5.0 μm … (A)

Lorsque la taille moyenne de particule R des particules inorganiques est inférieure à une limite inférieure d’une plage indiquée dans l’Inégalité (A), l’agrégation des particules inorganiques se produit facilement dans la suspension épaisse pour stéréolithographie, conduisant parfois à une diminution de la fluidité de la suspension épaisse pour stéréolithographie. Par ailleurs, lorsque la taille moyenne de particule R des particules inorganiques est supérieure à une limite supérieure de la plage indiquée dans l’Inégalité (A), la masse volumique du produit additif tridimensionnel fabriqué après l’étape de frittage (ST40) peut diminuer.When the average particle size R of the inorganic particles is less than a lower limit of a range shown in Inequality (A), aggregation of the inorganic particles readily occurs in the stereolithography slurry, sometimes leading to a decrease of the fluidity of the thick suspension for stereolithography. Furthermore, when the average particle size R of the inorganic particles is greater than an upper limit of the range indicated in Inequality (A), the density of the three-dimensional additive product produced after the sintering step (ST40) may decrease .

Une teneur des particules inorganiques dans la suspension épaisse pour stéréolithographie est de préférence dans une plage de 30 % en vol. ou plus et de 65 % en vol. ou moins. Lorsque la teneur des particules inorganiques est inférieure à la plage ci-dessus, beaucoup de particules dans la suspension épaisse pour stéréolithographie peuvent décanter, et la masse volumique du produit additif tridimensionnel fabriqué après l’étape de frittage (ST40) peut diminuer. Par ailleurs, lorsque la teneur des particules inorganiques est supérieure à la plage ci-dessus, il peut exister de nombreuses particules inorganiques qui ne sont pas dans un état dispersé dans la suspension épaisse pour stéréolithographie.A content of the inorganic particles in the slurry for stereolithography is preferably in a range of 30 vol%. or more and 65% by vol. or less. When the content of inorganic particles is lower than the above range, many particles in the stereolithography slurry may settle, and the density of the three-dimensional additive product produced after the sintering step (ST40) may decrease. On the other hand, when the content of the inorganic particles is greater than the above range, there may be many inorganic particles which are not in a dispersed state in the stereolithography slurry.

[A-1-2] Résine photodurcissable[A-1-2] Photocurable resin

La résine photodurcissable liquide contient un composant polymère tel qu’un monomère et un oligomère, par exemple, et un initiateur de photopolymérisation pour initier la polymérisation du composant polymère lorsqu’une lumière est irradiée. Le composant polymère est un monomère acrylique, par exemple, mais sans s’y limiter.The liquid photocurable resin contains a polymer component such as a monomer and an oligomer, for example, and a photopolymerization initiator for initiating polymerization of the polymer component when light is irradiated. The polymer component is an acrylic monomer, for example, but not limited to.

[A-1-3] Agent dispersant[A-1-3] Dispersing agent

L’agent dispersant est ajouté pour disperser les particules inorganiques dans la résine photodurcissable liquide. Une teneur de l’agent dispersant est de préférence de 0,5 % en masse ou plus et de 22,0 % en masse ou moins dans 100 % en masse des particules inorganiques. Lorsque la teneur de l’agent dispersant est inférieure à la plage ci-dessus, une diminution de la dispersibilité peut se produire en raison d’une déficience d’une quantité d’adhérence de l’agent dispersant nécessaire pour la quantité des particules inorganiques. Lorsque la teneur de l’agent dispersant est supérieure à la plage ci-dessus, une augmentation d’une viscosité de suspension épaisse peut se produire en raison d’une viscosité accrue de liquides (résine photodurcissable, agent dispersant) autres que les particules inorganiques, une agrégation par appauvrissement, ou autre.The dispersing agent is added to disperse the inorganic particles in the liquid photocurable resin. A content of the dispersing agent is preferably 0.5 mass% or more and 22.0 mass% or less in 100 mass% of the inorganic particles. When the content of the dispersing agent is less than the above range, a decrease in dispersibility may occur due to a deficiency in an adhesion amount of the dispersing agent necessary for the amount of inorganic particles . When the content of the dispersing agent is greater than the above range, an increase in slurry viscosity may occur due to increased viscosity of liquids (photocurable resin, dispersing agent) other than inorganic particles , an aggregation by impoverishment, or other.

Dans ce mode de réalisation, un agent dispersant non ionique et un agent dispersant ionique sont tous deux utilisés en tant qu’agent dispersant. Les exemples de l’agent dispersant non ionique utilisable comportent : les polyoxyéthylènes de type éther et les polypropylène glycols ; les alcools polyhydriques de type ester tels que les glycérines, les sorbitans, et les propylène glycols ; les polyoxyéthylène sorbitans de type ester-éther ; les diéthanolamines de type alcanolamide, et ainsi de suite. Parmi les exemples ci-dessus, les alcools polyhydriques de type ester sont davantage préférables. Les exemples de l’agent dispersant ionique utilisable comportent : les carboxylates, sulfonates, sels d’ester de sulfate et esters phosphoriques de type anionique ; les sels d’amine et sels d’ammonium de type cationique ; et le type amphotère dans lequel les types anionique et cationique existent dans la même molécule. Parmi les exemples ci-dessus, les copolymères d’acide polycarboxylique, qui sont des carboxylates de type anionique, sont davantage préférables.In this embodiment, a nonionic dispersing agent and an ionic dispersing agent are both used as the dispersing agent. Examples of the nonionic dispersing agent that can be used include: ether-type polyoxyethylenes and polypropylene glycols; ester-type polyhydric alcohols such as glycerins, sorbitans, and propylene glycols; polyoxyethylene sorbitans of the ester-ether type; alkanolamide type diethanolamines, and so on. Among the above examples, ester-type polyhydric alcohols are more preferable. Examples of the ionic dispersing agent that can be used include: carboxylates, sulfonates, sulfate ester salts and phosphoric esters of the anionic type; amine salts and ammonium salts of the cationic type; and the amphoteric type in which both anionic and cationic types exist in the same molecule. Among the above examples, polycarboxylic acid copolymers, which are anionic type carboxylates, are more preferable.

