FR2753457A1 - Passivation of surface defects on diamond - Google Patents
Passivation of surface defects on diamond Download PDFInfo
- Publication number
- FR2753457A1 FR2753457A1 FR9611181A FR9611181A FR2753457A1 FR 2753457 A1 FR2753457 A1 FR 2753457A1 FR 9611181 A FR9611181 A FR 9611181A FR 9611181 A FR9611181 A FR 9611181A FR 2753457 A1 FR2753457 A1 FR 2753457A1
- Authority
- FR
- France
- Prior art keywords
- diamond
- carbide
- teeth
- attack
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
- C23C16/27—Diamond only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/459—Temporary coatings or impregnations
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/53—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone involving the removal of at least part of the materials of the treated article, e.g. etching, drying of hardened concrete
- C04B41/5338—Etching
- C04B41/5353—Wet etching, e.g. with etchants dissolved in organic solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/91—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics involving the removal of part of the materials of the treated articles, e.g. etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/18—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
- C23C14/185—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates by cathodic sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/02—Elements
- C30B29/04—Diamond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B33/00—After-treatment of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02T—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO TRANSPORTATION
- Y02T50/00—Aeronautics or air transport
- Y02T50/60—Efficient propulsion technologies, e.g. for aircraft
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
Description
PROCEDE DE TRAITEMENT D'UNE SURFACE DE DIAMANTPROCESS FOR TREATING A DIAMOND SURFACE
Cette invention concerne le traitement du diamant. This invention relates to diamond processing.
Le diamant est un matériau extrêmement dur et résistant à l'usure qui peut être utilisé dans une vaste gamme d'applications. L'une de ces applications est relative à une fenêtre extérieure pour des missi- Diamond is an extremely hard and wear resistant material which can be used in a wide range of applications. One of these applications relates to an exterior window for missiles.
les et des dispositifs similaires. Dans de telles applications, il est impor- them and similar devices. In such applications, it is important
tant que la fenêtre transmette effectivement et avec un bon rendement l'infrarouge et des rayonnements similaires. On a trouvé que des joints de grains, des macles et des dommages de polissage se comportent comme des régions dans lesquelles le diamant peut se dégrader lorsqu'il as long as the window effectively transmits infrared and similar radiation with good efficiency. It has been found that grain boundaries, twins and polishing damage behave like regions in which the diamond can degrade when it
est exposé à l'air à température élevée. De tels dommages réduisent l'ef- is exposed to air at high temperature. Such damage reduces the ef-
ficacité et le rendement du diamant en ce qui concerne la transmission de l'infrarouge et d'autres rayonnements électromagnétiques. Les défauts diamond efficiency and performance with respect to the transmission of infrared and other electromagnetic radiation. Faults
qui sont attaqués diffusent et absorbent le rayonnement. which are attacked diffuse and absorb the radiation.
Conformément à la présente invention, un procédé de traite- In accordance with the present invention, a method of treating
ment d'une surface de diamant comprend les étapes qui consistent à dé- ment of a diamond surface includes the steps of de-
poser sur la surface une couche d'un métal formant un carbure, et à en- lay on the surface a layer of a metal forming a carbide, and
lever ensuite la couche. On a trouvé qu'un tel traitement de la surface du diamant a pour effet de passiver des défauts de surface soumis à des contraintes dans le diamant, tels que des joints de grains, des macles et then lift the layer. It has been found that such a treatment of the surface of the diamond has the effect of passivating surface defects subjected to stresses in the diamond, such as grain boundaries, twins and
des dommages de polissage.polishing damage.
Le diamant peut être du diamant naturel ou synthétique, mais il The diamond can be natural or synthetic diamond, but it
sera généralement du diamant produit par dépôt chimique en phase va- will generally be diamond produced by chemical phase deposition
peur (ou CVD). Le diamant de type CVD est du diamant fabriqué par l'un quelconques de nombreux procédés de dépôt chimique en phase vapeur fear (or CVD). CVD type diamond is diamond made by any of many chemical vapor deposition processes
qui sont connus dans la technique. Ces procédés comprennent généra- which are known in the art. These processes generally include
lement les opérations qui consistent à former un mélange d'hydrogène ou d'oxygène et d'un composé de carbone gazeux approprié, tel qu'un hydrocarbure, à appliquer une énergie suffisante à ce gaz pour dissocier l'hydrogène ou l'oxygène en hydrogène ou en oxygène atomique, et le gaz en espèces actives consistant en ions ou en atomes de carbone, ou en radicaux de type CH, et à laisser ces espèces se déposer sur un substrat pour former du diamant. La dissociation des gaz peut être réali- The operations which consist of forming a mixture of hydrogen or oxygen and of a suitable carbon gas compound, such as a hydrocarbon, in applying sufficient energy to this gas to dissociate the hydrogen or oxygen into hydrogen or atomic oxygen, and the gas as active species consisting of ions or carbon atoms, or CH-type radicals, and allowing these species to settle on a substrate to form diamond. Gas dissociation can be achieved.
sée en utilisant un filament chaud, de l'énergie micro-onde ou radiofré- using a hot filament, microwave or radio frequency energy
quence, ou des décharges en courant continu. quence, or direct current discharges.
Dans une forme de l'invention, la surface du diamant qui est In one form of the invention, the surface of the diamond which is
traité est une surface qui a été polie. On a trouvé que le polissage a ten- treated is a surface that has been polished. We have found that polishing has tended to
dance à introduire des défauts de surface dans le diamant. Ceux-ci peu- dance to introduce surface defects in the diamond. These can-
vent être passives par le procédé de l'invention. can be passive by the method of the invention.
Le métal formant un carbure peut être sous la forme d'un métal lui-même ou faire partie d'un alliage. Des exemples de métaux appropriés formant un carbure comprennent le titane, le molybdène, le tungstène, le tantale, le niobium, le hafnium, le scandium, le vanadium, le chrome, le The metal forming a carbide may be in the form of a metal itself or be part of an alloy. Examples of suitable carbide-forming metals include titanium, molybdenum, tungsten, tantalum, niobium, hafnium, scandium, vanadium, chromium,
zirconium, le lanthane, le rhénium et le silicium. zirconium, lanthanum, rhenium and silicon.
