FR2775537A1 - Wide temperature range thermistor especially useful as a temperature sensor for automobile exhaust gas - Google Patents

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    • G01K7/16Measuring temperature based on the use of electric or magnetic elements directly sensitive to heat ; Power supply therefor, e.g. using thermoelectric elements using resistive elements
    • G01K7/22Measuring temperature based on the use of electric or magnetic elements directly sensitive to heat ; Power supply therefor, e.g. using thermoelectric elements using resistive elements the element being a non-linear resistance, e.g. thermistor

Abstract

A sintered thermistor body is produced by sintering a powder obtained from a liquid precursor metal compound mixture. An Independent claim is also included for a temperature sensor comprising a thermistor produced by the above process, the grain size of the sintered body being less than 1 mu .

Description

N de publication européen: N de dépôt de la demande N et date duN of European publication: N of application N and date of

bulletin européen des brevets dans lequel a été publiée la délivrance:  European Patent Bulletin in which the grant was issued:

DISPOSITIF DE THERMISTANCE, METHODE DE FABRICATION DE  THERMISTOR DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING

THERMISTANCES ET CAPTEUR DE TEMPERATURE  THERMISTORIES AND TEMPERATURE SENSOR

CONTEXTE DE L'INVENTIONBACKGROUND OF THE INVENTION

1. Domaine de l'Invention La présente invention concerne un dispositif de thermistance qui peut détecter des températures dans la gamme partant de la température ambiante jusqu'à une  FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a thermistor device which can detect temperatures in the range from room temperature to

haute température d'approximativement 1000 C, c'est-à-  high temperature of approximately 1000 C, i.e.

dire un dispositif de thermistance à large gamme, ainsi qu'une méthode de fabrication d'un tel dispositif de thermistance, et qui est particulièrement bien adapté pour être utilisé dans un capteur de températures pour  a wide range thermistor device, as well as a method of manufacturing such a thermistor device, and which is particularly well suited for use in a temperature sensor for

des gaz d'échappement d'automobile.  automobile exhaust.

2. Description de l'art antérieur2. Description of the prior art

Les dispositifs de thermistance pour capteurs de températures sont utilisés pour la mesure de températures dans la gamme de 400 à 1300 C, c'est-à-dire des températures médium aux hautes températures, pour la mesure de températures de gaz d'échappement d'automobile, des températures de flamme de gaz dans des chaudières à gaz et équivalents, et des températures de  Thermistor devices for temperature sensors are used for measuring temperatures in the range of 400 to 1300 C, ie medium temperature at high temperatures, for the measurement of exhaust gas temperatures. automobiles, gas flame temperatures in gas-fired boilers and the like, and

fours chauffants.heated ovens.

La valeur de résistance et le coefficient résistance-température (dépendance en température de la valeur de résistance) indiquent les caractéristiques de ce type de dispositif de thermistance. Ici, afin que les circuits de détection de température qui constituent un capteur de température correspondent à une gamme de valeur de résistance pratique, la valeur de résistance du dispositif de thermistance est de préférence dans une gamme stipulée. Pour cette raison, des matériaux de type perovskite et équivalents sont principalement utilisés comme matériaux qui ont des caractéristiques de valeur de résistance adéquates pour un dispositif de  The resistance value and the resistance-temperature coefficient (temperature dependence of the resistance value) indicate the characteristics of this type of thermistor device. Here, so that the temperature sensing circuits which constitute a temperature sensor correspond to a range of practical resistance value, the resistance value of the thermistor device is preferably within a stipulated range. For this reason, perovskite and equivalent materials are mainly used as materials which have adequate strength value characteristics for a

thermistance à large gamme.wide range thermistor.

Des exemples de dispositifs de thermistance proposés qui utilisent des matériaux de type perovskite sont proposés dans les demandes de brevet japonaises  Examples of proposed thermistor devices that use perovskite-type materials are provided in Japanese patent applications.

publiées non examinées JP-A-6-325 907 et JP-A-7-201 528.  published unexamined JP-A-6-325 907 and JP-A-7-201 528.

Afin de réaliser un dispositif de thermistance qui soit utilisable dans une large gamme de températures, des oxydes de Y, Sr, Cr, Fe, Ti et d'autres éléments sont mélangés dans un rapport de composition stipulé, moulus, granulés et cuits pour obtenir un dispositif de thermistance qui soit une solution solide parfaite au  In order to achieve a thermistor device that is usable over a wide temperature range, oxides of Y, Sr, Cr, Fe, Ti and other elements are mixed in a stipulated composition ratio, ground, granulated and fired to obtain a thermistor device that is a perfect solid solution to

moyen de la méthode en phase solide.  medium of the solid phase method.

La valeur de résistance et les coefficients résistance-température représentent les caractéristiques  The resistance value and the resistance-temperature coefficients represent the characteristics

de valeur de résistance d'un dispositif de thermistance.  resistance value of a thermistor device.

En considérant la gamme de valeur de résistance du circuit de détection de température dans un capteur de température normal, la valeur de résistance du dispositif de thermistance doit être de 50 Q à kQ dans la gamme de température de service. De plus, si un dispositif de thermistance est sujet à un chauffage de la température ambiante à 1000 C ou équivalent, il est préférable que le changement entre la valeur de résistance initiale et la valeur de résistance  Considering the resistance value range of the temperature sensing circuit in a normal temperature sensor, the resistance value of the thermistor device must be 50Ω to kΩ in the operating temperature range. In addition, if a thermistor device is subject to heating from room temperature to 1000 C or equivalent, it is preferable that the change between the initial resistance value and the resistance value.

après le chauffage soit aussi petit que possible.  after heating is as small as possible.

Chacune des demandes de brevet japonaises non examinées mentionnées audessus (Kokai) propose des dispositifs de thermistances consistant en diverses solutions solides parfaites, mais seules les données concernant les valeurs de résistance de thermistance à 300 C ou plus sont décrites. Pour cette raison, les présents inventeurs ont recherché les caractéristiques de valeur de résistance des différents dispositifs de thermistances dans les différentes publications de brevets japonais non examinées (Kokai) à des  Each of the unexamined Japanese patent applications mentioned above (Kokai) proposes thermistor devices consisting of various perfect solid solutions, but only the data concerning thermistor resistance values at 300 C or higher are described. For this reason, the present inventors have sought the resistance value characteristics of the various thermistor devices in the various unexamined Japanese patent publications (Kokai) to

températures proches de la température ambiante.  temperatures close to the ambient temperature.

Il en résulte, que ces dispositifs de thermistance qui montrent des caractéristiques de valeurs de résistance stables dans un chauffage de la température ambiante jusqu'à 1000 C ou équivalent, ont montré une valeur de résistance élevée dans la région de la température ambiante à 300 C, étant non distinguable d'une résistance, ainsi la température ne pouvait pas être' détectée. D'un autre côté, ces dispositifs de thermistance qui satisfont l'exigence de valeur de résistance basse de 50 D à 100 kn ont montré un changement dans la valeur de résistance dans le chauffage qui a varié de 10 % ou plus par rapport à la valeur de résistance initiale, de sorte qu'ils  As a result, these thermistor devices which exhibit characteristics of stable resistance values in heating from room temperature to 1000 C or equivalent, have shown a high resistance value in the region of room temperature at 300 ° C. , being indistinguishable from a resistor, so the temperature could not be detected. On the other hand, these thermistor devices that meet the low resistance value requirement of 50 D at 100 kn showed a change in resistance value in the heater which varied by 10% or more over the initial resistance value, so that they

manquaient de stabilité.lacked stability.

Dans tous les cas, il n'y avait aucun dispositif de thermistance (un dispositif de thermistance dit "à large gamme") qui satisfasse les deux caractéristiques de résistance entrant en conflit, des caractéristiques de valeurs de résistance basses dans la gamme de la température ambiante à 1000 C et une stabilité de la  In any case, there was no thermistor device (a "wide range" thermistor device) that satisfies both conflicting resistance characteristics, low resistance value characteristics in the temperature range. ambient at 1000 C and stability of the

valeur de résistance basse dans un chauffage.  low resistance value in a heating.

Au vu des problèmes mentionnés au-dessus, le premier objet de la présente invention est de proposer un dispositif de thermistance qui comporte des caractéristiques stables et qui montre un faible changement dans sa valeur de résistance même dans un chauffage partant de la température ambiante jusqu'à 1000 C ou équivalent, et qui comporte aussi une valeur de résistance de 50 n à 100 kQ dans la gamme de  In view of the problems mentioned above, the first object of the present invention is to provide a thermistor device which has stable characteristics and which shows a small change in its resistance value even in heating from room temperature to room temperature. at 1000 C or equivalent, and which also has a resistance value of 50 n to 100 kΩ in the range of

températures de la température ambiante à 1000 C.  temperatures from room temperature to 1000 C.

D'un autre côté, dans des capteurs de température récents pour les gaz d'échappement d'automobile (capteurs de température d'échappement), il existe une forte demande pour incorporer ces capteurs de température d'échappement dans des systèmes pour détecter la température du gaz d'échappement avant et après le catalyseur afin de détecter la détérioration du catalyseur utilisé pour le changement des gaz d'échappement à partir des véhicules à essence non toxique, et dans des systèmes pour détecter la température d'échappement avant et après le catalyseur afin de contrôler la température du catalyseur pour nettoyer les gaz d'échappement, en particulier NOx à  On the other hand, in recent temperature sensors for automotive exhaust (exhaust temperature sensors), there is a strong demand to incorporate these exhaust temperature sensors into systems for detecting the exhaust temperature. Exhaust gas temperature before and after the catalyst to detect the deterioration of the catalyst used for the change of exhaust gases from non-toxic gasoline vehicles, and in systems for detecting the exhaust temperature before and after the catalyst to control the catalyst temperature to clean the exhaust gas, particularly NOx at

partir des véhicules diesel.from diesel vehicles.

Cependant, les capteurs de température qui utilisent des dispositifs de thermistance conventionnels ont une grande quantité de dispersion dans leurs  However, temperature sensors that use conventional thermistor devices have a large amount of dispersion in their

caractéristiques résistance-température (caractéris-  resistance-temperature characteristics (characteristics

tiques R-T), par exemple, leur précision de température est de 20 à 30 C (de la température ambiante à 600 C), qui n'est pas suffisante pour le contrôle de systèmes à haute précision. Ainsi, afin d'être incorporé dans de tels systèmes, le développement des dispositifs de thermistance qui peuvent réaliser une telle précision de température haute est souhaitable. A cette fin, les présents inventeurs ont effectué des études de fond de la structure, des méthodes de fabrication et autres aspects des dispositifs de thermistances conventionnels, et ils se sont heurtés aux problèmes suivants avec  R-T ticks), for example, their temperature accuracy is 20 to 30 C (from room temperature to 600 C), which is not sufficient for the control of high precision systems. Thus, in order to be incorporated in such systems, the development of thermistor devices that can achieve such high temperature accuracy is desirable. To this end, the present inventors have conducted background studies of the structure, methods of manufacture and other aspects of conventional thermistor devices, and have encountered the following problems with

l'augmentation de la précision de température.  increasing the temperature accuracy.

A savoir, dans la méthode en phase solide mentionnée au-dessus, le mélange et le broyage d'une pluralité de matériaux d'oxydes sont effectués au moyen d'un broyeur à billes ou équivalent, mais du fait de capacité de broyage inadéquat, la dimension de grains moyenne des matériaux de thermistance après le broyage a une limite de 1-2 pum, de sorte qu'un mélange uniforme n'est pas réalisé. De plus, du fait de cette différence dans la dimension de grains moyen des matériaux d'oxyde, les réactions ne se font pas de façon uniforme dans la calcination, le frittage et autres traitements de températures, de sorte que la composition de matériaux bruts de thermistance produite par les réactions  Namely, in the solid-phase method mentioned above, the mixing and grinding of a plurality of oxide materials is carried out by means of a ball mill or the like, but because of inadequate grinding capacity, the average grain size of the thermistor materials after grinding has a limit of 1-2 μm, so that uniform mixing is not achieved. In addition, because of this difference in the average grain size of the oxide materials, the reactions are not uniformly conducted in the calcination, sintering, and other temperature treatments, so that the composition of the raw materials of the thermistor produced by the reactions

thermiques devient non uniforme.thermal becomes non-uniform.

De plus, dans les opérations de mélanges et de broyages mentionnées audessus effectuées par un broyeur à billes ou équivalent, les éléments constitutifs des billes d'aluminium ou équivalent des milieux de broyage viennent se mélanger au matériau de thermistance en tant qu'impuretés, causant ainsi une dispersion de résistance ou une divergence par rapport à la composition désirée du dispositif de thermistance Par conséquent, la dispersion de la valeur de résistance du dispositif de thermistance obtenu devient importante et un capteur de température qui utilise ce dispositif de thermistance aura une dispersion dans sa caractéristique R-T, amenant  Moreover, in the mixing and grinding operations mentioned above carried out by a ball mill or the like, the constitutive elements of the aluminum balls or the equivalent of the grinding media mix with the thermistor material as impurities, causing Thus, a dispersion of resistance or a divergence from the desired composition of the thermistor device Therefore, the dispersion of the resistance value of the obtained thermistor device becomes significant and a temperature sensor that uses this thermistor device will have a dispersion in its characteristic RT, bringing

à une dégradation dans la précision de température.  degradation in temperature accuracy.

Dans l'état courant, les systèmes mentionnés au-  In the current state, the systems mentioned in

dessus ne peuvent pas être réalisés avec la précision de température des capteurs de température qui utilisent des dispositifs de thermistance conventionnels, de sorte que des thermocouples ou des résistances en platine (ou équivalent) à haute précision mais à coût important,  above can not be achieved with the temperature accuracy of temperature sensors that use conventional thermistor devices, so that thermocouples or platinum (or equivalent) resistors with high accuracy but high cost,

sont utilisés comme capteurs de température à la place.  are used as temperature sensors instead.

Cependant, dans chacun des cas, il n'y a pas de capteur de température qui utilise des dispositifs de thermistance qui comporte une précision de température  However, in each case, there is no temperature sensor that uses thermistor devices that has a temperature accuracy

(par exemple, 5 C sur la gamme température ambiante -  (for example, 5 C over the ambient temperature range -

600 C) d'un niveau qui puisse être appliqué au système  600 C) of a level that can be applied to the system

mentionné au-dessus et équivalent.  mentioned above and equivalent.

A cette fin, au vu des problèmes mentionnés au-  To this end, in view of the problems mentioned

dessus, le second objet de la présente invention est de proposer une méthode de fabrication d'un dispositif de thermistance à partir d'un corps fritté de sorte que la dispersion de la valeur de résistance du dispositif de  above, the second object of the present invention is to provide a method of manufacturing a thermistor device from a sintered body so that the dispersion of the resistance value of the

thermistance soit réduite.thermistor be reduced.

D'un autre côté, lorsque le dispositif de thermistance mentionné au-dessus est utilisé dans un capteur de température qui détecte la température du gaz d'échappement d'une automobile, les dispositifs de thermistance situés au niveau de la pointe de détecteur du capteur de température sont typiquement recouverts d'un couvercle métallique dans le but d'éviter l'accumulation de débris, de suie ou équivalent à partir du gaz à contrôlé. Ici, puisque le couvercle de métal est sujet à une oxydation thermique du fait du chauffage du gaz d'échappement chaud à globalement 900 C, l'intérieur du couvercle métallique est un environnement réducteur, et ainsi le dispositif de thermistance à l'intérieur est sujet à une action de réduction et sa valeur de résistance peut changer, provoquant des problèmes. Pour cette raison, les capteurs de température sont typiquement placés dans des fours électriques et sujets à un traitement de vieillissement thermique à 900-1000 C pendant 100 heures. Cependant, tandis que le capteur de température est en service, dans le cas o l'air entrerait à l'intérieur du couvercle du fait d'un trou dans le couvercle ou que le couvercle comporte des pertes, il y a un risque que le dispositif de thermistance lui-même soit à nouveau sujet à un  On the other hand, when the thermistor device mentioned above is used in a temperature sensor that detects the exhaust gas temperature of an automobile, the thermistor devices located at the detector sensor tip Temperature sensors are typically covered with a metal cover to prevent the accumulation of debris, soot or the like from the controlled gas. Here, since the metal cover is subject to thermal oxidation due to the heating of the hot exhaust gas to generally 900 C, the inside of the metal cover is a reducing environment, and so the thermistor device inside is subject to a reduction action and its resistance value may change, causing problems. For this reason, the temperature sensors are typically placed in electric furnaces and subject to thermal aging treatment at 900-1000 C for 100 hours. However, while the temperature sensor is in use, if air enters the lid due to a hole in the lid or the lid has losses, there is a risk that the thermistor device itself be again subject to a

environnement réducteur et le changement mentionné au-  reducing environment and the change mentioned in

dessus dans la résistance surviendra.  in it will occur.

Dans le document JP-A-9-69417, même si des matériaux métalliques spéciaux, par exemple, Inconel 600TM ou d'autres matériaux, sont sélectionnés pour le couvercle métallique et que l'usinage est effectué, le problème du changement dans la valeur de résistance n'est toujours pas résolu dans le cas dans lequel le dispositif de thermistance lui- même est sujet à un environnement réducteur. Dans tous les cas, on ne peut proposer de dispositif de thermistance qui montrent une stabilité de valeur de résistance lorsque le dispositif de thermistance lui-même, dans un capteur de température ou  In JP-A-9-69417, even if special metallic materials, for example, Inconel 600TM or other materials, are selected for the metal cover and machining is performed, the problem of changing the value resistance is still not solved in the case where the thermistor device itself is subject to a reducing environment. In any case, it is not possible to propose a thermistor device which exhibits a resistance value stability when the thermistor device itself, in a temperature sensor or

équivalent, est sujet à un environnement réducteur.  equivalent, is subject to a reducing environment.

A la lumière des problèmes mentionnés au-dessus, le troisième objet de la présente invention est de proposer une structure de dispositif qui comporte une stabilité de valeur de résistance même dans le cas o le dispositif de thermistance est sujet à un environnement réducteur.  In light of the above-mentioned problems, the third object of the present invention is to provide a device structure that has a resistance value stability even in the case where the thermistor device is subject to a reducing environment.

RESUME DE L'INVENTIONSUMMARY OF THE INVENTION

Des dispositifs de thermistance conventionnels sont des solutions solides parfaites comportant une structure de type perovskite, mais les présents inventeurs ont considéré que l'obtention des caractéristiques de résistance qui tendent à entrer en conflit comme cela est décrit au-dessus, serait  Conventional thermistor devices are perfect solid solutions having a perovskite-like structure, but the present inventors have considered that obtaining resistance characteristics that tend to conflict as described above would be

difficile avec une solution parfaite d'un seul composé.  difficult with a perfect solution of a single compound.

A cette fin, les inventeurs avaient l'intention de réaliser le premier objet mentionné au-dessus en utilisant un nouveau matériau de thermistance consistant en un corps fritté mixte formé en mélangeant deux types de composés: un matériau de type perovskite (oxyde) qui comporte une valeur de résistance relativement basse et un matériau qui comporte une valeur de résistance  For this purpose, the inventors intended to make the first object mentioned above by using a new thermistor material consisting of a mixed sintered body formed by mixing two types of compounds: a perovskite-like material (oxide) which comprises a relatively low resistance value and a material that has a resistance value

relativement haute.relatively high.

Comme résultat de ces études de divers matériaux de type perovskite, les inventeurs ont découvert de façon expérimentale que les matériaux qui comportent les  As a result of these studies of various perovskite-type materials, the inventors have experimentally discovered that the materials which comprise the

J 2775537J 2775537

caractéristiques de résistance appropriée pour réaliser l'objet mentionné au-dessus, devraient de préférence avoir la composition (MlM2)O3 (o Ml est au moins un ou plusieurs éléments sélectionnés parmi les éléments du Groupe 2A ou du Groupe 3A du Tableau Périodique des Eléments, à l'exception de La, et o M2 est au moins un ou plusieurs élément sélectionnés parmi les éléments du Groupe 2B, Groupe 3B, Groupe 4A, Groupe 5A, Groupe 6A,  characteristics of resistance suitable for making the object mentioned above, should preferably have the composition (MlM2) O3 (where M1 is at least one or more elements selected from the elements of Group 2A or Group 3A of the Periodic Table of Elements , except for La, and o M2 is at least one or more elements selected from the elements of Group 2B, Group 3B, Group 4A, Group 5A, Group 6A,

Groupe 7A ou Groupe 8 du Tableau Périodique).  Group 7A or Group 8 of the Periodic Table).

Ici, La est hautement hygroscopie et réagit avec l'humidité dans l'atmosphère pour produire des hydroxydes instables qui pourraient créer des dommages au dispositif de thermistance, ainsi il n'est pas  Here, La is highly hygroscopic and reacts with moisture in the atmosphere to produce unstable hydroxides that could create damage to the thermistor device, so it is not

utilisé comme Ml.used as Ml.

D'un autre côté, il résulte de l'étude, que A1203 (oxyde d'aluminium), qui comporte une valeur de résistance relativement haute, et stabilise la valeur de résistance de la thermistance, a été trouvé de façon expérimentale comme étant le matériau complémentaire le  On the other hand, it appears from the study that A1203 (aluminum oxide), which has a relatively high resistance value, and stabilizes the resistance value of the thermistor, has been experimentally found to be the complementary material the

plus intéressant dans le mélange.more interesting in the mix.

Par conséquent, le premier aspect de la présente invention est un dispositif de thermistance fait d'un corps fritté mixte de (MlM2)O3. A1203 obtenu en frittant  Therefore, the first aspect of the present invention is a thermistor device made of a mixed sintered body of (MlM2) O3. A1203 obtained by sintering

un mélange de (MlM2)O3 et de Al203 mentionnés au-dessus.  a mixture of (MlM2) O3 and Al203 mentioned above.

Lorsque ce dispositif de thermistance est incorporé dans un capteur de température et que les caractéristiques de valeur de résistance du dispositif ont été contrôlées, le changement dans la valeur de résistance même sur une évolution thermique partant de la température ambiante jusqu'à 1000 C était petit à quelques % et stable, et la valeur de résistance était confirmée de 50 f à 100 kQ dans la gamme de température  When this thermistor device is incorporated into a temperature sensor and the resistance value characteristics of the device have been checked, the change in the resistance value even on a thermal evolution from room temperature up to 1000 C was small at a few% and stable, and the resistance value was confirmed from 50 f to 100 kQ in the temperature range

à partir de la température ambiante jusqu'à 1000 C.  from room temperature up to 1000 C.

Par conséquent, avec ce dispositif de thermistance, il est possible de prévoir un dispositif de thermistance appelé "à large gamme", qui soit capable de détecter des températures sur la large gamme de température de la température ambiante à 1000 C, et qui comporte des caractéristiques stables, en ce que son changement dans la valeur de résistance est petit sur l'évolution du chauffage de la température ambiante à  Therefore, with this thermistor device, it is possible to provide a "wide range" thermistor device, which is capable of detecting temperatures over the wide temperature range from room temperature to 1000 C, and which has stable characteristics, in that its change in the resistance value is small on the evolution of heating from room temperature to

1000 C ou équivalent.1000 C or equivalent.

De plus, à partir des études effectuées par les présents inventeurs, comme les différents éléments dans le composé de type pervoskite mentionné au-dessus (MlM2)O3, M1 devrait être de préférence un ou plusieurs éléments sélectionnés parmi le groupe Y, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho, Er, Yb, Mg, Ca, Sr, Ba et Sc, tandis que M2 devrait être de préférence un ou plusieurs éléments sélectionnés parmi le groupe Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Zn, A1, Ga, Zr, Nb, Mo, Hf, Ta et W. De plus, il résulte de ces études sur le rapport de mélange de (M1M2)O3 et A1203, qu'il a été trouvé qu'aussi longtemps que le rapport de mélange est dans une gamme stipulée, c'est-à-dire, lorsque l'on considère la fraction molaire de (MlM2)O3 mentionné au-dessus  In addition, from the studies performed by the present inventors, such as the various elements in the pervoskite compound mentioned above (M1M2) O3, M1 should preferably be one or more elements selected from the group Y, Ce, Pr , Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho, Er, Yb, Mg, Ca, Sr, Ba and Sc, while M2 should preferably be one or more elements selected from the group Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Zn, Al, Ga, Zr, Nb, Mo, Hf, Ta and W. Moreover, it results from these studies on the mixing ratio of (M1M2) O3 and Al2O3, that it has been found that as long as the mixing ratio is within a stipulated range, that is, when considering the molar fraction of (MlM2) O3 mentioned above

comme étant a et la fraction de A1203 mentionné au-  as a and the fraction of A1203 mentioned above

dessus comme étant b, aussi longtemps que la relation parmi ces fractions molaires a et b sont 0,05<a<1,0, O<b<0,95 et a+b=l, alors les effets mentionnés au-dessus du dispositif de thermistance peuvent être réalisés de  above as b, as long as the relation among these mole fractions a and b are 0.05 <a <1.0, O <b <0.95 and a + b = 1, then the effects mentioned above thermistor device can be realized from

façon plus fiable.more reliable way.

De cette manière, ces fractions molaires a et b peuvent être modifiées sur une large gamme, ainsi la  In this way, these mole fractions a and b can be varied over a wide range, so the

valeur de résistance et les coefficients résistance-  resistance value and resistance coefficients

température peuvent être contrôlés sur une large gamme en mélangeant et calcinant de façon appropriée les deux  temperature can be controlled over a wide range by mixing and calcining appropriately the two

éléments (MM2)O3 et A1203.elements (MM2) O3 and A1203.

De plus, il a été déterminé de façon expérimentale que dans le corps fritté mixé mentionné au-dessus de (MlM2)O3.A1203, Y203 (oxyde d'yttrium) peut être inclus avec A1203 à la place A1203 seul, comme  In addition, it has been experimentally determined that in the mixed sintered body mentioned above (M1M2) O3.A1203, Y203 (yttrium oxide) can be included with A1203 instead of A1203 alone, as

complément à (MlM2)O3.complement to (MlM2) O3.

Sur la base de cette connaissance, un dispositif de thermistance fait d'un corps fritté mixte de (MlM2)O3.Y203.A1203 est fourni. Ce dispositif de thermistance peut avoir les mêmes effets que le dispositif de thermistance mentionné au-dessus fait de (MlM2)O3.A1203. De plus, il a été trouvé que aussi longtemps que la fraction molaire a de (MlM2)O3 et la fraction molaire totale b de Y203 et A1203, satisfont les relations 0,05 a<l,0, 0<b<0,95 et a+ b=l, alors les effets mentionnés au-dessus du dispositif de  Based on this knowledge, a thermistor device made of a mixed sintered body of (MlM2) O3.Y203.A1203 is provided. This thermistor device can have the same effects as the thermistor device mentioned above made of (MlM2) O3.A1203. Moreover, it has been found that as long as the mole fraction of (MnM 2) O 3 and the total mole fraction b of Y 2 O 3 and Al 2 O 3, satisfy the relationships 0.05 a <1.0 0 <0.95 and a + b = 1, then the effects mentioned above the device of

thermistance peuvent être obtenus de façon plus fiable.  thermistor can be obtained more reliably.

Dans un corps fritté, une aide au frittage est ajoutée afin d'améliorer les caractéristiques de frittage des granulés, et il résulte des études expérimentales sur diverses aides au frittage, qu'il a été trouvé que l'utilisation d'une aide au frittage consistant en du SiO2 et au moins un élément choisi parmi CaO, CaCO3 et CaSiO3, est préférable pour tous les corps de mélange frittés ci- dessus. Par ce moyen, un dispositif de thermistance à large gamme avec une densité de frittage supérieure et d'autres  In a sintered body, a sintering aid is added in order to improve the sintering characteristics of the granules, and experimental studies on various sintering aids have shown that it has been found that the use of a sintering aid consisting of SiO2 and at least one member selected from CaO, CaCO3 and CaSiO3, is preferable for all of the above sintered blend bodies. By this means, a wide range thermistor device with higher sintering density and other

caractéristiques supérieures, est obtenu.  higher characteristics, is obtained.

Tandis que les expériences se déroulaient, il a été trouvé que des capteurs de température qui utilisaient des dispositifs de thermistance faits du corps fritté mixte mentionné au-dessus de (MlM2)O3. A1203 ou du corps fritté mixte mentionné au-dessus de (MlM2)O3.Y203. A1203 (ci-après, les deux corps frittés mélangés pris ensemble sont appelés "corps frittés mélangés A") ont montré qu'une dispersion dans la précision des températures détectées parmi les capteurs fabriqués sur les niveaux de 20-30 C sur la gamme de températures partant de la température ambiante et  As the experiments unfolded, it was found that temperature sensors that used thermistor devices made of the mixed sintered body mentioned above (MlM2) O3. A1203 or mixed sintered body mentioned above (MlM2) O3.Y203. A1203 (hereinafter, the two mixed sintered bodies taken together are referred to as "mixed sintered bodies A") have shown that a dispersion in the accuracy of the temperatures detected among the sensors manufactured on the levels of 20-30 C over the range of temperatures starting from the ambient temperature and

allant jusau'à 1000 C.up to 1000 C.

Ici, ce corps fritté mixte A est normalement obtenu en calcinant les oxydes de Ml et M2 pour obtenir du (M1M2)03 (la première étape de préparation) qui est  Here, this mixed sintered body A is normally obtained by calcining the oxides of M1 and M2 to obtain (M1M2) O3 (the first preparation step) which is

ensuite mélangé avec du A1203, ou du Y203 et A1203 (ci-  then mixed with A1203, or Y203 and A1203 (hereinafter

après abrégé comme "A1203, etc."), puis moulée et frittée  after abbreviated as "A1203, etc."), then molded and sintered

(la seconde étape de préparation).  (the second stage of preparation).

Il est à noter que dans le cas o Y est inclus dans M1 dans le corps fritté mixte A de (M1M2)03.Y203.A1203, un excès de Y203 peut être ajouté à l'avance comme l'ingrédient de Ml dans la première étape de préparation pour obtenir du (MlM2)03.Y203 à la place de (M1M2)03. Dans ce cas, une quantité appropriée de A1203 est mélangée avec du (M1M2)03.Y203 obtenu durant la calcination afin de réaliser un corps fritté mixte A qui, à la fin, comporte le rapport de composition désiré. Ici, du point de vue de la nouvelle augmentation de la précision de température (réduire la dispersion dans la précision de température détectée parmi les capteurs), des enquêtes ont été effectuées sous diverses conditions dans les étapes de fabrication de dispositifs de thermistance telles que la formulation, le moulage,  It should be noted that in the case where Y is included in M1 in the mixed sintered body A of (M1M2) 03.Y203.A1203, an excess of Y203 can be added in advance as the ingredient of M1 in the first preparation step to obtain (MlM2) 03.Y203 in place of (M1M2) 03. In this case, an appropriate amount of Al 2 O 3 is mixed with (M 1 M 2) O 3 .Y 2 O 3 obtained during calcination to provide a mixed sintered body A which ultimately has the desired composition ratio. Here, from the point of view of the further increase in temperature accuracy (reducing the dispersion in the detected temperature accuracy among the sensors), investigations were made under various conditions in the steps of making thermistor devices such as the formulation, molding,

le chaufage (cuisson) et d'autres conditions.  heating (cooking) and other conditions.

Il en résulte qu'il a été trouvé que la dispersion mentionnée au- dessus dans la précision de température augmente lorsque la dimension moyenne de grains de (M1M2)03 ou de (M1M2)03.Y203 obtenus par calcination (ci-après appelé "calcine A" quand pris ensemble) est plus grande que la dimension de grains moyenne de A1203, etc., de sorte que les deux ne se mélangent pas de façon uniforme et qu'il y a une dispersion dans la composition du corps fritté mixte A, augmentant finalement la dispersion dans la résistance du dispositif de thermistance. Par conséquent des études ont été effectuées du point de vue du fait que la dimension de grains moyenne de la calcine A peut être faite pour être la même que la dimension de grains moyenne de A1203 dans l'état mélangé avant le frittage, puis un mélange uniforme de la composition a été réalise. Il en résulte qu'il a été déterminé de façon expérimentale que lorsque la calcine A est mélangée avec du A1203 etc., et moulue, et que la dimension de grains moyenne de ce mélange est amenée au-dessous de la dimension de grains moyenne du A1203 etc. avant le mélange, cela est suffisant. A savoir, en utilisant une méthode de fabrication qui comporte ce type de broyage (la première méthode de fabrication), un mélange uniforme de la calcine A avec du A1203, etc. est effectué par broyage en grains fins, et ainsi les fluctuations dans la composition du corps fritté mixte A sont réduites de sorte que la dispersion dans la valeur de résistance du dispositif de thermistance peut être réduite. Par conséquent, un dispositif de thermistance à large gamme avec une meilleure précision de température (dispersion abaissée dans la précision de température  As a result, it has been found that the aforementioned dispersion in the temperature accuracy increases when the average grain size of (M1M2) 03 or (M1M2) 03.Y203 obtained by calcination (hereinafter referred to as " calcine A "when taken together) is larger than the average grain size of Al 2 O 3, etc., so that the two do not mix uniformly and there is a dispersion in the composition of the mixed sintered body A , finally increasing the dispersion in the resistance of the thermistor device. Therefore, studies have been made from the point of view that the average grain size of calcine A can be made to be the same as the average grain size of Al 2 O 3 in the mixed state prior to sintering, and then a mixture uniform of the composition was realized. As a result, it has been determined experimentally that when calcine A is mixed with Al 2 O 3, etc., and ground, and that the average grain size of this mixture is brought below the average grain size of the A1203 etc. before mixing, this is enough. Namely, using a manufacturing method that includes this type of grinding (the first method of manufacture), a uniform mixture of calcine A with A1203, etc. is carried out by fine grain milling, and thus the fluctuations in the composition of the mixed sintered body A are reduced so that the dispersion in the resistance value of the thermistor device can be reduced. Therefore, a wide range thermistor device with better temperature accuracy (lower dispersion in temperature accuracy

entre des capteurs) peut être fourni.  between sensors) can be provided.

De plus, du point de vue de l'augmentation de la précision de température détectée d'un capteur de température qui utilise un dispositif de thermistance fait à partir du corps fritté mixte A, des enquêtes ont été menées quant aux méthodes de fabrication de dispositifs de thermistance. Il en résulte qu'il a été trouvé que la dispersion dans la composition de calcine A a affecté finalement la dispersion dans la composition du corps fritté mixte A (à savoir, la dispersion dans la  In addition, from the point of view of increasing the detected temperature accuracy of a temperature sensor that uses a thermistor device made from the mixed sintered body A, investigations have been conducted as to the methods of manufacturing devices. thermistor. As a result, it was found that the dispersion in the calcin A composition ultimately affected the dispersion in the composition of the mixed sintered body A (ie, the dispersion in the

valeur de résistance des dispositifs de thermistance).  resistance value of the thermistor devices).

Ici, nous présentons un exemple d'une étude de la cause de dispersion dans la composition de calcine A elle-même, dans le cas o une calcine A de Y(Cr0,5Mn0,5)03 est utilisée, c'est-à-dire dans le cas  Here, we present an example of a study of the cause of dispersion in the composition of calcine A itself, in the case where a calcine A of Y (Cr0.5Mn0.5) 03 is used, ie say in the case

dans lequel Ml = Y et M2 = Cr, et Mn dans (MlM2)O3.  wherein M1 = Y and M2 = Cr, and Mn in (M1M2) O3.

La préparation de Y(Cr0, 5MnO 5)O3 peut par exemple être effectuée comme suit (voir Figure 4). Le matériau Ml Y203 (dimension de grains moyenne 1 um) et les matériaux M2 Cr203 (dimension de grains moyenne 4 %m) et Mn203 (dimension de grains moyenne 7 pm) sont pesés pour donner un rapport molaire de Y:Cr:Mn = 1:0,5:0,5, mélangés et moulus dans un broyeur à billes conventionnel ou équivalent, et ce mélange est soumis à une calcination à 1000 C ou plus, pour obtenir  The preparation of Y (Cr0.5MnO5) O3 may for example be carried out as follows (see Figure 4). The material Ml Y203 (average grain size 1 μm) and the materials M2 Cr203 (average grain size 4% m) and Mn203 (average grain size 7 μm) are weighed to give a molar ratio of Y: Cr: Mn = 1: 0.5: 0.5, mixed and milled in a conventional ball mill or equivalent, and this mixture is calcined at 1000 C or higher, to obtain

du Y(Cr0,5Mn0,5)03.Y (Cr 0.5Mn 0.5) 03.

Ici, la limite basse de la dimension de grains moyen après mélange et broyage qui peut être réalisée avec un broyeur à billes ou équivalent, est approximativement de 2jm, et la dimension de grains moyen de Cr203 et Mn203 est plus grande que la dimension  Here, the low limit of the average grain size after mixing and grinding that can be achieved with a ball mill or the like, is approximately 2 μm, and the average grain size of Cr 2 O 3 and Mn 2 O 3 is larger than the dimension.

de grains moyen de Y203.average grain size of Y203.

Par conséquent, du fait des différences dans la dimension de grains moyen des matériaux bruts individuels Y203, Cr203 et Mn203, le Y(Cro,5MnO,5)03 obtenu par la réaction de calcination du mélange de Y203 et Cr203 et Mn203 est une composition qui diverge du rapport moléculaire idéal Y:Cr:Mn = 1:0,5:0,5, mais c'est un mélange de diverses compositions allant d'une composition de Y:Cr:Mn = 1:0,6:0,4 à une composition de  Therefore, because of the differences in the average grain size of the individual raw materials Y203, Cr203 and Mn203, the Y (Cro, 5MnO, 5) O3 obtained by the calcination reaction of the mixture of Y203 and Cr203 and Mn203 is a composition. which diverges from the ideal molecular ratio Y: Cr: Mn = 1: 0.5: 0.5, but it is a mixture of various compositions ranging from a composition of Y: Cr: Mn = 1: 0.6: 0 , 4 to a composition of

Y:Cr:Mn = 1:0,4:0,6.Y: Cr: Mn = 1: 0.4: 0.6.

Chacune de ces compositions dans la gamme d'une composition de Y:Cr:Mn = 1:0,6:0,4 à une composition de Y:Cr:Mn = 1:0,4:0,6 comporte une valeur de résistance et un coefficient de résistance-température (valeur À) différents, de sorte que la résistance varie de dispositif en dispositif, devenant la cause de  Each of these compositions in the range of a composition of Y: Cr: Mn = 1: 0.6: 0.4 to a composition of Y: Cr: Mn = 1: 0.4: 0.6 has a value of resistance and a different coefficient of resistance-temperature (value Δ), so that resistance varies from device to device, becoming the cause of

dispersion dans les valeurs de résistance de dispositif.  dispersion in the device resistance values.

De plus, dans le cas o une partie des matériaux de départ de Y203, Cr203 et Mn203 (la partie divergent du rapport de composition idéale) reste comme matériaux n'ayant pas réagi, cela deviendra la cause de dispersion  Moreover, in the case where some of the starting materials of Y 2 O 3, Cr 2 O 3 and Mn 2 O 3 (the diverging portion of the ideal composition ratio) remain as unreacted materials, this will become the cause of dispersion.

dans les valeurs de résistance de dispositif.  in the device resistance values.

Ici, il résulte des études des conditions de mélange et de broyage dans la première étape de préparation pour obtenir la calcine A, qu'il a été déterminé de façon expérimentale qu'en mélangeant et broyant les matériaux M2 avec les matériaux Ml dans un mélangeur de milieux ou équivalent, qui comporte une capacité de broyage plus grande que celle d'un broyeur à billes, si la dimension de grains moyen du mélange des matériaux bruts après mélange et broyage (le mélange moulu) est amenée au-dessous de la dimension de grains  Here, it results from studies of mixing and grinding conditions in the first preparation step to obtain calcine A, that it has been experimentally determined that by mixing and grinding the M2 materials with the Ml materials in a blender of medium or equivalent, which has a greater milling capacity than that of a ball mill, if the average grain size of the mixture of the raw materials after mixing and grinding (the ground mixture) is brought below the dimension of grains

moyen d'un matériau M1 avant le mélange et aussi au-  medium of M1 material before mixing and also

dessous de 0,5 pun, alors les difficultés mentionnées au-  below 0.5 pun, then the difficulties mentioned above

dessus peuvent être supprimées, et une précision de température meilleure que le niveau pratique de 10 C peut être atteinte. A savoir, une méthode de fabrication qui comporte ce type de broyage (la seconde méthode de fabrication) est caractérisée en ce que, durant l'étape de mélange dans laquelle le matériau M1 et le matériau M2 sont mélangés et moulus, le matériau M2 est mélangé et moulu avec le matériau Ml, et ce mélange moulu est moulu de façon à ce que sa dimension de grains moyen soit plus petite que la dimension de grains moyen des matériaux M1 avant le mélange et aussi inférieure à 0,5 pm, alors le calcinage est effectué pour obtenir une calcine qui est mélangée avec du A1203, etc., moulée  above can be suppressed, and better temperature accuracy than the practical level of 10 C can be achieved. Namely, a manufacturing method that includes this type of grinding (the second method of manufacture) is characterized in that during the mixing step in which the material M1 and the material M2 are mixed and ground, the material M2 is mixed and milled with the material M1, and this ground mixture is ground so that its average grain size is smaller than the average grain size of the materials M1 before mixing and also less than 0.5 μm, then the calcination is performed to obtain a calcine which is mixed with Al203, etc., molded

dans la forme prescrite et frittée.  in the prescribed form and sintered.

La réalisation d'une dimension de grain uniforme pour les matériaux Ml et M2 de cette manière, a pour but de réaliser un mélange uniforme de la composition de la calcine pour réduire la dispersion dans la composition de la calcine et supprimer la présence de parties n'ayant pas réagi du matériau brut. Par conséquent, en combinant la première méthode de fabrication avec la seconde méthode de fabrication, les effets avantageux (méritoires) des deux méthodes de fabrication peuvent être combinés, et la dispersion dans la valeur de résistance du dispositif de thermistance peut être  Achieving a uniform grain size for materials M1 and M2 in this manner is intended to achieve a uniform mixture of the calcine composition to reduce dispersion in the calcine composition and suppress the presence of n unreacted raw material. Therefore, by combining the first method of manufacture with the second method of manufacture, the advantageous (meritorious) effects of the two methods of manufacture can be combined, and the dispersion in the resistance value of the thermistor device can be

réduite encore plus.reduced even more.

Comme cela a été dit dans la description de  As was stated in the description of

l'art antérieur ci-dessus, les présents inventeurs ont procédé à des études de différentes étapes dans la fabrication des dispositifs de thermistance du point de vue de l'amélioration de la précision de température des capteurs de température qui utilisent des dispositifs de thermistance. Ils ont découvert que le mélange uniforme de matériaux bruts n'est pas obtenu dans la méthode de phase solide conventionnelle du fait de la dimension moyenne de grains importante des matériaux bruts, et qu'il y a non-uniformité de la composition après le calcinage, le frittage et autres traitements de températures. De plus, il résulte d'autres études que dans un dispositif de thermistance formé après les réactions thermiques dans les traitements de chaleur mentionnés au-dessus, les inventeurs ont trouvé que la dispersion dans la composition des phases cristallines, qui domine principalement la valeur de résistance en particulier, affecte finalement la dispersion de la valeur de résistance des dispositifs de thermistance. A ce propos, le cas de la fabrication d'un dispositif de thermistance à partir d'un corps fritté mixte (calcine mixte) de 38Y(Cr0,5MnO,5)O3.62Y203 au moyen de la méthode à phase  In the above prior art, the present inventors have carried out studies of different steps in the manufacture of thermistor devices from the point of view of improving the temperature accuracy of temperature sensors that utilize thermistor devices. They discovered that the uniform mixture of raw materials is not obtained in the conventional solid phase method because of the large average grain size of the raw materials, and that there is non-uniformity of the composition after calcining , sintering and other temperature treatments. In addition, it results from other studies that in a thermistor device formed after the thermal reactions in the heat treatments mentioned above, the inventors have found that the dispersion in the composition of the crystalline phases, which predominantly dominates the value of resistance in particular ultimately affects the dispersion of the resistance value of the thermistor devices. In this connection, the case of the manufacture of a thermistor device from a mixed sintered body (mixed calcine) of 38Y (Cr 0.5MnO, 5) O 3 .62Y 2 O 3 using the phase method

solide conventionnelle sera décrite comme exemple.  conventional solid will be described as an example.

Dans 38Y(Cr0,5Mn0,5)03.62Y203, le Y203 (yttria, oxyde d'yttrium) comporte des caractéristiques proches de celles d'un isolant, de sorte que la phase cristalline qui domine principalement la valeur de résistance (phase de domination de la valeur de résistance) est le Y(Cr0,5Mn0,5)O3 qui comporte une structure pervoskite. Ainsi, la dispersion dans la composition de Y(Cr0o5Mn0, 5)O3 est le problème. Ce 38Y(Cro0,5Mn0,5)O3.62Y203 peut parexemple être préparé de  In 38Y (Cr0.5Mn0.5) 03.62Y203, Y203 (yttria, yttrium oxide) has characteristics close to those of an insulator, so that the crystalline phase which predominantly dominates the resistance value (domination phase of the resistance value) is the Y (Cr0.5Mn0.5) O3 which has a pervoskite structure. Thus, the dispersion in the composition of Y (CrO 5 MnO 5) O 3 is the problem. This 38Y (Cro0.5Mn0.5) O3.62Y203 may for example be prepared from

la manière suivante (voir Figure 8).  the following way (see Figure 8).

D'abord, dans la méthode à phase solide mentionnée au- dessus, le matériau brut d'oxyde Y203 (dimension moyenne de grains d'approximativement 1 lumn) et les autres matériaux bruts Cr203 (dimension moyenne de grains d'approximativement 4 pum) et Mn203 (dimension moyenne de grains d'approximativement 7 pm) sont utilisés comme matériaux de départ. Puis, dans l'étape de formulation, les matériaux de départ de Y203, Cr203 et Mn203 sont pesés de sorte que la composition finale du dispositif de thermistance puisse devenir 38Y(Cro0,5Mn0,5)O3.62Y203. Puis les matériaux pesés sont mélangés et moulus dans un broyeur à billes ou équivalent, et le mélange des matériaux de départ est sujet à la calcination à 1000 C ou plus, pour obtenir  First, in the solid-phase method mentioned above, the Y203 oxide raw material (average grain size of approximately 1 lumen) and the other Cr203 raw materials (average grain size of approximately 4 μm) and Mn203 (average grain size of approximately 7 μm) are used as starting materials. Then, in the formulation step, Y203, Cr203 and Mn203 starting materials are weighed so that the final composition of the thermistor device can become 38Y (Cro0.5Mn0.5) O3.62Y203. Then the weighed materials are mixed and milled in a ball mill or equivalent, and the mixture of starting materials is subjected to calcination at 1000 C or higher, to obtain

une calcine de 38Y(Cr0,5Mn0,5)03.62Y203.  a calcine of 38Y (Cr0.5Mn0.5) 03.62Y203.

Ici, du fait de la différence dans la dimension de grains parmi les matériaux de départ de Y203, Cr203 et Mn203, des limitations dans la capacité de mélange et de broyage du broyeur à bille ou équivalent, le Y(Cr0,5Mn0,5) qui est la phase dominant la valeur de résistance dans la calcine mentionnée au-dessus, est une composition qui diverge de la composition idéale idéal (Y:Cr:Mn = 1:0,5:0,5) et est une composition consistant en des grains de cristaux de différentes compositions allant d'une composition de Y:Cr:Mn = 1:0,6:0,4 à une  Here, because of the difference in the grain size among Y203, Cr203 and Mn203 starting materials, limitations in the mixing and milling capacity of the ball mill or equivalent, Y (Cr 0.5Mn 0.5) which is the dominant phase of the resistance value in the calcine mentioned above, is a composition which diverges from the ideal ideal composition (Y: Cr: Mn = 1: 0.5: 0.5) and is a composition consisting of crystal grains of different compositions ranging from a composition of Y: Cr: Mn = 1: 0.6: 0.4 to one

composition de Y:Cr:Mn = 1:0,4:0,6.composition of Y: Cr: Mn = 1: 0.4: 0.6.

Chacune de ces compositions dans la gamme d'une composition de Y:Cr:Mn = 1:0,6:0,4 à une composition de Y:Cr:Mn = 1:0,4:0,6 comporte une valeur de résistance et un coefficient de résistance-température (valeur P) différents, ainsi la résistance varie d'un dispositif à l'autre. De plus, dans le cas o une partie des matériaux de départ de Y203, Cr203 et Mn203 (la partie divergeant du rapport de composition idéale) reste comme matériaux n'ayant pas réagi, cela deviendrait la cause de dispersion dans les valeurs de résistance de dispositif. De plus, la dispersion dans les valeurs de résistance des dispositifs du fait de la dispersion mentionnée au-dessus dans la composition survient dans le Y(Cro,5Mn0,5)O3 dans la calcine, ainsi la même chose peut être dite dans le cas o la composition du dispositif de thermistance consistait en des grains de  Each of these compositions in the range of a composition of Y: Cr: Mn = 1: 0.6: 0.4 to a composition of Y: Cr: Mn = 1: 0.4: 0.6 has a value of resistance and a coefficient of resistance-temperature (value P) different, so the resistance varies from one device to another. Moreover, in the case where some of the starting materials of Y 2 O 3, Cr 2 O 3 and Mn 2 O 3 (the diverging part of the ideal composition ratio) remain as unreacted materials, this would become the cause of dispersion in the resistance values of device. In addition, the dispersion in the resistance values of the devices due to the aforementioned dispersion in the composition occurs in Y (Cro, 5Mn0.5) O3 in calcine, so the same can be said in the case the composition of the thermistor device consisted of

cristal de Y(Cro,5Mno,5)O3 ou l'équivalent seul.  crystal of Y (Cro, 5Mno, 5) O3 or the equivalent alone.

Ici, les présents inventeurs ont pensé qu'afin de réduire la dispersion dans la composition de la calcine, la dispersion mentionnée au-dessus dans la composition, la présence de matériaux bruts n'ayant pas réagi et d'autres problèmes peuvent être résolus dans les étapes avant la calcination. De plus, les présents inventeurs se sont concentrés sur la mise en euvre du mélange de multiples matériaux bruts qui ne sont pas dans l'état de phase solide pour les oxydes de métal mais plutôt dans l'état de phase liquide des composés précurseurs qui sont facilement dispersés ou dissous  Here, the present inventors have thought that in order to reduce the dispersion in the calcine composition, the dispersion mentioned above in the composition, the presence of unreacted raw materials and other problems can be solved in the steps before calcination. In addition, the present inventors have focused on the use of the mixture of multiple raw materials that are not in the solid phase state for the metal oxides but rather in the liquid phase state of the precursor compounds which are easily dispersed or dissolved

dans du solvant.in solvent.

Sur la base de cette réflexion, le résultat des multiples expériences et études concernant le 38Y(Cr0,5Mn0,5)O3.62Y203 mentionné au-dessus et, de plus, des dispositifs de thermistance faits de divers corps frittés, les présents inventeurs ont trouvé qu'en utilisant des matériaux obtenus par l'ajustement de la composition des composés précurseurs dans une méthode en phase liquide pour fabriquer un dispositif de thermistance, la composition des grains de cristal peut être rendue uniforme, la dispersion de valeur de résistance peut être réduite et la précision de température du capteur de température peut être améliorée. A savoir, dans le second aspect de la présente invention, une pluralité de composés précurseurs qui contiennent des éléments métalliques, est mélangée dans la phase liquide pour former un mélange liquide, et un agent de précipitation (précipitant) de sel métallique est ajouté à ce mélange liquide pour précipiter une  On the basis of this reflection, the result of the multiple experiments and studies concerning the 38Y (Cr0.5Mn0.5) O3.62Y203 mentioned above and, in addition, thermistor devices made of various sintered bodies, the present inventors have found that by using materials obtained by adjusting the composition of the precursor compounds in a liquid phase method to make a thermistor device, the composition of the crystal grains can be made uniform, the resistance value dispersion can be reduced and the temperature accuracy of the temperature sensor can be improved. That is, in the second aspect of the present invention, a plurality of precursor compounds that contain metal elements are mixed in the liquid phase to form a liquid mixture, and a metal salt precipitant (precipitant) is added to the liquid phase. liquid mixture to precipitate a

gélatine contenant une pluralité d'éléments métalliques.  gelatin containing a plurality of metallic elements.

Ensuite, en séchant et chauffant cette précipitation, le matériau brut en poudre qui est une composition de poudres contenant une pluralité d'éléments métalliques est formé, puis ce matériau brut en poudre est fritté pour obtenir un dispositif de thermistance en tant que  Then, by drying and heating this precipitation, the powdered raw material which is a powder composition containing a plurality of metal elements is formed, and then this powdered raw material is sintered to obtain a thermistor device as a

corps fritté.sintered body.

Ainsi, puisque la pluralité de composés précurseurs se dispersent ou se dissolvent dans la phase liquide, ils ne sont pas affectés par la dimension de grains moyen comme dans le cas de la méthode en phase solide, et peuvent être mélangés dans le rapport de composition désiré dans l'état de grains fins de l'ordre moléculaire ou atomique, puisque les composés précurseurs variés peuvent être mélangés de façon uniforme. Par conséquent, la composition a été finalement obtenue comme une poudre, c'est-à-dire que le matériau brut en poudre contient les éléments métalliques mélangés au rapport de composition désiré de l'ordre atomique ou moléculaire, de sorte que les réactions thermiques dans l'eau de traitement de  Thus, since the plurality of precursor compounds disperse or dissolve in the liquid phase, they are unaffected by the average grain size as in the solid phase method, and may be mixed in the desired composition ratio in the state of fine grains of the molecular or atomic order, since the various precursor compounds can be mixed uniformly. As a result, the composition was finally obtained as a powder, i.e., the powdered raw material contains the metallic elements mixed with the desired composition ratio of the atomic or molecular order, so that the thermal reactions in the treatment water of

chauffage suivants sont faits de façon uniforme.  subsequent heating are done in a uniform way.

Par consequent, finalement, dans un dispositif de thermistance fabriqué comme un corps fritté, la dispersion dans la composition des grains de cristal qui constituent le dispositif de thermistance peuvent être supprimes. De plus, les capteurs de température qui utilisent des dispositifs de thermistance fabriqués au moyen de la méthode de fabrication selon la présente invention, auront une dispersion plus petite dans la valeur de résistance d'un dispositif à l'autre, ainsi la précision de température peut être améliorée à partir du niveau conventionnel (par exemple, 20-30 C de la température ambiante à 600 C) à un niveau plus haut (par exemple 2,5 C de la température ambiante à 600 C). Dans le procédé de formation du mélange liquide mentionné au-dessus, une pluralité de composés précurseurs sont mélangés dans une phase solvant avec un composé complexant qui contient au moins deux groupes carboxyles comme sites de coordination et au moins un autre site de coordination pour former un mélange solvant. Dans ce mélange solvant, la pluralité des composés précurseurs est faite pour réagir avec le composé complexant mentionné au-dessus pour former un composé complexe métallique composite avec au moins un  Therefore, finally, in a thermistor device manufactured as a sintered body, the dispersion in the composition of the crystal grains that constitute the thermistor device can be suppressed. In addition, temperature sensors that utilize thermistor devices manufactured using the manufacturing method of the present invention will have a smaller dispersion in the resistance value from one device to another, thus the temperature accuracy. can be improved from the conventional level (for example, 20-30 C from room temperature to 600 C) to a higher level (eg 2.5 C from room temperature to 600 C). In the method of forming the liquid mixture mentioned above, a plurality of precursor compounds are mixed in a solvent phase with a complexing compound which contains at least two carboxyl groups as coordination sites and at least one other coordination site to form a solvent mixture. In this solvent mixture, the plurality of precursor compounds is made to react with the above-mentioned complexing compound to form a composite metal complex compound with at least one

élément métallique coordonné.coordinated metal element.

Ainsi, un mélange liquide est formé dans lequel est dissous ou dispersé à l'intérieur, un composé complexe métallique composite. Par la suite, de la même manière que dans la méthode de fabrication mentionnée au- dessus, un précipité gélatineux contenant le composé complexe métallique composite ou un de ses polymères est obtenu comme sel métallique et, le matériau brut est obtenu à partir de ce précipité. Ici, de l'acide éthylènediaminetétraacétique (EDTA) ou de l'acide citrique, est utilisée comme composé complexant  Thus, a liquid mixture is formed wherein is dissolved or dispersed therein a composite metal complex compound. Subsequently, in the same manner as in the manufacturing method mentioned above, a gelatinous precipitate containing the composite metal complex compound or one of its polymers is obtained as the metal salt and the raw material is obtained from this precipitate. . Here, ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA) or citric acid is used as the complexing compound

mentionné au-dessus.mentioned above.

Sur la base des résultats des études des présents inventeurs, les composés précurseurs mentionnés au-dessus utilisés peuvent être un ou plusieurs composés organométalliques sélectionnés parmi le groupe d'alkoxydes de métal, d'acétylacétonate de métal ou de carboxylate de métal, ou un ou plusieurs composés de métal inorganiques sont sélectionnés parmi les groupes de composés nitrates, composés oxynitrates, chlorures et  Based on the results of the studies of the present inventors, the precursor compounds mentioned above may be one or more organometallic compounds selected from the group of metal alkoxides, metal acetylacetonate or metal carboxylate, or one or more several inorganic metal compounds are selected from the group of nitrate compounds, oxynitrate compounds, chlorides and

composés d'oxychlorures.oxychloride compounds.

De plus, il est possible de mélanger une pluralité de composés précurseurs contenant un élément métal dans la phase liquide pour former un mélange liquide et à partir de ce mélange liquide de former un matériau brut en poudre qui soit une composition en poudre contenant une pluralité d'éléments métal, et ensuite de fritter ce matériau brut en poudre pour obtenir un dispositif de thermistance comme corps fritté (aspect 3). De façon spécifique, cette méthode peut être mise en oeuvre par des méthodes en phase liquide chimique ainsi que par des méthodes de pyrolyse par pulvérisation, des méthodes de pyrolyse, des méthodes de séchage par congélation (lyophilisation), des méthodes de combustion de solvants ou autres méthodes à phase liquide physiques, et des effets avantageux similaires à  In addition, it is possible to mix a plurality of precursor compounds containing a metal element in the liquid phase to form a liquid mixture and from this liquid mixture to form a powdered raw material which is a powder composition containing a plurality of metal elements, and then sintering this powdered raw material to obtain a thermistor device as a sintered body (aspect 3). Specifically, this method can be carried out by chemical liquid phase methods as well as by spray pyrolysis methods, pyrolysis methods, freeze drying methods (freeze drying), solvent combustion methods or other physical liquid phase methods, and advantageous effects similar to

ceux de la méthode de fabrication selon l'aspect 2 ci-  those of the manufacturing method according to aspect 2

dessus, peuvent être obtenus.above, can be obtained.

Ici, sur utilisation d'un microscope électronique à transmission (TEM) pour observer le dispositif de thermistance obtenu par la méthode de fabrication du second ou du troisième aspect (la méthode à phase liquide), la dimension des grains principaux de divers grains de cristal (par exemple, des grains cristallins de Y(Cro0,5Mn0,5)O3 et Y203 dans l'exemple mentionné au-dessus de 39Y(Cr0,5Mno,5)03.62Y203) se sont trouvés être plus petits que 1 um, étant de très petits grains de l'ordre de plusieurs nanomètres (nm) à plusieurs centaines de nanomètres (nm) qui étaient  Here, using a transmission electron microscope (TEM) to observe the thermistor device obtained by the manufacturing method of the second or third aspect (the liquid phase method), the size of the main grains of various crystal grains (For example, crystalline grains of Y (Cro0.5Mn0.5) O3 and Y203 in the above-mentioned example above 39Y (Cr0.5Mno, 5) 03.62Y203) were found to be smaller than 1μm, being very small grains of the order of several nanometers (nm) to several hundred nanometers (nm) that were

uniformément dispersés ou mélangés dans la composition.  uniformly dispersed or mixed in the composition.

Un capteur de température peut être obtenu en utilisant un tel dispositif de thermistance dont la dispersion dans la composition est supprimée du fait de  A temperature sensor can be obtained by using such a thermistor device whose dispersion in the composition is suppressed due to

telles finesses de grains.such finesse of grains.

En particulier, lorsque le point de brisure de la préparation de la composition des composés précurseurs par une méthode à phase liquide est  In particular, when the breaking point of the preparation of the composition of the precursor compounds by a liquid phase method is

À 2775537At 2775537

appliquée à la méthode de fabrication d'un dispositif de thermistance consistant en un corps fritté mixte de (MlM2)O3.Y203 qui est un mélange de la composition (MlM2)O3 et de Y203 (o Ml est au moins un ou plusieurs éléments sélectionnés parmi les éléments du Groupe 2A ou du Groupe 3A du Tableau Périodique, à l'exeption de La, et M2 est au moins un ou plusieurs éléments sélectionnés parmi les éléments des Groupes 2B, du Groupe 3B, du Groupe 4A, du Groupe 5A, du Groupe 6A du Groupe 7A ou du Groupe 8 du Tableau Périodique), une méthode a été inventée dans lequel une pluralité de composés précurseurs contenant les éléments qui constituent le dispositif de thermistance et un agent formant complexe sont mélangés dans la phase liquide pour former un mélange liquide, ladite pluralité de composés précurseurs et ledit agent formant complexe réagissent dans ledit mélange liquide pour former un composé complexe composite, puis un agent polymérisant est ajouté audit composé complexe composite pour former un polymère, ledit polymère est séché et chauffé pour obtenir les matériaux bruts en poudre qui constituent le dispositif de thermistance, et lesdits matériaux bruts en poudre sont frittés pour obtenir un dispositif de  applied to the method of manufacturing a thermistor device consisting of a mixed sintered body of (MlM2) O3.Y203 which is a mixture of the composition (MlM2) O3 and Y203 (where M1 is at least one or more selected elements among the elements of Group 2A or Group 3A of the Periodic Table, with the exception of La, and M2 is at least one or more elements selected from the elements of Groups 2B, Group 3B, Group 4A, Group 5A, of group 6A of Group 7A or Group 8 of the Periodic Table), a method has been invented in which a plurality of precursor compounds containing the elements which constitute the thermistor device and a complexing agent are mixed in the liquid phase to form a liquid mixture, said plurality of precursor compounds and said complexing agent react in said liquid mixture to form a composite complex compound, and then a polymerizing agent is added said composite compound complex to form a polymer, said polymer is dried and heated to obtain the raw material powder constituting the thermistor device, and said powder raw materials are sintered to obtain a device

thermistance comme corps fritté mixte de (MlM2)O2.Y203.  thermistor as mixed sintered body of (MlM2) O2.Y203.

Au moyen de cette méthode, la pluralité de composés précurseurs sont dissous ou dispersés dans la phase liquide de sorte que, dans un dispositif de thermistance fabriqué comme corps fritté mixte, la dispersion dans la composition des grains cristallins qui constitue le dispositif de thermistance peut être supprimée. De plus, les capteurs de température qui utilisent des dispositifs de thermistance fabriqués au moyen de cette méthode de fabrication auront une plus petite dispersion dans la valeur de résistance de dispositif en dispositif, ainsi la précision de température peut être améliorée à partir du niveau conventionnel (par exemple, 20-30 C, de la température ambiante à 600 C) à un niveau plus haut (par exemple,  By this method, the plurality of precursor compounds are dissolved or dispersed in the liquid phase so that, in a thermistor device manufactured as a mixed sintered body, the dispersion in the crystal grain composition which constitutes the thermistor device can be deleted. In addition, temperature sensors that use thermistor devices manufactured using this fabrication method will have a smaller dispersion in the device-to-device resistance value, so temperature accuracy can be improved from the conventional level ( for example, 20-30 C, from room temperature to 600 C) at a higher level (e.g.

1,5-5 C, de la température ambiante à 600 C).   1.5-5 C, from room temperature to 600 C).