Dans la suspension épaisse pour stéréolithographie de ce mode de réalisation, l’utilisation à la fois de l’agent dispersant non ionique et de l’agent dispersant ionique peut abaisser la viscosité de la suspension épaisse pour augmenter la fluidité, et en outre, améliorer la dispersibilité des particules inorganiques. Dans la suspension épaisse pour stéréolithographie de ce mode de réalisation, un rapport d’une masse W1 de l’agent dispersant non ionique à une masse W2 de l’agent dispersant ionique (W1:W2) satisfait de préférence une relation représentée par l’Inégalité (B) ci-dessous.
In the stereolithography slurry of this embodiment, the use of both the nonionic dispersing agent and the ionic dispersing agent can lower the viscosity of the slurry to increase the fluidity, and further, improve the dispersibility of inorganic particles. In the stereolithography slurry of this embodiment, a ratio of a mass W1 of the nonionic dispersing agent to a mass W2 of the ionic dispersing agent (W1:W2) preferably satisfies a relationship represented by Inequality (B) below.

91% en masse:9 % en masse ≤ W1:W2 ≤ 10 % en masse:90 % en masse … (B)91% by mass:9% by mass ≤ W1:W2 ≤ 10% by mass:90% by mass … (B)

Lorsque la masse W2 de l’agent dispersant ionique par rapport à une quantité totale (100 % en masse) de la masse W1 de l’agent dispersant non ionique et de la masse W2 de l’agent dispersant ionique est supérieure à une limite supérieure (W2 = 90 % en masse) indiquée dans Inégalité (B) ci-dessus, les particules dans la suspension épaisse pour stéréolithographie décantent dans l’étape de formation de couche durcie (ST20), résultant en une variation de concentration entre les couches, un manque de résistance, un affaissement du produit fabriqué, des défauts, et autres, rendant difficile la conservation d’une forme du produit fabriqué d’additif. Lorsque la masse W2 de l’agent dispersant ionique par rapport à la quantité totale (100 % en masse) de la masse W1 de l’agent dispersant non ionique et de la masse W2 de l’agent dispersant ionique est inférieure à une limite inférieure (W2 = 9 % en masse) indiquée dans l’Inégalité (B) ci-dessus, la thixotropie augmente et la fluidité diminue dans l’étape de formation de couche durcie (ST20), résultant en le fait qu’un apport insuffisant de la suspension épaisse peut se produire, rendant impossible la formation satisfaisante du produit fabriqué d’additif.When the mass W2 of the ionic dispersing agent relative to a total amount (100% by mass) of the mass W1 of the nonionic dispersing agent and the mass W2 of the ionic dispersing agent is greater than an upper limit (W2 = 90 mass %) shown in Inequality (B) above, the particles in the stereolithography slurry settle in the cured layer formation step (ST20), resulting in a concentration variation between layers, lack of strength, sagging of the manufactured product, defects, and the like, making it difficult to maintain a form of the additive manufactured product. When the mass W2 of the ionic dispersing agent relative to the total amount (100% by mass) of the mass W1 of the non-ionic dispersing agent and the mass W2 of the ionic dispersing agent is less than a lower limit (W2 = 9 mass %) shown in Inequality (B) above, thixotropy increases and fluidity decreases in the hardened layer formation stage (ST20), resulting in insufficient supply of slurry may occur, making satisfactory formation of the manufactured additive product impossible.

La suspension épaisse pour stéréolithographie de ce mode de réalisation contient à la fois l’agent dispersant non ionique et l’agent dispersant ionique en tant qu’agent dispersant. Dans le cas de l’agent dispersant non ionique, des composants dispersants macromoléculaires adhèrent aux surfaces des particules inorganiques, rendant le contact des particules inorganiques les unes avec les autres difficile à une distance prédéterminée ou plus courte par répulsion de l’encombrement stérique. En conséquence, dans la suspension épaisse pour stéréolithographie, la résistance de contact entre les particules inorganiques est supprimée, moyennant quoi une fluidité améliorée et une viscosité réduite sont atteintes. Pendant ce temps, puisque l’agent dispersant non ionique a également une action telle que les macromolécules sont fortement enchevêtrées les unes avec les autres, un seul ajout ou l’ajout d’une grande quantité de celui-ci provoque une agrégation dans la suspension épaisse pour stéréolithographie, résultant en une viscosité accrue. L’agent dispersant ionique entraîne une force répulsive élevée en raison de l’encombrement stérique, et un seul ajout ou l’ajout d’une grande quantité de celui-ci amène la suspension épaisse pour stéréolithographie à perdre la propriété thixotropique pour ainsi devenir un fluide newtonien ou un dilatant. En conséquence, en ajustant une composition des deux agents dispersants, il est possible d’atteindre à la fois la propriété thixotropique et la suppression de dilatance dans la suspension épaisse pour stéréolithographie.The stereolithography slurry of this embodiment contains both the nonionic dispersing agent and the ionic dispersing agent as a dispersing agent. In the case of the nonionic dispersing agent, macromolecular dispersing components adhere to the surfaces of the inorganic particles, making contact of the inorganic particles with each other difficult at a predetermined distance or shorter by repulsion of steric hindrance. As a result, in the slurry for stereolithography, the contact resistance between the inorganic particles is suppressed, whereby improved fluidity and reduced viscosity are achieved. Meanwhile, since the nonionic dispersing agent also has an action such that the macromolecules are strongly entangled with each other, a single addition or the addition of a large amount of it causes aggregation in the suspension thick for stereolithography, resulting in increased viscosity. The ionic dispersing agent causes a high repulsive force due to steric hindrance, and a single addition or addition of a large amount thereof causes the stereolithography slurry to lose the thixotropic property and thus become a Newtonian fluid or a dilatant. Accordingly, by adjusting a composition of the two dispersing agents, it is possible to achieve both thixotropic property and dilatancy suppression in the stereolithography slurry.

[A-1-4] Viscosité de la suspension épaisse
[A-1-4] Viscosity of the thick suspension

Dans la suspension épaisse pour stéréolithographie de ce mode de réalisation, une viscosité η0,5 lorsqu’une vitesse de cisaillement est de 0,5 s-1, une viscosité η10 lorsque la vitesse de cisaillement est de 10 s-1et une viscosité η30 lorsque la vitesse de cisaillement est de 30 s-1satisfont les relations représentées par l’Inégalité (C1), l’Inégalité (C2), l’Inégalité (C3), l’Inégalité (C4) et l’Inégalité (C5) ci-dessous. La viscosité η0,5, la viscosité η10 et la viscosité η30 sont des valeurs mesurées en utilisant un viscosimètre de type B dans une condition où une température est de 23 °C (JIS Z 8803).
In the thick suspension for stereolithography of this embodiment, a viscosity η0.5 when a shear speed is 0.5 s-1, a viscosity η10 when the shear speed is 10 s-1and a viscosity η30 when the shear speed is 30 s-1satisfy the relationships represented by Inequality (C1), Inequality (C2), Inequality (C3), Inequality (C4) and Inequality (C5) below. Viscosity η0.5, viscosity η10 and viscosity η30 are values measured using a type B viscometer under a condition where a temperature is 23 °C (JIS Z 8803).

