FR2947813A1 - SYNTHETIC JET GENERATING MICROSYSTEM, MANUFACTURING METHOD AND CORRESPONDING FLOW CONTROL DEVICE. - Google Patents

SYNTHETIC JET GENERATING MICROSYSTEM, MANUFACTURING METHOD AND CORRESPONDING FLOW CONTROL DEVICE. Download PDF

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Abstract

Ce microsystème (10) de génération d'un jet synthétique de fluide comprenant une enceinte définissant une cavité (12) et munie d'un orifice (14) de sortie du jet et d'au moins une membrane (16) déformable associée à des moyens d'actionnement pour provoquer au moins une mise en vibration de la membrane (16) et donc une aspiration et un refoulement de fluide dans et hors de la cavité (12) pour générer le jet synthétique est caractérisé en ce que les moyens d'actionnement comprennent des moyens électromagnétiques (18, 20).This microsystem (10) for generating a synthetic fluid jet comprising an enclosure defining a cavity (12) and provided with an outlet orifice (14) of the jet and at least one deformable membrane (16) associated with actuating means for causing at least one vibration of the membrane (16) and thus a suction and a discharge of fluid into and out of the cavity (12) to generate the synthetic jet is characterized in that the means of actuation comprise electromagnetic means (18, 20).

Description

Microsystème de génération d'un jet synthétique, procédé de fabrication et dispositif de contrôle d'écoulement correspondants La présente invention concerne un microsystème de génération d'un jet synthétique de fluide comprenant une enceinte définissant une cavité de réception du fluide et munie d'un orifice de sortie du jet et d'au moins une membrane déformable associée à des moyens d'actionnement pour provoquer au moins une mise en vibration de la membrane et donc une aspiration et un refoulement de fluide dans et hors de la cavité pour générer le jet synthétique. Elle concerne également un procédé de fabrication d'un tel microsystème ainsi qu'un dispositif de contrôle d'écoulement correspondant. Plus particulièrement, l'invention se rapporte au domaine des dispositifs générateurs de jets synthétiques. Les jets synthétiques sont des jets de fluides, généralement gazeux, expulsés au travers d'un orifice et produits par la vidange et le remplissage alternatifs d'une cavité constituée d'une ou plusieurs parois vibrantes. Dans l'état de la technique, divers moyens pour générer les variations de volume de la cavité ont été utilisés. Un premier exemple est l'utilisation d'un piston actionné par un moteur. Les jets synthétiques, générés avec un actionnement de ce type sont puissants mais au prix d'une basse fréquence d'actionnement et d'une consommation importante. De plus, ce sont des systèmes encombrants. Un deuxième exemple d'actionnement communément appliqué est l'utilisation d'un ou plusieurs éléments piézoélectriques. Ces dispositifs piézoélectriques sont moins performants en terme de vitesse que les dispositifs utilisant un piston, mais les gammes de fréquence sont plus versatiles. Néanmoins, les performances des jets synthétiques sont dépendantes des résonances des éléments piézoélectriques, les meilleurs résultats étant obtenus aux fréquences de résonance. L'encombrement, bien que réduit par rapport aux dispositifs utilisant un piston comme moyen d'actionnement, reste quand même important (de l'ordre de plusieurs centimètres cubes). Actuellement, les dispositifs de génération de jets synthétiques intéressent de plus en plus les chercheurs et les industriels notamment dans le domaine du contrôle d'écoulement. The present invention relates to a microsystem for generating a synthetic jet of fluid comprising an enclosure defining a cavity for receiving the fluid and equipped with a fluid jet. outlet orifice of the jet and at least one deformable membrane associated with actuating means for causing at least one vibration of the membrane and thus a suction and a discharge of fluid into and out of the cavity to generate the jet synthetic. It also relates to a method of manufacturing such a microsystem and a corresponding flow control device. More particularly, the invention relates to the field of devices generating synthetic jets. Synthetic jets are jets of fluids, generally gaseous, expelled through an orifice and produced by the alternative emptying and filling of a cavity consisting of one or more vibrating walls. In the state of the art, various means for generating volume variations of the cavity have been used. A first example is the use of a piston actuated by a motor. The synthetic jets, generated with such an actuation are powerful but at the cost of a low frequency of operation and a significant consumption. In addition, they are bulky systems. A second example of actuation commonly applied is the use of one or more piezoelectric elements. These piezoelectric devices are less efficient in terms of speed than the devices using a piston, but the frequency ranges are more versatile. Nevertheless, the performances of the synthetic jets are dependent on the resonances of the piezoelectric elements, the best results being obtained at the resonant frequencies. The size, although reduced compared to devices using a piston as a means of actuation, is still important (of the order of several cubic centimeters). Currently, devices for generating synthetic jets interest more and more researchers and manufacturers especially in the field of flow control.

