FR2938271A1 - PROCESS FOR THE ELECTRODEPOSITION OF PHOSPHOCALCIUM COATINGS ON METALLIC SUBSTRATES, COATINGS OBTAINED AND IMPLANTABLE MATERIALS COMPRISING SUCH COATINGS - Google Patents

PROCESS FOR THE ELECTRODEPOSITION OF PHOSPHOCALCIUM COATINGS ON METALLIC SUBSTRATES, COATINGS OBTAINED AND IMPLANTABLE MATERIALS COMPRISING SUCH COATINGS Download PDF

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Abstract

L'invention concerne un procédé d'électrodéposition de revêtements phosphocalciques sur support métallique comportant l'électrolyse d'une solution contenant des ions calcium et des ions phosphate. L'application d'un courant électrique en mode pulsé entre le support formant cathode et une contre-électrode, l'électrolyte comportant une solution de Ca(NO ) ,4H O et de NH H PO permet d'obtenir des revêtements d'hydroxyapatite compacts et adhérant au support. L'invention concerne aussi les matériels implantables comportant de tels revêtements.The invention relates to a process for the electrodeposition of phosphocalcic coatings on a metal support comprising the electrolysis of a solution containing calcium ions and phosphate ions. The application of a pulsed electric current between the cathode support and a counter electrode, the electrolyte comprising a solution of Ca (NO), 4H O and NH H PO makes it possible to obtain hydroxyapatite coatings. compact and adhering to the support. The invention also relates to implantable materials comprising such coatings.

Description

PROCEDE D'ELECTRODEPOSITION DE REVETEMENTS PHOSPHOCALCIQUES SUR SUBSTRATS METALLIQUES, REVETEMENTS OBTENUS ET MATERIELS IMPLANTABLES COMPORTANT DE TELS REVETEMENTS La présente invention concerne un procédé d'électrodéposition de revêtements phosphocalciques sur des substrats métalliques, ainsi que les revêtements obtenus et des matériels implantables comportant de tels revêtements. Il est connu de réaliser des prothèses, notamment des prothèses de hanche et du genou, à base de matériaux métalliques résistants à la charge et à la corrosion. En effet, les interventions chirurgicales pour le remplacement d'une partie ou la totalité d'une articulation (arthroplasie) sont de plus en plus nombreuses. Les implants produits et implantés sont par exemple des prothèses orthopédiques, prothèses de hanche, du genou, des implants dentaires ou des matériels implantables en chirurgie du rachis. Ces implants sont généralement réalisés en métal ou alliage métallique revêtus de biomatériaux. En effet, les alliages métalliques adhérent pour la plupart mal à l'os, et ceci engendre des frottements et génère des inflammations. Des biomatériaux déposés sur les prothèses permettent d'isoler l'implant de son environnement corrosif pendant un certain temps afin d'améliorer le soudage de la prothèse à l'os. Parmi les biomatériaux, la famille des phosphates de calcium est connue pour constituer des revêtements biorésorbables. Notamment, l'hydroxyapatite (HAP) fait l'objet de recherche en ingénierie du tissu osseux. En effet, sa structure cristalline et ses caractéristiques chimiques sont similaires à celles du carbonate d'apatite que l'on trouve dans l'os. Pour déposer des biomatériaux sur des supports et notamment des supports métalliques, différentes techniques sont connues, dont les techniques d'imprégnation en solution (dip-coating) associée au sol-gel et de la technique dite de dépôt par projection par torche à plasma. Cette technique de projection thermique à l'aide d'une torche plasma permet la réalisation d'une couche d'hydroxyapatite ou de titane poreux, en vue d'améliorer la repousse osseuse autour des prothèses. Toutefois, on a pu constater une mauvaise adhésion locale du revêtement sur le substrat ou une mauvaise cohésion intrinsèque. Ces phénomènes engendrent des débris difficiles à résorber dans l'organisme, dont la présence se traduit par une usure prématurée ou un échec de l'ancrage de l'implant dans l'os. De plus, la reproductibilité de ces dépôts n'est pas toujours suffisante, ce qui induit des surcoûts de fabrication. Une alternative consiste à déposer des revêtements de diverses natures sur des substrats métalliques par électrodéposition. Il est ainsi connu de réaliser des dépôts à partir de précureurs dont divers sels notamment de calcium et de phosphore. Ceux-ci sont par exemple Caio(PO4)6(OH)2 et NaCl dans US 5 205 921 en mode potentiostatique ou NaCl, CaCl2.2H2O, MgCl2.6H2O, NaHCO3 et Na2HPO4.2H2O dans le procédé décrit par Lopez-Heredia et al. (1) en courant continu, ou encore CaH2 PO4.H2O et CaCl2.2H2O dans le procédé décrit par Chen et al. (2), dans un mode pulsé non défini. Par ailleurs, Dumelié et al. (3) ont réalisé l'électrodéposition de revêtements phosphocalciques en mode continu, à partir de Ca(NO3)2.4H2O et NH4(H2PO4). Toutefois, les résultats obtenus sont encore insatisfaisants, et le problème se pose notamment d'obtenir, avec une bonne reproductibilité, des revêtements phosphocalciques répondant à de nombreux critères : homogénéité en structure microscopique, formule stoechiométrique proche de celle de l'hydroxyapatite (HAP), structure cristallographique proche de celle de l'HAP stoechiométrique, hexagonale compacte, pourcentage de cristallinité supérieur à 90%, voire 95%, et possédant des caractéristiques de bonne résistance mécanique ainsi que d'adhérence au support. The present invention relates to a process for electrodeposition of phosphocalcic coatings on metal substrates, as well as to the coatings obtained and to implantable materials comprising such coatings. BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a process for electroplating phosphocalcic coatings on metal substrates, as well as to the coatings obtained and implantable materials comprising such coatings. . It is known to make prostheses, including hip prostheses and knee, based on metal materials resistant to load and corrosion. Indeed, surgical procedures for the replacement of part or all of a joint (arthroplasty) are more numerous. The implanted and implanted implants are for example orthopedic prostheses, hip prostheses, knee, dental implants or implantable materials in spine surgery. These implants are generally made of metal or metal alloy coated with biomaterials. Indeed, metal alloys mostly adhere to the bone, and this causes friction and generates inflammation. Biomaterials deposited on the prostheses allow the implant to be isolated from its corrosive environment for a certain time in order to improve the welding of the prosthesis to the bone. Among the biomaterials, the family of calcium phosphates is known to constitute bioabsorbable coatings. In particular, hydroxyapatite (PAH) is the subject of research in bone tissue engineering. Indeed, its crystalline structure and its chemical characteristics are similar to those of apatite carbonate found in bone. In order to deposit biomaterials on supports and in particular metal supports, various techniques are known, including sol-gel-associated dip-coating techniques and the technique of plasma torch spraying. This thermal projection technique using a plasma torch allows the production of a layer of hydroxyapatite or porous titanium, in order to improve the bone regrowth around the prostheses. However, poor local adhesion of the coating to the substrate or poor intrinsic cohesion has been observed. These phenomena generate debris difficult to absorb in the body, the presence of which results in premature wear or failure of the anchoring of the implant in the bone. In addition, the reproducibility of these deposits is not always sufficient, which leads to additional manufacturing costs. An alternative is to deposit coatings of various kinds on metal substrates by electrodeposition. It is thus known to produce deposits from precursors including various salts including calcium and phosphorus. These are for example Caio (PO4) 6 (OH) 2 and NaCl in US 5,205,921 in potentiostatic mode or NaCl, CaCl2.2H2O, MgCl2.6H2O, NaHCO3 and Na2HPO4.2H2O in the method described by Lopez-Heredia and al. (1) in direct current, or CaH2 PO4.H2O and CaCl2.2H2O in the method described by Chen et al. (2), in an undefined pulsed mode. In addition, Dumelié et al. (3) performed the electroplating of phosphocalcic coatings in continuous mode from Ca (NO3) 2.4H2O and NH4 (H2PO4). However, the results obtained are still unsatisfactory, and the problem arises in particular to obtain, with good reproducibility, phosphocalcic coatings meeting many criteria: homogeneity in microscopic structure, stoichiometric formula close to that of hydroxyapatite (PAH) crystallographic structure close to that of stoichiometric PAH, hexagonal compact, percentage of crystallinity higher than 90% or even 95%, and having characteristics of good mechanical strength as well as adhesion to the support.