Il est préférable que de l'acide citrique soit utilisée comme agent formant complexe mentionné au- dessus et que de l'éthylène glycol soit utilisé comme agent polymérisant, et si e est le nombre de moles d'acide citrique et f est le nombre total de moles d'éléments qui constituent le dispositif de thermistance, alors il est préférable que la relation  It is preferred that citric acid be used as a complexing agent mentioned above and that ethylene glycol be used as the polymerizing agent, and if e is the number of moles of citric acid and f is the total number of moles of elements that make up the thermistor device, so it's best that the relationship

l<e/f<30 soit satisfaite.l <e / f <30 be satisfied.

Selon cette méthode de fabrication, dans l'étape de formation du composé complexe composite, une réaction complexante survient dans laquelle les ions des éléments qui 'constituent le dispositif de thermistance sont coordonnés au niveau des sites de coordination de l'acide citrique dans la phase liquide pour former le composé complexe composite. Par la suite, le composé complexe composite est mélangé avec de l'éthylène glycol comme agent polymérisant, et chauffé de sorte qu'ils réagissent pour former un polymère et les matériaux  According to this method of manufacture, in the step of forming the composite complex compound, a complexing reaction occurs in which the ions of the elements which constitute the thermistor device are coordinated at the sites of coordination of the citric acid in the phase. liquid to form the composite complex compound. Subsequently, the composite complex compound is mixed with ethylene glycol as a curing agent, and heated so that they react to form a polymer and the materials

bruts en poudre sont obtenus à partir de ce polymère.  crude powder is obtained from this polymer.

Dans les études, les présents inventeurs ont trouvé qu'en augmentant la concentration de l'acide citrique ajouté afin d'obtenir le composé complexe composite mentionné au-dessus, la composition peut être rendue plus uniforme. A savoir, en ajustant la  In the studies, the present inventors have found that by increasing the concentration of added citric acid to obtain the composite complex compound mentioned above, the composition can be made more uniform. Namely, by adjusting the

concentration d'acide citrique à la gamme mentionnée au-  concentration of citric acid in the range mentioned

dessus de 1<e/f<30, les dispositifs de thermistance ayant une bonne précision de température peuvent être obtenus. Il est à noter que dans le cas o la concentration en acide citrique est plus grande que fois en poids (une concentration 30 fois le nombre total de moles des éléments constituant le dispositif de thermistance), alors le phénomène d'association et  above 1 <e / f <30, thermistor devices having good temperature accuracy can be obtained. It should be noted that in the case where the concentration of citric acid is greater than times by weight (a concentration 30 times the total number of moles of the elements constituting the thermistor device), then the phenomenon of association and

À 2775537At 2775537

d'agglutination des molécules d'acide citrique survient, et le polymère obtenu par la suite devient une solution colloïdale (sol colloïdale), ainsi une partie des éléments constituant du dispositif de thermistance restera indissociée dans la phase liquide, créant des problèmes additionnels tels que la divergence dans la composition. Par conséquent, la concentration en acide citrique est de préférence sélectionnée dans la gamme  agglutination of the citric acid molecules occurs, and the polymer subsequently obtained becomes a colloidal solution (colloidal sol), so a portion of the constituent elements of the thermistor device will remain indissociated in the liquid phase, creating additional problems such as the divergence in the composition. Therefore, the concentration of citric acid is preferably selected from the range

jusqu'à 30 fois en poids.up to 30 times by weight.

En considérant que la fraction molaire de (MlM2)O3 mentionnée au-dessus est c, et que la fraction molaire de Y203 mentionnés au- dessus est d, ces fractions molaires c et d devraient de préférence  Considering that the molar fraction of (MlM2) O3 mentioned above is c, and that the mole fraction of Y203 mentioned above is of these mole fractions c and d should preferably

satisfaire les relations 0,05<c<1,0, O<d<0,95 et c+d=l.  satisfy the relationships 0.05 <c <1.0, O <d <0.95 and c + d = 1.

De plus, de préférence, le Ml mentionné au-dessus peut être un ou plusieurs éléments sélectionnés parmi le groupe Y, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho, Er, Yb, Mg, Ca, Sr, Ba et Sc, tandis que le M2 mentionné audessus peut être de préférence un ou plusieurs éléments sélectionnés parmi le groupe Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Zn, Al, Ga, Zr, Nb, Mo, Hf, Ta et W. De plus, le Ml mentionné au-dessus peut être de préférence Y, tandis que le M2 mentionné au-dessus peut être de préférence Cr et Mn, ainsi le corps fritté mixte mentionné au-dessus devrait être de préférence Y(CrMn)O3.Y203. Ces gammes ont été sélectionnées comme le résultat des études originales propres des présents inventeurs, et permettent d'obtenir un dispositif de thermistance capable de mesurer une large gamme de températures de la  In addition, preferably, the M1 mentioned above may be one or more elements selected from the group Y, C, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho, Er, Yb, Mg, Ca, Sr, Ba and Sc, while the M2 mentioned above may be preferably one or more elements selected from the group Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Zn, Al, Ga, Zr, Nb, Mo, Hf, Ta and W. In addition, the above mentioned M1 may preferably be Y, while the above-mentioned M2 may preferably be Cr and Mn, so the mixed sintered body mentioned above should preferably be Y ( CrMn) O3.Y203. These ranges were selected as the result of the original own studies of the present inventors, and make it possible to obtain a thermistor device capable of measuring a wide range of temperatures of the

température ambiante à 1000 C.room temperature at 1000 C.

Les capteurs de température qui comportent des dispositifs de thermistance fabriqués selon l'une quelconque des méthodes de fabrication du second ou troisième aspect mentionnés au-dessus, réalisent l'uniformité de composition et sont des capteurs de température qui utilisent des dispositifs de  Temperature sensors that include thermistor devices manufactured according to any of the second or third aspect manufacturing methods mentioned above, achieve compositional uniformity and are temperature sensors that utilize temperature sensing devices.

thermistance avec une bonne précision de température.  thermistor with good temperature accuracy.

Ensuite, en ce qui concerne l'obtention d'une composition de dispositif grâce à laquelle le dispositif de thermistance a une stabilité de valeur de résistance même dans le cas o il est sujet à un environnement réducteur, les présents inventeurs ont pensé que si le mouvement des atomes d'oxygène dans un environnement réducteur pouvait être éliminé des matériaux du dispositif de thermistance qui constituent le dispositif de thermistance, alors le dispositif de thermistance lui-même ne serait pas réduit et sa résistance ne changerait pas. De plus, les inventeurs se sont  Next, with respect to obtaining a device composition by which the thermistor device has a resistance value stability even in the case where it is subject to a reducing environment, the present inventors have thought that if the movement of the oxygen atoms in a reducing environment could be removed from the thermistor device materials that constitute the thermistor device, so the thermistor device itself would not be reduced and its resistance would not change. In addition, the inventors

concentrés sur la formation d'une composition anti-  concentrated on the formation of an anti-

réducteur qui décourage la réaction avec l'oxygène sur la surface du dispositif de thermistance et comme résultat des études expérimentales, ils ont confirmé que des changements dans la résistance du dispositif de  reducer that discourages the reaction with oxygen on the surface of the thermistor device and as a result of the experimental studies, they confirmed that changes in the resistance of the device of

thermistance lui-même peuvent être supprimés.  thermistor itself can be removed.

Le quatrième aspect de la présente invention est basé sur les résultats des études mentionnées au-dessus, et consiste en un dispositif de thermistance caractérisé par une partie de thermistance fait de matériau de thermistance et un revêtement anti-réducteur fait d'un matériau anti-réducteur formé sur la surface de cette partie de thermistance. Ici, un matériau précurseur d'un composé organométallique est lié à la surface de la partie thermistance, puis le chauffage est mis en oeuvre  The fourth aspect of the present invention is based on the results of the studies mentioned above, and consists of a thermistor device characterized by a thermistor part made of thermistor material and an anti-reducer coating made of an anti-reductant material. reducer formed on the surface of this thermistor portion. Here, a precursor material of an organometallic compound is bonded to the surface of the thermistor portion, and then the heating is carried out

pour former le matériau anti-réducteur.  to form the anti-reducer material.

Au moyen du quatrième aspect mentionné au-  By means of the fourth aspect mentioned

dessus, une structure de dispositif est adoptée, dans laquelle les parties de surface du dispositif de  above, a device structure is adopted in which the surface portions of the

thermistance sont recouvertes avec un film anti-  thermistor are covered with an anti-

réducteur, ainsi une structure de dispositif qui comporte une stabilité de valeur de résistance même dans  reducer, thus a device structure that has a resistance value stability even in

le cas dans lequel le dispositif de thermistance lui-  the case in which the thermistor device itself

même est exposé à un environnement réducteur peut être fourni. Normalement, lorsqu'un dispositif de thermistance est utilisé dans un capteur de température, une paire d'éléments conducteurs électroniquement (par exemple, des fils conducteurs de métal) est utilisé pour maintenir une continuité électrique avec le dispositif de thermistance afin de détecter la température à partir du changement dans la résistance du dispositif. Dans le cas o le dispositif de thermistance du quatrième aspect est utilisé comme capteur de température, une structure est adaptée par quoi la paire mentionnée au-dessus d'éléments conducteurs électriquement pénètre le revêtement anti-réducteur qui est la couche de surface, et entre en contact avec la partie thermistance à l'intérieur.  even is exposed to a reducing environment can be provided. Normally, when a thermistor device is used in a temperature sensor, a pair of electronically conductive elements (e.g., metal lead wires) is used to maintain electrical continuity with the thermistor device to sense the temperature. from the change in the resistance of the device. In the case where the thermistor device of the fourth aspect is used as a temperature sensor, a structure is adapted whereby the pair mentioned above electrically conductive elements penetrates the anti-reducer coating which is the surface layer, and between in contact with the thermistor part inside.

Pour cette raison, afin d'éviter un court-  For this reason, in order to avoid a short

circuit entre la paire d'éléments conducteurs électriquement, le revêtement anti-réducteur doit de préférence être un isolant électrique. Sur la base des  circuit between the pair of electrically conductive elements, the anti-reducer coating should preferably be an electrical insulator. On the basis of

études des présents inventeurs, le matériau anti-  studies of the present inventors, the anti-

réducteur qui constitue le film anti-réducteur devrait avoir une résistance électrique plus importante que les matériaux de thermistance qui constituent la partie de  reducer which constitutes the anti-reducer film should have a greater electrical resistance than the thermistor materials which constitute the part of

thermistance.thermistor.

Sur la base des études mentionnées au-dessus, un  On the basis of the studies mentioned above, a

matériau anti-réducteur qui constitue le film anti-  anti-reducer material which constitutes the anti-aging film

réducteur ne devrait pas permettre à l'oxygène de passer au travers et sa valeur de résistance, est de préférence haute, et les résultats des études des présents inventeurs ont trouvé que le matériau anti-réducteur devrait de préférence contenir un ou plusieurs éléments sélectionnés parmi les groupes de Y (yttrium), Al (aluminium) et Si (silicium). Ce matériau est de préférence un matériau sélectionné parmi les groupes de Y203 (yttria), A1203 (oxyde d'aluminium), SiO2 (oxyde de silicium), Y3A15012 (YAG:yttrium- aluminium-grenat),  The reducing agent should not allow oxygen to pass through and its resistance value is preferably high, and the results of the studies of the present inventors have found that the anti-reducing material should preferably contain one or more elements selected from groups of Y (yttrium), Al (aluminum) and Si (silicon). This material is preferably a material selected from the groups Y203 (yttria), Al2O3 (aluminum oxide), SiO2 (silicon oxide), Y3A15012 (YAG: yttrium-aluminum-garnet),

3A12032SiO2 (mullite) et Y2SiO5.3A12032SiO2 (mullite) and Y2SiO5.

Un exemple spécifique du quatrième aspect est, dans un dispositif de thermistance utilisé à des températures de 200 C et rencontrant des environnements réducteurs, un dispositif de thermistance qui comporte  A specific example of the fourth aspect is, in a thermistor device used at temperatures of 200 C and meeting reducing environments, a thermistor device which comprises

une stabilité de valeur de résistance.  stability of resistance value.

Le dispositif de thermistance mentionné au-  The thermistor device mentioned above

dessus fabriqué en formant le revêtement anti-réducteur mentionné audessus fait du matériau anti-réducteur mentionné au-dessus sur la surface de cette partie de thermistance, peut être fabriqué en formant un précurseur du matériau anti-réducteur sur la surface de la partie thermistance, puis en le chauffant pour former le revêtement anti-réducteur mentionné au-dessus sur la  made by forming the anti-reducer coating mentioned above made of the anti-reducer material mentioned above on the surface of this thermistor portion, may be manufactured by forming a precursor of the anti-reducer material on the surface of the thermistor portion, and then heating it to form the anti-reducer coating mentioned above on the

surface de la partie de thermistance.  surface of the thermistor part.

Un composé organométallique peut être utilisé comme le précurseur mentionné au-dessus. Ledit composé organométallique est de préférence un alcoolate (alkoxyde de métal) contenant un ou plusieurs éléments  An organometallic compound can be used as the precursor mentioned above. Said organometallic compound is preferably an alkoxide (metal alkoxide) containing one or more elements

sélectionnés parmi le groupe de Y, Al et Si.  selected from the group of Y, Al and Si.

En recouvrant par immersion la partie de thermistance mentionnée au-dessus avec une solution  By immersion coating the thermistor part mentioned above with a solution

contenant le composé organométallique mentionné au-  containing the organometallic compound mentioned in

dessus, le précurseur peut être appliqué à la surface de la partie thermistance mentionnée au-dessus. Au moyen de cette méthode, le précurseur peut être appliqué plus facilement que par revêtement par projection ou centrifugeuse.  above, the precursor may be applied to the surface of the thermistor portion mentioned above. By this method, the precursor can be applied more easily than by spray coating or centrifuge.

BREVE DESCRIPTION DES FIGURESBRIEF DESCRIPTION OF THE FIGURES

La Figure 1 représente un diagramme structurel du dispositif de thermistance d'un exemple de la  Figure 1 shows a structural diagram of the thermistor device of an example of the

présente invention.present invention.

La Figure 2 représente un diagramme structurel en coupe d'un capteur de température qui utilise le  Figure 2 shows a cross-sectional structural diagram of a temperature sensor that uses the

dispositif de thermistance de la Figure 1.  thermistor device of Figure 1.

La Figure 3 représente une coupe selon A-A de la Figure 2. La Figure 4 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de  Figure 3 shows a section along A-A of Figure 2. Figure 4 shows a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of Figure 2.

l'exemple 1 de la présente invention.  Example 1 of the present invention.

La Figure 5 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de  Figure 5 shows a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

l'exemple 2 de la présente invention.  Example 2 of the present invention.

La Figure 6 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de  Figure 6 shows a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

l'exemple 3 de la présente invention.  Example 3 of the present invention.

La Figure 7 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de  Figure 7 shows a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

l'exemple 4 de la présente invention.  Example 4 of the present invention.

La Figure 8 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de  Figure 8 shows a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

l'exemple 5 de la présente invention.  Example 5 of the present invention.

La Figure 9 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de  Figure 9 shows a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

l'exemple 6 de la présente invention.  Example 6 of the present invention.

La Figure 10 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de  Figure 10 shows a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

l'exemple 7 de la présente invention.  Example 7 of the present invention.

La Figure 11 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de  Fig. 11 shows a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

l'exemple 8 de la présente invention.  Example 8 of the present invention.

La Figure 12 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de  Figure 12 shows a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

l'exemple 9 de la présente invention.  Example 9 of the present invention.

La Figure 13 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de  Figure 13 is a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

l'exemple 10 de la présente invention.  Example 10 of the present invention.

La Figure 14 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de  Figure 14 is a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

l'exemple 11 de la présente invention.  Example 11 of the present invention.

La Figure 15 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de  Figure 15 shows a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

l'exemple comparatif 3 de la présente invention.  Comparative Example 3 of the present invention.

La Figure 16 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de  Figure 16 is a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

l'exemple 13 de la présente invention.  Example 13 of the present invention.

La Figure 17 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de  Figure 17 shows a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

l'exemple 14 de la présente invention.  Example 14 of the present invention.

La Figure 18 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de  Figure 18 shows a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

l'exemple comparatif 4 de la présente invention.  Comparative Example 4 of the present invention.

* La Figure 19 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance deFig. 19 shows a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

l'exemple 16 de la présente invention.  Example 16 of the present invention.

La Figure 20 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de  Figure 20 shows a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

l'exemple 17 de la présente invention.  Example 17 of the present invention.

La Figure 21 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de  Figure 21 is a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

l'exemple comparatif 5 de la présente invention.  Comparative Example 5 of the present invention.

La Figure 22 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de  Figure 22 shows a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

l'exemple 19 de la présente invention.  Example 19 of the present invention.

La Figure 23 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de  Figure 23 shows a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

l'exemple 20 de la présente invention.  Example 20 of the present invention.

La Figure 24 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de  Figure 24 is a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

l'exemple comparatif 6 de la présente invention.  Comparative Example 6 of the present invention.

La Figure 25 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance des  Figure 25 is a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

exemples de travail 18-23 de la présente invention.  working examples 18-23 of the present invention.

La Figure 26 représente un coupe schématique du dispositif de thermistance d'un mode de réalisation  Figure 26 shows a schematic section of the thermistor device of an embodiment

préféré de la présente invention.  preferred embodiment of the present invention.

La Figure 27 représente une vue en coupe d'un capteur de température qui utilise le dispositif de  Figure 27 shows a sectional view of a temperature sensor that uses the device of

thermistance de la Figure 26.thermistor of Figure 26.

La Figure 28 représente une vue en coupe selon  Figure 28 shows a sectional view according to

A-A de la Figure 27.A-A of Figure 27.

La Figure 29 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance des  Figure 29 is a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

exemples 24 et 25 de la présente invention.  Examples 24 and 25 of the present invention.

La Figure 30 représente un diagramme du procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance des  Figure 30 is a diagram of the manufacturing process for the thermistor device of

exemples 26 à 30 de la présente invention.  Examples 26 to 30 of the present invention.

DESCRIPTION DU MODE DE REALISATION PREFERE  DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT

(Premier aspect) (Mode de réalisation 1) Dans la composition de matériaux de type perovskite (MlM2)O3 de la présente invention, par exemple, l'élément M1 peut être sélectionné parmi Mg, Ca, Sr, Ba ou d'autres éléments du Groupe 2A du Tableau Périodique, ou parmi Y, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho,  (First aspect) (Embodiment 1) In the perovskite (M1M2) O3 material composition of the present invention, for example, the M1 element may be selected from Mg, Ca, Sr, Ba or other elements. of Group 2A of the Periodic Table, or among Y, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho,

Er, Yb, Sc ou d'autres éléments du Groupe 3A sauf La.  Er, Yb, Sc or other elements of Group 3A except La.

De plus, par exemple, l'élément M2 peut être sélectionné parmi Zn dans le Groupe 2B; A1 et Ga dans le Groupe 3B; Ti, Zr et Hf dans le Groupe 4A; V, Nb et Ta dans le Groupe 5A; Cr, Mo et W dans le Groupe 6A; Mn, Tc et Re dans le Groupe 7A; ou parmi Fe, Co, Ni, Ru, Rh,  In addition, for example, the element M2 may be selected from Zn in Group 2B; A1 and Ga in Group 3B; Ti, Zr and Hf in Group 4A; V, Nb and Ta in Group 5A; Cr, Mo and W in Group 6A; Mn, Tc and Re in Group 7A; or from Fe, Co, Ni, Ru, Rh,

Pd, Os, Ir et Pt dans le Groupe 8, respectivement.  Pd, Os, Ir and Pt in Group 8, respectively.

Ici, suit une description de la méthode de  Here follows a description of the method of

fabrication des corps frittés mélangés de (M1M2)O3 Y203.A1203 et (MlM2)O3.A1203. Le procédé de fabrication peut être globalement divisé en une première étape de préparation dans laquelle une calcine (MlM2)O3 ou (MlM2)O3.Y203 est obtenue et en une seconde étape de préparation dans laquelle la calcine ainsi obtenue est alors combinée avec A1203 etc. (A1203, ou Y203 et A1203), puis le dispositif de thermistance est obtenu comme un  manufacture of mixed sintered bodies of (M1M2) O3 Y203.A1203 and (M1M2) O3.A1203. The manufacturing process can be broadly divided into a first preparation step in which a calcine (M1M2) O3 or (M1M2) O3.Y2O3 is obtained and in a second preparation step in which the calcine thus obtained is then combined with A1203 etc. . (A1203, or Y203 and A1203), then the thermistor device is obtained as a

corps fritté mixte dans la forme prescrite.  mixed sintered body in the prescribed form.

Dans la première étape de préparation, les matériaux bruts pour Ml et M2, qui sont des oxydes de Ml (MlOx) et des oxydes de M2 (M20x) sont composés (formulation 1), mixés et moulés (étape de mélange) puis  In the first preparation step, the raw materials for M1 and M2, which are oxides of M1 (MlOx) and M2 oxides (M20x) are compounded (Formulation 1), mixed and molded (mixing step) and then

soumis à la calcination (par exemple à environ 1000 C -  subjected to calcination (for example at about 1000 C -

1500 C) (étape de calcination) pour obtenir une calcine.  1500 C) (calcination step) to obtain a calcine.

Puis, dans la seconde étape de préparation, la calcine ainsi obtenue est combinée avec A1203, etc., afin de donner la valeur de résistance et le coefficient résistance-température désirée (formulation 2). Le mélange obtenu dans la formulation 2 (un mélange de la calcine et de A1203, etc.) est moulu (étape de broyage), intégré avec des fils réducteurs de Pt ou équivalent, moulé dans la forme désirée dans un moule (étape de  Then, in the second preparation step, the calcine thus obtained is combined with Al 2 O 3, etc., to give the resistance value and the desired resistance-temperature coefficient (formulation 2). The mixture obtained in formulation 2 (a mixture of calcine and Al 2 O 3, etc.) is ground (milling step), integrated with Pt reducing wires or the like, molded into the desired shape in a mold (step of

moulage) et fritté (par exemple, à environ 1400 C -  molding) and sintered (for example, at about 1400 C -

1600 C) (étape de frittage) pour obtenir le dispositif  1600 C) (sintering step) to obtain the device

de thermistance sous la forme d'un corps fritté mixte.  thermistor in the form of a mixed sintered body.

Il est à noter que dans le cas o Y est inclus dans M1i dans le corps fritté mixte de (M1lM2)O3.Y203.A1203, Y203 peut être ajouté à l'avance dans la formulation 1 comme un oxyde de M1 dans la première étape de préparation, et ensuite passer au travers des étapes de mélange et de calcination pour obtenir (MlM2)O3.Y203. Par la suite, une quantité appropriée de A1203, etc. est mélangée avec la calcine (MlM2)O3.Y203 afin de réaliser un corps fritté mixte qui  It should be noted that in the case where Y is included in M1i in the mixed sintered body of (M1lM2) O3.Y203.A1203, Y203 can be added in advance in formulation 1 as an oxide of M1 in the first stage. of preparation, and then pass through the mixing and calcining steps to obtain (MlM2) O3.Y203. Subsequently, an appropriate amount of A1203, etc. is mixed with the calcine (MlM2) O3.Y203 in order to produce a mixed sintered body which

finalement comporte le rapport de composition désiré.  finally has the desired composition ratio.

Au passage, en ajoutant du SiO2 et au moins un élément parmi CaO, CaCO3 ou CaSiO3, comme aides au frittage, au mélange de la calcine et du A1203, etc. dans l'étape de la formulation 2 mentionnée au-dessus, la densité frittée peut être à nouveau augmentée. Cela fera que la bonne résistancedu dispositif de thermistance sera plus stable et que la dispersion de la valeur de résistance par rapport aux fluctuations dans  In passing, adding SiO2 and at least one of CaO, CaCO3 or CaSiO3, as sintering aids, mixture of calcine and Al 2 O 3, etc. in the formulation step 2 mentioned above, the sintered density can be increased again. This will ensure that the correct resistance of the thermistor device will be more stable and that the dispersion of the resistance value with respect to fluctuations in

la température de frittage sera réduite.  the sintering temperature will be reduced.

Le dispositif de thermistance ainsi obtenu est un corps fritté mixte dans lequel les composés de type perovskite (MlM2)03.Y203 et A1203, (ou A1203 et Y203) sont mélangés de façon uniforme et liés à leur limite de grains. Le dispositif de thermistance ainsi obtenu a été disposé dans un assemblage de capteurs de température typique pour obtenir un capteur de température. Ensuite, le capteur de température a été placé dans un four à haute température et la valeur de résistance et le coefficient de résistance-température À, ont été mesurés sur la gamme de températures de la température ambiante (par exemple 27 C) à 1000 C, et aussi le taux de changement de résistance AR1 sur le chauffage de la température ambiante à 10000C ou équivalent, a été  The resulting thermistor device is a mixed sintered body in which the perovskite (M1M2) 03.Y203 and A1203 (or A1203 and Y203) compounds are uniformly mixed and bound to their grain boundary. The resulting thermistor device was placed in a typical temperature sensor assembly to obtain a temperature sensor. Then, the temperature sensor was placed in a high temperature oven and the resistance value and the resistance-temperature coefficient λ were measured over the temperature range from room temperature (for example 27 C) to 1000 C , and also the rate of change of resistance AR1 on the heating of the ambient temperature to 10000C or equivalent, has been

mesuré.measured.

Ici, f est exprimé comme (K)=ln(R/R0)/ (l/K-l/K0). Il est à noter que in indique le logarithme népérien, tandis que R et R0 représentent la valeur de résistance du dispositif de thermistance aux hautes températures, de la température ambiante (300K) et  Here, f is expressed as (K) = ln (R / R0) / (1 / K-1 / K0). It should be noted that in indicates the natural logarithm, while R and R0 represent the resistance value of the thermistor device at high temperatures, ambient temperature (300K) and

1000 C (1273K), et respectivement dans l'atmosphère.  1000 C (1273K), and respectively in the atmosphere.

De plus, le taux de changement de la résistance AR1 représente le taux de changement de la résistance du capteur de température dans un test d'endurance à hautes températures dans lequel il est laissé pendant heures à 1100 C dans l'atmosphère, exprimé par la formule 1: ARl(%)=(R't/Rt)xlO-100. Il est à noter que Rt représente la valeur de résistance initiale à une température stipulée t (par exemple 500 C), et R't est la valeur de résistance à la température stipulée t  In addition, the rate of change of the resistance AR1 represents the rate of change of the resistance of the temperature sensor in a high temperature endurance test in which it is left for hours at 1100 C in the atmosphere, expressed by the formula 1: AR1 (%) = (R't / Rt) x10-100. It should be noted that Rt represents the initial resistance value at a stipulated temperature t (for example 500 C), and R't is the temperature resistance value stipulated t

après avoir été laissé pendant 100 heures.  after being left for 100 hours.

Il en résulte que, dans la gamme de températures de la température ambiante à 1000 C, Rt se trouve être variable entre 50 n et 100 kQ, et P ajustable dans la gamme de 2000-4000K, et AR1 se trouve être stable à un niveau de grossièrement plusieurs % (voir Tableau 1). Ici, afin d'obtenir les différentes valeurs de Rt, 3 et AR' de façon plus sûre, les fractions molaires a et b dans a(M1M2)O3.bAl203 et a(M1M2)O3.b(A1203. Y203) ont de préférence les relations 0,05<a<l,0, 0<b 0,95, et  As a result, in the temperature range from room temperature to 1000 C, Rt is found to be variable between 50 n and 100 kΩ, and P adjustable in the range of 2000-4000K, and AR1 is found to be stable at a level of roughly several% (see Table 1). Here, in order to obtain the different values of Rt, 3 and AR 'more safely, the mole fractions a and b in a (M1M2) O3.bAl2O3 and a (M1M2) O3.b (A1203, Y203) have preferably the relations 0.05 <a <l, 0, 0 <b 0.95, and

a+b=l.a + b = l.

Par conséquent, au moyen de ce mode de réalisation, il est possible de fournir un dispositif de thermistance à large gamme qui est capable de détecter des températures sur une large gamme de températures de la température ambiante à 1000 C, et qui comporte des caractéristiques stables avec un petit changement dans sa valeur de résistance tout au long du chauffage de la  Therefore, by this embodiment, it is possible to provide a wide range thermistor device which is capable of detecting temperatures over a wide temperature range from room temperature to 1000 C, and which has stable characteristics. with a small change in its resistance value throughout the heating of the

température ambiante à 1000 C ou équivalent.  room temperature at 1000 C or equivalent.

De plus, le coefficient de température-  In addition, the temperature coefficient

résistance P est ajustable dans la gamme de 2000-4000K, plus petit que celui des dispositifs de thermistance conventionnels, ainsi la dispersion dans la valeur de résistance accompagnant les fluctuations dans la  P resistance is adjustable in the range of 2000-4000K, smaller than that of conventional thermistor devices, so the dispersion in the resistance value accompanying the fluctuations in the

température peuvent être rendue plus petite.  temperature can be made smaller.

(Mode de réalisation 2) Ce mode de réalisation 2 est une méthode de fabrication du corps fritté mixte selon le mode de réalisation 1 mentionné au-dessus, et comporte des première et seconde étapes de préparation de la même manière que la première méthode de fabrication mentionnée au-dessus dans le mode de réalisation 1, mais  (Embodiment 2) This embodiment 2 is a method of manufacturing the mixed sintered body according to embodiment 1 mentioned above, and comprises first and second preparation steps in the same manner as the first method of manufacture. mentioned above in embodiment 1, but

est caractérisé comme suit.is characterized as follows.

A savoir, dans l'étape dans laquelle le mélange de calcine et de A1203 composés dans la formulation 2, est moulu (étape de broyage), la dimension de grains moyen du mélange après le broyage est amenée au- dessous de la dimension de grains moyen de A1203, etc. avant le  That is, in the step in which the mixture of calcine and Al 2 O 3 compounds in formulation 2 is ground (grinding step), the average grain size of the mixture after grinding is brought below the grain size. average of A1203, etc. before

mélange. Ici, suit une description principalement autour  mixed. Here follows a description mainly around

de ce point.from this point.

La méthode de fabrication de ce mode de réalisation 2 a été mise à jour, lorsque, en examinant la précision de température d'un capteur de température incorporant le dispositif de thermistance fait par la méthode de fabrication du mode de réalisation 1 mentionné au- dessus, des résultats ont indiqué qu'il y avait une dispersion dans la précision de température de capteur en capteur. Ici, la méthode d'évaluation de la précision de température a été effectuée par la méthode  The manufacturing method of this embodiment 2 has been updated, when, by examining the temperature accuracy of a temperature sensor incorporating the thermistor device made by the manufacturing method of Embodiment 1 mentioned above. , results indicated that there was a dispersion in sensor temperature accuracy in sensor. Here, the method of evaluation of the temperature accuracy was carried out by the method

suivante, à titre d'exemple.following, as an example.

Sur la base des données de valeur de résistance-  On the basis of resistance value data-

température à partir d'un grand nombre de capteurs de température (par exemple, 100 unités), la déviation standard a (sigma) de la valeur de résistance à une température stipulée (par exemple 500 C) a été calculée, et six fois la déviation standard C est prise comme la quantité de dispersion de la valeur de résistance (des deux côtés). La valeur de cette quantité de dispersion de la valeur de résistance lorsqu'elle est convertie à une température et divisée par deux, devient la valeur A, qui est évaluée en termes de l'expression "la précision de température de A C". Il en résulte que la précision de température de + A C a été trouvée comme  temperature from a large number of temperature sensors (eg 100 units), the standard deviation a (sigma) of the resistance value at a stipulated temperature (eg 500 C) was calculated, and six times the standard deviation C is taken as the amount of dispersion of the resistance value (on both sides). The value of this dispersion amount of the resistance value when converted to a temperature and divided by two, becomes the value A, which is evaluated in terms of the term "temperature accuracy of A C". As a result, the temperature accuracy of + A C was found as

ayant une dispersion de 20-30 C.having a dispersion of 20-30 C.

D'un autre côté, lorsque les matériaux de thermistance ont été observés par microscope à balayage électronique (SEM), micro-analyse par sonde électronique (EPMA) et d'autres méthodes, dans le mode de réalisation 1 mentionné au-dessus, la dimension de grains moyen de la calcine obtenue à partir de la première étape de préparation (par exemple, 2-5 pmn dans le cas du (M1M2)03) se trouve être plus grande que la dimension moyenne de grains de A1203, etc. (par exemple, 0, 6 pm ou moins dans le cas du A1203) avec lequel il peut être mélangé. Ainsi, les deux ne sont pas mélangés de façon uniforme et il y a une dispersion dans la distribution de composition du corps fritté mixte. Ainsi, le diamètre moyen du mélange (un mélange de calcine et de A1203, etc.) après mélange et broyage dans la seconde méthode de fabrication du premier mode de réalisation au-dessus, a été changé de façon variée, et la relation entre la dimension de particules moyennes  On the other hand, when the thermistor materials were observed by scanning electron microscope (SEM), electron probe microanalysis (EPMA) and other methods, in the embodiment 1 mentioned above, the average grain size of the calcine obtained from the first preparation step (for example, 2-5 pmn in the case of (M1M2) 03) is found to be larger than the average grain size of A1203, etc. (eg, 0.6 μm or less in the case of A1203) with which it can be mixed. Thus, both are not uniformly mixed and there is dispersion in the composition distribution of the mixed sintered body. Thus, the average diameter of the mixture (a mixture of calcine and Al 2 O 3, etc.) after mixing and grinding in the second method of manufacture of the first embodiment above, has been varied in a variety of ways, and the relationship between the average particle size

et la précision de température de _A C a été examinée.  and the temperature accuracy of _A C was examined.

Il en résulte qu'il a été trouvé que dans l'étape de broyage dans la seconde méthode de fabrication, si la dimension de particules moyennes est amenée au dessous de là dimension moyenne de grains de A1203, etc. avant le mélange, la précision de température peut être  As a result, it has been found that in the grinding step in the second method of manufacture, if the average particle size is brought below the average grain size of A1203, etc. before mixing, the temperature accuracy can be

diminuée au-dessous de 10 C (se référer au Tableau 2).  decreased below 10 C (refer to Table 2).

A cette fin, un mélangeur de milieux ou équivalent peut être utilisé comme moyen de broyage pour donner une dimension de grains moyen ou fine. De plus, des billes faites de ZrO2 (par exemple, avec un diamètre de 0,5 mm) peuvent être utilisées comme milieu de  For this purpose, a media mixer or equivalent may be used as a grinding means to give a medium or fine grain size. In addition, beads made of ZrO2 (for example, with a diameter of 0.5 mm) can be used as the medium of

broyage dans le mélangeur de milieux.  grinding in the media mixer.

Au moyen de ce mode de réalisation 2, l'étape de broyage de la seconde étape de préparation est supposée broyer la calcine et le A1203, etc. de façon fine pour réaliser un mélange uniforme et réduire la fluctuation dans la composition du corps fritté mixte, de sorte que la dispersion dans la valeur de résistance du dispositif  By means of this embodiment 2, the step of grinding the second preparation step is supposed to crush the calcine and A1203, etc. in a fine way to achieve uniform mixing and reduce fluctuation in the composition of the mixed sintered body, so that the dispersion in the resistance value of the device

de thermistance peut être réduite.  Thermistor can be reduced.

Par conséquent, en addition aux effets  Therefore, in addition to the effects

avantageux de la méthode de fabrication mentionnée au-  advantage of the manufacturing method mentioned above.

dessus dans le mode de réalisation 1, il est possible de fournir un dispositif de thermistance à large gamme qui est capable d'effectuer une meilleure précision de capteur (plus petite dispersion dans la précision de température d'un capteur à l'autre) dans la gamme de  In Embodiment 1, it is possible to provide a wide range thermistor device that is able to perform better sensor accuracy (smaller dispersion in temperature accuracy from sensor to sensor) in the range of

température partant de la température ambiante à 1000 C.  temperature from room temperature to 1000 C.

(Mode de réalisation 3) Ce mode de réalisation 3 est une méthode de fabrication du corps fritté mixte selon le premier mode de réalisation mentionné au-dessus, et comporte des première et seconde étapes de préparation de la même manière que la première méthode de fabrication mentionnée au-dessus dans le mode de réalisation 1, mais  (Embodiment 3) This embodiment 3 is a method of manufacturing the mixed sintered body according to the first embodiment mentioned above, and comprises first and second preparation steps in the same manner as the first method of manufacture. mentioned above in embodiment 1, but

est caractérisé comme suit.is characterized as follows.

A savoir, ce mode de réalisation est caractérisé en ce que durant l'étape dans laquelle l'oxyde de M1 et l'oxyde de M2 sont combinés pour la formation 1 puis mélangés et moulus (étape de mélange), le matériau M2 est mélangé et moulu avec le matériau Ml et la dimension  That is, this embodiment is characterized in that during the step in which the M1 oxide and the M2 oxide are combined for the formation 1 and then mixed and ground (mixing step), the M2 material is mixed and ground with the material Ml and the dimension

de grains moyen de ce mélange moulu est amenée au-  average grain of this ground mixture is brought to

dessous de la dimension moyenne de grains des matériaux Ml avant le mélange et au-dessus de 0,5 pim, puis il est  below the average grain size of the Ml materials before mixing and above 0.5 pim and then it is

calciné pour obtenir une calcine.calcined to obtain calcine.

Ici, le broyage dans le broyage-mélange mentionné au-dessus (étape de mélange) peut être effectué par un mélangeur de milieux tel que décrit dans le mode de réalisation mentionné au-dessus 2. Puis, dans la seconde étape de préparation, la calcine est combinée avec du A1203 etc. et moulue, intégrée avec des fils conducteurs de Pt ou équivalent, moulé dans la forme désirée dans un moule et fritté pour obtenir le dispositif de thermistance sous forme d'un corps fritté  Here, grinding in the grinding mixture mentioned above (mixing step) can be carried out by a media mixer as described in the embodiment mentioned above 2. Then, in the second preparation step, the calcine is combined with A1203 etc. and ground, integrated with Pt lead wires or the like, molded into the desired shape in a mold and sintered to obtain the thermistor device in the form of a sintered body

mixte.mixed.

Ce mode de réalisation vise à effectuer un mélange plus uniforme de la composition au travers du broyage fin uniforme des matériaux Ml et M2, puis réduire la dispersion dans la composition de calcine et supprimer la présence de matériaux bruts qui ne réagissent pas, réduisant ainsi la dispersion dans la  This embodiment is intended to effect more uniform mixing of the composition through uniform fine grinding of materials M1 and M2, then reduce dispersion in the calcine composition and remove the presence of unreacted raw materials, thereby reducing the dispersion in the

valeur de résistance du dispositif de thermistance.  resistance value of the thermistor device.

Par conséquent, en addition aux effets  Therefore, in addition to the effects

méritoires de la méthode de fabrication mentionnée au-  merits of the manufacturing method mentioned above.

dessus dans le mode de réalisation 1, il est possible de fournir un dispositif de thermistance à large gamme qui peut avoir une meilleure précision de capteur (plus petite dispersion dans la précision de température d'un capteur à l'autre) dans la gamme de température partant  In Embodiment 1, it is possible to provide a wide range thermistor device which may have better sensor accuracy (smaller dispersion in temperature accuracy from sensor to sensor) in the range of leaving temperature

de la température ambiante à 1000 C.  from room temperature to 1000 C.

Il est à noter que le broyage dans l'étape de broyage de la seconde étape de préparation peut être effectué par un broyeur à billes ou équivalent, mais un broyeur mélangeur de milieu ou équivalent peut être utilisé de la même manière que dans le mode de réalisation 2 mentionné au-dessus. Si cela est fait, en addition aux effets méritoires de ce mode de réalisation, sont ajoutés les effets méritoires du mode de réalisation 2 mentionné au-dessus, dans lequel l'étape de broyage de la seconde étape de préparation est supposée broyer la calcine et le A1203 etc. finement pour réaliser un mixage uniforme et réduire la fluctuation dans la composition du corps fritté mixte dans les étapes de moulage et de frittage suivantes, ainsi la dispersion dans la valeur de résistance du dispositif de thermistance peut être encore plus réduite. De plus, dans un capteur de température qui utilise un dispositif de thermistance à large gamme selon les modes de réalisation 2 et 3, la précision de température est supprimée à 10 C ou moins, ainsi ils sont bien adaptés pour l'utilisation dans des contrôleurs de cartes qui nécessitent un haut degré de précision de température, tels que dans les moniteurs de température pour des capteurs d'oxygène d'échappement  It should be noted that grinding in the grinding step of the second preparation step can be carried out by a ball mill or the like, but a media blending mill or the like can be used in the same manner as in the blast mode. realization 2 mentioned above. If this is done, in addition to the meritorious effects of this embodiment, are added the meritorious effects of the above-mentioned embodiment 2, wherein the grinding step of the second preparation step is supposed to grind the calcine and the A1203 etc. finely to achieve uniform mixing and to reduce fluctuation in the composition of the mixed sintered body in the following molding and sintering steps, so the dispersion in the resistance value of the thermistor device can be further reduced. Moreover, in a temperature sensor that uses a wide range thermistor device according to embodiments 2 and 3, the temperature accuracy is suppressed to 10 C or less, so they are well suited for use in controllers of cards that require a high degree of temperature accuracy, such as in temperature monitors for exhaust oxygen sensors

des automobiles.automobiles.

(Second aspect) (Mode de réalisation 4) Le dispositif de thermistance de ce mode de réalisation est ajusté à un dispositif de thermistance qui est utilisé dans un capteur de température qui peut détecter des températures dans une large gamme de la température ambiante à 1000 C (dispositif de thermistance appelé "à large gamme"). Des capteurs de température qui utilisent le dispositif de thermistance de ce mode de réalisation peuvent par exemple être utilisés comme capteur de température pour détecter les  (Second aspect) (Embodiment 4) The thermistor device of this embodiment is fitted to a thermistor device that is used in a temperature sensor that can sense temperatures in a wide range of room temperature to 1000 C (Thermistor device called "wide range"). Temperature sensors that use the thermistor device of this embodiment can for example be used as a temperature sensor to detect

températures des gaz d'échappement d'automobile.  automobile exhaust temperatures.

La Figure 1 représente un diagramme structurel du dispositif de thermistance 1 de ce mode de réalisation. Le dispositif de thermistance 1 est fait d'un corps fritté formé globalement sous une forme spécifiée (cylindrique dans cet exemple). Ce dispositif de thermistance 1 consiste en un corps fritté d'oxyde d'une pluralité de métaux tels que Y, Sr, Cr, Fe, Ti ou équivalent, qui sont mélangés à un taux de composition prescrit. Des exemples spécifiques peuvent être aY(Cr0,5MnO5)03.bY2O3, aY(Cr0,5Mn0,5)03.bA1203, (Y0,O9Ca0,1) (CrO, 75Fe0o,2Tio,05)03, (AlO,7Cr0o2Feo0,1)203.MgO.CaO ou d'  Figure 1 shows a structural diagram of the thermistor device 1 of this embodiment. The thermistor device 1 is made of a sintered body formed generally in a specified form (cylindrical in this example). This thermistor device 1 consists of an oxide sintered body of a plurality of metals such as Y, Sr, Cr, Fe, Ti or equivalent, which are mixed at a prescribed composition level. Specific examples may be aY (Cr0.5MnO5) 03.bY2O3, aY (Cr0.5Mn0.5) 03.bA1203, (Y0, O9Ca0.1) (CrO, 75Fe0o, 2Tio, O5) O3, (AlO7Cr0O2FeO0, 1) 203.MgO.CaO or of

autres compositions.other compositions.

Dans la Figure 1, les références 11 et 12 indiquent une paire de films conducteurs (électrodes d'acquisition de signaux faite de platine pour détecter la température à partir du changement dans la résistance de ce dispositif de thermistance 1. Bien que cette partie ne soit pas représentée, les deux films conducteurs 11 et 12 sont enterrés à l'intérieur du dispositif de thermistance 1 à une distance fixée loin l'un de l'autre, globalement parallèle à l'axe longitudinal du cylindre du dispositif de thermistance 1. De plus, leurs parties non enterrées s'étendent à l'extérieur à partir d'une extrémité du dispositif de  In Fig. 1, references 11 and 12 indicate a pair of conductive films (signal acquisition electrodes made of platinum to sense the temperature from the change in the resistance of this thermistor device 1. Although this part is not not shown, the two conductive films 11 and 12 are buried inside the thermistor device 1 at a distance fixed far from each other, generally parallel to the longitudinal axis of the cylinder of the thermistor device 1. From addition, their non-buried portions extend outwardly from one end of the

thermistance 1.thermistor 1.

Puis, le dispositif de thermistance 1 avec les fils conducteurs 11 et 12 fixés est assemblé dans un capteur de température 100 comme cela est représenté sur la Figure 2. La figure 2 est une coupe du capteur de température 100. La figure 3 est une coupe au niveau A-A de la Figure 2. Ici, la référence 2 est un couvercle de métal comportant la forme d'un cylindre avec un fond et la référence 3 est un tuyau du métal cylindrique. Le couvercle du métal 2 est assuré sur le rebord extérieur du tuyau métallique 3 au moyen de griffes ou équivalent de sorte que l'intérieur du couvercle de métal 2 soit un espace scellé. De plus, le dispositif de thermistance 1 avec les fils conducteurs 11 et 12 fixés est disposé à  Then, the thermistor device 1 with the fixed conductor wires 11 and 12 is assembled in a temperature sensor 100 as shown in FIG. 2. FIG. 2 is a sectional view of the temperature sensor 100. FIG. at level AA of Figure 2. Here, reference 2 is a metal cover having the shape of a cylinder with a bottom and the reference 3 is a pipe of the cylindrical metal. The lid of the metal 2 is provided on the outer rim of the metal pipe 3 by means of claws or the like so that the inside of the metal lid 2 is a sealed space. In addition, the thermistor device 1 with the fixed conductor wires 11 and 12 is disposed at

l'intérieur du couvercle de métal 2.  inside the metal cover 2.

De plus, les extrémités extérieures des fils 11 et 12 sont connectées électriquement aux fils conducteurs 31 et 32 afin d'échanger des signaux avec une circuiterie externe (par exemple, une unité de contrôle d'échappement d'automobile (ECU) non représentée). Les localisations des connexions des fils conducteurs 11, 12, 31 et 32 peuvent être soit à l'intérieur soit à l'extérieur du tuyau de métal 3. Il est à noter que comme cela est représenté sur la Figure 3, l'intérieur du tuyau métallique 3 est empli d'une poudre de magnésie 33 afin d'assurer l'isolation des fils conducteurs 31 et 32 à l'intérieur du tuyau de  In addition, the outer ends of the wires 11 and 12 are electrically connected to the leads 31 and 32 for exchanging signals with external circuitry (e.g., an automobile exhaust control unit (ECU) not shown). . The locations of the connections of the conductive wires 11, 12, 31 and 32 may be either inside or outside the metal pipe 3. It should be noted that, as shown in FIG. metal pipe 3 is filled with a magnesia powder 33 to insure the insulation of the conductor wires 31 and 32 inside the pipe of

métal 3.metal 3.

Le capteur de température 100 peut être disposé avec la pointe du couvercle de métal 2 dans le passage d'un dispositif d'échappement d'automobile, pour détecter la température du gaz d'échappement. En particulier, la température du gaz d'échappement peut être déterminée en utilisant la caractéristique R-T du dispositif de thermistance, et le signal électrique indiquant la température du gaz d'échappement qui est acquis au travers des fils conducteurs 11, 12, 31 et 32  The temperature sensor 100 may be disposed with the tip of the metal cover 2 in the passage of an automobile exhaust system to detect the temperature of the exhaust gas. In particular, the temperature of the exhaust gas can be determined by using the characteristic R-T of the thermistor device, and the electrical signal indicating the temperature of the exhaust gas which is acquired through the conductive wires 11, 12, 31, and 32

par la circuiterie externe mentionnée au-dessus.  by the external circuitry mentioned above.

Ensuite, nous décrirons la méthode de fabrication du dispositif de thermistance 1. Il est à noter que des détails seront fournis dans les exemples donnés par la suite. La méthode de fabrication de ce mode de réalisation peut être globalement divisée en une première étape (étape de fabrication du matériau brut en poudre) dans laquelle le matériau brut en poudre contenant les éléments de métal dans la composition stipulée qui constitue le dispositif de thermistance 1, est obtenu au moyen d'une méthode à phase liquide, et une seconde étape (étape de moulage de la thermistance) dans laquelle le matériau brut poudré ainsi obtenu, est granulé, séché, moulé, fritté et ainsi de suite pour  Next, we will describe the method of manufacture of the thermistor device 1. It should be noted that details will be provided in the examples given later. The manufacturing method of this embodiment can be broadly divided into a first step (step of manufacturing the raw powder material) in which the powdered raw material containing the metal elements in the stipulated composition which constitutes the thermistor device 1 , is obtained by means of a liquid phase method, and a second step (thermistor molding step) in which the powdered raw material thus obtained, is granulated, dried, molded, sintered and so on for

obtenir le dispositif de thermistance 1.  get the thermistor device 1.

D'abord, lors de la première étape, une pluralité de composés précurseurs qui contiennent des éléments métalliques qui constituent le dispositif de thermistance 1 est mélangée dans la phase liquide pour former un mélange liquide de la composition stipulée, et un agent de précipitation de sel métallique est ajouté à ce mélange liquide pour précipiter un précipité gélatineux contenant une pluralité d'éléments métalliques. Ensuite, en séchant et chauffant ce précipité, le matériau brut en poudre qui est une composition de poudre contenant une pluralité d'éléments  First, in the first step, a plurality of precursor compounds that contain metal elements that constitute the thermistor device 1 are mixed in the liquid phase to form a liquid mixture of the stipulated composition, and a salt precipitating agent. metal is added to this liquid mixture to precipitate a gelatinous precipitate containing a plurality of metallic elements. Then, by drying and heating this precipitate, the powdered raw material which is a powder composition containing a plurality of elements

métalliques est formé.metal is formed.

Ici, les composés précurseurs mentionnés au-  Here, the precursor compounds mentioned above

dessus peuvent être des alkoxydes de métal, des acétylacétonates de métal, des carboxylates de métal ou d'autres composés organométalliques, et les exemples inclus: du triéthoxyyttrium (Y(OC2H5)3), du  may be metal alkoxides, metal acetylacetonates, metal carboxylates or other organometallic compounds, and examples include: triethoxyttrium (Y (OC 2 H 5) 3),

diéthoxymanganèse (Mn(OC2H5)2), du tris(2,4-  diethoxymanganese (Mn (OC2H5) 2), tris (2,4-

pentadione)chrome (Cr[OC(CH3)CHCOCH3]3) ou équivalent.  pentadione) chromium (Cr [OC (CH3) CHCOCH3] 3) or equivalent.

De plus, les composés précurseurs peuvent aussi être des composés nitrates, des composés d'oxynitrate, des chlorures, des oxychlorures ou d'autres composés métalliques inorganiques, et des exemples inclus du nitrate d'yttrium (YNO3)3.6H20), du nitrate de calcium (Ca(NO3)2.4H20), du nitrate de chrome (Cr(NO3)3.9H20), du nitrate de fer (Fe(NO3)3. 9H20), de l'oxynitrate de  In addition, the precursor compounds may also be nitrate compounds, oxynitrate compounds, chlorides, oxychlorides or other inorganic metal compounds, and included examples of yttrium nitrate (YNO 3) 3.6H 2 O), nitrate calcium (Ca (NO3) 2.4H2O), chromium nitrate (Cr (NO3) 3.9H2O), iron nitrate (Fe (NO3) 3 .9H2O), oxynitrate

titane (5TiO2.N205.6H20) ou équivalent.  titanium (5TiO2.N2O5.6H2O) or equivalent.

Le solvant dans lequel ces composés précurseurs sont dissous ou dispersés peuvent être sélectionnés en considération de la solubilité et du traitement suivant (séchage, etc.), et des exemples de solvants qui peuvent être'utilisés incluent des mélanges de solvant d'éthanol et d'alcool isopropyle ou d'autres solvants organiques, ou de l'eau déminéralisée ou équivalent. De plus, l'agent de précipitation de sel métallique peut être sélectionné de façon appropriée en considération de la solubilité des composés précurseurs dans le mélange solvant, la concentration, la valeur de pH et d'autres conditions afin que le précipité soit précipité de façon efficace. Des exemples d'agent de précipitation incluent de l'eau déminéralisée, du bicarbonate de sodium, de l'éthylène glycol ou équivalent. De plus, dans la formation du mélange de liquide mentionné au-dessus des composés précurseurs, les composés précurseurs mentionnés au- dessus peuvent être mélangés dans le liquide avec un composé complexant pour former un mélange liquide. Par quoi, ce composé complexant réagit avec la pluralité mentionné au-dessus de composés précurseurs pour former un composé complexe métallique composite dans lequel au moins un ou plusieurs éléments métalliques sont coordonnés, et après polymérisation du composé complexe métallique composite, un précipité de ce composé complexe métallique composite et de son  The solvent in which these precursor compounds are dissolved or dispersed can be selected in consideration of the solubility and subsequent treatment (drying, etc.), and examples of solvents which can be used include ethanol solvent blends and the like. isopropyl alcohol or other organic solvents, or deionized water or equivalent. In addition, the metal salt precipitant may be suitably selected in consideration of the solubility of the precursor compounds in the solvent mixture, the concentration, the pH value and other conditions so that the precipitate is precipitated effective. Examples of the precipitation agent include deionized water, sodium bicarbonate, ethylene glycol or the like. In addition, in forming the aforementioned liquid mixture above the precursor compounds, the precursor compounds mentioned above can be mixed in the liquid with a complexing compound to form a liquid mixture. By which, this complexing compound reacts with the aforementioned plurality above precursor compounds to form a composite metal complex compound in which at least one or more metal elements are coordinated, and after polymerization of the composite metal complex compound, a precipitate of this compound composite metal complex and its

polymère peut être obtenu comme sel métallique.  polymer can be obtained as the metal salt.

Ici, le composé complexant mentionné au-dessus devrait de préférence contenir au moins deux groupes de carboxyles comme sites de coordination et au moins un autre site de coordination. A savoir, en ayant trois sites de coordination ou plus, il est capable de coordonner au moins un élément métallique et les sites de coordination restants peuvent être utilisés pour  Here, the complexing compound mentioned above should preferably contain at least two carboxyl groups as coordination sites and at least one other coordination site. Namely, by having three or more coordination sites, it is able to coordinate at least one metallic element and the remaining coordination sites can be used to

former des chaînes dans la réaction de polymérisation.  to form chains in the polymerization reaction.

Des exemples de tels composés complexants incluent l'acide éthylènediaminetétraacétique (EDTA) et de  Examples of such complexing compounds include ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA) and

l'acide citrique.citric acid.

De plus, le précipité gélatineux de sels métalliques précipités à partir du mélange liquide des composés précurseurs peut être séché et chauffé (ou calciné) pour retirer toute humidité ou impureté (composés organiques ou gaz, etc.) qui peuvent être présents. De cette manière, il est possible d'obtenir un matériau brut en poudre qui est une composition de poudre contenant la composition stipulée d'éléments métalliques pour constituer le dispositif de thermistance 1. Ensuite, durant la seconde étape, ce matériau brut en poudre est utilisé pour compléter le  In addition, the gelatinous precipitate of metal salts precipitated from the liquid mixture of the precursor compounds can be dried and heated (or calcined) to remove any moisture or impurity (organic compounds or gases, etc.) that may be present. In this way, it is possible to obtain a powdered raw material which is a powder composition containing the stipulated composition of metallic elements to constitute the thermistor device 1. Then, during the second step, this powdered raw material is used to complete the

dispositif de thermistance 1.thermistor device 1.

Dans la seconde étape, le matériau brut en poudre ainsi obtenu est granulé, assemblé avec les fils conducteurs 11 et 12 de Pt ou équivalent, moulé sous la forme désirée et fritté (à une température de globalement 1400 C à 1600 C). Ainsi, comme cela est représenté sur la Figure 1, un dispositif de thermistance 1 consistant en un corps fritté avec les fils conducteurs 11 et 12 fixés, est obtenu. Puis ce dispositif de thermistance 1 est assemblé dans le capteur de température 100 comme cela est représenté sur  In the second step, the powdered raw material thus obtained is granulated, assembled with the conductive wires 11 and 12 of Pt or equivalent, molded in the desired form and sintered (at a temperature of generally 1400 C to 1600 C). Thus, as shown in FIG. 1, a thermistor device 1 consisting of a sintered body with the fixed conductor wires 11 and 12 is obtained. Then this thermistor device 1 is assembled in the temperature sensor 100 as shown on

la Figure 2.Figure 2.

L'évaluation des caractéristiques de résistance du dispositif de thermistance 1 est effectuée dans l'état dans lequel il est assemblé dans le capteur de température 100. La dispersion de la valeur de résistance du dispositif de thermistance 1 est évaluée comme la précision de température du capteur de température 100. Le capteur de température 100 est placé dans un four et la valeur de résistance et le coefficient de résistance-température P ont été mesurés sur la gamme de température allant de la température ambiante (par exemple, 27 C) à 1000 C. Ici, 3 a le même  The evaluation of the resistance characteristics of the thermistor device 1 is carried out in the state in which it is assembled in the temperature sensor 100. The dispersion of the resistance value of the thermistor device 1 is evaluated as the temperature accuracy of the temperature sensor 100. The temperature sensor 100 is placed in an oven and the resistance value and the resistance-temperature coefficient P have been measured over the temperature range from room temperature (for example, 27 C) to 1000 C. Here, 3 has the same

sens que dans le mode de réalisation 1.  meaning that in the embodiment 1.

La méthode d'évaluation de la précision de température est comme suit. Sur la base des données des valeurs de températures - résistance à partir de capteurs de température, la déviation standard a (sigma) de la valeur de résistance à la température de 600 C) a été calculée, et six fois la déviation standard a est prise comme la quantité de dispersion de la valeur de résistance (des deux côtés). La valeur de cette quantité de dispersion de la valeur de résistance lorsqu'elle est convertie en une température et est divisée en deux devient la valeur A, qui est évaluée comme la précision de température de + A C. Comme résultat de cette évaluation pour 100 unités du dispositif de thermistance 1, la précision de température a été trouvée comme étant stable à un niveau de +2-5 C dans la gamme de la température à 600 C (voir  The method of evaluating the temperature accuracy is as follows. On the basis of the data of the temperature values - resistance from temperature sensors, the standard deviation (sigma) of the temperature resistance value of 600 C) has been calculated, and six times the standard deviation a is taken. as the amount of dispersion of the resistance value (on both sides). The value of this dispersion amount of the resistance value when converted to a temperature and divided into two becomes the value A, which is evaluated as the temperature accuracy of + A C. As a result of this evaluation per 100 units of the thermistor device 1, the temperature accuracy was found to be stable at a level of + 2-5 C in the temperature range at 600 C (see

Figure 5).Figure 5).

Ce niveau de précision de température est dans une gamme tout à fait adéquat pour les systèmes qui nécessitent un haut degré de précision comme ceux donnés  This level of temperature accuracy is in a range quite adequate for systems that require a high degree of accuracy as given

dans la description du second objet de la présente  in the description of the second object of this

invention. Par conséquent, au moyen de ce mode de réalisation, la dispersion de la valeur de résistance du dispositif de thermistance peut être réduite au-dessous du niveau conventionnel de la précision de température ( 20-30 C de la température ambiante à 600 C; voir Tableau 6). De plus, le capteur de température 100 qui utilise le dispositif de thermistance 1 de ce mode de réalisation est capable de réaliser une précision de température meilleure que le niveau conventionnel dans  invention. Therefore, by means of this embodiment, the dispersion of the resistance value of the thermistor device can be reduced below the conventional level of temperature accuracy (20-30 C from room temperature to 600 C; Table 6). In addition, the temperature sensor 100 that uses the thermistor device 1 of this embodiment is capable of achieving better temperature accuracy than the conventional level in

la gamme de la température ambiante à 1000 C.  the range from room temperature to 1000 C.

Au moyen de ce mode de réalisation, puisque la pluralité de composés précurseurs se dissolvent ou sont dispersés dans la phase liquide, elles peuvent être mélangées dans le rapport de composition désiré dans l'état de grains fins de l'ordre atomique ou moléculaire, comme les différents composés précurseurs peuvent être mélangés de façon uniforme. Par conséquent, le matériau brut en poudre contient les éléments métalliques mélangés au rapport de composition désiré de l'ordre atomique ou moléculaire, de sorte que les réactions thermiques dans le traitement de chauffage suivant sont rendues uniformes. Par conséquent, finalement, dans un dispositif de thermistance fabriqué sous forme d'un corps fritté, la dispersion dans la composition des grains de cristal qui constituent le  By this embodiment, since the plurality of precursor compounds dissolve or are dispersed in the liquid phase, they can be mixed in the desired composition ratio in the fine-grain state of the atomic or molecular order, such as the different precursor compounds can be mixed uniformly. Therefore, the powdered raw material contains the metal elements mixed with the desired atomic or molecular order composition ratio, so that the thermal reactions in the subsequent heating process are made uniform. Therefore, finally, in a thermistor device manufactured in the form of a sintered body, the dispersion in the composition of the crystal grains which constitute the

dispositif de thermistance peut être supprimée.  Thermistor device can be removed.

Ici, lorsqu'un microscope à électron analytique (AEM) a été utilisé pour examiner les phases cristallines des grains des phases cristallines qui dominent principalement la valeur de résistance, et une analyse de la composition a été effectuée, pratiquement aucune dispersion conventionnelle dans la composition à partir de la composition idéale n'a été remarquée, l'uniformité des compositions au niveau de l'ordre atomique ou moléculaire a été trouvée. De plus, sur l'utilisation d'un microscope à transmission électronique (TEM) pour observer le dispositif de thermistance 1, les dimensions de grains moyens des différents grains de cristal ont été trouvées comme étant plus petites que 1, um, étant de très fins grains, de l'ordre de plusieurs nanomètres à plusieurs centaines de nanomètres qui étaient uniformément  Here, when an analytical electron microscope (AEM) was used to examine the crystalline phases of the grains of the crystalline phases that predominantly dominate the resistance value, and a compositional analysis was performed, virtually no conventional dispersion in the composition from the ideal composition was noticed, the uniformity of the compositions at the level of the atomic or molecular order was found. In addition, on the use of an electron-transmitting microscope (TEM) to observe the thermistor device 1, the average grain size of the different crystal grains was found to be smaller than 1 μm, being very small. fine grains, of the order of several nanometers to several hundred nanometers which were uniformly

dispersés/mélangés dans la composition.  dispersed / mixed in the composition.

(Mode de réalisation 5) Ce mode de réalisation présente la méthode de  (Embodiment 5) This embodiment presents the method of

fabrication du dispositif de thermistance mentionné au-  manufacture of the thermistor device mentioned in

dessus 1, et spécifiquement un dispositif de thermistance consistant en un corps fritté mixte de (MlM2)O3.Y203 qui est un mélange de la composition (MlM2)O3 et Y203 (o M1 est au moins un ou plusieurs éléments sélectionnés parmi les éléments du groupe 2A ou du Groupe 3A du Tableau Périodique sauf l'élément La, et M2 est au moins un ou plusieurs éléments sélectionnés parmi les éléments du Groupe 2B, du Groupe 3B, du Groupe 4A, du Groupe 5A, du Groupe 6A, du Groupe 7A ou du  1, and specifically a thermistor device consisting of a mixed sintered body of (MlM2) O3.Y203 which is a mixture of the composition (MlM2) O3 and Y203 (where M1 is at least one or more elements selected from the elements of Group 2A or Group 3A of the Periodic Table except the element La, and M2 is at least one or more elements selected among the elements of Group 2B, Group 3B, Group 4A, Group 5A, Group 6A, Group 7A or

Groupe 8 du Tableau Périodique).Group 8 of the Periodic Table).