Le contrôle d'écoulement est une technique qui permet de manipuler un écoulement (libre ou à proximité d'une paroi) à l'aide de dispositifs (passifs ou actifs) pour y produire des changements favorables. Ces changements sont, par exemple au niveau de la couche limite, le retardement ou l'avancement d'une transition laminaire/turbulent et la prévention du décollement. Ces modifications sur l'écoulement produisent des conséquences favorables pour l'utilisateur, comme par exemple la réduction de la traînée, l'augmentation de la portance, la réduction du bruit ou l'amélioration du mélange dans la couche limite. Le problème principal actuellement est l'encombrement des dispositifs de contrôle d'écoulement. En effet, les deux solutions de contrôle les plus intéressantes, à savoir le contrôle de couche limite et le contrôle de décollement, agissent à des échelles où les ordres de grandeur des structures sur lesquelles on veut produire un effet sont de l'ordre du millimètre voir submillimétrique. Ceci veut dire que les moyens d'action utilisés doivent être du même ordre de grandeur. Les microsystèmes dits MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) apportent des réponses aux problèmes énoncés, à savoir un faible encombrement et une adaptation d'échelle convenable pour les problèmes de contrôle de décollement et de couche limite. Ces systèmes sont de taille réduite ce qui permet un actionnement très localisé mais aussi des prises d'information à l'aide de microcapteurs avec une résolution spatiale améliorée par rapport aux éléments capteurs conventionnels. De plus, leurs techniques d'usinage collectif et leur faible consommation contribuent à améliorer leur rendement dans les applications de contrôle d'écoulement. Cet avantage est indiqué à la fin de la description, page 8. Flow control is a technique that manipulates a flow (free or near a wall) using devices (passive or active) to produce favorable changes. These changes are, for example at the boundary layer, the retardation or advancement of a laminar / turbulent transition and the prevention of detachment. These changes in flow have positive consequences for the user, such as drag reduction, increased lift, noise reduction, or improved boundary layer mixing. The main problem at present is the congestion of the flow control devices. Indeed, the two most interesting control solutions, namely the boundary layer control and the detachment control, act on scales where the orders of magnitude of the structures on which we want to produce an effect are of the order of a millimeter. see submillimetric. This means that the means of action used must be of the same order of magnitude. Microsystems called MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) provide answers to the stated problems, namely a small footprint and suitable scaling for the problems of control delamination and boundary layer. These systems are of small size which allows a very localized operation but also information taking using microsensors with improved spatial resolution compared to conventional sensor elements. In addition, their collective machining techniques and low consumption help improve their performance in flow control applications. This benefit is indicated at the end of the description on page 8.

Dans l'état de la technique, il y a aujourd'hui très peu d'exemples de dispositifs de génération de jets synthétiques réalisés grâce aux microtechnologies. En outre, aucun des dispositifs actuels ne présente des performances satisfaisant les cahiers des charges des applications de contrôle d'écoulement pour des véhicules aériens (avions, missiles, fusées, ...) ou terrestres (automobiles, trains, ...). Par ailleurs, les dispositifs existants ne sont pas intégrables sur des configurations macroscopiques réalistes d'éléments de véhicules. In the state of the art, there are today very few examples of devices for generating synthetic jets made using microtechnologies. In addition, none of the current devices has performance satisfactory specifications of flow control applications for air vehicles (aircraft, missiles, rockets, ...) or terrestrial (cars, trains, ...). Moreover, the existing devices are not integrable on realistic macroscopic configurations of vehicle elements.

Le but de l'invention est de résoudre ces deux problèmes. A cet effet, l'invention a pour objet un microsystème, du type précité, caractérisé en ce que les moyens d'actionnement comprennent des moyens électromagnétiques. The object of the invention is to solve these two problems. For this purpose, the subject of the invention is a microsystem of the aforementioned type, characterized in that the actuating means comprise electromagnetic means.