Autrement dit, on cherche à réaliser des revêtements phosphocalciques dont la structure cristallographique est hexagonale compacte, dont la formule s'apparente à celle de l'hydroxyapatite, de préférence l'hydroxyapatite non déficiente, et ce, à des températures proches de la température ambiante. La présente invention concerne l'électrodéposition de revêtements phosphocalciques sur support métallique comportant l'électrolyse d'une solution électrolytique contenant des ions calcium et des ions phosphate, par application d'un courant électrique entre le support formant la cathode et une contre-électrode, dans lequel l'électrolyte comporte une solution de Ca(NO3)2,4H2O et de NH4H2PO4 et le courant est appliqué en mode pulsé. La demanderesse a mis en évidence que les résultats obtenus selon la demande sont intéressants du point de vue de l'homogénéité et la qualité des revêtements obtenus par électrodéposition, ainsi que leurs qualités en termes de propriétés physico-chimiques et mécaniques Cette méthode permet de réaliser des revêtements prothétiques à basse température et de contrôler leur épaisseur et leur porosité, d'introduire le dopant directement dans la solution électrolytique et faire varier le taux de substitution du calcium par les dopants contrairement aux méthodes d'élaboration courantes (torche, plasma, CVD, pulvérisation par magnétron RF), de contrôler directement la bioactivité des revêtements à travers le choix des concentrations d'ions dopants éventuels (Zn, Mg, Sr, autres) dans la solution, de réaliser des dépôts sur de petites pièces de forme complexe telles que celles qui sont utilisées en chirurgie dentaire et maxillo-faciale. De plus, par la mise en oeuvre du procédé selon l'invention, il est possible d'obtenir des revêtements phosphocalciques répondant aux critères requis d'adhésion au substrat, de biocompatibilité, de taux de cristallinité, etc. Selon un autre aspect, l'invention concerne des revêtements phosphocalciques susceptibles d'être obtenu selon le procédé de l'invention, et particulièrement des revêtements ayant un rapport Ca/P de l'ordre de 1,67 0,03, voire même 1,67 0,01. Ces revêtements ont une structure cristallographique hexagonale compacte et se présentent à 50% en poids minimum sous forme d'aiguilles, ou d'agglomérats, par exemple des sphères de diamètre allant de 1 à 5 pm. In other words, it is sought to produce phosphocalcic coatings whose crystallographic structure is hexagonal compact, whose formula is similar to that of hydroxyapatite, preferably non-deficient hydroxyapatite, and at temperatures close to room temperature . The present invention relates to the electrodeposition of phosphocalcic coatings on a metal support comprising the electrolysis of an electrolytic solution containing calcium ions and phosphate ions, by applying an electric current between the support forming the cathode and a counter-electrode, wherein the electrolyte comprises a solution of Ca (NO3) 2,4H2O and NH4H2PO4 and the current is applied in pulsed mode. The Applicant has shown that the results obtained according to the demand are interesting from the point of view of the homogeneity and the quality of the coatings obtained by electrodeposition, as well as their qualities in terms of physico-chemical and mechanical properties. This method makes it possible to realize prosthetic coatings at low temperature and to control their thickness and their porosity, to introduce the dopant directly into the electrolytic solution and to vary the rate of substitution of calcium by the dopants contrary to the current methods of elaboration (torch, plasma, CVD , RF magnetron sputtering), to directly control the bioactivity of the coatings through the choice of possible doping ion concentrations (Zn, Mg, Sr, others) in the solution, to make deposits on small pieces of complex shape such as than those used in dental and maxillofacial surgery. In addition, by implementing the method according to the invention, it is possible to obtain phosphocalcic coatings meeting the required criteria of adhesion to the substrate, biocompatibility, crystallinity rate, etc. According to another aspect, the invention relates to phosphocalcic coatings that can be obtained according to the process of the invention, and particularly coatings having a Ca / P ratio of the order of 1.67 0.03, or even 1 0.01. These coatings have a compact hexagonal crystallographic structure and are present at 50% by minimum weight in the form of needles, or agglomerates, for example spheres with a diameter ranging from 1 to 5 μm.

Selon un autre aspect de l'invention, celle-ci concerne un matériel à application chirurgical comportant au moins une partie métallique revêtue au moins partiellement d'un revêtement susceptible d'être obtenu par le procédé de l'invention. D'autres avantages et résultats avantageux apparaîtront dans la description détaillée et les exemples, ainsi que sur les figures annexées. La figure 1 présente schématiquement le matériel d'électrodéposition de revêtement phosphocalcique sur support métallique. Sur ce schéma, U symbolise la différence de potentiel et I l'intensité. La figure 2 représente, en fonction du temps (t), un profil de densité de courant (j) qu'il est possible d'appliquer lors de l'électrodéposition de revêtement phosphocalcique selon l'invention. La figure 3 représente schématiquement la technique de préparation des échantillons de revêtement phosphocalcique pour leur analyse en microscopie électronique à balayage transmission (MEBT). According to another aspect of the invention, this relates to a surgical application material comprising at least one metal part at least partially coated with a coating that can be obtained by the method of the invention. Other advantages and advantageous results will appear in the detailed description and the examples, as well as in the appended figures. Figure 1 schematically shows the electrodeposition material phosphocalcic coating on a metal support. On this diagram, U symbolizes the difference of potential and I the intensity. FIG. 2 represents, as a function of time (t), a current density profile (j) that can be applied during electrodeposition of phosphocalcic coating according to the invention. Figure 3 schematically represents the technique for preparing phosphocalcic coating samples for their scanning electron microscopy (SEM) analysis.

La figure 4 représente le profil de la différence de potentiel U avec l'électrode de référence appliquée en Volts (V) en mode galvanostatique, en fonction du temps t en secondes (s). Les figures 5-1 et 5-2 représentent l'image au microscope électronique à balayage (MEB) de l'échantillon de revêtement phosphocalcique obtenu en mode galvanostatique, selon deux grandissements différents (barres d'échelle : 200 et 5 ,um respectivement). Les figures 6-1 et 6-2 représentent l'image au microscope électronique à balayage transmission (MEBT) du même échantillon de revêtement phosphocalcique, obtenu en mode galvanostatique, selon deux grandissements différents (barres d'échelle : 2 pm et 1 pm respectivement). FIG. 4 represents the profile of the potential difference U with the reference electrode applied in Volts (V) in galvanostatic mode, as a function of time t in seconds (s). Figures 5-1 and 5-2 show the scanning electron microscope (SEM) image of the phosphocalcic coating sample obtained in galvanostatic mode at two different magnifications (scale bars: 200 and 5 μm, respectively) . FIGS. 6-1 and 6-2 show the Transmission Scanning Electron Microscope (SEM) image of the same phosphocalcic coating sample, obtained in galvanostatic mode, at two different magnifications (scale bars: 2 μm and 1 μm, respectively). ).

La figure 7 représente les résultats d'analyse aux rayons X du même échantillon de revêtement phosphocalcique obtenu en mode galvanostatique. (Intensité en unités arbitraires représentée en fonction de l'énergie en keV). FIG. 7 represents the results of X-ray analysis of the same phosphocalcic coating sample obtained in galvanostatic mode. (Intensity in arbitrary units represented as a function of energy in keV).

La figure 8 représente le profil de la différence de potentiel U appliquée (en Volts V), en fonction du temps t en secondes (s) selon l'invention. Les figures 9-1 et 9-2 représentent l'image au microscope électronique à balayage (MEB) d'un l'échantillon de revêtement phosphocalcique préparé selon l'invention, selon deux grandissements différents (barres d'échelle : 200 et 5,um respectivement). Les figures 10-1 et 10-2 représentent l'image au microscope électronique à balayage en transmission (MEBT) du même échantillon de revêtement phosphocalcique, obtenu selon l'invention, selon deux grandissements différents (barres d'échelle : 2 pm et 0,5 pm respectivement). FIG. 8 represents the profile of the potential difference U applied (in volts V) as a function of time t in seconds (s) according to the invention. FIGS. 9-1 and 9-2 represent the scanning electron microscope (SEM) image of a phosphocalcic coating sample prepared according to the invention, according to two different magnifications (scale bars: 200 and 5, um respectively). FIGS. 10-1 and 10-2 show the transmission scanning electron microscope (SEM) image of the same phosphocalcic coating sample, obtained according to the invention, according to two different magnifications (scale bars: 2 μm and 0 μm). , 5 pm respectively).