η0,5 ≥ 0 [Pa.s] … (C1)
η0.5 ≥ 0 [Pa.s] … (C1)

η10 ≤ 65 [Pa.s] … (C2)
η10 ≤ 65 [Pa.s] … (C2)

η30 ≤ 50 [Pa.s] … (C3)
η30 ≤ 50 [Pa.s] … (C3)

η0,5/η10 ≤ 11,00 … (C4)
η0.5/η10 ≤ 11.00 … (C4)

η10/η30 ≥ 0,86 … (C5)η10/η30 ≥ 0.86 … (C5)

Lorsque la viscosité η0,5 de la suspension épaisse pour stéréolithographie ne satisfait pas l’Inégalité (C1) ci-dessus, les particules dans la suspension épaisse pour stéréolithographie décantent facilement dans l’étape de formation de couche durcie (ST20). Lorsque la viscosité η10 de la suspension épaisse pour stéréolithographie ne satisfait pas l’Inégalité (C2) ci-dessus, l’apport de suspension épaisse devient insuffisant dans l’étape de formation de couche durcie (ST20) en raison de la fluidité réduite. Lorsque la viscosité η30 de la suspension épaisse pour stéréolithographie ne satisfait pas l’Inégalité (C3) ci-dessus, l’apport de suspension épaisse devient insuffisant dans l’étape de formation de couche durcie (ST20) en raison de la fluidité durcie. Lorsque la viscosité η0,5 et la viscosité η10 de la suspension épaisse pour stéréolithographie ne satisfont pas l’Inégalité (C4) ci-dessus, la thixotropie devient trop importante et l’apport de suspension épaisse devient insuffisant dans l’étape de formation de couche durcie (ST20) en raison de la fluidité réduite. Lorsque la viscosité η10 et la viscosité η30 de la suspension épaisse pour stéréolithographie ne satisfont pas l’Inégalité (C5) ci-dessus, la suspension épaisse devient dilatante dans l’étape de formation de couche durcie (ST20), et les particules décantent, résultant en une variation de concentration entre couches, un manque de résistance, un affaissement du produit fabriqué, des défauts, et autres.When the viscosity η0.5 of the stereolithography slurry does not satisfy the above Inequality (C1), the particles in the stereolithography slurry settle easily in the hardened layer forming step (ST20). When the viscosity η10 of the slurry for stereolithography does not satisfy the Inequality (C2) above, the supply of slurry becomes insufficient in the hardened layer formation step (ST20) due to the reduced fluidity. When the viscosity η30 of the slurry for stereolithography does not satisfy the Inequality (C3) above, the supply of slurry becomes insufficient in the hardened layer formation step (ST20) due to the hardened fluidity. When the viscosity η0.5 and the viscosity η10 of the thick suspension for stereolithography do not satisfy the Inequality (C4) above, the thixotropy becomes too great and the supply of thick suspension becomes insufficient in the formation step of hardened layer (ST20) due to reduced fluidity. When the viscosity η10 and the viscosity η30 of the slurry for stereolithography do not satisfy the Inequality (C5) above, the slurry becomes dilatant in the hardened layer formation step (ST20), and the particles settle, resulting in concentration variation between layers, lack of strength, sagging of the manufactured product, defects, and others.

[A-2] Étape de formation de couche durcie (ST20)[A-2] Hardened layer formation step (ST20)

Tel qu’illustré sur la , après mise en œuvre de l’étape de préparation (ST10), l’étape de formation de couche durcie (ST20) est mise en œuvre. La à la sont des diagrammes illustrant chacun schématiquement une vue d’ensemble de l’étape de formation de couche durcie (ST20) dans le procédé de fabrication du produit additif tridimensionnel de ce mode de réalisation.As illustrated on the , after implementation of the preparation step (ST10), the hardened layer formation step (ST20) is implemented. There to the are diagrams each schematically illustrating an overview of the hardened layer forming step (ST20) in the method of manufacturing the three-dimensional additive product of this embodiment.

Dans l’étape de formation de couche durcie (ST20), une suspension épaisse 10 pour stéréolithographie est mise dans une cuve 100, et une platine 200 est immergée à partir du dessus de la suspension épaisse 10, tel qu'illustré sur la . Tel qu’illustré sur la , la lumière 400 émise à partir d’une source de lumière 300 est irradiée à partir d’une surface inférieure de la cuve 100. L’irradiation de lumière 400 durcit la résine photodurcissable formant la suspension épaisse 10 pour former une couche durcie 20. En même temps, la couche durcie 20 formée adhère à la platine 200.In the hardened layer forming step (ST20), a slurry 10 for stereolithography is put into a tank 100, and a stage 200 is immersed from the top of the slurry 10, as shown in the figure. . As illustrated on the , the light 400 emitted from a light source 300 is irradiated from a lower surface of the tank 100. The irradiation of light 400 hardens the photocurable resin forming the thick suspension 10 to form a hardened layer 20. At the same time, the hardened layer 20 formed adheres to the plate 200.

Ensuite, tel qu'illustré sur la , la platine 200 est élevée et la suspension épaisse 10 est apportée à une zone où la couche durcie 20 est formée, qui est élevée simultanément avec la platine 200. Tel qu’illustré sur la , la lumière 400 est irradiée à partir de la surface inférieure de la cuve 100 pour durcir la résine photodurcissable formant la suspension épaisse 10. Un stratifié 20X des couches durcies 20 est fabriqué par mise en œuvre répétée telle qu’une étape basée sur des données de forme du produit additif tridimensionnel, par exemple, des données de conception tridimensionnelle. Le stratifié 20X des couches durcies 20 est formé en tant que précurseur du produit additif tridimensionnel. Les portions non durcies de la suspension épaisse 10 adhérant au stratifié 20X des couches durcies 20 sont retirées par un traitement de nettoyage.Then, as illustrated in the , the stage 200 is raised and the slurry 10 is brought to an area where the hardened layer 20 is formed, which is raised simultaneously with the stage 200. As shown in the , light 400 is irradiated from the lower surface of the tank 100 to cure the photocurable resin forming the slurry 10. A 20X laminate of the cured layers 20 is manufactured by repeated processing such as a data-driven step shape of the three-dimensional additive product, for example, three-dimensional design data. The 20X laminate of the cured layers 20 is formed as a precursor to the three-dimensional additive product. Uncured portions of the slurry 10 adhering to the 20X laminate of the cured layers 20 are removed by a cleaning treatment.