Dans ce corps fritté mixte de (MlM2)O3.Y203, en prenant la fraction molaire de (MlM2)O3 comme étant c, et la fraction molaire de Y203 mentionnée au-dessus comme étant d, ces fractions molaires c et d devraient de préférence satisfaire les relations 0,05<c<1,0,  In this mixed sintered body of (M1M2) O3.Y2O3, taking the mole fraction of (MlM2) O3 as c, and the mole fraction of Y203 mentioned above as d, these mole fractions c and d should preferably satisfy the relationships 0.05 <c <1.0,

0<d<0,95 et c+d=l.0 <d <0.95 and c + d = 1.

En adoptant ces relations, le coefficient de température-résistance 3 décrit dans le mode de réalisation 1 au-dessus peut être rendu ajustable dans la gamme 2000-4000K, ainsi la dispersion dans la valeur de résistance accompagnant des fluctuations en température peut être rendue plus petite, et ainsi un dispositif de thermistance 1 qui est capable de mesurer les températures sur une large gamme partant de la  By adopting these relationships, the temperature-resistance coefficient 3 described in embodiment 1 above can be made adjustable in the range 2000-4000K, so dispersion in the resistance value accompanying temperature fluctuations can be made more small, and so a thermistor device 1 that is able to measure temperatures over a wide range starting from the

température ambiante à 1000 C peut être obtenu.  room temperature at 1000 C can be obtained.

De plus, afin d'obtenir un dispositif de thermistance 1 qui est capable de mesurer la temperature sur une large gamme partant de la température ambiante à 1000 C, Ml devrait de préférence être un ou plusieurs éléments sélectionnés parmi le groupe Y, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho, Er, Yb, Mg, Ca, Sr, Ba et Sc, tandis que M2 devrait de préférence être un ou plusieurs éléments sélectionnés parmi le groupe Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Zn, Al, Ga, Zr, Nb, Mo, Hf, Ta et W. De plus, la méthode de fabrication de ce mode de réalisation comporte les étapes suivantes: une première étape (étape de fabrication du matériau brut en poudre) dans laquelle une pluralité de composés précurseurs contenant les éléments Ml, M2 et Y qui constituent le dispositif de thermistance 1 (ci-après appelé les "éléments constituants") et un agent formant complexe sont mélangés dans la phase liquide pour former un mélange liquide, ladite pluralité de composés précurseurs et ledit agent formant complexe réagissent dans ledit mélange liquide pour former un composé complexe composite dans lequel lesdits éléments constituants sont coordonnés, puis un agent polymérisant est ajouté auxdits composés complexes composites pour obtenir un polymère contenant lesdits éléments constituants, et ledit polymère est séché et chauffé pour obtenir les matériaux bruts en poudre qui  In addition, in order to obtain a thermistor device 1 which is capable of measuring the temperature over a wide range from room temperature to 1000 C, M1 should preferably be one or more elements selected from the group Y, Ce, Pr , Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho, Er, Yb, Mg, Ca, Sr, Ba and Sc, while M2 should preferably be one or more elements selected from the group Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Zn, Al, Ga, Zr, Nb, Mo, Hf, Ta and W. In addition, the manufacturing method of this embodiment comprises the following steps: a first step (step of manufacturing the material powdered crude) in which a plurality of precursor compounds containing the elements M1, M2 and Y which constitute the thermistor device 1 (hereinafter referred to as the "constituent elements") and a complexing agent are mixed in the liquid phase to form a liquid mixture, said plurality of precursor compounds and said ag complex-forming ent react in said liquid mixture to form a composite complex compound in which said components are coordinated, then a polymerizing agent is added to said composite complex compounds to obtain a polymer containing said constituent elements, and said polymer is dried and heated to obtain powdered raw materials that

contiennent lesdits éléments constituants.  contain said constituent elements.

L'acide citrique peut être utilisé comme agent formant complexe mentionné au-dessus et l'éthylène  Citric acid can be used as a complexing agent mentioned above and ethylene

glycol peut être utilisé comme l'agent polymérisant.  glycol can be used as the polymerizing agent.

L'agent formant complexe d'acide citrique comporte une haute solubilité, ainsi le composé complexe composite peut être préparé à une haute concentration et ainsi le contenu en eau du mélange liquide peut être abaissé, réduisant ainsi les exigences en énergie de chauffage pour le séchage et le traitement de chauffage  The citric acid complexing agent has a high solubility, so the composite complex compound can be prepared at a high concentration and thus the water content of the liquid mixture can be lowered, thereby reducing the heating energy requirements for drying and heating treatment

dans les étapes suivantes.in the following steps.

De plus, en augmentant la concentration en acide citrique, la composition de la thermistance peut être rendue encore plus uniforme. Cela est dû au fait que la dissociation des éléments du composé complexe composite deretour dans le mélange liquide peut être supprimée, et la dispersion de la composition du dispositif de thermistance ainsi obtenue peut être réduite. Selon les études faites par les présents inventeurs, il a été trouvé que si le nombre de moles d'acide citrique est pris comme e et le nombre total de moles des éléments Ml, M2 et Y qui constituent le dispositif de thermistance est pris comme f, alors en synthétisant les matériaux bruts afin que le nombre de moles e et f soient telles que la relation 1<e/f<30 soit satisfaite, un dispositif de thermistance 1 comportant  In addition, by increasing the concentration of citric acid, the composition of the thermistor can be made even more uniform. This is because the dissociation of the elements of the composite complex compound from the liquid mixture can be suppressed, and the dispersion of the thermistor device composition thus obtained can be reduced. According to the studies made by the present inventors, it has been found that if the number of moles of citric acid is taken as e and the total number of moles of the elements M1, M2 and Y which constitute the thermistor device is taken as f , then by synthesizing the raw materials so that the number of moles e and f are such that the relation 1 <e / f <30 is satisfied, a thermistor device 1 comprising

une bonne précision de température peut être obtenu.  a good temperature accuracy can be obtained.

Il est à noter que jusqu'à une concentration en acide citrique de 20 fois en poids, le polymère obtenu est un liquide visqueux gélatineux, mais si la concentration en acide citrique est augmentée à 30 fois par poids, alors le polymère ne devient pas un liquide visqueux gélatineux, mais plutôt une solution colloïdale  It should be noted that up to a citric acid concentration of 20 times by weight, the polymer obtained is a gelatinous viscous liquid, but if the concentration of citric acid is increased to 30 times by weight, then the polymer does not become a gelatinous viscous liquid, but rather a colloidal solution

dispersée dans le liquide.dispersed in the liquid.

Cela est dû au fait que si la concentration d'acide citrique est plus grande que 30 fois par poids, alors le phénomène d'association et d'agglutination des molécules d'acide citrique survient, et le polymère obtenu par la suite devient une solution colloidale, et l'acide citrique ajouté ne peut pas être utilisé de façon effective dans la formation complexe, ainsi une partie des éléments constituant du dispositif de thermistance restera non-dissociée dans la phase liquide. Pour cette raison, cela crée des problèmes additionnels, tels que la divergence dans la composition à partir de la composition idéale et la divergence dans la composition peut même tendre à devenir plus importante. Par conséquent, la concentration en acide  This is because if the concentration of citric acid is greater than 30 times by weight, then the phenomenon of association and agglutination of the citric acid molecules occurs, and the polymer obtained thereafter becomes a solution colloidal, and the added citric acid can not be effectively used in the complex formation, so a portion of the constituent elements of the thermistor device will remain undissociated in the liquid phase. For this reason, this creates additional problems, such as compositional divergence from the ideal composition, and divergence in composition may even tend to become more important. Therefore, the concentration of acid

citrique devrait satisfaire la relation mentionnée au-  citric should satisfy the relationship mentioned above.

dessus. De pus, de la même manière que dans le mode de réalisation 1 audessus, ce dispositif de thermistance 1 est assemblé dans un capteur de température 100 et ses caractéristiques de résistance (valeur de résistance à partir de la température ambiante à 1000 C, coefficient de résistance-température f, pression de température A C) ont été évalués. Il résulte de l'évaluation du capteur de température 100 de ce mode de réalisation, que la précision de température à partir de la température ambiante jusqu'à 600 C a été trouvée comme étant stable à un niveau de 1,5-8 C (voir Tableau 7), et la précision de température dans la gamme partant de la température ambiante jusqu'à 1000 C a été trouvée  above. Further, in the same manner as in embodiment 1 above, this thermistor device 1 is assembled in a temperature sensor 100 and its resistance characteristics (resistance value from room temperature to 1000 C, coefficient of resistance-temperature f, temperature pressure AC) were evaluated. As a result of the evaluation of the temperature sensor 100 of this embodiment, the temperature accuracy from room temperature to 600 C has been found to be stable at a level of 1.5-8 C ( see Table 7), and the temperature accuracy in the range from room temperature up to 1000 C has been found

comme étant meilleure que les niveaux conventionnels.  as being better than conventional levels.

En passant, dans ce mode de réalisation aussi, puisque la pluralité de composés précurseurs se dissolvent ou se dispersent dans la phase liquide, les mêmes effets méritoires que dans le mode de réalisation 4 ci-dessus sont obtenus et, il en résulte que dans un dispositif de thermistance fabriqué sous la forme d'un corps fritté, la dispersion dans la composition des grains cristallins qui constituent le dispositif de thermistance peut être supprimée. Des observations par AEM et TEM ont aussi montré que des résultats similaires à ceux du mode de réalisation 4 ci-dessus ont été obtenus. (Quatrième aspect)  Incidentally, in this embodiment too, since the plurality of precursor compounds dissolve or disperse in the liquid phase, the same meritorious effects as in the above embodiment 4 are obtained and, as a result, in one embodiment Thermistor device manufactured in the form of a sintered body, the dispersion in the composition of the crystalline grains constituting the thermistor device can be suppressed. AEM and TEM observations have also shown that results similar to those of the above embodiment 4 were obtained. (Fourth aspect)

Ici suit une description du quatrième aspect de  Here follows a description of the fourth aspect of

la présente invention tel que mis en oeuvre par un dispositif de thermistance qui comporte une valeur de résistance de 50 Q à 100 kQ dans la gamme de température partant de la température ambiante jusqu'à 1000 C (ci-après référence comme un dispositif de thermistance à large gamme). Le dispositif de thermistance de ce mode de réalisation peut, par exemple, être utilisé dans un capteur de température pour détecter la température du gaz d'échappement d'une automobile. La Figure 26 est un diagramme explicatif montrant la constitution schématique vue en coupe du  the present invention as implemented by a thermistor device which has a resistance value of 50Ω to 100kΩ in the temperature range from room temperature to 1000C (hereinafter referred to as a thermistor device) wide range). The thermistor device of this embodiment can, for example, be used in a temperature sensor to detect the temperature of the exhaust gas of an automobile. Figure 26 is an explanatory diagram showing the schematic view in section of the

dispositif de thermistance 1 de ce mode de réalisation.  thermistor device 1 of this embodiment.

Le dispositif de thermistance 1 consiste en une partie thermistance 13 constituée de matériaux de thermistance ayant globalement une forme spécifique et un revêtement anti-réducteur 14 fait d'un matériau antiréducteur  The thermistor device 1 consists of a thermistor portion 13 made of thermistor materials having a generally specific shape and an anti-reduction coating 14 made of an anti-reducing material.

formé à la surface de cette partie thermorésistance 13.  formed on the surface of this thermoresistance portion 13.

Ici, comme les matériaux thermorésistants qui constituent la partie thermorésistance 13, sur la base des études faites par les présents inventeurs, un corps fritté mixte formé en mélangeant deux types de composés: un matériau de type perovskite (oxyde) qui comporte une valeur de résistance relativement basse et un matériau qui comporte une valeur de résistance relativement haute est préférable afin d'obtenir un  Here, as the heat-resistant materials which constitute the heat-resistance part 13, on the basis of the studies made by the present inventors, a mixed sintered body formed by mixing two types of compounds: a perovskite-like material (oxide) which has a resistance value relatively low and a material that has a relatively high resistance value is preferable in order to obtain a

dispositif thermorésistant à large gamme.  heat-resistant device with wide range.

Les études des présents inventeurs de divers matériaux de type perovskite ont montré que les matériaux devraient avoir de préférence la composition (MlM2)O3 (o Ml est au moins un ou plusieurs éléments sélectionnés parmi les éléments du Groupe 2A ou du Groupe 3A du Tableau Périodique excluant La, et M2 est au moins un ou plusieurs élément sélectionnés parmi les éléments du Groupe 2B, du Groupe 3B, du Groupe 4A, du Groupe 5A, du Groupe 6A, du Groupe 7A ou du Groupe 8 du  Studies of the present inventors of various perovskite materials have shown that the materials should preferably have the composition (M1M2) O3 (where M1 is at least one or more elements selected from Group 2A or Group 3A elements of the Periodic Table). excluding La, and M2 is at least one or more items selected from the Group 2B, Group 3B, Group 4A, Group 5A, Group 6A, Group 7A or Group 8

Tableau Périodique).Periodic table).

Il est à noter que La est fortement hygroscopie et réagit avec l'humidité dans l'atmosphère pour produire des hydroxydes instables qui pourraient endommager le dispositif de thermistance, aussi il ne  It should be noted that La is highly hygroscopic and reacts with moisture in the atmosphere to produce unstable hydroxides that could damage the thermistor device, so it does not

doit pas être utilisé comme Mi.must not be used as Mi.

De plus, comme les divers éléments dans (MlM2)O3, Ml est de préférence un ou plusieurs éléments sélectionnés parmi Mg, Ca, Sr, Ba (Groupe 2A du Tableau périodique), Y, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho, Er, Yb, Sc (Groupe 3A), tandis que M2 est de préférence un ou plusieurs éléments sélectionnés parmi Zn (Groupe 2B), Al, Ga (Groupe 3B), Ti, Zr, Hf (Groupe 4A), V, Nb, Ta (Groupe 5A), Cr, Mo, W (Groupe 6A), Mn, Tc, Re (Groupe  In addition, like the various elements in (M1M2) O3, M1 is preferably one or more elements selected from Mg, Ca, Sr, Ba (Periodic Table Group 2A), Y, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho, Er, Yb, Sc (Group 3A), while M2 is preferably one or more elements selected from Zn (Group 2B), Al, Ga (Group 3B), Ti, Zr, Hf (Group 4A) ), V, Nb, Ta (Group 5A), Cr, Mo, W (Group 6A), Mn, Tc, Re (Group

7A), Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd, Os, Ir ou Pt (Groupe 8).  7A), Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd, Os, Ir or Pt (Group 8).

Comme matériau comportant une valeur de résistance relativement haute, selon les études des présentes inventeurs, Y203 (oxyde d'yttrium) ou A1203 (oxyde d'aluminium), qui comportent une valeur de résistance relativement haute et qui stabilisent la valeur de résistance de la thermistance, ont été trouvés  As a material having a relatively high resistance value, according to the present inventors' studies, Y 2 O 3 (yttrium oxide) or Al 2 O 3 (aluminum oxide), which have a relatively high resistance value and which stabilize the resistance value of the thermistor, have been found

comme étant avantageusement utilisables.  as being advantageously usable.

La partie thermorésistante 13 peut être faite d'un corps fritté mixte de (MlM2)O3.Y203 obtenu en  The heat-resistant portion 13 may be made of a mixed sintered body of (M1M2) O3.Y2O3 obtained in

frittant un mélange de (MlM2)O3 et Y203 mentionnés au-  sintering mixture of (MlM2) O3 and Y203 mentioned above

dessus, ou la partie thermorésistante 13 peut être faite d'un corps fritté mixte de MlM2)O3.A1203 obtenu en  above, or the heat-resistant portion 13 may be made of a mixed sintered body of MlM2) O3.A1203 obtained in

frittant un mélange de (MlM2)O3 et A1203 mentionnés au-  sintering mixture of (MlM2) O3 and Al2O3 mentioned above.

dessus.above.

D'un autre côté, le revêtement anti-réducteur 14 ne devrait pas permettre à l'oxygène de passer au  On the other hand, the anti-reducer coating 14 should not allow oxygen to pass through

travers et devrait être fait d'un matériau anti-  through and should be made of an anti-

réducteur qui comporte une valeur de résistance plus haute que celle du matériau thermorésistant qui constitue la partie thermorésistante 13 (c'est-à-dire le corps fritté mixte mentionné au- dessus). Le matériau anti-réducteur mentionné au-dessus devrait de préférence contenir un ou plusieurs éléments sélectionnés parmi le groupe de Y, Al et Si. Cette composition est de préférence une composition sélectionnée parmi le groupe de Y203 (yttria), A1203 (oxyde d'aluminium), SiO2 (oxyde de silicium), Y3A15012 (YAG), 3A1203. 2SiO2 (mullite) et Y2Si05. Comme cela est représenté sur la Figure 26, une paire de liaisons conductrices faites de platine ou équivalent (éléments électriquement conducteur) 11, 12 est prévu sur le dispositif thermorésistant 1 afin de détecter la température à partir du changement dans la résistance du dispositif. Les deux fils conducteurs 11 et 12 pénètrent le revêtement anti-réducteur 14 avec une  reducer which has a higher resistance value than that of the heat-resistant material which constitutes the heat-resistant part 13 (that is to say the mixed sintered body mentioned above). The anti-reducing material mentioned above should preferably contain one or more elements selected from the group of Y, Al and Si. This composition is preferably a composition selected from the group of Y 2 O 3 (yttria), Al 2 O 3 (oxide of aluminum), SiO2 (silicon oxide), Y3A15012 (YAG), 3A1203. 2SiO 2 (mullite) and Y 2 SiO 5. As shown in Fig. 26, a pair of conductive links made of platinum or equivalent (electrically conductive elements) 11, 12 is provided on the heat-resistant device 1 in order to detect the temperature from the change in the resistance of the device. The two conductive wires 11 and 12 penetrate the anti-reducer coating 14 with a

extrémité enterrée dans la partie thermorésistante 13.  end buried in heat-resistant part 13.

Il est à noter que, bien que cela ne soit pas représenté, la partie des deux câbles conducteurs 11 et 12 enterrée dans la partie thermorésistante 13 sont disposés à une distance fixe loin l'un de l'autre. Comme cela est décrit au-dessus, le matériau anti-réducteur comporte une résistance électrique plus importante que le matériau thermorésistant qui constitue la partie thermorésistante 13 et est une résistance, ainsi le  It should be noted that, although this is not shown, the part of the two conductive cables 11 and 12 buried in the heat-resistant part 13 are arranged at a fixed distance far from each other. As described above, the anti-reducer material has a greater electrical resistance than the heat-resistant material which constitutes the heat-resistant portion 13 and is a resistor, so the

revêtement anti-réducteur 14 peut éviter un court-  anti-reducer coating 14 can avoid a short

circuit entre les deux fils conducteurs 11 et 12.  circuit between the two conductive wires 11 and 12.

Le dispositif de thermistance 1 mentionné au-  The thermistor device 1 mentioned above

dessus avec des fils conducteurs 11 et 12 fixés est assemblé dans un capteur de température 100 comme cela est représenté sur la Figure 27. La figure 27 est un diagramme explicatif montrant l'intérieur du couvercle  top with fixed leads 11 and 12 is assembled in a temperature sensor 100 as shown in Fig. 27. Fig. 27 is an explanatory diagram showing the inside of the cover

de métal du capteur de température 100 en perspective.  of metal temperature sensor 100 in perspective.

La Figure 28 est une vue en coupe au niveau A-A de la Figure 27. Dans les Figures 27 et 28, la référence 2 est un couvercle de métal cylindrique et la référence 3 est un tuyau métallique. Les extrémités des fils conducteurs 11 et 12 vis-à-vis des extrémités enterrées dans la partie de thermistance 13 sont électriquement connectées aux fils 31 et 32 afin d'échanger des signaux avec la circuiterie externe (par exemple, une unité de contrôle d'échappement d'automobile (ECU). Les localisations des connexions parmi les câbles conducteurs 11, 12, 31 et 32 peuvent être soit à l'intérieur soit à l'extérieur du tuyau métallique 3. Comme cela est représenté sur la Figure 28, l'intérieur du tuyau métallique 3 est rempli de poudre de magnésie 33 afin d'assurer l'isolation des fils conducteurs 31 et 32 à l'intérieur dans le tuyau de métal 3. Le couvercle de métal 2 est assuré au rebord extérieur du tuyau de métal 3 au moyen de griffes ou équivalent, de sorte que l'intérieur du couvercle de  Figure 28 is a sectional view at A-A of Figure 27. In Figures 27 and 28, reference numeral 2 is a cylindrical metal cover and numeral 3 is a metal pipe. The ends of the conductive wires 11 and 12 with respect to the buried ends in the thermistor portion 13 are electrically connected to the wires 31 and 32 in order to exchange signals with the external circuitry (for example, a control unit of Automotive Exhaust (ECU) The locations of the connections among the conductive cables 11, 12, 31 and 32 may be either inside or outside the metal pipe 3. As shown in Figure 28, the The interior of the metal pipe 3 is filled with magnesia powder 33 to insure the insulation of the wires 31 and 32 inside the metal pipe 3. The metal cover 2 is secured to the outer edge of the pipe. metal 3 by means of claws or equivalent, so that the inside of the lid of

métal 2 soit un espace scellé.metal 2 is a sealed space.

Ensuite, la méthode de fabrication du dispositif de thermistance 1 sera décrite. D'abord, le cas de l'utilisation d'un corps fritté mixte de (MlM2)03.Y203.A1203 comme partie thermorésistante 13 sera décrite. La méthode de fabrication dans ce cas peut être globalement divisée en une première et une seconde étape. Premièrement, les matériaux bruts pour Ml et M2, qui sont des oxydes de MI (MlOx) et des oxydes de M2 (M20x) et Y203 (qui peuvent être les mêmes que MlOx), sont combinés (formulation 1), mélangés et moulus en utilisant un broyeur-mélangeur de milieux ou équivalent (étape de mélange) puis sujets à la calcination à une température d'environ 1100 C à approximativement 1300 C) (étape de calcination). Une composition de (MlM2)03.Y203 est obtenue comme calcine. C'est la fin de la première  Next, the method of manufacturing the thermistor device 1 will be described. First, the case of using a mixed sintered body of (MlM2) 03.Y203.A1203 as heat-resistant part 13 will be described. The manufacturing method in this case can be broadly divided into a first and a second step. First, the raw materials for M1 and M2, which are MI oxides (MlOx) and oxides of M2 (M20x) and Y203 (which may be the same as MlOx), are combined (Formulation 1), mixed and ground into using a media mill-mixer or equivalent (mixing step) and then subjected to calcination at a temperature of about 1100 C to about 1300 C) (calcination step). A composition of (MlM2) 03.Y203 is obtained as calcine. This is the end of the first

étape de préparation.preparation stage.

Puis, la quantité appropriée de cette calcine ainsi obtenue est pesée (formulation 2) et la calcine pesée est moulue (étape de broyage), intégrée avec des fils conducteurs de Pt ou équivalent, moulée sous une forme désirée dans un moule (étape de moulage) et frittée à une température d'environ 1400 C à approximativement 1600 C (étape de frittage). De cette manière, un corps fritté mixte (partie thermorésistante  Then, the appropriate amount of this calcine thus obtained is weighed (formulation 2) and the weighed calcine is ground (grinding step), integrated with Pt conductive wires or the like, molded into a desired shape in a mold (molding step ) and sintered at a temperature of about 1400 C to about 1600 C (sintering step). In this way, a mixed sintered body (heat-resistant part

13) avec des câbles 11 et 12 fixés, est obtenue.  13) with fixed cables 11 and 12 is obtained.

Ensuite, la surface de la partie thermorésistante 13 est recouverte par immersion avec les précurseurs du matériau anti- réduction dans l'état liquide (étape de revêtement par immersion) et le frittage est effectué à une température d'approximativement 1400 C à approximativement 1600 C (étape de frittage). Ainsi, un dispositif de thermistance 1 avec un revêtement anti-réducteur 14 formé à sa surface est obtenu. C'est la fin de la  Next, the surface of the heat-resistant portion 13 is dip-coated with the precursors of the anti-reduction material in the liquid state (dip coating step) and the sintering is conducted at a temperature of approximately 1400 C to approximately 1600 C (sintering step). Thus, a thermistor device 1 with an anti-reduction coating 14 formed on its surface is obtained. This is the end of the

seconde étape de préparation.second stage of preparation.

Puis, le cas o l'on utilise un corps fritté mixte de (M1M2)O3.A1203 comme partie thermorésistante 13 sera maintenant décrit. La méthode de fabrication dans ce cas peut aussi être largement divisée en première et seconde étapes. Cependant, la différence réside en ce que après que la calcine ait été obtenue dans la première étape de préparation, la calcine est combinée avec de l'A1203 dans la formulation 2 de sorte que la  Then, the case where a mixed sintered body of (M1M2) O3.A1203 is used as heat-resistant part 13 will now be described. The manufacturing method in this case can also be widely divided into first and second stages. However, the difference is that after the calcine has been obtained in the first preparation step, the calcine is combined with A1203 in the formulation 2 so that the

valeur de résistance et le coefficient résistance-  resistance value and resistance coefficient

température désirées sont obtenus.  desired temperatures are obtained.

D'abord, lors de la première étape de préparation, en démarrant avec les matériaux bruts pour Ml et M2, la formulation 1, l'étape de mélange et l'étape de calcination sont mises en ouvre pour obtenir  First, in the first preparation step, starting with the raw materials for M1 and M2, formulation 1, the mixing step and the calcining step are carried out to obtain

la composition (MlM2)O3 comme calcine.  the composition (MlM2) O3 as calcine.

Puis, la quantité appropriée de cette calcine ainsi obtenue est pesée et combinée avec du A1203 de sorte que la valeur de résistance et le coefficient de température-résistance désirés sont obtenus (formulation 2). La calcine pesée est soumise à l'étape de broyage, à l'étape de moulage et à l'étape de frittage pour obtenir un corps fritté mixte (partie thermistance 13) avec des fils conducteurs 11 et 12 fixés. Ensuite, l'étape de revêtement par immersion et l'étape de formation de revêtement sont mises en oeuvre pour obtenir le  Then, the appropriate amount of this calcine thus obtained is weighed and combined with A1203 so that the desired resistance value and temperature-resistance coefficient are obtained (formulation 2). The weighed calcine is subjected to the grinding step, the molding step and the sintering step to obtain a mixed sintered body (thermistor portion 13) with fixed wires 11 and 12. Then, the dip coating step and the coating forming step are carried out to obtain the

dispositif de thermistance 1.thermistor device 1.

Il est à noter que dans le cas de (MlM2)O3.Y203 aussi, il est possible d'obtenir du (M1M2)O3 comme calcine dans la première étape de préparation, et de combiner la calcine (MlM2)O3 avec Y203 pour la formulation 2 dans la seconde étape de préparation, de sorte que le coefficient de résistance-température et la valeur de résistance désirée sont obtenus, et en continuant vers l'étape de frittage pour obtenir un  It should be noted that in the case of (MlM2) O3.Y203 also, it is possible to obtain (M1M2) O3 as calcine in the first preparation step, and to combine the calcine (MlM2) O3 with Y203 for the formulation 2 in the second preparation step, so that the resistance-temperature coefficient and the desired resistance value are obtained, and continuing to the sintering step to obtain a

corps fritté mixte de (MlM2)O3.Y203.  mixed sintered body of (MlM2) O3.Y203.

Durant l'étape de revêtement par immersion mentionnée au-dessus, un liquide contenant un composé organométallique peut être utilisé. Un alcoolate (alkoxyde de métal) contenant un ou plusieurs éléments sélectionnés parmi le groupe de Y, Ai et Si peut être  During the immersion coating step mentioned above, a liquid containing an organometallic compound may be used. An alkoxide (metal alkoxide) containing one or more elements selected from the group of Y, Ai and Si may be

utilisé comme composé organométallique.  used as an organometallic compound.

En effectuant le revêtement par immersion utilisant le liquide contenant ces composés organométalliques, les composés organométalliques qui sont les précurseurs du matériau anti-réducteur peuvent être appliqués à la surface de la partie thermorésistante 13. Ainsi, le revêtement anti-réducteur 14 fait de Y203, A1203, Y3A15012, mullite, Y2SiO5 ou équivalent durant l'étape de formation de film, est  By performing the dip coating using the liquid containing these organometallic compounds, the organometallic compounds that are the precursors of the anti-reducer material can be applied to the surface of the heat-resistant portion 13. Thus, the anti-reducer coating 14 makes Y203, A1203, Y3A15012, mullite, Y2SiO5 or equivalent during the film forming step, is

formé comme matériau anti-réducteur.  formed as an anti-reducing material.

Dans la formulation 1 et la formulation 2 mentionnées au- dessus, il est préférable d'ajouter une aide au frittage afin d'améliorer les caractéristiques de frittage et équivalent du corps fritté mixte. Il résulte des études des présents inventeurs sur diverses aides au frittage, qu'il a été trouvé que l'utilisation d'au moins une aide au frittage sélectionnée parmi le groupe de CaO, CaCO3, CaSiO3 ou SiO2 est préférable afin d'obtenir un dispositif de thermorésistance avec une densité frittée supérieure, pour stabiliser la valeur de résistance du dispositif de thermorésistance, et pour réduire la dispersion dans les valeurs de résistance par rapport aux fluctuations dans la  In formulation 1 and formulation 2 mentioned above, it is preferable to add a sintering aid in order to improve the sintering characteristics and equivalent of the mixed sintered body. From the studies of the present inventors on various sintering aids, it has been found that the use of at least one sintering aid selected from the group of CaO, CaCO3, CaSiO3 or SiO2 is preferable in order to obtain a thermoresistance device with a higher sintered density, for stabilizing the resistance value of the thermoresistance device, and for reducing the dispersion in the resistance values with respect to the fluctuations in the

température de frittage.sintering temperature.

Dans la partie thermorésistante 13 du dispositif de thermorésistance 1 obtenue de cette manière, les composés de type perovskite (M1M2)O3 et Y203 (ou A1203) sont mélangés de façon uniforme via leurs limites de grains. Un capteur de température 100 utilisant un dispositif de thermorésistance 1 a été placé dans un four à haute température et la valeur de résistance et le coefficient de résistance-température P ont été mesurés sur la gamme de température partant de la température ambiante (par exemple 27 C) à 1000 C, avec le taux de changement de résistance AR2 durant le vieillissement thermique à 900 C. Ici, ce vieillissement thermique fera que le dispositif de thermorésistance 1 sera soumis aux effets d'une atmosphère réductrice à l'intérieur du couvercle de métal 2, ainsi le taux mentionné au-dessus de changement de résistance AR2 devient un indice pour l'évaluation de la stabilité de la valeur de la résistance du dispositif de thermistance  In the heat-resistant portion 13 of the heat-resistance device 1 obtained in this way, the perovskite (M1M2) O3 and Y203 (or A1203) compounds are mixed uniformly via their grain boundaries. A temperature sensor 100 using a heat-resistance device 1 was placed in a high temperature oven and the resistance value and the temperature-resistance coefficient P were measured over the temperature range from room temperature (for example C) at 1000 C, with the rate of change of resistance AR2 during thermal aging at 900 C. Here, this thermal aging will cause the thermoresistor device 1 will be subjected to the effects of a reducing atmosphere inside the cover of metal 2, so the rate mentioned above resistance change AR2 becomes an index for the evaluation of the stability of the resistance value of the thermistor device

1 dans ce mode de réalisation.1 in this embodiment.

Ici, P comporte le même sens que dans le mode de réalisation 1 ci-dessus. De plus, le taux de changement de résistance AR2 représente le taux de changement de la résistance du capteur de température dans une atmosphère réductrice comme donné au-dessus, exprimée par la formule: AR2(%)=(Rmaxt/Rt)xlOO-100. Ici Rt représente la valeur de résistance initiale à une température stipulée t, (par exemple, 600 C) et Rmaxt est la valeur de résistance maximum de Rt durant le vieillissement  Here, P has the same meaning as in embodiment 1 above. In addition, the resistance change rate AR2 represents the rate of change of the temperature sensor resistance in a reducing atmosphere as given above, expressed by the formula: AR2 (%) = (Rmaxt / Rt) x100-100 . Here Rt represents the initial resistance value at a stipulated temperature t, (for example, 600 C) and Rmaxt is the maximum resistance value of Rt during aging.

thermique à 900 C.thermal at 900 C.

I1 en résulte que, dans la gamme de températures de la température ambiante à 1000 C, Rt a été trouvé comme étant variable entre 50 Q et 100 kQ, et P est ajustable dans la gamme de 2000-4000K, et AR2 a été trouvé comme étant stable à un niveau de + (plus)  As a result, in the temperature range from room temperature to 1000 C, Rt was found to be variable between 50 Q and 100 kΩ, and P is adjustable in the range of 2000-4000K, and AR2 was found as being stable at a level of + (more)

plusieurs % (voir Tableaux 9 et 10).  several% (see Tables 9 and 10).

Ainsi, selon ce mode de réalisation, en adoptant une structure de dispositif dans laquelle le revêtement anti-réducteur 14 est formé, il est possible de fournir un dispositif de thermorésistance 1 qui comporte une petite valeur de taux de changement de résistance AR2 et des caractéristiques stables (stabilité de la valeur de résistance) même si le dispositif lui-même est soumis à  Thus, according to this embodiment, by adopting a device structure in which the anti-reducer coating 14 is formed, it is possible to provide a thermoresistor device 1 which has a small value of resistance change rate AR2 and characteristics stable (stability of the resistance value) even if the device itself is subject to

un environnement réducteur.a reducing environment.

De plus, selon ce mode de réalisation, puisqu'il n'y a pas besoin de mettre en oeuvre le traitement de vieillissement thermique à haute température (approximativement 900 C) pendant une longue durée (approximativement 100 heures), il est possible de réduire les étapes de fabrication et d'abaisser les  In addition, according to this embodiment, since there is no need to implement the high temperature thermal aging treatment (approximately 900 C) for a long time (approximately 100 hours), it is possible to reduce manufacturing steps and lowering the

coûts des capteurs.sensor costs.

De plus, en faisant en sorte que la partie thermorésistante 13 ait le corps fritté mixte mentionné au-dessus, le capteur comporte des excellentes caractéristiques résistance-température, par quoi sa valeur de résistance est 50 Q à 100 kQ sur la gamme de température partant de la température ambiante à 1000 C, ainsi il est possible de fournir un dispositif de thermistance qui est capable de détecter des températures sur une large gamme de températures de la  In addition, by having the heat resisting portion 13 have the above-mentioned mixed sintered body, the sensor has excellent resistance-temperature characteristics, whereby its resistance value is 50Ω to 100kΩ over the starting temperature range. from room temperature to 1000 C, so it is possible to provide a thermistor device that is capable of detecting temperatures over a wide temperature range of the

température ambiante à 1000 C.room temperature at 1000 C.

Afin de réaliser les différentes valeurs de la valeur de résistance (Rt), de gamme et de D de façon plus fiable, les fractions molaires a et b dans a(MlM2)O3.bY203 et a(MlM2)O3.bA1203 ont de préférence les relations 0,05<a<1,0, 0<b 0,95 et a+b=l. Dans un corps fritté mixte, les fractions molaires peuvent varier sur une large gamme de sorte que, en mélangeant de façon appropriée et en frittant les deux (MlM2)O3 et Y203 (ou A1203), la valeur de résistance et le coefficient de résistance- température peuvent être contrôlés de façon  In order to achieve the different values of the resistance value (Rt), range and D more reliably, the mole fractions a and b in a (MlM2) O3.bY203 and a (MlM2) O3.bA1203 preferably have the relations 0.05 <a <1.0, 0 <b 0.95 and a + b = 1. In a mixed sintered body, the mole fractions can vary over a wide range so that, by appropriately mixing and sintering the two (M1M2) O3 and Y203 (or A1203), the resistance value and the resistance coefficient temperature can be controlled so

variée sur une large gamme de compositions.  varied over a wide range of compositions.

Ensuite, la présente invention sera décrite avec plus de détail au moyen des exemples de travail 1 à 33 et des exemples comparatifs 1 à 2, mais la présente invention n'est absolument pas limitée à ces exemples de travail. Il est à noter que les exemples de travail 9 à 17 sont utilisés pour expliquer le mode de réalisation 4 mentionné au-dessus, tandis que les exemples de travail 18 à 23 sont utilisés pour expliquer le mode de  Next, the present invention will be described in more detail by way of Work Examples 1 to 33 and Comparative Examples 1 to 2, but the present invention is by no means limited to these working examples. It should be noted that the working examples 9 to 17 are used to explain the embodiment 4 mentioned above, while the working examples 18 to 23 are used to explain the mode of operation.

réalisation 5 mentionné au-dessus.  embodiment 5 mentioned above.

De plus, dans les exemples de travail 24 à 28, la partie thermorésistante 13 est faite du corps fritté mixte (MlM2)O3.Y203 o Ml est Y et M2 est Cr et Mn, ainsi cela est mis en oeuvre sur le corps fritté mixte Y(CrMn)O3.Y203. Dans des exemples de travail 29 à 33, la partie thermorésistante 13 est faite du corps fritté mixte (MlM2)O3. A1203 o M1 est Y et M2 est Cr et Mn, ainsi cela est mis en oeuvre sur le corps fritté mixte Y(CrMn)O3.A1203.  In addition, in working examples 24 to 28, the heat-resistant portion 13 is made of the mixed sintered body (MlM2) O3.Y203 where M1 is Y and M2 is Cr and Mn, thus this is implemented on the mixed sintered body Y (CrMn) O3.Y203. In working examples 29 to 33, the heat-resistant portion 13 is made of the mixed sintered body (MlM2) O3. A1203 where M1 is Y and M2 is Cr and Mn, thus this is carried out on the mixed sintered body Y (CrMn) O3.A1203.

EXEMPLES DE TRAVAILEXAMPLES OF WORK

(Exemple de travail 1) L'exemple de travail 1 est un exemple de (MlM2)O3 o Ml est Y, M2 est Cr et Mn de sorte que Y(Cro, 5Mno,5)03 et A1203 sont utilisés pour obtenir le  (Work Example 1) Work Example 1 is an example of (MlM2) O3 where M1 is Y, M2 is Cr and Mn so that Y (Cro, 5Mno, 5) 03 and A1203 are used to obtain the

corps fritté mixte Y(Cr0,5Mn0,5)O3.A1203.  mixed sintered body Y (Cr0.5Mn0.5) O3.A1203.

La Figure 4 représente le procédé de fabrication  Figure 4 shows the manufacturing process

du dispositif de thermistance de l'exemple de travail 1.  of the thermistor device of the working example 1.

Ce procédé de fabrication peut être globalement divisé en une première étape de préparation à partir de la formulation 1 jusqu'à ce que du Y(Cr0,5Mn0,5)O3 soit obtenu, et une seconde étape de préparation à partir de la composition de Y(Cro,5MnO,5)O3 ainsi obtenu avec du A1203, etc. (formulation 2) jusqu'à ce que le dispositif  This manufacturing process can be broadly divided into a first preparation step from formulation 1 until Y (Cr 0.5Mn 0.5) O 3 is obtained, and a second preparation step from the composition of Y (Cro, 5MnO, 5) O3 thus obtained with Al 2 O 3, etc. (formulation 2) until the device

de thermistance soit obtenu.thermistor is obtained.

* Durant la première étape de préparation, tout d'abord, Y203, Cr203 et Mn203 chacun avec une pureté de 99,9 % ou plus sont préparés, et le Y203, Cr203 et Mn203 sont chacun pesés afin que le rapport moléculaire de y:Cr:Mn: devienne 2:1:1 dans un poids total de 500 gDuring the first preparation step, first Y203, Cr203 and Mn203 each with a purity of 99.9% or more are prepared, and Y203, Cr203 and Mn203 are each weighed so that the molecular ratio of y: Cr: Mn: become 2: 1: 1 in a total weight of 500 g

(formulation 1).(formulation 1).

Afin de mélanger le matériau ainsi pesé, un broyeur à bille est préparé en plaçant 2,5 kg de billes de diamètre de 15 mm et 2,5 kg de billes de diamètre de mm fait de A1203 ou de Zr203 dans un pot en plastique (capacité de 5 litres). La quantité totale du Y203, Cr203 et Mn203 est placée dans ce pot et 1500 cm3 d'eau déminéralisée est ajoutée, puis le mélange est effectué à tours/minute pendant 6 à 12 heures (étape de mélange). Ici, le mélange après le traitement de mélange a été évalué en utilisant un granulomètre à laser, et les résultats indiquent que la dimension moyenne des  In order to mix the material thus weighed, a ball mill is prepared by placing 2.5 kg of 15 mm diameter balls and 2.5 kg of mm-diameter beads made of A1203 or Zr203 in a plastic pot ( capacity of 5 liters). The total amount of Y 2 O 3, Cr 2 O 3 and Mn 2 O 3 is placed in this jar and 1500 cc of demineralized water is added, followed by mixing at rpm for 6 to 12 hours (mixing step). Here, the mixture after mixing treatment was evaluated using a laser granulometer, and the results indicate that the average

grains est de 1,7 pun (voir Tableau 2).  grain is 1.7 pun (see Table 2).

Le mélange épais de Y203, Cr203 et Mn203 obtenu après le procédé de mélange a été transféré dans un récipient d'évaporation en porcelaine et séché pendant 12 heures à 150 C en utilisant un sécheur à air chaud  The thick mixture of Y 2 O 3, Cr 2 O 3 and Mn 2 O 3 obtained after the mixing process was transferred to a porcelain evaporation vessel and dried for 12 hours at 150 ° C. using a hot air dryer.

pour obtenir un mélange solide de Y203, Cr203 et Mn203.  to obtain a solid mixture of Y203, Cr203 and Mn203.

Ensuite, cette solution solide a été soumise à un broyage dans une machine à mélange et à broyage et passée au travers d'un tamis de mailles 30 # pour  Then, this solid solution was milled in a grinding and milling machine and passed through a 30 # mesh screen for

obtenir un mélange de poudre de Y203, Cr203 et Mn203.  obtain a powder mixture of Y203, Cr203 and Mn203.

Durant l'étape de calcination, ce mélange de poudre a été placé dans un creuset de 99,3 % de A1203 et calciné pendant 1 à 2 heures à 1100 à 1300 C dans un four à haute température dans l'air pour obtenir du Y(Cro0,5Mn0,5)03. Le Y(Cr0,5Mn0,5)O3 qui est devenu un solide de type compact dans la calcination a été broyé grossièrement dans une machine à mélange et à broyage et passé au travers d'un tamis de maillles de 30 # pour  During the calcination step, this powder mixture was placed in a 99.3% Al 2 O 3 crucible and calcined for 1 to 2 hours at 1100 to 1300 C in a high temperature oven in air to obtain Y (Cro0,5Mn0,5) 03. Y (Cr0.5Mn0.5) O3 which became a compact type solid in the calcination was coarsely ground in a mixing and grinding machine and passed through a 30 # mesh screen for

obtenir une poudre.get a powder.

Lorsque ce Y(Cr0,5Mn_05)O3 est utilisé seul comme matériaux de thermistance, il montre une faible  When this Y (Cr0.5Mn05) O3 is used alone as thermistor materials, it shows a low

résistance et un faible coefficient de résistance-  resistance and a low coefficient of resistance-

température de 1000 à 4000K. Afin d'obtenir un matériau de thermistance à large gamme, ce Y(Cro,5MnO,5)O3 est utilisé avec du A1203, qui est un matériau qui stabilise  temperature from 1000 to 4000K. In order to obtain a wide range thermistor material, this Y (Cro, 5MnO, 5) O3 is used with A1203, which is a stabilizing material

la basse résistance de la thermistance.  the low resistance of the thermistor.

Durant la seconde étape de préparation, d'abord, le Y(Cr0,5Mn0,5)O3 en poudre et le A1203 en poudre commercial (pureté de 99,9 % ou plus, dimension moyenne de grains de 0,6 um) sont pesés pour obtenir le rapport molaire de formulation Y(Cr0,5Mn0,5)03:A1203 de 40:60  During the second preparation step, first Y (Cr0.5Mn0.5) O3 powder and A1203 commercial powder (purity of 99.9% or more, average grain size of 0.6 μm) are weighed to obtain the molar ratio of formulation Y (Cr0.5Mn0.5) 03: A1203 40:60

dans un poids total de 500 g.in a total weight of 500 g.

Ici, si les fractions molaire de Y(Cro0,5Mn0,5)O3 et A1203 sont respectivement données comme a et b, (a+b=l), alors ces valeurs deviennent a=0,38 et b=0,62 pour correspondre au rapport molaire de formulation  Here, if the molar fractions of Y (Cro0.5Mn0.5) O3 and Al2O3 are respectively given as a and b, (a + b = 1), then these values become a = 0.38 and b = 0.62 for correspond to the molar ratio of formulation

donné au-dessus.given above.

De plus, le SiO2 et CaCO3 qui assurent la phase liquide dans la gamme de température de 1500 à 1650 C durant le frittage, sont utilisés comme aides au frittage. Le SiO2 est ajouté dans la quantité de 3 % en poids et le CaCO3 dans la quantité de 4,5 % en poids du poids total (500 g) des Y(Cr0,5Mno,5)O03 et A1203  In addition, SiO 2 and CaCO 3, which provide the liquid phase in the temperature range of 1500 to 1650 ° C during sintering, are used as sintering aids. SiO 2 is added in the amount of 3% by weight and CaCO 3 in the amount of 4.5% by weight of the total weight (500 g) of the Y (Cr 0.5Mno, 5) OO 3 and Al 2 O 3.

mentionnés au-dessus (formulation 2).  mentioned above (formulation 2).

Ensuite, durant l'étape de broyage ("Mélange et broyage" dans la Figure), les Y(Cr0,5Mn0,5)03, A1203, SiO2 et CaCO3 mentionnés au- dessus sont placés dans un broyeur à bille préparé en plaçant 2,5 kg de billes de diamètre de 15 mm et 2,5 kg de billes de diamètre de mm de A1203 ou de Zr203 dans un pot en plastique (capacité de 5 litres). Ensuite, 1500 cm3 d'eau déminéralisée est ajoutée, et le mélange est effectué à  Then, during the milling step ("Mixing and grinding" in the Figure), the Y (Cr0.5Mn0.5) O3, Al2O3, SiO2 and CaCO3 mentioned above are placed in a ball mill prepared by placing 2 , 5 kg of 15 mm diameter balls and 2.5 kg of A1203 or Zr203 mm diameter beads in a plastic jar (5 liter capacity). Then 1500 cm3 of demineralised water is added, and mixing is carried out at

tours/minute pendant 4 heures.rpm for 4 hours.

De plus, dans le procédé de broyage mentionné au-dessus, à la partie solide du Y(Cro,5MnO,5)03 et A1203 est ajouté un liant d'alcool polyvinylique (PVA) dans la quantité de 1 g par 100 g du mélange de poudre de Y(Cr0,5Mn0,5)03 et A1203 tandis que le mélange est mélangé et moulu. Ici, le mélange après le traitement de mélange a été évalué en utilisant un granulomètre à laser, et les résultats ont indiqué que la dimension de  In addition, in the grinding process mentioned above, in the solid part of Y (Cro, 5MnO, 5) O 3 and Al 2 O 3 is added a binder of polyvinyl alcohol (PVA) in the amount of 1 g per 100 g of powder mixture of Y (Cr0.5Mn0.5) 03 and Al2O3 while the mixture is mixed and ground. Here, the mixture after mixing treatment was evaluated using a laser granulometer, and the results indicated that the

grains moyenne était de 2,5 lim (voir Tableau 2).  average grain size was 2.5 lim (see Table 2).

Le mélange épais moulu de Y(Cr0,5MnO,5)03 et A1203 obtenu après le mélange et le broyage a été granulé et séché dans un sécheur par pulvérisation pour  The thick ground mixture of Y (Cr0.5MnO5) O3 and Al2O3 obtained after mixing and milling was granulated and dried in a spray dryer for

obtenir un mélange de poudre de Y(Cr0,5Mn0,5)O3 et A1203.  obtain a powder mixture of Y (Cr0.5Mn0.5) O3 and Al2O3.

Ce mélange de poudre devient le matériau brut de thermistance. Ensuite, durant l'étape de moulage, ce matériau brut de thermistance a été utilisé dans un moule avec un diamètre intérieur de 1,74 mm, dans lequel ont été insérés des fils conducteurs faits de Pt 100 (pur platine) avec des dimensions (diamètre extérieur x longueur) de 0,3 mm x 10,5 mm. Le mélange a été effectué à une pression d'environ 1000 kgf/cm2 pour obtenir un dispositif de thermistance moulé avec un diamètre  This powder mixture becomes the raw material of thermistor. Then, during the molding step, this raw thermistor material was used in a mold with an internal diameter of 1.74 mm, in which were inserted conducting wires made of Pt 100 (pure platinum) with dimensions ( outer diameter x length) of 0.3 mm x 10.5 mm. The mixing was carried out at a pressure of about 1000 kgf / cm 2 to obtain a molded thermistor device with a diameter

extérieur de 1,75 mm avec des fils conducteurs attachés.  1.75 mm outside with attached lead wires.

Durant l'étape de frittage, ce dispositif de thermistance moulé a été placé sur un support ondulé ("corrugated layer" en langue anglaise) fait de A1203 et fritté pendant 1 à 2 heures à 1400 à 1600 C dans l'air pour obtenir un dispositif de thermistance fait de aY(Cr0,5Mn0,5)03. bA1203 avec un diamètre extérieur de  During the sintering step, this molded thermistor device was placed on a corrugated layer made of Al 2 O 3 and sintered for 1 to 2 hours at 1400 to 1600 C in air to obtain a thermistor device made of aY (Cr0.5Mn0.5) 03. bA1203 with an outside diameter of

1,60 mm.1.60 mm.

La Figure 1 représente le dispositif de thermistance 1 ainsi obtenu. Les extrémités des deux fils conducteurs parallèles 11 et 12 sont enterrées dans la partie de thermistance cylindrique 13 avec un diamètre extérieur de 1,60 mm. Ce dispositif de thermistance 1 est assemblé en un capteur de température typique 100 comme cela est représenté sur les Figures 2 et 3. Comme cela est représenté sur la Figure 2, le dispositif de thermistance 1 est disposé à l'intérieur d'un boîtier de métal tubulaire 2 résistant à la chaleur. Bien que cela ne soit pas représenté, les fils conducteurs 11 et 12 sont connectés aux fils conducteurs 31 et 32 du tuyau métallique 3 qui passe au travers de l'intérieur du tuyau de métal 3. Comme cela est représenté sur la Figure 3, l'intérieur du tuyau de métal 3 est empli de poudre de magnésie 33 afin d'assurer l'isolation des fils conducteurs 31 et 32 dans le tuyau de métal 3. Cela complète le capteur de température. Il est à noter, dans cet exemple de travail et dans les autres exemples de travail 2 à 8 et dans les exemples comparatifs 1 et 2, le dispositif de thermistance et le capteur de température ainsi fabriqué comportent la même structure que ceux représentés dans  Figure 1 shows the thermistor device 1 thus obtained. The ends of the two parallel conductive wires 11 and 12 are buried in the cylindrical thermistor portion 13 with an outside diameter of 1.60 mm. This thermistor device 1 is assembled into a typical temperature sensor 100 as shown in FIGS. 2 and 3. As shown in FIG. 2, the thermistor device 1 is disposed inside a housing. tubular metal 2 heat resistant. Although not shown, lead wires 11 and 12 are connected to lead wires 31 and 32 of metal pipe 3 which passes through the inside of metal pipe 3. As shown in FIG. The interior of the metal pipe 3 is filled with magnesia powder 33 to insure the insulation of the wires 31 and 32 in the metal pipe 3. This completes the temperature sensor. It should be noted, in this working example and in the other working examples 2 to 8 and in Comparative Examples 1 and 2, the thermistor device and the temperature sensor thus manufactured have the same structure as those shown in FIG.

les Figures 1 à 3, de sorte que l'explication est omise.  Figures 1 to 3, so the explanation is omitted.

Cependant, la composition du matériau pour le corps fritté mixte est naturellement celle donnée dans chaque  However, the composition of the material for the mixed sintered body is naturally that given in each

exemple.example.

De plus, durant la seconde étape de préparation mentionnée au-dessus, les matériaux sont aussi pesés pour donner un rapport molaire de formulation Y(Cr0,5Mn0,5)O3:A1203 de 95:5 et 5:95, et des dispositifs de thermistance sont fabriqués par la suite par la même  In addition, during the second preparation step mentioned above, the materials are also weighed to give a molar ratio of formulation Y (Cr0.5Mn0.5) O3: Al2O3 of 95: 5 and 5:95, and thermistor are subsequently manufactured by the same

méthode et assemblés dans le capteur de température.  method and assembled in the temperature sensor.

Ici, les dispositifs individuels dans lesquels le rapport molaire de formulation Y(Cr0,5Mn0,5)03:A1203 est 40:60, 95:5 et 5:95 sont respectivement appelés dispositif numéro 1, dispositif numéro 2 et dispositif  Here, the individual devices in which the molar ratio of formulation Y (Cr 0.5Mn 0.5) O 3: Al 2 O 3 is 40:60, 95: 5 and 5:95 are respectively called device number 1, device number 2 and device

numéro 3.number 3.

Un capteur de température 100 utilisant un dispositif de thermistance 1 a été placé dans un four à hautes températures et les caractéristiques de température de la valeur de résistance ont été mesurées sur la gamme de température partant de la température ambiante (par exemple, 27 C) à 1000 C de la même manière que dans le mode de réalisation 1 au-dessus. Le Tableau 1 représente les résultats de l'évaluation.  A temperature sensor 100 using a thermistor device 1 was placed in a high temperature oven and the temperature characteristics of the resistance value were measured over the temperature range from room temperature (for example, 27 C). at 1000 C in the same manner as in embodiment 1 above. Table 1 represents the results of the evaluation.

Ici, le Tableau 1 représente les résultats de  Here, Table 1 represents the results of

l'évaluation des caractéristiques de résistance-  the evaluation of the resistance characteristics

température des dispositifs de thermistance des exemples de travail 2 à 4 donnés ci-après. Comme cela a été décrit au-dessus, les exemples de travail 1 à 4 représentent le même corps fritté mixte fabriqué par différentes méthodes de fabrication, comme cela est évident à partir du Tableau 2, même si différentes méthodes de fabrication sont utilisées, une caractéristique résistance-température similaire est obtenu pour chaque rapport molaire de formulation de a:b. Comme cela est représenté dans le Tableau 1, avec le dispositif de thermistance de cet exemple de travail 1, lorsque les fractions molaires (a+b=l) de a(MlM2)O3.bAl203 sont dans les gammes de 0, 05<a<1,0 et 0<b<0,95, le capteur comporte la valeur de résistance basse requise de 50 Q à 100 kQ et le coefficient de température-résistance P montre la gamme de 2000 à 4000K, ainsi la valeur de résistance et le coefficient de température-résistance peuvent être contrôlés sur une large gamme. Par conséquent, le capteur est capable de détecter des températures sur toute la gamme de température partant de la température ambiante jusqu'à  temperature of the thermistor devices of working examples 2 to 4 given below. As described above, working examples 1 to 4 represent the same mixed sintered body made by different manufacturing methods, as is evident from Table 2, although different methods of manufacture are used, a characteristic Similar temperature resistance is obtained for each mole ratio of a: b formulation. As shown in Table 1, with the thermistor device of this working example 1, when the mole fractions (a + b = 1) of a (M1M2) O3.bAl2O3 are in the ranges of 0.05 <a <1.0 and 0 <b <0.95, the sensor has the required low resistance value of 50 Q to 100 kΩ and the temperature-resistance coefficient P shows the range of 2000 to 4000K, so the resistance value and the temperature-resistance coefficient can be controlled over a wide range. As a result, the sensor is able to detect temperatures over the entire temperature range from room temperature to

1000 C.1000 C.

De plus, à partir des résultats du test d'endurance à haute température (taux de changement de résistance AR') aussi, il a été trouvé qu'il est possible de fournir un matériau de thermistance à large gamme qui a des caractéristiques stables o le changement dans la valeur de résistance est petit. Par conséquent, le dispositif de thermistance de cet exemple  In addition, from the results of the high temperature endurance test (rate of change of resistance AR ') too, it has been found that it is possible to provide a wide range thermistor material which has stable characteristics. the change in the resistance value is small. Therefore, the thermistor device of this example

de travail 1 réalise l'objet de la présente invention.  Work 1 accomplishes the object of the present invention.

(Exemple de travail 2) Dans l'exemple de travail 2, comme le matériau brut utilisé pour obtenir le corps fritté mixte Y(Cr0,5Mn0,5)O3.A1203 (Ml=Y, M2=Cr, Mn), d'abord du Y(Cro0,5Mn0,5)O3 est préparé. La Figure 5 représente le procédé de fabrication du dispositif de thermistance de l'exemple de travail 2. Cet exemple est une méthode de fabrication basée sur la première méthode de fabrication  (Work Example 2) In Work Example 2, as the raw material used to obtain the mixed sintered body Y (Cr0.5Mn0.5) O3.A1203 (M1 = Y, M2 = Cr, Mn), of first Y (Cro0.5Mn0.5) O3 is prepared. Figure 5 shows the method of manufacturing the thermistor device of Work Example 2. This example is a manufacturing method based on the first method of manufacture

décrite dans le mode de réalisation 2 mentionné au-  described in Embodiment 2 mentioned above.

dessus, mais l'étape de broyage dans la seconde étape de préparation est effectuée dans un mélangeur de milieux à  above, but the grinding step in the second preparation step is carried out in a media mixer.

la place d'un broyeur à billes.instead of a ball mill.

Comme matériaux de départ de Y203, Cr203 et Mn203, des matériaux avec une haute pureté de 99,9 % ou plus sont utilisés pour chacun. Il est à noter que les dimensions de grain moyen de Y203, Cr203 et Mn203 sont de  As starting materials of Y203, Cr203 and Mn203, materials with a high purity of 99.9% or more are used for each. It should be noted that the average grain size of Y203, Cr203 and Mn203 are

1,0 pm, 2,0 à 4,0 pumn et 7,0 à 15,0 uin, respectivement.  1.0 μm, 2.0 to 4.0 pumn and 7.0 to 15.0 μm, respectively.

La dimension de grains moyen de chacun des matériaux bruts sont les mêmes que dans l'exemple de travail 1 mentionné au-dessus, et dans les exemples de travail 3 à  The average grain size of each of the raw materials are the same as in Work Example 1 mentioned above, and in Work Examples 3 to

8 et les exemples comparatifs 1 à 2 présentés au-dessus.  8 and Comparative Examples 1 to 2 shown above.

Dans la première étape de préparation (dans la Figure 5, à partir de la formulation 1 jusqu'à Y(Cr0,5Mn0,5)O3), tout d'abord, le Y(Cr0,5Mn0, 5)O3) est préparé en pesant le Y203, Cr203 et Mn203 afin que le rapport molaire de Y:Cr:Mn: devienne 2:1:1 dans un poids  In the first preparation step (in Figure 5, from formulation 1 to Y (Cr0.5Mn0.5) O3), first, Y (Cr0.5Mn0.5) O3) is prepared by weighing Y203, Cr203 and Mn203 so that the molar ratio of Y: Cr: Mn: becomes 2: 1: 1 in a weight

total de 500 g (formulation 1).500 g total (formulation 1).

Afin de mélanger le matériau ainsi pesé, un broyeur à billes est préparé en plaçant 2,5 kg de billes de diamètre de 15 mm et 2,5 kg de billes de diamètre de mm fait de A1203 ou de Zr203 dans un pot en plastique (capacité de 5 litres), 1500 cm3 d'eau déminéralisée sont ajoutés et ensuite le mélange est effectué à 60 tours/minute pendant 4 heures (étape de mélange). Ici, le mélange après le procédé de mélange a été évalué en utilisant un granulomètre à laser, et les résultats ont indiqué que la dimension de grains moyen était de 1,7 pim (voir Tableau 2). Cela est plus grand que la dimension moyenne de grains de 1,0 pumn pour le Y203 avant le mélange. Le mélange épais de Y203, Cr203 et Mn203 obtenu après le procédé de mélange a été transféré dans un récipient d'évaporation en porcelaine et séché pendant  In order to mix the material thus weighed, a ball mill is prepared by placing 2.5 kg of 15 mm diameter balls and 2.5 kg of mm-diameter beads made of Al 2 O 3 or Zr 2 O 3 into a plastic pot ( capacity of 5 liters), 1500 cm3 of demineralized water are added and then the mixing is carried out at 60 rpm for 4 hours (mixing step). Here, mixing after the mixing process was evaluated using a laser granulometer, and the results indicated that the average grain size was 1.7 μm (see Table 2). This is larger than the average grain size of 1.0 pumn for Y203 before mixing. The thick mixture of Y 2 O 3, Cr 2 O 3 and Mn 2 O 3 obtained after the mixing process was transferred to a porcelain evaporation vessel and dried for

12 à12 to

17 heures à 100 à 150 C en utilisant un sécheur à air chaud pour obtenir un mélange solide de Y203, Cr203 et Mn203. Ensuite, ce mélange solide a été soumis à un broyage grossier dans une machine à mélanger et broyer et passé au travers d'un tamis de mailles 30 # pour  17 hours at 100-150 ° C using a hot air dryer to obtain a solid mixture of Y 2 O 3, Cr 2 O 3 and Mn 2 O 3. Then, this solid mixture was subjected to coarse grinding in a mixing machine and grinding and passed through a 30 # mesh screen for

obtenir un mélange de poudre de Y203, Cr203 et Mn203.  obtain a powder mixture of Y203, Cr203 and Mn203.

Durant l'étape de calcination, ce mélange de poudre de Y203, Cr203 et Mn203 a été placé dans un creuset de 99,3 % de A1203 et calciné pendant 2 heures à 1100 C dans un four à haute température dans un environnement de pression atmosphérique (dans l'air) pour obtenir du Y(Cro,5Mno,5)O3. Le Y(Cr0,5Mn0,5)O3 qui est devenu un solide de type compact durant la calcination a été soumise à un broyage grossier dans une machine à mélange et à broyage et passé au travers d'un  During the calcination step, this Y 2 O 3, Cr 2 O 3 and Mn 2 O 3 powder mixture was placed in a 99.3% Al 2 O 3 crucible and calcined for 2 hours at 1100 C in a high temperature oven in an atmospheric pressure environment. (in the air) to obtain Y (Cro, 5Mno, 5) O3. Y (Cr0.5Mn0.5) O3, which became a compact solid during calcination, was coarsely milled in a mixing and grinding machine and passed through a

tamis de maillles de 30 # pour obtenir une poudre.  30 # mesh sieve to obtain a powder.

Le Y(Cr0,5Mn0,5)O3 mentionné au-dessus a été utilisé avec du A1203 comme matériaux pour cette thermistance. Dans la seconde étape de préparation (dans la Figure 5, à partir de la formulation 2), d'abord, le Y(Cro,5Mno,5)O3 en poudre (dimension moyenne de grains de 2 à 5 pn) et le A1203 (dimension moyenne de grains de 0,6 pm) sont pesés pour obtenir le rapport molaire de formulation Y(Cr0,5Mn0, 5)03:A1203 de 40:60 dans un poids  The Y (Cr0.5Mn0.5) O3 mentioned above was used with A1203 as materials for this thermistor. In the second preparation step (in FIG. 5, starting from formulation 2), firstly, Y (Cro, 5Mn0, 5) O3 in powder form (average grain size of 2 to 5 μm) and A1203 (average grain size of 0.6 μm) were weighed to obtain the 40: 60 molar ratio of Y (Cr0.5Mn0.5) 03: Al2O3

total de 2000 g.total of 2000 g.

De plus, le SiO2 et CaCO3, qui assurent la phase liquide dans la gamme de température de 1500 à 1650 C durant le frittage, sont utilisés comme aide au frittage. Le SiO2 est ajouté dans la quantité de 3 % en poids et le CaCO3 dans la quantité de 4,5 % en poids du poids total (2000 g) du Y(Cr0, 5MnO 5)O3 et A1203  In addition, SiO2 and CaCO3, which provide the liquid phase in the temperature range of 1500 to 1650 C during sintering, are used as a sintering aid. SiO 2 is added in the amount of 3% by weight and CaCO 3 in the amount of 4.5% by weight of the total weight (2000 g) of Y (Cr 0.5 MnO 5) O 3 and Al 2 O 3.

mentionnés au-dessus (formulation 2).  mentioned above (formulation 2).

