FR3041649B1 - METHOD FOR MANUFACTURING CONDUCTIVE INK COMPRISING COPPER NANOPARTICLES, AND CORRESPONDING INK - Google Patents

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Abstract

Procédé de fabrication d'une encre conductrice comportant un ajout dans un liquide vecteur de nanoparticules de cuivre dans une quantité comprise entre 12% et 25% de fraction massique de nanoparticules, et un ajout dans ledit liquide vecteur d'un additif dispersant dans une quantité comprise entre 100 ppm et 100% de fraction massique de la quantité de nanoparticules.A process for producing a conductive ink comprising adding to a liquid carrier copper nanoparticles in an amount of between 12% and 25% mass fraction of nanoparticles, and adding to said carrier liquid a dispersing additive in a quantity between 100 ppm and 100% mass fraction of the amount of nanoparticles.

Description

Arrière-plan de l'invention L'invention se rapporte au domaine général des encresconductrices, et plus particulièrement aux encres conductrices comportantdu cuivre.BACKGROUND OF THE INVENTION The invention relates to the general field of coaxial inks, and more particularly to conductive inks comprising copper.

Les encres conductrices sont utilisées pour les applications ditesd'électronique imprimée, dans lesquelles elles sont imprimées sur dessupports éventuellement flexibles pour former des couches conductrices.Conductive inks are used for so-called printed electronic applications, in which they are printed on possibly flexible substrates to form conductive layers.

De l'état de la technique antérieure, on connaît des encrescomportant des particules d'argent dispersées dans un liquide vecteur. Cesencres ont pour avantage d'être chimiquement stables pendant les étapesde préparation, et d'être difficilement oxydées ce qui leur permet deprésenter une bonne tenue dans le temps. Ces encres permettent enoutre d'obtenir des films métalliques avec une faible résistivité électriqueaprès une coalescence obtenue lors d'une étape de recuit à bassetempérature.From the prior art, there are known inkscomportant silver particles dispersed in a liquid vector. These inks have the advantage of being chemically stable during the preparation steps, and of being hardly oxidized, which enables them to exhibit good behavior over time. These inks also make it possible to obtain metal films with low electrical resistivity after coalescence obtained during a low temperature annealing step.

Les encres comportant des particules d'argent présententnéanmoins l'inconvénient d'être coûteuses (par exemple 100 millilitres àpartir de 600 euros ou encore de 5 000 à 10 000 euros pour un litre), cequi empêche leur utilisation pour des applications industrielles de grandeéchelle.Inks with silver particles have the disadvantage of being costly (for example 100 milliliters from 600 euros or 5,000 to 10,000 euros per liter), which prevents their use for large-scale industrial applications.

Il a donc été proposé des encres conductrices comprenant desparticules de cuivre et qui sont moins coûteuses. Cela étant, ces encresconductrices s'oxydent facilement, ce qui réduit leur conductivitéélectrique, l'oxyde de cuivre étant moins conducteur que le cuivre. Cetteoxydation apparaît à la fois lors de la synthèse des particules de cuivre etlors de l'étape de recuit mise en oeuvre après une impression avec l'encreconductrice.It has therefore been proposed conductive inks comprising copper particles and which are less expensive. However, these ink coatings oxidize easily, reducing their electrical conductivity, copper oxide being less conductive than copper. This oxidation occurs both during the synthesis of the copper particles and during the annealing step carried out after printing with the encrudator.

Pour résoudre ce problème d'oxydation des particules de cuivre, ila été proposé de modifier l'étape de recuit qui est mise en œuvrepostérieurement à l'impression.To solve this problem of oxidation of copper particles, it has been proposed to modify the annealing step which is carried out after printing.

Il a notamment été proposé d'utiliser des sources lumineuses UVou laser, et il a également été proposé de mettre en œuvre des recuitsphotoniques.In particular, it has been proposed to use UV or laser light sources, and it has also been proposed to implement photonic annealing.

Un recuit photonique, également appelé recuit flash, est un recuitutilisant des impulsions lumineuses. Ces impulsions intenses de lumièreont une durée de l'ordre de quelques microsecondes, et elles utilisent deslongueurs d'onde allant de l'ultraviolet à l'infrarouge. Les impulsions delumière sont absorbées par les particules de cuivre oxydées qui voient leurtempérature augmenter in-situ, ce qui permet l'apparition d'une réactionchimique de réduction de l'oxyde de cuivre présent à la surface desparticules. Cette augmentation de la température s'effectue sur un laps detemps très court, de sorte que les molécules de dioxygène n'ont pas letemps de se diffuser dans les particules de cuivre pour les oxyder denouveau.A photonic annealing, also called flash annealing, is a annealing using light pulses. These intense pulses of light have a duration of the order of a few microseconds, and they use wavelengths ranging from ultraviolet to infrared. The light pulses are absorbed by the oxidized copper particles which increase their temperature in situ, which allows the appearance of a reduction reaction of the copper oxide present on the surface of the particles. This increase in temperature takes place over a very short lapse of time, so that the oxygen molecules do not have time to diffuse into the copper particles to oxidize them again.

Un recuit photonique permet ainsi d'obtenir une coalescence et ceen évitant l'oxydation des particules. En outre, l'utilisation d'impulsionscourtes permet de ne pas endommager le support sur lequel on met enœuvre une impression en utilisant l'encre.A photonic annealing thus makes it possible to obtain coalescence and thus avoids the oxidation of the particles. In addition, the use of short pulses makes it possible not to damage the support on which printing is performed using the ink.

La société américaine Novacentrix a mis au point de tels recuits,et elle a également développé des encres à base de nanoparticulesd'oxyde de cuivre utilisables avec ces recuits photoniques. Ces encresprésentent néanmoins des inconvénients, puisqu'elles permettent deformer des films conducteurs mais qui présentent une mauvaise adhésionavec les supports sur lesquels on met en œuvre une impression. L'invention vise notamment à pallier ces inconvénients, etd'obtenir une encre conductrice ayant de meilleures caractéristiques lorsde l'impression.The American company Novacentrix has developed such anneals, and it has also developed inks based on copper oxide nanoparticles that can be used with these photonic anneals. However, these inks have disadvantages, since they make it possible to form conductive films that have poor adhesion with the substrates on which an impression is made. The invention aims in particular to overcome these disadvantages, and to obtain a conductive ink having better characteristics during printing.

Objet et résumé de l'inventionObject and summary of the invention

La présente invention répond à ce besoin en proposant unprocédé de fabrication d'une encre conductrice comportant un ajout dansun liquide vecteur de nanoparticules de cuivre dans une quantité compriseentre 12% et 25% de fraction massique de nanoparticules, et un ajoutdans ledit liquide vecteur d'un additif dispersant dans une quantité comprise entre 100 ppm et 100% de fraction massique de la quantité denanoparticules.The present invention responds to this need by proposing a method of manufacturing a conductive ink comprising an addition in a liquid carrier of copper nanoparticles in an amount comprised between 12% and 25% mass fraction of nanoparticles, and an addition in said liquid vector of a dispersing additive in an amount of between 100 ppm and 100% mass fraction of the amount of anoparticles.

La fraction massique des nanoparticules est définie, comme on leconçoit, par rapport à l'ensemble formé par les nanoparticulesencapsulées, le dispersant, et le liquide vecteur. L'additif dispersant peut ajuster la rhéologie de l'encre, et ajusterle comportement de l'encre par rapport au support sur lequel on imprime(étalement et mouillabilité). En utilisant un additif dispersant, on peutnotamment diminuer la tension superficielle à l'interface entre lesparticules (inorganiques) et leur milieu environnant (qui peut être unmilieu organique).The mass fraction of the nanoparticles is defined, as we can see, with respect to the set formed by the nanoparticles encapsulated, the dispersant, and the vector liquid. The dispersant additive can adjust the rheology of the ink, and adjust the behavior of the ink relative to the medium on which it is printed (spreading and wettability). By using a dispersant additive, the surface tension at the interface between (inorganic) particles and their surrounding environment (which may be an organic medium) can be reduced.

