FR2758136A1 - Procede de fabrication de guides d'ondes enterres sur verre de fluorures - Google Patents
Procede de fabrication de guides d'ondes enterres sur verre de fluorures Download PDFInfo
- Publication number
- FR2758136A1 FR2758136A1 FR9700099A FR9700099A FR2758136A1 FR 2758136 A1 FR2758136 A1 FR 2758136A1 FR 9700099 A FR9700099 A FR 9700099A FR 9700099 A FR9700099 A FR 9700099A FR 2758136 A1 FR2758136 A1 FR 2758136A1
- Authority
- FR
- France
- Prior art keywords
- glass
- exchange reaction
- hydrochloric acid
- temperature
- fluoride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 title description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 51
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 29
- 239000005383 fluoride glass Substances 0.000 claims abstract description 24
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 35
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 16
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 10
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 10
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 8
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 claims description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 claims description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 3
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims description 3
- 229910007998 ZrF4 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000005349 anion exchange Methods 0.000 claims description 2
- 229910001632 barium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- OMQSJNWFFJOIMO-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrafluoride Chemical compound F[Zr](F)(F)F OMQSJNWFFJOIMO-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000005371 ZBLAN Substances 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPKPKFIWDXDAGC-IHWYPQMZSA-N (z)-1,2-dichloroprop-1-ene Chemical compound C\C(Cl)=C\Cl PPKPKFIWDXDAGC-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229910000980 Aluminium gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 241001313099 Pieris napi Species 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hcl hcl Chemical compound Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
- C03C21/007—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in gaseous phase
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
- G02B6/134—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by substitution by dopant atoms
- G02B6/1345—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by substitution by dopant atoms using ion exchange
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/102—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type for infrared and ultraviolet radiation
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
L'invention concerne un procédé de fabrication de guides d'ondes enterrés par échange anionique sur verres de fluorures. Ce procédé consiste en ce qu'une réaction d'échange d'ions F- du verre par des ions C1- est obtenue par exposition de plaquettes de verre de fluorures à une atmosphère contenant de l'acide chlorhydrique gazeux, dans un four porté à une température inférieure à la température de transition vitreuse du verre de fluorures.par.
Description
La présente invention concerne un nouveau procédé de fabrication de guides d'ondes enterrés sur verres de fluorures.
Un procédé de fabrication de guides d'ondes enterrés sur des verres de fluorure du type ZBLAN (ZrF4-
BaF2-LaF3-AlF3-NaF) est décrit dans la demande de brevet
EP-A-0 350 726.
BaF2-LaF3-AlF3-NaF) est décrit dans la demande de brevet
EP-A-0 350 726.
Ce procédé consiste à exposer des plaquettes de verre de fluorures à un gaz halogène autre que le difluor, ou à un composé pouvant générer un tel halogène, par exemple CCl4 ou SOCl2, de manière à obtenir un échange d'ions entre les fluorures et les chlorures. La réaction chimique mise en jeu est une oxydation des ions F- du verre en difluor gazeux associée à une réduction du dichlore gazeux en ions Cl-.
Selon un mode de réalisation décrit, des plaquettes de verre ZBLAN, dont l'indice de réfraction est environ égal à 1,50, sont traitées par une atmosphère de dichlore gazeux sous pression à une température légèrement inférieure à la température de transition vitreuse du verre.
La durée moyenne de traitement est de plusieurs dizaines d'heures. Les guides d'ondes obtenus ont des indices de réfraction de l'ordre de 1,51, une profondeur d'environ 0,2 pm et sont monomodes à 633 nm (longueur d'onde émise par un laser He-Ne).
Le procédé selon l'invention permet d'obtenir de manière inattendue des guides d'ondes sur verres de fluorures en traitant la surface de plaquettes de verre de fluorures avec de l'acide chlorhydrique gazeux, alors que toutes les données thermodynamiques de la littérature en ce qui concerne l'état cristallin montrent que la liaison
Métal-Fluor est plus stable que la liaison Métal-Chlore.
Métal-Fluor est plus stable que la liaison Métal-Chlore.