[A-3] Étape de dégraissage (ST30) et étape de frittage (ST40)[A-3] Degreasing stage (ST30) and sintering stage (ST40)

Tel qu’illustré sur la , après mise en œuvre de l’étape de formation de couche durcie (ST20), l’étape de dégraissage (ST30) et l’étape de frittage (ST40) sont mises en œuvre.As illustrated on the , after implementing the hardened layer forming step (ST20), the degreasing step (ST30) and the sintering step (ST40) are implemented.

La est un diagramme illustrant un état avant mise en œuvre de l’étape de dégraissage (ST30) dans le procédé de fabrication du produit additif tridimensionnel de ce mode de réalisation. La est un diagramme illustrant un état après mise en œuvre de l’étape de dégraissage (ST30) dans le procédé de fabrication du produit additif tridimensionnel de ce mode de réalisation. La est un diagramme illustrant un état après mise en œuvre de l’étape de frittage (ST40) dans le procédé de fabrication du produit additif tridimensionnel de ce mode de réalisation. Dans chacune de la à la , une section transversale d’une partie de la couche durcie, qui forme le stratifié, est illustrée schématiquement.There is a diagram illustrating a state before implementation of the degreasing step (ST30) in the manufacturing process of the three-dimensional additive product of this embodiment. There is a diagram illustrating a state after implementation of the degreasing step (ST30) in the manufacturing process of the three-dimensional additive product of this embodiment. There is a diagram illustrating a state after implementation of the sintering step (ST40) in the manufacturing process of the three-dimensional additive product of this embodiment. In each of the to the , a cross section of part of the hardened layer, which forms the laminate, is shown schematically.

Tel qu’illustré sur la , la couche durcie 20 formée dans l’étape de formation de couche durcie (ST20) a des particules inorganiques 21 et une matrice 22. La matrice 22 est un matériau de base et contient un composant durci fait en résultat du durcissement de la résine photodurcissable dans la suspension épaisse pour stéréolithographie ainsi que l’agent dispersant de la suspension épaisse pour stéréolithographie. Tel qu’illustré sur la , lorsqu’un traitement de dégraissage est accompli dans l’étape de dégraissage (ST30), la matrice 22 est décomposée thermiquement et retirée dans la couche durcie 20 (voir ). Ensuite, tel qu'illustré sur la , par accomplissement d’un traitement de frittage dans l’étape de frittage (ST40) sur les particules inorganiques 21 de la couche durcie ayant été soumise à l’étape de dégraissage (ST30), les particules inorganiques 21 sont frittées. Tel que décrit ci-dessus, un corps fritté 30 des particules inorganiques 21 est formé en tant que produit additif tridimensionnel.As illustrated on the , the cured layer 20 formed in the cured layer forming step (ST20) has inorganic particles 21 and a matrix 22. The matrix 22 is a base material and contains a cured component made as a result of curing the photocurable resin in the thick suspension for stereolithography as well as the dispersing agent of the thick suspension for stereolithography. As illustrated on the , when a degreasing treatment is accomplished in the degreasing step (ST30), the matrix 22 is thermally decomposed and removed into the hardened layer 20 (see ). Then, as illustrated in the , by performing a sintering treatment in the sintering step (ST40) on the inorganic particles 21 of the hardened layer having been subjected to the degreasing step (ST30), the inorganic particles 21 are sintered. As described above, a sintered body 30 of the inorganic particles 21 is formed as a three-dimensional additive product.

[B] Résumé
[B] Summary

La suspension épaisse pour stéréolithographie de ce mode de réalisation contient les particules inorganiques, la résine photodurcissable liquide, et l’agent dispersant. L’agent dispersant comporte l’agent dispersant non ionique et l’agent dispersant ionique. Dans la suspension épaisse pour stéréolithographie de ce mode de réalisation, la viscosité η0,5 lorsque la vitesse de cisaillement est de 0,5 s-1, la viscosité η10 lorsque la vitesse de cisaillement est de 10 s-1et la viscosité η30 lorsque la vitesse de cisaillement est de 30 s-1satisfont les relations représentées par l’Inégalité (C1), l’Inégalité (C2), l’Inégalité (C3), l’Inégalité (C4) et l’Inégalité (C5), tel que décrit ci-dessus. De plus, la taille moyenne de particule R des particules inorganiques satisfait de préférence la relation représentée par l’Inégalité (A) tel que mentionné ci-dessus. Le rapport (W1:W2), qui est le rapport de la masse W1 de l’agent dispersant non ionique à la masse W2 de l’agent dispersant ionique, satisfait de préférence la relation représentée par l’Inégalité (B) tel que décrit ci-dessus.The stereolithography slurry of this embodiment contains the inorganic particles, the liquid photocurable resin, and the dispersing agent. The dispersing agent includes the nonionic dispersing agent and the ionic dispersing agent. In the thick suspension for stereolithography of this embodiment, the viscosity η0.5 when the shear speed is 0.5 s -1 , the viscosity η10 when the shear speed is 10 s -1 and the viscosity η30 when the shear speed is 30 s -1 satisfy the relationships represented by Inequality (C1), Inequality (C2), Inequality (C3), Inequality (C4) and Inequality (C5), as described above. Furthermore, the average particle size R of the inorganic particles preferably satisfies the relationship represented by Inequality (A) as mentioned above. The ratio (W1:W2), which is the ratio of the mass W1 of the nonionic dispersing agent to the mass W2 of the ionic dispersing agent, preferably satisfies the relationship represented by Inequality (B) as described above.