On peut noter que les nanoparticules peuvent être encapsuléesdans un matériau de protection. Les fractions massiques indiquées ci-dessus s'appliquent aux nanoparticules encapsulées et aux nanoparticulesnon encapsulées.It may be noted that the nanoparticles may be encapsulated in a protective material. The mass fractions indicated above apply to encapsulated nanoparticles and non-encapsulated nanoparticles.

Dans un mode particulier de mise en œuvre, les nanoparticules decuivre ont un diamètre compris entre 5 et 100 nanomètres, ou entre 5 et20 nanomètres, ou entre 5 et 8 nanomètres.In a particular mode of implementation, the nanoparticles have a diameter of between 5 and 100 nanometers, or between 5 and 20 nanometers, or between 5 and 8 nanometers.

Les inventeurs ont observé qu'en utilisant des nanoparticulesayant un diamètre compris entre 5 et 100 nanomètres, ou entre 5 et 20nanomètres, ou entre 5 et 8 nanomètres, on facilite l'étape de recuitpuisque la densité optique des particules augmente, ce qui permet auxnanoparticules de cuivre de mieux absorber la lumière, en particulier si unrecuit photonique est mis en œuvre ensuite.The inventors have observed that by using nanoparticles having a diameter of between 5 and 100 nanometers, or between 5 and 20 nanometers, or between 5 and 8 nanometers, the annealing step is facilitated since the optical density of the particles increases, which allows nanoparticles of copper to better absorb light, especially if a photonic product is implemented next.

La forte densité optique favorise donc réchauffement desparticules qui peuvent plus rapidement coalescer et former un uniquecomposé comportant du cuivre après le recuit.The high optical density thus favors warming of the particles which can coalesce more rapidly and form a single compound comprising copper after the annealing.

Par ailleurs, en utilisant des particules ayant un diamètre comprisentre 5 et 100 nanomètres, ou entre 5 et 20 nanomètres, ou entre 5 et 8nanomètres, on facilite l'impression puisque la taille des particules réduitle risque de bouchage du système d'impression utilisé. Il est ainsi plussimple de projeter les particules.Moreover, by using particles having a diameter of between 5 and 100 nanometers, or between 5 and 20 nanometers, or between 5 and 8 nanometers, printing is facilitated since the size of the particles reduces the risk of clogging of the printing system used. It is thus more simple to project the particles.

On peut noter que le diamètre des nanoparticules peut être lediamètre des nanoparticules encapsulées. Des couches de protectionpeuvent aboutir à des modifications de diamètre des nanoparticules del'ordre de 2,8%, ce qui est négligeable.It may be noted that the diameter of the nanoparticles may be the diameter of the encapsulated nanoparticles. Protective layers can result in nanoparticle diameter changes in the order of 2.8%, which is negligible.

Selon un mode particulier de mise en oeuvre, le procédé comprendune étape préalable de broyage de nanoparticules intermédiaires de cuivreau moyen d'un broyeur planétaire, pour obtenir lesdites nanoparticules decuivre ayant un diamètre compris entre 5 et 100 nanomètres, ou entre 5et 20 nanomètres, ou entre 5 et 8 nanomètres. A titre indicatif, les nanoparticules peuvent être obtenues dansune solution de synthèse qui comporte: une quantité comprise entre 0,1% et 55% ou 0,3% et 15% de fractionmassique d'un matériau de protection destiné à encapsuler lesnanoparticules de cuivre, et une quantité comprise entre 0,05% et 13% de fraction massique d'unréducteur.According to a particular mode of implementation, the method comprisesa preliminary step of grinding intermediate nanoparticles of the average cuivreau of a planetary mill, to obtain said nanoparticles nanoparticles having a diameter of between 5 and 100 nanometers, or between 5and 20 nanometers, or between 5 and 8 nanometers. As an indication, the nanoparticles may be obtained ina synthesis solution which comprises: a quantity of between 0.1% and 55% or 0.3% and 15% of a mass fraction of a protective material intended to encapsulate the copper nanoparticles, and an amount of between 0.05% and 13% of a mass fraction of a reducer.

Les inventeurs ont observé qu'en utilisant les quantitésmentionnées ci-dessus de matériau de protection et de réducteur, onobtient un bon empêchement de l'oxydation des nanoparticules de cuivrepuisque le cuivre est protégé de l'air, et ce en particulier si un recuitphotonique est mis en œuvre ultérieurement. Ceci permet d'obtenir unebonne conduction électrique puisque la couche d'oxyde de cuivre présenteà la surface des nanoparticules de cuivre est minimisée.The inventors have observed that by using the above mentioned amounts of protective and reducing material, a good prevention of the oxidation of the copper nanoparticles is obtained, since the copper is protected from the air, and this in particular if a photonic annealing is implemented later. This makes it possible to obtain good electrical conduction since the copper oxide layer present on the surface of the copper nanoparticles is minimized.

Il a également été observé que ce matériau de protection peutêtre choisi pour faciliter l'adhésion du cuivre (par exemple en choisissantun matériau de protection polymérique), et ce en particulier sur lessupports souples ou flexibles. En utilisant un matériau de protectionpolymérique, l'étape de recuit permet de faire couler le matériau deprotection à l'interface entre le substrat et le film de cuivre formé. Laformation de cette couche à l'interface permet d'augmenter l'adhésionentre le substrat et le film de cuivre.It has also been observed that this protective material can be chosen to facilitate the adhesion of copper (for example by choosing a polymeric protection material), and in particular on flexible or flexible substrates. By using a polymeric protective material, the annealing step allows the protective material to flow at the interface between the substrate and the formed copper film. The formation of this layer at the interface makes it possible to increase the adhesion between the substrate and the copper film.

On peut également noter qu'il est possible qu'une oxydationrésiduelle soit présente (par exemple si l'encapsulation n'est pas complète,dans la présente demande, on utilise le terme encapsuler y compris pourune encapsulation partielle), cela étant, l'utilisation d'un matériau deprotection permet de minimiser la quantité d'oxyde de cuivre en forme decouche présente à la surface des nanoparticules.It may also be noted that it is possible for a residual oxidation to be present (for example, if the encapsulation is not complete, in the present application the term encapsulate is used, including for partial encapsulation), this being the case. The use of a protective material makes it possible to minimize the amount of layer-shaped copper oxide present on the surface of the nanoparticles.

On peut noter qu'il est possible qu'une oxydation résiduelle soitprésente (par exemple si l'encapsulation n'est pas complète, dans laprésente demande, on utilise le terme encapsuler y compris pour une encapsulation partielle), cela étant, l'utilisation d'un matériau de protectionpermet de minimiser la quantité d'oxyde de cuivre en forme de coucheprésente à la surface des nanoparticules.It may be noted that it is possible that a residual oxidation is present (for example, if the encapsulation is not complete, in the present application the term encapsulate is used, including for partial encapsulation), that being the case, the use of a protective material enables the amount of layer-shaped copper oxide present on the surface of the nanoparticles to be minimized.

Dans un mode particulier de mise en œuvre, le liquide vecteurcomporte au moins un premier sous-liquide vecteur ayant unetempérature d'ébullition comprise entre 100°C et 400°C (ou de préférenceentre 100°C et 200°C), une tension de surface comprise entre 35 et73mN/m (milliNewton par mètre) (ou de préférence entre 35 et 50mN/m),et une viscosité comprise entre 5 et 22 centipoises, et de préférence undeuxième sous-liquide vecteur ayant une température d'ébullitioninférieure à 115°C , une tension de surface comprise entre 20 et 45 mN/m(milliNewton par mètre) (ou de préférence entre 20 et 30 mN/m), et uneviscosité comprise entre 0,3 et 16 centipoises, le liquide vecteur comportant entre 1% et 50% ou entre 40% et 50%dudit deuxième sous-liquide vecteur.In a particular embodiment, the liquid carriercomporte at least a first sub-liquid vector having a boiling temperature of between 100 ° C and 400 ° C (or preferably between 100 ° C and 200 ° C), a voltage of a surface area of between 35 and 73 mN / m (milliNewton per meter) (or preferably between 35 and 50 mN / m), and a viscosity of between 5 and 22 centipoise, and preferably a second sub-liquid carrier having a boiling point below 115 ° C, a surface tension of between 20 and 45 mN / m (milliNewton per meter) (or preferably between 20 and 30 mN / m), and a viscosity of between 0.3 and 16 centipoise, the liquid vector comprising between 1 % and 50% or between 40% and 50% of said second sub-liquid vector.

