FR2698366A1 - Cyclic precursors for prepn. of silicon nitride - Google Patents

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FR2698366A1
FR2698366A1 FR9214096A FR9214096A FR2698366A1 FR 2698366 A1 FR2698366 A1 FR 2698366A1 FR 9214096 A FR9214096 A FR 9214096A FR 9214096 A FR9214096 A FR 9214096A FR 2698366 A1 FR2698366 A1 FR 2698366A1
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sep
formula
arylalkyl
aryl
alkylaryl
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Biensan Michel
Brodie Nancy
Majoral Jean-Pierre
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Arkema France SA
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Elf Atochem SA
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/21Cyclic compounds having at least one ring containing silicon, but no carbon in the ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/60Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
    • C08G77/62Nitrogen atoms
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F02COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
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Abstract

Cpd. of formula (I) is new, R1, R2=H, 1-6C alkyl or alkenyl, 6-10C aryl or 7-18C alkylaryl or arylalkyl; R3=H, 1-6C alkyl, 6-10C aryl or 7-18C alkylaryl or arylalkyl; Hal=F, Cl or Br; and p=1-3.Pref., cpds. of formula (II) and polymer intermediates of formula (III) are disclosed as novel: R4, R5=H, 1-6C alkyl or alkenyl, 6-10C aryl or 7-18C alkylaryl or arylalkyl; R6=H, 1-6C alkyl, 6-10C aryl or 7-18C alkylaryl or arylalkyl; R1=H, 1-6C alkyl, aryl, alkylaryl or arylalkyl; x=1 or 2; and n=deg. of polymerisation.Cpds. (I) and (II) are prepd. by reacting a halosilane of formula R1R2Si(Hal)2 with a hydrazine of formula HR3N2H2 in the presence of a tert. amine, pref. NEt3 in a solvent, at 0-25 deg.C. The number of moles of HR3N2H2 and NEt3 per mole of R1R2Si(Hal)2 is 0.5-1 and 1 resp. in the prepn. of (I) and 2 and 0.8-1 resp. in the prepn. of (II).

Description

PRECURSEURS CYCLIQUES DE NITRURE DE SILICIUM
La présente a pour objet des précurseurs cycliques de nitrure de silicium, et leur utilisation dans un procédé de synthèse de nitrure de silicium Si3N4.
CYCLIC PRECURSORS OF SILICON NITRIDE
The subject of the present invention is cyclic precursors of silicon nitride, and their use in a process for synthesizing Si3N4 silicon nitride.

Le Si3N4 appartient à la famille des céramiques techniques. Les propriétés particulières du nitrure de silicium en font un matériau particulièrement approprié pour la fabrication d'objets destinés à être utilisés à des températures élevées, typiquement de 1000 à 1200"C. Les objets fabriqués à partir de nitrure de silicium sont obtenus par frittage à haute température, sous atmosphère d'azote, d'une poudre de nitrure de silicium, sous forme a, à laquelle est classiquement ajouté un additif favorisant la densification. Les propriétés mécaniques des objets réalisés à partir de nitrure de silicium sont résistance mécanique, résistance aux chocs thermiques, dureté, résistance à l'usure élevée et donc ces objets song largement utilisés dans tout type d'industrie.A titre d'exemples, le nitrure de silicium est utilisé pour la réalisation de patins de culbuteurs, de rotors de turbocompresseurs, de préchambres de combustion de moteurs diesel dans l'industrie automobile, de roulements à billes, d'ajutages, de filières d'extrusion et d'outils de coupe. Si3N4 belongs to the family of technical ceramics. The particular properties of silicon nitride make it a particularly suitable material for the manufacture of objects intended for use at high temperatures, typically from 1000 to 1200 ° C. The objects made from silicon nitride are obtained by sintering at high temperature, under a nitrogen atmosphere, a silicon nitride powder, in the form a, to which is conventionally added an additive promoting densification The mechanical properties of objects made from silicon nitride are mechanical strength, strength to thermal shocks, hardness, high wear resistance and therefore these objects are widely used in all types of industry. As examples, silicon nitride is used for the production of rocker pads, turbocharger rotors , pre-combustion chambers for diesel engines in the automotive industry, ball bearings, nozzles, res extrusion and cutting tools.