Sur la base des viscosités (η0,5, η10 et η30) de la suspension épaisse pour stéréolithographie décrite ci-dessus, les particules dans la suspension épaisse pour stéréolithographie peuvent être empêchées de décanter, et la forme du produit fabriqué peut être bien conservée en empêchant l’apport insuffisant de la suspension épaisse pour stéréolithographie, dans l’étape de formation de couche durcie (ST20) tel que montré dans les exemples ci-dessous. En résultat, selon le procédé de fabrication du produit additif tridimensionnel de ce mode de réalisation, il est possible de fabriquer le produit additif tridimensionnel avec une précision et une stabilité élevées.Based on the viscosities (η0.5, η10 and η30) of the stereolithography slurry described above, the particles in the stereolithography slurry can be prevented from settling, and the shape of the manufactured product can be well preserved in preventing insufficient supply of the thick suspension for stereolithography, in the hardened layer formation step (ST20) as shown in the examples below. As a result, according to the manufacturing method of the three-dimensional additive product of this embodiment, it is possible to manufacture the three-dimensional additive product with high precision and stability.

EXEMPLESEXAMPLES

Des exemples et leurs résultats d’évaluation sont décrits ci-dessous en référence au Tableau 1, au Tableau 2, à la et à la . Dans le Tableau 1, le Tableau 2, la et la , l’Exemple 1 à l’Exemple 19 sont des exemples, et l’Exemple C1 à l’Exemple C3 sont des exemples comparatifs. La illustre la viscosité mesurée pour la suspension épaisse pour stéréolithographie dans chaque exemple dans plusieurs conditions avec différentes vitesses de cisaillement. La illustre des détails de la vitesse de cisaillement 10 s-1à la vitesse de cisaillement 30 s-1sur la .Examples and their evaluation results are described below with reference to Table 1, Table 2, and to the . In Table 1, Table 2, the and the , Example 1 to Example 19 are examples, and Example C1 to Example C3 are comparative examples. There illustrates the measured viscosity for the stereolithography slurry in each example under several conditions with different shear rates. There illustrates details from shear rate 10 s -1 to shear rate 30 s -1 on the .

Dans le Tableau 1, X1 indique une teneur (% en masse) des particules inorganiques dans la suspension épaisse pour stéréolithographie. X2 indique une teneur (% en masse) de la résine photodurcissable liquide dans la suspension épaisse pour stéréolithographie. X31 indique une teneur (% en masse) de l’agent dispersant non ionique dans la suspension épaisse pour stéréolithographie. X32 indique une teneur (% en masse) de l’agent dispersant ionique dans la suspension épaisse pour stéréolithographie. Dans le Tableau 2, W1 indique une teneur (% en masse) de l’agent dispersant non ionique aux particules inorganiques (à savoir, W1 = 100*X31/X1) et W2 indique une teneur (% en masse) de l’agent dispersant ionique aux particules inorganiques (à savoir, W2 = 100*X32/X1).In Table 1, X1 indicates a content (% by mass) of inorganic particles in the slurry for stereolithography. X2 indicates a content (% by mass) of the liquid photocurable resin in the slurry for stereolithography. X31 indicates a content (% by mass) of the nonionic dispersing agent in the slurry for stereolithography. X32 indicates a content (% by mass) of the ionic dispersing agent in the stereolithography slurry. In Table 2, W1 indicates a content (% by mass) of the nonionic dispersing agent to inorganic particles (i.e., W1 = 100*X31/X1) and W2 indicates a content (% by mass) of the agent ionic dispersant to inorganic particles (i.e., W2 = 100*X32/X1).

[1] Fabrication de suspension épaisse pour stéréolithographie
[1] Manufacture of thick suspension for stereolithography

[1-1] Exemple 1
[1-1] Example 1

Dans l’Exemple 1, les matériaux suivants ont été préparés en tant que particules inorganiques, résine photodurcissable, agent dispersant non ionique et agent dispersant ionique.In Example 1, the following materials were prepared as inorganic particles, photocurable resin, nonionic dispersing agent and ionic dispersing agent.

(Matériaux)
(Materials)

Particules inorganiques : particules d’alumine (taille moyenne de particule : 2,3 μm, fabriquées par Nippon Light Metal Company, Ltd., numéro de modèle : LS-242C)
Inorganic particles: alumina particles (average particle size: 2.3 μm, manufactured by Nippon Light Metal Company, Ltd., model number: LS-242C)

Résine photodurcissable : résine à base d’acryle (fabriquée par Safran SA, numéro de modèle : SPR-2121)
Photocurable resin: acrylic-based resin (manufactured by Safran SA, model number: SPR-2121)

Agent dispersant non ionique : tensioactif non ionique d’alcool polyhydrique (fabriqué par San Nopco Ltd., numéro de modèle : SN-dispersant 9228)
Non-ionic dispersing agent: polyhydric alcohol non-ionic surfactant (manufactured by San Nopco Ltd., model number: SN-dispersant 9228)

Agent dispersant ionique : copolymère à base d’acide polycarboxylique (tensioactif anionique, fabriqué par NOF CORPORATION, numéro de modèle : MALIALIM SC-0505K)Ionic dispersing agent: polycarboxylic acid-based copolymer (anionic surfactant, manufactured by NOF CORPORATION, model number: MALIALIM SC-0505K)

Ensuite, un mélange obtenu par mélange des matériaux respectifs aux teneurs X1, X2, X31 et X32 (% en masse) indiquées dans le Tableau 1 a été agité dans la condition d’agitation suivante, pour ainsi fabriquer une suspension épaisse pour stéréolithographie.Then, a mixture obtained by mixing the respective materials at the contents X1,

(Condition d’agitation)
(Agitated condition)

Agitateur : ARE-250 (fabriqué par THINKY CORPORATION)
Agitator: ARE-250 (manufactured by THINKY CORPORATION)

Nombre de rotations : 800 tr/min
Number of rotations: 800 rpm

Nombre de révolutions : 2 000 tr/min
Number of revolutions: 2,000 rpm

Temps d’agitation : 5 minutesStirring time: 5 minutes

[1-2] Exemple 2 à Exemple 14, Exemple C1 à Exemple C3
[1-2] Example 2 to Example 14, Example C1 to Example C3

Dans l’Exemple 2 à l’Exemple 14, l’Exemple C1 à l’Exemple C3, les suspensions épaisses pour stéréolithographie ont été fabriquées de la même manière que dans l’Exemple 1, à l’exception du fait que les teneurs X1, X2, X31, X32 (% en masse) des matériaux étaient différentes de celles dans l’Exemple 1, tel qu’indiqué dans le Tableau 1.In Example 2 to Example 14, Example C1 to Example C3, the stereolithography slurries were manufactured in the same manner as in Example 1, with the exception that the contents , X2, X31, X32 (% by mass) of the materials were different from those in Example 1, as shown in Table 1.