Le procédé selon l'invention permet avantageusement d'obtenir des guides d'ondes sur verres de fluorures dont on peut faire varier la profondeur en contrôlant la température, la durée de traitement, le débit et la pression d'acide chlorhydrique gazeux, ce qui permet de maîtriser le nombre de modes guidés et, par conséquent, de réaliser des structures monomodes ou multimodes selon les longueurs d'ondes d'utilisation et la largeur des guides.
La présente invention concerne un procédé de fabrication de guides d'ondes enterrés par échange anionique sur verres de fluorures, caractérisé en ce qu'une réaction d'échange d'ions F- du verre par des ions
Cl- est obtenue par exposition de plaquettes de verre de fluorures à une atmosphère contenant de l'acide chlorhydrique gazeux, dans un four porté à une température inférieure à la température de transition vitreuse du verre de fluorures.
Cl- est obtenue par exposition de plaquettes de verre de fluorures à une atmosphère contenant de l'acide chlorhydrique gazeux, dans un four porté à une température inférieure à la température de transition vitreuse du verre de fluorures.
Il se produit à la surface des plaquettes une réaction de substitution des ions F- du verre par des ions Cl- provenant de l'acide chlorhydrique gazeux. A cette réaction chimique de surface, il faut associer la diffusion des ions Cl- dans l'épaisseur de la plaquette.
Les verres de fluorures préférés selon l'invention sont les compositions à base de ZrF4, en particulier les verres ZBLA, d'une part et celles à base de BaF2, en particulier les verres BIG dont les compositions sont proches de 3OBaF2-îSInF3-î2GaF3-2OZnF2-îOLuF3-i0GdF3, d'autre part. En effet, les compositions ZBLA et BIG prés entent une bonne stabilité chimique et thermique et permettent d'obtenir des guides de très bonne qualité optique.
Des plaquettes de verre de fluorures sont synthétisées en boîte sèche afin d'éviter toutes traces d'impuretés, puis polies et nettoyées à l'alcool.
La figure unique représente le schéma de l'appareillage utilisé pour la mise en oeuvre du procédé selon 1 'invention.
Les plaquettes de verre 1 sont placées dans un four 2. L'ensemble du montage est balayé à température ambiante par un courant de gaz neutre 3 déshydraté par P205 référencé 4 pour assurer une atmosphère de traitement anhydre. Le débit de gaz neutre est réglé par un débitmètre 5. L'arrivée d'acide chlorhydrique gazeux (HCl) 6 est contrôlée par un détendeur 7 et un robinet 8. A la sortie du four, l'acide gazeux n'ayant pas réagi au cours de la réaction d'échange est neutralisé par une solution de soude 9.
La montée en température du four est effectuée sous courant de gaz neutre.
L'ion chlorure possédant une masse atomique et un rayon ionique plus élevés que ceux de l'ion fluorure, il est nécessaire de contrôler parfaitement les paramètres de la réaction d'échange, afin de conserver la qualité optique des plaquettes de verre. Ces paramètres sont la température, la durée, la pression et le débit de l'acide chlorhydrique gazeux.
La température de la réaction d'échange doit être aussi
élevée que possible pour permettre une vitesse de
diffusion des ions Cl- aussi élevée que possible mais
elle doit également être inférieure à la température de
détérioration des plaquettes de verres soumises à une
atmosphère contenant de l'acide chlorhydrique.
élevée que possible pour permettre une vitesse de
diffusion des ions Cl- aussi élevée que possible mais
elle doit également être inférieure à la température de
détérioration des plaquettes de verres soumises à une
atmosphère contenant de l'acide chlorhydrique.
En ce qui concerne les plaquettes de verre ZBLA, la
plage des températures, auxquelles le traitement est
envisageable, se situe entre 70 et 200C au-dessous de la
température de transition vitreuse du verre.
plage des températures, auxquelles le traitement est
envisageable, se situe entre 70 et 200C au-dessous de la
température de transition vitreuse du verre.
La durée de la réaction d'échange est de l'ordre d'1 à
20 heures.
20 heures.