On peut noter que les valeurs de viscosité et de tension de surfacefournies dans la présente demande sont mesurées à températureambiante. La viscosité peut être mesurée avec un viscosimètre et latension de surface avec un goniomètre.It can be noted that the viscosity and surface tension values provided herein are measured at ambient temperature. The viscosity can be measured with a viscometer and surface tension with a goniometer.

Les caractéristiques du premier sous-liquide vecteur permettent defaciliter l'impression par la technologie jet d'encre (typiquement appeléejettabilité).The characteristics of the first sub-liquid vector make it possible to facilitate printing by inkjet technology (typically called jettability).

Comme on le conçoit, ces caractéristiques dépendent du systèmed'impression utilisé. Les inventeurs ont observé que les caractéristiquesmentionnées ci-dessus sont particulièrement bien adaptées pour lamachine Dimatix de la société américaine Fujifilm référencée DMP-2831.As can be seen, these characteristics depend on the printing system used. The inventors have observed that the characteristics mentioned above are particularly well suited for the Dimatix machine of the American company Fujifilm referenced DMP-2831.

Les caractéristiques du deuxième sous-liquide vecteur permettentde diminuer la température d'ébullition du liquide vecteur et de diminuersa viscosité.The characteristics of the second sub-liquid vector make it possible to reduce the boiling temperature of the carrier liquid and to reduce viscosity.

Par ailleurs, après la mise en œuvre d'une étape d'impression etpendant l'étape de recuit, le solvant s'évapore plus rapidement sur lesbords du motif imprimé puisqu'il y est présent en plus petite quantitéqu'au centre du motif. Cela provoque une migration des nanoparticules decuivre du centre vers les bords du motif pour combler ce déficit. Cela créeune inhomogénéité à la surface des films que l'homme du métier désignepar l'expression anglo-saxonne « coffee ring ». Cela étant, cette inhomogénéité des films est compensée par un phénomène appelé « fluxde Marangoni » qui se produit depuis des endroits présentant une faibletension de surface (notamment les bords) vers des endroits avec unetension de surface élevée (notamment le centre). Il a été observé quel'intensité de ce phénomène est plus importante en utilisant des sous-liquides vecteur ayant des températures d'ébullition différentes et destensions de surface sensiblement différentes tels que proposés ci-avant.Le gradient de tension de surface au sein du liquide vecteur étant unfacteur déterminant pour l'optimisation du flux de Marangoni.Moreover, after the implementation of a printing step and during the annealing step, the solvent evaporates more rapidly on the edges of the printed pattern since it is present in smaller amounts than in the center of the pattern. This causes the nanoparticles to migrate from the center to the edges of the pattern to fill this gap. This creates an inhomogeneity on the surface of the films that the person skilled in the art designates by the Anglo-Saxon expression "coffee ring". However, this inhomogeneity of the films is compensated for by a phenomenon called "Marangoni flux" which occurs from places with a low surface tension (especially the edges) to places with a high surface tension (especially the center). It has been observed that the intensity of this phenomenon is greater by using sub-liquid vectors having different boiling temperatures and substantially different surface stresses as proposed above. The surface tension gradient within the liquid vector being a determining factor for the optimization of the Marangoni flow.

Les inventeurs ont observé que la tension de surface et laproportion du deuxième sous-liquide vecteur est particulièrement décisivepour maximiser le flux de Marangoni, et que cette proportion estpréférentiellement comprise entre 40% et 50% dans le liquide vecteur.The inventors have observed that the surface tension and the proportion of the second sub-liquid vector is particularly decisive in order to maximize the flow of Marangoni, and that this proportion ispreferentially between 40% and 50% in the vector liquid.

Dans un mode particulier de mise en œuvre, le procédé comporteen outre une impression d'un motif sur un support comprenant laditeencre conductrice, un séchage dudit motif, et un recuit photonique duditmotif.In a particular mode of implementation, the method furthermore comprises an impression of a pattern on a support comprising said conductive ink, a drying of said pattern, and a photonic annealing of said pattern.

Dans un mode particulier de mise en œuvre, le recuit photoniqueest mis en œuvre par une pluralité d'impulsions de durée comprise entre40 et 80ps (ou de préférence entre 40 et 60ps), une durée de pause entreles impulsions comprise entre 400 et 1200ps (ou de préférence entre 400et 600ps), une tension comprise entre 230 et 400V (ou de préférenceentre 360 et 400V), et un nombre d'impulsions inférieur ou égal à 20 ouinférieur ou égal à 10.In a particular mode of implementation, the photonic annealing is implemented by a plurality of pulses of duration between 40 and 80ps (or preferably between 40 and 60ps), a pause time between pulses between 400 and 1200ps (or preferably between 400 and 600ps), a voltage of between 230 and 400V (or preferably between 360 and 400V), and a number of pulses less than or equal to 20 or less than or equal to 10.

On peut noter que le temps d'insolation est préférentiellementsuffisamment court pour ne pas détériorer le motif imprimé ou lecraqueler. Le temps de pause est préférentiellement choisi pour êtresuffisamment long pour que le motif imprimé refroidisse avant de recevoirune nouvelle impulsion. Le nombre de pulsations est également choisi (parexemple inférieur à 10) pour éviter d'endommager le motif imprimé. Lavaleur de tension de 400V est préférentiellement un maximum pour lesvaleurs indiquées ci-dessus de durées.It can be noted that the exposure time is preferably sufficiently short so as not to damage the printed pattern or to crack it. The pause time is preferably chosen to be long enough for the printed pattern to cool before receiving a new pulse. The number of pulses is also chosen (for example less than 10) to avoid damaging the printed pattern. Voltage attenuator of 400V is preferably a maximum for the values indicated above of durations.

Dans un mode particulier de mise en œuvre, ledit supportcomporte du verre, du polyimide, ou du Polytéréphtalate d'éthylène (PET).In a particular mode of implementation, said supportcomporte glass, polyimide, or polyethylene terephthalate (PET).

Un support comportant du polyimide peut par exemple être unsupport en kapton HN (marque déposée) commercialisé par la sociétéDuPont. L'invention est particulièrement adaptée pour former des filmsconducteurs sur des supports souples sur lesquels l'adhésion des films estfavorisée. L'invention propose également une encre conductrice comportantdes nanoparticules de cuivre et un liquide vecteur.A support comprising polyimide may for example be a Kapton HN (trademark) support sold by the company DuPont. The invention is particularly suitable for forming filmconductors on flexible supports on which film adhesion is favored. The invention also provides a conductive ink comprising copper nanoparticles and a carrier liquid.

Selon une caractéristique générale, l'encre comporte une quantitécomprise entre 12% et 25% de fraction massique de nanoparticules, et unadditif dispersant dans une quantité comprise entre 100 ppm et 100% defraction massique de la quantité de nanoparticules.According to a general characteristic, the ink comprises a quantity of between 12% and 25% mass fraction of nanoparticles, and a dispersant additive in an amount of between 100 ppm and 100% by mass fraction of the quantity of nanoparticles.

Dans un mode particulier de réalisation, les nanoparticules ont undiamètre compris entre 5 et 100 nanomètres, ou entre 5 et 20nanomètres, ou entre 5 et 8 nanomètres.In a particular embodiment, the nanoparticles have a diameter of between 5 and 100 nanometers, or between 5 and 20 nanometers, or between 5 and 8 nanometers.

Dans un mode particulier de réalisation, l'encre comporte aprèsséchage du liquide vecteur entre 0,5% et 1% de fraction massique duditadditif dispersant.In a particular embodiment, the ink comprises after drying the carrier liquid between 0.5% and 1% of mass fraction of said dispersant additive.