Suivant des modes particuliers de réalisation, le microsystème comprend une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prise(s) isolément ou suivant toutes les caractéristiques techniquement possibles : - les moyens électromagnétiques comprennent une bobine raccordée à une source de courant électrique et un aimant permanent ; - l'aimant est fixé sur la membrane par l'intermédiaire d'un plot rigide, fixé sur celle-ci en regard de l'orifice et la bobine est placée au-dessus de l'aimant ; - l'orifice de sortie et/ou le plot rigide ont une forme circulaire ; - la bobine est un solénoïde de rayon interne supérieur au rayon du plot rigide ; - la cavité et l'orifice sont usinés à partir de deux substrats en silicium ; - la membrane est réalisée en matériau élastomère ; - le matériau élastomère est le polydiméthilsiloxane (PDMS) ; - l'aimant est réalisé en NdFeB ; - l'aimant est réalisé en SmCo ; - le plot rigide est réalisé en silicium ; L'invention a également pour objet un procédé de fabrication d'un microsystème de génération de jets synthétiques tel que défini ci-dessus, caractérisé en ce qu'il comprend : a) une étape de collage par thermocompression d'un premier et d'un deuxième substrats en silicium ; b) une étape de gravure ionique réactive profonde (DRIE) du premier et du deuxième substrats en silicium pour former respectivement la cavité et l'orifice de sortie ; c) une étape de gravure ionique réactive profonde (DRIE) d'un troisième substrat en silicium ; d) une étape de dépôt de polydiméthilsiloxane (PDMS) sur le troisième substrat pour former la membrane ; e) une étape de gravure humide du troisième substrat pour former le plot rigide ; f) une étape de collage du troisième substrat muni de la membrane sur le premier substrat contenant la cavité ; et g) une étape de fixation des moyens d'actionnement électromagnétiques de la membrane. Suivant un mode particulier de réalisation, le procédé de fabrication est caractérisé en ce que l'étape de gravure ionique réactive profonde utilise le procédé Bosch. According to particular embodiments, the microsystem comprises one or more of the following characteristics, taken separately or according to all the technically possible characteristics: the electromagnetic means comprise a coil connected to a source of electric current and a permanent magnet; - The magnet is fixed on the membrane by means of a rigid pad fixed thereto opposite the orifice and the coil is placed above the magnet; the outlet orifice and / or the rigid pad have a circular shape; the coil is a solenoid of inner radius greater than the radius of the rigid pad; the cavity and the orifice are machined from two silicon substrates; the membrane is made of elastomeric material; the elastomeric material is polydimethylsiloxane (PDMS); the magnet is made of NdFeB; the magnet is made of SmCo; the rigid pad is made of silicon; The subject of the invention is also a method for manufacturing a microsystem for generating synthetic jets as defined above, characterized in that it comprises: a) a thermocompression bonding step of a first and second a second silicon substrate; b) a step of deep reactive ion etching (DRIE) of the first and second silicon substrates to respectively form the cavity and the outlet; c) a step of deep reactive ion etching (DRIE) of a third silicon substrate; d) a step of depositing polydimethylsiloxane (PDMS) on the third substrate to form the membrane; e) a step of wet etching the third substrate to form the rigid pad; f) a step of bonding the third substrate provided with the membrane on the first substrate containing the cavity; and g) a step of fixing the electromagnetic actuation means of the membrane. According to a particular embodiment, the manufacturing method is characterized in that the step of deep reactive ion etching uses the Bosch method.

L'invention a encore pour objet un dispositif de contrôle d'écoulement aérodynamique, caractérisé en ce qu'il comprend un microsystème de génération de jets synthétiques tel que défini ci-dessus. Ainsi, l'invention permet de pallier les inconvénients des microsystèmes de génération de jets synthétiques existants en fournissant un dispositif à actionnement intégré opérationnel répondant aux besoins, en termes de contrôle d'écoulement, de constructeurs aéronautiques ou automobiles. Le dispositif de génération de jets synthétiques proposé par l'invention fournit un moyen efficace permettant d'induire, dans un écoulement, une quantité de mouvement supérieure à celle obtenue par les dispositifs de l'état de la technique. On va maintenant décrire des modes de réalisation de l'invention de façon plus précise, mais non limitative en regard des dessins annexés, sur lesquels : - la figure 1 est un schéma illustrant la structure d'un générateur de jets synthétiques de l'état de la technique, - les figures 2a et 2b sont des schémas illustrant le fonctionnement du générateur de jets synthétiques de la figure 1, - la figure 3 est un schéma illustrant la structure d'un générateur de jets synthétiques selon l'invention, et - la figure 4 est un schéma illustrant les étapes du procédé de fabrication du générateur de jets synthétiques de la figure 3. La figure 1 illustre la structure d'un générateur 2 de jets synthétiques de l'état de la technique. Cette structure comporte trois éléments de base, à savoir une cavité 4, un orifice 6 de sortie du jet synthétique et une paroi ou membrane 8 mobile. La membrane 8 mobile est associée à des moyens d'actionnement (non représentés) pour provoquer une mise en vibration de cette membrane 8. Les figures 2a et 2b illustrent le fonctionnement du générateur 2 de jets synthétiques. The invention further relates to an aerodynamic flow control device, characterized in that it comprises a synthetic jet generation microsystem as defined above. Thus, the invention makes it possible to overcome the disadvantages of existing synthetic jet generation microsystems by providing an operational integrated actuation device meeting the needs, in terms of flow control, of aeronautical or automobile manufacturers. The device for generating synthetic jets proposed by the invention provides an effective means for inducing, in a flow, an amount of movement greater than that obtained by the devices of the state of the art. Embodiments of the invention will now be described more precisely, but not limitatively, with reference to the accompanying drawings, in which: FIG. 1 is a diagram illustrating the structure of a synthetic jet generator of the state; of the technique, - Figures 2a and 2b are diagrams illustrating the operation of the synthetic jet generator of Figure 1, - Figure 3 is a diagram illustrating the structure of a synthetic jet generator according to the invention, and FIG. 4 is a diagram illustrating the steps of the manufacturing method of the synthetic jet generator of FIG. 3. FIG. 1 illustrates the structure of a generator 2 of synthetic jets of the state of the art. This structure comprises three basic elements, namely a cavity 4, an outlet orifice 6 of the synthetic jet and a wall or membrane 8 mobile. The movable membrane 8 is associated with actuating means (not shown) for causing this membrane 8 to vibrate. FIGS. 2a and 2b illustrate the operation of the generator 2 of synthetic jets.