Par conséquent, le poids total du Y(Cro,5Mno,5)03, Y203, SiO2 et CaCO3 donne 2150 g de  Therefore, the total weight of Y (Cro, 5Mno, 5) O3, Y203, SiO2 and CaCO3 gives 2150 g of

matériaux bruts broyés.crushed raw materials.

Ensuite, durant l'étape de broyage ("Mélange et broyage" dans la Figure 5), afin d'effectuer un broyage fin des matériaux bruts de thermistance, un broyeur "à perles" ("pearl mill" en langue anglaise) (fabriqué par Ashizawa Co., Ltd., modèle RVIV, capacité effective: 1,0 litre, capacité réelle 0,5 litre) a été utilisé comme mélangeur de milieux. Les conditions de fonctionnement pour ce broyeur à perles nécessitent l'utilisation de 3,0 kg de balles de zircone de 0, 5 mm de diamètre comme milieu de broyage, et que 80 % du volume de la chambre de mixage soient remplis de balles  Then, during the milling step ("Mixing and Grinding" in Fig. 5), in order to carry out a fine grinding of the thermistor raw materials, a "pearl mill" (manufactured in English) is manufactured by Ashizawa Co., Ltd., model RVIV, effective capacity: 1.0 liter, actual capacity 0.5 liter) was used as media mixer. The operating conditions for this bead mill require the use of 3.0 kg of zirconia bales 0.5 mm in diameter as a grinding medium, and 80% of the volume of the mixing chamber to be filled with bales.

de zircone.of zirconia.

Les conditions de fonctionnement sont ajustées à une vitesse périphérique de 12 m/s et à une vitesse de rotation de 3100 tours/minute. I1 est à noter que 4,5 litres d'eau distillée ont été utilisés comme agent de dispersion pour les 2150 g de matériau brut devant être moulu, et l'agent de dispersion et le liant ont été ajoutés de façon simultanée, puis le mélange et le broyage ont été effectués pendant 10 heures. Un liant d'alcool polyvinylique (PVA) a été ajouté dans la quantité de 1 g pour 100 g du matériau brut devant être moulu. Le matériau brut après le traitement de mélange a été évalué en utilisant un granulomètre à laser et les résultats ont indiqué que la dimension de grains moyen était de 0,4 im (voir Tableau 2). Cela est plus petit que la dimension de grains moyen du A1203 avant le  The operating conditions are adjusted to a peripheral speed of 12 m / s and a rotational speed of 3100 revolutions / minute. It should be noted that 4.5 liters of distilled water was used as a dispersing agent for the 2150 g of raw material to be ground, and the dispersing agent and the binder were added simultaneously, and then the mixture and grinding were carried out for 10 hours. A polyvinyl alcohol (PVA) binder was added in the amount of 1 g per 100 g of the raw material to be ground. The raw material after the mixing treatment was evaluated using a laser granulometer and the results indicated that the average grain size was 0.4 μm (see Table 2). This is smaller than the average grain size of the A1203 before

mélange, qui était de 0,6 unm.mixture, which was 0.6 um.

Le matériau épais brut ainsi obtenu a été granulé et séché dans un sécheur par pulvérisation sous des conditions d'une chambre de séchage de température d'admission de 200 C et de température de sortie de 120 C. Les granulés de matériau de thermistance ainsi obtenus étaient sphériques avec une dimension de grains moyen de 30 pim, et ces granulés ont été utilisés pour  The crude thick material thus obtained was granulated and dried in a spray drier under conditions of an inlet temperature drying chamber of 200 C and an exit temperature of 120 C. The granules of thermistor material thus obtained were spherical with an average grain size of 30 pim, and these pellets were used to

mouler le dispositif de thermistance.  mold the thermistor device.

L'étape de moulage a été effectuée par une méthode de moulage par moule dans laquelle des fils conducteurs de Pt 100 avec des dimensions (diamètre extérieur x longueur) de 0,3 mm x 10,5 mm ont été insérés dans un moule mâle, et les granulés ont été placés dans un moule femelle avec un diamètre intérieur  The molding step was carried out by a mold molding method in which Pt 100 conductive wires with dimensions (outer diameter x length) of 0.3 mm x 10.5 mm were inserted into a male mold, and the pellets were placed in a female mold with an inner diameter

de 1,74 mm et le moulage a été effectué à une pression.  1.74 mm and the molding was carried out at a pressure.

d'environ 1000 kgf/cm2 pour obtenir un dispositif de thermistance moulé avec du fil attaché. Dans l'étape de frittage, ce dispositif de thermistance moulé a été placé dans un support ondulé fait de A1203 et fritté pendant 1 à 2 heures à 1500 à 16000C pour obtenir un  of about 1000 kgf / cm2 to obtain a thermistor device molded with attached wire. In the sintering step, this molded thermistor device was placed in a corrugated carrier made of A1203 and sintered for 1 to 2 hours at 1500 to 16000C to obtain a

dispositif de thermistance.thermistor device.

Le dispositif de thermistance ainsi obtenu et un capteur de température qui incorpore ce dispositif de thermistance ont la même structure que ceux représentés dans les Figures 1 à 3. De plus, durant la seconde étape de préparation mentionnée au-dessus, les matériaux sont aussi pesés pour donner un rapport molaire de formulation Y(Cr0, 5Mn0,5)O3:A1203 de 95:5 et 5:95, et des dispositifs de thermistance ont été fabriqués par la suite par la même procédure et assemblés dans des capteurs de température. Ici, les dispositifs individuels de cet exemple de travail 1 dans lequel le rapport molaire de formulation Y(Cr0,5Mn0,5)03:A1203 a:b est 40:60, 95:5 et :95 sont respectivement appelés dispositif numéro 4, dispositif numéro 5, et dispositif numéro 6. Le Tableau 1 représente les résultats de l'évaluation des caractéristiques de résistance-température des capteurs de température avec les dispositifs de thermistance des dispositifs numéro 4 à 6. Ainsi, cet exemple de travail 2 peut aussi fournir des dispositifs de thermistance qui comportent les mêmes effets méritoires que ceux de l'exemple 1 par rapport aux caractéristiques de température-valeur de résistance du dispositif de thermistance. De plus, les dispositifs de thermistance de cet exemple 2 ont été soumis à l'évaluation de la précision de température par la méthode décrite dans le mode de réalisation 2 au-dessus. Ici, le tableau 2 représente la précision de température ( C) trouvé au moyen de la méthode décrite dans le mode de réalisation 2 au-dessus pour les dispositifs de thermistance des exemples de  The thermistor device thus obtained and a temperature sensor which incorporates this thermistor device have the same structure as those shown in Figures 1 to 3. In addition, during the second preparation step mentioned above, the materials are also weighed. to give a molar ratio of formulation Y (Cr0.5Mn0.5) O3: A1203 of 95: 5 and 5:95, and thermistor devices were subsequently manufactured by the same procedure and assembled in temperature sensors. Here, the individual devices of this working example 1 in which the molar ratio of formulation Y (Cr0.5Mn0.5) 03: A1203 a: b is 40:60, 95: 5 and: 95 are respectively called device number 4, device number 5, and device number 6. Table 1 shows the results of the evaluation of the temperature-resistance characteristics of the temperature sensors with the thermistor devices of devices number 4 to 6. Thus, this example of work 2 can also providing thermistor devices which have the same meritorious effects as those of Example 1 with respect to the temperature-resistance characteristics of the thermistor device. In addition, the thermistor devices of this Example 2 were subjected to evaluation of the temperature accuracy by the method described in Embodiment 2 above. Here, Table 2 shows the temperature accuracy (C) found using the method described in Embodiment 2 above for the thermistor devices of the examples of

travail 1 à 8 (a:b=40:60).Work 1 to 8 (a: b = 40: 60).

Il est noter que dans le Tableau 2, Y(CrMn)03 indique Y(Cr0,5Mn0,5)O3 et Y203. De plus, la dimension moyenne de grains après le mélange (pm) indique la dimension moyenne des grains dans les mélanges après les procédés de mélange durant l'étape de mélange de la première étape de préparation (dans cet exemple, le 1,7 upm donné au-dessus). La dimension moyenne de grains après broyage (pm) indique la dimension de grains moyen dans la pâte épaisse du matériau brut après le broyage  It should be noted that in Table 2, Y (CrMn) 03 indicates Y (Cr0.5Mn0.5) O3 and Y203. In addition, the average grain size after mixing (pm) indicates the average grain size in the mixtures after the mixing processes during the mixing step of the first preparation step (in this example, the 1.7 upm given above). The average grain size after grinding (pm) indicates the average grain size in the thick paste of the raw material after grinding

À 2775537At 2775537

durant l'étape de broyage de la seconde étape de  during the grinding stage of the second stage of

préparation (dans cet exemple, le 0,4 pm donné au-  preparation (in this example, the 0.4 μm given

dessus). Cela s'applique à l'exemple de travail 1 et aux  above). This applies to Work Example 1 and

exemples de travail 3 à 8.working examples 3 to 8.

Le dispositif de thermistance du dispositif numéro 4 (a:b=40:60) de cet exemple de travail 2 a montré une précision de température de 10 C, ce qui était une excellente valeur comparée à celle 23 C du dispositif de thermistance du dispositif numéro 1 (a:b=40:60) de l'exemple de travail 1 préparé par la  The thermistor device of device number 4 (a: b = 40: 60) of this working example 2 showed a temperature accuracy of 10 C, which was an excellent value compared to that 23 C of the device thermistor device number 1 (a: b = 40: 60) of Work Example 1 prepared by the

méthode conventionnelle.conventional method.

(Exemple de travail 3) Dans l'exemple de travail 3, les matériaux bruts utilisé Y203, Cr203, Mn203 et CaCO3 sont utilisés pour obtenir le corps fritté mixte Y(Cr0, 5Mn0 5)O3.A1203 (Ml=Y, M2=Cr, Mn). La Figure 6 représente le procédé de fabrication du dispositif de thermistance de l'exemple  (Work Example 3) In Work Example 3, the used raw materials Y203, Cr203, Mn203 and CaCO3 are used to obtain the mixed sintered body Y (Cr0.5Mn0.5) O3.A1203 (M1 = Y, M2 = Cr, Mn). Figure 6 shows the method of manufacturing the thermistor device of the example

de travail 3.working 3.

Cet exemple est une combinaison de la première méthode de fabrication et de la seconde méthode de fabrication décrite dans les modes de réalisation 2 et 3 mentionnés au-dessus. Dans cet exemple, un broyeur de moulage de milieu est utilisé à la fois pour l'étape de mélange de la première étape de préparation (dans la Figure 6, de la formulation 1 à Y(Cr0,5Mn0,5)O3.A1203) et à la fois pour l'étape de broyage de la seconde étape de préparation (dans la Figure 6 à partir de la formulation 2). Tout d'abord, les matériaux de Y203, Cr203, Mn203, et CaCO3, chacun d'eux avec une pureté de 99,9 % ou plus, sont préparés. Dans la formulation 1, ces ingrédients sont pesés afin d'obtenir la valeur de résistance et les coefficients de résistance- température  This example is a combination of the first method of manufacture and the second method of manufacture described in Embodiments 2 and 3 mentioned above. In this example, a media molding mill is used both for the mixing step of the first preparation step (in Figure 6, from Formulation 1 to Y (Cr0.5Mn0.5) O3.A1203) and for both the grinding step of the second preparation step (in Figure 6 from formulation 2). First, materials of Y203, Cr203, Mn203, and CaCO3, each of them with a purity of 99.9% or more, are prepared. In formulation 1, these ingredients are weighed in order to obtain the resistance value and the resistance-temperature coefficients

désirés dans le dispositif de thermistance.  desired in the thermistor device.

De la même manière que dans l'exemple 1 au-  In the same way as in Example 1

dessus, les Y203, Cr203, Mn203 et CaCO3 sont pesés afin que le rapport molaire de Y:Cr:Mn: devienne 2:1:1 dans  above, Y203, Cr203, Mn203 and CaCO3 are weighed so that the molar ratio of Y: Cr: Mn: becomes 2: 1: 1 in

un poids total de 2000 g (formulation 1).  a total weight of 2000 g (formulation 1).

Ensuite, un mélangeur de milieux est utilisé durant l'étape de mélange pour broyer le matériau brut de façon fine. Le mélangeur-broyeur de milieux utilisé dans cet exemple est le même broyeur à perles que celui de l'exemple de travail 2 mentionné au-dessus, et les  Then, a media mixer is used during the mixing step to crush the raw material finely. The media mill-mixer used in this example is the same bead mill as that of Work Example 2 mentioned above, and the

conditions de mélange sont aussi les mêmes.  Mixing conditions are also the same.

Les conditions de fonctionnement sont ajustées à une vitesse périphérique de 12 m/s et à une vitesse de rotation de 3110 tours/minute. Il est à noter que 4,5 litres d'eau distillé ont été utilisés comme agent de dispersion pour les 2036 de matériau brut devant être moulés, et le liant et l'agent de dispersion ont été ajoutés de façon simultanée, puis le mélange et le broyage ont été effectués pendant 10 heures. Un liant d'alcool polyvinylique (PVA) a été ajouté dans la quantité de 20 g pour 2036 g du matériau brut devant  The operating conditions are adjusted to a peripheral speed of 12 m / s and a rotational speed of 3110 revolutions / minute. It should be noted that 4.5 liters of distilled water were used as a dispersing agent for the 2036 of raw material to be molded, and the binder and dispersing agent were added simultaneously, and then the mixture and grinding was carried out for 10 hours. A binder of polyvinyl alcohol (PVA) was added in the amount of 20 g per 2036 g of the raw material before

être moulu.to be ground.

La pâte de matériau brut après le procédé de mélange a été évaluée en utilisant un granulomètre à laser et les résultats ont indiqué que la dimension de grains moyen était de 0,3 pn (voir Tableau 2). Cela est plus petit que la dimension moyenne de grains du Y203 avant le mélange (1,0 pm) et il est aussi plus petit que  The raw material paste after the blending process was evaluated using a laser granulometer and the results indicated that the average grain size was 0.3 μm (see Table 2). This is smaller than the average grain size of Y203 before mixing (1.0 μm) and is also smaller than

0,5 m.0.5 m.

La pâte épaisse de matériau brut ainsi obtenue a été granulée et séchée dans un sécheur par pulvérisation sous des conditions d'une chambre de séchage de température d'entrée de 200 C et d'une température de sortie de 120 C. Les granulés des matériaux de thermistance ainsi obtenus étaient sphériques avec une dimension moyenne de grains de 30 linm, et ces matériaux bruts en poudre étaient placés dans un creuset de 99,3 % de A1203 et calcinés pendant 1 à 2 heures à 1110 à 1300 C dans un four à haute température dans l'air pour  The thick paste of raw material thus obtained was granulated and dried in a spray dryer under conditions of an inlet temperature drying chamber of 200 C and an outlet temperature of 120 C. The granules of the materials The thermistor thus obtained was spherical with an average grain size of 30 μm, and these powdered raw materials were placed in a crucible of 99.3% Al 2 O 3 and calcined for 1 to 2 hours at 1110 to 1300 C in an oven. high temperature in the air for

obtenir Y(Cr0,5Mn0,5)O3 (étape de calcination).  obtain Y (Cr0.5Mn0.5) O3 (calcination step).

Le Y(Cr0,5Mn0,5)03 qui est devenu un solide de type compact durant la calcination a été soumis à un broyage grossier dans une machine de mélange et de broyage et passé au travers d'un tamis de maille 30 #  Y (Cr0.5Mn0.5) 03, which became a compact solid during calcination, was coarsely grinded in a mixing and milling machine and passed through a 30 # mesh screen.

pour obtenir une poudre de Y(Cro,5Mno,5)O3.  to obtain a powder of Y (Cro, 5Mno, 5) O3.

Ensuite, de la même manière que dans l'exemple de travail 1, dans la formulation 2, le Y(Cro,5MnO,5)O3 et A1203 en poudre mentionnés au- dessus (dimension moyenne de grains de 0,6 pun) ont été préparés. Le rapport molaire de formulation de Y(Cr0,5Mn0,5)O3 et A1203 a été ajusté à 40:60 et le poids total était de  Then, in the same way as in working example 1, in formulation 2, the above-mentioned Y (Cro, 5MnO, 5) O 3 and Al 2 O 3 powder (average grain size of 0.6 pun) were been prepared. The molar ratio of formulation of Y (Cr0.5Mn0.5) O3 and Al2O3 was adjusted to 40:60 and the total weight was

2000 g.2000 g.

De la même manière que dans l'étape de mélange au-dessus, un broyeur à perle est aussi utilisé durant l'étape de broyage. De plus, un agent de dispersion, un liant et un agent de libération de moule sont ajoutés aux précurseurs fabriqué dans la formulation 2, et le mélange est mixé, moulu et granulé. Les conditions de broyage pour ce broyeur à perle pour être les mêmes que  In the same way as in the mixing step above, a bead mill is also used during the milling step. In addition, a dispersing agent, a binder and a mold release agent are added to the precursors made in formulation 2, and the mixture is mixed, milled and granulated. The grinding conditions for this bead mill to be the same as

dans l'étape de mélange au-dessus.  in the mixing step above.

La pâte épaisse de matériau brut des matériaux de thermistance ainsi moulue a été évaluée en utilisant un granulomètre à laser et les résultats ont indiqué que la dimension moyenne de grains était de 0,3 wm (voir Tableau 2). Cela est plus petit que la dimension moyenne de grains du A1203 avant la composition la composition  The thick paste of raw material of the thus ground thermistor materials was evaluated using a laser granulometer and the results indicated that the average grain size was 0.3 μm (see Table 2). This is smaller than the average grain size of the A1203 before composing the composition

dans la formulation 1 qui était de 0,6 wm.  in formulation 1 which was 0.6 wm.

La pâte épaisse de Y(Cr0,5Mn0O5)O3.A1203 ainsi obtenue après broyage a été granulée avec un sécheur par pulvérisation sous les mêmes conditions données dans l'étape de séchage au-dessus pour obtenir des granulés de Y(Cr0,5Mn0,5)O3.A1203. Ces granulés ont été utilisés  The thick paste of Y (Cr0.5Mn0O5) O3.A1203 thus obtained after grinding was granulated with a spray dryer under the same conditions given in the drying step above to obtain granules of Y (Cr0.5Mn0, 5) O3.A1203. These granules were used

pour mouler le dispositif de thermistance.  to mold the thermistor device.

L'étape de moulage a été effectuée par une méthode de moulage par moule, dans laquelle des fils conducteurs de Pt 100 avec des dimensions (diamètre extérieur x longueur) de 0,3 mm x 10,5 mm ont été insérés dans un moule mâle, les granulés ont été placés dans un moule femelle avec un diamètre intérieur de 1,89 mm et le moulage a été effectué à une pression d'environ 1000 kgf/cm2 pour obtenir un dispositif de thermistance  The molding step was carried out by a mold-molding method, in which Pt 100 conductive wires with dimensions (outer diameter x length) of 0.3 mm x 10.5 mm were inserted into a male mold. the pellets were placed in a female mold with an inner diameter of 1.89 mm and the molding was carried out at a pressure of about 1000 kgf / cm 2 to obtain a thermistor device

moulé avec des fils conducteurs fixés.  molded with fixed wires.

Ce dispositif de thermistance moulé a été placé sur un support ondulé fait de A1203 et fritté pendant 1 à 2 heures à 1400 à 1600 C pour obtenir un dispositif de thermistance avec un diamètre externe de 1,60 mm (corps  This molded thermistor device was placed on a corrugated carrier made of A1203 and sintered for 1 to 2 hours at 1400 to 1600 C to obtain a thermistor device with an outer diameter of 1.60 mm (body

fritté mixte).mixed sintered).

Ce dispositif de thermistance a été assemblé dans un assemblage de capteur de température pour former un capteur des températures. Le dispositif de thermistance et le capteur de température comportent la même structure que ceux représentés dans les Figures 1 à 3. De plus, les matériaux sont aussi pesés pour donner un rapport molaire de formulation Y(Cr0,5Mn0,5)O3 :A1203 (a:b) dans la formulation 2 de 95:5 et 5:95, et des dispositifs de thermistance sont fabriqués par la suite de la même manière et assemblés en des capteurs de température. Les dispositifs individuels de cet exemple de travail 3 dans lequel le rapport molaire de formulation mentionné au-dessus a:b est 40:60, 95:5 et :95 sont respectivement appelés dispositif numéro 7, dispositif numéro 8, et dispositif numéro 9. Le Tableau 1 représente les résultats de l'évaluation des caractéristiques de température-valeur de résistance de ces unités. Ainsi, cet exemple de travail 3 peut aussi fournir des dispositifs de thermistance qui comportent les mêmes effets méritoires que ceux de l'exemple de travail 1 en ce qui concerne les caractéristiques de température et de valeur de résistance du dispositif de thermistance. De plus, le tableau 2 représente les résultats de l'évaluation de la précision de température trouvés au moyen de la méthode décrite dans le mode de réalisation 2 au-dessus pour le dispositif de thermistance du dispositif numéro 7 de cet exemple de travail 3 (a:b=40:60). Un dispositif de thermistance selon cet exemple de travail a montré une précision de température de 5 C, qui était une valeur excellente comparée à celle ( 23 C) de l'exemple de travail 1 préparé par la méthode conventionnelle et à celle  This thermistor device was assembled into a temperature sensor assembly to form a temperature sensor. The thermistor device and the temperature sensor have the same structure as those shown in Figures 1 to 3. In addition, the materials are also weighed to give a molar ratio of formulation Y (Cr0.5Mn0.5) O3: Al2O3 ( a: b) in Formulation 2 of 95: 5 and 5:95, and thermistor devices are subsequently manufactured in the same manner and assembled into temperature sensors. The individual devices of this working example 3 in which the mole ratio of formulation mentioned above a: b is 40:60, 95: 5 and 95 are respectively called device number 7, device number 8, and device number 9. Table 1 shows the results of the evaluation of the temperature-resistance characteristics of these units. Thus, this working example 3 can also provide thermistor devices which have the same meritorious effects as those of the working example 1 with respect to the temperature and resistance value characteristics of the thermistor device. In addition, Table 2 shows the results of the evaluation of the temperature accuracy found by the method described in Embodiment 2 above for the thermistor device of the device number 7 of this working example 3 (FIG. a: b = 40: 60). A thermistor device according to this working example showed a temperature accuracy of 5 C, which was an excellent value compared to that (23 C) of the working example 1 prepared by the conventional method and that

( 10 C) de l'exemple de travail 2 ci-dessus.  (10 C) of Work Example 2 above.

(Exemple de travail 4) Dans l'exemple de travail 4, les matériaux Y(Cro, 5Mn0,5)O3 et A1203 sont utilisés pour obtenir le corps fritté mixte Y(Cr0,5MnO,5)03.A1203 (Ml=Y, M2=Cr, Mn). La Figure 7 représente le procédé de fabrication du  (Work Example 4) In Work Example 4, materials Y (Cro, 5Mn0.5) O3 and Al2O3 are used to obtain the mixed sintered body Y (Cr0.5MnO, 5) 03.A1203 (M1 = Y). , M2 = Cr, Mn). Figure 7 shows the manufacturing process of the

dispositif de thermistance de l'exemple de travail 4.  thermistor device of the working example 4.

Cet exemple de travail est un exemple de la seconde méthode de fabrication décrite dans le mode de réalisation 3 mentionné au-dessus. Dans cet exemple, un mélangeur de milieux est utilisé pour l'étape de mélange et la première étape de préparation (dans la Figure 7, de la formulation 1 à Y(Cr0,5Mn0,5)03), tandis qu'un broyeur à billes est utilisé pour l'étape de broyage de la seconde étape de préparation (dans la Figure 7, à partir de la formulation 2). A savoir, un broyeur à balles est utilisé à la place d'un mélangeur de milieux  This example of work is an example of the second method of manufacture described in the embodiment 3 mentioned above. In this example, a media mixer is used for the mixing step and the first preparation step (in Figure 7, from Formulation 1 to Y (Cr0.5Mn0.5) 03), while a media mill is used. bead is used for the grinding step of the second preparation step (in Figure 7, from formulation 2). Namely, a ball mill is used in place of a media mixer

dans l'étape de broyage de l'exemple de travail 3 ci-  in the grinding step of the working example 3

dessus). La première étape de préparation de cet exemple de travail est identique à celle de l'exemple de travail 3 au-dessus, aussi son explication détaillée est omise Il est à noter que dans l'exemple de travail 4 aussi, la pâte épaisse du matériau brut après le procédé de mélange et de broyage durant l'étape de mélange, a été évaluée en utilisant un granulomètre à laser, et les résultats ont indiqué que la dimension de grains moyen était de 0,3 pm (voir Tableau 2). De plus, à partir de la première étape de la préparation, de la poudre calcinée de Y(Cr0,5Mn0,5)O3 a  above). The first stage of preparation of this example of work is identical to that of the working example 3 above, so its detailed explanation is omitted. It should be noted that in the working example 4 too, the thick paste of the material Crude after the mixing and grinding process during the mixing step was evaluated using a laser granulometer, and the results indicated that the average grain size was 0.3 μm (see Table 2). In addition, from the first stage of the preparation, calcined powder of Y (Cr0.5Mn0.5) O3 a

été obtenue.been obtained.

Dans la formulation 2, ce Y(Cr0,5Mn0,5)03 (poudre) et A1203 (dimension moyenne de grains de 0,6 pm) ont été pesés de sorte que le a et le b de aY(Cr0,5Mn0,5)O3.bAl203 deviennent 40:60 et le poids  In formulation 2, this Y (Cr0.5Mn0.5) 03 (powder) and Al2O3 (average grain size of 0.6μm) were weighed so that the a and b of aY (Cr0.5Mn0.5 ) O3.bAl203 become 40:60 and the weight

total soit de 2000 g.total of 2000 g.

Ensuite, durant l'étape de broyage, afin de mélanger et de broyer le Y(Cro,5MnO,5)03 et A1203 pesés  Then, during the grinding step, to mix and grind the weighed Y (Cro, 5MnO, 5) 03 and A1203

dans la formulation 2, un broyeur à balles est utilisé.  in formulation 2, a ball mill is used.

Les conditions de broyage sont les suivantes: 10 kg de billes de diamètre de 15 mm et 10 kg de billes de diamètre de 20 mm faites de A1203 sont placées dans un pot de plastique (capacité de 20 litres), 2000 g du mélange pesé mentionné au-dessus et 6000 cm3 d'eau déminéralisée ont été ajoutés puis le mélange et le broyage ont été effectués à 60 tours/minute pendant 6 heures. La pâte épaisse de matériau brut après les procédés de broyage a été évaluée en utilisant un granulomètre à laser, et les résultats ont indiqué que la dimension moyenne de grains était de 1,6 pim (voir Tableau 2). Cela est plus important que la dimension moyenne de grains de A1203 avant la composition dans la formulation 2, qui était de 0,6 pm. De plus, un agent de dispersion, un liant et un agent de libération du moule sont ajoutés durant l'étape du broyage et ceux-ci sont  The grinding conditions are as follows: 10 kg of 15 mm diameter balls and 10 kg of 20 mm diameter balls made of A1203 are placed in a plastic jar (capacity of 20 liters), 2000 g of the weighed mixture mentioned above and 6000 cc of demineralised water was added and mixing and grinding was carried out at 60 rpm for 6 hours. The thick paste of raw material after grinding processes was evaluated using a laser granulometer, and the results indicated that the average grain size was 1.6 μm (see Table 2). This is more important than the average grain size of A1203 before the composition in formulation 2, which was 0.6 μm. In addition, a dispersing agent, a binder and a mold release agent are added during the milling step and these are

aussi moulus ensemble.also ground together.

La pâte épaisse de Y(Cr0o,5Mn0o,5)03.A1203 ainsi obtenue après le broyage a été granulée, moulée et frittée de la même manière que dans l'exemple de travail 2 pour obtenir un dispositif de thermistance. Ce dispositif de thermistance a été assemblé dans un assemblage de capteur de température de la même manière que dans l'exemple de travail 2 pour former un capteur de température. Le dispositif de thermistance et le capteur de température comportent la même structure que  The thick paste of Y (Cr0 0, 5Mn0 0, 5) 03.A1203 thus obtained after grinding was granulated, molded and sintered in the same manner as in working example 2 to obtain a thermistor device. This thermistor device was assembled into a temperature sensor assembly in the same manner as in Work Example 2 to form a temperature sensor. The thermistor device and the temperature sensor have the same structure as

ceux représentés dans les Figures 1 à 3.  those shown in Figures 1 to 3.

De plus, les matériaux sont aussi pesés pour donner un rapport molaire de formulation Y(Cr0,5Mn0,5)O3:A1203 (a:b) dans la formulation 2 de 95:5 et 5:95, et des dispositifs de thermistance sont fabriqués par la suite par la même procédure et assemblés dans des capteurs de température. Les dispositifs individuels de cet exemple de travail 4 dans  In addition, the materials are also weighed to give a molar ratio of formulation Y (Cr0.5Mn0.5) O3: Al2O3 (a: b) in formulation 2 of 95: 5 and 5:95, and thermistor devices are subsequently manufactured by the same procedure and assembled in temperature sensors. The individual features of this work example 4 in

lequel le rapport molaire de formulation mentionné au-  which the molar ratio of formulation mentioned above

dessus a:b est 40:60, 95:5 et 5:95 sont respectivement appelés dispositif numéro 10, dispositif numéro 11, et dispositif numéro 12. Le Tableau 1 représente les résultats de l'évaluation des caractéristiques de température-valeur de résistance de ces unités. Ainsi, cet exemple de travail 4 peut aussi fournir des dispositifs de thermistance qui comportent les mêmes effets méritoires que ceux de l'exemple de travail 1 par rapport aux caractéristiques de température-valeur de  a: b is 40:60, 95: 5 and 5:95 are respectively called device number 10, device number 11, and device number 12. Table 1 shows the results of the evaluation of the temperature-resistance value characteristics of these units. Thus, this working example 4 can also provide thermistor devices which have the same meritorious effects as those of the working example 1 with respect to the temperature-value characteristics of

résistance du dispositif de thermistance.  resistance of the thermistor device.

De plus, le Tableau 2 représente les résultats de l'évaluation de la précision de température trouvés au moyen de la méthode décrite dans le mode de réalisation 2 au-dessus pour le dispositif de thermistance du dispositif numéro 10 de cet exemple de travail 4 (a:b=40:60). Un dispositif de thermistance selon cet exemple de travail a montré une précision de température de 9 C, qui était une excellente valeur comparée à celle ( 23 C) de l'exemple de travail 1  In addition, Table 2 shows the results of the evaluation of the temperature accuracy found by the method described in Embodiment 2 above for the thermistor device of device number 10 of this working example 4 ( a: b = 40: 60). A thermistor device according to this working example showed a temperature accuracy of 9 C, which was an excellent value compared to that (23 C) of the working example 1

préparé par la méthode conventionnelle.  prepared by the conventional method.

Tableau 1Table 1

Composition de mate-.oe c-icientTaux de resis-  Mate-.oe composition c-icientResults

Numéro de riaux bruts (% mole) Valeur de résistance (kQ) de résistantance du chan-  Raw Reaction Number (% mole) Resistance Value (kQ) of Resistance

Tempprature ce-températurE gement Y(rMn 0,5) 0 3 AR (AR dispositif__ Y<Cro,5Mno,5)O A120 3 ambiante (27 C) 1000 C K (%) 1, 4, 7, 10 40 60 50 0-07 2580 -5 a  Temperature Y (rMn 0.5) 0 3 AR (AR device Y <Cro, 5Mno, 5) O A120 3 room temperature (27 C) 1000 CK (%) 1, 4, 7, 10 40 60 50 0 -07 2580 -5 a

2, t, ',l 95 S 30 O}OS " 2S_10 ' -2, t, 'l 95 S 30 O} OS' 2S_10 '-

3, 6, 9, 12 5 95 100 0-1 2710 -5,03, 6, 9, 12 5 95 100 0-1 2710 -5.0

cn --gcn --g

Tableau 2Table 2

Composition de maté- Dimension moyen- Dimension moyen- Précision de riaux bruts au moment ne de grains ne de grains température du broyage après le mélange après le broyage ( C) _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _(j m) -m;_ _ _ _  Material composition- Medium dimension- Medium dimension- Accuracy of raw rales at the moment of grains no grains grinding temperature after mixing after grinding (C) _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ (jm) -m; _ _ _ _

Exemple de. ....Example of. ....

travail 1 Y(CrMn)03, A1203 1,7 2)5 + 23 xemP le e travail 2 Y(CrMn)03, A1203 1/7 0/4 1-10 xempIe de ravail 3 Y(CrMn)03, A1203 0; 3 0j3 +5  work 1 Y (CrMn) 03, A1203 1,7 2) 5 + 23 xemP work 2 Y (CrMn) 03, A1203 1/7 0/4 1-10 x span of work 3 Y (CrMn) 03, A1203 0 ; 3 0j3 +5

Exemple deExample of

ravail Y(CrMn)03, A1203 Oy3 1,6 9 travail 4 Y(CrMn)03, 12, 17 2;3 22 Exemple de Y(CrMn)03, A1203, 1 03 travail 5 Y203 7_2_3_ 22 Exemple de Y(CrMn)03, A1203, 03  Y (CrMn) 03, A1203 Oy3 1.6 9 Work 4 Y (CrMn) 03, 12, 17 2; 3 Example of Y (CrMn) 03, A1203, Work 1 Y203 7_2_3_ 22 Example of Y (CrMn) ) 03, A1203, 03

1/7 0,3 +91/7 0.3 +9

t:ravail 6 Y20-3 Exemple de Y(CrMn)O3' A1203',0303 =ravail 7 Y203 Exemple de Y(CrMn)03, A1203, 0,3 1J5 ravail8 Y203 _ _ __ _ _ _ _ _ _ _ _ _ o, oj (Exemple Comparatif 1) Comme exemple comparatif 1, nous allons décrire un capteur de température qui utilise un dispositif de thermistance comportant la composition de Y(Cro,5Mn0o,5)03 seule sans utiliser de A1203 ou du (Y203+Al203) qui  6 Y20-3 Example of Y (CrMn) O3 'A1203', 0303 = line 7 Y203 Example of Y (CrMn) 03, A1203, 0.3 1J5 ravail8 Y203 _ _ __ _ _ _ _ _ _ _ _ (Comparative Example 1) As Comparative Example 1, we will describe a temperature sensor which uses a thermistor device having the composition of Y (Cro, 5MnOo, 5) alone without using A1203 or (Y203 + Al203) which

stabilisent la valeur de résistance.  stabilize the resistance value.

Y(Cro0,5Mn0,5)03 est obtenu par la même méthode de  Y (Cro0.5Mn0.5) 03 is obtained by the same method of

fabrication que dans l'exemple de travail 1 au-dessus.  only in Work Example 1 above.

Le Tableau 3 représente les résultats de l'évaluation d'un capteur de température fabriqué en utilisant le Y(Cr0,5Mn0,5)O3 ainsi préparé comme matériaux bruts. La méthode d'évaluation des caractéristiques de valeur de  Table 3 shows the results of the evaluation of a temperature sensor manufactured using Y (Cr 0.5Mn 0.5) O 3 thus prepared as raw materials. The valuation method of the value characteristics of

résistance est la même que dans l'exemple de travail 1.  resistance is the same as in work example 1.

Comme il est clair à partir du Tableau 3, dans le cas o A1203 qui stabilise la valeur de résistance n'est pas utilisé, la valeur de résistance dans la région de haute température de 1000 C (40 Q) est trop  As is clear from Table 3, in the case where A1203 which stabilizes the resistance value is not used, the resistance value in the high temperature region of 1000 C (40 Q) is too much

basse, ainsi la température ne peut pas être détectée.  low, so the temperature can not be detected.

De plus, à partir des résultats du test d'endurance à haute température (taux de changement de résistance), le taux de changement de résistance AR1 excédait 20 %, ainsi il n'est pas possible de prévoir un dispositif de thermistance qui comporte une caractéristique de  In addition, based on the results of the high temperature endurance test (resistance change rate), the resistance change rate AR1 exceeded 20%, so it is not possible to provide a thermistor device which has a characteristic of

température-valeur de résistance stable.  temperature-value of stable resistance.

Par conséquent, un dispositif de thermistance comportant la composition de Y(Cr0,5Mn0,5)O3 seule ne peut pas être utilisé comme dispositif pour le capteur de température, qui est l'objet de la présente invention. (Exemple Comparatif 2) Comme exemple comparatif 2, nous allons décrire un capteur de température qui utilise un dispositif de thermistance comportant la composition de YTiO3 seule sans utiliser le A1203 ou le (Y203+A1203) qui stabilisent la valeur de résistance. Le Tableau 3 montre les  Therefore, a thermistor device having the composition of Y (Cr 0.5Mn 0.5) O 3 alone can not be used as a device for the temperature sensor, which is the subject of the present invention. (Comparative Example 2) As Comparative Example 2, we will describe a temperature sensor that uses a thermistor device having the composition of YTiO3 alone without using A1203 or (Y203 + A1203) that stabilize the resistance value. Table 3 shows the

résultats de l'évaluation de ce capteur de température.  results of the evaluation of this temperature sensor.

La méthode d'évaluation des caractéristique de valeur de  The valuation method of the value characteristics of

résistance est la même que dans l'exemple de travail 1.  resistance is the same as in work example 1.

Comme il est clair à partir du Tableau 3, dans le cas d'un dispositif de thermistance comportant la composition de YTiO3 seule, la température ambiante (27 C) est remarquablement haute, au-dessus de 10OO0k , ainsi la température ne peut pas être détectée. De plus, à partir des résultats du test d'endurance à haute température, le taux de changement de résistance AR' excédait 20 %, ainsi il n'est pas possible de prévoir un dispositif de thermistance qui comporte une caractéristique de valeur de résistance température  As is clear from Table 3, in the case of a thermistor device having the composition of YTiO3 alone, the ambient temperature (27 C) is remarkably high, above 10000k, so the temperature can not be detected. In addition, from the results of the high temperature endurance test, the resistance change rate AR 'exceeded 20%, so it is not possible to provide a thermistor device which has a temperature resistance value characteristic.

stable.stable.

Tableau 3Table 3

Valeur de résistanceCoefficient 'Taux de re-  Resistance valueCoefficient

(kQ résistance- sistance de Composition de la température changement .. Température o partie de disposi- Température R R tif ambiante 10600C (K)  (k) Resistance of Composition of the temperature change .. Temperature o Part of the device- Temperature R R tif room 10600C (K)

xExemple- Compara-xExample- Compara-

Y(CrosMno5)O3 10 0;04 2170 -200 xempe Compara-  Y (CrosMno5) O3 10 O; 04 2170 -200 xempe Comparative

______________________ _____ _______ 100 4 a ___, ___2 ___ -20 > 0 t1 f C  ______________________ _____ _______ 100 4 a ___, ___2 ___ -20> 0 t1 f C

YTiO3 >1000 0;2 12200 Exemple Compara-  YTiO3> 1000 0; 2 12200 Comparative Example

-40; tif 2 Co o0-40; tif 2 Co o0

À 2775537At 2775537

Par conséquent, un dispositif de thermistance comportant la composition de YTiO3 seule ne peut pas être utilisé comme dispositif pour le capteur de  Therefore, a thermistor device having the composition of YTiO3 alone can not be used as a device for the sensor of

température qui est l'objet de la présente invention.  temperature which is the object of the present invention.

En comparant les exemples de travail 1 à 4 ci- dessus, tous lesdispositifs de thermistance représentaient des caractéristiques de valeur de résistance-température bonnes, ce qui est l'objet de la présente invention. Cependant, par rapport à la précision de température du capteur, les exemples de travail 2 à 4, c'est-à-dire les méthodes de fabrication  Comparing Work Examples 1 to 4 above, all thermistor devices exhibited good resistance-temperature characteristics, which is the object of the present invention. However, with respect to the temperature accuracy of the sensor, working examples 2 to 4, that is, the manufacturing methods

présentées dans les modes de réalisation 2 et 3 ci-  presented in the embodiments 2 and 3 above

dessus, peuvent être considérées comme supérieures aux  above, may be considered superior to

méthodes de fabrication conventionnelles.  conventional manufacturing methods.

A savoir, dans les méthodes de fabrication enseignées dans les exemples de travail 2 à 4, des  That is, in the manufacturing methods taught in Work Examples 2 to 4,

excellentes caractéristiques de valeur de résistance-  excellent resistance value characteristics-

température ont été obtenues au travers du mélange uniforme de la composition au moyen du broyage fin du matériau de thermistance, ainsi en réduisant la fluctuation dans la composition du corps fritté mixte (MlM2)O3.A1203, la dispersion dans la valeur de  Temperature were obtained through the uniform mixing of the composition by means of fine grinding of the thermistor material, thus reducing the fluctuation in the composition of the mixed sintered body (MlM2) O3.A1203, the dispersion in the value of

résistance d'un capteur à l'autre peut être réduite.  resistance from one sensor to the other can be reduced.

Tandis que les exemples de travail 1 à 4 ci-  While working examples 1 to 4 above

dessus fournissent un corps fritté mixte de Y(Cr0,5Mn0, 5)O3.A1203, les exemples de travail suivants 5 à 8 proposent un corps fritté mixte de Y(Cr0,5Mn0,5)03.Y203.A1203. Il est à noter que par rapport à l'application d'un broyeur à billes ou d'un broyeur à mélange de milieu dans l'étape de mélange et dans l'étape de broyage, les exemples de travail 5, 6, 7 et 8 correspondent aux exemples de travail 1, 2, 3 et 4, respectivement. (Exemple de travail 5) La Figure 8 représente le procédé de fabrication du dispositif de thermistance de cet exemple de travail 5. De la même manière que dans l'exemple de travail 1, la première étape de préparation est réalisée (dans la Figure 8, de la formulation 1 à Y(Cr0,5Mno,5)O3) pour obtenir une poudre de Y(Cro,5Mn0,5)O3 puis Y203 et A1203 sont aussi ajoutés et la seconde étape de préparation est alors effectuée (dans la Figure 8, à partir de la formulation 2). Un broyeur à billes est utilisé dans les  above provide a mixed sintered body of Y (Cr0.5Mn0.5) O3.A1203, the following working examples 5-8 provide a mixed sintered body of Y (Cr0.5Mn0.5) 03.Y203.A1203. It should be noted that with respect to the application of a ball mill or a media mixing mill in the mixing step and in the grinding step, the working examples 5, 6, 7 and 8 correspond to work examples 1, 2, 3 and 4, respectively. (Work Example 5) Figure 8 shows the method of manufacturing the thermistor device of this working example 5. In the same manner as in Work Example 1, the first preparation step is performed (in Figure 8). from formulation 1 to Y (Cr0.5Mno, 5) O3) to obtain a powder of Y (Cro, 5Mn0.5) O3 and then Y203 and Al2O3 are also added and the second preparation step is then carried out (in FIG. 8, from the formulation 2). A ball mill is used in

deux étapes de mélange et de broyage.  two stages of mixing and grinding.

Dans la formulation 2, afin que le dispositif de thermistance ait la valeur de résistance et le coefficient de résistance- température désirés, les Y(Cr0, 5Mn0,5)O3, A1203 et Y203 sont pesés de sorte que a et b de aY(Cro,5Mno,5)03.b(A1203+Y203) comportent la relation a:b=40:60, tandis que le rapport de A1203:Y203  In formulation 2, so that the thermistor device has the desired resistance value and resistance-temperature coefficient, the Y (Cr0.5Mn0.5) O3, Al203 and Y203 are weighed so that a and b of aY ( Cro, 5Mno, 5) 03.b (A1203 + Y203) have the relation a: b = 40: 60, while the ratio of A1203: Y203

devient 50:10 et le poids total est de 2000 g.  becomes 50:10 and the total weight is 2000 g.

Les Y(Cr0,5Mn0,5)O3, A1203 et Y203 ainsi pesés sont sujets au broyage de la même manière que dans l'exemple de travail 1 (étape de broyage), la pâte épaisse de matériau brut résultante a été évaluée en utilisant un granulomètre à laser et les résultats ont indiqué que la dimension de grains moyen était de 2,3 pIn (Tableau 2). Cela est plus grand que la dimension moyenne de grains de 1 pin de Y203 et aussi plus grand que la dimension moyenne de grain de 0,6 pun du A1203  The Y (Cr0.5Mn0.5) O3, Al2O3 and Y2O3 thus weighed are subjected to grinding in the same manner as in Work Example 1 (milling step), the resulting raw material thick slurry was evaluated using a laser granulometer and the results indicated that the average grain size was 2.3 pIn (Table 2). This is larger than the average grain size of 1 pin Y203 and also larger than the average grain size of 0.6 pun of A1203

avant le broyage.before grinding.

Le mélange épais moulu de Y(Cro,5Mno,5)O3, A1203 et Y203 obtenu après le broyage a été granulé dans un sécheur par pulvérisation pour obtenir un mélange de  The thick ground mixture of Y (Cro, 5Mn0, 5) O3, Al2O3 and Y2O3 obtained after grinding was granulated in a spray dryer to obtain a mixture of

poudre de Y(Cro,5Mno,5)03, A1203 et Y203.  Y powder (Cro, 5Mno, 5) 03, Al 2 O 3 and Y 2 O 3.

Ensuite, durant l'étape de moulage, ce matériau brut de thermistance a été utilisé et des fils conducteurs de Pt 100 avec des dimensions (diamètre extérieur x longueur) de 0,3 mm x 10,5 mm ont été insérés dans un moule mâle, les granulés ont été placés dans un moule femelle avec un diamètre intérieur de 1,89 mm et le moulage a été effectué à une pression d'approximativement 1000 kgf/cm2 pour obtenir un dispositif de thermistance moulé avec un diamètre extérieur de 1,89 mm avec des fils conducteurs attachés. De plus, durant l'étape de frittage, ce dispositif de thermistance moulé a été placé sur un support ondulé fait de A1203 et fritté pendant 1 à 2 heures à 1400 à 1600 C dans l'air pour obtenir un dispositif de thermistance avec un diamètre extérieur de 1,60 mm. Ce dispositif de thermistance a été assemblé dans un assemblage de capteur de température de la même manière que dans l'exemple de travail 1 pour former un capteur de température. Le dispositif de thermistance et le capteur de température ainsi fabriqués ont la même  Then, during the molding step, this raw thermistor material was used and Pt 100 lead wires with dimensions (outer diameter x length) of 0.3 mm x 10.5 mm were inserted into a male mold the pellets were placed in a female mold with an inside diameter of 1.89 mm and the molding was carried out at a pressure of approximately 1000 kgf / cm 2 to obtain a molded thermistor device with an outer diameter of 1.89 mm. mm with lead wires attached. In addition, during the sintering step, this molded thermistor device was placed on a corrugated carrier made of Al 2 O 3 and sintered for 1 to 2 hours at 1400 to 1600 C in air to obtain a thermistor device with a diameter. outside of 1.60 mm. This thermistor device was assembled into a temperature sensor assembly in the same manner as in working example 1 to form a temperature sensor. The thermistor device and temperature sensor thus manufactured have the same

structure que ceux représentés dans les Figures 1 à 3.  structure than those shown in Figures 1 to 3.

De plus, durant la seconde étape de préparation mentionnée au-dessus, les matériaux ont aussi été pesés pour donner un rapport molaire de formulation aY(Cr0,5Mn0,5)03.b(A1203+Y203) de a:b o a:b=95:5 et 5:95 (ici le rapport de A1203:Y203 est 50:10), et des dispositifs de thermistance ont été fabriqués par la suite par le même procédé et assemblés dans des capteurs de température. Les dispositifs individuels de cet exemple de travail dans lesquels le rapport molaire de la formulation mentionnée au-dessus a:b est 40:60, 95:5 et 5:95 sont respectivement appelés dispositif numéro  In addition, during the second preparation step mentioned above, the materials were also weighed to give a molar ratio of aY (Cr0.5MnO.5) 03.b (A1203 + Y203) formulation of a: boa: b = 95: 5 and 5:95 (here the ratio of A1203: Y203 is 50:10), and thermistor devices were subsequently manufactured by the same method and assembled in temperature sensors. The individual devices of this working example in which the molar ratio of the formulation mentioned above a: b is 40:60, 95: 5 and 5:95 are respectively called device number

13, dispositif numéro 14 et dispositif numéro 15.  13, device number 14 and device number 15.

Les capteurs de température assemblés avec des dispositifs numérotés de 13 à 15 ont été soumis à une évaluation de la caractéristique de valeur de résistance-température de la même manière que dans l'exemple de travail 1. Le Tableau 4 représente les  The temperature sensors assembled with devices numbered from 13 to 15 were subjected to an evaluation of the resistance-temperature value characteristic in the same manner as in working example 1. Table 4 shows the

résultats de l'évaluation.results of the evaluation.

Ici, le Tableau 4 montre aussi les résultats de l'évaluation des caractéristiques de valeur de résistance-température des dispositifs de thermistance des exemples de travail 6 à 8 présentés ci- dessous. Si l'on peut dès lors présenter les conclusions, bien que les exemples de travail 5 à 8 aient le même corps fritté mixte fabriqué par différentes méthodes de fabrication, comme il est évident à partir du Tableau 4, des caractéristiques de valeur de résistance-température similaires sont obtenues pour chaque rapport molaire de  Here, Table 4 also shows the results of the evaluation of the resistance-temperature value characteristics of the thermistor devices of Work Examples 6 to 8 presented below. If the conclusions can therefore be presented, although working examples 5 to 8 have the same mixed sintered body manufactured by different manufacturing methods, as is evident from Table 4, similar temperatures are obtained for each molar ratio of

formulation de a:b.formulation of a: b.

Comme cela est représenté dans le Tableau 4, avec le dispositif de thermistance de cet exemple de travail 5, lorsque les fractions molaires (a+b=l) de aY(Cr0,5Mn0,5)O3.b(A1203+Y203) se trouvent dans les gammes de 0,05 a<1,0 et 0<b<0,95, le capteur comporte la valeur de résistance basse exigée de 50 Q à 100 kQ et le coefficient de température-résistance P se trouve dans la gamme 2000-4000K, ainsi, par conséquent, le capteur est capable de détecter des températures sur une large gamme de température partant de la température ambiante  As shown in Table 4, with the thermistor device of this working example 5, when the molar fractions (a + b = 1) of aY (Cr0.5Mn0.5) O3.b (A1203 + Y203) found in the ranges of 0.05 to <1.0 and 0 <b <0.95, the sensor has the required low resistance value of 50 Q to 100 kΩ and the temperature-resistance coefficient P is in the range 2000-4000K, thus, the sensor is able to detect temperatures over a wide temperature range from room temperature

jusqu'à 1000 C.up to 1000 C.

De plus, à partir des résultats du test d'endurance à haute température (taux de changement de résistance AR1) aussi, il a été trouvé qu'il est possible de prévoir un matériau de thermistance qui a des caractéristiques stables o le changement dans la valeur de résistance est petit. Par conséquent, le dispositif de thermistance de cet exemple réalise  In addition, from the results of the high temperature endurance test (resistance change rate AR1) also, it has been found that it is possible to provide a thermistor material which has stable characteristics where the change in resistance value is small. Therefore, the thermistor device of this example realizes

l'objet de la présente invention.the subject of the present invention.

De plus, le dispositif de thermistance du dispositif numéro 13 (a:b=40:60 de cet exemple de travail 5 a montré une précision de température de 22 C  In addition, the thermistor device of device number 13 (a: b = 40: 60 of this working example 5 showed a temperature accuracy of 22 C

(voir Tableau 2).(see Table 2).

(Exemple de travail 6) La Figure 9 représente le procédé de fabrication du dispositif de thermistance de cet exemple de travail 5. De la même manière que dans l'exemple de travail 2, une poudre de Y(Cr0, 5Mn0,5)O3 est obtenue, puis du Y203 et A1203 sont aussi ajoutés et enfin la seconde étape de préparation est mise en oeuvre (dans la Figure 9, à partir de la formulation 2) en utilisant un broyeur  (Work Example 6) Figure 9 shows the method of manufacturing the thermistor device of this working example 5. In the same manner as in Work Example 2, a powder of Y (Cr0.5Mn0.5) O3 is obtained, then Y203 and A1203 are also added and finally the second preparation step is carried out (in Figure 9, from formulation 2) using a grinder

mélangeur de milieu.medium mixer.

Dans la formulation 2, afin que le dispositif de thermistance ait la valeur de résistance et le coefficient de résistance- température désirés, les Y(Cr0,5Mn0,5)O3, A1203 et Y203 sont pesés de sorte que les coefficients a et b de aY(Cr0,5Mn0,5)O3. b(A1203+ Y203) aient la relation a:b=40:60 (ici, le rapport de A1203:Y203 devient 50:10) et que le poids total soit de  In formulation 2, so that the thermistor device has the desired resistance value and resistance-temperature coefficient, the Y (Cr0.5Mn0.5) O3, A1203 and Y203 are weighed so that the coefficients a and b of aY (Cr0,5Mn0,5) O3. b (A1203 + Y203) have the relation a: b = 40: 60 (here the ratio of A1203: Y203 becomes 50:10) and that the total weight is

2000 g.2000 g.

Les Y(Cr0,5Mn0,5)O3, A1203 et Y203 ainsi soupesés sont soumis au broyage de la même manière que dans l'exemple de travail 1 (étape de broyage), la pâte épaisse de matériau brut résultante a été évaluée en utilisant un granulomètre à laser, et les résultats ont indiqué que la dimension de grains moyenne était de 0,3 um (voir Tableau 2). Cela est plus petit que la dimension de grains moyenne de 1 pm de Y203 et aussi plus petit que la dimension de grains moyenne de 0,6 pm  The Y (Cr0.5Mn0.5) O3, Al2O3 and Y2O3 thus weighed are milled in the same manner as in Work Example 1 (milling step), the resulting raw material thick slurry was evaluated using a laser granulometer, and the results indicated that the average grain size was 0.3 μm (see Table 2). This is smaller than the average grain size of 1 μm Y203 and also smaller than the average grain size of 0.6 μm

de A1203 avant le broyage.of A1203 before grinding.

Le mélange pâteux moulu de Y(Cr0,5Mn0,5)O3, A1203 et Y203 obtenu après le broyage a été traité de la même manière que dans l'exemple de travail 5 ci-dessus, pour  The ground pasty mixture of Y (Cr 0.5Mn 0.5) O 3, Al 2 O 3 and Y 2 O 3 obtained after grinding was treated in the same manner as in the working example 5 above, for

obtenir un mélange de granulés de poudre.  obtain a mixture of granules of powder.

Ensuite, durant l'étape de moulage, ce mélange de granulés en poudre a été utilisé et le procédé de moulage et le procédé de frittage ont été mis en oeuvre  Then, during the molding step, this mixture of powder granules was used and the molding process and the sintering process were carried out

de la même manière que dans l'exemple de travail 5 ci-  in the same way as in the working example 5

dessus pour obtenir un dispositif de thermistance avec un diamètre extérieur de 1,60 mm. Ce dispositif de thermistance a été assemblé dans un assemblage de capteur de température de la même manière que dans l'exemple de travail 1 pour former un capteur de température. Le dispositif de thermistance et le capteur de température ainsi fabriqués ont la même structure que  above to obtain a thermistor device with an outer diameter of 1.60 mm. This thermistor device was assembled into a temperature sensor assembly in the same manner as in working example 1 to form a temperature sensor. The thermistor device and the temperature sensor thus manufactured have the same structure as

ceux représentés sur les Figures 1 à 3.  those shown in Figures 1 to 3.

De plus, durant la seconde étape de préparation mentionnée au-dessus, les matériaux sont aussi pesés pour donner un rapport molaire de formulation aY(Cr0,5Mn0,5)03.b(A1203+Y203) de a:b o a:b=95:5 et 5:95 (ici le rapport de A1203:Y203 est de 50:10), et des dispositifs de thermistance ont été fabriqués par la suite par la même procédure et assemblés dans des capteurs de température. Les dispositifs individuels de cet exemple de travail dans lesquels le rapport molaire de la formulation mentionnée au-dessus a:b est 40:60, 95:5 et 5:95 sont respectivement appelés dispositif  In addition, during the second preparation step mentioned above, the materials are also weighed to give a molar ratio of aY (Cr0.5MnO.5) 03.b (A1203 + Y203) formulation of a: boa: b = 95 : 5 and 5:95 (here the ratio of A1203: Y203 is 50:10), and thermistor devices were subsequently manufactured by the same procedure and assembled into temperature sensors. The individual devices of this working example in which the molar ratio of the formulation mentioned above a: b is 40:60, 95: 5 and 5:95 are respectively called device

numéro 16, dispositif numéro 17 et dispositif numéro 18.  number 16, device number 17 and device number 18.

Les capteurs de température assemblés avec des dispositifs numérotés de 16 à 18 ont été soumis à l'évaluation de la caractéristique de valeur de résistance-température de la même manière que dans l'exemple de travail 1. Le Tableau 4 représente les résultats de l'évaluation. Le dispositif de thermistance de cet exemple de travail 6 est aussi capable de fournir un dispositif de thermistance qui a des effets méritoires similaires à ceux de l'exemple de travail 5 par rapport aux caractéristiques de valeur de résistance- température. De plus, le dispositif de thermistance du dispositif numéro 16 (a:b=40:60 de cet exemple de travail 6 a montré une précision de température de 9 C (voir Tableau 2), qui avait une excellente valeur comparée à celle ( 22 C) de l'exemple de travail 5  The temperature sensors assembled with devices numbered from 16 to 18 were evaluated for the resistance-temperature characteristic in the same way as in Work Example 1. Table 4 shows the results of the 'Evaluation. The thermistor device of this working example 6 is also capable of providing a thermistor device which has meritorious effects similar to those of the working example 5 with respect to the resistance-temperature value characteristics. In addition, the thermistor device of device number 16 (a: b = 40: 60 of this working example 6 showed a temperature accuracy of 9 C (see Table 2), which had an excellent value compared to that of (22). C) of the working example 5

préparé par la méthode conventionnelle.  prepared by the conventional method.

(Exemple de travail 7) La Figure 10 représente le procédé de fabrication du dispositif de thermistance de cet exemple de travail 7. De la même manière que dans l'exemple de travail 3, une poudre de Y(Cro, 5Mno,5)O3 est obtenue en utilisant un mélangeur de milieux durant la première étape de préparation (dans la Figure 10, à partir de la formulation 1 jusqu'à Y(Cro,5MnO,5)03), alors Y203 et A1203 sont aussi ajoutés, puis la seconde étape de préparation est mise en euvre (dans la Figure 10, à partir de la formulation 2) en utilisant un mélangeur de milieux. Dans la formulation 2, afin que le dispositif de thermistance ait la valeur de résistance et le coefficient de résistance-température désirés, les Y(CrO 5MnO,5)O3, A1203 et Y203 sont pesés de sorte que les coefficients a et b de aY(Cro,5Mn0,5)03. b(A1203+Y203) aient la relation a:b=40:60, (ici, le rapport de  (Work Example 7) Figure 10 shows the method of manufacturing the thermistor device of this working example 7. In the same manner as in Work Example 3, a powder of Y (Cro, 5Mno, 5) O3 is obtained using a media mixer during the first preparation step (in Figure 10, from formulation 1 to Y (Cro, 5MnO, 5) 03), then Y203 and A1203 are also added, then the Second preparation step is carried out (in Figure 10, from formulation 2) using a media mixer. In formulation 2, so that the thermistor device has the desired resistance value and resistance-temperature coefficient, the Y (CrO 5MnO, 5) O 3, Al 2 O 3 and Y 2 O 3 are weighed so that the coefficients a and b of aY (Cro, 5Mn0,5) 03. b (A1203 + Y203) have the relation a: b = 40: 60, (here, the ratio of

A1203:Y203 est de 50:10) et le poids total est de 2000 g.  A1203: Y203 is 50:10) and the total weight is 2000 g.

Les Y(Cr0,5Mn0,5)03, A1203 et Y203 ainsi pesés sont soumis au broyage de la même manière que dans l'exemple de travail 3 (étape de broyage), la pâte de matériau brut résultante a été évaluée en utilisant un granulomètre à laser, et les résultats ont indiqué que la dimension de grains moyenne était de 0,5 pun (voir Tableau 2). Cela est plus petit que la dimension de grains moyenne de 1 pim de Y203 et puis aussi plus petit que la dimension de grains moyenne de 0,6 pm du A1203  The Y (Cr0.5Mn0.5) 03, A1203 and Y203 thus weighed are subjected to grinding in the same manner as in working example 3 (milling step), the resulting raw material paste was evaluated using a laser granulometer, and the results indicated that the average grain size was 0.5 pun (see Table 2). This is smaller than the average grain size of 1 pim of Y203 and then smaller than the average particle size of 0.6 μm of A1203

avant le mixage.before mixing.

Le mélange pâteux moulu de Y(Cro,5Mn0,5)O3, A1203 et Y203 obtenu après le broyage a été traité de la même manière que dans l'exemple de travail 5 au-dessus pour  The ground pasty mixture of Y (Cro, 5Mn0.5) O3, Al2O3 and Y2O3 obtained after milling was treated in the same manner as in Work Example 5 above for

obtenir un mélange de granulés de poudre.  obtain a mixture of granules of powder.

Ensuite, durant l'étape de moulage, ce mélange de granulés de poudre a été utilisé et le procédé de moulage et le procédé de frittage ont été mis en oeuvre  Then, during the molding step, this mixture of powder granules was used and the molding process and the sintering process were carried out.

de la même manière que dans l'exemple de travail 5 au-  in the same way as in Work Example 5

dessus pour obtenir un dispositif de thermistance avec un diamètre extérieur de 1,60 mm. Ce dispositif de thermistance a été assemblé dans un assemblage de capteur de température de la même manière que dans l'exemple de travail 1, pour former un capteur de température. Le dispositif de thermistance et le capteur de température ainsi fabriqués comportent la même  above to obtain a thermistor device with an outer diameter of 1.60 mm. This thermistor device was assembled into a temperature sensor assembly in the same manner as in working example 1, to form a temperature sensor. The thermistor device and the temperature sensor thus manufactured comprise the same

structure que celle représentée dans les Figures 1 à 3.  structure as shown in Figures 1 to 3.

De plus, durant la seconde étape de préparation mentionnée au-dessus, les matériaux sont aussi pesés pour donner un rapport molaire de formulation aY(Cr0,5Mn0,5)03.b(A1203+Y203) de a:b o a:b=95:5 et 5:95 (ici le rapport de A1203:Y203 est de 50:10), et des dispositifs de thermistance sont fabriqués par la suite par la même méthode et assemblés dans des capteurs de température. Les dispositifs individuels de cet exemple de travail dans lesquels le rapport molaire des formulations mentionnées au-dessus a:b est 40:60, 95:5 et 5:95 sont respectivement appelés dispositif numéro  In addition, during the second preparation step mentioned above, the materials are also weighed to give a molar ratio of aY (Cr0.5MnO.5) 03.b (A1203 + Y203) formulation of a: boa: b = 95 : 5 and 5:95 (here the ratio of A1203: Y203 is 50:10), and thermistor devices are subsequently manufactured by the same method and assembled in temperature sensors. The individual devices of this working example in which the molar ratio of the formulations mentioned above a: b is 40:60, 95: 5 and 5:95 are respectively called device number

* 19, dispositif numéro 20 et dispositif numéro 21.* 19, device number 20 and device number 21.