Le métal formant un carbure peut être déposé sur la surface du diamant par n'importe quel procédé connu dans la technique, tel que la pulvérisation cathodique sous vide, le dépôt sous vide, le dépôt chimique en phase vapeur ou autres. Les conditions qui sont utilisées dans de tels procédés de dépôt conduisent inévitablement le métal formant un carbure à former un certain carbure avec la surface du diamant sur laquelle il est déposé. La formation de carbure peut être favorisé par un traitement thermique de la couche de métal déposée, de façon caractéristique à une température dans la plage de 200 C à 1300 C, dans une atmosphère qui empêche la dégradation du diamant. De telles atmosphères sont par The carbide-forming metal can be deposited on the surface of the diamond by any method known in the art, such as vacuum sputtering, vacuum deposition, chemical vapor deposition or the like. The conditions which are used in such deposition methods inevitably cause the carbide-forming metal to form a certain carbide with the surface of the diamond on which it is deposited. Carbide formation can be promoted by heat treatment of the deposited metal layer, typically at a temperature in the range of 200 C to 1300 C, in an atmosphere which prevents degradation of the diamond. Such atmospheres are by
exemple le vide ou une atmosphère inerte ou non oxydante. example vacuum or an inert or non-oxidizing atmosphere.
On pense qu'une couche de carbure passive est créée sur les défauts de surface soumis à des contraintes dans le diamant, ce qui a pour effets de passiver ces défauts et de diminuer notablement leur réactivité vis-à-vis de l'oxygène à température élevée, c'est-à-dire des It is believed that a passive carbide layer is created on the surface defects subjected to stresses in the diamond, which has the effect of passivating these defects and significantly reducing their reactivity towards oxygen at temperature. high, i.e.
températures s'élevant jusqu'à 900 C. temperatures up to 900 C.
En outre, le carbure qui est présent sur les défauts de surface est capable d'absorber des fréquences radar. Ceci est important pour de nombreux dômes et fenêtres infrarouges (IR) qui doivent procurer un certain degré de blindage électromagnétique pour empêcher que le radar In addition, the carbide which is present on the surface defects is capable of absorbing radar frequencies. This is important for many domes and infrared (IR) windows which must provide some degree of electromagnetic shielding to prevent radar
ne "brouille" les circuits électroniques d'un autodirecteur. C'est particuliè- does not "interfere" with the electronic circuits of a seeker. This is particularly
rement le cas lorsque le métal formant un carbure est un métal qui forme this is particularly the case when the metal forming a carbide is a metal which forms
des carbures conducteurs de l'électricité, comme le carbure de titane. electrically conductive carbides, such as titanium carbide.
Ceci conduit à des joints de grains circulaires qui sont conducteurs et absorbent des fréquences radar, ce qui fait que du diamant ayant une surface ainsi traitée est utile à titre d'écran anti-radar. Le carbure qui reste sur les défauts de surface, après l'enlèvement de la couche, peut This leads to circular grain boundaries which are conductive and absorb radar frequencies, so that diamond having a surface thus treated is useful as an anti-radar screen. The carbide which remains on the surface defects, after the removal of the layer, can
être choisi de façon à exclure des longueurs d'onde de rayonnement sé- be chosen so as to exclude wavelengths of se-
lectionnées, et à se comporter ainsi comme un filtre. and behave like a filter.
Il est également possible de convertir en une autre forme, par exemple un oxyde ou un nitrure, le carbure qui reste sur les défauts de surface, après l'enlèvement de la couche, pour augmenter la transmission It is also possible to convert the carbide which remains on the surface defects, after the removal of the layer, to another form, for example an oxide or a nitride, to increase the transmission.
d'un rayonnement tel que le rayonnement IR. radiation such as IR radiation.
L'enlèvement de la couche de métal formant un carbure qui est déposée sera réalisé de façon caractéristique par dissolution dans un The removal of the metal layer forming a carbide which is deposited will typically be accomplished by dissolving in a
acide. On utilisera en général un acide inorganique fort, tel qu'un mé- acid. In general, a strong inorganic acid, such as a me-
lange d'acides fluorhydrique et nitrique, bien qu'il soit également possible mixture of hydrofluoric and nitric acids, although it is also possible
d'utiliser des moyens mécaniques tels que le ponçage. to use mechanical means such as sanding.
Le traitement de la surface du diamant conformément au procé- The surface treatment of the diamond in accordance with the procedure
dé de l'invention a pour effet de renforcer la résistance à l'oxydation de la surface du diamant à haute température. Ceci améliore l'efficacité et le rendement du diamant pour la transmission du rayonnement IR et des rayonnements similaires. Le procédé de l'invention est donc spécialement applicable au traitement de l'une au moins des surfaces d'une fenêtre ou d'un dôme en diamant, en particulier une fenêtre ou un dôme en diamant The effect of the invention has the effect of strengthening the resistance to oxidation of the surface of the diamond at high temperature. This improves the efficiency and yield of the diamond for the transmission of IR radiation and similar radiation. The method of the invention is therefore especially applicable to the treatment of at least one of the surfaces of a window or a diamond dome, in particular a window or a diamond dome
de type CVD.CVD type.
On va maintenant illustrer l'invention par les exemples suivants. The invention will now be illustrated by the following examples.
EXEMPLE 1EXAMPLE 1
On a nettoyé et placé dans une chambre de pulvérisation ca- It was cleaned and placed in a spray chamber.
thodique une pellicule de diamant de type CVD ayant subi un double po- a CVD type diamond film having undergone a double po-
lissage. La moitié de la face à nu était recouverte par un masque à trous. smoothing. Half of the bare face was covered by a mask with holes.