La mise en mouvement de la membrane 8 mobile par les moyens d'actionnement entraîne une variation de volume dans la cavité 4. Sur un mouvement oscillatoire, on peut diviser la progression en deux demi-périodes. Quand la variation de volume est positive, le fluide est aspiré à l'intérieur de la cavité 4 et quand elle est négative, le fluide est expulsé de la cavité 4 en créant une structure tourbillonnaire. L'alternance d'éjections et d'aspirations de fluide à travers l'orifice 6 crée des interactions d'une série de tourbillons qui génèrent ainsi un jet synthétique. Le nom synthétique d'un tel jet est dû au fait que le débit massique résultant sur une période (aspiration/éjection) est nul. Ceci implique qu'un tel jet est formé sans apport extérieur de fluide et il peut donc injecter de la quantité de mouvement au système sans apport net de masse. Dans l'état de la technique, deux types de jets synthétiques sont connus selon la forme de l'orifice de sortie. Si l'orifice est circulaire, des anneaux tourbillonnaires sont générés. Le jet ainsi obtenu est appelé jet axisymétrique. Si l'orifice est une fente rectangulaire, le jet obtenu est un jet bidimensionnel générant des paires de nappes tourbillonnaires. Cependant, différentes expérimentations montrent que les performances des jets axisymétriques en terme de vitesse sont supérieures à celles des jets bidimensionnels. La figure 3 illustre la structure d'un générateur 10 de jets synthétiques selon l'invention. Le générateur 10 de jets synthétiques comprend une enceinte définissant une cavité 12 de réception d'un fluide, généralement gazeux, notamment de l'air dans les applications visées. L'enceinte est également munie d'un orifice 14 de sortie et d'une membrane 16 déformable. The moving of the movable membrane 8 by the actuating means causes a variation of volume in the cavity 4. On an oscillatory movement, the progression can be divided into two half-periods. When the change in volume is positive, the fluid is sucked into the cavity 4 and when it is negative, the fluid is expelled from the cavity 4 by creating a swirling structure. The alternation of ejections and aspirations of fluid through the orifice 6 creates interactions of a series of vortices which thus generate a synthetic jet. The synthetic name of such a jet is due to the fact that the mass flow rate resulting over a period (suction / ejection) is zero. This implies that such a jet is formed without external fluid supply and can therefore inject momentum into the system without net mass input. In the state of the art, two types of synthetic jets are known according to the shape of the outlet orifice. If the orifice is circular, swirl rings are generated. The jet thus obtained is called an axisymmetric jet. If the orifice is a rectangular slot, the jet obtained is a two-dimensional jet generating pairs of swirling layers. However, different experiments show that the performances of axisymmetric jets in terms of speed are greater than those of two-dimensional jets. FIG. 3 illustrates the structure of a generator 10 of synthetic jets according to the invention. The generator 10 synthetic jets comprises an enclosure defining a cavity 12 for receiving a fluid, generally gaseous, including air in the intended applications. The chamber is also provided with an outlet orifice 14 and a deformable membrane 16.

La membrane 16 est associée à des moyens d'actionnement électromagnétiques comprenant une bobine 18 raccordée à une source de courant électrique, non représentée, et un aimant permanent 20. L'actionnement de la membrane 16 repose ainsi sur l'interaction du champ magnétique créé par la bobine 18 sur l'aimant 20. L'aimant 20 est fixé sur la membrane 16 par l'intermédiaire d'un plot rigide 22 fixé sur celle-ci en regard de l'orifice 14, la bobine 18 étant placée au-dessus de l'aimant 20. Les expérimentations menées par les inventeurs ont en effet montré que l'inclusion du plot rigide 22 sur la membrane 16 améliore sensiblement les performances du jet tout en offrant plus de latitude technologique pour intégrer les moyens d'actionnement électromagnétiques sur le générateur 10 de jets synthétiques. Selon un mode de réalisation de l'invention, la cavité 12, l'orifice 14 et le plot rigide 22 ont une forme circulaire. Par ailleurs, la bobine 18 est un solénoïde fini de rayon interne supérieur au rayon du plot rigide 22, afin de ne pas gêner le déplacement de la membrane 16. The membrane 16 is associated with electromagnetic actuation means comprising a coil 18 connected to a source of electrical current, not shown, and a permanent magnet 20. The actuation of the membrane 16 thus rests on the interaction of the magnetic field created by the coil 18 on the magnet 20. The magnet 20 is fixed on the membrane 16 by means of a rigid pad 22 fixed thereto opposite the orifice 14, the coil 18 being placed on the above the magnet 20. The experiments conducted by the inventors have indeed shown that the inclusion of the rigid pad 22 on the membrane 16 substantially improves the performance of the jet while providing more technological latitude to integrate the electromagnetic actuation means on the generator 10 of synthetic jets. According to one embodiment of the invention, the cavity 12, the orifice 14 and the rigid pad 22 have a circular shape. Furthermore, the coil 18 is a finned solenoid of inner radius greater than the radius of the rigid pad 22, so as not to hinder the displacement of the membrane 16.

