FR2855308A1 - Non-volatile memory cell e.g. electrically EPROM, analog parameter controlling method for integrated circuit, involves determining value of intrinsic analog parameter of system, when magnitude of system attains threshold - Google Patents

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Didier Nee
Hassen Aziza
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Abstract

The method involves positioning a multi-level system of a non-volatile memory cell in operating conditions to which the magnitude of the system follows a determined threshold value. The operating conditions of the system are evaluated in a manner to allow the magnitude to attain the threshold value. A value of an intrinsic analog parameter of the system is determined, when the magnitude attains the threshold value. Independent claims are also included for the following: (a) an integrated circuit having a programmable memory (b) a control apparatus cooperating with a device of controlling a non-volatile memory cell.

Description

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Procédé et dispositif pour le contrôle d'un paramètre analogique conditionnant le niveau d'une sortie d'un système multi-niveau, par exemple une cellule de mémoire non-volatile telle qu'une EEPROM
L'invention concerne les systèmes destinés à présenter une grandeur devant être identifiée à l'un parmi un nombre fini de niveaux préétablis, l'identification étant conditionnée par au moins un paramètre analogique intrinsèque du système. Un exemple d'un tel système est une cellule de mémoire, notamment d'une mémoire non-volatile, telle qu'une mémoire programmable effaçable électriquement, connue par l'acronyme EEPROM (de l'anglais "electrically erasable read-only memory).
Method and device for controlling an analog parameter conditioning the level of an output of a multi-level system, for example a non-volatile memory cell such as an EEPROM
The invention relates to systems intended to present a quantity to be identified at one of a finite number of preset levels, the identification being conditioned by at least one intrinsic analog parameter of the system. An example of such a system is a memory cell, in particular a non-volatile memory, such as an electrically erasable programmable memory, known by the acronym EEPROM (from the English "electrically erasable read-only memory) .

Pour une mémoire à sortie binaire, les niveaux sont au nombre de deux et correspondent à un état logique 1 ou 0. L'identification du niveau au sein de la cellule dépend d'une tension analogique (ou charge électrique) stockée dans un transistor dit "de stockage".  For a memory with binary output, the levels are two in number and correspond to a logic state 1 or 0. The identification of the level within the cell depends on an analog voltage (or electric charge) stored in a so-called transistor "storage".

Dans le cas d'une mémoire EEPROM, chaque cellule est programmable pour stocker une donnée binaire 0 ou 1 en jouant sur les caractéristiques analogiques d'un transistor de stockage de type transistor à grille flottante de la cellule programmée (ce transistor est également désigné par l'acronyme FGT de l'anglais "floating gate transistor").  In the case of an EEPROM memory, each cell is programmable to store binary data 0 or 1 by playing on the analog characteristics of a storage transistor of the floating gate transistor type of the programmed cell (this transistor is also designated by the acronym FGT from English "floating gate transistor").

Plus particulièrement, la programmation consiste à fixer le seuil de la tension de polarisation grillesource Vgc du transistor FGT à partir duquel ce transistor devient conducteur. Le transistor est considéré comme étant à l'état conducteur lorsque qu'il conduit un courant désigné ID, qui est au-delà d'un  More particularly, the programming consists in fixing the threshold of the gate-source bias voltage Vgc of the transistor FGT from which this transistor becomes conductive. The transistor is considered to be in the conducting state when it conducts a current designated ID, which is beyond a

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seuil nominal, dit courant de lecture Ilect, déterminé par un transistor de référence en dehors du plan mémoire et associé à un amplificateur de lecture.  nominal threshold, called Ilect read current, determined by a reference transistor outside the memory plane and associated with a read amplifier.

Ce seuil de la tension de polarisation du transistor FGT, dit tension de seuil, est programmé en injectant des charges électriques (électrons ou trous) au niveau du canal sous la grille flottante. Cette injection est réalisée lors d'une opération de programmation, par application d'une tension de programmation appropriée sur la connexion de grille du transistor FGT. une cellule peut ainsi avoir l'un parmi trois seuils possibles : - seuil de la cellule à l'état vierge (désigné VTvierge) - seuil de la cellule à l'état programmé par écriture (désigné VTinscr' de "inscription" , terme synonyme à "écriture"), et - seuil de la cellule à l'état programmé à l'état effacacé (désigné VTeff) .  This threshold of the bias voltage of the transistor FGT, known as the threshold voltage, is programmed by injecting electrical charges (electrons or holes) at the level of the channel under the floating gate. This injection is carried out during a programming operation, by applying an appropriate programming voltage to the gate connection of the FGT transistor. a cell can thus have one of three possible thresholds: - cell threshold in the virgin state (designated VTvierge) - cell threshold in the state programmed by writing (designated VTinscr 'of "registration", synonymous term "write"), and - cell threshold in the programmed state in the erased state (designated VTeff).

(Ces seuils Vierge' VTinscr' et VTeff sont désignés collectivement par l'abréviation VT.)
Typiquement le codage et la lecture des données binaires s'opère comme suit : - état logique 0 : - programmé par application d'une tension de programmation sur la grille flottante de la cellule, positionnant la tension seuil à VTinscr' - identifié en lecture par l'état conducteur de transistor FGT (ID > Ilect ) pour une tension de polarisation Vgs prédéterminée du mode lecture ; - état logique 1 :
(These Virgin thresholds 'VTinscr' and VTeff are collectively designated by the abbreviation VT.)
Typically, the coding and reading of binary data takes place as follows: - logic state 0: - programmed by applying a programming voltage to the floating grid of the cell, positioning the threshold voltage at VTinscr '- identified in reading by the conductive state of transistor FGT (ID> Ilect) for a predetermined bias voltage Vgs of the read mode; - logical state 1:

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- programmé par application d'une tension de programmation sur la grille flottante de la cellule, positionnant la tension seuil à Veff, - identifié en lecture par l'état non conducteur de transistor FGT (ID < Iiect.) pour cette tension de polarisation Vgs prédéterminée du mode lecture.  - programmed by applying a programming voltage to the floating gate of the cell, positioning the threshold voltage at Veff, - identified in reading by the non-conductive state of transistor FGT (ID <Iiect.) for this bias voltage Vgs reading mode.

On comprend donc que les seuils VT sont critiques pour établir correctement les données stockées par une cellule. Ces seuils VT sont des grandeurs analogiques conditionnés par des paramètres intrinsèques du transistor de stockage (en l'occurrence le transistor FGT), eux mêmes analogiques ou sujets à une variabilité en fabrication..  It is therefore understood that the thresholds VT are critical for correctly establishing the data stored by a cell. These VT thresholds are analog quantities conditioned by intrinsic parameters of the storage transistor (in this case the FGT transistor), which are themselves analog or subject to manufacturing variability.

L'amplificateur de lecture et sont transistor de référence qui fixe le courant de lecture Ilect étant commun à un plan contenant de nombreuses cellules, il est important de s'assurer que chacune d'elles est homogène dans son comportement, et notamment que les cellules du plan ne présentent pas de variations importantes dans leur valeur de tension seuil individuel.  The reading amplifier and its reference transistor which fixes the reading current Ilect being common to a plane containing many cells, it is important to ensure that each of them is homogeneous in its behavior, and in particular that the cells of the plan do not show significant variations in their individual threshold voltage value.

Or, jusqu'à présent, il n'existe aucun moyen de test interne qui permette de bien cerner les valeurs de seuils individuels des cellules.  However, until now, there is no means of internal test which makes it possible to clearly determine the values of individual thresholds of the cells.

L'évolution du marché des dispositifs portatifs, tels que cartes à puce ou des support de communication mobiles influe directement sur l'utilisation des mémoires, notamment des mémoire EEPROM. Dans ce contexte, les mémoires EEPROM se sont imposées ces dernières années pour toute application qui nécessite de la mémoire semiconducteur non-volatile.  The evolution of the market for portable devices, such as smart cards or mobile communication media directly influences the use of memories, in particular EEPROM memories. In this context, EEPROM memories have become essential in recent years for any application which requires non-volatile semiconductor memory.

Pour mieux situer les facteurs qui influent sur la tension de seuil d'un transistor FGT, les mécanismes et  To better locate the factors which influence the threshold voltage of an FGT transistor, the mechanisms and

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le contexte de fonctionnement de ce transistor seront maintenant expliqués de manière plus détaillée.  the operating context of this transistor will now be explained in more detail.

Comme le montre la figure 1, l'architecture d'une mémoire EEPROM 1 est globalement semblable à celle d'une mémoire vive de type RAM (acronyme de l'anglais "random access memory"). Elle comprend un plan 2 de cellules de mémoire, chacune identifiée par sa position dans une ligne et une colonne. Ce plan est entouré, de manière classique, des éléments suivants : - une logique de commande avec registre 4, - un décodeur de ligne 6 pour la sélection d'une ligne active, - un décodeur de colonne 8 ("bit line" en anglais) pour la sélection de la colonne active, - des bascules à haute tension 10 pour stocker des données à programmer dans les mots de la mémoire, - un amplificateur de lecture 12 ("sense amplifier" en anglais) pour l'opération de lecture, et - un générateur de haute tension 14.  As shown in FIG. 1, the architecture of an EEPROM memory 1 is generally similar to that of a RAM type RAM (acronym for "random access memory"). It includes a plan 2 of memory cells, each identified by its position in a row and in a column. This plan is surrounded, in a conventional manner, with the following elements: - a control logic with register 4, - a line decoder 6 for the selection of an active line, - a column decoder 8 ("bit line" in English) ) for the selection of the active column, - high-voltage flip-flops 10 for storing data to be programmed in the words of the memory, - a sense amplifier 12 ("sense amplifier" in English) for the read operation, and - a high voltage generator 14.

On note par ailleurs que l'architecture de la mémoire EEPROM présente en outre des spécificités liées directement à son mode de programmation. Afin de pouvoir réaliser une opération de stockage de données, la structure EEPROM inclue dans sa puce un générateur de haute tension, tel qu'une pompe de charge. It should also be noted that the architecture of the EEPROM memory also has specific features directly linked to its programming mode. In order to be able to carry out a data storage operation, the EEPROM structure includes in its chip a high voltage generator, such as a charge pump.

De manière typique, le plan 2 de cellules mémoire peut être organisée selon soit une logique OU exclusive, soit une logique ET exclusive (respectivement NOR et NAND en anglais).  Typically, the plan 2 of memory cells can be organized according to either an exclusive OR logic or an exclusive AND logic (NOR and NAND respectively in English).

La figure 2 illustre le cas d'une organisation OU exclusive du plan mémoire 2, montrant un bloc de quatre cellules 16a-16d disposées sur deux lignes de sélection de mot WLi et Wi + 1 et deux colonnes BLj et BLj+1.  FIG. 2 illustrates the case of an exclusive OR organization of the memory plane 2, showing a block of four cells 16a-16d arranged on two word selection lines WLi and Wi + 1 and two columns BLj and BLj + 1.

Chaque cellule (désignée génériquement 16) est en outre reliée au drain d'un transistor SST du plan mémoire 2, Each cell (generically designated 16) is also connected to the drain of an SST transistor of the memory plane 2,

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la source de ce transistor étant reliée à la masse et sa grille de commande reliée à une entrée CS.  the source of this transistor being connected to ground and its control gate connected to an input CS.

La figure 3 représente la structure élémentaire d'une cellule, l'exemple étant pris pour la cellule 16a (CELL i. j) de la figure 2, reliée à la ligne de sélection WLi et la colonne BLj. Cette cellule comprend deux transistors MOS en série : - un premier transistor STij, dit de sélection, ayant sa source reliée à sa ligne colonne BLj, son drain relié à un noeud commun Dij , et sa grille reliée à la ligne de sélection WLi. Ce transistor sert essentiellement de commutateur logique pour activer la cellule en réponse à l'adressage BLj et WLi ; et - un second transistor FGTij, dit de lecture, de type à grille flottante, ayant sa source reliée au noeud commun Dij, son drain relié à la source S du transistor STij, et sa grille de commande CG reliée sélectivement à la sortie CG : soit d'un générateur de haute tension lors de la programmation, soit à la sortie d'une source de tension de valeur nominale constante lors de la lecture.  FIG. 3 represents the elementary structure of a cell, the example being taken for cell 16a (CELL i. J) of FIG. 2, connected to the selection line WLi and the column BLj. This cell includes two MOS transistors in series: - a first transistor STij, called the selection transistor, having its source connected to its column line BLj, its drain connected to a common node Dij, and its gate connected to the selection line WLi. This transistor essentially serves as a logic switch for activating the cell in response to the addressing BLj and WLi; and a second transistor FGTij, called a reading transistor, of the floating gate type, having its source connected to the common node Dij, its drain connected to the source S of the transistor STij, and its control gate CG selectively connected to the output CG: either from a high voltage generator during programming, or at the output of a constant nominal value voltage source during reading.

Selon la configuration du plan mémoire, différentes procédures peuvent être utilisées pour le stockage de données. Dans l'exemple considéré, la procédure consiste à effacer le mot qui inclut les bits à changer et ensuite à réinscrire dans leurs cellules respectives la nouvelle information. Avec une telle procédure, seulement une opération d'écriture peut s'effectuer un bit à la fois.  Depending on the memory plan configuration, different procedures can be used for data storage. In the example considered, the procedure consists in erasing the word which includes the bits to be changed and then in rewriting the new information in their respective cells. With such a procedure, only one write operation can be performed one bit at a time.

Le (puer de la cellule de mémoire EEPROM est le transistor de stockage FGT à grille flottante. La tension de seuil VT transistor d'un FGT peut être changée respectivement d'un état haut vers un état bas, ou inversement, en correspondance avec deux valeurs logiques de la cellule mémoire. La valeur de VT d'un  The (puer of the EEPROM memory cell is the floating gate FGT storage transistor. The threshold voltage VT transistor of an FGT can be changed respectively from a high state to a low state, or vice versa, in correspondence with two logical values of the memory cell. The value of VT of a

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transistor FGT change lorsque la cellule est programmée par une opération d'écriture ou d'effacement. Quand une charge électrique négative est stockée sur la grille flottante, la valeur de VT augmente : la cellule est alors considérée comme effacée, et sa valeur logique est égale à "1". A l'inverse, quand la charge sur la grille flottante est positive, la valeur de VT diminue : la cellule est alors considérée comme écrite, et sa valeur logique est égale à "0". Pour programmer une cellule, on applique une haute tension Vpp sur : le noeud de la ligne bit BL1 ("bit line node" en anglais) de la cellule 16 pour une opération d'écriture, le noeud de grille de contrôle (CG) pour une opération d'effacement.  transistor FGT changes when the cell is programmed by a write or erase operation. When a negative electrical charge is stored on the floating grid, the value of VT increases: the cell is then considered to be erased, and its logical value is equal to "1". Conversely, when the charge on the floating gate is positive, the value of VT decreases: the cell is then considered to be written, and its logical value is equal to "0". To program a cell, a high voltage Vpp is applied to: the bit line node BL1 ("bit line node" in English) of cell 16 for a write operation, the control grid node (CG) for an erase operation.

Pour réaliser une opération de lecture, un potentiel prédéterminé VCgref est appliquée sur la grille de commande du transistor FGT d'une cellule sélectionnée, par l'activation du transistor STij, lié à l'amplificateur de lecture, qui applique le courant de lecture Ilect. sur la ligne bit.  To carry out a read operation, a predetermined potential VCgref is applied to the control gate of the transistor FGT of a selected cell, by activating the transistor STij, linked to the read amplifier, which applies the read current Ilect . on the bit line.

Si la cellule lue est à l'état écrit, le courant d'écriture Ilect. parcourt la cellule et le commutateur de l'amplificateur de lecture.  If the cell read is in the written state, the write current Ilect. scans the cell and the amplifier switch.

Si la cellule est à l'état effacé, le transistor FGT est bloqué, la cellule n'est par parcourue par un courant, et il ne se produit pas de commutation à la sortie de l'amplificateur de lecture.  If the cell is in the erased state, the transistor FGT is blocked, the cell is not traversed by a current, and there does not occur any switching at the output of the sense amplifier.

Dans le cas d'une EEPROM de technologie dite "Flotox", maintenant devenue la norme dans l'industrie, le transfert de charge électrique depuis le noeud drain vers le noeud de grille flottante est du à l'effet tunnel Fowler-Nordheim. Cet effet tunnel est entièrement dépendant des facteurs suivants :  In the case of an EEPROM of so-called "Flotox" technology, which has now become the industry standard, the transfer of electrical charge from the drain node to the floating gate node is due to the Fowler-Nordheim tunnel effect. This tunnel effect is entirely dependent on the following factors:

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- la géométrie de la cellule, - la haute tension appliquée pour programmer la cellule, et - la qualité du processus de fabrication.  - the geometry of the cell, - the high voltage applied to program the cell, and - the quality of the manufacturing process.

L'ensemble de ces éléments mène à des problèmes critiques de conception et de contrôle de processus industriels dans le domaine des mémoires non volatiles.  All of these elements lead to critical problems in the design and control of industrial processes in the field of non-volatile memories.

Une variation, même faible, de l'un quelconque de ces facteurs d'une cellule à l'autre d'un plan mémoire a pour effet direct d'élargir la distribution des tensions de seuil, ce qui se traduit par une diminution à la fois des performances globales de la mémoire et du rendement de fabrication. Sachant que l'amélioration du rendement de fabrication conditionne la réussite d'une unité de production, il est important de pouvoir disposer de techniques de diagnostic qui soient spécifiques au produit et qui permettent un gain de temps. En ce qui concerne les mémoire EEPROM, il apparaît clairement que la connaissance de la tension de seuil de toutes les cellules d'un plan mémoire est un paramètre clé dans le développement d'une méthodologie de diagnostic précis. A variation, even small, of any of these factors from one cell to another of a memory plane has the direct effect of widening the distribution of the threshold voltages, which results in a decrease in the both overall memory performance and manufacturing performance. Knowing that the improvement of the manufacturing yield conditions the success of a production unit, it is important to be able to have diagnostic techniques which are specific to the product and which allow a saving of time. With regard to the EEPROM memories, it clearly appears that the knowledge of the threshold voltage of all the cells of a memory plane is a key parameter in the development of a precise diagnostic methodology.

Le déroulement des tests fonctionnels d'une mémoire EEPROM implique plus de contraintes critiques que celui d'une mémoire vive (RAM) classique. En effet, l'opération de programmation est bien trop coûteuse en temps pour permettre l'utilisation d'un algorithme de test basé sur une séquence écriture-effacement, tel que le test de March. De la sorte, on adopte pour les mémoires EEPROM des séquences de test simples, tels que - toutes les cellules à "1", toutes les cellules à "O", - un motif à "damier", - une barre ligne et une barre colonne,  The conduct of functional tests of an EEPROM memory involves more critical constraints than that of a conventional random access memory (RAM). Indeed, the programming operation is far too costly in time to allow the use of a test algorithm based on a write-erase sequence, such as the March test. In this way, simple test sequences are adopted for the EEPROM memories, such as - all the cells at "1", all the cells at "O", - a "checkerboard" pattern, - a line bar and a bar column,

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- un motif en diagonal, - etc.  - a diagonal pattern, - etc.

Plus d'informations sur ces techniques sont données dans la publication "Flash Memories", auteur M.  More information on these techniques is given in the publication "Flash Memories", author M.

Cappelletti, éditeur Kluwer Academic Publishers, 1999. Cappelletti, publisher Kluwer Academic Publishers, 1999.

Tous ces algorithmes de test simples ne requièrent qu'une opération d'effacement/écriture suivie d'une opération de lecture.  All of these simple test algorithms require only an erase / write operation followed by a read operation.

Par ailleurs, il est important de retenir que le temps de lecture représente moins de 0,1% du temps de programmation. En termes de diagnostic, une cartographie de bit logique ("digital bitmapping" en anglais) est réalisée pour chacun de ces algorithmes de test.  Furthermore, it is important to remember that the reading time represents less than 0.1% of the programming time. In terms of diagnosis, a logical bitmapping ("digital bitmapping" in English) is performed for each of these test algorithms.

En ce qui concerne l'analyse de dysfonctionnement de structures répétitives, tels qu'avec des cellules de mémorisation, diverses méthodes ont été proposées. A titre d'exemple, l'article de D. Lepejian et al "An automated failure analysis" (AFA) methodology for repeated structures", Proc. 12th IEEE VLSI Test Symp., IEEE Computer Society Press, Los Alamitos, Calif. pp.319.,1994. étudie le cas de structures répétitives et se rapporte à un programme d'analyse de dysfonctionnement connu par le terme "CARAFE". Ce dernier est décrit dans l'article de A.Jee et al., "Carafe: A software tool for failure analysis", Proc.  With regard to the analysis of dysfunctions of repetitive structures, such as with memory cells, various methods have been proposed. By way of example, the article by D. Lepejian et al "An automated failure analysis" (AFA) methodology for repeated structures ", Proc. 12th IEEE VLSI Test Symp., IEEE Computer Society Press, Los Alamitos, Calif. Pp .319., 1994. Studies the case of repetitive structures and relates to a dysfunction analysis program known by the term "CARAFE". The latter is described in the article by A.Jee et al., "Carafe: A software tool for failure analysis ", Proc.

Of Int'l Symp. On Testing and Failure Analysis, pp.143- 149,1993. Of Int'l Symp. On Testing and Failure Analysis, pp. 143-149, 1993.

D'autres méthodes visant une amélioration de rendement sont basées sur une cartographie bit de mémoire numérique, telle que celle proposée dans l'article de J. Segal et al., "Using Electrical bitmap results from Embedded memory to enhance yield", IEEE Design & Test of Computer, Vol.18, No.3, pp.28-39, MayJune 2001.  Other methods aimed at improving performance are based on digital memory bit mapping, such as that proposed in the article by J. Segal et al., "Using Electrical bitmap results from Embedded memory to enhance yield", IEEE Design & Test of Computer, Vol.18, No.3, pp.28-39, MayJune 2001.

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Ces méthodes sont d'application générale et utilisables avec succès avec des mémoires non volatiles. Toutefois, elles ne prennent pas compte du mécanisme analogique de mémorisation, à savoir le basculement de tension de seuil, d'une mémoire EEPROM.  These methods are of general application and can be used successfully with non-volatile memories. However, they do not take into account the analog storage mechanism, namely the switching of threshold voltage, of an EEPROM memory.

Pour résumer, les mémoires EEPROM présentent un mécanisme de mémorisation de type analogique faisant appel à un basculement de tension de seuil, mais sont testées en utilisant des algorithmes classiques de test de mémoires vives (RAM), et sont diagnostiquées au moyen d'une cartographie bit logique.  In summary, the EEPROM memories have an analog type storage mechanism using a threshold voltage switchover, but are tested using conventional random access memory (RAM) algorithms, and are diagnosed by means of a mapping. logical bit.