Les procédés connus de synthèse à l'échelle industrielle de nitrure de silicium sont les suivants
Le premier procédé consiste en nitruration directe de silicium

Figure img00010001
The known processes for synthesizing silicon nitride on an industrial scale are as follows:
The first method consists of direct nitriding of silicon
Figure img00010001

Cette réaction est très exothermique, difficile à contrôler et conduit à des poudres grossières qu'il est donc nécessaire de broyer avant de procéder au frittage. This reaction is very exothermic, difficult to control and leads to coarse powders which it is necessary to grind before sintering.

Le second procédé consiste en décomposition thermique d'un imide de silicium par exemple selon les schémas

Figure img00020001
The second method consists in thermal decomposition of a silicon imide, for example according to the diagrams
Figure img00020001

Cette réaction conduit à une poudre très fine mais néanmoins amorphe, qu'il est nécessaire de cristalliser à une température de 1300 à 1500"C. This reaction leads to a very fine but nevertheless amorphous powder, which is necessary to crystallize at a temperature of 1300 to 1500 ° C.

Le troisième procédé consiste en carbonitruration de silice

Figure img00020002
The third method consists of carbonitriding of silica
Figure img00020002

Ce procédé présente l'avantage majeur d'utiliser des produits de départ de faible coût et de ne conduire à aucun effluent autre que CO, facilement brûlé.This process has the major advantage of using low-cost starting materials and not leading to any effluent other than CO, easily burned.

Néanmoins, la carbonitruration présente des inconvénients. La température de réaction doit être parfaitement contrôlée. Au delà de 1470"C, il existe des risques de formation de SiC.Nevertheless, carbonitriding has disadvantages. The reaction temperature must be perfectly controlled. Beyond 1470 ° C, there are risks of formation of SiC.

En-dessous de 1400"C, il existe des risques de formation d'un produit mal cristallisé contenant beaucoup d'oxygène. Au cours du procédé, il y a compétition entre la formation de deux formes cristallines de Si3N4, les formes a et p. La forme a est la forme recherchée, car c'est elle qui conduit aux corps frittés possédant les propriétés précitées. De plus, la granulométrie de la poudre est critique pour la mise en oeuvre du frittage; une granulométrie parfaitement contrôlée est donc nécessaire. Comme le procédé est mis en oeuvre sous un courant d'azote, il se produit souvent des entrane- ments de matières.Ces entraînements sont dus à la formation d'un intermédiaire SiO gaz, en abrégé SiO qui peut, soit se dismuter à une température de 1000 à 1200"C en SiO2 et Si d'où un encrassement de l'installation, soit conduire à la formation de cristaux en bâtonnets de Si3N4(w)r dits whiskers" inaptes au frittage.Below 1400 ° C, there is a risk of formation of a poorly crystallized product containing a lot of oxygen During the process, there is competition between the formation of two crystalline forms of Si3N4, the forms a and p The shape a is the desired form, because it is this which leads to the sintered bodies having the aforementioned properties In addition, the particle size of the powder is critical for the implementation of the sintering, a perfectly controlled particle size is therefore necessary. Since the process is carried out under a stream of nitrogen, entrances of materials often occur. These entrainments are due to the formation of an intermediate SiO gas, abbreviated as SiO, which can either be disproportionate to one another. temperature of 1000 to 1200 ° C in SiO2 and Si resulting in fouling of the installation, leading to the formation of Si3N4 rods crystals (w) r so-called whiskers "unsuitable for sintering.

D'autres procédés de fabrication de Si3N4 ont été proposés. Ceux-ci font appel à des précurseurs, en particulier les polysilazanes et plus précisément les polysilazanes dérivés d'hydrazine ou polysilylhydrazine. Ces derniers sont obtenus par réaction d'halogénosilane ou disilane avec de l'hydrazine, éventuellement substituée. Une amine tertiaire peut être ajoutée au milieu réactionnel EP-A-0351262 et la demande FR-90-15670 décrivent un tel procédé. Other methods of manufacturing Si3N4 have been proposed. These use precursors, in particular polysilazanes and more specifically polysilazanes derived from hydrazine or polysilylhydrazine. These are obtained by reaction of halosilane or disilane with hydrazine, optionally substituted. A tertiary amine may be added to the reaction medium EP-A-0351262 and the application FR-90-15670 describes such a process.