L'aimant 20 est un aimant permanent cylindrique à forte coercitivité et aimantation rémanente importante. Le matériau choisi pour cet aimant 20 est, par exemple, le NdFeB ou le SmCo. Les différentes étapes de fabrication du générateur 10 de jets synthétiques en technologies MEMS sont décrites dans la suite de la description en référence à la figure 4. Le procédé de fabrication de microsystème 10 de génération d'un jet synthétique axisymétrique utilise les techniques de micro-usinage découlant de la microélectronique qui permettent d'obtenir une haute définition et précision des motifs usinés et une capacité d'usinage collectif de plusieurs structures sur un même substrat, ce qui permet une réduction du coût unitaire de fabrication lors de la production. La première étape 30 du procédé de fabrication selon l'invention consiste à coller un premier 32 et un deuxième 34 substrats en silicium. Le premier substrat 32 est destiné à contenir la cavité 12 et le deuxième substrat 34 est destiné à contenir l'orifice 14. La méthode de collage préférée est un collage par thermo-compression. L'utilisation de cette méthode d'assemblage permet un contrôle précis de l'épaisseur de la cavité 12 et de l'orifice 14 ainsi qu'un état de surface très régulier en fond de gravure, étant donné que la couche métallique de collage, désignée par la référence 36 sur la figure 4, agit comme couche d'arrêt. Ensuite, deux couches métalliques double face 38, 40 sont déposées par pulvérisation cathodique respectivement sur le premier substrat 32 et le deuxième substrat 34, afin de former un masque physique pour la gravure ultérieure du silicium. En 42, le masque physique formé par les couches métalliques est ouvert. En 44, le premier 32 et le deuxième 34 substrats sont gravés par une méthode de gravure ionique réactive profonde (DRIE : Deep Reactive Ion Etching ) par procédé Bosch pour former respectivement la cavité 12 et l'orifice 14. La gravure DRIE par procédé Bosch est une gravure physicochimique de la famille des gravures plasma appelées aussi gravures sèches. Cette gravure est mise en oeuvre dans une enceinte alimentée par un gaz moléculaire en écoulement à basse pression (environ 1 et 1000 mTorr). Le plasma est créé à partir d'un gaz inerte (généralement de l'argon) qui est ionisé par une excitation électromagnétique. Les électrons du plasma décomposent le gaz moléculaire en plusieurs espèces chimiquement actives qui vont rendre le milieu corrosif. On combine ainsi un faisceau d'ions neutres (gravure physique) et un flux d'espèces réactives (gravure chimique). La particularité de la DRIE est l'alternance d'étapes très courtes (quelques secondes) de gravures anisotropes et de passivations de paroi. Pour les gravures anisotropes, les gaz utilisés sont le SF6 et 1'02 et pour les passivations de paroi, on utilise le C4F8. Les principaux avantages de ce mode de gravure sont sa vitesse (entre 6 et 8 pm/min) et la possibilité de contrôler le profil de gravure qu'on réalise. On peut ainsi arriver à faire un profil anisotrope à flancs droits sur des profondeurs importantes. En 46, la couche métallique 36 intermédiaire de collage est ouverte puis en 48, un dépôt d'une couche 50 d'oxyde de SiO2 PECVD est réalisé sur le premier substrat 32 contenant la cavité 12. Ainsi, les étapes 30 à 48 ont permis la formation de la cavité 12 et de l'orifice de sortie 14. The magnet 20 is a cylindrical permanent magnet with high coercivity and substantial remanent magnetization. The material chosen for this magnet 20 is, for example, NdFeB or SmCo. The different manufacturing steps of the generator 10 of synthetic jets in MEMS technologies are described in the following description with reference to FIG. 4. The method of manufacturing micro-system 10 for generating an axisymmetric synthetic jet uses micro-wave techniques. Machining resulting from microelectronics that allow to obtain a high definition and precision machined patterns and a collective machining capacity of several structures on the same substrate, which allows a reduction in the unit cost of manufacture during production. The first step 30 of the manufacturing method according to the invention consists in bonding a first 32 and a second 34 silicon substrates. The first substrate 32 is intended to contain the cavity 12 and the second substrate 34 is intended to contain the orifice 14. The preferred method of bonding is a thermo-compression bonding. The use of this method of assembly allows precise control of the thickness of the cavity 12 and the orifice 14 and a very regular surface state in the etching background, since the metal bonding layer, designated 36 in FIG. 4, acts as a barrier layer. Then, two double-sided metal layers 38, 40 are deposited by sputtering respectively on the first substrate 32 and the second substrate 34, to form a physical mask for the subsequent etching of the silicon. In 42, the physical mask formed by the metal layers is open. At 44, the first 32 and the second 34 substrates are etched by a Bosch deep-reactive ion etching (DRIE) method to form cavity 12 and orifice 14, respectively. Bosch-based DRIE etching is a physicochemical etching of the family of plasma etchings also called dry etchings. This etching is carried out in a chamber fed by a molecular gas in low pressure flow (approximately 1 and 1000 mTorr). Plasma is created from an inert gas (usually argon) that is ionized by electromagnetic excitation. The plasma electrons decompose the molecular gas into several chemically active species that will render the medium corrosive. This combines a neutral ion beam (physical etching) and a reactive species flow (chemical etching). The particularity of the DRIE is the alternation of very short steps (a few seconds) of anisotropic etchings and wall passivations. For the anisotropic etchings, the gases used are SF6 and 1'02 and for wall passivations, C4F8 is used. The main advantages of this mode of engraving are its speed (between 6 and 8 pm / min) and the possibility to control the engraving profile that is realized. It is thus possible to make an anisotropic profile with straight flanks on large depths. At 46, the intermediate metal bonding layer 36 is opened and then at 48, a deposit of a layer 50 of SiO2 PECVD oxide is produced on the first substrate 32 containing the cavity 12. Thus, the steps 30 to 48 allowed the formation of the cavity 12 and the outlet orifice 14.