On a fait le vide dans le système jusqu'à 2,66 Pa (avant d'augmenter la There was a vacuum in the system up to 2.66 Pa (before increasing the
pression avec de l'argon pur), et on a effectué une pré-pulvérisation ca- pressure with pure argon), and a pre-spraying was carried out
thodique de la cible dans de l'argon pur pendant cinq minutes. On a en- method of the target in pure argon for five minutes. We have
suite effectué une pré-attaque de l'échantillon en utilisant de l'énergie afterwards pre-attack the sample using energy
radiofréquence (RF) (avec une polarisation de -800 V) pendant deux mi- radiofrequency (RF) (with a polarization of -800 V) for two half
nutes, pour éliminer toute contamination de surface. Après deux minutes, nutes, to eliminate any surface contamination. After two minutes,
on a augmenté la puissance appliquée à la cible et on a diminué la ten- we increased the power applied to the target and we decreased the voltage
sion de polarisation du substrat jusqu'à 60 V, pour donner un dépôt net de titane sur la région non masquée de la pellicule de diamant de type bias polarization of the substrate up to 60 V, to give a clear deposit of titanium on the unmasked region of the diamond film of the type
CVD. Le dépôt s'est poursuivi pendant dix minutes. CVD. The deposit continued for ten minutes.
On a ensuite retourné l'échantillon et on a masqué la face op- We then turned the sample over and masked the op-
posée avant de suivre la procédure de dépôt décrite ci-dessus. asked before following the deposit procedure described above.
Les deux couches de titane ont formé un certain carbure avec The two layers of titanium formed a certain carbide with
le diamant.the diamond.
On a placé la pellicule traitée dans un bain d'un acide inorgani- The treated film was placed in an inorganic acid bath
que fort, tel qu'un mélange d'acides fluorhydrique et nitrique, pour enle- strong, such as a mixture of hydrofluoric and nitric acids, to remove
ver les couches de titane.see the titanium layers.
On a ensuite soumis la pellicule ainsi traitée à une attaque par l'air à environ 900 C pendant I minute, et on a mesure la transmission IR. On a trouvé que les régions de la pellicule de diamant sur lesquelles une couche de titane avait été appliquée présentaient des possibilités de transmission IR inchangées ou améliorées, tandis que les régions non traitées présentaient des possibilités de transmission IR diminuées, à The film thus treated was then subjected to an attack by air at about 900 ° C. for 1 minute, and the IR transmission was measured. It was found that the regions of the diamond film to which a layer of titanium had been applied exhibited unchanged or improved IR transmission possibilities, while the untreated regions exhibited reduced IR transmission possibilities,
cause de la diffusion et de l'absorption au niveau de défauts attaqués. cause of diffusion and absorption at the level of attacked defects.
EXEMPLE 2EXAMPLE 2
Dans cet exemple, on compare un échantillon de diamant de type CVD non traité avec un échantillon de diamant de type CVD traité In this example, we compare a sample of untreated CVD type diamond with a sample of treated CVD type diamond
par le procédé de l'invention.by the method of the invention.
(A) Echantillon non traité On a appliqué un double polissage à un échantillon de diamant (A) Untreated sample Double polishing was applied to a diamond sample
de type CVD de 300 Flm d'épaisseur, pour obtenir une finition fine, trans- CVD type 300 Flm thick, to obtain a fine, transparent finish
parente au point de vue optique, en utilisant des techniques de traite- optically related, using milking techniques
ment classiques. On a nettoyé soigneusement l'échantillon et on a photo- classic. We carefully cleaned the sample and we photo-
graphié ses surfaces en utilisant la technique de Nomarski. graphed its surfaces using the Nomarski technique.
On a utilisé un petit four du type Carbolite pour chauffer l'échantillon dans un environnement d'air à la pression atmosphérique normale. On a tout d'abord chauffé l'échantillon non traité jusqu'à 700 C pendant 1 minute, après quoi on l'a retiré du four et on a photographié A small Carbolite-type oven was used to heat the sample in an air environment at normal atmospheric pressure. The untreated sample was first heated to 700 C for 1 minute, after which it was removed from the oven and photographed
ses surfaces avant de mesurer la transmission IR. On a répété cette pro- its surfaces before measuring the IR transmission. We repeated this pro-
cédure après un chauffage supplémentaire pendant 1 minute à 800 C, cedure after additional heating for 1 minute at 800 C,
900 C et 1000 C.900 C and 1000 C.
Effet sur la finition de surface La figure 1A montre la surface de croissance de l'échantillon Effect on surface finish Figure 1A shows the growth surface of the sample
poli, avant l'attaque par l'air. Le relief de surface est renforcé par le dis- polished, before air attack. The surface relief is reinforced by the dis-
positif de contraste de phase et paraiît normal pour du diamant de type positive for phase contrast and appears normal for diamond type
CVD de haute qualité. La figure lB est une photographie avec un gros- High quality CVD. Figure lB is a photograph with a large-
sissement plus élevé et elle montre des défauts cristallographiques et des joints de grains. Les figures 2A et 2B montrent la surface du substrat higher smoothness and it shows crystallographic defects and grain boundaries. Figures 2A and 2B show the surface of the substrate
polie, avant l'attaque par l'air. La surface est lisse et dépourvue de dé- polished, before air attack. The surface is smooth and devoid of
tails, sans joints de grains visibles et avec très peu de piqûres. tails, without visible grain boundaries and with very few bites.
La figure 3 montre la surface de croissance après qu'elle a été soumise à une attaque par l'air à 700 C pendant 1 minute. Il n'y a pas de signe d'une dégradation quelconque de la finition de surface. Cependant, comme le montre la figure 4, la surface est dégradée après une attaque Figure 3 shows the growth surface after it has been subjected to air attack at 700 C for 1 minute. There is no sign of any deterioration in the surface finish. However, as shown in Figure 4, the surface is degraded after an attack
par l'air supplémentaire à 800 C pendant 1 minute. Des défauts de sur- by additional air at 800 C for 1 minute. Over-
face ont été formés par attaque et deviennent visibles et, en particulier, face have been formed by attack and become visible and, in particular,
les joints de grains ont commence a s'ouvrir. the grain boundaries have started to open.