Les capteurs de température assemblés avec les dispositifs numérotés de 19 à 21 ont été soumis à une évaluation de la caractéristique de valeur de résistance-température de la même manière que dans l'exemple de travail 1. Le Tableau 4 montre les résultats de l'évaluation. Le dispositif de thermistance de cet exemple de travail 7 est aussi capable de fournir un dispositif de thermistance qui comporte les effets méritoires similaires à ceux de l'exemple de travail 5 par rapport aux caractéristiques de valeur de résistance- température. De plus, le dispositif de thermistance du dispositif numéro 16 (a:b=40:60 de cet exemple de travail 6 a montré une précision de température de 5 C (voir Tableau 2), qui comportait une excellente valeur comparée à celle ( 22 C) de l'exemple de travail 5  The temperature sensors assembled with the devices numbered from 19 to 21 were subjected to an evaluation of the resistance-temperature value characteristic in the same way as in the working example 1. Table 4 shows the results of the Evaluation. The thermistor device of this working example 7 is also capable of providing a thermistor device which has the meritorious effects similar to those of the working example 5 with respect to the resistance-temperature value characteristics. In addition, the thermistor device of device number 16 (a: b = 40: 60 of this work example 6 showed a temperature accuracy of 5 C (see Table 2), which had an excellent value compared to that of (22). C) of the working example 5

préparé par la méthode conventionnelle.  prepared by the conventional method.

(Exemple de travail 8) La Figure 11 représente le procédé de fabrication du dispositif de thermistance de cet exemple de travail 8. De la même manière que dans l'exemple de travail 4, une poudre de Y(Cr0,5Mno0,5)03 est obtenue durant la première étape de préparation (dans la Figure 11, de la formulation 1 à Y(Cr0,5Mn0, 5)03), puis Y203 et A1203 sont aussi ajoutés, et enfin la seconde étape de préparation est mise en oeuvre (dans la Figure 11, à partir de la formulation 2). Un broyeur à billes est utilisé dans l'étape de mélange et un broyeur à mélange  (Work Example 8) Figure 11 shows the method of manufacturing the thermistor device of this working example 8. In the same way as in Work Example 4, a powder of Y (Cr0.5Mno0.5) 03 is obtained during the first preparation stage (in FIG. 11, from formulation 1 to Y (Cr0.5Mn0.5) 03), then Y203 and Al2O3 are also added, and finally the second preparation step is carried out ( in Figure 11, from the formulation 2). A ball mill is used in the mixing stage and a mixing mill

de milieu est utilisé dans l'étape de broyage.  of medium is used in the grinding step.

Dans la formulation 2, afin que le dispositif de thermistance ait la valeur de résistance et le coefficient de résistance- température désirés, les Y(Cr0,5Mn0,5)O3, A1203 et Y203 sont pesés de sorte que a et b de aY(Cro,5Mno,5)O3.b(A1203Y203) ont le rapport a:b=40:60, (ici, le rapport de A1203:Y203 est de 50:10)  In formulation 2, so that the thermistor device has the desired resistance value and resistance-temperature coefficient, the Y (Cr 0.5Mn 0.5) O 3, Al 2 O 3 and Y 2 O 3 are weighed so that a and b of aY ( Cro, 5Mno, 5) O3.b (Al 2 O 3 Y 2 O 3) have the ratio a: b = 40: 60, (here the ratio of Al 2 O 3: Y 2 O 3 is 50:10)

et le poids total est de 2000 g.and the total weight is 2000 g.

Les Y(Cr0,5Mn0,5)03, A1203 et Y203 ainsi pesés sont soumis au broyage de la même manière que dans l'exemple de travail 4 (étape de broyage), la pâte de matériau brut résultante a été évaluée en utilisant un granulomètre à laser, et les résultats ont indiqué que la dimension de grains moyenne était de 1,5 pur (voir Tableau 2). Cela est plus grand que la dimension de grains moyenne de 1 pun de Y203, et aussi plus grand que la dimension de grains moyenne de 0,6 pm du A1203 avant  The Y (Cr0.5Mn0.5) 03, A1203 and Y203 thus weighed are subjected to grinding in the same manner as in working example 4 (milling step), the resulting raw material paste was evaluated using a laser granulometer, and the results indicated that the average grain size was 1.5 pure (see Table 2). This is larger than the average grain size of 1 pg of Y203, and also larger than the average pore size of 0.6 μm of the A1203 before

le mélange.The mixture.

Le mélange pâteux moulu de Y(Cr0,5Mno0,5)03, A1203 et Y203 obtenu après le broyage a été traité de la même manière que dans l'exemple de travail 5 ci-dessus pour  The ground pasty mixture of Y (Cr 0.5MnO 0.5) 03, Al 2 O 3 and Y 2 O 3 obtained after grinding was treated in the same manner as in the working example 5 above for

obtenir un mélange de granulés de poudre.  obtain a mixture of granules of powder.

Ensuite, durant l'étape de moulage, ce mélange de granulés de poudre a été utilisé, et le procédé de moulage et le procédé de frittage ont été effectués de  Then, during the molding step, this mixture of powder granules was used, and the molding process and the sintering process were carried out.

la même manière que dans l'exemple de travail 5 ci-  in the same way as in the working example 5

dessus pour obtenir un dispositif de thermistance avec un diamètre extérieur de 1,60 mm. Ce dispositif de thermistance a été assemblé dans un assemblage de capteur de température de la même manière que dans l'exemple de travail 1, pour former un capteur de température. Le dispositif de thermistance et le capteur de température ainsi fabriqués comportent la même  above to obtain a thermistor device with an outer diameter of 1.60 mm. This thermistor device was assembled into a temperature sensor assembly in the same manner as in working example 1, to form a temperature sensor. The thermistor device and the temperature sensor thus manufactured comprise the same

structure que celle représentée dans les Figures 1 à 3.  structure as shown in Figures 1 to 3.

De plus, durant la seconde étape de préparation mentionnée au-dessus, les matériaux ont aussi été pesés pour donner un rapport molaire de formulation aY(Cr0,5MnO,5)03.b(A1203+Y203) de a:b o a:b=95:5 et 5:95 (ici, le rapport de A1203:Y203 est de 50:10), et des dispositifs de thermistance sont fabriqués par la suite par la même méthode et assemblés dans des capteurs de température. Les dispositifs individuels de cet exemple de travail dans lesquels le rapport molaire des formulations mentionnées au-dessus a:b est 40:60, 95:5 et 5:95 sont respectivement appelés dispositif numéro  In addition, during the second preparation step mentioned above, the materials were also weighed to give a molar ratio of aY (Cr0.5MnO.5) 03.b (A1203 + Y203) formulation of a: boa: b = 95: 5 and 5:95 (here, the ratio of A1203: Y203 is 50:10), and thermistor devices are subsequently manufactured by the same method and assembled in temperature sensors. The individual devices of this working example in which the molar ratio of the formulations mentioned above a: b is 40:60, 95: 5 and 5:95 are respectively called device number

22, dispositif numéro 23 et dispositif numéro 24.  22, device number 23 and device number 24.

Les capteurs de température assemblés avec des dispositifs numérotés de 22 à 24 ont été soumis à une évaluation de la caractéristique de valeur de résistance-température de la même manière que dans l'exemple de travail 1. Le Tableau 4 représente les résultats de l'évaluation. Le dispositif de thermistance de cet exemple de travail 7 est aussi capable de fournir un dispositif de thermistance qui a des effets avantageux similaires à ceux de l'exemple de travail 5 par rapport aux caractéristiques de valeur de  Temperature sensors assembled with devices numbered from 22 to 24 were subjected to an evaluation of the resistance-temperature value characteristic in the same manner as in Work Example 1. Table 4 shows the results of the Evaluation. The thermistor device of this working example 7 is also capable of providing a thermistor device which has advantageous effects similar to those of the working example with respect to the value characteristics of the invention.

résistance-température.resistance-temperature.

De plus, le dispositif de thermistance du dispositif numéro 16 (a:b=40:60) de cet exemple de travail 6 a montré une précision de température de 9 C (voir Tableau 2), qui avait une excellente valeur comparée à celle ( 22 C) de l'exemple de travail 5  In addition, the thermistor device of device number 16 (a: b = 40: 60) of this working example 6 showed a temperature accuracy of 9 C (see Table 2), which had an excellent value compared to that ( 22 C) of the working example 5

préparé par la méthode conventionnelle.  prepared by the conventional method.

Tableau 4Table 4

Composition de matériaux [aleur de résistancelCoefficient Taux de résis Numéro de bruts (% mole) (kQ__ de résistantance du dispositif Température ce-tempéra- changement ture àR1 Y(Cro05Mno,5)03 A1203+Y203 ambiante 1io0c ure (K) CDo <27oC)  Composition of materials (resistance value) Coefficient of resis Crude number (% mole) (kΩ) of resistance of the device Temperature this-temperature change to R1 Y (Cro05Mno, 5) 03 A1203 + Y203 ambient 1io0c ure (K) CDo <27oC )

13, 16, 19, 22 40 60 50 0.08 2530 -5.0  13, 16, 19, 22 40 60 50 0.08 2530 -5.0

14, 17, 20, 23 95 5 30 0.05 2510 -5.0  14, 17, 20, 23 95 5 30 0.05 2510 -5.0

, 18, 21, 24 5 95 100 0.17 2500: -5.0  , 18, 21, 24 5 95 100 0.17 2500: -5.0

o, n -4o, n -4

En comparant les exemples de travail 5 à 8 ci-  Comparing work examples 5 to 8 above

dessus, tous les dispositifs de thermistance montraient des bonnes caractéristiques de résistance-température ce qui est l'objet de la présente invention. Cependant, par rapport à la précision de température du capteur, les exemples de travail 6 à 8, ou c'est-à-dire les méthodes de fabrication présentées dans les modes de réalisation 2 et 3 au-dessus, peuvent être considérées comme supérieures aux méthodes de fabrication  above, all thermistor devices exhibited good temperature-resistance characteristics which is the object of the present invention. However, with respect to the temperature accuracy of the sensor, working examples 6 to 8, or the manufacturing methods presented in Embodiments 2 and 3 above, can be considered superior to manufacturing methods

conventionnelles.conventional.

A savoir, dans les méthodes de fabrication enseignées dans les exemples de travail 6 à 8, des  That is, in the manufacturing methods taught in Work Examples 6 to 8,

excellentes caractéristiques valeur de résistance-  excellent characteristics resistance value-

température ont été atteintes au travers du mélange uniforme de la composition au moyen du broyage fin des matériaux de thermistance, ainsi en réduisant la fluctuation dans la composition du corps fritté mixte (MlM2)O3.Y203.A1203, la dispersion dans la valeur de  Temperature was achieved through the uniform mixing of the composition by means of fine grinding of the thermistor materials, thus reducing the fluctuation in the composition of the mixed sintered body (MlM2) O3.Y203.A1203, the dispersion in the value of

résistance de capteur en capteur peut être réduite.  Sensor resistance in sensor can be reduced.

(Exemples des autres modifications du premier aspect) Il est à noter qu'il n'est pas besoin de dire que le dispositif de thermistance à large gamme constitué d'un corps fritté mixte de Y(CrMn)O3 et A1203 (ou A1203 et Y203) tels que dans les exemples de travail 1 à 8 ci- dessus, est préparé à partir du Y203 ou d'autres composants d'yttrium, de Cr203 ou d'autres composants de chrome, de Mn203 ou d'autres composants de manganèse ou de A1203 ou d'autres composants d'aluminium.  (Examples of other modifications of the first aspect) It should be noted that there is no need to say that the wide range thermistor device consisting of a mixed sintered body of Y (CrMn) O3 and Al2O3 (or A1203 and Y203) as in Working Examples 1-8 above, is prepared from Y203 or other components of yttrium, Cr203 or other components of chromium, Mn203 or other manganese components. or A1203 or other aluminum components.

De plus, dans les exemples de travail 1 à 8 au-  Moreover, in working examples 1 to 8

dessus, durant la première étape de préparation, le séchage avant la calcination est effectué par séchage à air chaud, le mélange solide est soumis à un broyage grossier par une machine à mélanger et à broyer, et la calcination est effectuée, et afin d'obtenir une uniformité de la composition, un liant est ajouté durant l'étape de mélange, la granulation est effectuée par un sécheur par pulvérisation, et le mélange de poudre séchée est fritté pour pouvoir fournir un dispositif de  during the first preparation step, the drying before calcination is carried out by hot-air drying, the solid mixture is subjected to a coarse grinding by a mixing and grinding machine, and the calcination is carried out, and in order to To obtain a uniformity of the composition, a binder is added during the mixing step, the granulation is carried out by a spray dryer, and the dried powder mixture is sintered to provide a filtering device.

thermistance à large gamme.wide range thermistor.

De la même manière, afin de réaliser l'uniformité de la composition, le frittage dans l'étape de fabrication du dispositif de thermistance peut être effectué deux ou trois fois pour fournir un dispositif  In the same way, in order to achieve uniformity of the composition, the sintering in the thermistor device manufacturing step can be performed two or three times to provide a device.

de thermistance à large gamme.wide range thermistor.

Dans les exemples de travail 1 à 8 ci-dessus, le diamètre et la longueur des fils conducteurs est donné comme étant de 0,3 mm de diamètre et de 0, 5 mm de longueur, leur matériau est donné comme étant du Pt 100 (pur platine), mais la forme, le diamètre et la longueur des fils conducteurs peuvent être sélectionnés comme désiré en fonction de la forme et des dimensions du capteur de température ou des conditions d'environnement de service pour le capteur de température. Le matériau pour les fils conducteurs ne doit pas être forcément du Pt 100 (pur platine) mais d'autres métaux à haut point de fusion qui comportent un point de fusion suffisant pour supporter la température de frittage du dispositif de thermistance et qui ont une conductivité suffisante en tant que fils conducteurs peuvent être utilisés, par exemple, du Pt 80 Ir 20 (80 % platine, 20 % iridium)  In working examples 1 to 8 above, the diameter and length of the conductor wires are given as being 0.3 mm in diameter and 0.5 mm in length, their material being given as Pt 100 ( pure platinum), but the shape, diameter and length of the conductive wires can be selected as desired depending on the shape and dimensions of the temperature sensor or the operating environment conditions for the temperature sensor. The material for lead wires need not be Pt 100 (pure platinum) but other high melting metals that have a melting point sufficient to withstand the sintering temperature of the thermistor device and have a conductivity sufficient as lead wires can be used, for example, Pt 80 Ir 20 (80% platinum, 20% iridium)

peut être utilisé.can be used.

De plus, dans le but d'éviter que les fils conducteurs ne se désolidarisent, la coupe des fils conducteurs peut avoir une forme autre que circulaire et peut être par exemple rectangulaire, semi- circulaire ou un autre type de forme. De plus, la surface des fils conducteurs peut comporter des irrégularités, et de tels fils conducteurs peuvent être utilisés comme fils  In addition, in order to prevent the conductive son from becoming disconnected, the section of the conductive son may have a shape other than circular and may be for example rectangular, semicircular or another type of shape. In addition, the surface of the conductive wires may have irregularities, and such conductive wires may be used as wires.

conducteurs du dispositif de thermistance.  conductors of the thermistor device.

De plus, dans les exemples de travail 1 à 8 ci-  In addition, in Work Examples 1 to 8,

dessus, la méthode de moulage du dispositif de thermistance a été proposée avec l'insertion des fils  above, the molding method of the thermistor device has been proposed with the insertion of the wires

conducteurs, puis la mise en oeuvre du moulage.  conductors, then the implementation of the molding.

Cependant, il est aussi possible d'ouvrir des orifices pour fixer les fils conducteurs après que le matériau brut de thermistance (poudre) ait été utilisé pour mouler une forme cylindrique, puis d'insérer les fils conducteurs et de fritter l'ensemble pour obtenir un dispositif de thermistance avec des fils conducteurs fixés. De plus, il est aussi possible de fritter le corps cylindrique ci-dessus, puis par la suite d'attacher les fils conducteurs pour obtenir un  However, it is also possible to open orifices to fix the conductive wires after the thermistor raw material (powder) has been used to mold a cylindrical shape, then to insert the conductive wires and to sinter the assembly to obtain a thermistor device with fixed lead wires. In addition, it is also possible to sinter the cylindrical body above, then subsequently to attach the leads to obtain a

dispositif de thermistance.thermistor device.

De plus, il est possible d'ajouter des liants, des matériaux de résine ou équivalent qui sont mélangés au matériau brut pour les dispositifs de thermistance, pour ajuster sa viscosité ou sa dureté pour qu'elle soit adéquate pour le moulage par extrusion, et ainsi utiliser le moulage par extrusion pour obtenir un dispositif de thermistance moulé avec des orifices formés pour fixer des fils conducteurs, puis insérer les fils conducteurs et fritter l'ensemble pour obtenir un dispositif de thermistance avec des fils conducteurs fixés. De plus, il est possible d'ajouter des liants, des matériaux de résine ou équivalent qui sont mélangés au matériau brut pour le dispositif de thermistance, pour ajuster sa viscosité ou sa dureté pour être ajusté à la formation de feuille et ainsi obtenir une feuille de thermistance en forme de feuille avec une épaisseur de 200 Dm. L'épaisseur de cinq de ces feuilles laminées ensemble devient 1 mm, ainsi un moule peut être utilisé pour découper un orifice de 0,4 mm en diamètre pour fixer les fils conducteurs avec un diamètre extérieur de 1,8 mm, pour obtenir un dispositif de thermistance avec cette forme. Puis, il est possible d'insérer les fils conducteurs et de les fritter ensemble pour obtenir un dispositif de thermistance avec des fils conducteurs attachés. Il est à noter que dans les exemples de travail 1 à 8 ci-dessus, il est possible d'ajouter un excès de Y203 dans la formulation 1 et de mettre en oeuvre la calcination pour former de la calcine Y(Cro,5MnO,5)O3.Y203 avec un excès de Y203, et par la suite ajouter de l'Y203 et de l'A1203 dans la formulation 2 afin que le corps fritté mixte ait la  In addition, it is possible to add binders, resin materials or the like which are mixed with the raw material for the thermistor devices, to adjust its viscosity or hardness to be suitable for extrusion molding, and thus, using extrusion molding to provide a molded thermistor device with orifices formed to attach conductive wires, and then inserting the conductive wires and sintering the assembly to obtain a thermistor device with fixed lead wires. In addition, it is possible to add binders, resin materials or the like which are mixed with the raw material for the thermistor device, to adjust its viscosity or hardness to be adjusted to the sheet formation and thereby obtain a sheet thermistor shaped sheet with a thickness of 200 Dm. The thickness of five of these laminated sheets together becomes 1 mm, thus a mold can be used to cut a 0.4 mm diameter orifice to fix the lead wires with an outer diameter of 1.8 mm, to obtain a device of thermistor with this form. Then, it is possible to insert the conductive wires and sinter them together to obtain a thermistor device with attached lead wires. It should be noted that in Work Examples 1 to 8 above, it is possible to add an excess of Y 2 O 3 in formulation 1 and to carry out the calcination to form calcine Y (Cro, 5MnO 5 ) O3.Y203 with an excess of Y203, and subsequently add Y203 and A1203 in formulation 2 so that the mixed sintered body has the

composition désirée.desired composition.

Dans la description ci-dessus du premier aspect,  In the above description of the first aspect,

le dispositif de thermistance de cet aspect est fait d'un corps fritté mixte d'un matériau exprimé par la formule générique a(M1M2)O3. bAl203 ou a(MlM2)03 b(A1203+Y203), comportant du (M1M2)O3 qui montre une valeur de résistance basse et un coefficient de résistance- température faible (par exemple, 1000 à 4000K) et du A1203 (ou A1203 et Y203) qui est un matériau qui stabilise la valeur de résistance du dispositif de thermistance. Pour cette raison, en mélangeant de façon appropriée et en frittant les deux ensemble, la valeur  the thermistor device of this aspect is made of a mixed sintered body of a material expressed by the generic formula a (M1M2) O3. bAl203 or a (MlM2) 03b (A1203 + Y203), having (M1M2) O3 which shows a low resistance value and a low temperature resistance coefficient (for example, 1000 to 4000K) and A1203 (or A1203 and Y203) which is a material which stabilizes the resistance value of the thermistor device. For this reason, by appropriately mixing and sintering the two together, the value

de résistance et le coefficient de résistance-  resistance and resistance coefficient-

température peut être contrôle de façon variée sur une large gamme, ainsi les températures peuvent être détectées sur une large gamme de température partant de la température ambiante à 1000 C. De plus, d'un point de vue de la précision dans le chauffage de la température ambiante à 1000 C aussi, un matériau de thermistance qui comporte des caractéristiques stables en ce que la valeur de résistance ne change pas peut être prévu  The temperature can be varied over a wide range, so temperatures can be detected over a wide temperature range from room temperature to 1000 C. In addition, from the point of view of accuracy in heating the room temperature at 1000 C also, a thermistor material which has stable characteristics in that the resistance value does not change can be provided

(exemples de travail 1 à 8 ci-dessus).  (working examples 1 to 8 above).

Au moyen de la méthode de fabrication du dispositif de thermistance du premier aspect, le mélange uniforme de la composition est réalisé au moyen d'un broyage fin des matériaux de thermistance de sorte que, en réduisant la fluctuation de la composition, la dispersion dans la valeur de résistance de capteur en capteur puisse être réduite, et la précision de température de la température ambiante à 1000 C puisse être augmentée à 10 C (à comparer au 23 C des méthodes de fabrication conventionnelles), ainsi un dispositif de thermistance qui peut donner un capteur de température à haute précision peut être prévu (exemples de travail 2 à  By means of the method of manufacturing the thermistor device of the first aspect, the uniform mixing of the composition is achieved by means of fine grinding of the thermistor materials so that, by reducing the fluctuation of the composition, the dispersion in the Sensor resistance value in sensor can be reduced, and the temperature accuracy from room temperature to 1000 C can be increased to 10 C (compared to 23 C of conventional manufacturing methods), so a thermistor device that can give a high precision temperature sensor can be provided (working examples 2 to

4 et 6 à 8 au-dessus).4 and 6 to 8 above).

(Exemple de travail 9) L'exemple de travail 9 est un exemple dans lequel le matériau brut en poudre pour le dispositif de thermistance 1 comportant un corps fritté mixte de 38Y(Cro,5Mno0,5)O3.62Y203 est synthétisé au moyen d'une méthode en phase liquide utilisant des alkoxydes de métaux comme composés précurseurs. La Figure 12 représente la méthode de fabrication de cet exemple de travail 9. Dans la figure 12, la partie à partir de l'étape de formulation à l'étape de calcination est équivalente à la première étape, et la partie de la granulation et de l'étape de séchage à l'étape de  (Work Example 9) Work Example 9 is an example in which the powdered raw material for the thermistor device 1 having a mixed sintered body of 38Y (Cro, 5Mn0.5) O3.62Y203 is synthesized by means of a liquid phase method using metal alkoxides as precursor compounds. Figure 12 shows the manufacturing method of this working example 9. In Figure 12, the portion from the formulation step to the calcination step is equivalent to the first step, and the portion of the granulation and from the drying step to the step of

frittage est équivalente à la seconde étape.  Sintering is equivalent to the second step.

Durant la première étape, tout d'abord les oxydes de métaux de triéthoxyyttrium (Y(OC2H5)3), du  During the first stage, first of all the oxides of triethoxyttrium metals (Y (OC2H5) 3),

diéthoxymanganèse (Mn(0C2H5)2 et du tris (2,4-  diethoxymanganese (Mn (0C2H5) 2 and tris (2,4-

pentadiono)chrome (Cr[OC(CH3)CHCOCH3]3), chacun avec une pureté de 99,9 % ou plus, sont préparés comme les trois composants précurseurs qui servent comme matériau de départ. Ensuite, durant l'étape de formulation, les trois composés précurseurs mentionnés au-dessus sont pesés afin que la composition ultime du dispositif de thermistance 1 devienne du 38Y(Cr0,5Mn0,5)O3.62Y203. De plus, afin d'ajouter du Ca comme composantd'aide au frittage au matériau de départ mentionné au- dessus, l'alkoxyde de diéthoxycalcium (Ca(OC2H5)2) est pesé afin  pentadiono) chromium (Cr [OC (CH3) CHCOCH3] 3), each with a purity of 99.9% or more, are prepared as the three precursor components which serve as the starting material. Then, during the formulating step, the three precursor compounds mentioned above are weighed so that the ultimate composition of the thermistor device 1 becomes 38Y (Cr0.5Mn0.5) O3.62Y203. In addition, in order to add Ca as a sintering aid component to the starting material mentioned above, the diethoxycalcium alkoxide (Ca (OC 2 H 5) 2) is weighed in order to

qu'il comporte 5 % en poids de 38Y(Cr0,5Mn0,5)O3.62Y203.  it comprises 5% by weight of 38Y (Cr0.5Mn0.5) O3.62Y203.

Ensuite, dans l'étape de dissolution et de mélange, le matériau de départ et le Ca(OC2H5)2) ainsi pesés sont dissous dans un mélange de solvant d'éthanol et d'alcool isopropylique 10 fois la quantité du matériau de départ en poids, et dans l'étape d'agitation et de reflux, le reflux est effectué pendant 10 heures à -90 C pour obtenir la solution d'alkoxyde de métaux composite qui est référencée dans la présente invention  Then, in the dissolving and mixing step, the starting material and the Ca (OC 2 H 5) 2) thus weighed are dissolved in a solvent mixture of ethanol and isopropyl alcohol 10 times the amount of the starting material. weight, and in the stirring and refluxing step, the reflux is carried out for 10 hours at -90 ° C to obtain the composite metal alkoxide solution which is referenced in the present invention

comme le mélange liquide.like the liquid mixture.

Ensuite, durant l'étape de chauffage et de polymérisation, l'agent de précipitation de sel de métal de l'eau déminéralisée est ajouté afin d'hydrolyser cette solution d'alkoxyde de métal composite, puis la solution est agitée et mélangée. De plus, durant l'étape de reflux et de précipitation, le refluement est effectué pendant 2 heures à 40-80 C pour obtenir un précipité gélatineux de sels de métaux contenant les divers éléments métalliques des composés précurseurs mentionnés ci- dessus. Puis, dans la séparation en quantité et l'étape de séchage, ce précipité est séparé par filtration et séché, puis durant l'étape de calcination, il est calciné pour obtenir un matériau brut en poudre avec la composition 38Y(Cr0,5MnO,5)O3. 62Y203, la même composition que celle  Then, during the heating and polymerization step, the metal salt precipitation agent of demineralized water is added to hydrolyze this composite metal alkoxide solution, and the solution is stirred and mixed. In addition, during the reflux and precipitation step, reflux is carried out for 2 hours at 40-80 ° C to obtain a gelatinous precipitate of metal salts containing the various metal elements of the precursor compounds mentioned above. Then, in the quantity separation and the drying step, this precipitate is separated by filtration and dried, and then during the calcination step, it is calcined to obtain a powdered raw material with the composition 38Y (Cr0.5MnO, 5) O3. 62Y203, the same composition as

du dispositif de thermistance 1.of the thermistor device 1.

Par la suite, durant la seconde étape, dans l'étape de granulation et de séchage, au matériau brut en poudre ainsi obtenu est ajouté un agent de dispersion, un liant et un agent de libération de moule, et le mélange est granulé. La granulation est effectuée dans un sécheur par pulvérisation pour obtenir des  Subsequently, during the second step, in the granulation and drying step, to the powdered raw material thus obtained is added a dispersing agent, a binder and a mold release agent, and the mixture is granulated. The granulation is carried out in a spray dryer to obtain

granulés de la composition 38Y(Cr0 5Mno,5)O3.62Y203.  granules of the composition 38Y (Cr0 5Mn0.5) O3.62Y203.

Ensuite, durant l'étape de moulage, ces granulés sont utilisés pour former la forme du dispositif de thermistance 1. Le moulage est effectué au moyen d'une méthode de moulage par moule, o des fils conducteurs de Pt 100 avec des dimensions (diamètre extérieur x longueur) de 0,3 mm x 5 mm sont insérés dans un moule mâle, les granulés sont placés dans un moule femelle avec un diamètre intérieur de 1,89 mm et le moulage est effectué à une pression d'environ 3500 kgf/cm2 pour obtenir un dispositif de thermistance moulé avec des  Then, during the molding step, these granules are used to form the shape of the thermistor device 1. The molding is carried out by means of a mold-molding method, o Pt 100 conductive wires with dimensions (diameter outer x length) of 0.3 mm x 5 mm are inserted in a male mold, the granules are placed in a female mold with an inner diameter of 1.89 mm and the molding is carried out at a pressure of about 3500 kgf / cm2 to obtain a thermistor device molded with

fils conducteurs 11 et 12 attachés.  lead wires 11 and 12 attached.

Ensuite, durant l'étape de frittage, ce dispositif de thermistance moulé est placé dans un support ondulé fait de A1203 et fritté pendant 1 à 2 heures à 1400-1600 C dans l'air. De cette manière, le dispositif de thermistance 1 est obtenu comme corps fritté mixte (par exemple un cylindre de 1,6 mm de diamètre et 1,2 mm de long) avec des fils conducteurs 11 et 12 fixés. Par la suite, ce dispositif de thermistance est assemblé en un capteur de température 100 dans la  Then, during the sintering step, this molded thermistor device is placed in a corrugated carrier made of Al 2 O 3 and sintered for 1 to 2 hours at 1400-1600 C in air. In this way, the thermistor device 1 is obtained as a mixed sintered body (for example a cylinder 1.6 mm in diameter and 1.2 mm long) with fixed conductor wires 11 and 12. Subsequently, this thermistor device is assembled into a temperature sensor 100 in the

configuration représentée sur la Figure 2.  configuration shown in Figure 2.

Ce capteur de température 100 est placé dans un four à haute température et les caractéristiques de résistance du dispositif de thermistance, c'est-à-dire les caractéristiques de valeur de résistance- température  This temperature sensor 100 is placed in a high temperature furnace and the resistance characteristics of the thermistor device, i.e. the resistance-temperature value characteristics.

(valeur de résistance, coefficient résistance-  (resistance value, resistance coefficient-

température f) et la précision de température A (OC) sont mesurés sur la gamme de température à partir de la température ambiante (par exemple 27 C) à 1000 C de la  temperature f) and the temperature accuracy A (OC) are measured over the temperature range from room temperature (for example 27 C) to 1000 C of the

même manière que dans l'exemple de travail 1 ci-dessus.  same way as in Work Example 1 above.

Le tableau 5 représente les résultats de l'évaluation représentés avec la composition du dispositif de thermistance (composition du matériau brut de thermistance). Il est à noter que le tableau 5 montre aussi les résultats de l'évaluation des exemples de travail 10 à 17 ci-dessous. Le capteur de température selon cet exemple montre une précision de  Table 5 shows the results of the evaluation shown with the composition of the thermistor device (composition of the thermistor raw material). It should be noted that Table 5 also shows the results of the evaluation of Work Examples 10 to 17 below. The temperature sensor according to this example shows a precision of

température de 3 C, ce qui est une excellente valeur.  temperature of 3 C, which is an excellent value.

De plus, un microscope à électron analytique (AEM) a été utilisé pour examiner les phases cristallines des grains des phases cristallines qui affectent principalement la valeur de résistance et une analyse de la composition des grains de cristal de Y(Cro0,5Mn0,5)03 a été effectuée. Il en résulte que la composition des grains de cristal de Y(Cr0,5Mn0,5)O3 s'est trouvée être dans la gamme de Y:Cr:Mn=1:0,5:0,5 à Y:Cr:Mn=l:0,51:0,49, ainsi pratiquement aucune dispersion conventionnelle dans la composition à partir de la composition idéale n'a été observée, et ainsi l'uniformité de composition à l'ordre atomique ou  In addition, an analytical electron microscope (AEM) was used to examine the crystalline phases of the grains of the crystalline phases which mainly affect the resistance value and an analysis of the crystal grain composition of Y (Cro0.5Mn0.5). 03 was performed. As a result, the crystal grain composition of Y (Cr0.5Mn0.5) O3 was found to be in the range of Y: Cr: Mn = 1: 0.5: 0.5 at Y: Cr: Mn = 1: 0.51: 0.49, thus virtually no conventional dispersion in the composition from the ideal composition was observed, and thus the compositional uniformity at the atomic order or

moléculaire a été trouvée.molecular was found.

De plus, sur l'utilisation d'un microscope électronique à transmission (TEM) pour observer le dispositif de thermistance 1, les divers grains de cristaux (dans cet exemple, grains de cristaux de Y(Cr0,5Mn0,5)O3 et Y203) ont été trouvés comme étant de très fins grains de l'ordre de plusieurs nm (nanomètres) à plusieurs centaines de nm qui étaient uniformément  In addition, on the use of a transmission electron microscope (TEM) to observe the thermistor device 1, the various crystal grains (in this example, crystal grains of Y (Cr0.5Mn0.5) O3 and Y203 ) were found to be very fine grains of the order of several nm (nanometers) to several hundred nm which were uniformly

dispersés/mélangés dans la composition.  dispersed / mixed in the composition.

(Exemple de travail 10) L'exemple de travail 10 est un exemple dans lequel le matériau brut en poudre pour le dispositif de thermistance 1 consistant en un corps fritté mixte de 38Y(Cr0,5Mn0,5)O3.62Y203 est obtenu comme dans l'exemple de travail 9 mais cela est mis en oeuvre au moyen d'une méthode en phase liquide par quoi les composés précurseurs sont mélangés dans une solution dans laquelle le composé complexant d'acide éthylènediaminetétraacétique (EDTA) est dissous. La Figure 13 représente le procédé de fabrication de cet  (Work Example 10) Work Example 10 is an example in which the powdered raw material for the thermistor device 1 consisting of a mixed sintered body of 38Y (Cr0.5Mn0.5) O3.62Y203 is obtained as in Work Example 9 but this is carried out by means of a liquid phase method whereby the precursor compounds are mixed in a solution in which the complexing compound of ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA) is dissolved. Figure 13 shows the manufacturing process of this

exemple de travail 10.example of work 10.

Ici, dans la figure 12, la partie à partir de l'étape de formulation jusqu'à l'étape de calcination est équivalente à la première étape, et la partie à partir de la granulation et l'étape de séchage vers  Here, in Figure 12, the portion from the formulation step to the calcination step is equivalent to the first step, and the portion from the granulation and drying step to

l'étape de frittage est équivalente à la seconde étape.  the sintering step is equivalent to the second step.

Durant la première étape, tout d'abord comme nitrates (composés métalliques inorganiques) le nitrate d'yttrium (Y(NO3)3.6H20), le nitrate de manganèse (Mn(NO3)3.6H20) et le nitrate de chrome (Cr(NO3)3. 9H20), chacun avec une pureté de 99,9 % ou plus sont préparés comme les trois  During the first stage, firstly as nitrates (inorganic metal compounds) yttrium nitrate (Y (NO3) 3.6H20), manganese nitrate (Mn (NO3) 3.6H20) and chromium nitrate (Cr ( NO3) 3.9H20), each with a purity of 99.9% or more are prepared as the three

composés précurseurs qui servent de matériau de départ.  precursor compounds which serve as starting material.

Ensuite, durant l'étape de formulation, les trois composés précurseurs mentionnés au-dessus sont pesés afin que la composition ultime du dispositif de thermistance 1 devienne du 38Y(Cr0,5Mno,5)O3. 62Y203. De plus, afin d'ajouter du Ca comme composant d'aide au frittage au matériau de départ mentionné au-dessus, le composé métallique inorganique de nitrate de calcium (Ca(NO3)2.4H20) est pesé afin qu'il comporte 5 % en  Then, during the formulation step, the three precursor compounds mentioned above are weighed so that the ultimate composition of the thermistor device 1 becomes 38Y (Cr0.5Mno, 5) O3. 62Y203. In addition, in order to add Ca as a sintering aid component to the above-mentioned starting material, the inorganic calcium nitrate metal compound (Ca (NO 3) 2.4H 2 O) is weighed so that it comprises 5% in

poids de 38Y(Cr0,5Mno,5)O3.62Y203.weight of 38Y (Cr0.5Mno, 5) O3.62Y203.

Ensuite, durant l'étape de dissolution et de mélange, de 'EDTA en quantité de 3 fois en poids celui du matériau de départ est dissous dans une quantité appropriée d'eau déminéralisée. Le matériau de départ et le Ca(NO3)2.4H20 ainsi pesés sont dissous dans la solution d'EDTA. Dans ce mélange liquide, les divers ions métalliques (Y, Cr, Mn, Ca) réagissent avec l'EDTA pour préparer un composant complexe de métal composite dans lequel ces ions de métal sont coordonés et liés aux  Then, during the dissolving and mixing step, EDTA in an amount of 3 times by weight that of the starting material is dissolved in a suitable amount of demineralized water. The starting material and the Ca (NO3) 2.4H20 thus weighed are dissolved in the EDTA solution. In this liquid mixture, the various metal ions (Y, Cr, Mn, Ca) react with EDTA to prepare a complex composite metal component in which these metal ions are coordinated and bonded to the metal.

sites de coordination de i'EDTA.EDTA coordination sites.

Ensuite, durant l'étape de chauffage et de polymérisation, afin de causer une réaction de polymérisation dans ce composé complexe de métal composite et d'obtenir un précipité de sels de métaux, l'agent de précipitation de sel de métal d'éthylène glycol est ajouté dans une quantité plus importante que la quantité minimum requise pour provoquer la réaction de polymérisation, puis la solution est agitée et mélangée. Par la suite, ce mélange liquide est chauffé à - 200 C pour avancer la réaction de polymérisation et obtenir un polymère formé du composé complexe de métal  Then, during the heating and polymerization step, to cause a polymerization reaction in this composite metal complex compound and to obtain a precipitate of metal salts, the ethylene glycol metal salt precipitation agent is added in an amount greater than the minimum amount required to cause the polymerization reaction, then the solution is stirred and mixed. Subsequently, this liquid mixture is heated to -200 ° C to advance the polymerization reaction and obtain a polymer formed of the metal complex compound

composite polymérisé.polymerized composite.

Ensuite, durant l'étape de précipitation, le chauffage est arrêté au point o la réaction de polymérisation est avancée suffisamment, et une quantité appropriée d'eau est ajoutée pour précipiter un précipité gélatineux du polymère mentionné au-dessus et du composé complexe de métal composite (ci-après référence comme le "polymère, etc."). Puis cette précipitation est séparée par filtration et séchée, puis elle est calcinée pour obtenir un matériau brut en poudre avec la composition 38Y(Cro,5Mno,5)O3.62Y203, la même composition que celle du dispositif de thermistance 1. Ensuite, durant la seconde étape, le traitement est effectué de la même manière que dans l'exemple de travail 9 ci-dessus, afin que le matériau brut en poudre ainsi obtenu soit granulé. Ces granulés sont utilisés dans les étapes de moulage et de frittage pour obtenir le dispositif de thermistance 1 avec des fils  Then, during the precipitation step, the heating is stopped at the point where the polymerization reaction is advanced sufficiently, and an appropriate amount of water is added to precipitate a gelatinous precipitate of the aforementioned polymer and the metal complex compound. composite (hereinafter referred to as "polymer, etc."). Then this precipitation is separated by filtration and dried, and then calcined to obtain a powdered raw material with the composition 38Y (Cro, 5Mno, 5) O3.62Y203, the same composition as that of the thermistor device 1. Then, during the second step, the treatment is carried out in the same manner as in the working example 9 above, so that the powdered raw material thus obtained is granulated. These granules are used in the molding and sintering steps to obtain the thermistor device 1 with wires

conducteurs 11 et 12 fixés comme un corps fritté mixte.  conductors 11 and 12 fixed as a mixed sintered body.

Par la suite, ce dispositif de thermistance 1 assemblé en un capteur de température 100 de la même manière que dans l'exemple de travail 9 cidessus, a été soumis à une évaluation de ses caractéristiques de valeur de  Subsequently, this thermistor device 1 assembled into a temperature sensor 100 in the same manner as in the working example 9 above, was subjected to an evaluation of its value characteristics.

résistance-température et de précision de température.  resistance-temperature and temperature accuracy.

Le Tableau 5 représente les résultats de l'évaluation.  Table 5 shows the results of the evaluation.

Le capteur de température 100 selon cet exemple a montré une précision de température de 3 C, ce qui est une  The temperature sensor 100 according to this example has shown a temperature accuracy of 3 C, which is a

excellente valeur.excellent value.

De plus, l'analyse de la composition par AEM a été effectuée comme audessus et il en résulte que la composition des grains de cristaux de Y(Cr0,5Mn0,5)O3 qui est la phase de domination de valeur de résistance, a été trouvée dans une gamme de Y:Cr:Mn=1:0,5:0,5 à Y:Cr:Mn=l:0,51:0,49, ainsi pratiquement aucune dispersion conventionnelle dans la composition à partir de la composition idéale n'a été observée, et ainsi l'uniformité de la composition au niveau atomique et moléculaire a été constatée. De plus, il résulte de l'observation par TEM comme au-dessus, que les divers grains de cristaux de Y(Cr0,5Mno,5)O3 et Y203 ont été observés comme étant des grains très fins de l'ordre de plusieurs nm (nanomètres) à plusieurs centaines de nm qui étaient dispersés/mélangés de façon uniforme dans la composition. (Exemple de travail 11) L'exemple de travail 11 est un exemple dans lequel le matériau brut en poudre pour le dispositif de thermistance 1 constitué d'un corps fritté mixte de 38Y(Cro,5MnO,5)O3.62Y203 est synthétisé au moyen d'une méthode en phase liquide utilisant des composés inorganiques de nitrate comme composés précurseur. La Figure 14 représente le procédé de fabrication de cet exemple de travail 11. Dans la figure 14, la partie à partir de l'étape de formulation jusqu'à l'étape de calcination est équivalente à la première étape, et la partie à partir de la granulation et l'étape de séchage jusqu'à l'étape de frittage est équivalente à la seconde étape. Durant la première étape, tout d'abord, les nitrates d'yttrium, nitrate de manganèse et nitrate de chrome, chacun avec une pureté de 99,9 % (4N) ou plus sont préparés comme les trois composés précurseurs qui servent de matériau de départ. Ensuite, durant l'étape de formulation, les trois composés précurseurs mentionnés au-dessus sont pesés afin que la composition ultime du dispositif de thermistance 1 devienne du 38Y(Cro,5MnO,5)03.62Y203. De plus, afin d'ajouter du Ca comme composant d'aide au frittage au matériau de départ mentionné au-dessus, du Ca(OC2H5)2 est pesé afin qu'il  In addition, the analysis of the composition by MEA was carried out as above and it follows that the composition of the crystal grains of Y (Cr 0.5Mn 0.5 O 3) which is the phase of dominance of resistance value, has been found in a range of Y: Cr: Mn = 1: 0.5: 0.5 to Y: Cr: Mn = 1: 0.51: 0.49, thus virtually no conventional dispersion in the composition from the composition ideal has been observed, and thus the uniformity of composition at the atomic and molecular level has been observed. Moreover, it follows from the observation by TEM as above that the various crystal grains of Y (Cr0.5Mno, 5) O3 and Y203 have been observed to be very fine grains of the order of several nm. (nanometers) to several hundred nm which were dispersed / mixed uniformly in the composition. (Work Example 11) Work Example 11 is an example in which the powdered raw material for the thermistor device 1 consisting of a mixed sintered body of 38Y (Cro, 5MnO, 5) O3.62Y203 is synthesized at using a liquid phase method using inorganic nitrate compounds as precursor compounds. FIG. 14 represents the manufacturing method of this working example 11. In FIG. 14, the part from the formulation step to the calcination stage is equivalent to the first stage, and the part from from the granulation and the drying step to the sintering step is equivalent to the second step. During the first stage, firstly, the yttrium nitrates, manganese nitrate and chromium nitrate, each with a purity of 99.9% (4N) or more are prepared as the three precursor compounds which serve as the departure. Then, during the formulation step, the three precursor compounds mentioned above are weighed so that the ultimate composition of the thermistor device 1 becomes 38Y (Cro, 5MnO, 5) 03.62Y203. In addition, in order to add Ca as a sintering aid component to the starting material mentioned above, Ca (OC 2 H 5) 2 is weighed so that it

comporte 5 % en poids de 38Y(Cro,5MnO,5)03.62Y203.  comprises 5% by weight of 38Y (Cro, 5MnO, 5) 03.62Y203.

Ensuite, durant l'étape de dissolution et de mélange, le matériau de départ et le Ca(N03)2.4H20 ainsi  Then, during the dissolution and mixing step, the starting material and the Ca (NO 3) 2.

pesé est dissous dans une quantité appropriée d'eau.  weighed is dissolved in an appropriate amount of water.

Aussi, afin d'obtenir un précipité de sels de métaux à partir du mélange liquide de composés de métal inorganique, l'agent précipitant de sel de métal de bicarbonate de sodium (Na2CO3) est utilisé. Une quantité de bicarbonate de sodium deux fois en poids celui du matériau de départ est dissous dans une quantité appropriée d'eau déminéralisée pour préparer une solution de bicarbonate de sodium (étape de solution  Also, in order to obtain a precipitate of metal salts from the liquid mixture of inorganic metal compounds, the sodium bicarbonate metal salt precipitating agent (Na2CO3) is used. An amount of sodium bicarbonate twice the weight of the starting material is dissolved in a suitable amount of demineralised water to prepare a solution of sodium bicarbonate (solution step

d'agent précipitant).precipitating agent).

Durant l'étape d'agitation et de mélange, afin d'obtenir un précipité de sels de métaux à partir de la réaction de co-précipitation du mélange liquide mentionné au-dessus de composés de métal inorganique et de solution de bicarbonate de sodium, le mélange liquide mentionné au-dessus de composés de métaux inorganiques est ajouté à la solution de bicarbonate de sodium et agité et mélange pour obtenir un précipité consistant en un carbonate composite. Puis, ce précipité est séparé par filtration, séché et puis calciné pour obtenir un matériau brut en poudre avec la composition 38Y(Cr0,5Mn0,5)O3.62Y203, la même composition que celle  During the stirring and mixing step, to obtain a precipitate of metal salts from the co-precipitation reaction of the mentioned liquid mixture above inorganic metal compounds and sodium bicarbonate solution, the liquid mixture mentioned above inorganic metal compounds is added to the sodium bicarbonate solution and stirred and mixed to obtain a composite carbonate precipitate. Then, this precipitate is separated by filtration, dried and then calcined to obtain a raw material in powder form with the composition 38Y (Cr0.5Mn0.5) O3.62Y203, the same composition as that

du dispositif de thermistance 1.of the thermistor device 1.

Ensuite, durant la seconde étape, le traitement est effectué de la même manière que dans l'exemple de travail 9 au-dessus, afin que le matériau brut en poudre ainsi obtenu soit granulé. Ces granulés sont utilisés dans les étapes de moulage et de frittage pour obtenir le dispositif de thermistance 1 avec des fils  Then, during the second step, the treatment is carried out in the same manner as in the working example 9 above, so that the powdered raw material thus obtained is granulated. These granules are used in the molding and sintering steps to obtain the thermistor device 1 with wires

conducteurs 11 et 12 fixés comme un corps fritté mixte.  conductors 11 and 12 fixed as a mixed sintered body.

Par la suite, ce dispositif de thermistance 1 assemblé en un capteur de température 100 de la même manière que dans l'exemple de travail 9 cidessus, a été soumis à une évaluation de ses caractéristiques de valeur de  Subsequently, this thermistor device 1 assembled into a temperature sensor 100 in the same manner as in the working example 9 above, was subjected to an evaluation of its value characteristics.

résistance-température et de précision de température.  resistance-temperature and temperature accuracy.

Le Tableau 5 représente les résultats de cette évaluation. Le capteur de température 100 selon cet exemple a montré une précision de température de 5 C,  Table 5 shows the results of this evaluation. The temperature sensor 100 according to this example has shown a temperature accuracy of 5 C,

ce qui est une excellente valeur.which is an excellent value.

De plus, l'analyse de la composition par AEM a été effectuée comme audessus, et il en résulte que la composition des grains de cristaux de Y(Cro,5MnO,5)O3 qui est la phase dominant la valeur de résistance, a été trouvée dans la gamme de Y:Cr:Mn=l:0,48:0,52 à Y:Cr:Mn=l:0, 51:0,49, ainsi pratiquement aucune dispersion conventionnelle dans la composition à partir de la composition idéale n'a été observée, et ainsi l'uniformité de la composition au niveau atomique ou moléculaire a été observée. De plus, il résulte de l'observation par TEM comme au-dessus, que les divers grains de cristaux de Y(Cro,5MnO,5)03 et Y203 ont été trouvés comme étant de fins grains de l'ordre de plusieurs nm à plusieurs centaines de nm qui étaient dispersés/mélangés de façon uniforme dans la composition. (Exemple Comparatif 3) L'exemple comparatif 3 est un exemple d'une méthode de fabrication de la composition de dispositif d'une thermistance de 38Y(Cr0,5Mn0,5)03.62Y203, la même  In addition, the analysis of the composition by AEM was carried out as above, and it follows that the composition of the crystal grains of Y (Cro, 5MnO, 5) O 3 which is the dominant phase of the resistance value, was found in the range of Y: Cr: Mn = 1: 0.48: 0.52 to Y: Cr: Mn = 1: 0.51: 0.49, thus virtually no conventional dispersion in the composition from the composition ideal has been observed, and thus the uniformity of the composition at the atomic or molecular level has been observed. Moreover, it follows from the observation by TEM as above, that the various crystal grains of Y (Cro, 5MnO, 5) 03 and Y203 have been found to be fine grains of the order of several nm to several hundred nm that were dispersed / mixed uniformly in the composition. (Comparative Example 3) Comparative Example 3 is an example of a method of manufacturing the device composition of a 38Y (Cr0.5Mn0.5) thermistor 03.62Y203, the same

composition que dans les exemples de travail 9 à 11 ci-  composition as in working examples 9 to 11 below.

dessus, mais la méthode en phase solide conventionnelle a été utilisée. Dans la méthode en phase solide de cet exemple, les oxydes Y203, Cr203 et Mn203, et le CaCO3 comme composant d'aide au frittage ont été utilisés comme matériaux bruts. Le mélange et le broyage ont été effectués avec un broyeur à bille conventionnel. La Figure 15 représente le procédé de fabrication de cet  above, but the conventional solid phase method was used. In the solid phase method of this example, the Y 2 O 3, Cr 2 O 3 and Mn 2 O 3 oxides, and CaCO 3 as a sintering aid component were used as raw materials. Mixing and grinding were carried out with a conventional ball mill. Figure 15 shows the manufacturing process of this

exemple comparatif 3.Comparative Example 3

Tout d'abord, Y203, Cr203, Mn203 et CaCO3 chacun  First, Y203, Cr203, Mn203 and CaCO3 each

avec une pureté de 99,9 % ou plus sont préparés.  with a purity of 99.9% or more are prepared.

Ensuite, durant l'étape de formulation, les trois composés précurseurs mentionnés au-dessus sont pesés afin que la composition ultime du dispositif de thermistance 1 devienne 38Y(Cr 0,5Mn 0,5)O3.62Y203. De plus, afin d'ajouter du Ca comme composant d'aide au frittage au matériau de départ mentionné au-dessus, le CaCO3 est pesé afin afin qu'il comporte 5 % en poids du 38Y(Cro, 5Mn0,5)03.62Y203. Le fonctionnement du broyeur à billes durant l'étape de moulage est effectué comme suit. Un broyeur à billes est préparé en plaçant 2,5 kg de billes de diamètre de 15 mm et 2,5 kg de billes de diamètre de mm faites de A1203 dans un pot en plastique (capacité de 20 litres). Les Y203, Cr203, Mn203 et CaCO3 pesés sont placés dans ce pot et 6 000 cm3 d'eau déminéralisée sont ajoutés puis le mélange et le broyage est effectué à 60 tours/minute pendant 6 heures pour obtenir une pâte de matériau brut. Dans le procédé de calcination, cette mixture pâteuse de matériau brut est séchée dans un sécheur par pulvérisation, et la poudre sèche ainsi obtenue est placée dans un creuset de 99,3 % d'A1203 et calcinée pendant 1 à 2 heures à 1100 à 13000C dans un four à haute température dans l'air pour une calcine  Then, during the formulation step, the three precursor compounds mentioned above are weighed so that the ultimate composition of the thermistor device 1 becomes 38Y (Cr 0.5Mn 0.5) O3.62Y203. In addition, in order to add Ca as a sintering aid component to the starting material mentioned above, CaCO3 is weighed so that it comprises 5% by weight of 38Y (Cro, 5Mn0.5) 03.62Y203 . The operation of the ball mill during the molding step is carried out as follows. A ball mill is prepared by placing 2.5 kg of 15 mm diameter balls and 2.5 kg of mm diameter beads made of Al 2 O 3 in a plastic jar (20 liter capacity). The weighed Y203, Cr203, Mn203 and CaCO3 are placed in this jar and 6000 cm3 of deionized water are added and the mixing and grinding is carried out at 60 rpm for 6 hours to obtain a paste of raw material. In the calcination process, this pasty mixture of raw material is dried in a spray dryer, and the dry powder thus obtained is placed in a crucible of 99.3% Al 2 O 3 and calcined for 1 to 2 hours at 1100 to 13000 C in a high temperature oven in the air for a calcine

avec une composition de 38Y(Cro,5Mno,5)O3.62Y203.  with a composition of 38Y (Cro, 5Mn0, 5) O3.62Y203.

Durant l'étape de formulation 2, la quantité désirée de calcine mentionnée au-dessus qui est devenue  During formulation step 2, the desired amount of calcine mentioned above that has become

un solide de type compact dans la calcination est pesée.  a compact type solid in the calcination is weighed.

Puis, durant l'étape de broyage (représentée comme mélange et broyage dans la Figure 15) un broyage grossier est effectué dans une machine de mélange et de  Then, during the grinding step (shown as mixing and grinding in Figure 15) a coarse grinding is performed in a mixing and grinding machine.

broyage et passé au travers d'un tamis de mailles de 30.  grinding and passed through a sieve of 30 mesh.

Afin de broyer cela à nouveau, un broyeur à billes similaire à celui de l'étape de mélange est utilisé. Les conditions de broyage du broyeur à billes ont été ajustées aux mêmes conditions que les conditions pour l'étape de mélange ci-dessus. De plus, un agent dispersant, un liant et un agent de libération de moule  In order to grind this again, a ball mill similar to that of the mixing step is used. The grinding conditions of the ball mill were adjusted to the same conditions as the conditions for the above mixing step. In addition, a dispersing agent, a binder and a mold release agent

ont été ajoutés dans cette étape de broyage.  were added in this grinding step.

La pâte de matériau brut des matériaux de thermistance ainsi obtenus a été granulée, séchée et moulée de la même manière que dans l'exemple de travail 9 ci-dessus pour obtenir un dispositif de thermistance moulé. Ce dispositif moulé est placé sur un ajusteur gondolé fait de A1203 et fritté pendant 1 à 2 heures à 1500-1600 C dans l'air pour obtenir un dispositif de thermistance. Le dispositif de thermistance de cet exemple a la même structure que le dispositif de thermistance 1 de la Figure 1, et le dispositif de thermistance est assemblé dans un capteur de température comportant la même structure que le capteur de  The raw material paste of the thermistor materials thus obtained was granulated, dried and molded in the same manner as in Working Example 9 above to obtain a molded thermistor device. This molded device is placed on a corrugated adjuster made of A1203 and sintered for 1 to 2 hours at 1500-1600 C in air to obtain a thermistor device. The thermistor device of this example has the same structure as the thermistor device 1 of Figure 1, and the thermistor device is assembled in a temperature sensor having the same structure as the sensor of

température 100.temperature 100.

Par la suite, ce dispositif de thermistance assemblé dans un capteur de température de la même manière que dans l'exemple de travail 9 ci-dessus a été soumis à une évaluation de ses caractéristiques de valeur de résistance-température et de précision de température. Le Tableau 6 représente les résultats de l'évaluation. Le Tableau 6 montre aussi les résultats de l'évaluation des exemples comparatifs 4 à 6. Le capteur de température selon cet exemple comparatif 3 a montré des caractéristiques de valeur de résistance- température  Subsequently, this thermistor device assembled in a temperature sensor in the same manner as in working example 9 above was subjected to an evaluation of its resistance-temperature value and temperature accuracy characteristics. Table 6 shows the results of the evaluation. Table 6 also shows the results of the evaluation of Comparative Examples 4 to 6. The temperature sensor according to this Comparative Example 3 showed resistance-temperature value characteristics.

comparables à celles des exemples de travail 9 à 11 ci-  comparable to those of the working examples 9 to 11

dessus, qui sont des corps frittés comportant la même  above, which are sintered bodies comprising the same

À 2775537At 2775537

composition, mais sa précision de température était de  composition but its temperature accuracy was

25 C, ce qui est bien plus mauvais.   25 C, which is much worse.

De plus, l'analyse de composition par AEM a été effectuée sur la composition des grains de cristaux de Y(Cr0,5Mn0,5)03, qui est la phase de domination de la valeur de résistance, de la même manière que dans l'exemple de travail 9. Et il en résulte que la composition des grains de cristaux a été trouvée dans la gamme de Y:Cr:Mn=1:0,4:0,6 à Y:Cr:Mn=1:0,6:0,4, comparée à la composition idéale Y:Cr:Mn=1:0, 5:0,, ainsi la dispersion dans la composition était importante et cela a été déterminé comme étant la cause de la dégradation  In addition, composition analysis by AEM was performed on the crystal grain composition of Y (Cr0.5Mn0.5) 03, which is the phase of dominance of the resistance value, in the same manner as in Work Example 9. As a result, the composition of the crystal grains was found in the range of Y: Cr: Mn = 1: 0.4: 0.6 to Y: Cr: Mn = 1: 0, 6: 0.4, compared to the ideal composition Y: Cr: Mn = 1: 0, 5: 0 ,, thus the dispersion in the composition was important and this was determined to be the cause of the degradation

de la précision de température.the temperature accuracy.

Les exemples de travail mentionnés au-dessus 9 à 1s 11 sont des exemples d'un dispositif de thermistance 1 faits du corps fritté mixte 38Y(Cr0,5Mn0,5)O3.62Y203, tandis que les exemples de travail suivants 12 à 17 s'appliquent à la méthode en phase liquide de la présente invention pour des compositions de thermistance  Examples of work mentioned above 9 to 11 are examples of a thermistor device 1 made of the mixed sintered body 38Y (Cr0.5Mn0.5) O3.62Y203, while the following working examples 12 to 17 s apply to the liquid phase method of the present invention for thermistor compositions

autres que celles des exemples de travail 9 à 11. Ceux-  other than those of working examples 9 to 11. These

ci sont des exemples du dispositif de thermistance 1 faits de corps frittés mélangés 40Y(Cr0,5Mno,5)O3.60A1203 dans les exemples de travail 12 et 13 (Y0,9Cao,1) (Cro,75Feo,2Tio,05)O03 dans les exemples de travail 14 et 15 et (Ao10,7Cr0,2Fe0,1)203.MgO.CaO dans les  are examples of the thermistor device 1 made of mixed sintered bodies 40Y (Cr0.5Mno.5) O3.60A1203 in working examples 12 and 13 (Y0.9Cao, 1) (Cro, 75Feo, 2Tio, 05) O03 in working examples 14 and 15 and (Ao10,7Cr0,2Fe0,1) 203.MgO.CaO in the

exemples de travail 16 et 17.examples of work 16 and 17.

(Exemple de travail 12) L'exemple de travail 12 est un exemple dans lequel le matériau brut en poudre pour le dispositif de thermistance 1 consistant en un corps fritté mixte de Y(Cr0,5Mn0,5)O3.60A1203 est synthétisé au moyen d'une méthode en phase liquide en utilisant des alkoxydes de métal comme composés précurseurs. Les Figures 16A et 16B représentent le procédé de fabrication de cet exemple de travail 12. Dans les Figures 16A et 16B, la partie à partir de l'étape de formulation (formulation 1 et formulation 2) jusqu'à l'étape de calcination est équivalente à la première étape, et la partie à partir de la granulation et de l'étape de séchage jusqu'à l'étape de frittage est équivalente à la seconde étape. Tout d'abord, les alkoxydes de métaux de triéthoxyyttrium et de diéthoxymanganèse et de tris (2,4-pentadiono) chrome, chacun avec une pureté de 99,9 % ou plus, sont préparés comme les trois composés précurseurs (la formule chimique de chacun est la même que dans l'exemple de travail 9 au- dessus) qui servent de matériaux de départ. Ensuite, durant l'étape de formulation 1, les trois composés précurseurs mentionnés au-dessus sont pesés afin que la composition ultime du dispositif de thermistance 1 devienne Y(Cr0,5Mn0,5)O3.60A1203. De plus, afin d'ajouter du Ca comme composant d'aide au frittage au matériau de départ mentionné au-dessus, l'alkoxyde de métal de diéthoxyde de calcium Ca(0C2H5)2) est pesé afin qu'il comporte 5 %  (Work Example 12) Work Example 12 is an example in which the powdered raw material for the thermistor device 1 consisting of a mixed sintered body of Y (Cr 0.5Mn 0.5) O 3.60 Al 1 O 3 is synthesized using of a liquid phase method using metal alkoxides as precursor compounds. Figures 16A and 16B show the manufacturing process of this working example 12. In Figures 16A and 16B, the portion from the formulation step (formulation 1 and formulation 2) to the calcination step is equivalent to the first step, and the portion from the granulation and the drying step to the sintering step is equivalent to the second step. Firstly, the alkoxides of triethoxyttrium and diethoxymanganese metals and tris (2,4-pentadiono) chromium, each with a purity of 99.9% or more, are prepared as the three precursor compounds (the chemical formula of each is the same as in Work Example 9 above) that serve as starting materials. Then, during formulation step 1, the three precursor compounds mentioned above are weighed so that the ultimate composition of thermistor device 1 becomes Y (Cr0.5Mn0.5) O3.60A1203. In addition, in order to add Ca as a sintering aid component to the above-mentioned starting material, the calcium diethoxide metal alkoxide Ca (OC 2 H 5) 2) is weighed so that it comprises 5%

en poids du 40Y(Cro,5Mn0o,5)03.60A1203.  by weight of 40Y (Cro, 5Mn0O, 5) 03.60A1203.

Ensuite, durant l'étape de dissolution et de mélange, le matériau de départ et le Ca(OC2H5)2 ainsi pesé, est dissous dans un mélange de solvant d'éthanol et d'alcool isopropylique 10 fois la quantité du matériau de départ en poids et, durant l'étape d'agitation et de reflux, le reflux est effectué pendant heures à 40- 80 C pour obtenir une solution d'alkoxyde de métal composite (référencée dans la présente invention comme le mélange liquide). Ensuite, dans la première étape de chauffage et de polymérisation, l'agent précipitant de sels de métaux de l'eau déminéralisée est ajouté afin d'hydrolyser cette solution d'alkoxyde de métal composite et ensuite la solution est agitée et mélangée. Ce mélange liquide est  Then, during the dissolving and mixing step, the starting material and the Ca (OC 2 H 5) 2 thus weighed are dissolved in a solvent mixture of ethanol and isopropyl alcohol 10 times the amount of the starting material. weight and, during the stirring and refluxing step, the reflux is carried out for hours at 40-80 C to obtain a solution of composite metal alkoxide (referenced in the present invention as the liquid mixture). Then, in the first heating and polymerization step, the metal salt precipitating agent of demineralised water is added to hydrolyze this composite metal alkoxide solution and then the solution is stirred and mixed. This liquid mixture is

appelé le liquide de polymère de métal composite.  called the composite metal polymer liquid.