La figure 11 représente les résultats d'analyse aux rayons X du même échantillon de revêtement phosphocalcique obtenu selon l'invention. (Intensité en unités arbitraires représentée en fonction de l'énergie en keV). La figure 12 représente les résultats d'analyse par diffraction des rayons X, du même échantillon de revêtement phosphocalcique obtenu selon l'invention. La figure 13 représente le profil de la différence de potentiel U en Volts (V), en fonction du temps t en secondes (s) selon l'invention, dans une variante du procédé de l'invention, en présence de peroxyde d'hydrogène 6% en volume. FIG. 11 represents the X-ray analysis results of the same phosphocalcic coating sample obtained according to the invention. (Intensity in arbitrary units represented as a function of energy in keV). FIG. 12 represents the results of X-ray diffraction analysis of the same phosphocalcic coating sample obtained according to the invention. FIG. 13 represents the profile of the potential difference U in volts (V), as a function of time t in seconds (s) according to the invention, in a variant of the process of the invention, in the presence of hydrogen peroxide 6% in volume.

La figure 14 représente l'image au microscope électronique à balayage (MEB) de l'échantillon de revêtement phosphocalcique obtenu selon cette variante. Les figures 15-1 et 15-2 représentent l'image au microscope électronique à balayage transmission (MEBT) du même échantillon de revêtement phosphocalcique, obtenu selon cette variante de l'invention, selon deux grandissements différents (barres d'échelle :1 pm et 2 respectivement). FIG. 14 represents the scanning electron microscope (SEM) image of the phosphocalcic coating sample obtained according to this variant. FIGS. 15-1 and 15-2 show the Transmission Scanning Electron Microscope (SEM) image of the same phosphocalcic coating sample, obtained according to this variant of the invention, according to two different magnifications (scale bars: 1 μm). and 2 respectively).

La figure 16 représente les résultats d'analyse aux rayons X du même échantillon de revêtement phosphocalcique obtenu selon cette variante de l'invention (Intensité en unités arbitraires représentée en fonction de l'énergie en keV). FIG. 16 represents the X-ray analysis results of the same phosphocalcic coating sample obtained according to this variant of the invention (Intensity in arbitrary units represented as a function of the energy in keV).

Les figures 17-1 et 17-2 représentent l'image obtenue en microscopie MEBT de l'HAP stoechiométrique électrodéposée non traitée (17-1) et traitée (17-2) en température (barres d'échelle : 600 nm). L'électrodéposition est une technique usuelle de dépôt de divers phosphates de calcium. FIGS. 17-1 and 17-2 show the image obtained by MEBT microscopy of the untreated (17-1) electrodeposited and treated (17-2) stoichiometric PAH in terms of temperature (scale bars: 600 nm). Electroplating is a common technique for depositing various calcium phosphates.

Un tel procédé est susceptible d'être mis en oeuvre à l'aide d'une cellule d'électrodéposition usuelle, connue sous le nom de système d'électrodéposition à trois électrodes. Un tel dispositif (1) d'électrodéposition est essentiellement constitué d'une cuve d'électrolyse équipée d'un dispositif de réglage de contrôle des températures (3), l'électrodéposition étant réalisée dans un système à trois électrodes (4) comportant une contre-électrode (5) par exemple, en graphite ou platine, une électrode de référence au calomel saturée (6) ainsi qu'une cathode (7). Le dispositif est également équipé d'une sonde de température (8). Les électrodes et sonde sont au moins partiellement immergées dans la solution électrolytique (9). Le support métallique constitue l'électrode de travail (7) et le substrat. En appliquant un courant délivré par les potentiostat/galvanostat on crée une différence de potentiel qui permet la précipitation notamment des ions calcium avec les ions phosphate sur le substrat immergé dans la solution électrolytique. La présente invention concerne un procédé d'électrodéposition de revêtements phosphocalciques sur support métallique comportant l'électrolyse d'une solution électrolytique de précurseurs contenant des ions calcium et des ions phosphate, par application d'un courant électrique entre le support formant cathode et une contre-électrode, caractérisé en ce que l'électrolyte comporte une solution de Ca(NO3)2,4H2O et de NH4H2PO4, le courant électrique étant appliqué en mode pulsé. Selon l'invention, la solution électrolytique de départ est une solution comportant essentiellement des précurseurs Ca(No3)2,4H2O et NH4H2PO4, de préférence 0,042M Ca(NO3)2,4H2O et 0,025M NH4 (H2PO4). Elle peut aussi comporter des précurseurs de dopant, comme indiqué ci-dessous. Par revêtement phosphocalcique, on entend tout dépôt obtenu par électrodéposition, dont les proportions molaires Ca/P vont de 1,5 :1 à 1,7 :1. De préférence selon l'invention, les proportions molaires Ca/P des revêtements obtenus sont de l'ordre de 1,67 0,03, voire 1,67 0,01. Au cas où la solution électrolytique comporte un précurseur de dopant, c'est le rapport (Ca + dopant)/P qui égale cette valeur. Dans ce cas, la solution électrolytique de départ peut comporter de 0,01 à 25% molaire de dopant, de préférence jusqu'à 13,5%. Such a process is capable of being carried out with the aid of a usual electroplating cell, known as a three-electrode electrodeposition system. Such an electrodeposition device (1) essentially consists of an electrolytic cell equipped with a temperature control device (3), the electrodeposition being carried out in a three-electrode system (4) comprising a against the electrode (5) for example, in graphite or platinum, a saturated calomel reference electrode (6) and a cathode (7). The device is also equipped with a temperature sensor (8). The electrodes and probe are at least partially immersed in the electrolytic solution (9). The metal support constitutes the working electrode (7) and the substrate. By applying a current delivered by the potentiostat / galvanostat a potential difference is created which allows the precipitation in particular of the calcium ions with the phosphate ions on the substrate immersed in the electrolytic solution. The present invention relates to a method for electrodeposition of phosphocalcic coatings on a metal support comprising electrolyzing an electrolytic solution of precursors containing calcium ions and phosphate ions, by applying an electric current between the cathode support and a counter-current. -electrode, characterized in that the electrolyte comprises a solution of Ca (NO3) 2,4H2O and NH4H2PO4, the electric current being applied in pulsed mode. According to the invention, the starting electrolytic solution is a solution comprising essentially precursors Ca (No3) 2,4H2O and NH4H2PO4, preferably 0,042M Ca (NO3) 2,4H2O and 0,025M NH4 (H2PO4). It may also include dopant precursors, as indicated below. By phosphocalcic coating is meant any deposit obtained by electrodeposition, whose molar proportions Ca / P range from 1.5: 1 to 1.7: 1. Preferably according to the invention, the Ca / P molar proportions of the coatings obtained are of the order of 1.67 0.03, or even 1.67 0.01. In the case where the electrolytic solution comprises a dopant precursor, it is the ratio (Ca + dopant) / P which equals this value. In this case, the starting electrolytic solution may comprise from 0.01 to 25 mol% of dopant, preferably up to 13.5%.

Par exemple, pour des concentrations molaires constantes 25mM de P dans la solution électrolytique de départ et (Ca + dopant) de 42mM, les quantités de Ca et dopant sont complémentaires à 42mM. Ainsi, dans le cas du dopage au zinc, on peut envisager toutes solutions, par exemples Ca/Zn 41,5/0,5 ou encore 40/2 ou encore 38/4, de préférence pas plus de Zn que 38/4, ce qui correspond à des solutions dopées à 13,5%. Le pH de la solution électrolytique peut être ajusté à des valeurs comprises entre 1 et 6, de préférence entre 2 et 5. Selon l'invention, on préfère des pH dans la gamme allant de 3 à 5, de préférence 4,4 0,5. Pour ajuster le pH, on peut utiliser toute base ou tout acide minéral convenable, notamment la soude NaOH ou l'acide chlorhydrique HCI ou tout autre acide de base convenable pour ajuster le pH de la solution électrolytique. Le courant est appliqué avec une différence de potentiel allant de 0,01 à 10 V, de préférence 0,05 à 2,2 V. Le courant est appliqué en mode pulsé selon l'invention, avec une densité 30 de courant comprise entre 0,01 mA/cm2 et 10A/cm2, de préférence 0,1 mA/cm2 et 0,1 A/cm2, de préférence 1 mA/cm2 et 10mA/cm2. For example, for constant molar concentrations 25mM of P in the starting electrolytic solution and (Ca + dopant) of 42mM, the amounts of Ca and dopant are complementary to 42mM. Thus, in the case of zinc doping, it is possible to envisage all solutions, for example Ca / Zn 41.5 / 0.5 or else 40/2 or even 38/4, preferably not more than Zn than 38/4, which corresponds to 13.5% doped solutions. The pH of the electrolytic solution can be adjusted to values between 1 and 6, preferably between 2 and 5. According to the invention, pHs in the range of 3 to 5, preferably 4.4 0, are preferred. 5. To adjust the pH, any suitable mineral base or acid may be used, such as sodium NaOH or hydrochloric acid HCl or any other basic acid suitable for adjusting the pH of the electrolytic solution. The current is applied with a potential difference ranging from 0.01 to 10 V, preferably 0.05 to 2.2 V. The current is applied in pulsed mode according to the invention, with a current density of between 0 , 01 mA / cm2 and 10A / cm2, preferably 0.1 mA / cm2 and 0.1 A / cm2, preferably 1 mA / cm2 and 10mA / cm2.