Bien que la surface de croissance reste intacte, une attaque par l'air à 700 C pendant 1 minute révèle un grand nombre des joints de Although the growth surface remains intact, an air attack at 700 C for 1 minute reveals a large number of the joints
grains dans la surface du substrat, comme représenté sur la figure 5. grains in the surface of the substrate, as shown in Figure 5.
Une attaque par l'air supplémentaire à 800 C pendant 1'r minute entraîne An additional air attack at 800 C for 1'r minute causes
une sévère dégradation du poli de surface, comme représenté sur la fi- severe degradation of the surface polish, as shown in the figure
gure 6.gure 6.
Lorsque l'échantillon est ramené dans le four pour une attaque à 900 C pendant 1 minute, il est manifeste que des dommages situés sous la surface apparaissent dans la surface de croissance. Les lignes When the sample is returned to the oven for attack at 900 C for 1 minute, it is evident that damage located below the surface appears in the growth surface. The lines
diagonales qui sont représentées sur la figure 7A sont presque certaine- diagonals which are shown in Figure 7A are almost certain-
ment des dommages situés au-dessous de la surface qui sont occasion- damage caused below the surface which is occasion-
nés par le processus de polissage.born through the polishing process.
L'attaque par l'air révèle ceci en augmentant la taille du défaut. Air attack reveals this by increasing the size of the defect.
Il semble qu'une grande particule de polissage ait été "traînée" sur la It appears that a large polishing particle was "dragged" over the
surface, en induisant des fractures conchoïdales au-dessous de la sur- surface, inducing conchoidal fractures below the sur-
face. Cet endommagement sous la surface, invisible sur la surface qui vient d'être polie, pourrait affaiblir sévèrement la résistance mécanique du matériau et diminuer sa résistance à l'attaque par la pluie. La figure 7 montre clairement que la surface du diamant de type CVD non traitée est sévèrement attaquée par l'air à 900 C. La figure 8 montre la surface du substrat, après l'attaque par l'air à 900 C. Les joints de grains se sont ouverts encore davantage et une attaque se manifeste au niveau des face. This damage to the surface, invisible on the surface that has just been polished, could severely weaken the mechanical resistance of the material and reduce its resistance to attack by rain. FIG. 7 clearly shows that the surface of the untreated CVD type diamond is severely attacked by air at 900 C. FIG. 8 shows the surface of the substrate, after the attack by air at 900 C. grains have opened up even more and an attack is manifested in the
macles et d'autres défauts cristallographiques. twins and other crystallographic defects.
Une attaque par l'air à 1000 C pendant 1 minute a un effet ca- An attack by air at 1000 C for 1 minute has a
tastrophique sur la finition de surface, comme représenté sur la figure 9. Dramatic on the surface finish, as shown in Figure 9.
La surface de croissance est maintenant couverte de joints de grains at- The growth surface is now covered with grain boundaries at-
taqués et de défauts cristallins attaqués. Il est intéressant de noter qu'il existe certaines cristallites qui ne présentent pas de défauts attaqués, comme représenté sur la figure 9A, tandis que la figure 9B montre des jogged and attacked crystal defects. It is interesting to note that there are certain crystallites which do not exhibit attacked defects, as shown in FIG. 9A, while FIG. 9B shows
cristallites qui ont des dommages de polissage au-dessous de la surface. crystallites that have polishing damage below the surface.
Les figures 10OA et 10OB montrent la nature fortement défec- Figures 10OA and 10OB show the highly defective nature
tueuse de la surface du substrat en diamant de type CVD qui présente de multiples macles et autres défauts cristallographiques macroscopiques, en plus des joints de grains. Toutes les régions de forte concentration de contraintes, comme des plans de macles et des joints de grains, on été killer of the surface of the CVD diamond substrate which has multiple twins and other macroscopic crystallographic defects, in addition to the grain boundaries. All regions of high concentration of constraints, such as twin planes and grain boundaries, have been
attaquées de façon préférentielle par l'air chaud. preferentially attacked by hot air.
L'attaque par l'air révèle dans des lames de diamant de type CVD des imperfections à la fois cristallographiques et induites par le traitement. La surface du substrat est attaquée à 700 C, bien que la surface de croissance ne soit pas attaquée. Ceci est probablement dû à la nature plus défectueuse de la surface du substrat, et au fait qu'elle a un niveau de contraintes intrinsèques plus élevé que celui de la surface The air attack reveals in CVD diamond blades imperfections that are both crystallographic and treatment-induced. The substrate surface is attacked at 700 C, although the growth surface is not attacked. This is likely due to the more defective nature of the substrate surface, and the fact that it has a higher level of intrinsic stress than that of the surface
de croissance.growth.
Effet sur les propriétés de transmission IR On a utilisé un appareil Perkin-Elmer FTIR pour effectuer les mesures IR. Du fait de la petite taille de l'échantillon, on a effectué les Effect on the IR transmission properties A Perkin-Elmer FTIR device was used to carry out the IR measurements. Due to the small sample size, the
mesures à travers une ouverture de 2 mm. measurements through a 2 mm opening.
La figure 11 montre la transmission IR à travers l'échantillon avant les expériences d'attaque, et la figure 12 montre la transmission Figure 11 shows IR transmission through the sample before attack experiments, and Figure 12 shows transmission
après l'attaque par l'air.after the air attack.
L'air chaud attaque les joints de grains qui s'ouvrent et provo- The hot air attacks the grain boundaries which open and provoke
f quent une diffusion, et la diffusion diminue ensuite la transmission RF et occasionnerait une distorsion d'une image quelconque observée à travers l'échantillon. Dans le visible, les échantillons semblent devenir dépolis, la f quent a diffusion, and the diffusion then decreases the RF transmission and would cause a distortion of any image observed through the sample. In the visible, the samples seem to become frosted, the
diffusion se produisant sur les deux surfaces. Il n'apparaît pas de dom- diffusion occurring on both surfaces. It does not appear to dominate
mages quelconques dans la masse du matériau. any mages in the mass of the material.