Il ressort de cet état de faits que les tests fonctionnels classiques appliqués aux mémoires EEPROM ne fournissent aucune information de nature analogique, notamment des valeurs de tension de seuil VT des cellules individuelles, alors qu'une telle information permettrait d'améliorer la phase de test/diagnostic.  It appears from this state of facts that the conventional functional tests applied to EEPROM memories do not provide any information of analogical nature, in particular of threshold voltage values VT of the individual cells, whereas such information would make it possible to improve the test phase. /diagnostic.

Au vu de ce qui précède, l'invention propose, selon un premier aspect, un procédé de contrôle d'un système, ce système étant destiné à présenter une grandeur devant être identifiée à l'un parmi un nombre fini de niveaux préétablis, l'identification étant conditionnée par au moins un paramètre analogique intrinsèque du système, caractérisé en ce qu'il comprend une détermination de la valeur dudit paramètre analogique intrinsèque.  In view of the above, the invention proposes, according to a first aspect, a method of controlling a system, this system being intended to present a quantity to be identified with one of a finite number of preset levels, l the identification being conditioned by at least one intrinsic analog parameter of the system, characterized in that it comprises a determination of the value of said intrinsic analog parameter.

Avantageusement, la valeur du paramètre analogique intrinsèque est déterminée en interne d'un dispositif dans lequel le système est intégré et est présentée en sortie de ce dispositif pour contrôle en externe.  Advantageously, the value of the intrinsic analog parameter is determined internally by a device in which the system is integrated and is presented at the output of this device for external control.

De préférence, la valeur du paramètre analogique intrinsèque est présentée en sortie du dispositif sous une forme numérique.  Preferably, the value of the intrinsic analog parameter is presented at the output of the device in digital form.

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Dans une application possible, le ou chaque paramètre analogique intrinsèque conditionne un seuil par lequel un niveau préétabli est identifié dans des conditions de fonctionnement déterminés, le procédé comprenant les étapes de : - positionner le système dans des conditions de fonctionnement auquel la grandeur se situe à un côté déterminé dudit seuil, - faire évoluer les conditions fonctionnement du système dans le sens faisant rapprocher ladite grandeur vers le seuil, - lorsque ladite grandeur atteint ou franchit le seuil, déterminer la valeur d'un paramètre identifiable ou lié audit paramètre analogique intrinsèque.  In a possible application, the or each intrinsic analog parameter conditions a threshold by which a preset level is identified under determined operating conditions, the method comprising the steps of: - positioning the system under operating conditions at which the quantity is located a determined side of said threshold, - changing the operating conditions of the system in the direction bringing said quantity towards the threshold, - when said quantity reaches or crosses the threshold, determining the value of an identifiable parameter or linked to said intrinsic analog parameter.

Le procédé peut être mis en Oeuvre avantageusement dans un dispositif comprenant un ensemble de systèmes individuellement identifiables, où ladite détermination de la dudit paramètre est effectuée individuellement pour chaque système faisant l'objet d'un contrôle.  The method can advantageously be implemented in a device comprising a set of individually identifiable systems, where said determination of the said parameter is carried out individually for each system being checked.

La valeur dudit paramètre déterminé peut être répertorié avec une identification du système individuel à partir duquel il a été déterminé, par exemple sous forme de cartographie.  The value of said determined parameter can be listed with an identification of the individual system from which it was determined, for example in the form of a map.

Le système peut être une cellule d'une mémoire non-volatile, le procédé étant réalisé sur au moins une cellule de ladite mémoire.  The system can be a cell of a non-volatile memory, the method being carried out on at least one cell of said memory.

La mémoire peut être du type programmable électriquement effaçable, connue par l'acronyme EEPROM (de l'anglais electrically erasable programmable read only memory).  The memory can be of the electrically erasable programmable type, known by the acronym EEPROM (from the English electrically erasable programmable read only memory).

Le paramètre analogique intrinsèque peut être alors la valeur de seuil d'une cellule de la mémoire, pour une cellule écrite, vierge ou effacée, et ladite grandeur peut être le courant traversant la cellule ou  The intrinsic analog parameter can then be the threshold value of a memory cell, for a written, blank or erased cell, and said quantity can be the current passing through the cell or

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la tension de polarisation d'un transistor de stockage en mode lecture.  the bias voltage of a storage transistor in read mode.

Dans un mode de réalisation, la valeur de seuil est assimilée à la valeur de la tension de polarisation d'un transistor de stockage de la cellule en mode lecture, à laquelle ce transistor de stockage passe un courant déterminé.  In one embodiment, the threshold value is assimilated to the value of the bias voltage of a storage transistor of the cell in read mode, at which this storage transistor passes a determined current.

La valeur de seuil également être assimilée à la valeur du courant passé par un transistor de stockage de la cellule en mode lecture lorsque ce transistor est polarisé à une tension positionnée à une valeur de référence.  The threshold value can also be assimilated to the value of the current passed by a cell storage transistor in read mode when this transistor is biased at a voltage positioned at a reference value.

De préférence, - pour déterminer le seuil d'une cellule vierge ou effacée, on détermine la tension de polarisation du transistor de stockage à laquelle ce transistor conduit un courant dont la valeur franchit un seuil sensiblement fixe, - pour déterminer le seuil d'une cellule écrite, on détermine la valeur limite du courant que peut conduire le transistor de stockage pour une tension de polarisation (Vcg) de celui-ci sensiblement fixe.  Preferably, - to determine the threshold of a blank or erased cell, the bias voltage of the storage transistor to which this transistor conducts a current is determined, the value of which crosses a substantially fixed threshold, - to determine the threshold of a written cell, the limit value of the current which the storage transistor can conduct for a substantially fixed bias voltage (Vcg) thereof is determined.

Le seuil peut correspondre à un seuil du transistor de stockage, qui est déterminé par la condition de basculement d'état logique d'un amplificateur de lecture auquel ladite cellule est fonctionnellement reliée, où : - pour déterminer le seuil d'une cellule vierge ou effacée, on maintient un courant de lecture de l'amplificateur de lecture sensiblement constant et on fait évoluer la tension de polarisation du transistor de manière à rapprocher le courant passé par celui-ci de ce courant de lecture, jusqu'à provoquer un basculement d'état logique de l'amplificateur de lecture, et on détermine la valeur de cette tension de  The threshold may correspond to a threshold of the storage transistor, which is determined by the logic state switching condition of a sense amplifier to which said cell is functionally connected, where: - to determine the threshold of a blank cell or erased, a reading current of the reading amplifier is maintained substantially constant and the bias voltage of the transistor is changed so as to bring the current passed through it to this reading current, until a tilting of d logic state of the sense amplifier, and the value of this voltage is determined

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polarisation à laquelle l'amplificateur de lecture bascule d'état logique, cette tension de polarisation étant assimilée à la tension de seuil de la cellule vierge ou effacée ; et - pour déterminer le seuil d'une cellule écrite, on maintient la tension de polarisation du transistor sensiblement constante et on fait évoluer ledit courant traversant la cellule jusqu'au basculement d'état logique de l'amplificateur de lecture, le point de basculement correspondant au franchissement de la valeur limite du courant que peut conduire la cellule pour ladite tension de polarisation du transistor, cette valeur limite de courant traversant la cellule étant assimilée au seuil de la cellule écrite.  polarization at which the read amplifier switches logic state, this bias voltage being assimilated to the threshold voltage of the blank or erased cell; and to determine the threshold of a written cell, the bias voltage of the transistor is kept substantially constant and said current flowing through the cell is changed until the logic amplifier of the read amplifier switches, the switch point corresponding to the crossing of the current limit value that the cell can conduct for said bias voltage of the transistor, this current limit value passing through the cell being assimilated to the threshold of the written cell.

Pour déterminer le seuil d'une cellule, quel que soit son état : vierge, effacé, ou écrit, on peut déterminer la valeur du courant passé par le transistor de stockage pour une tension de polarisation de celuici sensiblement fixe.  To determine the threshold of a cell, whatever its state: blank, erased, or written, it is possible to determine the value of the current passed by the storage transistor for a substantially fixed bias voltage thereof.

Le seuil de commutation du transistor de stockage peut être alors déterminé par la condition de basculement d'état logique d'un amplificateur de lecture auquel ladite cellule est fonctionnellement reliée, où : - pour déterminer le seuil d'une cellule qu'elle soit son état : vierge, effacé, ou écrit, on maintient la tension de polarisation du transistor sensiblement constant et on fait évoluer ledit courant traversant la cellule jusqu'au basculement d'état logique de l'amplificateur de lecture, le point de basculement correspondant au franchissement de la valeur limite dudit courant que peut conduire la cellule pour ladite tension de polarisation du transistor, cette valeur limite de courant traversant la cellule étant assimilée au seuil de la cellule.  The switching threshold of the storage transistor can then be determined by the logic state switching condition of a sense amplifier to which said cell is functionally connected, where: - to determine the threshold of a cell whether it is its state: blank, erased, or written, the bias voltage of the transistor is kept substantially constant and the said current flowing through the cell is changed until the logic state of the read amplifier changes, the switching point corresponding to the crossing of the limit value of said current which the cell can conduct for said bias voltage of the transistor, this current limit value passing through the cell being assimilated to the threshold of the cell.

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On peut faire évoluer la tension de polarisation appliquée au transistor de stockage de la cellule et/ou le courant de référence sur une plage de variation qui recouvre la plage des valeurs admises par la spécification de la mémoire pour la tension de seuil et/ou le courant de seuil considéré.  The bias voltage applied to the cell storage transistor and / or the reference current can be changed over a range of variation which covers the range of values accepted by the memory specification for the threshold voltage and / or the threshold current considered.

On peut faire évoluer la tension de polarisation appliquée au transistor de stockage de la cellule et/ou le courant traversant la cellule de manière incrémentale au moyen respectivement d'une source de tension programmable et/ou une source de courant programmable, la ou chaque source étant commandé numériquement par des moyens de programmation, ces derniers étant utilisés en outre pour fournir en sortie vers l'extérieur, sous forme numérique, une expression de la valeur du seuil considéré, les valeurs de la tension de polarisation ou dudit courant parcourant la cellule donnant la tension ou le courant provoquant ledit basculement d'état logique de l'amplificateur de lecture à l'incrément près.  The bias voltage applied to the cell storage transistor and / or the current flowing through the cell can be changed incrementally by means of a programmable voltage source and / or a programmable current source, the or each source, respectively. being controlled digitally by programming means, the latter being also used to provide an output to the outside, in digital form, an expression of the value of the threshold considered, the values of the bias voltage or of said current flowing through the cell giving the voltage or current causing said change in logic state of the sense amplifier to the nearest increment.

Les moyens de programmation peuvent comprendre un registre à décalage dont les sorties parallèles servent à commander par leur état logique des parties respectives de la source de courant et/ou de la source de tension, de manière à produire une plage de valeurs de courant de référence évolutif et/ou une plage de valeurs de tension de polarisation appliquée à un transistor de stockage de la cellule, en fonction du motif de bits chargé dans le registre, lors de l'évolution des valeurs produites, ce motif commandant une valeur de courant ou de tension, et en ce que l'on extrait ce motif de bits, lorsque celui programme la valeur de courant ou la valeur de tension provoquant un franchissement de seuil en lecture, en tant  The programming means may include a shift register, the parallel outputs of which serve to control, by their logic state, respective parts of the current source and / or of the voltage source, so as to produce a range of reference current values. evolutionary and / or a range of bias voltage values applied to a cell storage transistor, as a function of the bit pattern loaded in the register, during the evolution of the values produced, this pattern controlling a current value or of voltage, and in that this bit pattern is extracted, when that programs the current value or the voltage value causing a crossing of threshold in reading, as

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qu'information sur la valeur de courant ou de tension programmée.  as information on the programmed current or voltage value.

Le motif de bits peut commander des coefficients d'une valeur élémentaire de courant ou de tension produite par des circuits internes de la mémoire utilisés en mode de fonctionnement normal de celle-ci.  The bit pattern can control coefficients of an elementary value of current or voltage produced by internal circuits of the memory used in its normal operating mode.

Au moins un parmi : - le générateur de tension programmable, notamment une source de tension de référence de celui-ci, - le générateur de courant programmable, notamment une source de courant de référence de celui-ci, - les moyens de programmation, peut être réalisé avec des éléments de circuits utilisés par la mémoire en mode normal de fonctionnement.  At least one of: - the programmable voltage generator, in particular a reference voltage source thereof, - the programmable current generator, in particular a reference current source thereof, - the programming means, can be realized with circuit elements used by the memory in normal operating mode.

Le procédé peut être réalisé avec des moyens embarqués dans ladite mémoire.  The method can be carried out with means embedded in said memory.

Le procédé peut être géré, au moins en partie, par une machine d'états de la mémoire.  The method can be managed, at least in part, by a memory state machine.

Le procédé peut comprendre avantageusement une étape de sélection d'une cellule individuelle de la mémoire, ladite détermination de la valeur du paramètre analogique intrinsèque s'appliquant spécifiquement à cette cellule.  The method can advantageously include a step of selecting an individual cell from the memory, said determination of the value of the intrinsic analog parameter applying specifically to this cell.

Le procédé peut être utilisé pour contrôler ledit paramètre analogique intrinsèque se rapportant à chacun d'un ensemble désigné de points répertoriés, chaque point comprenant un dit système, caractérisé en ce que l'on produit les résultats du contrôle obtenus à partir des points sous une forme répertoriée correspondante à des fins d'analyse ou de diagnostic.  The method can be used to control said intrinsic analog parameter relating to each of a designated set of listed points, each point comprising a said system, characterized in that the results of the control obtained from the points are produced under a corresponding listed form for analysis or diagnostic purposes.

Le procédé peut être appliqué à une mémoire, les points répertoriés étant au moins une partie de l'ensemble des cellules de la mémoire, le paramètre analogique intrinsèque étant une valeur de seuil, la  The method can be applied to a memory, the points listed being at least part of the set of memory cells, the intrinsic analog parameter being a threshold value, the

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forme répertorié des résultats du contrôle se présentant sous forme de cartographie des valeurs de seuil à l'image de la cartographie des cellules dans leur plan mémoire, définissant ainsi une cartographie bit analogique utilisable en complément d'une cartographie bit binaire classique.  indexed form of the control results in the form of a mapping of the threshold values like the mapping of the cells in their memory plane, thus defining an analog bit mapping usable in addition to a conventional binary bit mapping.

On peut ainsi produire une distribution statistique des valeurs du paramètre analogique intrinsèque obtenus sur les points contrôlés, par exemple sous forme d'histogramme, pour effectuer une analyse statistique des variations de ce paramètre sur l'ensemble des points contrôlés.  It is thus possible to produce a statistical distribution of the values of the intrinsic analog parameter obtained on the controlled points, for example in the form of a histogram, in order to carry out a statistical analysis of the variations of this parameter on the set of controlled points.

Selon un deuxième aspect, l'invention concerne une mise ensuivre du procédé de contrôle le premier aspect, pour l'acquisition de valeurs dudit paramètre analogique dans le cadre d'un test de dispositifs intégrant au moins un dit système, tels que des mémoire programmables, le contrôle étant réalisé sur certains au moins desdits dispositifs sur des lots de fabrication, de façon à réaliser au moins un historique relatif au procédé de fabrication du dispositif, par exemple, dans le cas d'une mémoire programmable, des différents états de certaines au moins des cellules : vierge, effacé, ou écrit, afin de d'obtenir un suivi et gérer des informations sur d'éventuelles dérives et de dispersion de paramètres.  According to a second aspect, the invention relates to a follow-up of the control method to the first aspect, for the acquisition of values of said analog parameter within the framework of a test of devices integrating at least one said system, such as programmable memories. , the control being carried out on at least some of said devices on manufacturing batches, so as to produce at least one history relating to the manufacturing process of the device, for example, in the case of a programmable memory, of the different states of certain at least cells: blank, erased, or written, in order to obtain monitoring and manage information on possible drifts and dispersion of parameters.

Selon un troisième aspect, l'invention concerne une mise en couvre du procédé de contrôle selon le premier aspect pour l'acquisition de valeurs dudit paramètre analogique dans le cadre d'un diagnostic sur un dispositif défaillant ou en cours de développement, tel qu'une mémoire programmable, dans laquelle au moins une valeur dudit paramètre provenant d'un système défaillant est extraite pour analyse, par exemple à partir d'une cartographie bit analogique.  According to a third aspect, the invention relates to a covering of the control method according to the first aspect for the acquisition of values of said analog parameter within the framework of a diagnosis on a faulty device or in the process of development, such as a programmable memory, in which at least one value of said parameter from a faulty system is extracted for analysis, for example from an analog bit mapping.

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Selon un quatrième aspect, l'invention concerne une mise en cuivre du procédé de contrôle selon le premier aspect, pour l'acquisition de valeurs dudit paramètre analogique dans le cadre d'une étude de systèmes, par exemple de cellules, d'une mémoire programmable, de manière à établir si les systèmes dans leur ensemble sont saines ou, plus généralement, différentes.  According to a fourth aspect, the invention relates to a copper setting of the control method according to the first aspect, for the acquisition of values of said analog parameter within the framework of a study of systems, for example cells, of a memory. programmable, so as to establish whether the systems as a whole are healthy or, more generally, different.

Selon un cinquième aspect, l'invention concerne un dispositif de contrôle d'un système, ce système étant destiné à présenter une grandeur devant être identifiée à l'un parmi un nombre fini de niveaux préétablis, l'identification étant conditionnée par au moins un paramètre analogique intrinsèque du système, caractérisé en ce qu'il comprend des moyens de détermination de la valeur dudit paramètre analogique intrinsèque.  According to a fifth aspect, the invention relates to a device for controlling a system, this system being intended to present a quantity to be identified with one of a finite number of preset levels, the identification being conditioned by at least one intrinsic analog parameter of the system, characterized in that it comprises means for determining the value of said intrinsic analog parameter.

Les aspects présentés dans le cadre du procédé s'appliquent mutatis mutandis à ce dispositif.  The aspects presented within the framework of the process apply mutatis mutandis to this device.

Le dispositif peut être relié à un ensemble de systèmes individuellement identifiables, les moyens de détermination de la valeur dudit paramètre opérant individuellement sur chaque système faisant l'objet d'un contrôle.  The device can be connected to a set of individually identifiable systems, the means for determining the value of said parameter operating individually on each system being checked.

Le dispositif peut comprendre des moyens pour répertorier la valeur dudit paramètre déterminé avec une identification du système individuel à partir duquel il a été déterminé, par exemple sous forme de cartographie.  The device can include means for listing the value of said determined parameter with an identification of the individual system from which it was determined, for example in the form of a map.

Dans le mode de réalisation préféré, le système est une cellule d'une mémoire non-volatile, le dispositif étant configuré pour effectuer le contrôle sur au moins une cellule de ladite mémoire.  In the preferred embodiment, the system is a cell of a non-volatile memory, the device being configured to perform control on at least one cell of said memory.

Le dispositif peut dans ce cas avantageusement comprendre des moyens de sélection d'une cellule individuelle de la mémoire, ladite détermination de la  In this case, the device can advantageously include means for selecting an individual memory cell, said determination of the

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valeur du paramètre analogique intrinsèque s'appliquant spécifiquement à cette cellule.  value of the intrinsic analog parameter applying specifically to this cell.

L'invention concerne également une mémoire, notamment une mémoire programmable, telle qu'une mémoire dite EEPROM, caractérisé en ce qu'elle intègre des moyens pour réaliser au moins un partie du procédé selon le premier aspect et/ou le dispositif selon le deuxième aspect.  The invention also relates to a memory, in particular a programmable memory, such as a so-called EEPROM memory, characterized in that it includes means for carrying out at least part of the method according to the first aspect and / or the device according to the second aspect.

Selon un sixième aspect, l'invention concerne un dispositif selon le cinquième aspect, programmé pour réaliser le procédé selon le premier aspect.  According to a sixth aspect, the invention relates to a device according to the fifth aspect, programmed to carry out the method according to the first aspect.

Selon un septième aspect, l'invention concerne mémoire programmable, caractérisée en ce qu'elle embarque un dispositif selon le cinquième aspect.  According to a seventh aspect, the invention relates to programmable memory, characterized in that it embeds a device according to the fifth aspect.

Selon un huitième aspect, l'invention concerne un circuit intégré comprenant une mémoire programmable, caractérisé en ce qu'il embarque un dispositif selon le cinquième aspect.  According to an eighth aspect, the invention relates to an integrated circuit comprising a programmable memory, characterized in that it embeds a device according to the fifth aspect.

Selon un neuvième aspect, l'invention concerne un appareil de contrôle destiné à coopérer avec le dispositif selon le cinquième aspect, caractérisé en ce qu'il comprend une entrée prévue pour se relier fonctionnellement à une sortie du dispositif produisant une expression de la valeur du paramètre analogique intrinsèque.  According to a ninth aspect, the invention relates to a control device intended to cooperate with the device according to the fifth aspect, characterized in that it comprises an input intended to functionally connect to an output of the device producing an expression of the value of the intrinsic analog parameter.

L'entrée peut être une entrée numérique destinée à recevoir un motif de bits qui encode l'expression de la valeur du paramètre analogique intrinsèque, l'appareil comportant des moyens de mémorisation de données permettant d'extraire une information exploitable à partir de cette expression encodée.  The input may be a digital input intended to receive a bit pattern which encodes the expression of the value of the intrinsic analog parameter, the apparatus comprising data storage means making it possible to extract exploitable information from this expression. encoded.

Selon un dixième aspect, l'invention concerne un support électronique caractérisé en ce qu'il contient des données de résultats pour les valeurs dudit paramètre analogique intrinsèque, répertoriés à l'issu  According to a tenth aspect, the invention relates to an electronic medium characterized in that it contains result data for the values of said intrinsic analog parameter, listed at the end.

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d'un contrôle réalisé sur un ensemble répertorié de points de contrôle conformément au premier, deuxième, troisième ou quatrième aspect.  an inspection carried out on a listed set of inspection points in accordance with the first, second, third or fourth aspect.

Les données peuvent constituer au moins une cartographie bit analogique des cellules d'une mémoire programmable présentant au moins un paramètre de seuil d'un ensemble desdites cellules.  The data can constitute at least an analog bit map of the cells of a programmable memory having at least one threshold parameter of a set of said cells.