Aucun des documents ci-dessus n'enseigne ni ne suggère la présente invention. None of the above documents teaches or suggests the present invention.

Ainsi, la présente invention a pour objet de nouveaux composés chimiques destinés à être utilisés dans la synthèse de Si3N4. Ces composés chimiques sont des intermédiaires primaires cycliques d'une part, puis des intermédiaires polymérisés d'autre part. La présente invention a aussi pour objet l'utilisation de ces nouveaux composés dans la synthèse de Si3N4. Thus, the present invention relates to novel chemical compounds for use in the synthesis of Si3N4. These chemical compounds are cyclic primary intermediates on the one hand, then polymerized intermediates on the other hand. The present invention also relates to the use of these novel compounds in the synthesis of Si3N4.

Ainsi, la présente invention fournit de nouveaux composés cycliques de formule I:

Figure img00030001

où:
Rl est un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle en C1 à
C6, alkényle en Cl à C6, aryle en C6 à C10, alkylaryle
ou arylalkyle en C7 à C
R2 identique ou différent de R1, est un atome d'hydrogène
ou un groupe alkyle en C1 à C6, alkényle en C1 à C6,
aryle en C6 à C10, alkylaryle ou arylalkyle en C7 à
C18;
R3 est un atome d'hydrogène, un groupe alkyle en C1 à C6,
aryle, alkylaryle, arylalkyle;
Hal est Cl, F, Br ou I;
p est compris entre 1 et 3, bornes incluses.Thus, the present invention provides novel cyclic compounds of formula I:
Figure img00030001

or:
R1 is a hydrogen atom or a C1 to C4 alkyl group
C6, C1 to C6 alkenyl, C6 to C10 aryl, alkylaryl
or C7 to C4 arylalkyl
R2 identical or different from R1, is a hydrogen atom
or C1-C6 alkyl, C1-C6 alkenyl,
C6-C10 aryl, C7-arylalkyl or arylalkyl
C18;
R3 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group,
aryl, alkylaryl, arylalkyl;
Hal is Cl, F, Br or I;
p is between 1 and 3 inclusive.

De préférence, p vaut environ 2. L'expression "environ" est employée ici à titre statistique. Un composé préféré a alors pour formule:

Figure img00040001
Preferably, p is about 2. The term "about" is used here statistically. A preferred compound then has the formula:
Figure img00040001

De préférence, Hal est le chlore.Preferably, Hal is chlorine.

De préférence, R3 est l'hydrogène, bien que toute hydrazine substituée puisse être utilisée lors de la synthèse de ce précurseur.Preferably, R3 is hydrogen, although any substituted hydrazine may be used in the synthesis of this precursor.

R1 et R2 sont de préférence des groupes alkyles ou alkényles en C1 àC4. R1 and R2 are preferably C1 to C4 alkyl or alkenyl groups.

Selon un mode de réalisation, R1 et R2 sont tout deux un groupe méthyle tandis que selon un autre mode de réalisation particulièrement préféré, R1 est un groupe méthyle et R2 est un groupe vinyle. According to one embodiment, R1 and R2 are both methyl while in another particularly preferred embodiment, R1 is methyl and R2 is vinyl.

Deux composés sont particulièrement préférés. Leurs formules peuvent être représentées globalement par (Ia) et (Ib)

Figure img00040002

dénommé en abrégé BC
Figure img00040003

(V = vinyle) dénommé en abrégé BCV
La présente invention fournit aussi de nouveaux composés cycliques de formule II:
Figure img00050001

où:
R4 est un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle en C1 à
C6, alkényle en C1 à C6, aryle en C6 à C10, alkylaryle
ou arylalkyle en C7 à C18;
R est un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle en C1 à
5
C6, alkényle en C1 à C6, aryle en C6 à C10, alkylaryle
ou arylalkyle en C7 à C18;
R6 est un atome d'hydrogène, un groupe alkyle en C1 à C6,
aryle, alkylaryle, arylalkyle. Two compounds are particularly preferred. Their formulas can be represented globally by (Ia) and (Ib)
Figure img00040002