Le tableau suivant donne un résumé de la transmission res- The following table provides a summary of the res-
tante, après les expériences d'attaque par l'air. aunt, after the air attack experiments.
Longueur Non attaqué Attaque pendant Attaque Attaque d'onde 1 min à 700 C supplémentaire supplémentaire (pir) pendant I min pendant 1 min Length Not attacked Attack during Attack Wave attack 1 min at additional 700 C additional (pir) for I min for 1 min
à 800 C à 900 Cat 800 C to 900 C
8 62% 61% 55% 42%8 62% 61% 55% 42%
63% 62,5% 57,5% 44%63% 62.5% 57.5% 44%
14 65,5% 65,5% 62% 47,5%14 65.5% 65.5% 62% 47.5%
Ces résultats montrent l'effet catastrophique de l'attaque par l'air chaud sur les propriétés IR de la couche de diamant de type CVD. Il est donc nécessaire de procurer une certaine forme de protection des éléments optiques en diamant de type CVD, s'ils doivent être utilisés dans des applications de vol à vitesse élevée, même si la durée de vol These results show the catastrophic effect of hot air attack on the IR properties of the CVD diamond layer. It is therefore necessary to provide some form of protection of CVD type diamond optical elements, if they are to be used in high speed flight applications, even if the flight time
est courte.is short.
La protection pourrait se présenter sous la forme d'un revête- The protection could be in the form of a coating.
ment résistant à l'oxydation, mais de tels revêtement dégraderaient la transmission de la fenêtre et seraient presque certainement enlevés par resistant to oxidation, but such coatings would degrade window transmission and would almost certainly be removed by
érosion pendant le vol à travers la pluie. erosion during the flight through the rain.
(B) Diamant de type CVD à surface modifiée - Stabilité thermique (B) CVD type diamond with modified surface - Thermal stability
Comme on l'a montré ci-dessus, l'air chaud attaque de préfé- As shown above, the hot air attacks by
rence les joints de grains et les défauts, en laissant isolées les cristalli- the grain boundaries and the defects, leaving the crystalli-
tes plus parfaites. Un objectif, qu'atteint le procédé de l'invention, con- your most perfect. An objective, which the process of the invention achieves, con-
siste à modifier ces défauts pour les rendre inertes vis-à-vis de l'attaque chimique par l'air chaud, sans réduire notablement les propriétés de is to modify these defects to make them inert vis-à-vis the chemical attack by hot air, without significantly reducing the properties of
transmission IR globales de la fenêtre. overall IR transmission of the window.
Procédure de modification de surface Surface modification procedure
On a nettoyé et placé dans une chambre de pulvérisation ca- It was cleaned and placed in a spray chamber.
ç thodique un échantillon de diamant de type CVD qui a été soumis à un double polissage. On a recouvert avec un masque à trous la moitié de la ç thodique a CVD type diamond sample which has been subjected to a double polishing. We covered with a mask with holes half of the
face à nu. On a fait le vide dans le système jusqu'à 2,66 Pa et on a ef- face naked. We made a vacuum in the system up to 2.66 Pa and we did
fectué une pré-pulvérisation cathodique de la cible dans de l'argon pur pendant 5 minutes. On a ensuite effectué une pré-attaque de la surface performed a cathode pre-sputtering of the target in pure argon for 5 minutes. We then did a pre-attack of the surface
de l'échantillon en utilisant de l'énergie RF (avec une polarisation conti- of the sample using RF energy (with continuous polarization
nue de -800 V), pendant deux minutes, pour éliminer toute contamination de surface. Après deux minutes, on a augmenté la puissance de la cible et on a diminué la tension de polarisation du substrat (jusqu'à 60 V) pour obtenir un dépôt net de Ti sur la région non masquée de l'échantillon de bare -800 V), for two minutes, to eliminate any surface contamination. After two minutes, the power of the target was increased and the bias voltage of the substrate was decreased (up to 60 V) to obtain a clear deposition of Ti on the unmasked region of the sample.
diamant de type CVD. Le dépôt a continué pendant 10 minutes. CVD type diamond. The deposit continued for 10 minutes.
On a ensuite retourné l'échantillon et on a masqué la face op- We then turned the sample over and masked the op-
posée, avant de suivre la procédure de dépôt décrite ci-dessus. Après l'application du revêtement, on a retiré l'échantillon et on a appliqué un asked, before following the deposit procedure described above. After the coating was applied, the sample was removed and a
mince revêtement d'or sur les couches de titane. thin coating of gold on the titanium layers.
Le titane a formé du carbure du titane sur les deux surfaces sur Titanium formed titanium carbide on both surfaces on
lesquelles il a été déposé.which it was deposited.
On a ensuite photographié les surfaces de l'échantillon avant d'enlever les couches de Ti/Au par dissolution dans un mélange d'acides The surfaces of the sample were then photographed before removing the Ti / Au layers by dissolving in a mixture of acids.
fluorhydrique/nitrique.hydrofluoric / nitric.
Effet sur la finition de surface modifiée La figure 13A montre la surface de croissance de l'échantillon de diamant de type CVD poli et revêtu. La région du côté gauche de la Effect on Modified Surface Finish Figure 13A shows the growth surface of the polished and coated CVD diamond sample. The area on the left side of the
photographie est la couche de Ti/Au. Des détails de surface sont claire- photograph is the Ti / Au layer. Surface details are clear-
ment visibles dans la région revêtue, tandis que la région non revêtue est relativement dépourvue de détails. La figure 13B est une photographie de visible in the coated region, while the uncoated region is relatively devoid of detail. Figure 13B is a photograph of
la région non revêtue, avec un plus fort grossissement. the uncoated region, with higher magnification.