. L'utilisation d'acide chlorhydrique pur sous pression
atmosphérique conduit à la dévitrification de la surface
de verre. L'atmosphère de la réaction d'échange est donc
constituée par un mélange d'acide chlorhydrique et de
gaz neutre.
atmosphérique conduit à la dévitrification de la surface
de verre. L'atmosphère de la réaction d'échange est donc
constituée par un mélange d'acide chlorhydrique et de
gaz neutre.
La pression partielle d'acide chlorhydrique est
suffisamment basse de telle sorte qu'aucune
détérioration de l'état de surface de la plaquette ne
soit observée à la fin de la réaction d'échange et
suffisamment élevée pour assurer la stabilité du débit
molaire en acide chlorhydrique.
suffisamment basse de telle sorte qu'aucune
détérioration de l'état de surface de la plaquette ne
soit observée à la fin de la réaction d'échange et
suffisamment élevée pour assurer la stabilité du débit
molaire en acide chlorhydrique.
On choisira par exemple un mélange gazeux constitué d'un
tiers d'acide chlorhydrique et de deux tiers d'argon, ce
qui correspond à une pression partielle d'acide
chlorhydrique environ égale à 0,33 atm.
tiers d'acide chlorhydrique et de deux tiers d'argon, ce
qui correspond à une pression partielle d'acide
chlorhydrique environ égale à 0,33 atm.
En outre, l'atmosphère de la réaction d'échange est
anhydre pour éviter toute hydrolyse de la surface du
verre.
anhydre pour éviter toute hydrolyse de la surface du
verre.
Le débit du mélange gazeux est d'environ 30 ml/min, ce
qui correspond à un débit d'HCl gazeux de 10 ml/min.
qui correspond à un débit d'HCl gazeux de 10 ml/min.
Lorsque la réaction d'échange est terminée, la température du four est abaissée sous courant de gaz neutre.
On choisira comme gaz neutre, l'argon.
L'invention concerne également un procédé de fabrication de guides d'ondes sur verres de fluorures stables à long terme en vue d'application dans des amplificateurs optiques ou des mîcrolasers. Selon l'invention, les guides d'ondes sont protégés de l'humidité de l'air et des pertes par propagation dues à des défauts de surface comme des rayures de polissage ou des poussières, en réalisant une réaction d'échange entre les ions Cl- du verre et des ions F-.
Ledit procédé consiste à exposer les plaquettes de verre échangées obtenues selon le procédé décrit précédemment à une atmosphère anhydre d'acide fluorhydrique mélangé à un gaz neutre, par exemple le diazote. Les guides d'ondes sont obtenus en plaçant les plaquettes de verre échangées dans un four analogue à celui présenté par la figure où la température est voisine de 250"C, la pression partielle d'acide fluorhydrique d'environ 0,1 atm et le débit d'acide fluorhydrique d'environ 50 ml/min. La durée de cette réaction d'échange inverse est de l'ordre de 1 à 2 heures. Les conditions opératoires ne sont citées que pour exemple et peuvent fluctuer autour de ces valeurs.
On obtient de l'acide fluorhydrique anhydre de grande pureté en faisant barboter un gaz neutre, par exemple du diazote, dans du KF,2HF en fusion à 900C.
La présente invention concerne également un procédé de réalisation de guides d'ondes de largeur limitée dits guides confinés, en adaptant aux guides sur verres de fluorures obtenus selon le procédé de l'invention, une des techniques de masquage couramment employées en microélectronique.
Le masquage des guides d'ondes est réalisé en déposant une couche de silice sur la surface des plaquettes de verres de fluorures avant la réaction d'échange. La couche de silice est déposée par exemple par pulvérisation cathodique.
En utilisant le procédé de photolithographie suivi de la gravure de la silice par RIE (Reactive Ion Etching), on obtient un masque de silice comprenant des pistes de largeurs variables allant de 2 à 40 pm sur toute la longueur de la plaquette. Une fois la réaction d'échange effectuée, le masque est ôté.
Les exemples suivants illustrent l'invention sans en limiter la portée.