abbreviated as BC
Figure img00040003

(V = vinyl) abbreviated as BCV
The present invention also provides novel cyclic compounds of formula II:
Figure img00050001

or:
R4 is a hydrogen atom or a C1 to C4 alkyl group
C6, C1 to C6 alkenyl, C6 to C10 aryl, alkylaryl
or C7 to C18 arylalkyl;
R is a hydrogen atom or a C1 to C4 alkyl group
5
C6, C1 to C6 alkenyl, C6 to C10 aryl, alkylaryl
or C7 to C18 arylalkyl;
R6 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group,
aryl, alkylaryl, arylalkyl.

Ce dernier composé est dérivé du composé de formule I, dans lequel p serait virtuellement égal à environ 4, et où les groupes Si extrêmes seraient absents, en particulier dans le cas où R4 = R5 = Me. This latter compound is derived from the compound of formula I, wherein p would be virtually equal to about 4, and where the extreme Si groups would be absent, particularly in the case where R4 = R5 = Me.

De préférence, R6 est l'hydrogène.Preferably, R6 is hydrogen.

De préférence, R4 et R5 sont des groupes alkyles et alkényles en C1 à C
Selon un mode de réalisation préféré, R1 est un groupe méthyle, R2 est un groupe vinyle.
Preferably, R4 and R5 are C1-C6 alkyl and alkenyl groups
According to a preferred embodiment, R1 is a methyl group, R2 is a vinyl group.

Un composé particulièrement préféré est le composé de formule (IIa) suivant:

Figure img00050002
A particularly preferred compound is the compound of formula (IIa) below:
Figure img00050002

<tb> <SEP> Me <SEP> V <SEP> Me <SEP> V <SEP> Me <SEP> V <SEP> Me <SEP> V
<tb> <SEP> Si <SEP> Si <SEP> Si <SEP> si
<tb> HN <SEP> N <SEP> / <SEP> N <SEP> / <SEP> N <SEP> < <SEP> NH
<tb> I <SEP> N <SEP> N <SEP> I
<tb> HN <SEP> N <SEP> N <SEP> N <SEP> NH
<tb> <SEP> Si <SEP> Si'f <SEP> Si <SEP> /e
<tb> <SEP> Si
<tb> <SEP> N <SEP> N
<tb> <SEP> Me <SEP> V <SEP> Me <SEP> V <SEP> Me <SEP> V <SEP> Me <SEP> V
<tb> <SEP> (IIa) <SEP> où <SEP> V <SEP> signifie <SEP> vinyle
<tb> <SEP> dénommé <SEP> en <SEP> abrégé <SEP> CCV
<tb>
Ces composés de formule (I) ou (II) sont obtenus par réaction d'un halogénosilane de formule:: R1R2Si(Hal)2 avec une hydrazine HR3N2H2, en présence d'une amine tertiaire, de préférence NEt3. C'est par ailleurs la quantité d'amine présente qui oriente la réaction préférentiellement vers le composé de formule (I) ou (II). Un solvant est habituellement utilisé, de préférence il s'agit de chloroforme. La température est comprise entre 0 et 25 , de préférence entre -10 C et +30"C.
<tb><SEP> Me <SEP> V <SEP> Me <SEP> V <SEP> Me <SEP> V <SEP> Me <SEP> V
<tb><SEP> If <SEP> If <SEP> If <SEP> If
<tb> HN <SEP> N <SEP> / <SEP> N <SEP> / <SEP> N <SEP><<SEP> NH
<tb> I <SEP> N <SEP> N <SEP> I
<tb> HN <SEP> N <SEP> N <SEP> N <SEP> NH
<tb><SEP> If <SEP>Si'f<SEP> If <SEP> / e
<tb><SEP> Si
<tb><SEP> N <SEP> N
<tb><SEP> Me <SEP> V <SEP> Me <SEP> V <SEP> Me <SEP> V <SEP> Me <SEP> V
<tb><SEP> (IIa) <SEP> where <SEP> V <SEP> means <SEP> vinyl
<tb><SEP> named <SEP> in <SEP> abbreviated <SEP> CCV
<Tb>
These compounds of formula (I) or (II) are obtained by reaction of a halosilane of formula :: R1R2Si (Hal) 2 with a hydrazine HR3N2H2, in the presence of a tertiary amine, preferably NEt3. It is moreover the quantity of amine present which directs the reaction preferentially towards the compound of formula (I) or (II). A solvent is usually used, preferably it is chloroform. The temperature is from 0 to 25, preferably from -10 to + 30 ° C.