Dans un mode particulier de réalisation, le liquide vecteurcomporte au moins un premier sous-liquide vecteur ayant unetempérature d'ébullition comprise entre 100°C et 400°C (ou de préférenceentre 100°C et 200°C), une tension de surface comprise entre 35 et73mN/m (ou de préférence entre 35 et 50mN/m), et une viscositécomprise entre 5 et 22 centipoises, et un deuxième sous-liquide vecteurayant une température d'ébullition inférieure à 115°C, une tension desurface comprise entre 20 et 45 mN/m ( ou de préférence entre 20 et30mN/m), et une viscosité comprise entre 0,3 et 16 centipoises, le liquidevecteur comportant entre 1% et 50% ou entre 40% et 50% duditdeuxième sous-liquide vecteur.In a particular embodiment, the liquid carriercomporte at least a first sub-liquid vector having a boiling temperature of between 100 ° C and 400 ° C (or preferably between 100 ° C and 200 ° C), a surface tension included between 35 and 73 mN / m (or preferably between 35 and 50 mN / m), and a viscosity between 5 and 22 centipoises, and a second sub-liquid carrier having a boiling point below 115 ° C, a surface tension of between 20 and 50 mN / m. and 45 mN / m (or preferably between 20 and 30 mN / m), and a viscosity of between 0.3 and 16 centipoises, the liquid vector comprising between 1% and 50% or between 40% and 50% of said second sub-liquid vector.

Dans un mode particulier de réalisation, l'encre a une viscositécomprise entre 8 et 25 centipoises, une tension de surface comprise entre28 et 46 mN/m et une température d'ébullition comprise entre 40°C et200°C, ou de préférence entre 50°C et 150°C. L'encre telle que définie ci-dessus peut être obtenue directementpar tous les modes de mise en oeuvre du procédé tel que défini ci-avant. L'invention propose également un support comportant un motifimprimé comprenant l'encre imprimée telle que définie ci-avant.In a particular embodiment, the ink has a viscosity of between 8 and 25 centipoise, a surface tension of between 28 and 46 mN / m and a boiling point of between 40 ° C. and 200 ° C., or preferably between 50 ° C. and 200 ° C. ° C and 150 ° C. The ink as defined above can be obtained directly by all modes of implementation of the method as defined above. The invention also provides a support comprising a printed pattern comprising the printed ink as defined above.

Selon un mode particulier de réalisation, le support (sur lequel lemotif est imprimé) comporte du verre, du polyimide, ou duPolytéréphtalate d'éthylène.According to a particular embodiment, the support (on which the emotive is printed) comprises glass, polyimide, or polyethylene terephthalate.

Brève description des dessins D'autres caractéristiques et avantages de la présente inventionressortiront de la description faite ci-dessous, en référence aux dessinsannexés qui en illustrent un exemple dépourvu de tout caractère limitatif.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Other features and advantages of the present invention will be described from the following description with reference to the accompanying drawings which illustrate an example devoid of any limiting character.

Sur les figures : - la figure 1 représente de façon schématique différentes étapes selon unmode de mise en œuvre de l'invention, - la figure 2 est une courbe d'analyse thermogravimétrique d'une encreselon un mode de réalisation de l'invention, - les figures 3a, 3b, 3c, 3d et 3e sont des images des nanoparticules decuivre et de motifs imprimés.In the figures: - Figure 1 schematically shows different stages according to a method of implementation of the invention, - Figure 2 is a thermogravimetric analysis curve of an ink according to an embodiment of the invention, - FIGS. 3a, 3b, 3c, 3d and 3e are images of the nanoparticles and printed patterns.

Description détaillée d'un mode de réalisationDetailed description of an embodiment

Nous allons maintenant décrire un procédé de fabrication d'uneencre conductrice comprenant des nanoparticules de cuivre selon un modeparticulier de mise en œuvre de l'invention.We will now describe a method of manufacturing a conductive ink comprising copper nanoparticles according to a particular embodiment of the invention.

Sur la figure 1, on a représenté de manière schématique lesétapes d'un procédé de fabrication d'une encre. Les premières étapes dece procédé visent la synthèse de nanoparticules de cuivre. La synthèse estdécrite ici uniquement à titre d'exemple.In Figure 1, there is shown schematically the steps of a method of manufacturing an ink. The first steps of this process are aimed at the synthesis of copper nanoparticles. The synthesis is described here only as an example.

Préalablement à la mise en œuvre du procédé, on peut préparerun solvant de réaction au sein duquel on va former les nanoparticules decuivre.Prior to the implementation of the process, it is possible to prepare a reaction solvent in which the nanoparticles of the compound will be formed.

Ce solvant de réaction peut comporter un ou plusieurs solvantschoisi parmi les solvants suivants : éther de benzyle, eau, alcools(méthanol, éthanol, isopropanol, 1-methoxy propanol, butanol, ethylhellsil alcool et terpinéol), glycols (glycérine acétate d'éthyle éther, diéthylèneglycol, acétate de butyle éther, éthylène glycol, diéthylène glycolmonoéthyl éther, éthylène glycol monoéthyl éther, dipropylène glycolméthyl éther, tripropylène glycol méthyl éther, dibutyl phthalate, diocylphthalate, diocyl phthalate, tributyle phosphate, 1,3 butylène glycol,propylène glycol), acétates (éthyle acétate, butyl acétate, methoxy propylacétate, carbitol acétate, and éthyle carbitol acétate), les éthers (méthylcellosolve, butyl cellosolve, éther de benzyl, diethyl éther,tetrahydrofurane, dioxane), les cétones (méthylethylcétone, acétone,diméthylformamide, l-methyl-2-pyrrolidone), hydrocarbures (l'hexane,heptane, dodécane), huile de paraffine, naphta lourd (« minerai spirit » enanglais), aromatiques (benzène, toluène, xylène), solvants halogénés(chloroforme, chlorure de méthylène, tétrachlorure de carbone),acétonitrile, diméthylsulfoxide, pyridine, ou chlorure de méthylène. A ce solvant, on ajoute un matériau de protection destiné àencapsuler les nanoparticules de cuivre que l'on va former (étape El).Préférentiellement, ce matériau de protection est un polymère.This reaction solvent may comprise one or more solvents selected from the following solvents: benzyl ether, water, alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, 1-methoxy propanol, butanol, ethyl alcohol alcohol and terpineol), glycols (glycerin ethyl acetate ether diethylene glycol, butyl acetate ether, ethylene glycol, diethylene glycolmonoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol methyl ether, tripropylene glycol methyl ether, dibutyl phthalate, diocyl phthalate, diocyl phthalate, tributyl phosphate, 1,3 butylene glycol, propylene glycol), acetates (ethyl acetate, butyl acetate, methoxy propyl acetate, carbitol acetate, and ethyl carbitol acetate), ethers (methylcellosolve, butyl cellosolve, benzyl ether, diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane), ketones (methyl ethyl ketone, acetone, dimethylformamide, 2-methyl-2-pyrrolidone), hydrocarbons (hexane, heptane, dodecane), paraffin oil, naphtha ord ("spirit ore" enanglais), aromatic (benzene, toluene, xylene), halogenated solvents (chloroform, methylene chloride, carbon tetrachloride), acetonitrile, dimethylsulfoxide, pyridine, or methylene chloride. To this solvent is added a protective material intended to encapsulate the copper nanoparticles that will be formed (step E1). Preferably, this protective material is a polymer.

Ce polymère va former une gaine protectrice autour desnanoparticules de cuivre, ce qui empêche leur oxydation, et il vaégalement agir en tant qu'agent dispersant utilisé pour éviter l'agrégationdes nanoparticules entre elles.This polymer will form a protective sheath around the copper nanoparticles, which prevents their oxidation, and it will also act as a dispersing agent used to prevent aggregation of nanoparticles with each other.

Par rapport à la solution de synthèse totale dans laquelle on vaformer les nanoparticules, on ajoute une quantité de matériau deprotection comprise entre 0,1% et 55% de fraction massique.Préférentiellement, on ajoute entre 0,3% et 15% de fraction massique.With respect to the total synthesis solution in which the nanoparticles are formed, an amount of protective material of between 0.1% and 55% of mass fraction is added. Preferably, 0.3% to 15% of mass fraction is added. .