La figure 14A montre la surface du substrat qui comporte éga- FIG. 14A shows the surface of the substrate which also has
lement une région recouverte par la couche de Ti/Au. Comme prévu, les détails de surface sont considérablement plus petits sur cette surface que sur la surface de croissance. La figure 14B montre une photographie a region covered by the Ti / Au layer. As expected, the surface details are considerably smaller on this surface than on the growing surface. Figure 14B shows a photograph
de la surface du substrat non revêtue, avec un plus fort grossissement. of the surface of the uncoated substrate, with higher magnification.
On a chauffé l'échantillon à 800 C dans de l'air à la pression The sample was heated to 800 C in air at pressure
atmosphérique, à l'intérieur d'un four, pendant une durée de 1 minute. atmospheric, inside an oven, for a period of 1 minute.
Aucune dégradation visible d'une surface ou de l'autre n'est apparue, ce qui fait que l'on a replacé l'échantillon dans le four pendant une minute No visible degradation of one surface or the other appeared, so that the sample was returned to the oven for one minute
supplémentaire. A nouveau, les surfaces n'étaient pas attaquées et au- additional. Again, the surfaces were not attacked and
cun changement de la transmission IR n'a été observé. Ce résultat impli- no change in IR transmission was observed. This result impli-
que que la qualité du diamant de type CVD a un effet sur la vitesse d'at- that the quality of the CVD type diamond has an effect on the speed of
taque. On a ensuite chauffé l'échantillon à 900 C pendant une minute supplémentaire, et cette fois on a noté une attaque dans les régions non tack. The sample was then heated to 900 ° C for an additional minute, and this time there was noted an attack in the regions not
traitées de la surface de croissance, comme représenté sur la figure 15. treated from the growth surface, as shown in Figure 15.
La figure 126 montre la région traitée de la surface de croissance, et elle Figure 126 shows the treated area of the growth surface, and it
doit être comparée avec la figure 15. should be compared with Figure 15.
La région traitée n'a pas été attaquée de la même manière que The treated area was not attacked in the same way as
la région traitée, et en particulier les joints de grains n'ont pas été révé- the treated area, and in particular the grain boundaries have not been revealed
lés par l'attaque. La surface de la région traitée apparaît être attaquée uniformément, et on peut voir un léger effet de "marbrure". Au contraire, injured by the attack. The surface of the treated area appears to be attacked evenly, and a slight "mottling" effect can be seen. On the contrary,
la région non traitée de la surface de croissance présente toutes les for- the untreated region of the growth surface has all the forms
mes caractéristiques que l'on voit sur la figure 7. my characteristics that we see in figure 7.
Effet sur les propriétés de transmission IR La figure 17 montre la transmission IR à travers l'échantillon Effect on IR transmission properties Figure 17 shows IR transmission through the sample
traité avant l'attaque par l'air chaud (ligne "avant"). Les franges d'interfé- treated before attack by hot air (line "before"). The fringes of interfe-
rences que l'on voit à des nombres d'onde élevés sont probablement oc- frequencies seen at high wave numbers are probably oc-
casionnées par un revêtement mince sur les surfaces du diamant. La fi- caseed by a thin coating on the diamond surfaces. The fi-
gure 17 montre la transmission IR après l'attaque à 900 C. Il apparaît gure 17 shows the IR transmission after the attack at 900 C. It appears
que la région traitée a une transmission accrue, tandis que la transmis- that the treated area has increased transmission, while the transmission-
sion des régions non traitées a diminué, comme prévu. Untreated areas decreased as expected.
Un chauffage supplémentaire dans l'air pendant 1 minute à 1000 C a conduit à une attaque de l'échantillon de la manière normale dans toutes les régions des deux surfaces, donnant un aspect identique Additional heating in air for 1 minute at 1000 C led to sample attack in the normal way in all regions of the two surfaces, giving an identical appearance
à celui des figures 9 et 10.to that of FIGS. 9 and 10.
Analyse de surface d'échantillons de diamant de type CVD modifiés On a effectué une étude de spectroscopie de masse par ions secondaires (ou SIMS) pour caractériser les surfaces de diamant traitées et non traitées. Dans cet exemple, on a modifié la surface avec Ti. On a Surface analysis of modified CVD diamond samples A secondary ion mass spectroscopy (or SIMS) study was performed to characterize the treated and untreated diamond surfaces. In this example, the surface was modified with Ti. We have
trouvé que la région non traitée était dépourvue de Ti, tandis que la ré- found that the untreated region was devoid of Ti, while the re-
gion traitée faisant apparaître le Ti qui avait réagi avec le diamant (en formant un composé TiC) et qui était resté après la consommation de la couche de Ti. L'analyse par SIMS a également montré que la surface modifiée contenait à la fois de l'oxygène et de l'azote, tandis que ces corps étaient absents de la région non traitée. Il s'agit de faibles niveaux d'impureté résultant du dépôt de Ti et de la réaction entre la couche mince de TiC et l'air. Conclusion Les expériences ont montré que les défauts cristallographiques (comprenant des joints de grains) présents dans le diamant de type CVD sont attaqués par l'air à haute température. La vitesse d'attaque dépend treated region showing the Ti which had reacted with the diamond (forming a TiC compound) and which had remained after the consumption of the Ti layer. SIMS analysis also showed that the modified surface contained both oxygen and nitrogen, while these bodies were absent from the untreated region. These are low levels of impurity resulting from the deposition of Ti and the reaction between the thin layer of TiC and the air. Conclusion Experiments have shown that crystallographic defects (including grain boundaries) present in CVD type diamond are attacked by air at high temperature. Attack speed depends
de la température et du temps de réaction, bien que des effets percepti- temperature and reaction time, although noticeable effects
bles aient été observés à 700 C pour une durée d'attaque d'une minute seulement. La surface du substrat, qui comporte plus de défauts et qui est soumise à de plus fortes contraintes que la surface de croissance, were observed at 700 C for an attack time of only one minute. The surface of the substrate, which has more defects and which is subjected to greater stresses than the growth surface,
est attaquée à une température inférieure à celle de la surface de crois- is attacked at a temperature lower than that of the growing surface
sance.sance.