[1-3] Exemple 15, Exemple 16
[1-3] Example 15, Example 16

Dans l’Exemple 15 et l’Exemple 16, le matériau suivant a été utilisé en tant que particules inorganiques, différent de l’Exemple 1, tel qu’indiqué dans le Tableau 1.In Example 15 and Example 16, the following material was used as inorganic particles, different from Example 1, as shown in Table 1.

(Matériau)
(Material)

Particules inorganiques : particules d’alumine (taille moyenne de particule : 0,1 μm, fabriquées par TAIMEI CHEMICALS CO., LTD., numéro de modèle : TM-DAR)Inorganic particles: alumina particles (average particle size: 0.1 μm, manufactured by TAIMEI CHEMICALS CO., LTD., model number: TM-DAR)

Ensuite, un mélange obtenu par mélange des matériaux respectifs aux teneurs X1, X2, X31 et X32 (% en masse) indiquées dans le Tableau 1 a été agité, pour ainsi fabriquer la suspension épaisse pour stéréolithographie.Then, a mixture obtained by mixing the respective materials at the contents X1, X2, X31 and

[1-4] Exemple 17
[1-4] Example 17

Dans l’Exemple 17, le matériau suivant a été utilisé en tant que particules inorganiques, différent de l’Exemple 1, tel qu’indiqué dans le Tableau 1.In Example 17, the following material was used as inorganic particles, different from Example 1, as shown in Table 1.

(Matériau)
(Material)

Particules inorganiques : particules de zircone (taille moyenne de particule : 1,6 μm, fabriquées par DAIICHI KIGENSO KAGAKU KOGYO CO., LTD., numéro de modèle : KYZ-8)Inorganic particles: zirconia particles (average particle size: 1.6 μm, manufactured by DAIICHI KIGENSO KAGAKU KOGYO CO., LTD., model number: KYZ-8)

Ensuite, un mélange obtenu par mélange des matériaux respectifs aux teneurs X1, X2, X31 et X32 (% en masse) indiquées dans le Tableau 1 a été agité, pour ainsi fabriquer la suspension épaisse pour stéréolithographie.Then, a mixture obtained by mixing the respective materials at the contents X1, X2, X31 and

[1-5] Exemple 18, Exemple 19
[1-5] Example 18, Example 19

Dans l’Exemple 18 et l’Exemple 19, le matériau suivant a été utilisé en tant que particules inorganiques, différent de l’Exemple 1, tel qu’indiqué dans le Tableau 1.In Example 18 and Example 19, the following material was used as inorganic particles, different from Example 1, as shown in Table 1.

(Matériau)
(Material)

Particules inorganiques : particules de zircone (taille moyenne de particule : 4,6 μm, fabriquées par DAIICHI KIGENSO KAGAKU KOGYO CO., LTD., numéro de modèle : UZY-8)Inorganic particles: zirconia particles (average particle size: 4.6 μm, manufactured by DAIICHI KIGENSO KAGAKU KOGYO CO., LTD., model number: UZY-8)

Ensuite, un mélange obtenu par mélange des matériaux respectifs aux teneurs X1, X2, X31 et X32 (% en masse) indiquées dans le Tableau 1 a été agité, pour ainsi fabriquer la suspension épaisse pour stéréolithographie.Then, a mixture obtained by mixing the respective materials at the contents X1, X2, X31 and

[2] Mesure de viscosité de suspension épaisse
[2] Viscosity measurement of thick suspension

Tel qu’indiqué sur la et dans le Tableau 2, une viscosité de la suspension épaisse pour stéréolithographie dans chaque exemple fabriqué tel que décrit ci-dessus a été mesurée.As indicated on the and in Table 2, a viscosity of the stereolithography slurry in each example manufactured as described above was measured.

La mesure de la viscosité a été accomplie en utilisant le viscosimètre suivant dans la condition de température suivante.
Viscosity measurement was accomplished using the following viscometer under the following temperature condition.

Viscosimètre : viscosimètre de type B HBDV2T (fabriqué par EKO INSTRUMENTS CO., LTD.)
Viscometer: HBDV2T type B viscometer (manufactured by EKO INSTRUMENTS CO., LTD.)

Température pour la mesure : 23 °CTemperature for measurement: 23°C

Ici, la mesure de la viscosité a été accomplie dans une pluralité de conditions où les vitesses de cisaillement étaient différentes. La et la illustrent les résultats des viscosités mesurées dans la pluralité de conditions où les vitesses de cisaillement étaient différentes. Le Tableau 2 indique les résultats de mesure de la viscosité η0,5 lorsque la vitesse de cisaillement est de 0,5 s-1, de la viscosité η10 lorsque la vitesse de cisaillement est de 10 s-1, et de la viscosité η30 lorsque la vitesse de cisaillement est de 30 s-1. De plus, le Tableau 2 indique une valeur (η0,5/η10) obtenue en divisant la viscosité η0,5 par la viscosité η10 et une valeur (η10/η30) obtenue en divisant la viscosité η10 par la viscosité η30.Here, the viscosity measurement was accomplished under a plurality of conditions where the shear rates were different. There and the illustrate the results of the viscosities measured in the plurality of conditions where the shear rates were different. Table 2 shows the measurement results of viscosity η0.5 when the shear rate is 0.5 s -1 , viscosity η10 when the shear rate is 10 s -1 , and viscosity η30 when the shear speed is 30 s -1 . In addition, Table 2 indicates a value (η0.5/η10) obtained by dividing the viscosity η0.5 by the viscosity η10 and a value (η10/η30) obtained by dividing the viscosity η10 by the viscosity η30.

[3] Teneurs de test
[3] Test contents

Tel qu’indiqué dans le Tableau 2, un test pour la fluidité et un test pour une propriété anti-décantation ont été accomplis sur la suspension épaisse pour stéréolithographie de chaque exemple fabriqué tel que décrit ci-dessus.As shown in Table 2, a test for fluidity and a test for an anti-settling property were performed on the stereolithography slurry of each example manufactured as described above.