La suite de la description du procédé de fabrication concerne la formation de la membrane 16. Le matériau choisi pour former la membrane 16 est un élastomère souple bicomposant de type silicone, par exemple le polyméthilsiloxane (PDMS). Ce matériau permet d'obtenir une grande déformabilité, un domaine élastique important (domaine de déformation sans rupture ni plasticité) et une compatibilité avec les techniques de micro-usinage. En 52, deux couches de rupture SIXNy double face 54, 56 sont déposées sur les deux faces d'un troisième substrat 58 en silicium afin de former un masque physique pour la gravure ultérieure du silicium. En 60, le masque physique formé par la couche SIxNY 54 est ouvert. En 62, le troisième substrat 58 est gravé par une méthode de gravure DRIE. Ensuite, en 64, un dépôt de PDMS est réalisé sur le troisième substrat 58 afin de former la membrane 16. En 66, une gravure humide utilisant de l'hydroxyde de potassium (KOH) est réalisée sur le troisième substrat 58 afin de libérer le plot rigide 22. Enfin, en 68, le troisième substrat 58 muni de la membrane 16 est collé sur le premier substrat 32 contenant la cavité 12. La méthode de collage utilisée en 68 est un collage dit PDMS, car il met en contact une surface en PDMS (la membrane 16) et une surface SiO2 (couche 50). Cette méthode permet d'obtenir des liaisons hydrogène ou des liaisons covalentes Si-O en mettant en contact les deux surfaces 16 et 32, la surface 32 étant préalablement activée par une oxydation de surface (couche 50). The following description of the manufacturing process concerns the formation of the membrane 16. The material chosen to form the membrane 16 is a silicone-type two-component flexible elastomer, for example polymethilsiloxane (PDMS). This material makes it possible to obtain a large deformability, an important elastic domain (deformation domain without rupture or plasticity) and compatibility with micromachining techniques. At 52, two double-sided SIXNy break layers 54, 56 are deposited on both sides of a third silicon substrate 58 to form a physical mask for subsequent silicon etching. At 60, the physical mask formed by the layer SIxNY 54 is open. At 62, the third substrate 58 is etched by a DRIE etching method. Then, at 64, a PDMS deposit is made on the third substrate 58 to form the membrane 16. At 66, wet etching using potassium hydroxide (KOH) is performed on the third substrate 58 to release the Finally, at 68, the third substrate 58 provided with the membrane 16 is bonded to the first substrate 32 containing the cavity 12. The bonding method used at 68 is a so-called PDMS bonding, since it makes contact with a surface in PDMS (membrane 16) and an SiO 2 surface (layer 50). This method makes it possible to obtain hydrogen bonds or covalent Si-O bonds by bringing the two surfaces 16 and 32 into contact, the surface 32 being activated beforehand by a surface oxidation (layer 50).