Après une durée de réaction d'une minute seulement à 800 C, les surfaces polies attaquées par l'air chaud diffusent la lumière IR dans une mesure qui rend la fenêtre virtuellement inutile pour des applications After a reaction time of only one minute at 800 ° C, polished surfaces attacked by hot air scatter IR light to an extent that makes the window virtually useless for applications
de missiles rapides.fast missiles.
Des fenêtres qui ont subi une modification de surface (par pul- Windows which have undergone a surface modification (by pul-
vérisation cathodique de titane, avec polarisation, et enlèvement à l'acide du revêtement mince de titane sur les surfaces du diamant) offrent une protection aux joints de grains (et à d'autres défauts cristallographiques) cathodic verification of titanium, with polarization, and acid removal of the thin coating of titanium on the surfaces of the diamond) provide protection to grain boundaries (and other crystallographic defects)
vis-à-vis de l'érosion par l'air chaud. Des échantillons traités ne présen- against erosion by hot air. Processed samples do not show
tent aucune réduction des propriétés de transmission IR, même apres une attaque par l'air chaud pendant 1 minute à 900 C. On pense que le Ti forme une couche de carbure passive aux surfaces de joints de grains, No reduction in the IR transmission properties is attempted, even after attack by hot air for 1 minute at 900 C. It is believed that Ti forms a layer of passive carbide at the grain boundary surfaces,
et que cette couche diminue notablement la réaction avec l'air chaud. and that this layer significantly reduces the reaction with hot air.
\ 112753457\ 112753457
Claims (11)
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GBGB9513426.8A GB9513426D0 (en) | 1995-06-29 | 1995-06-29 | Diamond treatment |
GB9615242A GB2309979B (en) | 1995-06-29 | 1996-06-28 | Diamond treatment |
NL1004125A NL1004125C2 (en) | 1995-06-29 | 1996-09-06 | Diamond treatment. |
SE9603251A SE514324C2 (en) | 1995-06-29 | 1996-09-06 | Procedure for surface treatment of a diamond surface with surface defects |
US08/709,768 US5916456A (en) | 1995-06-29 | 1996-09-09 | Diamond treatment for passivating stress surface defects |
DE19637220A DE19637220A1 (en) | 1995-06-29 | 1996-09-13 | Passivation of surface defects on diamond |
FR9611181A FR2753457B1 (en) | 1995-06-29 | 1996-09-13 | PROCESS FOR TREATING A DIAMOND SURFACE |
BE9600831A BE1011010A5 (en) | 1995-06-29 | 1996-10-03 | Diamond processing. |
IT96MI002036A IT1284920B1 (en) | 1995-06-29 | 1996-10-03 | DIAMOND TREATMENT |
ZA9701217A ZA971217B (en) | 1995-06-29 | 1997-02-13 | Diamond treatment. |
Applications Claiming Priority (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GBGB9513426.8A GB9513426D0 (en) | 1995-06-29 | 1995-06-29 | Diamond treatment |
NL1004125A NL1004125C2 (en) | 1995-06-29 | 1996-09-06 | Diamond treatment. |
SE9603251A SE514324C2 (en) | 1995-06-29 | 1996-09-06 | Procedure for surface treatment of a diamond surface with surface defects |
DE19637220A DE19637220A1 (en) | 1995-06-29 | 1996-09-13 | Passivation of surface defects on diamond |
FR9611181A FR2753457B1 (en) | 1995-06-29 | 1996-09-13 | PROCESS FOR TREATING A DIAMOND SURFACE |
BE9600831A BE1011010A5 (en) | 1995-06-29 | 1996-10-03 | Diamond processing. |
IT96MI002036A IT1284920B1 (en) | 1995-06-29 | 1996-10-03 | DIAMOND TREATMENT |
ZA9701217A ZA971217B (en) | 1995-06-29 | 1997-02-13 | Diamond treatment. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FR2753457A1 true FR2753457A1 (en) | 1998-03-20 |
FR2753457B1 FR2753457B1 (en) | 1999-06-04 |
Family
ID=27570187
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FR9611181A Expired - Fee Related FR2753457B1 (en) | 1995-06-29 | 1996-09-13 | PROCESS FOR TREATING A DIAMOND SURFACE |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5916456A (en) |
BE (1) | BE1011010A5 (en) |
DE (1) | DE19637220A1 (en) |
FR (1) | FR2753457B1 (en) |
GB (2) | GB9513426D0 (en) |
IT (1) | IT1284920B1 (en) |
NL (1) | NL1004125C2 (en) |
SE (1) | SE514324C2 (en) |
ZA (1) | ZA971217B (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9513426D0 (en) * | 1995-06-29 | 1997-03-12 | Diamanx Products Ltd | Diamond treatment |
JP3168961B2 (en) * | 1997-10-06 | 2001-05-21 | 住友電気工業株式会社 | Diamond substrate, method for evaluating diamond substrate, and diamond surface acoustic wave filter |
GB0031272D0 (en) * | 2000-12-21 | 2001-01-31 | De Beers Ind Diamond | Diamond treatment |
US9475690B2 (en) * | 2014-05-20 | 2016-10-25 | Uchicago Argonne, Llc | Low-stress doped ultrananocrystalline diamond |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5336368A (en) * | 1993-07-08 | 1994-08-09 | General Electric Company | Method for depositing conductive metal traces on diamond |
GB2309979A (en) * | 1995-06-29 | 1997-08-13 | Diamanx Products Ltd | Diamond treatment |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2228745B (en) * | 1989-01-10 | 1993-09-08 | Kobe Steel Ltd | Process for the selective deposition of thin diamond film by gas phase synthesis |
GB8912498D0 (en) * | 1989-05-31 | 1989-07-19 | De Beers Ind Diamond | Diamond growth |
GB9103691D0 (en) * | 1991-02-21 | 1991-04-10 | De Beers Ind Diamond | Radiation absorbers |
US5270077A (en) * | 1991-12-13 | 1993-12-14 | General Electric Company | Method for producing flat CVD diamond film |