Le support électronique peut comprendre en outre des données d'une distribution statistique des valeurs du paramètre analogique intrinsèque, par exemple sous forme d'histogramme, permettant d'effectuer une analyse statistique des variations de ce paramètre sur l'ensemble des points contrôlés.  The electronic medium can also comprise data of a statistical distribution of the values of the intrinsic analog parameter, for example in the form of a histogram, making it possible to perform a statistical analysis of the variations of this parameter on all of the points checked.

L'invention et les avantages qui en découlent apparaîtront plus clairement à la lecture des mode de réalisation préférés, donnés purement à titre d'exemples non-limitatifs, par référence aux dessins annexés dont : - la figure 1, déjà décrite, est un schéma bloc représentant l'agencement fonctionnel d'une mémoire EEPROM classique, - la figure 2, déjà décrite, est un schéma montrant l'agencement d'un bloc de quatre cellules dans un plan mémoire d'une mémoire EEPROM, telle que celle de la figure 1, la figure 3, déjà décrite, est un schéma électrique d'une cellule de la mémoire de la figure 2, - la figure 4, représente une courbe de l'évolution du courant ID passé par une cellule mémoire en mode lecture en fonction de la tension de polarisation de la grille de commande de son transistor de stockage, sur des axes où l'ordonnée indique le courant ID passé par la cellule et l'abscisse représente la tension de polarisation de la grille (flottante) du transistor de stockage, et les états logiques 0 et 1 en sortie de  The invention and the advantages which ensue from it will appear more clearly on reading the preferred embodiments, given purely by way of nonlimiting examples, with reference to the appended drawings, in which: - Figure 1, already described, is a diagram block representing the functional arrangement of a conventional EEPROM memory, - Figure 2, already described, is a diagram showing the arrangement of a block of four cells in a memory plane of an EEPROM memory, such as that of the FIG. 1, FIG. 3, already described, is an electrical diagram of a memory cell of FIG. 2, - FIG. 4, represents a curve of the evolution of the current ID passed by a memory cell in read mode in function of the bias voltage of the control gate of its storage transistor, on axes where the ordinate indicates the current ID passed by the cell and the abscissa represents the bias voltage of the (floating) gate of the trans storage istor, and the logical states 0 and 1 at the output of

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l'amplificateur de lecture en fonction de cette évolution, montrant en outre le niveau du courant de lecture Ilect, - la figure 5 est un schéma bloc représentant l'agencement fonctionnel d'une mémoire EEPROM conforme à un premier mode de réalisation de l'invention, la figure 6 est un schéma électrique d'un générateur de courant programmable mis en Couvre dans la mémoire du premier mode de réalisation, - la figure 7 est un schéma montrant un registre à décalage et ses signaux d'entrée et sortie, utilisé pour la programmation du générateur de courant programmable de la figure 6, la figure 8 est un schéma électrique d'un générateur de tension programmable mis en outre dans la mémoire du premier mode de réalisation, - la figure 9 est un schéma montrant un registre à décalage et ses signaux d'entrée et sortie, utilisé pour la programmation du générateur de tension programmable de la figure 8, la figure 10 représente, sur les mêmes axes qu'utilisés pour la figure 4, deux courbes de l'évolution du courant ID passé par une cellule mémoire en mode lecture, respectivement pour une cellule vierge et une cellule effacée, avec pour chacune des courbes les fenêtres de tension de seuil, d'une part conforme à une spécification et d'autre part prévue pour les mesures lors du contrôle, - la figure 11 représente, sur les mêmes axes qu'utilisés pour la figure 4, une courbe de l'évolution de courant ID passé par une cellule mémoire en mode lecture, montrant en outre les valeurs successives de tension de polarisation de la grille de commande du transistor de stockage lors du contrôle et leur codage  the read amplifier as a function of this development, further showing the level of the read current Ilect, - Figure 5 is a block diagram showing the functional arrangement of an EEPROM memory in accordance with a first embodiment of the invention, FIG. 6 is an electrical diagram of a programmable current generator implemented in the memory of the first embodiment, - FIG. 7 is a diagram showing a shift register and its input and output signals, used for programming the programmable current generator of FIG. 6, FIG. 8 is an electrical diagram of a programmable voltage generator additionally stored in the memory of the first embodiment, - FIG. 9 is a diagram showing a register at offset and its input and output signals, used for programming the programmable voltage generator of Figure 8, Figure 10 shows, on the same axes as used for the FIG. 4, two curves of the evolution of the current ID passed by a memory cell in read mode, respectively for a blank cell and an erased cell, with for each of the curves the threshold voltage windows, on the one hand conforms to a specification and on the other hand provided for the measurements during the control, FIG. 11 represents, on the same axes as used for FIG. 4, a curve of the evolution of current ID passed by a memory cell in read mode, further showing the successive values of bias voltage of the control gate of the storage transistor during checking and their coding

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respectif au niveau du registre de décalage de la figure 9, - la figure 12 représente, sur les mêmes axes qu'utilisés pour la figure 4, une courbe de l'évolution de courant ID passé par une cellule mémoire en mode lecture, montrant les fenêtres de courant de seuil d'une part conforme à une spécification et d'autre part prévue pour les mesures lors du contrôle, - la figure 13 représente, sur les mêmes axes qu'utilisés pour la figure 4, une courbe de l'évolution de courant ID passé par une cellule mémoire en mode lecture, montrant en outre les valeurs successives de courant de lecture Ilect de l'amplificateur de lecture lors du contrôle et leur codage respectif au niveau du registre de décalage de la figure 7, - la figure 14 est un schéma bloc montrant les parties de la mémoire selon le premier mode de réalisation intervenant dans le contrôle des paramètres de seuil et la connexion de cette mémoire avec un appareil de contrôle, en l'occurrence de test et de diagnostic, - la figure 15 est un schéma bloc représentant l'agencement fonctionnel d'une mémoire EEPROM conforme à un deuxième mode de réalisation de l'invention, la figure 16 représente, sur les mêmes axes qu'utilisés pour la figure 4, une courbe de l'évolution de courant ID passé par une cellule mémoire en mode lecture en fonction de la tension de polarisation de son transistor de stockage, et les états logiques 0 et 1 en sortie de l'amplificateur de lecture en fonction de cette évolution, montrant en outre le niveau du courant de seuil IT, - la figure 17 représente, sur les mêmes axes qu'utilisés pour la figure 4, une courbe de l'évolution de courant ID passé par une cellule mémoire en mode  respective at the level of the shift register of FIG. 9, FIG. 12 represents, on the same axes as used for FIG. 4, a curve of the evolution of current ID passed by a memory cell in read mode, showing the threshold current windows on the one hand conforms to a specification and on the other hand provided for measurements during the control, - figure 13 represents, on the same axes as used for figure 4, a curve of the evolution of current ID passed by a memory cell in read mode, further showing the successive values of read current Ilect of the read amplifier during control and their respective coding at the level of the shift register of FIG. 7, - FIG. 14 is a block diagram showing the parts of the memory according to the first embodiment involved in the control of the threshold parameters and the connection of this memory with a control device, in this case test and dia gnostic, - Figure 15 is a block diagram representing the functional arrangement of an EEPROM memory according to a second embodiment of the invention, Figure 16 shows, on the same axes as used for Figure 4, a curve of the change in current ID passed by a memory cell in read mode as a function of the bias voltage of its storage transistor, and the logic states 0 and 1 at the output of the read amplifier as a function of this change, further showing the level of the threshold current IT, - figure 17 represents, on the same axes as used for figure 4, a curve of the evolution of current ID passed by a memory cell in mode

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lecture en fonction de la tension de polarisation de son transistor de stockage, et l'équivalence entre les fenêtres de spécification et de mesure, respectivement en termes dudit courant ID et en termes de ladite tension de polarisation, - la figure 18 est un schéma bloc montrant les parties de la mémoire selon le deuxième mode de réalisation intervenant dans le contrôle des paramètres de seuil et la connexion de cette mémoire avec un appareil de contrôle, en l'occurrence de test et de diagnostic, - la figure 19 représente l'évolution de la tension de programmation d'une cellule de mémoire sur différentes phases : cellule initialement vierge, effacée, écrite et en lecture, - la figure 20 représente l'évolution de la tension de seuil VT, pour la même cellule et sur la même fenêtre de temps que pour la figure 19, - la figure 21, représente les évolutions de courant ID d'une cellule lors de pas incrémentaux appliqués par le générateur de courant pour déterminer son seuil de courant, - la figure 22 représente l'évolution des états logiques de l'amplificateur de lecture pour la même cellule et sur la même fenêtre de temps que pour la figure 19, les figures 23a, 23b et 23c représentent schématiquement des plans de 4x4 cellules dans une cartographie bit analogique, où chaque cellule étant répertorié avec sa valeur de seuil dans l'exemple en termes de courant de seuil respectivement pour le cas de cellules vierges, écrites et effacées, et les figures 24a, 24b et 24c sont des distributions statistiques sous forme d'histogramme montrant les pourcentages de cellules d'un plan mémoire  reading as a function of the bias voltage of its storage transistor, and the equivalence between the specification and measurement windows, respectively in terms of said current ID and in terms of said bias voltage, - Figure 18 is a block diagram showing the parts of the memory according to the second embodiment intervening in the control of the threshold parameters and the connection of this memory with a control device, in this case test and diagnostic, - Figure 19 represents the evolution of the programming voltage of a memory cell on different phases: cell initially blank, erased, written and read, - Figure 20 represents the evolution of the threshold voltage VT, for the same cell and on the same window than in Figure 19, - Figure 21, represents the changes in current ID of a cell during incremental steps applied by the current generator to determine r its current threshold, FIG. 22 represents the evolution of the logic states of the sense amplifier for the same cell and over the same time window as for FIG. 19, FIGS. 23a, 23b and 23c schematically represent plans of 4x4 cells in an analog bit mapping, where each cell is listed with its threshold value in the example in terms of threshold current respectively for the case of blank cells, written and erased, and Figures 24a, 24b and 24c are statistical distributions in the form of a histogram showing the percentages of cells in a memory map

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présentant une valeur de courant de seuil donnée, ces trois figures correspondant respectivement à des cellules vierges, effacées et écrites.  presenting a given threshold current value, these three figures respectively corresponding to blank, erased and written cells.

Les modes de réalisation de l'invention prévoient une méthodologie dédiée au diagnostic des mémoires EEPROM. Cette méthodologie est basée sur des moyens intégrés c'est-à-dire embarqués dans la mémoire , d'extraction de tension de seuil et de la séquence de test, exécutée en dehors de la mémoire, qui s'y affère.  The embodiments of the invention provide a methodology dedicated to the diagnosis of EEPROM memories. This methodology is based on integrated means, that is to say embedded in the memory, for extracting the threshold voltage and the test sequence, executed outside the memory, which is related thereto.

Grâce à l'utilisation de ces moyens supplémentaires, on peut extraire rapidement et avec précision les tensions de seuil de toutes les cellules d'une mémoire. Thanks to the use of these additional means, it is possible to quickly and precisely extract the threshold voltages from all the cells of a memory.

La méthodologie classique de diagnostic est alors modifiée pour prendre en compte les valeurs de seuil délivrées par la mémoire testée ou analysée dans le cas d'un diagnostic.  The conventional diagnostic methodology is then modified to take into account the threshold values delivered by the memory tested or analyzed in the case of a diagnosis.

Dans la description qui suit, les aspects de la partie introductive qui sont pertinents aux modes de réalisation, notamment dans les explications des figures 1 à 3 y sont incorporées par référence et ne seront pas répétés par souci de concision. Dans l'ensemble des figures qui suivent, les mêmes références désignent les mêmes éléments.  In the description which follows, the aspects of the introductory part which are relevant to the embodiments, in particular in the explanations of FIGS. 1 to 3 are incorporated by reference therein and will not be repeated for the sake of brevity. In all the figures which follow, the same references designate the same elements.

Comme expliqué dans la partie introductive par référence aux figures 2 et 3, le mécanisme de mémorisation d'une mémoire EEPROM est piloté directement par la programmation de la tension de seuil VT du transistor à grille flottante FGT. De la sorte, pour améliorer le processus de diagnostic d'une mémoire EEPROM, les modes de réalisation prévoient d'extraire ces valeurs de tension de seuil à partir de la mémoire, durant les tests fonctionnels.  As explained in the introductory part with reference to FIGS. 2 and 3, the memorization mechanism of an EEPROM memory is directly controlled by the programming of the threshold voltage VT of the floating gate transistor FGT. In this way, to improve the diagnostic process of an EEPROM memory, the embodiments provide for extracting these threshold voltage values from the memory, during the functional tests.

En premier lieu, la valeur de tension de seuil doit être définie dans les conditions du composant.  First, the threshold voltage value must be defined under the conditions of the component.

La figure 4 représente :  Figure 4 shows:

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- d'une part la courbe 4-1 du courant parcourant le transistor FGT, c'est-à-dire le courant de drain ID, en fonction de sa tension polarisation grille-drain Vcg, polarisation où l'abscisse représente la tension Vcg appliquée sur la grille de commande du transistor FGT (cf. figure 3), et l'ordonnée représente le courant de drain ID. Cette courbe correspond aux caractéristiques internes de la cellule isolée, en dehors de son comportement vu depuis la sortie de l'amplificateur de lecture ; - pour la même cellule dans le composant, vu depuis la sortie 4-2 de l'amplificateur de lecture contre la tension appliquée à la grille de commande Vcg pour un courant de lecture Ilect. donné de cet amplificateur.  on the one hand the curve 4-1 of the current flowing through the transistor FGT, that is to say the drain current ID, as a function of its gate-drain bias voltage Vcg, bias where the abscissa represents the voltage Vcg applied to the control gate of the FGT transistor (see Figure 3), and the ordinate represents the drain current ID. This curve corresponds to the internal characteristics of the isolated cell, apart from its behavior seen from the output of the read amplifier; - for the same cell in the component, seen from output 4-2 of the read amplifier against the voltage applied to the control gate Vcg for a read current Ilect. given from this amplifier.

A partir de ces courbes, les observations suivantes permettent de définir la tension de seuil : - lorsque la tension Vcg de la grille de commande est en dessous de la tension de seuil VT (qu'il s'agisse du seuil d'une cellule vierge, écrite ou effacée) pour un courant de lecture Ilect. donné, la cellule n'est pas capable de conduire le courant de lecture, et la sortie de l'amplificateur présente un état haut (logique 1) , - lorsque la tension Vcg est au-dessus de la tension de seuil VT pour un courant de lecture Ilect donné, la cellule laisse passer le courant de lecture, et la sortie de l'amplificateur de lecture passe alors un état bas (logique 0). A titre indicatif, le courant de lecture passé par la cellule est de l'ordre de quelques microampères, des valeurs typiques se situant entre 5 et 10 microampères. Certaines mémoires peuvent avoir un courant de lecture plus élevé, de l'ordre de 25 microampères.  From these curves, the following observations make it possible to define the threshold voltage: - when the voltage Vcg of the control gate is below the threshold voltage VT (whether it is the threshold of a blank cell , written or deleted) for an Ilect reading current. given, the cell is not capable of conducting the reading current, and the output of the amplifier has a high state (logic 1), - when the voltage Vcg is above the threshold voltage VT for a current Ilect read signal, the cell lets the read current flow, and the output of the read amplifier then goes low (logic 0). As an indication, the reading current passed through the cell is of the order of a few microamps, typical values being between 5 and 10 microamps. Some memories may have a higher reading current, of the order of 25 microamps.

En conséquence, la tension de seuil est donnée par la tension Vcg appliquée à la grille de commande au  Consequently, the threshold voltage is given by the voltage Vcg applied to the control grid at

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moment où a lieu une commutation de la sortie de l'amplificateur de lecture, pour un courant de lecture Ilect donné de celui-ci.  moment when the output of the sense amplifier switches, for a given Ilect read current thereof.

Le courant de lecture Ilect produit par l'amplificateur de lecture est injecté dans la cellule, au moyen d'un miroir de courant ; le courant ID traversant la cellule et donc le transistor de stockage FGT est alors égal à ce courant de lecture (soit ID = Ilect).  The Ilect read current produced by the read amplifier is injected into the cell, by means of a current mirror; the current ID flowing through the cell and therefore the storage transistor FGT is then equal to this reading current (ie ID = Ilect).

On note que la valeur de la tension de seuil VT est donnée par l'intersection du courant de lecture Ilect précité et du courant de drain ID dans son évolution 4- 1. On peut alors obtenir une valeur de tension de seuil VT de deux façons : - façon i), en fixant un courant de lecture Ilect à une valeur choisie, et en faisant varier la tension Vcg à la grille de commande du transistor FGT, - façon ii) en maintenant cette tension Vcg fixe à une valeur donnée, et faisant varier le courant de lecture Ilect-
Il sera maintenant décrit un premier mode de réalisation de l'invention, où l'on obtient les valeur de tension de seuil en utilisant les deux façons précitées, notamment : - la façon i) pour obtenir la valeur de seuil VTvierge d'une cellule 16 vierge et pour obtenir la valeur de seuil VTeff d'une cellule effacée, et la façon ii) pour obtenir la valeur de seuil VTinscr d'une cellule écrite.
It is noted that the value of the threshold voltage VT is given by the intersection of the aforementioned reading current Ilect and the drain current ID in its evolution 4- 1. We can then obtain a threshold voltage value VT in two ways : - way i), by fixing a reading current Ilect to a chosen value, and by varying the voltage Vcg at the control gate of the transistor FGT, - way ii) by keeping this voltage Vcg fixed at a given value, and varying the reading current Ilect-
A first embodiment of the invention will now be described, where the threshold voltage values are obtained using the two aforementioned ways, in particular: - way i) to obtain the threshold value VTvierge of a cell 16 blank and to obtain the threshold value VTeff of an erased cell, and the method ii) to obtain the threshold value VTinscr of a written cell.

Comme le montre la figure 5, la mémoire EEPROM 110 intégrant ce premier mode de réalisation met en ouvre à la fois : - un générateur de tension programmable 18 pour permettre l'extraction de la valeur de tension de seuil VTvierge d'une cellule vierge et de la tension de seuil  As shown in FIG. 5, the EEPROM memory 110 integrating this first embodiment implements at the same time: - a programmable voltage generator 18 to allow the extraction of the threshold voltage value VTvierge from a blank cell and of the threshold voltage

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VTeff d'une cellule effacée, soit l'extraction d'une tension de seuil positive. Ce générateur 18 est avantageusement intégré avec les circuits du générateur de haute tension 14 classiquement utilisé, avec lesquels il peut partager des éléments communs, et - un générateur de courant programmable 20 pour permettre l'extraction de la valeur de tension de seuil VTinscr d'une cellule écrite, soit l'extraction d'une tension de seuil négative. De même, ce générateur 20 est avantageusement intégré avec les circuits de l'amplificateur de lecture 12, avec lesquels il peut aussi partager des éléments communs. On note effet que que toute mémoire EEPROM classique met en suivre une source de courant de référence ; cette source peut être utilisée pour fournir le courant de référence IREF utilisé par ce générateur 20.  VTeff of an erased cell, ie the extraction of a positive threshold voltage. This generator 18 is advantageously integrated with the circuits of the high voltage generator 14 conventionally used, with which it can share common elements, and - a programmable current generator 20 to allow the extraction of the threshold voltage value VTinscr from a written cell, ie the extraction of a negative threshold voltage. Likewise, this generator 20 is advantageously integrated with the circuits of the sense amplifier 12, with which it can also share common elements. Note that any conventional EEPROM memory follows a reference current source; this source can be used to supply the reference current IREF used by this generator 20.

La mémoire 110 intègre en outre : - des circuits 22 de routage d'une surtension, désignée Vboost, dont le rôle apparaîtra plus loin, et - des circuits 24 de routage de la tension de lecture Vlect.  The memory 110 also integrates: - circuits 22 for routing an overvoltage, designated Vboost, whose role will appear below, and - circuits 24 for routing the read voltage Vlect.

La figure 6 illustre le générateur de courant programmable 20. Celui est basé sur un nombre N de circuits élémentaires identiques 26-1 à 26-N (désignés génériquement par la référence 26) comportant deux transistors en série : - un premier transistor 28 associé à un miroir de courant, ayant le drain relié à une tension d'alimentation Vdd et la source reliée au noeud commun 30des deux transistors, et - un second transistor 32 de type PMOS, servant de commutateur, ayant le drain relié au noeud commun 30 et la source reliée à une sortie commune 34 qui produit le courant programmé.  FIG. 6 illustrates the programmable current generator 20. That is based on a number N of identical elementary circuits 26-1 to 26-N (generically designated by the reference 26) comprising two transistors in series: - a first transistor 28 associated with a current mirror, having the drain connected to a supply voltage Vdd and the source connected to the common node 30 of the two transistors, and - a second transistor 32 of PMOS type, serving as a switch, having the drain connected to the common node 30 and the source connected to a common output 34 which produces the programmed current.

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Les traits pointillés reliant différents points de ces transistors correspondent à des lignes de connexion au substrat du circuit intégré formant la mémoire ; il en est de même pour le circuit générateur de tension programmable de la figure 8.  The dotted lines connecting different points of these transistors correspond to lines of connection to the substrate of the integrated circuit forming the memory; the same is true for the programmable voltage generator circuit of FIG. 8.

Chaque premier transistor 28 reçoit sur sa grille de commande un courant de référence IREF issu d'un générateur de courant 36, lequel constitue une partie de l'amplificateur de lecture 12 par ailleurs utilisé en mode normal de fonctionnement de la mémoire 110. Le générateur de courant 36 comprend, de manière classique, un source de courant constant 38 reliée d'une part à la masse et d'autre part à la grille et au drain d'un transistor MOS 40, celui-ci étant monté en diode. La source de ce transistor est relié à une tension d'alimentation est constitue le transistor symétrique vis-à-vis des premiers transistors 28. La sortie du courant IREF est prise au noeud commun entre le transistor 40 et le générateur de courant 38.  Each first transistor 28 receives on its control gate a reference current IREF coming from a current generator 36, which constitutes a part of the sense amplifier 12 moreover used in normal operating mode of the memory 110. The generator current 36 comprises, conventionally, a constant current source 38 connected on the one hand to ground and on the other hand to the gate and to the drain of a MOS transistor 40, the latter being mounted as a diode. The source of this transistor is connected to a supply voltage and constitutes the transistor symmetrical with respect to the first transistors 28. The output of the current IREF is taken at the common node between the transistor 40 and the current generator 38.