De façon préférée, la densité de courant est de l'ordre de 5mA/cm2. Le profil de la densité de courant appliqué s'est révélé un facteur important de la qualité des revêtements obtenus. Des cycles successifs comportant un temps d'application td (d pour dépôt) et un temps de latence tb (b pour break) sont appliqués, avec des densités de courant respectives id de dépôt et jb de latence. Selon l'invention, on applique un nombre déterminé de cycles td + tb, et une formule permet de déterminer les valeurs particulièrement avantageuse de la densité de courant j à appliquer : ja = (id x td) / (td + tb). Preferably, the current density is of the order of 5 mA / cm 2. The profile of the current density applied has been an important factor in the quality of the coatings obtained. Successive cycles comprising an application time td (d for deposition) and a latency time tb (b for break) are applied, with current densities id deposition and jb latency. According to the invention, a given number of cycles td + tb are applied, and a formula makes it possible to determine the particularly advantageous values of the current density j to be applied: ja = (id x td) / (td + tb).

Ja est donc la densité de courant moyenne. Une valeur particulièrement intéressante de ja est de 5 mA/cm2 0,5. De façon encore plus intéressante, on a appliqué cinq cycles successifs, pour une durée totale d'électrodéposition de 15 mn, correspondant à la courbe représentée à la figure 2. A chaque cycle et au total, on a deux fois plus de temps de latence que de temps d'électrodéposition. On peut appliquer des impulsions de forme carrée dans une gamme de période allant de 15 s à 2 mn, de préférence 20s à I mn, le rapport ON/OFF étant compris entre 1 :50 et 50 :1, de préférence 1 :10 et 10 :1. Toutefois, d'autres profils sont applicables, qui répondent de préférence à la formule de ja ci-dessus. Le spécialiste saura adapter le profil de densité de courant selon le dépôt recherché, notamment la forme des impulsions, leur durée et le rapport ON/OFF. La température de la solution électrolytique est comprise entre 15°C et 95°C, de préférence 20°C à 80°C, de façon encore préférée allant de 60 à 65°C. Après l'électrodéposition, le revêtement peut être soumis à un traitement au four à l'air, sous vide ou sous atmosphère contrôlée. Le traitement thermique appliqué à l'issue de l'électrodéposition est défini par un ou plusieurs paliers de température allant de la température ambiante à 1000°C au maximum, de préférence de la température ambiante à 850°C, de façon encore préférée de l'ambiante à moins de 650°C environ, de préférence environ 600°C, et ce par exemple pendant une période pouvant aller de 20mn à 1h30. Par exemple, le traitement comporte au moins un palier à une température de moins 850°C, de préférence à 650°C. Ja is the average current density. A particularly interesting value of ja is 5 mA / cm 2 0.5. Even more interestingly, five successive cycles were applied, for a total electrodeposition time of 15 minutes, corresponding to the curve shown in FIG. 2. At each cycle and in total, there is twice as much latency than electroplating time. Square pulses can be applied over a period of time ranging from 15 seconds to 2 minutes, preferably from 20 seconds to 1 minute, the ON / OFF ratio being from 1: 50 to 50: 1, preferably 1: 10, and 10: 1. However, other profiles are applicable, which preferably correspond to the formula of ja above. The specialist will be able to adapt the current density profile according to the desired deposit, in particular the shape of the pulses, their duration and the ON / OFF ratio. The temperature of the electrolytic solution is between 15 ° C and 95 ° C, preferably 20 ° C to 80 ° C, more preferably 60 to 65 ° C. After electroplating, the coating may be subjected to air-baking under vacuum or controlled atmosphere. The heat treatment applied after electrodeposition is defined by one or more temperature stages ranging from ambient temperature to a maximum of 1000.degree. C., preferably from ambient temperature to 850.degree. ambient at less than 650 ° C, preferably about 600 ° C, and this for example for a period ranging from 20 minutes to 1:30. For example, the treatment comprises at least one step at a temperature of minus 850 ° C, preferably at 650 ° C.

Par exemple, on peut appliquer une température de 800°C pendant environ 1 heure. Le traitement thermique appliqué peut être défini par des montées en température et des paliers de température déterminés, par exemple les suivants : montée de la température ambiante à une température 91 déterminée entre 100 et 200°C à raison de 0,5 à 10°C/mn, palier à température constante 9i pendant 20 à 120 mn, montée de la température 9l à une température 92 déterminée entre 400 et 600°C à raison de 0,5 à 10°C/mn, palier à température constante 92 pendant 20 à 120mn, montée de la température 92 à une température 93 déterminée entre 600 et 800°C à raison de 0,5 à 10°C/mn, palier à température constante 93 pendant 20 à 120mn, et suivi d'un refroidissement de 93 à la température ambiante. De préférence, la température 93, est limitée à 650°C. Selon un mode de réalisation particulier, on peut avantageusement introduire du peroxyde d'hydrogène dans la solution électrolytique. Lorsque la solution électrolytique comporte du peroxyde d'hydrogène, celui-ci est introduit dans la solution électrolytique à des concentrations de l'ordre de 0 à 30% vol. de peroxyde d'hydrogène par rapport au volume total de la solution électrolytique de départ. La solution électrolytique comporte de 2 à 10% de peroxyde d'hydrogène, 25 de préférence 6% en volume. Par dopant selon l'invention, on entend tout type de composé chimique incorporable dans des biomatériaux phosphocalciques, par addition de précurseurs dans la solution électrolytique. Les dopants peuvent être choisis parmi le zinc, le magnésium, le manganèse, le silicium, le strontium, 30 le sodium, l'argent, le titane et le fluor, et les précurseurs correspondants capable de libérer en solution par exemple des ions Zn2+, Mg2+, Mn2+, Si4+ Sr2+, Na+, Ag+, Ti4+ et F" et leurs mélanges. De préférence, les dopants sont choisis parmi Zn2+, Mg2+, Sr2+ et leurs mélanges. A titre de précurseur de dopant, on peut utiliser selon l'invention tout sels des dopants désirés susceptible d'être solubilisé dans une solution d'électrolyte. Par exemple, on peut utiliser Zn(NO3)2,4H2O pour doper les biomatériaux au zinc, Mg(NO3)2,6H2O pour les doper au magnésium, ou Sr(NO3)2 pour les doper au strontium, et on peut aussi utiliser leurs mélanges. En ce qui concerne la quantité de dopant, celle-ci peut représenter jusqu'à environ 15% molaire de la quantité de Ca dans la solution électrolytique de départ. Ainsi, si un dépôt phosphocalcique comporte x mM de Ca pour y mM de P (Ca/P = z), le dopant dans la solution électrolytique de départ représente au maximum 15% de x molaire dans la solution électrolytique, et on a dans le revêtement (Ca+dopant)/P = z. For example, a temperature of 800 ° C can be applied for about 1 hour. The heat treatment applied can be defined by temperature rises and determined temperature levels, for example as follows: rise of the ambient temperature to a temperature 91 determined between 100 and 200 ° C. at a rate of 0.5 to 10 ° C. / mn, constant temperature bearing 9i for 20 to 120 min, rise in temperature 9l at a temperature 92 determined between 400 and 600 ° C at 0.5 to 10 ° C / min, constant temperature bearing 92 for 20 at 120 min, temperature rise 92 at a temperature 93 determined between 600 and 800 ° C at 0.5 to 10 ° C / min, constant temperature bearing 93 for 20 to 120 min, and followed by a cooling of 93 at room temperature. Preferably, the temperature 93 is limited to 650 ° C. According to a particular embodiment, it is advantageous to introduce hydrogen peroxide into the electrolytic solution. When the electrolyte solution comprises hydrogen peroxide, it is introduced into the electrolytic solution at concentrations of the order of 0 to 30% vol. of hydrogen peroxide relative to the total volume of the starting electrolytic solution. The electrolyte solution comprises from 2 to 10% hydrogen peroxide, preferably 6% by volume. Dopant according to the invention means any type of chemical compound that can be incorporated into phosphocalcic biomaterials, by the addition of precursors in the electrolytic solution. The dopants may be chosen from zinc, magnesium, manganese, silicon, strontium, sodium, silver, titanium and fluorine, and the corresponding precursors capable of liberating, for example, Zn.sup.2 + ions in solution. Mg2 +, Mn2 +, Si4 + Sr2 +, Na +, Ag +, Ti4 + and F "and mixtures thereof Preferably, the dopants are chosen from Zn2 +, Mg2 +, Sr2 + and mixtures thereof As a dopant precursor, it is possible to use according to the invention any salts of the desired dopants capable of being solubilized in an electrolyte solution For example, Zn (NO 3) 2, 4H 2 O may be used to dope the biomaterials with zinc, Mg (NO 3) 2, 6H 2 O for the magnesium dopants, or Sr (NO3) 2 for strontium doping, and their mixtures can also be used With respect to the amount of dopant, it can represent up to about 15 mol% of the amount of Ca in the electrolytic solution. Thus, if a phosphocalcic deposition comprises x mM Ca of the P (Ca / P = z), the dopant in the starting electrolytic solution represents at most 15% of molar x in the electrolytic solution, and in the coating (Ca + dopant) / P = z.