Le schéma réactionnel est le suivant:

Figure img00060001
The reaction scheme is as follows:
Figure img00060001

Afin d'obtenir le composé de formule (I), b est avantageusement inférieur à 2, de préférence environ 1. Le nombre de mole d'hydrazine a varie dans une large mesure, et est compris entre 0,5 et 1. Le nombre de mole d'halogénosilane est pris égal à 1.In order to obtain the compound of formula (I), b is advantageously less than 2, preferably about 1. The number of moles of hydrazine a varies to a large extent, and is between 0.5 and 1. The number of mol of halosilane is taken as 1.

Afin dtobtenir le composé de formule (Il), b est environ égal à 2. Le nombre de mole d'hydrazine est compris entre 0,8 et 1. Le nombre de mole d'halogénosilane est pris égal à 1.In order to obtain the compound of formula (II), b is approximately equal to 2. The number of moles of hydrazine is between 0.8 and 1. The number of moles of halosilane is taken to be 1.

Les composés de formule (I) et (II) ci-dessus sont utiles en tant que précurseurs de Si3N4. En effet, une pyrolyse du produit, CCV par exemple, conduit à un taux de céramisation d'environ 70t. Parallèlement, les composés de formule (I), dans la mesure où ils contiennent encore des liaisons réactives Si-Hal, sont avantageusement convertis en des polymères. Ces polymères sont obtenus par réaction des produits (I) avec des réactifs appropriés; ils sont ensuite à leur tour pyrolysés avec des taux de céramisation de l'ordre de 70%. The compounds of formulas (I) and (II) above are useful as precursors of Si3N4. Indeed, a pyrolysis of the product, CCV for example, leads to a ceramization rate of about 70t. In parallel, the compounds of formula (I), insofar as they still contain Si-Hal reactive bonds, are advantageously converted into polymers. These polymers are obtained by reaction of the products (I) with appropriate reagents; they are then in turn pyrolyzed with ceramization rates of the order of 70%.

Les composés de formule (II) peuvent être pyrolysés en
Si3N4, par traitement à une température comprise entre 200"C et 1000"C, pendant un temps de 8 à 14 heures. Ce procédé est un autre objet de la présente invention.
The compounds of formula (II) can be pyrolyzed in
Si3N4, by treatment at a temperature between 200 ° C and 1000 ° C, for a period of 8 to 14 hours. This process is another object of the present invention.

Ainsi, la présente invention a aussi pour objet ces polymères intermédiaires de formule (III):

Figure img00070001

ou:
R1, R2 et R3 et p ont les significations ci-dessus;
x vaut 1 ou 2;
R' est un atome d'hydrogène, un groupe alkyle en C1 à C6,
aryle, alkylaryle, arylalkyle. Thus, the present invention also relates to these intermediate polymers of formula (III):
Figure img00070001

or:
R1, R2 and R3 and p have the above meanings;
x is 1 or 2;
R 'is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group,
aryl, alkylaryl, arylalkyl.

n est le degré de polymérisation. n is the degree of polymerization.

De préférence, R1, R2, R3 et p ont les significations préférées telles que définies ci-dessus.Preferably, R 1, R 2, R 3 and p have the preferred meanings as defined above.

De préférence, R' est un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle en C1 à C4.Preferably, R 'is a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group.

Ainsi, un polymère préféré a pour formule (IIIa):

Figure img00070002

où:
R' est un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle en C1 à
C
4;
R1 et R2, identiques ou différents, sont un groupe alkyle ou
alkényle en C1 à C4.Thus, a preferred polymer has the formula (IIIa):
Figure img00070002

or:
R 'is a hydrogen atom or a C1 to C4 alkyl group
C
4;
R1 and R2, identical or different, are an alkyl group or
C1 to C4 alkenyl.