De la sorte, chacun des N circuits élémentaires constitue un générateur de courant capable de contribuer un courant de IREF à la sortie 34 du courant de lecture Ilect. L'activation de la sortie IREF d'un circuit élémentaire 26-i (pour 1# i# N) est commandé par le niveau logique d'un signal EPIi présenté à la grille de son transistor de commutation 32. S'agissant d'un transistor PMOS, la sortie IREF sera active lorsque le signal EPIi=0 et bloquée lorsque EPIi=l.  In this way, each of the N elementary circuits constitutes a current generator capable of contributing a current of IREF to the output 34 of the reading current Ilect. The activation of the IREF output of an elementary circuit 26-i (for 1 # i # N) is controlled by the logic level of a signal EPIi presented to the gate of its switching transistor 32. As regards a PMOS transistor, the IREF output will be active when the signal EPIi = 0 and blocked when EPIi = l.

Comme le montre la figure 7, les N signaux EPIi sont fournis sur N sorties parallèles (parallèles) des étages respectifs d'un registre à décalage 42 à N étages, respectivement ED1 à EDN. Ce registre comprend par ailleurs une entrée série Eser, une sortie série Ser pour une fonction de registre du type FIFO, ainsi qu'une entrée d'horloge Clk permettant de cadencer  As shown in FIG. 7, the N signals EPIi are supplied on N parallel (parallel) outputs of the respective stages of a shift register 42 to N stages, respectively ED1 to EDN. This register also includes an Eser serial input, a Ser serial output for a FIFO type register function, as well as a Clk clock input for timing.

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l'avancement des données numériques le long des étages successifs ED1 à EDN du registre 42.  the advancement of the digital data along the successive stages ED1 to EDN of the register 42.

Comme le montre la figure 8, le générateur de tension programmable 20 est conçu comme l'homologue, en termes de tension, du générateur de courant programmable 18.  As shown in FIG. 8, the programmable voltage generator 20 is designed as the counterpart, in terms of voltage, of the programmable current generator 18.

Il comprend deux blocs principaux : - un bloc 46 de générateurs de tensions de référence, qui comprend M étages identiques, respectivement 48-1 à 48-M, chaque étage ayant une sortie, respectivement 50-1 à 50-M qui fournit une tension qui lui est spécifique. Cette tension est égale à une tension de référence VREF multipliée par un entier allant de 1 à M, de sorte que chaque étage 48-j (pour 1# j# M) produit à sortie 50-j une tension égale à j. VREF.  It comprises two main blocks: a block 46 of generators of reference voltages, which comprises M identical stages, respectively 48-1 to 48-M, each stage having an output, respectively 50-1 to 50-M which supplies a voltage which is specific to him. This voltage is equal to a reference voltage VREF multiplied by an integer ranging from 1 to M, so that each stage 48-j (for 1 # j # M) produces at output 50-j a voltage equal to j. VREF.

- un bloc de commutateurs programmables 52, qui comprend M commutateurs individuels, respectivement 54- 1 à 54M. Chaque commutateur 54-j comporte une entrée reliée à la sortie 50-j d'un étage respectif 48-j du bloc 46 de générateurs de tension et une sortie 56, mise en commun avec toutes les autres sorties de commutateur. Cette sortie commune 56, qui constitue la sortie du générateur de tensions programmable 44, est reliée sélectivement à la grille d'un transistor FGT d'une cellule via le circuit de routage.  a block of programmable switches 52, which includes M individual switches, respectively 54-1 to 54M. Each switch 54-j has an input connected to the output 50-j of a respective stage 48-j of the block 46 of voltage generators and an output 56, shared with all the other switch outputs. This common output 56, which constitutes the output of the programmable voltage generator 44, is selectively connected to the gate of an FGT transistor of a cell via the routing circuit.

Chaque étage 48-j du bloc de générateurs de tension 46 comprend un premier et un second transistors en série 58 et 60, la source du premier étant reliée au drain du second à un neud commun qui constitue la sortie 50-j de l'étage. Ces deux transistors 58 et 60 sont par ailleurs reliés entre eux par leur grille. Le drain du premier transistor 58 est relié à une tension d'entrée VEN et la source du second transistor 60 est reliée à un potentiel prédéterminé.  Each stage 48-j of the block of voltage generators 46 comprises a first and a second transistors in series 58 and 60, the source of the first being connected to the drain of the second to a common neud which constitutes the output 50-j of the stage . These two transistors 58 and 60 are also connected to each other by their gate. The drain of the first transistor 58 is connected to an input voltage VEN and the source of the second transistor 60 is connected to a predetermined potential.

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Cette configuration est dimensionnée de sorte que chaque étage 48-j produise sa tension spécifique précitée de j. VREF.  This configuration is dimensioned so that each stage 48-j produces its aforementioned specific voltage of j. VREF.

Chaque commutateur individuel 54-j du bloc de commutateurs programmables 52 comprend un premier et un second transistors en parallèle 62 et 64, de polarité opposée, chacun relié par sa source/son drain à la sortie respective 50-j d'un étage 48-j du générateur de tensions et par son drain/sa source à la sortie commune 56. Les premier et second transistors 62 et 64 d'un commutateur 54-j fonctionnent en logique complémentaire de manière à ouvrir la connexion entre la sortie 50-j et la sortie commune 56 lorsque leurs grilles ce commande sont à une tension de logique 1 et fermer cette connexion dans le cas contraire.  Each individual switch 54-j of the block of programmable switches 52 comprises a first and a second parallel transistors 62 and 64, of opposite polarity, each connected by its source / its drain to the respective output 50-j of a stage 48- j of the voltage generator and by its drain / source at common output 56. The first and second transistors 62 and 64 of a switch 54-j operate in complementary logic so as to open the connection between output 50-j and the common output 56 when their gates this command are at a logic voltage 1 and close this connection otherwise.

Les grilles des premier et second transistors 62 et 64 du bloc de commutateurs programmables 52 sont reliées à des sorties parallèles respectives EPV1 à EPVM d'un registre à décalage 66 à M étages, respectivement EU1 à EUM.  The gates of the first and second transistors 62 and 64 of the programmable switch block 52 are connected to respective parallel outputs EPV1 to EPVM of a shift register 66 with M stages, respectively EU1 with EUM.

Comme le montre la figure 9, ce registre comporte une entrée d'horloge Clk pour le cadencement de la propagation des données, une entrée série EVser et une sortie série SVser, de manière analogue au registre 42 de la figure 7. Bien entendu, les registres à décalage 42 et 66 peuvent être matériellement un même registre à reconfigurable pour sortir les soit les signaux EPI1EPIN, soit les signaux EPV1-EPVM.  As shown in FIG. 9, this register comprises a clock input Clk for the timing of the propagation of the data, a serial input EVser and a serial output SVser, in a similar manner to the register 42 of FIG. 7. Of course, the shift registers 42 and 66 can be physically the same register to be reconfigurable to output either the EPI1EPIN signals or the EPV1-EPVM signals.

Il sera maintenant décrit le fonctionnement du premier mode de réalisation.  The operation of the first embodiment will now be described.

Dans les conditions normales de fonctionnement du composant, la tension de commande de grille du transistor FGT est fixée à une valeur dans une plage entre OV et la tension de seuil de cellule effacée de manière à distinguer entre un état d'écriture (où la  Under normal operating conditions of the component, the gate control voltage of the transistor FGT is fixed at a value in a range between OV and the cell threshold voltage erased so as to distinguish between a write state (where the

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cellule conduit le courant de lecture) et un état d'effacement (où la cellule ne conduit pas le courant de lecture).  cell conducts read current) and an erase state (where the cell does not conduct read current).

Or, dans les conditions de test fonctionnel, la tension de grille doit être variable afin de reproduire d'une par la tension de seuil de cellule vierge, désignée VTvierge, et d'autre part la tension de seuil de cellule effacée, désignée VTeff'
Il est à noter que l'on utilise partiellement la même structure pour extraire à la fois la tension de seuil VTvierged'une cellule vierge et la tension de seuil VTeff d'une cellule effacée. Les seules différences concernent la tension de polarisation Vin, qui peut être positionnée à deux valeurs différentes : - une valeur de surtension Vboost, produite par le générateur de surtension 22 (cf. figure 5), pour extraire la valeur de tension seuil d'une cellule effacée VTeff' Pour plus d'informations concernant cette valeur de surtension, on peut se référer à l'article de T. Tanzawa et al. "Optimization of wordline booster circuits for single power supply flash memories", IEEE J. of Solid State Circuits, Vo1.32, No.8, pp.1091-1098, août 1999 ; - la tension d'alimentation Vdd pour extraire la valeur de tension de seuil VTvierge d'une cellule vierge.
Now, under the functional test conditions, the gate voltage must be variable in order to reproduce, one by the virgin cell threshold voltage, designated VTvierge, and on the other hand the erased cell threshold voltage, designated VTeff '
It should be noted that the same structure is partially used to extract both the threshold voltage VTvierged from a blank cell and the threshold voltage VTeff from an erased cell. The only differences concern the bias voltage Vin, which can be positioned at two different values: - an overvoltage value Vboost, produced by the overvoltage generator 22 (cf. FIG. 5), to extract the threshold voltage value from a cell deleted VTeff 'For more information concerning this overvoltage value, reference may be made to the article by T. Tanzawa et al. "Optimization of wordline booster circuits for single power supply flash memories", IEEE J. of Solid State Circuits, Vo1.32, No.8, pp.1091-1098, August 1999; - the supply voltage Vdd to extract the threshold voltage value VTvierge from a blank cell.

A cette fin, on prévoit deux plages de variation de tension, chacune correspondant à une fenêtre de mesure respective, à savoir : - une qui recouvre la fenêtre de spécification de la tension VTvierge, et - une qui recouvre la fenêtre de spécification de la tension VTeff.  To this end, two voltage variation ranges are provided, each corresponding to a respective measurement window, namely: - one which covers the voltage specification window VTvierge, and - one which covers the voltage specification window VTeff.

Les plages susmentionnées sont représentées à la figure 10, qui représente l'évolution du courant de drain ID (en ordonnée) d'un transistor FGT contre la  The above-mentioned ranges are represented in FIG. 10, which represents the evolution of the drain current ID (on the ordinate) of an FGT transistor against the

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tension appliquée à sa grille de commande Vcg (en abscisse) . On note que, tant pour la tension VTviergeque pour la tension VTeff, la plage de mesure dépasse suffisamment les limites de la plage de tolérance prévue par la spécification, afin de permettre d'analyser des cellules nettement en dehors de cette dernière.  voltage applied to its control grid Vcg (on the abscissa). It is noted that, both for the voltage VTgegeque and for the voltage VTeff, the measurement range sufficiently exceeds the limits of the tolerance range provided for by the specification, in order to allow cells clearly outside of the latter to be analyzed.

L'évolution de la tension Vcg sur les plages de mesure est obtenue par programmation de valeurs incrémentales successives de Vcg au moyen du générateur de tensions programmable 44, la sortie 56 de ce dernier étant routé vers la grille de commande du transistor FGT de la cellule à analyser. Il est ainsi possible d'extraire avec précision les tensions de seuil vierge VTvierge et effacement VTeff pour une valeur constante du courant de lecture Ilect. : ces tensions correspondent à la tension Vcg à laquelle le courant de drain ID est égal au courant de lecture Ilect, fixé par l'amplificateur de lecture.  The evolution of the voltage Vcg over the measurement ranges is obtained by programming successive incremental values of Vcg by means of the programmable voltage generator 44, the output 56 of the latter being routed to the control gate of the cell's FGT transistor. to analyze. It is thus possible to extract precisely the blank threshold voltages VTvierge and erasure VTeff for a constant value of the reading current Ilect. : These voltages correspond to the voltage Vcg at which the drain current ID is equal to the read current Ilect, fixed by the read amplifier.

Pour les deux fenêtres de mesure, la valeur de tension de seuil respective Vierge et VTeff est donnée par la valeur de la tension Vcg de commande de grille lorsque l'amplificateur de lecture 12 commute.  For the two measurement windows, the respective threshold voltage value Virgo and VTeff is given by the value of the gate control voltage Vcg when the sense amplifier 12 switches.

Le processus d' extraction de la valeur de VTvierge ou de VTeff pour le contrôle une cellule donnée 16 s'opère par les étapes suivantes : l.i) sélectionner la cellule individuelle devant faire l'objet d'un contrôle, par adressage sur ses lignes BL et WL correspondantes ; si on prévoit de lecture en parallèle de cellules, chacune sera associée à son amplificateur de respectif l.ii) fixer le courant de lecture de l'amplificateur de lecture 12 à une valeur nominale Ilect.  The process of extracting the value of VTvierge or VTeff for checking a given cell 16 is carried out by the following steps: li) selecting the individual cell to be checked, by addressing on its BL lines and corresponding WL; if cells are to be read in parallel, each will be associated with its respective amplifier l.ii) set the reading current of the reading amplifier 12 to a nominal value Ilect.

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l.iii) remplir le registre à décalage 66 (figure 9) de valeurs logiques 0. De la sorte, chacune des M sorties EPV1 à EPVM est initialement à l'état 0. Ces sorties, reliées chacune aux deux grilles de commande des transistors 62 et 64 de leur commutateur respectif 54-1 à 54-M, bloquent ces derniers (les maintiennent ouvert) de par leur valeur logique 0. Aucune sortie 50-1 à 50-M de générateur de tension 48-1 à 48-M n'est donc présente à la sortie commune 56 qui produit la tension Vcg ; l.iv) aiguiller, via les circuits de routage, la sortie commune 56 du générateur de tensions vers la grille CG du transistor FGT de la cellule 16 considérée
1.v) introduire un bit logique 1 dans le premier étage EV1 du registre à décalage 66, via l'entrée EVser. Ce bit positionne la sortie parallèle correspondante EPV1 de cet étage à l'état logique 1.
l.iii) fill the shift register 66 (FIG. 9) with logic values 0. In this way, each of the M outputs EPV1 to EPVM is initially at state 0. These outputs, each connected to the two control gates of the transistors 62 and 64 of their respective switch 54-1 to 54-M, block these (keep them open) by their logic value 0. No output 50-1 to 50-M of voltage generator 48-1 to 48-M is therefore not present at the common output 56 which produces the voltage Vcg; l.iv) switch, via the routing circuits, the common output 56 of the voltage generator to the gate CG of the transistor FGT of the cell 16 considered
1.v) introduce a logic bit 1 in the first stage EV1 of the shift register 66, via the input EVser. This bit positions the corresponding parallel output EPV1 of this stage in logic state 1.

Cette sortie EPV1, qui est reliée aux grilles des transistors 62 et 64 du commutateur 54-1, rend ce dernier passant par son état logique 1. La sortie de la tension 1. VREF du générateur 48-1 passe alors sur la sortie commune 56. Les autres commutateurs restent bloqués ; l.vi) déterminer si la sortie de l'amplificateur de lecture 12 bascule de l'état logique 1 à l'état logique 0 ; l.vii) s'il n'y a pas de basculement d'état logique constaté à l'étape l.vi), décaler le bit logique 1 vers l'étage suivant EV2 et faire revenir l'étage EV1 à l'état 0 (en introduisant un bit 0 à l'entrée du registre avant le décalage). De la sorte, et de manière analogue, c'est le commutateur 54-2 qui devient l'unique commutateur passant ; il transmet la tension 2.VREF de son générateur 50-2 sur la sortie commune 56 ; This output EPV1, which is connected to the gates of the transistors 62 and 64 of the switch 54-1, makes the latter passing through its logic state 1. The output of the voltage 1. VREF of the generator 48-1 then passes to the common output 56 The other switches remain blocked; l.vi) determining whether the output of the sense amplifier 12 switches from logic state 1 to logic state 0; l.vii) if there is no logic state changeover observed in step l.vi), shift the logic bit 1 to the next stage EV2 and return the stage EV1 to the state 0 (by entering a bit 0 at the register entry before the shift). In this way, and in a similar manner, it is switch 54-2 which becomes the only passing switch; it transmits the voltage 2.VREF from its generator 50-2 to the common output 56;

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l.viii) déterminer si la sortie de l'amplificateur de lecture 12 bascule l'état logique 0 à l'état logique 1.  l.viii) determine whether the output of the sense amplifier 12 switches logic state 0 to logic state 1.

Tant qu'il n'y a pas de basculement d'état logique, on répète en boucle les étapes l.vii) et l.viii), celles-ci prenant la forme plus générale, en commençant par l'étape l.viii) de : l.viii') décaler le bit logique 1 vers l'étage suivant EVk+1, faire revenir l'étage EVk à l'état 0, de sorte que le commutateur 54-k+l devienne l'unique commutateur passant et produise la tension (k+1). VREF sur la sortie commune 56, où k prend des valeurs successives à partir de 1, et retourner à l'étape l.vi' l.vii') déterminer si la sortie de l'amplificateur de lecture 12 bascule de l'état logique 1 à l'état logique 0 : s'il n'y a pas de basculement, incrémenter k d'une unité, et retourner à l'étape l.viii') ; - s'il y a basculement, identifier la valeur k et produire en sortie sa valeur numérique sous forme binaire.  As long as there is no logical state switching, steps l.vii) and l.viii) are repeated in a loop, these taking the more general form, starting with step l.viii ) from: l.viii ') shift logic bit 1 to the next stage EVk + 1, bring the stage EVk back to state 0, so that the switch 54-k + l becomes the only passing switch and produce the voltage (k + 1). VREF on common output 56, where k takes successive values from 1, and return to step l.vi 'l.vii') determine if the output of the sense amplifier 12 switches from logic state 1 in logic state 0: if there is no switching, increment k by one unit, and return to step l.viii '); - if there is a changeover, identify the value k and output its digital value in binary form.

Avantageusement, cette forme binaire s'obtient directement à partir de la sortie SVser du registre à décalage 66, par exemple en analysant son contenu : la position du bit 1 indique directement le coefficient correspondant k dans la relation VTvierge - k. VREF ou VTeff k.VREF (bien entendu, les valeurs de k seront spécifiques à chaque tension de seuil évalué). Elle peut aussi s'obtenir en décomptant, à partir du moment de basculement, le nombre p de décalages nécessaires pour que le bit 1 apparaisse à cette sortie, le coefficient de VREF étant dans ce cas (M-p). D'autres approches sont bien entendu possibles.  Advantageously, this binary form is obtained directly from the output SVser of the shift register 66, for example by analyzing its content: the position of bit 1 directly indicates the corresponding coefficient k in the relation VTvierge - k. VREF or VTeff k.VREF (of course, the values of k will be specific to each evaluated threshold voltage). It can also be obtained by counting down, from the time of switching, the number p of offsets necessary for bit 1 to appear at this output, the coefficient of VREF in this case being (M-p). Other approaches are of course possible.

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La sortie de SVser du registre à décalage 66 peut être dirigée vers un terminal de la mémoire 110 accessible en mode test, selon des techniques connues.  The output of SVser from the shift register 66 can be directed to a terminal of the memory 110 accessible in test mode, according to known techniques.

Ce processus d'extraction de valeur de tension de seuil est appliqué pour la cellule vierge (donnant VTvierge) et pour cette même cellule à l'état programmé en effacement (donnant VTeff) .  This threshold voltage value extraction process is applied for the blank cell (giving VTvierge) and for this same cell in the programmed erasure state (giving VTeff).

Ainsi, on obtient en sortie de la mémoire 110 une donnée numérique qui indique chacune des tensions de seuil VTvierge et VTeff en termes de coefficient respectif de la valeur incrémentale élémentaire VREF.  Thus, a digital datum is obtained at the output of the memory 110 which indicates each of the threshold voltages VTvierge and VTeff in terms of the respective coefficient of the elementary incremental value VREF.

Ce processus est répété pour chaque cellule devant faire l'objet d'un contrôle.  This process is repeated for each cell to be checked.

La figure 11 illustre le principe de l'utilisation du registre à décalage 66 selon le processus venant d'être décrit, dans le cas de la détermination de la tension de seuil VTvierge pour une cellule donnée soumise à un test. Cette figure reprend la courbe de gauche de la figure 10, sur les mêmes axes. Elle indique en outre, par des lignes verticales de projection sur l'abscisse, les valeurs de tension d'entrée Vcg appliquées au transistor FGT. Celles-ci sont successivement de VREF, 2.VREF, 3.VREF jusqu'à atteindre 7.VREF. A cette valeur Vcg = 7.VREF, la valeur du courant ID traversant le transistor FGT dépasse le courant de lecture Ilect utilisé. (Plus précisément, la condition ID > Ilect à lieu pour une valeur de tension 6. VREF < Vcg # 7. VREF. Le processus cesse alors d'augmenter la tension Vcg et sort la valeur actuelle du registre à décalage 66 sous la forme du mot binaire
0000 0010 0000 0000. Cette valeur, présentée à un point de la mémoire est chargée directement dans un registre d'un appareil de test ou de mesure. Celui-ci est programmé pour interpréter ce mot binaire comme codant la valeur 7, laquelle est interprétée comme le
FIG. 11 illustrates the principle of the use of the shift register 66 according to the process just described, in the case of the determination of the threshold voltage VTvierge for a given cell subjected to a test. This figure reproduces the left curve of Figure 10, on the same axes. It also indicates, by vertical projection lines on the abscissa, the input voltage values Vcg applied to the transistor FGT. These are successively from VREF, 2.VREF, 3.VREF until reaching 7.VREF. At this value Vcg = 7.VREF, the value of the current ID passing through the transistor FGT exceeds the reading current Ilect used. (More precisely, the condition ID> Ilect takes place for a voltage value 6. VREF <Vcg # 7. VREF. The process then ceases to increase the voltage Vcg and outputs the current value of the shift register 66 in the form of the binary word
0000 0010 0000 0000. This value, presented at a point in the memory, is loaded directly into a register of a test or measurement device. This is programmed to interpret this binary word as coding the value 7, which is interpreted as the

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coefficient de la tension de référence VREF, dont la valeur est également stockée dans l'appareil.  coefficient of the reference voltage VREF, the value of which is also stored in the device.

Les valeurs des mots binaires stockées dans le registre à décalage 66 sont indiquées sous l'abscisse pour chaque valeur appliquée pour la tension Vcg, allant de VREF à 7.VREF
En ce qui concerne la tension de seuil en écriture VTinscr,le premier mode de réalisation la détermine de manière indirecte, en faisant évoluer le courant de lecture Ilect, et donc le courant ID qui traverse la cellule. En effet, la valeur de VTinscr ne peut pas être extraite de manière directe, du fait qu'elle est négative, et qu'une tension négative ne peut pas être normalement appliquée à la grille de commande.
The values of the binary words stored in the shift register 66 are indicated under the abscissa for each value applied for the voltage Vcg, going from VREF to 7.VREF
As regards the writing threshold voltage VTinscr, the first embodiment determines it indirectly, by changing the reading current Ilect, and therefore the current ID flowing through the cell. Indeed, the value of VTinscr cannot be extracted directly, because it is negative, and that a negative voltage cannot normally be applied to the control gate.