Dans le revêtement obtenu avec dopage, on a des rapports molaires (Ca+dopant)/P=1,67 0,03, de préférence 1,67 0,01. Par support métallique selon l'invention, on entend tout dispositif métallique ou recouvert au moins en partie par un alliage convenable pour la réalisation d'implant ou prothèse et susceptible d'être recouvert de biomatériau phosphocalcique. En particulier, ces métaux ou alliages métalliques peuvent être de l'acier inoxydable, de l'aluminium, du titane ou des alliages de titane et d'aluminium ou de titane, aluminium et vanadium usuels pour réaliser de tels prothèses ou implants. En particulier, on préfère des supports du type Ti6AI4V. Cet alliage de titane (90% Ti - 6% Al û 4%V) est un constituant usuel des prothèses de hanche, qui est biocompatible et possède de bonnes propriétés mécaniques (masse volumique 4,4 106g/m3). De préférence, les supports sont prétraités avant leur immersion dans la solution électrolytique, pour préparer leur surface, en vue d'améliorer l'adhésion du revêtement. Parmi ces traitements préliminaires de la surface du substrat, on peut citer le décapage chimique, par exemple le décapage acide, le lavage, par exemple en bain à ultrasons, le dégraissage, par exemple à l'acétone, le rinçage, par exemple à l'eau distillée et/ou la modification de surface par abrasion, par exemple sablage aux billes d'alumine ou à la poudre d'hydroxyapatite, le polissage au papier abrasif. In the coating obtained with doping, there are molar ratios (Ca + dopant) / P = 1.67 0.03, preferably 1.67 0.01. Metallic support according to the invention means any metallic device or at least partially covered by an alloy suitable for producing implant or prosthesis and capable of being coated with phosphocalcic biomaterial. In particular, these metals or metal alloys may be stainless steel, aluminum, titanium or titanium alloys and aluminum or titanium, aluminum and vanadium usual for making such prostheses or implants. In particular, carriers of the Ti6Al4V type are preferred. This titanium alloy (90% Ti - 6% Al - 4% V) is a common component of hip prostheses, which is biocompatible and has good mechanical properties (density 4.4 106g / m3). Preferably, the supports are pretreated before immersion in the electrolytic solution, to prepare their surface, in order to improve the adhesion of the coating. Among these preliminary treatments of the surface of the substrate, mention may be made of chemical etching, for example acid pickling, washing, for example in an ultrasonic bath, degreasing, for example with acetone, rinsing, for example with distilled water and / or surface modification by abrasion, for example sanding with alumina beads or with hydroxyapatite powder, polishing with abrasive paper.

Parmi ces traitements préliminaires, on réalise de préférence selon l'invention un décapage à l'acide, un sablage à l'alumine avec des billes d'alumine de diamètre compris entre 100 et 300 pm, jusqu'à obtenir une rugosité de l'ordre de 5 pm, de préférence 3 pm, de préférence 2 pm, suivi d'un traitement aux ultrasons dans l'acétone. Among these preliminary treatments, it is preferably carried out according to the invention an acid pickling, an alumina sanding with alumina balls with a diameter of between 100 and 300 μm, until a roughness of the order of 5 μm, preferably 3 μm, preferably 2 μm, followed by sonication in acetone.

Tout autre traitement usuel convenable ou toute autre séquence de pré- traitements peut néanmoins être réalisé, pourvu qu'une surface suffisamment propre et abrasée pour un dépôt ultérieur satisfaisant. Selon l'invention, par prétraitement de surface, on entend de préférence tout traitant chimique ou physique de préparation, à l'exclusion de dépôt 15 phosphocalcique sol-gel. L'invention concerne également les revêtements phosphocalciques susceptibles d'être obtenus par le procédé de la demande. Les analyses des revêtements obtenus reflètent des caractéristiques particulièrement intéressantes des revêtements. Ainsi, on peut obtenir des 20 revêtements dont le rapport Ca/P ou (Ca + dopant)/P avoisine 1,67, autrement dit le rapport typique de l'hydroxyapatite pure, sans déficit. Par ailleurs, les revêtements déposés sont de qualité homogène. Ils se composent essentiellement d'hydroxyapatite, notamment d'hydroxyapatite non déficiente qui se présente à 50% au moins, de 25 préférence 70% sous forme d'aiguilles de dimensions comprises entre 10nm et 5 pm, notamment 100 nm et 2 pm de longueur et comprises entre 5 nm à 200 nm de largueur, notamment 10nm à 100nm. Notamment lorsqu'un traitement thermique a été appliqué au revêtement après dépôt, les aiguilles peuvent disparaître pour donner lieu à des 30 cristallites ou particules cristallisées sphériques ou pseudosphériques. Ces particules ont des dimensions individuelles de l'ordre de 5 à 250 nm. Ces particules peuvent être groupées, avec une bonne cohésion entre ces sphères ou pseudo-sphères. Ainsi, les revêtements de l'invention peuvent être essentiellement formés de particules cristallites ou particules cristallisées sphériques ou pseudosphériques, de dimensions individuelles de l'ordre de 5 à 250 nm, notamment 20nm à 100nm, ces particules pouvant être groupées de manière cohésive. Les revêtements obtenus se révèlent compacts et cohésifs, et ils adhèrent au substrat métallique de façon satisfaisante. Ainsi, la demanderesse a pu obtenir des revêtements compacts et adhérant bien à la surface, c'est-à-dire assez cohésifs en même temps et adhésifs. De plus, ils ont l'avantage de pouvoir présenter, notamment en fonction du dopage, de bonnes propriétés en terme de biocompatibilité. L'invention concerne également les matériels d'application chirurgicale osseuse comportant au moins une partie métallique recouverte d'au moins partiellement d'un revêtement susceptible d'être obtenu par le procédé d'électrodéposition selon l'invention. A titre de matériel d'application chirurgicale, on entend selon l'invention les prothèses ou implants métalliques ou plus largement tout dispositif implantable au moins partiellement métallique recouverts au moins partiellement des biomatériaux susceptibles d'être obtenus par le procédé de la présente demande. II peut s'agir de tout matériel médico-chirurgical implantable au moins partiellement métallique, par exemple des d'implants osseux, des implants dentaires, des prothèses osseuses articulaires ou non, y compris plaques ou vis osseuses, et que la fixation biologique de l'implant soit prévue dans l'os cortical ou spongieux. Ces matériels peuvent être utilisés, par exemple, lors de la pose de prothèse de hanche, de genoux, utilisés pour la chirurgie du rachis, épaule, cheville, coude, main, pied, et utilisés en chirurgie réparatrice, en ostéosynthèse ou en chirurgie dentaire ou orthopédique. Any other suitable conventional treatment or pretreatment sequence may nevertheless be provided, provided that a sufficiently clean and abraded surface for satisfactory subsequent deposition. According to the invention, by surface pretreatment is preferably meant any chemical or physical preparation treatment, with the exception of sol-gel phosphocalcic deposition. The invention also relates to phosphocalcic coatings obtainable by the method of the application. The analyzes of the coatings obtained reflect particularly interesting characteristics of the coatings. Thus, coatings having a Ca / P or (Ca + dopant) / P ratio of about 1.67 can be obtained, ie the typical ratio of pure hydroxyapatite without deficit. Furthermore, the deposited coatings are of uniform quality. They consist essentially of hydroxyapatite, in particular of non-deficient hydroxyapatite which is at least 50%, preferably 70% in the form of needles of dimensions of between 10 nm and 5 μm, in particular 100 nm and 2 μm in length. and between 5 nm to 200 nm wide, including 10nm to 100nm. In particular, when a heat treatment has been applied to the coating after deposition, the needles may disappear to give crystallites or crystallized spherical or pseudospheric particles. These particles have individual dimensions of the order of 5 to 250 nm. These particles can be grouped, with good cohesion between these spheres or pseudospheres. Thus, the coatings of the invention may be essentially crystalline particles or spherical or pseudospheric crystallized particles, of individual dimensions of the order of 5 to 250 nm, especially 20 nm to 100 nm, these particles may be grouped in a cohesive manner. The coatings obtained are compact and cohesive, and they adhere to the metal substrate satisfactorily. Thus, the Applicant has been able to obtain compact coatings which adhere well to the surface, that is to say they are sufficiently cohesive at the same time and adhesive. In addition, they have the advantage of being able to present, particularly as a function of doping, good properties in terms of biocompatibility. The invention also relates to bone surgical application equipment comprising at least one metal part covered at least partially with a coating that can be obtained by the electroplating method according to the invention. As a surgical application material is meant according to the invention metal prostheses or implants or more broadly any implantable at least partially metallic device at least partially covered biomaterials that can be obtained by the method of the present application. It may be any medico-surgical implantable at least partially metallic material, for example bone implants, dental implants, articular or non-articular bone prostheses, including bone plates or screws, and that the biological fixation of the implant is provided in the cortical or spongy bone. These materials can be used, for example, during hip prosthesis, knee surgery, spine, shoulder, ankle, elbow, hand, foot, and used in reconstructive surgery, osteosynthesis or dental surgery. or orthopedic.