Des composés particulièrement préférés sont les polymères de formules (IIIb), (IIIc) et (IIId):

Figure img00080001
Particularly preferred compounds are the polymers of formulas (IIIb), (IIIc) and (IIId):
Figure img00080001

Les polymères ci-dessus sont obtenus par réaction des composés de formule (I) avec l'hydrazine éventuellement mono ou di-substituée, ou une amine éventuellement monosubstituée. The above polymers are obtained by reacting the compounds of formula (I) with the optionally mono or di-substituted hydrazine, or an optionally monosubstituted amine.

Cette réaction a lieu, par exemple, à température ambiante, pendant quelques heures. La réaction est mise en oeuvre à nouveau en présence d'une amine tertiaire, de préférence NEt3, et dans un solvant avantageusement le chloroforme. La réaction peut aussi être mise en oeuvre avec un dihalogéno silane contenant des groupes R1 et R2 différents, par exemple plus réactifs.This reaction takes place, for example, at room temperature for a few hours. The reaction is carried out again in the presence of a tertiary amine, preferably NEt3, and in a solvent advantageously chloroform. The reaction can also be carried out with a dihalo silane containing different groups R 1 and R 2, for example more reactive.

Les composés de formule (III) peuvent être pyrolysés en
Si3N4 par traitement à une température comprise entre 200 et 1000 "C, pendant un temps de 8 à 14 h. Le procédé de pyrolyse utilisant de nouveaux produits de départ est encore un autre objet de l'invention.
The compounds of formula (III) can be pyrolyzed in
Si3N4 by treatment at a temperature between 200 and 1000 ° C for a period of 8 to 14 hours The pyrolysis process using new starting materials is yet another subject of the invention.

La présente invention est maintenant décrite plus en détail à l'aide des exemples ci-après donnés à titre illustratif et non limitatif. The present invention is now described in more detail with the aid of the following examples given for illustrative and non-limiting purposes.

EXEMPLES
Exemple 1 - Synthèse de BC
Dans 200 ml de chloroforme, on introduit 10,6 g (0,0815 mol) de Me2SiCl2 et 8,3 g (0,0815 mol) de NEt3. La solution équimolaire est refroidie à 0 C. Un équivalent d'hydrazine (2,61 g, 0,0815 mol) est rapidement ajoutée sur une courte période (environ 2 minutes). La solution résultante est agitée pendant 30 minutes à 0 C puis ramenée à température ambiante et laissée une nuit sous agitation. Le rendement en produit BC est de 88%, par rapport au silane de départ. Le produit se présente sous forme d'une huile épaisse.
EXAMPLES
Example 1 - Synthesis of BC
In 200 ml of chloroform, 10.6 g (0.0815 mol) of Me2SiCl2 and 8.3 g (0.0815 mol) of NEt3 are introduced. The equimolar solution is cooled to 0 C. One equivalent of hydrazine (2.61 g, 0.0815 mol) is rapidly added over a short period (approximately 2 minutes). The resulting solution is stirred for 30 minutes at 0 ° C. and then brought to room temperature and left overnight with stirring. The product yield BC is 88%, based on the starting silane. The product is in the form of a thick oil.

Exemple 2
On opère dans les mêmes conditions que dans l'exemple 1, mais avec 0,85 équivalent (7,1 g, 0,0693 mol) de NEt3 et 0,5 équivalent (1,3 g, 0,04075 mol) de N2H4. Le rendement en produit-BC est de 70% par rapport au silane.
Example 2
The procedure is as in Example 1, but with 0.85 equivalents (7.1 g, 0.0693 mol) of NEt3 and 0.5 equivalents (1.3 g, 0.04075 mol) of N2H4. . The yield of product-BC is 70% relative to the silane.

Exemple 3 - Synthèse de BCV
On opère dans les mêmes conditions que dans l'exemple 1, mais avec Me(H2C=CH)SiCl2 (11,57 g) à la place de Me2SiCl2.
Example 3 - BCV Synthesis
The procedure is as in Example 1, but with Me (H 2 C = CH) SiCl 2 (11.57 g) in place of Me 2 SiCl 2.