Les moyens d'actionnement électromagnétique de la membrane 16 sont ensuite placés en fixant l'aimant 20 au-dessus du plot rigide 22 et en positionnant ensuite la bobine 18 au-dessus de l'aimant 20. Le microsystème de génération de jets synthétiques ainsi obtenu peut notamment être intégré dans un dispositif de contrôle d'écoulement aérodynamique pour des véhicules aériens ou terrestres. Grâce aux moyens d'actionnement électromagnétiques, les forces obtenues, proportionnelles au gradient du champ magnétique, sont importantes. The electromagnetic actuation means of the membrane 16 are then placed by fixing the magnet 20 above the rigid pad 22 and then positioning the coil 18 above the magnet 20. The microsystem for generating synthetic jets and obtained can in particular be integrated in an aerodynamic flow control device for air or land vehicles. Thanks to the electromagnetic actuation means, the forces obtained, proportional to the gradient of the magnetic field, are important.

En outre, le choix géométrique effectué (jet axisymétrique) ainsi que le choix du matériau élastomère PDMS pour la membrane a pour conséquence d'associer les grandes forces obtenues avec de grands déplacements. Le microsystème de génération de microjets synthétiques de l'invention fournit ainsi un moyen efficace lui permettant d'induire dans les écoulements une quantité de mouvement supérieure à tout autre dispositif micro-mécanique connu. Ainsi, la combinaison de l'actionnement magnétique, des options géométriques et matériaux ainsi que la mise au point de processus de microfabrication permettent au dispositif selon l'invention d'être le seul aujourd'hui à être directement intégrable sur des configurations macroscopiques réalistes d'éléments d'avions ou d'automobiles. Ce dispositif présente également l'avantage de pouvoir être utilisé pour d'autres applications, comme par exemple pour les microécoulements gazeux, voire liquides ou encore le refroidissement à petite échelle de composants électroniques. D'autres applications de ce dispositif sont également possibles dans les microturbines, les micromoteurs ainsi que dans la micromanipulation de petites quantités de matières. Dans un certain nombre de ces applications, l'intérêt industriel de ces microjets synthétiques est fondé sur la production de masse typique des filières technologiques de la micro-électronique à bas coût unitaire, permettant ainsi d'utiliser ces dispositifs sous forme de collections géantes d'actionneurs répartis (tapissage d'un arrière corps de véhicule, d'entrées d'air de réacteurs ou d'ailes d'avions, ...). Bien entendu, d'autres modes de réalisation et d'autres applications peuvent être envisagés. In addition, the geometrical choice made (axisymmetric jet) and the choice of PDMS elastomer material for the membrane has the consequence of associating the large forces obtained with large displacements. The microgenerative micro-generation system of the invention thus provides an effective means enabling it to induce in the flows a greater amount of movement than any other known micro-mechanical device. Thus, the combination of magnetic actuation, geometric options and materials as well as the development of microfabrication processes allow the device according to the invention to be the only one today to be directly integrable into realistic macroscopic configurations. elements of aircraft or automobiles. This device also has the advantage of being able to be used for other applications, for example for gaseous micro-discharges, or even liquid or the small-scale cooling of electronic components. Other applications of this device are also possible in microturbines, micromotors as well as in the micromanipulation of small amounts of materials. In a number of these applications, the industrial interest of these synthetic microjets is based on the mass production typical of low-cost microelectronics technology streams, allowing these devices to be used in the form of giant digital collections. Distributed actuators (upholstering of a rear body of the vehicle, jet air intakes or aircraft wings, ...). Of course, other embodiments and other applications may be contemplated.

Claims (14)