EXEMPLES Exemple 1 Les électrolytes ont été préparés en mélangeant une solution de 0,042 M Ca(NO3)2,4H2O et 0,025 M NH4(H2PO4). La valeur du pH a été ajustée à 4,4 en ajoutant une solution de NaOH. Les substratsTi6AI4V choisis ont été des plaquettes de 10mm x 10mm x 0,6mm. Les surfaces ont été grenaillées avec des particules d'alumine afin d'obtenir une rugosité moyenne allant de 1 pm à 4 pm. Avant le dépôt du revêtement, les substrats ont été immergés dans un mélange d'acide nitrique et fluorhydrique (HNO3 6%o en volume et HF 3%0 10 en volume). Les échantillons ont été nettoyés aux ultrasons dans l'acétone et dans l'eau déminéralisée. L'exemple 1 est comparatif, il est réalisé en mode galvanostatique, selon le profil de différence de potentiel de la figure 4. 15 Exemple 2 L'électrodéposition a été réalisée avec un courant pulsé tel que défini à la figure 2. Temps de dépôt td : 1 minute, à une densité de courant Jd de 15mA/cm2, suivi d'un temps de repos tb : 2 minutes, à densité de courant jb : nul. La densité de courant moyenne Ja a donc été de 5mA/cm2. 20 On a réalisé 5 cycles, ceci correspondant à un temps de traitement de dépôt total de 15 minutes. Exemple 3 û Matériel et méthodes 3.1 Microscopie électronique à balayage La morphologie des revêtements a été observée en utilisant un microscope 25 électronique LaB6 (JEOL JSM-5400LV) opérant entre 0-30 kV. Le microscope a été associé à un appareil de mesure de microanalyse X (ulra-thin window Si(Li)). Les échantillons ont été recouverts d'une couche conductrice Au-Pd pour la microscopie électronique à balayage et C pour la microanalyse X. 30 Les spectres aux rayons X ont été réalisés à 15 kV avec un temps d'acquisition de 100 s. EXAMPLES Example 1 The electrolytes were prepared by mixing a solution of 0.042 M Ca (NO3) 2.4H2O and 0.025 M NH4 (H2PO4). The pH value was adjusted to 4.4 by adding a solution of NaOH. Ti6Al4V substrates selected were platelets of 10mm x 10mm x 0.6mm. The surfaces were shot blasted with alumina particles to obtain an average roughness ranging from 1 μm to 4 μm. Before depositing the coating, the substrates were immersed in a mixture of nitric and hydrofluoric acid (HNO 3 6% by volume and HF 3% by volume). Samples were sonicated in acetone and demineralized water. EXAMPLE 1 is comparative, it is carried out in galvanostatic mode, according to the potential difference profile of FIG. 4. EXAMPLE 2 The electroplating was carried out with a pulsed current as defined in FIG. 2. Deposition time td: 1 minute, at a current density Jd of 15 mA / cm 2, followed by a rest time tb: 2 minutes, at current density jb: zero. The average current density Ja was therefore 5 mA / cm 2. Five cycles were performed, corresponding to a total deposition treatment time of 15 minutes. Example 3 Materials and Methods 3.1 Scanning Electron Microscopy The morphology of the coatings was observed using a LaB6 electronic microscope (JEOL JSM-5400LV) operating between 0-30 kV. The microscope has been associated with an X-ray microanalysis device (ulra-thin window Si (Li)). The samples were coated with an Au-Pd conductive layer for scanning electron microscopy and C for X microanalysis. The X-ray spectra were made at 15 kV with an acquisition time of 100 s.

Pour l'analyse quantitative, les mesures ont été réalisées trois fois pour obtenir une valeur moyenne du taux Ça/P. 3.2 Pour la microscopie électronique à balayaqe transmission (MEBT), on a utilisé un microscope Philips CM30 opérant entre 100 et 300 kV pour étudier la morphologie des échantillons au niveau nanométrique. Un échantillon spécifique a été réalisé en utilisant une résine EPON (kit AGAR 100 RESIN, Oxford Instruments France). La préparation de l'analyse consiste dans les étapes présentées schématiquement à la figure 3. Le revêtement CaP 13 déposé sur un support métallique 14 est imprégné de résine sans durcissant, dans une première étape (1), pour donner l'échantillon 16 où une couche de résine 15 est déposée sur le revêtement 13 déposé sur le support métallique 14. Par immersion, dans une seconde étape (2), dans un bain d'azote liquide 17 qui provoque un choc thermique, le support métallique 14 se désolidarise du revêtement 13 inclus dans la résine 15. A ce stade, l'échantillon 18 à la sortie (3) du bain d'azote liquide n'est plus constitué que du revêtement phosphocalcique 13 inclus dans la résine 15. Des sections ultra-fines, de l'ordre de 100 nm, en ont été découpées à l'aide d'une lame diamantée avec un ultramicrotome. Les sections ultra-fines débitées obtenues 19 sont récupérées et disposées (5) sur la grille en cuivre (20) où elles ont été recouvertes d'une couche conductrice de carbone et ont été observées à une tension de 250 kV. 3.3 Analyse par diffraction aux rayons X Les poudres phosphocalciques sont grattées des revêtements obtenus par électrodéposition et leur composition de phase analysée par diffractomètre aux rayons X (Brucker D8 Advance). Les spectres ont été collectés avec une radiation CuKa (29 = 10 to 45°) ; pas de 0,04°; 12 secondes à chaque pas. Exemple 4 = analyse de l'échantillon obtenu en mode galvanostatique selon le profil de la figure 4. For quantitative analysis, the measurements were performed three times to obtain an average value of the Ca / P rate. 3.2 For transmission electron microscopy (SEM), a Philips CM30 microscope operating between 100 and 300 kV was used to study the morphology of samples at the nanometer level. A specific sample was made using an EPON resin (AGAR 100 RESIN kit, Oxford Instruments France). The preparation of the analysis consists of the steps shown schematically in FIG. 3. The CaP coating 13 deposited on a metal support 14 is impregnated with resin without hardening, in a first step (1), to give the sample 16 where a resin layer 15 is deposited on the coating 13 deposited on the metal support 14. By immersion, in a second step (2), in a bath of liquid nitrogen 17 which causes a thermal shock, the metal support 14 separates from the coating 13 At this stage, the sample 18 at the outlet (3) of the bath of liquid nitrogen consists only of the phosphocalcic coating 13 included in the resin 15. Ultra-thin sections of the order of 100 nm, were cut with a diamond blade with an ultramicrotome. The ultra-fine debited sections obtained 19 are recovered and arranged (5) on the copper grid (20) where they were covered with a conductive layer of carbon and were observed at a voltage of 250 kV. 3.3 X-ray diffraction analysis The phosphocalcic powders are scraped from electroplated coatings and their phase composition analyzed by X-ray diffractometer (Brucker D8 Advance). The spectra were collected with CuKa radiation (29 = 10 to 45 °); not 0.04 °; 12 seconds at each step. Example 4 = analysis of the sample obtained in galvanostatic mode according to the profile of FIG.