Le rendement est de 90% par rapport au silane. Le produit se présente sous forme d'une huile visqueuse.The yield is 90% relative to the silane. The product is in the form of a viscous oil.

Exemple 4
On opère dans les memes conditions que dans l'exemple 3, mais avec 0,85 équivalent (7,1 g, 0,0693 mol) de NEt3 et 0,5 équivalent (1,3 g, 0,04075 mol) d'hydrazine. Le rendement en produit BCV est de 77% par rapport au silane.
Example 4
The operation is carried out under the same conditions as in Example 3, but with 0.85 equivalents (7.1 g, 0.0693 mol) of NEt3 and 0.5 equivalents (1.3 g, 0.04075 mol) of hydrazine. The yield of BCV product is 77% relative to the silane.

Exemple 5 - Synthèse de CCV
On opère dans les mêmes conditions que dans l'exemple 1, mais avec Me(H2C=CH)SiCl2 (11,57 g) et deux équivalents 16,6 g, 0,163 mol) de NEt3. Le produit obtenu, avec un rendement de 90% par rapport au silane, se présente sous forme d'une glue.
Example 5 - Synthesis of CCV
The procedure is as in Example 1, but with Me (H 2 C = CH) SiCl 2 (11.57 g) and two equivalents (16.6 g, 0.163 mol) of NEt 3. The product obtained, with a yield of 90% relative to the silane, is in the form of a glue.

Exemple 6
On opère dans les mêmes conditions que dans l'exemple 5, mais avec 0,8 équivalent (2,09 g, 0,0652 mol) d'hydrazine. Le rendement en produit CCV est de 93% par rapport au silane.
Example 6
The procedure is as in Example 5, but with 0.8 equivalents (2.09 g, 0.0652 mol) of hydrazine. The yield of CCV product is 93% relative to the silane.

Exemple 7
Le produit CCV est pyrolysé à environ 950 C sous atmosphère inerte d'argon. La quantité de résidu, ou taux de céramisation est d'environ 70%.
Example 7
The CCV product is pyrolyzed at about 950 C under an argon inert atmosphere. The amount of residue, or ceramization rate is about 70%.

Exemple 8
On fait réagir, dans du chloroforme, à température ambiante et pendant 10 heures, un mélange de: un équivalent de BC, un équivalent d'hydrazine, un équivalent de
Me(H2C=CH)SiCl2, et quatre équivalents de NEt3. On obtient un solide blanc qui conduit à Si3N4 par pyrolyse.
Example 8
A mixture of: one equivalent of BC, one equivalent of hydrazine, one equivalent of the following is reacted in chloroform at room temperature and for 10 hours
Me (H2C = CH) SiCl2, and four equivalents of NEt3. A white solid is obtained which leads to Si3N4 by pyrolysis.

Exemple 9
On fait réagir dans du chloroforme, à température ambiante et pendant 14 heures, un mélange de: un équivalent de
BCV, un équivalent de N2H4 en présence de deux équivalents de
NEt3. On obtient une glue blanche (rendement 90%) qui se transforme en un solide vitreux soluble par chauffage à 200 C pendant 1 heure sous vide. On observe une faible perte de poids (environ 5).
Example 9
In a chloroform mixture, at room temperature and for 14 hours, a mixture of: one equivalent of
BCV, an equivalent of N2H4 in the presence of two equivalents of
NEt3. A white glue (yield 90%) is obtained which is transformed into a soluble glassy solid by heating at 200 ° C. for 1 hour under vacuum. There is a slight loss of weight (about 5).

La pyrolyse du solide obtenu conduit à un pourcentage de céramisation de 71,4%. Pyrolysis of the solid obtained leads to a percentage of ceramization of 71.4%.

Exemple 10
On fait réagir, dans du chloroforme, à température ambiante et pendant 2 heures, un mélange de: un équivalent de
BCV, un équivalent de n-PrNH2, deux équivalents de NEt3. On obtient une huile épaisse qui, après chauffage à 200"C sous vide pendant 2 heures, se transforme en un solide blanc.
Example 10
A mixture of: one equivalent of the following is reacted in chloroform at room temperature and for 2 hours
BCV, an equivalent of n-PrNH2, two equivalents of NEt3. A thick oil is obtained which, after heating at 200 ° C. under vacuum for 2 hours, becomes a white solid.