Ensuite, dans l'étape de formulation 2, le composé précurseur Al(OC2H5)3 est pesé afin que la composition ultime du dispositif de thermistance 1 devienne 40Y(Cr0,5Mn0,5)O3.60A1203. Durant la seconde de dissolution et de mélange, ce composé ainsi pesé est dissous dans un mélange solvant d'éthanol et d'alcool isopropylique 10 fois la quantité du matériau de départ en poids. Dans la seconde étape d'agitation et de  Then, in formulation step 2, the precursor compound Al (OC 2 H 5) 3 is weighed so that the ultimate composition of the thermistor device 1 becomes 40Y (Cr 0.5Mn 0.5) O 3. 60 Al 1 O 3. During the second dissolution and mixing, this compound thus weighed is dissolved in a solvent mixture of ethanol and isopropyl alcohol 10 times the amount of the starting material by weight. In the second stage of agitation and

reflux, le reflux est effectué pendant 10 heures à 40-  reflux, the reflux is carried out for 10 hours at 40-

80 C pour obtenir une solution d'alkoxyde Al. Ensuite, durant la seconde étape de chauffage et de polymérisation, de l'eau déminéralisée (agent précipitant du sel de métal) est ajouté de la même manière que dans la solution d'alkoxyde de métal composite, puis la solution est agitée et mélangée. Ce mélange liquide est appelé est appelé liquide polymère A1. De plus, durant l'étape de reflux et de précipitation, le liquide polymère de métal composite mentionné au-dessus et le liquide polymère Al sont mélangés et ce mélange liquide est mélangé tandis que le flux est effectué pendant 2 heures à 40-80 C pour obtenir un précipité gélatineux. Ensuite, après que ce précipité ait été séparé par filtration et séché, il est calciné pour obtenir un matériau brut en poudre avec la composition 40Y(Cr0,5Mn0,5)O3.60A1203, la même  80 C to obtain an Al alkoxide solution. Then, during the second heating and polymerization step, demineralised water (metal salt precipitating agent) is added in the same manner as in the alkoxide solution. composite metal, then the solution is stirred and mixed. This liquid mixture is called is called polymer liquid A1. In addition, during the reflux and precipitation step, the composite metal polymer liquid mentioned above and the polymer liquid A1 are mixed and this liquid mixture is mixed while the flow is carried out for 2 hours at 40-80 ° C. to obtain a gelatinous precipitate. Then, after this precipitate has been filtered off and dried, it is calcined to obtain a powdered raw material with the composition 40Y (Cr0.5Mn0.5) O3.60A1203, the same

composition que celle du dispositif de thermistance 1.  composition as that of the thermistor device 1.

Ensuite, durant la seconde étape, de la même manière que dans l'exemple de travail 9 au-dessus, le matériau brut en poudre ainsi obtenu est sujet à la granulation et aux étapes de séchage, moulage et frittage pour obtenir le dispositif de thermistance 1 avec des fils conducteurs 11 et 12 fixés comme un corps fritté mixte. Par la suite, ce dispositif de thermistance 1 assemblé dans un capteur de température de la même manière que dans l'exemple de travail 9 au- dessus, a été soumis à une évaluation de ses caractéristiques de valeur de résistance-température et de précision de température. Le Tableau 5 représente les résultats de cette évaluation. Le capteur de température 100 selon cet exemple a montré une précision de  Then, during the second step, in the same manner as in Work Example 9 above, the powdered raw material so obtained is subject to granulation and drying, molding and sintering steps to obtain the thermistor device. 1 with lead wires 11 and 12 fixed as a mixed sintered body. Subsequently, this thermistor device 1 assembled in a temperature sensor in the same manner as in the working example 9 above, was subjected to an evaluation of its resistance-temperature value characteristics and its accuracy. temperature. Table 5 shows the results of this evaluation. The temperature sensor 100 according to this example has shown a precision of

température de 2 C, ce qui est une excellente valeur.  temperature of 2 C, which is an excellent value.

De plus, l'analyse de la composition par AEM a été effectuée comme audessus, et il en résulte que la composition des grains de cristaux de Y(Cro,5Mno,5)O3 qui est la phase de domination de valeur de résistance, a été trouvée dans la gamme de Y:Cr:Mn=1:0,5:0,5 à Y:Cr:Mn=l:0,51:0,49, ainsi pratiquement aucune dispersion conventionnelle dans la composition à partir de la composition idéale n'a été observée, et l'uniformité de la composition au niveau atomique ou moléculaire a été trouvée. De plus, il résulte de l'observation par TEM comme au-dessus, que les divers grains de cristaux de Y(Cr0,5Mn0,5)O3 et A1203 ont été trouvés comme étant de très fins grains de l'ordre de plusieurs nm à plusieurs centaines de nm qui étaient  In addition, the analysis of the composition by AEM was carried out as above, and it follows that the composition of the crystal grains of Y (Cro, 5Mno, 5) O 3 which is the phase of resistance value dominance, has found in the range of Y: Cr: Mn = 1: 0.5: 0.5 to Y: Cr: Mn = 1: 0.51: 0.49, thus virtually no conventional dispersion in the composition from the ideal composition was observed, and the uniformity of composition at the atomic or molecular level was found. Moreover, it results from observation by TEM as above, that the various crystal grains of Y (Cr0.5Mn0.5) O3 and Al2O3 have been found to be very fine grains of the order of several nm. at several hundred nm that were

dispersés/mixés de façon uniforme dans la composition.  dispersed / mixed uniformly in the composition.

(Exemple de travail 13) L'exemple de travail 13 est un exemple dans lequel le matériau brut en poudre pour le dispositif de thermistance 1 consistant en un corps fritté mixte de Y(Cr0,5Mn0,5)O3.62A1203 est synthétisé comme dans l'exemple de travail mentionné au-dessus 12, mais cela est effectué au moyen d'une méthode en phase liquide par quoi les composés précurseurs sont mélangés dans une solution dans laquelle le composé complexant d'acide éthylènediaminetétraacétique EDTA est dissous. Les Figures 17A et 17B représentent le procédé de  (Work Example 13) Work Example 13 is an example in which the powdered raw material for the thermistor device 1 consisting of a mixed sintered body of Y (Cr0.5Mn0.5) O3.62A1203 is synthesized as in the working example mentioned above 12, but this is done by means of a liquid phase method whereby the precursor compounds are mixed in a solution in which the complexing compound of ethylene diamine tetraacetic acid EDTA is dissolved. Figures 17A and 17B show the process of

fabrication de cet exemple de travail 13.  manufacture of this example of work 13.

Ici, dans les Figures 17A et 17B, la partie à partir de l'étape de formulation (formulation 1 et formulation 2) jusqu'à l'étape de calcination est équivalente à la première étape, et la partie à partir de la granulation et de l'étape de séchage jusqu'à  Here, in Figures 17A and 17B, the portion from the formulation step (formulation 1 and formulation 2) to the calcination step is equivalent to the first step, and the portion from the granulation and from the drying stage to

l'étape de frittage est équivalente à la seconde étape.  the sintering step is equivalent to the second step.

Tout d'abord les nitrates (composés métalliques inorganiques), nitrate d'yttrium, nitrate de manganèse et le nitrate de chrome, chacun avec une pureté de 99,9 % ou plus, sont préparés comme les trois composés précurseurs (la formule chimique de chacun est la même que dans le travail 10 au-dessus) qui servent de  First nitrates (inorganic metal compounds), yttrium nitrate, manganese nitrate and chromium nitrate, each with a purity of 99.9% or more, are prepared as the three precursor compounds (the chemical formula of each is the same as in work 10 above) that serve as

matériau de départ.starting material.

Ensuite, durant l'étape de formulation 1, les trois composés précurseurs sont pesés afin que la composition ultime du dispositif de thermistance 1 devienne 40Y(Cr0,5Mn0,5)03.62A1203 De plus, afin d'ajouter du Ca comme composant d'aide au frittage au matériau de départ mentionné au-dessus, le composé métallique inorganique (Ca(NO3)2. 4H20) est pesé afin  Then, during the formulation step 1, the three precursor compounds are weighed so that the ultimate composition of the thermistor device 1 becomes 40Y (Cr0.5Mn0.5) 03.62A1203 In addition, in order to add Ca as a component of sintering aid to the starting material mentioned above, the inorganic metal compound (Ca (NO 3) 2 · 4H 2 O) is weighed in order to

qu'il comporte 5 % en poids de 40Y(Cr0,5Mn0,5)O3.62A1203.  it comprises 5% by weight of 40Y (Cr0.5Mn0.5) O3.62A1203.

Ensuite, durant la première étape de dissolution et de mélange, du EDTA dans une quantité de 3 fois en poids celui du matériau de départ est dissous dans une quantité appropriée d'eau déminéralisée. Le matériau de départ et le Ca(NO3)2.4H20 ainsi pesé est dissous dans la solution d'EDTA pour former le mélange liquide tel que référence dans la présente invention. Ensuite, durant la première étape de mélange et de reflux, dans ce mélange liquide, les différents ions métalliques (Y, Cr, Mn, Ca) réagissent avec 1'EDTA pour préparer un composant complexe de métal composite dans lequel ces ions métalliques sont coordinés et liés aux sites de  Then, during the first step of dissolving and mixing, EDTA in an amount of 3 times by weight that of the starting material is dissolved in an appropriate amount of demineralized water. The starting material and the Ca (NO3) 2.4H20 thus weighed is dissolved in the EDTA solution to form the liquid mixture as reference in the present invention. Then, during the first mixing and refluxing step, in this liquid mixture, the various metal ions (Y, Cr, Mn, Ca) react with EDTA to prepare a complex composite metal component in which these metal ions are coordinated. and linked to the sites of

coordination de 1'EDTA.coordination of EDTA.

Ensuite, durant la première étape de chauffage et de polymérisation, afin de provoquer une réaction de polymérisation dans ce composé complexe demétal composite et d'obtenir un précipité de sels de métaux, l'agent de précipitation de sel de métal d'éthylèneglycol est ajouté dans une quantité plus importante que la quantité minimum requise pour provoquer la réaction de polymérisation, puis la solution est agitée et mélangée. Par la suite, ce mélange liquide est chauffé à 100-200 C pour faire avancer la réaction de polymérisation et obtenir un polymère formé du composé complexe de métal composite polymérisé. Ensuite, dans l'étape de formulation 2, l'Al(NO3)3.9H20 est pesé afin que la composition ultime du dispositif de thermistance 1 devienne Y(Cro,5MnO,5)03.60A1203. Dans la seconde étape de dissolution et de mélange, ce composé ainsi pesé est dissous et mélangé dans de 1'EDTA dissous et mélangé dans de l'eau déminéralisée dans une quantité de 3 fois en poids. Durant la seconde étape d'agitation et de reflux, le refluage est effectué pour faire réagir l'Al(NO3)3.9H20 avec l'EDTA et préparer un composant  Then, during the first heating and polymerization step, to cause a polymerization reaction in this compound metal complex compound and to obtain a metal salt precipitate, the ethylene glycol metal salt precipitation agent is added in an amount greater than the minimum amount required to cause the polymerization reaction, then the solution is stirred and mixed. Subsequently, this liquid mixture is heated to 100-200 C to advance the polymerization reaction and obtain a polymer formed of the polymerized composite metal complex compound. Then, in formulation step 2, Al (NO3) 3.9H20 is weighed so that the ultimate composition of thermistor device 1 becomes Y (Cro, 5MnO, 5) 03.60A1203. In the second dissolving and mixing step, this weighed compound is dissolved and mixed in dissolved EDTA and mixed in demineralized water in an amount of 3 times by weight. During the second stage of agitation and reflux, the refluxing is carried out to react Al (NO3) 3.9H20 with EDTA and prepare a component

complexe d'Al.Al complex.

Ensuite, durant la seconde étape de chauffage et de polymérisation, afin de provoquer une réaction de polymérisation dans ce composé complexe d'Al et obtenir un précipité de sels de métaux, l'agent de précipitation de sel de métal d'éthylèneglycol est ajouté en excès pour provoquer la réaction de polymérisation, puis la solution est agitée et mélangée. Par la suite, ce mélange liquide est chauffé à 100-200 C pour faire avancer la réaction de polymérisation. Ce mélange  Then, during the second heating and polymerization step, to cause a polymerization reaction in this Al complex compound and to obtain a metal salt precipitate, the ethylene glycol metal salt precipitation agent is added to excess to cause the polymerization reaction, then the solution is stirred and mixed. Subsequently, this liquid mixture is heated to 100-200 C to advance the polymerization reaction. This mixture

liquide est appelé le liquide polymère Al.  liquid is called the polymer liquid Al.

Ensuite, durant l'étape de mélange et de précipitation, le liquide polymère de métal composite mentionné au-dessus et le liquide de polymère Al sont mélangés, et tandis que ce mélange liquide est agité, le chauffage est stoppé au point o la réaction de polymérisation a suffisamment progressé, et une quantité appropriée d'eau déminéralisée (agent de précipitation de sel de métaux) est ajoutée pour précipiter le polymère, etc. comme un précipité gélatineux de sels de métaux. Puis ce précipité est séparé par filtration et séché, puis il est calciné pour obtenir un matériau brut en poudre avec la composition 38Y(Cro,5Mno,5)O3.62Y203, la même composition que celle du dispositif de  Then, during the mixing and precipitation step, the aforementioned composite metal polymer liquid and the polymer liquid Al are mixed, and while this liquid mixture is agitated, the heating is stopped at the point where the reaction of The polymerization has progressed sufficiently, and an appropriate amount of demineralised water (metal salt precipitation agent) is added to precipitate the polymer, etc. as a gelatinous precipitate of metal salts. This precipitate is then separated by filtration and dried, and then calcined to obtain a raw material in powder form with the composition 38Y (Cro, 5Mn0.5) O3.62Y203, the same composition as that of the

thermistance 1.thermistor 1.

Ensuite, durant la seconde étape, de la même manière que dans l'exemple de travail 9 au-dessus, le matériau brut en poudre ainsi obtenu est soumis à la granulation et aux étapes de séchage, moulage et frittage pour obtenir le dispositif de thermistance 1 avec des fils conducteurs 11 et 12 fixés comme corps fritté mixte. Par la suite, ce dispositif de thermistance 1 assemblé dans un capteur de température de la même manière que dans l'exemple de travail 9 au- dessus, a été soumis à une évaluation de ses caractéristiques de valeur de résistance-température et de précision de température. Le Tableau 5 représente les résultats de l'évaluation. Le capteur de température 100 selon cet exemple a montré une précision de température  Then, during the second step, in the same manner as in Work Example 9 above, the powdered raw material thus obtained is subjected to granulation and drying, molding and sintering steps to obtain the thermistor device. 1 with lead wires 11 and 12 fixed as a mixed sintered body. Subsequently, this thermistor device 1 assembled in a temperature sensor in the same manner as in the working example 9 above, was subjected to an evaluation of its resistance-temperature value characteristics and its accuracy. temperature. Table 5 shows the results of the evaluation. The temperature sensor 100 according to this example has shown a temperature accuracy

de 2 C, ce qui est une excellente valeur.  of 2 C, which is an excellent value.

De plus, l'analyse de la composition par AEM a été effectuée comme audessus, et le résultat est que la composition des grains de cristaux de Y(Cr0,5Mn0,5)03, qui est la phase dominante de la valeur de résistance, a été trouvée dans la gamme de Y:Cr:Mn=1:0,5:0,5 à Y:Cr:Mn=1:0,51:0,49, ainsi pratiquement aucune dispersion conventionnelle dans la composition à partir de la composition idéale n'a été observée, et ainsi l'uniformité de la composition de l'ordre atomique et moléculaire a été observée. De plus, il résulte des observation TEM ci-dessus, que les divers grains de cristaux de Y(Cro0,5Mn0,5)O3 et A1203 ont été trouvés comme étant des grains très fins de l'ordre de plusieurs nm à plusieurs centaines de nm qui étaient dispersés/  Moreover, the analysis of the composition by AEM was carried out as above, and the result is that the composition of the crystal grains of Y (Cr 0.5Mn 0.5) 03, which is the dominant phase of the resistance value, was found in the range of Y: Cr: Mn = 1: 0.5: 0.5 at Y: Cr: Mn = 1: 0.51: 0.49, thus virtually no conventional dispersion in the composition from the ideal composition was observed, and thus the uniformity of the composition of the atomic and molecular order was observed. Moreover, it follows from the observations TEM above, that the various crystal grains of Y (Cro0.5Mn0.5) O3 and Al2O3 have been found to be very fine grains of the order of several nm to several hundreds of grains. nm that were scattered /

mélangés de façon uniforme dans la composition.  mixed uniformly in the composition.

(Exemple Comparatif 4) L'exemple comparatif 4 est un exemple d'une méthode de fabrication de la composition d'un dispositif de thermistance de 40Y(Cr0,5Mn0,5)O3.60A1203, la même composition que dans les exemples de travail 12 et 13 ci-dessus, mais la méthode en phase solide conventionnelle est utilisée. Dans la méthode en phase solide de cet exemple, les oxydes Y203, Cr203, Mn203, et A1203 et du CaCO3 comme composant d'aide au frittage ont été utilisés comme matériaux bruts. Le mélange et le broyage ont été effectués avec un broyeur à bille conventionnel. La Figure 18 représente le procédé de  (Comparative Example 4) Comparative Example 4 is an example of a method of manufacturing the composition of a 40Y (Cr0.5Mn0.5) O3.60A1203 thermistor device, the same composition as in the working examples. 12 and 13 above, but the conventional solid phase method is used. In the solid phase method of this example, the Y 2 O 3, Cr 2 O 3, Mn 2 O 3, and Al 2 O 3 oxides and CaCO 3 as a sintering aid component were used as raw materials. Mixing and grinding were carried out with a conventional ball mill. Figure 18 shows the process of

fabrication de l'exemple comparatif 4.  manufacture of comparative example 4.

Tout d'abord, du Y203, Cr203, Mn203, A1203 et CaCO3 chacun avec une pureté de 99,9 % ou plus sont préparés. Durant l'étape de formulation 1, les Y203, Cr203, et Mn203 sont pesés afin que la composition de la calcine après l'étape de calcination devienne Y(Cro,5Mno0, 5)O3. De plus, afin d'ajouter du Ca comme composant d'aide au frittage au matériau de départ mentionné au-dessus, le CaCO3 est pesé afin qu'il comporte 5 % en poids du 40Y(Cr0,5Mn0,5)O3.60A1203. Puis,  First, Y203, Cr203, Mn2O3, Al2O3 and CaCO3 each with a purity of 99.9% or more are prepared. During formulation step 1, the Y203, Cr203, and Mn203 are weighed so that the calcine composition after the calcination step becomes Y (Cro, 5Mno0, 5) O3. In addition, in order to add Ca as a sintering aid component to the above-mentioned starting material, CaCO3 is weighed so that it comprises 5% by weight of 40Y (Cr0.5Mn0.5) O3.60A1203 . Then,

de la même manière que dans l'exemple comparatif 3 au-  in the same way as in Comparative Example 3

dessus, l'étape de mélange et l'étape de calcination ont été effectuées pour obtenir une calcine avec la  above, the mixing step and the calcination step were performed to obtain a calcine with the

composition Y(Cro,5Mno,5)03.Y composition (Cro, 5Mno, 5) 03.

Durant l'étape de formulation 2, du A1203 est pesé afin que la composition devienne du Y(Cr0,5Mn0,5)O3.60A1203. Puis, durant l'étape de broyage, la calcine et le A1203 ainsi pesés sont mélangés et le broyage est effectué avec un broyeur à billes avec les conditions de broyage ajustées aux mêmes conditions que celles de l'exemple comparatif 3. De plus, un agent dispersant, un liant et un agent de libération de moule ont été ajoutés durant cette étape  During formulation step 2, A1203 is weighed so that the composition becomes Y (Cr0.5Mn0.5) O3.60A1203. Then, during the grinding step, the calcine and the Al 2 O 3 thus weighed are mixed and the grinding is carried out with a ball mill with the grinding conditions adjusted to the same conditions as those of Comparative Example 3. In addition, a dispersant, a binder and a mold release agent were added during this step

de broyage comme dans l'exemple comparatif 3.  grinding as in Comparative Example 3.

De la même manière que dans l'exemple comparatif 3 au-dessus, la pâte visqueuse de matériau brut ainsi obtenue est granulée, séchée, moulée et frittée. Le dispositif de thermistance ainsi obtenu a été assemblé dans un capteur de température et ses caractéristiques de valeur de résistance-température et la précision de température ont été évaluées. Le Tableau 6 représente les résultats de cette évaluation. Le capteur de température selon cet exemple comparatif 4 a montré des caractéristiques de valeur de résistance-température comparables à celles des exemples de travail 12 et 13 au-dessus, qui sont des corps frittés comportant la même composition, mais sa précision de température était de  In the same way as in Comparative Example 3 above, the viscous paste of raw material thus obtained is granulated, dried, molded and sintered. The resulting thermistor device was assembled in a temperature sensor and its temperature-resistance value characteristics and temperature accuracy were evaluated. Table 6 shows the results of this evaluation. The temperature sensor according to this comparative example 4 showed temperature-resistance value characteristics comparable to those of working examples 12 and 13 above, which are sintered bodies having the same composition, but its temperature accuracy was

23 C, ce qui est pire. 23 C, which is worse.

De plus, l'analyse de composition AEM a été effectuée sur la composition des grains de cristaux de Y(Cr0,5Mn0,5)03, qui est la phase de domination de la valeur de résistance, de la même manière que dans l'exemple de travail 9. Il en résulte que la composition des grains de cristaux Y(Cr0,5Mn0,5)O3 a été trouvée dans la gamme de Y:Cr:Mn=1:O,4:0,6 à Y:Cr:Mn=1:O,6:0,4, comparée à la composition idéale de Y:Cr:Mn=1:0,5:0,5, afin que la dispersion dans la composition soit importante, et cela a été déterminé comme étant la cause  In addition, the composition analysis AEM was performed on the composition of crystal grains of Y (Cr0.5Mn0.5) 03, which is the phase of dominance of the resistance value, in the same way as in the Work Example 9. As a result, the composition of Y (Cr0.5Mn0.5) O3 crystal grains was found in the range of Y: Cr: Mn = 1: O, 4: 0.6 at Y: Cr Mn = 1: 0.6: 0.4, compared to the ideal composition of Y: Cr: Mn = 1: 0.5: 0.5, so that the dispersion in the composition is important, and this has been determined as the cause

de la dégradation de la précision de température.  degradation of the temperature accuracy.

(Exemple de travail 14) L'exemple de travail 14 est un exemple dans lequel le matériau brut en poudre pour un dispositif de thermistance 1 consistant en un corps fritté mixte de la composition (Y0o,9CaO1) (Cro, 75Fe0,2Tio0,05)03 est synthétisé au moyen d'une méthode en phase liquide utilisant des composés organométalliques comme les composés  (Work Example 14) Work Example 14 is an example in which the powdered raw material for a thermistor device 1 consisting of a mixed sintered body of the composition (Y0o, 9CaO1) (Cro, 75Fe0.2Tio0.05 ) 03 is synthesized using a liquid phase method using organometallic compounds such as the compounds

précurseurs comme dans l'exemple 9 mentionné au-dessus.  precursors as in Example 9 mentioned above.

La Figure 19 représente le procédé de fabrication de cet exemple de travail 14. Dans la figure 19, la partie à partir de l'étape de formulation jusqu'à l'étape de calcination est équivalente à la première étape, et la partie à partir de la granulation et de l'étape de séchage jusqu'à l'étape de frittage est équivalente à la  Figure 19 shows the manufacturing process of this working example 14. In Figure 19, the portion from the formulation step to the calcination step is equivalent to the first step, and the part from from the granulation and the drying step to the sintering step is equivalent to the

seconde étape.second step.

Premièrement, les alkoxydes de métal de triéthoxyyttrium (Y (OC2H5) 3), de diéthoxymanganèse (Mn(OC2H5)2 et de tris (2,4-pentadiono)chrome (Cr[OC(CH3)CHCOCH3]3), le triéthoxy de fer (Fe(OC2H5)3) et tétraéthoxytitane (Ti(OC2H5)3) chacun avec une pureté de 99,9 % ou plus sont préparés comme les cinq composants précurseurs qui servent comme matériau de départ. Par la suite, durant l'étape de formulation, les cinq composés précurseurs mentionnés au-dessus sont pesés afin que la composition ultime du dispositif de  Firstly, triethoxyttrium (Y (OC 2 H 5) 3), diethoxymanganese (Mn (OC 2 H 5) 2 and tris (2,4-pentadiono) chromium (Cr [OC (CH 3) CHCOCH 3] 3 metal alkoxides, triethoxy iron (Fe (OC 2 H 5) 3) and tetraethoxytitanium (Ti (OC 2 H 5) 3) each with a purity of 99.9% or more are prepared as the five precursor components which serve as the starting material. formulation, the five precursor compounds mentioned above are weighed so that the ultimate composition of the

thermistance devienne (Y0o,9Cao,1) (Cro,75Feo,2Tio,05)03.  thermistor becomes (Y0o, 9Cao, 1) (Cro, 75Feo, 2Tio, 05) 03.

Puis, durant l'étape de dissolution et de mélange, le matériau de départ ainsi pesé est dissous et mélangé dans un mélange de solvant d'éthanol et d'alcool isopropylique 10 fois la quantité du matériau de départ en poids. Durant l'étape d'agitation et de reflux, le reflux est effectué pendant 10 heures à 40-60 C pour obtenir une solution d'alkoxyde de métal composite (référencée dans la présente invention comme le mélange liquide). Puis, durant l'étape de chauffage et de polymérisation, l'agent précipitant de sel de métal de l'eau déminéralisée est ajouté afin d'hydrolyser cette solution d'alkoxyde de métal composite, puis la solution est agitée et mélangée. De plus, durant l'étape de reflux et de précipitation, le reflux est effectué pendant 2 à 4heures à 40-60 C pour obtenir un précipité gélatineux d'un composite de sels métalliques. Puis, après que ce précipité ait été séparé par filtration et séché, il est calciné pour obtenir un matériau brut en poudre avec la composition (Y09Ca0,1) (Cr0,75Fe0,2Ti0,05)03, la même composition que celle du  Then, during the dissolving and mixing step, the thus weighed starting material is dissolved and mixed in a solvent mixture of ethanol and isopropyl alcohol 10 times the amount of the starting material by weight. During the stirring and refluxing step, the reflux is carried out for 10 hours at 40-60 ° C to obtain a composite metal alkoxide solution (referenced in the present invention as the liquid mixture). Then, during the heating and polymerization step, the metal salt precipitating agent of demineralized water is added to hydrolyze this composite metal alkoxide solution, and the solution is stirred and mixed. In addition, during the reflux and precipitation step, the reflux is carried out for 2 to 4 hours at 40-60 ° C to obtain a gelatinous precipitate of a composite of metal salts. Then, after this precipitate has been filtered off and dried, it is calcined to obtain a powdered raw material with the composition (Y09Ca0.1) (Cr0.75Fe0.2Ti0.05) 03, the same composition as that of

dispositif de thermistance 1.thermistor device 1.

Ensuite, durant la seconde étape, de la même manière que dans l'exemple de travail 9 ci-dessus, le matériau brut en poudre ainsi obtenu est soumis à la granulation et aux étapes de séchage, moulage et frittage pour obtenir le dispositif de thermistance avec des fils conducteurs 11 et 12 fixés comme un corps fritté mixte. Par la suite, ce dispositif de thermistance 1 assemblé dans un capteur de température lOà de la même manière que dans l'exemple de travail 9 au- dessus, a été soumis à une évaluation de ses caractéristiques de valeur de résistance-température et de précision de température +A. Le tableau 5 représente les résultats de l'évaluation. Le capteur de température 100 selon cet exemple a montré une précision de  Then, during the second step, in the same manner as in Work Example 9 above, the powdered raw material thus obtained is subjected to granulation and drying, molding and sintering steps to obtain the thermistor device. with lead wires 11 and 12 fixed as a mixed sintered body. Subsequently, this thermistor device 1 assembled in a temperature sensor 10 in the same manner as in the working example 9 above, was subjected to an evaluation of its resistance-temperature value and accuracy characteristics. temperature + A. Table 5 shows the results of the evaluation. The temperature sensor 100 according to this example has shown a precision of

température de 5 C, ce qui est une excellente valeur.  temperature of 5 C, which is an excellent value.

De plus, l'analyse de composition par AEM a été effectuée sur la composition des grains de cristaux de (Yo,9Cao,1) (Cro,75Feo,2Tio0,05)O3, qui est la phase de domination de valeur de résistance, de la même manière qu'au-dessus. Il en résulte que la composition des grains de cristaux s'est trouvée être dans la gamme de Y:Ca:Cr:Fe:Ti=1:0,9:0, 1:0,75:0,2:0,05 à Y:Ca:Cr:Fe:Ti= 0,9:0,1:0,74:0,21:0,05 ainsi pratiquement aucune dispersion conventionnelle dans la composition à partir de la composition idéale n'a été observée, et ainsi l'uniformité de la composition de l'ordre atomique et  In addition, the composition analysis by AEM was performed on the composition of the crystal grains of (Yo, 9Cao, 1) (Cro, 75Fe0, 2Ti0.05) O3, which is the resistance value dominating phase, in the same way as above. As a result, the composition of the crystal grains was found to be in the range of Y: Ca: Cr: Fe: Ti = 1: 0.9: 0, 1: 0.75: 0.2: 0.05 at Y: Ca: Cr: Fe: Ti = 0.9: 0.1: 0.74: 0.21: 0.05, so virtually no conventional dispersion in the composition from the ideal composition was observed, and so the uniformity of the composition of the atomic order and

moléculaire a été observée.molecular was observed.

De plus, il résulte de l'observation TEM comme au-dessus que les divers grains de cristaux de (Y0,9Cao,1)(Cr0,75Fe0,2Ti0,05)03 a été observée comme étant des grains très fins grains de l'ordre de plusieurs nm jusqu'à plusieurs centaines de rm qui étaient dispersés/mélangés de façon uniforme dans la composition. (Exemple de travail 15) L'exemple de travail 15 est un exemple dans lequel le matériau brut en poudre pour le dispositif de thermistance 1 consistant en un corps fritté mixte de la composition (Yo, gCao,) (Cro,75Feo,2Tio,05)O3 est synthétisé comme dans l'exemple de travail mentionné au-dessus 10, mais cela est effectué au moyen d'une méthode en phase liquide par quoi les composés précurseurs sont mélangés dans une solution dans laquelle le composé complexant EDTA'est dissous. La Figure 20 représente le procédé de  Moreover, it follows from the TEM observation as above that the various crystal grains of (Y0.9Cao, 1) (Cr0.75Fe0.2Ti0.05) 03 have been observed to be very fine grains. order of several nm to several hundred μm which were dispersed / mixed uniformly in the composition. (Work Example 15) Work Example 15 is an example in which the powdered raw material for the thermistor device 1 consisting of a mixed sintered body of the composition (Yo, gCao,) (Cro, 75Feo, 2Tio, 05) O3 is synthesized as in the working example mentioned above 10, but this is done by means of a liquid phase method whereby the precursor compounds are mixed in a solution in which the complexing compound EDTA is dissolved . Figure 20 shows the process of

fabrication de cet exemple de travail 15.  manufacture of this example of work 15.

Ici, dans la Figure 20, la partie à partir de l'étape de formulation jusqu'à l'étape de calcination est équivalente à la première étape, et la partie à partir de la granulation et de l'étape de séchage jusqu'à l'étape de frittage est équivalente à la seconde étape. Tout d'abord, les nitrates (composés métalliques inorganiques), le nitrate d'yttrium (Y(NO3)3.6H20), le nitrate de calcium (Ca(NO3)2.4H20), le nitrate de chrome (Cr(NO3)3.9H20), nitrate de fer (Fe(NO3)3.9H20 et l'oxynitrate de titane (5TiO2.N205.6H20), chacun avec une pureté de 99,9 % ou plus sont préparés comme les cinq  Here, in Figure 20, the portion from the formulation step to the calcination step is equivalent to the first step, and the portion from the granulation and drying step to the sintering step is equivalent to the second step. First, nitrates (inorganic metal compounds), yttrium nitrate (Y (NO3) 3.6H20), calcium nitrate (Ca (NO3) 2.4H2O), chromium nitrate (Cr (NO3) 3.9 H20), iron nitrate (Fe (NO3) 3.9H2O and titanium oxynitrate (5TiO2.N2O5.6H2O), each with a purity of 99.9% or more are prepared as the five

composés précurseurs qui servent de matériau de départ.  precursor compounds which serve as starting material.

Puis, durant l'étape de formulation, les cinq composés précurseurs mentionnés au-dessus sont pesés afin que la composition ultime du dispositif de  Then, during the formulation step, the five precursor compounds mentioned above are weighed so that the ultimate composition of the

thermistance 1 devienne (Yo,9Cao,1) (Cro75Feo,2Tio05)03.  thermistor 1 becomes (Yo, 9Cao, 1) (Cro75Feo, 2Tio05) 03.

Ensuite, durant la première étape de dissolution et de mélange, l'EDTA dans une quantité de 4 fois en poids celle du matériau de départ est dissous dans une quantité appropriée d'eau déminéralisée. Le matériau de départ ainsi pesé est dissous dans cette solution d'EDTA pour former le mélange liquide tel que référencé dans la présente invention. Puis, durant l'étape de mélange et de reflux, dans ce mélange liquide, les divers ions métalliques (Y, Ca, Cr, Fe, Ti) réagissent avec i'EDTA pour préparer un composé complexe de métal composite dans lequel ces ions métalliques sont coordonnés et liés  Then, during the first step of dissolving and mixing, EDTA in an amount of 4 times by weight that of the starting material is dissolved in an appropriate amount of demineralized water. The thus weighed starting material is dissolved in this EDTA solution to form the liquid mixture as referenced in the present invention. Then, during the mixing and refluxing step, in this liquid mixture, the various metal ions (Y, Ca, Cr, Fe, Ti) react with EDTA to prepare a composite metal complex compound in which these metal ions are coordinated and linked

aux sites de coordination de 1'EDTA.  at the EDTA coordination sites.

Puis, dans l'étape de chauffage et de polymérisation, afin de provoquer une réaction de polymérisation dans ce composé complexe de métal composite et d'obtenir un précipité de sels de métaux, l'agent précipitant de sel de métal d'éthylèneglycol est ajouté en excès à la quantité minimum nécessaire pour provoquer la réaction de polymérisation, puis la solution est agitée et mélangée. Par la suite, ce mélange liquide est chauffé à 80-120 C pour faire avancer la réaction de polymérisation. Puis, durant l'étape de précipitation, le chauffage est stoppé au point o la réaction de polymérisation a suffisamment avancé, et une quantité appropriée d'eau déminéralisée (agent précipitant de sel de métaux) est ajoutée pour précipiter le polymère, etc.), comme un précipité  Then, in the heating and polymerization step, to cause a polymerization reaction in this composite metal complex compound and to obtain a precipitate of metal salts, the ethylene glycol metal salt precipitating agent is added in excess of the minimum amount necessary to cause the polymerization reaction, then the solution is stirred and mixed. Subsequently, this liquid mixture is heated to 80-120 ° C to advance the polymerization reaction. Then, during the precipitation step, the heating is stopped at the point where the polymerization reaction has sufficiently advanced, and a suitable amount of demineralised water (metal salt precipitating agent) is added to precipitate the polymer, etc.) like a precipitate

gélatineux de sels de métaux.gelatinous salts of metals.

Puis, cette précipitation est séparée par filtration et séchée, puis elle est calcinée pour obtenir un matériau brut en poudre avec la composition (Yo,9Cao,1)(Cro,75Feo,2Tio,05)03, la même composition que  Then, this precipitation is separated by filtration and dried, then it is calcined to obtain a raw material in powder with the composition (Yo, 9Cao, 1) (Cro, 75Fe0, 2Ti0, 05) 03, the same composition as

celle du dispositif de thermistance 1.  that of the thermistor device 1.

Puis, durant la seconde étape, de la même manière que dans l'exemple de travail 9 ci-dessus, le matériau brut en poudre ainsi obtenu est soumis à la granulation et aux étapes de séchage, moulage et frittage pour obtenir le dispositif de thermistance 1 avec des fils conducteurs 11 et 12 fixés comme un corps fritté mixte. Par la suite, ce dispositif de thermistance 1 assemblé en un capteur de température 100  Then, during the second step, in the same manner as in working example 9 above, the powdered raw material thus obtained is subjected to granulation and drying, molding and sintering steps to obtain the thermistor device. 1 with lead wires 11 and 12 fixed as a mixed sintered body. Subsequently, this thermistor device 1 assembled into a temperature sensor 100

de la même manière que dans l'exemple de travail 9 au-  in the same way as in Work Example 9

dessus, a été soumis à une évaluation de ses caractéristiques de valeur de résistance-température et de précision de température. Le Tableau 5 représente les résultats de l'évaluation. Le capteur de température 100 selon cet exemple a montré une précision de température  above, has been subjected to an evaluation of its resistance-temperature value characteristics and temperature accuracy. Table 5 shows the results of the evaluation. The temperature sensor 100 according to this example has shown a temperature accuracy

de 5 C, ce qui est une excellente valeur.  5 C, which is an excellent value.

De plus, les résultats de l'analyse de la composition par AEM et de l'observation par TEM ont été  In addition, the results of the AEM composition analysis and the TEM observation were

similaires à celles de l'exemple de travail 14 au-  similar to those in Work Example 14

dessus, en ce que les grains de cristaux de Y0,9Cao,1) (Cro,75Feo,2Tio,05)03, qui est la phase dominante de la valeur de résistance, se sont trouvés être des grains très fins de l'ordre de plusieurs nm à plusieurs centaines de nm qui sont dispersés/mélangés de façon  above, in that the crystal grains of Y0.9Cao, 1) (Cro, 75Fe0, 2Ti0.05) 03, which is the dominant phase of the resistance value, have been found to be very fine grains of the order from several nm to several hundreds of nm which are dispersed / mixed in a

uniforme dans la composition.uniform in the composition.

(Exemple Comparatif 5) L'exemple comparatif 5 est un exemple d'une méthode de fabrication de la composition du dispositif de thermistance de Yo,9Cao,1) (Cr0,75Fe0,2Ti0,05)O3, la même composition que dans les exemples de travail 14 et 15 ci-dessus, mais la méthode en phase solide conventionnelle est utilisée. Dans la méthode en phase solide de cet exemple, les oxydes Y203, Cr203, Fe203, TiO2 et CaCO3 sont utilisés comme matériaux bruts. Le mélange et le broyage sont effectués avec un broyeur à bille conventionnel. La Figure 21 représente le procédé  (Comparative Example 5) Comparative Example 5 is an example of a method of manufacturing the thermistor device composition of Yo, 9Cao, 1) (Cr0.75Fe0.2Ti0.05) O3, the same composition as in Work Examples 14 and 15 above, but the conventional solid phase method is used. In the solid phase method of this example, the Y 2 O 3, Cr 2 O 3, Fe 2 O 3, TiO 2 and CaCO 3 oxides are used as raw materials. Mixing and milling are done with a conventional ball mill. Figure 21 shows the process

de fabrication de l'exemple comparatif 5.  of manufacture of Comparative Example 5.

Tout d'abord, du Y203, Cr203, Fe203, TiO2 et CaCO3 chacun avec une pureté de 99,9 % ou plus sont préparés. Dans l'étape de formulation, les matériaux sont pesés afin que la composition de la calcine après l'étape de calcination devienne Y0,9Cao, 1)(Cro,75Feo,2Tio,05)03. Puis, de la même manière  First, Y203, Cr 2 O 3, Fe 2 O 3, TiO 2 and CaCO 3 each with a purity of 99.9% or more are prepared. In the formulation step, the materials are weighed so that the calcine composition after the calcination step becomes Y0.9Cao, 1) (Cro, 75Fe0, 2Ti05) 03. Then, in the same way

À 2775537At 2775537

que dans l'exemple comparatif 3 au-dessus, l'étape de mélange et l'étape de calcination sont effectuées pour  that in comparative example 3 above, the mixing step and the calcination step are carried out in order to

obtenir une calcine.get a calcine.

Puis, de la même manière que dans l'exemple comparatif 3, la calcine ainsi obtenue est soumise au mélange et au broyage avec un broyeur à billes, et aux étapes de granulation, moulage et frittage pour obtenir un dispositif de thermistance. Le dispositif de thermistance ainsi obtenu a été assemblé dans un capteur de température et ses caractéristiques de valeur de résistance-température et sa précision de température ont été évaluées. Le Tableau 6 représente le résultat de l'évaluation. Le capteur de température selon cet exemple comparatif 5 a montré des caractéristiques de valeur de résistance- température comparables à celles des exemples de travail 14 et 15 ci- dessus, qui sont des corps frittés comportant la même composition, mais sa précision de température était de 30 C, ce qui n'est  Then, in the same manner as in Comparative Example 3, the calcine thus obtained is subjected to mixing and grinding with a ball mill, and to the granulation, molding and sintering steps to obtain a thermistor device. The thermistor device thus obtained was assembled in a temperature sensor and its resistance-temperature value characteristics and temperature accuracy were evaluated. Table 6 represents the result of the evaluation. The temperature sensor according to this Comparative Example 5 showed resistance-temperature characteristics comparable to those of Working Examples 14 and 15 above, which are sintered bodies having the same composition, but its temperature accuracy was 30 C, which is

pas une bonne valeur.not a good value.

De plus, l'analyse de composition AEM a été effectuée sur la composition des grains de cristaux de Yo0,9Ca0,1) (Cr0,75Fe0,2Ti0,05)O3, qui est la phase de domination de la valeur de résistance, de la même manière qu'au-dessus. Il en résulte que la composition se trouvait dans la gamme Y:Ca:Cr:Fe:Ti= 0,85:0,15:0,70:0, 15:0,15 à Y:Ca:Cr:Fe:Ti= 0,93:0,07:0,78:0,21:0,01 comparée à la composition idéale de Y:Ca:Cr:Fe:Ti=0,9:0,1:0,75:0, 2:0,05 ainsi la dispersion dans la composition était importante, et cela a été déterminé comme étant la cause de la dégradation  In addition, AEM composition analysis was performed on the crystal grain composition of Yo0.9Ca0.1 (Cr0.75Fe0.2Ti0.05) O3, which is the phase of dominance of the resistance value, the same way as above. As a result, the composition was in the range Y: Ca: Cr: Fe: Ti = 0.85: 0.15: 0.70: 0.15: 0.15 to Y: Ca: Cr: Fe: Ti = 0.93: 0.07: 0.78: 0.21: 0.01 compared to the ideal composition of Y: Ca: Cr: Fe: Ti = 0.9: 0.1: 0.75: 0, 2: 0.05 thus the dispersion in the composition was important, and this was determined to be the cause of the degradation

de la précision de température.the temperature accuracy.

(Exemple de travail 16) L'exemple de travail 16 est un exemple dans lequel le matériau brut en poudre pour un dispositif de thermistance consistant en un corps fritté mixte de la composition (Ao10,7Cr0,2Fe0o, 1)203.MgO.CaO est synthétisé durant la première étape au moyen d'une méthode en phase liquide utilisant des composés organométalliques comme composés précurseurs de la même manière que dans l'exemple de travail 9 ci-dessus. La Figure 22 représente le procédé de fabrication de cet exemple de travail 16. Dans la figure 22, la partie à partir de l'étape de formulation jusqu'à l'étape de calcination est équivalente à la première étape, et la partie à partir de la granulation et de l'étape de séchage jusqu'à l'étape de frittage est équivalente à la seconde étape. Tout d'abord durant la première étape, les alkoxydes de métal de triéthoxyaluminium (Al(OC2H5)3), tris' (2,4-pentadiono)chrome (Cr[OC(CH3)CHCOCH3]3) et du triéthoxy de fer (Fe(OC2H5)3) chacun avec une pureté de 99,9 % ou plus sont préparés comme les trois composés précurseurs qui servent comme matériau de départ. Puis, durant l'étape de formulation, les trois composés précurseurs mentionnés au-dessus sont pesés afin que la composition ultime du dispositif de thermistance  (Work Example 16) Work Example 16 is an example in which the powdered raw material for a thermistor device consisting of a mixed sintered body of the composition (Ao10.7Cr0.2Fe0o, 1) 203.MgO.CaO is synthesized during the first step using a liquid phase method using organometallic compounds as precursor compounds in the same manner as in working example 9 above. Figure 22 shows the manufacturing method of this working example 16. In Figure 22, the portion from the formulation step to the calcination step is equivalent to the first step, and the portion from from the granulation and the drying step to the sintering step is equivalent to the second step. First during the first step, triethoxyaluminum metal alkoxides (Al (OC2H5) 3), tris (2,4-pentadiono) chromium (Cr (OC (CH3) CHCOCH3] 3) and iron triethoxy ( Fe (OC2H5) 3) each with a purity of 99.9% or more are prepared as the three precursor compounds which serve as the starting material. Then, during the formulation step, the three precursor compounds mentioned above are weighed so that the ultimate composition of the thermistor device

devienne (Ao10,7Cr0,2Fe0,1)203.MgO.CaO.  become (Ao10.7Cr0.2Fe0.1) 203.MgO.CaO.

De plus, afin d'ajouter les matériaux bruts de Mg de Ca comme composants d'aide au frittage sous la forme de composés organométalliques similaires à ceux pour le matériau de départ mentionné au-dessus de diéthoxymagnésium (Mg(OC2H5)2) et de diéthoxycalcium (Ca(OC2H5)2) sont pesés afin que chacun comporte 2 % en  In addition, in order to add the raw materials of Ca Mg as sintering aid components in the form of organometallic compounds similar to those for the above mentioned diethoxymagnesium (Mg (OC 2 H 5) 2) starting material and diethoxycalcium (Ca (OC2H5) 2) are weighed so that each has 2%

*poids de (Ao10,7Cr0o2Fe0,1)203.* weight of (Ao10.7Cr0o2Fe0.1) 203.

Ensuite, durant l'étape de dissolution et de mélange, le matériau de départ ainsi pesé est dissous et mélangé dans un mélange de solvant d'éthanol et d'alcool isopropylique 10 fois la quantité du matériau de départ en poids. Durant l'étape d'agitation et de reflux, le reflux est mis en oeuvre pendant 10 heures à 40-80 C pour obtenir une solution d'alkoxyde de métal composite (référencée dans la présente invention comme le mélange liquide). Ensuite, durant l'étape de chauffage et de polymérisation, l'agent précipitant de sel de métal de l'eau déminéralisée est ajouté afin d'hydrolyser cette solution d'alkoxyde de métal composite, puis la solution est agitée et mélangée. De plus, durant l'étape de reflux et de précipitation, le reflux est effectué pendant 2 à 4 heures à 40-60 C pour obtenir un précipité gélatineux d'un composite de sels métalliques. Puis, apres que ce précipité ait été séparé par filtration et séché, il est calciné pour obtenir un matériau brut en poudre avec la composition (A10,7Cr0,2Fe0,1)203.MgO.CaO, la même composition que celle du dispositif de  Then, during the dissolving and mixing step, the thus weighed starting material is dissolved and mixed in a solvent mixture of ethanol and isopropyl alcohol 10 times the amount of the starting material by weight. During the stirring and refluxing step, the reflux is carried out for 10 hours at 40-80 ° C to obtain a composite metal alkoxide solution (referenced in the present invention as the liquid mixture). Then, during the heating and polymerization step, the metal salt precipitating agent of demineralised water is added to hydrolyze this composite metal alkoxide solution, and the solution is stirred and mixed. In addition, during the reflux and precipitation step, the reflux is carried out for 2 to 4 hours at 40-60 ° C to obtain a gelatinous precipitate of a composite of metal salts. Then, after this precipitate has been filtered off and dried, it is calcined to obtain a raw material in powder form with the composition (A10.7Cr0.2Fe0.1) 203.MgO.CaO, the same composition as that of the

thermistance 1.thermistor 1.

Ensuite, durant la seconde étape, de la même manière que dans l'exemple de travail 9 au-dessus, le matériau brut en poudre ainsi obtenu est soumis à la granulation et aux étapes de séchage, moulage et frittage pour obtenir le dispositif de thermistance 1 avec des fils conducteurs 11 et 12 fixés comme un corps fritté mixte. Par la suite, ce dispositif de thermistance 1 assemblé dans un capteur de température de la même manière que dans l'exemple de travail 9 au-dessus, a été soumis à une évaluation de ses caractéristiques de valeur de résistance-température et sa précision de température. Le Tableau 5 représente les résultats de l'évaluation. Le capteur de température 100 selon cet exemple a montré une précision de température  Then, during the second step, in the same manner as in Work Example 9 above, the powdered raw material thus obtained is subjected to granulation and drying, molding and sintering steps to obtain the thermistor device. 1 with lead wires 11 and 12 fixed as a mixed sintered body. Subsequently, this thermistor device 1 assembled in a temperature sensor in the same manner as in the working example 9 above, was subjected to an evaluation of its resistance-temperature value characteristics and its accuracy. temperature. Table 5 shows the results of the evaluation. The temperature sensor 100 according to this example has shown a temperature accuracy

de 5 C, ce qui est une excellente valeur.  5 C, which is an excellent value.

De plus, une analyse de composition par AEM a été effectuée sur la composition des grains de cristal de (Ao10,7Cro,2Feo,1)203, qui est la phase de domination de  In addition, composition analysis by AEM was performed on the crystal grain composition of (Ao10,7Cro, 2Fe0, 1) 203, which is the dominant phase of

valeur de résistance, de la même manière qu'au-dessus.  resistance value, in the same way as above.

Il en résulte que la composition des grains de cristal s'est trouvée être dans la gamme de Ai:Cr:Fe=:0,7:0,2:0,1 à Al:Cr:Fe=:0,69:0,21:0,1, de sorte que pratiquement aucune dispersion conventionnelle dans la composition à partir de la composition idéale n'a été observée, et ainsi l'uniformité de la composition de l'ordre atomique et moléculaire a été observée. De plus, il résulte de l'observation par TEM comme au-dessus que les divers grains de cristal de (Alo,7Cro,2Feo,1)203, MgO et CaO ont été trouvés comme étant des grains très fins de l'ordre de plusieurs nm à  As a result, the composition of the crystal grains was found to be in the range of Al: Cr: Fe = 0.7: 0.2: 0.1 to Al: Cr: Fe = 0.69: 0 , 21: 0.1, so that virtually no conventional dispersion in the composition from the ideal composition was observed, and thus the uniformity of atomic and molecular order composition was observed. Moreover, it follows from the observation by TEM as above that the various crystal grains of (Alo, 7Co, 2Fe0, 1) 203, MgO and CaO have been found to be very fine grains of the order of several nm to

plusieurs centaines de nm.several hundred nm.

(Exemple de travail 17) L'exemple de travail 17 est un exemple dans lequel le matériau brut en poudre pour le dispositif de thermistance 1 consistant en un corps fritté mixte de composition (Alo, 7Cro,2Feo,1)203.MgO.CaO est synthétisé comme dans l'exemple de travail mentionné au-dessus 14, mais cela est effectué au moyen d'une méthode en phase liquide dans laquelle les composés précurseurs sont mélangés dans une solution dans laquelle le composé complexant EDTA est dissous. La Figure 23 représente le  (Work Example 17) Work Example 17 is an example in which the powdered raw material for the thermistor device 1 consisting of a composite sintered body (Alo, 7Cro, 2Feo, 1) 203.MgO.CaO is synthesized as in the working example mentioned above 14, but this is done by means of a liquid phase method in which the precursor compounds are mixed in a solution in which the complexing compound EDTA is dissolved. Figure 23 shows the

procédé de fabrication de cet exemple de travail 17.  manufacturing process of this working example 17.

Dans la Figure 23, la partie à partir de l'étape de formulation jusqu'à l'étape de calcination est équivalente à la première étape, et la partie à partir de la granulation et de l'étape de séchage jusqu'à  In Figure 23, the portion from the formulation step to the calcination step is equivalent to the first step, and the portion from the granulation and drying step to

l'étape de frittage est équivalente à la seconde étape.  the sintering step is equivalent to the second step.

Tout d'abord les nitrates (composés métalliques inorganiques), nitrate d'aluminium, (Al(NO3)3.9H20), nitrate de chrome (Cr(N03)3.9H20) et le nitrate de fer (Fe(NO3)3.9H20), chacun avec une pureté de 99,9 % ou plus sont préparés comme les trois composés  First nitrates (inorganic metal compounds), aluminum nitrate, (Al (NO3) 3.9H2O), chromium nitrate (Cr (NO3) 3.9H2O) and iron nitrate (Fe (NO3) 3.9H2O) , each with a purity of 99.9% or more are prepared as the three compounds

précurseurs qui servent de matériau de départ.  precursors that serve as starting material.

Ensuite, durant l'étape de formulation, les trois composés précurseurs mentionnés au-dessus sont pesés afin que la composition ultime du dispositif de thermistance 1 devienne (A10,7Cr0,2Fe0,1)203. MgO.CaO. De plus, afin d'ajouter les matériaux bruts de Mg et Ca comme composants d'aide au frittage sous la forme de composés métalliques inorganiques similaires à ceux du matériau de départ mentionné au-dessus, le nitrate de magnésium (Mg(NO3)2.6H20) et le nitrate de calcium (Ca(NO3)2.4H20) sont pesés afin qu'ils comportent 2 % en poids et 2 % en poids, respectivement de  Then, during the formulation step, the three precursor compounds mentioned above are weighed so that the ultimate composition of the thermistor device 1 becomes (A10.7Cr0.2Fe0.1) 203. MgO.CaO. In addition, in order to add the raw materials of Mg and Ca as sintering aid components in the form of inorganic metal compounds similar to those of the starting material mentioned above, magnesium nitrate (Mg (NO3) 2.6 H2O) and calcium nitrate (Ca (NO3) 2.4H2O) are weighed so that they comprise 2% by weight and 2% by weight, respectively of

(A10,7Cr0,2Fe0,1)203.MgO.CaO.(A10,7Cr0,2Fe0,1) 203.MgO.CaO.

Ensuite, durant l'étape de dissolution et de mélange, l'EDTA dans une quantité de 3 fois en poids celle du matériau de départ est dissous dans une quantité appropriée d'eau déminéralisée. Le matériau de départ mentionné au-dessus est dissous dans la solution EDTA pour former le mélange liquide comme référencé dans la présente invention. Ensuite, durant l'étape de mélange et de reflux, dans ce mélange liquide, les divers ions de métal (Ai, Cr, Fe, Mg, Ca) réagissent avec l'EDTA pour préparer un composé complexe de métal composite dans lequel ces ions métalliques sont  Then, during the dissolving and mixing step, the EDTA in an amount of 3 times by weight that of the starting material is dissolved in an appropriate amount of demineralized water. The above-mentioned starting material is dissolved in the EDTA solution to form the liquid mixture as referenced in the present invention. Then, during the mixing and refluxing step, in this liquid mixture, the various metal ions (Al, Cr, Fe, Mg, Ca) react with EDTA to prepare a complex composite metal compound in which these ions Metallic are

coordonnés et liés aux sites de coordination de l'EDTA.  coordinated and linked to EDTA coordination sites.

Puis, durant l'étape de chauffage et de polymérisation, afin de provoquer une réaction de polymérisation dans ce composé complexe de métal composite et d'obtenir un précipité de sels de métal, l'agent précipitant le sel de métal d'éthylèneglycol est ajouté en excès à la quantité minimum nécessaire pour provoquer la réaction de polymérisation, puis la solution est agitée et mélangée. Par la suite, ce mélange liquide est chauffé à 80-120 C pour faire avancer la réaction de polymérisation. Puis, durant l'étape de précipitation, le chauffage est stoppé au point o la réaction de polymérisation a avancé de façon suffisante, et une quantité appropriée d'eau déminéralisée (agent précipitant de sel de métal) est ajoutée pour précipiter le polymère, etc. comme un  Then, during the heating and polymerization step, to cause a polymerization reaction in this composite metal complex compound and to obtain a precipitate of metal salts, the ethylene glycol metal salt precipitating agent is added in excess of the minimum amount necessary to cause the polymerization reaction, then the solution is stirred and mixed. Subsequently, this liquid mixture is heated to 80-120 ° C to advance the polymerization reaction. Then, during the precipitation step, the heating is stopped at the point where the polymerization reaction has advanced sufficiently, and an appropriate amount of demineralized water (metal salt precipitating agent) is added to precipitate the polymer, etc. . like a

précipité gélatineux de sel de métal.  gelatinous precipitate of metal salt.

Puis ce précipité est séparé par filtration et séché, puis il est calciné pour obtenir un matériau brut en poudre avec la composition (Alo,7Cro,2Feo,1)203 MgO.CaO, la même composition cque celle du dispositif de  This precipitate is then separated by filtration and dried, and then calcined to obtain a raw material in powder form with the composition (Alo, 7Co, 2Fe, 1) 203 MgO.CaO, the same composition as that of the

thermistance 1.thermistor 1.

Puis, durant la seconde étape, de la même manière que dans l'exemple de travail 9 au-dessus, le matériau brut en poudre ainsi obtenu est soumis à la granulation et aux étapes de séchage, moulage et frittage pour obtenir le dispositif de thermistance 1 avec les fils conducteurs 11 et 12 attachés comme un corps fritté mixte. Par la suite, ce dispositif de thermistance 1 assemblé en un capteur de température 100  Then, during the second step, in the same manner as in Work Example 9 above, the powdered raw material thus obtained is subjected to granulation and drying, molding and sintering steps to obtain the thermistor device. 1 with the lead wires 11 and 12 attached as a mixed sintered body. Subsequently, this thermistor device 1 assembled into a temperature sensor 100

de la même manière que dans l'exemple de travail 9 au-  in the same way as in Work Example 9

dessus, a été soumis à une évaluation de ses caractéristiques de valeur de résistance-température et de la précision de température. Le Tableau 5 représente les résultats de l'évaluation. Le capteur de température selon cet exemple a montré une précision de  above, has been subjected to an evaluation of its resistance-temperature value characteristics and temperature accuracy. Table 5 shows the results of the evaluation. The temperature sensor according to this example has shown a precision of

température de 5 C, ce qui est une excellente valeur.  temperature of 5 C, which is an excellent value.

De plus, les résultats de l'analyse de la composition par AEM et les observations par TEM ont été  In addition, the results of the AEM composition analysis and the TEM observations were

similaires à celles de l'exemple de travail 14 au-  similar to those in Work Example 14

dessus, en ce que les grains de cristal de (Ao10,7Cr0, 2Fe0,1)203 qui est la phase dominant la valeur de résistance, se sont trouvés avoir une composition uniforme de l'ordre moléculaire et atomique. De plus, les grains de cristal de (Ao10,7Cr0,2Fe0, 1)203 se sont trouvés être des grains de cristal très fins de l'ordre  above, in that the crystal grains of (Ao10.7Cr0.2Fe0.1) 203 which is the dominant phase of the resistance value, have found themselves to have a uniform composition of the molecular and atomic order. In addition, the crystal grains of (Ao10.7Cr0.2Fe0.1) 203 were found to be very fine crystal grains of the order

de plusieurs nm à plusieurs centaines de nm.  from several nm to several hundreds of nm.

(Exemple Comparatif 6) L'exemple comparatif 6 est un exemple d'une méthode de fabrication de la composition du dispositif de thermistance de (Alo,7Cr0,2Fe0,1)203.MgO.CaO, la même composition que dans les exemples detravail 16 et 17 au-dessus, mais la méthode en phase solide conventionnelle est utilisée. Dans la méthode en phase solide de cet exemple, les oxydes Y203, Cr203, Fe203, MgO et CaCO3 sont utilisés comme les matériaux bruts. Le mélange et le broyage sont effectués avec un broyeur à bille conventionnel. La Figure 25 représente le procédé  (Comparative Example 6) Comparative Example 6 is an example of a method for manufacturing the composition of the thermistor device of (Alo, 7Cr0.2Fe0.1) 203.MgO.CaO, the same composition as in the working examples. 16 and 17 above, but the conventional solid phase method is used. In the solid phase method of this example, the Y 2 O 3, Cr 2 O 3, Fe 2 O 3, MgO and CaCO 3 oxides are used as the raw materials. Mixing and milling are done with a conventional ball mill. Figure 25 shows the process

de fabrication de l'exemple comparatif 6.  of the comparative example 6.

Tout d'abord, du A1203, Cr203, Fe2O3, MgO et CaCO3 chacun avec une pureté de 99,9 % ou plus sont préparés. Durant l'étape de formulation, les matériaux sont pesés afin que la composition de la calcine après l'étape de calcination devienne (Alo0,7Cro,2Feo01)203 15.MgO.CaO. Puis, de la même manière que dans l'exemple comparatif 3 au-dessus, l'étape de mélange et l'étape de  First, Al 2 O 3, Cr 2 O 3, Fe 2 O 3, MgO and CaCO 3 each with a purity of 99.9% or more are prepared. During the formulation step, the materials are weighed so that the calcine composition after the calcination step becomes (Alo0.7Cro, 2FeO01) 203 15.MgO.CaO. Then, in the same way as in Comparative Example 3 above, the mixing step and the step of

calcination sont effectuées pour obtenir une calcine.  calcination are carried out to obtain a calcine.

Ensuite, de la même manière que dans l'exemple comparatif 3, la calcine ainsi obtenue est soumise au mélange et au broyage avec un broyeur à billes, et la granulation, les étapes de moulage et de frittage pour obtenir un dispositif de thermistance. Le dispositif de thermistance ainsi obtenu a été assemblé en un capteur de température et ses caractéristiques de valeur de résistance-température et sa précision de température ont été évaluées. Le Tableau 6 représente les résultat de l'évaluation. Le capteur de température selon cet exemple comparatif 6 a montré des caractéristiques de valeur de résistance-température comparables à celles des exemples de travail 16 et 17 ci-dessus, qui sont des corps frittés ayant la même composition, mais sa précision de température était de 30 C, ce qui est  Then, in the same manner as in Comparative Example 3, the calcine thus obtained is subjected to mixing and grinding with a ball mill, and granulation, molding and sintering steps to obtain a thermistor device. The resulting thermistor device was assembled into a temperature sensor and its resistance-temperature value characteristics and temperature accuracy were evaluated. Table 6 shows the results of the evaluation. The temperature sensor according to this comparative example 6 showed resistance-temperature value characteristics comparable to those of working examples 16 and 17 above, which are sintered bodies having the same composition, but its temperature accuracy was 30 C, which is

moins bonne.less good.

De plus, l'analyse de la composition par AEM a été effectuée sur la composition des grains de cristal de (Alo,7Cro,2Feo,1)203, qui est la phase dominant la  In addition, the analysis of the composition by AEM was performed on the composition of the crystal grains of (Alo, 7Cro, 2Feo, 1) 203, which is the dominant phase.

valeur de résistance, de la même manière qu'au-dessus.  resistance value, in the same way as above.

Il en résulte que la composition s'est trouvée dans la gamme de Al:Cr:Fe=0,78:0,17:0,05 à Al:Cr:Fe= 0,65:0,23:0,12 comparée à la composition idéale de Al:Cr:Fe=0,7:0,2:0,1, ainsi la dispersion dans la composition était importante, et cela a été déterminé comme étant la cause de la dégradation de la précision  As a result, the composition was in the range of Al: Cr: Fe = 0.78: 0.17: 0.05 to Al: Cr: Fe = 0.65: 0.23: 0.12 compared at the ideal composition of Al: Cr: Fe = 0.7: 0.2: 0.1, thus the dispersion in the composition was important, and this was determined to be the cause of the degradation of the accuracy

de température.temperature.