Exemple 1 - Fabrication de guides d'ondes sur verre ZBLA
Préparation des plaquettes de verres de fluorures
Des plaquettes de verres ZBLA de 10 à 30 mm de
long et environ 2 mm d'épaisseur sont synthétisées en
boîte sèche afin d'éviter toutes traces d'impuretés,
telles que des ions OH-, nuisibles au rendement
quantique des terres rares.
Préparation des plaquettes de verres de fluorures
Des plaquettes de verres ZBLA de 10 à 30 mm de
long et environ 2 mm d'épaisseur sont synthétisées en
boîte sèche afin d'éviter toutes traces d'impuretés,
telles que des ions OH-, nuisibles au rendement
quantique des terres rares.
Une fois polies, les plaquettes sont nettoyées à
l'alcool dans une cuve à ultrasons, rincées à l'eau distillée, séchées à l'air comprimé puis pesées. Leur spectre de transmission IR (Infrarouge) est enregistré.
l'alcool dans une cuve à ultrasons, rincées à l'eau distillée, séchées à l'air comprimé puis pesées. Leur spectre de transmission IR (Infrarouge) est enregistré.
La température de transition vitreuse des plaquettes de verre ZBLA est de 3100C.
Traitement par HCl gazeux
Les plaquettes sont placées dans le four et, afin d'éliminer toutes traces d'humidité, l'ensemble du montage estbalayé pendant plusieurs heures à température ambiante par un courant d'argon, lui-même déshydraté par
P205. La montée en température du four est effectuée sous courant d'argon.
Les plaquettes sont placées dans le four et, afin d'éliminer toutes traces d'humidité, l'ensemble du montage estbalayé pendant plusieurs heures à température ambiante par un courant d'argon, lui-même déshydraté par
P205. La montée en température du four est effectuée sous courant d'argon.
Lorsque la température de traitement est atteinte, le four est balayé par un mélange gazeux contenant 2/3 d'argon et 1/3 d'acide chlorhydrique, pendant la durée souhaitée. La pression partielle d'acide chlorhydrique gazeux est environ égale à un tiers de la pression atmosphérique et le débit d'acide chlorhydrique est fixé à 10 ml/min. Une légère variation du débit n'a pas d'incidence sur les caractéristiques de la surface du verre traitée.
Après traitement, la température est abaissée sous courant d'argon. Le spectre de transmission IR de la plaquette de verre échangée est à nouveau enregistré pour vérifier que le montage était bien exempt de toutes traces d'humidité pendant la réaction d'échange.
On réalise plusieurs types de traitement en faisant varier la température entre 240 et 2600C et la durée de la réaction d'échange entre 3 et 16 heures.
Les plaquettes de verres de fluorures échangées sont analysées au microscope électronique à balayage (MEB) et par spectroscopie SIMS (Secondary Ions Mass
Spectroscopy) afin de déterminer la concentration des ions Cl- en surface.
Spectroscopy) afin de déterminer la concentration des ions Cl- en surface.
Les résultats d'analyse SIMS montrent que pour deux plaquettes traitées à la même température mais pendant deux durées différentes, la concentration en ions Cl- est constante sur une profondeur proportionnelle à la durée de la réaction d'échange.
Le profil de concentration en ions Cl- obtenu par analyse SIMS sur une plaquette de verre ZBLA traitée par HC1 gazeux pendant 10,5 heures à 2500C montre que la concentration en ions Cl- est constante sur 1,5 pm et que la profondeur de diffusion des ions Cl- atteint 10 pm.
Le nombre de modes guidés est déterminé par chaque plaquette traitée par la méthode dite des m-lines décrite par J.M. White, P.F. Heidrich, Appl. Opt., 15, 151 (1976). Le principe de cette méthode consiste à coupler un prisme avec la plaquette guide d'onde et à observer le couplage de l'onde véhiculée dans le prisme avec les modes du guide. Pour ce faire, un faisceau laser He-Ne émettant à 633 nm, après passage successif dans un objectif de microscope et dans deux lentilles convergentes, assurant ainsi une suite continue de rayons d'incidences différentes, est injecté dans un prisme d'indice élevé. Lors de la réflexion totale du faisceau incident sur la base du prisme, la fraction évanescente de l'énergie lumineuse peut se coupler avec tous les modes existant dans le guide.