Comme cela apparaît à la figure 5, des trous et cratères sont présents, attribués à des bulles H2. As shown in Figure 5, holes and craters are present, attributed to H2 bubbles.

A haute résolution, il apparaît toutefois que le revêtement est composé d'aiguilles acérées. Ces observations confirment les micrographes MEBT de la figure 6 qui indiquent que les aiguilles sont d'une dimension de l'ordre de 1 pm de long et 0,1 pm de large. L'analyse aux rayons X des revêtements révèle un taux Ca/P de 1,54 0,03 (figure 7). Dans ces conditions, de l'hydroxyapatite déficiente en calcium est obtenue. Exemple 5 : analyse de l'échantillon obtenu en mode pulsé. At high resolution, however, it appears that the coating is composed of sharp needles. These observations confirm the SEM micrographs of Figure 6 which indicate that the needles are of the order of 1 μm in length and 0.1 μm in width. The X-ray analysis of the coatings reveals a Ca / P content of 1.54 0.03 (FIG. 7). Under these conditions, hydroxyapatite deficient in calcium is obtained. Example 5: Analysis of the sample obtained in pulsed mode.

Comme cela apparaît aux figures 2 et 8, 5 cycles ont été appliqués, chaque cycle présente deux minutes de pause et une minute de dépôt. Un cycle est représenté par la séquence : j = 0 mA/cm2 et Eljbre =+ 350 mV, pendant 2 minutes, puis j = 15 mA/cm2, pendant 1 minute, avec un potentiel de départ d' environ -2,2 V. Pour chaque cycle, la variation de potentiel en fonction du temps est similaire à la courbe de la figure 4 et représentée à la figure 8. Par comparaison des micrographes obtenus (figures 9 et 10) avec des micrographes de la figure 5, on conclut que le nombre de trous et cratères est réduit et le revêtement composé de petites aiguilles et de cristallites. As shown in FIGS. 2 and 8, 5 cycles were applied, each cycle has two minutes of pause and one minute of deposition. One cycle is represented by the sequence: j = 0 mA / cm2 and Eljbre = + 350 mV, for 2 minutes, then j = 15 mA / cm2, for 1 minute, with a starting potential of about -2.2 V For each cycle, the variation of potential as a function of time is similar to the curve of FIG. 4 and represented in FIG. 8. By comparison of the micrographs obtained (FIGS. 9 and 10) with micrographers of FIG. that the number of holes and craters is reduced and the coating composed of small needles and crystallites.

L'analyse au microscope MEBT des figures 10-1 et 10-2 confirme ces observations et montre des aiguilles d'une taille inférieure à 0,2 pm. Les mesures aux rayons X (figure 11) donnent un taux Ca/P de 1,66 0,01 correspondant à l'hydroxyapatite stoechiométrique. Ces résultats sont confirmés par la figure 12, qui représente les pics de diffraction typique à 20 = 25,9° -31,8° -32,2° -32,9° - 34° -39,8° correspondant à de l'hydroxyapatite stoechiométrique d'après les banques de données standard. Exemple 6 On procède à l'électrodéposition comme précédemment à l'exemple 2, en présence de peroxyde d'hydrogène dans l'électrolyte (6% en volume), avec The SEM analysis of Figures 10-1 and 10-2 confirms these observations and shows needles less than 0.2 μm in size. The X-ray measurements (FIG. 11) give a Ca / P level of 1.66 0.01 corresponding to the stoichiometric hydroxyapatite. These results are confirmed by Fig. 12, which shows typical diffraction peaks at 20 = 25.9 ° -31.8 ° -32.2 ° -32.9 ° -34 ° -39.8 ° corresponding to stoichiometric hydroxyapatite from standard databases. EXAMPLE 6 Electrodeposition is carried out as above in Example 2, in the presence of hydrogen peroxide in the electrolyte (6% by volume), with

une densité de courant ja de 5 mA par cm2. La variation du potentiel en fonction du temps est représentée à la figure 13. La morphologie du revêtement obtenu (figures 14 et 15) se présente sans trou ni cratère. a current density d i of 5 mA per cm 2. The variation of the potential as a function of time is shown in FIG. 13. The morphology of the coating obtained (FIGS. 14 and 15) is without hole or crater.

Des aiguilles agglomérées en cristallite (sphère d'environ 2 pm de diamètre) apparaissent. Le revêtement est dense et compact. L'analyse X (figure 16) révèle un rapport Ça/P de 1,67 0,01. Exemple 7 On applique le revêtement obtenu à l'exemple 6 (H2O2) un traitement thermique, au four à 800°C durant une heure. La morphologie en aiguille du revêtement se transforme après traitement thermique, en particules cristallisées sphériques ou pseudo-sphériques reliées entre elles qui apparaissent à la figure 17. Agglomerated needles in crystallite (sphere about 2 μm in diameter) appear. The coating is dense and compact. X analysis (Figure 16) reveals a ratio of Ca / P of 1.67 to 0.01. EXAMPLE 7 The coating obtained in Example 6 (H 2 O 2) was heat-treated in an oven at 800 ° C. for one hour. The needle morphology of the coating is transformed after heat treatment into spherical crystallized particles or pseudo-spherical interconnected which appear in Figure 17.

REFERENCES (1) M. Lopez-Heredia et al. ; J Mater Sci : Mater Med (2007) 18 : 381-390; (2) Chen Xing-yu et al. ; Trans. Nonferrous Met. Soc. China 17 (2007) 5 617-621 ; (3) N. Dumelié, H. Benhayoune, D. Richard, D. Laurent-Maquin, G. Balossier ; Material Characterization 59 (2008) 129-133. REFERENCES (1) M. Lopez-Heredia et al. ; J Sci Mater: Mater Med (2007) 18: 381-390; (2) Chen Xing-yu et al. ; Trans. Nonferrous Met. Soc. China 17 (2007) 5,617-621; (3) N. Dumelié, H. Benhayoune, D. Richard, D. Laurent-Maquin, G. Balossier; Material Characterization 59 (2008) 129-133.

Claims (23)