Le matériau de protection peut comporter un ou plusieursmatériaux de protection choisis parmi les molécules ou polymèressuivants : acide oléique, oleylamine, gélatine, acide hyaluronique, gommegellane, gomme xanthane, polyéthylène glycol (PEG), polypropylène glycolpolyvinyl alcool, polyvinyl pyrrolidone, poly(2-ethyl-2-oxazoline), acrylique(acide acrylique, acrylamide, polyuréthane), polyesters, polymères etcopolymères anhydride maleiques, polymères avec au moins une fonctionamine (allylamines, ethylèneimine, oxazoline), et d'autres polymèrescontenant des groupes aminés sur leur chaînes principales ou latérales(par exemple des ramifications).The protective material may comprise one or more protective materials chosen from the following molecules or polymer: oleic acid, oleylamine, gelatin, hyaluronic acid, gumglane, xanthan gum, polyethylene glycol (PEG), polypropylene glycolpolyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, poly (2- ethyl-2-oxazoline), acrylic (acrylic acid, acrylamide, polyurethane), polyesters, maleic anhydride polymers and polymers, polymers with at least one functionamine (allylamines, ethyleneimine, oxazoline), and other polymers containing amino groups on their main chains or lateral (eg ramifications).

Dans une deuxième étape E2, on élève la température jusqu'àatteindre une température comprise entre 40°C et 200°C, ou depréférence entre 60°C et 160°C.In a second step E2, the temperature is raised to a temperature between 40 ° C and 200 ° C, or preferably between 60 ° C and 160 ° C.

Tout en maintenant cette température, on ajoute (étape E3) aumélange formé par le matériau de protection et par le solvant de réaction,un réducteur puis un précurseur de cuivre. Le réducteur permet de formerdes germes métalliques de cuivre à partir du précurseur. A titre indicatif, on peut choisir un ou plusieurs réducteurs dans legroupe formé par : tri-sodium citrate, sodium phosphate monobasicmonohydrate, hydrochlorate de dopamine, acide ascorbique, di-sodiumtartrate, hydrazine, glucose, hydroquinone, acéthydrazide, borohydrure desodium ou potassium, diméthylamineborane, butylamineborane,hypophosphite de sodium, 1,2 hexadecanediol.While maintaining this temperature, (mixture E3) is added to the mixture formed by the protective material and the reaction solvent, a reducing agent and then a copper precursor. The reducer makes it possible to form metallic copper seeds from the precursor. As an indication, one or more reducing agents may be chosen from the group consisting of: tri-sodium citrate, sodium phosphate monobasicmonohydrate, dopamine hydrochlorate, ascorbic acid, di-sodium tartrate, hydrazine, glucose, hydroquinone, acethydrazide, sodium borohydride or potassium, dimethylamine borane , butylamineborane, sodium hypophosphite, 1,2 hexadecanediol.

La quantité de réducteur ajoutée est comprise entre 0,05% et13% de fraction massique de la solution de synthèse qui sera obtenue. A titre indicatif, on peut choisir un précurseur de cuivre tel qu'unprécurseur de cuivre II (phosphate de cuivre, sulfate de cuivre anhydre,sulfate de cuivre pentahydraté, acétate de cuivre monohydraté, chlorurede cuivre dihydraté (CuCI2), phosphate d'hydroxyde de cuivre,acetylacetonate de cuivre) et/ou de cuivre I (thiocyanate de cuivre,chlorure de cuivre (CuCI), naphthenate de cuivre, acétylacatonate decuivre).The amount of reducing agent added is between 0.05% and 13% of the mass fraction of the synthesis solution which will be obtained. As an indication, one can choose a copper precursor such as a copper precursor II (copper phosphate, anhydrous copper sulfate, copper sulfate pentahydrate, copper acetate monohydrate, copper chloride dihydrate (CuCl2), sodium hydroxide phosphate). copper, copper acetylacetonate) and / or copper I (copper thiocyanate, copper chloride (CuCl), copper naphthenate, acetylacatonate copper).

La quantité de précurseur de cuivre ajoutée est comprise entre0,05% et 10% de fraction massique de la solution de synthèse qui estobtenue à ce stade (après l'ajout du précurseur de cuivre).The amount of copper precursor added is between 0.05% and 10% of the mass fraction of the synthesis solution which is obtained at this stage (after the addition of the copper precursor).

La réduction mise en oeuvre permet d'obtenir des nanoparticulesintermédiaires (étape E4) ayant des dimensions de l'ordre de 50nanomètres et qui sont encapsulées par ledit matériau de protection. Onpeut notamment récupérer les nanoparticules intermédiaires parcentrifugation.The reduction used makes it possible to obtain intermediate nanoparticles (step E4) having dimensions of the order of 50 nanometers and which are encapsulated by said protective material. In particular, it is possible to recover the intermediate nanoparticles parcentrifugation.

Les nanoparticules intermédiaires sont ensuite séchées (étape E5)pour les séparer du solvant de réaction. Cette étape de séchage est miseen œuvre au moyen d'une étuve à une température comprise entre 50°Cet 70°C.The intermediate nanoparticles are then dried (step E5) to separate them from the reaction solvent. This drying step is carried out by means of an oven at a temperature of between 50 ° C. and 70 ° C.

Postérieurement au séchage, on broie les nanoparticulesintermédiaires encapsulées dans le matériau de protection pour obtenir des particules ayant un diamètre souhaité, par exemple compris entre 5 et8 nanomètres, ou entre 5 et 20 nanomètres, ou encore entre 5 et 100nanomètres. A titre indicatif, on peut utiliser un broyeur planétaire de la sociétéallemande Fritsch, pendant une durée comprise entre 3H et 10H, et avecune vitesse de broyage comprise entre 600 et 1100 révolutions parminute. Les paramètres pouvant être adaptés par l'homme du métier enfonction du diamètre voulu pour les nanoparticules.Subsequent to drying, the intermediate nanoparticles encapsulated in the protective material are ground to obtain particles having a desired diameter, for example between 5 and 8 nanometers, or between 5 and 20 nanometers, or between 5 and 100 nanometers. As a guide, a planetary mill from the German company Fritsch can be used for a period of time between 3 hours and 10 hours, and with a milling speed of between 600 and 1100 revolutions per minute. The parameters that can be adapted by those skilled in the art depending on the desired diameter for the nanoparticles.

Après le broyage, les nanoparticules sont récupérées dans unliquide vecteur.After grinding, the nanoparticles are recovered in a liquid vector.

Le liquide vecteur comporte un premier sous-liquide vecteur ayantune température d'ébullition comprise entre 100°C et 400°C (ou depréférence entre 100°C et 200°C pour certains des sous-liquide vecteurslistés ci-après), une tension de surface comprise entre 35 et 73mN/m (oude préférence entre 35 et 50mN/m), et une viscosité comprise entre 5 et22 centipoises. Ce premier sous-liquide vecteur peut être un éther deglycol ou une combinaison d'éther de glycols choisis parmi : glycérineacétate d'éthyle éther, diéthylène glycol butyle éther acétate; éthylèneglycol butyle éther acétate; diéthylène glycol monoéthyle éther; éthylèneglycol monoéthyl éther; dipropylène glycol méthyl éther; éthylène glycol,tripropylène glycol méthyle éther; tetraéthylène glycol; tributyl phosphate, 1,3 butylène glycol, propylène glycol.The vector liquid comprises a first sub-liquid carrier having a boiling point of between 100 ° C. and 400 ° C. (or preferably between 100 ° C. and 200 ° C. for some of the sub-liquid vectors described below), a tension of surface area of between 35 and 73 mN / m (or preferably between 35 and 50 mN / m), and a viscosity of between 5 and 22 centipoise. This first sub-liquid vector can be a glycol ether or a combination of ether glycols selected from: glycerin ethyl acetate ether, diethylene glycol butyl ether acetate; ethylene glycol butyl ether acetate; diethylene glycol monoethyl ether; ethylene glycol monoethyl ether; dipropylene glycol methyl ether; ethylene glycol, tripropylene glycol methyl ether; tetraethylene glycol; tributyl phosphate, 1,3 butylene glycol, propylene glycol.