[3-1] Test pour la fluidité
[3-1] Test for fluency

Dans le test pour la fluidité, la présence ou l’absence de formation d’une rainure dans la suspension épaisse pour stéréolithographie, qui a été stockée à l’intérieur d’un récipient d’épaisseur uniforme (5 mm), a été vérifiée en faisant glisser une spatule horizontalement de sorte qu’une surface inférieure du récipient était visible. Ensuite, 60 secondes après le glissement de la spatule, un état d’une largeur de rainure a été observé visuellement. Ensuite, la fluidité de la suspension épaisse a été déterminée en estimant un pourcentage de la largeur de rainure enfouie par l’écoulement de la suspension épaisse (un pourcentage à apporter) pour la largeur de rainure en utilisant les critères de classement suivants.In the test for fluidity, the presence or absence of groove formation in the slurry for stereolithography, which was stored inside a container of uniform thickness (5 mm), was checked by sliding a spatula horizontally so that a lower surface of the container was visible. Then, 60 seconds after the spatula slid, a groove width state was visually observed. Next, slurry fluidity was determined by estimating a percentage of the groove width buried by slurry flow (a percentage to be contributed) for the groove width using the following grading criteria.

Classement 5 : 100 % de la largeur de la rainure est enfouie par la suspension épaisse (fluidité de 100 %)
Ranking 5: 100% of the groove width is buried by the thick suspension (100% fluidity)

Classement 4 : Plus de 90 % et moins de 100 % de la largeur de la rainure est enfouie par la suspension épaisse
Ranking 4: More than 90% and less than 100% of the groove width is buried by the thick suspension

Classement 3 : Plus de 45 % et moins de 90 % de la largeur de la rainure est enfouie par la suspension épaisse
Ranking 3: More than 45% and less than 90% of the width of the groove is buried by the thick suspension

Classement 2 : Plus de 5 % et moins de 45 % de la largeur de la rainure est enfouie par la suspension épaisse (à l’intérieur d’un niveau pratique)
Rank 2: More than 5% and less than 45% of the groove width is buried by the thick suspension (within a practical level)

Classement 1 : Moins de 5 % de la largeur de la rainure est enfouie par la suspension épaisse (en dehors d’un niveau pratique)Ranking 1: Less than 5% of the groove width is buried by the thick suspension (apart from a practical level)

[3-2] Test pour la propriété anti-décantation
[3-2] Test for anti-settling property

Dans le test pour l’anti-décantation, la suspension épaisse a été agitée et stockée à température ambiante (23 °C) pendant 24 heures. La propriété anti-décantation a été déterminée à partir d’un pourcentage de particules au niveau d’une surface inférieure du récipient après stockage. Une portion de surnageant a été retirée du récipient avec une spatule en silicone tout en maintenant les particules sur la surface inférieure. Une masse des particules restantes a été calculée en soustrayant une masse du récipient de la masse du récipient et des particules restantes. Un taux résiduel a été obtenu sur la base de l’équation suivante et la propriété anti-décantation a été déterminée en utilisant les critères de classement.
In the test for anti-settling, the slurry was stirred and stored at room temperature (23 °C) for 24 hours. The anti-settling property was determined from a percentage of particles at a lower surface of the container after storage. A portion of supernatant was removed from the container with a silicone spatula while maintaining the particles on the bottom surface. A mass of the remaining particles was calculated by subtracting a mass of the container from the mass of the container and the remaining particles. A residual rate was obtained based on the following equation and the anti-settling property was determined using the grading criteria.

Taux résiduel [% en masse] = quantité de particules restant sur la surface inférieure [g]/quantité de particules totales [g] × 100Residual rate [% by mass] = amount of particles remaining on the bottom surface [g]/amount of total particles [g] × 100

Classement 5 : Le taux résiduel de particules décantées est inférieur à 0,5 % en masse
Classification 5: The residual rate of settled particles is less than 0.5% by mass

Classement 4 : Le taux résiduel de particules décantées est supérieur à 0,5 % en masse et inférieur à 1,0 % en masse
Classification 4: The residual rate of settled particles is greater than 0.5% by mass and less than 1.0% by mass

Classement 3 : Le taux résiduel de particules décantées est supérieur à 1,0 % en masse et inférieur à 1,5 % en masse
Classification 3: The residual rate of settled particles is greater than 1.0% by mass and less than 1.5% by mass

Classement 2 : Le taux résiduel de particules décantées est supérieur à 1,5 % en masse et inférieur à 2,0 % en masse (à l’intérieur d’un niveau pratique)
Classification 2: The residual rate of settled particles is greater than 1.5% by mass and less than 2.0% by mass (within a practical level)

Classement 1 : Le taux résiduel de particules décantées est de 2,0 % en masse ou plus (en dehors d’un niveau pratique)Classification 1: The residual rate of settled particles is 2.0% by mass or more (apart from a practical level)

[4] Résultats de test
[4] Test results

Comme on peut le voir d’après le Tableau 1, l’Exemple 1 à l’Exemple 19 satisfont les relations représentées par l’Inégalité (A), l’Inégalité (B), l’Inégalité (C1), l’Inégalité (C2), l’Inégalité (C3), l’Inégalité (C4) et l’Inégalité (C5) ci-dessus. Par conséquent, la thixotropie, qui maintient la fluidité, et la suppression de dilatance, qui est un facteur de décantation, sont obtenues dans l’Exemple 1 à l’Exemple 19, tel qu'illustré sur la et la . En résultat, la fluidité et la propriété anti-décantation supérieures au niveau pratique (classement 2 ou supérieur) sont obtenues dans l’Exemple 1 à l’Exemple 19, tel qu’indiqué dans le Tableau 2.As can be seen from Table 1, Example 1 to Example 19 satisfy the relationships represented by Inequality (A), Inequality (B), Inequality (C1), Inequality (C2), Inequality (C3), Inequality (C4) and Inequality (C5) above. Therefore, thixotropy, which maintains fluidity, and dilatancy suppression, which is a settling factor, are obtained in Example 1 to Example 19, as illustrated in Fig. and the . As a result, the fluidity and anti-settling property above the practical level (ranking 2 or higher) are obtained in Example 1 to Example 19, as shown in Table 2.