Tableau 5Table 5

Composition de matériaux brut Valeur de résistanc Coefficient Température de thermistance (knI de résistan- de précision remperature- ce-tempéra- A ( C) ambiante ture 1000oc tur :xemp e de travail 9 38Y(CrosMno,5)03'62Y203 50 007 2580 3 Exemple de 38Y(Cro,5Mno05)03.62Y203 50 O7 2580 +3 Exemple e 500j07 2580 3' travail 10 3 _o(3 Exemple de 38Y(Cr0,5Mno 5) 0 3.62Y203 50 007 2580 +5 travail 1] _ Exemple de 40Y(Cro/sMno5)03.60Al20O3 50 0;07 2580 +2  Raw material composition Resistance value Coefficient Thermistor temperature (resistance knIr of temperature accuracy temperature (A) (C) ambient temperature 1000 ° C: working temperature 9 38Y (CrosMno, 5) 03'62Y203 50,007 2580 3 Example 38Y (Cro, 5Mno05) 03.62Y203 50 O7 2580 +3 Example e 500j07 2580 3 'work 10 3 _o (3 Example of 38Y (Cr0.5Mno 5) 0 3.62Y203 50 007 2580 +5 work 1] Example from 40Y (Cro / sMno5) 03.60Al20O3 50 0; 07 2580 +2

travail12 11 -work12 11 -

Exemple de 40Y Mn (C r a05)03 e2Too2 S0 007 2580 2 travail 13 Exemple de (YOCao1) (Cro75Feo2Tio)O3 300 0 1 3140 +5  Example of 40Y Mn (C r a05) 03 e2Too2 S0 007 2580 2 work 13 Example of (YOCao1) (Cro75Feo2Tio) O3 300 0 1 3140 +5

ravail 1 I _-ravail 1 I _-

Exemple de - (Y0;9Ca 01) (Cro075Feo;2Ti0;0)O|300 0)1 3140 +5 travail 15_.. 7 Exemple de (Alo,7Cro2Fe021) 203.MgO-Cao 00 0>3 2980 j travail 16!_ Exemple de (A1O,7Cr 0 2Fe)203MgOCaO 600 0|3 2980 I I  Example of - (Y0; 9Ca 01) (Cro075Feo; 2Ti0; 0) O | 300 0) 1 3140 +5 work 15_ .. 7 Example of (Alo, 7Cro2Fe021) 203.MgO-Cao 00 0> 3 2980 j work 16 Example of (A1O, 7Cr 0 2Fe) 203MgOCaO 600 0 | 3 2980 II

travail 1 7 O;2Feo.work 1 7 O; 2Feo.

(n 5 -4(n 5 -4

Tableau 6Table 6

Valeur de résistance Coefficient Température Composition de matériau (k_)_ de résistan- de précisior brut de thermistance ce-tempéra- A 27 1000 C ture(C)  Resistance value Coefficient Temperature Material composition (k _) _ Resistance of raw thermistor thermoregulated to temperature 27 1000 C ture (C)

(27 C). (K),(27 C). (K),

Exemp le Comparatif 3Exemp the Comparative 3

: Exemple: Example

:Exemple 4OY(CroeMn o5)O3 -6O203 50 0 07 2580 - F2 30 !Comparatif 4 _ ___ 5 __ 28_ __  Example 4OY (CroeMn o5) O3 -6O203 50 0 07 2580 - F2 30! Comparative 4 _ ___ 5 __ 28_ __

ExempleCajExempleCaj

Exemple-(Y0,9Ca 01)- 300 0 1 3140 +30 0 [Comparatif 5 ____ ___;i0;)O 0 JExemp le Comparatif 6 (ALC( Cr e0; i 2TiOp[5)O 3 0 cn on (Exemple de travail 18) L'exemple de travail 18 est un exemple dans lequel le matériau brut en poudre pour le dispositif de thermistance 1 consistant en un corps fritté mixte de 38Y(Cr0,5Mn0, 5)O03.62Y203 est obtenu, mais cela est effectué au moyen d'une méthode en phase liquide dans laquelle l'acide citrique d'agent formant complexé est utilisé comme les composés complexants composite, et  EXAMPLE 5 (Comparative Example 5) Comparative Example 6 (ALC (Cr eO 2 TiOp) [5] Work Example 18 is an example in which the powdered raw material for the thermistor device 1 consisting of a mixed sintered body of 38Y (Cr0.5Mn0.5) O03.62Y203 is obtained, but this is done by means of a liquid phase method in which the complexing agent citric acid is used as the composite complexing compounds, and

l'éthylèneglycol est utilisé comme l'agent polymérisant.  ethylene glycol is used as the polymerizing agent.

La Figure 18 représente le procédé de fabrication de cet exemple de travail 18. Dans la figure 18, la partie à partir de l'étape de formulation jusqu'à l'étape de calcination est équivalente à la première étape, et la partie à partir de la granulation et de l'étape de séchage jusqu'à l'étape de frittage est équivalente à la  FIG. 18 shows the manufacturing method of this working example 18. In FIG. 18, the part from the formulation step to the calcination stage is equivalent to the first stage, and the part from from the granulation and the drying step to the sintering step is equivalent to the

seconde étape.second step.

Durant la première étape, premièrement les nitrates (composés métalliques inorganiques), nitrate d'yttrium (Y(NO3)3.6H20), le nitrate de manganèse (Mn(NO3)3.6H20) et le nitrate de chrome (Cr(NO3)3.9H20), chacun avec une pureté de 99,9 % ou plus, sont préparés comme les trois composés précurseurs qui servent comme  During the first stage, firstly nitrates (inorganic metal compounds), yttrium nitrate (Y (NO3) 3.6H20), manganese nitrate (Mn (NO3) 3.6H20) and chromium nitrate (Cr (NO3) 3.9 H20), each with a purity of 99.9% or more, are prepared as the three precursor compounds that serve as

matériau de départ.starting material.

Ensuite, durant l'étape de formulation, les trois composés précurseurs mentionnés au-dessus sont pesés afin que la composition ultime du dispositif de thermistance 1 devienne du 38Y(Cr0,5Mn0,5)O3. 62Y203. De plus, afin d'ajouter du Ca comme composant d'aide au frittage au matériau de départ mentionné au-dessus, le nitrate de calcium de composé métallique inorganique (Ca(NO3)2.4H20 est pesé afin qu'il comporte 5 % en poids  Then, during the formulation step, the above three precursor compounds are weighed so that the ultimate composition of the thermistor device 1 becomes 38Y (Cr0.5Mn0.5) O3. 62Y203. In addition, in order to add Ca as a sintering aid component to the above-mentioned starting material, the inorganic metal compound calcium nitrate (Ca (NO 3) 2.4H 2 O is weighed to 5% by weight. weight

de 38Y(Cr0,5Mn0,5)03.62Y203.of 38Y (Cr0.5Mn0.5) 03.62Y203.

Ensuite, dans l'étape de dissolution et de mixage, tout d'abord 60 g d'acide citrique est dissous dans 2 litres d'eau déminéralisée pour obtenir une solution d'acide citrique dans laquelle dans laquelle, si e est le nombre de moles d'acide citrique et f est le nombre total de moles de tous les éléments constituants Y, Cr et Mn de la composition, alors la concentration en acide citrique est e/f=l (cela est défini comme étant une fois par mole). Puis, durant l'étame d'agitation et de reflux, le matériau de départ au-dessus et le nitrate de calcium sont ajoutés à cette solution d'acide citrique, o les divers ions de métal (Y, Cr, Mn, Ca) réagissent avec l'acide citrique pour former un composite complexe de métal composite dans lequel ces ions de métal sont coordonnés et liés aux sites de coordination de l'acide citrique. Ensuite, durant l'étape de chauffage et de polymérisation, afin de provoquer une réaction de polymérisation dans ce composé complexe de métal composite et obtenir un précipité de sel de métal, ml de l'agent polymérisant d'éthylèneglycol est ajouté. Par la suite, ce mélange liquide est chauffé à 80-2000C pour faire avancer la réaction de polymérisation. Puis, le chauffage est stoppé au point lorsque la réaction de polymérisation a suffisamment  Then, in the dissolving and mixing step, first 60 g of citric acid is dissolved in 2 liters of deionized water to obtain a citric acid solution in which, if e is the number of moles of citric acid and f is the total number of moles of all constituent elements Y, Cr and Mn of the composition, then the concentration of citric acid is e / f = 1 (this is defined as once per mole) . Then, during the stirring and refluxing stage, the starting material above and calcium nitrate are added to this citric acid solution, where the various metal ions (Y, Cr, Mn, Ca) are added. react with citric acid to form a complex composite metal composite in which these metal ions are coordinated and bonded to the citric acid coordination sites. Then, during the heating and polymerization step, to cause a polymerization reaction in this composite metal complex compound and to obtain a metal salt precipitate, ml of the ethylene glycol polymerizing agent is added. Subsequently, this liquid mixture is heated to 80-2000C to advance the polymerization reaction. Then, the heating is stopped to the point when the polymerization reaction has sufficiently

avancée, pour obtenir un liquide visqueux gélatineux.  advanced, to obtain a viscous gelatinous liquid.

Puis, durant l'étape de séchage, ce polymère est placé dans un creuset de 99,7 % d'A1203 et séché, et durant l'étape de traitement de chauffage, il est traité à 600-1000 C pour obtenir une composition avec une composition de 38Y(Cr0,5Mn0,5)O3.62Y203, la même que  Then, during the drying step, this polymer is placed in a crucible of 99.7% A1203 and dried, and during the heating treatment step, it is treated at 600-1000 C to obtain a composition with a composition of 38Y (Cr0.5Mn0.5) O3.62Y203, the same as

celle du dispositif de thermistance 1.  that of the thermistor device 1.

Ensuite, durant la seconde étape, le traitement est effectué de la même manière que dans l'exemple de travail 9 au-dessus, de sorte que les matériaux bruts en poudre ainsi obtenus soient granulés. Ces granulés sont utilisés dans les étapes de moulage et de frittage pour obtenir le dispositif de thermistance 1 avec des fils  Then, during the second step, the treatment is carried out in the same manner as in the working example 9 above, so that the powdered raw materials thus obtained are granulated. These granules are used in the molding and sintering steps to obtain the thermistor device 1 with wires

conducteurs 11 et 12 fixés comme un corps fritté mixte.  conductors 11 and 12 fixed as a mixed sintered body.

Par la suite, ce dispositif de thermistance 1 assemblé en un capteur de température 100 de la même manière que dans l'exemple de travail 9 audessus, a été soumis à une évaluation de ses caractéristiques de valeur de résistance-température (valeur de résistance et coefficient résistance-température 3) et de précision de température ( A C). Le tableau 7 représente les résultats de l'évaluation avec la concentration en acide citrique. Il est à noter que le tableau 7 montre aussi les résultats de l'évaluation des exemples de travail 19-23 ci-dessous. Le capteur de température 100 selon cet exemple a montré une précision de température de  Subsequently, this thermistor device 1 assembled into a temperature sensor 100 in the same manner as in working example 9 above, was subjected to an evaluation of its resistance-temperature value characteristics (resistance value and resistance-temperature coefficient 3) and temperature accuracy (AC). Table 7 shows the results of the evaluation with the concentration of citric acid. It should be noted that Table 7 also shows the results of the evaluation of Work Examples 19-23 below. The temperature sensor 100 according to this example has shown a temperature accuracy of

5 C, ce qui est une excellente valeur.   5 C, which is an excellent value.

De plus, le dispositif de thermistance 1 de cet exemple a été soumise à une analyse quantitative des différents éléments constituant de Y, Cr et Mn au moyen d'une analyse de masse par sonde d'électron (EPMA). Les résultats sont donnés dans le Tableau 8. Il est à noter que le Tableau 8 montre aussi les résultats de l'analyse des exemples de travail 19 à 23 ci-dessous ainsi que les résultats de l'analyse de l'exemple comparatif 3  In addition, the thermistor device 1 of this example was subjected to a quantitative analysis of the various constituent elements of Y, Cr and Mn by means of an electron probe mass analysis (EPMA). The results are given in Table 8. It should be noted that Table 8 also shows the results of the analysis of Working Examples 19 to 23 below as well as the results of the analysis of Comparative Example 3.

mentionné au-dessus.mentioned above.

Comme cela est évident à partir du tableau 8, la dispersion dans la composition de différents éléments constituants (déviation standard a; unités de % d'atomes) s'est trouvée être diminuée d'approximativement 1/2 de celle de la méthode en phase solide conventionnelle. De plus, dans la méthode en phase solide conventionnelle (exemple comparatif 3), la dispersion dans la composition était plus importante que dans la méthode en phase liquide, ainsi cette augmentation dans la dispersion dans la composition a été confirmée comme étant la cause de la dégradation de  As is apparent from Table 8, the dispersion in the composition of various constituent elements (standard deviation α, units of% atoms) was found to be reduced by approximately 1/2 of that of the phased method. conventional solid. Moreover, in the conventional solid phase method (Comparative Example 3), the dispersion in the composition was greater than in the liquid phase method, so this increase in dispersion in the composition was confirmed as the cause of the degradation of

la précision de température.the temperature accuracy.

(Exemple de travail 19) L'exemple de travail 19 est un exemple dans lequel le matériau brut en poudre pour le dispositif de thermistance 1 consistant en un corps fritté mixte de 38Y(Cr0,o5Mn0,5)O3.62Y203 est obtenu par le même procédé de fabrication dans l'exemple de travail 18 au-dessus représenté dans la Figure 25, excepté que la concentration de l'acide citrique d'agent formant complexe est changée à deux fois par mole. Les précurseurs des éléments constituant réagissent avec cet  (Work Example 19) Work Example 19 is an example in which the powdered raw material for the thermistor device 1 consisting of a mixed sintered body of 38Y (Cr0, o5Mn0.5) O3.62Y203 is obtained by the same method of manufacture in Work Example 18 above shown in Figure 25, except that the concentration of complexing agent citric acid is changed to twice per mole. The precursors of the constituent elements react with this

acide citrique pour obtenir le matériau brut en poudre.  citric acid to obtain the raw material powder.

Le matériau brut en poudre ainsi obtenu est utilisé dans la seconde étape mentionnée au-dessus pour obtenir le dispositif de thermistance 1 avec des fils conducteurs 11 et 12 fixés comme un corps fritté mixte de 38Y(Cr0,5Mn0,5)03.62Y203. Ce dispositif de thermistance assemblé en un capteur de température 100 a été soumis à une évaluation de ses caractéristiques de valeur de résistance-température (valeur de résistance et coefficient résistance-température P) et la précision de température ( A C) de la même manière que dans  The powdered raw material thus obtained is used in the second step mentioned above to obtain the thermistor device 1 with conductive wires 11 and 12 fixed as a mixed sintered body of 38Y (Cr0.5Mn0.5) 03.62Y203. This thermistor device assembled into a temperature sensor 100 has been subjected to an evaluation of its resistance-temperature value characteristics (resistance value and resistance-temperature coefficient P) and the temperature accuracy (AC) in the same manner as in

l'exemple de travail 9 au-dessus (voir Tableau 7).  Work Example 9 above (see Table 7).

Le capteur de température 100 selon cet exemple dans lequel la concentration en acide citrique a été ajustée à 2 fois par mole a montré une précision de température de 4 C, qui est une excellente valeur. De plus, dans cet exemple aussi, les résultats de l'analyse EPMA (voir tableau 8) a confirmé que la dispersion dans la composition des éléments constituants a été réduite d'approximativement 1/3 de celle selon la méthode en  The temperature sensor 100 according to this example in which the citric acid concentration was adjusted to 2 times per mole showed a temperature accuracy of 4 C, which is an excellent value. Moreover, in this example as well, the results of the EPMA analysis (see Table 8) confirmed that the dispersion in the composition of the constituent elements was reduced by approximately 1/3 of that in the method.

phase solide conventionnelle.conventional solid phase.

(Exemple de travail 20) L'exemple de travail 20 est un exemple dans lequel le matériau brut en poudre pour le dispositif de thermistance 1 consistant en un corps fritté mixte de 38Y(Cr0,5Mn0,5)O3.62Y203 est obtenu par le même procédé  (Work Example 20) Work Example 20 is an example in which the powdered raw material for the thermistor device 1 consisting of a mixed sintered body of 38Y (Cr 0.5Mn 0.5) O 3.62Y 2 O 3 is obtained by the same process

de fabrication que dans l'exemple de travail 18 au-  of manufacture than in working example 18

dessus représenté dans la Figure 25, excepté que la concentration de l'acide citrique d'agent formant complexe est changée à quatre fois par mole. Les précurseurs des éléments constituant réagissent avec l'acide citrique pour obtenir le matériau brut en poudre. Le matériau brut en poudre ainsi obtenu est utilisé dans la seconde étape mentionnée au-dessus pour obtenir le dispositif de thermistance 1 avec des fils conducteurs 11 et 12 attachés comme un corps fritté mixte de 38Y(Cr0,5Mn0,5)03.62Y203. Ce dispositif de thermistance 1 assemblé en un capteur de température 100 a été soumis à une évaluation de ses caractéristiques de valeur de résistance-température et de précision de température ( A C) de la même manière que dans l'exemple  25, except that the concentration of citric acid of complexing agent is changed to four times per mole. The precursors of the constituent elements react with citric acid to obtain the powdered raw material. The powdered raw material thus obtained is used in the second step mentioned above to obtain the thermistor device 1 with lead wires 11 and 12 attached as a mixed sintered body of 38Y (Cr0.5Mn0.5) 03.62Y203. This thermistor device 1 assembled into a temperature sensor 100 was subjected to an evaluation of its resistance-temperature value and temperature accuracy characteristics (A C) in the same manner as in the example

de travail 9 ci-dessus (voir Tableau 7).  9 above (see Table 7).

Le capteur de température 100 selon cet exemple dans lequel la concentration en acide citrique a été ajustée à quatre fois par mole a montré une précision de température de 3 C, qui est une excellente valeur. De plus, dans cet exemple aussi, les résultats de l'analyse EPMA (voir tableau 8) ont confirmé que la dispersion dans la composition des éléments constituants a été réduite à à peu près 1/3 à 1/4 de celle selon la méthode  The temperature sensor 100 according to this example in which the citric acid concentration was adjusted to four times per mole showed a temperature accuracy of 3 C, which is an excellent value. In addition, in this example as well, the results of the EPMA analysis (see Table 8) confirmed that the dispersion in the composition of the constituent elements was reduced to approximately 1/3 to 1/4 of that according to the method.

en phase solide conventionnelle.in conventional solid phase.

(Exemple de travail 21) L'exemple de travail 21 est un exemple dans lequel le matériau brut en poudre pour le dispositif de thermistance 1 consistant en un corps fritté mixte de 38Y(Cr0,5Mn0,5)03.62Y203 est obtenu par le même procédé  (Work Example 21) Work Example 21 is an example in which the powdered raw material for the thermistor device 1 consisting of a mixed sintered body of 38Y (Cr0.5Mn0.5) 03.62Y203 is obtained by the same process

de fabrication que dans l'exemple de travail 18 au-  of manufacture than in working example 18

dessus représenté dans la Figure 25, sauf que la concentration de l'acide citrique d'agent formant complexe est modifiée à dix fois par mole. Les précurseurs de ces éléments constituant réagissent avec cet acide citrique pour obtenir le matériau brut en poudre. Le matériau brut en poudre ainsi obtenu est utilisé durant la seconde étape mentionnée au-dessus pour obtenir le dispositif de thermistance 1 avec des fils conducteurs 11 et 12 fixés comme un corps fritté mixte de 38Y(Cr0,5Mn0,5)03.62Y203. Ce dispositif de thermistance 1 assemblé en un capteur de température 100 a été soumis à une évaluation de ses caractéristiques de valeur de résistance-température et de précision de température ( A C) de la même manière que dans l'exemple  25, except that the concentration of the complexing agent citric acid is changed to ten times per mole. The precursors of these constituent elements react with this citric acid to obtain the powdered raw material. The powdered raw material thus obtained is used during the second step mentioned above to obtain the thermistor device 1 with conductive wires 11 and 12 fixed as a mixed sintered body of 38Y (Cr0.5Mn0.5) 03.62Y203. This thermistor device 1 assembled into a temperature sensor 100 was subjected to an evaluation of its resistance-temperature value and temperature accuracy characteristics (A C) in the same manner as in the example

de travail 9 ci-dessus (voir Tableau 7).  9 above (see Table 7).

Le capteur de température 100 selon cet exemple dans' lequel la concentration en acide citrique a été ajustée à dix fois en poids a montré une précision de température de 1,5 C, qui est une excellente valeur. De plus, dans cet exemple aussi, les résultats de l'analyse EPMA (voir tableau 8) ont confirmé que la dispersion dans la composition des éléments constituants a été réduite à approximativement 1/4 de celle selon la  The temperature sensor 100 according to this example in which the citric acid concentration was adjusted to ten times by weight showed a temperature accuracy of 1.5 C, which is an excellent value. In addition, in this example as well, the results of the EPMA analysis (see Table 8) confirmed that the dispersion in the composition of the constituent elements was reduced to approximately 1/4 of that in the

méthode en phase solide conventionnelle.  conventional solid phase method.

(Exemple de travail 22) L'exemple de travail 21 est un exemple dans lequel le matériau brut en poudre pour le dispositif de thermistance 1 consistant en un corps fritté mixte de 38Y(Cro0,5Mn0,5)03. 62Y203 est obtenu par le même procédé  (Work Example 22) Work Example 21 is an example in which the powdered raw material for the thermistor device 1 consists of a mixed sintered body of 38Y (Cro0.5Mn0.5) 03. 62Y203 is obtained by the same process

de fabrication que dans l'exemple de travail 18 au-  of manufacture than in working example 18

dessus représenté dans la Figure 25, sauf que la concentration de l'acide citrique d'agent formant complexe est modifiée à vingt fois par mole. Les précurseurs des éléments constituant réagissent avec cet  25, except that the concentration of the complexing agent citric acid is changed to twenty times per mole. The precursors of the constituent elements react with this

acide citrique pour obtenir le matériau brut en poudre.  citric acid to obtain the raw material powder.

Le matériau brut en poudre ainsi obtenu est utilisé durant la seconde étape mentionnée au-dessus pour obtenir le dispositif de thermistance 1 avec des fils conducteurs 11 et 12 attachés comme un corps fritté mixte de 38Y(Cro, 5Mno0,5)O3.62Y203. Ce dispositif de thermistance 1 assemblé en un capteur de température 100 a été soumis à une évaluation de ses caractéristiques de valeur de résistance- température et de précision de température ( A C) de la même manière que dans l'exemple  The powdered raw material so obtained is used during the second step mentioned above to obtain the thermistor device 1 with lead wires 11 and 12 attached as a mixed sintered body of 38Y (Cro, 5Mn0.5) O3.62Y203. This thermistor device 1 assembled into a temperature sensor 100 was subjected to an evaluation of its resistance-temperature value and temperature accuracy characteristics (A C) in the same way as in the example

de travail 9 au-dessus (voir Tableau 7).  9 above (see Table 7).

Le capteur de température 100 selon cet exemple dans lequel la concentration en acide citrique a été ajustée à vingt fois en poids a montré une précision de  The temperature sensor 100 according to this example in which the citric acid concentration was adjusted to twenty times by weight showed a precision of

température de 1,5 C, ce qui est une excellente valeur.  temperature of 1.5 C, which is an excellent value.

De plus, dans cet exemple aussi, les résultats de l'analyse EPMA (voir tableau 8) ont confirmé que la dispersion dans la composition des éléments constituants a été réduite à approximativement 1/4 de celle selon la  In addition, in this example as well, the results of the EPMA analysis (see Table 8) confirmed that the dispersion in the composition of the constituent elements was reduced to approximately 1/4 of that in the

méthode en phase solide conventionnelle.  conventional solid phase method.

(Exemple de travail 23) L'exemple de travail 23 est un exemple dans lequel le matériau brut en poudre pour le dispositif de thermistance 1 consistant en un corps fritté mixte de 38Y(Cr0,5MnO,5)O3. 62Y203 est obtenu par le même procédé  (Work Example 23) Work Example 23 is an example in which the powdered raw material for the thermistor device 1 consists of a mixed sintered body of 38Y (Cr0.5MnO, 5) O3. 62Y203 is obtained by the same process

de fabrication que dans l'exemple de travail 18 au-  of manufacture than in working example 18

dessus représenté dans la Figure 25, sauf que la concentration de l'acide citrique d'agent formant complexe est modifiée à trente fois par mole. Les précurseurs des éléments constituant réagissent avec cet  25, except that the concentration of the complexing agent citric acid is changed to thirty times per mole. The precursors of the constituent elements react with this

acide citrique pour obtenir le matériau brut en poudre.  citric acid to obtain the raw material powder.

Il est à noter que lorsque la concentration en acide citrique est jusqu'à vingt fois par mole comme  It should be noted that when the concentration of citric acid is up to twenty times per mole as

dans les exemples de travail 18 à 23 mentionnés au-  in working examples 18 to 23 mentioned above.

dessus, le polymère ainsi obtenu était un liquide visqueux gélatineux, mais lorsque la concentration d'acide citrique devient 30 fois en poids comme dans cet exemple, le polymère ne devient pas un liquide visqueux  above, the polymer thus obtained was a gelatinous viscous liquid, but when the concentration of citric acid becomes 30 times by weight as in this example, the polymer does not become a viscous liquid

À 2775537At 2775537

gélatineux, mais plutôt une partie devient un sol  gelatinous, but rather a part becomes a soil

colloïdal fixe dispersé dans le liquide.  fixed colloidal dispersed in the liquid.

Par conséquent, afin d'éviter la dispersion à partir de la composition de thermistance idéale, dans l'étape de séchage mentionnée au-dessus, la quantité complète du sol fixé et du liquide a été placée dans le creuset d'aluminium mentionné au-dessus et séché. Ainsi, au travers du procédé de traitement de chaleur, le matériau brut en poudre avec une composition de 38Y(Cr0,5Mn0,5)O3.62Y203, la même que celle du dispositif  Therefore, in order to avoid dispersion from the ideal thermistor composition, in the drying step mentioned above, the entire amount of the fixed sol and liquid was placed in the aluminum crucible mentioned above. above and dried. Thus, through the heat treatment process, the powdered raw material with a composition of 38Y (Cr0.5Mn0.5) O3.62Y203, the same as that of the device

de thermistance 1, est obtenu.of thermistor 1, is obtained.

Le matériau brut en poudre ainsi obtenu est utilisé durant la seconde étape mentionnée au-dessus pour obtenir le dispositif de thermistance 1 avec des fils conducteurs 11 et 12 attachés comme un corps fritté mixte de 38Y(Cr0,5Mn0,5)O3.62Y203. Ce dispositif de thermistance 1 assemblé en un capteur de température 100 a été soumis à une évaluation de ses caractéristiques de valeur de résistance-température et de précision de température (+ A C) de la même manière que dans l'exemple  The powdered raw material thus obtained is used during the second step mentioned above to obtain the thermistor device 1 with conductive wires 11 and 12 attached as a mixed sintered body of 38Y (Cr0.5Mn0.5) O3.62Y203. This thermistor device 1 assembled into a temperature sensor 100 was subjected to an evaluation of its resistance-temperature value and temperature accuracy characteristics (+ A C) in the same way as in the example

de travail 9 au-dessus (voir Tableau 7).  9 above (see Table 7).

Le capteur de température 100 selon cet exemple dans lequel la concentration en acide citrique a été ajustée à trente fois par mole a montré une précision de température de 8 C, qui était une excellente valeur. De plus, dans cet exemple aussi, les résultats de l'analyse EPMA (voir tableau 8) ont confirmé que la dispersion dans la composition des éléments constituants a été réduite à approximativement 1/2 de celle selon la  The temperature sensor 100 according to this example in which the citric acid concentration was adjusted to thirty times per mole showed a temperature accuracy of 8 C, which was an excellent value. In addition, in this example as well, the results of the EPMA analysis (see Table 8) confirmed that the dispersion in the composition of the constituent elements was reduced to approximately 1/2 of that in the

méthode en phase solide conventionnelle.  conventional solid phase method.

Tableau 7Table 7

Concentration Valeur de résistance(kf) Coefficient Précision de d'acide citrique température de résistan-t tmbiante 1000 C trtempéra- (C) (27QC) p (K) Exemple de travail 181 fois par mole 50 0707 2580 +5 Exemple de travail 192 fois par mole 50 0,07 2580 +4 Exemple de travail 204 fois par mole 50 007 2580 3 Exemple de travail 2110 fois par mole 50 0,07 2580 +1;5  Concentration Resistance value (kf) Coefficient Accuracy of citric acid Resistance temperature 1000 C temp. (C) (27QC) p (K) Example of work 181 times per mole 50 0707 2580 +5 Example of work 192 times per mole 50 0.07 2580 +4 Work example 204 times per mole 50 007 2580 3 Work example 2110 times per mole 50 0.07 2580 +1;

Exemple, de, tra ai2fo s ar mol0258.  Example of, tra ai2fo s ar mol0258.

Exemple de travail 2220 fois par mole 50 0 07 2580 15 o Exemple de travail 2330 fois par mole 100 0X20 2440 i8 -q Co ! ',  Example of work 2220 times per mol 50 0 07 2580 15 o Work example 2330 times per mole 100 0X20 2440 i8 -q Co! '

Tableau 8Table 8

Concentration d'acide Dispersion de composition 7 (at%)  Acid concentration Dispersion of composition 7 (at%)

I Concentration d' acide.I Acid concentration.

citrique Y Cr I Mn Exemple de travail 18 1 fois par mole 0 64 0,31 0, 19 Exemple de trava-lT 2 fois par mole 46 014 m=pe-travail-OE- 4 074 6 0/259 i 0',14 Exemple dea travaTiZWS 4 fois par mole 0 36 0 25 i 0'10 Exemple detravai 21--- 1 fois par mole 032 0,23 00 Exemple-de-tra-vai 22 20 ois par mole 0X - 31 0,23 j 0,10 Exemple de travail 123 30 fois par mole 0,60 0,32.021 Exemple Comparatif 3. . 1_2 068.22 06.,39 (Exemples des autres modifications du second aspect)  citric Y Cr I Mn Example of work 18 1 time per mole 0 64 0.31 0, 19 Example of work 2 times per mole 46 014 m = pe-work-OE-4,074 6 0/259 i 0 ', Example of Work 4 times per mole 0-100 Example of Example 21 --- 1 time per mole 032 0.23 00 Example-of-work 22 20 moles per mole 0X - 31 0.23 d 0.10 Example of work 123 30 times per mole 0.60 0.32.021 Comparative Example 3.. 1_2 068.22 06., 39 (Examples of other modifications of the second aspect)

Ici, suit une description des autres modes de  Here follows a description of the other modes of

réalisation et d'autres exemples de travail du second aspect. Dans les exemples de travail 9 et équivalents mentionnés au-dessus, des composés organométalliques d'alkoxyde de métal sont utilisés comme les substances précurseurs, et un liquide contenant de l'alcool est utilisé comme solvant, mais il est aussi possible d'utiliser d'autres composés organométalliques qui sont stables quand ils sont présent dans du benzène, du xylène ou d'autres solvants aromatique, par exemple du SYM-SYOl (marque commerciale, produite par Symetrix Corp:) ou équivalent peuvent être utilisés pour les composés Y (yttrium). De plus, il est possible d'utiliser des composés métalliques inorganiques qui sont stables quand ils sont présents dans des solvants d'ester organique, par exemple Y-03 (marque commerciale faite par Kojundo Chemical Laboratory Co., Ltd.) ou équivalent peuvent être utilisés pour les composés Y. De plus, dans les exemples de travail 9 et équivalents mentionnés au-dessus, des composés organométalliques d'alkoxydes de métal de métaux uniques sont utilisés comme les substances précurseurs, mais il est aussi possible d'utiliser des alkoxydes de métal de multiples éléments métalliques tels qu'un alkoxyde de métal contenant du Y, Cr et Mn (un alkoxyde composite), ou un alkoxyde composite contenant du Y, Ca, Cr, Fe et Ti, ou un alkoxyde composite contenant du Al, Cr, et Fe et un alkoxyde composite contenant du Mg et du Ca pour préparer le métal brut de thermistance en poudre de la même manière que dans l'exemple de travail 9 mentionné au- dessus. De plus, dans les exemples de travail précédents , 13, 15 et 17, de 1'EDTA est utilisé comme le composé complexant, mais d'autres composés complexants qui sont stables pour coordonner des ions de métal peuvent être utilisés, par exemple, de l'acide citrique, de l'acétate, de l'oxalate, du stéarate ou équivalent peuvent être utilisés pour préparer le matériau brut de thermistance en poudre de la même manière que dans  realization and other examples of work of the second aspect. In the working examples 9 and the equivalents mentioned above, organometallic compounds of metal alkoxide are used as the precursor substances, and an alcohol-containing liquid is used as the solvent, but it is also possible to use other organometallic compounds which are stable when present in benzene, xylene or other aromatic solvents, for example SYM-SYOl (trademark, produced by Symetrix Corp :) or the like may be used for the compounds Y ( yttrium). In addition, it is possible to use inorganic metal compounds which are stable when present in organic ester solvents, for example Y-03 (trademarked by Kojundo Chemical Laboratory Co., Ltd.) or the like. In addition, in working examples 9 and the equivalents mentioned above, organometallic compounds of single metal alkoxides are used as the precursor substances, but it is also possible to use metal alkoxides of multiple metal elements such as a metal alkoxide containing Y, Cr and Mn (a composite alkoxide), or a composite alkoxide containing Y, Ca, Cr, Fe and Ti, or a composite alkoxide containing Al , Cr, and Fe and a composite alkoxide containing Mg and Ca to prepare the powdered thermistor raw metal in the same manner as in the working example 9 mentioned above. In addition, in previous work examples 13, 15 and 17, EDTA is used as the complexing compound, but other complexing compounds which are stable to coordinate metal ions can be used, for example, citric acid, acetate, oxalate, stearate or the like may be used to prepare the powdered thermistor raw material in the same manner as in

l'exemple de travail mentionné au-dessus 10.  the example of work mentioned above 10.

De plus, dans les exemples précédents 9 à 23, un dispositif de thermistance cylindrique, compact de type masse 1 avec des dimensions de 1,6 mm de diamètre et 1,2 mm de longueur, par exemple, est obtenu mais dans la présente invention, la forme du dispositif de thermistance 1 importe peu. Par exemple, il est possible d'ajouter des liants, des matériaux de résine ou équivalents qui sont mélangés au matériau brut pour le dispositif de thermistance, pour ajuster sa viscosité ou sa dureté pour qu'il soit adéquat pour la formation en feuille, et ainsi obtenir une feuille de thermistance en  In addition, in the preceding examples 9 to 23, a compact, mass-type, cylindrical thermistor device with dimensions of 1.6 mm in diameter and 1.2 mm in length, for example, is obtained, but in the present invention the shape of the thermistor device 1 does not matter. For example, it is possible to add binders, resin materials or the like which are mixed with the raw material for the thermistor device, to adjust its viscosity or hardness to be suitable for sheet formation, and so get a thermistor sheet in

forme de feuille avec une épaisseur de 200 im.  leaf shape with a thickness of 200 im.

L'épaisseur de quatre de ces feuilles laminées ensemble devient 1 mm, ainsi les mêmes effets bénéfiques des exemples de travail mentionnés audessus peuvent être obtenus avec un dispositif de thermistance de type en  The thickness of four of these laminated sheets together becomes 1 mm, so the same beneficial effects of the work examples mentioned above can be obtained with a type of thermistor device.

feuille laminée avec des fils conducteurs attachés.  laminated sheet with conductive wires attached.

De plus, il est possible d'ajouter des liants, des matériaux de résine ou équivalents qui sont mélangés au matériau brut pour le dispositif de thermistance, pour ajuster sa viscosité ou sa dureté pour qu'elle convienne au moulage par extrusion, et ainsi utiliser un moulage par extrusion pour obtenir un dispositif de thermistance moulé avec des orifices formés pour y attacher des fils conducteurs, puis insérer les fils conducteurs et fritter ensemble pour obtenir un dispositif de thermistance avec des fils conducteurs attachés, ainsi la même performance que dans les  In addition, it is possible to add binders, resin materials or the like which are mixed with the raw material for the thermistor device, to adjust its viscosity or hardness to be suitable for extrusion molding, and thus to use extrusion molding to obtain a molded thermistor device with orifices formed to attach conductive wires thereto, and then inserting the conductive wires and sintering together to obtain a thermistor device with attached lead wires, thus the same performance as in

exemples de travail précédents peut être obtenue.  Previous work examples can be obtained.

De plus, dans les exemples de travail mentionnés au-dessus 9 à 17, seuls des types uniques de composés ont été utilisés comme les substances précurseurs, c'est-à-dire des composés organométalliques, des composés complexants ou des composés métalliques inorganiques, mais tant que les matériaux d'une composition uniforme peuvent être obtenus, il est possible d'utiliser une combinaison de précurseurs, telle qu'une combinaison de composés métalliques inorganiques et de composés organométalliques, comme les composés précurseurs dans le matériau de départ, ou une combinaison de composés organométalliques et de composés complexants comme les composés précurseurs dans le  Moreover, in the working examples mentioned above 9 to 17, only single types of compounds have been used, such as precursor substances, that is to say, organometallic compounds, complexing compounds or inorganic metal compounds, but as long as the materials of a uniform composition can be obtained, it is possible to use a combination of precursors, such as a combination of inorganic metal compounds and organometallic compounds, such as the precursor compounds in the starting material, or a combination of organometallic compounds and complexing compounds such as precursor compounds in the

matériau de départ.starting material.

De plus, dans les exemples de travail mentionnés au-dessus 9 à 17, les composés précurseurs sont mélangés et dissous dans l'alcool, dans de l'eau déminéralisée ou divers autres solvants, mais afin d'effectuer le mixage uniforme du mélange liquide devant être préparés, d'autres milieux de dispersion ou agents dispersants, ou acides ou bases pour ajuster le pH (concentration en ion hydrogène) peuvent être ajoutés et on obtient le  In addition, in the working examples mentioned above 9 to 17, the precursor compounds are mixed and dissolved in the alcohol, in demineralized water or various other solvents, but in order to effect the uniform mixing of the liquid mixture. to be prepared, other dispersion media or dispersing agents, or acids or bases for adjusting the pH (hydrogen ion concentration) can be added and the

matériau brut pour le dispositif de thermistance.  raw material for the thermistor device.

De plus, dans les exemples de travail mentionnés au-dessus 9 à 11, le Y(Cro,5Mno,5)03, qui est la phase dominant la valeur de résistance, et le Y203, qui est la phase à haute résistance sont mélangés et dissous ensemble au moyen des composés précurseurs pour obtenir le matériau brut en poudre qui a la composition idéale du dispositif de thermistance, mais il est aussi possible de préparer seulement la phase dominant la valeur de résistance au moyen de la méthode en phase liquide pour obtenir un matériau brut en poudre et mélanger ce matériau brut en poudre avec d'autres compositions au moyen d'un broyeur à billes ou une autre méthode en phase solide. Même dans ce cas, la précision de température peut être améliorée en comparaison d'un dispositif de thermistance obtenu au moyen de la méthode  Moreover, in the working examples mentioned above 9 to 11, the Y (Cro, 5Mno, 5) 03, which is the dominant phase of the resistance value, and the Y203, which is the high resistance phase are mixed and dissolved together by the precursor compounds to obtain the powdered raw material which has the ideal composition of the thermistor device, but it is also possible to prepare only the phase that dominates the resistance value by means of the liquid phase method to obtain a powdered raw material and mixing this powdered raw material with other compositions using a ball mill or other solid phase method. Even in this case, the temperature accuracy can be improved in comparison with a thermistor device obtained by the method

en phase solide conventionnelle.in conventional solid phase.

De plus, dans les modes de réalisation mentionnés au- dessus, le matériau brut en poudre est préparé au moyen d'une méthode en phase liquide chimique dans lequel un agent précipitant le sel de métal est ajouté au mélange liquide des composés précurseurs, mais des méthodes de pyrolyse par buée, des méthodes de pyrolyse, des méthodes de séchage par congélation, des méthodes de combustion de solvant ou d'autres méthodes en phase liquide physiques peuvent aussi être utilisées pour préparer les matériaux bruts en poudre de thermistance. Même dans ce cas, la dispersion dans la composition peut être supprimée et la précision de température peut être améliorée en comparaison d'un dispositif de thermistance obtenu au moyen de la méthode en phase solide conventionnelle. Cette méthode devrait être comme étant le troisième aspect, plutôt que le  In addition, in the embodiments mentioned above, the powdered raw material is prepared by means of a chemical liquid phase method in which an agent precipitating the metal salt is added to the liquid mixture of the precursor compounds, but steam pyrolysis methods, pyrolysis methods, freeze drying methods, solvent burning methods or other physical liquid phase methods can also be used to prepare the thermistor powder raw materials. Even in this case, the dispersion in the composition can be suppressed and the temperature accuracy can be improved in comparison with a thermistor device obtained by the conventional solid phase method. This method should be the third aspect, rather than the

second aspect.second aspect.

(Exemple de travail 24) L'exemple de travail 24 est un exemple d'utilisation de Y203 (matériau brut pour Ml) et Cr203 et Mn203 (tous les deux des matériaux bruts pour M2) comme les matériaux bruts utilisés pour obtenir la partie de thermistance 13 consistant en un corps fritté mixte de 38Y(Cr0o,5Mn0,5)O3.62Y203 (a=0,38, b=0,62), et formant un revêtement anti-réduction 14 de Y203 (matériau anti-réduction) sur la surface de cette partie  (Work Example 24) Work Example 24 is an example of using Y203 (raw material for M1) and Cr203 and Mn203 (both raw materials for M2) as the raw materials used to obtain the part of thermistor 13 consisting of a mixed sintered body of 38Y (Cr0o, 5Mn0.5) O3.62Y203 (a = 0.38, b = 0.62), and forming an anti-reduction coating 14 of Y203 (anti-reduction material) on the surface of this part

de thermistance 13 (voir Figure 26).  thermistor 13 (see Figure 26).

La Figure 29 représente le procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de cet exemple de travail 24. Il est à noter que la Figure 29 montre aussi le procédé de fabrication des exemples de  Fig. 29 shows the manufacturing method for the thermistor device of this working example 24. It should be noted that Fig. 29 also shows the method of manufacturing the examples of

travail 25 à 28.work 25 to 28.

Les matériaux Y203, Cr203, Mn203 et CaCO3 chacun avec une pureté de 99,9 % ou plus sont préparés. Dans la formulation 1 afin d'obtenir la valeur de résistance désirée et le coefficient de résistance-température dans le dispositif de thermistance 1, les Y203, Cr203 et Mn203 sont pesés afin que le coefficient a et b de aY(Cro,5Mn0,5)O3.bY203 ont la relation a:b=38:62 et le poids total est de 2000 g. De plus, 36 g de CaCO3 sont ajoutés pour donner un mélange de matériau brut de Y203,  Materials Y203, Cr203, Mn203 and CaCO3 each with a purity of 99.9% or more are prepared. In formulation 1 to obtain the desired resistance value and the resistance-temperature coefficient in the thermistor device 1, the Y203, Cr203 and Mn203 are weighed so that the coefficient a and b of aY (Cro, 5Mn0.5 ) O3.bY203 have the relation a: b = 38: 62 and the total weight is 2000 g. In addition, 36 g of CaCO3 are added to give a mixture of Y2O3 crude material,

Cr203, Mn203 et CaCO3 avec un poids total de 2036 g.  Cr203, Mn203 and CaCO3 with a total weight of 2036 g.

Ensuite, durant l'étape de mélange, afin d'effectuer un broyage fin des matériaux bruts de  Then, during the mixing step, in order to perform a fine grinding of the raw materials of

thermistance, un broyeur à mélange de média est utilisé.  thermistor, a media mixing mill is used.

Le broyeur à mélange de média dans cet exemple est un broyeur à perles (fabriqué par Ashizawa Co., Ltd., modèle RVIV, capacité effective: 1,0 litre, capacité réelle: 0,5 litre). Les conditions de broyage pour ce broyeur à perles nécessitent l'utilisation de 3,0 kg de balles de zircone de 0,5 mm de diamètre comme le média de broyage, et que 80 % du volume de la chambre de  The media mixing mill in this example is a bead mill (manufactured by Ashizawa Co., Ltd., model RVIV, effective capacity: 1.0 liter, actual capacity: 0.5 liter). The grinding conditions for this bead mill necessitate the use of 3.0 kg of zirconia bales of 0.5 mm diameter as the grinding media, and that 80% of the volume of the chamber of

mixage soient remplis de balles de zircone.  mixing be filled with zirconia balls.

Les conditions de fonctionnement sont ajustées à une vitesse périphérique de 12 m/s et à une vitesse de rotation de 3110 tours/minute. Il est à noter que 4,5 litres d'eau distillée ont été utilisés comme agent dedispersion pour les 2036 g de matériau brut devant être mélangé, et le liant et l'agent de dispersion ont été ajoutés simultanément, puis le mélange et le broyage ont été effectués pendant 10 heures. Un liant d'alcool polyvinylique (PVA) a été ajouté dans la quantité de  The operating conditions are adjusted to a peripheral speed of 12 m / s and a rotational speed of 3110 revolutions / minute. It should be noted that 4.5 liters of distilled water were used as the dispersing agent for the 2036 g of raw material to be mixed, and the binder and dispersing agent were added simultaneously, followed by mixing and grinding. were carried out for 10 hours. A polyvinyl alcohol (PVA) binder was added in the amount of

g pour 2036 g du matériau brut devant être mélangé.  g for 2036 g of the raw material to be mixed.

La pâte épaisse de matériau brut après le mélange et le procédé de broyage a été évaluée en utilisant un granulomètre à laser et les résultats ont indiqué que la dimension de grains moyenne était de 0,4 jm (micromètre). La pâte matériau brut ainsi obtenue est séchée dans un sécheur par pulvérisation sous des conditions de température d'entrée de chambre de séchage de 200 C et  The thick paste of raw material after mixing and grinding process was evaluated using a laser granulometer and the results indicated that the average grain size was 0.4 μm (micrometer). The raw material pulp thus obtained is dried in a spray dryer under drying chamber inlet temperature conditions of 200 ° C. and

une température de sortie de 120 C (étape de séchage).  an outlet temperature of 120 C (drying step).

Les granulés de la poudre de matériau brut de thermistance ainsi obtenus étaient sphériques avec une dimension de grains moyenne de 30 pm et cette poudre de matériau brut est placée dans un creuset de 99, 3 % d'A1203 et calcinée pendant 1 à 2 heures à 1100-1300 C dans un four à haute température dans l'air pour obtenir une calcine de Y(Cro,5Mno,5)O03.Y203 (étape de calcination). La calcine mentionnée au-dessus qui est devenue un solide de type compact durant la calcination, a été soumise à un broyage grossier dans une machine à mélange et à broyage et passé au travers d'un tamis de maille 30 pour obtenir une poudre de Y(Cro,5Mno,5)03.Y203  The granules of the thermistor raw material powder thus obtained were spherical with an average grain size of 30 μm and this raw material powder is placed in a crucible of 99.3% Al 2 O 3 and calcined for 1 to 2 hours at room temperature. 1100-1300 C in a high temperature oven in air to obtain a calcine Y (Cro, 5Mno, 5) O03.Y203 (calcination step). The above-mentioned calcine, which became a compact solid during calcination, was coarsely milled in a blender and grinder and passed through a mesh screen to obtain a Y powder. (Cro, 5Mno, 5) 03.Y203

(formulation 2).(formulation 2).

Ensuite, durant l'étape de broyage ("Mélange et broyage" dans la Figure 29, afin d'effectuer un broyage fin du Y(Cr0o,5Mn0,5)O3.Y203, un broyeur à perle similaire  Then, during the milling step ("Mixing and Grinding" in Figure 29), in order to perform a fine grinding of the Y (Cr0o, 5Mn0.5) O3.Y203, a similar bead mill

à celui utilisé dans l'étape de mélange mentionné au-  to that used in the mixing step mentioned above.

dessus a été utilisé. Les conditions de fonctionnement du broyeur à perle sont les mêmes que celles dans l'étape de mélange. De plus, durant l'étape de broyage, un agent de dispersion, un liant et un agent de libération de moule ont été ajoutés et moulus en même temps pour obtenir une pâte épaisse. La pâte de matéariau brut des matériaux de thermistance ainsi moulue a été évaluée en utilisant un granulomètre à laser, et les résultats ont indiqué que la dimension de  above was used. The operating conditions of the bead mill are the same as those in the mixing step. In addition, during the milling step, a dispersing agent, a binder and a mold release agent were added and milled at the same time to obtain a thick paste. The raw material pulp of the thus ground thermistor materials was evaluated using a laser granulometer, and the results indicated that the

grains moyenne était de 0,3 pm.average grain size was 0.3 μm.

La pâte de Y(Cro,5Mn0,5)O3.Y203 obtenue après le broyage est séchée et granulée dans un sécheur à pulvérisateur sous les mêmes conditions que dans l'étape de séchage pour obtenir les granulés de Y(Cr0, 5Mn0 5)O3.Y203. Ces granulés sont utilisés pour  The Y (Cro, 5Mn0.5) O3.Y₂O3 paste obtained after grinding is dried and granulated in a spray drier under the same conditions as in the drying step in order to obtain the Y (Cr0.5MnO.sub.5) granules. O3.Y203. These granules are used to

mouler la partie thermistance 13 de la Figure 26.  mold the thermistor portion 13 of Figure 26.

L'étape de moulage a été effectuée par une méthode de moulage par moule, dans laquelle des fils conducteurs de Pt 100 avec des dimensions (diamètre extérieur x longueur) de 0,3 mm x 10,5 mm ont été insérés dans un moule mâle, et les granulés ont été placés dans un moule femelle avec un diamètre intérieur  The molding step was carried out by a mold-molding method, in which Pt 100 conductive wires with dimensions (outer diameter x length) of 0.3 mm x 10.5 mm were inserted into a male mold. , and the pellets were placed in a female mold with an inside diameter

de 1,89 mm. Le moulage a été effectué à une pression.  1.89 mm. The molding was done at a pressure.

d'approximativement 1000 kgf/cm2 pour obtenir une partie thermistance 13 moulé avec des fils conducteurs 11 et 12 attachés. Durant l'étape de frittage, ce dispositif de thermistance moulé est placé dans un support ondulé fait de A1203 et fritté pendant 1 à 2 heures à 1400- 1600 C dans l'ordre pour obtenir une partie de thermistance de type masse, compacte, cylindrique 13 avec des dimensions de 1,6 mm en diamètre et de 1,2 mm de long consistant en  approximately 1000 kgf / cm 2 to obtain a thermistor portion 13 molded with leads 11 and 12 attached. During the sintering step, this molded thermistor device is placed in a corrugated carrier made of A1203 and sintered for 1 to 2 hours at 1400- 1600 C in order to obtain a mass-type, compact, cylindrical thermistor portion. 13 with dimensions of 1.6 mm in diameter and 1.2 mm in length consisting of

un corps fritté mixte de. 38Y(Cr0,5Mn0,5)03.62Y203.  a mixed sintered body of. 38Y (Cr0,5Mn0,5) 03.62Y203.

Ensuite, un matériau anti-réducteur est formé sur la surface de cette partie de thermistance 13 avec des fils conducteurs 11 et 12 fixes. Premièrement, durant l'étape de revêtement par immersion, un composé organométallique d'yttrium, qui est le précurseur au matériau antiréducteur Y203, est appliqué à la surface  Next, an anti-reducer material is formed on the surface of this thermistor portion 13 with fixed conductive wires 11 and 12. First, during the dip coating step, an organometallic yttrium compound, which is the precursor to the Y203 anti-reduction material, is applied to the surface.

de cette partie de thermistance 13.of this thermistor part 13.

L'application du composé organométallique d'yttrium à la surface de la partie de thermistance est effectuée en utilisant une solution liquide de composé organométallique d'Yttrium (SYM-Y01, faite par Smetrix Corp, USA). Le revêtement par immersion est effectué en immergeant la partie thermistance 13 dans ce liquide et en la ressortant. De cette manière, ce composé organométallique d'yttrium qui est le précurseur du matériau anti-réducteur Y203, est appliqué à la surface  The application of the organometallic yttrium compound to the surface of the thermistor portion is performed using a Yttrium organometallic liquid solution (SYM-Y01, made by Smetrix Corp, USA). The dip coating is performed by immersing the thermistor portion 13 in this liquid and emerging. In this way, this organometallic yttrium compound, which is the precursor of the anti-reducer material Y203, is applied to the surface

de la partie thermistance 13.of the thermistor part 13.

Par la suite, le solvant contenu dans le composé organométallique liquide mentionné au-dessus d'yttrium peut s'évaporer dans l'atmosphère à la température ambiante de la température ambiante à 40 C. En chauffant la partie thermistance 13 avec le précurseur mentionné au- dessus à sa surface à une température de 1200 C, un dispositif de thermistance 1 est obtenu avec un film d'épaisseur 0,5-5,0 ium du matériau anti-réducteur formé sur la surface de la partie thermistance 13 comme un revêtement anti-réducteur 14 (Figure 26) (étape de  Subsequently, the solvent contained in the liquid organometallic compound mentioned above yttrium can evaporate in the atmosphere at room temperature from room temperature to 40 C. By heating the thermistor portion 13 with the precursor mentioned in above it at a temperature of 1200 ° C, a thermistor device 1 is obtained with a film of thickness 0.5-5.0 ium of the anti-reducer material formed on the surface of the thermistor portion 13 as a coating anti-reducer 14 (Figure 26) (step of

formation de revêtement).coating formation).

Le dispositif de thermistance avec des fils conducteurs 11 et 12 a été assemblé comme cela est représenté sur la Figure 27 pour obtenir un capteur de température 100. Ce capteur de température lOà a été placé dans un four à haute température et sa caractéristique de résistance (valeur de résistance, P, AR2) ont été évaluées sur la gamme de température  The thermistor device with lead wires 11 and 12 has been assembled as shown in Fig. 27 to obtain a temperature sensor 100. This temperature sensor 10a has been placed in a high temperature oven and its resistance characteristic ( resistance value, P, AR2) were evaluated over the temperature range

partant de la température (par exemple 27 C) à 1000 C.  starting from the temperature (for example 27 C) to 1000 C.

Le tableau 9 présente les résultats de l'évaluation. I1  Table 9 presents the results of the evaluation. I1

est à noter que dans la formule AR2 (%)=(Rmaxt/Rt)xlO0-  Note that in the formula AR2 (%) = (Rmaxt / Rt) x10-

, la température stimulée t est 600 C.  , the stimulated temperature t is 600 C.

Le capteur de température 10à de cet exemple de travail 24 a montré une valeur de résistance dans la gamme de 50 à 100 kn dans la gamme de température partant de la température ambiante jusqu'à 1000 C, et ainsi comporte des excellentes caractéristiques de valeur de résistancetempérature. Ainsi, un dispositif de thermistance qui est stable pour détecter des températures dans une large gamme de la température  The temperature sensor 10a of this working example 24 has shown a resistance value in the range of 50 to 100 kn in the temperature range from ambient temperature up to 1000 ° C, and thus has excellent value characteristics. résistancetempérature. Thus, a thermistor device that is stable to detect temperatures in a wide range of temperature

ambiante à 1000 C peut être prévu.  ambient at 1000 C can be expected.

De plus, avec le capteur de température 100 de cet exemple de travail 24, le taux maximum de changement de résistance AR2 pour le dispositif de thermistance 1 à l'intérieur de la capsule de métal a été trouvé comme  Moreover, with the temperature sensor 100 of this working example 24, the maximum rate of resistance change AR2 for the thermistor device 1 inside the metal capsule has been found as

montrant un niveau stable d'approximativement 3 %.  showing a stable level of approximately 3%.

Pour cette raison, il n'est pas besoin d'effectuer le traitement de vieillissement thermique à haute température (approximativement 900 C) nécessaire pour stabiliser la résistance du dispositif conventionnel, et il n'est pas nécessaire d'utiliser une capsule faite de matériaux spéciaux chers, ainsi il est possible de prévoir un capteur de température qui comporte une valeur de résistance stable même lorsque le dispositif de température 1 lui-même est sujet à un  For this reason, there is no need to perform the high temperature heat treatment (approximately 900 C) necessary to stabilize the resistance of the conventional device, and it is not necessary to use a capsule made of materials expensive, so it is possible to provide a temperature sensor that has a stable resistance value even when the temperature device 1 itself is subject to a

environnement réduisant.reducing environment.

(Exemple de travail 25) L'exemple de travail 25 est un exemple dans lequel après obtention d'une partie de thermistance 13 de la même manière que dans l'exemple de travail 24, un revêtement de A1203 est formé à la surface de cette  (Work Example 25) Work Example 25 is an example in which after obtaining a thermistor portion 13 in the same manner as in Work Example 24, a coating of A1203 is formed on the surface of this

partie de thermistance 13 comme matériau anti-réducteur.  thermistor portion 13 as an anti-reducing material.

Le même procédé que dans l'exemple de travail est effectué jusqu'à ce que l'étape de frittage pour obtenir une partie de thermistance 13 avec des fils conducteurs 11 et 12 fixés. La partie de thermistance 13 consiste de façon similaire en un corps fritté mixte de 38Y(Cro, 5Mn0, 5) 03.Y203. 62Y203 Ensuite, dans l'étape de revêtement par immersion, un composé organométallique d'aluminium (alkoxyde d'aluminium dans cet exemple) qui est le précurseur du matériau anti-réduisant A1203 est appliqué à la surface de cette partie de thermistance 13. Une solution liquide d'un composé organométallique d'aluminium (SYM-A104, fait par Symetrix Corp, USA) a été utilisée comme précurseur à A1203. De la même manière que dans l'exemple de travail 24, le revêtement par immersion a été utilisé pour former le précurseur  The same process as in the working example is carried out until the sintering step to obtain a thermistor portion 13 with fixed leads 11 and 12. The thermistor portion 13 similarly consists of a mixed sintered body of 38Y (Cro, 5Mn0, 5) 03.Y203. Then, in the dip coating step, an aluminum organometallic compound (aluminum alkoxide in this example) which is the precursor of the Al 2 O 3 reducing material is applied to the surface of this thermistor portion 13. Liquid solution of an organometallic aluminum compound (SYM-A104, made by Symetrix Corp, USA) was used as a precursor to Al 2 O 3. In the same way as in working example 24, dip coating was used to form the precursor

pour le matériau anti-réduisant A1203.  for the anti-reducing material A1203.

Par la suite, dans l'étape de formation de revêtement, de la même manière que dans l'exemple de travail 24 le solvant est vaporisé et le chauffage est effectué pour obtenir un dispositif de thermistance 1  Subsequently, in the coating forming step, in the same manner as in working example 24 the solvent is vaporized and heating is performed to obtain a thermistor device 1

avec un film d'épaisseur 0,5-5,0 im de matériau anti-  with a film thickness of 0.5-5.0 im of anti-

réduisant formé sur la surface de la partie thermorésistante 13 comme un revêtement anti-réducteur 14. Le dispositif de thermistance 1 a été utilisé pour fabriquer un capteur de température 100 et ses caracétéristiques de valeur de résistance-trempérature ont été évaluées de la même manière. Le tableau 9 présente les résultats de l'évaluation Le capteur de température 100 de cet exemple de travail 25 a montré de bonnes caractéristiques de valeur de résistance- température de la même manière que dans l'exemple de travail 24. De plus, le taux maximum de changement de résistance AR2 pour le dispositif de thermistance 1 à l'intérieur du couvercle de métal s'est  The thermistor device 1 has been used to fabricate a temperature sensor 100 and its resistance-quench value characteristics have been evaluated in the same manner. Table 9 presents the results of the evaluation. The temperature sensor 100 of this example of work showed good resistance-temperature value characteristics in the same way as in the working example 24. In addition, the resistance change maximum AR2 for the thermistor device 1 inside the metal cover was

trouvé monté à un niveau stable de grossièrement 2 %.  found mounted at a stable level of roughly 2%.

Par conséquent, il est possible de prévoir une thermistance comportant une performance similaire à  Therefore, it is possible to provide a thermistor with a performance similar to

celle de l'exemple au-dessus 24.that of the example above 24.

(Exemple de travail 26) L'exemple de travail 26 est un exemple dans lequel après obtention d'une partie de thermistance 13 de la même manière que dans l'exemple de travail 24, un revêtement de 3A1203.2SiO2 (mullite) est formé à la surface de cette partie de thermistance 13 comme matériau anti-réducteur. La même procédure que dans l'exemple de travail est effectué jusqu'à l'étape de frittage pour obtenir une partie de thermistance 13 avec des fils conducteurs 11 et 12 attachés. La partie de thermistance 13 consiste de façon similaire en un corps fritté mixte de 38Y(Cr0,5Mn0,5)O3.62Y203 Ensuite, dans l'étape de revêtement par immersion, un composé organométallique d'aluminium et un composé organométallique de silicium (tous les deux des alkoxydes dans cet exemple) qui sont les précurseur à la mulitte de matériau anti- réduisant, sont appliqués à la  (Work Example 26) Work Example 26 is an example in which after obtaining a thermistor portion 13 in the same manner as in Work Example 24, a coating of 3A1203.2SiO2 (mullite) is formed on the surface of this thermistor portion 13 as an anti-reducing material. The same procedure as in the working example is carried out until the sintering step to obtain a thermistor portion 13 with lead wires 11 and 12 attached. The thermistor portion 13 similarly consists of a mixed sintered body of 38Y (Cr0.5Mn0.5) O3.62Y203. Next, in the dip coating step, an organometallic compound of aluminum and an organometallic compound of silicon ( both of which are alkoxides in this example) which are the precursor to the mulit of anti-reducing material, are applied to the

surface de cette partie de thermistance 13.  surface of this thermistor part 13.

Une solution liquide d'un composé organo-  A liquid solution of an organic compound

métallique d'aluminium (SYM-A104, fait par Symetrix Corp, USA) et une solution liquide d'un composé organométallique de silicium (SYM-SI04, fait par Symetrix Corp., USA) sont utilisés comme les précurseurs à la mullite La solution liquide d'un composé organométallique d'aluminium et la solution liquide d'un composé organométallique de silicium ont été réparties de sorte qu'une formulation de 3A1203.2SiO2 est formée apres le brûlage, et un mélange liquide de la solution liquide d'un composé organométallique d'aluminium et une solution liquide d'un composé organométallique de  aluminum (SYM-A104, made by Symetrix Corp, USA) and a liquid solution of an organometallic silicon compound (SYM-SI04, made by Symetrix Corp., USA) are used as the mullite precursors The solution of an organometallic compound of aluminum and the liquid solution of an organometallic silicon compound have been distributed so that a formulation of 3A1203.2SiO2 is formed after burning, and a liquid mixture of the liquid solution of a organometallic compound of aluminum and a liquid solution of an organometallic compound of

silicium a été préparée.silicon has been prepared.

L'application du matériau anti-réducteur à la surface de la partie de thermistance 13 est effectuée par un revêtement par immersion de la même manière que dans l'exemple de travail 24 dans lequel la partie de thermistance 13 est plongée dans le mélange liquide et ressortie. De la même manière, le précurseur au matériau  The application of the anti-reducer material to the surface of the thermistor portion 13 is carried out by immersion coating in the same manner as in the working example 24 in which the thermistor portion 13 is immersed in the liquid mixture and emerged. In the same way, the precursor to the material

anti-réducteur de mullite est formé.  anti-mullite reducer is formed.

Par la suite, durant l'étape de formation de revêtement, de la même manière que dans l'exemple de travail 24, le solvant contenu dans le mélange liquide est vaporisé et le chauffage est effectué pour obtenir un dispositif de thermistance 1 avec un film d'épaisseur 0,5-5,0 pm de matériau anti-réducteur formé à la surface de la partie de thermorésistance 13 comme un revêtement anti-réducteur 14. Le dispositif de thermistance 1 a été utilisé pour fabriquer un capteur de température 100 et  Subsequently, during the coating forming step, in the same manner as in working example 24, the solvent contained in the liquid mixture is vaporized and heating is performed to obtain a thermistor device 1 with a film 0.5-5.0 μm thickness of anti-reducer material formed on the surface of the heat resistance portion 13 as an anti-reducer coating 14. The thermistor device 1 was used to make a temperature sensor 100 and

ses caractéristiques de valeur de résistance-  its resistance value characteristics-

trempérature ont été évaluées de la même manière. Le Tableau 9 présente les résultats de l'évaluation Le capteur de température 100 de cet exemple de travail 26 a montré de bonnes caractéristiques de valeur de résistance-température de la même manière que dans l'exemple de travail 24. De plus, le taux maximum de changement de résistance AR2 pour le dispositif de thermistance 1 à l'intérieur du couvercle de métal s'est trouvé montré à un niveau stable d'approximativement 1,5 %. Par conséquent, il est possible de founir une thermistance ayant une performance similaire à celle de  tempers were evaluated in the same way. Table 9 presents the results of the evaluation. The temperature sensor 100 of this example of work 26 showed good resistance-temperature value characteristics in the same way as in the working example 24. Maximum resistance change AR2 for the thermistor device 1 within the metal cover was found to be at a steady level of approximately 1.5%. Therefore, it is possible to provide a thermistor with a performance similar to that of

l'exemple 24.example 24.