Le liquide vecteur comporte également un deuxième sous-liquidevecteur ayant une température d'ébullition inférieure à 115°C, une tensionde surface comprise entre 20 et 45 mN/m (ou de préférence entre 20 et30 mN/m), et une viscosité comprise entre 0,3 et 16 centipoises. Cedeuxième sous-liquide vecteur comporte un ou plusieurs solvants parmi :méthanol, éthanol, isopropanol, hexane, 1-methoxy propanol, butanol,éthylhellsil alcool, terpinéol, 2-méthoxyéthanol, iso-propoxy éthanol. Leliquide vecteur comporte une proportion comprise entre 1% et 50% dedeuxième sous-liquide vecteur.The carrier liquid also comprises a second sub-liquid reactor having a boiling point of less than 115 ° C., a surface tension of between 20 and 45 mN / m (or preferably between 20 and 30 mN / m), and a viscosity of between 0.3 and 16 centipoises. The second sub-liquid vector comprises one or more of: methanol, ethanol, isopropanol, hexane, 1-methoxy propanol, butanol, ethyl alcohol alcohol, terpineol, 2-methoxyethanol, iso-propoxy ethanol. The vector liquid comprises a proportion of between 1% and 50% of the second sub-liquid vector.

Le liquide vecteur peut aussi simplement être un seul solvantparmi les familles de solvants cités ci-dessus. Dans une dernière étape E7,on récupère les nanoparticules broyées dans le liquide vecteur, avec unequantité de nanoparticules de cuivre encapsulées et broyées compriseentre 12% et 25% de fraction massique audit liquide vecteur.The carrier liquid may also simply be a single solvent among the families of solvents mentioned above. In a last step E7, the crushed nanoparticles are recovered in the carrier liquid, with a quantity of encapsulated and ground copper nanoparticles comprised between 12% and 25% of mass fraction to said vector liquid.

On obtient ainsi une encre conductrice comportant desnanoparticules de cuivre ayant des dimensions comprises entre 5 et 8nanomètres, ou entre 5 et 20 nanomètres, ou encore entre 5 et 100nanomètres, et qui ont été encapsulées.A conductive ink is thus obtained comprising copper nanoparticles having dimensions of between 5 and 8 nanometers, or between 5 and 20 nanometers, or between 5 and 100 nanometers, and which have been encapsulated.

On ajoute également au cours de l'étape E7 un additif dispersantdans une quantité comprise entre 100 ppm et 100% de fraction massiquede la quantité de nanoparticules. D'autres additifs peuvent être ajoutés pour ajuster notamment lesparamètres rhéologiques de l'encre (viscosité, tension de surface), pourque celle-ci soit adaptée à la machine et à la tête d'impression utiliséeultérieurement. On peut noter que ces paramètres ont également uneinfluence sur l'étalement de l'encre sur son support, et de ce fait, unhomme du métier pourra prendre en compte le type de support pourobtenir une mouillabilité recherchée pour l'encre sur le support.A dispersant additive in an amount of between 100 ppm and 100% mass fraction of the quantity of nanoparticles is also added during step E7. Other additives may be added to adjust, in particular, the rheological parameters of the ink (viscosity, surface tension), so that it is adapted to the machine and to the print head used later. It may be noted that these parameters also have an influence on the spreading of the ink on its support, and as a result, a person skilled in the art can take into account the type of support to obtain a desired wettability for the ink on the support.

En ce qui concerne les additifs dispersants, on pourra choisir unpolymère destiné à se greffer sur les nanoparticules encapsulées pourminimiser la tension d'interface entre ces nanoparticules avec leur milieuorganique environnant. L'additif dispersant est un tensioactif qui réduit latension de surface entre les particules et le liquide vecteur. L'additif dispersant peut être un polymère choisi parmi : polyalkylspolybutadiène et/ou polyaryl, esters d'acides méthacryliques,poly(meth)acrylamides et poly(meth)acrylonitrile, polybutyl acrylates,polymères alkoxylates, polysiloxanes ou méthacrylate-butadiène-styrène(MBS) copolymères et copolymères de méthacrylate-acrylonitrile-butadiène-styrène, éthylacétates, polymères avec oxirane, -méthyl (2-aminopropyl méthyl éther, mono[(diethylamino)alkyl] éther), 2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy] acide acétique, amino-alcools oxy-alkylés,polyphosphoric acids, polymères avec dihydro-3-(octadecen-l-yl)-2,5-furandione, éthylène, 2,5-Furandione, dihydro-3-(octadecen-l-yl)-,polymères avec 1,2-ethanediol, 3-(hexadecen-l-yl)dihydro-2,5-furandioneet oxirane.As regards the dispersant additives, it will be possible to choose a polymer intended to be grafted onto the encapsulated nanoparticles in order to minimize the interface voltage between these nanoparticles and their surrounding organic medium. The dispersant additive is a surfactant that reduces the surface tension between the particles and the carrier liquid. The dispersing additive may be a polymer chosen from: polyalkylpolybutadiene and / or polyaryl, methacrylic acid esters, poly (meth) acrylamides and poly (meth) acrylonitrile, polybutyl acrylates, alkoxylated polymers, polysiloxanes or methacrylate-butadiene-styrene (MBS ) copolymers and copolymers of methacrylate-acrylonitrile-butadiene-styrene, ethylacetates, polymers with oxirane, -methyl (2-aminopropyl methyl ether, mono [(diethylamino) alkyl] ether), 2- [2- (2-methoxyethoxy) ethoxy] acetic acid, oxyalkylated aminoalcohols, polyphosphoric acids, polymers with dihydro-3- (octadecen-1-yl) -2,5-furandione, ethylene, 2,5-furandione, dihydro-3- (octadecen-1) yl) - polymers with 1,2-ethanediol, 3- (hexadecen-1-yl) dihydro-2,5-furandionet oxirane.

En particulier, et de préférence l'additif dispersant peut présenterla forme suivante :In particular, and preferably the dispersant additive may have the following form:

Ri- (O-CnH2n)- R2R - (O-CnH2n) - R2

Avec Ri et R2 des groupes ou une succession de groupes choisisparmi : Hydrogène, alkyl, amine, hydroxylamine, oxyalkyl silane (triéthoxysilane par exemple), cétone, alcool, éther, acide sulfonique,acide acrylique.With R 1 and R 2, groups or a succession of groups chosen from: hydrogen, alkyl, amine, hydroxylamine, oxyalkyl silane (triethoxysilane, for example), ketone, alcohol, ether, sulphonic acid, acrylic acid.

On peut noter qu'il est possible d'utiliser plusieurs additifsdispersants choisis dans le groupe défini ci-avant.It may be noted that it is possible to use several dispersing additives chosen from the group defined above.

Aussi, on ajoute une quantité d'additif dispersant comprise entre100 ppm et 100% de fraction massique de la quantité de nanoparticules.Also, a quantity of dispersant additive of between 100 ppm and 100% of mass fraction of the quantity of nanoparticles is added.

On peut enfin mettre en œuvre une impression sur un support,par exemple en utilisant une machine Dimatix de la société Fujifilm.Postérieurement à une impression de motifs, on peut par exemple fairesécher ces motifs à l'étuve (70°C pendant 10 minutes), et ce avant demettre en œuvre un recuit photonique.Finally, it is possible to implement an impression on a support, for example by using a Dimatix machine from Fujifilm. Beforehand, for example, for pattern printing, these patterns can be dried in an oven (70 ° C. for 10 minutes). , and this before implementing a photonic annealing.

Pour mettre en œuvre un recuit photonique, on peut utiliser lamachine commercialisée par la société Novacentrix sous la dénominationPulseforge.To implement photonic annealing, it is possible to use the machine marketed by Novacentrix under the name Pulseforge.