Le faisceau réfléchi par le prisme comporte alors m raies noires correspondant chacune à un mode guidé.
Le tableau ci-dessous regroupe l'ensemble des résultats obtenus par la méthode des m-lines sur des plaquettes de verres ZBLA traitées à des températures comprises entre 240 et 2600C pendant 3 à 16 heures.
<tb> Température <SEP> (OC) <SEP> Temps <SEP> (heures) <SEP> Nombre <SEP> de <SEP> modes
<tb> <SEP> 240 <SEP> 4 <SEP> 2
<tb> <SEP> 240 <SEP> 8 <SEP> 3
<tb> <SEP> 250 <SEP> 4 <SEP> 2
<tb> <SEP> 250 <SEP> 5 <SEP> 3
<tb> <SEP> 250 <SEP> 8 <SEP> 4
<tb> <SEP> 250 <SEP> 10,5 <SEP> 5
<tb> <SEP> 250 <SEP> 16 <SEP> 8
<tb> <SEP> 260 <SEP> 3 <SEP> 3
<tb> <SEP> 260 <SEP> ~ <SEP> <SEP> 8 <SEP> 6
<tb>
<tb> <SEP> 240 <SEP> 4 <SEP> 2
<tb> <SEP> 240 <SEP> 8 <SEP> 3
<tb> <SEP> 250 <SEP> 4 <SEP> 2
<tb> <SEP> 250 <SEP> 5 <SEP> 3
<tb> <SEP> 250 <SEP> 8 <SEP> 4
<tb> <SEP> 250 <SEP> 10,5 <SEP> 5
<tb> <SEP> 250 <SEP> 16 <SEP> 8
<tb> <SEP> 260 <SEP> 3 <SEP> 3
<tb> <SEP> 260 <SEP> ~ <SEP> <SEP> 8 <SEP> 6
<tb>
En contrôlant la durée et la température de la
réaction d'échange, il est donc possible de maîtriser le
nombre de modes guidés selon l'application visée.
réaction d'échange, il est donc possible de maîtriser le
nombre de modes guidés selon l'application visée.
Une plaquette de verre ZBLA traitée à 2500C pendant 6 heures selon l'exemple 1 est placée dans un four identique à celui de l'exemple 1. La plaquette est balayée pendant 2 heures à 2400C par un mélange gazeux constitué d'acide fluorhydrique gazeux et de diazote.
L'analyse SIMS effectuée montre que la quantité d'ions Cl- en surface a diminué.
Exemple 2 - Guide d'onde confiné sur verre ZBLA
On dépose sur la plaquette de verre non échanqée préparée comme dans l'exemple 1 une couche de silice par pulvérisation cathodique. Puis on dessine des pistes de largeur variable comprise entre 2 et 40 pm sur toute la longueur de la plaquette en utilisant un procédé de lithographie suivi de la gravure de la silice par RIE (Reactive Ion Etching).
On dépose sur la plaquette de verre non échanqée préparée comme dans l'exemple 1 une couche de silice par pulvérisation cathodique. Puis on dessine des pistes de largeur variable comprise entre 2 et 40 pm sur toute la longueur de la plaquette en utilisant un procédé de lithographie suivi de la gravure de la silice par RIE (Reactive Ion Etching).
La plaquette ainsi masquée est ensuite traitée comme dans l'exemple 1 par de l'acide chlorhydrique gazeux à 2500C pendant 5 h. Une fois la réaction d'échange effectuée, le masque de silice est ôté puis les arêtes de la plaquette sont polies à l'aide d'un solvant exempt d'eau, par exemple à base de kérosène.
La méthode d'analyse du champ proche consiste à injecter une onde lumineuse monochromatique à une extrémité du guide et à visualiser le profil du signal de sortie transmis à l'autre extrémité du guide.
Le guide confiné de largeur 3 Hm est monomode à 830 nm (laser Titane/Saphir) et à 1015 nm (diode laser InGaAs/AlGaAs).