REVENDICATIONS1.- Microsystème (10) de génération d'un jet synthétique de fluide comprenant une enceinte définissant une cavité (12) de réception du fluide et munie d'un orifice (14) de sortie du jet et d'au moins une membrane (16) déformable associée à des moyens d'actionnement pour provoquer au moins une mise en vibration de la membrane (16) et donc une aspiration et un refoulement de fluide dans et hors de la cavité (12) pour générer le jet synthétique, caractérisé en ce que les moyens d'actionnement comprennent des moyens électromagnétiques (18, 20). 1. microsystem (10) for generating a synthetic jet of fluid comprising an enclosure defining a cavity (12) for receiving the fluid and provided with an orifice (14) for discharging the jet and at least one membrane ( 16) associated with actuating means for causing at least one vibration of the membrane (16) and thus suction and discharge of fluid into and out of the cavity (12) to generate the synthetic jet, characterized in that the actuating means comprise electromagnetic means (18, 20). 2.- Microsystème (10) selon la revendication 1, caractérisé en ce que les moyens électromagnétiques comprennent une bobine (18) raccordée à une source de courant électrique et un aimant (20) permanent. 2. Microsystem (10) according to claim 1, characterized in that the electromagnetic means comprises a coil (18) connected to a source of electric current and a magnet (20) permanent. 3.- Microsystème (10) selon la revendication 2, caractérisé en ce que l'aimant (20) est fixé sur la membrane (16) par l'intermédiaire d'un plot rigide (22), fixé sur celle-ci en regard de l'orifice (14) et en ce que la bobine (18) est placée au-dessus de l'aimant (20). 3. Microsystem (10) according to claim 2, characterized in that the magnet (20) is fixed on the membrane (16) by means of a rigid pad (22) fixed thereto. of the orifice (14) and that the coil (18) is placed above the magnet (20). 4.- Microsystème (10) selon la revendication 3, caractérisé en ce que l'orifice (14) de sortie et/ou le plot rigide (22) ont une forme circulaire. 4. Microsystem (10) according to claim 3, characterized in that the orifice (14) outlet and / or the rigid pad (22) have a circular shape. 5.- Microsystème (10) selon la revendication 4, caractérisé en ce que la bobine (18) est un solénoïde de rayon interne supérieur au rayon du plot rigide (22). 5. Microsystem (10) according to claim 4, characterized in that the coil (18) is a solenoid of inner radius greater than the radius of the rigid pad (22). 6.- Microsystème (10) selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que la cavité (12) et l'orifice (14) sont usinés à partir de deux substrats (32, 34) en silicium. 6. Microsystem according to claim 1, wherein the cavity and the orifice are machined from two silicon substrates. 7.- Microsystème (10) selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que la membrane (16) est réalisée en matériau élastomère. 7. Microsystem (10) according to any one of claims 1 to 6, characterized in that the membrane (16) is made of elastomeric material. 8.- Microsystème (10) selon la revendication 7, caractérisé en ce que le matériau élastomère est le polydiméthilsiloxane (PDMS). 8. Microsystem (10) according to claim 7, characterized in that the elastomeric material is polydiméthilsiloxane (PDMS). 9.- Microsystème (10) selon l'une quelconque des revendications 2 à 8, caractérisé en ce que l'aimant (20) est réalisé en NdFeB. 9. Microsystem (10) according to any one of claims 2 to 8, characterized in that the magnet (20) is made of NdFeB. 10. Microsystème (10) selon l'une quelconque des revendications 2 à 8, caractérisé en ce que l'aimant (20) est réalisé en SmCo. 10. Microsystem (10) according to any one of claims 2 to 8, characterized in that the magnet (20) is made of SmCo. 11.- Microsystème (10) selon l'une quelconque des revendications 3 à 10, caractérisé en ce que le plot rigide (22) est réalisé en silicium. 11. Microsystem (10) according to any one of claims 3 to 10, characterized in that the rigid pad (22) is made of silicon. 12.- Procédé de fabrication d'un microsystème (10) de génération de jets synthétiques selon l'une quelconque des revendications 3 à 11, caractérisé en ce qu'il comprend : a) une étape (30) de collage par thermocompression d'un premier (32) et d'un deuxième (34) substrats en silicium ; b) une étape (44) de gravure ionique réactive profonde (DRIE) du premier (32) et du deuxième (34) substrats en silicium pour former respectivement la cavité (12) et l'orifice (14) de sortie ; c) une étape (62) de gravure ionique réactive profonde (DRIE) d'un troisième substrat (58) en silicium ; d) une étape (64) de dépôt de polydiméthilsiloxane (PDMS) sur le troisième substrat (58) pour former la membrane (16) ; e) une étape (66) de gravure humide du troisième substrat (58) pour former le plot rigide (22) ; f) une étape (68) de collage du troisième substrat (58) muni de la membrane (16) sur le premier substrat (32) contenant la cavité (12) ; et g) une étape de fixation des moyens d'actionnement électromagnétiques de la membrane (16). 12. A method for manufacturing a microsystem (10) for generating synthetic jets according to any one of claims 3 to 11, characterized in that it comprises: a) a step (30) of bonding by thermocompression of first (32) and second (34) silicon substrates; b) a step (44) of deep reactive ion etching (DRIE) of the first (32) and second (34) silicon substrates to respectively form the cavity (12) and the exit orifice (14); c) a step (62) of deep reactive ion etching (DRIE) of a third substrate (58) of silicon; d) a step (64) of depositing polydimethylsiloxane (PDMS) on the third substrate (58) to form the membrane (16); e) a wet etching step (66) of the third substrate (58) to form the rigid pad (22); f) a step (68) of bonding the third substrate (58) provided with the membrane (16) on the first substrate (32) containing the cavity (12); and g) a step of fixing the electromagnetic actuation means of the membrane (16). 13.- Procédé de fabrication selon la revendication 12, caractérisé en ce que l'étape (44, 62) de gravure ionique réactive profonde (DRIE) utilise le procédé Bosch. 13. A manufacturing method according to claim 12, characterized in that the step (44, 62) of deep reactive ion etching (DRIE) uses the Bosch method. 14.- Dispositif de contrôle d'écoulement aérodynamique, caractérisé en ce qu'il comprend un microsystème (10) de génération de jets synthétiques selon l'une quelconque des revendications 1 à 11.30 14.- aerodynamic flow control device, characterized in that it comprises a microsystem (10) for generating synthetic jets according to any one of claims 1 to 11.30.
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