Dans un tel recuit, des impulsions de lumières sont émises pourchauffer les nanoparticules jusqu'à une température proche de 400°C pourobtenir leur coalescence. Cela provoque également une désoxydation desnanoparticules, qui peuvent présenter une couche d'oxyde de cuivrerésiduelle.In such annealing, pulses of light are emitted to heat the nanoparticles to a temperature close to 400 ° C to obtain their coalescence. This also causes deoxidation of nanoparticles, which may have a residual copper oxide layer.

Cette désoxydation est obtenue au moyen du matériau deprotection (qui comporte du carbone dans une chaîne hydrocarbonée)utilisé comme dispersant qui réduit l'oxyde de cuivre. Lors du recuit, cematériau de protection coule entre les interstices situés entre lesnanoparticules de cuivre. C'est le carbone qui s'oxyde en réduisant l'oxydede cuivre en Cu2O puis le Cu2O en cuivre lorsque la température devientélevée.This deoxidation is achieved by means of the protective material (which has carbon in a hydrocarbon chain) used as a dispersant which reduces the copper oxide. During annealing, the protective material flows between the interstices between the copper nanoparticles. It is the carbon that oxidizes by reducing copper oxide to Cu2O and Cu2O to copper when the temperature becomes high.

Les paramètres de l'étape de recuit photonique peuvent être lessuivants pour une impression sur du kapton : la tension est fixée à 400V,la durée des impulsions est comprise entre 40 et 80 microsecondes, lafréquence des impulsions est comprise entre 900 Hz et 4,2 kHz. Lenombre d'impulsions peut être compris entre 10 et 20 impulsions.The parameters of the photonic annealing step may be the following for printing on kapton: the voltage is fixed at 400V, the duration of the pulses is between 40 and 80 microseconds, the pulse frequency is between 900 Hz and 4.2 kHz. The number of pulses can be between 10 and 20 pulses.

Ces paramètres permettent de former un motif continu de cuivresous la forme d'un film, et de favoriser l'adhérence de ce motif sur sonsupport.These parameters make it possible to form a continuous pattern of copper in the form of a film, and to promote the adhesion of this pattern on its support.

Sur la figure 2, on a représenté une courbe d'analysethermogravimétrique d'une encre obtenue par le procédé décrit enréférence à la figure 1.In FIG. 2, there is shown a graph of the gravimetric analysis of an ink obtained by the method described in reference in FIG.

Sur cette figure, la courbe en trait continu correspond à la fractionmassique mesurée, et la courbe en trait discontinu correspond à lavariation de cette fraction massique.In this figure, the curve in continuous line corresponds to the measured mass fraction, and the curve in dashed line corresponds to the variation of this mass fraction.

Dans l'exemple de la figure 2, un additif matériau de protection aété ajouté comme décrit ci-avant.In the example of Figure 2, an additive protective material was added as described above.

On peut noter que 1.610% de fraction massique sont tout d'abordperdu suite à l'évaporation du résidu de liquide vecteur.It can be noted that 1.610% of the mass fraction is first lost by the evaporation of the residual liquid vector.

Ensuite, le premier pic de la courbe de variation de fractionmassique (trait discontinu) correspond à une perte de masse à partird'environ 100°C due au départ de molécules d'oxygène selon la réactionde réduction sous azote de l'oxyde de cuivre II (CuO) à l'oxyde de cuivre I(Cu2O) :Then, the first peak of the fractional fraction variation curve (dashed line) corresponds to a loss of mass from about 100 ° C due to the departure of oxygen molecules according to the reduction reaction under nitrogen of copper oxide II (CuO) with copper oxide I (Cu2O):

CuO -> Cu2O + 1/2 02CuO -> Cu2O + 1/2 02

Le deuxième pic de cette courbe correspond à une perte de massecommençant au voisinage de 180 à 200°C de l'enveloppe desnanoparticules comprenant le matériau de protection et l'additifdispersant. On peut déduire de cette figure que les nanoparticules decuivre sont entourées après séchage de 7% à 9% de matière organiquedont entre 0.5 à 1% d'additif dispersant et entre 6,5 et 8% de matériaude protection.The second peak of this curve corresponds to a loss of mass starting around 180 to 200 ° C of nanoparticles envelope comprising the protective material and the dispersant additive. From this figure it can be deduced that the nanoparticles of the copper are surrounded, after drying, by 7% to 9% of organic material, of between 0.5 to 1% of dispersant additive and between 6.5% and 8% of material protection.

Le dernier pic correspond à la perte de masse due au départ desmolécules d'oxygène selon la réaction de réduction sous azote de l'oxydede cuivre I (Cu2O) en Cu métallique :The last peak corresponds to the loss of mass due to the departure of the oxygen molecules according to the reduction reaction under nitrogen of copper oxide I (Cu 2 O) to metallic Cu:

Cu2O -> Cu+ 1/z 02Cu2O -> Cu + 1 / z 02

La figure 3a est une image obtenue par Microscopie Electroniqueen Transmission (MET) des nanoparticules intermédiaires obtenues aprèsla mise en œuvre de l'étape E5 décrite en référence à la figure 1. Commeon peut le voir sur cette figure, les nanoparticules ont un diamètre del'ordre de la cinquantaine de nanomètres.FIG. 3a is an image obtained by Transmission Electron Microscopy (TEM) of the intermediate nanoparticles obtained after the implementation of the step E5 described with reference to FIG. 1. As can be seen in this figure, the nanoparticles have a diameter of order of about fifty nanometers.

La figure 3b est une image obtenue par MET des nanoparticulesobtenues à la fin du procédé de la figure 1. Comme on peut le voir surcette figure, les dimensions des nanoparticules sont bien inférieures àcelles des nanoparticules de la figure 3a.FIG. 3b is an image obtained by TEM of the nanoparticles obtained at the end of the process of FIG. 1. As can be seen in this figure, the dimensions of the nanoparticles are much smaller than those of the nanoparticles of FIG. 3a.

La figure 3c est une image obtenue par Microscopie Electronique àBalayage (MEB) d'un film obtenu après impression et recuit photonique.FIG. 3c is an image obtained by Scanning Electron Microscopy (SEM) of a film obtained after printing and photonic annealing.

Les figures 3d et 3e sont des photographies de pistes conductricesobtenues sur un support en Kapton HN et avec une encre selonl'invention. Comme on peut le voir sur ces figures, on obtient des lignescontinues et ayant une largeur de l'ordre de 200 micromètres.FIGS. 3d and 3e are photographs of conductive tracks obtained on a Kapton HN support and with an ink according to the invention. As can be seen in these figures, continuous lines having a width of the order of 200 micrometers are obtained.

Les inventeurs ont observé que les motifs imprimés présentaientune résistivité de l'ordre de 8 micro Ohms par centimètre, et que lesmotifs imprimés résistaient à un arrachement selon le test du rubanadhésif standardisé.The inventors observed that the printed patterns exhibited a resistivity of the order of 8 micro ohms per centimeter, and that the printed patterns resisted tearing according to the standardized tape-adhesive test.

Aussi, en mettant en œuvre une analyse de diffraction par rayons X (« X-ray diffraction : XRD en langue anglaise»), on peut déterminer qu'unequantité d'oxyde de cuivre CuO reste présente au voisinage de la surfacedu film imprimé, et que la quantité d'oxyde de cuivre CuO est inférieure à10% de la fraction volumique du film. A titre d'exemple, on peut former des nanoparticules selon leprocédé suivant.Also, by implementing an X-ray diffraction ("X-ray diffraction: XRD in English") analysis, it can be determined that a quantity of copper oxide CuO remains present in the vicinity of the surface of the printed film, and that the amount of copper oxide CuO is less than 10% of the volume fraction of the film. By way of example, nanoparticles can be formed according to the following method.

Dans de l'éther de benzyle (solvant de réaction), on peut ajouterdes quantités comprises entre 8,5% et 8% respectivement de fractionmassique d'acide oléique de d'oleylamine (matériaux de protection).In benzyl ether (reaction solvent), amounts of between 8.5% and 8% respectively of oleylamine oleic acid fraction (protective material) may be added.