Par ailleurs, comme on peut le voir d’après le Tableau 1, les relations représentées par l’Inégalité (B) et l’Inégalité (C5) ne sont pas satisfaites dans l’Exemple C1 et l’Exemple C2. Par conséquent, les particules dans la suspension épaisse décantent significativement dans l’Exemple C1 et l’Exemple C2 tel qu'illustré sur la et la , et la propriété anti-décantation n’atteint pas le niveau pratique (classement 2 ou supérieur) tel qu’indiqué dans le Tableau 2. L’Exemple C3 ne satisfait pas les relations représentées par l’Inégalité (B) et l’Inégalité (C5), comme on peut le voir d’après le Tableau 1. Par conséquent, l’Exemple C3 avait une thixotropie importante et la suspension épaisse ne s’écoulait pas, résultant en une fluidité insuffisante, tel qu'illustré sur la et la . En résultat, l’Exemple C3 n’atteint pas le niveau pratique de fluidité (classement 2 ou supérieur) tel qu’indiqué dans le Tableau 2.Furthermore, as can be seen from Table 1, the relationships represented by Inequality (B) and Inequality (C5) are not satisfied in Example C1 and Example C2. Therefore, the particles in the thick suspension settle significantly in Example C1 and Example C2 as illustrated in Figure and the , and the anti-settling property does not reach the practical level (ranking 2 or higher) as shown in Table 2. Example C3 does not satisfy the relationships represented by Inequality (B) and Inequality (C5), as can be seen from Table 1. Therefore, Example C3 had significant thixotropy and the slurry did not flow, resulting in insufficient fluidity, as shown in Figure 1. and the . As a result, Example C3 does not reach the practical level of fluency (ranking 2 or higher) as shown in Table 2.

Bien que certains modes de réalisation de la présente invention aient été décrits, ces modes de réalisation ont été présentés à titre d’exemple seulement et ne sont pas destinés à limiter la portée des inventions. Les nouveaux modes de réalisation décrits ici peuvent être réalisés dans une variété d’autres formes ; par ailleurs, divers omissions, substitutions et changements dans la forme des modes de réalisation décrits ici peuvent être apportés sans s’éloigner de l’esprit des inventions. Les revendications jointes et leurs équivalents sont destinés à couvrir de telles formes ou modifications qui se situeraient dans la portée et l’esprit des inventions.Although certain embodiments of the present invention have been described, these embodiments have been presented by way of example only and are not intended to limit the scope of the inventions. The new embodiments described here can be made in a variety of other shapes; furthermore, various omissions, substitutions and changes in the form of the embodiments described herein may be made without departing from the spirit of the inventions. The appended claims and their equivalents are intended to cover such forms or modifications which would be within the scope and spirit of the inventions.

Claims (7)

Suspension épaisse pour stéréolithographie, comprenant :
des particules inorganiques ; une résine photodurcissable liquide ; et un agent dispersant, dans laquelle
l’agent dispersant comporte un agent dispersant non ionique et un agent dispersant ionique, et
une viscosité η0,5 lorsqu’une vitesse de cisaillement est de 0,5 s-1, une viscosité η10 lorsque la vitesse de cisaillement est de 10 s-1et une viscosité η30 lorsque la vitesse de cisaillement est de 30 s-1satisfont les relations de η0,5 ≥ 0 [Pa.s], η10 ≤ 65 [Pa.s], η30 ≤ 50 [Pa.s], η0,5/η10 ≤ 11,00, et η10/η30 ≥ 0,86.
Thick suspension for stereolithography, comprising:
inorganic particles; a liquid photocurable resin; and a dispersing agent, in which
the dispersing agent comprises a nonionic dispersing agent and an ionic dispersing agent, and
a viscosity η0.5 when a shear rate is 0.5 s -1 , a viscosity η10 when the shear rate is 10 s -1 and a viscosity η30 when the shear rate is 30 s -1 satisfy the relations of η0.5 ≥ 0 [Pa.s], η10 ≤ 65 [Pa.s], η30 ≤ 50 [Pa.s], η0.5/η10 ≤ 11.00, and η10/η30 ≥ 0.86 .
Suspension épaisse selon la revendication 1, dans laquelle
un rapport d’une masse W1 de l’agent dispersant non ionique à une masse W2 de l’agent dispersant ionique satisfait une relation de 91 % en masse:9 % en masse ≤ W1:W2 ≤ 10 % en masse:90 % en masse.
Thick suspension according to claim 1, in which
a ratio of a mass W1 of the nonionic dispersing agent to a mass W2 of the ionic dispersing agent satisfies a relationship of 91% by mass:9% by mass ≤ W1:W2 ≤ 10% by mass:90% by mass.
Suspension épaisse selon la revendication 1, dans laquelle
une teneur de l’agent dispersant est de 0,5 % en masse ou plus et de 22,0 % en masse ou moins des particules inorganiques dans 100 % en masse.
Thick suspension according to claim 1, in which
a content of the dispersing agent is 0.5 mass% or more and 22.0 mass% or less of the inorganic particles in 100 mass%.
Suspension épaisse selon la revendication 1, dans laquelle
une taille moyenne de particule R des particules inorganiques satisfait une relation de 0,1 μm ≤ R ≤ 5,0 μm.
Thick suspension according to claim 1, in which
an average particle size R of inorganic particles satisfies a relationship of 0.1 μm ≤ R ≤ 5.0 μm.
Suspension épaisse selon la revendication 1, dans laquelle
une teneur des particules inorganiques est de 30 % en vol. ou plus et de 65 % en vol. ou moins.
Thick suspension according to claim 1, in which
a content of inorganic particles is 30% by volume. or more and 65% by vol. or less.
Procédé de fabrication d’un produit additif tridimensionnel, comprenant :
la préparation de la suspension épaisse pour stéréolithographie selon l’une quelconque des revendications 1 à 5 et le stockage de la suspension épaisse dans une cuve ; et
la formation d’une couche durcie par irradiation de lumière à partir d’une surface inférieure de la cuve stockant la suspension épaisse pour ainsi durcir la résine photodurcissable, dans lequel
un stratifié des couches durcies est formé par mise en œuvre répétée de la formation de la couche durcie sur la base de données de forme du produit additif tridimensionnel.
Process for manufacturing a three-dimensional additive product, comprising:
preparing the thick suspension for stereolithography according to any one of claims 1 to 5 and storing the thick suspension in a tank; And
forming a hardened layer by irradiation of light from a lower surface of the tank storing the slurry to thereby harden the photocurable resin, wherein
a laminate of the cured layers is formed by repeatedly performing the formation of the cured layer based on shape data of the three-dimensional additive product.
Procédé selon la revendication 6, comprenant en outre :
l’obtention d’un corps dégraissé par accomplissement d’un traitement de dégraissage sur le stratifié des couches durcies pour ainsi retirer la résine photodurcissable durcie ; et
le frittage des particules inorganiques dans le corps dégraissé par accomplissement d’un traitement de frittage sur le corps dégraissé.
A method according to claim 6, further comprising:
obtaining a degreased body by carrying out a degreasing treatment on the laminate of the hardened layers to thereby remove the hardened photocurable resin; And
sintering the inorganic particles in the degreased body by performing a sintering treatment on the degreased body.
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