US5328550A (en) * | 1992-10-02 | 1994-07-12 | At&T Bell Laboratories | Thinning a diamond body by means of molten rare-earth-containing alloys |
US5672395A (en) * | 1994-05-05 | 1997-09-30 | General Electric Company | Method for enhancing the toughness of CVD diamond |
US5451430A (en) * | 1994-05-05 | 1995-09-19 | General Electric Company | Method for enhancing the toughness of CVD diamond |
-
1995
- 1995-06-29 GB GBGB9513426.8A patent/GB9513426D0/en active Pending
-
1996
- 1996-06-28 GB GB9615242A patent/GB2309979B/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-09-06 NL NL1004125A patent/NL1004125C2/en not_active IP Right Cessation
- 1996-09-06 SE SE9603251A patent/SE514324C2/en not_active IP Right Cessation
- 1996-09-09 US US08/709,768 patent/US5916456A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-13 FR FR9611181A patent/FR2753457B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-09-13 DE DE19637220A patent/DE19637220A1/en not_active Withdrawn
- 1996-10-03 BE BE9600831A patent/BE1011010A5/en not_active IP Right Cessation
- 1996-10-03 IT IT96MI002036A patent/IT1284920B1/en active IP Right Grant
-
1997
- 1997-02-13 ZA ZA9701217A patent/ZA971217B/en unknown
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5336368A (en) * | 1993-07-08 | 1994-08-09 | General Electric Company | Method for depositing conductive metal traces on diamond |
GB2309979A (en) * | 1995-06-29 | 1997-08-13 | Diamanx Products Ltd | Diamond treatment |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JIN ET AL: "Polishing of CVD diamond by diffusional reaction with managanese powder", DIAMOND AND RELATED MATERIALS., vol. 1, no. 9, 25 September 1992 (1992-09-25), AMSTERDAM NL, pages 949 - 953, XP000349656 * |
JOHNSON ET AL.: "Oxidation of diamond windows", J.MATERIALS RESEARCH, vol. 10, no. 10, October 1995 (1995-10-01), USA, pages 2555 - 2563, XP002065846 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SE514324C2 (en) | 2001-02-12 |
SE9603251D0 (en) | 1996-09-06 |
NL1004125C2 (en) | 1998-03-09 |
ZA971217B (en) | 1998-08-26 |
IT1284920B1 (en) | 1998-05-28 |
US5916456A (en) | 1999-06-29 |
GB2309979A (en) | 1997-08-13 |
ITMI962036A0 (en) | 1996-10-03 |
FR2753457B1 (en) | 1999-06-04 |
SE9603251L (en) | 1998-03-07 |
DE19637220A1 (en) | 1998-03-19 |
BE1011010A5 (en) | 1999-03-02 |
ITMI962036A1 (en) | 1998-04-03 |
GB9513426D0 (en) | 1997-03-12 |
GB2309979B (en) | 1999-01-27 |
GB9615242D0 (en) | 1997-03-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1290721B1 (en) | Method of forming a gallium nitride layer | |
EP1232407B1 (en) | Heat-absorbing filter and method for making same | |
EP1135335B1 (en) | Thin hafnium oxide film and method for depositing same | |
FR2543166A1 (en) | COMPOSITION AND PROCESS FOR THE SELECTIVE ATTACK, USING PLASMA REACTIVE IONS, ALUMINUM AND ALUMINUM ALLOYS | |
EP0005442B1 (en) | Process and apparatus for producing aluminium nitride useful for electronic applications | |
FR2714523A1 (en) | Method for preventing deterioration of the film quality of a transparent conductive film, semiconductor device and its manufacturing method. | |
Wu et al. | Optical and mechanical properties of reactively sputtered silicon dioxide films | |
FR2753457A1 (en) | Passivation of surface defects on diamond | |
FR2888399A1 (en) | SUBSTRATE, IN PARTICULAR SILICON CARBIDE, COVERED BY A STOICHIOMETRIC SILICON NITRIDE THIN LAYER, FOR THE MANUFACTURE OF ELECTRONIC COMPONENTS, AND METHOD OF OBTAINING SUCH A LAYER | |
WO1986007194A1 (en) | Wafer base for silicon carbide semiconductor device | |
EP0900859B1 (en) | Process for deposition of a dielectric Ta2O5 layer | |
FR2801723A1 (en) | Oxygen-sensitive silicon layer used in MOS structure fabrication is obtained by depositing a silicon layer of specified surface structure on a substrate of silicon carbide having specified surface structure | |
FR3099490A1 (en) | Method of forming a low resistivity tantalum film | |
EP1415014B1 (en) | Method for making diamond-coated composite materials | |
Tossell et al. | Diamond layers for the protection of infrared windows | |
Klyui et al. | Application of diamond-like carbon films to increase transmission of semi-insulating GaAs crystals in the IR spectral range | |
WO2023275493A1 (en) | Substrate coated with at least one diamond-like carbon layer protected by a germanium or germanium oxide temporary layer | |
FR2995618A1 (en) | PROCESS FOR SURFACE TREATMENT OF MONOCRYSTALS OF MATERIALS | |
IL120240A (en) | Method of treating a diamond surface | |
Tsukamoto | Quantification of substrate cleanliness level based on thin film adhesion measurement | |
Joshkin et al. | Low temperature preannealing for carbon removal from Si surface in GaAs-on-Si molecular beam epitaxial growth | |
EP0197990B1 (en) | Method for forming by low pressure deposition a layer of insulating material on a substrate, and product obtained thereby | |
FR2675517A1 (en) | Process for depositing a diamond pseudocarbon-based hard layer on at least one article, especially a metal article, and article coated with such a layer | |
CN111593298A (en) | Surface-modified titanium alloy material and preparation method thereof | |
FR3100924A1 (en) | treatment of a thin film with hydrogen plasma and polarization to improve its crystalline quality |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
ST | Notification of lapse |
Effective date: 20070531 |