On ajoute ensuite du 1,2-hexadecanediol (réducteur) pour obtenirune fraction massique finale de 12,9%. Le 1,2-hexadecanediol est ajoutédéjà dissout dans l'éther de benzyle.1,2-hexadecanediol (reductant) is then added to give a final mass fraction of 12.9%. 1,2-Hexadecanediol is added to the benzyl ether.

Cette solution est chauffée jusqu'à une température de 105°Cavec agitation, puis l'on maintient cette température pendant 10 minutes.This solution is heated to a temperature of 105 ° C stirring, and then this temperature is maintained for 10 minutes.

Ensuite, on ajoute un précurseur de cuivre (acetylacetonate decuivre (II)) avec une fraction massique de 1,3%. Le précurseur de cuivreest ajouté déjà dissout dans l'éther de benzyle. Les fractions massiquesmentionnées ci-avant sont définies par rapport à la solution obtenue à cestade.Then, a copper precursor (acetylacetonate decuivre (II)) with a mass fraction of 1.3% is added. The copper precursor is added already dissolved in benzyl ether. The mass fractions mentioned above are defined with respect to the solution obtained at cestade.

La température est ensuite élevée à 190°C et elle est maintenuesous agitation pendant 30 minutes.The temperature is then raised to 190 ° C and is stirred for 30 minutes.

On met ensuite en œuvre une centrifugation et les particulesséparées sont lavées et séchées dans une étuve sous argon.Centrifugation is then carried out and the separated particles are washed and dried in an oven under argon.

Les particules sont ensuite récupérées dans de l'hexane (liquidevecteur) puis broyées dans un broyeur à billes pendant une durée de 3heures à 900 révolutions par minute.The particles are then recovered in hexane (liquidvector) and then ground in a ball mill for a period of 3 hours at 900 revolutions per minute.

On récupère les particules broyées que l'on filtre ensuite sur unfiltre ayant une porosité de 5 micromètres pour séparer les billes desnanoparticules. Le filtrat est récupéré et dilué dans l'hexane jusqu'àobtenir une encre à base de nanoparticules avec une fraction massique de25%.The crushed particles are recovered and then filtered through a filter having a porosity of 5 microns to separate the nanoparticles beads. The filtrate is recovered and diluted in hexane until obtaining an ink based on nanoparticles with a mass fraction of 25%.

Un dispersant tel qu'un éthoxylate d'acide gras (Ci3EO6 (CH3—(CH2)i2—(O—CH2—CH2)6—·OH)) est ensuite utilisé avec une fractionmassique de 1% par rapport à la masse des nanoparticules introduites.A dispersant such as a fatty acid ethoxylate (C13EO6 (CH3- (CH2) 12- (O-CH2-CH2) 6- · OH)) is then used with a 1% mass fraction based on the mass of the nanoparticles. introduced.

Une impression de l'encre par une imprimante Dimatix permetd'imprimer des pistes qui sont séchées à l'étuve à 40°C pour ensuite subirun recuit photonique. Ce recuit est fait avec les paramètres suivants :A printing of the ink by a Dimatix printer allows the printing of tracks which are oven dried at 40 ° C and then undergo photonic annealing. This annealing is done with the following parameters:

Durée d'insolation : 60 microsecondesDuration of insolation: 60 microseconds

Durée de pause : 400 microsecondesBreak time: 400 microseconds

Tension : 400VVoltage: 400V

Nombre de puises : 10Number of taps: 10

Ceci permet d'obtenir des films robustes qui ont une résistance del'ordre de 350 Ohm par carré.This makes it possible to obtain robust films which have a resistance of the order of 350 Ohm per square.

Claims (3)

REVENDICATIONS 1. Procédé d'impression d'une encre conductrice, la fabrication del'encre conductrice comportant un ajout dans un liquide vecteur denanoparticules de cuivre dans une quantité comprise entre 12% et 25%de fraction massique de nanoparticules, et un ajout dans ledit liquidevecteur d'un additif dispersant dans une quantité comprise entre 100 ppmet 100% de fraction massique de la quantité de nanoparticules, le procédé d'impression comportant une impression d'un motif sur unsupport comprenant ladite encre conductrice, un séchage dudit motif, etun recuit photonique dudit motif,caractérisé en ce que le recuit photonique est mis en œuvre par unepluralité d'impulsions de durée comprise entre 40 et 80ps ou entre 40 et60ps, une durée de pause entre les impulsions comprise entre 400 et1200ps ou entre 400 et 600ps, une tension comprise entre 230 et 400V ouentre 360 et 400V, et un nombre d'impulsions inférieur ou égal à 20 ouinférieur ou égal à 10.1. A method for printing a conductive ink, the manufacture of the conductive ink comprising an addition in a liquid vector of nanoparticles of copper in an amount of between 12% and 25% mass fraction of nanoparticles, and an addition in said liquidvector a dispersant additive in an amount of 100 to 100% by mass fraction of the amount of nanoparticles, the printing method comprising printing a pattern on a substrate comprising said conductive ink, drying said pattern, and photonic annealing; of said pattern, characterized in that the photonic annealing is carried out by a plurality of pulses of duration between 40 and 80ps or between 40 and 60ps, a duration of pause between pulses between 400 and 1200ps or between 400 and 600ps, a voltage between 230 and 400V or between 360 and 400V, and a number of pulses less than or equal to 20 or less than or equal to 10. 2. Procédé selon la revendication 1, dans lequel les nanoparticulesont un diamètre compris entre 5 et 100 nanomètres, ou entre 5 et 20nanomètres, ou entre 5 et 8 nanomètres. 3. Procédé selon la revendication 2, dans lequel la fabrication del'encre conductrice comprend une étape préalable de broyage denanoparticules intermédiaires de cuivre au moyen d'un broyeur planétaire,pour obtenir lesdites nanoparticules de cuivre ayant un diamètre comprisentre 5 et 100 nanomètres, ou entre 5 et 20 nanomètres, ou entre 5 et 8nanomètres. 4. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, danslequel le liquide vecteur comporte au moins un premier sous-liquidevecteur ayant une température d'ébullition comprise entre 100°C et 400°Cou entre 100°C et 200°C, une tension de surface comprise entre 35 et 73mN/m ou entre 35 et 50 mN/m, et une viscosité comprise entre 5 et 22centipoises, et un deuxième sous-liquide vecteur ayant une température d'ébullition inférieure à 115°C, une tension de surface comprise entre 20et 45 mN/m, ou entre 20 et 30 mN/m et une viscosité comprise entre 0,3et 16 centipoises, le liquide vecteur comportant entre 1% et 50% de fraction massique ouentre 40% et 50% de fraction massique dudit deuxième sous-liquidevecteur.2. The method of claim 1, wherein the nanoparticles have a diameter between 5 and 100 nanometers, or between 5 and 20 nanometers, or between 5 and 8 nanometers. The method according to claim 2, wherein the manufacture of the conductive ink comprises a prior step of grinding an intermediate copper nanoparticles by means of a planetary mill, to obtain said copper nanoparticles having a diameter of between 5 and 100 nanometers, or between 5 and 20 nanometers, or between 5 and 8 nanometers. 4. Process according to any one of claims 1 to 3, in which the carrier liquid comprises at least a first sub-liquid driver having a boiling point of between 100 ° C. and 400 ° C. between 100 ° C. and 200 ° C., a surface tension of between 35 and 73 mN / m or between 35 and 50 mN / m, and a viscosity of between 5 and 22 centipoises, and a second sub-liquid vector having a boiling point of less than 115 ° C., a tension of with a surface area of between 20 and 45 mN / m, or between 20 and 30 mN / m and a viscosity of between 0.3 and 16 centipoises, the carrier liquid comprising between 1% and 50% of mass fraction or between 40% and 50% of fraction. mass of said second sub-liquidvector. 5. Procédé selon la revendication 1, dans lequel ledit supportcomporte du verre, du polyimide, ou du Polytéréphtalate d'éthylène.5. The process according to claim 1, wherein said carrier comprises glass, polyimide, or polyethylene terephthalate.
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