(Exemple de travail 27) L'exemple de travail 27 est un exemple dans lequel, après l'obtention d'une partie de thermistance 13 de la même manière que dans l'exemple de travail 24, un revêtement de Y3A15012 est formé sur la surface de  (Work Example 27) Work Example 27 is an example in which, after obtaining a thermistor portion 13 in the same manner as in Work Example 24, a Y3A15012 coating is formed on the surface of

cette partie de thermistance 13 comme matériau anti-  this part of thermistor 13 as anti-corrosion material

réducteur. La même procédure que dans l'exemple de travail 24 est effectué jusqu'à ce que l'étape de frittage pour obtenir une partie de thermistance 13 avec des fils conducteurs 11 et 12 fixés. La partie de thermistance 13 consiste de façon similaire en un corps fritté mixte de 38Y(Cr0,5Mn0,5)03.62Y203 Ensuite, durant l'étape de revêtement par immersion, un composé organométallique d'yttrium et un composé organométallique d'aluminium (tous les deux des alkoxydes dans cet exemple), qui sont les précurseur au matériau anti-réduisant Y3A150l2, sont appliqués à la  reducer. The same procedure as in the working example 24 is carried out until the sintering step to obtain a thermistor portion 13 with lead wires 11 and 12 fixed. The thermistor portion 13 similarly consists of a mixed sintered body of 38Y (Cr0.5Mn0.5) 03.62Y203. Next, during the dip coating step, an organometallic compound of yttrium and an organometallic compound of aluminum ( both of which are alkoxides in this example), which are the precursors to the anti-reducing material Y3A15012, are applied to the

surface de cette partie de thermistance 13.  surface of this thermistor part 13.

Une solution liquide d'un composé organo-  A liquid solution of an organic compound

métallique d'yttrium (SYM-A104, fait par Symetrix Corp, USA) et une solution liquide d'un composé organométallique de silicium (SYM-YO1, fait par Symetrix Corp., USA) et une solution liquide d'un composé organométallique d'aluminium (SYM-ALO4, faite par Symetrix Corp., USA) ont été utilisées comme les précurseur. La solution liquide d'un composé organométallique d'yttrium et la solution liquide d'un composé organométallique d'aluminium ont été préparées de sorte qu'une formulation de Y3A15012 soit formée après le brûlage, et un mélange liquide de la solution liquide d'un composé organométallique d'yttrium et la solution liquide d'un composé organométallique  yttrium metal (SYM-A104, made by Symetrix Corp, USA) and a liquid solution of an organometallic silicon compound (SYM-YO1, made by Symetrix Corp., USA) and a liquid solution of an organometallic compound of Aluminum (SYM-ALO4, made by Symetrix Corp., USA) was used as the precursor. The liquid solution of an organometallic yttrium compound and the liquid solution of an organometallic aluminum compound were prepared so that a formulation of Y3A15012 is formed after burning, and a liquid mixture of the liquid solution of an organometallic compound of yttrium and the liquid solution of an organometallic compound

d'aluminium a été préparée.of aluminum has been prepared.

L'application du matériau anti-réducteur à la surface de la partie de thermistance 13 est formée par un revêtement par immersion de la même manière que dans l'exemple de travail 24 dans lequel la partie de thermistance 13 est plongée dans ce mélange liquide et ressortie. De cette manière, le précurseur au matériau  The application of the anti-reducer material to the surface of the thermistor portion 13 is formed by immersion coating in the same manner as in the working example 24 in which the thermistor portion 13 is immersed in this liquid mixture and emerged. In this way, the precursor to the material

anti-réducteur de mullite est formé.  anti-mullite reducer is formed.

Par la suite, durant l'étape de formation de revêtement, de la même manière que dans l'exemple de travail 24, le solvant contenu dans le mélange liquide est vaporisé et le chauffage est effectué pour obtenir un dispositif de thermistance 1 avec un film d'épaisseur 0,5-5,0 pm du matériau anti-réducteur formé sur la surface de la partie de thermorésistance 13 comme revêtement anti-réducteur 14. Le dispositif de thermistance 1 a été utilisé pour fabriquer un capteur de température 100 et ses caractéristiques de valeur de résistance- trempérature ont été évaluées de la même manière. Le Tableau 9 représente les résultats de l'évaluation Le capteur de température 100 de cet exemple de travail 27 a montré de bonnes caractéristiques de valeur de résistance-température de la même manière que dans l'exemple de travail 24. De plus, le taux maximum de changement de la résistance AR2 pour le dispositif de thermistance 1 à l'intérieur du couvercle de métal s'est trouvé montré à un niveau stable d'approximativement 2,0 %. Par conséquent, il est possible de proposer un capteur de température qui comporte une valeur de résistance stable même lorsque le dispositif de thermistance 1 lui-même est sujet à un environnement réduisant. (Exemple de travail 28) L'exemple de travail 28 est un exemple dans lequel, après l'obtention d'une partie de thermistance 13 de la même manière que dans l'exemple de travail 24, un revêtement de Y3SiO5 est formé à la surface de cette  Subsequently, during the coating forming step, in the same manner as in working example 24, the solvent contained in the liquid mixture is vaporized and heating is performed to obtain a thermistor device 1 with a film 0.5-5.0 μm thickness of the anti-reducer material formed on the surface of the heat resistance portion 13 as anti-reducer coating 14. The thermistor device 1 was used to fabricate a temperature sensor 100 and its Resistance value-quench characteristics were evaluated in the same way. Table 9 shows the results of the evaluation The temperature sensor 100 of this example of work 27 showed good resistance-temperature value characteristics in the same way as in the working example 24. In addition, the The maximum change in the AR2 resistance for the thermistor device 1 within the metal cover was found to be at a steady level of approximately 2.0%. Therefore, it is possible to provide a temperature sensor that has a stable resistance value even when the thermistor device 1 itself is subject to a reducing environment. (Work Example 28) Work Example 28 is an example in which, after obtaining a thermistor portion 13 in the same manner as in Work Example 24, a Y3SiO5 coating is formed at the surface of this

partie de thermistance 13 comme un matériau anti-  part of thermistor 13 as an anti-material

réducteur. La même procédure que dans l'exemple de travail 24 est effectuée jusqu'à l'étape de frittage pour obtenir une partie de thermistance 13 avec des fils conducteurs 11 et 12 fixés. La partie de thermistance 13 consiste de façon similaire en un corps fritté mélangé  reducer. The same procedure as in working example 24 is carried out until the sintering step to obtain a thermistor portion 13 with fixed wires 11 and 12. The thermistor portion 13 similarly consists of a mixed sintered body

de 38Y(Cr0,5Mn0,5)O3.62Y203.of 38Y (Cr 0.5MnO.5) O3.62Y203.

Ensuite, durant l'étape de revêtement par immersion, un composé organométallique d'yttrium et un composé organométallique de silicium (tous les deux des alkoxydes dans cet exemple), qui sont les précurseur au matériau anti-réduisant Y3SiO5, sont appliqués à la  Then, during the dip coating step, an organometallic yttrium compound and an organometallic silicon compound (both alkoxides in this example), which are the precursor to the Y3SiO5 anti-reducing material, are applied to the

surface de cette partie de thermistance 13.  surface of this thermistor part 13.

Une solution liquide d'un composé organo-  A liquid solution of an organic compound

métallique d'yttrium (SYM-YO1, fait par Symetrix Corp, USA) et une solution liquide d'un composé organométallique de silicium (SYM-SI05, fait par  yttrium metal (SYM-YO1, made by Symetrix Corp, USA) and a liquid solution of an organometallic silicon compound (SYM-SI05, made by

Symetrix Corp., USA) ont été utilisées comme précurseur.  Symetrix Corp., USA) were used as a precursor.

La solution liquide d'un composé organométallique d'yttrium et la solution liquide d'un composé organométallique de silicium ont été distribuées dans une formulation telle que du Y3A15012 est formé après le chauffage, et un mélange liquide de la solution liquide d'un composé organométallique d'yttrium et une solution liquide d'un composé organométallique de silicium a été préparée. L'application du matériau anti-réducteur à la surface de la partie de thermistance 13 est effectuée par un revêtement par immersion de la même manière que dans l'exemple de travail 24 dans lequel la partie de thermistance 13 est plongée dans ce mélange liquide et ressortie. De cette manière, le précurseur au matériau  The liquid solution of an organometallic yttrium compound and the liquid solution of an organometallic silicon compound have been dispensed into a formulation such that Y3A15012 is formed after heating, and a liquid mixture of the liquid solution of a compound organometallic yttrium and a liquid solution of an organometallic silicon compound was prepared. The application of the anti-reducer material to the surface of the thermistor portion 13 is carried out by immersion coating in the same manner as in the working example 24 in which the thermistor portion 13 is immersed in this liquid mixture and emerged. In this way, the precursor to the material

anti-réducteur de mullite est formé.  anti-mullite reducer is formed.

Par la suite, dans l'étape de formation de revêtement, de la même manière que dans l'exemple de travail 24, le solvant contenu dans le mélange liquide est vaporisé et le chauffage est effectué pour obtenir un dispositif de thermistance 1 avec un film d'épaisseur 0,5-5,0 pim du matériau anti-réducteur formé à la surface de la partie de thermorésistance 13 comme revêtement anti-réducteur 14. Le dispositif de thermistance 1 a été utilisé pour fabriquer un capteur de température 100 et  Subsequently, in the coating forming step, in the same manner as in working example 24, the solvent contained in the liquid mixture is vaporized and heating is performed to obtain a thermistor device 1 with a film 0.5-5.0 pim thickness of the anti-reducer material formed on the surface of the heat-resistance portion 13 as an anti-reducer coating 14. The thermistor device 1 was used to manufacture a temperature sensor 100 and

ses caractéristiques de valeur de résistance-  its resistance value characteristics-

trempérature ont été évaluées de la même manière. Le Tableau 9 représente les résultats de l'évaluation Le capteur de température 100 de cet exemple de travail 28 a montré de bonnes caractéristiques de valeur de résistance-température de la même manière que dans l'exemple de travail 24. De plus, le taux maximum de changement de la résistance AR2 pour le dispositif de thermistance 1 à l'intérieur du couvercle de métal a montré un niveau stable de globalement 3,0 %. Par conséquent, il est possible de prévoir un capteur de température qui a une valeur de résistance stable même lorsque le dispositif de thermistance 1 lui-même est  tempers were evaluated in the same way. Table 9 shows the results of the evaluation The temperature sensor 100 of this example of work 28 showed good resistance-temperature value characteristics in the same way as in the working example 24. Maximum change of the AR2 resistance for the thermistor device 1 inside the metal cover showed a stable level of overall 3.0%. Therefore, it is possible to provide a temperature sensor that has a stable resistance value even when the thermistor device 1 itself is

sujet à un environnement réducteur.  subject to a reducing environment.

Tableau 9Table 9

Valeur de résis- Coefficientaxa3mmd E--(ee Composition de Composition Valeur de résis-lCoefficient aUXrsais 9anceà 'i  Resistance value Coefficientaxa3mmd E - (ee Composition of Composition Value of resis-lCoefficient aIsais 9anceà 'i

de la résistance à 1'inte-resistance to interference

la partie anti-réduc- tance kn) résistance- ieur de la capsule de thermistance rtion R.T. température métal AR2 lr Ex mp e8Y Cr 5M o5(27 CJ1000C/ (K) 600 0C) _xemple_ de3Y(CroMno. 5 4 _ _ travail 2403-62Y203 Y20350 14 2450 430 Exemple de A1203 +2O  the anti-reduction part kn) resistor of the thermistor capsule RT metal temperature AR2 Ex mp e8Y Cr 5M o5 (27 CJ1000C / (K) 600 0C) _example_ de3Y (CroMno 5 4 _ _ work 2403 -62Y203 Y20350 14 2450 430 Example of A1203 + 2O

38Ctravail 25!--Work 25 -

Y203 - 50 - - n Exemple de 3Al203*2SiO2 Ln Exemple de"e Y3A15012 " "5 +210 Exemple deà, j n +3/0 travail 28 _ Exemple de LA z 3.2SiOS,|.302 " " +1;5o travail 26o ! (Exemple de travail 29) L'exemple de travail 29 est un exemple d'obtention de la partie de thermistance 13 consistant en un corps fritté mixte de 40Y(Cr0,5Mn0,5)O3.60A1203 (a=0,40, b=0,60), et formant un revêtement anti- réduction 14 de Y203 (matériau anti-réducteur) sur la  Y203 - 50 - - n Example of 3Al203 * 2SiO2 Ln Example of "e Y3A15012" "5 +210 Example ofà, jn +3/0 work 28 _ Example of LA z 3.2SiOS, | .302" "+1; 5o work 260 (Work Example 29) Work Example 29 is an example of obtaining the thermistor portion 13 consisting of a mixed sintered body of 40Y (Cr0.5Mn0.5) O3.60A1203 (a = 0.40). , b = 0.60), and forming an anti-reduction coating 14 of Y203 (anti-reducer material) on the

surface de cette partie de thermistance 13.  surface of this thermistor part 13.

* La Figure 30 représente le procédé de fabrication pour le dispositif de thermistance de cet exemple de travail 29. Il est à noter que la Figure 30 représente aussi le procédé de fabrication des exemplesFig. 30 shows the manufacturing method for the thermistor device of this working example 29. It should be noted that Fig. 30 also shows the method of manufacturing the examples.

de travail 30 à 33.working 30 to 33.

Les matériaux Y203, Cr203, Mn203 et CaCO3, chacun avec une pureté de 99, 9 % ou plus sont préparés. Dans la formulation 1, afin que la composition de Y(Cro,5MnO,5)O3 soit obtenue après calcination, les Y203, Cr203 et Mn203 sont pesés afin que le rapport molaire Y:Cr:Mn devienne 2:1:1 et que le poids total soit de 2000 g. De plus, 36 g de CaCO3 sont ajoutés pour donner un mélange de matériau brut de Y203, Cr203, Mn203 et CaCO3 avec un  Materials Y203, Cr203, Mn203 and CaCO3, each with a purity of 99.9% or more are prepared. In formulation 1, so that the composition of Y (Cro, 5MnO, 5) O3 is obtained after calcination, Y203, Cr203 and Mn203 are weighed so that the molar ratio Y: Cr: Mn becomes 2: 1: 1 and that the total weight is 2000 g. In addition, 36 g of CaCO3 are added to give a raw material mixture of Y203, Cr2O3, Mn2O3 and CaCO3 with a

poids total de 2036 g.total weight of 2036 g.

Ensuite, durant l'étape de mélange, afin d'effectuer un broyage fin de ce mélange de matériau brut, un broyeur à mélange de milieu est utilisé. Le broyeur de mélange de milieu dans cet exemple est le  Then, during the mixing step, in order to perform a fine grinding of this mixture of raw material, a medium mixing mill is used. The media mixing mill in this example is the

même broyeur à perles que dans l'exemple de travail 24.  same bead mill as in working example 24.

Les conditions de mélange, les conditions de fonctionnement et la quantité d'agent de dispersion et de liant ajoutés ont été les mêmes que dans l'exemple de  The mixing conditions, the operating conditions and the amount of dispersing agent and binder added were the same as in the example of

travail 24.work 24.

La pâte de matériau brut après le procédé de mélange et de broyage a été évaluée en utilisant un granulomètre à laser, et les résultats ont indiqué que  The raw material paste after the mixing and milling process was evaluated using a laser granulometer, and the results indicated that

la dimension de grains moyenne était de 0,3 pnm.  the average grain size was 0.3 μm.

La pâte de matériau brut ainsi obtenue est séchée dans un sécheur par pulvérisation sous les mêmes conditions que dans l'exemple de travail 24 (étape de séchage). La poudre de matériau brut de thermistance ainsi obtenue est placée dans un creuset de 99,3 % d'A1203 et calcinée pendant 2 à 3 heures à 1100-1300 C dans un four à haute température dans l'air pour obtenir  The raw material paste thus obtained is dried in a spray drier under the same conditions as in the working example 24 (drying step). The thermistor raw material powder thus obtained is placed in a crucible of 99.3% Al 2 O 3 and calcined for 2 to 3 hours at 1100 ° -1300 ° C. in a furnace at high temperature in air to obtain

une calcine de Y(Cro,5Mno,5)03 (étape de calcination).  a calcine of Y (Cro, 5Mno, 5) 03 (calcination step).

Ensuite, dans la formulation 2, la calcine mentionnée au-dessus qui est devenue un solide de type compact durant la calcination, a été soumise à un broyage grossier dans une machine à mélange et à broyage et est passée au travers un tamis de mailles de 30 # pour obtenir une poudre de Y(Cro,5Mno,5)O3. De plus cette poudre de Y(Cro,5MnO,5)03 et A1203 avec une pureté de 99,9 % ou plus sont préparés. Tous les deux sont pesés 1S afin que le rapport molaire de formulation des deux(a:b) Y(Cr0,5Mn0, 5)O3:A1203 devienne 40:60 et que le poids  Then, in formulation 2, the above-mentioned calcine, which became a compact solid during calcination, was comminuted in a blender and milling machine and passed through a sieve of mesh size. 30 # to obtain a powder of Y (Cro, 5Mno, 5) O3. In addition, this powder of Y (Cro, 5MnO, 5) O 3 and Al 2 O 3 with a purity of 99.9% or more is prepared. Both are weighed 1S so that the molar ratio of formulation of the two (a: b) Y (Cr0.5Mn0.5) O3: Al2O3 becomes 40:60 and that the weight

total soit de 2000 g.total of 2000 g.

Ensuite, durant l'étape de broyage ("Mélange et broyage" dans la Figure 30) le mélange pesé a été mélangé et moulu en utilisant un broyeur à perle de la  Then, during the milling step ("Mixing and milling" in Figure 30) the weighed mixture was mixed and milled using a bead mill from the mill.

même manière que dans l'étape de mélange mentionnée au-  same way as in the mixing step mentioned above.

dessus. Les conditions de fonctionnement pour le broyeur  above. Operating conditions for the crusher

à perle sont les mêmes que celles de l'étape de mélange.  bead are the same as those of the mixing step.

De plus, durant cette étape de broyage, un agent de dispersion, un liant et un agent de libération de moule ont été ajoutés et moulus en même temps pour obtenir une pâte. La pâte de matériau brut après le procédé de broyage a été évaluée en utilisant un granulomètre à laser, et les résultats ont indiqué que la dimension de  In addition, during this grinding step, a dispersing agent, a binder and a mold releasing agent were added and milled at the same time to obtain a paste. The pulp of raw material after the grinding process was evaluated using a laser granulometer, and the results indicated that the

grains moyenne était de 0,3 p1m.average grain was 0.3 p1m.

La pâte de matériau brut de Y(Cro,5MnO,5)O3 et A1203 obtenue après broyage est séchée et granulée dans un sécheur à pulvérisation sous les mêmes conditions que dans l'étape de séchage pour obtenir des granulés mélangés de Y(Cro,5MnO,5)O3.et A1203 (étape de granulation et de séchage). Ces granulés sont utilisés  The raw material paste of Y (Cro, 5MnO, 5) O3 and Al2O3 obtained after grinding is dried and granulated in a spray drier under the same conditions as in the drying step to obtain mixed granules of Y (Cro, 5MnO, 5) O3.and A1203 (granulation and drying step). These granules are used

pour mouler le dispositif de thermistance.  to mold the thermistor device.

L'étape de moulage a été effectuée par une méthode de moulage par moule de la même manière que dans l'exemple de travail 24, dans laquelle des fils conducteurs de Pt 100 ont été insérés dans un moule mâle, et les granulés ont été placés dans un moule  The molding step was carried out by a mold molding method in the same manner as in working example 24, in which Pt 100 lead wires were inserted into a male mold, and the pellets were placed. in a mold

femelle. Le moulage a été effectué à la même pression.  female. The molding was carried out at the same pressure.

pour obtenir une partie de thermistance moulée 13 avec des fils conducteurs 11 et 12 fixés. Cette partie de thermistance moulée 13 a été soumise à une étape de frittage de la même manière que dans l'exemple de travail 24 pour obtenir une partie de thermistance 13  to obtain a molded thermistor portion 13 with fixed lead wires 11 and 12. This molded thermistor portion 13 was subjected to a sintering step in the same manner as in working example 24 to obtain a thermistor portion 13

avec des fils conducteurs 11 et 12 fixes.  with conductive wires 11 and 12 fixed.

Ensuite, un revêtement par immersion est effectué de la même manière que dans l'exemple de travail 24, dans lequel un composé organométallique  Next, dip coating is performed in the same manner as in Work Example 24, in which an organometallic compound

d'yttrium, qui est le précurseur de matériau anti-  of yttrium, which is the precursor of

réducteur Y203, est appliqué à la surface de cette partie de thermistance 13. Puis, durant l'étape de formation du revêtement, un dispositif de thermistance 1 avec un film d'épaisseur 0,5-5,0 pin d'un revêtement anti-réducteur 14 de Y203, formé sur la surface de la  Y203 reducer, is applied to the surface of this portion of thermistor 13. Then, during the step of forming the coating, a thermistor device 1 with a film of thickness 0.5-5.0 pin of an anti-coating -reducer 14 of Y203, formed on the surface of the

partie de thermistance 13, est obtenu.  part of thermistor 13, is obtained.

Ce dispositif de thermistance 1 a été utilisé pour fabriquer un capteur de température 100 de la même manière que dans l'exemple de travail 24, et ses caractéristiques de valeur de résistance-température (valeur de résistance, ô, AR2) ont été évaluées de la même manière que dans l'exemple de travail 24. Le  This thermistor device 1 was used to manufacture a temperature sensor 100 in the same manner as in the working example 24, and its resistance-temperature value characteristics (resistance value, δ, AR2) were evaluated from the same way as in the working example 24. The

tableau 10 présente les résultats de l'évaluation.  Table 10 presents the results of the evaluation.

Le capteur de température 100 de cet exemple de travail 24 a montré de bonnes caractéristiques de valeur de résistance-température comme dans l'exemple 24. De plus, le taux maximum de changement de résistance AR2 pour le dispositif de thermistance 1 à l'intérieur du couvercle de métal a montré un niveau stable approximativement de 3 %. Par conséquent, il est possible de fournir un capteur de température qui a les mêmes effets avantageux que dans l'exemple de travail 24. (Exemple de travail 30) L'exemple de travail 30 est un exemple d'obtention de la même partie de thermistance 13 que dans l'exemple de travail 29, et de formation d'un revêtement anti-réduction de A1203 à la surface de la partie de thermistance 13. Les étapes jusqu'à l'étape de chauffage sont effectuées de la même manière que dans l'exemple de travail 29 pour obtenir une partie de thermistance 13 avec des fils conducteurs 11 et 12 fixés. La partie de thermistance 13 consiste en un corps fritté mixte de 40Y(Cr0,5Mn0,5)0360A1203, le même que  The temperature sensor 100 of this working example 24 showed good resistance-temperature value characteristics as in Example 24. In addition, the maximum resistance change rate AR2 for the thermistor device 1 inside metal lid showed a stable level of approximately 3%. Therefore, it is possible to provide a temperature sensor that has the same advantageous effects as in working example 24. (Work Example 30) Work Example 30 is an example of obtaining the same part of thermistor 13 than in the working example 29, and forming an anti-reduction coating of A1203 on the surface of the thermistor portion 13. The steps up to the heating step are performed in the same manner as in the working example 29 to obtain a thermistor portion 13 with fixed wires 11 and 12. The thermistor portion 13 consists of a mixed sintered body of 40Y (Cr0.5Mn0.5) 0360A1203, the same as

dans l'exemple de travail 29.in the working example 29.

Ensuite, la formation du revêtement anti-  Then, the formation of the anti-

réducteur 14 du matériau anti-réducteur Ai203 sur la partie de thermistance 13 est effectuée de la même manière que dans l'exemple de travail 25. Ainsi, un dispositif de thermistance 1 avec un film d'épaisseur 0,5-5,0 pim d'un revêtement anti-réducteur 14 formé sur  reducer 14 of the anti-reducer material Ai203 on the thermistor portion 13 is made in the same manner as in the working example 25. Thus, a thermistor device 1 with a film thickness of 0.5-5.0 pim of an anti-reducer coating 14 formed on

la surface de la partie de thermistance 13 est obtenu.  the surface of the thermistor portion 13 is obtained.

Ce dispositif de thermistance 1 a été utilisé pour fabriquer un capteur de température 100 de la même manière que dans l'exemple de travail 24, et ses caractéristiques ont été évaluées de la même manière. Le  This thermistor device 1 was used to make a temperature sensor 100 in the same manner as in the working example 24, and its characteristics were evaluated in the same way. The

tableau 10 présente les résultats de l'évaluation.  Table 10 presents the results of the evaluation.

Le capteur de température 100 de cet exemple de travail 24 a montré des bonnes caractéristiques de valeur de résistance-température comme dans l'exemple 24. De plus, le taux maximum de changement de résistance AR2 pour le dispositif de thermistance 1 à l'intérieur du couvercle de métal a montré un niveau stable de 2,0 %. Par conséquent, il est possible de fournir un capteur de température qui a les mêmes effets avantageux  The temperature sensor 100 of this working example 24 showed good resistance-temperature value characteristics as in Example 24. In addition, the maximum resistance change rate AR2 for the thermistor device 1 inside metal lid showed a stable level of 2.0%. Therefore, it is possible to provide a temperature sensor that has the same beneficial effects

que dans l'exemple de travail 24.than in the working example 24.

(Exemple de travail 31) L'exemple de travail 31 est un exemple d'obtention de la même partie de thermistance 13 que dans l'exemple de travail 29, et de formation d'un revêtement anti-réduction de 3A1203.2SiO2 (mullite) sur la surface de la partie de thermistance 13. Les étapes jusqu'à l'étape de chauffage sont effectuées de la même manière que dans l'exemple de travail 29 pour obtenir une partie de thermistance 13 avec des fils conducteurs 11 et 12 fixés. La partie de thermistance 13 consiste en un corps fritté mixte de 40Y(Cr0,5Mn0, 5)O360A1203, le  (Work Example 31) Work Example 31 is an example of obtaining the same thermistor portion 13 as in Work Example 29, and forming an anti-reduction coating of 3A1203.2SiO2 (mullite ) on the surface of the thermistor portion 13. The steps up to the heating step are performed in the same manner as in the working example 29 to obtain a thermistor portion 13 with fixed conductor wires 11 and 12 . The thermistor portion 13 consists of a mixed sintered body of 40Y (Cr0.5Mn0.5) O360A1203, the

même que dans l'exemple de travail 29.  same as in working example 29.

Ensuite, la formation du revêtement anti-  Then, the formation of the anti-

réducteur 14 du matériau anti-réducteur 3A1203.2SiO2 (mullite) sur la partie de thermistance 13 est effectuée  reducer 14 of the anti-reducer material 3A1203.2SiO2 (mullite) on the thermistor portion 13 is carried out

de la même manière que dans l'exemple de travail 26. Ainsi, un dispositif de thermistance 1 avec un film d'épaisseur 0,5-5,0  in the same way as in the working example 26. Thus, a thermistor device 1 with a film thickness of 0.5-5.0

Inm d'un revêtement anti-réducteur 14 formé sur la surface de la partie de thermistance 13 est obtenu. Ce dispositif de thermistance 1 a été utilisé pour fabriquer un capteur de température 100 de la même manière que dans l'exemple de travail 24, et ses caractéristiques ont été évaluées de la même manière. Le  Inm of an anti-reduction coating 14 formed on the surface of the thermistor portion 13 is obtained. This thermistor device 1 was used to make a temperature sensor 100 in the same manner as in the working example 24, and its characteristics were evaluated in the same way. The

Tableau 10 présente les résultats de l'évaluation.  Table 10 presents the results of the evaluation.

Le capteur de température 100 de cet exemple de travail 24 a montré des bonnes caractéristiques de valeur de résistance-température comme dans l'exemple 24. De plus, le taux maximum de changement de résistance AR2 pour le dispositif de thermistance 1 à l'intérieur du couvercle de métal a montré un niveau stable de 1,5 %. Par consequent, il est possible de fournir un capteur de température qui a les mêmes effets avantageux  The temperature sensor 100 of this working example 24 showed good resistance-temperature value characteristics as in Example 24. In addition, the maximum resistance change rate AR2 for the thermistor device 1 inside metal lid showed a stable level of 1.5%. Therefore, it is possible to provide a temperature sensor that has the same beneficial effects

que dans l'exemple de travail 24.than in the working example 24.

(Exemple de travail 32) L'exemple de travail 32 est un exemple d'obtention de la même partie de thermistance 13 que dans l'exemple de travail 29, et la formation d'un revêtement anti-réduction de Y3A15012 sur la surface de la partie de thermistance 13. Les étapes jusqu'à l'étape de chauffage sont effectuées de la même manière que dans l'exemple de travail 29 pour obtenir une partie de thermistance 13 avec des fils conducteurs 11 et 12 fixés. La partie de thermistance 13 consiste en un corps fritté mixte de 40Y(Cr0,5Mn0,5)O3.60A1203, le même que  (Work Example 32) Work Example 32 is an example of obtaining the same thermistor portion 13 as in Work Example 29, and forming an anti-reduction coating of Y3A15012 on the surface of the thermistor portion 13. The steps up to the heating step are performed in the same manner as in the working example 29 to obtain a thermistor portion 13 with fixed lead wires 11 and 12. The thermistor portion 13 consists of a mixed sintered body of 40Y (Cr0.5Mn0.5) O3.60A1203, the same as

dans l'exemple de travail 29.in the working example 29.

Puis, la formation du revêtement anti-réducteur 14 du matériau antiréducteur Y3A15012 sur la partie de thermistance 13 est effectuée de la même manière que dans l'exemple de travail 27. Ainsi, un dispositif de thermistance 1 avec un film d'épaisseur 0,5-5,0 pm d'un revêtement anti-réducteur 14 formé à la surface de la partie de thermistance 13 est obtenu. Ce dispositif de thermistance 1 a été utilisé pour fabriquer un capteur de température 100 de la même manière que dans l'exemple de travail 24, et ses caractéristiques de résistance ont été évaluées de la même manière. Le Tableau 10  Then, the formation of the anti-reduction coating 14 of the anti-reduction material Y3A15012 on the thermistor part 13 is carried out in the same way as in the working example 27. Thus, a thermistor device 1 with a film of thickness 0, 5-5.0 μm of an anti-reducing coating 14 formed on the surface of the thermistor portion 13 is obtained. This thermistor device 1 was used to make a temperature sensor 100 in the same manner as in working example 24, and its resistance characteristics were evaluated in the same way. Table 10

représente les résultats de l'évaluation.  represents the results of the evaluation.

Le capteur de température 100 de cet exemple de travail 24 a montré des bonnes caractéristiques de valeur de résistance-température comme dans l'exemple 24. De plus, le taux maximum de changement de résistance AR2 pour le dispositif de thermistance 1 à l'intérieur du couvercle de métal a montré un niveau stable de 2,0 %. Par conséquent, il est possible de proposer un capteur de température qui présente les mêmes effets  The temperature sensor 100 of this working example 24 showed good resistance-temperature value characteristics as in Example 24. In addition, the maximum resistance change rate AR2 for the thermistor device 1 inside metal lid showed a stable level of 2.0%. Therefore, it is possible to propose a temperature sensor that has the same effects

avantageux que dans l'exemple de travail 24.  advantageous than in the working example 24.

(Exemple de travail 33) L'exemple de travail 33 est un exemple d'obtention de la même partie de thermistance 13 que dans l'exemple de travail 29, et la formation d'un revêtement anti-réduction de Y2SiO05 sur la surface de la partie de thermistance 13. Les étapes jusqu'à l'étape de chauffage sont effectuées de la même manière que dans l'exemple de travail 29 pour obtenir une partie de thermistance 13 avec des fils conducteurs 11 et 12 fixés. La partie de thermistance 13 consiste en un corps fritté mélangé de 40Y(Cr0,5Mno0,5)03.60A1203, la même que  (Work Example 33) Work Example 33 is an example of obtaining the same portion of thermistor 13 as in Work Example 29, and forming an anti-reduction coating of Y2SiO05 on the surface of the thermistor portion 13. The steps up to the heating step are performed in the same manner as in the working example 29 to obtain a thermistor portion 13 with fixed lead wires 11 and 12. The thermistor portion 13 consists of a mixed sintered body of 40Y (Cr0.5Mno0.5) 03.60A1203, the same as

dans l'exemple de travail 29.in the working example 29.

Ensuite, la formation du revêtement anti-  Then, the formation of the anti-

réducteur 14 du matériau anti-réducteur Y2SiO5 sur la partie de thermistance 13 est effectuée de la même manière que dans l'exemple de travail 28. Ainsi, un dispositif de thermistance 1 avec un film d'épaisseur 0,5-5,0 pin d'un revêtement anti-réducteur 14 formé sur  reducer 14 of the anti-reducer material Y2SiO5 on the thermistor portion 13 is carried out in the same manner as in the working example 28. Thus, a thermistor device 1 with a thickness film 0.5-5.0 pin of an anti-reducer coating 14 formed on

la surface de la partie de thermistance 13 est obtenu.  the surface of the thermistor portion 13 is obtained.

Ce dispositif de thermistance 1 a été utilisé pour fabriquer un capteur de température 100 de la même manière que dans l'exemple de travail 24, et ses caractéristiques de résistance ont été évaluées de la même manière. Le Tableau 10 représente les résultats de  This thermistor device 1 was used to make a temperature sensor 100 in the same manner as in working example 24, and its resistance characteristics were evaluated in the same way. Table 10 shows the results of

l'évaluation.evaluation.

Le capteur de température 100 de cet exemple de travail 24 a montré des bonnes caractéristiques de valeur de résistance-température comme dans l'exemple de travail 24. De plus, le taux maximum de changement de résistance AR2 pour le dispositif de thermistance 1 à l'intérieur du couvercle de métal a montré un niveau stable de 3,0 %. Par conséquent, il est possible de prévoir un capteur de température qui a les mêmes effets  The temperature sensor 100 of this working example 24 showed good resistance-temperature value characteristics as in the working example 24. In addition, the maximum resistance change rate AR2 for the thermistor device 1 to 1 The inside of the metal lid showed a stable level of 3.0%. Therefore, it is possible to provide a temperature sensor that has the same effects

avantageux que dans l'exemple de travail 24.  advantageous than in the working example 24.

Tableau 10Table 10

Composition de Composition Valeur de résis- Coefficient Taux maximum de change-  Composition of Composition Resistance Value Coefficient Maximum Exchange Rate-

la partie deanti-réductiontancekQ) résistance-ent de la résistance à thermistance R.T. température'intérieur de laca e vxemple del 406Y(Co5l 'in203 50 0.07 2580 +3a0 Exemple de " A1203. +210 travail 30. _____ Exemple de 30Y(Cr0.sMn2.5) travail 31 3A12O2SiO2..... +5 Exemple de,, Y3A1I5012..+2 travail 32 l + _  the resistance-resistance part of the RT thermistor resistance inside temperature of the 406Y example (Co5l 'in203 50 0.07 2580 + 3a0 Example of "A1203. +210 work 30. Example of 30Y (Cr0. sMn2.5) work 31 3A12O2SiO2 ..... +5 Example of ,, Y3A1I5012 .. + 2 work 32 l + _

Exemple deExample of

travail 33" IExemple de, ,"" 2i5| * | t_+} c>, cn n0 (Exemple Comparatif 7) L'exemple comparatif 7 est un exemple d'utilisation de Y203, Cr203 et Mn203 comme matériaux bruts utilisés pour obtenir la partie de thermistance 13 consistant en un corps fritté mixte de 38Y(Cr0,5Mn0,5)O3.62Y203 de la même manière que dans l'exemple de travail 24 et ne formant pas de matériau anti-réduisant à sa surface. A savoir, le dispositif a la composition du dispositif de thermistance 1 de la  EXAMPLE 7 Comparative Example 7 is an example of the use of Y 2 O 3, Cr 2 O 3 and Mn 2 O 3 as raw materials used to obtain the thermistor portion 13 consisting of a mixed sintered body of 38Y (Cr0.5Mn0.5) O3.62Y203 in the same manner as in working example 24 and not forming anti-reducing material on its surface. the device has the composition of the thermistor device 1 of the

figure 26 sans revêtement anti-réduisant 14.  Figure 26 without anti-reducing coating 14.

Le dispositif de thermistance de cet exemple comparatif 7 a été assemblé comme cela est représenté sur la Figure 26 au-dessus, pour obtenir un capteur de température 100 et ses caractéristiques de résistance ont été évaluées de la même manière que dans l'exemple de travail 24. Les résultats sont représentés sur le Tableau 11. Le capteur de température 100 de cet exemple a montré une valeur de résistance dans la gamme de Q à 100 kQ dans la gamme de température partant de la température ambiante à 10000C, et ainsi comporte une  The thermistor device of this Comparative Example 7 was assembled as shown in Figure 26 above, to obtain a temperature sensor 100 and its resistance characteristics were evaluated in the same manner as in the working example. 24. The results are shown in Table 11. The temperature sensor 100 of this example showed a resistance value in the range of Q to 100 kΩ in the temperature range from room temperature to 10000 ° C, and thus has a

excellente caractéristique de valeur de résistance-  excellent resistance value characteristic-

température. Cependant, le rapport maximum de changement de résistance AR2 pour le dispositif de thermistance 1 à l'intérieur du couvercle de métal a montré un niveau de 30 %, ainsi sa stabilité de valeur de résistance lorsque le dispositif de thermistance lui-même est soumis à une atmosphère réduisante est pauvre en comparaison aux  temperature. However, the maximum resistance change ratio AR2 for the thermistor device 1 inside the metal cover showed a level of 30%, so its resistance value stability when the thermistor device itself is subjected to a reducing atmosphere is poor compared to

exemples de travail ci-dessus.examples of work above.

Il est à noter que lorsque le capteur de température de cet exemple a été soumis à un vieillissement thermique de 900 Cx100 heures, le taux de changement AR2 a grimpé à un niveau de 5 % et s'est stabilisé. Par conséquent, le vieillissement thermique de 900 Cxl00 heures est nécessaire afin de stabiliser la  It should be noted that when the temperature sensor of this example was subjected to thermal aging of 900 Cx100 hours, the rate of change AR2 rose to a level of 5% and stabilized. Therefore, the thermal aging of 900 Cxl00 hours is necessary in order to stabilize the

résistance du dispositif de thermistance de cet exemple.  resistance of the thermistor device of this example.

(Exemple Comparatif 8) L'exemple comparatif 8 est un exemple d'utilisation de Y203, Cr203, Mn203 CaCO3 et A1203 comme matériaux bruts utilisés pour obtenir la partie de thermistance 13 consistant en un corps fritté mixte de Y(Cr0,5MnO,5)O3.62Y203 de la même manière que dans l'exemple de travail 29 et ne formant pas un matériau anti-réduisant à sa surface. A savoir, le dispositif comporte la composition du dispositif de thermistance 1 de la figure 26 sans revêtement anti-réduisant 14, de la  (Comparative Example 8) Comparative Example 8 is an example of the use of Y 2 O 3, Cr 2 O 3, Mn 2 O 3 CaCO 3 and Al 2 O 3 as raw materials used to obtain the thermistor portion 13 consisting of a mixed sintered body of Y (Cr 0.5 MnO 5 ) O3.62Y203 in the same manner as in the working example 29 and not forming an anti-reducing material on its surface. Namely, the device comprises the composition of the thermistor device 1 of Figure 26 without anti-reducing coating 14, the

même manière que dans l'exemple comparatif 7.  same way as in Comparative Example 7.

Le dispositif de thermistance de cet exemple comparatif 8 a été assemblé comme cela est représenté dans l'exemple comparatif 7 au-dessus pour obtenir un capteur de température 100, et ses caractéristiques de  The thermistor device of this Comparative Example 8 was assembled as shown in Comparative Example 7 above to obtain a temperature sensor 100, and its characteristics of

résistance ont été évaluées.resistance were evaluated.

Le capteur de température de cet exemple a aussi  The temperature sensor of this example also has

des excellente caractéristiques de valeur de résistance-  excellent resistance value characteristics-

température. Cependant, le taux maximum de changement de résistance AR2 pour le dispositif de thermistance 1 à l'intérieur du couvercle de métal a montré un niveau de %, ainsi sa stabilité de valeur de résistance lorsque le dispositif de thermistance lui-même est soumis à une atmosphère réduisante est pauvre en comparaison aux  temperature. However, the maximum resistance change rate AR2 for the thermistor device 1 inside the metal cover showed a level of%, so its resistance value stability when the thermistor device itself is subjected to reducing atmosphere is poor in comparison to

exemples de travail au-dessus.examples of work above.

Il est à noter que lorsque le capteur de température de cet exemple a été soumis à un vieillissement thermique de 900 Cx100 heures, le taux de changement de résistance AR2 a sauté à un niveau de 5 % et s'est stabilisé. Par conséquent, le vieillissement thermique de 900 Cx100 heures est nécessaire afin de stabiliser la résistance du dispositif de thermistance  It should be noted that when the temperature sensor of this example was subjected to thermal aging of 900 Cx100 hours, the rate of change of resistance AR2 jumped to a level of 5% and stabilized. Therefore, thermal aging of 900 Cx100 hours is necessary in order to stabilize the resistance of the thermistor device

de cet exemple.of this example.

Tableau 11Table 11

Composition de la partieValeur de résis- Coefficient Taux maximum de crian-  Composition of the Part Resistance Value Coefficient Maximum Crisis Rate

Co gmpoiint de la prtsistanc de thermistance tance (k_ résistance- ce ml'intérieur de R.T. température la capsule de métal Exemple _ -(27nC) 1000 C f (K) R2 (, 600c)  Coefficient of the thermistor requirement (resistance at the inside temperature of the temperature of the metal capsule Example 1 - (27nC) 1000 C f (K) R2 (600c)

Exemple_Example_

500.14 24 50- +300m Comparatif 7 38Y(Cro;sMno5s)03-62YzO3 50 0.14 250 +0 lExemple 8140Y(Cro,5sMno,5>O36Oy2O3 50 0.07 2580 +25/0 iComparatif 81 40(C1sM;)3'0Y0 on on o0 (Exemples des autres modifications du quatrième aspect)  500.14 24 50- + 300m Comparative 7 38Y (Cro; sMno5s) 03-62YzO3 50 0.14 250 +0 Example 8140Y (Cro, 5sMno, 5> O36Oy2O3 50 0.07 2580 + 25/0 iComparative 81 40 (C1sM;) 3'0Y0 o0 (Examples of other changes in the fourth aspect)

En addition aux exemples de travail 24-33 au-  In addition to the working examples 24-33

dessus, en formant le matériau anti-réduction selon cet aspect de l'invention sur la surface des dispositifs de thermistance conventionnels tels que des dispositifs de thermistance à haute température faites principalement de Cr203, des dispositifs de thermistance avec une composition de type de corundum de (Al, Cr, Fe)203, des dispositifs de thermistance avec une seule composition de perovskite de (Cr, Ti, Fe)O3, il est possible de prévoir un dispositif de thermistance qui comporte des caractéristiques stables sans fluctuation dans la résistance de l'atmosphère de réduction dans le couvercle de métal, ainsi le vieillissement thermique du  above, forming the anti-reduction material according to this aspect of the invention on the surface of conventional thermistor devices such as high temperature thermistor devices made primarily of Cr 2 O 3, thermistor devices with a corundum type composition of (Al, Cr, Fe) 203, thermistor devices with a single composition of perovskite of (Cr, Ti, Fe) O3, it is possible to provide a thermistor device which has stable characteristics without fluctuation in the resistance of the reducing atmosphere in the metal lid, thus the thermal aging of the

capteur de température n'est pas nécessaire.  temperature sensor is not necessary.

De plus, dans les exemples de travail au-dessus, les matériaux de Y203, A1203, SiO2, Y3A15012, 3A1203 2SiO2 (mullite) et Y2SiO5 peuvent être combinés librement comme le matériau anti-réduisant pour former un revêtement anti-réduisant consistant en une pluralité de couches de matériau anti-réduisant sur la surface du dispositif de thermistance, et les mêmes effets  In addition, in the working examples above, Y203, A1203, SiO2, Y3A15012, 3A1203 2SiO2 (mullite) and Y2SiO5 materials can be freely combined as the anti-reducing material to form an anti-reducing coating consisting of plurality of layers of anti-reducing material on the surface of the thermistor device, and the same effects

méritoires décrits au-dessus peuvent être obtenus.  merits described above can be obtained.

De plus, dans les exemples de travail mentionnés au-dessus 24 à 33, un dispositif de thermistance de type masse compacte cylindrique 1 avec des dimensions de 1,6 mm de diamètre et 1,2 mm de longueur, par exemple, est obtenu, mais dans la présente invention, la forme du  In addition, in the working examples mentioned above 24 to 33, a compact cylindrical mass type thermistor device 1 with dimensions of 1.6 mm in diameter and 1.2 mm in length, for example, is obtained. but in the present invention, the shape of the

dispositif de thermistance 1 importe peu.  thermistor device 1 does not matter.

Par exemple, il est possible d'ajouter des liants, des matériaux de résine ou équivalents qui sont mélangés au matériau brut pour le dispositif de thermistance, pour ajuster sa viscosité ou sa dureté pour être approprié à la formation en feuilles, et ainsi obtenir une feuille de thermistance en forme de feuille avec une épaisseur de 200 un. L'épaisseur de cinq de ces feuilles laminées ensemble devient 1 mm, ainsi les mêmes  For example, it is possible to add binders, resin materials or the like which are mixed with the raw material for the thermistor device, to adjust its viscosity or hardness to be suitable for sheet formation, and thereby obtain a sheet-shaped thermistor sheet with a thickness of 200 a. The thickness of five of these sheets rolled together becomes 1 mm, so the same

effets avantageux des exemples de travail mentionnés ci-  advantageous effects of the examples of work mentioned above.

dessus peuvent être obtenus avec un dispositif de thermistance de type en feuille laminée avec des fils  can be obtained with a sheet-type thermistor device laminated with wires

conducteurs fixés.fixed conductors.

De plus, il est possible d'ajouter des liants, des matériaux de résine ou équivalents qui sont mélangés au matériau brut pour le dispositif de thermistance, pour ajuster sa viscosité ou sa dureté pour être adéquat pour le moulage par extrusion, et ainsi utiliser un moulage par extrusion pour obtenir un dispositif de thermistance moulé avec des orifices formés pour y fixer des fils conducteurs, puis insérer les fils conducteurs et fritter ensemble pour obtenir un dispositif de thermistance avec des fils conducteurs attachés, ainsi  In addition, it is possible to add binders, resin materials or the like which are mixed with the raw material for the thermistor device, to adjust its viscosity or hardness to be suitable for extrusion molding, and thus to use a extrusion molding to obtain a molded thermistor device with orifices formed to attach conductive wires thereto, and then inserting the conductive wires and sintering together to obtain a thermistor device with attached lead wires, and

la même performance que dans les exemples de travail ci-  the same performance as in the examples of work

dessus peut être obtenue.above can be obtained.

De plus, dans les exemples de travail mentionnés  Moreover, in the examples of work mentioned

au-dessus 24 à 33, les précurseurs du matériau anti-  above 24 to 33, the precursors of the anti-

réduction utilisés étaient les composés organométalliques alcoolates (alkoxydes de métal) contenant seulement des éléments métalliques uniques, mais des liquides des liquides alcoolates qui contiennent plus qu'un des éléments sélectionnés parmi le groupe de Y, Al et Si, peuvent être utilisés. Par exemple des liquides ou des composés organométalliques d'aluminium- yttrium, des composés organométalliques d'yttrium-silicium peuvent être utilisés pour appliquer  Reduction used were the organometallic compounds alcoholates (metal alkoxides) containing only single metal elements, but liquid liquids alcoholates which contain more than one of the selected elements from the group of Y, Al and Si, can be used. For example, aluminum-yttrium liquids or organometallic compounds, organometallic yttrium-silicon compounds can be used to apply

les précurseurs du matériau anti-réduisant.  the precursors of the anti-reducing material.

De plus, dans les exemples de travail mentionnés au-dessus 24-33, des composés organométalliques ont été utilisés comme précurseurs du matériau anti-réduisant, mais des nitrates, des sels de chlorure, des acétates, des oxalates ou équivalents peuvent être utilisés comme précurseurs du matériau anti-réduisant, et leurs solutions liquides peuvent être utilisées pour appliquer  Moreover, in the working examples mentioned above 24-33, organometallic compounds have been used as precursors of the anti-reducing material, but nitrates, chloride salts, acetates, oxalates or the like can be used as precursors of the anti-reducing material, and their liquid solutions can be used to apply

les précurseurs du matériau anti-réduisant.  the precursors of the anti-reducing material.

De plus, dans les exemples de travail mentionnés au-dessus 24 à 33, les méthodes de formation du matériau anti-réduisant est donnée comme un revêtement par immersion, le procédé de fabrication humide représentatif, mais d'autres méthodes de formation du matériau anti-réduisant peuvent être utilisées afin d'obtenir un dispositif de thermistance avec un matériau anti-réduisant formé à la surface de la partie thermorésistante. D'autres procédés de fabrication humides comportent: le revêtement par pulvérisation, le revêtement par flamme, l'application, l'impression, l'électroplaquage, l'électrophorèse et d'autres méthodes de formation du matériau anti-réduction. De plus, le dispositif de thermistance peut aussi être obtenu en  Moreover, in the working examples mentioned above 24 to 33, the methods of forming the anti-reducing material are given as an immersion coating, the representative wet manufacturing method, but other methods of forming the anti-reducing material. -reducing can be used to obtain a thermistor device with an anti-reducing material formed on the surface of the heat-resistant portion. Other wet manufacturing processes include: spray coating, flame coating, application, printing, electro-plating, electrophoresis and other methods of forming the anti-reduction material. In addition, the thermistor device can also be obtained by

moulant et chauffant les précurseurs au matériau anti-  molding and heating the precursors to the anti-

réduisant pour former le matériau anti-réduisant.  reducing to form the anti-reducing material.

De plus, des procédés de fabrication à sec incluent la déposition par faisceau d'électron, la pulvérisation et d'autres dépositions par vapeur physiques (PVD), des méthodes de déposition par vapeur chimiques (CVD) qui peuvent être utilisées pour former le matériau anti-réduisant. De plus, le dispositif de thermistance peut aussi être obtenu en moulant et chauffant les précurseurs au matériau anti-réduction  In addition, dry manufacturing processes include electron beam deposition, sputtering, and other physical vapor deposition (PVD), chemical vapor deposition (CVD) methods that can be used to form the material. anti-reducing. In addition, the thermistor device can also be obtained by molding and heating the precursors to the anti-reduction material.

pour former le matériau anti-réduction.  to form the anti-reduction material.

L'épaisseur du film du matériau anti-réduction peut être ajustée librement en fonction des conditions  The film thickness of the anti-reduction material can be adjusted freely according to the conditions

de fonctionnement des divers procédés de fabrication.  operation of the various manufacturing processes.

De plus, dans les exemples de travail mentionnés au-dessus 24 à 33, le matériau anti-réduction est formé à la surface de la partie de thermistance après l'étape de frittage, mais par application les précurseurs du matériau anti-réduction à la partie de thermistance après le moulage (étape de moulage) durant le procédé de fabrication représenté dans les Figures 29 et 30, il est possible d'obtenir un dispositif de thermistance avec un matériau anti-réduisant formé à sa surface, o ils sont  Moreover, in the working examples mentioned above 24 to 33, the anti-reduction material is formed on the surface of the thermistor portion after the sintering step, but by applying the precursors of the anti-reduction material to the Thermistor part after molding (molding step) during the manufacturing process shown in Figures 29 and 30, it is possible to obtain a thermistor device with an anti-reducing material formed on its surface, where they are

frittés de façon simultanée.sintered simultaneously.

De plus, durant l'étape de fabrication représentée sur les Figures 29 et 30, après l'étape de  In addition, during the manufacturing step shown in Figures 29 and 30, after the step of

moulage, la partie de thermistance est chauffée à 1200-  molding, the thermistor part is heated to 1200-

1400 C pour obtenir une partie de thermistance chauffée,  1400 C to obtain a portion of heated thermistor,

ainsi en appliquant les précurseurs du matériau anti-  thus applying the precursors of the anti-

réduisant à cette partie de thermistance chauffée et en chauffant, il est aussi possible d'obtenir un dispositif de therrmistance avec un matériau anti-réduisant formé à  reducing to this portion of heated thermistor and heating, it is also possible to obtain a thermistor device with an anti-reducing material formed to

sa surface.its surface.

De plus, afin d'augmenter la force par laquelle le matériau antiréduction adhère au dispositif de thermistance, il est possible de former une couche principale (couche principale) au moyen d'une méthode de procédé humide ou une méthode de procédé à sec puis de former une seconde couche du matériau anti-réduction sur la surface complète de ladite première couche au moyen de ladite méthode par procédé humide ou méthode par procédé sec, et ainsi obtenir un dispositif de  In addition, in order to increase the force by which the anti-reduction material adheres to the thermistor device, it is possible to form a main layer (main layer) by means of a wet process method or a dry process method followed by forming a second layer of the anti-reduction material on the entire surface of said first layer by means of said wet method or dry process method, and thereby obtaining a

thermistance pour obtenir les mêmes effets avantageux.  thermistor to achieve the same beneficial effects.

Cette couche principale peut être sélectionnée  This main layer can be selected

librement à partir des matériaux de matériau anti-  freely from the materials of anti-

réduisant de Y203, A1203, SiO2, Y3A15012, 3A1203.2SIO2 (mullite) et Y2SiO5, et le rapport de composition, la concentration des liquides précurseurs, les caractéristiques de moulage de la partie de thermistance et les conditions de fonctionnement des divers procédés  reducing Y203, Al2O3, SiO2, Y3A15012, 3A1203.2SIO2 (mullite) and Y2SiO5, and the composition ratio, concentration of precursor liquids, molding characteristics of the thermistor portion and the operating conditions of the various processes

de fabrication peuvent être commandés librement.  manufacturing can be ordered freely.

De plus, afin d'ajouter ou d'appliquer des fonctions concernant le coefficient thermique d'expansion, la conductivité de chaleur, la résistance à la chaleur ou équivalent, il est possible d'ajouter d'autres matériaux à ladite couche principale et à ladite couche secondaire, ou des adhésifs composites peuvent être utilisés pour obtenir un dispositif de thermistance plus complexe, mais les mêmes effets  In addition, in order to add or apply functions relating to the thermal expansion coefficient, the heat conductivity, the heat resistance or the like, it is possible to add other materials to said main layer and to said secondary layer, or composite adhesives may be used to obtain a more complex thermistor device, but the same effects

avantageux décrits sont toujours obtenus.  Described advantages are always obtained.

Il est à noter que dans le capteur de température 100 de la Figure 27 o le dispositif de thermistance des divers exemples ci-dessus est utilisé, une structure sans couvercle de métal 2 peut aussi être utilisée. Comme cela est décrit au-dessus, le dispositif de thermistance de cet aspect de l'invention est supposé supprimer le mouvement des atomes d'oxygène à partir du dispositif vers l'extérieur du dispositif dans un environnement de réduction, et ainsi une structure de  It should be noted that in the temperature sensor 100 of Figure 27 where the thermistor device of the various examples above is used, a structure without a metal cover 2 may also be used. As described above, the thermistor device of this aspect of the invention is intended to suppress the movement of oxygen atoms from the device to the exterior of the device in a reduction environment, and thus a

dispositif est adoptée par quoi un matériau anti-  device is adopted by what an anti-material

réduisant est formé sur la surface de la partie de thermistance. Ainsi, la réduction du dispositif de thermistance lui-même est supprimée et la stabilité de  reducing is formed on the surface of the thermistor part. Thus, the reduction of the thermistor device itself is suppressed and the stability of

valeur de résistance est obtenue.resistance value is obtained.

Par conséquent, dans le dispositif de thermistance du quatrième aspect de la présente invention, il n'est pas besoin d'effectuer un vieillissement thermique pour stabiliser la résistance, et il n'est pas besoin d'utiliser un couvercle fait de matériaux spéciaux chers, aussi il est possible de fournir un capteur de température qui a un taux stable  Therefore, in the thermistor device of the fourth aspect of the present invention, there is no need to perform thermal aging to stabilize the resistance, and there is no need to use a cover made of expensive special materials , also it is possible to provide a temperature sensor that has a stable rate

de changement de résistance AR2.resistance change AR2.

- 172 -- 172 -

Claims (5)

REVENDICATIONS 1 - Méthode de fabrication d'un dispositif de thermistance comportant un corps fritté, comprenant: une étape dans laquelle une pluralité de composés précurseurs qui contiennent des éléments métalliques sont mélangés dans la phase liquide pour former un mélange liquide, une étape dans laquelle un agent précipitant de sel métallique est ajouté audit mélange liquide pour précipiter un précipité gélatineux de sels métalliques contenant une pluralité desdits éléments métallique, une étape dans laquelle ledit précipité est soumis au séchage et à un traitement de chauffage pour former un matériau brut en poudre qui est une composition de poudre contenant une pluralité desdits éléments métalliques, et une étape dans laquelle ledit matériau brut en  A method of manufacturing a thermistor device having a sintered body, comprising: a step wherein a plurality of precursor compounds that contain metal elements are mixed in the liquid phase to form a liquid mixture, a step in which an agent metal salt precipitant is added to said liquid mixture to precipitate a gelatinous precipitate of metal salts containing a plurality of said metal elements, a step wherein said precipitate is subjected to drying and a heat treatment to form a powdered raw material which is a powder composition containing a plurality of said metal elements, and a step in which said raw material in poudre est fritté pour former ledit corps fritté.  powder is sintered to form said sintered body. 2 - Méthode de fabrication selon la revendication 1 dans laquelle, durant ladite formation d'un mélange liquide, ladite pluralité de composés précurseurs sont mélangés dans la phase liquide avec un composé complexant qui a au moins deux groupes carboxyles comme site de coordination et a au moins un autre site de coordination, pour former ledit mélange liquide, et ladite pluralité de composés précurseurs et ledit composé complexant réagissent dans ledit mélange liquide pour former un composé complexe de métal composite dans lequel au moins un desdits éléments  2 - Method of manufacture according to claim 1 wherein, during said formation of a liquid mixture, said plurality of precursor compounds are mixed in the liquid phase with a complexing compound which has at least two carboxyl groups as a coordination site and a at least one other coordination site, for forming said liquid mixture, and said plurality of precursor compounds and said complexing compound react in said liquid mixture to form a complex composite metal compound in which at least one of said elements métalliques est coordonné.metal is coordinated. 3 - Méthode selon la revendication 2, caractérisé en ce que de l'acide éthylènediaminetétraacétique (EDTA) ou de l'acide  3 - Method according to claim 2, characterized in that ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA) or acid citrique est utilisée comme dit composé complexant.  citric is used as said complexing compound. - 173 -- 173 - 4 - Méthode selon l'une quelconque des  4 - Method according to any one of revendications 1 à 3, caractérisé en ce qu'un composé  Claims 1 to 3, characterized in that a compound organométallique ou plus sélectionnés à partir des alkylates de métal, des acétylacétonates de métal ou des carboxylates de méta, sont utilisés comme dits composés précurseurs. - Méthode de fabrication d'un dispositif de  or organometallic compounds selected from metal alkoxides, metal acetylacetonates or meta carboxylates, are used as precursor compounds. - Method of manufacturing a device thermistance selon l'une quelconque des revendications  thermistor according to any one of the claims 1 à 3, caractérisée en ce qu'un composé de métal inorganique ou plus sélectionné parmi les groupes de composés de nitrates, composés oxynitrates, chlorures et oxychlorures, sont utilisés comme dits composés précurseurs. 6 - Méthode de fabrication d'un dispositif de 15. thermistance comportant un corps fritté comportant: une étape dans laquelle une pluralité de composés précurseurs qui contiennent des éléments métalliques sont mélangés dans la phase liquide pour former un mélange liquide, une étape dans laquelle un matériau brut en poudre qui est une composition de poudres contenant une pluralité desdits éléments métalliques est formée à partir dudit mélange liquide, et une étape dans laquelle ledit matériau brut en  1 to 3, characterized in that one or more inorganic metal compounds selected from the group of nitrate compounds, oxynitrate compounds, chlorides and oxychlorides are used as precursor compounds. A method of manufacturing a thermistor device comprising a sintered body comprising: a step in which a plurality of precursor compounds that contain metal elements are mixed in the liquid phase to form a liquid mixture, a step in which a powder raw material which is a powder composition containing a plurality of said metal elements is formed from said liquid mixture, and a step in which said raw material in poudre est fritté pour former ledit corps fritté.  powder is sintered to form said sintered body. 7 - Capteur de température, caractérisé en ce qu'il contient un dispositif de thermistance qui est fabriqué par l'une des méthodes de fabrication selon les  7 - Temperature sensor, characterized in that it contains a thermistor device which is manufactured by one of the manufacturing methods according to the revendications 1-6, et en ce que la dimension de  claims 1-6, and in that the dimension of grains dudit corps fritté est plus petite que 1 pm.  grains of said sintered body is smaller than 1 μm.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1179825A2 (en) * 2000-08-10 2002-02-13 Denso Corporation Reduction resistant thermistor method of production thereof, and temperature sensor
FR2830669A1 (en) * 2001-08-27 2003-04-11 Denso Corp PROCESS FOR PRODUCING THERMISTOR AND APPARATUS FOR PRODUCING RAW MATERIALS FOR THERMISTOR
CN102171774B (en) * 2008-10-03 2013-01-02 三菱综合材料株式会社 Thermistor element manufacturing method and thermistor element

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4076894A (en) * 1974-11-07 1978-02-28 Engelhard Minerals & Chemicals Corporation Electrical circuit element comprising thick film resistor bonded to conductor
EP0623569A1 (en) * 1993-05-07 1994-11-09 NGK Spark Plug Co. Ltd. Ceramic composition thermistor element comprising same, and processes for producing same
US5534194A (en) * 1993-03-30 1996-07-09 E. I. Du Pont De Nemours And Company Thick film resistor composition containing pyrochlore and silver-containing binder

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4076894A (en) * 1974-11-07 1978-02-28 Engelhard Minerals & Chemicals Corporation Electrical circuit element comprising thick film resistor bonded to conductor
US5534194A (en) * 1993-03-30 1996-07-09 E. I. Du Pont De Nemours And Company Thick film resistor composition containing pyrochlore and silver-containing binder
EP0623569A1 (en) * 1993-05-07 1994-11-09 NGK Spark Plug Co. Ltd. Ceramic composition thermistor element comprising same, and processes for producing same

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1179825A2 (en) * 2000-08-10 2002-02-13 Denso Corporation Reduction resistant thermistor method of production thereof, and temperature sensor
EP1179825A3 (en) * 2000-08-10 2004-02-04 Denso Corporation Reduction resistant thermistor method of production thereof, and temperature sensor
US6878304B2 (en) 2000-08-10 2005-04-12 Nippon Soken Inc. Reduction resistant thermistor, method of production thereof, and temperature sensor
FR2830669A1 (en) * 2001-08-27 2003-04-11 Denso Corp PROCESS FOR PRODUCING THERMISTOR AND APPARATUS FOR PRODUCING RAW MATERIALS FOR THERMISTOR
US6824713B2 (en) 2001-08-27 2004-11-30 Denso Corporation Method of producing thermistor element and production apparatus for production apparatus for producing raw materials for thermistor element
CN102171774B (en) * 2008-10-03 2013-01-02 三菱综合材料株式会社 Thermistor element manufacturing method and thermistor element

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