Le processus pour déterminer la valeur de VTinscr est analogue à celle pour déterminer les valeurs de VTvierge et VTeff' sauf que la variation pas à pas s'opère cette fois sur le courant de lecture Ilect,la tension Vcg étant maintenue fixe.  The process for determining the value of VTinscr is analogous to that for determining the values of VTvierge and VTeff 'except that the stepwise variation takes place this time on the reading current Ilect, the voltage Vcg being kept fixed.

Le principe de cette approche pour la mesure de VTinscr est illustré par la courbe de la figure 12, qui montre l'évolution du courant ID d'un transistor FGT analysé, utilisant les mêmes axes que pour la figure 10.  The principle of this approach for the measurement of VTinscr is illustrated by the curve of FIG. 12, which shows the evolution of the current ID of an FGT transistor analyzed, using the same axes as for FIG. 10.

Seulement, dans ce cas, on définit une fenêtre de mesure de courant sur la fenêtre de spécification de courant ID et une fenêtre de mesure du courant ID, cette dernière débordant la fenêtre de spécification pour ce courant, aux deux extrémités, pour permettre d'analyser des conditions défaillantes, à l'instar de la fenêtre de mesure pour la tension programmable de Vcg.  Only, in this case, a current measurement window is defined on the current specification window ID and a current measurement window ID, the latter extending beyond the specification window for this current, at both ends, to allow analyze faulty conditions, like the measurement window for the programmable voltage of Vcg.

Lors des mesures effectués, la grille de commande du transistor à grille flottante FGT est mise à la masse, et on augmente le courant de lecture Ilect par  During the measurements made, the control gate of the floating gate transistor FGT is grounded, and the reading current Ilect is increased by

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pas successifs de IREF dans la fenêtre de mesure, jusqu'à ce que l'amplificateur de lecture 12 commute et produise l'image, sous forme de courant, de la tension de seuil. Ce point de commutation correspond au point où le transistor de stockage FGT ne peut plus laisser passer la valeur de courant ID qui lui est imposé par l'amplificateur de lecture, autrement di par le courant Ilect
A cette fin, on utilise le générateur de courant programmable 20 (figure 5), commandé à l'aide du registre à décalage 42 (figure 9).
successive steps of IREF in the measurement window, until the sense amplifier 12 switches and produces the image, in the form of current, of the threshold voltage. This switching point corresponds to the point where the storage transistor FGT can no longer allow the current value ID imposed on it by the sense amplifier to pass, otherwise known as the current Ilect
To this end, the programmable current generator 20 (FIG. 5) is used, controlled using the shift register 42 (FIG. 9).

Les étapes du processus d'extraction de la valeur de VTinscr pour une cellule donnée 16 s'opère par les étapes suivantes :
2.i) sélectionner la cellule individuelle devant faire l'objet d'un contrôle, par adressage sur ses lignes BL et WL correspondantes,
2.ii) mise à la masse de la grille du transistor à grille flottante FGT (soit Vcg=OV) ;
2. iii) remplir le registre à décalage 42 (figure 9) de valeurs logiques 1. De la sorte, chacune des N sorties EPI1 à EPIM est initialement à l'état 1. Ces sorties, reliées aux grilles de commande du transistor 32 de commutation respectivement des étages 26-1 à 26N, bloquent ces derniers (les maintiennent ouvert) de par leur valeur logique 1 (s'agissant de transistors PMOS). Aucun courant n'est alors présent sur la sortie 34 de courant Ilect à ce stade ;
2.iv) aiguiller, via les circuits de routage, la sortie 54 du générateur de courant programmable vers la cellule 16 considérée ;
2.v) introduire un premier bit logique 0 dans le premier étage ED1 du registre à décalage 42, via l'entrée EVser. Ce bit positionne la sortie parallèle correspondante EPI1 de cet étage à l'état logique 0.
The steps in the process of extracting the value of VTinscr for a given cell 16 is carried out by the following steps:
2.i) select the individual cell to be checked, by addressing on its corresponding BL and WL lines,
2.ii) grounding of the gate of the floating gate transistor FGT (ie Vcg = OV);
2. iii) fill the shift register 42 (FIG. 9) with logic values 1. In this way, each of the N outputs EPI1 to EPIM is initially in state 1. These outputs, connected to the control gates of the transistor 32 of switching stages 26-1 to 26N respectively, block these (keep them open) by their logic value 1 (in the case of PMOS transistors). No current is then present on the Ilect current output 34 at this stage;
2.iv) switch, via the routing circuits, the output 54 of the programmable current generator to the cell 16 considered;
2.v) introduce a first logic bit 0 in the first stage ED1 of the shift register 42, via the input EVser. This bit positions the corresponding parallel output EPI1 of this stage in logic state 0.

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Cette sortie EPI1, qui est reliée à la grille du transistor de commutation 32 de l'étage 26-1 du générateur de courant programmable 20, rend ce transistor passant par son état logique 0. L'étage 26- 1 peut ainsi transmettre un courant de IREF à la sortie 34 de Ilect, qui est la seule contribution de courant, les transistors de commutation 32 des autres étages restant bloqués ;
2. vi) déterminer si la sortie de l'amplificateur de lecture 12 bascule de l'état logique 0 à l'état logique 1 (correspondant à l'état d'écriture);
2. vii) s'il n'y a pas de basculement d'état logique constaté à l'étape 2. v), introduire un nouveau bit 0 à l'entrée EIser du registre à décalage, effectuer un cycle de décalage de sorte que le bit 0 de l'étage ED1 passe à l'étage ED2, et que le nouveau bit 0 passe à l'étage ED1. De la sorte, le transistor de commutation 32 de l'étage 26-2 du générateur de courant programmable devient aussi passant, et contribue un courant de IREF sur la sortie 34 de Ilect, en plus de celui de l'étage 26-1. Le courant total sur cette sortie passe alors à 2.IREF ;
2. viii) déterminer si la sortie de l'amplificateur de lecture 12 bascule l'état logique 0 à l'état logique 1.
This output EPI1, which is connected to the gate of the switching transistor 32 of stage 26-1 of the programmable current generator 20, makes this transistor passing through its logic state 0. Stage 26-1 can thus transmit a current from IREF to output 34 of Ilect, which is the only current contribution, the switching transistors 32 of the other stages remaining blocked;
2. vi) determining whether the output of the sense amplifier 12 switches from logic state 0 to logic state 1 (corresponding to the write state);
2. vii) if there is no logic state switchover noted in step 2. v), introduce a new bit 0 at the EIser input of the shift register, perform an shift cycle so that bit 0 of stage ED1 passes to stage ED2, and that the new bit 0 passes to stage ED1. In this way, the switching transistor 32 of stage 26-2 of the programmable current generator also becomes on, and contributes a current of IREF on output 34 of Ilect, in addition to that of stage 26-1. The total current on this output then goes to 2.IREF;
2. viii) determine whether the output of the sense amplifier 12 switches logic state 0 to logic state 1.

Tant qu'il n'y a pas de basculement d'état logique, on répète en boucle les étapes vii) et viii), celles-ci prenant la forme plus générale de (en commençant par l'étape 2.viii) :
2.viii') ajouter un nouveau bit 0 à l'entrée EIser du registre à décalage 42, effectuer un cycle de décalage, de sorte que les r premier étages ED1 à EDr du registre soient à l'état 0 et donc que les r premiers étages 26-1 à 26-r contribuent chacun un courant de IREF, amenant un courant total de (r) . IREF à
As long as there is no logical state switching, steps vii) and viii) are repeated in a loop, these taking the more general form of (starting with step 2.viii):
2.viii ') add a new bit 0 to the input EIser of the shift register 42, carry out an shift cycle, so that the r first stages ED1 to EDr of the register are in state 0 and therefore that the r first stages 26-1 to 26-r each contribute a current of IREF, bringing a total current of (r). IREF at

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la sortie 34 de Ilect, où r est un entier incrémental commençant par 2 (le cas de r=l étant déjà couvert par les étapes 2. vi) et 2. vii) plus haut) ;
2.vii') déterminer si la sortie de l'amplificateur de lecture 12 bascule de l'état logique 0 à l'état logique 1 : - s'il n'y a pas de basculement, incrémenter r d'une unité, et retourner à l'étape 2.viii') ; - s'il y a basculement, identifier la valeur de r et produire en sortie sa valeur numérique sous forme binaire.
the output 34 of Ilect, where r is an incremental integer starting with 2 (the case of r = l being already covered by steps 2. vi) and 2. vii) above);
2.vii ') determine whether the output of the sense amplifier 12 switches from logic state 0 to logic state 1: - if there is no switching, increment r by one, and return to step 2.viii '); - if there is a changeover, identify the value of r and output its digital value in binary form.

La valeur de Ilect produit à la sortie 34 du générateur de courant programmable 20 est obtenue directement à partir de la valeur du motif binaire contenu dans le registre à décalage 42. Dans ce cas, le nombre total de bits 1 dans le registre correspond à la valeur r du coefficient r.IREF-
De même que pour l'extraction des tensions de seuil VTvierge et VTeff. le motif de bits du registre à décalage 42 est transmis à un appareil de test ou de mesure en aiguillant la sortie SserI du registre vers un point de connexion de cet appareil et en y déchargeant sont contenu. L'appareil contient en mémoire la valeur de IREF et peut donc déterminer la valeur du courant de lecture par la relation : Ilect = r. IREF. Cette valeur indique que l'amplificateur de lecture à basculé d'état logique pour un courant de lecture (r - 1). IREF < Ilect # r .
The value of Ilect produced at the output 34 of the programmable current generator 20 is obtained directly from the value of the binary pattern contained in the shift register 42. In this case, the total number of bits 1 in the register corresponds to the r value of the coefficient r.IREF-
As for the extraction of the threshold voltages VTvierge and VTeff. the bit pattern of the shift register 42 is transmitted to a test or measurement device by routing the SserI output of the register to a connection point of this device and by discharging its contents. The device contains in memory the value of IREF and can therefore determine the value of the reading current by the relation: Ilect = r. IREF. This value indicates that the sense amplifier has switched logic state for a read current (r - 1). IREF <Ilect # r.

IREF ' Le courant de seuil ID est assimilé à cette valeur de Ilect à laquelle se produit le basculement. IREF 'The threshold current ID is assimilated to this value of Ilect at which the tilting occurs.

Ce processus est répété pour chaque cellule devant faire l'objet d'un contrôle.  This process is repeated for each cell to be checked.

La figure 13 montre un exemple de courbe obtenue pour des valeurs de courant de lecture Ilect successifs de IREF à 11. IREF, le basculement de l'état logique de l'amplificateur de lecture 12 ayant été détecté à la  FIG. 13 shows an example of a curve obtained for successive read current values Ilect from IREF to 11. IREF, the switching of the logic state of the read amplifier 12 having been detected on

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suite de l'application du courant de 11.IREF par le générateur de courant programmable.  continuation of the application of the current of 11.IREF by the programmable current generator.

La figure 14 est un schéma bloc montrant les parties de la mémoire EEPROM 110 qui interviennent dans l'extraction des valeurs de tension seuil VT et l'interface de la mémoire avec un appareil de test ou de diagnostic 200 utilisé pour recueillir ces valeurs.  FIG. 14 is a block diagram showing the parts of the EEPROM memory 110 which are involved in the extraction of the threshold voltage values VT and the interface of the memory with a test or diagnostic apparatus 200 used to collect these values.

On y retrouve : - le générateur de tension programmable 18 piloté par les sorties EPV1..EPVM du registre à décalage 66, la sortie 56 du générateur étant transmise à la grille de commande CG d'une cellule 16 selon le routage établi par les circuits de routage de la mémoire, et - le générateur de courant programmable 20 piloté par les sorties EPI1..EPIN du registre à décalage 42, la sortie 34 du générateur étant transmise en tant que courant de lecture Ilect. de l'amplificateur de lecture 12, la cellule faisant l'objet du test étant sélectionné par les circuits de routage de la mémoire.  There are: - the programmable voltage generator 18 controlled by the outputs EPV1..EPVM of the shift register 66, the output 56 of the generator being transmitted to the control grid CG of a cell 16 according to the routing established by the circuits memory routing, and - the programmable current generator 20 controlled by the outputs EPI1..EPIN of the shift register 42, the output 34 of the generator being transmitted as Ilect read current. of the sense amplifier 12, the cell under test being selected by the memory routing circuits.

Le fonctionnement des générateurs de tension et de courant et des boucles qui commande l'évolution de leurs valeurs de sortie, est piloté par une machine d'états 112 d'une unité PLA de la logique de commande 4.  The operation of the voltage and current generators and of the loops which controls the evolution of their output values is controlled by a state machine 112 of a PLA unit of the control logic 4.

Les sorties respectives SIser et SVser des deux registres à décalage 42 et 66 sont aiguillées vers un point de connexion 114 pouvant être relié à une entrée numérique adaptée 210 de l'appareil de test/diagnostic 200. Ce point de connexion peut être un plot interne, accessible en mode test, ou une broche externe d'un boîtier dans lequel la mémoire et logée. Dans l'exemple, ses sorties SIser et SVser sont présentées en amont à deux entrées respectives d'un multiplexeur 116, dont la sortie relie sélectivement l'une ou l'autre de ces deux entrées au point de connexion 114.  The respective outputs SIser and SVser of the two shift registers 42 and 66 are routed to a connection point 114 which can be connected to a suitable digital input 210 of the test / diagnostic apparatus 200. This connection point can be an internal pad , accessible in test mode, or an external pin of a box in which the memory is housed. In the example, its outputs SIser and SVser are presented upstream to two respective inputs of a multiplexer 116, the output of which selectively connects one or the other of these two inputs to the connection point 114.

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Ce multiplexeur 114 est commandé par la machine d'états 112 selon la tension de seuil à déterminer. This multiplexer 114 is controlled by the state machine 112 according to the threshold voltage to be determined.

L'interface ente la point de connexion 114 de la mémoire 110 et l'entrée numérique de l'appareil de test/diagnostic 200 peut s'effectuer par un câble de liaison numérique LS, par exemple de type série.  The interface between the connection point 114 of the memory 110 and the digital input of the test / diagnostic apparatus 200 can be carried out by a digital link cable LS, for example of the serial type.

L'appareil de test/diagnostic 200 stocke en mémoire 220 les valeurs de IREF et VREF,ainsi que des données de décodage des sorties numériques produits sur son entrée 210, pour obtenir la valeur de tension ou de courant de seuil sous une forme intelligible à partir des données numériques sur l'entrée 210.  The test / diagnostic apparatus 200 stores in memory 220 the values of IREF and VREF, as well as decoding data of the digital outputs produced on its input 210, to obtain the value of threshold voltage or current in an intelligible form. from the digital data on input 210.

Il sera maintenant décrit un deuxième mode de réalisation de l'invention qui diffère du premier essentiellement par le fait que l'extraction de la tension de seuil VTvierge pour une cellule vierge et la tension de seuil VTeff (ou leur forme équivalente en terme de courant de seuil) pour une cellule effacée s'obtient par le biais du générateur de courant programmable 20 en association avec le registre à décalage 42. Cette solution est avantageuse dans la mesure où elle permet de se dispenser des éléments de circuits additionnels à prévoir pour le générateur de tension programmable 44 et son registre à décalage 66.  A second embodiment of the invention will now be described which differs from the first essentially by the fact that the extraction of the threshold voltage VTvierge for a blank cell and the threshold voltage VTeff (or their equivalent form in terms of current threshold) for an erased cell is obtained by means of the programmable current generator 20 in association with the shift register 42. This solution is advantageous insofar as it makes it possible to dispense with additional circuit elements to be provided for the programmable voltage generator 44 and its shift register 66.

L'architecture correspondante d'une mémoire EEPROM 120 basée sur ce deuxième mode de réalisation est représentée à la figure 15. Par souci de concision, seules les différences de cette architecture par rapport à celle du premier mode de réalisation présenté à la figure 5 seront précisées : - absence du générateur de tension programmable 18, - absence des circuits de routage de la tension Vlect variable, et - présence des circuits de routage de la tension Vboost intégrés dans le décodeur ligne 6, (et non pas  The corresponding architecture of an EEPROM memory 120 based on this second embodiment is shown in FIG. 15. For the sake of brevity, only the differences of this architecture compared to that of the first embodiment presented in FIG. 5 will be specified: - absence of the programmable voltage generator 18, - absence of the routing circuits of the variable voltage Vlect, and - presence of the routing circuits of the voltage Vboost integrated in the decoder line 6, (and not

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dans le générateur haute tension 14), ces circuits étant utilisés par ailleurs pour la lecture de la tension d'une cellule 16 effacée.  in the high-voltage generator 14), these circuits being used moreover for reading the voltage of an erased cell 16.

Dans le deuxième mode de réalisation, la tension de seuil VTinscr en mode lecture est extraite de manière identique, et avec les mêmes moyens, que pour le premier mode de réalisation. La description déjà faite sur cet aspect s'applique donc implicitement à la description de ce deuxième mode de réalisation, et ne sera pas répété par souci de concision.  In the second embodiment, the threshold voltage VTinscr in read mode is extracted in an identical manner, and with the same means, as for the first embodiment. The description already made on this aspect therefore implicitly applies to the description of this second embodiment, and will not be repeated for the sake of brevity.

On rappelle toutefois qu'un courant de seuil est définie comme l'image de la tension de seuil à laquelle il correspond.  It is recalled, however, that a threshold current is defined as the image of the threshold voltage to which it corresponds.

Pour aider à la compréhension du lien entre le courant de seuil et la tension de seuil, la figure 16 représente une courbe semblable à celle de la figure 4, mais en prenant le cas d'une polarisation fixe du drain du transistor FGT, cette polarisation étant donnée par le contexte du produit dans lequel il est intégré. Par rapport à la courbe de la figure 4, les formes restent sensiblement identiques, la tension de seuil VT indiquée à la figure 4 devenant à la figure 16 la tension de Vlect, et le courant de lecture devenant le courant de seuil ID. On note alors que le contexte est donné par : - pour une seule cellule 16 isolée, par la courbe du courant de drain ID en fonction de la tension appliquée à la grille de commande du transistor FGT, - pour la même cellule intégrée dans son produit, par la sortie de l'amplificateur de lecture 12, avec le courant appliqué sur le drain pour une valeur donnée tension de lecture Vlect à la grille de commande.  To help understand the link between the threshold current and the threshold voltage, FIG. 16 represents a curve similar to that of FIG. 4, but taking the case of a fixed polarization of the drain of the transistor FGT, this polarization being given by the context of the product in which it is integrated. Compared to the curve of FIG. 4, the shapes remain substantially identical, the threshold voltage VT indicated in FIG. 4 becoming in FIG. 16 the voltage of Vlect, and the reading current becoming the threshold current ID. We then note that the context is given by: - for a single isolated cell 16, by the curve of the drain current ID as a function of the voltage applied to the control gate of the FGT transistor, - for the same cell integrated in its product , by the output of the reading amplifier 12, with the current applied to the drain for a given value of reading voltage Vlect at the control gate.

On note aussi, en ce qui concerne la définition du courant de seuil IT que :  It is also noted, with regard to the definition of the threshold current IT that:

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- lorsque le courant ID est en dessous du courant de seuil IT pour une tension de lecture donnée Vlect sur la grille de commande CG du transistor FGT, la cellule 16 n'est plus capable de conduire le courant ID, et la sortie de l'amplificateur de lecture 12 est à l'état haut ; - lorsque le courant ID est supérieur au courant seuil IT pour une tension de lecture Vlect donnée appliquée à la grille de commande CG, la cellule 16 laisse passer tout le courant ID, et la sortie de l'amplificateur de lecture 12 est à l'état bas.  - when the current ID is below the threshold current IT for a given reading voltage Vlect on the control gate CG of the transistor FGT, the cell 16 is no longer able to conduct the current ID, and the output of the sense amplifier 12 is in the high state; when the current ID is greater than the threshold current IT for a given reading voltage Vlect applied to the control gate CG, the cell 16 lets all the current ID pass, and the output of the reading amplifier 12 is at low state.

Il en ressort que le courant de seuil ID est donné par le courant appliqué au drain de la cellule 16 au moment où l'amplificateur de lecture bascule, et ce pour une tension de lecture Vlect donnée appliquée à la grille de commande CG.  It follows that the threshold current ID is given by the current applied to the drain of cell 16 at the time when the read amplifier switches, and this for a given read voltage Vlect applied to the control gate CG.

Par définition, le courant de seuil fournit une information sur les caractéristiques de la cellule qui est équivalente à celle fournie par les tensions de seuil. Ainsi, le courant de seuil peut être utilisé de manière équivalent aux tensions de seuil VT. Cette notion est exploitée par le deuxième mode de réalisation pour l'ensemble des seuils de cellule vierge, effacée ou écrite ; elle est également exploitée dans le premier mode de réalisation en ce qui concerne le seuil d'une cellule écrite. L'équivalence entre une tension de seuil VT et le courant de seuil IT pour un même état de cellule est géré notamment par l'appareil de test/diagnostic 200.  By definition, the threshold current provides information on the characteristics of the cell which is equivalent to that provided by the threshold voltages. Thus, the threshold current can be used in an equivalent manner to the threshold voltages VT. This notion is exploited by the second embodiment for all of the blank, deleted or written cell thresholds; it is also used in the first embodiment with regard to the threshold of a written cell. The equivalence between a threshold voltage VT and the threshold current IT for the same cell state is managed in particular by the test / diagnostic apparatus 200.

Lorsque le produit intégrant la mémoire EEPROM 120 est dans son état normal de fonctionnement, on extrait, conformément au deuxième mode de réalisation : - le courant ITvierge d'une cellule vierge, - le courant ITeff d'une cellule effacée, et - le courant ITinscr d'une cellule écrite.  When the product integrating the EEPROM memory 120 is in its normal operating state, in accordance with the second embodiment, the following is extracted: - the current IT virgin from a blank cell, - the current IT eff from a deleted cell, and - the current ITinscr of a written cell.