Exemple 11
On fait réagir, dans du chloroforme, à 0 C et pendant 25 mn, un équivalent de BCV avec un excès de NH3. On fait barboter NH3 dans la solution chloroformique de BCV. On agite pendant 25 mn supplémentaires à 0 C, puis on laisse revenir à température ambiante sur une durée de 30 mn. On filtre pour éliminer le chlorhydrate NH4Cl. On extrait le solvant sous vide. On obtient une glue qui, après chauffage à 220 C sous vide pendant 2 heures, se transforme en un solide blanc vitreux insoluble.
Example 11
An equivalent of BCV with an excess of NH 3 is reacted in chloroform at 0 ° C. for 25 minutes. NH3 is bubbled into the chloroform solution of BCV. The mixture is stirred for a further 25 minutes at 0 ° C. and is then allowed to return to ambient temperature over a period of 30 minutes. It is filtered to remove NH4Cl hydrochloride. The solvent is removed under vacuum. A glue is obtained which, after heating at 220 ° C. under vacuum for 2 hours, is transformed into an insoluble glassy white solid.

La pyrolyse de ce solide conduit à un taux de céramisation de 70,6%. Pyrolysis of this solid leads to a ceramization rate of 70.6%.

On obtient donc de bons rendements de céramisation sans avoir à utiliser MeSiCl3.  Thus good ceramization yields are obtained without having to use MeSiCl3.

Claims (7)

REVENDICATIONS 1.- Composé de formule:1.- Compound of formula:
Figure img00120001
Figure img00120001
dans laquelle: in which: R1 est un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle en C1 à R1 is a hydrogen atom or a C1 to C4 alkyl group C6, alkényle en C1 à C6, aryle en C6 à C10, alkylaryle C6, C1 to C6 alkenyl, C6 to C10 aryl, alkylaryl ou arylalkyle en C7 à C18; or C7 to C18 arylalkyl; R2 identique ou différent de R1, est un atome d'hydrogène R2 identical or different from R1, is a hydrogen atom ou un groupe alkyle en C1 à C6, alkényle en C1 à C6, or C1-C6 alkyl, C1-C6 alkenyl, aryle en C6 à C10, alkylaryle ou arylalkyle en C7 à C6-C10 aryl, C7-arylalkyl or arylalkyl C18;  C18; R est un atome d'hydrogène, un groupe alkyle en C1 à C6, R is a hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group, 3  3 aryle en C6 à Cl0, alkylaryle ou arylalkyle en C7 à C18; C6-C10 aryl, C7-C18 alkylaryl or arylalkyl; Hal est F, Cl, Br; Hal is F, Cl, Br; p est compris entre 1 et 3, bornes incluses. p is between 1 and 3 inclusive.
2.- Composé selon la revendication 1, dans lequel p est égal à environ 2, ledit composé ayant alors la formule: 2. The compound according to claim 1, wherein p is equal to about 2, said compound then having the formula:
Figure img00120002
Figure img00120002
3.- Composé selon la revendication 1 ou 2, dans lequel 3. The compound of claim 1 or 2, wherein R1 et R2, identiques ou différentes, sont un groupe alkyle ou alkényle en C1 à C4. R1 and R2, which may be identical or different, are a C1-C4 alkyl or alkenyl group. 4.- Composé selon les revendications 1 à 3, dans lequel 4. The compound of claims 1 to 3, wherein R3 est un atome d'hydrogène.R3 is a hydrogen atom. 5.- Composé selon les revendications 1 à 4, dans lequel 5. The compound of claims 1 to 4, wherein Hal est le chlore.Hal is chlorine. 6.- Composé selon les revendications 1 à 5, de formule: 6. A compound according to claims 1 to 5, of formula:
Figure img00130001
Figure img00130001
7.- Composé selon les revendications 1 à 5, de formule: 7. A compound according to claims 1 to 5, of formula:
Figure img00130002
Figure img00130002
où V signifie vinyle.  where V means vinyl.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP0228148A2 (en) * 1985-12-28 1987-07-08 Toa Nenryo Kogyo Kabushiki Kaisha Polyorgano(hydro)silazane and process for producing same

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