Claims (13)
1. Procédé de fabrication de guides d'ondes enterrés par échange anionique sur verres de fluorures, caractérisé en ce qu'une réaction d'échange d'ions F- du verre par des ions Cl- est obtenue par exposition de plaquettes de verre de fluorures à une atmosphère contenant de l'acide chlorhydrique gazeux, dans un four porté à une température inférieure à la température de transition vitreuse du verre de fluorures.
2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que les verres de fluorures sont des compositions à base de ZrF4, en particulier les verres ZBLA.
3. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que les verres de fluorures sont des compositions à base de BaF2, en particulier les verres BIG.
4. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la température de la réaction d'échange est inférieure à la température de détérioration des plaquettes de verres soumises à une atmosphère contenant de l'acide chlorhydrique.
5. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la température de la réaction d'échange est inférieure de 70 à 200C à la température de transition vitreuse du verre de fluorures.
6. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la durée de la réaction d'échange est de l'ordre de 1 à 20 heures.
7. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que l'atmosphère de la réaction d'échange est constituée par un mélange d'acide chlorhydrique et de gaz neutre.
8. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que la pression partielle d'acide chlorhydrique est suffisamment basse de telle sorte qu'aucune détérioration de l'état de surface de la plaquette ne soit observée à la fin de la réaction d'échange et suffisamment élevée pour assurer la stabilité du débit molaire en acide chlorhydrique.
9. Procédé selon la revendication 8, caractérisé en ce que l'atmosphère de la réaction d'échange est constituée d'un tiers d'acide chlorhydrique et de deux tiers d'argon.
10. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que le débit d'acide chlorhydrique est d'environ 10 ml/min.
11. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que, à l'issue de la réaction d'échange, les plaquettes de verre échangées sont exposées à une atmosphère anhydre d'acide fluorhydrique mélangé à un gaz neutre, en particulier le diazote.
12. Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce que les plaquettes de verre échangées sont exposées à une pression partielle d'acide fluorhydrique égale à environ 0,1 atm, un débit d'acide fluorhydrique égale à 50 ml/min, une température voisine de 2500C, pendant 1 à 2 heures.
13. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que préalablement à la réaction d'échange les plaquettes de verre subissent un masquage à la silice.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9700099A FR2758136B1 (fr) | 1997-01-08 | 1997-01-08 | Procede de fabrication de guides d'ondes enterres sur verre de fluorures |
PCT/FR1998/000016 WO1998030508A1 (fr) | 1997-01-08 | 1998-01-07 | Procede de fabrication de guides d'ondes enterres sur verres de fluorures |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9700099A FR2758136B1 (fr) | 1997-01-08 | 1997-01-08 | Procede de fabrication de guides d'ondes enterres sur verre de fluorures |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FR2758136A1 true FR2758136A1 (fr) | 1998-07-10 |
FR2758136B1 FR2758136B1 (fr) | 1999-04-02 |
Family
ID=9502427
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FR9700099A Expired - Fee Related FR2758136B1 (fr) | 1997-01-08 | 1997-01-08 | Procede de fabrication de guides d'ondes enterres sur verre de fluorures |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
FR (1) | FR2758136B1 (fr) |
WO (1) | WO1998030508A1 (fr) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0350726A1 (fr) * | 1988-07-04 | 1990-01-17 | SOCIETA CAVI PIRELLI S.p.A. | Méthode de fabrication de guides d'ondes optiques intégrés de verre fluoré |
-
1997