REVENDICATIONS1. Procédé d'électrodéposition de revêtements phosphocalciques sur support métallique comportant l'électrolyse d'une solution électrolytique contenant des ions calcium et des ions phosphate, par application d'un courant électrique entre le support formant cathode et une contre-électrode, caractérisé en ce que l'électrolyte comporte une solution de Ca(NO3)2,4H2O et de NH4H2PO4 et le courant est appliqué en mode pulsé. REVENDICATIONS1. A process for the electrodeposition of phosphocalcic coatings on a metal support comprising the electrolysis of an electrolyte solution containing calcium ions and phosphate ions, by applying an electric current between the cathode support and a counter-electrode, characterized in that the electrolyte comprises a solution of Ca (NO3) 2,4H2O and NH4H2PO4 and the current is applied in pulsed mode. 2. Procédé d'électrodéposition selon la revendications 1, caractérisé en ce que les proportions molaires Ca/P obtenus vont de 1,5 à 1,7, de préférence 1,67 0,03. 2. electroplating process according to claim 1, characterized in that the molar proportions Ca / P obtained range from 1.5 to 1.7, preferably 1.67 0.03. 3. Procédé d'électrodéposition selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que le courant est appliqué avec une différence de potentiel allant de 0,01 à 10 V, de préférence 0,05 à 2,2 V. Electroplating method according to claim 1 or 2, characterized in that the current is applied with a potential difference of 0.01 to 10 V, preferably 0.05 to 2.2 V. 4. Procédé d'électrodéposition selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que le courant est appliqué avec une densité de courant moyenne sur un cycle comprise entre 0,01 mA/cm2 et 10A/cm2, de préférence 0,1 mA/cm2 et 0,1 A/cm2. 4. electroplating process according to one of claims 1 to 3, characterized in that the current is applied with a mean current density over a cycle of between 0.01 mA / cm 2 and 10 A / cm 2, preferably 0, 1 mA / cm 2 and 0.1 A / cm 2. 5. Procédé d'électrodéposition selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que le courant est appliqué avec une densité de courant moyenne sur un cycle comprise entre 1 mA/cm2 et 10mA/cm2, de préférence 5 0,5 mA/cm2. Electroplating method according to one of Claims 1 to 4, characterized in that the current is applied with a mean current density over a cycle of between 1 mA / cm 2 and 10 mA / cm 2, preferably 0.5 mA / cm2. 6. Procédé d'électrodéposition selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que la température de la solution électrolytique est comprise entre 15°C et 95°C, de préférence 20°C à 80°C. 6. electroplating process according to one of claims 1 to 5, characterized in that the temperature of the electrolytic solution is between 15 ° C and 95 ° C, preferably 20 ° C to 80 ° C. 7. Procédé d'électrodéposition selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que le pH de la solution électrolytique est compris entre 1 et 6, de préférence entre 2 et 5. 7. electroplating process according to one of claims 1 to 6, characterized in that the pH of the electrolytic solution is between 1 and 6, preferably between 2 and 5. 8. Procédé d'électrodéposition selon l'une des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que le traitement thermique appliqué est défini par aumoins un palier de température à une température de moins de 850°C, de préférence à une température inférieure à 650°C. 8. electroplating process according to one of claims 1 to 7, characterized in that the heat treatment applied is defined by at least one temperature step at a temperature of less than 850 ° C, preferably at a temperature below 650 ° C. 9. Procédé d'électrodéposition selon l'une des revendications 1 à 8, caractérisé en ce que le traitement thermique appliqué est défini par les montées en température et les paliers de température suivants : montée de la température ambiante à une température 0, déterminée entre 100 et 200°C à raison de 0,5 à 10°C/mn, palier à température constante 01 pendant 20 à 120 mn, montée de la température 61 à une température 02 déterminée entre 400 et 600°C à raison de 0,5 à 10°C/mn, palier à température constante 02 pendant 20 à 120mn, montée de la température 02 à une température 03 déterminée entre 600 et 800°C à raison de 0,5 à 10°C/mn, palier à température constante 03 pendant 20 à 120mn, et suivi d'un refroidissement de 03 à la température ambiante. 9. electroplating process according to one of claims 1 to 8, characterized in that the heat treatment applied is defined by the following temperature rises and temperature stages: rise of the ambient temperature to a temperature 0, determined between 100 and 200 ° C at a rate of 0.5 to 10 ° C / min, steady temperature bearing 01 for 20 to 120 min, rise in temperature 61 to a temperature O 2 determined between 400 and 600 ° C at 0, 5 to 10 ° C / min, constant temperature bearing 02 for 20 to 120 minutes, rising temperature 02 at a temperature 03 determined between 600 and 800 ° C at a rate of 0.5 to 10 ° C / min, temperature step constant 03 for 20 to 120 minutes, followed by a cooling of 03 at room temperature. 10. Procédé d'électrodéposition selon l'une des revendications 1 à 9, caractérisé en ce que le courant appliqué en mode pulsé avec une intensité comprise entre 0,1mA/cm2 et 0,1A/cm2, de préférence entre 1 mA/cm2 et 10mA/cm2, les impulsions étant de forme carrée dans une gamme de période allanr de 15 s à 2 mn, de préférence 20s à I mn, le rapport ON/OFF étant compris entre 1 :50 et 50 :1, de préférence 1 :10 et 10 :1.10. electroplating process according to one of claims 1 to 9, characterized in that the current applied in pulsed mode with an intensity of between 0.1 mA / cm 2 and 0.1 A / cm 2, preferably between 1 mA / cm 2 and 10mA / cm 2, the pulses being of square shape in a range of allanr period of 15 s to 2 min, preferably 20s to 1 min, the ON / OFF ratio being between 1: 50 and 50: 1, preferably 1 : 10 and 10: 1. 11 Procédé d'électrodéposition selon l'une des revendications 1 à 10, caractérisé en ce que la solution électrolytique comporte de 1 à 30% en volume de peroxyde d'hydrogène.11 electroplating process according to one of claims 1 to 10, characterized in that the electrolyte solution comprises from 1 to 30% by volume of hydrogen peroxide. 12.Procédé d'électrodéposition selon l'une des revendications 1 à 11, caractérisé en ce que la solution électrolytique comporte de 2 à 10% de peroxyde d'hydrogène, de préférence 6% en volume.12.Electrodeposition process according to one of claims 1 to 11, characterized in that the electrolyte solution comprises from 2 to 10% hydrogen peroxide, preferably 6% by volume. 13. Procédé d'électrodéposition selon l'une des revendications 1 à 12, caractérisé en ce que la solution électrolytique de départ comporte de 0,01 à 25% molaire de dopant.13. electroplating process according to one of claims 1 to 12, characterized in that the starting electrolyte solution comprises from 0.01 to 25 mol% of dopant. 14. Procédé d'électrodéposition selon l'une des revendications 1 à 13, caractérisé en ce que le dopant est choisi parmi Zn2+, Mg2+, Mn2+, Si4+Sr2+, Na+ , Ag+ , Ti4+ , F- et leurs mélanges.14. electroplating process according to one of claims 1 to 13, characterized in that the dopant is selected from Zn2 +, Mg2 +, Mn2 +, Si4 + Sr2 +, Na +, Ag +, Ti4 +, F- and mixtures thereof. 15. Procédé d'électrodéposition selon l'une des revendications 1 à 14, caractérisé en ce que le dopant est choisi parmi Zn, Mg, Sr, ou leurs mélanges.15. electroplating process according to one of claims 1 to 14, characterized in that the dopant is selected from Zn, Mg, Sr, or mixtures thereof. 16. Procédé d'électrodéposition selon l'une des revendications 1 à 15, caractérisé en ce que le dopant est incorporé dans la solution électrolytique sous forme de Zn(NO3)2,4H20 ; Mg(NO3)2,6H20 ; Sr(NO3)2 et leurs mélanges.16. An electroplating method according to one of claims 1 to 15, characterized in that the dopant is incorporated in the electrolytic solution as Zn (NO3) 2,4H20; Mg (NO3) 2.6H2O; Sr (NO3) 2 and mixtures thereof. 17. Procédé d'électrodéposition selon l'une des revendications 1 à 16, caractérisé en ce que le support est à base de titane, d'aluminium, de vanadium, d'acier inoxydable ou leurs mélanges.17. electroplating process according to one of claims 1 to 16, characterized in that the support is based on titanium, aluminum, vanadium, stainless steel or mixtures thereof. 18. Procédé d'électrodéposition selon l'une des revendications 1 à 17, caractérisé en ce que le support est du type Ti6AI4V ou Ti.18. Electroplating process according to one of claims 1 to 17, characterized in that the support is of the Ti6AI4V or Ti type. 19. Procédé d'électrodéposition selon l'une des revendications 1 à 18, caractérisé en ce que la solution électrolytique de départ comporte 0,042 M de Ca et 0,025 M de P, ou 0,042 M de (Ca + dopant) et 0,025M de P.19. electroplating process according to one of claims 1 to 18, characterized in that the starting electrolyte solution comprises 0.042 M Ca and 0.025 M P, or 0.042 M of (Ca + dopant) and 0.025M P . 20. Revêtement susceptible d'être obtenu par le procédé selon l'une des revendications 1 à 19, et présentant une structure comportant au moins 50 %, de préférence 70% de composé phosphocalcique sous forme d'aiguilles de longueur allant de 10 nm à 0,5 pm, de préférence 100 nm à 2 pm et de largeur allant de 5 nm à 200 nm, de préférence 10 nm à 100 nm.20. Coating obtainable by the method according to one of claims 1 to 19, and having a structure comprising at least 50%, preferably 70% phosphocalcic compound in the form of needles of length ranging from 10 nm to 0.5 μm, preferably 100 nm to 2 μm and width ranging from 5 nm to 200 nm, preferably 10 nm to 100 nm. 21. Revêtement selon la revendication 20, caractérisé en ce que les proportions molaires Ca/P ou (Ca + dopant)/P obtenus vont de 1,5 à 1,7, de préférence 1,67 0,03.21. The coating of claim 20, characterized in that the molar proportions Ca / P or (Ca + dopant) / P obtained range from 1.5 to 1.7, preferably 1.67 0.03. 22. Revêtement selon la revendication 20 ou 21, caractérisé en ce qu'il est formé de particules cristallites ou particules cristallisées sphériques ou pseudosphériques, de dimensions individuelles de l'ordre de 5 à 250 nm, ces particules pouvant être groupées de manière cohésive.22. The coating of claim 20 or 21, characterized in that it is formed of crystalline particles or spherical or pseudospheric crystallized particles, of individual dimensions of the order of 5 to 250 nm, these particles can be grouped in a cohesive manner. 23. Matériel implantable comportant au moins une partie métalliquerecouverte au moins partiellement d'un revêtement selon l'une des revendications 20 à 22, ou susceptible d'être obtenu par le procédé selon les revendications 1 à 19. 23. Implantable material comprising at least one metal part at least partially covered with a coating according to one of claims 20 to 22, or obtainable by the process according to claims 1 to 19.
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