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Pour réaliser ces extractions, le processus de lecture est transformé en un processus de test en lecture, avec une tension de lecture Vlect constante et un courant de drain variable, comme illustré à la figure 17. Cette figure exprime, sous forme de courbes du courant drain ID contre la tension Vcg, la transformation possible d'une tension de seuil en un courant de seuil. L'exemple illustré est appliqué au seuils VTeff/ITeff de tension et de courant pour une cellule 16 effacée ; bien entendu, elle est applicable mutatis mutandis aux seuils analogues pour une cellule vierge ou écrite. Comme pour le cas de la figure 10, la figure 17 présente en outre les plages ou fenêtres de spécification et de mesure, ces dernières recouvrant les premières pour les mêmes raisons. Ces plages sont exprimées en termes de tension, comme pour le cas de la figure 10, et en outre elles sont converties en plages en termes de courant de seuil IT, rejoignant la notion appliquée pour le premier mode de réalisation dans le cas d'une cellule écrite (cf. figure 12).  To perform these extractions, the reading process is transformed into a reading test process, with a constant reading voltage Vlect and a variable drain current, as illustrated in Figure 17. This figure expresses, in the form of current curves drain ID against the voltage Vcg, the possible transformation of a threshold voltage into a threshold current. The example illustrated is applied to the voltage and current thresholds VTeff / ITeff for an erased cell 16; of course, it is applicable mutatis mutandis to similar thresholds for a blank or written cell. As in the case of FIG. 10, FIG. 17 also presents the ranges or windows for specification and measurement, the latter covering the former for the same reasons. These ranges are expressed in terms of voltage, as in the case of FIG. 10, and in addition they are converted into ranges in terms of threshold current IT, joining the concept applied for the first embodiment in the case of a written cell (see Figure 12).

Les transformations mises en Oeuvre dans ce cadre comprennent : - la plage de spécification de la tension de seuil VT, qui devient une plage de spécification de courant de seuil IT,et - la plage de mesure de la tension de seuil VT relativement à la plage de spécification de tension de seuil, qui devient la plage de mesure de courant de seuil IT relativement à la plage de spécification de courant de seuil.  The transformations implemented in this context include: - the range of specification of the threshold voltage VT, which becomes a range of specification of threshold current IT, and - the range of measurement of the threshold voltage VT relative to the range of threshold voltage specification, which becomes the threshold current measurement range IT relative to the threshold current specification range.

L'extraction du courant de seuil IT est réalisée de manière générale dans les conditions suivantes : - la grille de commande est positionnée à une valeur de lecture constante Vlect,  The extraction of the threshold current IT is generally carried out under the following conditions: the control gate is positioned at a constant reading value Vlect,

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- on fait augmenter le courant de lecture pas à pas sur la plage de mesure, jusqu'à ce que l'amplificateur de lecture 12 commute et produise un courant de seuil.  - the reading current is increased step by step over the measuring range, until the reading amplifier 12 switches and produces a threshold current.

Pour ce faire, on met en oeuvre le générateur de courant programmable 20 et le registre décalage 42, et on exécute les mêmes étapes (2. i) à 2.viii')) que décrites dans le cadre du premier mode de réalisation, avec les adaptations qui s'imposent selon que l'on extrait les seuils de cellule vierge, effacée, ou écrite.  To do this, the programmable current generator 20 and the shift register 42 are used, and the same steps (2.i) to 2.viii ')) are carried out as described in the context of the first embodiment, with the adaptations that are necessary depending on whether the thresholds for a blank, erased or written cell are extracted.

Ainsi, on comprendra que selon la tension de seuil à extraire, le potentiel Vcg de la grille de commande CG du transistor FGT sera fixé à différentes valeurs de tension : - dans le cas de l'obtention du courant de seuil ITlect d'une cellule écrite, on met cette grille de commande CG à la masse, - dans le cas de l'obtention du courant de seuil ITvierge d'une cellule vierge, on met cette grille de commande CG à un potentiel positif, désigné VBOST1, livré par le circuit de routage 22, - dans cas de l'obtention du courant de seuil ITeff d'une cellule effacée, on met cette grille de commande CG à un potentiel positif, désigné VBOOST2, supérieur BOOST1.  Thus, it will be understood that according to the threshold voltage to be extracted, the potential Vcg of the control gate CG of the transistor FGT will be fixed at different voltage values: - in the case of obtaining the threshold current ITlect of a cell written, we put this control grid CG to ground, - in the case of obtaining the ITvierge threshold current of a blank cell, we put this control grid CG to a positive potential, designated VBOST1, delivered by the routing circuit 22, - in the case of obtaining the threshold current ITeff of an erased cell, this control gate CG is set to a positive potential, designated VBOOST2, higher BOOST1.

La conversion courant de seuil (désigné génériquement IT) => tension de seuil (désigné génériquement VT) peut être effectué soit : en interne de la mémoire, par des tables de conversion stockées, basées sur les courbes telles que présentées à la figure 17, - soit effectué au niveau de l'appareil de test ou de diagnostic 200, celui-ci comportant les tables de conversion nécessaires dans sa mémoire 220.  The threshold current conversion (generically designated IT) => threshold voltage (generically designated VT) can be carried out either: internally from the memory, by stored conversion tables, based on the curves as presented in FIG. 17, - either carried out at the level of the test or diagnostic apparatus 200, this comprising the necessary conversion tables in its memory 220.

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La figure 18 est un schéma bloc montrant les parties de la mémoire EEPROM 120 selon le deuxième mode de réalisation qui interviennent dans l'extraction des valeurs de tension seuil VT et l'interface de la mémoire avec un appareil de test ou de diagnostic 200 utilisé pour recueillir ces valeurs.  FIG. 18 is a block diagram showing the parts of the EEPROM memory 120 according to the second embodiment which are involved in the extraction of the threshold voltage values VT and the interface of the memory with a test or diagnostic apparatus 200 used to collect these values.

Cette figure est analogue à la figure 14 pour le cas du premier mode de réalisation, et seules les différences seront décrites par souci de concision, les parties communes ayant les mêmes références et ayant les mêmes rôles.  This figure is similar to FIG. 14 for the case of the first embodiment, and only the differences will be described for the sake of brevity, the common parts having the same references and having the same roles.

On note que l'absence dans le deuxième mode de la source de tension programmable et de son registre à décalage fait permet de relier la sortie SIser du registre à décalage 42 directement au point de connexion 124 (analogue à celui 114 de la figure 14), sans multiplexage.  Note that the absence in the second mode of the programmable voltage source and its shift register makes it possible to connect the output SIser of the shift register 42 directly to the connection point 124 (analogous to that 114 in FIG. 14) , without multiplexing.

L'appareil de test/diagnostic 200 est identique à celui de la figure 14, sauf que sa mémoire 220 n'a pas à stocker la valeur de VREF, ni de données de décodage de l'entrée numérique spécifiques à l'extraction des seuils sous forme de tension tous les seuils seront d'abord considérés sous la forme de courants de seuil, puis, le cas échéant, convertis en tensions de seuil à l'aide des tables précitées, selon les principes d'équivalence décrits.  The test / diagnostic apparatus 200 is identical to that of FIG. 14, except that its memory 220 does not have to store the value of VREF, nor of decoding data of the digital input specific to the extraction of the thresholds in the form of voltage, all the thresholds will first be considered in the form of threshold currents, then, if necessary, converted into threshold voltages using the aforementioned tables, according to the equivalence principles described.

Dans la mise en oeuvre pratique de l'extraction des trois tensions de seuil Vierge'VTeff et VTinscr, soit directement, soit par le biais d'une mesure de courant de seuil, les deux modes de réalisation retient les contraintes suivantes : - le surcroît, en termes de surface de puce, lié à l'extraction de la tension de seuil VT ou au courant de seuil IT doit être relativement faible,  In the practical implementation of the extraction of the three threshold voltages Vierge'VTeff and VTinscr, either directly or by means of a threshold current measurement, the two embodiments retain the following constraints: - the additional , in terms of chip area, linked to the extraction of the threshold voltage VT or to the threshold current IT must be relatively small,

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- le surcroît, en termes de durée de test, lié à l'extraction de la tension de seuil VT ou du courant de seuil IT doit être limité autant que possible, - la spécification ou cahier des charges du fonctionnement de la mémoire en mode normal doit être maintenue, et - la valeur de la tension de seuil VT ou du courant de seuil IT doit être fournie aux moyens de test de la mémoire dans un format numérique (digital) compatible ou facilement observable à l'aide d'une logique aléatoire dans le cas d'une EEPROM enterrée (embedded EEPROM en terminologie anglo-saxonne).  - the excess, in terms of test duration, linked to the extraction of the threshold voltage VT or of the threshold current IT must be limited as much as possible, - the specification or specifications of the operation of the memory in normal mode must be maintained, and - the value of the threshold voltage VT or of the threshold current IT must be supplied to the memory test means in a compatible digital format or easily observable using random logic in the case of a buried EEPROM (embedded EEPROM in English terminology).

Afin de valider l'extraction des tensions de seuil, selon le premier ou le deuxième mode de réalisation, la demanderesse a réalisé des simulations électriques, au moyen de l'outil ELDO, sur une mémoire EEPROM à règle de conception de 0,25m, produite par STMicroelectronics, avec Vdd=3,3V. Pour plus d'informations sur l'outil ELDO, on peut se référer à la documentation "ELDO User's Manual", de la société Mentor Graphics Corp. 1998.  In order to validate the extraction of the threshold voltages, according to the first or the second embodiment, the applicant carried out electrical simulations, by means of the ELDO tool, on an EEPROM memory with a design rule of 0.25m, produced by STMicroelectronics, with Vdd = 3.3V. For more information on the ELDO tool, one can refer to the documentation "ELDO User's Manual", from the company Mentor Graphics Corp. 1998.

Les éléments pris en compte dans la simulation, intégrés dans un liste dite "netlist", comprennent : - un plan mémoire au format 4X4 avec des mots de 4 bits, - le décodeur de ligne et le décodeur de rangée (mot) , - les amplificateurs de lecture pour chaque bit, - les bascules de mémorisation ("latches" en terminologie anglo-saxonne), et - la structure d'extraction des tensions de seuil.  The elements taken into account in the simulation, integrated into a so-called "netlist", include: - a memory map in 4X4 format with 4-bit words, - the line decoder and the row (word) decoder, - the read amplifiers for each bit, - storage flip-flops ("latches" in English terminology), and - the structure for extracting threshold voltages.

Le modèle de simulation du transistor à grille flottante FGT est basé sur un noyau du type MM9, et elle est décrite en langage HDLA. Pour plus d'informations sur le noyau MM9, on peut se référer à  The simulation model of the floating gate transistor FGT is based on a MM9 type kernel, and it is described in HDLA language. For more information on the MM9 kernel, we can refer to

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l'article de J.M. Portal et al. "An automated methodology to diagnose geometric defects in the EEPROM Cell", Proc. IEEE International Test Conférence (ITC), pp.31-36, octobre 2002.  the article by J.M. Portal et al. "An automated methodology to diagnose geometric defects in the EEPROM Cell", Proc. IEEE International Test Conférence (ITC), pp.31-36, October 2002.

Les figures 19 à 22 présentent des chronogrammes de signaux, sous forme de de saisies sur moniteur, d'une fenêtre de capture lors de la simulation, chacune sur une échelle de temps représentée en abscisse, lors de différentes opérations intervenant sur la mémoire EEPROM 110 ou 120.  FIGS. 19 to 22 show timing diagrams of signals, in the form of inputs on a monitor, of a capture window during the simulation, each on a time scale represented on the abscissa, during different operations intervening on the EEPROM memory 110 or 120.

La figure 19 représente l'évolution de la tension de programmation, désignée Vpp, appliquée à une cellule vierge de la mémoire successivement pour y programmer un état effacé et un état écrit, et ensuite passer à une phase de lecture. De manière connue, cette tension est produite par le générateur de haute tension 14 et est appliquée à différents points de la cellule selon qu'elle programme un état d'effacement ou de d'écriture.  FIG. 19 represents the evolution of the programming voltage, designated Vpp, applied to a blank cell of the memory successively to program therein an erased state and a written state, and then pass to a reading phase. In known manner, this voltage is produced by the high voltage generator 14 and is applied to different points of the cell according to whether it programs an erasing or writing state.

La programmation des deux états passe par d'abord par une rampe de la tension Vpp, suivie d'un plateau.  The programming of the two states first goes through a ramp of the voltage Vpp, followed by a plateau.

Les variations de cette tension, en montée et en descente, sont gérées par des circuits internes de cadencement. The variations in this voltage, up and down, are managed by internal timing circuits.

La figure 20 représente l'évolution de la tension de seuil VT (représentée en ordonnée) d'une cellule vierge, sur la même échelle de temps que pour la figure 19, et pour la même cellule, permettant ainsi de visualiser cette tension de seuil successivement lors de l'effacement, l'écriture et la lecture.  FIG. 20 represents the evolution of the threshold voltage VT (represented on the ordinate) of a blank cell, on the same time scale as for FIG. 19, and for the same cell, thus making it possible to visualize this threshold voltage successively when erasing, writing and reading.

La partie plane de la gauche de la courbe correspond à l'état initial vierge de la cellule, située à un peu plus de 1 volt. A l'état effacé, la tension VT monte progressivement à un niveau entre 2 et 3 volts. Lors de la phase d'effacement, la tension VT  The flat part of the left of the curve corresponds to the virgin initial state of the cell, located at a little more than 1 volt. In the erased state, the voltage VT gradually rises to a level between 2 and 3 volts. During the erasure phase, the voltage VT

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reste stable sur un plateau supérieur, avant de chuter rapidement vers une valeur négative lors de la phase d'écriture.  remains stable on an upper shelf, before rapidly falling to a negative value during the writing phase.

On note qu'il y a une latence entre la commande d'un état par la haute tension et le positionnement de la tension de seuil VT à la valeur correspondante, cette latence étant sensiblement égale à la durée des plateaux.  It is noted that there is a latency between the control of a state by the high voltage and the positioning of the threshold voltage VT at the corresponding value, this latency being substantially equal to the duration of the plates.

La figure 21 représente l'évolution du courant ID parcourant une cellule, montrant les pas incrémentaux produits par la source de ce courant en réponse aux incréments correspondants du courant de lecture produits par le générateur de courant programmable 20 lors de la recherche du courant seuil IT de cette cellule. Lorsque le courant ID forcé de traverser la cellule ne peut plus augmenter, atteignant la limite du transistor de stockage FGT pour la polarisation de grille Vcg qui lui est fixée, il se produit un basculement d'état logique au niveau de l'amplificateur de lecture. On observe la présence de pics de courant initiaux, typique des phase d'effacement d'une cellule.  FIG. 21 represents the evolution of the current ID flowing through a cell, showing the incremental steps produced by the source of this current in response to the corresponding increments of the reading current produced by the programmable current generator 20 during the search for the threshold current IT of this cell. When the current ID forced to pass through the cell can no longer increase, reaching the limit of the storage transistor FGT for the gate polarization Vcg which is fixed to it, there is a change of logic state at the level of the sense amplifier . We observe the presence of initial current peaks, typical of cell erasure phases.

La figure 22 représente l'évolution de la sortie logique (en ordonnée) au niveau de la tension de sortie de l'amplificateur de lecture, sur la même échelle de temps que pour la figure 21, et pour la même cellule, permettant ainsi de visualiser les points de basculement relativement au courant ID de la figure 21.  FIG. 22 represents the evolution of the logic output (on the ordinate) at the level of the output voltage of the sense amplifier, on the same time scale as for FIG. 21, and for the same cell, thus making it possible to visualize the tipping points relative to the current ID of figure 21.

On observe un état logique 1 initial, se terminant après un deuxième des pics susmentionnés par un basculement à l'état logique 0. Cet état logique subsiste jusqu'à ce que le courant ID et le courant de lecture Ilect coïncident, l'amplificateur de lecture basculant alors à l'état logique 1. There is an initial logic state 1, ending after a second of the aforementioned peaks by switching to logic state 0. This logic state remains until the current ID and the reading current Ilect coincide, the amplifier of reading then switches to logical state 1.

En résumé, le surcroît , en surface de puce qu'implique la structure d'extraction de tension ou de  In summary, the additional, chip surface implied by the voltage extraction structure or

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courant de seuil est relativement faible compte tenu de la surface de la mémoire. En effet, la structure d'extraction est principalement composée de : - un registre à décalage configurable (permettant un mode pour l'extraction en écriture et un autre mode pour l'extraction sur cellule vierge et en effacement), une source de courant multiple programmable (utilisant deux transistors PMOS par source), - (dans le cas du premier mode de réalisation seulement) une source de tension multiple programmable (utilisant quatre transistors MOS par tension de référence), et - une logique de contrôle modifiée pour le mode test.  threshold current is relatively low given the memory area. Indeed, the extraction structure is mainly composed of: - a configurable shift register (allowing a mode for writing extraction and another mode for extraction on blank cell and erasing), a multiple current source programmable (using two PMOS transistors per source), - (in the case of the first embodiment only) a programmable multiple voltage source (using four MOS transistors per reference voltage), and - a modified control logic for the test mode .

Le surcroît en temps reste également faible. Le temps de l'opération de lecture en mode test augmente pour occuper 0.5% du temps de l'opération de programmation. Par ailleurs, le mode de fonctionnement normal de la mémoire est maintenue.  The increase in time also remains low. The reading operation time in test mode increases to occupy 0.5% of the programming operation time. Furthermore, the normal operating mode of the memory is maintained.

Les valeurs des tensions de seuil VT sont fournies selon un format numérique, de sorte que le processus d'extraction ne requière pas de terminal analogique au niveau des moyens de test. Le composant reste ainsi compatible avec les moyens de test entièrement numériques, ou facilement observable via une logique aléatoire dans le cas d'une mémoire EEPROM imbriquée.  The values of the threshold voltages VT are supplied in a digital format, so that the extraction process does not require an analog terminal at the level of the test means. The component thus remains compatible with the entirely digital test means, or easily observable via random logic in the case of a nested EEPROM memory.

Il sera maintenant décrit une méthodologie de diagnostic permettant d'exploiter judicieusement les informations extraites concernant les tensions et/ou courants de seuil d'un ensemble de cellules d'un plan mémoire.  A diagnostic methodology will now be described making it possible to judiciously exploit the information extracted concerning the threshold voltages and / or currents of a set of cells of a memory plane.

Une approche classique pour le diagnostic et le déverminage ("debugging" en anglais) d'une mémoire consiste à réaliser une cartographie numérique "bitmap" du plan mémoire. Cette cartographie est bâtie lors des  A classic approach for the diagnosis and debugging of a memory consists in carrying out a digital "bitmap" mapping of the memory plane. This cartography is built during

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tests fonctionnels pour permettre de vérifier, au niveau de la topologie, l'état de chaque cellule. A partir de la vue d'ensemble procurée par cette cartographie, les signatures significatives sont cataloguées : bit isolé, colonne, ligne, colonne partielle, etc., pour aider à déterminer la cause à la base d'une défaillance (cf. l'article de Segal et al cité supra).  functional tests to verify, at the topology level, the state of each cell. From the overview provided by this mapping, the significant signatures are cataloged: isolated bit, column, line, partial column, etc., to help determine the cause underlying a failure (cf. article by Segal et al cited above).

Cependant, il se peut que plusieurs mécanismes de défaillance se manifestent avec la même signature. Afin de minimiser ce facteur de limitation, une solution serait d'extraire d'autres paramètres électriques significatifs.  However, it may be that several failure mechanisms appear with the same signature. In order to minimize this limiting factor, one solution would be to extract other significant electrical parameters.

Cette solution est particulièrement pertinente lorsque le procédé de diagnostic vise des cellules analogiques, telles que des cellules de mémoire EEPROM.  This solution is particularly relevant when the diagnostic method targets analog cells, such as EEPROM memory cells.

Le paramètre électrique le plus informatif dans le cas d'une cellule EEPROM est la valeur de tension de seuil VT ou son courant de seuil IT. The most informative electrical parameter in the case of an EEPROM cell is the threshold voltage value VT or its threshold current IT.

Au vu de ces considérations, il est proposé de produire, lors de tests fonctionnels, une cartographie bit "analogique". Dans le cas d'une cellule de mémoire EEPROM, la cartographie bit analogique comprend trois représentations en cartographie bit : - une pour la tension de seuil VTvierge ou le courant de seuil ITvierge d'une cellule vierge, - une pour la tension de seuil VTeff ou le courant de seuil ITeff d'une cellule effacée, et - une pour la tension de seuil VTinscr ou le courant seuil ITinscr d'une cellule écrite.  In view of these considerations, it is proposed to produce, during functional tests, an "analog" bit mapping. In the case of an EEPROM memory cell, the analog bit mapping comprises three representations in bit mapping: - one for the threshold voltage VTvierge or the threshold current ITvierge of a blank cell, - one for the threshold voltage VTeff or the threshold current ITeff of an erased cell, and - one for the threshold voltage VTinscr or the threshold current ITinscr of a written cell.

Chacune des cellules contrôlées est individuellement identifiée dans son plan mémoire(2), par exemple par son adresse.  Each of the monitored cells is individually identified in its memory plan (2), for example by its address.

Les cartographies bit analogiques qui en résultent peuvent être exploitées de la même manière qu'une  The resulting analog bit maps can be used in the same way as a

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cartographie bit numérique, avec des classifications de signatures en fonction des valeurs de tension de seuil VT ou IT .  digital bit mapping, with signature classifications based on VT or IT threshold voltage values.

Ces signatures de classification sont potentiellement très utiles pour caractériser un procédé et pour évaluer son impact sur un plan mémoire.  These classification signatures are potentially very useful for characterizing a process and for evaluating its impact on a memory plane.

Pour réaliser une telle cartographie bit analogique, on convertit les données issues de registre à décalage susmentionné. La conversion de la valeur du registre en une valeur analogique de seuil de tension est simple pour les cellules, étant codée par le motif de bits dans le registre à décalage 42 ou 66 au moment du basculement d'état de l'amplificateur de lecture, comme décrit plus haut.  To carry out such analog bit mapping, the data from the above-mentioned shift register is converted. The conversion of the value of the register into an analog value of threshold of tension is simple for the cells, being coded by the pattern of bits in the shift register 42 or 66 at the time of the state switching of the sense amplifier, as described above.

Les figures 23a, 23b et 23c représentent schématiquement à une cartographie bit analogique obtenue pour la simulation du plan mémoire 4X4 avec des mots de 4 bits, définie supra, respectivement pour un plan de cellules à l'état vierge, à l'état écrit, et à l'état effacé.  FIGS. 23a, 23b and 23c schematically represent an analog bit map obtained for the simulation of the 4X4 memory plane with 4-bit words, defined above, respectively for a plane of cells in the blank state, in the written state, and in the erased state.

Les valeurs expriment, pour ces trois états, les courants de seuil extraits ( A),conformément au deuxième mode de réalisation. (Dans les figures, seules les quatre valeurs pour la première rangée sont écrits ; on comprendra bien entendu que chaque cellule aura sa propre valeur attribuée dans la pratique.)
Dans le cas du premier mode de réalisation, on aurait des valeurs de tension de seuil pour les cellules vierges et effacées, et des valeurs de courant de seuil pour les cellules écrites à la place des valeurs de courant.
The values express, for these three states, the extracted threshold currents (A), in accordance with the second embodiment. (In the figures, only the four values for the first row are written; it will of course be understood that each cell will have its own value assigned in practice.)
In the case of the first embodiment, there would be threshold voltage values for the blank and erased cells, and threshold current values for the cells written in place of the current values.