- 1997-01-08 FR FR9700099A patent/FR2758136B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-01-07 WO PCT/FR1998/000016 patent/WO1998030508A1/fr active Application Filing
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0350726A1 (fr) * | 1988-07-04 | 1990-01-17 | SOCIETA CAVI PIRELLI S.p.A. | Méthode de fabrication de guides d'ondes optiques intégrés de verre fluoré |
Non-Patent Citations (5)
Title |
---|
DATABASE INSPEC INSTITUTE OF ELECTRICAL ENGINEERS, STEVENAGE, GB; JOSSE E ET AL: "Neodymium doped fluoride waveguides development using anionic exchange", XP002043215 * |
DOPED FIBER DEVICES, DENVER, CO, USA, 8-9 AUG. 1996, vol. 2841, ISSN 0277-786X, PROCEEDINGS OF THE SPIE - THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, 1996, SPIE-INT. SOC. OPT. ENG, USA, pages 162 - 170 * |
E. JOSSE ET AL.: "LOW PHONON WAVEGUIDES MADE BY F-/CL- EXCHANGE ON FLUORIDE GLASSES", MATERIALS RESEARCH BULLETIN., vol. 32, no. 9, September 1997 (1997-09-01), OXFORD GB, pages 1139 - 1146, XP002043213 * |
M. BRAGLIA ET AL.: "INTEGRATED OPTICAL WAVEGUIDES FABRICATED ON FLUOROZIRCONATE GLASS FOR MEDIUM INFRARED APPLICATIONS", FOURTEENTH EUROPEAN CONFERENCE ON OPTICAL COMMUNICATION (ECOC 88), vol. 1, 11 September 1988 (1988-09-11) - 15 September 1988 (1988-09-15), BRIGHTON, pages 41 - 44, XP002043214 * |
PARKER J M ET AL: "CHLORIDE-DOPED ZBLAN GLASSES", CHEMICAL ABSTRACTS + INDEXES, vol. 108, no. 2, pages 264, XP000015305 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2758136B1 (fr) | 1999-04-02 |
WO1998030508A1 (fr) | 1998-07-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Aggarwal et al. | Development and applications of chalcogenide glass optical fibers at NRL | |
Sanghera et al. | Non-linear properties of chalcogenide glasses and fibers | |
FR2579044A1 (fr) | Dispositif de multiplexage de plusieurs signaux lumineux en optique integree | |
CN111129920A (zh) | 基于掺铒铌酸锂薄膜的分布布拉格反射激光器的制备方法 | |
Mairaj et al. | Fabrication and characterization of continuous wave direct UV (λ= 244~ nm) written channel waveguides in chalcogenide (Ga: La: S) glass | |
Schaafsma et al. | Fused taper infrared optical fiber couplers in chalcogenide glass | |
FR2758136A1 (fr) | Procede de fabrication de guides d'ondes enterres sur verre de fluorures | |
Bhutta et al. | Low phonon energy, Nd: LaF/sub 3/channel waveguide lasers fabricated by molecular beam epitaxy | |
Yeatman et al. | Strip-loaded high-confinement waveguides for photonic applications | |
CN1417621A (zh) | 用质子交换制造铌酸锂光波导的方法及其装置 | |
Kapser et al. | Rapid deposition of high-quality silicon-oxinitride waveguides | |
US20110311180A1 (en) | Glassy Surface Smoothing Layer for Integrated Waveguide | |
De Yu | Waveguide optical planar lenses in LiNbO3—theory and experiments | |
Pernas et al. | Zn-vapor diffused Er: Yb: LiNbO3 channel waveguides fabricated by means of SiO2 electron cyclotron resonance plasma deposition | |
Josse et al. | Planar and channel waveguides on fluoride glasses | |
JPH0688978A (ja) | 光ファイバー素子 | |
De Melo et al. | Novel fabrication process of planar waveguides in rare‐earth doped fluoroindate glasses | |
Fuchs et al. | Making waveguides containing nanocrystalline quantum dots | |
Moreira et al. | Hybrid silica sol-gel symmetric buried channel waveguide on silicon | |
Yeatman | An integrated optical technology based on sol-gel glasses on silicon: the NODES project | |
Gonschior et al. | Characterization of UV single-mode and low-mode fibers | |
Nazabal et al. | Erbium-doped germanium-based sulphide optical waveguide amplifier for near-and mid-IR | |
Sota et al. | Frequency comb generation in a silicon nitride microring resonator fabricated by using hot-wire CVD method | |
Butvina et al. | Crystalline silver halide fibers with optical losses lower than 50 dB/km in broad IR region | |
Gow et al. | Microwave consolidation of photosensitive planar glass layers |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
ST | Notification of lapse |
Effective date: 20070930 |