On remarque que valeurs ainsi répertoriées des figures 23a-23c sont organisées selon une topographie à l'image de celle des cellules 16 du plan mémoire 2 qu'elles représentent. Ces valeurs analogiques  Note that the values thus listed in FIGS. 23a-23c are organized according to a topography like that of the cells 16 of the memory plane 2 that they represent. These analog values

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constituent ainsi une cartographie bit analogique donnant des informations précieuses sur les valeurs de seuil analogique de chacune des cellules individuellement considérées.  thus constitute an analog bit mapping giving precious information on the analog threshold values of each of the cells individually considered.

En variante, les mesures et/ou la cartographie peut n'être effectuée que sur/pour certaines cellules du plan, afin d'obtenir un échantillon représentatif ; cette variante permet de diminuer le temps de contrôle et les ressource en stockage analyse des résultats.  As a variant, the measurements and / or the mapping may be carried out only on / for certain cells of the plan, in order to obtain a representative sample; this variant makes it possible to reduce the control time and the resources in storage analysis of the results.

Dans les plans, la moitié des cellules sont conçues avec la géométrie cible de la technologie, alors que pour l'autre moitié elles sont dimensionnées de manière aléatoire avec des paramètres géométriques qui présentent une variation comprise entre 5% et 50% de la cible.  In the plans, half of the cells are designed with the target geometry of the technology, while for the other half they are dimensioned randomly with geometric parameters which show a variation of between 5% and 50% of the target.

Dans le présent exemple, la cartographie bit numérique ne fait apparaître aucun bit défaillant.  In the present example, the digital bit mapping does not show any defective bits.

Cependant, la cartographie bit analogique révèle l'existence de cellules pour lesquelles l'une au moins de leurs tensions/courants de seuil est hors spécification, et permet en outre de localiser ces cellules. A partir de ces défaillances au niveau des courants/tensions de seuil, il est envisageable de mettre en oeuvre des outils de diagnostic spécifiques pouvant servir à identifier les causes d'origine des paramètres géométriques défectueux. Pour plus d'informations sur cet aspect, on peut se référer à l'article de J.M. Portal et al. "An automated methodology to diagnose geometric defects in EEPROM Cells", Proc. IEEE International Test Conference (ITC), pp.31-36, octobre 2002. However, analog bit mapping reveals the existence of cells for which at least one of their threshold voltages / currents is out of specification, and also makes it possible to locate these cells. From these failures at the threshold currents / voltages, it is possible to implement specific diagnostic tools which can be used to identify the causes of origin of the defective geometric parameters. For more information on this aspect, one can refer to the article by J.M. Portal et al. "An automated methodology to diagnose geometric defects in EEPROM Cells", Proc. IEEE International Test Conference (ITC), pp.31-36, October 2002.

Par ailleurs, à l'instar d'une cartographie bit numérique, les signatures sont cataloguées (écriture cellule, effacement cellule, cellule vierge, écriture  In addition, like a digital bit mapping, the signatures are cataloged (cell write, cell erase, blank cell, write

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colonne, etc. ), aussi pour aider à déterminer le mécanisme de base en cause.  column, etc. ), also to help determine the basic mechanism involved.

Pour compléter le diagnostic, on peut générer la distribution des tensions/courants de seuil pour le plan mémoire évalué, de manière a estimer la corrélation de ses valeurs avec le cahier des charges pour les tensions de seuil.  To complete the diagnosis, we can generate the distribution of threshold voltages / currents for the evaluated memory plane, so as to estimate the correlation of its values with the specifications for the threshold voltages.

Les figures 24a, 24b et 24c constituent des exemple de distributions appliquées au mémoire précité, pour un plan de 64 éléments respectivement écrits, vierges et effacés.  FIGS. 24a, 24b and 24c constitute examples of distributions applied to the aforementioned memory, for a plan of 64 elements respectively written, blank and erased.

Ces distributions sont ici représentées sous forme d'histogrammes. Chaque histogramme est composé de colonnes, chacune correspondant à une valeur de courant de seuil (de cellule vierge, effacée ou écrite, selon l'histogramme) ; la hauteur de chaque colonne indique sur une échelle le pourcentage de cellules contrôlées ayant la valeur de courant de seuil correspondante.  These distributions are represented here in the form of histograms. Each histogram is made up of columns, each corresponding to a threshold current value (of blank cell, erased or written, depending on the histogram); the height of each column indicates on a scale the percentage of cells checked having the corresponding threshold current value.

Les distributions donnent des informations concernant le contrôle des processus de fabrication et la répartition des défauts sur l'ensemble du plan mémoire.  The distributions give information concerning the control of the manufacturing processes and the distribution of the defects on the whole of the memory plan.

Les données permettant de constituer les cartographies bit analogique, par exemple telles que présentées aux figures 23a à 23c et/ou des distributions statistiques par exemple telles que présentées aux figures 24a à 24c, peuvent être stockées dans un support électronique adapté, éventuellement avec d'autres données connexes (lots de fabrication, conditions de mesure, d'autres résultats de test, informations de traçabilité, etc. Ce support peut être intégré à l'appareil de contrôle 200 ou en dehors de celui-ci.  The data making it possible to constitute the analog bit maps, for example as presented in FIGS. 23a to 23c and / or statistical distributions for example as presented in FIGS. 24a to 24c, can be stored in a suitable electronic medium, possibly with data. other related data (manufacturing batches, measurement conditions, other test results, traceability information, etc. This support can be integrated into the control device 200 or outside it.

De ce qui précède, on comprendra que les mémoires non-volatiles, reposant sur des cellules analogiques,  From the above, it will be understood that the non-volatile memories, based on analog cells,

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mène à des problèmes critiques de contrôle de procédé de fabrication et de conception. La structure intégrée au composant, selon le mode de réalisation, permet d'extraire les signatures analogiques de chaque cellule du plan mémoire, c'est-à-dire les différentes tensions de seuil dans le cas considéré. Cette structure permet d'extraire les tensions de seuil durant les tests fonctionnels avec peu de surcharge en termes à la fois d'espace sur puce et de temps de test.  leads to critical manufacturing and design process control problems. The structure integrated into the component, according to the embodiment, makes it possible to extract the analog signatures of each cell of the memory plane, that is to say the different threshold voltages in the case considered. This structure makes it possible to extract the threshold voltages during functional tests with little overload in terms of both space on chip and test time.

Qui plus est, les tensions seuil sont extraites avantageusement sous forme numérisée, ce qui permet : une compatibilité avec les moyens de test entièrement numériques, - une simplification de l'observation de ces valeurs par le biais du noyau logique dans le cas d'une EEPROM imbriquée.  What is more, the threshold voltages are advantageously extracted in digital form, which allows: compatibility with entirely digital test means, - a simplification of the observation of these values through the logic kernel in the case of a Nested EEPROM.

A partir de l'extraction des tensions de seuil, il a été développé une méthodologie de diagnostic basée sur une cartographie bit analogique, pouvant être utilisée de concert avec la cartographie bit numérique classique. Il en résulte une analyse plus efficace du comportement analogique de chaque cellule du plan mémoire. Cette méthodologie de diagnostic permet également d'obtenir la distribution des tensions seuil sur l'ensemble du plan mémoire, ce qui peut être utile pour la qualification du procédé de contrôle de fabrication.  From the extraction of the threshold voltages, a diagnostic methodology was developed based on analog bit mapping, which can be used in concert with conventional digital bit mapping. This results in a more efficient analysis of the analog behavior of each cell in the memory plane. This diagnostic methodology also makes it possible to obtain the distribution of the threshold voltages over the entire memory plane, which may be useful for the qualification of the manufacturing control process.

Le contrôle conforme à la présente invention peut s'effectuer dans le cadre de plusieurs types d'intervention où il est avantageux d'acquérir des valeurs de paramètres analogiques, notamment au niveau du test des mémoires. Le contrôle peut s'opérer, par exemple :
1. Par des acquisitions systématiques sur toutes les plaques d'un lot de mémoires, ou par
The control in accordance with the present invention can be carried out in the context of several types of intervention where it is advantageous to acquire values of analog parameters, in particular at the level of the memory test. The control can take place, for example:
1. By systematic acquisitions on all the plates of a batch of memories, or by

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échantillonnage sur certaines d'entre elles, de façon à réaliser au moins un historique relatif au centrage du procédé de fabrication de la mémoire, notamment pour les différents états des cellules . vierge, effacé, écrit. On peut inscrire les suivis ainsi obtenus par un contrôle statistique de procédés (connu également par l'acronyme anglais SPC, de "statistical process control), et donc obtenir des informations sur d'éventuelles dérives et de dispersion de paramètres.  sampling on some of them, so as to produce at least one history relating to the centering of the memory manufacturing process, in particular for the different states of the cells. blank, erased, written. We can register the follow-ups thus obtained by a statistical process control (also known by the acronym SPC, from "statistical process control), and therefore obtain information on possible drifts and dispersion of parameters.

Ces informations peuvent procurer des liens entre les valeurs analogiques extraites et le valeurs mesurées durant les étapes du procédé. This information can provide links between the analog values extracted and the values measured during the steps of the process.

2. Par des acquisitions de données sur des cellules défaillantes, dans le cadre d'un diagnostic.  2. By data acquisition on faulty cells, as part of a diagnosis.

La cartographie bit analogique décrite plus haut permet dans ce cas une analyse des bits (cellules) en erreur à partir des signatures électriques analogiques, cellesci étant répertoriées dans une bibliothèque de signatures. The analog bit mapping described above allows in this case an analysis of the bits (cells) in error from the analog electrical signatures, these being listed in a signature library.

3. Par acquisition de données sur des cellules à la périphérie des cellules défaillantes ou, plus généralement, d'au moins une cellule déterminée, de manière à établir si les cellules dans leur ensemble sont saines ou différentes, ou si au contraire elles sont potentiellement défaillantes. Cette approche consistant à étudier des systèmes au voisinage d'un système (un cellule en l'occurrence) est généralement désigné par le terme "couverture de fiabilité" ("reliability coverage" en anglais).  3. By acquiring data on cells at the periphery of the defective cells or, more generally, of at least one determined cell, so as to establish whether the cells as a whole are healthy or different, or if on the contrary they are potentially failed. This approach consisting in studying systems in the vicinity of a system (a cell in this case) is generally designated by the term "reliability coverage".

Ces contrôles 1, 2 ou 3 peuvent être réalisés par l'appareil 200 des figures 14 ou 18, ou par tout autre appareil adapté.  These checks 1, 2 or 3 can be carried out by the device 200 of Figures 14 or 18, or by any other suitable device.

De nombreux autres modes de réalisation et variantes peuvent être envisagés dans le cadre de l'invention, tant au niveau des processus de contrôle  Many other embodiments and variants can be envisaged in the context of the invention, both in terms of control processes

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que des moyens matériels et logiciels pour leur mise en oeuvre.  than hardware and software for their implementation.

A titre d'exemple, le contrôle peut se porter aussi bien sur toutes les cellules d'une mémoire que sur certaines d'entre elles, celles-ci servant d'échantillons et pouvant être réparties sur l'ensemble du plan mémoire 2 pour offrir une bonne représentativité des caractéristiques.  For example, the control can be carried out as well on all the cells of a memory as on some of them, these serving as samples and being able to be distributed on the whole of the memory plane 2 to offer good representativeness of the characteristics.

Par ailleurs, la mémoire 110 ou 120 peut être aussi bien sous forme de mémoire seule que sous forme intégré avec d'autres circuits, par exemple dans le cas d'un microcontrôleur, etc.  Furthermore, the memory 110 or 120 can be both in the form of memory alone and in integrated form with other circuits, for example in the case of a microcontroller, etc.

Bien que l'exposé et les modes de réalisation portent sur des mémoire, en l'occurrence des mémoires non-volatiles du type EEPROM, le domaine d'application est beaucoup plus large, s'étendant à tout système faisant appel à un paramètre analogique servant de référence pour de quantification d'une valeur de sortie, et dont le nombre de niveaux à identifier peut être supérieur à deux, tels que les convertisseurs analogique-numérique ou numérique-analogique, ou les dispositifs à transfert de charge (connus par l'acronyme CCD de charge-coupled device). Although the description and the embodiments relate to memories, in this case non-volatile memories of the EEPROM type, the field of application is much wider, extending to any system using an analog parameter. serving as a reference for quantifying an output value, and the number of levels to be identified can be greater than two, such as analog-digital or digital-analog converters, or charge transfer devices (known by the CCD acronym of charge-coupled device).

Claims (47)

REVENDICATIONS 1. Procédé de contrôle d'un système (16), ce système étant destiné à présenter une grandeur devant être identifiée à l'un parmi un nombre fini de niveaux préétablis, l'identification étant conditionnée par au moins un paramètre analogique intrinsèque (VT; IT) du système, caractérisé en ce qu'il comprend une détermination de la valeur dudit paramètre analogique intrinsèque (VT, IT) . 1. Method for controlling a system (16), this system being intended to present a quantity to be identified with one of a finite number of pre-established levels, the identification being conditioned by at least one intrinsic analog parameter (VT ; IT) of the system, characterized in that it comprises a determination of the value of said intrinsic analog parameter (VT, IT). 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que ladite valeur dudit paramètre analogique intrinsèque (VT,IT) est déterminée en interne d'un dispositif (100; 110 ; dans lequel le système (16) est intégré et est présentée en sortie de ce dispositif pour contrôle en externe.  2. Method according to claim 1, characterized in that said value of said intrinsic analog parameter (VT, IT) is determined internally by a device (100; 110; in which the system (16) is integrated and is presented at output of this device for external control. 3. Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que ladite valeur dudit paramètre analogique intrinsèque (VT, IT) est présentée en sortie du dispositif (100; 110 ; sous une forme numérique.  3. Method according to claim 2, characterized in that said value of said intrinsic analog parameter (VT, IT) is presented at the output of the device (100; 110; in digital form. 4. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, où ledit ou chaque paramètre analogique intrinsèque (VT, IT) conditionne un seuil par lequel un niveau préétabli est identifié dans des conditions de fonctionnement déterminés, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes de :  4. Method according to any one of claims 1 to 3, wherein said or each intrinsic analog parameter (VT, IT) conditions a threshold by which a predetermined level is identified under determined operating conditions, characterized in that it comprises the stages of: <Desc/Clms Page number 57><Desc / Clms Page number 57> - positionner le système dans des conditions de fonctionnement auquel ladite grandeur se situe à un côté déterminé dudit seuil, faire évoluer les conditions fonctionnement du système dans le sens faisant rapprocher ladite grandeur (Vcg, ID) vers le seuil, - lorsque ladite grandeur atteint ou franchit le seuil, déterminer la valeur d'un paramètre identifiable ou lié audit paramètre analogique intrinsèque (VT, IT).  - position the system under operating conditions at which said quantity is located at a determined side of said threshold, change the operating conditions of the system in the direction bringing said quantity (Vcg, ID) towards the threshold, - when said quantity reaches or crosses the threshold, determine the value of an identifiable parameter or linked to said intrinsic analog parameter (VT, IT). 5. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, mis en oeuvre dans un dispositif comprenant un ensemble de systèmes (16) individuellement identifiables, caractérisé en ce que ladite détermination de la valeur dudit paramètre (VT, IT) est effectuée individuellement pour chaque système faisant l'objet d'un contrôle.  5. Method according to any one of claims 1 to 4, implemented in a device comprising a set of systems (16) individually identifiable, characterized in that said determination of the value of said parameter (VT, IT) is carried out individually for each system subject to control. 6. Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que la valeur dudit paramètre déterminé (VT, IT) est répertorié avec une identification du système individuel à partir duquel il a été déterminé, par exemple sous forme de cartographie.  6. Method according to claim 5, characterized in that the value of said determined parameter (VT, IT) is listed with an identification of the individual system from which it was determined, for example in the form of cartography. 7. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que ledit système est une cellule (16) d'une mémoire non-volatile (1, 110 ; 120), le procédé étant réalisé sur au moins une cellule de ladite mémoire.  7. Method according to any one of claims 1 to 6, characterized in that said system is a cell (16) of a non-volatile memory (1, 110; 120), the method being carried out on at least one cell of said memory. 8. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que la mémoire est une mémoire du type programmable électriquement effaçable, connue par l'acronyme EEPROM (de l'anglais electrically erasable programmable read only memory).  8. Method according to claim 7, characterized in that the memory is a memory of the electrically erasable programmable type, known by the acronym EEPROM (from the English electrically erasable programmable read only memory). <Desc/Clms Page number 58> <Desc / Clms Page number 58> 9. Procédé selon la revendication 7 ou 8, caractérisé en ce que ledit paramètre analogique intrinsèque (VT; IT) est la valeur de seuil d'une cellule (16) de la mémoire, pour une cellule écrite, vierge ou effacée, et en ce que ladite grandeur est le courant (ID) traversant la cellule ou la tension de polarisation (Vcg) d'un transistor de stockage (FGT) en mode lecture.  9. Method according to claim 7 or 8, characterized in that said intrinsic analog parameter (VT; IT) is the threshold value of a cell (16) of the memory, for a written cell, blank or erased, and in what said quantity is the current (ID) passing through the cell or the bias voltage (Vcg) of a storage transistor (FGT) in read mode. 10. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que la valeur de seuil (VT) est assimilée à la valeur de la tension (VCG) de polarisation d'un transistor de stockage (FGT) de la cellule (16) en mode lecture, à laquelle ce transistor de stockage passe un courant (Il) déterminé.  10. Method according to claim 9, characterized in that the threshold value (VT) is assimilated to the value of the bias voltage (VCG) of a storage transistor (FGT) of the cell (16) in read mode , to which this storage transistor passes a determined current (Il). 11. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que la valeur de seuil ( ( IT) est assimilée à la valeur du courant (ID) passé par un transistor de stockage (FGT) de la cellule (16) en mode lecture lorsque ce transistor est polarisé à une tension (Vcg) positionnée à une valeur de référence.  11. Method according to claim 9, characterized in that the threshold value ((IT) is assimilated to the value of the current (ID) passed by a storage transistor (FGT) of the cell (16) in read mode when this transistor is biased at a voltage (Vcg) positioned at a reference value. 12. Procédé selon la revendication 10 ou 11, caractérisé en ce que : pour déterminer le seuil d'une cellule (16) vierge ou effacée, on détermine la tension de polarisation (Vcg) du transistor de stockage (FGT) à laquelle ce transistor conduit un courant (ID) dont la valeur franchit un seuil (Il,,,) sensiblement fixe, pour déterminer le seuil d'une cellule (16) écrite, on détermine la valeur limite du courant (ID) que peut conduire le transistor de stockage (FGT) pour  12. Method according to claim 10 or 11, characterized in that: to determine the threshold of a blank or erased cell (16), the bias voltage (Vcg) of the storage transistor (FGT) at which this transistor is determined conducts a current (ID), the value of which crosses a substantially fixed threshold (Il ,,,), to determine the threshold of a written cell (16), the limit value of the current (ID) that the transistor can conduct is determined storage (FGT) for <Desc/Clms Page number 59><Desc / Clms Page number 59> une tension de polarisation (Vcg) de celui-ci sensiblement fixe.  a substantially fixed bias voltage (Vcg) thereof. 13. Procédé selon la revendication 12, caractérisé en ce que ledit seuil correspond à un seuil du transistor de stockage (FGT), qui est déterminé par la condition de basculement d'état logique d'un amplificateur de lecture (12) auquel ladite cellule (16) est fonctionnellement reliée et en ce que : pour déterminer le seuil (VTvierge ou VTeff) d'une cellule (16) vierge ou effacée, on maintient un courant de lecture (Ilect) de l'amplificateur de lecture sensiblement constant et on fait évoluer la tension de polarisation (Vcg) du transistor (FGT) de manière à rapprocher le courant (ID) passé par celui-ci de ce courant de lecture (Ilect), jusqu'à provoquer un basculement d'état logique de l'amplificateur de lecture, et on détermine la valeur de cette tension de polarisation à laquelle l'amplificateur de lecture (12) bascule d'état logique, cette tension de polarisation étant assimilée à la tension de seuil de la cellule vierge ou effacée (VTvierge ou VTeff); et - pour déterminer le seuil (VTinscr) d'une cellule écrite, on maintient la tension de polarisation (Vcg) du transistor (FGT) sensiblement constante et on fait évoluer ledit courant (ID) traversant la cellule jusqu'au basculement d'état logique de l'amplificateur de lecture (12), le point de basculement correspondant au franchissement de la valeur limite du courant que peut conduire la cellule pour ladite tension de polarisation du transistor (FGT), cette valeur limite de courant traversant la cellule étant assimilée au seuil danser) de la cellule écrite.  13. Method according to claim 12, characterized in that said threshold corresponds to a threshold of the storage transistor (FGT), which is determined by the logic state switching condition of a sense amplifier (12) at which said cell (16) is functionally connected and in that: to determine the threshold (VTvierge or VTeff) of a blank or erased cell (16), a reading current (Ilect) of the reading amplifier is maintained substantially constant and on changes the bias voltage (Vcg) of the transistor (FGT) so as to approximate the current (ID) passed through it to this reading current (Ilect), until causing a logic state switching of the read amplifier, and the value of this bias voltage at which the read amplifier (12) switches from logic state is determined, this bias voltage being assimilated to the threshold voltage of the blank or erased cell (VTvierge or VTeff); and - to determine the threshold (VTinscr) of a written cell, the bias voltage (Vcg) of the transistor (FGT) is kept substantially constant and said current (ID) flowing through the cell is changed until the state changes logic of the sense amplifier (12), the tipping point corresponding to the crossing of the current limit value that the cell can conduct for said transistor bias voltage (FGT), this current limit value passing through the cell being assimilated on the dance floor) of the written cell. <Desc/Clms Page number 60> <Desc / Clms Page number 60> 14. Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce que, pour déterminer le seuil d'une cellule (16), quel que soit son état : vierge, effacé, ou écrit, on détermine la valeur du courant (ID) passé par le transistor de stockage (FGT) pour une tension de polarisation (Vcg) de celui-ci sensiblement fixe.  14. Method according to claim 11, characterized in that, to determine the threshold of a cell (16), whatever its state: blank, erased, or written, the value of the current (ID) passed through the storage transistor (FGT) for a substantially fixed bias voltage (Vcg) thereof. 15. Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que le seuil de commutation du transistor de stockage (FGT) est déterminé par la condition de basculement d'état logique d'un amplificateur de lecture (12) auquel ladite cellule (16) est fonctionnellement reliée, et en ce que : pour déterminer le seuil d'une cellule (16) qu'elle soit son état : vierge, effacé, ou écrit, on maintient la tension de polarisation (Vcg) du transistor (FGT) sensiblement constant et on fait évoluer ledit courant (ID) traversant la cellule jusqu'au basculement d'état logique de l'amplificateur de lecture (12), le point de basculement correspondant au franchissement de la valeur limite dudit courant que peut conduire la cellule pour ladite tension de polarisation du transistor (FGT), cette valeur limite de courant traversant la cellule étant assimilée au seuil (ITinscr) de la cellule.  15. The method of claim 14, characterized in that the switching threshold of the storage transistor (FGT) is determined by the condition of switching of logic state of a sense amplifier (12) to which said cell (16) is functionally connected, and in that: to determine the threshold of a cell (16) whether it is its state: blank, erased, or written, the bias voltage (Vcg) of the transistor (FGT) is kept substantially constant and said current (ID) flowing through the cell is changed until the logic state of the sense amplifier (12) changes, the tipping point corresponding to the crossing of the limit value of said current which the cell can conduct for said voltage bias of the transistor (FGT), this current limit value passing through the cell being assimilated to the threshold (ITinscr) of the cell. 16. Procédé selon l'une quelconque des revendications 9 à 15, caractérisé en ce que l'on fait évoluer la tension de polarisation (VCG) appliquée au transistor de stockage (FGT) de la cellule (16) et/ou le courant de référence (Ilect)sur une plage de variation qui recouvre la plage des valeurs admises par la spécification de la mémoire pour la tension de seuil (VT) et/ou le courant de seuil (IT) considéré.  16. Method according to any one of claims 9 to 15, characterized in that one changes the bias voltage (VCG) applied to the storage transistor (FGT) of the cell (16) and / or the current of reference (Ilect) on a variation range which covers the range of values accepted by the memory specification for the threshold voltage (VT) and / or the threshold current (IT) considered. <Desc/Clms Page number 61> <Desc / Clms Page number 61> 17. Procédé selon l'une quelconque des revendications 9 à 16, caractérisé en ce que l'on fait évoluer la tension (VCG) de polarisation appliquée au transistor de stockage (FGT) de la cellule (16) et/ou le courant (ID) traversant la cellule (16) de manière incrémentale au moyen respectivement d'une source de tension programmable (18) et/ou une source de courant programmable (20), la ou chaque source étant commandé numériquement par des moyens de programmation (66,42), ces derniers étant utilisés en outre pour fournir en sortie vers l'extérieur (114; 124), sous forme numérique, une expression de la valeur du seuil considéré (VT, IT), les valeurs de la tension de polarisation (Vcg) ou dudit courant (ID) parcourant la cellule donnant la tension ou le courant provoquant ledit basculement d'état logique de l'amplificateur de lecture à l'incrément près.  17. Method according to any one of claims 9 to 16, characterized in that the bias voltage (VCG) applied to the storage transistor (FGT) of the cell (16) and / or the current ( ID) traversing the cell (16) incrementally by means of a programmable voltage source (18) and / or a programmable current source (20) respectively, the or each source being controlled digitally by programming means (66 , 42), the latter being also used to provide an output to the outside (114; 124), in digital form, an expression of the value of the threshold considered (VT, IT), the values of the bias voltage ( Vcg) or of said current (ID) flowing through the cell giving the voltage or the current causing said change of logic state of the sense amplifier to the nearest increment. 18. Procédé selon la revendication 17, caractérisé en ce que les moyens de programmation comprennent un registre à décalage (66,42) dont les sorties parallèles (EPV1-EPVM, EPI1-EPIN) servent à commander par leur état logique des parties respectives de la source de courant (18) et/ou de la source de tension (20), de manière à produire une plage de valeurs de courant (Ilect) de référence évolutif et/ou une plage de valeurs de tension de polarisation (VCG) appliquée à un transistor de stockage (FGT) de la cellule (16), en fonction du motif de bits chargé dans le registre, lors de l'évolution des valeurs produites, ce motif commandant une valeur de courant ou de tension, et en ce que l'on extrait ce motif de bits, lorsque celui programme la valeur de courant ou la valeur de tension provoquant un franchissement de seuil  18. The method of claim 17, characterized in that the programming means comprise a shift register (66,42) whose parallel outputs (EPV1-EPVM, EPI1-EPIN) are used to control their respective parts of the current source (18) and / or the voltage source (20), so as to produce a range of evolving reference current values (Ilect) and / or a range of applied bias voltage (VCG) values to a storage transistor (FGT) of the cell (16), as a function of the bit pattern loaded in the register, during the evolution of the values produced, this pattern controlling a current or voltage value, and in that this bit pattern is extracted, when that bit sets the current value or the voltage value causing a threshold to be crossed <Desc/Clms Page number 62><Desc / Clms Page number 62> en lecture (12), en tant qu'information sur la valeur de courant ou de tension programmée.  in reading (12), as information on the programmed current or voltage value. 19. Procédé selon la revendication 18, caractérisé en ce que ledit motif de bits commande des coef ficients d'une valeur élémentaire (IREF, VREF) de courant ou de tension produite par des circuits internes de la mémoire utilisés en mode de fonctionnement normal de celle-ci.  19. The method of claim 18, characterized in that said bit pattern controls coefficients of an elementary value (IREF, VREF) of current or voltage produced by internal circuits of the memory used in normal operating mode of it. 20. Procédé selon l'une quelconque des revendications 9 à 19, caractérisé en ce que au moins un parmi : le générateur de tension programmable (18), notamment une source de tension de référence (VREF) de celui-ci, le générateur de courant programmable (20), notamment une source de courant de référence (IREF) de celui-ci, - les moyens de programmation (42, 66), est réalisé avec des éléments de circuits utilisés par la mémoire (100; 110; 120) en mode normal de fonctionnement.  20. Method according to any one of claims 9 to 19, characterized in that at least one of: the programmable voltage generator (18), in particular a reference voltage source (VREF) thereof, the generator programmable current (20), in particular a reference current source (IREF) thereof, - the programming means (42, 66), is produced with circuit elements used by the memory (100; 110; 120) in normal operating mode. 21. Procédé selon l'une quelconque des revendications 7 à 20, caractérisé en qu'il est réalisé avec des moyens embarqués dans ladite mémoire (1; 110 ; 120) .  21. Method according to any one of claims 7 to 20, characterized in that it is carried out with means embedded in said memory (1; 110; 120). 22. Procédé selon l'une quelconque des revendications 9 à 21, caractérisé en ce qu'il est géré, au moins en partie, par une machine d'états de la mémoire (100; 110; 120).  22. Method according to any one of claims 9 to 21, characterized in that it is managed, at least in part, by a memory state machine (100; 110; 120). <Desc/Clms Page number 63> <Desc / Clms Page number 63> 23. Procédé selon l'une quelconque des revendications 7 à 22, caractérisé en ce qu'il comprend une étape de sélection d'une cellule individuelle (16) de la mémoire, ladite détermination de la valeur de paramètre analogique intrinsèque s'appliquant spécifiquement à cette cellule.  23. Method according to any one of claims 7 to 22, characterized in that it comprises a step of selecting an individual cell (16) from the memory, said determination of the intrinsic analog parameter value applying specifically to this cell. 24. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 23 utilisé pour contrôler ledit paramètre analogique intrinsèque (VT, IT) se rapportant à chacun d'un ensemble désigné de points (16) répertoriés, chaque point comprenant un dit système, caractérisé en ce que l'on produit les résultats du contrôle obtenus à partir des points sous une forme répertoriée correspondante à des fins d'analyse ou de diagnostic.  24. Method according to any one of claims 1 to 23 used to control said intrinsic analog parameter (VT, IT) relating to each of a designated set of points (16) listed, each point comprising a said system, characterized in what we produce the results of the control obtained from the points in a corresponding listed form for analysis or diagnostic purposes. 25. Procédé selon la revendication 24, appliqué à une mémoire (1; 110 ; les points répertoriés étant au moins une partie de l'ensemble des cellules (16) de la mémoire, le paramètre analogique intrinsèque étant une valeur de seuil (VT IT), la forme répertorié des résultats du contrôle se présentant sous forme de cartographie des valeurs de seuil à l'image de la cartographie des cellules dans leur plan mémoire (2), définissant ainsi une cartographie bit analogique utilisable en complément d'une cartographie bit binaire classique.  25. The method of claim 24, applied to a memory (1; 110; the points listed being at least part of the set of cells (16) of the memory, the intrinsic analog parameter being a threshold value (VT IT ), the listed form of the control results in the form of a mapping of the threshold values like the mapping of the cells in their memory plane (2), thus defining an analog bit mapping usable in addition to a bit mapping classic binary. 26. Procédé selon la revendication 24 ou 25, caractérisé en ce que l'on produit une distribution statistique des valeurs du paramètre analogique intrinsèque obtenus sur les points contrôlés, par exemple sous forme d'histogramme, pour effectuer une  26. The method of claim 24 or 25, characterized in that a statistical distribution is produced of the values of the intrinsic analog parameter obtained on the monitored points, for example in the form of a histogram, to perform a <Desc/Clms Page number 64><Desc / Clms Page number 64> analyse statistique des variations de ce paramètre sur l'ensemble des points contrôlés (16).  statistical analysis of the variations of this parameter on all the points checked (16). 27. Mise en oeuvre du procédé de contrôle selon l'une quelconque des revendications 1 à 26 pour l'acquisition de valeurs dudit paramètre analogique dans le cadre d'un test de dispositifs intégrant au moins un dit système (16), tels que des mémoire programmables, le contrôle étant réalisé sur certains au moins desdits dispositifs sur des lots de fabrication, de façon à réaliser au moins un historique relatif au procédé de fabrication du dispositif, par exemple, dans le cas d'une mémoire programmable (1; 110 ; 120), des différents états de certaines au moins des cellules : vierge, effacé, ou écrit, afin de d'obtenir un suivi et gérer des informations sur d'éventuelles dérives et de dispersion de paramètres.  27. Implementation of the control method according to any one of claims 1 to 26 for the acquisition of values of said analog parameter within the framework of a test of devices integrating at least one said system (16), such as programmable memory, the control being carried out on at least some of said devices on manufacturing batches, so as to produce at least one history relating to the method of manufacturing the device, for example, in the case of a programmable memory (1; 110 ; 120), different states of at least some of the cells: blank, erased, or written, in order to obtain monitoring and manage information on possible drifts and dispersion of parameters. 28. Mise en oeuvre du procédé de contrôle selon l'une quelconque des revendications 1 à 26 pour l'acquisition de valeurs dudit paramètre analogique dans le cadre d'un diagnostic sur un dispositif défaillant ou en cours de développement, tel qu'une mémoire programmable (1; 110; 120), dans laquelle au moins une valeur dudit paramètre provenant d'un système défaillant (16) est extraite pour analyse, par exemple à partir d'une cartographie bit analogique.  28. Implementation of the control method according to any one of claims 1 to 26 for the acquisition of values of said analog parameter within the framework of a diagnosis on a faulty or under development device, such as a memory. programmable (1; 110; 120), in which at least one value of said parameter coming from a faulty system (16) is extracted for analysis, for example from an analog bit mapping. 29. Mise en oeuvre du procédé de contrôle selon l'une quelconque des revendications 1 à 26 pour l'acquisition de valeurs dudit paramètre analogique dans le cadre d'une étude de systèmes, par exemple de cellules (16), d'une mémoire programmable (1; 110 ; 120), de manière à établir si les systèmes dans leur  29. Implementation of the control method according to any one of claims 1 to 26 for the acquisition of values of said analog parameter within the framework of a study of systems, for example cells (16), of a memory programmable (1; 110; 120), so as to establish whether the systems in their <Desc/Clms Page number 65><Desc / Clms Page number 65> ensemble sont saines ou, plus généralement, différentes.  together are healthy or, more generally, different. 30. Dispositif de contrôle d'un système (16), ce système étant destiné à présenter une grandeur devant être identifiée à l'un parmi un nombre fini de niveaux préétablis, l'identification étant conditionnée par au moins un paramètre analogique intrinsèque (VT; IT) du système, caractérisé en ce qu'il comprend des moyens de détermination de la valeur dudit paramètre analogique intrinsèque (VT, IT) .  30. System control device (16), this system being intended to present a quantity to be identified with one of a finite number of preset levels, the identification being conditioned by at least one intrinsic analog parameter (VT ; IT) of the system, characterized in that it comprises means for determining the value of said intrinsic analog parameter (VT, IT). 31. Dispositif selon la revendication 30, caractérisé en ce qu'il est matériellement intégré avec ledit système (16) et comprend une sortie (114; 124) de ladite valeur dudit paramètre analogique intrinsèque (VT, IT) pour contrôle en externe.  31. Device according to claim 30, characterized in that it is physically integrated with said system (16) and comprises an output (114; 124) of said value of said intrinsic analog parameter (VT, IT) for external control. 32. Dispositif selon la revendication 31, caractérisé en ce qu'il comprend des moyens (42,66) pour présenter ladite valeur dudit paramètre analogique intrinsèque (VT; IT) en sortie (114; 124) sous une forme numérique.  32. Device according to claim 31, characterized in that it comprises means (42,66) for presenting said value of said intrinsic analog parameter (VT; IT) at output (114; 124) in digital form. 33. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 30 à 32, associé à un système où ledit ou chaque paramètre analogique intrinsèque (VT; IT) conditionne un seuil par lequel un niveau préétabli est identifié dans des conditions de fonctionnement déterminés, caractérisé en ce qu'il comprend : - des moyens pour positionner le système dans des conditions de fonctionnement auquel ladite grandeur se situe à un côté déterminé dudit seuil,  33. Device according to any one of claims 30 to 32, associated with a system where said or each intrinsic analog parameter (VT; IT) conditions a threshold by which a preset level is identified under determined operating conditions, characterized in that that it comprises: means for positioning the system under operating conditions at which said quantity is located at a determined side of said threshold, <Desc/Clms Page number 66><Desc / Clms Page number 66> - des moyens (18, 20,42, 66) pour faire évoluer les conditions fonctionnement du système dans le sens faisant rapprocher ladite grandeur vers le seuil, des moyens, actifs lorsque ladite grandeur atteint ou franchit le seuil, pour déterminer la valeur d'un paramètre identifiable ou lié audit paramètre analogique intrinsèque (VT; IT) .  - Means (18, 20, 42, 66) for changing the operating conditions of the system in the direction bringing said quantity towards the threshold, means, active when said quantity reaches or crosses the threshold, for determining the value of an identifiable parameter or linked to said intrinsic analog parameter (VT; IT). 34. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 30 à 33, caractérisé en ce qu'il peut être relié à un ensemble de systèmes (16) individuellement identifiables, et en ce que lesdits moyens détermination de la valeur dudit paramètre (VT, IT) opèrent individuellement sur chaque système faisant l'objet d'un contrôle.  34. Device according to any one of claims 30 to 33, characterized in that it can be connected to a set of individually identifiable systems (16), and in that said means determining the value of said parameter (VT, IT ) operate individually on each system subject to control. 35. Dispositif selon la revendication 34, caractérisé en ce qu'il comprend des moyens pour répertorier la valeur dudit paramètre déterminé (VT, IT) avec une identification du système individuel à partir duquel il a été déterminé, par exemple sous forme de cartographie.  35. Device according to claim 34, characterized in that it comprises means for listing the value of said determined parameter (VT, IT) with an identification of the individual system from which it was determined, for example in the form of a map. 36. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 30 à 35, caractérisé en ce que ledit système est une cellule d'une mémoire non-volatile (1, 110 ; 120), le dispositif étant configuré pour effectuer le contrôle sur au moins une cellule de ladite mémoire.  36. Device according to any one of claims 30 to 35, characterized in that said system is a cell of a non-volatile memory (1, 110; 120), the device being configured to perform control on at least one cell of said memory. 37. Dispositif selon la revendication 36, caractérisé en ce que la mémoire est une mémoire du type programmable électriquement effaçable, connue par l'acronyme EEPROM (de l'anglais electrically erasable programmable read only memory).  37. Device according to claim 36, characterized in that the memory is a memory of the electrically erasable programmable type, known by the acronym EEPROM (from the English electrically erasable programmable read only memory). <Desc/Clms Page number 67> <Desc / Clms Page number 67> 38. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 35 à 37, caractérisé en ce que les moyens (18,20, 42,66) pour faire évoluer les conditions fonctionnement du système dans le sens faisant rapprocher ladite grandeur vers le seuil comprennent des moyens pour faire évoluer la tension (VCG) de polarisation appliquée au transistor de stockage (FGT) de la cellule (16) et/ou le courant (ID) traversant la cellule (16) de manière incrémentale, ces moyens comprenant respectivement une source de tension programmable (18) et/ou une source de courant programmable (20), des moyens de programmation (66,42) pour commander la ou chaque source, ces derniers fournissant en sortie vers l'extérieur (114; 124), sous forme numérique, une expression de la valeur du seuil considéré (VT, IT) .  38. Device according to any one of claims 35 to 37, characterized in that the means (18,20, 42,66) for changing the operating conditions of the system in the direction bringing said quantity towards the threshold comprise means to change the bias voltage (VCG) applied to the storage transistor (FGT) of the cell (16) and / or the current (ID) passing through the cell (16) in an incremental manner, these means respectively comprising a voltage source programmable (18) and / or a programmable current source (20), programming means (66,42) for controlling the or each source, the latter providing an output to the outside (114; 124), in digital form , an expression of the value of the threshold considered (VT, IT). 39. Dispositif selon la revendication 38, caractérisé en ce que les moyens de programmation comprennent un registre à décalage (66,42) dont les sorties parallèles (EPV1-EPVM, EPI1-EPIN) commandent par leur état logique des parties respectives de la source de courant (18) et/ou de la source de tension (20), de manière à produire une plage de valeurs de courant (Ilect) de référence et/ou une plage de valeurs de tension de polarisation (VCG) appliquée à un transistor de stockage (FGT) de la cellule (16) en fonction du motif de bits chargé dans le registre lors de l'évolution des valeurs produites, ce motif commandant une valeur de courant ou de tension, le dispositif comprenant des moyens (114; 124) de sortie de ce motif de bits, lorsque celui programme la valeur de courant ou la valeur de tension provoquant un  39. Device according to claim 38, characterized in that the programming means comprise a shift register (66,42) whose parallel outputs (EPV1-EPVM, EPI1-EPIN) control by their logical state respective parts of the source current (18) and / or the voltage source (20), so as to produce a range of reference current values (Ilect) and / or a range of bias voltage values (VCG) applied to a transistor storage (FGT) of the cell (16) as a function of the bit pattern loaded in the register during the evolution of the values produced, this pattern controlling a current or voltage value, the device comprising means (114; 124 ) output of this bit pattern, when the one programs the current value or the voltage value causing a <Desc/Clms Page number 68><Desc / Clms Page number 68> franchissement de seuil en lecture (12), en tant qu'information sur la valeur de courant ou de tension programmée.  crossing of reading threshold (12), as information on the programmed current or voltage value. 40. Dispositif selon la revendication 39, caractérisé en ce que ledit motif de bits commande des coefficients d'une valeur élémentaire (IREF, VREF) de courant ou de tension produite par des circuits internes de la mémoire utilisés en mode de fonctionnement normal de celle-ci.  40. Device according to claim 39, characterized in that said bit pattern controls coefficients of an elementary value (IREF, VREF) of current or voltage produced by internal circuits of the memory used in normal operating mode of that -this. 41. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 38 à 40, caractérisé en ce que au moins un parmi : - le générateur de tension programmable (18), et notamment une source de tension de référence (VREF) de celui-ci, - le générateur de courant programmable (20), et notamment une source de courant de référence (IREF) de celui-ci, - les moyens de programmation (42,66), est réalisé avec des éléments de circuits utilisés par la mémoire (100; 110; 120) en mode normal de fonctionnement.  41. Device according to any one of claims 38 to 40, characterized in that at least one of: - the programmable voltage generator (18), and in particular a reference voltage source (VREF) thereof, - the programmable current generator (20), and in particular a reference current source (IREF) thereof, - the programming means (42,66), is produced with circuit elements used by the memory (100; 110; 120) in normal operating mode. 42. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 36 à 41, caractérisé en ce qu'il comprend des moyens de sélection d'une cellule individuelle (16) de la mémoire, ladite détermination de la valeur de paramètre analogique intrinsèque s'appliquant spécifiquement à cette cellule.  42. Device according to any one of claims 36 to 41, characterized in that it comprises means for selecting an individual cell (16) from the memory, said determination of the intrinsic analog parameter value applying specifically to this cell. 43. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 30 à 42, programmé pour réaliser le  43. Device according to any one of claims 30 to 42, programmed to carry out the <Desc/Clms Page number 69><Desc / Clms Page number 69> procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 26.  method according to any one of claims 1 to 26. 44. Mémoire programmable (1; 110 ; 120), caractérisée en ce qu'elle embarque un dispositif selon l'une quelconque des revendications 30à 43.  44. Programmable memory (1; 110; 120), characterized in that it embeds a device according to any one of claims 30 to 43. 45. Circuit intégré comprenant une mémoire programmable, caractérisé en ce qu'il embarque un dispositif selon l'une quelconque des revendications 30 à 44.  45. Integrated circuit comprising a programmable memory, characterized in that it embeds a device according to any one of claims 30 to 44. 46. Appareil de contrôle (200) destiné à coopérer avec le dispositif (100; 110 ; selon l'une quelconque des revendications 30 à 45, caractérisé en ce qu'il comprend une entrée (210) prévue pour se relier fonctionnellement à une sortie (114;124) du dispositif (100; 110 ; produisant une expression de la valeur du paramètre analogique intrinsèque.  46. Control device (200) intended to cooperate with the device (100; 110; according to any one of claims 30 to 45, characterized in that it comprises an inlet (210) intended to functionally connect to an outlet (114; 124) of the device (100; 110; producing an expression of the value of the intrinsic analog parameter. 47. Appareil de contrôle selon la revendication 46, caractérisé en ce que ladite entrée (210) est une entrée numérique destinée à recevoir un motif de bits qui encode l'expression de la valeur du paramètre analogique intrinsèque, et en ce qu'il comporte des moyens (220) de mémorisation de données permettant d'extraire une information exploitable à partir de cette expression encodée. 47. Control device according to claim 46, characterized in that said input (210) is a digital input intended to receive a bit pattern which encodes the expression of the value of the intrinsic analog parameter, and in that it comprises data storage means (220) making it possible to extract exploitable information from this encoded expression.
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